JP2003347061A - Organic el device and manufacturing method therefor - Google Patents

Organic el device and manufacturing method therefor

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JP2003347061A
JP2003347061A JP2002234484A JP2002234484A JP2003347061A JP 2003347061 A JP2003347061 A JP 2003347061A JP 2002234484 A JP2002234484 A JP 2002234484A JP 2002234484 A JP2002234484 A JP 2002234484A JP 2003347061 A JP2003347061 A JP 2003347061A
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organic layer
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Emiko Kanbe
Masahiro Shinkai
正博 新海
江美子 神戸
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Tdk Corp
Tdk株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device capable of realizing a characteristic easy to be handled, reducing luminance and having a long life, while having low driving voltage, by obtaining the organic EL device easy to be formed by coating of an organic layer of a laminated structure, having high luminance, a long life, high efficiency, high reliability and easy to be handled and using a stable kind of metal salt for an electron injecting layer. <P>SOLUTION: The organic EL device is provided with the electron injecting organic layer containing organic metal salt and/or organic metal complex compound of metal having standard electrode potential of <-1.8 V at 25°C as a layer in contact with a cathode and formed by coating. An organic layer which is in contact with the organic layer and contains a high molecular EL material is provided or an electron injecting layer containing inorganic metal salt and/or organic metal salt of metal having standard electrode potential of ≥-1.8 V and ≤-0.8 V at 25°C is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布法により有機層を積層形成することを特長とする有機EL素子に関し、特に、高信頼性でかつ高効率な有機EL素子に関し、更には、下層を侵すことなく安定でアモルファスな膜を形成できる塗布溶媒を用いた有機EL素子の製造方法に関する。 The present invention relates to relates to an organic EL device that features laminating forming an organic layer by a coating method, in particular, and high reliability relates efficient organic EL device, further, the lower layer the method of manufacturing the organic EL device using a coating solvent capable of forming a stable amorphous film without violating. また、本発明は、従来陰極(電子注入電極)に用いられなかった金属の金属塩を用いた有機EL Further, the present invention relates to an organic EL using a metal salt of a metal which could not have been used in the conventional cathode (electron injection electrode)
素子に関する。 It related to the element.

【0002】 [0002]

【従来の技術】コダック社による真空蒸着法を用いた積層型有機EL素子の発表以来有機ELディスプレイの開発が盛んに行われ現在実用化されつつある。 BACKGROUND ART Kodak announced since the development of organic EL display of stacked organic EL element using the vacuum evaporation method using is actively carried out are currently being put to practical use.

【0003】このような有機EL素子において、ほぼ絶縁物であるとみなされる有機化合物に対して金属陰極から電子を注入する際に問題となるエネルギー障壁を低下させる必要がある。 [0003] In such an organic EL element, it is necessary to lower the energy barrier which is a problem due to injection of electrons from the metal cathode to the organic compound which is deemed to be substantially insulating material.

【0004】そこで現在では、注入障壁を低くするという観点から陰極(電子注入電極)として低仕事関数の金属およびその金属塩、金属酸化物等が用いられている。 [0004] Therefore at present, metals and metal salts of low work function as the cathode (electron injection electrode) from the viewpoint of the injection barrier is lowered, the metal oxide or the like is used.

【0005】一方、このような積層型有機EL素子の形成は、低分子系色素を真空蒸着することによって行っている。 On the other hand, the formation of such stacked organic EL element is performed by vacuum-depositing a low molecular weight dye. しかし、真空蒸着法では均質で欠陥がない薄膜を得ることは困難であり、数層もの有機層を形成するには長時間を要するため、効率的な素子の製造法とはいえないものであった。 However, to obtain a thin film free from defects in homogeneous by vacuum deposition is difficult, since the formation of the organic layer also several layers may take a long time, be those not be an efficient device manufacturing method It was.

【0006】また、特開平4−337284号、特開平11−54270号、特開平11−40358号等には、生産効率の良いとされる塗布により、有機層を形成した有機EL素子が開示されているが、いずれも有機層は単層型であり、より効率の高まる発光が可能な有機層の積層構造は考慮に入れていない。 Further, JP-A-4-337284, JP-A-11-54270, in JP-A 11-40358 Patent, etc., by a coating which is a good production efficiency, the organic EL device is disclosed formed with organic layer and which is both an organic layer is a single layer type, a laminated structure of more efficient enhanced emission that can organic layer is not taken into account.

【0007】さらに、特開平4−2096号、特開20 Furthermore, JP-A-4-2096, JP 20
00−77185号においては塗布によって積層構造の有機層を形成した有機EL素子が開示されている。 The organic EL element is disclosed to form an organic layer of the multilayer structure by coating at No. 00-77185. 特開平4−2096号の実施例では、ポリマー型の正孔注入輸送材料、あるいは正孔注入輸送材料と高分子バインダーとの塗布により正孔注入輸送層を形成し、この上に発光材料と高分子バインダーとの塗布により発光層を形成したものなどが挙げられている。 In the example of JP-A-4-2096, a hole injection transport material polymer type or by application of a hole injection transport material and a polymeric binder to form a hole injection transport layer, light-emitting material and a high on this, such as those forming the light emitting layer are mentioned by application of molecular binder. また、特開2000− In addition, JP-2000-
77185号は、積層される有機層中にシロキサン骨格を有する有機高分子を含有させるものであり、多層構成の有機層とする場合、少なくとも下層側有機層中にシロキサン骨格を有する有機高分子を含有させる必要がある。 No. 77185, which contains an organic polymer having a siloxane skeleton in the organic layer to be laminated, if the organic layer of the multilayer structure, containing an organic polymer having a siloxane skeleton in at least the lower side organic layer there is a need to be. 具体的に開示されるものは、積層される有機層中にシロキサン骨格を有する有機高分子を含有させて塗膜を架橋不溶化することにより高分子同士を積層するか、シロキサン骨格を有する有機高分子とこれと相溶性の低い炭素を主成分とする骨格を有する有機高分子とを含有する塗布液を塗布し、塗布層内での二相分離を利用して高分子同士を積層するものであり、その実施例には、積層される各有機層を、各機能化合物とシリコーン樹脂とを同一塗布溶媒(テトラヒドロフラン:THF)を用いて塗布形成し、架橋させること、および炭素を主成分とする骨格を有する有機高分子を用いて二相分離させて形成することが記載されている。 Or not specifically disclosed, the laminated polymer together by cross-linking insolubilize the coated film by incorporating an organic polymer having a siloxane skeleton in the organic layer to be laminated, organic polymer having a siloxane skeleton are those with which the coating liquid containing an organic polymer having a skeleton composed mainly of low compatibility carbon coated, laminated polymer together using a two-phase separation in the coating layer , in that embodiment, each organic layer formed, the functional compound and silicone resin and the same coating solvent: skeleton (tetrahydrofuran THF) is formed by coating using a mainly be crosslinked, and carbon it is described that by two-phase separation is formed by using an organic polymer having a. しかし、これらの積層構造では、特に、同一塗布溶媒を用いる場合など、積層可能な有機層の構成が非常に限定されたり、架橋構造導入に際し使用できる化合物が限定されたりということがあり、また、これらの官能基を発光層に導入しなければならないことから効率の低い発光の有機EL素子となっている。 However, these laminated structures, in particular, such as when using the same coating solvent, or be configured very limited stackable organic layer, is the fact that or limited compounds which can be used upon crosslinking structure introduced, also, It has a low emission of organic EL element efficiency since these functional groups must be introduced into the light-emitting layer.

【0008】また、現在一般に使われているポリマー型有機EL素子においては、発光性ポリマー上に、蒸着によりCa陰極を形成した構造がとられており、このような電極では高分子中に電極材料が拡散してドーパントとなったり、あるいはルミネッセンスを消光したりするため連続駆動において寿命の短い素子が多い。 Further, in the polymeric organic EL device are now commonly used, on the light emitting polymer, the structure forming the Ca cathode have been taken by vapor deposition, the electrode material in the polymer in such electrode There is often a short device lifetime in continuous driving to or quenching or a dopant diffuses, or luminescence. また、Ca In addition, Ca
陰極の酸化を防ぐために陰極蒸着後の封止条件管理を厳しくする必要がある。 It is necessary to tighten the sealing condition management after cathode deposition in order to prevent oxidation of the cathode.

【0009】このような事態は、Ca陰極のみならず、 [0009] Such a situation, not Ca cathode only,
いわゆる電子注入電極と称される陰極において一般的に生じることが多く、このため、電子注入電極のほかに一般的な配線材料であるAl等の陰極(補助電極)を併用することが多い。 Many commonly occurring that the called cathode-called electron injection electrode, Therefore, it is often used in combination cathode (auxiliary electrode) such as Al, which is a common wiring material in addition to the electron injecting electrode.

【0010】このような陰極の改良としては、従来から配線材として一般的に用いられてきた安定な金属を陰極材料として用いることを目的として、陰極電極に接する有機層を、電子注入におけるエネルギー障壁の小さい構成とすることが提案されている(特開平10−2701 [0010] energy barrier in the improvement of such a cathode, a stable metal which has been generally used as a wiring material conventionally as intended for use as a cathode material, an organic layer in contact with the cathode electrode, the electron injection small structure generates has been proposed a (JP-a-10-2701
71号、特開平10−270172号、特開平11−2 71 No., JP-A-10-270172, JP-11-2
33262号、特開2000−182774号)。 No. 33262, JP-A-2000-182774).

【0011】特開平10−270171号には、陰極電極との界面に、ドナー(電子供与性)ドーパントとして機能する金属でドーピングした有機化合物層を設けることが開示されている。 [0011] Japanese Patent Laid-Open No. 10-270171, the interface between the cathode electrode and the provision of an organic compound layer doped with a metal that functions as a donor (electron-donating) dopant is disclosed. 具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体を蒸着した発光層上に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体にLiまたはMgをドープした層や、バソフェナントロリンにLiをドープした層を蒸着により設けるか、あるいはポリパラフェニレンビニレンをBurroughesらの方法で発光層として成膜した後、アントラセン/Liを含有するポリスチレン膜を窒素雰囲気中でスピンコーティングし、これを金属ドーピング層とし、この上にAl蒸着による陰極電極を設けることが示されている。 Specifically, tris (8-quinolinolato) emission layer was deposited an aluminum complex, tris (8-quinolinolato) layer and doped with Li or Mg in aluminum complex, by depositing a layer doped with Li bathophenanthroline either providing, or after forming the light emitting layer polyparaphenylene vinylene in Burroughes et al. method, polystyrene film containing anthracene / Li was spin coated in a nitrogen atmosphere, which was a metal doping layer, Al on the It has been shown to provide a cathode electrode by vapor deposition.

【0012】特開平10−270172号には、陰極電極との界面に、金属酸化物または金属塩でドーピングした有機化合物層を設けることが開示されている。 [0012] Japanese Patent Laid-Open No. 10-270172, the interface between the cathode electrode and the provision of an organic compound layer doped with a metal oxide or a metal salt is disclosed. 具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体を蒸着した発光層上に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体にLiFまたはLi 2 Oをドープした層や、バソフェナントロリンにLi 2 Oをドープした層を設け、これをドーピング層とし、この上にAl蒸着による陰極電極を設けることが示されている。 Specifically, tris (8-quinolinolato) emission layer was deposited an aluminum complex, tris (8-quinolinolato) layer and doped with LiF or Li 2 O in the aluminum complex, doped with Li 2 O bathophenanthroline the layers provided which was a doping layer, has been shown to provide a cathode electrode of Al deposited thereon.

【0013】特開平11−233262号には、陰極電極に接する有機層として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、希土類金属イオンの少なくとも1種を含有する有機金属錯体化合物により構成し、かつ陰極電極を、有機金属錯体化合物中に含有される金属イオンを真空中において金属に還元しうる金属で構成することが開示されている。 [0013] Japanese Patent Laid-Open No. 11-233262, as an organic layer adjacent to the cathode electrode, constitutes an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an organic metal complex compound containing at least one rare earth metal ions, and the cathode the electrodes, to constitute a metal ion contained in the organic metal complex compound with a metal which can be reduced to metal in a vacuum is disclosed. 具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体を蒸着した発光層上に、モノ(8−キノリノラト)リチウム錯体やモノ(8−キノリノラト)ナトリウム錯体、あるいはモノ(2,2,6, Specifically, tris (8-quinolinolato) to the light-emitting layer with a deposit of aluminum complex, mono (8-quinolinolato) lithium complex and mono (8-quinolinolato) sodium complex, or mono- (2,2,6,,
6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト)リチウム錯体、モノ(2,2,6,6−テトラメチル−3,5 6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) lithium complex, mono (2,2,6,6-tetramethyl-3,5
−ヘプタンジオナト)ナトリウム錯体、ジ(2,2, - heptanedionato) sodium complex, di (2, 2,
6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト)マグネシウム錯体、ジ(2,2,6,6−テトラメチル− 6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) magnesium complex, di (2,2,6,6-tetramethyl -
3,5−ヘプタンジオナト)カルシウム錯体、あるいはトリ(1,3−フェニル−1,3−プロパンジオナト) 3,5-heptanedionato) calcium complex or tri (1,3-phenyl-1,3-propanedionato isocyanatomethyl)
モノ(バソフェナントロリン)ユウロピウム錯体の有機層(電子注入層)を蒸着により設け、この上にAl蒸着による陰極電極を設けることが示されている。 Provided mono (bathophenanthroline) organic layer europium complex (electron injection layer) by vapor deposition, has been shown to provide a cathode electrode of Al deposited thereon.

【0014】特開2000−182774号には、陰極電極に接する有機層として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、希土類金属イオンの少なくとも1 [0014] JP-A No. 2000-182774, as an organic layer adjacent to the cathode electrode, an alkali metal ion, alkaline earth metal ions, at least one rare earth metal ion
種を含有する有機金属錯体化合物と電子輸送性有機物とからなる混合層を設け、かつ陰極電極を混合層中の有機金属錯体化合物中に含有される金属イオンを真空中で金属に還元しうる金属で構成することが開示されている。 Metal capable of reducing providing a mixed layer comprising the organometallic complex compound and an electron-transporting organic material containing species, and the metal ions contained in the organic metal complex compound in the mixed layer in the cathode electrode to the metal in a vacuum be configured is disclosed in.
具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体を蒸着した発光層上に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体とモノ(8−キノリノラト)リチウム錯体との混合層を蒸着により設け、この混合層上にAl蒸着による陰極電極を設けることが示されている。 Specifically, tris (8-quinolinolato) emission layer was deposited an aluminum complex, formed by vapor deposition of tris (8-quinolinolato) mixed layer of aluminum complex and mono (8-quinolinolato) lithium complex, the mixed layer has been shown to provide a cathode electrode by Al deposited thereon.
これらの陰極電極の材料としては高融点金属に限られている。 As the material of these cathode electrodes are limited to refractory metals.

【0015】しかし、これらは、事実上、蒸着により有機層を形成するタイプの素子に対応した技術であり、塗布法によって積層構造をとるための必要な技術について検討されていない。 [0015] However, these is effectively a technique corresponding to the device type for forming an organic layer by vapor deposition, it has not been considered necessary skills for taking a multilayer structure by a coating method. また、高分子発光材料の効率を高めるのに最適な電子注入層に関しても検討されていない。 Moreover, not been investigated with regard optimum electron injection layer to enhance the efficiency of polymeric light emitting material.
特開平10−270171号には、高分子発光層上に金属ドーピング層を塗設することも記載されているが、高分子発光層形成にBurroughesらの手法を取り入れている。 In Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-270171, although it is also described that the Coating a metal doping layer on a polymer light-emitting layer, incorporating Burroughes's method in polymer light-emitting layer formation. これはポリパラフェニレンビニレン(PPV)前駆体を塗布し、その後に加熱し脱酸し、PPVを得る手法である。 This coated with poly-para-phenylene vinylene (PPV) precursor was then heated deoxidation is a technique to obtain a PPV. このPPVはあらゆる溶媒に不溶なポリマーであり、簡単に上層に塗布ができ積層構造を容易にとることができる。 The PPV is a polymer insoluble in any solvent, it is possible to take a layered structure can be easily applied to the upper layer easily. 一方、得られたPPVとしての均一性に問題があり、近年の可溶性PPVに比較して素子特性は著しく低い欠点がある。 On the other hand, there is a problem with uniformity of the resultant PPV, device characteristics compared to the recent soluble PPV is significantly lower disadvantages. また、反応性の著しく高い金属L Moreover, significantly higher metal L reactivity
iを混合しているため雰囲気コントロールが大変難しく、結晶化しやすい低分子量のアントラセンを塗布するために非導電性のポリスチレンポリマーで分散させることも必要になっている。 Atmosphere control since the mixing i is very difficult, it has become necessary also be distributed in a non-conductive polystyrene polymer to coat anthracene easily crystallized low molecular weight.

【0016】このようなことから、塗布法によって有機層を形成する場合においても、安価で安定な陰極材料を用い、電子注入効率を十分に確保できる技術が望まれるところである。 [0016] For this reason, even in the case of forming the organic layer by a coating method, using an inexpensive and stable cathode material, it is where the technique which can sufficiently ensure the electron injection efficiency is desired. また、塗布による場合、溶媒と材料の組合せや選択などがあり、蒸着によるものをそのまま転用できないのも事実である。 Further, in the case of coating, there is a combination or selection of the solvent and material, it is also a fact can not diverted as it is by deposition.

【0017】また、有機層の製法によらず、一般に、仕事関数の低い金属を陰極として用いる場合は非常に不安定であるため、安定化させる試みの検討が続けられている。 Further, regardless of the production method of the organic layer, generally, for the case of using the low work function metal as a cathode is very unstable, consideration attempts to stabilize is continuing. 例えば特開平5−198380号公報に示されているような合金として使用されている。 For example, it is used as an alloy as shown in JP-A-5-198380.

【0018】しかしながら、依然として低仕事関数の金属およびその塩を扱う必要があり、製造上取り扱いが煩雑であると共に、依然として劣化に関する問題が残る。 [0018] However, there is still need to deal with metals and salts of low work function, the manufacturing handling is complicated still problems related deterioration.

