JP2003322703A - 反射防止フィルムおよびその形成方法、偏光板、画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射率が低く、耐傷性に優れた、反射防止フ
ィルム及びその反射防止フィルムを用いた画像表示装置
を提供する。 【解決手段】 透明支持体上に、透明支持体よりも低い
屈折率の低屈折率層を有し、低屈折率層が無機微粒子を
含有し、該無機微粒子が低屈折率層内で支持体側もしく
は表面側に偏在した構造を有する反射防止フィルム、及
びその反射防止フィルムを用いた画像表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィルム
およびその形成方法に関する。特に本発明は、偏光板あ
るいは液晶表示装置に有利に用いることができる反射防
止フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは一般に、陰極管表示
装置（ＣＲＴ）、有機エレクトロルミネッセンス表示装
置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶表示
装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の
反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止する
ために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するディ
スプレイの最表面に配置される。

【０００３】反射防止フィルムの形成法として、透明支
持体上に光学的機能層を塗布により形成する方法は、一
般に知られている。反射防止のためには、透明支持体の
屈折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率層）を設
ける、透明支持体上に高屈折率層を設け、その上に低屈
折率層を設ける、等の方法により反射率を下げることが
できる。このような塗布による反射防止フィルムは、連
続で生産できるため、大量生産に向いている。

【０００４】また、像の映り込みを表面凹凸による散乱
を利用して低下させる防眩技術を塗布による反射防止フ
ィルムに適用する方法も一般に知られている。方法とし
ては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布す
る方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を反射
防止層に導入する方法、および、反射防止フィルムをエ
ンボス加工することにより表面凹凸を形成する方法、な
どがある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】透明支持体上に透明支
持体の屈折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率
層）を有する反射防止フィルムは、反射率を低減するた
めには低屈折率層を十分に低屈折率化する必要が生じ
る。例えばトリアセチルセルロースフィルムを支持体と
し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのＵＶ
硬化被膜をハードコート層とする反射防止フィルムで４
５０ｎｍから６５０ｎｍにおける平均反射率を１．６％
以下にするためには屈折率を１．４０以下にしなければ
ならない。屈折率１．４０以下の素材としては無機物で
はフッ化マグネシウムやフッ化カルシウム、有機物では
フッ素含率の大きい含フッ素化合物が挙げられるが、こ
れらフッ素化合物は凝集力不足および基材との密着不足
のためディスプレイの最表面に配置するフィルムとして
は耐傷性が不足していた。

【０００６】本発明の目的は、反射率が低く、耐傷性に
優れた、反射防止フィルムもしくはその反射防止フィル
ムを用いた画像表示装置を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１４）の反射防止フィルムおよび（１５）の
偏光板および（１６）の反射防止フィルムを用いた画像
表示装置、および（１６）、（１７）の反射防止フィル
ムの形成方法により達成された。

