JP2003335670A - Adhesion-preventing agent - Google Patents

Adhesion-preventing agent

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JP2003335670A
JP2003335670A JP2003070126A JP2003070126A JP2003335670A JP 2003335670 A JP2003335670 A JP 2003335670A JP 2003070126 A JP2003070126 A JP 2003070126A JP 2003070126 A JP2003070126 A JP 2003070126A JP 2003335670 A JP2003335670 A JP 2003335670A
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JP
Japan
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group
compound
methylbenzo
adhesion
lower alkyl
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Application number
JP2003070126A
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Japanese (ja)
Inventor
Mizuo Miyazaki
宮崎瑞夫
Shinji Takai
高井真司
Masaji Sato
正次 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toa Eiyo Ltd
Original Assignee
Toa Eiyo Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a safe and effective adhesion-preventing agent without side effects to enhance the quality of daily life of a patient by preventing adhesion after operation. <P>SOLUTION: This adhesion-preventing agent contains an N-substituted benzothiophenesulfonamide derivative having a specific structure or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、新規なキマーゼ阻
害剤であるN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導
体及びその薬学的に許容しうる塩を有効成分とする癒着
防止剤に関する。 【0002】 【従来の技術】ヒトを含む哺乳動物の体内での組織癒着
は、消化器科、循環器科、整形外科、婦人科、眼科など
での外科手術の後に生じ、術後患者への痛みを伴うとと
もに、予後に大きな影響を与えるものである。例えば、
開腹手術の場合、術後に腹腔内臓器、すなわち腹壁、腸
管などが相互に癒着する現象が生じ、腸閉塞の原因とも
なり、再手術が必要となる症例もある。婦人科領域で
は、感染症や骨盤内手術を行った患者に術後癒着が発生
し、卵管閉塞による不妊の原因となることがある。心臓
外科の領域においても、癒着により再手術が制約される
場合や再手術時の出血が問題となることがある。眼科領
域では、器質的な癒着や術後癒着が発生すると眼圧コン
トロール不全を含め、Quality of visi
onの維持が困難になる。 【0003】術後の癒着防止法として、種々の薬剤や特
殊な膜を用いる試みがなされている。癒着を防止する薬
剤としては、創面被覆作用を有する高分子多糖類、例え
ばアルギン酸ナトリウム、コンドロイチン硫酸ナトリウ
ム、高分子デキストラン及びヒアルロン酸ナトリウムが
挙げられ、卵管整形術後の癒着防止剤として、デキサメ
タゾン、トリアムシノロンアセトニドなどの糖質コルチ
コイドが使用されている。膜状物としては、ゼラチンを
用いたフィルム又はスポンジ(ゼルフィルム、ゼルフォ
ーム(登録商標))、ポリテトラフルオロエチレンのシ
ート(ゴアテックス(登録商標))、カルボキシメチル
セルロースなどで修飾したヒアルロン酸のシート(セプ
ラフィルム(登録商標))が使用されている。しかし、
いずれの薬剤等も効果の面で十分とはいえないのが現状
である。 【0004】一方、キマーゼは、肥満細胞顆粒中に存在
するセリンプロテアーゼの一種であるが、肥満細胞の脱
顆粒により分泌され、心臓、血管、皮膚などにおいて長
期に酵素活性を発揮して様々な生体反応に関与している
ことが知られている。キマーゼが心臓や血管などで、ア
ンギオテンシンII(以下、AngIIという)の産生
に関与しているといわれ(非特許文献1)、さらに心臓
や血管で産生されるAngII量の7〜8割がキマーゼ
によるものであること(非特許文献2)が示されたこと
から、キマーゼ阻害剤は、AngII産生の異常亢進に
起因する心臓・循環器系疾患の予防・治療剤として期待
されている。また、キマーゼは、肥満細胞の脱顆粒促
進、インターロイキン−1βの活性化、マトリックスメ
タロプロテアーゼの活性化などの多様な作用を有してい
ることから、様々な炎症性アレルギー疾患においてキマ
ーゼが新たな役割を果たしている可能性が示唆されてい
る。なお、最近になって、キマーゼ阻害剤であるペプチ
ドSuc−Val−Pro−PheP(OPh)2が、ハ
ムスター癒着モデルで子宮擦過後の臓器の癒着を抑制し
たこと(非特許文献3)、及びイヌ繊維柱帯切除モデル
で濾過胞部の癒着を抑制したこと(非特許文献4)が報
告されている。また、キナゾリン誘導体であるキマーゼ
阻害剤が細胞外基質代謝異常の改善により、外科手術後
の癒着防止に利用できることが示唆されている(特許文
献1)。 【0005】 【非特許文献1】「サーキュレーション・リサーチ(Ci
rculation Research)」、(米国)、アメリカン・ハー
ト・アソシエイション(American Heart Association)、
1990年、第66巻、p.883 【非特許文献2】「ザ・ジャーナル・オブ・バイオロジ
カル・ケミストリー(The Journal of biological chem
istry)」、(米国)、アメリカン・ソサイアティ・フ
ォー・バイオケミストリー・アンド・モレキュラー・バ
イオロジー(American Society for Biochemistry and M
olecular Biology)、1990年、第265巻、p.2
2348 【非特許文献3】「ヨーロピアン・ジャーナル・オブ・
ファーマコロジー(European journal of pharmacolog
y)」、(オランダ)、エルゼヴィア・サイエンス(Elsev
ier Scince)、2002年、第435巻、p.265 【非特許文献4】日本眼科学会雑誌、2002年、第1
06巻(臨時増刊号)、p.131 【特許文献1】国際公開第01/62292号パンフレ
ット 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、手術後の癒
着を防止して、患者の日常生活の質を高めるため、副作
用がなく安全であり、有効な癒着防止剤を提供すること
を目的とする。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討した結果、新規なキマーゼ阻
害剤であるN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導
体又はその薬学的に許容しうる塩が、手術後に惹起され
る癒着を防止することを見出し、本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明は、一般式(I) 【0008】 【化5】 【0009】[式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又
は低級アルキル基を、R2は低級アルキル基を、R3及び
4はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、ベ
ンゾイル基、炭素数1〜4のアシル基、低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニルメチルチオアセチル基、
ニトロ基、−CONHR6(式中、R6は水素原子、低級
アルコキシカルボニルメチル基、カルボキシメチル基又
は−CH(CH2OH)COOR7(式中、R7は水素原
子又は低級アルキル基を示す)を示す)、 【0010】 【化6】 【0011】で表される基(式中、R7は前記と同義で
ある)、 【化7】 【0012】で表される基(式中、R8及びR9はそれぞ
れ異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、低
級アルキルスルファニル基、低級アルキルスルフィニル
基、低級アルキルスルホニル基又は低級アルコキシカル
ボニル基を示す)、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ
基又は 【0013】 【化8】 【0014】(Aは、酸素原子、硫黄原子又はNHを、
点線部分は単結合又は二重結合を示す)で表される単環
複素環基(ただし、環上の水素原子は、ハロゲン原子で
置換されていてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボ
ニル基又はカルボキシル基で置換されていてもよい。)
を示す(ただし、R3とR4は同時に水素原子ではな
い)。R5は水素原子、低級アルコキシ基又は低級アル
キル基を示す]により表されるN置換ベンゾチオフェン
スルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容される塩を
有効成分として含有することを特徴とする癒着防止剤に
関するものである。 【0015】本発明の一般式(I)で表されるN置換ベ
ンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に
許容しうる塩は、キマーゼに対して強力な阻害活性を有
する新規なキマーゼ阻害剤であり、本発明において新た
に癒着防止剤として有用であることを見出した。 【0016】 【発明の実施の形態】R1のハロゲン原子としては、例
えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が
挙げられ、なかでもフッ素原子又は塩素原子が好まし
い。R1、R2、R5、R7、R8及びR9の低級アルキル基
としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基又はtert−ブチル基が挙げられ、なかでもメチ
ル基又はエチル基が好ましい。 【0017】R3、R4、R8及びR9の低級アルコキシカ
ルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプ
ロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブ
トキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基又
はtert−ブトキシカルボニル基が挙げられ、なかで
もメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソ
プロポキシカルボニル基又はtert−ブトキシカルボ
ニル基が好ましい。R3、R4、R8及びR9の低級アルキ
ルスルホニル基としては、例えばメタンスルホニル基、
エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、イソプロ
パンスルホニル基、ブタンスルホニル基、イソブタンス
ルホニル基、sec−ブタンスルホニル基又はtert
−ブタンスルホニル基が挙げられ、なかでもメタンスル
ホニル基又はエタンスルホニル基が好ましい。 【0018】R3及びR4の炭素数1〜4個のアシル基と
しては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基又はイソブチリル基が挙げられ、なかで
もアセチル基が好ましい。R3、R4及びR5の低級アル
コキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブト
キシ基、sec−ブトキシ基又はtert−ブトキシ基
が挙げられ、なかでもメトキシ基又はエトキシ基が好ま
しい。R3及びR4の低級アルコキシカルボニルメチルチ
オアセチル基としては、例えばメトキシカルボニルメチ
ルチオアセチル基、エトキシカルボニルメチルチオアセ
チル基、プロポキシカルボニルメチルチオアセチル基、
イソプロポキシカルボニルメチルチオアセチル基、ブト
キシカルボニルメチルチオアセチル基、イソブトキシカ
ルボニルメチルチオアセチル基、sec−ブトキシカル
ボニルメチルチオアセチル基又はtert−ブトキシカ
ルボニルメチルチオアセチル基が挙げられ、なかでもメ
トキシカルボニルメチルチオアセチル基又はエトキシカ
ルボニルメチルチオアセチル基が好ましい。 【0019】R3及びR4が−CONHR6である場合、
6の低級アルコキシカルボニルメチル基としては、例
えばメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポ
キシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル
基、イソブトキシカルボニルメチル基、sec−ブトキ
シカルボニルメチル基又はtert−ブトキシカルボニ
ルメチル基が挙げられ、なかでもメトキシカルボニルメ
チル基、エトキシカルボニルメチル基又はイソプロポキ
シカルボニルメチル基が好ましい。R3及びR4のヒドロ
キシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチル
基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒド
ロキシブチル基等の炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状
のものが挙げられ、なかでもヒドロキシメチル基又はヒ
ドロキシエチル基が好ましい。R8及びR9の低級アルキ
ニルスルファニル基としては、例えばメチルスルファニ
ル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル
基、ブチルスルファニル基等の炭素数1〜4個の直鎖状
又は分枝状のものが挙げられ、なかでもメチルスルファ
ニル基又はエチルスルファニル基が好ましい。R8及び
9の低級アルキルスルフィニル基としては、例えばメ
タンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパン
スルフィニル基、ブタンスルフィニル基等の炭素数1〜
4個の直鎖状又は分枝状のものが挙げられ、なかでもメ
タンスルフィニル基又はエタンスルフィニル基が好まし
い。 【0020】 【化9】 【0021】で表される基としては、例えばビニル基、
メチルスルファニルビニル基、メタンスルフィニルビニ
ル基又は2−メタンスルフィニル−2−メチルスルファ
ニルビニル基が好ましい。 【0022】 【化10】 【0023】の環上の水素原子を置換していてもよい低
級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基及び低級ア
ルコキシカルボニル基の意義は、前記と同様である。ま
た、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル
基とは、前記の低級アルキル基のほかに、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換された低級ア
ルキル基をいい、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジ
クロロメチル基、1−クロロエチル基などが挙げられ
る。 【0024】ハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル基又はカルボキシル基
は、複素環上にそれぞれ異なってもよく、1又は2個置
換することができる。 【0025】 【化11】 【0026】(Aは、酸素原子、硫黄原子又はNHを、
点線部分は単結合又は二重結合を示す)で表される単環
複素環基は、例えば、 【0027】 【化12】 が挙げられる。 【0028】環上の水素原子が、ハロゲン原子で置換さ
れていてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒ
ドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基
又はカルボキシル基で置換されていてもよい、 【0029】 【化13】 【0030】(Aは、酸素原子、硫黄原子又はNHを、
点線部分は単結合又は二重結合を示す)で表される単環
複素環基の具体例としては、 【0031】 【化14】 【0032】が好ましく、またこれらの置換基はR4
して置換されていることが好ましい。また、このとき、
3がメタンスルホニル基であり、R5が水素原子である
ことが、さらに好ましい。 【0033】なお、具体的な化合物の例としては、メチ
ル 4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ[b]チオフ
ェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニル
ベンゾエート、メチル 4−(5−クロロ−3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3
−メタンスルホニルベンゾエートナトリウム塩、イソプ
ロピル 4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ[b]チ
オフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホ
ニルベンゾエート、5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−アセチル−2
−メタンスルホニルフェニル)アミド、5−クロロ−3
−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4
−ベンゾイル−2−メタンスルホニルフェニル)アミ
ド、エチル 4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタ
ンスルホニルベンゾエート、tert−ブチル 4−
(5−クロロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2
−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエ
ート、メチル 4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−エタ
ンスルホニルベンゾエート、メチル4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−5−メタンスルホニル−2−メチルベンゾエー
ト、ジメチル 4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)イソフタレ
ート、メチル 4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メト
キシベンゾエート、メチル 4−(5−クロロ−3−メ
チルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)
−3−ニトロベンゾエート、エチル 4−(5−クロロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)ベンゾエート、5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホン酸(2,4−ジメタン
スルホニルフェニル)アミド、5−クロロ−3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−アセチ
ル−2−ニトロフェニル)アミド、5−クロロ−3−メ
チルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−ヒ
ドロキシメチル−2−メタンスルホニルフェニル)アミ
ド、5−クロロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−
2−スルホン酸(4−ベンゾイルフェニル)アミド、5
−クロロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−ス
ルホン酸(2−メタンスルホニルフェニル)アミド、メ
チル 4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チ
オフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホ
ニルベンゾエート、メチル 4−(5−メチル−3−メ
チルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)
−3−メタンスルホニルベンゾエート、5−フルオロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸
(4−アセチル−2−メタンスルホニルフェニル)アミ
ド、メチル 4−(3−メチルベンゾ[b]チオフェン
−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルベン
ゾエート、2−[4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタ
ンスルホニルフェニル]オキサゾール−4−カルボン酸
メチルエステル、2−[4−(5−フルオロ−3−メチ
ルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−
3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾール−4−カ
ルボン酸メチルエステル、2−[4−(5−クロロ−3
−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミ
ノ)−3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾール−
4−カルボン酸、2−[4−(5−フルオロ−3−メチ
ルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−
3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾール−4−カ
ルボン酸、2−[4−(5−クロロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタ
ンスルホニルフェニル]オキサゾール−4−カルボン酸
二ナトリウム塩、2−[4−(5−フルオロ−3−メチ
ルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−
3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾール−4−カ
ルボン酸二ナトリウム塩、5−フルオロ−N−(2−メ
タンスルホニル−4−オキサゾール−5−イルフェニ
ル)−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホ
ンアミド、2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベン
ゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メ
タンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン
酸、2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタ
ンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン酸メ
チルエステル、5−フルオロ−N−[4−(4−ヒドロ
キシメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホ
ニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−
2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタン
スルホニル−4−(4−メチルチアゾール−2−イル)
フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−
スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスル
ホニル−4−(2−メチルチアゾール−4−イル)フェ
ニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スル
ホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニ
ル−4−(5−メチルチアゾール−2−イル)フェニ
ル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホ
ンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル
−4−(5−メトキシ−4−メチルチアゾール−2−イ
ル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−
2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタン
スルホニル−4−(4,5−ジメチルチアゾール−2−
イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン
−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[4−(4
−ヒドロキシメチルオキサゾール−2−イル)−2−メ
タンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チ
オフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−
[2−メタンスルホニル−4−(4−メチルオキサゾー
ル−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チ
オフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−
[2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メ
チルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フ
ルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(4,5−
ジメチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メ
チルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5
−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−
メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチ
ルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−
フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−((E)
−2−メタンスルフィニル−2−メチルスルファニル−
ビニル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェ
ン−2−スルホンアミドが挙げられる。 【0034】次に、本発明のN置換ベンゾチオフェンス
ルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩の製
造法について説明する。本発明の一般式(I)の化合物
は、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造
することができる。 【0035】 【化15】 【0036】すなわち、化合物(III)で示されるア
ミンをジオキサン、テトラヒドロフラン(以下、THF
と略す)、アセトン、ジメチルホルムアミド(以下、D
MFと略す)、ジメチルスルホキシド(以下、DMSO
と略す)、クロロホルム、ピリジン等又はそれらの混合
溶媒中、−10℃から溶媒の沸点温度までの範囲でナト
リウムアミド、リチウムアミド、水素化ナトリウム、炭
酸カリウム、カリウムtert−ブトキシド、トリエチ
ルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7
−エン(以下、DBUと略す)等の塩基存在下、スルホ
ニルクロリド(II)と反応させることにより製造する
ことができる。なお、一般式(I)の化合物のR3が低
級アルキルスルホニル基、R5が水素原子であり、R
4が、 【0037】 【化16】 【0038】である場合(式中、Aは一般式(I)と同
義であり、R10及びR11はそれぞれ異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい低
級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル基又はカルボキシル
基を示す)には、下記に示す製造法によって製造するこ
ともできる。この場合、R11が水素原子以外の置換基を
有する化合物の場合には、一般式(I)の化合物は、下
記に示す反応式で説明される製造法によって製造するこ
ともできる。 【0039】 【化17】 【0040】すなわち、文献既知の方法(J.Med.
Chem.,40,2017(1997))に従い4−
クロロ安息香酸から合成した化合物(IV)で示されるア
ミン(式中、R12及びR13は低級アルキル基を示す)を
ジオキサン、THF、アセトン、DMF、DMSO、ク
ロロホルム、ピリジン等又はそれらの混合溶媒中、−1
0℃から溶媒の沸点温度までの範囲でナトリウムアミ
ド、リチウムアミド、水素化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、カリウム tert−ブトキシド、トリエチルアミ
ン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、DBU等
の塩基存在下、スルホニルクロリド(II)と反応さ
せ、化合物(V)を得た(工程B)後、エステル加水分
解により化合物(VI)を得る(工程C)。次に、化合物
(VI)と一般式(VII)で示されるアミン(R14は水素
原子又は低級アルキル基を、R15は低級アルキル基又は
低級アルコキシ基を示す)をトリエチルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、DBU等の塩基存在下、N,
N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド(以下、DCC
と略す)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロ
ピルカルボジイミド(以下、EDCと略す)等の縮合剤
を用いて反応させ化合物(VIII)を得た(工程D)後、
オキシ塩化リン又は五硫化二リンを用いて化合物(I
a)を得る(工程E)ことにより製造することができ
る。 【0041】さらに、R11が水素原子である化合物の場
合には、一般式(I)の化合物は、下記に示す反応式で
説明される製造法によって製造することもできる。 【0042】 【化18】 【0043】すなわち、化合物(VI)とセリンエステ
ル塩酸塩、システインエステル塩酸塩又はS−トリチル
システインエステル等をトリエチルアミン、エチルジイ
ソプロピルアミン、DBU等の塩基存在下、EDC等の
縮合剤を用いて反応させて得た化合物(IX)(式中、
16はトリチル基等の保護基を有してもよいヒドロキシ
メチル基又はメルカプトメチル基等を表し、R17は低級
アルキル基を示す)を、文献既知の方法(Tetrah
edron.Letters.,33,907(199
2)、J.Org.Chem.,38,26(197
3)、J.Org.Chem.,58,4494(19
93)、Org.Lett.,2,1165(200
0)、Tetrahedron.Letters.,4
2,4171(2001))に従って化合物(Ib)を
得る(工程F及びG)。さらにエステル基の還元により
ヒドロキシメチル基に変換することにより化合物(I
c)を製造することができる(工程H)。また、化合物
(Ic)をハロゲン化することにより化合物(Id)
(R18はハロゲン原子を示す)を製造することができ
(工程I)、さらに化合物(Id)のハロゲン原子の還
元によりメチル基に変換することにより化合物(Ie)
を製造することができる(工程J)。なお、化合物(I
b)をエステル加水分解することにより化合物(If)
を製造することができる(工程K)。 【0044】 【化19】 【0045】また、一般式(I)の化合物のR3が低級
アルキルスルホニル基、R5が水素原子であり、R4が、 【0046】 【化20】 【0047】である場合(R19及びR20はそれぞれ異な
っていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換されて
いてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロ
キシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基又は
カルボキシル基を示す)には、一般式(I)の化合物
は、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造
することもできる。 【0048】 【化21】 【0049】すなわち、化合物(XI)(式中、R12
前記と同義である)から、文献既知の方法(特開200
0−256262号)に従い化合物(XII)(式中、R
21はハロゲン原子を示す)を得る(工程L)。さらにチ
オアセトアミド又はホルムアミドにより閉環させること
により化合物(Ig)を製造することができる(工程
M)。なお、一般式(I)の化合物のR3が低級アルキ
ルスルホニル基、R5が水素原子であり、R4が、 【0050】 【化22】 【0051】である場合には、下記に示す反応式で説明
される製造法によって製造することができる。 【0052】 【化23】 【0053】すなわち、化合物(V)(式中、R12は前
記と同義である)のエステル基を還元し、続いて酸化す
ることによりアルデヒド基に変換した化合物(XIV)を
得(工程N、O)、文献既知の方法(Bull.Che
m.Soc.Jpn.,52,2013(1979))
に従い化合物(Ih)を製造することができる(工程
P)。 【0054】このようにして生成された一般式(I)の
化合物は、再結晶やカラムクロマトグラフィー等の慣用
的手段により単離精製することができる。本発明の一般
式(I)の化合物は、常法により薬学的に許容しうる酸
又は塩基との塩、化合物によって塩酸塩、臭化水素酸
塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩等の無機
酸との塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、シュウ酸塩、
フマル酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メシル酸塩、ト
シル酸塩等の有機酸との塩、ナトリウム塩、カリウム塩
等のアルカリ金属との塩、カルシウム塩等のアルカリ土
類金属との塩に導くことができる。 【0055】一般式(I)の化合物には、不斉炭素原子
に基づく光学異性体が存在する場合がある。本発明に
は、これらの各種異性体の単離されたもの及びこれら異
性体の混合物が含まれる。また、一般式(I)の化合物
には、水和物、各種溶媒和物が含まれる。一般式(I)
の化合物にはそれらの結晶形がすべて包含される。一般
式(I)の化合物又はその薬学的に許容しうる塩は、経
口的又は非経口的に投与することができる。投与のため
の剤形は、薬学的に許容される添加剤としては、賦形
剤、結合剤、緩衝剤、増粘剤、安定化剤、乳化剤、分散
剤、懸濁化剤、防腐剤等を添加することができ、通常の
方法により製剤化することができる。 【0056】経口投与用製剤としては、例えば錠剤(糖
衣錠、フィルムコーティング錠を含む)、丸剤、顆粒
剤、散剤、カプセル剤(ソフトカプセル剤を含む)、液
剤、シロップ剤、乳剤、懸濁剤等が挙げられる。この経
口投与用製剤は製剤分野において通常用いられる添加剤
を配合し、公知の方法に従って製造することができる。
このような添加剤としては、例えば乳糖、マンニトー
ル、無水リン酸水素カルシウム等の賦形剤、ヒドロキシ
プロピルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピ
ロリドン等の結合剤、でんぷん、カルボキシメチルセル
ロース等の崩壊剤、ステアリン酸マグネシウム、タルク
等の滑沢剤等が用いられる。 【0057】非経口的には、注射剤、直腸投与製剤、局
所投与剤等として投与することができる。注射剤として
は、例えば無菌の溶液又は懸濁液等が挙げられる。これ
らの注射剤は例えば一般式(I)の化合物又はその薬学
的に許容しうる塩を日局注射用水に溶解又は懸濁するこ
とにより製造される。必要により塩化ナトリウム等の等
張化剤、リン酸水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウ
ム等の緩衝剤、溶解補助剤等を配合してもよい。また、
用時溶解型(粉末充填、凍結乾燥)の注射剤とすること
ができ、この場合、マンニトール、乳糖などの賦形剤を
添加して、通常の方法で製造することができる。 【0058】直腸投与製剤としては坐剤等が挙げられ
る。坐剤は例えば一般式(I)の化合物又はその薬学的
に許容しうる塩をカカオ脂、マクロゴール等の基剤に溶
解又は懸濁した後、鋳型に注いで成形して製造される。
また、液又はクリームを注入用の容器に入れ、直腸投与
製剤とすることもできる。局所投与製剤は液剤、点眼
剤、クリーム、軟膏、ゲル製剤、スプレー剤、粉剤等が
挙げられる。液剤は、一般式(I)の化合物又はその薬
学的に許容しうる塩を水に加え、安定化剤、溶解剤、増
粘剤、分散剤、懸濁化剤等を必要に応じて加えて製造す
ることができる。この増粘剤としては、ゼラチン、ヒア
ルロン酸ナトリウム、高分子デキストラン、アルギン酸
ナトリウム、コンドロイチン硫酸ナトリウムなどを用い
ることができる。点眼剤は、緩衝剤、pH調整剤、等張
化剤のほかに防腐剤を加えて製造することができる。ク
リーム及び軟膏は、水性又は油性の基剤、例えば水、流
動パラフィン、植物油(ピーナッツ油、ひまし油等)、
マクロゴールなどを用いて製造することができる。ゲル
製剤は、公知の方法により、ゼラチン、ペクチン、カラ
ゲナン、寒天、トラガント、アルギン酸塩、セルロース
エーテル(メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメ
チルセルロースなど)、ペクチン誘導体、ポリアクリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコールおよ
びポリビニルピロリドンなどを用いて製造することがで
きる。スプレー剤は、一般式(I)の化合物又はその薬
学的に許容しうる塩を水などに溶解又は懸濁した後、ス
プレー容器に入れて製造することができる。粉剤とする
場合は、一般式(I)の化合物又はその薬学的に許容し
うる塩をそのまま使用することもできるが、適当な賦形
剤と混合して製造することができる。また、一般式
(I)の化合物又はその薬学的に許容しうる塩を、ゼラ
チンスポンジ、ヒアルロン酸等のシートなどに溶液とし
て含ませて投与することもでき、また、予めコーティン
グして投与することもできる。 【0059】一般式(I)の化合物又はその薬学的に許
容しうる塩の成人1日当たりの投与量は、経口投与の場
合には、約10μgから1gが適切であり、約100μ
gから100mgが好ましい。注射剤として投与する場合
には、経口投与の10分の1量から2分の1量を投与す
ればよい。また、手術部に直接局所投与する場合には、
1ngから1gを投与すればよい。これらの投与量は、患
者の手術の状況や体重、年齢等により適宜増減すること
が可能である。一般式(I)の化合物又はその薬学的に
許容しうる塩の毒性は低く、6週齢の雄性ラットに対す
る経口投与(単回、300mg/kg)後3日間の観察で、
特記すべき毒性所見はなく、これらの化合物の安全性は
高いと判断される。 【0060】 【実施例】以下に、実施例及び試験例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定さ
れるものではない。 【0061】[参考例1][4−(5−フルオロ−3−
メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミ
ノ)−3−メタンスルホニル]安息香酸 化合物17 24.8gをメタノール500mLに溶解
し、1mol/L水酸化ナトリウム50mLを加えた。加
熱還流下3時間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られた残
渣に水を加えエーテルで洗浄した。水層に2mol/L
塩酸を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣をエーテル洗浄し、無色粉末
として標題化合物14.3gを得た。 融点:290℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.66(3H,s),3.05(3H,s),6.76
(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.45(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.