【0019】 [0019]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第一に、塗布により積層構造の有機層を形成した有機EL素子において、高輝度で長寿命であるなど、高効率で高信頼性であり、取り扱い等が簡便な有機EL素子を提供することである。 The object of the present invention is to solve the above is primarily in the organic EL device forming the organic layer of the multilayer structure by coating, etc. with high brightness and long life, with high reliability at high efficiency There is that the handling is to provide a simple organic EL device. さらには、塗布により積層構造の有機層の形成が可能であり、このため、簡便にかつ短時間で有機EL素子を製造でき、なおかつ効率が高く、信頼性の高い有機EL素子の製造方法を提供することである。 Furthermore, it can be formed of an organic layer of the multilayer structure by coating is, thus, simply and can manufacture an organic EL device in a short period of time, yet efficiency is high, provides a method for manufacturing a highly reliable organic EL device It is to be. また、本発明の目的は、第二に、一般的に、安定な金属種の金属塩を電子注入性の層に用いることで低駆動電圧でありながらも、取り扱いが容易で輝度半減寿命の長い特性を発現しうる素子を提供することである。 Another object of the present invention, secondly, in general, while a stable metal species of the metal salt low driving voltage by using the layer of electron injecting a long luminance half life is easy to handle to provide a device capable of exhibiting a property.

【0020】 [0020]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記の本発明により達成される。 Means for Solving the Problems] Such an object is achieved by the following aspects of the invention. (1) 陰極と陽極とを有し、これらの電極間に、発光層を含む2層以上の積層された有機層を有し、前記有機層のうちの少なくとも1層が塗布により形成された有機層である有機EL素子において、前記陰極に接する有機層が、25℃における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有し、かつ塗布により形成された電子注入性の有機層であり、この陰極側の電子注入性の有機層に接して高分子EL材料を含有する有機層を有する有機EL素子。 (1) and a cathode and an anode, between these electrodes, having two or more layers stacked organic layers including a light emitting layer, at least one layer of said organic layer is formed by coating an organic in the organic EL element is a layer, the organic layer in contact with the cathode, contain one or more compounds selected from the organometallic salts and organometallic complex compounds having a metal of less than the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C. and an electron injecting organic layer formed by coating, an organic EL element having an organic layer containing a polymer EL material in contact with the electron injecting organic layer of the cathode side. (2) 前記金属の標準電極電位が−2.2V以下− (2) the standard electrode potential of the metal is -2.2V or less -
3.1V以上である上記(1)の有機EL素子。 Is 3.1V or more organic EL devices of (1). (3) 前記金属の仕事関数が3.8eV以下である上記(1)または(2)の有機EL素子。 (3) the work function of a metal is equal to or less than 3.8eV organic EL device of (1) or (2). (4) 前記金属が、アルカリ金属(I)、アルカリ土類金属(II)または希土類金属(III)である上記(1)〜(3)のいずれかの有機EL素子。 (4) the metal is an alkali metal (I), the alkaline earth metal (II) or rare earth metal (III) (1) The organic EL device of any one of - (3). (5) 陰極に接する電子注入性の有機層の有機金属錯体化合物の有する配位子が下記式(L−1)で示される上記(1)〜(4)のいずれかの有機EL素子。 (5) above ligand having the organometallic complex compound having an electron injecting organic layer in contact with the cathode is represented by the following formula (L-1) (1) The organic EL device of any one of - (4).

【0021】 [0021]

【化2】 ## STR2 ##

【0022】[式(L−1)中、R 1 、R 2およびR [0022] In the formula (L-1), R 1 , R 2 and R
3は、各々水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、これらは同一でも異なるものであってもよく、R 2 3 are each a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, these may be different even in the same, R 2
とR 3とは互いに連結して環を形成してもよい。 And it may be bonded to each other to form a ring and R 3. ] (6) 高分子EL材料を含有する有機層の高分子EL (6) polymer EL of the organic layer containing the polymer EL material
材料の分子量が、重量平均分子量で5000以上である上記(1)〜(5)のいずれかの有機EL素子。 The molecular weight of the material, the 5,000 or more in weight-average molecular weight (1) The organic EL device of any one of - (5). (7) 高分子EL材料を含有する有機層の高分子EL (7) a polymer EL of the organic layer containing the polymer EL material
材料が、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体、 Material, polyfluorene and derivatives thereof, polyparaphenylene vinylene and its derivatives, poly-biphenylene vinylene and derivatives thereof, poly terpolymers phenylene vinylene and derivatives thereof, poly naphthylene vinylene and derivatives thereof, poly (thienylene vinylene) and derivatives thereof,
ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリビニル化合物、 Polythiophene and derivatives thereof, polyvinyl compounds,
ポリアクリレート誘導体、ならびにポリメタクリレート誘導体から選ばれる1種以上の化合物である上記(6) Polyacrylate derivatives, as well as one or more compounds selected from polymethacrylate derivatives (6)
の有機EL素子。 The organic EL element of. (8) 陰極に接する電子注入性の有機層が、さらに電子輸送性材料を含有し、この電子輸送性材料が、オキサジアゾール環、トリアゾール環、キノキサリン環、フェナントロリン環、キノリノール環、チアジアゾール環、 (8) an electron injecting organic layer in contact with the cathode, further contains an electron transporting material, the electron transporting material, oxadiazole ring, triazole ring, quinoxaline ring, phenanthroline ring, quinolinol ring, thiadiazole ring,
ピリジン環またはシアノ基を有する化合物である上記(1)〜(7)のいずれかの有機EL素子。 Is a compound having a pyridine ring or cyano group above (1) The organic EL device of any one of - (7). (9) 陰極に接する電子注入性の有機層が、塗布後に架橋されたものである上記(1)〜(8)のいずれかの有機EL素子。 (9) an electron injecting organic layer in contact with the cathode, organic EL device of any one of the those which are crosslinked after application (1) to (8). (10)基板と、基板上に設けられた第1電極と、発光層を含む2層以上の積層された有機層と、有機層上に形成された第2電極とを有し、前記有機層のうちの少なくとも1層を塗布により形成する有機EL素子の製造方法において、高分子EL材料を含有する有機層と、25℃ A (10) and the substrate, a first electrode provided on the substrate, and a laminate of two or more organic layers including a light emitting layer, and a second electrode formed on the organic layer, the organic layer in the manufacturing method of the organic EL element is formed by applying at least one layer of an organic layer containing a polymer EL material, 25 ° C.
における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有する電子注入性の有機層とを積層して形成し、25℃における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有する電子注入性の有機層を、第1電極または第2電極に接して、塗布により形成する有機EL素子の製造方法。 Formed by stacking an electron injection organic layer containing one or more compounds selected from the organometallic salts and organometallic complex compounds having a metal of less than the standard electrode potential -1.8V in the standard at 25 ° C. the electron injecting organic layer containing one or more compounds selected from the organometallic salts and organometallic complex compounds having a metal of less than electrode potential -1.8 V, in contact with the first electrode or the second electrode, the coating the method for manufacturing an organic EL device formed by. (11) 第1電極が陽極であり、第2電極が陰極であり、高分子EL材料を含有する有機層を、下層側有機層として形成し、この下層側有機層に積層して、上層側有機層として、25℃における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有する電子注入性の有機層を、塗布溶媒として、i)総炭素数3〜6の鎖状化合物であって、分子内に炭素数1〜3のアルコキシ基、 (11) the first electrode is an anode, the second electrode is a cathode, an organic layer containing a polymer EL material is formed as a lower side organic layer, laminated in this lower side organic layer, the upper layer side the organic layer, the electron injecting organic layer containing one or more compounds selected from the organometallic salts and organometallic complex compounds having a metal of less than the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C., as the coating solvent, i) a chain compound having a total carbon number of 3-6, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms in the molecule,
カルボニル基、および炭素数2〜3のエステル基から選ばれる1種以上を有し、かつこれらの基のα位および/ Carbonyl group, and has one or more selected from the number 2-3 ester groups carbons, and α-position of these groups and /
またはβ位に水酸基を有する化合物、ii)総炭素数3〜 Or a compound having a hydroxyl group at the β-position, ii). 3 to the total number of carbon atoms
6の鎖状化合物であって、分子内に炭素数2〜4のジアルキルアミド基を有する化合物、iii)総炭素数5〜8の鎖状化合物であるエステル、ならびにiv)総炭素数4〜 6 a chain compound, a compound having a dialkylamide group of 2 to 4 carbon atoms in the molecule, iii) an ester is a chain compound having a total carbon number of 5-8, and iv). 4 to the total number of carbon atoms
7の鎖状化合物であるカーボネートから選択される1種以上の化合物を用いて塗布により形成し、さらに上層側の電子注入性の有機層上に陰極を形成する上記(10) It was formed by coating with one or more compounds selected from 7 which is a chain compound carbonate, further forming a cathode on the upper side of the electron injecting organic layer on the (10)
の有機EL素子の製造方法。 The method of manufacturing the organic EL device. (12) 下層側の有機層を、塗布により形成する上記(11)の有機EL素子の製造方法。 (12) the lower side organic layer, the manufacturing method of the organic EL device of (11) to form a coating. (13) 陰極と陽極とを有し、これらの電極間に、発光層を含む1層以上の有機層を有し、前記陰極と前記有機層との間に電子注入性の層を有し、前記電子注入性の層が、25℃における標準電極電位−1.8V以上− (13) and a cathode and an anode, between the electrodes, have one or more organic layers including a light emitting layer, a layer of electron injecting property between the cathode and the organic layer, the electron injecting layer is, the standard electrode potential -1.8V or more at 25 ° C. -
0.8V以下の金属を有する無機金属塩および有機金属塩から選ばれる1種以上の塩を含有する有機EL素子。 The organic EL element containing one or more salts selected from inorganic metal salts and organometallic salts having the following metal 0.8V. (14) 前記金属の標準電極電位が−1.7V以上− (14) the standard electrode potential of the metal is higher -1.7 V -
1.15V以下である上記(13)の有機EL素子。 1.15V or less organic EL device of (13). (15) 前記金属の仕事関数が4.0eV以上である上記(13)または(14)の有機EL素子。 (15) the metal work function is greater than or equal to 4.0eV organic EL device of (13) or (14). (16) 前記金属が、Al(III)、Mn(II)またはZr(IV)である上記(13)〜(15)のいずれかの有機EL素子。 (16) wherein the metal, Al (III), organic EL device of any one of Mn (II) or Zr (IV) in the above (13) to (15). (17) 前記金属塩が、カルボン酸塩、アルコキシド、フェノキシド、ハロゲン化物またはジアルキルアミドである上記(13)〜(16)のいずれかの有機EL (17) wherein the metal salt is a carboxylate, alkoxide, phenoxide, any organic EL of the halides or dialkyl amide (13) to (16)
素子。 element.

【0023】 [0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. 本発明の有機EL素子は、例えば図1に示されるように、基板1上に陽極2を有し、さらにこの上に、発光層等の有機層3、電子注入性の層4および陰極5が積層されたものである。 The organic EL device of the present invention, for example as shown in FIG. 1, has an anode 2 on a substrate 1, on further this, the organic layer 3 such as a light emitting layer, a layer 4 and the cathode 5 of the electron-injecting property it is those that are stacked. なお、有機層3は、複数種類設けてもよい。 Note that the organic layer 3 may be provided a plurality of types. また、この逆の積層構成としてもよい。 Also, or a stacked structure of the reverse. 積層構成は、例えば、ディスプレーの仕様や作製プロセス等により、適宜最適なものにすればよい。 Stacked configuration, for example, by display specifications and the manufacturing process or the like, may be appropriately optimized.

【0024】このような電子注入性の層としては、25 [0024] As such an electron injecting layer, 25
℃における標準電極電位が−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および/または有機金属錯体化合物を含有し、かつ塗布により形成された電子注入性の有機層があり、このような場合、このような電子注入性の有機層に接して高分子EL材料を含有する高分子有機層を設ける。 If the standard electrode potential at ℃ will contain an organic metal salt and / or organic metal complex compound having a metal of less than -1.8 V, and there is an electron injecting organic layer formed by coating, such, this providing a polymer organic layer containing a polymer EL material in contact with the electron injecting organic layer, such as.

【0025】このような電子注入性の有機層を設けることにより、陰極に安価で安定な金属材料を用いても、電子注入効率が高いため、いわゆるCa等の電子注入電極(陰極)を、別途設けなくてもよくなり、一般に不安定材料から形成される電子注入電極による弊害を防止することができる。 [0025] By providing such an electron injecting organic layer, even with an inexpensive and stable metal material in the cathode, because of their high electron injection efficiency, the electron injection electrode so-called Ca or the like (cathode) separately it may not be provided, generally an adverse effect due to electron injection electrode formed from unstable material can be prevented. すなわち、Ca等の電子注入電極材料が高分子中に拡散して素子寿命が短くなったり、電子注入電極材料の酸化により素子性能が低下したりするのを防止することができる。 That is, it is possible to the electron injecting electrode material such as Ca to prevent or shorten the element life diffuses into the polymer, that the device performance by oxidation of the electron injecting electrode material or decreased. また、電子注入性の有機層は、塗布により形成しているため、熱還元性補助電極以外の幅広い金属に対して有効になり、生産性が向上し、かつ十分な膜厚が確保できるので、十分な電子注入効率が得られる。 Further, the electron injecting organic layer, because it is formed by coating, is valid for a wide range of metals other than the thermally reducible auxiliary electrode, and the productivity is improved, and since sufficient film thickness can be secured, sufficient electron injection efficiency.

【0026】この場合の有機EL素子は、基板上に設けられた第1電極と、これと対をなす第2電極との間に有機層を有するものであり、この有機層は発光層を含む2 The organic EL element in this case is one having an organic layer between a first electrode provided on the substrate, a second electrode forming a pair therewith, the organic layer including a light-emitting layer 2
層以上からなる。 Consisting of more layers. このような2層以上の有機層は、少なくとも1層が塗布により形成される。 Such two or more layers of the organic layers, at least one layer is formed by coating. そして、この場合、陰極となる第1電極または第2電極に接する有機層として、上記の電子注入性の層を設ける。 In this case, as the organic layer in contact with the first electrode or the second electrode becomes a cathode, an electron injecting property of the layer above.

【0027】特に、基板上に、第1電極として陽極を形成し、この上に、高分子有機層と電子注入性の有機層との積層構造の有機層をこの順に設け、電子注入性の有機層上に第2電極として陰極を形成するような構成とすることが好ましく、この場合には、下層側有機層として高分子有機層を設け、上層側有機層として電子注入性の有機層を設ければ、所定の溶媒を用いて上層側有機層を容易に塗布形成することが可能になる。 [0027] In particular, on a substrate, an anode is formed as a first electrode, thereon, provided the organic layer of the laminated structure of the polymer organic layer and the electron injecting organic layer in this order, an electron injection organic preferably it is configured so as to form a cathode as the second electrode on the layer, in this case, a polymer organic layer formed as a lower side organic layer, an electron injecting organic layer as an upper side organic layer lever, it is possible to easily applied form the upper side organic layer using a predetermined solvent. これにより、高分子有機層を下層側有機層とする積層構造を容易に得ることができる。 Thus, it is possible to easily obtain a laminated structure of a polymer organic layer and the lower side organic layer.

【0028】なお、特開2000−182774号には、陰極電極に接する有機層として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、希土類金属イオンの少なくとも1種を含有する有機金属錯体化合物と電子輸送性有機物とからなる混合層を設け、かつ陰極電極を、混合層中の有機金属錯体化合物中の金属を真空中で還元しうる金属で構成することが開示されているが、具体的に開示されるのは、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体とモノ(8−キノリノラト)リチウム錯体との混合層を蒸着により形成した例であり、塗布により形成する具体例については全く示されておらず、陰極電極の材料も高融点金属に限られている。 [0028] Incidentally, in the JP 2000-182774, as an organic layer adjacent to the cathode electrode, an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an organic metal complex compound containing at least one rare earth metal ion and an electron transporting property a mixed layer composed of an organic substance is provided, and the cathode electrode, while the metal of the organometallic complex compound in the mixed layer be made of a metal that can be reduced in vacuo disclosed are specifically disclosed It is of tris (8-quinolinolato) is an example formed by depositing a mixed layer of aluminum complex and mono (8-quinolinolato) lithium complex, not at all shown for example be formed by coating the cathode electrode also materials are limited to a refractory metal. また、混合層に接して設けられる層もトリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体の層であり、高分子EL材料を含有する層との積層構造あるいは高分子発光材料に適した電子注入材料についての具体例は全く示されていない。 The layer provided in contact with the mixed layer be tris (8-quinolinolato) a layer of aluminum complexes, specifically for the electron injecting material suitable for lamination structure or polymer light-emitting material of the layer containing the polymeric EL material examples are not completely shown. また、標準電極電位と関係づけた材料の選択についても全く示されていない。 Moreover, it is completely shown also selection of the materials related to the standard electrode potential.

【0029】また、本発明の有機EL素子において、電子注入性の層として、25℃における標準電極電位が− [0029] In the organic EL device of the present invention, as a layer of an electron injecting property, a standard electrode potential at 25 ° C. -
1.8V以上−0.8V以下の金属を有する無機金属塩および有機金属塩から選ばれる1種以上の塩を含有する層を設けてもよい。 One or more salts selected from inorganic metal salts and organometallic salts having a -0.8V following metals or 1.8V layers may be provided containing.

