JP2003324278A - Wiring member and manufacturing method therefor - Google Patents

Wiring member and manufacturing method therefor

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JP2003324278A
JP2003324278A JP2002127947A JP2002127947A JP2003324278A JP 2003324278 A JP2003324278 A JP 2003324278A JP 2002127947 A JP2002127947 A JP 2002127947A JP 2002127947 A JP2002127947 A JP 2002127947A JP 2003324278 A JP2003324278 A JP 2003324278A
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Japan
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wiring
wiring member
layer
member according
substrate
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JP2002127947A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Segawa
昭夫 瀬川
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Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily provide a low price wiring member having higher reliability which is reduced in size and integrated as required for transferring an electrical signal between members required for an electronic device which is reduced in size. <P>SOLUTION: There is provided a wiring member 1 which is formed integrally including a board 2 and a wiring portion 3 mainly formed in shapes of films. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線部材及び配線
部材の製造方法に関するものであり、特に詳しくは、半
田等の接合部分がなく、基板部と配線部とが一体的に形
成された配線部材に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring member and a method for manufacturing a wiring member, and more particularly to a wiring in which a substrate portion and a wiring portion are integrally formed without a joint portion such as solder. It relates to members.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、一般に、少なくとも一つの基
板部或いは、適宜の半導体装置から所望の電気信号を取
り出して別の基板部或いは別の半導体装置に当該電気信
号を伝達するため、若しくは、当該基板部或いは、適宜
の半導体装置に外部から必要な電気信号を入力させるた
めに、適宜の幅と厚みと長さを有するフレキシブルな配
線部が使用されてきている。かかる従来に於ける基板部
或いは半導体装置と当該配線部とは別々に製造され、必
要な時点、つまり、その両者を接続する必要がある場合
には、その両者の接続端子部をはんだ等の導電性を担保
した接続手段を用いて接続している。その為、各部材の
製造工程が個別に必要とされると同時に、個別に製造さ
れた当該基板部と当該配線部とを接続処理する工程が必
要であるので、製造工程が複雑となると同時に、製造コ
ストも上昇すると言う問題が有った。
2. Description of the Related Art Conventionally, in general, a desired electric signal is taken out from at least one substrate portion or an appropriate semiconductor device and the electric signal is transmitted to another substrate portion or another semiconductor device, or A flexible wiring portion having an appropriate width, thickness, and length has been used in order to input a necessary electric signal from the outside to a substrate portion or an appropriate semiconductor device. Such a conventional board portion or semiconductor device and the wiring portion are manufactured separately, and at the required time, that is, when it is necessary to connect the both, the connection terminal portions of the both are electrically conductive such as solder. They are connected using a connection means that guarantees the sex. Therefore, a manufacturing process of each member is required individually, and at the same time, a process of connecting the substrate part and the wiring part, which are individually manufactured, is required. There was a problem that the manufacturing cost would rise.

【0003】尚、図4(A)は、従来に於けるフレキシ
ブル配線部の一例を示す断面図であり、図中、ベースフ
ィルム6の片側にのみ導体層7とカバーフィルム層8が
積層され、当該導体層7の一部に適宜の表面層14設け
られ、又、当該ベースフィルム6の反対側には適宜の補
強材16が配置されている構成を有するものである。一
方、図4(B)は、同じく、従来に於けるフレキシブル
配線部の他の例を示す断面図であり、図中、ベースフィ
ルム6の両側に導体層7とカバーフィルム層8が積層さ
れ、当該導体層7の一部に適宜の表面層14設けられ、
又、当該ベースフィルム6の反対側には適宜の補強材1
6が配置されている構成を有するものである。尚、本従
来例では、当該フレキシブル配線部の当該ベースフィル
ム6にスルーホール12を設ける構成が採用されてい
る。
Incidentally, FIG. 4A is a cross-sectional view showing an example of a conventional flexible wiring portion, in which a conductor layer 7 and a cover film layer 8 are laminated only on one side of a base film 6, An appropriate surface layer 14 is provided on a part of the conductor layer 7, and an appropriate reinforcing material 16 is arranged on the opposite side of the base film 6. On the other hand, FIG. 4B is a cross-sectional view showing another example of a conventional flexible wiring part, in which a conductor layer 7 and a cover film layer 8 are laminated on both sides of a base film 6, An appropriate surface layer 14 is provided on a part of the conductor layer 7,
In addition, an appropriate reinforcing material 1 is provided on the opposite side of the base film 6.
6 is arranged. Incidentally, in this conventional example, a configuration in which the through hole 12 is provided in the base film 6 of the flexible wiring portion is adopted.

【0004】又、図7に示す様に、従来に於いては、例
えば、適宜の半導体装置4、4‘を搭載した2つの硬質
基板2、2‘間を電気的に接続して所望の制御信号或い
は情報信号等を伝送させるに際し、配線部を内蔵するフ
レキシブルシート(FPC)3の両端部にコネクタ5、
5’を取り付けるか、適宜のハンダを使用して、当該各
硬質基板の所定の信号端子部と接合させている。
Further, as shown in FIG. 7, in the conventional case, for example, a desired control is performed by electrically connecting two hard substrates 2 and 2'on which appropriate semiconductor devices 4 and 4'are mounted. When transmitting signals or information signals, connectors 5 are provided on both ends of a flexible sheet (FPC) 3 having a built-in wiring section.
5'is attached or is joined to a predetermined signal terminal portion of each rigid board by using an appropriate solder.

【0005】又、近年、電子機器類のダウンサイズ化に
伴って、それらに使用される基板部や配線部も小型化さ
れてきており、その結果、当該基板部或いは当該配線部
の製造工程も一層複雑となる他、その両者を接合する工
程もそれぞれのサイズが小さくなっている分、作業が複
雑化し又困難になって来ている。
Further, in recent years, with downsizing of electronic devices, a board portion and a wiring portion used for them have been downsized, and as a result, a manufacturing process of the substrate portion or the wiring portion is also performed. In addition to becoming more complicated, the step of joining the both becomes smaller and the work becomes complicated and complicated.

【0006】一方、従来に於いて、例えば、特開平5−
62543号公報に見られる様に、複数層の配線部でフ
ラットワイヤーハーネスを形成し、配線部を分岐させる
様に構成したフレキシブル配線シートが開示されている
が、当該従来例に於いては、単に、単一の配線層の一部
に分岐配線部或いは折りたたみ可能分岐配線部を形成す
る技術が開示されているのみで、当該配線部の端部は、
別に形成されたコネクタ部を介して、対応する基板部或
いは半導体装置の所定の信号端子部に接続する構成を示
しているに過ぎず、本発明の様な、厚みを有する基板部
とフレキシブルな配線シートとを接合部の存在なしに一
体化させた構成を持つ配線部材に関しては、何らの開示
もなければその示唆もない。
On the other hand, in the prior art, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
As disclosed in Japanese Patent No. 62543, there is disclosed a flexible wiring sheet in which a flat wire harness is formed by a plurality of wiring portions and the wiring portions are branched. However, in the conventional example, simply, , Only a technique of forming a branch wiring part or a foldable branch wiring part in a part of a single wiring layer is disclosed, and the end of the wiring part is
It merely shows a configuration in which a corresponding substrate portion or a predetermined signal terminal portion of a semiconductor device is connected via a separately formed connector portion, and a substrate portion having a thickness and flexible wiring as in the present invention are shown. There is no disclosure or suggestion of a wiring member having a structure in which a sheet and a sheet are integrated without the presence of a joint.