75(1H,dd,J=4.6,9.0Hz),7.82(1H,d,J=8.8Hz),8.17
(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.49(1H,d,J=2.0Hz). IR νmax(KBr):3239,2925,1687,1609,1501,1442,142
1,1400,1356,1287,1161 cm-1. 【0062】[参考例2](2S)−2−[4−(5−
フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−ス
ルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニルカル
ボキシアミド]プロピオン酸メチルエステル L−アラニンメチルエステル塩酸塩3.78gをジクロ
ロメタン100mLに懸濁し、0℃にてトリエチルアミン
3.8mLを加えた。ここに、参考例1の化合物10.0
gのジクロロメタン懸濁液100mLを加えた。同温にて
5分間撹拌後、EDC塩酸塩5.19gを加え、室温に
て19時間撹拌した。1mol/L塩酸にて反応を停止
した後、ジクロロメタン層を分離し、溶媒を減圧留去し
て得られた残渣に酢酸エチル−THF混合溶液(1:
1)を加え水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた
残渣をメタノールにて洗浄し、無色粉末として標題化合
物9.22gを得た。 融点:162−163℃1 H-NMR(CDCl3):δ 1.49 (3H, d, J=7.3Hz), 2.69 (3
H, s), 3.07 (3H, s),3.79 (3H, s), 4.74 (1H,dq,J
=7.3,7.3Hz), 6.96 (1H,d,J=7.3Hz), 7.28 (1H,ddd,J
=2.4,8.6,8.8Hz),7.47 (1H,dd,J=2.4, 9.2Hz), 7.77
(1H,dd,J=4.7,8.8Hz), 7.81 (1H,d,J=8.7Hz), 7.89
(1H,dd,J=2.0,8.7Hz), 8.25 (1H,d,J=2.0Hz), 9.71
(1H,s). IR νmax(KBr):3323,3222,3068,3003,2924,1737,163
6,1607,1496,1306,1165,924 cm-1. 【0063】[参考例3]4−(5−フルオロ−3−メ
チルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)
−3−メタンスルホニルベンズアルデヒド 化合物75 830mgを酢酸エチル25mLに溶解し、活
性二酸化マンガン4.15gを加え、室温で5時間攪拌
した。反応溶液を酢酸エチルで希釈し、セライト濾過を
行い、二酸化マンガンを除去した。溶媒留去し、無色粉
末として標題化合物696mgを得た。 融点:167-170℃1 H-NMR(CDCl3) :δ 2.70(3H,s), 3.10(3H, s),
7.31(1H, ddd, J=2.4, 8.7, 9.0Hz), 7.48(1H, dd, J=
2.4, 9.0Hz), 7.78(1H, dd J=4.5, 9.0Hz), 7.96(1
H, d, J=8.7Hz), 8.06(1H, dd, J=2.1, 8.7Hz), 8.36
(1H, d, J=2.1Hz),9.90(1H, s), 9.92(1H, s). IR νmax(KBr) : 3260,1694,1602,1496,1308,1164,91
2 cm-1. 【0064】[製造例1]メチル 4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエート(化合物
1)の合成 メチル 4−アミノ−3−メタンスルホニルベンゾエー
ト985mgをTHF20mL及びDMF3mLの混合
溶媒に溶解し、0℃にて水素化ナトリウム(油状、60
%)170mgを加えた。同温にて20分間撹拌後、0
℃にて5−クロロ−2−クロロスルホニル−3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン1.28gを加え、室温にて1
時間撹拌した。さらに室温にて水素化ナトリウム(油
状、60%)150mgを加え、同温にて2時間撹拌し
た。原料消失を確認後、0℃にて飽和塩化アンモニウム
水を加えて反応を停止した後、酢酸エチルにて抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて
乾燥した。溶媒留去後、シリカゲルクロマトグラフィー
(酢酸エチル:ヘキサン=3:1)にて精製し、無色粉
末として標題化合物911mgを得た。 融点:179−181℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.70(3H,s),3.06(3H,s),3.90
(3H,s),7.48(1H,dd,J=2.1,8.6Hz),7.74(1H,d,J=8.
6Hz),7.89(1H,d,J=2.1Hz),7.86(1H,d,J=8.8Hz),8.
19(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.50(1H,d,J=2.0Hz),9.84
(1H,s). IR νmax(KBr):3217,1720,1608,1504,1442,1392,130
8,1165,1119 cm-1. 【0065】[製造例2]エチル 4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエート(化合物
2)の合成 製造例1と同様にしてエチル 4−アミノ−3−メタン
スルホニルベンゾエート559mgから無色粉末として
標題化合物529mgを得た。 融点:167−169℃1 H-NMR(CDCl3):δ 1.36(3H,t,J=7.1Hz),2.70(3H,
s),3.06(3H,s),4.36(2H,q,J=7.1Hz),7.47(1H,dd,
J=2.0,8.8Hz),7.74(1H,d,J=8.8Hz),7.78(1H,d,J=2.
0Hz),7.86(1H,d,J=8.8Hz),8.19(1H,dd,J=2.0,8.8H
z),8.50(1H,d,J=2.0Hz),9.83(1H,brs). IR νmax(KBr):3224,2985,1716,1608,1500,1358,130
0,1142 cm-1. 【0066】[製造例3]tert−ブチル 4−(5
−クロロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−ス
ルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエート
(化合物3)の合成 製造例1と同様にしてtert−ブチル 4−アミノ−
3−メタンスルホニルベンゾエート128mgから無色
粉末として標題化合物148mgを得た。 融点:236-238℃1 H-NMR(CDCl3):δ 1.54(9H,s),2.52(3H,s),3.28
(3H,s),7.55-7.80(4H,m),8.00(1H,s),8.25-8.30
(1H,m). IR νmax(KBr) :3467,2974,2327,1705,1662,1597,147
7,1396,1296,1130,1099cm-1. 【0067】[製造例4]メチル 4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−エタンスルホニルベンゾエート(化合物
4)の合成 製造例1と同様にしてメチル 4−アミノ−3−エタン
スルホニルベンゾエート76mgから無色粉末として標
題化合物80mgを得た。 融点:172-173℃1 H-NMR(CDCl3):δ 1.27(3H,t,J=7.3Hz),2.74(3H,
s),3.24(2H,q,J=7.3Hz),3.77(3H,s),7.20-7.31(2
H,m),7.43-7.56(3H,m),8.31(1H,s). IR νmax(KBr):3482,3217,2931,1709,1597,1481,143
9,1284,1126 cm-1. 【0068】[製造例5]メチル 4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−5−メタンスルホニル−2−メチルベンゾエー
ト(化合物5)の合成 メチル 4−アミノ−5−メタンスルホニル−2−メチ
ルベンゾエート135mgをTHF(10mL)に溶解
し、室温にて水素化ナトリウム(油状、60%)22m
gを加えた。同温にて20分間撹拌後、0℃にて5−ク
ロロ−2−クロロスルホニル−3−メチルベンゾ[b]
チオフェン130mgを加え、室温にて1時間撹拌後、
5時間加熱還流した。さらにDMF(1mL)、水素化
ナトリウム(油状、60%)22mg及び5−クロロ−
2−クロロスルホニル−3−メチルベンゾ[b]チオフ
ェン50mgを加え、2.5時間加熱還流した。原料消
失を確認後、0℃にて飽和塩化アンモニウム水を加えて
反応を停止した後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
溶媒留去後、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル:ヘキサン=3:2)にて精製し、無色粉末として標
題化合物102mgを得た。 融点:205−207℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.65(3H,s),2.71(3H,s),3.04
(3H,s),3.87(3H,s),7.49(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.
68(1H,s),7.77(1H,d,J=8.6Hz),7.80(1H,d, J=2.0H
z),8.42(1H,s),9.73(1H,s). IR νmax(KBr):3259,1728,1604,1554,1504,1439,138
5,1354,1300,1257,1157,1092 cm-1. 【0069】[製造例6]ジメチル 4−(5−クロロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)イソフタレート(化合物6)の合成 ジメチル 4−アミノイソフタレート115mgをTH
F8mLに溶解し、水素化ナトリウム(油状、60%)
22mgを加え、室温にて20分間攪拌した後、同温に
て5−クロロ−2−クロロスルホニル−3−メチルベン
ゾ[b]チオフェン130mgを加え、室温にて30分
間攪拌した。さらに水素化ナトリウム(油状、60%)
26mgを加え、6時間加熱還流した。原料消失を確認
後、0℃にて飽和塩化アンモニウム水を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒留去
後、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキ
サン=1:1)にて精製し、淡黄色アモルファスとして
標題化合物62mgを得た。1 H-NMR(CDCl3):δ 2.64(3H,s),3.88(3H,s),3.95
(3H,s),7.44(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),7.71(1H,d,J=8.
8Hz),7.74(1H,d,J=2.0Hz),7.86(1H,d,J=8.8Hz),8.
11(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.63(1H,d,J=2.0Hz). IR νmax(KBr):3440,3140,2954,1724,1693,1608,150
0,1439,1331,1246,1165,1119 cm-1. 【0070】[製造例7]メチル 4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メトキシベンゾエート(化合物7)の合成 メチル 4−アミノ−3−メトキシベンゾエート120
mg及び5−クロロ−2−クロロスルホニル−3−メチ
ルベンゾ[b]チオフェン150mgをピリジン4mL
に溶解し、室温で14時間攪拌した。原料消失を確認
後、0℃にて水を加えて反応を停止した後、酢酸エチル
にて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムにて乾燥した。溶媒留去後、シリカゲルクロマ
トグラフィー(クロロホルム:メタノール=9:1)に
て精製し、無色アモルファスとして標題化合物110m
gを得た。1 H-NMR(CDCl3):δ 2.55(3H,s),3.79(3H,s),3.86
(3H,s),7.42(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.45(1H,dd,J=
2.0,8.6 Hz),7.61(1H,d,J=2.0Hz),7.62(1H,d,J=8.6
Hz),7.68(1H,d,J=8.6Hz),7.71(1H,d,J=2.0Hz). IR νmax(KBr):3248,2951,1716,1601,1512,1439,135
0,1284,1242,1161,1115cm-1. 【0071】[製造例8]メチル 4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−ニトロベンゾエート(化合物8)の合成 製造例6と同様にしてメチル 4−アミノ−3−ニトロ
ベンゾエート122mgから黄色粉末として標題化合物
146mgを得た。 融点:164−165℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2,47(3H,s),3.84(3H,s),7.56
(1H,d,J=8.6Hz),7.57(1H,brd,J=8.6Hz),8.01(1H,
d,J=1.8Hz),8.06(1H,d,J=8.6Hz),8.07(1H,brd,J=8.
6Hz),8.25(1H,d,J=1.8Hz). IR νmax(KBr):3442,3237,3060,2949,1732,1621,153
5,1507,1440,1356,1297,1164,1106 cm-1. 【0072】[製造例9]5−クロロ−3−メチルベン
ゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(2,4−ジメタ
ンスルホニルフェニル)アミド(化合物9)の合成 製造例6と同様にして2,4−ジメタンスルホニルアニ
リン200mgから無色粉末として標題化合物368m
gを得た。 融点:176−178℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2,65(3H,s),3.00(3H,s),3.
07(3H,s),7.44(1H,dd,J=1.8,8.6Hz),7.71(1H,d,J=
8.6Hz),7.76(1H,d,J=1.8Hz),7.92(1H,d,J=8.8Hz),
8.04(1H,dd,J=1.8,8.8Hz),8.34(1H,d,J=1.8Hz). IR νmax(KBr):3236,3020,1593,1489,1392,1354,130
4,1157 cm-1. 【0073】[製造例10]5−クロロ−3−メチルベ
ンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−アセチル
−2−ニトロフェニル)アミド(化合物10)の合成 製造例6と同様にして4−アセチル−2−ニトロアニリ
ン96mgから無色粉末として標題化合物59mgを得
た。 融点:130-131℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.58(3H,s),2.69(3H,s),7.46
(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.73(1H,d,J=8.6Hz),7.78(1
H,d,J=2.0Hz),8.05(1H,d,J=8.8Hz),8.16(1H,dd,J=
1.8,8.8 Hz),8.74(1H,d,J=1.8Hz). IR νmax(KBr):3745,3479,3363,3262,3089,2927,285
8,1689,1620,1531,1419,1354,1115,1080 cm-1. 【0074】[製造例11]5−クロロ−3−メチルベ
ンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−アセチル
−2−メタンスルホニルフェニル)アミド(化合物1
1)の合成 4−アミノ−3−メタンスルホニルアセトフェノン24
1mgをTHF20mL及びDMF5mLの混合溶媒に
溶解し、−78℃にて水素化ナトリウム(油状、60
%)136mgを加えた。同温にて20分間撹拌後、−
78℃にて5−クロロ−2−クロロスルホニル−3−メ
チルベンゾ[b]チオフェン350mgを加え、徐々に
昇温し、−10℃にて1時間撹拌した。原料消失を確認
後、0℃にて飽和塩化アンモニウム水を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒留去
後、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキ
サン=1:1)にて精製し、無色粉末として標題化合物
427mgを得た。 融点:207-209℃1 H-NMR(CDCl3): δ 2.56(3H,s),2.69(3H,s),3.07
(3H,s),7.46(1H,dd,J=1.9,8.7Hz),7.72-7.79(2H,
m),7.86(1H,d,J=8.6Hz),8.10(1H,d,J=8.6Hz),8.40
(1H,d,J=1.9Hz). IR νmax(KBr):3456,3236,3086,3005,2924,2854,167
0,1593,1489,1389,1354,1308,1261,1165,1130,1053 cm
-1. 【0075】[製造例12]5−クロロ−3−メチルベ
ンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−ベンゾイ
ル−2−メタンスルホニルフェニル)アミド(化合物1
2)の合成 製造例11と同様にして4−アミノ−3−メタンスルホ
ニルベンゾフェノン94mgから無色粉末として標題化
合物68mgを得た。 融点:144-146℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.70(3H,s),3.08(3H,s),7.45-
7.50(3H,m),7.58-7.62(2H,m),7.68-7.71(4H,m),
7.85(1H,d,J=8.6Hz),7.97(1H,d,J=8.6Hz),8.31(1
H,brs). IR νmax(KBr):3456,3248,3001,2927,2858,2256,170
9,1655,1597,1496,1450,1389,1350,1308,1161,1130,108
4 cm-1. 【0076】[製造例13] 5−クロロ−3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−ヒドロ
キシメチル−2−メタンスルホニルフェニル)アミド
(化合物13)の合成 製造例1の化合物305mg をトルエン10mL溶媒
に溶解し、−78℃に冷却後、1.01mol/Lのジ
イソブチルアルミニウムヒドリドトルエン溶液2.2m
Lを加えた。同温にて20分間撹拌後、0℃まで徐々に
昇温し1時間撹拌した。反応溶液に水を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルで希釈し、さらに酒石酸ナトリウ
ム,カリウム飽和水溶液を加え、30分間室温で攪拌し
た。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒留去後、シ
リカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:1)にて精製し、無色粉末として標題化合物230
mgを得た。 融点:183-184℃1 H-NMR(CDCl3):δ 1.83(1H,brs),2.69(3H,s),2.9
7(3H,s),4.69(2H,d,J=5.7Hz),7.47(1H,dd,J=2.1,
8.7Hz),7.57(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),7.74(1H,d,J=9.3
Hz),7.78(1H,d,J=9.3Hz),7.79(1H,d,J=2.1Hz),7.8
6(1H,d,J=2.1Hz),9.49(1H,brs). IR νmax(KBr):3563,3236,1612,1500,1392,1277,1142
cm-1. 【0077】[製造例14]エチル 4−(5−クロロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)ベンゾエート(化合物14)の合成 4−アミノ安息香酸エチルエステル60mgをピリジン
3mLに溶解し、0℃にて5−クロロ−2−クロロスル
ホニル−3−メチルベンゾ[b]チオフェン123mg
を加え、室温で2時間攪拌した。原料消失を確認後、2
mol/L塩酸を加え、エーテルで抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:3)にて精製し、淡桃色粉末として標題化合物80
mgを得た。 融点:224−226℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 1.26(3H,t,J=7.1Hz),2.50(3
H,s),4.23(2H,q,J=7.1Hz),7.27(2H,d,J=8.8Hz),7.
57(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.84(2H,d,J=8.8Hz),8.01
(1H,d,J=2.0Hz),8.05(1H,d,J=8.6Hz). IR νmax(KBr):3213,1696,1608,1511,1347,1288,115
9 cm-1 . 【0078】[製造例15]5−クロロ−3−メチルベ
ンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−ベンゾイ
ルフェニル)アミド(化合物15)の合成 製造例14と同様にして4−ベンゾイルアニリン126
mgから無色粉末として標題化合物187mgを得た。 融点:198−200℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.56(3H,s),7.22-7.26(2H,
m),7.44-7.48(3H,m),7.55-7.60(1H,m),7.70-7.76
(6H,m). IR νmax(KBr):3213,2927,1724,1639,1589,1508,145
0,1408,1288,1234,1149cm-1 . 【0079】[製造例16]5−クロロ−3−メチルベ
ンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(2−メタンス
ルホニルフェニル)アミド(化合物16)の合成 製造例14と同様にして2−メタンスルホニルアニリン
100mgから無色粉末として標題化合物52mgを得
た。 融点:191-193℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.68(3H,s),3.00(3H,s),7.24-
7.29(1H,m),7.35(1H,s),7.74-7.80(2H,m),7.46
(1H,dd,J=1.8,8.6Hz),7.74-7.80(1H,m),7.85(1H,d
d,J=1.5,7.9Hz). IR νmax(KBr):3467,3371,3228,3016,2927,2858,171
2,1624,1566,1485,1408,1288,1134,1026 cm-1. 【0080】[製造例17]メチル 4−(5−フルオ
ロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニ
ルアミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエート(化合
物17)の合成 メチル 4−アミノ−3−メタンスルホニルベンゾエー
ト14.0gをTHF300mLに溶解し、0℃にて水
素化ナトリウム(油状、60%)6.10gを加えた。
同温にて40分間撹拌後、0℃にて5−フルオロ−2−
クロロスルホニル−3−メチルベンゾ[b]チオフェン
16.0gを加え、室温にて3時間撹拌した。原料消失
を確認後、0℃にて2mol/L塩酸を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムにて乾燥した。溶媒留去後、残渣を酢酸エチル
にて希釈し、その溶液を活性炭処理した後に再結晶(酢
酸エチル/エーテル)にて精製し、無色粉末として標題
化合物24.8gを得た。 融点:202−204℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.69(3H,s),3.06(3H,s),3.90
(3H,s),7.28(1H,ddd,J=2.6,8.7,8.9Hz),7.46(1H,d
d,J=2.6,9.2Hz),7.76(1H,dd,J=4.7,8.9Hz),7.87(1
H,d,J=8.8Hz),8.19(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.50(1H,
d,J=2.0Hz),9.83(1H,s). IR νmax(KBr):3182,1724,1604,1504,1442,1396,134
6,1303,1157 cm-1. 【0081】[製造例18]メチル 4−(5−メチル
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエート(化合物1
8)の合成 メチル 4−アミノ−3−メタンスルホニルベンゾエー
ト183mgをTHF8.0mLに溶解し、0℃にて水
素化ナトリウム(油状、60%)96mgを加えた。同
温にて20分間撹拌後、0℃にて5−メチル−2−クロ
ロスルホニル−3−メチルベンゾ[b]チオフェン25
0mgを加え、室温にて6時間撹拌した。原料消失を確
認後、0℃にて1mol/L塩酸を加えて反応を停止し
た後、クロロホルムにて抽出し、有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル
/ヘキサン=3/1〜1/1)にて精製し、無色粉末と
して標題化合物181mgを得た。 融点:179−181℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.48(3H,s),2.70(3H,s),3.02
(3H,s),3.89(3H,s),7.35(1H,dd,J=2.2,8.8Hz),7.