【０００８】（１） 透明支持体上に、透明支持体より
も低い屈折率の低屈折率層を有し、低屈折率層が無機微
粒子を含有し、該無機微粒子が低屈折率層内で支持体側
もしくは表面側に偏在した構造を有することを特徴とす
る反射防止フィルム。 （２） 該無機微粒子が低屈折率層内で支持体側に偏在
した構造を有することを特徴とする（１）に記載の反射
防止フィルム。 （３） 低屈折率層が熱または電離放射線により架橋す
るフッ素化合物と無機微粒子からなることを特徴とする
前記（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。 （４） 低屈折率層が一般式（１）で表される化合物を
含有することを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれ
かに記載の反射防止フィルム。 一般式（１） （Ｒ¹ ）ｍ−Ｓｉ（ＯＲ² ）ｎ （一般式（１）式中、Ｒ¹ は置換もしくは無置換の、ア
ルキル基またはアリール基を表す。Ｒ² は置換もしくは
無置換の、アルキル基またはアシル基を表す。ｍは０〜
３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合
計は４である。） （５） 無機微粒子が平均粒径０．００１〜０．２μｍ
のシリカであることを特徴とする前記（１）〜（４）の
いずれかに記載の反射防止フィルム。 （６） 低屈折率層の下層が高屈折率層であり、かつ高
屈折率層と支持体の間に１〜１０μｍの厚さを有するハ
ードコート層が設けられている前記（１）〜（７）のい
ずれかに記載の反射防止フィルム。 （７） 高屈折率層とハードコート層の間に、屈折率が
低屈折率層よりも高く、かつ高屈折率層よりは低い中屈
折率層が設けられている前記（８）記載の反射防止フィ
ルム。 （８） 低屈折率層の下層が１〜１０μｍの厚さを有す
るハードコート層である前記（１）〜（７）のいずれか
に記載の反射防止フィルム。 （９） 低屈折率層とハードコート層の間に、高屈折率
ハードコート層を有し、高屈折率ハードコート層が、
１．５７〜２．００の屈折率を有し、かつ平均粒径０．
３〜２０μｍのマット剤粒子を有し、防眩性を有するこ
とを特徴とする前記（８）記載の反射防止フィルム。 （１０） ハードコート層が平均粒径０．３〜２０μｍ
のマット剤粒子を有し、防眩性を有することを特徴とす
る前記（１０）記載の反射防止フィルム。 （１１） ハードコート層が１．５７〜２．００の屈折
率を有することを特徴とする前記（８）または（１０）
記載の反射防止フィルム。 （１２） 透明支持体がトリアセチルセルロースフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、またはポリ
エチレンナフタレートフィルムであることを特徴とする
前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の反射防止フィ
ルム。 （１３） 低屈折率層が、無機微粒子を含有する低屈折
率層用塗布液を１回塗布および硬化することにより形成
されたことを特徴とする前記（１）〜（１２）のいずれ
か１項に記載の反射防止フィルム。 （１４） 前記（１）〜（１３）のいずれか１項に記載
の反射防止フィルムを少なくとも片面に有することを特
徴とする偏光板。 （１５） 前記（１）〜（１３）のいずれか１項に記載
の反射防止フィルムまたは前記（１４）に記載の偏光板
を低屈折率層がディスプレイの最表層になるように用い
たことを特徴とする画像表示装置。 （１６） 透明支持体上に、無機微粒子を含有する低屈
折率層用塗布液を１回塗布および硬化し、該無機微粒子
を低屈折率層内で支持体側もしくは表面側に偏在させる
ことを特徴とする反射防止フィルムの形成方法。 （１７） 低屈折率層用塗布液の塗布直後の乾燥温度が
８０〜１４０℃であることを特徴とする前記（１６）記
載の反射防止フィルムの形成方法。

【０００９】

【発明の実施の形態】［反射防止フィルムの構成］図１
は、最も基本的な反射防止フィルムの構成を示す断面模
式図である。図１に示す反射防止フィルムは、透明支持
体（１）上に、本発明の低屈折率層（２）が設けられて
いる。図２は、反射防止フィルムの別の構成を示す断面
模式図である。図２に示す反射防止フィルムは、透明支
持体（１）上に、防眩層（３）、本発明の低屈折率層
（２）が順次設けられている。図３は、反射防止フィル
ムのまた別の構成を示す断面模式図である。図３に示す
反射防止フィルムは、透明支持体（１）上に、ハードコ
ート層（４）、防眩層（３）、本発明の低屈折率層
（２）が順次設けられている。

【００１０】図４は、反射防止フィルムのさらに別の構
成を示す断面模式図である。図４に示す反射防止フィル
ムは、透明支持体（１）上に、ハードコート層（４）、
本発明の低屈折率層（２）が順次設けられている。図５
は、反射防止フィルムのさらにまた別の構成を示す断面
模式図である。図５に示す反射防止フィルムは、透明支
持体（１）上に、ハードコート層（４）、高屈折率層
（５）、本発明の低屈折率層（２）が順次設けられてい
る。図６は、反射防止フィルムの他の構成を示す断面模
式図である。図６に示す反射防止フィルムは、透明支持
体（１）上に、ハードコート層（４）、中屈折率層
（６）、高屈折率層（５）、本発明の低屈折率層（２）
が順次設けられている。