【0007】従って、本発明の目的は上記従来に於ける
欠点を解決し、小型化された電子機器に於ける必要な基
板部、半導体装置又は制御装置等の相互間或いは当該基
板部、半導体装置又は制御装置同士の間の電気的信号を
伝達するに必要な小型化され且つ一体化された信頼性の
高い配線部材を容易に且つ安価に提供するものであり、
更には、当該配線部材を容易に製造することが可能な、
配線部材の製造方法を提供するものである。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the related art and to provide a substrate portion, a semiconductor device, a control device, or the like, which are necessary in a miniaturized electronic device, or between the substrate portion and the semiconductor device. Or, to provide easily and inexpensively, a miniaturized and integrated highly reliable wiring member necessary for transmitting an electric signal between control devices,
Furthermore, it is possible to easily manufacture the wiring member,
A method for manufacturing a wiring member is provided.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成する為、以下に示す様な基本的な技術構成を採用す
るものである。即ち、本発明に於ける第1の態様として
は、基板部と配線部とが膜体を主体として一体的に形成
されている事を特徴とする配線部材であり、又、本発明
に於ける第2の態様としては、ベースフィルムの少なく
とも一面に、導電性部材層とカバーフィルム層とから構
成される単位形成層を複数層、適宜の接着層を介して積
層する工程、当該積層された膜体から、平面形状で見
た、所望の形状を有する基板部と所望の幅と長さを有す
る配線部とを一体化した配線部材形成体を取り出す工
程、当該配線形成体の当該配線部を構成する部分に於け
る当該積層された複数層の単位形成層の内の少なくとも
一部の単位形成層を残して除去する工程、とから構成さ
れている配線部材の製造方法である。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention adopts the following basic technical constitution. That is, the first aspect of the present invention is a wiring member characterized in that the substrate portion and the wiring portion are integrally formed mainly of a film body. As a second aspect, a step of laminating a plurality of unit forming layers composed of a conductive member layer and a cover film layer on at least one surface of a base film via an appropriate adhesive layer, and the laminated film. A step of taking out a wiring member forming body in which a substrate portion having a desired shape and a wiring portion having a desired width and length, which are viewed in a plan view, are integrated from the body, and configuring the wiring portion of the wiring forming body And a step of removing at least a part of the unit forming layers of the plurality of laminated unit forming layers in the portion to be removed, the manufacturing method of the wiring member.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の配線部材は、上記した様
な技術構成を採用しているので、所望の電子機器に於け
る所望の基板部或いは所望のセンサー部と配線部とから
構成された一般の計測機器に於いて、当該小型化された
電子機器に於ける必要な基板部、半導体装置又は制御装
置等の相互間、或いは当該基板部、半導体装置又は制御
装置同士の間の電気的信号を伝達するに必要な小型化さ
れ且つ一体化された配線部材を容易に且つ安価に提供す
る事が可能となったものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Since the wiring member of the present invention adopts the technical structure as described above, it is composed of a desired substrate portion or a desired sensor portion and a wiring portion in a desired electronic device. In general measuring equipment, electrical connection between necessary board parts, semiconductor devices, control devices, etc. in the miniaturized electronic equipment, or between the board parts, semiconductor devices, or control devices. It is possible to easily and inexpensively provide a downsized and integrated wiring member required for transmitting a signal.

【0010】[0010]

【実施例】以下に、本発明に係る当該配線部材の一具体
例の構成を図面を参照しながら詳細に説明する。即ち、
図1(A)は、本発明に係る配線部材の一具体例を示す
模式図であって、図中、基板部2と配線部3とが膜体を
主体として一体的に形成されている配線部材1が示され
ている。即ち、本発明に於ける当該配線部材1に於いて
は、当該配線部3はフレキシブルシートで構成されてい
る事が望ましい。又、本発明に於ける当該配線部材1に
有っては、当該基板部2は、その厚みTが、当該配線部
3の厚みtよりも厚くなる様に構成されている事が好ま
しい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of a specific example of the wiring member according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. That is,
FIG. 1A is a schematic view showing a specific example of a wiring member according to the present invention, in which wiring in which a substrate portion 2 and a wiring portion 3 are integrally formed mainly of a film body. Member 1 is shown. That is, in the wiring member 1 according to the present invention, it is desirable that the wiring portion 3 is made of a flexible sheet. Further, in the wiring member 1 according to the present invention, it is preferable that the substrate portion 2 is configured so that the thickness T thereof is larger than the thickness t of the wiring portion 3.

【0011】更に、本発明に於いては、当該基板部2
は、当該配線部3の両端部に配置形成されている事も望
ましい。一方、本発明に於ける当該配線部材1にあって
は、当該基板部2は、当該配線部3よりも硬質である事
が望ましい。これは、当該基板部2には、従来の技術と
同様に適宜のトランジスタ、メモリ、CPUその他半導
体素子類4、4’、4”を搭載する事が期待されてお
り、従って、当該基板部2は、当該半導体素子類を搭載
しうるに十分な強度が要求されるものである。
Further, in the present invention, the substrate portion 2 concerned
Is also preferably formed and arranged at both ends of the wiring part 3. On the other hand, in the wiring member 1 according to the present invention, the board portion 2 is preferably harder than the wiring portion 3. This is expected to mount appropriate transistors, memories, CPUs, and other semiconductor elements 4, 4 ', 4 "on the board portion 2 as in the conventional technique. Is required to have sufficient strength to mount the semiconductor elements.

【0012】そして、本発明の更なる特徴と一つとして
は、当該基板部2と当該配線部3との間には、半田を含
む如何なる接続構造部も存在していない事が特徴であ
る。従って、本発明に於いては、従来の様に当該基板部
2の適宜の信号受送信端子部、或いは当該半導体素子部
の信号受送信端子部と当該配線部3の少なくとも一方の
端部との接続部を半田等の技術を使用して電気的に接続
する操作を行う必要はなく、製造工程に於いて基板部2
と配線部3とが予め一体的に接続された構成を有してい
るので、その構造自体シンプルで小型化されており、製
造方法も簡素化されると同時に、当該配線部材1を使用
する際の接続処理が無い事から配線処理操作が極めて容
易となる。上記した様に、本発明に於ける当該配線部材
1に有っては、当該基板部2は、適宜のトランジスタ、
メモリ、CPU、その他の半導体装置を搭載する実装基
板としての機能を有するものである事が必要である。
A further characteristic of the present invention is that there is no connection structure portion including solder between the substrate portion 2 and the wiring portion 3. Therefore, in the present invention, as in the prior art, an appropriate signal receiving / transmitting terminal portion of the substrate portion 2 or a signal receiving / transmitting terminal portion of the semiconductor element portion and at least one end portion of the wiring portion 3 are provided. It is not necessary to perform an operation of electrically connecting the connecting portion using a technique such as soldering, and the substrate portion 2 can be used in the manufacturing process.
Since the wiring part 3 and the wiring part 3 are integrally connected in advance, the structure itself is simple and downsized, the manufacturing method is simplified, and at the same time when the wiring member 1 is used. Since there is no connection processing of, the wiring processing operation becomes extremely easy. As described above, in the wiring member 1 according to the present invention, the substrate portion 2 is an appropriate transistor,
It is necessary to have a function as a mounting board on which a memory, a CPU, and other semiconductor devices are mounted.

【0013】本発明に於ける当該配線部材1の他の態様
としては、図1(B)に示す様に当該配線部3の一方の
端部にのみ上記した基板部2が配置されており、当該配
線部3の他方の端部は、自由端を構成し、適宜の別体に
構成された他の基板部或いは半導体装置2’等に適宜の
コネクタ或いはハンダ5等で接続される様に構成されて
いるもので有っても良い。又、図1(C)は、本発明に
於ける当該配線部材1の更に他の態様を示すもので有っ
て、当該配線部3は、積層された複数の単位形成層から
剥離分離され、個別の配線部として機能する複数の独立
した配線部3、3‘等が当該基板部2と一体的に形成さ
れているものである。当該剥離分離されたそれぞれの配
線部3、3‘等の他端部は、図1(A)に示す様に、別
の基板部2’が接続されていても良く、又、図1(C)
に示す様に、自由端として形成されているものであって
も良い。尚、本発明に於ける当該配線部材1に於けるそ
れぞれの導線からなる配線層は、例えば、図1(D)に
示す様な、配線パターンをそれぞれの導電部材層部で有
している。
As another mode of the wiring member 1 in the present invention, as shown in FIG. 1 (B), the above-mentioned substrate portion 2 is arranged only at one end of the wiring portion 3. The other end of the wiring portion 3 constitutes a free end, and is configured to be connected to another substrate portion or a semiconductor device 2 ′ or the like which is configured as an appropriate separate body by an appropriate connector or solder 5 or the like. It may be one that has been done. Further, FIG. 1C shows still another aspect of the wiring member 1 according to the present invention, in which the wiring portion 3 is separated and separated from a plurality of laminated unit forming layers, A plurality of independent wiring portions 3 and 3 ′ which function as individual wiring portions are integrally formed with the substrate portion 2. As shown in FIG. 1 (A), another substrate part 2 ′ may be connected to the other end of each of the separated wiring parts 3, 3 ′, etc. )
It may be formed as a free end as shown in FIG. The wiring layer made of the respective conductors in the wiring member 1 according to the present invention has a wiring pattern as shown in FIG. 1D in each conductive member layer portion.