60(1H,d,J=2.2Hz),7.69(1H,d,J=8.8Hz),7.88(1H,
d,J=8.8Hz),8.18(1H,dd,J=1.8,8.8Hz),8.50(1H,d,J
=1.8Hz). IR νmax(KBr):3460, 3178,3016,2927,2861,1724,160
4,1500,1439,1396,1300,1130,1061 cm-1. 【0082】[製造例19]5−フルオロ−3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン酸(4−アセチル
−2−メタンスルホニルフェニル)アミド(化合物1
9)の合成 (4−アミノ−3−メタンスルホニル)アセトフェノン
6.30gをTHF168mL及びDMF42mLの混
合溶媒に溶解し、−40℃にて水素化ナトリウム(油
状、60%)4.70gを加えた。同温にて10分間撹
拌後、同温にて2−クロロスルホニル−5−フルオロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン8.60gを加え、
同温にて4時間撹拌した。原料消失を確認後、同温にて
1mol/L塩酸を加えて反応を停止した後、濃塩酸に
てpH1とし、クロロホルムにて抽出し、有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶
媒留去後、残渣をクロロホルムにて希釈し、その溶液を
活性炭処理した後に溶媒留去し、得られた結晶をメタノ
ールで洗浄し、無色粉末として標題化合物10.9gを
得た。 融点:174−175℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.56(3H,s),2.69(3H,s),3.08
(3H,s),7.29(1H,ddd,J=2.5,8.8,8.8Hz),7.47(1H,d
d,J=2.5,8.8Hz),7.77(1H,dd,J=4.6,8.8Hz),7.84(1
H,d,J=8.6Hz),8.12(1H,dd,J=2.2,8.6Hz),8.42(1H,
d,J=2.2Hz),9.83(1H,brs). IR νmax(KBr):3243,3092,3006,2925,1672,1599,144
3,1392,1262,1130,1056,1029 cm-1. 【0083】[製造例20]メチル 4−(3−メチル
ベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−
メタンスルホニルベンゾエート(化合物20)の合成 5%パラジウム/炭素640mgをメタノール30mL
及びジオキサン30mLの混合溶媒に溶解し、水素雰囲
気下10分間撹拌した。アルゴン雰囲気下にて化合物1
330mgを加え、水素雰囲気下5気圧にて3日間撹
拌した。原料消失を確認後、反応液をろ過し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=
2/1)にて精製し、無色粉末として標題化合物70m
gを得た。 融点:170−172℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.75(3H,s),3.04(3H,s),3.90
(3H,s),7.49(1H,dd,J=7.1,7.7Hz),7.51(1H,dd,J=
7.1,7.7Hz),7.83(2H,d,J=7.7Hz),7.89(1H,d,J=8.8H
z),8.20(1H,dd,J=2.0, 8.8Hz),8.51(1H,d,J=2.0H
z),9.82(1H,s). IR νmax(KBr):3209,1720,1604,1500,1442,1392,135
0,1308,1165,1122 cm-1. 【0084】[製造例21](2S)−2−[4−(5
−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−
スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニル]ベンゾイ
ルアミノ−3−ヒドロキシ−プロピオン酸メチル(化合
物21)の合成 参考例1の化合物 14.3gをクロロホルム450m
Lに溶解し、室温にてL−セリンメチルエステル塩酸塩
7.54g及びEDC塩酸塩9.30gを加えた後、0℃
にてトリエチルアミン6.80mLを加えた。同温にて
2時間撹拌後、0℃にて2mol/L塩酸を加えて反応
を停止した後、クロロホルムにて抽出し、有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶
媒留去後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸
エチル)にて精製し、無色アモルファスとして標題化合
物12.9gを得た。1 H-NMR(CDCl3):δ 2.71(3H,s),3.07(3H,s),3.81
(3H,s),4.00(1H,dd,J=4.2,11.4Hz),4.15(1H,dd,J=
5.4,11.4Hz),4.85(1H,dd,J=4.2,5.4Hz),7.33(1H,d
d,J=2.1,8.6Hz),7.48(1H,dd,J=2.1,8.6Hz),7.79(1
H,dd,J=4.6,8.6Hz),7.87(1H,d,J=8.8Hz),8.00(1H,d
d,J=2.1,8.8Hz),8.32(1H,d,J=2.1Hz),9.76(1H,s). IR νmax(KBr):3401,1735,1655,1606,1510,1491,144
0,1353,1308,1164,1136cm-1. 【0085】[製造例22]2−[4−(5−フルオロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]−4,5−
ジヒドロ−オキサゾール−4−カルボン酸メチルエステ
ル(化合物22)の合成 化合物21 12.9gをTHF180mLに溶解し、
Burgess試薬(J.Org.Chem.,38
巻,26頁,1973年,J.Org.Chem.,5
8巻,4494頁,1993年)6.80gを加え、6
0℃にて2時間撹拌した。原料消失を確認後、溶媒留去
し、水を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒
留去後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=9:1)にて精製し、無色アモルファ
スとして標題化合物9.92gを得た。1 H-NMR(CDCl3):δ 2.68(3H,s),3.02(3H,s),3.81
(3H,s), 4.60(1H,dd,J=9.0,10.6Hz),4.69(1H,dd,J
=7.9,9.0Hz),4.93(1H,dd,J=7.9,10.6Hz),7.29(1H,d
dd,J=2.1,8.8,8.8Hz),7.46(1H,dd,J=2.1,8.8Hz),7.7
6(1H,dd,J=4.6,8.8Hz),7.87(1H,d,J=8.8Hz),8.15
(1H,dd,J=2.1,8.8Hz),8.43(1H,d,J=2.1Hz),9.81(1
H,s). IR νmax(KBr):3226,1737,1647,1608,1498,1441,139
5,1355,1308,1248,1211,1164 cm-1. 【0086】[製造例23]2−[4−(5−フルオロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾー
ル−4−カルボン酸メチルエステル(化合物23)の合
成 化合物22 1.10gをジクロロメタン(40mL)
に溶解し、−20℃にてブロモトリクロロメタン498
mgを加えた。さらに同温にてDBU700mgを滴下
し、同温にて5分間攪拌後、0℃まで昇温し3.5時間
撹拌した。原料消失を確認後、0℃にて飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加えて反応を停止した後、酢酸エチル
にて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥した。溶媒留去後、シリカゲルクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=20:1)
にて精製し、無色粉末として標題化合物597mgを得
た。 融点:290−292℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.70(3H,s),3.06(3H,s),3.95
(3H,s),7.30(1H,ddd,J=2.4,8.7,8.7Hz),7.47(1H,d
d,J=2.4,9.0Hz),7.77(1H,dd,J=4.8,9.0Hz),7.94(1
H,d,J=9.0Hz), 8.27(1H,s),8.28(1H,dd,J=2.1,9.0H
z),8.57(1H,d,J=2.1Hz),9.78(1H,s). IR νmax(KBr):3243,1720,1618,1590,1518,1485,144
0,1355,1320,1303,1259,1162,1136 cm-1. 【0087】[製造例24]2−[4−(5−フルオロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾー
ル−4−カルボン酸(化合物24)の合成 化合物23 7.85gをメタノール150mLに溶解
し、室温にて10%水酸化ナトリウム水溶液15mL及
び水15mLを加え、15分間撹拌した。析出した結晶
を水90mLを加えることにより溶解し、同温にて17
時間攪拌した。溶媒留去した後、残渣に1mol/L塩
酸45mLを加え、析出した結晶をろ取した後、水洗
し、得られた粗結晶にDMF100mLを加え加熱還流
した。熱時ろ過した後、エタノール70mLを加え再結
晶した。得られた結晶をろ取し、エタノール、水で交互
に数回洗浄し、減圧下五酸化二リンにて乾燥し、無色粉
末として標題化合物5.78gを得た。 融点:289−291℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2.55(3H,s),3.41(3H,s),7.
44(1H,ddd,J=1.8,8.7,9.0Hz),7.64(1H,d,J=8.4Hz),
7.79(1H,dd,J=1.8,9.9Hz),8.08(1H,dd,J=4.8,8.7H
z),8.19(1H,dd,J=1.8,8.4Hz),8.41(1H,d,J=1.8H
z),8.84(1H,s). IR νmax(KBr):3232,1717,1690,1616,1487,1440,135
5,1313,1161,1140 cm-1. 【0088】[製造例25]2−[4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾール
−4−カルボン酸メチルエステル(化合物25)の合成 二臭化銅495mgをジクロロメタン(10mL)に溶
解し、室温にてヘキサメチルテトラミン310mgを加
えた。0℃にてDBU337mgを滴下し、同温にて5分
間撹拌後、0℃にて化合物47 300mgを加え、室
温にて3時間攪拌した。原料消失を確認後、反応液に酢
酸エチルを加えた後、有機層を飽和塩化アンモニウム水
溶液及び25%アンモニア水溶液の1:1混合液、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒留去後、シリカゲ
ルクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=1
0:1)にて精製し、無色粉末として標題化合物110
mgを得た。 融点:237-239℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.70(3H,s),3.05(3H,s),3.95
(3H,s),7.47(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),7.74(1H,d,J=8.
7 Hz),7.79(1H,d,J=2.1Hz),7.93(1H,d,J=9.0Hz),
8.27(1H,s),8.28(1H,dd,J=2.1,9.0Hz),8.56(1H,d,
J=2.1Hz), 9.72(1H,brs). IR νmax(KBr): 3231,1744,1486,1317,1136 cm-1. 【0089】[製造例26]2−[4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾール
−4−カルボン酸(化合物26)の合成 製造例24と同様の方法にて化合物25 70mgから
無色粉末として標題化合物68mgを得た。 融点:296-298℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2.58(3H,s),3.37(3H,s),7.
55(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),7.62(1H,d,J=8.7Hz),8.01
(1H,d,J=2.1Hz),8.09(1H,d,J=8.4Hz),8.12(1H,dd,
J=2.1,8.4Hz),8.40(1H,d,J=2.1Hz),8.83(1H,s). IR νmax(KBr):3221,2924,1701,1485,1311,1153 cm
-1. 【0090】[製造例27]2−[4−(5−フルオロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]オキサゾー
ル−4−カルボン酸ニナトリウム塩(化合物27)の合
成 化合物23 290mgをメタノール30mLに溶解
し、ナトリウムメトキシド77mgを加えた。室温にて
8時間撹拌後、エーテルを加え析出した結晶をろ取した
後、エーテル洗浄し、無色粉末として標題化合物300
mgを得た。 融点:341−343℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2.49(3H,s),3.42(3H,s),7.
26(1H,ddd,J=2.4,8.8,9.0Hz),7.40(1H,dd,J=9.0,9.0
Hz),7.56(1H,dd,J=2.4,8.9Hz),7.89 (1H,dd,J=2.2,
9.0Hz),7.95(1H,d,J=9.0Hz),8.19(1H,d,J=2.2Hz). IR νmax(KBr):3490,1609,1570,1523,1470,1441,140
0,1302,1280,1119 cm-1. 以下、製造例1と同様にして製造例28〜49の化合物
28〜49を合成した。 【0091】 【表1】【0092】 【表2】【0093】[製造例50]2−[4−(5−クロロ−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルア
ミノ)−3−メトキシベンゾイルアミノ]酢酸(化合物
50)の合成 製造例37の化合物104mgをエタノール25mLに
溶解し、室温にて1mol/L水酸化ナトリウム水溶液
1mLを加えた後、同温にて15時間攪拌した。原料消
失を確認後、溶媒留去し、エーテル抽出し、水層に2m
ol/L塩酸を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し
た。溶媒留去後、得られた粉体をエーテルで洗浄し、淡
黄色粉体として標題化合物97mgを得た。 融点:282-285℃1 H-NMR(CDCl3/CD3OD):δ 2.50(3H,s),3.82(2H,
s),3.84(3H,s),7.10-7.15(2H,m),7.20-7.35(2H,
m),7.60-7.70(2H,m). IR νmax(KBr):3394,2974,1604,1554,1493,1412,128
4,1230,1130 cm-1 . 【0094】[製造例51]メチル 4−(5−クロロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエートナトリウ
ム塩(化合物51)の合成 製造例1の化合物115mgをTHF(8mL)に溶解
し、室温にて水素化ナトリウム(油状、60%)15m
gを加えた。同温にて1.5時間撹拌後、溶媒留去し、
得られた粉体をエーテルで洗浄し、無色粉末として標題
化合物61mgを得た。 融点:>300℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2.51(3H,s),3.37(3H,s),3.7
2(3H,s),7.39(1H,d,J=2.1,8.8Hz),7.40(1H,dd,J=
1.8,8.5Hz),7.68(1H,dd,J=1.8,8.8Hz),7.80(1H,d,J
=1.8Hz),7.93(1H,d,J=8.5Hz),8.23(1H,d,J=1.8H
z). IR νmax(KBr):3448,1705,1597,1481,1442,1292,113
4, 1103 cm-1. 製造例43、44及び46の化合物をエステル加水分解
した後、製造例51と同様の条件でナトリウム塩とし、
それぞれ製造例52、53及び54の化合物52、53
及び54を合成した。 【0095】 【表3】【0096】以下に、各製造例の機器データを示す。 【0097】 【表4】 【0098】 【表5】【0099】 【表6】【0100】 【表7】【0101】 【表8】【0102】 【表9】 【0103】[製造例55]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルチ
アゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物55)
の合成 アルゴン雰囲気下、2−メタンスルホニル−4−(5−
メトキシ−4−メチルチアゾール−2−イル)アニリン
41mgを、THF(3mL)−ジメチルアセトアミド(3
mL)の混合溶液に溶解した。これを−25℃に冷却し、
水素化ナトリウム(油状、60%)15mgを加え、同温
にて10分間攪拌した。さらに、2−クロロスルホニル
−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン4
4mgを加え、同温にて2時間撹拌後、1moL/L塩酸
にて反応を停止した。反応液を室温に戻した後、酢酸エ
チル−トルエン(2:1)にて抽出し、有機層を水、飽
和食塩水にて順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウ
ムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン
=1:1)にて精製し、淡黄色粉末として標題化合物5
1mgを得た。 融点:216−217℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.29 (3H,s), 2.68 (3H,s), 2.
99 (3H,s), 3.93 (3H,s), 7.27 (1H,ddd,J=2.6,8.
6, 8.8Hz),7.46(1H,dd,J=2.6,9.2Hz),7.75(1H,dd,J
=4.7,8.8Hz),7.82(1H,d, J=8.7Hz),7.96 (1H,dd,J=
2.1,8.7Hz),8.25(1H,d,J=2.1Hz),9.57(1H,s). IR νmax(KBr):3202,2989,2910,1604,1558,1501,144
1,1349,1298,1253,1156,1133,926 cm-1. 【0104】[製造例56]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルオ
キサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ
[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物56)
の合成 オキシ塩化リン26mLに、参考例2の化合物5.28g
を加え、3時間加熱還流した。反応液を室温に戻し、氷
に注ぎ、クロロホルムにて抽出した。有機層を水、飽和
食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し
た。溶媒を減圧留去して得られた残渣を、シリカゲルク
ロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、無色粉
末として標題化合物2.02gを得た。 融点:232-233℃1 H-NMR(DMSO-d6): δ2.02(3H,s), 2.57(3H,s),
3.32(3H,s), 3.96(3H,s), 7.46(1H, ddd, J=2.5,
9.0,9.0Hz), 7.54(1H,d,J=8.4Hz), 7.81(1H,dd,J=
2.5,9.9Hz), 8.06(1H,dd,J=1.9,8.4Hz), 8.10(1H,d
d,J=4.9,9.0Hz), 8.26(1H,d,J=1.9Hz). IR νmax(KBr): 3253,3083,3000,2922,1665,1491,144
2,1393,1354,1308,1169,1131 cm-1. 【0105】[製造例57]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−(5−メチルチアゾール−2−
イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン
−2−スルホンアミド(化合物57)の合成 4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェ
ン−2−イル)スルホンアミド−3−メタンスルホニル
−N−(2−オキソプロピル)ベンズアミド150mgの
1,4−ジオキサン溶液5mLに、五硫化二リン135mg
を加え4.5時間加熱還流した。反応液に水を加えて反
応を停止し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽
和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥
した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシルカゲルク
ロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル2:1〜1:
1)にて精製し、アモルファスとして標題化合物115
mgを得た。1 H-NMR(CDCl3): 2.51 (3H,s), 2.69 (3H,s), 3.02 (3
H,s), 7.27 (1H,ddd,J=2.4,8.6,8.9Hz), 7.47 (1H,dd,J
=2.4,9.2Hz), 7.50 (1H,s), 7.76 (1H,dd,J=4.8,8.9H
z), 7.86 (1H,d,J=8.8Hz), 8.05 (1H,dd,J=2.1,8.8Hz),
8.35 (1H,d,J=2.1Hz), 9.64 (1H,s). IR νmax(KBr): 3240,3010,2926,1607,1499,1353,130
2,1160,994 cm-1. 以下、製造例56及び製造例57と同様にして製造例5
8〜62の化合物を合成した。 【0106】 【表10】 【0107】[製造例63]5−フルオロ−N−[4−
(4−ヒドロキシメチルチアゾール−2−イル)−2−
メタンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]
チオフェン−2−スルホンアミド(化合物63)の合成 リチウムアルミニウムヒドリド298mgのTHF懸濁液
226mLに、5℃にて化合物69 4.52gを溶解し
たTHF溶液452mLを滴下し、室温にて6時間攪拌し
た。さらにリチウムアルミニウムヒドリド298mgを加
え、室温にて14時間攪拌した。原料消失を確認後、1
0℃にて水10mLを加えて反応を停止し、30分間攪拌
した。溶媒を減圧留去して得られた残渣にクロロホルム
を加え、有機層を1mol/L硫酸、水、飽和食塩水に
て順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒
を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製し
た。得られた結晶にクロロホルム140mL、ヘキサン
28mLを加え加熱還流した。熱時ろ過した後、再結晶
により得られた結晶をろ取し、減圧下乾燥し、淡黄色粉
末として標題化合物2.58gを得た。 融点:209-210℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.69(3H,s),3.04(3H,s),4.80
(2H,s),7.22(1H,s),7.27(1H,ddd,J=2.4,8.6,8.8H
z),7.47(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),7.76(1H,dd,J=4.7,8.
8Hz),7.88(1H,d,J=8.8Hz),8.09(1H,dd,J=2.2,8.8H
z),8.42(1H,d,J=2.2Hz),9.65(1H,s). IR νmax(KBr):3423,3237,3114,3026,2930,1605,150
9,1445,1354,1294,1152,1135 cm-1. 【0108】[製造例64]N−[4−(4−クロロメ
チルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフ
ェニル]−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオ
フェン−2−スルホンアミド(化合物64)の合成 化合物63 159mgをクロロホルム20mLに懸濁し
た。0℃にて塩化チオニル47μLを加え、室温にて2
1時間撹拌した。さらに塩化チオニル1mLを加え1時間
加熱還流した。さらにトリエチルアミン2mLを0℃にて
加え3時間撹拌した後、1mol/L塩酸にて反応を停
止した。酢酸エチルにて抽出し、水、飽和食塩水にて順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減
圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー(クロロホルム)にて精製し、淡褐色粉末として標題
化合物104mgを得た。 融点:190−191℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.69(3H,s), 3.04(3H,s), 4.7
0(2H,s), 7.28(1H,ddd,J=2.5,8.6,8.8Hz), 7.34(1
H,s), 7.47(1H,dd,J=2.5,9.2Hz), 7.76(1H,dd,J=4.
7,8.8Hz), 7.89(1H,d,J=8.8Hz),8.11 (1H, dd, J=
2.2, 8.8Hz),8.41(1H,d,J=2.2Hz),9.66(1H,s). IR νmax(KBr):3236,3098,3027,2927,1607,1507,145
7,1354,1306,1156,1137,912 cm-1. 【0109】[製造例65]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−(4−メチルチアゾール−2−
イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン
−2−スルホンアミド(化合物65)の合成 化合物64 64mgをアセトン10mLに溶解し、ヨウ化
ナトリウム180mgを加え24時間加熱還流した後、さ
らにヨウ化ナトリウム180mgを加えて19時間加熱還
流した。溶媒を減圧留去した後、残渣を酢酸エチルに溶
解し水、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩
水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
溶媒を減圧留去して得られた5−フルオロ−N−[4−
(4−ヨードメチルチアゾール−2−イル)−2−メタ
ンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオ
フェン−2−スルホンアミドを、トルエン(5mL)−ジ
メチルスルホキシド(0.5mL)の混合溶液に溶解し、
水素化トリブチルスズ45μL及び1.06mol/L
トリエチルホウ素のヘキサン溶液13μLを加え室温に
て6時間撹拌した。さらに水素化トリブチルスズ24μ
Lを加えて室温にて3時間撹拌した後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加えて反応を停止した。酢酸エチルにて
抽出し、有機層を水、飽和食塩水にて順次洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られ
た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン〜ヘ
キサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、無色粉末と
して標題化合物29mgを得た。 融点:199−200℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.48(3H,s), 2.69(3H,s), 3.0
3(3H,s), 6.91(1H,s), 7.27(1H,ddd,J=2.4,8.6,8.
8Hz), 7.46(1H,dd,J=2.4,9.2Hz), 7.75(1H,dd,J=4.
7,8.8Hz), 7.87(1H,d,J=8.7Hz), 8.09 (1H,dd,J=2.
1,8.7Hz), 8.40(1H,d,J=2.1Hz), 9.65(1H,s). IR νmax(KBr):3243,3105,3028,2925,1607,1508,144
2,1355,1308,1162,1135,913 cm-1. 以下、製造例63〜65と同様にして製造例66〜68
の化合物66〜68を合成した。 【0110】 【表11】 【0111】[製造例69]2−[4−(5−フルオロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール
−4−カルボン酸メチルエステル(化合物69)の合成 化合物74 11.06gをジクロロメタン204mLに
溶解し、0℃にてブロモトリクロロメタン2.4mLを5
分間かけて滴下した。同温にて20分間撹拌した後、D
BU7.6mLを15分間かけて滴下した。室温にて5時
間撹拌した後、1mol/L塩酸にて反応を停止した。
有機層を分離し、水および飽和食塩水にて洗浄し、無水
硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得ら
れた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホル
ム)にて精製し、無色粉末として標題化合物9.18g
を得た。 融点:241−242℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2.61 (3H,s), 3.38(3H,s),
3.87 (3H,s),7,47(1H,ddd,J=2.5,9.0,9.0Hz), 7.60
(1H,d,J=8.6Hz), 7.83(1H,dd,J=2.5,9.9Hz),8.11
(1H,dd,J=4.7,9.0Hz), 8.22(1H,dd,J=2.1, 8.6Hz),
8.44(1H,d,J=2.1Hz), 8.63(1H,s). IR νmax(KBr): 3193,3113,3021,3003,2923,1730,160
6,1509,1392,1359,1295,1225,1162,1131,988,918 cm-1. 【0112】[製造例70]2−[4−(5−フルオロ
−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニル
アミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール
−4−カルボン酸(化合物70)の合成 化合物69 954mgをメタノール45mLに溶解し、1
mol/L水酸化ナトリウム4.0mLを加えた。加熱
還流下20分間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られた残
渣をエーテル−水(1:1)にて抽出した。水層に2m
ol/L塩酸を加え、析出した結晶をエーテル洗浄し、
無色粉末として標題化合物746mgを得た。 融点:257-258℃1 H-NMR(DMSO-d6):δ 2.59(3H,s),3.36(3H,s),
7.45(1H,ddd,J=2.3,8.8,8.8Hz),7.57(1H,d,J=8.5H
z),7.81(1H,dd,J=2.3,9.9Hz),8.09(1H,dd,J=5.0,8.
