JP2003338446A - 半導体露光装置及び露光装置管理システム - Google Patents

半導体露光装置及び露光装置管理システム

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JP2003338446A
JP2003338446A JP2002146363A JP2002146363A JP2003338446A JP 2003338446 A JP2003338446 A JP 2003338446A JP 2002146363 A JP2002146363 A JP 2002146363A JP 2002146363 A JP2002146363 A JP 2002146363A JP 2003338446 A JP2003338446 A JP 2003338446A
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Yoshiyuki Sato
義行 佐藤
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンススケジュールが決定した後で
も、スケジュールの移動を可能にすることにより、露光
装置の定期的なメンテナンススケジュールの作成をより
柔軟に行える露光装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 メンテナンスメニュー作成時に、メンテ
ナンス実施予定にある許容値を設定する手段と、設定さ
れたメンテナンス許容値を記憶する手段と、メンテナン
ススケジュールを設定する手段と、メンテナンススケジ
ュールを表示する手段と、さらにメンテナンススケジュ
ール決定後でも、メンテナンス予定日とメンテナンス許
容値を用いて、スケジュールを再計算する手段を有し、
メンテナンス予定日を移動できることを特徴とする半導
体露光装置を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子や液晶素
子等のデバイスを製造するための半導体露光装置及びそ
の管理システムに関し、特に、定期的に実施する装置メ
ンテナンスのスケジューリング作成機能を備えるものに
適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造(露光)工程に用いる縮小投
影型露光装置は、高精度で動作することが要求されてお
り、その性能を維持させる為、定期的に装置のメンテナ
ンスを実施している。メンテナンス実施方法の1つとし
て、特開平10−4047号で開示されているように、
装置自身の持つ計測機能(メンテナンスコマンド)を用
い、それらを任意に単一または複数組み合わせる事によ
り、メンテナンスメニューを作成し、実行間隔毎に、Da
ily、Weekly、Monthlyなどのようにまとめられ、メンテ
ナンスメニューを装置で設定したメンテナンススケジュ
ールに合わせて、実行することでメンテナンスを実施し
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、露光装
置の運用面を考えると、生産性を上げるべく、ロット処
理が優先的に実行され、生産の合間に何とかメンテナン
スを行っているのが実情である。また、メンテナンスの
予定を組んでいても、メンテナンスを実施しようとした
時には、急ぎのロット処理などの割り込みが発生してし
まってメンテナンスが大幅に遅れ、最悪、実施できない
場合もある。
【0004】本発明は前述の問題点にかんがみてなされ
たもので、露光装置で設定したメンテナンススケジュー
ルに従って、メンテナンスメニューを実行する際に、割
り込みのロット処理などを考慮し、メンテナンススケジ
ュールにある許容値を設定可能とし、その許容値範囲内
ならば、メンテナンススケジュールの決定後でも、メン
テナンス実施目時を移動させることを可能にし、さらに
移動した以降のメンテナンススケジュールも手動あるい
は自動で反映が可能となり、柔軟にメンテナンススケジ
ュールを作成することができる露光装置を提供すること
を目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の半導体
露光装置は、メンテナンス実施日時に、ある許容値を設
定する設定手段と、前記設定手段で設定された前記許容
値を記憶する記憶手段と、メンテナンススケジュールを
設定(新規作成または編集)するスケジュール設定手段
と、前記スケジュール設定手段で設定したスケジュール
を表示する表示手段と、メンテナンス実施日と許容値か
ら、新しいスケジュール実施候補日を計算する計算手段
とを具備することを特徴とする。
【0006】以上のことから、割り込みのロット処理が
発生した場合にも、メンテナンス実施時期を移動するこ
とが可能となる。また、移動後のメンテナンススケジュ
ールも再設定が自動、手動で設定が可能となり、より柔
吹に装置メンテナンスのスケジュール作成を行うことが
できるようになる。
【0007】
【作用】本発明は上記技術手段を有するので、半導体露