【0014】本発明に於ける当該配線部材1のより具体
的な構成を以下に説明する。図2は、本発明に於ける配
線部材1の一具体例の構成の概要を示す断面図であっ
て、当該配線部3の一方の端部にのみ当該基板部2が一
体的に配置される構成の配線部材1を示すものである。
即ち、本発明に於ける当該配線部材1の当該基板部2
は、図2に例示する様に、適宜のベースフィルム6の少
なくとも一面に、導電性部材層7とカバーフィルム層8
とから構成される単位形成層9が、一層或いは必要に応
じて複数層適宜の接着層10を介して積層されている事
が望ましい。尚、当該導電性部材層7の上表面には、適
宜のレジスト層13及び適宜の表面処理層14とが適宜
のパターンを有して配置されている事が望ましい。同様
に、当該基板部2の下面部にも適宜のレジスト層13及
び適宜の表面処理層14とが適宜のパターンを有して配
置されている事が望ましい。
A more specific structure of the wiring member 1 according to the present invention will be described below. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the outline of the configuration of one specific example of the wiring member 1 according to the present invention, in which the board portion 2 is integrally arranged only at one end of the wiring portion 3. The wiring member 1 of a structure is shown.
That is, the board portion 2 of the wiring member 1 according to the present invention.
As illustrated in FIG. 2, the conductive member layer 7 and the cover film layer 8 are provided on at least one surface of the appropriate base film 6.
It is desirable that the unit forming layer 9 composed of and is laminated by one layer or a plurality of appropriate adhesive layers 10 if necessary. Incidentally, it is desirable that an appropriate resist layer 13 and an appropriate surface treatment layer 14 are arranged on the upper surface of the conductive member layer 7 so as to have an appropriate pattern. Similarly, it is desirable that an appropriate resist layer 13 and an appropriate surface treatment layer 14 are arranged on the lower surface of the substrate portion 2 with an appropriate pattern.

【0015】又、図2の具体的では、当該ベースフィル
ム6の両面に上記した単位形成層9,9‘が一層ずつ配
置形成されている例が示されている。又、本具体的にお
ける当該配線部3は、図2に示す様に、導電性部材層7
とカバーフィルム層8とから構成される1層の単位形成
層9で構成されているもので有っても良く、又、図3
(A)に例示する様に、当該配線部3は,接着剤層10
を挟んで2層の単位形成層9、と9‘とを積層させてお
き、その後、当該接着材層10を除去あるいは接着機能
を失わせる事により、図3(B)に例示する様に、当該
それぞれの単位形成層9、と9‘とを相互に剥離して分
離させそれぞれ独立した配線部として使用する様に構成
したもので有っても良い。
Further, the concrete example of FIG. 2 shows an example in which the above-mentioned unit forming layers 9 and 9 ′ are arranged and formed on both sides of the base film 6. Further, the wiring portion 3 in the present concrete example has a conductive member layer 7 as shown in FIG.
It may be composed of one unit forming layer 9 composed of a cover film layer 8 and a cover film layer 8, and FIG.
As illustrated in (A), the wiring portion 3 has an adhesive layer 10
As shown in FIG. 3 (B), two unit forming layers 9 and 9 ′ are laminated with a layer sandwiched between them, and then the adhesive layer 10 is removed or the adhesive function is lost. The unit forming layers 9 and 9 ′ may be separated from each other and separated to be used as independent wiring portions.

【0016】本発明に於いて使用される当該ベースフィ
ルム6の素材は特に限定されるものではないが、例え
ば、適宜の厚みを有するポリイミドフィルム、ポリエス
テルフィルム等を使用することが可能である。更に、本
発明に於ける当該ベースフィルム6の表裏両面あるいは
当該ベースフィルム6の片側面に積層される当該単位形
成層9の層数は、特に限定されるものでは無く、当該基
板部2に要求される厚みT及び、当該基板部2に要求さ
れる配線構成とから決定されるものである。又、本発明
に於いて使用される当該接着層10もその材質は特に限
定されるものでは無く、後述する所定の当該単位形成層
9を除去或いは分離処理する際に、所定の処理剤を使用
することによって、容易にその接着機能を低下せしめら
れる事が可能な化学物質を使用する事が望ましい。
The material of the base film 6 used in the present invention is not particularly limited, but, for example, a polyimide film, a polyester film or the like having an appropriate thickness can be used. Further, the number of layers of the unit forming layer 9 laminated on both front and back surfaces of the base film 6 or on one side surface of the base film 6 in the present invention is not particularly limited, and is required for the substrate unit 2. The thickness T and the wiring configuration required for the substrate section 2 are determined. Also, the material of the adhesive layer 10 used in the present invention is not particularly limited, and a predetermined treating agent is used when removing or separating the predetermined unit forming layer 9 described later. Therefore, it is desirable to use a chemical substance whose adhesive function can be easily reduced.

【0017】本発明に於ける当該配線部材1に於ける当
該配線部3は、当該基板部2を形成する複数の単位形成
層の少なくとも一部の層が当該基板部2の外部へ延展し
て形成されているものである事が好ましい。つまり、本
発明に於いては、図8に示す様に、当該配線部材1は、
複数個の単位形成層9が接着層10を介して相互に積層
されている積層体100から当該基板部2を構成する部
分と当該配線部3を構成する部分とを一体化した平面的
なデザイン、形状を有する配線形成体110を切り出し
て、後述する方法を利用して、当該基板部2を、当該積
層体100を構成する複数の単位形成層9で構成するも
のであり、又、当該配線部3は、当該積層体100を構
成する複数の単位形成層9の内の一部の単位形成層9
が、当該基板部2から外部に延長されて形成されている
ものである。
In the wiring portion 3 of the wiring member 1 according to the present invention, at least a part of the plurality of unit forming layers forming the substrate portion 2 extends to the outside of the substrate portion 2. It is preferably formed. That is, in the present invention, as shown in FIG.
A planar design in which a portion that constitutes the substrate portion 2 and a portion that constitutes the wiring portion 3 are integrated from a laminated body 100 in which a plurality of unit forming layers 9 are laminated with an adhesive layer 10 in between. , A wiring formation body 110 having a shape is cut out, and the substrate section 2 is constituted by a plurality of unit formation layers 9 constituting the laminated body 100 by using a method described later. The part 3 is a part of the plurality of unit forming layers 9 forming the laminate 100.
Is formed by being extended from the substrate portion 2 to the outside.

【0018】したがって、本発明に於ける当該配線部材
1の当該基板部2と当該配線部3とは、一体的に構成さ
れており、当該両者の接合部には、半田等の導電性材料
を用いた接続構造部は、一切存在しておらず、それ故、
構造が極小化された場合でも、製造コストは低く抑える
ことが可能であると同時に、接合処理操作が無く歩留ま
りも高くなり、又、接合構造がないので厚みも極限的に
薄くすることが可能となる。一方、当該基板部2は、上
記した様に、実装基板としての機能を有することが望ま
しいので、図2に示す様に、当該基板部2には、必要に
応じて、当該基板部を形成する複数の単位形成層9に於
ける相互に異なる任意の単位形成層間を電気的に接続す
る導線部11が、所望のベースフィルム6、導電性部材
層7、カバーフィルム8、接着層10の少なくとも何れ
かを貫通して形成されている事が望ましい。
Therefore, the board portion 2 and the wiring portion 3 of the wiring member 1 according to the present invention are integrally formed, and a conductive material such as solder is used at the joint portion between the two. The connection structure used does not exist at all, therefore
Even if the structure is minimized, the manufacturing cost can be kept low, and at the same time, the yield is high without the bonding treatment operation, and since there is no bonding structure, the thickness can be made extremely thin. Become. On the other hand, it is desirable that the board portion 2 has a function as a mounting board as described above. Therefore, as shown in FIG. 2, the board portion 2 is formed with the board portion as needed. At least one of the desired base film 6, the conductive member layer 7, the cover film 8 and the adhesive layer 10 is provided with the conductive wire portion 11 that electrically connects arbitrary unit formation layers different from each other in the plurality of unit formation layers 9. It is desirable that it is formed so as to penetrate therethrough.