8Hz),8.18(1H,dd,J=2.0,8.5Hz),8.42(1H,d,J=2.0H
z),8.51(1H,s). IR νmax(KBr):3448,3233,3104,3027,2924,1711,160
7,1516,1461,1352,1306,1217,1153,1137 cm-1. 【0113】[製造例71]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−(2−メチルチアゾール−4−
イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン
−2−スルホンアミド(化合物71)の合成 化合物19 200mgをクロロホルム4.0mLに溶解
し、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロマイド1
94mgを加え、室温で1時間攪拌した。反応溶液に水を
加えて反応を停止した後、一度溶媒留去し、1mol/
L塩酸を加えpH2〜3に調整した後、酢酸エチルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残査をメ
タノールで洗浄し、無色固体としてN−(4−ブロモア
セチル−2−メタンスルホニルフェニル)−5−フルオ
ロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホン
アミド201mgを得た。このようにして得られたN−
(4−ブロモアセチル−2−メタンスルホニルフェニ
ル)−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェ
ン−2−スルホンアミド150mgをジオキサン(1.5
mL)−エタノール(1.5mL)の混合溶液に溶解し、炭
酸水素ナトリウム53mg、チオアセトアミド26mgを順
次加え、加熱還流下2時間攪拌した。反応溶液に水を加
えて反応を停止した後、溶媒を減圧留去し、1mol/
L塩酸を加えpH2〜3に調整し、酢酸エチルで抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色結晶の
標題化合物61mgを得た。 融点:217-220 ℃1 H-NMR(CDCl3) :δ 2.68(3H,s), 2.75(3H, s),
2.99(3H, s)7.27(1H, ddd, J=2.4, 8.7, 9.0Hz), 7.3
3(1H, s), 7.45(1H, dd, J=2.4, 9.3Hz), 7.75(1H,
dd J=4.5, 9.0Hz), 7.84(1H, d, J=8.7Hz), 8.06(1
H, dd, J=2.1, 8.7Hz), 8.35(1H, d, J=2.1Hz), 9.55
(1H, s). IR νmax(KBr) : 3237,1604,1514,1352,1296,1163,89
9 cm-1. 【0114】[製造例72]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−((E)−2−メタンスルフィ
ニル−2−メチルスルファニルビニル)フェニル]−3
−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド
(化合物72)の合成 参考例3の化合物135mgをアルゴン雰囲気下THF2
mLに溶解し、室温でメチルメチルスルフィニルメチルス
ルフィド196mg,40%トライトンBのメタノール溶
液862μLを順次加え、加熱還流下、16時間攪拌し
た。反応溶液に1mol/L塩酸を加えて反応を停止し
た後、酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製し、無色
アモルファスの標題化合物105mgを得た。1 H-NMR(CDCl3) :δ 2.32(3H,s), 2.70(3H, s),
2.76(3H, s), 3.04(3H,s), 7.28(1H, ddd, J=2.4, 9.0,
9.3Hz), 7.48(1H, dd, J=2.4, 9.3Hz),7.52(1H, s),
7.78(1H, dd J=4.8, 9.0Hz), 7.83(1H, d, J=8.7H
z), 8.02(1H, dd,J=2.1, 8.7Hz), 8.46(1H, d, J=2.1
Hz), 9.65(1H, s). IR νmax(KBr) : 3446, 3225, 1604, 1492, 1303, 11
63, 1133, 924 cm-1. 以下に、各製造例の機器データを示す。 【0115】 【表12】【0116】[製造例73]5−フルオロ−N−[2−
メタンスルホニル−4−(オキサゾール−2−イル)フ
ェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−ス
ルホンアミド(化合物73)の合成 化合物24 902mgを直火にて溶融した。得られたカ
ラメル状物質をシルカゲルクロマトグラフィー(クロロ
ホルム)にて精製した後、再結晶(酢酸エチル−ヘキサ
ン)することにより、淡黄色結晶として標題化合物30
6mgを得た。 融点:207−208℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.69(3H,s), 3.03(3H,s), 7.23(1
H,s), 7.27(1H,ddd, J=2.6,8.8,8.8Hz), 7.46(1H,dd,J=
2.6,9.2Hz), 7.71(1H,s), 7.76(1H,d,J=4.8, 8.8Hz),
7.91(1H,d,J=8.7Hz), 8.21(1H,dd,J=2.1,8.7Hz), 8.50
(1H,d,J=2.1Hz), 9.70(1H,s). IR νmax(KBr):3237,3140,3020,2925,1615,1519,148
1,1354,1303,1163, 1139,912,650 cm-1. 【0117】[製造例74](4R)−2−[4−(5
−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−
スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]
チアゾリン−4−カルボン酸メチルエステル(化合物7
4)の合成 (2R)−2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベン
ゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メ
タンスルホニルフェニルカルボキシアミド]−3−トリ
チルチオプロピオン酸メチルエステル31.04gをジ
クロロメタン1500mLに溶解した。これを、0℃に冷
却しヘキサメチルホスホルアミド19.8mLを加え、さ
らに四塩化チタン12.9mLのジクロロメタン(435
mL)溶液を滴下した(Tetrahedron.Let
ters.,42,4171(2001))。室温にて
21時間撹拌した後、水を加えて反応を停止した。溶媒
を減圧留去して得られた残渣を、酢酸エチルに再溶解
し、水、飽和食塩水にて順次洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣
を、シリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム)に
て精製し、クロロホルム−ヘキサンから再結晶すること
により、無色粉末として標題化合物11.09gを得
た。 融点:170−171℃1 H-NMR(CDCl3):δ 2.68(3H, s), 3.03 (3H,s),
3.66(1H,dd,J=9.1,11.5Hz), 3.73 (1H,dd,J=9.1, 1
1.5Hz), 3.82(3H,s), 5.25(1H,t,J=9.1Hz), 7.28
(1H,ddd, J=2.5,8.7,8.9Hz), 7.46(1H,dd,J=2.5, 9.
2Hz), 7.76(1H,dd,J=4.7,8.9Hz), 7.85(1H,d,J=8.6
Hz), 8.01(1H,dd,J=2.0,8.6Hz), 8.31 (1H,d,J=2.0
Hz), 9.76(1H,s). IR νmax(KBr): 3186,3029,3000,2954,2920,1744,160
6,1498,1357,1293,1225,1163,1131,989,927 cm-1. 【0118】[製造例75]5−フルオロ−N−(4−
ヒドロキシメチル−2−メタンスルホニルフェニル)−
3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミ
ド(化合物75)の合成 化合物17 2.08gをトルエン120mLに溶解し、
−30℃に冷却後、1.01mol/Lジイソブチルア
ルミニウムヒドリドのトルエン溶液22.5mLを加え
た。同温に5時間撹拌し、反応溶液に水を加えて反応を
停止した後、酢酸エチルで希釈し、飽和酒石酸ナトリウ
ムカリウム飽和水溶液を加え、30分間室温で攪拌し
た。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製し、無色粉末と
して標題化合物1.38gを得た。 融点:120-121 ℃1 H-NMR(CDCl3) :δ 2.68(3H,s), 2.96(3H,s), 4.68
(2H,s), 7.26(1H,ddd,J=2.4,8.7,9.0Hz), 7.46(1H,dd,
J=2.4,9.0Hz), 7.57(1H,dd,J=1.8,8.4Hz),7.75(1H,
dd,J=4.5,8.7Hz),7.77(1H,d,J=8.4Hz), 7.86(1H,d,J
=1.8Hz), 9.48(1H,s). IR νmax(KBr) : 3504,3221,1608,1497,1347,1296,11
50,926 cm-1. 【0119】[実施例1]サルキマーゼ又はヒトキマー
ゼ阻害活性の測定 サルキマーゼはヒト心臓キマーゼ精製法(J.Bio
l.Chem.,265,22348(1990))に
準じてアカゲザルの心臓より精製したものを、ヒトキマ
ーゼはヒトキマーゼをコードする遺伝子(FEBS.L
et.,412,86(1997))を組み込んだバキ
ュロウィルスを感染させたカイコから得られたものを用
いた。キマーゼ活性は、文献既知の方法(宮崎ら;血
管,20巻,207頁,1997年)を参考にした。す
なわち、AngIIと共に生成する遊離His−Leu
とo−フタルアルデヒド(以下、OPTと略す)を反応
させて蛍光誘導体とし、その量を蛍光光度計を用いて定
量することにより測定した。まず各被検化合物3.6μ
molを試験管に秤量し、DMSO3mLに溶解した。
このDMSO溶液を0.01%トライトンX−100及
び0.5mol/L塩化カリウムを含む20mmol/
Lトリス−塩酸緩衝液(pH8.0)で1000倍希釈
して1.2×10-6mol/L溶液とし、さらに緩衝液
で順次希釈して、1.2×10-6mol/Lから1.2
×10-9mol/Lまでの被検試料溶液を調製した。各
濃度の被検試料溶液又は緩衝液500μLに対し酵素溶
液50μLを加え、37℃で 10分間プレインキュベ
ーションした後、0.1mmol/L AngI溶液5
0μLを加えて反応を開始した。AngIはヒトアンギ
オテンシンI(SIGMA製)を使用した。反応に用い
る酵素溶液はこの条件で約6割の基質を加水分解するよ
うに調整し、酵素を含まない緩衝液を添加した反応を盲
検とした。37℃で120分間インキュベートした後1
5%トリクロロ酢酸900μLを加えて反応を停止し
た。その後反応液を4℃、3,000rpmで10分間
遠心分離して得た上清1mLに2mol/L水酸化ナトリ
ウム2mL及びメタノール1mLを加えた。ここに1mL中に
N−アセチル−L−システイン1.2mg及びOPT1mg
を含むメタノール溶液100μLを加えて誘導体化反応
を開始し、室温にて正確に1時間放置した後、励起波長
304nm、蛍光波長502nmの蛍光強度を測定した。測
定は各試料及び盲検について2回繰返し、その平均値か
ら盲検の平均値を差引いた蛍光強度をキマーゼ活性とし
た。なお、被検試料溶液に替えて緩衝液を用いて酵素反
応を行ったものをコントロールとし、またキマーゼ活性
の阻害率はコントロールのキマーゼ活性から被検試料添
加時の活性を減じた差をコントロールのキマーゼ活性で
除して阻害率を求めた。また、各阻害率から50%阻害
濃度(以下、IC50値という)を算出した。代表的な化
合物のIC50値を表13に示す。 【0120】 【表13】【0121】[実施例2]ハムスター癒着モデルによる
検討 5週齢の雌性ハムスター(各群10匹)を腹腔内へのペ
ントバルビタールナトリウム(50mg/kg)投与により
麻酔し、腹部正中切開後、子宮を綿棒で擦過した。その
後、被験化合物の生理食塩液(化合物24:10-4mo
l/L)1mLを腹腔内に滴下し、切開部を縫合した。一
方、対照として、生理食塩液のみを滴下して、同様に処
置した。手術4週間後に、動物をと殺し、腹腔を露出し
て癒着を調べた。癒着の判定は次の5段階の採点システ
ムを使用し、データの解析はマン−ホイットニィのU検
定を用いて行った。 癒着スコア 0:癒着なし 1:ごく弱い癒着(膜状で容易に剥離可能な癒着) 2:限定的な癒着(1箇所のみの剥離困難な強い癒着) 3:広範囲な癒着(数箇所の剥離困難な強い癒着) 4:非常に強い癒着(剥離不可能な非常に強い癒着) この結果、対照群の平均スコアが2.0であったのに対
し、被験化合物(化合物24)を投与した群の平均スコ
アは0.9であり、手術後の癒着を有意に抑制した(p
<0.05)。 【0122】[実施例3]ラット盲腸擦過癒着モデルに
よる検討 6週齢のSDラットをペントバルビタール(70mg/
kg、筋注)麻酔下に、下腹部正中切開し、盲腸を創外
へ引き出した。盲腸の2箇所の漿膜(約2cm ずつ)
を綿棒で100回、点状出血をきたすまで擦過した後、
エタノールを100μL滴下した。盲腸を再び腹腔内に
収めた後、被験化合物(化合物24又は70)のリン酸
緩衝生理食塩液(PBS、pH7.4)溶液2mLを腹
腔内に滴下し、切開部を縫合した。被験化合物溶液の濃
度はそれぞれ10−5mol/Lとし、対照群はPBS
のみを滴下して、同様に処置した(各群11又は12
匹)。手術1週間後に、動物をと殺し、再開復して盲腸
癒着の状態を、癒着の強さ及び癒着領域を指標とする癒
着スコアにより評価した。スコア値は、次の5段階とし
た。なお、癒着領域(%)は癒着していた部分の総面積
の擦過部位面積に対する百分率として求めた。 癒着スコア 0:癒着なし 1:一部に限局する(癒着領域25%未満)容易に剥離
可能な癒着 2:広範囲に及ぶ(癒着領域25%以上)容易に剥離可
能な癒着 又は一部に限局する(癒着領域25%未満)剥離困難な
癒着 3:広範囲に及ぶ(癒着領域25%以上)剥離困難な癒
着 4:剥離不可能な癒着又は剥離時に漿膜損傷を伴う癒着 この結果、癒着スコア分布について、重度の癒着を示す
スコア3及び4の合計は対照群で63.6%に対し、化
合物例24及び化合物例70の10−5mol/L溶液
投与群でそれぞれ41.7%及び33.3%と減少し、
化合物投与による癒着が抑制された。 【0123】[実施例4]イヌ眼手術後癒着モデルによ
る検討 ビーグル犬を麻酔し、実体顕微鏡下で両眼の結膜を10
mm×5mm剥離した。この際、テノン嚢は結膜側に残
し、強膜側に残さないようにした。被験化合物(化合物
70)の生理食塩液溶液に浸したスポンジを3分間切開
部に留置した後、10−0ナイロン糸を1針縫合した。
被験化合物溶液の濃度はそれぞれ10 mol/Lと
し、対照群は生理食塩液を用いて同様に処置した(各群
6匹)。手術7日後に、動物をと殺し、眼球を摘出し癒
着を評価した。評価はモデル作製時に縫合した糸を切断
した後、結膜部をピンセットで牽引し、癒着の状態を癒
着スコア化して行った。スコア値は次の5段階とし、デ
ータの解析はマン−ホイットンニィのU検定を用いた。 癒着スコア 0:癒着なし 1:ごく弱い癒着(膜状で容易に剥離可能な癒着) 2:限定的な癒着(1箇所のみの剥離困難な強い癒着) 3:広範囲な癒着(数箇所の剥離困難な強い癒着) 4:非常に強い癒着(剥離不可能な非常に強い癒着) この結果、対照群の平均スコアが3.67であったのに
対し、被験化合物(化合物70)群の平均スコアは2.
67であり、手術後の癒着を有意に抑制した(p<0.0
5)。 【0124】[製剤例1]錠剤の製造 化合物24 5gを、乳糖125g、トウモロコシデン
プン40g及び結晶セルロース20gと混合し、ヒドロ
キシプロピルセルロース6g分を10%エタノール溶液
として加えて混練造粒し、径8mmのスクリーンを通して
押し出して顆粒を調製し、乾燥した後ステアリン酸マグ
ネシウム4gを加えて圧縮成型して、1錠中に化合物2
4を5mg含有する重量200mgの錠剤を製造した。 【0125】[製剤例2]注射剤又は液剤の製造 化合物24を50mg及び塩化ナトリウム900mgを注射
用水90mLを用いて溶解した後、0.1mmol/L水
酸化ナトリウムでpH7に調製し、さらに注射用水を用
いて全量100mLとした。この液を無菌ろ過した後、2
mLずつをガラス製のアンプルに充填し、1管に化合物2
4を1mg含有する注射剤(液剤)を製造した。 [製剤例3]坐剤の製造 ウイテップゾールH−15を加熱融解し、これに化合物
24を10mg/mLとなるように加えて、均一に混和し
た。これを坐剤用プラスチックコンテナに2mLずつ注入
し、冷却して、1個中に化合物24を20mg含有する坐
剤を製造した。 【0126】[製剤例4]点眼剤の製造 化合物24を50mg、リン酸二水素ナトリウム・2水和
物0.1g、塩化ナトリウム0.9g及び塩化ベンザル
コニウム5mgを精製水80mLに溶かし、0.1mol/
L水酸化ナトリウム水溶液を加えpH7.0に調整し、
精製水を加え、全量100mLとした。この液を無菌ろ過
した後、5mLずつをポリプロピレン製の点眼容器に充填
し、化合物24の濃度が0.05%である点眼剤を製造
した。 【0127】 【発明の効果】本発明により、優れた癒着防止剤を提供
することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a novel chymase inhibitor
Derivation of N-substituted benzothiophene sulfonamides as harmful agents
Adhesion containing the body and its pharmaceutically acceptable salts as active ingredients
Related to inhibitors. [0002] 2. Description of the Related Art Tissue adhesion in mammals including humans
Are gastroenterology, cardiology, orthopedics, gynecology, ophthalmology, etc.
May occur after surgery in the hospital and cause pain to the postoperative patient
In addition, it has a profound effect on prognosis. For example,
In the case of laparotomy, the organs inside the abdominal cavity after surgery, namely the abdominal wall, intestine
A phenomenon in which the tubes and the like adhere to each other occurs, which may cause intestinal obstruction.
In some cases, reoperation is necessary. In gynecology area
Develops postoperative adhesions in patients who have had infections or pelvic surgery
However, oviduct obstruction can cause infertility. heart
Adhesion limits reoperation in surgery
Bleeding in some cases or during reoperation may be a problem. Ophthalmic territory
In the area, if organic adhesion or postoperative adhesion occurs, intraocular pressure
Quality of visi, including trawl failure
On becomes difficult to maintain. [0003] As a method of preventing adhesions after surgery, various drugs and special features are used.
Attempts have been made to use special membranes. Drugs to prevent adhesions
Examples of the agent include a high-molecular-weight polysaccharide having a wound covering effect, for example,
Sodium alginate, sodium chondroitin sulfate
Dextran and sodium hyaluronate
Dexame as an anti-adhesion agent after fallopian tube surgery
Carbohydrates such as tazone and triamcinolone acetonide
Coid is used. Gelatin is used as a film
Film or sponge used (Zel film, Zelfo
(Registered trademark)), a polytetrafluoroethylene
(Gore-Tex®), carboxymethyl
Hyaluronic acid sheet modified with cellulose etc.
Lafilm (registered trademark)). But,
At present, none of these drugs is effective enough
It is. On the other hand, chymase is present in mast cell granules.
Is a type of serine protease that activates mast cells.
Secreted by granules, long in heart, blood vessels, skin, etc.
Exerts enzymatic activity during anagen and participates in various biological reactions
It is known. Chymase is used in hearts and blood vessels, etc.
Production of Ngiotensin II (hereinafter referred to as Ang II)
It is said to be involved in
70% to 80% of the amount of Ang II produced in blood vessels and chymase
(Non-Patent Document 2)
Therefore, chymase inhibitors can cause abnormal enhancement of Ang II production
As a preventive / therapeutic agent for cardiac and cardiovascular diseases
Have been. Chymase also promotes mast cell degranulation
Activation, interleukin-1β activation, matrix
Has various actions such as activation of taroprotease
In various inflammatory allergic diseases,
Has been suggested to play a new role.
You. Recently, a chymase inhibitor, pepti
Suc-Val-Pro-PheP(OPh)TwoBut ha
Suppresses the adhesion of organs after uterine scraping with the Muster adhesion model
(Non-Patent Document 3) and a Canine Trabeculectomy Model
Reported that the adhesion of the filtration bleb was suppressed by non-patent document 4.
It has been tell. In addition, chymase which is a quinazoline derivative
Inhibitors improve extracellular matrix metabolism abnormalities after surgery
Can be used to prevent the adhesion of
1). [0005] [Non-Patent Document 1] "Circulation Research (Ci
rculation Research) ", (USA)
Association (American Heart Association),
1990, Vol. 66, p. 883 [Non-Patent Document 2] "The Journal of Biology
Cal chemistry (The Journal of biological chem
istry) "(US), American Society
O Biochemistry and Molecular Ba
Iology (American Society for Biochemistry and M
olecular Biology), 1990, vol. 265, p. 2
2348 [Non-Patent Document 3] "European Journal of
Pharmacology (European journal of pharmacolog
y) ", (Netherlands), Elsevier Science (Elsev)
ier Scince), 2002, Vol. 435, p. 265 [Non-Patent Document 4] Journal of the Japanese Ophthalmology Society, 2002, No. 1
06 (extra number), p. 131 [Patent Document 1] International Publication No. 01/62292 Pamphlet
Pit [0006] SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to post-operative healing.
To prevent wear and enhance the quality of life for patients,
To provide a safe and effective anti-adhesion agent
With the goal. [0007] Means for Solving the Problems The present inventors have achieved the above object.
As a result of intensive studies to achieve
Derivation of N-substituted benzothiophene sulfonamides as harmful agents
The body or its pharmaceutically acceptable salt is induced after surgery
To prevent adhesions, and completed the present invention.
Was. That is, the present invention provides a compound represented by the general formula (I): [0008] Embedded image [Wherein, R1Is a hydrogen atom, a halogen atom or
Represents a lower alkyl group, RTwoRepresents a lower alkyl group, RThreeas well as
RFourMay be different from each other, and
Alkoxycarbonyl group, lower alkylsulfonyl group,
Nzoyl group, C 1-4 acyl group, lower alkoxy
Group, lower alkoxycarbonylmethylthioacetyl group,
Nitro group, -CONHR6(Where R6Is a hydrogen atom, lower
Alkoxycarbonylmethyl group, carboxymethyl group or
Is -CH (CHTwoOH) COOR7(Where R7Is hydrogen field
Represents a lower alkyl group or a lower alkyl group)), [0010] Embedded image A group represented by the formula:7Is as defined above
is there), Embedded image A group represented by the formula (wherein R8And R9Each
Hydrogen atom, lower alkyl group, lower
Lower alkylsulfanyl group, lower alkylsulfinyl
Group, lower alkylsulfonyl group or lower alkoxycar
Bonyl group), hydroxy lower alkyl group, cyano
Group or [0013] Embedded image (A represents an oxygen atom, a sulfur atom or NH,
The dotted line indicates a single bond or a double bond)
Heterocyclic group (however, a hydrogen atom on the ring is a halogen atom
Lower alkyl group which may be substituted, lower alkoxy
Group, hydroxy lower alkyl group, lower alkoxycarbo
It may be substituted with a phenyl group or a carboxyl group. )
(Where RThreeAnd RFourIs not a hydrogen atom at the same time
No). RFiveRepresents a hydrogen atom, a lower alkoxy group or a lower
N-substituted benzothiophene represented by the following formula:
A sulfonamide derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
An anti-adhesion agent characterized by containing it as an active ingredient
It is about. The N-substituted base represented by the general formula (I) of the present invention
Nzothiophene sulfonamide derivatives or pharmaceutically acceptable
Acceptable salts have potent inhibitory activity against chymase
New chymase inhibitor
Was found to be useful as an anti-adhesion agent. [0016] DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION1Examples of the halogen atom are
For example, a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom
And a fluorine atom or a chlorine atom is preferred.
No. R1, RTwo, RFive, R7, R8And R9Lower alkyl group
Are, for example, methyl, ethyl, propyl,
Isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl
And a tert-butyl group.
Or an ethyl group is preferred. RThree, RFour, R8And R9Lower alkoxyca
Examples of the rubonyl group include a methoxycarbonyl group and
Toxoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, isop
Ropoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, isobu
Toxoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group or
Is a tert-butoxycarbonyl group, and among them,
Also methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, iso
Propoxycarbonyl group or tert-butoxycarbo
Nyl groups are preferred. RThree, RFour, R8And R9Low-grade archi
As a rusulfonyl group, for example, a methanesulfonyl group,
Ethanesulfonyl group, propanesulfonyl group, isopro
Pansulfonyl group, butanesulfonyl group, isobutane
Ruphonyl group, sec-butanesulfonyl group or tert
-Butanesulfonyl group;
A phonyl group or an ethanesulfonyl group is preferred. RThreeAnd RFourAn acyl group having 1 to 4 carbon atoms
For example, formyl group, acetyl group, propionyl
Group, butyryl group or isobutyryl group.