【0030】このような一般的に安定な金属種の金属塩を含有する電子注入性の層は、電子注入性、および電子輸送性を有し、陰極から有機層へ効率よく電子を注入する機能を有し、また陰極と有機層との界面を改質して、 The electron injecting layer containing such generally stable metal species of the metal salt, electron injection property, and has an electron transporting property, efficient function of injecting electrons from the cathode into the organic layer the have also by reforming the interface between the cathode and the organic layer,
安定した電子の注入、および発光を行わせることができるものと考えられ、発光効率が向上し、長寿命化が図られる。 Stable electron injection, and believed that light emission can be carried out, improved luminous efficiency, long life can be achieved. このため、いわゆるCa等の電子注入電極(陰極)を、別途設けなくてよくなり、一般に不安定材料から形成される電子注入電極による弊害を防止することができる。 Therefore, the electron injection electrodes of the so-called Ca, etc. (cathode), it is possible to prevent the adverse effects of electron injection electrode formed separately from it well not be provided, generally unstable material. すなわち、Ca等の電子注入電極材料が高分子中に拡散して素子寿命が短くなったり、電子注入電極材料の酸化により素子性能が添加したりするのを防止することができる。 That is, it is possible to the electron injecting electrode material such as Ca to prevent or shorten the element life diffuses into the polymer, from or added device performance by oxidation of the electron injecting electrode material.

【0031】なお、本発明において、25℃における標準電極電位は水溶液中の電極反応で、金属(0価)となる場合の値である。 [0031] In the present invention, the standard electrode potential at 25 ° C. in electrode reaction in an aqueous solution, is a value in the case where the metal (zero valent).

【0032】次に、i)25℃における標準電極電位− [0032] Then, i) the standard electrode potential at 25 ° C. -
1.8V未満の金属を有する有機金属塩および/または有機金属錯体化合物を含有し、かつ塗布により形成された電子注入性の有機層を有する場合と、ii)25℃における標準電極電位−1.8V以上−0.8V以下の金属を有する無機金属塩および/または有機金属塩を含有する電子注入性の層を有する場合とに分けて、主に、有機層構成について説明する。 In the case of containing the organic metal salt and / or organic metal complex compound having a metal of less than 1.8V, and has an electron injecting organic layer formed by coating, ii) the standard electrode potential -1 at 25 ° C.. divided into the case having an electron injecting layer containing an inorganic metal salt and / or organic metal salt having a -0.8V following metals or 8V, it will be described mainly organic layer configuration.

【0033】なお、本発明では、上記i)とii)の化合物を併用した電子注入性の有機層の塗布による形成を除外するものではないが、通常は、上記i)またはii)の電子注入性の層を選択して形成する。 [0033] In the present invention, but does not exclude the formation by coating of the i) and ii) an electron injecting organic layer of the compound in combination of, usually, an electron injection of the i) or ii) formed by selecting sexual layers.

【0034】i)25℃における標準電極電位−1.8V [0034] i) the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C.
未満の金属を有する有機金属塩および/または有機金属錯体化合物を含有し、かつ塗布により形成した電子注入性の有機層を有する場合このような有機金属塩および有機金属錯体化合物の金属は、25℃における標準電極電位が−1.8V未満のものであり、さらに好ましくは、 Containing organic metal salt and / or organic metal complex compound having less than metal, and if having electron injecting organic layer was formed by coating a metal of the organic metal salts and organometallic complex compound, 25 ° C. is intended the standard electrode potential of less than -1.8 V, more preferably in,
−2.2V以下−3.1V以上である。 -2.2V is equal to or less than -3.1V or more. このような金属種は、仕事関数が3.8eV以下(通常1.95eV以上)であることが好ましい。 Such metal species is preferably a work function is 3.8eV or less (more typically 1.95 eV). このような金属としては、Li、 Such metals, Li,
Na、K、Rb、Cs等のアルカリ金属(I)、Mg、 Na, K, Rb, an alkali metal such as Cs (I), Mg,
Ca、Sr、Ba等のアルカリ土類金属(II)、Y、L Ca, Sr, Ba alkaline earth metal such as (II), Y, L
a、Ce、Pr、Nd、Sm,Eu,Er,Yb等の希土類金属(III)などであり、アルカリ金属(I)、アルカリ土類金属(II)、Eu(III)、Sm(III)、La a, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Er, and the like rare earth metals (III) such as Yb, alkali metal (I), alkaline earth metal (II), Eu (III), Sm (III), La
(III)などが好ましく、さらにはNa(I)、K (III) is preferable, and more Na (I), K
(I)、Cs(I)、Li(I)、Ca(II)、Ba(I (I), Cs (I), Li (I), Ca (II), Ba (I
I)、Eu(III)、Sm(III)、La(III)が好ましく、特にはNa(I)、K(I)、Li(I)、Ca(I I), Eu (III), Sm (III), La (III) are preferred, particularly Na (I), K (I), Li (I), Ca (I
I)、Ba(II)、Eu(III)、Sm(III)が好ましい。 I), Ba (II), Eu (III), Sm (III) are preferred.

【0035】有機金属錯体化合物は、有機配位子を有し、金属との結合が配位結合のみであるものをいうが、 The organometallic complex compound has an organic ligand, but refers to the binding of the metal is only a coordinate bond,
有機金属錯体化合物において、これらの金属に配位する配位子としては、β−ジケトン類(例えばアセチルアセトン、1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオン、 In the organometallic complex compound, as a ligand coordinated to these metals, beta-diketones (e.g. acetylacetonate, 1,3-diphenyl-1,3-propane dione,
2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオン、1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロ− 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptane dione, 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro -
7,7−ジメチル−4,6−オクタンジオン、1−フェニル−1,3−ブタンジオン等)、サリチルアルデヒド類(例えばサリチルアルデヒド、ジエチルアミノサリチルアルデヒド等)、キノリノール類(例えば8−キノリノール等)、フェナントロリン類(例えばフェナントロリン、バソフェナントロリン等)、などが挙げられる。 7,7-dimethyl-4,6-octane-dione, 1-phenyl-1,3-butanedione, etc.), salicylaldehyde (such salicylaldehyde, diethylamino salicylaldehyde, etc.), quinolinols (such as 8-quinolinol, etc.), phenanthroline s (e.g. phenanthroline, bathophenanthroline, etc.), and the like.

【0036】このようななかでも、中心金属に、酸素で配位するβ−ジケトン類やサリチルアルデヒド類のような配位子が配位した錯体が好ましく、特に下記式(L− [0036] Among such, the central metal, complex ligands such as oxygen in coordination to β- diketones and salicylic aldehyde is coordinated is preferable, especially the following formula (L-
1)で示される配位子が好ましい。 Preferably ligand represented by 1). なお、複数の配位子が存在するときは、少なくとも1個の配位子がこのような配位子であればよいが、すべてがこのような配位子であることが好ましく、特に、すべてが下記式(L−1) Incidentally, when a plurality of ligands are present, at least one ligand may be any such ligands, but preferably all is such ligands, in particular, all but the following formula (L-1)
で示される配位子であることが好ましい。 It is preferably in a ligand represented.

【0037】ここでは、配位子を配位状態で示している。 [0037] Here is shown a ligand in a coordination state.

【0038】 [0038]

【化3】 [Formula 3]

【0039】式(L−1)中、R 1 〜R 3は、各々水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、これらは同一でも異なるものであってもよく、R 2とR 3とは互いに連結して環を形成してもよい。 The formula (L-1), R 1 ~R 3 each represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, these may be different even in the same, each other R 2 and R 3 linked to it may form a ring.

【0040】R 1 〜R 3で表されるアルキル基は、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数1〜10が好ましく、直鎖状であっても分岐状であってもよい。 The alkyl group represented by R 1 to R 3 may have a substituent be unsubstituted, total 1 to 10 carbon atoms are preferred, a branched be straight it may be. なかでも、無置換アルキル基、パーフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、iso−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、パーフルオロプロピル基などが挙げられる。 Among them, an unsubstituted alkyl group, a perfluoroalkyl group is preferred, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, iso- propyl, butyl, iso- butyl, s- butyl, t- butyl group, perfluoropropyl group.

【0041】R 1 〜R 3で表されるアリール基は、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数6〜12が好ましく、単環であっても多環であってもよい。 The aryl group represented by R 1 to R 3 may have a substituent be unsubstituted, total 6-12 carbon atoms are preferred, be monocyclic be polycyclic good. なかでも、単環の無置換アリール基が好ましく、具体的には、 Among them, an unsubstituted aryl group having a single ring are preferred, specifically,
フェニル基などが挙げられる。 And a phenyl group.

【0042】R 2とR 3とが互いに連結して形成される環としては、芳香環、複素環が挙げられ、なかでも芳香族炭素環が好ましく、ベンゼン環が好ましい。 [0042] As ring and R 2 and R 3 are formed by linking each other, an aromatic ring, a heterocyclic ring, and among others, aromatic carbocyclic ring are preferred, a benzene ring is preferred. ベンゼン環は、無置換であっても、アミノ基(例えばジエチルアミノ基)、ニトロ基、シアノ基等が置換されていてもよい。 Benzene ring may be unsubstituted, amino group (e.g., diethylamino group), a nitro group, a cyano group and the like may be substituted.

【0043】このようななかでも、R 1とR 3とがアルキル基またはアリール基で、かつR 2が水素原子である組合せ、R 1が水素原子で、かつR 2とR 3とでベンゼン環を形成するものが好ましい。 [0043] Among these, in which R 1 and R 3 is an alkyl group or an aryl group, and combinations R 2 is a hydrogen atom, with R 1 is a hydrogen atom, and the benzene ring in R 2 and R 3 which forms is preferred. すなわち、β−ジケトン類、サリチルアルデヒド類が配位子となる場合が好ましい。 That, beta-diketones, if the salicyl aldehydes becomes a ligand is preferred.

【0044】一方、有機金属塩は、有機酸、アルコール、ジアルキルアミドの水素を金属で置換したものをいい、金属と配位子との配位結合が一部存在していてもよいが、配位結合がすべてであるものは除外される。 On the other hand, organic metal salts, organic acids, alcohols, hydrogen dialkylamide refers to one substituted with a metal, although a coordination bond with the metal and the ligand may be present partially, distribution position coupling things are all are excluded. 具体的には、カルボン酸、フェノール等の有機酸の塩、アルコキシド、ジアルキルアミドの塩などが挙げられる。 Specifically, carboxylic acids, salts of organic acids such as phenol, an alkoxide, and the like salts of dialkyl amide.

【0045】カルボン酸としては、脂肪族であっても芳香族であってもよい。 [0045] The carboxylic acid may be an aromatic or an aliphatic. 脂肪族カルボン酸としては、総炭素数1〜24のものが好ましく、飽和脂肪族カルボン酸であっても不飽和脂肪酸カルボン酸であってもよく、カルボキシル基を2個以上有するものであってもよい。 Examples of the aliphatic carboxylic acid, preferably has a total carbon number of 1 to 24, it may be also an unsaturated fatty acid be a saturated aliphatic carboxylic acids, even those having two or more carboxyl groups good. また、アリール基等の置換基を有していてもよい。 And it may have a substituent such as an aryl group. 具体的には、酢酸、プロピオン酸、オクチル酸、イソオクチル酸、デカン酸、ラウリル酸などの脂肪族カルボン酸、オレイン酸、リシノール酸(リシノレン酸)などの不飽和脂肪族カルボン酸、クエン酸、リンゴ酸、シュウ酸等のジないしトリ等の多価のカルボン酸などが挙げられる。 Specifically, acetic acid, propionic acid, octyl acid, isooctyl acid, decanoic acid, aliphatic carboxylic acids such as lauric acid, unsaturated aliphatic carboxylic acids such as oleic acid, ricinoleic acid (ricinoleic acid), citric acid, malic acid, polyvalent carboxylic acids di- or tri-such as oxalic acid.
芳香族カルボン酸としては、総炭素数7〜24のものが好ましく、置換基(炭素数1〜8のアルキル基、ヒドロキシ基等)を有していてもよく、具体的には、安息香酸、 The aromatic carboxylic acid, preferably has a total carbon number of 7 to 24, the substituent (alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxy group, etc.) may have, in particular, benzoic acid,
o−(t−ブチル)安息香酸、m−(t−ブチル)安息香酸、サリチル酸、m−(ヒドロキシ)安息香酸、p− o-(t-butyl) benzoic acid, m-(t-butyl) benzoic acid, salicylic acid, m-(hydroxymethyl) benzoic acid, p-
(ヒドロキシ)安息香酸)などが挙げられる。 (Hydroxy) benzoic acid) and the like.

【0046】フェノールとしては、総炭素数6〜46のものが好ましく、置換基(炭素数1〜8の直鎖状または分岐状のアルキル基や、フェニル基等のアリール基等) [0046] The phenol preferably has a total carbon number of 6 to 46, the substituent (or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group such as a phenyl group)
や縮合環(置換基を有していてもよいベンゼン環等の芳香環等)を有していてもよく、1価のフェノールであっても、二価以上の多価のフェノールであってもよい。 Or condensed ring may have a (an aromatic ring such as a benzene ring, which may have a substituent), be a monovalent phenol, is also a divalent or higher polyvalent phenols good. 具体的には、フェノール、ナフトール、4−フェニルフェノール、2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)などが挙げられる。 Specifically, phenol, naphthol, 4-phenylphenol, and 2,2-bis (p- hydroxyphenyl) propane (bisphenol A).

【0047】アルコキシドを形成するアルコールとしては、総炭素数1〜10のものが好ましく、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール等の第一級アルコール、イソプロピルアルコール、s− [0047] As the alcohol to form an alkoxide, preferably it has a total carbon number of 1 to 10, ethyl alcohol, n- propyl alcohol, primary alcohol, such as n- butyl alcohol, isopropyl alcohol, s-
ブチルアルコール等の第二級アルコール、t−ブチルアルコール等の第三級アルコールなどが挙げられる。 Secondary alcohols such as butyl alcohol, etc. tertiary alcohols such as t- butyl alcohol. また、二価以上の多価アルコールであってもよく、例えばエチレングリコールなどが挙げられる。 It may also be a polyhydric alcohol having two or more valencies, such as ethylene glycol.

【0048】ジアルキルアミドとしては、さらに置換基を有していてもよく、総炭素数は2〜24であることが好ましい。 [0048] As the dialkylamides, may further have a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 2 to 24. 具体的には、ジメチルアミド、ジエチルアミド、N−メチル−N−エチルアミド等が挙げられる。 Specifically, dimethylamide, diethylamide, N- methyl -N- ethylamide and the like.

【0049】有機金属塩のなかでも、アルコキシド、フェノキシド、酢酸塩などが好ましい。 [0049] Among the organic metal salts, alkoxides, phenoxides, such as acetic acid salts are preferred.

【0050】このような塩や錯体を用いるのは、安定性に優れており、塗布溶媒への溶解性が高いからである。 [0050] The use of such salts and complexes are excellent in stability, because of high solubility in a coating solvent.

【0051】このような有機金属塩および有機金属錯体化合物の具体例としては、次のようなものが挙げられる。 [0051] Specific examples of such organic metal salts and organic metal complex compound include those described below.

【0052】 [0052]

【化4】 [Of 4]

【0053】 [0053]

【化5】 [Of 5]

【0054】 [0054]

【化6】 [Omitted]

【0055】これらは、1種のみ使用しても2種以上を併用してもよい。 [0055] These may be used in combination of two or more kinds thereof may be used only one.

【0056】また、陰極に接して設けられる電子注入性の有機層は、さらに、電子輸送性材料を含有することが好ましく、電子輸送性材料としては、オキサジアゾール環、トリアゾール環、キノキサリン環、フェナントロリン環、キノリノール環、チアジアゾール環またはピリジン環を有する化合物が好ましく、またシアノ基を有する化合物も好ましい。 [0056] The electron injecting organic layer provided in contact with the cathode, further preferably contains an electron transporting material, the electron transporting material, oxadiazole ring, triazole ring, quinoxaline ring, phenanthroline ring, quinolinol ring, a compound having a thiadiazole ring or pyridine ring are preferred, also a compound having a cyano group is preferable. 電子輸送性材料、特にオキサジアゾール環、トリアゾール環、キノキサリン環、フェナントロリン環、キノリノール環、チアジアゾール環、ピリジン環を有する化合物、あるいはシアノ基を有する化合物を用いるのは、電子移動度が高く、正孔阻止性が高いため、高分子EL発光材料の発光効率を高めることができるからである。 Electron transporting material, in particular an oxadiazole ring, triazole ring, quinoxaline ring, phenanthroline ring, quinolinol ring, thiadiazole ring, a compound having a pyridine ring, or to use a compound having a cyano group has high electron mobility, positive because of the high hole blocking property, it is possible to increase the luminous efficiency of polymer EL luminescent material. また、塗膜のアモルファス性が高くなり、素子の長寿命化を図ることができる。 Also, the higher the amorphous coating film, it is possible to extend the life of the device. 特に、オキサジアゾール環、キノリノール環を有する化合物が好ましい。 In particular, an oxadiazole ring, a compound having a quinolinol ring.

【0057】このような化合物は、単量体であっても多量体(例えばポリマー)であってもよく、次のようなものを用いることができる。 [0057] Such compounds may be also be monomeric multimeric (e.g. polymer), it can be used as follows. なお、Mwは重量平均分子量である。 Incidentally, Mw is the weight average molecular weight.

【0058】 [0058]

【化7】 [Omitted]

【0059】 [0059]

【化8】 [Of 8]

【0060】 [0060]

【化9】 [Omitted]

【0061】これらの化合物は1種のみ用いてもよく、 [0061] These compounds may be used alone,
2種以上を併用してもよい。 It may be used in combination of two or more.

【0062】電子注入性の有機層において、電子輸送性材料と有機金属塩および/または有機金属錯体化合物との混合比は、電子輸送性材料/(有機金属塩および/または有機金属錯体化合物)のモル比で、99/1以下であることが好ましい。 [0062] In the electron injecting organic layer, the mixing ratio of the electron transporting material and an organic metal salt and / or organic metal complex compound, an electron-transporting material / (organic metal salt and / or organic metal complex compound) in a molar ratio, preferably at 99/1 or less. 有機金属塩および/または有機金属錯体化合物が少なくなると、電子注入性が低くなる。 When organic metal salt and / or organic metal complex compound is reduced, the electron injection property is lowered.
上記混合比の下限は0であるが、電子輸送性材料を用いるとき、導電性との均衡などを考慮して、通常、90/ The lower limit of the mixing ratio is 0, when using an electron transporting material, in consideration of the balance between conductivity, typically 90 /
10〜10/90の混合比とされる。 It is mixing ratio of 10 to 10/90. また、必要に応じ、バインダー樹脂等を混合してもよい。 Further, if necessary, it may be mixed with a binder resin.