【0019】当該導線部11は、当該基板部2の機能に
応じて、積層された当該単位形成層9のそれぞれの積層
位置、及び当該基板部2の表面に配置される接続端子の
配置位置等を考慮して設計配置されるものである。又、
図示されてはいないが、当該導線部11が各々の単位形
成層に於ける導電性部材層7を略垂直に貫通する場合に
は、当該導電性部材層7に適宜のビアホール12を形成
しその内部を適宜の絶縁体を介して貫通させることが望
ましい。本発明に於ける当該配線部材1に於いては、当
該配線部3の平面形状に於ける長手方向と直交する幅w
は、当該基板部2の平面形状に於ける当該同一方向の幅
Wよりも短い事が好ましい。
According to the function of the substrate portion 2, the conductor portion 11 has the respective laminated positions of the laminated unit forming layers 9 and the arrangement positions of the connection terminals arranged on the surface of the substrate portion 2. Is designed and arranged. or,
Although not shown, when the conductor portion 11 penetrates the conductive member layer 7 in each unit forming layer substantially vertically, an appropriate via hole 12 is formed in the conductive member layer 7 and It is desirable to penetrate the inside through an appropriate insulator. In the wiring member 1 according to the present invention, the width w of the wiring portion 3 in the plane shape is orthogonal to the longitudinal direction.
Is preferably smaller than the width W in the same direction in the planar shape of the substrate portion 2.

【0020】又、本発明に於ける当該基板部2の表面部
には、適宜のレジスト膜13が配置されている事が望ま
しく、又適宜の表面処理層14が設けられているもので
あっても良い。更に、本発明に於いては、当該基板部2
の表面部には、当該基板部2に搭載される半導体装置4
あるいは別の配線部等が接続せしめられる端子部15が
設けられているものであっても良い。
Further, in the present invention, it is desirable that an appropriate resist film 13 is disposed on the surface portion of the substrate portion 2 and that an appropriate surface treatment layer 14 is provided. Is also good. Further, in the present invention, the substrate portion 2
The surface of the semiconductor device 4 mounted on the substrate 2 is
Alternatively, the terminal portion 15 to which another wiring portion or the like is connected may be provided.

【0021】次に、本発明に於ける当該配線部材1に於
いては、当該ベースフィルム6の少なくとも一面に、要
すれば、当該ベースフィルム6の両面に、導電性部材層
7と適宜のカバーフィルム層8とから構成される単位形
成層9を単層、或いは複数層積層し、当該単位形成層9
と当該ベースフィルム6との間、或いは当該相互に積層
されている各単位形成層9との間に、適宜の接着層10
を介在させて積層固着するものである。又、本発明に於
ける上記具体例に於いては、当該基板部2を構成する部
分は、上記した膜構成を有する当該積層膜体100がそ
の厚みをそのまま利用して構成されるものであり、当該
基板部2を構成する複数の単位形成層9のそれぞれに配
置されている各導電性部材層7は、適宜の別の単位形成
層9を形成する他の導電性部材層7と適宜のビアホール
12を介して垂直的に形成された導線部11と電気的に
接続されている。
Next, in the wiring member 1 according to the present invention, at least one surface of the base film 6 and, if necessary, both surfaces of the base film 6, the conductive member layer 7 and an appropriate cover. The unit forming layer 9 including the film layer 8 is laminated in a single layer or a plurality of layers to form the unit forming layer 9
And an appropriate adhesive layer 10 between the base film 6 and the unit forming layers 9 laminated on each other.
It is laminated and fixed by interposing. In addition, in the above-mentioned specific example of the present invention, the portion constituting the substrate portion 2 is configured by using the thickness of the laminated film body 100 having the above-described film configuration as it is. Each conductive member layer 7 disposed on each of the plurality of unit forming layers 9 forming the substrate portion 2 is appropriately connected to another conductive member layer 7 forming another appropriate unit forming layer 9. It is electrically connected to the vertically formed conductive wire portion 11 via the via hole 12.

【0022】一方、本発明に於ける当該配線部3は、図
2に点線で示されている様に、当該積層膜体100に於
ける当該基板部2に該当する部分の構成をそのままにし
て、当該配線部3に相当する部分を形成する当該単位形
成層9のみを残して、当該基板部2に相当する部分から
その他の単位形成層9を分離し且つ除去するものであ
る。又、上記した具体例に於いて、当該ベースフィルム
6と当該カバーフィルム層8との接触面間に接着層10
を設ける事も可能であるが当該接着層10を設けずに適
宜の接続処理を行うものであっても良い。
On the other hand, the wiring portion 3 according to the present invention has the same structure as the portion corresponding to the substrate portion 2 in the laminated film body 100, as shown by the dotted line in FIG. The other unit forming layers 9 are separated and removed from the portion corresponding to the substrate portion 2, leaving only the unit forming layer 9 forming the portion corresponding to the wiring portion 3. Further, in the above-described specific example, the adhesive layer 10 is provided between the contact surfaces of the base film 6 and the cover film layer 8.
Although it is possible to provide the above, it is also possible to perform an appropriate connection process without providing the adhesive layer 10.

【0023】図2に示す様な、本発明にかかる配線部材
1に於いて、カバーフィルム層8としては、例えば、ポ
リイミドフィルム、ポリエステルフィルム、カバーコー
ト(熱UV硬化、フォトソルダーレジスト)等を使用す
る事が可能であり、又上記導電性部材層7としては、例
えば、電解銅箔、圧延銅箔等からなる銅箔材を使用する
事が可能である。一方、本発明に於いて使用される上記
表面処理層14としては、例えば、防錆処理材、耐熱防
錆処理材、半田処理材、めっき処理(半田、ニッケル、
金メッキ、ボンディング金メッキ材)等を使用する事が
可能である。又、本発明に於いては、当該配線部材1を
補強するために適宜の補強材を使用する事が可能であ
り、当該補強材14としては、例えば、ポリイミドフィ
ルム、ポリエステルフィルム等からなる補強フィルム、
紙フェノール、ガラエポ(FR−4),CEM−3樹脂
成型品(ポリエーテルイミド(ウルテム)、ポリエーテル
サルフォン等から構成される積層板、或いはアルミニウ
ム、ケイ素剛板、亜鉛メッキ剛板等からなる金属板等を
使用する事が可能である。
In the wiring member 1 according to the present invention as shown in FIG. 2, as the cover film layer 8, for example, a polyimide film, a polyester film, a cover coat (heat UV curing, photo solder resist) or the like is used. The conductive member layer 7 can be made of a copper foil material such as an electrolytic copper foil or a rolled copper foil. On the other hand, as the surface treatment layer 14 used in the present invention, for example, a rust preventive treatment material, a heat resistant rust preventive treatment material, a solder treatment material, a plating treatment (solder, nickel,
It is possible to use gold plating, bonding gold plating material, etc. Further, in the present invention, an appropriate reinforcing material can be used to reinforce the wiring member 1. The reinforcing material 14 is, for example, a reinforcing film made of a polyimide film, a polyester film or the like. ,
Paper phenol, glass epoxy (FR-4), CEM-3 resin molded product (laminate composed of polyetherimide (Ultem), polyether sulfone, etc., or aluminum, silicon rigid plate, galvanized rigid plate, etc. It is possible to use a metal plate or the like.