Also, an acetyl group is preferable. RThree, RFourAnd RFiveLow grade al
As the oxy group, for example, a methoxy group, an ethoxy group,
Loxy, isopropoxy, butoxy, isobut
Xy group, sec-butoxy group or tert-butoxy group
And among them, a methoxy group or an ethoxy group is preferred.
New RThreeAnd RFourLower alkoxycarbonylmethylthio
Oacetyl groups include, for example, methoxycarbonylmethyl
Luthioacetyl group, ethoxycarbonylmethylthioacet
A tyl group, a propoxycarbonylmethylthioacetyl group,
Isopropoxycarbonylmethylthioacetyl group, buto
Xycarbonylmethylthioacetyl group, isobutoxyca
Rubonylmethylthioacetyl group, sec-butoxy
Bonylmethylthioacetyl group or tert-butoxyca
Rubonylmethylthioacetyl group.
Ethoxycarbonylmethylthioacetyl group or ethoxyca
A rubonylmethylthioacetyl group is preferred. RThreeAnd RFourIs -CONHR6If it is,
R6Examples of the lower alkoxycarbonylmethyl group include
For example, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonyl
Methyl group, propoxycarbonylmethyl group, isopropo
Xycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl
Group, isobutoxycarbonylmethyl group, sec-butoxy
Cicarbonylmethyl group or tert-butoxycarboni
A methoxycarbonyl group.
Tyl group, ethoxycarbonylmethyl group or isopropoxy
A cyclocarbonylmethyl group is preferred. RThreeAnd RFourThe hydro
Examples of the xy lower alkyl group include hydroxymethyl
Group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, hydr
C1-C4 linear or branched such as loxybutyl group
Of these, a hydroxymethyl group or
A droxyethyl group is preferred. R8And R9Low-grade archi
Examples of the nylsulfanyl group include methylsulfanyl
Group, ethylsulfanyl group, propylsulfanyl
Group having 1 to 4 carbon atoms such as butylsulfanyl group
Or branched ones, among which methylsulfa
A nyl group or an ethylsulfanyl group is preferred. R8as well as
R9Examples of the lower alkylsulfinyl group include
Tansulfinyl group, ethanesulfinyl group, propane
1 to 1 carbon atoms such as a sulfinyl group and a butanesulfinyl group
Four straight-chain or branched ones are mentioned.
Tansulfinyl or ethanesulfinyl is preferred
No. [0020] Embedded image The group represented by the following is, for example, a vinyl group,
Methylsulfanylvinyl group, methanesulfinylvinyl
Or 2-methanesulfinyl-2-methylsulfa
Nylvinyl groups are preferred. [0022] Embedded image A hydrogen atom on the ring which may be substituted
Lower alkoxy groups, hydroxy lower alkyl groups and lower
The meaning of the alkoxycarbonyl group is the same as described above. Ma
A lower alkyl optionally substituted with a halogen atom
The group, in addition to the lower alkyl group, a fluorine atom,
Lower alkyl substituted with chlorine, bromine or iodine
Alkyl group, chloromethyl group, bromomethyl group,
Chloromethyl group, 1-chloroethyl group and the like.
You. A lower group which may be substituted by a halogen atom
Alkyl group, lower alkoxy group, hydroxy lower alkyl
Group, lower alkoxycarbonyl group or carboxyl group
May be different from each other on the heterocyclic ring.
Can be exchanged. [0025] Embedded image (A represents an oxygen atom, a sulfur atom or NH,
The dotted line indicates a single bond or a double bond)
A heterocyclic group is, for example, [0027] Embedded image Is mentioned. A hydrogen atom on the ring is replaced by a halogen atom.
Lower alkyl group, lower alkoxy group,
Droxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl group
Or may be substituted with a carboxyl group, [0029] Embedded image (A represents an oxygen atom, a sulfur atom or NH,
The dotted line indicates a single bond or a double bond)
Specific examples of the heterocyclic group include [0031] Embedded image Preferably, these substituents are RFourWhen
Is preferably substituted. At this time,
RThreeIs a methanesulfonyl group, and RFiveIs a hydrogen atom
Is more preferable. Examples of specific compounds include methyl
4- (5-chloro-3-methylbenzo [b] thiof
2-Sulfonylamino) -3-methanesulfonyl
Benzoate, methyl 4- (5-chloro-3-methyl
Benzo [b] thiophen-2-sulfonylamino) -3
-Methanesulfonyl benzoate sodium salt, isop
Ropyl 4- (5-chloro-3-methylbenzo [b] thi
Ofen-2-sulfonylamino) -3-methanesulfo
Nylbenzoate, 5-chloro-3-methylbenzo
[B] Thiophene-2-sulfonic acid (4-acetyl-2)
-Methanesulfonylphenyl) amide, 5-chloro-3
-Methylbenzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4
-Benzoyl-2-methanesulfonylphenyl) amido
, Ethyl 4- (5-chloro-3-methylbenzo
[B] Thiophene-2-sulfonylamino) -3-meta
Sulphonylbenzoate, tert-butyl 4-
(5-chloro-3-methylbenzo [b] thiophene-2
-Sulfonylamino) -3-methanesulfonylbenzoe
, Methyl 4- (5-chloro-3-methylbenzo)
[B] thiophen-2-sulfonylamino) -3-eta
Sulfonylbenzoate, methyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -5-methanesulfonyl-2-methylbenzoate
G, dimethyl 4- (5-chloro-3-methylbenzo)
[B] Thiophene-2-sulfonylamino) isophthale
, Methyl 4- (5-chloro-3-methylbenzo)
[B] thiophen-2-sulfonylamino) -3-methoate
Xybenzoate, methyl 4- (5-chloro-3-meth
Tylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylamino)
-3-nitrobenzoate, ethyl 4- (5-chloro
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) benzoate, 5-chloro-3-methylbenzo
[B] Thiophene-2-sulfonic acid (2,4-dimethane
Sulfonylphenyl) amide, 5-chloro-3-methyl
Benzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-acetyl
2-nitrophenyl) amide, 5-chloro-3-meth
Tylbenzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-h
Droxymethyl-2-methanesulfonylphenyl) amido
, 5-chloro-3-methylbenzo [b] thiophene-
2-sulfonic acid (4-benzoylphenyl) amide, 5
-Chloro-3-methylbenzo [b] thiophen-2-s
Sulfonic acid (2-methanesulfonylphenyl) amide,
Tyl 4- (5-fluoro-3-methylbenzo [b] thi
Ofen-2-sulfonylamino) -3-methanesulfo
Nylbenzoate, methyl 4- (5-methyl-3-meth
Tylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylamino)
-3-methanesulfonylbenzoate, 5-fluoro-
3-methylbenzo [b] thiophene-2-sulfonic acid
(4-acetyl-2-methanesulfonylphenyl) amido
De, methyl 4- (3-methylbenzo [b] thiophene
-2-sulfonylamino) -3-methanesulfonylben
Zoate, 2- [4- (5-chloro-3-methylbenzo)
[B] Thiophene-2-sulfonylamino) -3-meta
Nsulfonylphenyl] oxazole-4-carboxylic acid
Methyl ester, 2- [4- (5-fluoro-3-methyl
Rubenzo [b] thiophen-2-sulfonylamino)-
3-methanesulfonylphenyl] oxazole-4-ca
Rubonic acid methyl ester, 2- [4- (5-chloro-3
-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylami
No) -3-Methanesulfonylphenyl] oxazole-
4-carboxylic acid, 2- [4- (5-fluoro-3-methyl)
Rubenzo [b] thiophen-2-sulfonylamino)-
3-methanesulfonylphenyl] oxazole-4-ca
Rubonic acid, 2- [4- (5-chloro-3-methylbenzo)
[B] Thiophene-2-sulfonylamino) -3-meta
Nsulfonylphenyl] oxazole-4-carboxylic acid
Disodium salt, 2- [4- (5-fluoro-3-methyl
Rubenzo [b] thiophen-2-sulfonylamino)-
3-methanesulfonylphenyl] oxazole-4-ca
Disodium rubonate, 5-fluoro-N- (2-meth
Tansulfonyl-4-oxazol-5-ylphenyi
L) -3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfo
Amide, 2- [4- (5-fluoro-3-methylben
Zo [b] thiophen-2-sulfonylamino) -3-meth
Tansulfonylphenyl] thiazole-4-carboxylic
Acid, 2- [4- (5-fluoro-3-methylbenzo)
[B] Thiophene-2-sulfonylamino) -3-meta
Sulfonylphenyl] thiazole-4-carboxylic acid
Tyl ester, 5-fluoro-N- [4- (4-hydro
(Xymethylthiazol-2-yl) -2-methanesulfo
Nylphenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene-
2-sulfonamide, 5-fluoro-N- [2-methane
Sulfonyl-4- (4-methylthiazol-2-yl)
Phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophen-2-
Sulfonamide, 5-fluoro-N- [2-methanesulfur
Honyl-4- (2-methylthiazol-4-yl) fe
Nil] -3-methylbenzo [b] thiophen-2-sul
Honamide, 5-fluoro-N- [2-methanesulfoni
4- (5-methylthiazol-2-yl) phenyl
3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfo
Amide, 5-fluoro-N- [2-methanesulfonyl
-4- (5-methoxy-4-methylthiazol-2-i
L) phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene-
2-sulfonamide, 5-fluoro-N- [2-methane
Sulfonyl-4- (4,5-dimethylthiazole-2-
Yl) phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene
-2-sulfonamide, 5-fluoro-N- [4- (4
-Hydroxymethyloxazol-2-yl) -2-me
Tansulfonylphenyl] -3-methylbenzo [b] thi
Offen-2-sulfonamide, 5-fluoro-N-
[2-methanesulfonyl-4- (4-methyloxazo
Ru-2-yl) phenyl] -3-methylbenzo [b] thi
Offen-2-sulfonamide, 5-fluoro-N-
[2-Methanesulfonyl-4- (5-methoxy-4-me
Tyloxazol-2-yl) phenyl] -3-methyl
Benzo [b] thiophene-2-sulfonamide, 5-f
Fluoro-N- [2-methanesulfonyl-4- (4,5-
Dimethyloxazol-2-yl) phenyl] -3-me
Tylbenzo [b] thiophene-2-sulfonamide, 5
-Fluoro-N- [2-methanesulfonyl-4- (5-
Methyloxazol-2-yl) phenyl] -3-methyi
Rubenzo [b] thiophene-2-sulfonamide, 5-
Fluoro-N- [2-methanesulfonyl-4-((E)
-2-methanesulfinyl-2-methylsulfanyl-
Vinyl) phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene
2-sulfonamide. Next, the N-substituted benzothiophene of the present invention
Preparation of a rufonamide derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof
The manufacturing method will be described. Compounds of general formula (I) according to the invention
Is manufactured by the manufacturing method described by the reaction formula shown below.
can do. [0035] Embedded image That is, the compound represented by the compound (III)
Mining dioxane, tetrahydrofuran (hereinafter THF)
), Acetone, dimethylformamide (hereinafter D)
MF), dimethyl sulfoxide (hereinafter, DMSO)
Abbreviated), chloroform, pyridine, etc. or a mixture thereof
In a solvent, the temperature ranges from -10 ° C to the boiling point of the solvent.
Lium amide, lithium amide, sodium hydride, charcoal
Acid potassium, potassium tert-butoxide, triethyl
Ruamine, ethyldiisopropylamine, pyridine,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7
-Sulfo in the presence of a base such as -ene (hereinafter abbreviated as DBU).
Manufactured by reacting with nyl chloride (II)
be able to. In addition, R of the compound of the general formula (I)ThreeIs low
Primary alkylsulfonyl group, RFiveIs a hydrogen atom, and R
FourBut, [0037] Embedded image Wherein A is the same as in the general formula (I)
Righteous, RTenAnd R11May be different
And may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom.
Lower alkyl group, lower alkoxy group, hydroxy lower alkyl
Kill group, lower alkoxycarbonyl group or carboxyl
Represents a group).
Can also be. In this case, R11Is a substituent other than a hydrogen atom
In the case of the compound having, the compound of the general formula (I)
Manufactured by the manufacturing method described in the reaction formula
Can also be. [0039] Embedded image That is, a method known in the literature (J. Med.
Chem. , 40, 2017 (1997)).
A compound represented by compound (IV) synthesized from chlorobenzoic acid
Min (wherein, R12And R13Represents a lower alkyl group)
Dioxane, THF, acetone, DMF, DMSO,
In loroform, pyridine or the like or a mixed solvent thereof, -1
Sodium amyloid in the range of 0 ° C to the boiling point of the solvent.
, Lithium amide, sodium hydride, potassium carbonate
, Potassium tert-butoxide, triethylamido
, Ethyldiisopropylamine, pyridine, DBU, etc.
With sulfonyl chloride (II) in the presence of a base
To give compound (V) (Step B),
The compound (VI) is obtained by the dissolution (Step C). Next, the compound
(VI) and an amine represented by the general formula (VII) (R14Is hydrogen
An atom or lower alkyl groupFifteenIs a lower alkyl group or
Lower alkoxy group) is triethylamine, ethyl
In the presence of a base such as diisopropylamine or DBU, N,
N'-dicyclohexylcarbodiimide (hereinafter referred to as DCC
Abbreviated), 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopro
Condensing agents such as pillcarbodiimide (hereinafter abbreviated as EDC)
To obtain a compound (VIII) (Step D).
Using phosphorus oxychloride or diphosphorus pentasulfide, compound (I)
a) (Step E)
You. Further, R11For compounds where is a hydrogen atom
In this case, the compound of the general formula (I) is represented by the following reaction formula.
It can also be manufactured by the manufacturing method described. [0042] Embedded image That is, compound (VI) and serine ester
Hydrochloride, cysteine ester hydrochloride or S-trityl
Cysteine ester etc.
In the presence of bases such as isopropylamine and DBU,
Compound (IX) obtained by reacting with a condensing agent (in the formula,
R16Is a hydroxy optionally having a protecting group such as a trityl group
Represents a methyl group or a mercaptomethyl group;17Is low
An alkyl group) can be prepared by a method known in the literature (Tetrah
edron. Letters. , 33, 907 (199
2). Org. Chem. , 38, 26 (197
3). Org. Chem. , 58, 4494 (19
93), Org. Lett. , 2,1165 (200
0), Tetrahedron. Letters. , 4
2,4171 (2001)).
(Steps F and G). Further reduction of the ester group
By converting to a hydroxymethyl group, the compound (I)
c) can be produced (step H). Also, compounds
Compound (Id) is obtained by halogenating (Ic).
(R18Represents a halogen atom)
(Step I), and further reduction of a halogen atom of the compound (Id)
Compound (Ie) by converting to a methyl group
Can be produced (Step J). The compound (I
Compound (If) is obtained by ester hydrolysis of b).
Can be produced (step K). [0044] Embedded image Further, R of the compound of the general formula (I)ThreeBut low
Alkylsulfonyl group, RFiveIs a hydrogen atom, and RFourBut, [0046] Embedded image If (R19And R20Are different
May be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom
Lower alkyl group, lower alkoxy group,
A xy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group or
A carboxyl group) is a compound of the general formula (I)
Is manufactured by the manufacturing method described by the reaction formula shown below.
You can also. [0048] Embedded image That is, compound (XI) (wherein R12Is
From the same meaning as described above, a method known in the literature (JP-A-200
0-256262), compound (XII) (wherein R
twenty oneRepresents a halogen atom) (step L). More
Ring closure with oacetamide or formamide
To produce compound (Ig) (step
M). In addition, R of the compound of the general formula (I)ThreeIs low-grade alk
Rusulfonyl group, RFiveIs a hydrogen atom, and RFourBut, [0050] Embedded image In the case of, it is explained by the following reaction formula.
It can be manufactured by the manufacturing method described below. [0052] Embedded image That is, compound (V) (wherein R12Is before
As defined above), followed by oxidation
Compound (XIV) converted to an aldehyde group by
(Steps N and O), a method known from the literature (Bull. Che.
m. Soc. Jpn. , 52, 2013 (1979))
(Ih) can be produced (step
P). The thus obtained general formula (I)
Compounds can be used for recrystallization, column chromatography, etc.
It can be isolated and purified by appropriate means. General of the invention
The compound of formula (I) is prepared by a conventional method using a pharmaceutically acceptable acid.
Or salts with bases, hydrochlorides, hydrobromic acid depending on the compound
Inorganic such as salt, hydroiodide, sulfate, nitrate and phosphate
Acid salts, acetates, trifluoroacetates, oxalates,
Fumarate, maleate, tartrate, mesylate,
Salts with organic acids such as silates, sodium salts, potassium salts
Alkaline earths such as calcium salts and salts with alkali metals
It can lead to salts with similar metals. The compound of the general formula (I) includes an asymmetric carbon atom
May be present. In the present invention
Is the isolated form of these various isomers and
A mixture of sexes is included. Also, a compound of the general formula (I)
Include hydrates and various solvates. General formula (I)
Include all of their crystalline forms. General
The compound of formula (I) or a pharmaceutically acceptable salt thereof is
It can be administered orally or parenterally. For administration
Dosage form is a pharmaceutically acceptable excipient
Agent, binder, buffer, thickener, stabilizer, emulsifier, dispersion
Agents, suspending agents, preservatives, etc. can be added
It can be formulated by a method. As the preparation for oral administration, for example, tablets (sugars)
(Including coated tablets and film-coated tablets), pills, granules
Preparations, powders, capsules (including soft capsules), liquids
Preparations, syrups, emulsions, suspensions and the like. This sutra
Oral preparations are commonly used additives in the pharmaceutical field
And can be produced according to a known method.
Such additives include, for example, lactose, mannitol
Excipients, such as anhydrous calcium hydrogen phosphate, hydroxy
Propyl cellulose, methyl cellulose, polyvinyl
Binders such as loridone, starch, carboxymethylcell
Disintegrators such as loin, magnesium stearate, talc
And the like. Parenterally, injections, rectal preparations,
It can be administered as a local administration agent or the like. As an injection
Examples thereof include a sterile solution or suspension. this
These injections are, for example, compounds of the formula (I) or pharmaceuticals thereof.
Dissolvable or suspended in the Japan Pharmacopoeia water for injection.
It is manufactured by If necessary, such as sodium chloride
Tonicity agent, sodium hydrogen phosphate, sodium hydrogen phosphate
And a solubilizing agent such as a buffer. Also,
Dissolving (powder-filled, freeze-dried) injection for use
In this case, excipients such as mannitol and lactose
It can be added and produced in a usual manner. Examples of the rectal preparations include suppositories and the like.
You. Suppositories include, for example, compounds of general formula (I) or
Soluble salts in bases such as cocoa butter and macrogol
After dissolving or suspending, it is manufactured by pouring into a mold and molding.
Also, put the liquid or cream in a container for injection and administer rectally
It can also be a formulation. Formulation for topical administration is liquid, eye drops
Preparations, creams, ointments, gel preparations, sprays, powders, etc.
No. The solution is a compound of the formula (I) or a drug thereof
Add a biologically acceptable salt to the water and add stabilizers,
It is manufactured by adding a thickener, dispersant, suspending agent, etc. as necessary.
Can be Gelatin, here
Sodium luronate, high molecular weight dextran, alginic acid
Using sodium, sodium chondroitin sulfate, etc.
Can be Eye drops are buffer, pH adjuster, isotonic
It can be produced by adding a preservative in addition to the agent. K
Reams and ointments may be formulated with an aqueous or oily base such as water,
Animal paraffin, vegetable oil (peanut oil, castor oil, etc.),
It can be manufactured using macrogol or the like. gel
Preparations can be prepared using known methods, such as gelatin, pectin,
Genan, agar, tragacanth, alginate, cellulose
Ether (methyl cellulose, sodium
Acetylcellulose), pectin derivatives, polyacryle
Sheet, polymethacrylate, polyvinyl alcohol and
And polyvinylpyrrolidone.
Wear. The spray is a compound of general formula (I) or a drug thereof.
After dissolving or suspending a physiologically acceptable salt in water or the like,
It can be manufactured in a play container. Powder
In such a case, the compound of the general formula (I) or a pharmaceutically acceptable compound thereof is
The salt can be used as it is,
It can be manufactured by mixing with an agent. Also, the general formula
A compound of (I) or a pharmaceutically acceptable salt thereof,
Make a solution on a sheet of tin sponge, hyaluronic acid, etc.
Can also be administered
Can also be administered. Compounds of general formula (I) or pharmaceutically acceptable
The daily adult dosage of acceptable salt is based on the oral dose.
In this case, about 10 μg to 1 g is appropriate and about 100 μg
g to 100 mg are preferred. When administering as injection
Is administered 1/10 to 1/2 of the oral dose
Just do it. In addition, in the case of local administration directly to the surgical site,
One ng to 1 g may be administered. These doses are
Increase or decrease appropriately according to the condition of surgery, weight, age, etc. of the elderly
Is possible. A compound of general formula (I) or
Acceptable salt toxicity is low, against 6-week-old male rats
3 days after oral administration (single, 300 mg / kg)
There are no notable toxicological findings, and the safety of these compounds is
It is determined to be high. [0060] EXAMPLES The present invention will be described below with reference to Examples and Test Examples.
As will be described in more detail, the present invention is limited by these.
It is not something to be done. Reference Example 1 [4- (5-fluoro-3-
Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylami
No) -3-Methanesulfonyl] benzoic acid Dissolve 24.8 g of compound 17 in 500 mL of methanol
Then, 50 mL of 1 mol / L sodium hydroxide was added. Addition
After stirring under heat reflux for 3 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a residue.
Water was added to the residue and washed with ether. 2mol / L in aqueous layer
Add hydrochloric acid and extract with ethyl acetate.
After washing with water, it was dried over anhydrous sodium sulfate. Solvent
The residue obtained by evaporation under reduced pressure was washed with ether to give a colorless powder.
To give 14.3 g of the title compound. Melting point: 290 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.66 (3H, s), 3.05 (3H, s), 6.76
(1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 7.45 (1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 7.
75 (1H, dd, J = 4.6,9.0Hz), 7.82 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.17
(1H, dd, J = 2.0,8.8Hz), 8.49 (1H, d, J = 2.0Hz). IR νmax(KBr): 3239,2925,1687,1609,1501,1442,142
1,1400,1356,1287,1161 cm-1. Reference Example 2 (2S) -2- [4- (5-
Fluoro-3-methylbenzo [b] thiophen-2-s
Ruphonylamino) -3-methanesulfonylphenylcar
Boxyamide] propionic acid methyl ester 3.78 g of L-alanine methyl ester hydrochloride was added to dichloromethane.
Suspended in 100 mL of dichloromethane, and triethylamine at 0 ° C.
3.8 mL was added. Here, the compound 10.0 of Reference Example 1 was added.
g of dichloromethane suspension was added. At the same temperature
After stirring for 5 minutes, 5.19 g of EDC hydrochloride was added, and the mixture was brought to room temperature.
And stirred for 19 hours. Stop the reaction with 1 mol / L hydrochloric acid
After that, the dichloromethane layer was separated, and the solvent was distilled off under reduced pressure.
Ethyl acetate-THF mixed solution (1:
1) was added thereto, and the mixture was washed successively with water and a saturated saline solution.
It was dried with gnesium. The solvent was obtained by evaporation under reduced pressure.
The residue was washed with methanol to give the title compound as a colorless powder.