光装置において、設定されたスケジュールにしたがっ
て、メンテナンスを実施する場合に、割り込みのロット
処理等で、メンテナンス実施日時にメンテナンスを行え
ない場合でも、許容値範囲内でメンテナンススケジュー
ルを移動することができ、移動後のメンテナンススケジ
ュールも自動、手動で設定することが可能となり、より
柔軟な装置メンテナンスのスケジュール作成を行うこと
ができる。
【0008】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照しながら本
発明の半導体露光装置及び露光装置管理システムの実施
形態について説明する。
【0009】(第1の実施形態)図1は本発明の第1の
実施形態に係る半導体露光装置の外観を示す斜視図であ
る。図1に示すように、この半導体露光装置は、装置本
体の環境温度制御を行う温調チャンバ101、その内部
に配置され、装置本体の制御を行うCPUを有するEW
S本体106、ならびに、装置における所定の情報を表
示するEWS用ディスプレイ装置102、装置本体にお
いて撮像手段を介して得られる画像情報を表示するモニ
タTV105、装置に対し所定の入力を行うための操作
パネル103、EWS用キーボード104等を含むコン
ソール部を備えている。図中、107はON−OFFス
イッチ、108は非常停止スイッチ、109は各種スイ
ッチ、マウス等、110はLAN通信ケーブル、111
はコンソール機能からの発熱の排気ダクト、そして11
2はチャンバの排気装置である。半導体露光装置本体は
チャンバ101の内部に設置される。
【0010】EWS用ディスプレイ102は、EL、プ
ラズマ、液晶等の薄型フラットタイプのものであり、チ
ャンバ101前面に納められ、LANケーブル110に
よりEWS本体106と接続される。操作パネル10
3、キーボード104、モニタTV105等もチャンバ
101前面に設置し、チャンパ101前面から従来と同
様のコンソール操作が行えるようにしてある。
【0011】図2は、図1に示した半導体露光装置の内
部構造を示す図である。図2においては、半導体露光装
置としてのステッパが示されている。図中、202はレ
チクル、203はウエハであり、光源装置204から出
た光束が照明光学系205を通ってレチクル202を照
明するとき、投影レンズ206によりレチクル202上
のパターンをウエハ203上の感光層に転写することが
できる。
【0012】レチクル202は、レチクル202を保
持、移動するためのレチクルステージ207により支持
されている。ウエハ203は、ウエハチャック291に
より真空吸着された状態で露光される。ウエハチャック
291は、ウエハステージ209により各軸方向に移動
可能である。レチクル202の上側には、レチクル20
2の位置ずれ量を検出するためのレチクル光学系281
が配置される。ウエハステージ209の上方に、投影レ
ンズ206に隣接してオフアクシス顕微鏡282が配置
されている。オフアクシス顕微鏡282は内部の基準マ
ークとウエハ203上のアライメントマークとの相対位
置検出を行うのが主たる役割である。また、これらステ
ッパ本体に隣接して周辺装置であるレチクルライブラリ
220やウエハキャリアエレベータ230が配置され、
必要なレチクル202やウエハ203は、レチクル搬送
装置221およびウエハ搬送装置231によってステッ
パ本体に搬送される。
【0013】チャンバ101は、主に空気の温度調節を
行う空調機室210および微小異物をろかし清浄空気の
均一な流れを形成するフィルターボックス213、また
装置環境を外部と遮断するブース214で権成されてい
る。チャンバ101内では、空調機室210内にある冷
却器215および再熱ヒーター216により温度調節さ
れた空気が、送風機217によりエアフィルタgを介し
てブース214内に供給される。このブース214に供
給された空気は、リターンロraより再度空調機室21
0に取り込まれチャンバ101内を循環する。通常、こ
のチャンバ101は厳密には完全な循環系ではなく、ブ
ース214内を常時陽圧に保つため循環空気量の約1割
のブース214外の空気を空調機室210に設けられた
外気導入口oaより送風機217を介して導入してい
る。このようにしてチャンパ101は本装置の置かれる
環境温度を一定に保ち、かつ空気を洗浄に保つことを可
能としている。
【0014】また、光源装置204には超高圧水銀灯の
冷却やレーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口sa
と排気口eaが設けられ、ブース214内の空気の一部
が光源装置204を経由し、空調機室210に備えられ
た専用の排気ファンを介して工場設備に強制排気されて
いる。また、空気中の化学物質を除去するための化学吸
着フィルタcfを、空調機室210の外気導入口oaお
よびリターンロraにそれぞれ接続して備えている。
【0015】図3は、図1に示した半導体露光装置の電
気回路構成を示すフロック図である。図3において、3
21は装置全体の制御を司る、EWS本体106に内蔵
された本体CPUであり、マイクロコンピュータまたは