【0063】本発明において、電子注入性の有機層は架橋されたものであることも好ましく、この場合の電子注入性の有機層は、架橋可能な化合物を含有する塗膜を形成し、架橋させることが好ましい。 [0063] In the present invention, it is also preferably an electron injecting organic layer are those which are crosslinked, electron injecting organic layer in this case, to form a coating film containing the crosslinkable compound is crosslinked it is preferable.

【0064】架橋可能な化合物としては、上記の有機金属塩および/または有機金属錯体化合物や電子輸送性材料を架橋可能な構造として用いることができるが、一般的には、さらに、架橋可能な樹脂などを用いることが好ましい。 [0064] As the crosslinkable compound, it is possible to use the above organic metal salt and / or organic metal complex compound and an electron transporting material as crosslinkable structure, in general, further crosslinkable resin it is preferable to use, and the like. このような樹脂を用いれば、容易に、塗膜を架橋可能なものにすることができる。 The use of such a resin can be easily, the coating film capable crosslinking.

【0065】また、電子注入性の有機層を架橋構造とすることによって、素子の長寿命化を図ることができる。 [0065] Further, by making the electron injecting organic layer and crosslinked structure, it is possible to extend the life of the device.

【0066】このような樹脂としては、変性シリコーン樹脂(例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製SR2101など)等がある。 [0066] As such a resin, a modified silicone resin (e.g., Dow etc. Corning Silicone Co., Ltd. SR2101), and the like.

【0067】電子注入性の有機層において、架橋可能な樹脂と有機金属塩および/または有機金属錯体化合物との混合比は、架橋可能な樹脂/(有機金属塩および/または有機金属錯体化合物)の質量による比で、70/3 [0067] In the electron injecting organic layer, the mixing ratio of the crosslinkable resin and the organic metal salt and / or organic metal complex compounds, crosslinkable resin / (organic metal salt and / or organic metal complex compound) the ratio by mass, 70/3
0以下であることが好ましい。 It is preferred that less than or equal to zero. 架橋可能な樹脂が多くなると、電子注入性が低くなる。 When crosslinkable resin is increased, the electron injection property is lowered. 上記混合比の下限は0であるが、架橋可能な樹脂を用いるとき、塗膜強度との均衡なども考慮して、通常、50/50〜1/99の混合比とされる。 The lower limit of the mixing ratio is 0, when using a cross-linkable resin, in consideration of such balance between film strength, normally a mixture ratio of 50/50 to 1/99.

【0068】架橋は、用いる樹脂にもよるが、通常、乾燥や加熱による硬化処理を行うことが多い。 [0068] crosslinking, depending on the resin used, usually, it is often subjected to a curing treatment by drying or heating. 乾燥は室温(15℃〜35℃程度の温度)で1〜100時間程度行う。 Drying is carried out about 1 to 100 hours at room temperature (15 ° C. to 35 ° C. temperature of about).

【0069】電子注入性の有機層は、塗布により形成されるが、その厚さは5〜100nmの範囲であることが好ましい。 [0069] electron injecting organic layer is formed by coating, the thickness thereof is preferably in the range of 5 to 100 nm. 厚すぎると、発光効率の低下をもたらし、薄すぎると、電子注入性が得られなくなる。 Too thick, it results in a decrease in luminous efficiency, when too thin, the electron injecting property can not be obtained.

【0070】電子注入性の有機層は、通常、1層設けられるが、場合によっては2層以上としてもよく、そのときは合計厚を上記範囲とすればよい。 [0070] electron injecting organic layer is usually provided one layer, in some cases may be two or more layers, the total thickness may be in the above range at that time.

【0071】この電子注入性の有機層に接して設けられ、これとともに積層構造を形成する高分子有機層は、 [0071] provided in contact with the electron injecting organic layer, a polymer organic layer to form a laminated structure with which,
高分子EL材料を含有する層である。 A layer containing a polymer EL material.

【0072】高分子EL材料の分子量は、重量平均分子量Mwで5000以上が好ましく、さらには5000〜 [0072] The molecular weight of the polymer EL material is preferably 5,000 or more in the weight average molecular weight Mw, the more 5000
300万であることが好ましい。 It is preferable that 3 million. このような分子量のものを用いることにより、物理的強度が十分に得られ、素子のリークなどが生ぜず、素子としての特性が向上する。 By using those such molecular weight, physical strength is sufficiently obtained, is not generated, such as leakage of the element, thereby improving the characteristics of the element.

【0073】高分子EL材料は、有機EL素子を構成する有機層の機能を発現する材料となるものである。 [0073] polymer EL material is to be a material exhibiting the function of the organic layer constituting the organic EL element. この高分子EL材料は、目的とする層に応じて、適宜選択され、低分子化合物の機能材料を高分子化が可能な誘導体とし、この誘導体から高分子を得るようにしてもよい。 The polymer EL material, depending on the objective layer is appropriately selected, the functional material of a low molecular compound and derivatives that can be polymerized, may be obtained a polymer from this derivative.

【0074】高分子EL材料としては、具体的にはポリフルオレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリビニル化合物、ポリアクリレート誘導体、ポリメタクリレート誘導体が挙げられる。 [0074] As the polymer EL material, specifically polyfluorene and derivatives thereof, polyparaphenylene vinylene and its derivatives, poly-biphenylene vinylene and derivatives thereof, poly terpolymers phenylene vinylene and derivatives thereof, poly naphthylene vinylene and derivatives thereof , polythienylenevinylene and its derivatives, polythiophene and its derivatives, polyvinyl compounds, polyacrylate derivatives, polymethacrylate derivatives.

【0075】これらの高分子EL材料は、接する層が電子注入性有機層であるため、一般的には、発光材料(正孔注入輸送性の高分子成分を含む。)であることが好ましい。 [0075] These polymeric EL materials, since contact layer is an electron injecting organic layer, it is generally preferable that the light-emitting material (including a hole injection transport polymer component.). このようなことから、ポリビニル化合物、ポリアクリレート誘導体、ポリメタクリレート誘導体は、好ましくは、発光材料を導入して高分子化したものである。 For this reason, polyvinyl compounds, polyacrylate derivatives, polymethacrylate derivatives are preferably obtained by polymerizing by introducing a light emitting material.
このなかで、ポリビニル化合物としては、カルバゾール、アントラセン、ナフタセン、ピレン、テトラセン、 Among these, the polyvinyl compounds, carbazole, anthracene, naphthacene, pyrene, tetracene,
コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン等の縮合多環化合物(さらに、置換基等を導入したこれらの誘導体であってもよい。)に直接あるいは連結基を介してビニル基を導入したモノマーを高分子化したポリマーなどが挙げられる。 Coronene, perylene, phthaloperylene, condensed polycyclic compounds such naphthaloperylene polymerizing a monomer obtained by introducing a vinyl group directly or via a linking group (and may. Be derivatives thereof obtained by introducing a substituent group) such as a polymer, and the like.

【0076】このような高分子発光材料として、好ましくは、ポリビニルカルバゾール(PVK)、下記式(P [0076] As such a polymer light-emitting material, preferably, polyvinylcarbazole (PVK), the following equation (P
−1)のポリパラフェニレンビニレン誘導体(PPV誘導体)、および下記式(P−2)のポリアリールフルオレン誘導体のいずれか、または混合物を挙げることができる。 Polyparaphenylene vinylene derivatives -1) (PPV derivatives), and any polyaryl fluorene derivative of the formula (P-2), or a mixture may be cited.

【0077】 [0077]

【化10】 [Of 10]

【0078】(Rは2−エチルヘキシルオキシ基であり、R'はメトキシ基であり、nは重合度を表し、Mw [0078] (R is a 2-ethylhexyl group, R 'is methoxy group, n represents the degree of polymerization, Mw
は50000である。 It is 50000. )

【0079】 [0079]

【化11】 [Of 11]

【0080】(R 0およびR 0 'は各々アルキル基であり、Arは置換基を有していてもよい芳香環基または複素環基であり、nは重合度を表し、Mwは5000〜3 [0080] (R 0 and R 0 'are each alkyl groups, Ar is an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, n represents the degree of polymerization, Mw is 5000 to 3
00万である。 00 is a man. )

【0081】なかでも、π電子共役系の高分子発光材料(例えば前述のポリアリールフルオレン誘導体等)が好ましい。 [0081] Among them, [pi electron conjugated polymer light emitting material (e.g., the aforementioned polyaryl fluorene derivatives) are preferred.

【0082】これらの高分子EL材料は1種のみ用いても、2種以上併用してもよく、低分子化合物と併用してもよい。 [0082] be used only these polymer EL material is one, may be used in combination of two or more may be used in combination with low-molecular compound. ただし、物理的強度を十分なものとし、リークを防止する上では、高分子EL材料の層全体に占める割合は20〜100%(質量百分率)が好ましく、さらに好ましくは50〜100%(質量百分率)である。 However, the physical strength and sufficient, in order to prevent leakage, 20-100% in percentage of the total layers of the polymeric EL material (mass percentage), more preferably from 50 to 100% (weight percentage ) it is.

【0083】本発明の高分子有機層が発光層であるとき、高分子発光材料とともに使用できる既知の高分子以外の発光材料としては特に限定されないが、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンおよびその誘導体、ペリレンおよびその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、 [0083] When the polymer organic layer of the present invention is a light emitting layer is not particularly limited, as the light emitting material other than the known polymer can be used with polymer light-emitting materials include naphthalene derivatives, anthracene and its derivatives, perylene and derivatives thereof, polymethine, xanthene,
クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、 Coumarin dyes such as cyanine, 8-hydroxyquinoline and metal complexes of derivatives thereof, aromatic amine,
テトラフェニルシクロペンタジエンおよびその誘導体、 Tetraphenylcyclopentadiene and derivatives thereof,
テトラフェニルブタジエンおよびその誘導体、イリジウム錯体などを用いることができる。 Tetraphenylbutadiene and its derivatives, and the like can be used iridium complex. 具体的には、例えば、特開昭57−51781号、同59−194393 Specifically, for example, JP-A Nos. 57-51781, same 59-194393
号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。 Such as those described in JP-known ones can be used.

【0084】このような高分子有機層の厚さは、形成法にもよるが、一般的には10〜200nmであることが好ましい。 [0084] The thickness of such a polymer organic layer, depending on the formation method, it is preferable in general is 10 to 200 nm. 厚すぎると、発光効率が低下し、薄すぎると、 Too thick, the luminous efficiency decreases, too thin,
リークしやすくなる。 Leak was likely.

【0085】高分子有機層は、通常、1層設けられるが、場合によっては2層以上としてもよく、そのときは合計厚を上記範囲とすればよい。 [0085] high molecular weight organic layer is usually provided one layer, in some cases may be two or more layers, the total thickness may be in the above range at that time.

【0086】本発明の有機EL素子は、陰極に接して、 [0086] The organic EL device of the present invention, in contact with the cathode,
塗布により形成した電子注入性の有機層を設け、この電子注入性の有機層に接して高分子有機層を設けたものであるが、好ましくは、基板上に第1電極として陽極を形成し、この上に、高分子有機層を下層側有機層とし、電子注入性の有機層を上層側有機層とする積層構造の有機層を形成し、この上に、第2電極として陰極を形成したものであることが好ましい。 The electron injecting organic layer was formed by coating provided, but this is intended to contact with the electron injecting organic layer was formed a polymer organic layer, preferably, the anode is formed as a first electrode on a substrate, on the one, the polymer organic layer and the lower side organic layer, to form an organic layer of the laminated structure of the electron injecting organic layer and the upper organic layer, thereon, to form a cathode as the second electrode it is preferable that.

【0087】この場合、下層側有機層と陽極との間に、 [0087] Between the case, the lower side organic layer and the anode,
必要に応じ、有機層を介在させてもよい。 If necessary, it may be interposed organic layer. このような有機層には、高分子材料を含有させることが好ましい。 Such organic layer preferably contains a polymeric material. 例えば、陽極に隣接したバッファ層として正孔注入層を設けることなどがある。 For example, or providing a hole injection layer as a buffer layer adjacent to the anode. このような正孔注入層は、ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネート(PEDOT/PSS)、ポリアニリン/ポリスチレンサルフォネート(Pani/PSS)、金属フタロシアニンなどにより形成され、溶液塗布法で形成してもよいし、蒸着可能なものは蒸着してもよい。 The hole injection layer is polyethylene dioxythiophene / polystyrene monkey sulphonate (PEDOT / PSS), polyaniline / polystyrene monkey sulfonate (Pani / PSS), is formed by a metal phthalocyanine, formed by a solution coating method it may be, what can be deposited may be deposited.

【0088】本発明の有機EL素子の製造方法について、上記のような好ましい態様を中心にして述べる。 [0088] A method for manufacturing an organic EL device of the present invention is described about the preferred embodiments described above.

【0089】このような態様において、高分子EL材料(特に、高分子発光材料)は、前述のとおり、低分子化合物と併用してもよいが、高分子EL材料の層全体に占める割合は20〜100%(質量百分率)が好ましく、 [0089] In such embodiments, the polymeric EL materials (in particular, polymer light-emitting material), as described above, may be used in combination with low-molecular compound but the proportion of total layers of the polymeric EL material 20 100% (mass percentage) is preferred,
さらに好ましくは50〜100%(質量百分率)である。 More preferably 50-100% (weight percentage). 高分子成分の割合が低いと上層に塗布により積層構造をとる工程において、この下層部分が物理的に弱いため侵され、リークなどが発生しやすくなる。 In the step of taking a multilayer structure by coating an upper layer and a lower proportion of high molecular components, the lower layer portion is affected for physically weak, and leakage is likely to occur. なお、本発明の低分子化合物は、分子量が5000未満(通常20 The low molecular compound of the present invention has a molecular weight less than 5000 (usually 20
00以下)のものであり、一般的にはモノマー(単量体)であるが、このほかオリゴマー(重合度2〜20程度)であってもよい。 00 below) are of, but is generally a monomer (monomer), or may be the other oligomer (polymerization degree of 2 to 20).

【0090】高分子EL材料を含有する下層の形成方法は、特に限定するものではなく、真空蒸着法、イオン化蒸着法、溶液塗布法(例えばスピンコート法、キャスト法、ディップコート法、スプレーコート法など)が用いられる。 [0090] underlying method of forming including a polymer EL material is not particularly limited, a vacuum deposition method, ionization vapor deposition method, a solution coating method (e.g., spin coating, casting, dip coating, spray coating etc.) is used. 中でも、生産性向上の上では溶液塗布法が望ましい。 Among them, it is desirable solution coating method on productivity.

【0091】この高分子EL材料を含有する下層を塗布により形成する場合の塗布溶媒は、高分子EL材料を溶解するものであれば特に制限されるものではなく、トルエン、キシレンなどの芳香族系、1,2-ジクロロエタン、 [0091] coating solvent when formed by coating a lower layer containing the polymer EL material is not limited in particular as long as it can dissolve the polymeric EL materials, toluene, aromatic such as xylene , 1,2-dichloroethane,
1,2,3-トリクロロプロパンなどのハロゲン系、テトラヒドロフラン(THF)などのヘテロ環系、等の有機溶媒の使用が一般的である。 Halogen-based, such as 1,2,3-trichloropropane, tetrahydrofuran (THF) heterocyclic ring system, such as the use of organic solvents and the like are common. 塗布に際しては0.1〜5%(質量百分率)の溶液とすればよい。 It may be a solution of 0.1% to 5% (mass percentage) during coating.

【0092】なお、上層の塗布は、下層をアニールした後行ってもよいが、アニールせずそのまま行ってもよい。 [0092] Incidentally, the upper layer of the coating, may be carried out after annealing the lower layer may be performed directly without annealing.

【0093】一方、このような下層と組み合わせて用いられる上層は塗設されるが、この場合の塗布溶媒には、 [0093] On the other hand, such an upper layer used in combination with the lower layer is coated, the coating solvent for this case,
好ましくは、 i)総炭素数3〜6の鎖状化合物であって、分子内に炭素数1〜3のアルコキシ基、カルボニル基、および炭素数2〜3のエステル基から選ばれる1種以上を有し、かつこれらの基のα位および/またはβ位(好ましくはα位またはβ位)に水酸基を有する化合物、ii)総炭素数3 Preferably, a chain compound of i) a total carbon number of 3-6, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms in the molecule, carbonyl group, and one or more selected from the number 2-3 ester group having a carbon a, and α-position and / or β-position of these groups (preferably α-position or β-position) a compound having a hydroxyl group on, ii) the total carbon number of 3
〜6の鎖状化合物であって、分子内に炭素数2〜4のジアルキルアミド基を有する化合物、iii)総炭素数5〜8 A 6 chain compounds, a compound having a dialkylamide group of 2 to 4 carbon atoms in the molecule, iii) a total carbon number of 5 to 8
の鎖状化合物であるエステル、ならびにiv)総炭素数4 Ester which is a chain compound, and iv) a total carbon number of 4
〜7の鎖状化合物であるカーボネートから選択される1 To 7 which is a chain compound 1 selected from carbonate
種以上の化合物が用いられる。 More compounds species are used.