9.22 g of the product were obtained. Melting point: 162-163 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.49 (3H, d, J = 7.3Hz), 2.69 (3
H, s), 3.07 (3H, s), 3.79 (3H, s), 4.74 (1H, dq, J
= 7.3,7.3Hz), 6.96 (1H, d, J = 7.3Hz), 7.28 (1H, ddd, J
= 2.4,8.6,8.8Hz), 7.47 (1H, dd, J = 2.4,9.2Hz), 7.77
(1H, dd, J = 4.7,8.8Hz), 7.81 (1H, d, J = 8.7Hz), 7.89
(1H, dd, J = 2.0,8.7Hz), 8.25 (1H, d, J = 2.0Hz), 9.71
(1H, s). IR νmax(KBr): 3323,3222,3068,3003,2924,1737,163
6,1607,1496,1306,1165,924 cm-1. Reference Example 3 4- (5-fluoro-3-meth
Tylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylamino)
-3-Methanesulfonylbenzaldehyde Dissolve 830 mg of compound 75 in 25 mL of ethyl acetate,
4.15 g of neutral manganese dioxide is added and stirred at room temperature for 5 hours
did. Dilute the reaction solution with ethyl acetate and filter through celite.
To remove manganese dioxide. Evaporation of the solvent, colorless powder
As a result, 696 mg of the title compound was obtained. Melting point: 167-170 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.70 (3H, s), 3.10 (3H, s),
7.31 (1H, ddd, J = 2.4, 8.7, 9.0Hz), 7.48 (1H, dd, J =
2.4, 9.0Hz), 7.78 (1H, dd J = 4.5, 9.0Hz), 7.96 (1
H, d, J = 8.7Hz), 8.06 (1H, dd, J = 2.1, 8.7Hz), 8.36
(1H, d, J = 2.1Hz), 9.90 (1H, s), 9.92 (1H, s). IR νmax(KBr): 3260,1694,1602,1496,1308,1164,91
2 cm-1. [Production Example 1] Methyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-methanesulfonylbenzoate (compound
Synthesis of 1) Methyl 4-amino-3-methanesulfonylbenzoate
985 mg of THF mixed with 20 mL of THF and 3 mL of DMF
Dissolve in solvent and add sodium hydride (oil, 60
%) 170 mg was added. After stirring at the same temperature for 20 minutes,
5-chloro-2-chlorosulfonyl-3-methyl at C
Add 1.28 g of benzo [b] thiophene and add 1 at room temperature.
Stirred for hours. In addition, at room temperature, sodium hydride (oil
150%) and stirred at the same temperature for 2 hours.
Was. After confirming the disappearance of the raw materials, saturated ammonium chloride was added at 0 ° C.
After stopping the reaction by adding water, the mixture was extracted with ethyl acetate,
After washing the organic layer with saturated saline, anhydrous sodium sulfate was used.
Dried. After evaporation of the solvent, silica gel chromatography
(Ethyl acetate: hexane = 3: 1), colorless powder
As a result, 911 mg of the title compound was obtained. Melting point: 179-181 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.70 (3H, s), 3.06 (3H, s), 3.90
(3H, s), 7.48 (1H, dd, J = 2.1,8.6Hz), 7.74 (1H, d, J = 8.
6Hz), 7.89 (1H, d, J = 2.1Hz), 7.86 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.
19 (1H, dd, J = 2.0,8.8Hz), 8.50 (1H, d, J = 2.0Hz), 9.84
(1H, s). IR νmax(KBr): 3217,1720,1608,1504,1442,1392,130
8,1165,1119 cm-1. [Production Example 2] Ethyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-methanesulfonylbenzoate (compound
Synthesis of 2) Ethyl 4-amino-3-methane as in Production Example 1
As a colorless powder from 559 mg of sulfonyl benzoate
529 mg of the title compound were obtained. Melting point: 167-169 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.36 (3H, t, J = 7.1Hz), 2.70 (3H,
s), 3.06 (3H, s), 4.36 (2H, q, J = 7.1Hz), 7.47 (1H, dd,
J = 2.0,8.8Hz), 7.74 (1H, d, J = 8.8Hz), 7.78 (1H, d, J = 2.
0Hz), 7.86 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.19 (1H, dd, J = 2.0,8.8H
z), 8.50 (1H, d, J = 2.0Hz), 9.83 (1H, brs). IR νmax(KBr): 3224,2985,1716,1608,1500,1358,130
0,1142 cm-1. [Production Example 3] tert-butyl 4- (5
-Chloro-3-methylbenzo [b] thiophen-2-s
Ruphonylamino) -3-methanesulfonylbenzoate
Synthesis of (Compound 3) Tert-Butyl 4-amino-
Colorless from 128 mg of 3-methanesulfonylbenzoate
148 mg of the title compound were obtained as a powder. Melting point: 236-238 ℃1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.54 (9H, s), 2.52 (3H, s), 3.28
(3H, s), 7.55-7.80 (4H, m), 8.00 (1H, s), 8.25-8.30
(1H, m). IR νmax(KBr): 3467,2974,2327,1705,1662,1597,147
7,1396,1296,1130,1099cm-1. [Production Example 4] Methyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-ethanesulfonyl benzoate (compound
Synthesis of 4) Methyl 4-amino-3-ethane as in Production Example 1
76 mg of sulfonyl benzoate as a colorless powder
80 mg of the title compound were obtained. Melting point: 172-173 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.27 (3H, t, J = 7.3Hz), 2.74 (3H,
s), 3.24 (2H, q, J = 7.3 Hz), 3.77 (3H, s), 7.20-7.31 (2
H, m), 7.43-7.56 (3H, m), 8.31 (1H, s). IR νmax(KBr): 3482,3217,2931,1709,1597,1481,143
9,1284,1126 cm-1. [Production Example 5] Methyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -5-methanesulfonyl-2-methylbenzoate
Synthesis of compound (compound 5) Methyl 4-amino-5-methanesulfonyl-2-methyl
Dissolve 135mg of lubenzoate in THF (10mL)
And sodium hydride (oil, 60%) 22m at room temperature
g was added. After stirring at the same temperature for 20 minutes,
Loro-2-chlorosulfonyl-3-methylbenzo [b]
After adding thiophene (130 mg) and stirring at room temperature for 1 hour,
The mixture was refluxed for 5 hours. DMF (1 mL), hydrogenation
22 mg sodium (oil, 60%) and 5-chloro-
2-chlorosulfonyl-3-methylbenzo [b] thiof
The mixture was heated under reflux for 2.5 hours. Raw material consumption
After confirming the loss, add saturated aqueous ammonium chloride at 0 ° C.
After terminating the reaction, extraction with ethyl acetate was performed to saturate the organic layer.
After washing with a saline solution, the extract was dried over anhydrous sodium sulfate.
After evaporating the solvent, silica gel chromatography (ethyl acetate)
Hexane = 3: 2) and purified as a colorless powder.
102 mg of the title compound were obtained. Melting point: 205-207 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.65 (3H, s), 2.71 (3H, s), 3.04
(3H, s), 3.87 (3H, s), 7.49 (1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 7.
68 (1H, s), 7.77 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.80 (1H, d, J = 2.0H)
z), 8.42 (1H, s), 9.73 (1H, s). IR νmax(KBr): 3259,1728,1604,1554,1504,1439,138
5,1354,1300,1257,1157,1092 cm-1. Production Example 6 Dimethyl 4- (5-chloro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Synthesis of amino) isophthalate (compound 6) 115 mg of dimethyl 4-aminoisophthalate was added to TH
F8mL dissolved in sodium hydride (oil, 60%)
22 mg was added, and the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes.
5-chloro-2-chlorosulfonyl-3-methylben
130 mg of zo [b] thiophene was added, and the mixture was added at room temperature for 30 minutes
While stirring. Further sodium hydride (oil, 60%)
26 mg was added, and the mixture was heated under reflux for 6 hours. Confirmed disappearance of raw materials
Then, the reaction was quenched by adding saturated aqueous ammonium chloride at 0 ° C.
After stopping, extraction was performed with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated saline.
And then dried over anhydrous sodium sulfate. Solvent evaporation
Followed by silica gel chromatography (ethyl acetate:
Purified by Sun = 1: 1), as pale yellow amorphous
62 mg of the title compound were obtained.1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.64 (3H, s), 3.88 (3H, s), 3.95
(3H, s), 7.44 (1H, dd, J = 2.0,8.8Hz), 7.71 (1H, d, J = 8.
8Hz), 7.74 (1H, d, J = 2.0Hz), 7.86 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.
11 (1H, dd, J = 2.0,8.8Hz), 8.63 (1H, d, J = 2.0Hz). IR νmax(KBr): 3440,3140,2954,1724,1693,1608,150
0,1439,1331,1246,1165,1119 cm-1. [Production Example 7] Methyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Synthesis of Mino) -3-methoxybenzoate (Compound 7) Methyl 4-amino-3-methoxybenzoate 120
mg and 5-chloro-2-chlorosulfonyl-3-methyl
Lubenzo [b] thiophene 150 mg in pyridine 4 mL
And stirred at room temperature for 14 hours. Confirmed disappearance of raw materials
Thereafter, the reaction was stopped by adding water at 0 ° C., and then ethyl acetate was added.
, And the organic layer is washed with a saturated saline solution.
Dry with thorium. After evaporation of the solvent, silica gel chromatography
For chromatography (chloroform: methanol = 9: 1)
The title compound 110m as a colorless amorphous
g was obtained.1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.55 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3.86
(3H, s), 7.42 (1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 7.45 (1H, dd, J =
2.0,8.6 Hz), 7.61 (1H, d, J = 2.0Hz), 7.62 (1H, d, J = 8.6
Hz), 7.68 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.71 (1H, d, J = 2.0Hz). IR νmax(KBr): 3248,2951,1716,1601,1512,1439,135
0,1284,1242,1161,1115cm-1. [Production Example 8] Methyl 4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Synthesis of Mino) -3-nitrobenzoate (Compound 8) Methyl 4-amino-3-nitro was prepared in the same manner as in Production Example 6.
Title compound as yellow powder from benzoate 122mg
146 mg were obtained. Melting point: 164-165 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2,47 (3H, s), 3.84 (3H, s), 7.56
(1H, d, J = 8.6Hz), 7.57 (1H, brd, J = 8.6Hz), 8.01 (1H,
d, J = 1.8Hz), 8.06 (1H, d, J = 8.6Hz), 8.07 (1H, brd, J = 8.
6Hz), 8.25 (1H, d, J = 1.8Hz). IR νmax(KBr): 3442,3237,3060,2949,1732,1621,153
5,1507,1440,1356,1297,1164,1106 cm-1. [Production Example 9] 5-chloro-3-methylben
Zo [b] thiophene-2-sulfonic acid (2,4-dimeta
Synthesis of Nsulfonylphenyl) amide (Compound 9) In the same manner as in Production Example 6, 2,4-dimethanesulfonylani
The title compound (368m) as a colorless powder from 200mg of phosphorus
g was obtained. Melting point: 176-178 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2,65 (3H, s), 3.00 (3H, s), 3.
07 (3H, s), 7.44 (1H, dd, J = 1.8,8.6Hz), 7.71 (1H, d, J =
8.6Hz), 7.76 (1H, d, J = 1.8Hz), 7.92 (1H, d, J = 8.8Hz),
8.04 (1H, dd, J = 1.8,8.8Hz), 8.34 (1H, d, J = 1.8Hz). IR νmax(KBr): 3236,3020,1593,1489,1392,1354,130
4,1157 cm-1. [Production Example 10] 5-chloro-3-methylbe
Nzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-acetyl
Synthesis of -2-nitrophenyl) amide (Compound 10) In the same manner as in Production Example 6, 4-acetyl-2-nitroanili
96 mg of the title compound was obtained as a colorless powder in 59 mg.
Was. Melting point: 130-131 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.58 (3H, s), 2.69 (3H, s), 7.46
(1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 7.73 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.78 (1
H, d, J = 2.0Hz), 8.05 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.16 (1H, dd, J =
1.8,8.8 Hz), 8.74 (1H, d, J = 1.8Hz). IR νmax(KBr): 3745,3479,3363,3262,3089,2927,285
8,1689,1620,1531,1419,1354,1115,1080 cm-1. [Production Example 11] 5-chloro-3-methylbe
Nzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-acetyl
-2-methanesulfonylphenyl) amide (compound 1
Synthesis of 1) 4-amino-3-methanesulfonylacetophenone 24
1mg in a mixed solvent of THF20mL and DMF5mL
Dissolve and at -78 ° C sodium hydride (oil, 60
%) 136 mg were added. After stirring at the same temperature for 20 minutes,
At 78 ° C, 5-chloro-2-chlorosulfonyl-3-me
Add 350 mg of tylbenzo [b] thiophene and gradually
The mixture was heated and stirred at -10 ° C for 1 hour. Confirmed disappearance of raw materials
Then, the reaction was quenched by adding saturated aqueous ammonium chloride at 0 ° C.
After stopping, extraction was performed with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated saline.
And then dried over anhydrous sodium sulfate. Solvent evaporation
Followed by silica gel chromatography (ethyl acetate:
Sun = 1: 1) to give the title compound as a colorless powder
427 mg were obtained. Melting point: 207-209 ℃1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.56 (3H, s), 2.69 (3H, s), 3.07
(3H, s), 7.46 (1H, dd, J = 1.9,8.7Hz), 7.72-7.79 (2H,
m), 7.86 (1H, d, J = 8.6Hz), 8.10 (1H, d, J = 8.6Hz), 8.40
(1H, d, J = 1.9Hz). IR νmax(KBr): 3456,3236,3086,3005,2924,2854,167
0,1593,1489,1389,1354,1308,1261,1165,1130,1053 cm
-1. [Production Example 12] 5-chloro-3-methylbe
Benzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-benzoyi)
2-methanesulfonylphenyl) amide (compound 1
Synthesis of 2) In the same manner as in Production Example 11, 4-amino-3-methanesulfo
Titled as colorless powder from 94 mg of Nylbenzophenone
68 mg of the compound were obtained. Melting point: 144-146 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.70 (3H, s), 3.08 (3H, s), 7.45-
7.50 (3H, m), 7.58-7.62 (2H, m), 7.68-7.71 (4H, m),
7.85 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.97 (1H, d, J = 8.6Hz), 8.31 (1
H, brs). IR νmax(KBr): 3456,3248,3001,2927,2858,2256,170
9,1655,1597,1496,1450,1389,1350,1308,1161,1130,108
4 cm-1. [Production Example 13] 5-chloro-3-methyl
Benzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-hydro
Xymethyl-2-methanesulfonylphenyl) amide
Synthesis of (Compound 13) 305 mg of the compound of Production Example 1 in 10 mL of toluene
And cooled to -78 ° C.
2.2m toluene solution of isobutylaluminum hydride
L was added. After stirring at the same temperature for 20 minutes, gradually to 0 ° C
The mixture was heated and stirred for 1 hour. The reaction was stopped by adding water to the reaction solution.
After stopping, dilute with ethyl acetate and add sodium tartrate
And saturated aqueous potassium solution, and stirred at room temperature for 30 minutes.
Was. Extract with ethyl acetate, wash the organic layer with saturated saline
Then, it was dried over anhydrous sodium sulfate. After evaporation of the solvent,
Ricagel chromatography (ethyl acetate: hexane =
1: 1) to give the title compound 230 as a colorless powder.
mg was obtained. Melting point: 183-184 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.83 (1H, brs), 2.69 (3H, s), 2.9
7 (3H, s), 4.69 (2H, d, J = 5.7Hz), 7.47 (1H, dd, J = 2.1,
8.7Hz), 7.57 (1H, dd, J = 2.1,8.7Hz), 7.74 (1H, d, J = 9.3
Hz), 7.78 (1H, d, J = 9.3Hz), 7.79 (1H, d, J = 2.1Hz), 7.8
6 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.49 (1H, brs). IR νmax(KBr): 3563,3236,1612,1500,1392,1277,1142
cm-1. [Production Example 14] Ethyl 4- (5-chloro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Synthesis of amino) benzoate (compound 14) 60 mg of 4-aminobenzoic acid ethyl ester in pyridine
Dissolve in 3 mL, and add 5-chloro-2-chlorosulfur at 0 ° C.
Phonyl-3-methylbenzo [b] thiophene 123 mg
Was added and stirred at room temperature for 2 hours. After confirming the disappearance of raw materials, 2
mol / L hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with ether.
After washing with brine, drying over anhydrous magnesium sulfate
Was. The solvent was distilled off under reduced pressure.
Column chromatography (ethyl acetate: hexane =
1: 3) to give the title compound 80 as a pale pink powder.
mg was obtained. Melting point: 224-226 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 1.26 (3H, t, J = 7.1Hz), 2.50 (3
H, s), 4.23 (2H, q, J = 7.1Hz), 7.27 (2H, d, J = 8.8Hz), 7.
57 (1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 7.84 (2H, d, J = 8.8Hz), 8.01
(1H, d, J = 2.0Hz), 8.05 (1H, d, J = 8.6Hz). IR νmax(KBr): 3213,1696,1608,1511,1347,1288,115
9 cm-1 . [Production Example 15] 5-chloro-3-methylbe
Benzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-benzoyi)
Synthesis of (Ruphenyl) amide (Compound 15) In the same manner as in Production Example 14, 4-benzoylaniline 126
187 mg of the title compound was obtained as a colorless powder from the resulting compound. Melting point: 198-200 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.56 (3H, s), 7.22-7.26 (2H,
m), 7.44-7.48 (3H, m), 7.55-7.60 (1H, m), 7.70-7.76
(6H, m). IR νmax(KBr): 3213,2927,1724,1639,1589,1508,145
0,1408,1288,1234,1149cm-1 . [Production Example 16] 5-chloro-3-methylbe
Nzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (2-methanes
Synthesis of Ruphonylphenyl) amide (Compound 16) 2-methanesulfonylaniline in the same manner as in Production Example 14
From 100 mg, 52 mg of the title compound was obtained as a colorless powder.
Was. Melting point: 191-193 ℃1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.68 (3H, s), 3.00 (3H, s), 7.24-
7.29 (1H, m), 7.35 (1H, s), 7.74-7.80 (2H, m), 7.46
(1H, dd, J = 1.8,8.6Hz), 7.74-7.80 (1H, m), 7.85 (1H, d
d, J = 1.5,7.9Hz). IR νmax(KBr): 3467,3371,3228,3016,2927,2858,171
2,1624,1566,1485,1408,1288,1134,1026 cm-1. [Production Example 17] Methyl 4- (5-fluoro)
B-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfoni
Ruamino) -3-methanesulfonylbenzoate (compound
Synthesis of compound 17) Methyl 4-amino-3-methanesulfonylbenzoate
Was dissolved in 300 mL of THF.
6.10 g of sodium iodide (oil, 60%) was added.
After stirring at the same temperature for 40 minutes, 5-fluoro-2-
Chlorosulfonyl-3-methylbenzo [b] thiophene
16.0 g was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Raw material disappearance
After confirming, the reaction was stopped by adding 2 mol / L hydrochloric acid at 0 ° C.
After stopping, the mixture was extracted with ethyl acetate.
After washing with aqueous sodium hydrogen chloride solution and saturated saline, anhydrous sodium sulfate
Dry with thorium. After evaporating the solvent, the residue was ethyl acetate
The solution is treated with activated carbon and recrystallized (vinegar).
(Ethyl acetate / ether) as a colorless powder
24.8 g of the compound were obtained. Melting point: 202-204 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.69 (3H, s), 3.06 (3H, s), 3.90
(3H, s), 7.28 (1H, ddd, J = 2.6,8.7,8.9Hz), 7.46 (1H, d
d, J = 2.6,9.2Hz), 7.76 (1H, dd, J = 4.7,8.9Hz), 7.87 (1
H, d, J = 8.8Hz), 8.19 (1H, dd, J = 2.0,8.8Hz), 8.50 (1H,
d, J = 2.0Hz), 9.83 (1H, s). IR νmax(KBr): 3182,1724,1604,1504,1442,1396,134
6,1303,1157 cm-1. [Production Example 18] Methyl 4- (5-methyl)
-3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-methanesulfonylbenzoate (compound 1
8) Synthesis Methyl 4-amino-3-methanesulfonylbenzoate
183 mg of THF was dissolved in 8.0 mL of THF.
96 mg of sodium iodide (oil, 60%) were added. same
After stirring at room temperature for 20 minutes, 5-methyl-2-chloro
Losulfonyl-3-methylbenzo [b] thiophene 25
0 mg was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Confirm the disappearance of raw materials
After confirmation, the reaction was stopped by adding 1 mol / L hydrochloric acid at 0 ° C.
After that, the mixture was extracted with chloroform, and the organic layer was extracted with saturated saline.
After washing, it was dried with anhydrous sodium sulfate. Solvent evaporation
Followed by silica gel column chromatography (ethyl acetate
/ Hexane = 3/1 to 1/1) and purified as a colorless powder.
This gave 181 mg of the title compound. Melting point: 179-181 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.48 (3H, s), 2.70 (3H, s), 3.02
(3H, s), 3.89 (3H, s), 7.35 (1H, dd, J = 2.2,8.8Hz), 7.
60 (1H, d, J = 2.2Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.8Hz), 7.88 (1H,
d, J = 8.8Hz), 8.18 (1H, dd, J = 1.8,8.8Hz), 8.50 (1H, d, J
= 1.8Hz). IR νmax(KBr): 3460, 3178,3016,2927,2861,1724,160
4,1500,1439,1396,1300,1130,1061 cm-1. [Production Example 19] 5-Fluoro-3-methyl
Benzo [b] thiophene-2-sulfonic acid (4-acetyl
-2-methanesulfonylphenyl) amide (compound 1
Synthesis of 9) (4-amino-3-methanesulfonyl) acetophenone
6.30 g was mixed with 168 mL of THF and 42 mL of DMF.
Dissolve in a mixed solvent and add sodium hydride (oil
(State, 60%). Stir at the same temperature for 10 minutes
After stirring, 2-chlorosulfonyl-5-fluoro-
8.60 g of 3-methylbenzo [b] thiophene was added,
The mixture was stirred at the same temperature for 4 hours. After confirming the disappearance of raw materials, at the same temperature
The reaction was stopped by adding 1 mol / L hydrochloric acid, and then concentrated hydrochloric acid was added.
PH 1 and extract with chloroform to saturate the organic layer
After washing with brine, the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. Dissolution
After distilling off the solvent, the residue was diluted with chloroform and the solution was
After the treatment with activated carbon, the solvent is distilled off.
And 10.9 g of the title compound was obtained as a colorless powder.
Obtained. Melting point: 174-175 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.56 (3H, s), 2.69 (3H, s), 3.08
(3H, s), 7.29 (1H, ddd, J = 2.5,8.8,8.8Hz), 7.47 (1H, d
d, J = 2.5,8.8Hz), 7.77 (1H, dd, J = 4.6,8.8Hz), 7.84 (1
H, d, J = 8.6Hz), 8.12 (1H, dd, J = 2.2,8.6Hz), 8.42 (1H,
d, J = 2.2Hz), 9.83 (1H, brs). IR νmax(KBr): 3243,3092,3006,2925,1672,1599,144
3,1392,1262,1130,1056,1029 cm-1. [Production Example 20] Methyl 4- (3-methyl)
Benzo [b] thiophen-2-sulfonylamino) -3-
Synthesis of methanesulfonyl benzoate (compound 20) 640mg of 5% palladium / carbon in 30mL of methanol
And 30 mL of dioxane in a mixed solvent.
The mixture was stirred for 10 minutes. Compound 1 under argon atmosphere
  330 mg was added, and the mixture was stirred under a hydrogen atmosphere at 5 atm for 3 days.
Stirred. After confirming the disappearance of the raw materials, the reaction solution was filtered, and silica gel was removed.