ミニコンピュータ等の中央演算装置からなる。322は
ウエハステージ駆動装置、323は前記オフアクシス顕
微鏡282等のアライメント検出系、324はレチクル
ステージ駆動装置、325は前記光源装置204等の照
明系、326はシャッタ駆動装置、327はフォーカス
検出系、328はZ原動装置であり、これらは、本体C
PU321により制御されている。329は前記レチク
ル搬送装置221、ウエハ搬送装置231等の搬送系で
ある。330は前記ディスプレイ102、キーボード1
04等を有するコンソールユニットであり、本体CPU
321にこの露光装置の動作に関する各種のコマンドや
パラメータを与えるためのものである。すなわち、オペ
レータとの間で情報の授受を行うためのものである。3
31は、例えばハードディスクであり、内部にデータベ
ースが構築されており、各種パラメータおよびその管理
データ、ならびにオペレータのグループ等が記録されて
いる。
【0016】図4は、図1のディスプレイ102の表示
画面に表示されるメンテナンスメニューを編集するメン
テナンスメニュー編集画面であり、装置自身の持つ各種
計測コマンドをマクロとして扱い、メンテナンスメニュ
ーを新規作成または編集するウィンドウである。
【0017】図5は、図1に示した半導体露光装置にお
いて、メンテナンススケジュールの条件を入力する画面
で、図4のメンテナンスメニュー編集画面のMAKE SCHED
ULEボタン(412)を押すことにより、ポップアップ
にて表示される。
【0018】次に、図4と図5を用いて、メンテナンス
メニューの作成方法およびメンテナンススケジュール作
成の操作手順を説明する。
【0019】(1) メニューのモード(401)、番
号(402)を設定する。メニューのモードには、実行
間隔毎に、Daily、Weekly、Monthlyの3つのモードが存
在し、その中からモードを選択する。番号は、各モード
毎にl〜10の10個のメニューが登録可能となってお
り、編集する番号を選択する。
【0020】(2) メンテナンスメニューに対するコ
メントをつける必要があれば、コメント(403)を入
力する。
【0021】(3) コマンドリスト(405)から装
置の持つ計測コマンドを選択し、INSERTボタン(40
8)でマクロリスト(404)にコマンドを挿入した
り、APPENDボタン(409)でコマンドを追加したり、
DELETEボタン(410)でマクロリストからコマンドを
削除する。このようにマクロリストにコマンドを並べる
ことにより、メンテナンスメニューを作成する。作成が
終了したら、SAVEボタン(411)を押し、メンテナン
スメニューを保存する。
【0022】(4) メンテナンスメニュー作成が終わ
ったら、メンテナンススケジュールを作成する為に、MA
KE SCHEDULEボタン(412)を押し、メンテナンスス
ケジュール作成画面(図5)をポップアップさせる。
【0023】(5) 図5で表示されているメンテナン
スメニュー(501)は表示専用であり、(1)〜
(3)までで作成されたメンテナンスメニューで、この
例では、モードは”Daily”で、メニュー番号が”
1”、コメントに”Maintenance Menu 1”と記述され
ていることを表している。このメニューに関して、各種
スケジュール条件を入力し、メンテナンススケジュール
を作成する。
【0024】(6) 第1のスケジュール条件として、
メンテナンス開始日(502)を入力する。
【0025】(7) 第2のスケジュール条件として、
メンテナンス実行間隔(503)を入力する。
【0026】(8) 第3のスケジュール条件として、
メンテナンス許容値(504)を入力する。ただし、メ
ンテナンススケジュールを作成しても、メンテナンス実
施日当日のロット処理の仕掛かかり具合や割り込みのロ
ット処理が発生した場合には、メンテナンスが実施でき
るとは限らない。メンテナンスが実施できない場合に
は、メンテナンス実施時期を移動させる必要がある。メ
ンテナンス許容値とは、その移動可能な許容範囲を示す
数値である。
【0027】(9) (6)〜(8)のスケジュール条
件を設定し、OKボタン(511)を押すことで、スケジ
ュールの作成を開始する。作成したスケジュールは、図
4のDISPLAY SCHEDULEボタン(413)を押すごとで、
ポップアップにより表示される。図6は、図5のスケジ
ュール条件で作成されたスケジュールの一例である。こ
の例では、メンテナンス予定は1週間単位の帳票形式で
表示され、予定日には”○”が記述される。図6からメ
ニューのDaily 1とWeekly 1についてスケジュールが
作成されており、図5の条件より、Daily 1は開始日が
3/29で、実行間隔は2日、Weekly 1は開始日が3
/30で、実行間隔は6日(不図示)と設定されてい
る。また、図6において、Prevボタン(621)を押す
と、先週の実績が表示され、Nextボタン(622)を押
すと、次週の予定を表示する。このメンテナンススケジ
ュール画面を終了させるには、QUITボタン(623)を
押す。