【0024】次に、上記した本発明に於ける配線部材1
の製造方法の一具体例を以下に詳細に説明する。即ち、
本発明に於ける当該配線部材1の製造方法としては、基
本的には、図8に示す様に、ベースフィルム6の少なく
とも一面に、導電性部材層7とカバーフィルム層8とか
ら構成される単位形成層9を複数層、適宜の接着層10
を介して積層して積層膜体100を形成する工程、当該
積層された膜体100から、平面形状で見た、所望の形
状を有する基板部2と所望の幅と長さを有する配線部3
とを一体化した配線部材形成体110を取り出す工程、
当該配線形成体110の当該配線部3を構成する部分に
於ける当該積層された複数層の単位形成層9の内の少な
くとも一部の単位形成層9を残して除去する工程、とか
ら構成されている配線部材の製造方法である。
Next, the wiring member 1 according to the present invention described above.
A specific example of the manufacturing method will be described in detail below. That is,
As a method of manufacturing the wiring member 1 according to the present invention, basically, as shown in FIG. 8, a conductive member layer 7 and a cover film layer 8 are formed on at least one surface of a base film 6. A plurality of unit forming layers 9 and an appropriate adhesive layer 10
A step of forming the laminated film body 100 by laminating the substrate body 2 having a desired shape and a wiring portion 3 having a desired width and length in a plan view from the laminated film body 100.
A step of taking out the wiring member forming body 110 in which
And a step of removing at least a part of the unit forming layers 9 of the plurality of laminated unit forming layers 9 in a portion of the wiring forming body 110 that constitutes the wiring unit 3. This is a method of manufacturing a wiring member that has been used.

【0025】本発明に於いて、当該所望の単位形成層9
を除去する工程は、当該配線形成体110の当該配線部
3を構成する部分に於ける当該積層された複数層の単位
形成層9の内の少なくとも一部の接着層10を除去する
か或いは当該配線形成体110の当該配線部3を構成す
る部分に於ける当該積層された複数層の単位形成層9の
内、当該配線形成体110の当該配線部3を構成する部
分と当該基板部2を構成する部分との境界部を切断処理
する事が好ましい。つまり、本発明に於ける当該配線部
材1の製造方法に於いては、当該単位形成層9が複数層
積層され、且つ図2に示す様に当該基板部2を構成する
予定の部位に於いては、予め設計された配線配置に応答
して立体的な配線構造を予め形成しておくことが望まし
い。
In the present invention, the desired unit forming layer 9
In the step of removing the adhesive layer 10, at least a part of the adhesive layer 10 of the laminated unit forming layers 9 in the portion forming the wiring portion 3 of the wiring forming body 110 is removed, or Of the laminated unit forming layers 9 in the portion forming the wiring portion 3 of the wiring forming body 110, the portion forming the wiring portion 3 of the wiring forming body 110 and the substrate portion 2 are connected to each other. It is preferable to perform a cutting process on the boundary with the constituent part. That is, in the method for manufacturing the wiring member 1 according to the present invention, a plurality of the unit forming layers 9 are laminated and at the site where the substrate portion 2 is to be formed as shown in FIG. It is desirable that a three-dimensional wiring structure is formed in advance in response to a wiring layout designed in advance.

【0026】その後、図8(A)に示す様に、当該単位
形成層9が適宜に積層された積層構成体100から、予
め定められた当該配線部材1のデザインに従って、適宜
の手段を使用して、図8(B)に示す様に、当該配線部
材1の元になる当該配線形成体110を一つ或いは複数
個切り出す工程が付加されている事が望ましい。その
後、上記の配線形成体110に対して、当該配線部3を
構成する部位の単位形成層9のうち、分離或いは除去す
べき単位形成層9に対して、例えば、刃物或いはレーザ
ーを使用して必要な部分を切断し、或いは残存させるべ
き当該単位形成層9の側面等には、適宜の保護膜等を配
置し、当該接着層10を破壊、或いは溶解しえる処理材
で処理して不必要な単位形成層9を分離除去する操作を
行うものである。
Thereafter, as shown in FIG. 8A, appropriate means are used in accordance with a predetermined design of the wiring member 1 from the laminated structure 100 in which the unit forming layers 9 are appropriately laminated. Then, as shown in FIG. 8B, it is desirable to add a step of cutting out one or a plurality of the wiring forming bodies 110 which are the bases of the wiring member 1. Then, with respect to the wiring forming body 110, for example, a blade or a laser is used for the unit forming layer 9 to be separated or removed among the unit forming layers 9 of the portion forming the wiring portion 3. It is unnecessary to dispose an appropriate protective film or the like on the side surface or the like of the unit forming layer 9 where a necessary portion is to be cut or to be left and to treat the adhesive layer 10 with a treatment material capable of destroying or dissolving. The operation of separating and removing the different unit forming layers 9 is performed.

【0027】又、本発明に於いては、当該基板部2から
延展せしめられる当該配線部3は、必ずしも一つである
必要は無く、複数本の配線部3が同時に形成されるもの
であっても良い。つまり、図8(D)に示す様に2本の
配線部3が平行に配置形成され同一の基板部2‘に接続
されるもので有っても良く、又、それぞれが異なる基板
部2’、2“に個別に接続される様に構成することも可
能である。更に、別の具体例としては、図8(E)に示
す様に、当該一方の基板部2‘を2段に分離すると共
に、当該配線部3も2層に分離して分岐させ、それぞれ
の配線部3,3’を基板部2’、2“に個別に接続され
る様に構成することも可能である。勿論、本発明に於け
る当該配線部材1に於いて、それぞれ分岐された配線部
3の端部には、当該基板2を設けずに、自由端としてお
くことも可能である。つまり、上記の具体例に於いて
は、当該基板部2及び当該配線部3の厚みをそれぞれの
設計に応じて適宜変更することが必要となる。
Further, in the present invention, the wiring portion 3 extended from the substrate portion 2 does not necessarily have to be one, and a plurality of wiring portions 3 are simultaneously formed. Is also good. That is, as shown in FIG. 8 (D), two wiring parts 3 may be arranged in parallel and connected to the same substrate part 2 ', or different substrate parts 2'can be used. It is also possible to separately connect them to each other by 2 ". Further, as another specific example, as shown in FIG. 8E, the one substrate portion 2'is divided into two stages. At the same time, the wiring part 3 can be divided into two layers and branched, and the wiring parts 3 and 3'can be individually connected to the substrate parts 2'and 2 ". Of course, in the wiring member 1 according to the present invention, it is also possible to leave the substrate 2 at the end of each branched wiring portion 3 without providing the substrate 2. That is, in the above-mentioned specific example, it is necessary to appropriately change the thicknesses of the board portion 2 and the wiring portion 3 according to the respective designs.

【0028】当該配線部3の厚みの変更の一例は、上記
した具体的に示されている通り、当該配線部3を構成す
る単位形成層9と接着層10との組み合わせに於いて、
当該単位形成層9を相互に或いはベースフィルム6から
はがして二股状に構成することも可能である。つまり、
本発明に於ける上記した配線部材1を製造するために、
当該配線部を複数の単位形成層が積層された構成に形成
し、次いで、当該各単位形成層を剥離分離して独立の配
線部とする工程が付加されている事も望ましい。かかる
構成に於いては、ジャンパー用配線として使用する事が
可能である。その他、当該基板部2或いは当該配線部3
の厚みを変更する方法としては、当該ベースフィルム6
または補強材14の厚みを変えるか、当該カバーフィル
ム層8の厚みを例えば、12.5〜50μmの範囲で変
更することも可能である。その他、当該ベースフィルム
6をガラエポ(FR−4)或いは金属板等を使用する事
で厚みを変更することが可能である。
An example of changing the thickness of the wiring part 3 is, as shown concretely above, in the combination of the unit forming layer 9 and the adhesive layer 10 constituting the wiring part 3,
It is also possible to separate the unit forming layers 9 from each other or from the base film 6 to form a bifurcated shape. That is,
In order to manufacture the above wiring member 1 according to the present invention,
It is also preferable to add a step of forming the wiring portion in a structure in which a plurality of unit forming layers are stacked and then separating and separating the unit forming layers to form independent wiring portions. In such a structure, it can be used as a jumper wiring. In addition, the board portion 2 or the wiring portion 3
As a method of changing the thickness of the base film 6
Alternatively, the thickness of the reinforcing material 14 may be changed, or the thickness of the cover film layer 8 may be changed within the range of 12.5 to 50 μm. In addition, it is possible to change the thickness of the base film 6 by using glass epoxy (FR-4) or a metal plate.