【0094】ここで述べる極性溶媒は、有機EL材料を侵しにくいので積層用の塗布溶媒に適している。 [0094] polar solvent described herein are suitable for coating solvent for the laminate so hard violated organic EL material. また、 Also,
顕微鏡観察によれば結晶粒が見られないことが確認され、また、X線回折分析によってもアモルファス膜が得られていることがわかる。 Confirmed that no crystal grains can be seen, according to the microscopic observation, also, it can be seen that the amorphous film is obtained by X-ray diffraction analysis. このアモルファス膜は、素子を構成したとき、リークや機能低下が生じにくく、長寿命となる利点がある。 The amorphous film when configuring the device, unlikely leakage or loss of functionality occurs, there is an advantage that a long life. i)、ii)の化合物において、総炭素数が3未満であるときは、塗料の乾燥速度が速すぎて有機層の層厚を均一に制御することが困難となる。 i), the compound of ii), when the total number of carbon atoms is less than 3, it is difficult to uniformly control the thickness of the drying rate of paint is too fast organic layer. 一方、i)、ii)の化合物において、総炭素数が7以上である湯合には、塗料の乾操速度が著しく遅くなり粘度の増大等でやはり層厚の均一な制御が難しくなる。 On the other hand, i), in the compound of ii), the Yugo total carbon number of 7 or more, still uniform control of the layer thickness becomes difficult in such as increased significantly slows down viscosity to drying speed of paint. iii)、i iii), i
v)の化合物における総炭素数の範囲の規定も同様の理由による。 v ranging total number of carbon atoms in the compound of the) prescribed by a similar reason. また、飽和アルコールは、炭素数が少ない場合乾燥速度が速すぎ、有機EL材料の析出を招き、塗膜形成ができないという難点が生じやすく、また、総炭素数が多い場合は乾燥速度が遅くなるが、同時に溶解性も低くなり有機EL材料を溶解することができないという難点が生じやすい。 Moreover, saturated alcohols, when the drying rate is small carbon number is too fast, leading to precipitation of organic EL materials, tends to occur a drawback that can not be film-forming, and if the total number of carbon atoms is large drying rate is slow but likely to occur drawback that it is not possible to dissolve the organic EL material becomes lower solubility at the same time. また、芳香族系、ハロゲン系では、ほとんどの有機EL材料を溶解するため、下層が侵され、 Further, aromatic, the halogen-based, to dissolve most of the organic EL material, the lower layer is attacked,
リークするという問題が生じやすくなる。 Problem of leakage is likely to occur. さらに、酢酸エチル等の高速揮発エステル系では、上述のように、乾燥速度が速すぎて、アモルファス塗膜の形成が困難となりやすい。 Furthermore, in the high-speed volatile ester such as ethyl acetate, as described above, drying speed is too fast, tend to be difficult to form an amorphous coating film. また、テトラヒドロフラン(THF)等のヘテロ環系では下層が侵されやすくなり、リークが生じやすくなってしまう。 Further, in tetrahydrofuran (THF) heterocyclic ring system such as a lower-layer is easily eroded, leakage becomes likely to occur.

【0095】このような有機溶媒の具体例としては、2 [0095] Specific examples of such organic solvents are 2
−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、イソプロピルセロソルブ、乳酸メチル、乳酸エチル、アセトイン、ジアセトンアルコール、4−ヒドロキシブタノン、プロピオイン、2−ヒドロキシ−2−メチル−3− - methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, isopropyl cellosolve, methyl lactate, ethyl lactate, acetoin, diacetone alcohol, 4-hydroxy-butanone, Puropioin, 2-hydroxy-2-methyl-3-
ブタノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸 Butanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, propyl acetate, butyl acetate, sec- butyl acetate
tert-ブチル、酢酸ペンチル、酢酸2−メチルブチル、 tert- butyl, pentyl acetate, 2-methylbutyl,
酢酸3−メチルブチル、酢酸ヘキシル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸ペンチル、蟻酸イソペンチル、蟻酸ヘキシル、蟻酸ヘプチル、酪酸エチル、イソ酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸イソプロピル、プロピルプロピオン酸、ブチルプロピオン酸、tert-ブチルプロピオン酸、sec-ブチルプロピオン酸、吉草酸メチル、イソ吉草酸メチル、吉草酸エチル、イソ吉草酸エチル、炭酸エチルメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、等が挙げられる。 3-methylbutyl acetate, hexyl acetate, butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, isopentyl formate, hexyl formate, heptyl, ethyl butyrate, ethyl isobutyrate, propyl butyrate, isopropyl butyrate, propyl propionic acid, butyl propionic acid, tert- butyl propionate, sec- butyl propionate, methyl valerate, isovalerate methyl, ethyl valerate, ethyl isovalerate, methyl ethyl carbonate, diethyl carbonate, dipropyl carbonate, and the like.

【0096】上層側有機層の形成に際しては、上述の塗布溶媒に電子輸送性材料、有機金属錯体化合物等の合計濃度が0.1〜5%(質量百分率)になるよう溶解されることが好ましい。 [0096] In forming the upper side organic layer, the electron transporting material in the coating solvent mentioned above, the total concentration of such an organic metal complex compound is preferred to be dissolved so as to be 0.1% to 5% (mass percentage) . 塗布に関しては、スピンコート法、 With respect to the coating, spin coating method,
スプレーコート法、ディップコート法などあらゆる溶液を用いる塗布法を用いることができる。 Spray coating method, a coating method using any solution, such as a dip coating method can be employed. 塗布後、上記溶媒の乾操のため、素子をホットプレート等で加熱してもよい。 After coating, for to drying of the solvent, may be heated element on a hot plate or the like. 加熱は、通常50〜280℃程度の温度であり、 Heating is a temperature of usually about fifty to two hundred eighty ° C.,
減圧下あるいは不活性雰囲気下の乾燥が好ましい。 Drying under reduced pressure or in an inert atmosphere is preferred.

【0097】このような上下層の積層構造の有機層とされる組み合わせは、前述のとおり、通常、下層がポリマー型の正孔(ホール)注入および/または輸送性成分を含んだ発光層で、上層が、好ましくは、所定の塗布溶媒を用いた電子注入性の有機層であることが好ましい。 [0097] Combinations with the organic layer of the laminated structure of the upper and lower layers, as described above, usually, in the light emitting layer lower layer containing a hole (hole) injection and / or transport components of the polymeric, upper layer, preferably, is preferably an electron injecting organic layer using a predetermined coating solvent. したがって、本発明の有機EL素子は、前述のとおり、基板上に第1電極として陽極を有し、有機層上に第2電極として陰極を有するものであることが好ましい。 Therefore, the organic EL device of the present invention, as described above, has an anode as a first electrode on the substrate is preferably one having a cathode as a second electrode on the organic layer. このような構成では、前述のとおり、陽極とポリマー型の下層(特に発光層)との間には、さらに、正孔注入および/ In such a configuration, as described above, between the anode and the polymeric lower layer (especially light emitting layer), further, a hole injection and /
または輸送層を設けることもでき、このような層も、上層を塗布で形成するならば、高分子材料を含有するポリマー型であることが好ましい。 Or transport layer can also be provided, such a layer may, if forming the upper by coating, it is preferably a polymer type containing polymeric material.

【0098】ただし、本発明の有機EL素子は、陰極に接して電子注入性の有機層を有し、この層に接して高分子有機層を有する構成であれば、第1電極を陰極とし、 [0098] However, the organic EL device of the present invention, an electron injecting organic layer in contact with the cathode, with the configuration having a polymer organic layer in contact with this layer, a first electrode as a cathode,
第2電極を陽極とすることもでき、有機層の構成もこの範囲で種々のものとすることができ、特に限定されるものではない。 The second electrode can be an anode, the structure of the organic layers can also be of a variety in this range, it is not particularly limited.

【0099】有機層の厚さは、一部前記したが、一般的には、1層当たり、塗布法によるときは、0.5〜10 [0099] The thickness of the organic layer is partially described above, in general, per layer, when by a coating method, 0.5 to 10
00nmが好ましく、より好ましくは10〜500nmである。 00nm, and more preferably from 10~500nm. また、真空蒸着法等の蒸着法によるときは、1〜5 Also, when due to evaporation method such as a vacuum deposition method, 1-5
00nm程度である。 It is about 00nm.

【0100】ii)25℃における標準電極電位−1.8V [0100] ii) the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C.
以上−0.8V以下の金属を有する無機金属塩および/ Inorganic metal salts and a -0.8V following metals or /
または有機金属塩を含有する電子注入性の層を有する場合このような金属塩の金属は、25℃における標準電極電位が−1.8V以上−0.8V以下のものであり、さらに好ましくは、−1.7V以上−1.15V以下のものである。 Or having an electron injecting layer containing an organic metal salt metal of the metal salts are those standard electrode potential below -0.8V or -1.8V at 25 ° C., more preferably, is -1.15V the following more than -1.7V. このような金属種は、仕事関数が4.0eV以上(上限は通常6eV程度)であることが好ましい。 Such metal species is preferably a work function more than 4.0 eV (the upper limit is usually about 6 eV) is.

【0101】このような金属としては、Al(III)、 [0101] As such a metal, Al (III),
Mn(II)、Zr(IV)、Ti(II)、Hf(IV)、T Mn (II), Zr (IV), Ti (II), Hf (IV), T
a(V)、Nb(III)、V(II)などであり、Al(II a (V), Nb (III), and the like V (II), Al (II
I)、Mn(II)、Zr(IV)などが好ましく、さらに好ましくはAl(III)、Mn(II)であり、特に好ましくはAl(III)である。 I), Mn (II), are preferred, such as Zr (IV), is more preferably Al (III), Mn (II), particularly preferably Al (III).

【0102】無機金属塩としては、無機酸の水素を金属で置換したものであり、例えば、ハロゲン化物(具体的には、塩化物、フッ化物、臭化物、ヨウ化物等)が挙げられる。 [0102] As the inorganic metal salt, hydrogen inorganic acids are those substituted with a metal, for example, (specifically, chloride, fluoride, bromide, iodide, etc.) halides.

【0103】有機金属塩としては、有機酸、アルコール、ジアルキルアミドの水素を金属で置換したものであり、具体的には、カルボン酸、フェノール等の有機酸の塩、アルコキシド、ジアルキルアミドの塩などが挙げられる。 [0103] As the organic metal salts, organic acids, alcohols, hydrogen dialkylamides are those substituted with metal, specifically, carboxylic acid, salts of organic acids such as phenol, an alkoxide, such as salts of dialkyl amide and the like.

【0104】カルボン酸としては、脂肪族であっても芳香族であってもよい。 [0104] The carboxylic acid may be an aromatic or an aliphatic. 脂肪族カルボン酸としては、総炭素数1〜24のものが好ましく、飽和脂肪族カルボン酸であっても不飽和脂肪酸カルボン酸であってもよく、カルボキシル基を2個以上有するものであってもよい。 Examples of the aliphatic carboxylic acid, preferably has a total carbon number of 1 to 24, it may be also an unsaturated fatty acid be a saturated aliphatic carboxylic acids, even those having two or more carboxyl groups good. また、アリール基等の置換基を有していてもよい。 And it may have a substituent such as an aryl group. 具体的には、酢酸、プロピオン酸、オクチル酸、イソオクチル酸、デカン酸、ラウリル酸などの脂肪族カルボン酸、オレイン酸、リシノール酸(リシノレン酸)などの不飽和脂肪族カルボン酸、クエン酸、リンゴ酸、シュウ酸等のジないしトリ等の多価のカルボン酸などが挙げられる。 Specifically, acetic acid, propionic acid, octyl acid, isooctyl acid, decanoic acid, aliphatic carboxylic acids such as lauric acid, unsaturated aliphatic carboxylic acids such as oleic acid, ricinoleic acid (ricinoleic acid), citric acid, malic acid, polyvalent carboxylic acids di- or tri-such as oxalic acid.
芳香族カルボン酸としては、総炭素数7〜24のものが好ましく、置換基(炭素数1〜8のアルキル基、ヒドロキシ基等)を有していてもよく、具体的には、安息香酸、 The aromatic carboxylic acid, preferably has a total carbon number of 7 to 24, the substituent (alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxy group, etc.) may have, in particular, benzoic acid,
o−(t−ブチル)安息香酸、m−(t−ブチル)安息香酸、サリチル酸、m−(ヒドロキシ)安息香酸、p− o-(t-butyl) benzoic acid, m-(t-butyl) benzoic acid, salicylic acid, m-(hydroxymethyl) benzoic acid, p-
(ヒドロキシ)安息香酸)などが挙げられる。 (Hydroxy) benzoic acid) and the like.

【0105】フェノールとしては、総炭素数6〜46のものが好ましく、置換基(炭素数1〜8の直鎖状または分岐状のアルキル基や、フェニル基等のアリール基等) [0105] The phenol preferably has a total carbon number of 6 to 46, the substituent (or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group such as a phenyl group)
や縮合環(置換基を有していてもよいベンゼン環等の芳香環等)を有していてもよく、1価のフェノールであっても、二価以上の多価のフェノールであってもよい。 Or condensed ring may have a (an aromatic ring such as a benzene ring, which may have a substituent), be a monovalent phenol, is also a divalent or higher polyvalent phenols good. 具体的には、フェノール、ナフトール、4−フェニルフェノール、2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)などが挙げられる。 Specifically, phenol, naphthol, 4-phenylphenol, and 2,2-bis (p- hydroxyphenyl) propane (bisphenol A).

【0106】アルコキシドを形成するアルコールとしては、総炭素数1〜10のものが好ましく、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール等の第一級アルコール、イソプロピルアルコール、s− [0106] As the alcohol to form an alkoxide, preferably it has a total carbon number of 1 to 10, ethyl alcohol, n- propyl alcohol, primary alcohol, such as n- butyl alcohol, isopropyl alcohol, s-
ブチルアルコール等の第二級アルコール、t−ブチルアルコール等の第三級アルコールなどが挙げられる。 Secondary alcohols such as butyl alcohol, etc. tertiary alcohols such as t- butyl alcohol. また、二価以上の多価アルコールであってもよく、例えばエチレングリコールなどが挙げられる。 It may also be a polyhydric alcohol having two or more valencies, such as ethylene glycol.

【0107】ジアルキルアミドとしては、さらに置換基を有していてもよく、総炭素数は2〜24であることが好ましい。 [0107] As the dialkylamides, may further have a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 2 to 24. 具体的には、ジメチルアミド、ジエチルアミド、N−メチル−N−エチルアミド等が挙げられる。 Specifically, dimethylamide, diethylamide, N- methyl -N- ethylamide and the like.

【0108】有機金属塩のなかでも、アルコキシド、フェノキシド、酢酸塩などが好ましい。 [0108] Among the organic metal salts, alkoxides, phenoxides, such as acetic acid salts are preferred. 特に好ましくはアルコキシドである。 Particularly preferably alkoxide.

【0109】このような金属塩を用いるのは安定性に優れており、電子注入効率が良いからである。 [0109] Such use a metal salt has excellent stability, because electron injection efficiency.

【0110】このような金属塩の具体例を以下に示す。 [0110] Specific examples of such metal salts as follows.

【0111】 [0111]

【化12】 [Of 12]

【0112】これら1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。 [0112] may be used in combination or two or more of them may be used only these one.

【0113】このような金属塩を含有する電子注入性の層には、このような金属塩のみを含有させることが好ましいが、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3)等の電子輸送性材料と混合して用いてもよい。 [0113] The layer of electron injecting property containing such metal salts, it is preferred to incorporate only such metal salts, tris (8-quinolinolato) electron transporting material such as aluminum complex (Alq3) it may be mixed with. 但し、このような金属塩の電子注入性の層中の含有量は10%(質量百分率)以上が好ましく、より好ましくは50%(質量百分率)以上である。 However, the content of the electron injecting layer in such metal salts is preferably 10% (mass percentage) or more, more preferably 50% (mass percentage) or more.

【0114】このような電子注入性の層の膜厚としては、あまり薄すぎても厚すぎても電子注入効率が低下してくるため、好ましくは1〜100nm、より好ましくは1〜30nm程度である。 [0114] The thickness of such an electron injecting layer, to come it reduces the electron injection efficiency be too thick or too much thin, preferably 1 to 100 nm, more preferably about 1~30nm is there.

【0115】このような電子注入性の層は、いかなる薄膜形成法であってもよく、例えば蒸着法やスパッタ法、 [0115] Such an electron injecting layer may be any thin film forming method, such as vapor deposition or sputtering,
また、溶液からの塗布で薄膜形成が可能な場合にはスピンコーティング法等を用いることができる。 Further, if a thin film can be formed by coating from solution can be used a spin coating method or the like.

【0116】この場合の有機EL素子の有機層形成方法は、いかなる薄膜形成法であってもよく、例えば蒸着法やスパッタ法が使用できる。 [0116] The organic layer forming method of the organic EL element in this case may be any thin film forming method, such as vapor deposition or sputtering can be used. また、溶液から形成可能な場合には、スピンコーティング法やスプレーコート法、 Also, if possible formation from a solution, a spin coating method or a spray coating method,
キャスト法、インクジェット法が使用できる。 A casting method, an ink jet method can be used. 以下塗布法を用いた有機層を例示して説明する。 It will be exemplified an organic layer using a coating method below.

【0117】塗布法としては、スピンコート法が好ましく、基板全面に塗布するようにすることで有機層を形成する工程が非常に簡単になり、製造装置も簡単で安価なものとすることができる。 [0117] As the coating method is preferably a spin coating method, forming an organic layer by such coating the entire surface of the substrate becomes very easy, can be made also manufacturing apparatus simple and inexpensive .

【0118】本発明において、有機層を形成するための有機材料としては、一般に有機EL素子に用いられているような発光材料、電荷輸送材料(電子輸送性材料とホール輸送性材料の総称である)などを用いることができる。 [0118] In the present invention, the organic material for forming the organic layer, is generally a light-emitting material as used in the organic EL device, generic term for charge-transporting material (electron transporting material and a hole transporting material ), or the like can be used. これらのなかでも、溶剤に溶解可能な有機材料が好ましい。 Among these, organic materials that can be dissolved in a solvent is preferred.