【0028】次に、割り込みのロット処理などで、メン
テナンススケジュールを移動させる手順を、図7〜図9
を使って説明する。
【0029】図7において、仮に現在の日付を4/1と
した場合、すでにメンテナンスが終了しているDaily 1
の3/29とWeekly 1の3/30の箇所には、メンテ
ナンスが終了したことを表す”●”が記述される。こ
の”●”をクリックすると、メンテナンス結果が表示さ
れる(不図示)。この例では、メンテナンスの実施済み
/未実施を表す記号として、”○”や”●”を使用して
いるが、これらはコンフィグレーションファイルで設定
可能である。
【0030】4/1に割り込みでロット処理が入ること
になり、Daily 1のメンテナンスメニューを実行できな
くなったと判断した時に、4/1のDaily 1を移動させ
る場合は、”O”をクリックするとプルダウンメニュー
で”移動”が表示され、”移動”を選択すると、メンテ
ナンス許容値を考慮し、移動可能な日付のみを選択可能
とし、選択可能な日付(この例では4/2)を選択する
と、メンテナンス予定を意味する”O”が4/1から4
/2に移動できる。図8は、Daily 1のメンテナンスを
4/2に移動した後のメンテナンススケジュールを示し
ている。
【0031】図9のフローチャートは、上述のメンテナ
ンス予定日の移動処理を実行する図3のコンソールユニ
ット330内のコンソールCPU331の制御手順の一
例を示す。以下、制御手順の流れを説明する。
【0032】ステップS101では、コンソールCPU
331は、移動対象のメンテナンス予定日を取得する。
【0033】続いて、ステップS102では、移動対象
のメンテナンス許容値を取得する。
【0034】続いて、ステップS103では、ステップ
S101で取得したメンテナンス予定日とステップS1
02で取得したメンテナンス許容値とを用いて、移動後
のメンテナンス候補日を計算する。
【0035】続いて、ステップS104では、ステップ
S103の結果から、移動可能な範囲内だけを選択でき
るように、それ以外の箇所をインセンシティブに般定す
る。
【0036】続いて、ステップS105では、オペレー
ション待ちである。
【0037】続いて、ステップS106では、ユーザに
より選択された移動後のメンテナンス予定日の日付と移
動前のメンテナンス予定日の差分日付を取得し、記憶す
る。
【0038】続いて、ステップS107では、ステップ
S106で取得した日付を新しいメンテナンス予定日と
して、メンテナンススケジュール情報を更新する。Dail
y 1を4/1から4/2へ移動した後、図10のダイヤ
ログが表示され、それ以降のスケジュールヘも移動差分
を反映するかどうかが選択できる。ここで、Yesボタン
(701)を押すと、それ以降のスケジュールを自動更
新処理する。また、Noボタン(702)を押すと、それ
以降のスケジュールには反映されず、この部分だけを移
動することになる。
【0039】図12は、図10でYesボタンを押した際
に、それ以降のメンテナンス予定日の自動更新処理を実
行する場合の制御手順の一例を示す。
【0040】スナッブS201では、メンテナンス設定
範囲(例えば、3ヶ月)内のメンテナンス予定日をすべ
て取得する。このメンテナンス設定範囲は、デフォルト
値が3ヶ月になっており、コンフィグレーションファイ
ルにより、変更可能である。
【0041】続いて、ステップS202では、取得した
メンテナンス予定日をメモリに展開する。
【0042】続いて、ステップS203では、記憶して
いる移動した際の差分日付を読み込む。
【0043】続いて、ステップS204では、現在のメ
ンテナンス予定日と差分日付から移動後のメンテナンス
予定日を計算する。
【0044】続いて、ステップS205では、計算した
移動後のメンテナンス予定日でスケジュール情報を更新
する。
【0045】以上により、一旦メンテナンススケジュー
ルを移動した後のメンテナンス予定日を自動的に更新す
ることが可能である。もちろん、図9と同様の処理で、
以降のスケジュールを手動でも移動可能である。
【0046】(第2の実施形態)第1の実施形態では露
光装置単独の場合を説明したが、本実施形態は、図13
のように、ネットワーク(LAN)上に、管理コンピュ
ータおよび複数の露光装置が接続された露光装置管理シ
ステムに関するものであり、管理コンピュータ、露光装
置それぞれに通信プログラムを投入することで、管理コ
ンピュータ側でのメンテナンススケジュールの表示、作
成、変更が可能となり、ネットワーク対応も可能であ
る。
【0047】図13において、管理コンピュータ(80
0)は、各装置のメンテナンススケジュール情報(80
1)と通信プログラム(802)を備え、ネットワーク
で接続された複数台の露光装置のメンテナンススケジュ
ールを表示、作成、変更が可能である。管理コンピュー
タ側で各装置のメンテナンススケジュールを作成、変更
した場合には、通信プログラム(802)により、LA
N(810)を介して、各露光装置に送信される。例え
ば、露光装置側では、通信プログラム(802)で管理
コンピュータ(800)からのスケジュールの作成、変