Column chromatography (ethyl acetate / hexane =
2/1) to give 70m of the title compound as a colorless powder.
g was obtained. Melting point: 170-172 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.75 (3H, s), 3.04 (3H, s), 3.90
(3H, s), 7.49 (1H, dd, J = 7.1,7.7Hz), 7.51 (1H, dd, J =
7.1,7.7Hz), 7.83 (2H, d, J = 7.7Hz), 7.89 (1H, d, J = 8.8H
z), 8.20 (1H, dd, J = 2.0,8.8Hz), 8.51 (1H, d, J = 2.0H
z), 9.82 (1H, s). IR νmax(KBr): 3209,1720,1604,1500,1442,1392,135
0,1308,1165,1122 cm-1. [Production Example 21] (2S) -2- [4- (5
-Fluoro-3-methylbenzo [b] thiophen-2-
Sulfonylamino) -3-methanesulfonyl] benzoi
Methyl ruamino-3-hydroxy-propionate (compound
Synthesis of compound 21) The compound of Reference Example 1 (14.3 g) was mixed with chloroform (450 m).
L-serine methyl ester hydrochloride at room temperature
After adding 7.54 g and 9.30 g of EDC hydrochloride, 0 ° C.
6.80 mL of triethylamine was added thereto. At the same temperature
After stirring for 2 hours, 2 mol / L hydrochloric acid was added at 0 ° C for reaction.
And then extract with chloroform to saturate the organic layer
After washing with brine, the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. Dissolution
After distilling off the solvent, the residue is subjected to silica gel chromatography (acetic acid).
Ethyl) to yield the title compound as a colorless amorphous
12.9 g of the product were obtained.1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.71 (3H, s), 3.07 (3H, s), 3.81
(3H, s), 4.00 (1H, dd, J = 4.2,11.4Hz), 4.15 (1H, dd, J =
5.4,11.4Hz), 4.85 (1H, dd, J = 4.2,5.4Hz), 7.33 (1H, d
d, J = 2.1,8.6Hz), 7.48 (1H, dd, J = 2.1,8.6Hz), 7.79 (1
H, dd, J = 4.6,8.6Hz), 7.87 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.00 (1H, d
d, J = 2.1,8.8Hz), 8.32 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.76 (1H, s). IR νmax(KBr): 3401,1735,1655,1606,1510,1491,144
0,1353,1308,1164,1136cm-1. [Production Example 22] 2- [4- (5-fluoro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylphenyl] -4,5-
Methyl dihydro-oxazole-4-carboxylate
Synthesis of Compound (Compound 22) Dissolve 12.9 g of compound 21 in 180 mL of THF,
Burgess reagent (J. Org. Chem., 38)
Vol. 26, 1973, J. Mol. Org. Chem. , 5
8, p. 4494, 1993).
Stirred at 0 ° C. for 2 hours. After confirming that the raw materials have disappeared, the solvent is distilled off.
Water, add water and extract with ethyl acetate.
After washing with brine, it was dried over anhydrous sodium sulfate. solvent
After evaporation, the residue was chromatographed on silica gel (acetic acid
Purified by chill: hexane = 9: 1) to give colorless amorpha
As a result, 9.92 g of the title compound was obtained.1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.68 (3H, s), 3.02 (3H, s), 3.81
(3H, s), 4.60 (1H, dd, J = 9.0,10.6Hz), 4.69 (1H, dd, J
= 7.9,9.0Hz), 4.93 (1H, dd, J = 7.9,10.6Hz), 7.29 (1H, d
dd, J = 2.1,8.8,8.8Hz), 7.46 (1H, dd, J = 2.1,8.8Hz), 7.7
6 (1H, dd, J = 4.6,8.8Hz), 7.87 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.15
(1H, dd, J = 2.1,8.8Hz), 8.43 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.81 (1
H, s). IR νmax(KBr): 3226,1737,1647,1608,1498,1441,139
5,1355,1308,1248,1211,1164 cm-1. [Production Example 23] 2- [4- (5-fluoro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylphenyl] oxazo
Synthesis of methyl 4-carboxylate (Compound 23)
Success Compound 22 1.10 g in dichloromethane (40 mL)
In bromotrichloromethane at -20 ° C.
mg was added. Further, 700 mg of DBU was dropped at the same temperature.
After stirring at the same temperature for 5 minutes, the temperature was raised to 0 ° C. for 3.5 hours.
Stirred. After confirming the disappearance of the raw materials,
The reaction was stopped by adding an aqueous solution of thorium, and then ethyl acetate was added.
, And the organic layer is washed with a saturated saline solution.
It was dried with gnesium. After distilling off the solvent,
Matography (ethyl acetate: methanol = 20: 1)
To obtain 597 mg of the title compound as a colorless powder.
Was. Melting point: 290-292 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.70 (3H, s), 3.06 (3H, s), 3.95
(3H, s), 7.30 (1H, ddd, J = 2.4,8.7,8.7Hz), 7.47 (1H, d
d, J = 2.4,9.0Hz), 7.77 (1H, dd, J = 4.8,9.0Hz), 7.94 (1
H, d, J = 9.0Hz), 8.27 (1H, s), 8.28 (1H, dd, J = 2.1,9.0H)
z), 8.57 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.78 (1H, s). IR νmax(KBr): 3243,1720,1618,1590,1518,1485,144
0,1355,1320,1303,1259,1162,1136 cm-1. [Production Example 24] 2- [4- (5-fluoro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylphenyl] oxazo
Synthesis of l-4-carboxylic acid (compound 24) Dissolve 7.85 g of compound 23 in 150 mL of methanol
And a 10% aqueous sodium hydroxide solution (15 mL) at room temperature.
Then, 15 mL of water and water were added, and the mixture was stirred for 15 minutes. Precipitated crystals
Was dissolved by adding 90 mL of water, and
Stirred for hours. After distilling off the solvent, 1 mol / L salt was added to the residue.
After adding 45 mL of acid, the precipitated crystals were collected by filtration and washed with water.
Then, add 100 mL of DMF to the obtained crude crystals and heat to reflux.
did. After hot filtration, add 70 mL of ethanol and reconstitute
Crystallized. The obtained crystals are collected by filtration and alternately added with ethanol and water.
And dried over diphosphorus pentoxide under reduced pressure to give a colorless powder.
As a result, 5.78 g of the title compound was obtained. Melting point: 289-291 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2.55 (3H, s), 3.41 (3H, s), 7.
44 (1H, ddd, J = 1.8,8.7,9.0Hz), 7.64 (1H, d, J = 8.4Hz),
7.79 (1H, dd, J = 1.8,9.9Hz), 8.08 (1H, dd, J = 4.8,8.7H
z), 8.19 (1H, dd, J = 1.8,8.4Hz), 8.41 (1H, d, J = 1.8H
z), 8.84 (1H, s). IR νmax(KBr): 3232,1717,1690,1616,1487,1440,135
5,1313,1161,1140 cm-1. [Production Example 25] 2- [4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-methanesulfonylphenyl] oxazole
Synthesis of -4-carboxylic acid methyl ester (compound 25) Dissolve 495 mg of copper dibromide in dichloromethane (10 mL)
And add 310 mg of hexamethyltetramine at room temperature.
I got it. At 0 ° C, 337 mg of DBU was added dropwise, and the same temperature was maintained for 5 minutes.
After stirring for 30 minutes, 300 mg of compound 47 was added at 0 ° C.
The mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After confirming that the raw materials have disappeared, add vinegar to the reaction mixture.
After adding ethyl acetate, the organic layer is washed with saturated aqueous ammonium chloride.
1: 1 mixture of solution and 25% aqueous ammonia, saturated
After washing with aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated saline, anhydrous
It was dried over magnesium sulfate. After distilling off the solvent,
Chromatography (chloroform: methanol = 1
0: 1) to give the title compound 110 as a colorless powder.
mg was obtained. Melting point: 237-239 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.70 (3H, s), 3.05 (3H, s), 3.95
(3H, s), 7.47 (1H, dd, J = 2.1,8.7Hz), 7.74 (1H, d, J = 8.
7 Hz), 7.79 (1H, d, J = 2.1Hz), 7.93 (1H, d, J = 9.0Hz),
8.27 (1H, s), 8.28 (1H, dd, J = 2.1,9.0Hz), 8.56 (1H, d,
J = 2.1Hz), 9.72 (1H, brs). IR νmax(KBr): 3231,1744,1486,1317,1136 cm-1. [Production Example 26] 2- [4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-methanesulfonylphenyl] oxazole
Synthesis of -4-carboxylic acid (compound 26) From compound 25 (70 mg) in the same manner as in Production Example 24
68 mg of the title compound were obtained as a colorless powder. Melting point: 296-298 ℃1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2.58 (3H, s), 3.37 (3H, s), 7.
55 (1H, dd, J = 2.1,8.7Hz), 7.62 (1H, d, J = 8.7Hz), 8.01
(1H, d, J = 2.1Hz), 8.09 (1H, d, J = 8.4Hz), 8.12 (1H, dd,
J = 2.1,8.4Hz), 8.40 (1H, d, J = 2.1Hz), 8.83 (1H, s). IR νmax(KBr): 3221,2924,1701,1485,1311,1153 cm
-1. [Production Example 27] 2- [4- (5-fluoro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylphenyl] oxazo
Combination of disodium 4-carboxylate (compound 27)
Success Dissolve 290 mg of compound 23 in 30 mL of methanol
Then, 77 mg of sodium methoxide was added. At room temperature
After stirring for 8 hours, ether was added and the precipitated crystals were collected by filtration.
Thereafter, the residue was washed with ether to give the title compound 300 as a colorless powder.
mg was obtained. Melting point: 341-343 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2.49 (3H, s), 3.42 (3H, s), 7.
26 (1H, dd, J = 2.4,8.8,9.0Hz), 7.40 (1H, dd, J = 9.0,9.0
Hz), 7.56 (1H, dd, J = 2.4,8.9Hz), 7.89 (1H, dd, J = 2.2,
9.0Hz), 7.95 (1H, d, J = 9.0Hz), 8.19 (1H, d, J = 2.2Hz). IR νmax(KBr): 3490,1609,1570,1523,1470,1441,140
0,1302,1280,1119 cm-1. Hereinafter, the compounds of Production Examples 28 to 49 in the same manner as in Production Example 1
28-49 were synthesized. [0091] [Table 1][0092] [Table 2][Production Example 50] 2- [4- (5-chloro-
3-methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonylua
Mino) -3-methoxybenzoylamino] acetic acid (compound
Synthesis of 50) 104 mg of the compound of Production Example 37 in 25 mL of ethanol
Dissolve, 1 mol / L sodium hydroxide aqueous solution at room temperature
After adding 1 mL, the mixture was stirred at the same temperature for 15 hours. Raw material consumption
After confirming the loss, the solvent was distilled off and extracted with ether.
ol / L hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate.
After washing with saturated saline, it was dried over anhydrous sodium sulfate.
Was. After distilling off the solvent, the obtained powder was washed with ether,
97 mg of the title compound were obtained as a yellow powder. Melting point: 282-285 ℃1 H-NMR (CDClThree/ CDThreeOD): δ 2.50 (3H, s), 3.82 (2H,
s), 3.84 (3H, s), 7.10-7.15 (2H, m), 7.20-7.35 (2H,
m), 7.60-7.70 (2H, m). IR νmax(KBr): 3394,2974,1604,1554,1493,1412,128
4,1230,1130 cm-1 . [Production Example 51] Methyl 4- (5-chloro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylbenzoate sodium
Synthesis of salt (compound 51) Dissolve 115 mg of the compound of Preparation Example 1 in THF (8 mL)
And sodium hydride (oil, 60%) 15m at room temperature
g was added. After stirring at the same temperature for 1.5 hours, the solvent was distilled off.
The obtained powder was washed with ether and the title was a colorless powder.
61 mg of the compound were obtained. Melting point:> 300 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2.51 (3H, s), 3.37 (3H, s), 3.7
2 (3H, s), 7.39 (1H, d, J = 2.1,8.8Hz), 7.40 (1H, dd, J =
1.8,8.5Hz), 7.68 (1H, dd, J = 1.8,8.8Hz), 7.80 (1H, d, J
= 1.8Hz), 7.93 (1H, d, J = 8.5Hz), 8.23 (1H, d, J = 1.8H
z). IR νmax(KBr): 3448,1705,1597,1481,1442,1292,113
4, 1103 cm-1. Ester hydrolysis of the compounds of Production Examples 43, 44 and 46
After that, it was converted into a sodium salt under the same conditions as in Production Example 51,
Compounds 52 and 53 of Production Examples 52, 53 and 54, respectively
And 54 were synthesized. [0095] [Table 3]Hereinafter, the equipment data of each production example is shown. [0097] [Table 4] [0098] [Table 5][0099] [Table 6][0100] [Table 7][0101] [Table 8][0102] [Table 9] [Production Example 55] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4- (5-methoxy-4-methylthio
Azol-2-yl) phenyl] -3-methylbenzo
[B] Thiophene-2-sulfonamide (compound 55)
Synthesis of Under an argon atmosphere, 2-methanesulfonyl-4- (5-
Methoxy-4-methylthiazol-2-yl) aniline
41 mg of THF (3 mL) -dimethylacetamide (3
mL) of the mixed solution. This is cooled to -25 ° C,
Add 15 mg of sodium hydride (oil, 60%),
For 10 minutes. Further, 2-chlorosulfonyl
-5-fluoro-3-methylbenzo [b] thiophene 4
After adding 4 mg and stirring at the same temperature for 2 hours, 1 mol / L hydrochloric acid was added.
To stop the reaction. After returning the reaction solution to room temperature,
The mixture was extracted with chilled toluene (2: 1).
Washing was sequentially performed with a saline solution. Organic layer is dried with anhydrous sodium sulfate
After drying with a solvent, the residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure is removed.
Silica gel chromatography (ethyl acetate: hexane
= 1: 1) to give the title compound 5 as a pale yellow powder.
1 mg was obtained. Melting point: 216-217 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.29 (3H, s), 2.68 (3H, s), 2.
99 (3H, s), 3.93 (3H, s), 7.27 (1H, ddd, J = 2.6,8.
6,8.8Hz), 7.46 (1H, dd, J = 2.6,9.2Hz), 7.75 (1H, dd, J
= 4.7,8.8Hz), 7.82 (1H, d, J = 8.7Hz), 7.96 (1H, dd, J =
2.1,8.7Hz), 8.25 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.57 (1H, s). IR νmax(KBr): 3202,2989,2910,1604,1558,1501,144
1,1349,1298,1253,1156,1133,926 cm-1. [Production Example 56] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4- (5-methoxy-4-methylo
Xazol-2-yl) phenyl] -3-methylbenzo
[B] Thiophene-2-sulfonamide (compound 56)
Synthesis of 5.28 g of the compound of Reference Example 2 in 26 mL of phosphorus oxychloride
Was added and heated under reflux for 3 hours. Bring the reaction to room temperature and add ice
And extracted with chloroform. Organic layer is saturated with water
Wash sequentially with brine and dry over anhydrous sodium sulfate.
Was. The residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was silica gel
Purified by chromatography (chloroform), colorless powder
As a result, 2.02 g of the title compound was obtained. Melting point: 232-233 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ2.02 (3H, s), 2.57 (3H, s),
3.32 (3H, s), 3.96 (3H, s), 7.46 (1H, ddd, J = 2.5,
9.0,9.0Hz), 7.54 (1H, d, J = 8.4Hz), 7.81 (1H, dd, J =
2.5,9.9Hz), 8.06 (1H, dd, J = 1.9,8.4Hz), 8.10 (1H, d
d, J = 4.9,9.0Hz), 8.26 (1H, d, J = 1.9Hz). IR νmax(KBr): 3253,3083,3000,2922,1665,1491,144
2,1393,1354,1308,1169,1131 cm-1. [Production Example 57] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4- (5-methylthiazole-2-
Yl) phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene
Synthesis of -2-sulfonamide (compound 57) 4- (5-fluoro-3-methylbenzo [b] thiophene
N-2-yl) sulfonamido-3-methanesulfonyl
-N- (2-oxopropyl) benzamide 150 mg
135 mg of diphosphorus pentasulfide in 5 mL of 1,4-dioxane solution
Was added and the mixture was heated under reflux for 4.5 hours. Add water to the reaction mixture
The reaction was stopped, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer is saturated with water
Wash sequentially with Japanese saline and dry over anhydrous sodium sulfate
did. The residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was
Chromatography (hexane: ethyl acetate 2: 1 to 1:
Purify in 1) to give the title compound 115 as amorphous
mg was obtained.1 H-NMR (CDClThree): 2.51 (3H, s), 2.69 (3H, s), 3.02 (3
H, s), 7.27 (1H, ddd, J = 2.4,8.6,8.9Hz), 7.47 (1H, dd, J
= 2.4,9.2Hz), 7.50 (1H, s), 7.76 (1H, dd, J = 4.8,8.9H
z), 7.86 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.05 (1H, dd, J = 2.1,8.8Hz),
 8.35 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.64 (1H, s). IR νmax(KBr): 3240,3010,2926,1607,1499,1353,130
2,1160,994 cm-1. Hereinafter, Production Example 5 is performed in the same manner as Production Example 56 and Production Example 57.
Compounds 8 to 62 were synthesized. [0106] [Table 10] [Production Example 63] 5-Fluoro-N- [4-
(4-hydroxymethylthiazol-2-yl) -2-
Methanesulfonylphenyl] -3-methylbenzo [b]
Synthesis of Thiophene-2-sulfonamide (Compound 63) 298 mg of lithium aluminum hydride in THF suspension
Dissolve 4.52 g of compound 69 in 226 mL at 5 ° C.
452 mL of the THF solution was added dropwise and stirred at room temperature for 6 hours.
Was. Further, 298 mg of lithium aluminum hydride was added.
Then, the mixture was stirred at room temperature for 14 hours. After confirming the disappearance of raw materials, 1
Stop the reaction by adding 10 mL of water at 0 ° C and stir for 30 minutes
did. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue obtained was chloroform.
And the organic layer is added to 1 mol / L sulfuric acid, water, and saturated saline.
And dried over anhydrous sodium sulfate. solvent
Was distilled off under reduced pressure, and the residue obtained was purified by silica gel chromatography.
And purified with acetic acid (ethyl acetate: hexane = 1: 1)
Was. 140 mL of chloroform and hexane were added to the obtained crystals.
28 mL was added and the mixture was heated under reflux. Refilter after hot filtration
The crystals obtained in the above were collected by filtration and dried under reduced pressure to give a pale yellow powder.
As a result, 2.58 g of the title compound was obtained. Melting point: 209-210 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.69 (3H, s), 3.04 (3H, s), 4.80
(2H, s), 7.22 (1H, s), 7.27 (1H, ddd, J = 2.4,8.6,8.8H
z), 7.47 (1H, dd, J = 2.4,9.2Hz), 7.76 (1H, dd, J = 4.7,8.
8Hz), 7.88 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.09 (1H, dd, J = 2.2,8.8H
z), 8.42 (1H, d, J = 2.2Hz), 9.65 (1H, s). IR νmax(KBr): 3423,3237,3114,3026,2930,1605,150
9,1445,1354,1294,1152,1135 cm-1. [Production Example 64] N- [4- (4-chlorometh
Tiltthiazol-2-yl) -2-methanesulfonyl
Enyl] -5-fluoro-3-methylbenzo [b] thio
Synthesis of phen-2-sulfonamide (Compound 64) 159 mg of Compound 63 was suspended in 20 mL of chloroform.
Was. Add 47 μL of thionyl chloride at 0 ° C.,
Stir for 1 hour. Add 1 mL of thionyl chloride and add 1 hour
Heated to reflux. Add 2 mL of triethylamine at 0 ° C
After stirring for 3 hours, the reaction was stopped with 1 mol / L hydrochloric acid.
Stopped. Extract with ethyl acetate, then sequentially with water and saturated saline
Next, it was washed and dried over anhydrous sodium sulfate. Reduce solvent
The residue obtained by distillation under reduced pressure is subjected to silica gel chromatography.
-Purified with (chloroform) as light brown powder
104 mg of the compound were obtained. Melting point: 190-191 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.69 (3H, s), 3.04 (3H, s), 4.7
0 (2H, s), 7.28 (1H, ddd, J = 2.5,8.6,8.8Hz), 7.34 (1
H, s), 7.47 (1H, dd, J = 2.5,9.2Hz), 7.76 (1H, dd, J = 4.
7,8.8Hz), 7.89 (1H, d, J = 8.8Hz), 8.11 (1H, dd, J =
2.2, 8.8Hz), 8.41 (1H, d, J = 2.2Hz), 9.66 (1H, s). IR νmax(KBr): 3236,3098,3027,2927,1607,1507,145
7,1354,1306,1156,1137,912 cm-1. [Production Example 65] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4- (4-methylthiazole-2-
Yl) phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene
Synthesis of -2-sulfonamide (compound 65) Compound 64 (64 mg) was dissolved in acetone (10 mL) and iodinated.
After adding 180 mg of sodium and heating under reflux for 24 hours,
Add 180 mg of sodium iodide and heat for 19 hours
Shed. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was dissolved in ethyl acetate.
Water, 5% sodium thiosulfate aqueous solution, water, saturated salt
Washed sequentially with water and dried over anhydrous sodium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 5-fluoro-N- [4-
(4-Iodomethylthiazol-2-yl) -2-meta
Nsulfonylphenyl] -3-methylbenzo [b] thio
Phen-2-sulfonamide was added to toluene (5 mL)
Dissolve in a mixed solution of methylsulfoxide (0.5 mL),
Tributyltin hydride 45μL and 1.06mol / L
Add 13 μL of hexane solution of triethylboron to room temperature
And stirred for 6 hours. Furthermore, tributyltin hydride 24μ
L, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
The reaction was stopped by adding an aqueous solution of ammonium. In ethyl acetate
After extraction, the organic layer was washed successively with water and saturated saline. Nothing
After drying over sodium sulfate, the solvent is removed by evaporation under reduced pressure.
Silica gel chromatography (hexane to
Purified with hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give a colorless powder.
This gave 29 mg of the title compound. Melting point: 199-200 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.48 (3H, s), 2.69 (3H, s), 3.0
3 (3H, s), 6.91 (1H, s), 7.27 (1H, ddd, J = 2.4,8.6,8.
8Hz), 7.46 (1H, dd, J = 2.4,9.2Hz), 7.75 (1H, dd, J = 4.
7,8.8Hz), 7.87 (1H, d, J = 8.7Hz), 8.09 (1H, dd, J = 2.
1,8.7Hz), 8.40 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.65 (1H, s). IR νmax(KBr): 3243,3105,3028,2925,1607,1508,144
2,1355,1308,1162,1135,913 cm-1. Hereinafter, Production Examples 66 to 68 are performed in the same manner as Production Examples 63 to 65.
Compounds 66 to 68 were synthesized. [0110] [Table 11] [Production Example 69] 2- [4- (5-fluoro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylphenyl] thiazole
Synthesis of -4-carboxylic acid methyl ester (compound 69) 11.06 g of compound 74 in 204 mL of dichloromethane
Dissolve and add 2.4 mL of bromotrichloromethane at 0 ° C for 5 minutes.
It was added dropwise over a period of minutes. After stirring at the same temperature for 20 minutes, D
7.6 mL of BU was added dropwise over 15 minutes. 5 o'clock at room temperature
After stirring for 1 hour, the reaction was stopped with 1 mol / L hydrochloric acid.
The organic layer was separated, washed with water and saturated saline, and then dried.
It was dried over sodium sulfate. The solvent was removed by evaporation under reduced pressure.