【0119】有機層としては、例えば、溶解性の高い高分子発光材料を用いた発光層や、高分子発光材料と電荷輸送材料との混合発光層、あるいはこのような発光層と前記電子注入性の層との間に電子注入輸送性材料を含有する電子注入輸送層を有していたり、発光層とホール注入電極の間にホール注入輸送性材料を含有するホール注入輸送層を有していてもよい。 [0119] As the organic layer, e.g., light-emitting layer and using a high solubility polymer light-emitting material, a mixed light emitting layer of a polymer light emitting material and a charge transporting material, or the electron injection property and such a light-emitting layer or have an electron injecting and transporting layer containing an electron injection transport material between the layer of have a hole injection transport layer containing the hole injecting and transporting material between the light-emitting layer and the hole injecting electrode it may be. また、これら電子注入輸送層、ホール注入輸送層に代えて、無機材料による高抵抗の電子注入輸送層や、ホール注入輸送層を有していてもよい。 These electron injecting and transporting layer, instead of the hole injecting and transporting layer, and electron injecting and transporting layer of high resistance by inorganic materials, may have a hole injecting and transporting layer.

【0120】また、発光層は1層であっても2層以上あってもよく、発光層と電荷輸送層で複数層を形成していてもよい。 [0120] The light emitting layer may form a good even two or more layers may be a single layer or a plurality of layers in the charge transport layer and the light-emitting layer. さらに、発光層には、高分子発光材料以外に、高分子以外の発光材料、電荷輸送性材料を含有していてもよい。 Further, the light-emitting layer, in addition to polymer light-emitting materials, light emitting materials other than the polymer, may contain a charge-transporting material. また、前記高分子発光材料および/または電荷輸送材料を高分子化合物に分散させてもよい。 Moreover, the polymer light emitting material and / or charge transporting material may be dispersed in a polymer compound.

【0121】高分子発光材料等の高分子EL材料や高分子以外の発光材料の具体例は、前記i)のところで説明したものと同様であり、使用法等も同様である。 [0121] Specific examples of the polymeric EL material or a polymer other than the light emitting material of a polymer light-emitting materials, the i) is the same as that described above for the same is true used method. ただし、 However,
この場合、電子注入性の層の陰極と反対側の隣接層として高分子EL材料の使用は必須でないので、高分子以外の発光材料単独の発光層を蒸着法などのドライプロセスで形成してもよい。 In this case, since the use of polymeric EL material as the opposite side of the adjacent layer and a cathode of the electron injecting layer is not essential, also to form a light emitting layer of a light-emitting material alone other than the polymer in a dry process such as vapor deposition good.

【0122】電荷輸送性材料としては、種々の電子輸送性材料、ホール輸送性材料を用いることができ、特に限定されるものではない。 [0122] As the charge transporting material, a variety of electron transporting materials, can be used hole-transporting material, and is not particularly limited.

【0123】ホール輸送性材料としては、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。 [0123] As the hole transporting material include pyrazoline derivatives, arylamine derivatives, stilbene derivatives, and triphenyl diamine derivatives.

【0124】電子輸送性材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体等やこれらの金属錯体等を挙げることができる。 [0124] As the electron transporting material, oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane and its derivatives, benzoquinone and its derivatives, naphthoquinone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, tetra cyano Ans anthraquinodimethane and its derivatives, fluorene and its derivatives, diphenyldicyanoethylene and its derivatives, and diphenoquinone derivatives, 8-hydroxyquinoline and derivatives thereof, and their metal complexes.

【0125】具体的には、特開昭63−70257号公報、同63−175860号公報、特開平2−1353 [0125] Specifically, JP 63-70257, JP same 63-175860, JP-A No. 2-1353
59号公報、同2−135361号公報、同2−209 59 JP, the 2-135361, JP-same 2-209
988号公報、同3−37992号公報、同3−152 988 JP, same 3-37992, JP-same 3-152
184号公報に記載されているものなどを挙げることができる。 Etc. can be mentioned those described in 184 JP.

【0126】特にホール輸送性材料としては4,4−ビス(N(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ) [0126] Particularly hole transporting material 4,4-bis (N (3- methylphenyl) -N- phenylamino)
ビフェニル、電子輸送性材料としては2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3, Biphenyl, as the electron transporting material 2- (4-biphenylyl)-5-(4-t-butylphenyl) -1,3,
4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノラト)アルミニウムが好ましい。 4- oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinolato) aluminum is preferred.

【0127】これらのうち、電子輸送性の化合物とホール輸送性の化合物のいずれか一方、または両方を同時に使用するとよい。 [0127] Of these, preferable to use either one of the electron transporting compound and a hole transporting compound, or both at the same time. これらは単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。 These may be used alone or may be used by mixing.

【0128】電荷輸送材料の使用量は、使用する化合物の種類などにより異なるので、十分な成膜性と発光特性を阻害しない範囲で最適な添加量を決めればよい。 [0128] The amount of the charge transporting material is different by the kind of the compound used may be determined an optimum amount within a range that does not inhibit adequate film forming property and light emitting characteristics. 通常、蛍光材料(発光材料)に対して1〜40%(質量百分率)であり、より好ましくは2〜30%(質量百分率)である。 Usually, 1 to 40% relative to fluorescence material (light emitting material) (mass percentage), more preferably from 2 to 30% (mass percentage).

【0129】高分子発光材料を用いた場合の発光層の膜厚としては0.5nm〜10μm 、好ましくは1nm〜1μ [0129] The thickness of the light-emitting layer in the case of using the polymer light emitting material 0.5Nm~10myuemu, preferably 1nm~1μ
m である。 A m. 電流密度を上げて発光効率を上げるためには、10〜500nmの範囲が好ましい。 To increase the luminous efficiency by increasing the current density in the range of 10~500nm is preferred. なお、塗布法により薄膜化した場合には、溶媒を除去するため、減圧下あるいは不活性雰囲気下、30〜200℃、好ましくは60〜100℃の温度で加熱乾燥することが望ましい。 Incidentally, when a thin film by coating method, to remove the solvent under reduced pressure or under an inert atmosphere, 30 to 200 ° C., preferably it is desirable to heat dried at a temperature of 60 to 100 [° C..

【0130】また、電荷注入輸送層を発光層の下層に形成する場合、発光層の形成に加熱重合工程を要するときは、ある程度の耐熱性が必要となる。 [0130] In the case of forming a charge injection transport layer in the lower layer of the light-emitting layer, when requiring heating polymerization step for formation of the light-emitting layer, it is necessary to some degree heat resistance. この場合、好ましくはガラス転移温度が200℃以上、より好ましくは3 In this case, preferably the glass transition temperature of 200 ° C. or higher, more preferably 3
00℃以上、特に350℃以上の化合物が好ましい。 00 ° C. or higher, particularly 350 ° C. or more compounds are preferred.

【0131】有機のホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸送層の厚さは、特に制限されるものではなく、形成方法によっても異なるが、通常5〜500nm程度、特に10〜300nmとすることが好ましい。 [0131] The thickness of the hole injecting and transporting layer thickness and the electron injecting and transporting layer of the organic is not limited in particular, also differ by the formation method, usually about 5 to 500 nm, particularly to 10~300nm It is preferred. ホールの注入層と輸送層とを設ける場合は、注入層は1nm以上、輸送層は1nm以上とするのが好ましい。 In the case of providing the injection layer and the transport layer of the hole injection layer is 1nm or more and the transporting layer is preferably not less than 1nm. このときの注入層、 Injection layer at this time,
輸送層の厚さの上限は、通常、注入層で500nm程度、 The upper limit of the thickness of the transport layer is generally, 500 nm approximately at injection layer,
輸送層で500nm程度である。 Transport layer is about 500nm.

【0132】塗布法における有機層形成に用いられる溶媒としては、有機材料が溶解し、塗布に際して障害が生じないものであれば特に限定されるものではない。 [0132] The solvent used for the organic layer formed in the coating method, the organic material is dissolved, it is not particularly limited as long as a failure does not occur during coating. 具体的には、アルコール系、炭化水素系、ケトン系、エーテル系等一般に用いられているものを使用することができる。 Specifically, it is possible to use alcohols, hydrocarbons, ketones, those used in the ether or the like in general. なかでも、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが好ましい。 Among them, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, tetrahydrofuran, toluene and xylene are preferable. 発光材料の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの溶媒に0.1%(質量百分率)以上溶解させることができる。 Depending on the structure and molecular weight of the luminescent material, but usually can be dissolved 0.1% (mass percentage) or more in these solvents.

【0133】2つの有機層の間に界面を形成させる場合には、下層の塗布面をスピンコートにより形成した場合は乾燥してもしなくてもよい。 [0133] In the case of forming the interface between two organic layers, may or may not be dried in case of a lower layer of the coated surface was formed by spin coating. この場合、必要により下層を塗布した後、加熱処理などを行ってもよい。 In this case, after coating the lower layer if necessary, it may be subjected to heat treatment or the like.

【0134】2つの有機層の界面を形成させない場合、 [0134] If not form an interface of the two organic layers,
2つの層の境界がいわゆる傾斜組成となる様に形成することもできる。 May be the boundary of the two layers is formed so as to be a so-called gradient composition. つまり、少なくとも溶媒への溶解度、溶媒、粘度、比重のいずれかが異なる材料を用いて塗布を行うことにより、2種の有機層を塗り分けたり、界面組成を傾斜状に変化させることができる。 That is, solubility in at least a solvent, a solvent, viscosity, by performing coating using any of a specific gravity of different materials, or painted the two organic layers, it is possible to change the interfacial composition inclined. また、下層の塗布面が乾燥しないうちに、次の層を塗布することにより界面を形成しないようにすることもできる。 Further, while the lower layer of the coated surface is not dry, it is also possible not to form an interface by coating the following layers. この場合、 in this case,
2つの層の界面となる領域において、2つの層の主成分、またはドーパントの混合比が、質量比で1000: In the region where the interface between the two layers, the main component of the two layers or mixing ratio of the dopant, the mass ratio, 1000:
1〜10:1程度であることが好ましい。 10: it is preferably about 1.

【0135】このような塗布法により形成される有機層の膜厚は、有機層1種当たり好ましくは0.5〜100 [0135] The film thickness of the organic layer formed by such coating methods, preferably per organic layer one 0.5-100
0nm、より好ましくは10〜500nmである。 0 nm, more preferably 10 to 500 nm. また、一回の塗布により形成可能な有機層の膜厚は、通常0.5 Also, once the thickness of formable organic layer by coating is usually 0.5
〜1000nm、特に10〜500nm程度である。 ~1000nm, and particularly about 10~500nm. 有機層の膜厚を厚く、特に50nm以上とすることにより、リーク電流の発生を防止することができる。 The thickness of the organic layer thicker, by a particular 50nm or more, it is possible to prevent the occurrence of leakage current.

【0136】以上、ii)の電子注入性の層を用いる場合の一般的説明を行ったが、電子注入性の層を有機金属塩を含有する有機層とし、その隣接層(陰極と反対側)に高分子EL材料を含有させた構成とすることが好ましく、具体的には、電子注入性の有機層以外は前記のi)の有機層構成と同様とすることも好ましい。 [0136] Having performed the general description of the case of using an electron injecting layer of ii), a layer of electron injecting and organic layer containing an organic metal salt, a layer adjacent thereto (cathode opposite) preferably in a configuration which contains a polymer EL material, specifically, it is also preferable than the electron injecting organic layer is formed in the same manner as the organic layer structure of the i in).

【0137】本発明において、前述のとおり、陰極には、溶液塗布法による電子注入性の有機層をはじめとして、前記i),ii)の電子注入性の層が設けられているので、陰極は、低仕事関数で電子注入性を有している必要がなく、このため、特に熱還元性金属に限定される必要はなく、通常の金属を用いることができる。 [0137] In the present invention, as described above, the cathode including the electron injecting organic layer by solution coating method, the i), since the electron injecting layer of ii) is provided, the cathode , it is not necessary to have an electron injection at low work function, and therefore need not particularly be restricted to thermally reducible metals, it is possible to use ordinary metal. なかでも、 Among them,
導電率や扱い易さの点で、Al,Ag,In,Ti,C In terms of conductivity and ease of handling, Al, Ag, In, Ti, C
u,Au,Mo,W,Pt,PdおよびNi、特にA u, Au, Mo, W, Pt, Pd and Ni, in particular A
l,Agから選択される1種または2種等の金属元素が好ましい。 l, 1 kind or metal elements such as 2 species selected from Ag are preferred. これら陰極薄膜の厚さは、電子を電子注入輸送層等に与えることのできる一定以上の厚さとすれば良く、50nm以上、好ましくは100nm以上とすればよい。 The thickness of these anode thin film, the electron may be constant over the thickness which can provide the electron injecting and transporting layer or the like, 50 nm or more, and preferably at least 100 nm. また、その上限には特に制限はないが、通常膜厚は50〜500nm程度とすればよい。 No particular limitation is imposed on the upper limit, usually the film thickness may be about 50 to 500 nm. したがって、電子注入電極として、通常、用いられる、例えば、K、Li、 Thus, as the electron injection electrode, generally used, for example, K, Li,
Na、Cs、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、S Na, Cs, Mg, La, Ce, Ca, Sr, Ba, S
n、Zn、Zr等の金属元素単体、またはそれらを含む2成分、3成分の合金系を特に設ける必要がない。 n, Zn, a single metal element such as Zr or 2 components containing them, there is no particular need to provide an alloy system of the three components.

【0138】陽極(ホール注入電極)材料は、ホール注入輸送層等へホールを効率よく注入することのできるものが好ましく、仕事関数4.5eV〜5.5eVの物質が好ましい。 [0138] The anode (hole injection electrode) material is preferably one which can be efficiently injecting holes into the hole injecting and transporting layer and the like, materials having a work function 4.5eV~5.5eV are preferred. 具体的には、錫ドープ酸化インジウム(IT Specifically, tin-doped indium oxide (IT
O)、亜鉛ドープ酸化インジウム(IZO)、酸化インジウム(In 23 )、酸化スズ(SnO 2 )および酸化亜鉛(ZnO)のいずれかを主組成としたものが好ましい。 O), zinc-doped indium oxide (IZO), indium oxide (In 2 O 3), it is preferable that a main component one of tin oxide (SnO 2) and zinc oxide (ZnO). これらの酸化物はその化学量論組成から多少偏倚していてもよい。 These oxides may deviate somewhat from their stoichiometric compositions. ITOでのIn 23に対するSnO SnO for In 2 O 3 in ITO
2の混合比は、1〜20%(質量百分率)、さらには5 The mixing ratio of 2, 1-20% (weight percentage), more preferably 5
〜12%(質量百分率)が好ましい。 12% (mass percentage) is preferred. また、IZOでのIn 23に対するZnOの混合比は、通常、12〜3 The mixing ratio of ZnO with respect to In 2 O 3 in IZO is usually 12-3
2%(質量百分率)程度である。 About 2% (mass percentage). ホール注入電極は、仕事関数を調整するため、酸化シリコン(SiO 2 )を含有していてもよい。 Hole injecting electrode in order to adjust the work function, may contain silicon oxide (SiO 2). 酸化シリコン(SiO 2 )の含有量は、ITOに対するSiO 2の モル比で0.5〜10 The content of silicon oxide (SiO 2) is in a molar ratio of SiO 2 to ITO 0.5 to 10
%程度が好ましい。 About% is preferred. SiO 2を含有することにより、I The inclusion of SiO 2, I
TOの仕事関数が増大する。 TO the work function of the increases.

【0139】光を取り出す側の電極は、ホール注入電極に限らず、発光波長帯域、通常400〜700nm、特に各発光光に対する光透過率が50%以上、さらには80 [0139] extract light side electrode is not limited to the hole injection electrode, the emission wavelength band, typically 400 to 700 nm, in particular a light transmittance of 50% or more for each emitted light, and further 80
%以上、特に90%以上であることが好ましい。 % Or more, and particularly preferably 90% or more. 透過率が低くなりすぎると、発光層からの発光自体が減衰され、発光素子として必要な輝度を得難くなってくる。 When the transmittance is too low, the light emission itself is attenuated from the light-emitting layer, it becomes difficult to obtain the required brightness as the light-emitting element.

【0140】ホール注入電極の厚さは、50〜500n [0140] The thickness of the hole injection electrode, 50~500n
m、特に50〜300nmの範囲が好ましい。 m, in particular in the range of 50~300nm is preferred. また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと透過率の低下や剥離などの心配が生じる。 The upper limit is not particularly limited, resulting fear of such too thick a decrease in transmittance and separation. 厚さが薄すぎると、十分な効果が得られず、製造時の膜強度等の点でも問題がある。 Too thin, can not be obtained sufficient effect, there is also a problem in terms of film strength and the like at the time of manufacture.

【0141】なお、電極は、蒸着法により形成されるのが一般的であるが、有機層を塗布法により形成する場合などにおいて、特に陰極を塗布法で形成することにより、高分子有機層、電子注入性有機層および陰極の塗布による形成が可能になり、大面積化、フィルム化等の点で生産性の向上が図られる。 [0141] The electrode is being formed by the evaporation method is generally, in a case of forming the organic layer coating method, in particular by forming the cathode by a coating method, a polymer organic layer, formed by electron injecting organic layer and cathode coating becomes possible, large area, improvement of productivity in terms of a film or the like is achieved. 塗布法によって、陰極を形成する場合には、AgペーストやNiペーストなどの使用が好ましく、このようにして形成される陰極の厚さは500nm以上であることが好ましい。 By a coating method, in the case of forming the cathode is preferably used, such as Ag paste or Ni paste, the thickness of the thus cathode to be formed it is preferably 500nm or more. その上限には特に制限はないが、1000nm程度である。 Although there is no particular restriction on the upper limit is about 1000 nm.

【0142】さらに、素子の有機層や電極の劣化を防ぐために、素子上を封止板等により封止することが好ましい。 [0142] Further, in order to prevent degradation of the organic layers and electrodes of the element, it is preferable to seal with a sealing plate or the like on the element.