【0029】上記の具体例の応用例を図5及び図6にそ
れぞれ例示する。上記した本発明にかかる配線部材1に
有っては、電子部品を実装することを考慮すると、従来
の硬質基板と同等でCSP搭載も可能となり、VIA、
ビルドアップ等の実現が可能となるので、高密度実装に
十分対応することが可能である。又、本発明に於ける当
該配線部材1は、全体として軽く、薄いと言う特徴があ
り、特に、ベースフィルム6がポリイミドフィルムであ
れば、その厚みは薄く出来ると同時に軽くて然も強力の
大きい膜体が得られる事になる。又、本発明に於いて
は、導体材料の塑性変形を利用した立体配線で、機器の
小型化が可能である。一方、本発明に於いて、用途に応
じて導体の材質や厚みを適切に選択する事によってより
最適な形状を実現できる。より具体的には、基板とケー
ブルとを一体化することによって、コネクタや硬質基
板、FPCが不要となり、小型の機器に使用するのに最
適となる。
Application examples of the above specific examples are illustrated in FIGS. 5 and 6, respectively. In the wiring member 1 according to the present invention described above, in consideration of mounting electronic components, it becomes possible to mount the CSP on the same level as that of the conventional hard substrate.
Since it is possible to realize buildup and the like, it is possible to sufficiently cope with high-density mounting. Further, the wiring member 1 in the present invention is characterized in that it is light and thin as a whole. Especially, if the base film 6 is a polyimide film, its thickness can be made thin, and at the same time it is light and strong. A film body will be obtained. Further, in the present invention, the device can be downsized by the three-dimensional wiring utilizing the plastic deformation of the conductor material. On the other hand, in the present invention, a more optimal shape can be realized by appropriately selecting the material and thickness of the conductor according to the application. More specifically, by integrating the board and the cable, a connector, a hard board, and an FPC are not required, which is optimal for use in a small device.

【0030】一方、本発明に於ける当該配線部材1に於
いては、筐体設計が決定された段階で、筐体にあわせ、
硬質基板部とケーブル部を一体で設計出来、パターン設
計の自由度が向上する。又、ケーブルや基板間のコネク
タ搭載による制約から解放され、設計の自由度が飛躍的
に向上する。又、絶縁体で導体をラミネートする構造の
ため、複数の小さな接続部品の一体化が実現出来る。更
に、本発明に於いては、コネクタレスのために、接触不
良が発生することが無く、全層とも基板がポリイミドで
あることから、材料の温度特性の差が無く、スルーホー
ルの信頼性が高い。一方、従来に於いては、硬質基板上
にFPCの接続部(半田パッド、コネクタ等)を設置す
る必要があるため、部品実装、配線パターンの自由度が
低下すると共に、信頼性についても接続部が存在するた
めに、本発明の様な一体型に比べて低い。
On the other hand, in the wiring member 1 of the present invention, when the housing design is determined,
The rigid board and cable can be designed as a unit, which improves the flexibility of pattern design. In addition, the restrictions on mounting connectors between cables and boards are released, and the degree of freedom in design is dramatically improved. In addition, since the conductor is laminated with an insulator, a plurality of small connection parts can be integrated. Furthermore, in the present invention, since no connector is used, no contact failure occurs, and since the substrate is polyimide for all layers, there is no difference in the temperature characteristics of the materials and the reliability of the through holes is high. high. On the other hand, in the past, since it was necessary to install the FPC connection parts (solder pads, connectors, etc.) on the hard substrate, the flexibility of component mounting and wiring pattern was reduced, and the reliability of the connection part was also reduced. Is lower than that of the integrated type as in the present invention.

【0031】従来においては、ハンダで接続させる場合
には、FPCと硬質基板上のパッドの位置を管理(合わ
せて溶着処理する事が必要であり、その為の専用の位置
合わせジグが必要となる)することが必要であり、筐体
に組み込んだ形での接続処理操作は難しいのが一般的で
あった。更に、従来に於いては、硬質基板とFPCで別
々の製作工程が必要とされたため、コストの上昇が不可
避であった。一般的には、従来の方法では、初期投資費
用が本発明を使用する場合に比べて約2倍かかると推定
される。つまり、硬質基板とFPCの場合には、硬質基
板製作のイニシャル費とFPC製作のイニシャル費と当
該硬質基板と当該FPCとの接続の為のコストがかかる
が、本発明の様に、当該硬質基板とFPCとが一体化さ
れている場合には、当該FPCのイニシャル費用だけで
すむ事になる。更に、部品点数、作業工程も少なくなる
という効果が得られる。一方、本発明に於いては、当該
基板と当該FPCとの間に接続部がないので接続信頼性
が高く、従来の方法に比べて有利である。又、本発明に
於いては、当該FPCとの接合用パッドが不要となるの
で、配線、部品搭載のためのスペースが広がると言う効
果もある。
Conventionally, when connecting with solder, it is necessary to manage the positions of the FPC and the pads on the hard substrate (to perform a welding process together, and a dedicated positioning jig for that purpose is required). ) Is required, and it is generally difficult to perform the connection processing operation in a form incorporated in the housing. Further, in the conventional case, a separate manufacturing process was required for the hard substrate and the FPC, so that an increase in cost was inevitable. Generally, it is estimated that the conventional method costs about twice as much as the initial investment cost when using the present invention. That is, in the case of a hard substrate and an FPC, the initial cost for manufacturing the hard substrate, the initial cost for manufacturing the FPC, and the cost for connecting the hard substrate and the FPC are high. If the FPC is integrated with the FPC, only the initial cost of the FPC is required. Further, it is possible to obtain an effect that the number of parts and the work process are reduced. On the other hand, in the present invention, since there is no connecting portion between the substrate and the FPC, the connection reliability is high, which is advantageous as compared with the conventional method. Further, in the present invention, since the bonding pad with the FPC is not required, there is an effect that the space for wiring and mounting of components is widened.

【0032】此処で、本発明にかかる配線部材1のより
具体的な構成を図9に例示する。即ち、図9の配線部材
1は、当該積層体100を構成する複数の単位形成層の
内、最上層にある単位形成層9が当該基板部2から外方
に延展せしめられて配線部3を形成している構成を有し
ている。更に具体的には、約50μmの厚みを持ったポ
リイミドからなるベースフィルム6の上面に約50μm
の厚みを持った接着層10であるボンディングシート
が、積層され、更にその上面には、カバーシート8とし
て約12.5μmの厚みを持ったポリイミド層と当該ポ
リイミド層の上面に約12μmの厚みを持った電解銅箔
層7‘と約10μmの厚みを持った銅メッキ層7“とが
積層された導電性部材層7が積層形成されている。
Here, a more specific structure of the wiring member 1 according to the present invention is illustrated in FIG. That is, in the wiring member 1 of FIG. 9, among the plurality of unit forming layers forming the laminate 100, the uppermost unit forming layer 9 is extended outward from the substrate portion 2 to form the wiring portion 3. It has a forming structure. More specifically, about 50 μm is formed on the upper surface of the base film 6 made of polyimide having a thickness of about 50 μm.
A bonding sheet, which is an adhesive layer 10 having a thickness of, is laminated, and a polyimide layer having a thickness of about 12.5 μm as a cover sheet 8 is further provided on the upper surface thereof, and a thickness of about 12 μm is provided on the upper surface of the polyimide layer. A conductive member layer 7 is formed by laminating the electrolytic copper foil layer 7 ′ and the copper plating layer 7 ″ having a thickness of about 10 μm.

【0033】更に、当該導電性部材層7の上面には、約
10μmの厚みを持った適宜のレジストからなるレジス
ト膜層13と、当該レジスト膜層13の適宜の位置に配
置された約3μmの厚みを持ったハンダメッキ17が配
置されている。一方、当該ベースフィルム6の他方の
面、つまり下方の面には、約35μmの厚みを持った接
着層10であるボンディングシートが、積層され、更に
その下面には、カバーシート8として約12.5μmの
厚みを持ったポリイミド層と当該ポリイミド層8の下面
に約12μmの厚みを持った電解銅箔層7‘と約10μ
mの厚みを持った銅メッキ層7“とが積層された導電性
部材層7が積層形成されている。
Further, on the upper surface of the conductive member layer 7, a resist film layer 13 made of a suitable resist having a thickness of about 10 μm, and a resist film layer 13 having a thickness of about 3 μm arranged at a suitable position of the resist film layer 13. Solder plating 17 having a thickness is arranged. On the other hand, on the other surface of the base film 6, that is, on the lower surface, a bonding sheet, which is an adhesive layer 10 having a thickness of about 35 μm, is laminated, and on the lower surface thereof, a cover sheet 8 of about 12. A polyimide layer having a thickness of 5 μm and an electrolytic copper foil layer 7 ′ having a thickness of about 12 μm on the lower surface of the polyimide layer 8 and a thickness of about 10 μm.
A conductive member layer 7 is formed by laminating a copper plating layer 7 ″ having a thickness of m.