更を受信し、自身の持つスケジュール情報(803)を
更新する。その後、メンテナンススケジュールに従っ
て、メンテナンスエンジン(804)により、メンテナ
ンスメニューを起動し、メンテナンスを実施する。
【0048】また、露光装置側でも同様に、メンテナン
ススケジュールの表示、作成、変更が可能で、装置側で
スケジュールを作成、変更した場合も、通信プログラム
(802)から、LAN(810)を介して、管理コン
ピュータ(800)に送信され、管理コンピュータ(8
00)の通信プログラム(802)が受信し、各装置の
メンテナンス情報(801)を更新する。
【0049】本実施形態では、メンテナンススケジュー
ルの作成、変更通知に関して説明したが、メンテナンス
の結果を装置側から、管理コンピュータ(800)へ送
信することも可能である。
【0050】以上のことから、管理コンピュータおよび
各装置のどちらでもメンテナンススケジュールの表示、
作成、変更が可能となり、管理コンピュータおよび各装
置がそれぞれ作成通知、変更通知を出すことで、リアル
タイムにメンテナンス情報は更新され、メンテナンス情
報(スケジュールやメンテナンスの実行結果など)を管
理コンピュータ側で一括に管理することも可能である。
【0051】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、半導体
露光装置において、設定されたスケジュールにしたがっ
て、メンテナンスを実施する場合に、割り込みのロット
処理等で、メンテナンス実施日時にメンテナンスが実施
できない場合でも、設定した許容値の範囲内で、メンテ
ナンススケジュールを移動することができ、移動した日
付以降の後のメンテナンススケジュールも自動、手動で
設定することが可能となり、より柔軟な装置メンテナン
スのスケジュール作成を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示し、半導体露光装
置の概略を示す斜視図である。
【図2】図1に示した半導体露光装置の内部構造を示す
図である。
【図3】図1に示した半導体露光装置の電気回路構成を
示すブロック図である。
【図4】図1に示した半導体露光装置において、メンテ
ナンスメニューの作成、編集を行うメンテナンスメニュ
ー編集画面の平面図である。
【図5】図4のメンテナンスメニュー編集画面からポッ
プアップにより表示されるメンテナンススケジュール作
成画面の平面図である。
【図6】図4のメンテナンスメニュー編集画面からポッ
プアップにより表示されるメンテナンススケジュール作
成画面の平面図である。
【図7】メンテナンススケジュールを移動する際のメン
テナンススケジュール画面の平面図である。
【図8】メンテナンススケジュールを移動後のメンテナ
ンススケジュール画面の平面図である。
【図9】メンテナンス予定日を移動する際の移動処理の
手順を示すフローチャートである。
【図10】移動した日付以降のメンテナンススケジュー
ルへも反映するかどうかを確認するダイヤログの平面図
である。
【図11】移動した日付以降のメンテナンススケジュー
ルへも反映した場合のメンテナンススケジュール画面の
平面図である。
【図12】移動した日付以降のメンテナンススケジュー
ルを自動で更新するメンテナンス予定日自動更新処理の
手順を示すフローチャートである。
【図13】本発明の第2の実施形態を示し、メンテナン
ス管理コンピュータと複数の半導体露光装置とをネット
ワークを介して接続させた露光装置管理システムの模式
図である。
【符号の説明】
101 半導体露光装置本体を内蔵する温調チャンバ 102 EWS用ディスプレイ装置(ディスプレイ) 103 操作パネル 104 EWS用キーボード 105 モニタTV 106 EWS本体 107 ON−OFFスイッチ 108 非常停止スイッチ 109 各種スイッチ、マウス等 202 レチクル 203 ウエハ 204 光源装置 205 照明光学系 206 投影レンズ 207 レチクルステージ 213 フィルターボックス 321 CPU本体 330 コンソールユニット 331 コンソールCPU 332 外部メモリ 401 メンテナンスメニューのモード 402 メンテナンスメニュー番号 403 メンテナンスメニューのコメント 404 マクロリスト 405 マクロリストスクロールバー 406 コマンドリスト 407 コマンドリストスクロールバー 408 INSERTボタン 409 APPENDボタン 410 DELETEボタン 411 SAVEボタン 412 MAKE SCHEDULEボタン 501 対象メンテナンスメニュー表示 502 メンテナンス開始日入力部 503 メンテナンス実行間隔入力部 504 メンテナンス許容値入力部 511 OKボタン 512 QUITボタン 611 メンテナンススケジュール表 621 Prevボタン 622 Nextボタン 623 QUITボタン 701 Yesボタン 702 Noボタン 800 管理コンピュータ 801 各装置のメンテナンススケジュール情報 802 通信プログラム 803 メンテナンススケジュール情報 804 メンテナンスエンジン 810 ネットワーク(LAN)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 装置自身の持つ計測機能を単数または複