【0143】本発明において、有機EL構造体を形成する基板としては、非晶質基板(例えばガラス、石英など)、結晶基板(例えば、Si、GaAs、ZnSe、 [0143] In the present invention, the substrate for forming the organic EL structure, amorphous substrate (e.g. glass, quartz, etc.), crystalline substrates (e.g., Si, GaAs, ZnSe,
ZnS、GaP、InPなど)が挙げられ、またこれらの結晶基板に結晶質、非晶質あるいは金属のバッファ層を形成した基板も用いることができる。 ZnS, GaP, InP, etc.) and the like, also may be used a substrate obtained by forming a crystalline buffer layer of amorphous or metal in these crystal substrate. また金属基板としては、Mo、Al、Pt、Ir、Au、Pdなどを用いることができる。 The metal substrate may be used Mo, Al, Pt, Ir, Au, Pd and the like. さらには、樹脂フィルム基板(例えば、ポリエチレンテレフタレートなど)も用いることができる。 Further, the resin film substrate (e.g., polyethylene terephthalate) can also be used. 好ましくはガラス基板が用いられる。 Preferably the glass substrate is used. 基板は、 The substrate,
光取り出し側となる場合、上記電極と同様な光透過性を有することが好ましい。 If the light extraction side, it is preferred to have a similar light transmittance and the electrode.

【0144】さらに、本発明の素子を、平面上に多数並べてもよい。 [0144] Further, the device of the present invention, may be arranged a number on a plane. 平面上に並べられたそれぞれの素子の発光色を変えて、カラーのディスプレーにすることができる。 Changing the emission colors of the elements ordered on a plane, it is possible to color display.

【0145】基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色をコントロールしてもよい。 [0145] The color conversion film including a color filter film, fluorescent material substrate or may control the luminescent color by using the dielectric reflective film.

【0146】本発明の有機EL素子は、通常、直流駆動型、パルス駆動型のEL素子として用いられるが、交流駆動とすることもできる。 [0146] The organic EL device of the present invention is usually a direct current-driven, but is used as the EL element of the pulse drive type while it may be of the AC drive. 印加電圧は、通常、2〜30 The applied voltage is generally 2 to 30
V 程度とされる。 It is the order of V.

【0147】 [0147]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described examples specifically. 比較例を併記する。 Also shows the comparative example.

【0148】実施例1 ガラス基板上にシート抵抗15Ω/□のITO(インジウム錫オキサイド)陽極(200nm厚)が形成されている基板のITO上にホール注入層であるバイトロン(Bay [0148] is a hole injection layer on the ITO substrate sheet resistance 15 [Omega] / □ of ITO in Example 1 on a glass substrate (indium tin oxide) anode (200 nm thick) is formed Baytron (Bay
tron)P(バイエル株式会社製:ポリエチレンジオキサイドチオフェンとポリスチレンスルホン酸とのポリマーの混合水分散液)を用いてスピンコートで40nm厚に形成した。 tron) P (manufactured by Bayer Corporation: forming a 40nm thick by spin coating using a mixed aqueous dispersion of the polymer) of polyethylene dioxide thiophene with polystyrene sulfonic acid.

【0149】次いで、ホール輸送性発光層を形成した。 [0149] Then, to form a hole transporting light-emitting layer.
ホール輸送性発光層は、トルエン溶媒に、ポリアリールフルオレン誘導体(式(P−2)で表される化合物)を溶解させ、スピンコートで70nm厚に形成した。 Hole transporting light-emitting layer, the toluene solvent, (a compound represented by the formula (P-2)) polyaryl fluorene derivative dissolved was formed on 70nm thickness by spin coating. この塗布液の濃度は1.5%(質量百分率)である。 The concentration of the coating solution is 1.5% (mass percentage).

【0150】次いで、電子注入性有機層をスピンコートで形成した。 [0150] Then, to form an electron injecting organic layer by spin coating. エチルセロソルブ溶媒に、オキサジアゾール誘導体(例示化合物E−1)50モル%とモノ(アセチルアセトナト)ナトリウム錯体(Na(acac): Ethyl cellosolve solvent, oxadiazole derivatives (Compound E-1) 50 mol% and a mono (acetylacetonato) sodium complex (Na (acac):
例示化合物C−1)50モル%との混合物を溶解させ、 Example Compound C-1) was dissolved a mixture of 50 mol%,
スピンコートで10nm厚に形成した。 It was formed to 10nm thick by spin coating. この塗布液の濃度は0.5%(質量百分率)であった。 The concentration of the coating solution was 0.5% (mass percentage).

【0151】ここで、50℃で真空乾燥を1時間行った。 [0151] was carried out wherein, for 1 hour and vacuum dried at 50 ° C.. 上記の膜厚は、いずれも真空乾燥後のものである。 The above film thickness are all those after vacuum drying.

【0152】次いで、その上に陰極を蒸着で形成した。 [0152] Then, it was formed by depositing a cathode thereon.
陰極(補助電極)はAlで200nm厚に形成した。 Cathode (auxiliary electrode) was formed in 200nm thickness is Al.

【0153】このようにして得られた有機EL素子の1 [0153] 1 of the organic EL element obtained in this way
0mA/cm 2での輝度は1500cd/m 2 (3.5V)であり、 Brightness at 0 mA / cm 2 is 1500cd / m 2 (3.5V),
緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、600時間であった。 Green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 600 hours.

【0154】実施例2 電子注入性有機層に、オキサジアゾール誘導体の例示化合物E−1のかわりに、例示化合物E−2(オキサジアゾール誘導体のポリマー)を用い、エチルセロソルブのかわりにジメチルアセトアミドを用いる以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 [0154] Example 2 electron injecting organic layer, in place of Exemplified Compound E-1 oxadiazole derivatives, using Exemplified Compound E-2 (polymer oxadiazole derivative), dimethylacetamide instead of ethyl cellosolve but using in, to obtain an organic EL device in the same manner as in example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は1500cd Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 1500cd
/m 2 (3.7V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/c / m is 2 (3.7V), green light emission was obtained, 10 mA / c
m 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、500 m 2 luminance half-life of a constant current driving (under Ar gas), 500
時間であった。 It was the time.

【0155】実施例3 電子注入性有機層に、オキサジアゾール誘導体の例示化合物E−1のかわりに、例示化合物E−18(チアジアゾール誘導体のポリマー)を用い、エチルセロソルブのかわりにジメチルアセトアミドを用いる以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 [0155] Example 3 electron injecting organic layer, in place of Exemplified Compound E-1 oxadiazole derivatives, using Exemplified Compound E-18 (polymer of thiadiazole derivatives), using dimethylacetamide instead of ethyl cellosolve except, to obtain an organic EL device in the same manner as in example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は2000cd Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 2000cd
/m 2 (3.7V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/c / m is 2 (3.7V), green light emission was obtained, 10 mA / c
m 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、500 m 2 luminance half-life of a constant current driving (under Ar gas), 500
時間であった。 It was the time.

【0156】実施例4 トリアゾール誘導体(例示化合物E−10)75モル% [0156] Example 4 triazole derivatives (Compound E-10) 75 mole%
とモノ(アセチルアセトナト)カリウム錯体(K(aca Mono (acetylacetonato) potassium complex (K (aca
c):例示化合物C−2)25モル%を電子注入性有機層として用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 c): Example Compound C-2) except for using 25 mol% as an electron-injecting organic layer to obtain an organic EL device in the same manner as in Example 1.

【0157】このようにして得られた有機EL素子の1 [0157] 1 of the organic EL element obtained in this way
0mA/cm 2での輝度は1200cd/m 2 (3.9V)であり、 Brightness at 0 mA / cm 2 is 1200cd / m 2 (3.9V),
緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、440時間であった。 Green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 440 hours.

【0158】実施例5 補助電極としてAlの代わりにAgを用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 [0158] except for using Ag instead of Al as Example 5 auxiliary electrode to obtain an organic EL device in the same manner as in Example 1.

【0159】このようにして得られた有機EL素子の1 [0159] 1 of the organic EL element obtained in this way
0mA/cm 2での輝度は1000cd/m 2 (3.8V)であり、 Brightness at 0 mA / cm 2 is 1000cd / m 2 (3.8V),
緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、320時間であった。 Green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 320 hours.

【0160】実施例6 実施例1において、電子注入性有機層の有機金属塩および/または有機金属錯体化合物として例示化合物C−1 [0160] Example In 6 Example 1, exemplified compound C-1 as the organic metal salt and / or organic metal complex compound having an electron injecting organic layer
の代わりに例示化合物C−13(Ba(acac) 2 )を用い、それ以外は同様にして有機EL素子を得た。 Using Exemplified Compound C-13 (Ba (acac) 2) in place of the otherwise obtain an organic EL device. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は2000cd/m 2 (4V)であり、緑色の発光が得られ、1 Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 2000cd / m 2 (4V), green light emission was obtained, 1
0mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、 0 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas)
500時間であった。 It was 500 hours.

【0161】比較例1 電子注入性有機層の代わりにカルシウムを蒸着によって6nm厚に形成する以外は実施例1と同様にして有機EL [0161] In the same manner, except for forming a 6nm thick by deposition of calcium in place of Comparative Example 1 electron injecting organic layer as in Example 1 Organic EL
素子を得た。 It was obtained element.

【0162】このようにして得られた有機EL素子の1 [0162] 1 of the organic EL element obtained in this way
0mA/cm 2での輝度は900cd/m 2 (3.9V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、120時間であった。 Brightness at 0 mA / cm 2 is 900 cd / m 2 (3.9V), green light emission was obtained, the luminance half-life 10 mA / cm 2 constant current driving (under Ar gas) was 120 hours It was.

【0163】比較例2 ITO上にホール輸送層としてN,N'−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニルベンジジン(α [0163] N as a hole transport layer in Comparative Example 2 on ITO, N'-di (naphthalene-1-yl) -N, N'-diphenyl benzidine (alpha
−NPD)を50nm厚、発光層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)を50nm厚に蒸着により順次形成し、その上に電子注入性有機層としてジメチルホルムアミド溶媒に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)50モル%とモノ(8− NPD) 50nm thick, and tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) are successively formed by evaporation to 50nm thickness as a luminescent layer, in dimethyl formamide solvent as the electron injecting organic layer thereon, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) 50 mol% and a mono (8-
キノリノラト)リチウム(Liq)50モル%との混合物を溶解させ、スピンコートを行ったところ、下層が侵されていることを確認した。 Quinolinolato) by dissolving lithium (Liq) a mixture of 50 mole% was subjected to spin coating, it was confirmed that the lower layer is eroded. EL発光は得られなかった。 EL light emission was not obtained. なお、塗布液の濃度は0.5%(質量百分率)であった。 The concentration of the coating solution was 0.5% (mass percentage).

【0164】比較例3 実施例1において、電子注入性有機層の例示化合物C− [0164] In Comparative Example 3 Example 1, the electron injecting organic layer exemplified compound C-
1の代わりに25℃での標準電極電位−1.695V Standard electrode potential -1.695V at 25 ° C. instead of one
(仕事関数4.3eV)のAl(III)を有するアセチルアセトナト錯体(下記構造)を用い、それ以外は同様にして有機EL素子を得た。 Using (work function 4.3 eV) acetylacetonato complexes with Al (III) of (the following structure), otherwise to obtain an organic EL device. このようにして得られた有機E Organic E obtained in this manner
L素子の10mA/m 2での輝度は2cd/m 2 (7.5V)であり、緑色の発光が得られたが、発光効率の明らかな低下が見られた。 Luminance at 10 mA / m 2 of the L element is 2cd / m 2 (7.5V), while the green light was emitted, a clear reduction of the luminous efficiency was observed.

【0165】 [0165]

【化13】 [Of 13]

【0166】実施例7 電子注入性有機層としてジメチルホルムアミド溶媒に、 [0166] Example 7 dimethylformamide solvent as an electron-injecting organic layer,
トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3: Tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3:
例示化合物E−15)50モル%とモノ(8−キノリノラト)リチウム(Liq:例示化合物C−10)50モル%との混合物を溶解させ、スピンコートで30nm厚に形成した以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 Exemplified Compound E-15) 50 mol% and a mono (8-quinolinolato) lithium (Liq: Example Compound C-10) was dissolved a mixture of 50 mol%, except for forming a 30nm thick by spin coating as in Example 1 to obtain an organic EL device. なお、塗布液の濃度は0.5%(質量百分率)であった。 The concentration of the coating solution was 0.5% (mass percentage).

【0167】このようにして得られた有機EL素子の1 [0167] 1 of the organic EL element obtained in this way
0mA/cm 2での輝度は800cd/m 2 (4.2V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、250時間であった。 Brightness at 0 mA / cm 2 is 800 cd / m 2 (4.2 V), a green light emission is obtained, the luminance half-life 10 mA / cm 2 constant current driving (under Ar gas) was 250 hours It was.

【0168】実施例8 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0168] Example 8 the electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−8(Ca(aca Instead of using the -1, Exemplified Compound C-8 (Ca (aca
c) 2 )を100モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 to obtain an organic EL element c) 2) except for using 100 mol% in the same manner as in Example 1. このようにして得られた有機E Organic E obtained in this manner
L素子の10mA/cm 2での輝度は2000cd/m 2 (4.0V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は400時間であった。 Luminance at 10 mA / cm 2 of L element is 2000cd / m 2 (4.0V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant current driving was 400 hours.

【0169】比較例4 電子注入性有機層として、例示化合物C−8を100モル%用いて蒸着で形成する以外は実施例8と同様にして有機EL素子を得た。 [0169] As Comparative Example 4 electron injecting organic layer, except forming a vapor deposition using Exemplified Compound C-8 100 mol% to obtain an organic EL device in the same manner as in Example 8. このようにして得られた有機EL The organic EL obtained in this manner
素子の10mA/cm 2での輝度は800cd/m 2 (6.8V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は100時間であった。 The luminance at 10 mA / cm 2 of the device is 800cd / m 2 (6.8V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant current driving was 100 hours.

【0170】実施例9 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0170] Example 9 the electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、C−8を50モル%、例示化合物E−14(Alのキノリノラト系錯体)を50モル%を用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 Instead of using a -1, the C-8 50 mol%, and except that the exemplified compound E-14 (the quinolinolate complex Al) using 50 mol% in the same manner as in Example 1 to obtain an organic EL device. このようにして得られた有機EL素子の10mA/c 10 mA / c of the organic EL element obtained in this manner
m 2での輝度は2100cd/m 2 (4.0V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は500時間であった。 brightness in m 2 was 2100cd / m 2 (4.0V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant current driving was 500 hours.

【0171】実施例10 電子注入性有機層として、例示化合物C−8を95% [0171] Example 10 as the electron injecting organic layer, Exemplified Compound C-8 95%
(質量百分率)、変性シリコーン樹脂(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製SR2102)を5%(質量百分率)を用い、この層を塗布後、室温で3時間硬化させた以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 (Mass percentage), the modified silicone resin (Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. SR2102) 5% (mass percentage) used, after applying the layer, except for cured 3 hours at room temperature in the same manner as in Example 1 to obtain an organic EL element Te. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は1300cd/m 2 (5.5V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は500時間であった。 Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 1300cd / m 2 (5.5V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in the constant current drive It was 500 hours.

【0172】実施例11 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0172] Example 11 electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−18(Caのポリマー塩)を100モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 Instead of using the -1, to obtain an organic EL device except Example Compound C-18 that the (Ca polymer salt) used 100 mole% in the same manner as in Example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は2000cd/m Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 2000 cd / m
2 (5.0V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2 A 2 (5.0V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2
定電流駆動での輝度半減期は300時間であった。 Luminance half-life in constant current driving was 300 hours.

【0173】実施例12 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0173] Example 12 electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−17(Caのフェナントロリン系錯体)を50モル%、例示化合物E Instead of using the -1, Example Compound C-17 to 50 mol% (Ca phenanthroline complex), exemplified compound E
−1を50モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 -1 except for using 50 mol% to obtain an organic EL device in the same manner as in Example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は2000cd/m Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 2000 cd / m 2 (3.8V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は300時間であった。 A 2 (3.8 V), a green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant current driving was 300 hours.

【0174】実施例13 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0174] Example 13 electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−19(Caアルコキシド)を50モル%、例示化合物E−14を50 Instead of using the -1, Exemplified Compound C-19 (Ca alkoxide) 50 mol%, the exemplified compound E-14 50
モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 To obtain an organic EL device except that mol% in the same manner as in Example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA 10mA organic EL element obtained in this manner
/cm 2での輝度は1900cd/m 2 (3.8V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は500時間であった。 / luminance in cm 2 was 1900cd / m 2 (3.8V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant current driving was 500 hours.

【0175】実施例14 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0175] Example 14 electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−26(Smアルコキシド)を100モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 Instead of using the -1, to obtain an organic EL device except that the exemplified compound C-26 a (Sm alkoxide) used 100 mole% in the same manner as in Example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は1600cd/m Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 1600 cd / m
2 (4.8V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2 A 2 (4.8 V), a green light emission was obtained, 10 mA / cm 2
定電流駆動での輝度半減期は300時間であった。 Luminance half-life in constant current driving was 300 hours.

【0176】実施例15 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0176] Example 15 electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−12(Euのバソフェナントロリン系錯体)を100モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 Instead of using the -1, except Example Compound C-12 that the (bathophenanthroline based complex of Eu) used 100 mole% in the same manner as in Example 1 to obtain an organic EL device. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2での輝度は1600cd/m 2 (3.7V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は350時間であった。 Luminance at 10 mA / cm 2 of the organic EL element obtained in this manner is 1600cd / m 2 (3.7V), green light emission was obtained, 10 mA / cm 2 luminance half-life in the constant current drive It was 350 hours.

【0177】実施例16 電子注入性有機層に、例示化合物C−1と例示化合物E [0177] Example 16 electron injecting organic layer, exemplified compound C-1 Example Compound E
−1とを用いるかわりに、例示化合物C−25(Baの酢酸塩)を50モル%、例示化合物E−14を50モル%用いる以外は実施例1と同様にして有機EL素子を得た。 Instead of using the -1, Exemplified Compound C-25 (Ba acetate) 50 mol%, except for using Exemplified Compound E-14 50 mol% to obtain an organic EL device in the same manner as in Example 1. このようにして得られた有機EL素子の10mA/cm 2 Thus obtained organic EL device of 10 mA / cm 2
での輝度は1500cd/m 2 (4.0V)であり、緑色の発光が得られ、10mA/cm 2定電流駆動での輝度半減期は5 Brightness at is 1500cd / m 2 (4.0V), green light emission was obtained, the luminance half-life 10 mA / cm 2 constant current drive 5
00時間であった。 It was 00 hours.