【0034】尚、当該導電性部材層7の下方部には、約
35μmの厚みを持った接着層10を介して、約50μ
mの厚さのポリイミド層が適宜のカバーフィルム8とし
て配置されていても良い。上記した本発明にかかる配線
部材1に有っては、図9に示す様に、基板部2を除い
て、且つ、当該配線部3を構成する最上層の単位形成層
9を除く上記した各膜層を、主に、約50μmの厚みを
持った接着層10であるボンディングシートの部分を、
当該最上層の単位形成層9を形成する単位形成層の約1
2.5μmの厚みを持ったポリイミド層カバーシート8
から剥離分離させ、且つ、当該基板部2と当該配線部3
との境界部を形成する境界部を、適宜の切断手段を使用
して、切断処理するものである。
It should be noted that, below the conductive member layer 7, about 50 μm is provided via an adhesive layer 10 having a thickness of about 35 μm.
A polyimide layer having a thickness of m may be arranged as an appropriate cover film 8. In the above-described wiring member 1 according to the present invention, as shown in FIG. 9, each of the above-mentioned components except the substrate portion 2 and excluding the uppermost unit forming layer 9 that constitutes the wiring portion 3 is used. The film layer, mainly the bonding sheet portion which is the adhesive layer 10 having a thickness of about 50 μm,
About 1 unit formation layer forming the unit formation layer 9 of the uppermost layer
Polyimide layer cover sheet 8 having a thickness of 2.5 μm
From the substrate part 2 and the wiring part 3
The boundary portion forming the boundary portion with and is cut by using a suitable cutting means.

【0035】尚、本発明に於ける上記した配線部材の製
造方法によって、両面に部品実装可能な、厚みの異なる
基板部を有するFPCが形成できると同時に、厚みの違
う部分を形成できる様に、当該積層体100の層の構成
を設計することが出来る。つまり、本発明に於ける特徴
としては、一部両面か片面FPCとなってしまう、薄い
FPCを製作後に、補強板を貼って厚みを増加させるも
のでは無い。又、本発明に於ける当該配線部材の製造方
法においては、当該ベースフィルム6が厚みを有する基
板部2側に残る様に設計されることが望ましく、その為
に、薄い部分を基準にして各膜層の構成を設計すること
が必要である。
By the method of manufacturing a wiring member according to the present invention, it is possible to form an FPC having board portions having different thicknesses on both sides of which components can be mounted, and at the same time, to form portions having different thicknesses. The layer structure of the laminate 100 can be designed. In other words, the feature of the present invention is that the thickness is not increased by attaching a reinforcing plate after manufacturing a thin FPC that partially becomes double-sided or single-sided FPC. In addition, in the method for manufacturing the wiring member according to the present invention, it is desirable that the base film 6 is designed so as to remain on the side of the substrate portion 2 having a thickness. It is necessary to design the composition of the membrane layers.

【0036】更に、本発明に於いては、複数層のFPC
を形成することが可能であり、使用条件に合わせて、厚
みを変更することも可能である。当該本発明の配線部3
としては、最も薄い厚みとしては、例えば、約30μm
である。一方、本発明に於ける当該配線部の薄い部分
は、検出面までの高さ制限のあるセンサーIC実装用に
使用するので、その厚みは、約40μmで、厚い部分は
FPC用コネクタに接続するために厚みは約300μm
であることが望ましい。又、本発明に於いては、当該配
線部材1を筐体に組み込んだ後に、回路調整を行うが、
図9に示す様に、その為に外部回路との接続調整用端子
Xが設けられており、調整終了後に無駄となる調整用端
子Xを切り取ることも可能である。
Further, in the present invention, a multi-layer FPC
Can be formed, and the thickness can be changed according to usage conditions. The wiring part 3 of the present invention
As the thinnest thickness, for example, about 30 μm
Is. On the other hand, since the thin portion of the wiring portion in the present invention is used for mounting a sensor IC having a height limit to the detection surface, its thickness is about 40 μm and the thick portion is connected to the FPC connector. Thickness is about 300μm
Is desirable. Further, in the present invention, circuit adjustment is performed after the wiring member 1 is incorporated in the housing.
As shown in FIG. 9, a connection adjustment terminal X for connection with an external circuit is provided for that purpose, and it is possible to cut off the adjustment terminal X that is wasted after the adjustment is completed.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明は、上述した様な構成を採用して
いるので、上記した従来技術の問題点を解決し、小型化
された電子機器に於ける必要な基板部、半導体装置又は
制御装置等の相互間或いは当該基板部、半導体装置又は
制御装置同士の間の電気的信号を伝達するに必要な小型
化され且つ一体化された信頼性の高い配線部材を容易に
且つ安価に得られるものであり、更には、当該配線部材
を容易に製造することが可能な、配線部材の製造方法を
得るものである。
Since the present invention adopts the above-mentioned structure, it solves the above-mentioned problems of the prior art and requires a substrate portion, a semiconductor device or a control unit in a downsized electronic device. It is possible to easily and inexpensively obtain a miniaturized and integrated highly reliable wiring member necessary for transmitting an electrical signal between devices or the like, or between the substrate portion, the semiconductor device or the control device. Further, the present invention provides a method for manufacturing a wiring member, which enables easy manufacturing of the wiring member.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明に係る配線部材の一具体例の構
成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a specific example of a wiring member according to the present invention.

【図2】図2は、本発明に係る配線部材の別の具体例に
於ける構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of another specific example of the wiring member according to the present invention.

【図3】図3は、従来の配線部材の一具体例の構成を示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a specific example of a conventional wiring member.

【図4】図4は、従来の配線部材の他の具体例に於ける
構成を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the configuration of another specific example of the conventional wiring member.

【図5】図5は、本発明の一具体例に於ける配線部材を
使用した応用例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an application example in which a wiring member according to a specific example of the present invention is used.

【図6】図6は、本発明に一具体例に於ける配線部材を
使用した他の応用例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing another application example in which the wiring member according to one specific example of the present invention is used.

【図7】図7は、従来の配線部材部の構成例を示す斜視
図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a configuration example of a conventional wiring member portion.

【図8】図8は、本発明に係る配線部材の製造方法の手
順の例を説明する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a procedure of a method for manufacturing a wiring member according to the present invention.

【図9】図9は、本発明に係る配線部材の製造方法の例
を説明する図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a method for manufacturing a wiring member according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 配線部材 2 基板部 3 配線部、フレキシブルシート 4 半導体装置 5 コネクタ 6 ベースフィルム 7 導電性部材層 8 カバーフィルム層 9 単位形成層 10 接着層 11 導線部 12 ビアホール 13 レジスト膜 14 表面処理層 16 補強材層 100 積層膜体 110 配線形成体 1 wiring member 2 board part 3 Wiring part, flexible sheet 4 Semiconductor device 5 connector 6 base film 7 Conductive member layer 8 Cover film layer 9 unit formation layer 10 Adhesive layer 11 Conductor 12 beer hall 13 Resist film 14 Surface treatment layer 16 Reinforcement layer 100 laminated film body 110 wiring formation

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 1/11 H05K 1/11 C 3/00 3/00 X Fターム(参考) 5E317 AA04 AA24 BB03 BB11 CD23 CD31 CD34 GG16 5E338 AA03 AA12 AA16 BB02 BB13 BB25 BB31 BB63 BB75 CC01 CD33 CD40 EE22 EE32 5E346 AA05 AA06 AA12 AA15 AA16 AA17 AA22 AA41 BB01 BB16 CC10 CC12 CC31 DD02 EE02 EE44 FF01 GG24 GG28 HH22 HH33 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 1/11 H05K 1/11 C 3/00 3/00 X F term (reference) 5E317 AA04 AA24 BB03 BB11 CD23 CD31 CD34 GG16 5E338 AA03 AA12 AA16 BB02 BB13 BB25 BB31 BB63 BB75 CC01 CD33 CD40 EE22 EE32 5E346 AA05 AA06 AA12 AA15 AA16 AA17 AA22 AA41 BB01 BB16 CC10 CC12 CC31 DD02 EE01H22EE24 EE02H22