The residue obtained is chromatographed on silica gel (chloroform
9.18 g of the title compound as a colorless powder
I got Melting point: 241-242 ° C1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2.61 (3H, s), 3.38 (3H, s),
3.87 (3H, s), 7,47 (1H, ddd, J = 2.5,9.0,9.0Hz), 7.60
(1H, d, J = 8.6Hz), 7.83 (1H, dd, J = 2.5,9.9Hz), 8.11
(1H, dd, J = 4.7,9.0Hz), 8.22 (1H, dd, J = 2.1, 8.6Hz),
 8.44 (1H, d, J = 2.1Hz), 8.63 (1H, s). IR νmax(KBr): 3193,3113,3021,3003,2923,1730,160
6,1509,1392,1359,1295,1225,1162,1131,988,918 cm-1. [Production Example 70] 2- [4- (5-fluoro)
-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfonyl
Amino) -3-methanesulfonylphenyl] thiazole
Synthesis of -4-carboxylic acid (compound 70) Compound 954 mg was dissolved in 45 mL of methanol, and 1
4.0 mL of mol / L sodium hydroxide was added. heating
After stirring for 20 minutes under reflux, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a residue.
The residue was extracted with ether-water (1: 1). 2m in water layer
ol / L hydrochloric acid was added, and the precipitated crystals were washed with ether.
746 mg of the title compound were obtained as a colorless powder. Melting point: 257-258 ℃1 H-NMR (DMSO-d6): Δ 2.59 (3H, s), 3.36 (3H, s),
7.45 (1H, ddd, J = 2.3,8.8,8.8Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.5H
z), 7.81 (1H, dd, J = 2.3,9.9Hz), 8.09 (1H, dd, J = 5.0,8.
8Hz), 8.18 (1H, dd, J = 2.0,8.5Hz), 8.42 (1H, d, J = 2.0H
z), 8.51 (1H, s). IR νmax(KBr): 3448,3233,3104,3027,2924,1711,160
7,1516,1461,1352,1306,1217,1153,1137 cm-1. [Production Example 71] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4- (2-methylthiazole-4-
Yl) phenyl] -3-methylbenzo [b] thiophene
Synthesis of -2-sulfonamide (Compound 71) Dissolve 200 mg of compound 19 in 4.0 mL of chloroform
And benzyltrimethylammonium tribromide 1
94 mg was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Water to the reaction solution
After the reaction was stopped in addition, the solvent was distilled off once and 1 mol / mol
After adding L hydrochloric acid to adjust the pH to 2-3, extract with ethyl acetate.
The organic layer was washed with saturated saline, and then dried over anhydrous sodium sulfate.
And dried in a vacuum. The residue obtained by evaporating the solvent under reduced
After washing with ethanol, N- (4-bromoamine) was obtained as a colorless solid.
Cetyl-2-methanesulfonylphenyl) -5-fluoro
B-3-Methylbenzo [b] thiophen-2-sulfone
201 mg of the amide were obtained. The N- thus obtained
(4-bromoacetyl-2-methanesulfonylphenyi
L) -5-Fluoro-3-methylbenzo [b] thiophene
2-Sulfonamide (150 mg) was treated with dioxane (1.5
mL) -ethanol (1.5 mL).
Sodium hydrogen oxyoxide 53mg, thioacetamide 26mg
Next, the mixture was stirred under reflux with heating for 2 hours. Add water to the reaction solution
After stopping the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure.
Adjust to pH 2-3 by adding L hydrochloric acid and extract with ethyl acetate
The organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate.
And dried. The residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure
Purify by gel column chromatography to obtain pale yellow crystals.
61 mg of the title compound were obtained. Melting point: 217-220 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.68 (3H, s), 2.75 (3H, s),
2.99 (3H, s) 7.27 (1H, ddd, J = 2.4, 8.7, 9.0Hz), 7.3
3 (1H, s), 7.45 (1H, dd, J = 2.4, 9.3Hz), 7.75 (1H,
dd J = 4.5, 9.0Hz), 7.84 (1H, d, J = 8.7Hz), 8.06 (1
H, dd, J = 2.1, 8.7Hz), 8.35 (1H, d, J = 2.1Hz), 9.55
(1H, s). IR νmax(KBr): 3237,1604,1514,1352,1296,1163,89
9 cm-1. [Production Example 72] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4-((E) -2-methanesulfi
Nyl-2-methylsulfanylvinyl) phenyl] -3
-Methylbenzo [b] thiophene-2-sulfonamide
Synthesis of (Compound 72) 135 mg of the compound of Reference Example 3 was added to THF2 under an argon atmosphere.
Dissolve in mL and add methylmethylsulfinylmethyls
196mg of sulfide, 40% Triton B in methanol
862 μL of the solution was added in sequence, and the mixture was stirred for 16 hours under reflux.
Was. The reaction was stopped by adding 1 mol / L hydrochloric acid to the reaction solution.
After that, dilute with ethyl acetate and wash sequentially with water and saturated saline
Then, it was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent is distilled off under reduced pressure
Residue obtained by silica gel column chromatography
-(Ethyl acetate: hexane = 1: 1), colorless
105 mg of the amorphous title compound were obtained.1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.32 (3H, s), 2.70 (3H, s),
2.76 (3H, s), 3.04 (3H, s), 7.28 (1H, ddd, J = 2.4, 9.0,
 9.3Hz), 7.48 (1H, dd, J = 2.4, 9.3Hz), 7.52 (1H, s),
  7.78 (1H, dd J = 4.8, 9.0Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.7H
z), 8.02 (1H, dd, J = 2.1, 8.7Hz), 8.46 (1H, d, J = 2.1
Hz), 9.65 (1H, s). IR νmax(KBr): 3446, 3225, 1604, 1492, 1303, 11
63, 1133, 924 cm-1. Below, the equipment data of each production example is shown. [0115] [Table 12][Production Example 73] 5-Fluoro-N- [2-
Methanesulfonyl-4- (oxazol-2-yl) phenyl
Enyl] -3-methylbenzo [b] thiophen-2-ice
Synthesis of Rufonamide (Compound 73) 902 mg of the compound 24 was melted by open flame. The obtained mosquito
The ramel-like substance is subjected to silica gel chromatography (chloro
Form) and then recrystallized (ethyl acetate-hexa
To give the title compound 30 as pale yellow crystals.
6 mg were obtained. Melting point: 207-208 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.69 (3H, s), 3.03 (3H, s), 7.23 (1
H, s), 7.27 (1H, ddd, J = 2.6,8.8,8.8Hz), 7.46 (1H, dd, J =
2.6,9.2Hz), 7.71 (1H, s), 7.76 (1H, d, J = 4.8,8.8Hz),
7.91 (1H, d, J = 8.7Hz), 8.21 (1H, dd, J = 2.1,8.7Hz), 8.50
(1H, d, J = 2.1Hz), 9.70 (1H, s). IR νmax(KBr): 3237,3140,3020,2925,1615,1519,148
1,1354,1303,1163, 1139,912,650 cm-1. [Production Example 74] (4R) -2- [4- (5
-Fluoro-3-methylbenzo [b] thiophen-2-
Sulfonylamino) -3-methanesulfonylphenyl]
Thiazoline-4-carboxylic acid methyl ester (Compound 7
Synthesis of 4) (2R) -2- [4- (5-fluoro-3-methylben
Zo [b] thiophen-2-sulfonylamino) -3-meth
Tansulfonylphenylcarboxamide] -3-tri
31.04 g of methyl thiothiopropionate was added to di
Dissolved in 1500 mL of chloromethane. Cool to 0 ° C
Then, add 19.8 mL of hexamethylphosphoramide, and add
Further, 12.9 mL of titanium tetrachloride in dichloromethane (435)
mL) solution was added dropwise (Tetrahedron. Let
ters. , 42, 4171 (2001)). At room temperature
After stirring for 21 hours, water was added to stop the reaction. solvent
Was distilled off under reduced pressure, and the residue obtained was redissolved in ethyl acetate.
Then, the resultant was washed with water and saturated saline in this order. Anhydrous sodium sulfate
The residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure
To silica gel chromatography (chloroform)
Purification and recrystallization from chloroform-hexane
Gives 11.09 g of the title compound as a colorless powder
Was. Melting point: 170-171 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.68 (3H, s), 3.03 (3H, s),
3.66 (1H, dd, J = 9.1,11.5Hz), 3.73 (1H, dd, J = 9.1,1
1.5Hz), 3.82 (3H, s), 5.25 (1H, t, J = 9.1Hz), 7.28
(1H, dd, J = 2.5,8.7,8.9Hz), 7.46 (1H, dd, J = 2.5, 9.
2Hz), 7.76 (1H, dd, J = 4.7,8.9Hz), 7.85 (1H, d, J = 8.6
Hz), 8.01 (1H, dd, J = 2.0,8.6Hz), 8.31 (1H, d, J = 2.0
Hz), 9.76 (1H, s). IR νmax(KBr): 3186,3029,3000,2954,2920,1744,160
6,1498,1357,1293,1225,1163,1131,989,927 cm-1. [Production Example 75] 5-Fluoro-N- (4-
Hydroxymethyl-2-methanesulfonylphenyl)-
3-methylbenzo [b] thiophene-2-sulfonami
Synthesis of Compound (Compound 75) Dissolve 2.08 g of compound 17 in 120 mL of toluene,
After cooling to −30 ° C., 1.01 mol / L diisobutylamine
Add 22.5 mL of toluene solution of luminium hydride
Was. Stir at the same temperature for 5 hours, add water to the reaction solution,
After stopping, dilute with ethyl acetate and add saturated sodium tartrate
Aqueous potassium solution and stirred at room temperature for 30 minutes.
Was. Extract with ethyl acetate, wash the organic layer with saturated saline
Then, it was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent is distilled off under reduced pressure
The residue obtained by silica gel chromatography (vinegar
Ethyl acid: hexane = 1: 1) to give a colorless powder
This gave 1.38 g of the title compound. Melting point: 120-121 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 2.68 (3H, s), 2.96 (3H, s), 4.68
(2H, s), 7.26 (1H, ddd, J = 2.4,8.7,9.0Hz), 7.46 (1H, dd,
J = 2.4,9.0Hz), 7.57 (1H, dd, J = 1.8,8.4Hz), 7.75 (1H,
dd, J = 4.5,8.7Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.4Hz), 7.86 (1H, d, J
= 1.8Hz), 9.48 (1H, s). IR νmax(KBr): 3504,3221,1608,1497,1347,1296,11
50,926 cm-1. [Example 1] Sarquimase or human chimer
Measurement of enzyme inhibitory activity Sarquimase is prepared by the human heart chymase purification method (J. Bio
l. Chem. , 265, 22348 (1990))
Purified from the rhesus monkey heart according to
The gene encoding human chymase (FEBS.L
et. , 412, 86 (1997))
Use from silkworms infected with the urovirus
Was. Chymase activity was determined by a method known in the literature (Miyazaki et al .;
20, p. 207, 1997). You
That is, free His-Leu produced with Ang II
With o-phthalaldehyde (hereinafter abbreviated as OPT)
To obtain a fluorescent derivative, and the amount is determined using a fluorometer.
It was measured by weighing. First, each test compound 3.6 μm
The mol was weighed into a test tube and dissolved in 3 mL of DMSO.
This DMSO solution was added to 0.01% Triton X-100 and
20 mmol / containing 0.5 mol / L potassium chloride
1,000 times dilution with L Tris-HCl buffer (pH 8.0)
Then 1.2 × 10-6mol / L solution and buffer
1.2 × 10-6from mol / L to 1.2
× 10-9Test sample solutions up to mol / L were prepared. each
Enzyme solution in 500 μL of test sample solution or buffer
Add 50 μL of the solution, and incubate at 37 ° C for 10 minutes.
After the addition, 0.1 mmol / L AngI solution 5
The reaction was started by adding 0 μL. AngI is human angi
Otensin I (manufactured by SIGMA) was used. Used for reaction
The enzyme solution hydrolyzes about 60% of the substrate under these conditions.
And add a buffer containing no enzyme.
It was checked. After incubation at 37 ° C for 120 minutes, 1
The reaction was stopped by adding 900 μL of 5% trichloroacetic acid.
Was. Thereafter, the reaction solution is kept at 4 ° C. and 3,000 rpm for 10 minutes.
2 mL / L sodium hydroxide is added to 1 mL of the supernatant obtained by centrifugation.
2 mL of methanol and 1 mL of methanol were added. Here in 1mL
1.2 mg of N-acetyl-L-cysteine and 1 mg of OPT
Derivatization reaction by adding 100 μL of methanol solution containing
After leaving for exactly 1 hour at room temperature, the excitation wavelength
The fluorescence intensity at 304 nm and a fluorescence wavelength of 502 nm was measured. Measurement
The determination was repeated twice for each sample and for the blind test.
The fluorescence intensity obtained by subtracting the average value of
Was. The enzyme reaction was performed using a buffer instead of the test sample solution.
The reaction was used as a control, and the chymase activity
The inhibition rate of the test sample was determined based on the chymase activity of the control.
The difference in activity when added is determined by the control chymase activity.
To determine the inhibition rate. In addition, 50% inhibition from each inhibition rate
Concentration (hereinafter, IC50Value). Representativeization
Compound IC50The values are shown in Table 13. [0120] [Table 13][Example 2] Using a hamster adhesion model
Consideration Five-week-old female hamsters (10 per group) were injected into the abdominal cavity.
By administration of sodium barbital (50mg / kg)
After anesthesia and midline abdominal incision, the uterus was scraped with a cotton swab. That
Thereafter, a physiological saline solution of the test compound (compound 24:10)-Fourmo
1 / L) 1 mL was dropped into the abdominal cavity, and the incision was sutured. one
On the other hand, as a control, only physiological saline was dropped, and the same treatment was performed.
Placed. Four weeks after surgery, the animals were sacrificed and the abdominal cavity was exposed.
And examined the adhesions. Adhesion is determined by the following five-step scoring system.
Data analysis was performed using the Mann-Whitney U test.
Was performed using Adhesion score 0: No adhesion 1: Very weak adhesion (adhesion that can be easily peeled off in the form of a film) 2: Limited adhesion (strong adhesion that is difficult to peel off at only one location) 3: Extensive adhesions (strong adhesions that are difficult to peel off at several places) 4: Very strong adhesion (very strong adhesion that cannot be peeled off) As a result, while the average score of the control group was 2.0,
And the average score of the group to which the test compound (Compound 24) was administered.
A was 0.9, which significantly suppressed post-operative adhesions (p
<0.05). [Example 3] In a rat cecal abrasion model
Examination by Six-week-old SD rats were pentobarbital (70 mg /
kg, intramuscular injection) Under anesthesia, midline incision of lower abdomen and cecum external
Pulled out. Two serosas of caecum (about 2 cm 2Each)
After rubbing with a cotton swab 100 times until petechiae occur,
100 μL of ethanol was added dropwise. The cecum into the abdominal cavity again
After storing, phosphoric acid of test compound (compound 24 or 70)
2 mL of buffered saline (PBS, pH 7.4) solution
It was dropped into the cavity and the incision was sutured. Test compound solution concentration
The degree is 10 each-5mol / L, and the control group was PBS
Only, and treated similarly (each group 11 or 12).
One). One week after the operation, the animal was sacrificed, reopened, and cecum
The state of adhesion is indicated by the strength of the adhesion and the adhesion area as indices.
Evaluation was based on the wearing score. Score values are divided into the following five levels
Was. In addition, the adhesion area (%) is the total area of the part where the adhesion was made.
Was determined as a percentage of the area of the rubbing site. Adhesion score 0: No adhesion 1: Partially localized (less than 25% adhesion area)
Possible adhesions 2: Easy to peel over a wide area (adhesion area 25% or more)
Noble adhesion Or limited to part (adhesion area less than 25%)
adhesion 3: Healing that is difficult to peel over a wide area (adhesion area 25% or more)
Wear 4: Non-peelable adhesion or adhesion with serosa damage at the time of peeling As a result, the adhesion score distribution indicates severe adhesion.
The sum of scores 3 and 4 was 63.6% in the control group,
Compound Example 24 and 10 of Compound Example 70-5mol / L solution
In the administration group, it decreased to 41.7% and 33.3%, respectively.
Adhesion due to compound administration was suppressed. [Example 4] Using an adhesion model after canine eye surgery
Study The beagle dog was anesthetized and the conjunctiva of both eyes was removed under a stereoscopic microscope.
mm × 5 mm was peeled off. At this time, the Tenon's capsule remains on the conjunctival side.
And did not leave it on the scleral side. Test compound (compound
70) Incision of sponge immersed in physiological saline solution for 3 minutes
After placing in place, one stitch of 10-0 nylon thread was sutured.
The concentration of each test compound solution was 10 4mol / L
The control group was treated similarly with physiological saline (each group).
6). 7 days after surgery, animals are killed and eyeballs are removed and healed
Evaluated wearing. Evaluation cuts the sutured thread during model production
After that, the conjunctiva is pulled with tweezers to heal the adhesion
It was done with a wearing score. Score values shall be in the following five stages,
The analysis of the data used the Mann-Whittonny U test. Adhesion score 0: No adhesion 1: Very weak adhesion (adhesion that can be easily peeled off in the form of a film) 2: Limited adhesion (strong adhesion that is difficult to peel off at only one location) 3: Extensive adhesions (strong adhesions that are difficult to peel off at several places) 4: Very strong adhesion (very strong adhesion that cannot be peeled off) As a result, the average score of the control group was 3.67.
In contrast, the average score of the test compound (compound 70) group was 2.
67, which significantly inhibited post-operative adhesions (p <0.0
Five). [Formulation Example 1] Production of tablets Compound 24 (5 g) was treated with lactose (125 g), corn
Mix with 40g of pun and 20g of microcrystalline cellulose,
6 g of xypropylcellulose in 10% ethanol solution
And kneaded and granulated, and passed through a screen with a diameter of 8 mm
Extruded to prepare granules, dried and dried
4 g of cesium is added and compression-molded to give compound 2 in one tablet.
A tablet weighing 200 mg containing 5 mg of 4 was prepared. [Formulation Example 2] Production of injection or liquid preparation Injection of 50 mg of compound 24 and 900 mg of sodium chloride
After dissolving using 90 mL of water, 0.1 mmol / L water
Adjust pH to 7 with sodium oxide and use water for injection
And the total amount was 100 mL. After aseptically filtering this solution, 2
Fill a glass ampoule with each mL and add Compound 2 to one tube.
An injection (solution) containing 1 mg of No. 4 was produced. [Formulation Example 3] Production of suppository Witepsol H-15 is heated and melted, and the compound
24 to a concentration of 10 mg / mL and mix well.
Was. Inject 2mL each into plastic suppository container
Chilled, containing 20 mg of compound 24 in one
An agent was manufactured. [Formulation Example 4] Production of eye drops 50 mg of compound 24, sodium dihydrogen phosphate dihydrate
0.1g, sodium chloride 0.9g and benzal chloride
Dissolve 5 mg of conium in 80 mL of purified water, and add 0.1 mol /
L sodium hydroxide aqueous solution was added to adjust the pH to 7.0,
Purified water was added to make the total volume 100 mL. This liquid is sterile filtered
After filling, add 5mL each to polypropylene ophthalmic container
To produce an eye drop having a concentration of Compound 24 of 0.05%.
did. [0127] According to the present invention, an excellent anti-adhesion agent is provided.
can do.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 333/62 C07D 333/62 409/12 409/12 413/12 413/12 Fターム(参考) 4C063 AA01 BB07 CC94 DD03 DD52 EE01 4C086 AA01 AA02 BB03 BC07 BC69 GA04 GA07 GA09 MA01 MA04 NA14 ZC20 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C07D 333/62 C07D 333/62 409/12 409/12 413/12 413/12 F-term (Reference) 4C063 AA01 BB07 CC94 DD03 DD52 EE01 4C086 AA01 AA02 BB03 BC07 BC69 GA04 GA07 GA09 MA01 MA04 NA14 ZC20

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキ
ル基を、R2は低級アルキル基を、R3及びR4はそれぞ
れ異なっていてもよく、水素原子、低級アルコキシカル
ボニル基、低級アルキルスルホニル基、ベンゾイル基、
炭素数1〜4のアシル基、低級アルコキシ基、低級アル
コキシカルボニルメチルチオアセチル基、ニトロ基、−
CONHR6(式中、R6は水素原子、低級アルコキシカ
ルボニルメチル基、カルボキシメチル基又は−CH(C
2OH)COOR7(式中、R7は水素原子又は低級ア
ルキル基を示す)を示す)、 【化2】 で表される基(式中、R7は前記と同義である)、 【化3】 で表される基(式中、R8及びR9はそれぞれ異なってい
てもよく、水素原子、低級アルキル基、低級アルキルス
ルファニル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アル
キルスルホニル基又は低級アルコキシカルボニル基を示
す)、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ基又は 【化4】 (Aは、酸素原子、硫黄原子又はNHを、点線部分は単
結合又は二重結合を示す)で表される単環複素環基(た
だし、環上の水素原子は、ハロゲン原子で置換されてい
てもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキ
シ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基又はカ
ルボキシル基で置換されていてもよい。)を示す(ただ
し、R3とR4は同時に水素原子ではない)。R5は水素
原子、低級アルコキシ基又は低級アルキル基を示す]に
より表されるN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘
導体又はその薬学的に許容される塩を有効成分として含
有することを特徴とする癒着防止剤。
Claims: 1. A compound represented by the general formula (I): [Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, R 2 is a lower alkyl group, R 3 and R 4 may be different from each other, and may be a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a lower alkylsulfonyl. Group, benzoyl group,
An acyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonylmethylthioacetyl group, a nitro group,-
CONHR 6 (wherein R 6 is a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonylmethyl group, a carboxymethyl group or —CH (C
H 2 OH) COOR 7 (wherein R 7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group); (Wherein R 7 has the same meaning as described above); (Wherein R 8 and R 9 may be different from each other and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkylsulfanyl group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group or a lower alkoxycarbonyl group) ), Hydroxy lower alkyl group, cyano group or (A represents an oxygen atom, a sulfur atom or NH, and a dotted line portion represents a single bond or a double bond) (however, a hydrogen atom on the ring is substituted with a halogen atom) Which may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group or a carboxyl group, wherein R 3 and R 4 are not hydrogen atoms at the same time. R 5 represents a hydrogen atom, a lower alkoxy group or a lower alkyl group], or an N-substituted benzothiophene sulfonamide derivative represented by the following formula or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient: .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015084869A1 (en) 2013-12-02 2015-06-11 Allergan, Inc. Benzothiophene sulfonamides derivatives as chemokine receptor modulators
US9670190B2 (en) 2013-03-12 2017-06-06 Allergan, Inc. Pyridinyl and pyrimidinyl sulfonamide derivatives as chemokine receptor modulators

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001062292A1 (en) * 2000-02-22 2001-08-30 Suntory Limited Preventive or therapeutic drugs for fibrosis containing chymase inhibitors as the active ingredient
WO2003078419A1 (en) * 2002-03-15 2003-09-25 Toa Eiyo Ltd. N-substituted benzothiophenesulfonamide derivative
JP2003267870A (en) * 2002-03-15 2003-09-25 Toa Eiyo Ltd Pulmonary hypertension-preventing or treating agent
JP3847711B2 (en) * 2000-09-18 2006-11-22 トーアエイヨー株式会社 N-substituted benzothiophenesulfonamide derivatives

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001062292A1 (en) * 2000-02-22 2001-08-30 Suntory Limited Preventive or therapeutic drugs for fibrosis containing chymase inhibitors as the active ingredient
JP3847711B2 (en) * 2000-09-18 2006-11-22 トーアエイヨー株式会社 N-substituted benzothiophenesulfonamide derivatives
WO2003078419A1 (en) * 2002-03-15 2003-09-25 Toa Eiyo Ltd. N-substituted benzothiophenesulfonamide derivative
JP2003267870A (en) * 2002-03-15 2003-09-25 Toa Eiyo Ltd Pulmonary hypertension-preventing or treating agent

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9670190B2 (en) 2013-03-12 2017-06-06 Allergan, Inc. Pyridinyl and pyrimidinyl sulfonamide derivatives as chemokine receptor modulators
WO2015084869A1 (en) 2013-12-02 2015-06-11 Allergan, Inc. Benzothiophene sulfonamides derivatives as chemokine receptor modulators

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