【0178】実施例17 ガラス基板上にシート抵抗15Ω/□のITO(インジウム錫オキサイド)陽極が形成されている基板の上に、 [0178] On the substrate in Example 17 on a glass substrate sheet resistance 15 [Omega] / □ of ITO (indium tin oxide) anode is formed,
ホール注入層であるバイトロンP(バイエル株式会社製:ポリエチレンジオキサイドチオフェンとポリスチレンスルホン酸とのポリマーの混合水分散液)をスピンコートで40nmの膜厚に形成した。 Baytron P is a hole injection layer (manufactured by Bayer Corporation: mixed aqueous dispersion of a polymer of polyethylene dioxide thiophene with polystyrene sulfonic acid) was formed to a thickness of 40nm by spin-coating.

【0179】次いで、ホール輸送層兼発光層を形成した。 [0179] Then, to form a hole transporting and light emitting layer. トルエン溶媒に、下記ポリアリールフルオレン誘導体(式(P−2)で表される化合物)を1.5%(質量百分率)溶液となるように溶解させスピンコートで70 In toluene solvent, 70 by spin coating dissolved at a below polyaryl fluorene derivative (a compound represented by the formula (P-2)) 1.5% (mass percentage) solution
nmの膜厚に形成した。 It was formed to a thickness of nm.

【0180】次に、電子注入性層をスピンコートで形成した。 [0180] Next, to form an electron injection layer by spin coating. エチルセロソルブ溶媒に、アルミニウムトリエトキシドを0.5%(質量百分率)溶液となるように溶解させスピンコートで3nmの膜厚に形成した。 Ethyl cellosolve solvent to form a aluminum tri-ethoxide on the film thickness of 3nm spin coating dissolved at a 0.5% (mass percentage) solution. その後、5 Then, 5
0℃で真空乾燥を1時間行った。 The vacuum drying was carried out for 1 hour at 0 ° C.. 上記の膜厚は、いずれも真空乾燥後のものである。 The above film thickness are all those after vacuum drying.

【0181】次いで、その上に陰極を蒸着で形成した。 [0181] Then, it was formed by depositing a cathode thereon.
陰極はAlを200nmの膜厚に成膜し、形成した。 Cathode and an Al film to a thickness of 200 nm, was formed.

【0182】得られた素子をアルゴンガス雰囲気中で評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は1800c [0182] The resultant device was evaluated in an argon gas atmosphere, the luminance at the initial 10 mA / cm 2 is 1800c
d/m 2 、電圧は3.8Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、600時間であった。 d / m 2, the voltage is 3.8 V, the luminance half-life 10 mA / cm 2 constant current driving (under Ar gas) was 600 hours.

【0183】実施例18 アルミニウムトリエトキシドの代わりにアルミニウムトリエトキシドとトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)を1:1(質量比)で混合した溶液を用いて成膜し、電子注入性層を形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0183] Example 18 aluminum triethoxide instead of aluminum triethoxide and tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) 1: 1 was formed by using a solution mixed (mass ratio), an electron injection property except for forming the layer, to form device in the same manner as in example 17.

【0184】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は1500cd/ [0184] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 1500 cd /
m 2 、電圧は4.4Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、500時間であった。 m 2, the voltage is 4.4 V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 500 hours.

【0185】実施例19 アルミニウムトリエトキシドの代わりに下記構造のアルミニウムポリマー塩を用いて成膜し、電子注入性層を形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0185] formed using the aluminum polymer salt having the following structure in place of Example 19 aluminum tri-ethoxide, except for forming the electron injecting layer to form a device in the same manner as in Example 17.

【0186】 [0186]

【化14】 [Of 14]

【0187】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は1800cd/ [0187] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 1,800 cd /
m 2 、電圧は4.2Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、800時間であった。 m 2, the voltage is 4.2 V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 800 hours.

【0188】実施例20 アルミニウムトリエトキシドの代わりアルミニウムトリフェノキシドを用いて蒸着法で1nmの膜厚に電子注入性層を形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0188] except for forming an electron injection layer in a thickness of 1nm by vapor deposition using instead of aluminum tri-phenoxide of Example 20 aluminum tri-ethoxide, to form device in the same manner as in Example 17.

【0189】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は1500cd/ [0189] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 1500 cd /
m 2 、電圧は4.0Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、450時間であった。 m 2, the voltage is 4.0V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 450 hours.

【0190】実施例21 アルミニウムトリエトキシドの代わりに酢酸マンガンを用いて3nmの膜厚に電子注入性層を形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0190] except for forming an electron injection layer to a thickness of 3nm using manganese acetate instead of Example 21 aluminum tri-ethoxide, to form device in the same manner as in Example 17.

【0191】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は500cd/m 2 [0191] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 500 cd / m 2
、電圧は4.4Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、250時間であった。 , The voltage is 4.4 V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 250 hours.

【0192】実施例22 アルミニウムトリエトキシドの代わりにテトラプロポキシジルコニウムを用いて3nmの膜厚に電子注入性層を形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0192] except for forming an electron injection layer to a thickness of 3nm using tetrapropoxyzirconium instead of Example 22 aluminum tri-ethoxide, to form device in the same manner as in Example 17.

【0193】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は600cd/m 2 [0193] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 600 cd / m 2
、電圧は4.4Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、300時間であった。 , The voltage is 4.4 V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 300 hours.

【0194】比較例5 アルミニウムトリエトキシド層の代わりにカルシウム層を6nmの膜厚に蒸着法で形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0194] except for forming by vapor deposition of calcium layer thickness of 6nm in place of Comparative Example 5 aluminum triethoxide layer to form a device in the same manner as in Example 17.

【0195】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は900cd/m 2 [0195] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 900 cd / m 2
、電圧は3.9Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、120時間であった。 , The voltage is 3.9V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 120 hours.

【0196】比較例6 電子注入性層であるアルミニウムトリエトキシド層を除く以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 [0196] except excluding aluminum triethoxide layer as a comparative example 6 electron injecting layer to form a device in the same manner as in Example 17.

【0197】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は0cd/m 2と発光が認められず、このときの電圧は7.0Vであった。 [0197] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is not observed emission and 0 cd / m 2, the voltage at this time was 7.0V .

【0198】比較例7 アルミニウムトリエトキシド層の代わりにトリス(8− [0198] Tris Instead of Comparative Example 7 Aluminum triethoxide layer (8
キノリノラト)アルミニウム(Alq3)層を2nmの膜厚蒸着法で形成した以外、実施例17と同様にして素子を形成した。 Quinolinolato) except that the aluminum (Alq3) layer was formed to have a film thickness of vapor deposition of 2 nm, to form device in the same manner as in Example 17.

【0199】実施例17と同様に得られた素子を評価したところ、初期の10mA/cm 2での輝度は100cd/m 2 [0199] Evaluation of the element obtained in the same manner as in Example 17, the brightness in the early 10 mA / cm 2 is 100 cd / m 2
、電圧は6.0Vであり、10mA/cm 2定電流駆動(Arガス下)での輝度半減期は、80時間であった。 , The voltage is 6.0V, 10 mA / cm 2 luminance half-life in constant-current driving (under Ar gas) was 80 hours.

【0200】 [0200]

【発明の効果】本発明によれば、塗布型の有機EL素子を容易に製造することができ、高輝度で長寿命であるなど、高効率で高信頼性であり、取り扱い等が簡便な有機EL素子が得られる。 According to the present invention, a coating-type organic EL element can be produced easily and at high luminance and long life, a high reliability with high efficiency, simple organic handled like EL element is obtained. また、安定な金属種の金属塩を電子注入性の層に用いることで低駆動電圧でありながらも、取り扱いが容易で輝度半減寿命の長い特性を発現しうる素子を提供することができる。 Moreover, while a low driving voltage by using a stable metal species of the metal salt to the layer of electron injecting property, it is possible to provide a device capable of expressing a long characteristics it is easy to handle luminance half life.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の有機EL素子の基本構成を示す概略断面図である。 1 is a schematic sectional view showing a basic structure of the organic EL device of the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板2 陽極3 有機層4 電子注入性の層5 陰極 1 substrate 2 anode 3 organic layer 4 electron injecting layer 5 cathode

Claims (17)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 陰極と陽極とを有し、これらの電極間に、発光層を含む2層以上の積層された有機層を有し、 1. A and a cathode and an anode, between these electrodes, having two or more layers stacked organic layers including a light emitting layer,
    前記有機層のうちの少なくとも1層が塗布により形成された有機層である有機EL素子において、 前記陰極に接する有機層が、25℃における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有し、かつ塗布により形成された電子注入性の有機層であり、 この陰極側の電子注入性の有機層に接して高分子EL材料を含有する有機層を有する有機EL素子。 In the organic EL device, at least one layer is an organic layer formed by coating of the organic layer, the organic layer in contact with the cathode, the organic metal salt having a metal of less than the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C. and contain one or more compounds selected from the organometallic complex compound, and an electron injecting organic layer formed by coating, a polymer EL material in contact with the electron injecting organic layer of the cathode side the organic EL device having an organic layer containing.
  2. 【請求項2】 前記金属の標準電極電位が−2.2V以下−3.1V以上である請求項1の有機EL素子。 Wherein the organic EL device of claim 1 standard electrode potential of the metal is -2.2V or less -3.1V or more.
  3. 【請求項3】 前記金属の仕事関数が3.8eV以下である請求項1または2の有機EL素子。 3. A process according to claim 1 or 2, organic EL devices work function of the metal is less than 3.8 eV.
  4. 【請求項4】 前記金属が、アルカリ金属(I)、アルカリ土類金属(II)または希土類金属(III)である請求項1〜3のいずれかの有機EL素子。 Wherein said metal is an alkali metal (I), any organic EL device of claim 1 is an alkaline earth metal (II) or rare earth metal (III).
  5. 【請求項5】 陰極に接する電子注入性の有機層の有機金属錯体化合物の有する配位子が下記式(L−1)で示される請求項1〜4のいずれかの有機EL素子。 5. The organic EL device of any one of claims 1 to 4 ligand having the organometallic complex compound having an electron injecting organic layer in contact with the cathode is represented by the following formula (L-1). 【化1】 [Formula 1] [式(L−1)中、R 1 、R 2およびR 3は、各々水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、これらは同一でも異なるものであってもよく、R 2とR 3とは互いに連結して環を形成してもよい。 Wherein (L-1), R 1 , R 2 and R 3 each represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, these may be those different even in the same, R 2 and R 3 it may be linked to each other to form a ring. ]
  6. 【請求項6】 高分子EL材料を含有する有機層の高分子EL材料の分子量が、重量平均分子量で5000以上である請求項1〜5のいずれかの有機EL素子。 6. A molecular weight of the polymer EL material of the organic layer containing the polymer EL material, organic EL device of any one of claims 1 to 5 of 5,000 or more in weight-average molecular weight.
  7. 【請求項7】 高分子EL材料を含有する有機層の高分子EL材料が、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリビニル化合物、ポリアクリレート誘導体、ならびにポリメタクリレート誘導体から選ばれる1種以上の化合物である請求項6の有機EL素子。 Polymer EL material 7. The organic layer containing the polymer EL material, polyfluorene and derivatives thereof, polyparaphenylene vinylene and its derivatives, poly-biphenylene vinylene and derivatives thereof, poly terpolymers phenylene vinylene and derivatives thereof, polynaphthylene vinylene and derivatives thereof, poly (thienylene vinylene) and derivatives thereof, polythiophene and derivatives thereof, polyvinyl compounds, polyacrylate derivatives organic EL element according to claim 6 as well as one or more compounds selected from polymethacrylate derivatives.
  8. 【請求項8】 陰極に接する電子注入性の有機層が、さらに電子輸送性材料を含有し、この電子輸送性材料が、 8. electron injecting organic layer in contact with the cathode, further contains an electron transporting material, the electron transporting material,
    オキサジアゾール環、トリアゾール環、キノキサリン環、フェナントロリン環、キノリノール環、チアジアゾール環、ピリジン環またはシアノ基を有する化合物である請求項1〜7のいずれかの有機EL素子。 Oxadiazole ring, triazole ring, quinoxaline ring, phenanthroline ring, quinolinol ring, thiadiazole ring, either of the organic EL element according to claim 1 to 7 is a compound having a pyridine ring or cyano group.
  9. 【請求項9】 陰極に接する電子注入性の有機層が、塗布後に架橋されたものである請求項1〜8のいずれかの有機EL素子。 9. electron injecting organic layer in contact with the cathode, organic EL device of any one of claims 1 to 8 in which cross-linked after application.
  10. 【請求項10】基板と、基板上に設けられた第1電極と、発光層を含む2層以上の積層された有機層と、有機層上に形成された第2電極とを有し、前記有機層のうちの少なくとも1層を塗布により形成する有機EL素子の製造方法において、 高分子EL材料を含有する有機層と、25℃における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有する電子注入性の有機層とを積層して形成し、 25℃における標準電極電位−1.8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有する電子注入性の有機層を、第1電極または第2電極に接して、塗布により形成する有機EL素子の製造方法。 A 10. A substrate, a first electrode provided on the substrate, and a laminate of two or more organic layers including a light emitting layer, and a second electrode formed on the organic layer, the in the manufacturing method of the organic EL element is formed by applying at least one layer of the organic layer, and an organic layer containing the polymeric EL materials, organic metal salts having a metal of less than the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C. and organometallic from complex compound of an electron injection property containing one or more compounds selected an organic layer formed by laminating, organic metal salts and organic with a metal of less than the standard electrode potential -1.8V at 25 ° C. the electron injecting organic layer containing one or more compounds selected from the metal complex compound, in contact with the first electrode or the second electrode, the manufacturing method of the organic EL device formed by coating.
  11. 【請求項11】 第1電極が陽極であり、第2電極が陰極であり、高分子EL材料を含有する有機層を、下層側有機層として形成し、この下層側有機層に積層して、上層側有機層として、25℃における標準電極電位−1. 11. A first electrode is an anode, the second electrode is a cathode, an organic layer containing a polymer EL material is formed as a lower side organic layer, laminated in this lower side organic layer, as the upper side organic layer, the standard electrode potential -1 at 25 ° C..
    8V未満の金属を有する有機金属塩および有機金属錯体化合物から選ばれる1種以上の化合物を含有する電子注入性の有機層を、塗布溶媒として、i)総炭素数3〜6の鎖状化合物であって、分子内に炭素数1〜3のアルコキシ基、カルボニル基、および炭素数2〜3のエステル基から選ばれる1種以上を有し、かつこれらの基のα位および/またはβ位に水酸基を有する化合物、ii)総炭素数3〜6の鎖状化合物であって、分子内に炭素数2〜4 The electron injecting organic layer containing one or more compounds selected from the organometallic salts and organometallic complex compounds having a metal of less than 8V, as the coating solvent, i) a chain-like compound having a total carbon number of 3 to 6 there are an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms in the molecule, carbonyl group, and has one or more selected from the number 2-3 ester groups carbon, and the α-position and / or β-position of these groups compounds having a hydroxyl group, ii) a chain compound having a total carbon number of 3 to 6, carbon atoms in the molecule 2 to 4
    のジアルキルアミド基を有する化合物、iii)総炭素数5 Compounds having a dialkylamide group, iii) a total carbon number of 5
    〜8の鎖状化合物であるエステル、ならびにiv)総炭素数4〜7の鎖状化合物であるカーボネートから選択される1種以上の化合物を用いて塗布により形成し、さらに上層側の電子注入性の有機層上に陰極を形成する請求項10の有機EL素子の製造方法。 8 is a chain compound ester, and iv) using one or more compounds selected from carbonate a chain compound having a total carbon number of 4 to 7 was formed by coating, further upper electron injection property the method for manufacturing an organic EL device according to claim 10 for forming a cathode on the organic layer of.
  12. 【請求項12】 下層側の有機層を、塗布により形成する請求項11の有機EL素子の製造方法。 The organic layer 12. lower side, a method of manufacturing an organic EL device of claim 11, formed by coating.
  13. 【請求項13】 陰極と陽極とを有し、これらの電極間に、発光層を含む1層以上の有機層を有し、前記陰極と前記有機層との間に電子注入性の層を有し、前記電子注入性の層が、25℃における標準電極電位−1.8V以上−0.8V以下の金属を有する無機金属塩および有機金属塩から選ばれる1種以上の塩を含有する有機EL素子。 And a 13. cathode and an anode, organic between the electrodes has one or more organic layers including a light emitting layer, a layer of electron injecting property between the cathode and the organic layer and, organic EL said electron injecting layers, contains one or more salts selected from inorganic metal salts and organometallic salts having a -0.8V following metal standard electrode potential -1.8V or more at 25 ° C. element.
  14. 【請求項14】 前記金属の標準電極電位が−1.7V 14. The standard electrode potential of the metal is -1.7V
    以上−1.15V以下である請求項13の有機EL素子。 The organic EL device of the which claims 13 or -1.15V less.
  15. 【請求項15】 前記金属の仕事関数が4.0eV以上である請求項13または14の有機EL素子。 15. The organic EL device according to claim 13 or 14 work function of the metal is not less than 4.0 eV.
  16. 【請求項16】 前記金属が、Al(III)、Mn(I 16. said metal, Al (III), Mn (I
    I)またはZr(IV)である請求項13〜15のいずれかの有機EL素子。 The organic EL device of any one of claims 13 to 15 is I) or Zr (IV).
  17. 【請求項17】 前記金属塩が、カルボン酸塩、アルコキシド、フェノキシド、ハロゲン化物またはジアルキルアミドである請求項13〜16のいずれかの有機EL素子。 17. The method of claim 16, wherein the metal salt is a carboxylate, alkoxide, phenoxide, organic EL device of any one of claims 13 to 16 is a halide or dialkylamide.
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