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板部と配線部とが膜体を主体として一
体的に形成されている事を特徴とする配線部材。
1. A wiring member in which a substrate portion and a wiring portion are integrally formed mainly with a film body.
【請求項2】 当該配線部はフレキシブルシートで構成
されている事を特徴とする請求項1に記載の配線部材。
2. The wiring member according to claim 1, wherein the wiring portion is made of a flexible sheet.
【請求項3】 当該基板部は、その厚みが、当該配線部
の厚みよりも厚くなるように構成されている事を特徴と
する請求項1又は2に記載の配線部材。
3. The wiring member according to claim 1, wherein the substrate portion is configured such that its thickness is larger than that of the wiring portion.
【請求項4】 当該基板部は、当該配線部よりも硬質で
ある事を特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の配
線部材。
4. The wiring member according to claim 1, wherein the substrate portion is harder than the wiring portion.
【請求項5】 当該基板部と当該配線部との間には、半
田を含む如何なる接続構造部が存在していない事を特徴
とする請求項1乃至4の何れかに記載の配線部材。
5. The wiring member according to claim 1, wherein no connection structure portion including solder is present between the board portion and the wiring portion.
【請求項6】 当該基板部は、半導体装置を搭載する実
装基板の機能を有するものである事を特徴とする請求項
1乃至5の何れかに記載の配線部材。
6. The wiring member according to claim 1, wherein the board portion has a function of a mounting board on which a semiconductor device is mounted.
【請求項7】 当該基板部は、ベースフィルムの少なく
とも一面に、導電性部材層とカバーフィルム層とから構
成される単位形成層が、複数層適宜の接着層を介して積
層されている事を特徴とする請求項1乃至6の何れかに
記載の配線部材。
7. The substrate part has a unit forming layer composed of a conductive member layer and a cover film layer laminated on at least one surface of a base film via a plurality of appropriate adhesive layers. The wiring member according to claim 1, wherein the wiring member is a wiring member.
【請求項8】 当該配線部は、当該基板部を形成する複
数の単位形成層の少なくとも一部の層が延展して形成さ
れているものである事を特徴とする請求項1乃至7の何
れかに記載の配線部材。
8. The wiring portion is formed by extending at least a part of a plurality of unit forming layers forming the substrate portion. The wiring member according to claim 1.
【請求項9】 当該基板部は、当該配線部の両端部に配
置形成されている事を特徴とする請求項1乃至8の何れ
かに記載の配線部材。
9. The wiring member according to claim 1, wherein the board portion is arranged and formed at both ends of the wiring portion.
【請求項10】 当該基板部には、当該基板部を形成す
る複数の単位形成層に於ける相互に異なる任意の単位形
成層間を電気的に接続する導線部が、所望のベースフィ
ルム、導電性部材層、カバーフィルム、接着層の少なく
とも何れかを貫通して形成されている事を特徴とする請
求項1乃至9の何れかに記載の配線部材。
10. The substrate section is provided with a conductive wire section for electrically connecting arbitrary unit formation layers different from each other in a plurality of unit formation layers forming the substrate section to a desired base film and a conductive layer. The wiring member according to any one of claims 1 to 9, wherein the wiring member is formed so as to penetrate at least one of the member layer, the cover film, and the adhesive layer.
【請求項11】 当該配線部の平面形状に於ける長手方
向と直交する幅は、当該基板部の平面形状に於ける当該
同一方向の幅よりも短い事を特徴とする請求項1乃至1
0の何れかに記載の配線部材。
11. The width of the wiring portion in the plane shape orthogonal to the longitudinal direction is shorter than the width of the wiring portion in the same direction in the plane shape.
The wiring member according to any one of 0.
【請求項12】 当該基板部の表面部には、適宜のレジ
スト膜が配置されている事を特徴とする請求項1乃至1
1の何れかに記載の配線部材。
12. An appropriate resist film is disposed on the surface of the substrate portion, according to any one of claims 1 to 1.
1. The wiring member according to any one of 1.
【請求項13】 当該基板部の表面部には、当該基板部
に搭載される半導体装置あるいは別の配線部等が接続せ
しめられる端子部が設けられている事を特徴とする請求
項1乃至12の何れかに記載の配線部材。
13. The terminal portion to which a semiconductor device mounted on the substrate portion, another wiring portion, or the like is connected to the surface portion of the substrate portion. The wiring member according to any one of 1.
【請求項14】 当該配線部は、一つの基板部から複数
本延展せしめられている事を特徴とする請求項1乃至1
3の何れかに記載の配線部材。
14. The plurality of wiring portions are extended from one substrate portion.
The wiring member according to any one of 3 above.
【請求項15】 当該複数本の配線部は、当該複数の単
位形成層が積層されている配線部形成体から相互に剥離
して分離させて構成されたものである事を特徴とする請
求項14に記載の配線部材。
15. The plurality of wiring portions are formed by separating and separating from the wiring portion forming body in which the plurality of unit forming layers are laminated. 14. The wiring member according to 14.
【請求項16】 ベースフィルムの少なくとも一面に、
導電性部材層とカバーフィルム層とから構成される単位
形成層を複数層、適宜の接着層を介して積層する工程、 当該積層された膜体から、平面形状で見た、所望の形状
を有する基板部と所望の幅と長さを有する配線部とを一
体化した配線部材形成体を取り出す工程、 当該配線形成体の当該配線部を構成する部分に於ける当
該積層された複数層の単位形成層の内の少なくとも一部
の単位形成層を残して除去する工程、とから構成されて
いる事を特徴とする配線部材の製造方法。
16. At least one surface of the base film,
A step of laminating a plurality of unit forming layers composed of a conductive member layer and a cover film layer via an appropriate adhesive layer, and having a desired shape when viewed in plan from the laminated film body. A step of taking out a wiring member forming body in which a substrate portion and a wiring portion having a desired width and length are integrated, and unit formation of the laminated plural layers in a portion forming the wiring portion of the wiring forming body And a step of removing at least a part of the unit forming layer among the layers, the manufacturing method of the wiring member.
【請求項17】 当該所望の単位形成層を除去する工程
は、当該配線形成体の当該配線部を構成する部分に於け
る当該積層された複数層の単位形成層の内の少なくとも
一部の接着層を除去するか或いは当該配線形成体の当該
配線部を構成する部分に於ける当該積層された複数層の
単位形成層の内、当該配線形成体の当該配線部を構成す
る部分と当該基板部を構成する部分との境界部を切断処
理する事を特徴とする請求項15に記載の配線部材の製
造方法。
17. The step of removing the desired unit forming layer includes the step of adhering at least a part of the plurality of laminated unit forming layers in a portion of the wiring forming body which constitutes the wiring section. A layer is removed or a portion of the wiring forming body that constitutes the wiring portion and a portion of the wiring forming body that constitutes the wiring portion and the substrate portion among the laminated unit forming layers of the plurality of layers. The method for manufacturing a wiring member according to claim 15, wherein a boundary portion between the wiring member and a portion that constitutes the wiring member is cut.
【請求項18】 当該単位形成層が複数層積層された積
層体から、当該配線部材の元になる当該配線形成体を複
数個切り出す工程が付加されている事を特徴とする請求
項16又は17に記載の配線部材の製造方法。
18. The method according to claim 16, wherein a step of cutting out a plurality of the wiring forming bodies which are the bases of the wiring members is added from a laminated body in which a plurality of the unit forming layers are laminated. A method for manufacturing a wiring member according to.
【請求項19】 当該配線部を複数の単位形成層が積層
された構成に形成し、次いで、当該各単位形成層を剥離
分離して独立の配線部とする工程が付加されている事を
特徴とする請求項16乃至18のいずれかに記載の配線
部材の製造方法。
19. A step of forming the wiring part in a structure in which a plurality of unit forming layers are laminated and then separating and separating the unit forming layers to form independent wiring parts is added. The method for manufacturing a wiring member according to any one of claims 16 to 18.
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