    数を組み合わせてメンテナンスメニューを作成し、前記
    メンテナンスメニューを起動することで、メンテナンス
    を実施する半導体露光装置において、 前記メンテナンスメニューの作成時に、メンテナンス実
    施予定にある許容値を設定する手段と、前記設定された
    メンテナンス許容値を記憶する手段と、メンテナンスス
    ケジュールを設定する手段と、前記メンテナンススケジ
    ュールを表示する手段と、さらに一度、前記メンテナン
    ススケジュールが決められた後でも、スケジュール通り
    にメンテナンスが実施できない場合に、メンテナンス予
    定日と前記メンテナンス許容値とを用いて、前記メンテ
    ナンススケジュールを再計算する計算手段とを有し、前
    記メンテナンス予定日を移動できることを特徴とする半
    導体露光装置。
  2. 【請求項2】 前記メンテナンス予定日を移動した日付
    以降の前記メンテナンススケジュールに関して、自動ま
    たは手動で移動差分を反映できることを特徴とする請求
    項1に記載の半導体露光装置。
  3. 【請求項3】 前記メンテナンススケジュールを表示す
    る手段において、前記メンテナンススケジュールを1週
    間単位の帳票形式で表示できることを特徴とする請求項
    1に記載の半導体露光装置。
  4. 【請求項4】 通信ネットワークを介して管理コンピュ
    ータと複数の前記請求項1〜3のいずれか1項に記載の
    半導体露光装置とを接続した露光装置管理システムであ
    って、 前記管理コンピュータと前記半導体露光装置とを相互に
    通信する手段を有し、前記管理コンピュータ側で、メン
    テナンス情報を一元管理できることを特徴とする露光装
    置管理システム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019208009A (ja) * 2018-05-29 2019-12-05 キヤノン株式会社 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、プログラム、および、物品製造方法
KR20210011861A (ko) * 2019-07-23 2021-02-02 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019208009A (ja) * 2018-05-29 2019-12-05 キヤノン株式会社 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、プログラム、および、物品製造方法
JP7336207B2 (ja) 2018-05-29 2023-08-31 キヤノン株式会社 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、プログラム、および物品製造方法
KR20210011861A (ko) * 2019-07-23 2021-02-02 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체
JP2021019142A (ja) * 2019-07-23 2021-02-15 株式会社Kokusai Electric 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
KR102356863B1 (ko) * 2019-07-23 2022-01-27 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체
US11342212B2 (en) 2019-07-23 2022-05-24 Kokusai Electric Corporation Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber maintenance enable state
US11355372B2 (en) 2019-07-23 2022-06-07 Kokusai Electric Corporation Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber to maintenance enable state
US11749550B2 (en) 2019-07-23 2023-09-05 Kokusai Electric Corporation Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber maintenance enable state

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