【００１１】［低屈折率層内の無機微粒子の偏在構造］
本発明では、無機微粒子を含有する低屈折率層内で無機
微粒子が支持体側あるいは表面側に、膜厚方向に、偏在
した構造を有する。ここで無機微粒子の偏在部分を無機
微粒子層と呼ぶが、該無機微粒子層は無機微粒子成分単
独からなる層ではなく、その他の成分を含む。この無機
微粒子層の層厚は添加した無機微粒子の少なくとも９５
体積％を含む範囲の層厚を指す。このとき無機微粒子層
の範囲の取り方は、層厚が最小になるような範囲を取る
こととする。又、無機微粒子の存在分布は支持体側ある
いは表面側に高濃度であり、濃度勾配を有する。この無
機微粒子偏在構造を無機微粒子を含有する低屈折率層用
塗布液を１回塗布および硬化することにより形成できる
ことが本発明の特徴である。

【００１２】本発明の低屈折率層の無機微粒子偏在構造
中の無機微粒子層が支持体側あるいは表面側のいずれで
もかまわないが、支持体側である方が膜強度および耐擦
傷性が良好であり好ましい。無機微粒子層が支持体側で
あるときの無機微粒子偏在構造の断面の例を図７に示し
た。本発明の無機微粒子偏在構造は、無機微粒子の１次
粒子が塗布膜の乾燥過程で層内で沈積し、図７に示すよ
うな無機微粒子偏在構造が生じたものを指す。本発明の
低屈折率層における無機微粒子層７以外の部分は無機微
粒子を含まないことならバインダーを主成分とするバイ
ンダー層８と見ることができる。無機微粒子層が表面側
であるときの無機微粒子偏在構造の断面の例を図８に示
した。本発明の無機微粒子偏在構造は、無機微粒子の１
次粒子が塗布膜の乾燥過程で上層に偏析し、図８に示す
ような無機微粒子偏在構造が生じたものを指す。

【００１３】本発明の無機微粒子偏在構造の好ましい態
様は、無機微粒子層の層厚が５〜９０ｎｍ、好ましくは
２０〜８０ｎｍ、より好ましくは３０〜７０ｎｍ、であ
る。低屈折率層全体の層厚としては５０〜１２０ｎｍ、
好ましくは７０〜１００ｎｍ、より好ましくは７５〜９
５ｎｍである。低屈折率層全体の層厚に対する無機微粒
子層の層厚の比率は５％以上７５％以下、好ましくは１
０％以上６０％以下である。無機微粒子偏在構造の無機
微粒子層の層厚はフィルム断面のＴＥＭ写真あるいはＳ
ＥＭ写真を解析することにより求めることができる。

【００１４】本発明では、無機微粒子偏在構造が形成さ
れることにより、著しく耐擦傷性が良化することができ
た。形成された無機微粒子偏在構造の支持体側が無機微
粒子の場合は、硬い無機微粒子の充填層が下地との界面
近傍の破壊あるいは剥離を抑制することにより深い傷の
発生が少なくなり、傷が目立たなくなることにより耐擦
傷性が著しく良化していると考えられる。形成された無
機微粒子偏在構造の表面側が無機微粒子の場合は、硬い
無機微粒子の充填層が表層の破壊を抑制することにより
傷の発生が少なくなり、耐擦傷性が良化していると考え
られる。

【００１５】本発明の無機微粒子偏在構造が形成される
機構は明らかではないが、塗布直後の乾燥温度が高い方
が無機微粒子偏在構造を形成しやすい。塗布直後の乾燥
温度は室温〜１５０℃が好ましく、より好ましくは６０
〜１２０℃である。乾燥時間の範囲は、好ましくは１０
秒〜２０分、より好ましくは３０秒〜１０分、さらに好
ましくは１分〜５分である。本発明の無機微粒子偏在構
造の形成方法は特に制限はなく、結果的に該構造を形成
すれば良い。以下に該構造を形成するのに好ましい態様
を説明する。

【００１６】本発明の低屈折率層に用いられる無機微粒
子としては低屈折率のものが好ましく用いられ、屈折率
としては１．３０〜１．４９が好ましく、無機微粒子の
好ましいものは、シリカ、フッ化マグネシウムであり、
特にシリカが好ましい。該無機微粒子の平均粒径は０．
００１〜０．２μｍであることが好ましく、０．００１
〜０．０５μｍであることがより好ましい。微粒子の粒
径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。該
無機微粒子の添加量は、低屈折率層の全質量の５〜９０
質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％である
と更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。本
発明では該無機微粒子を表面処理を施して用いることが
特に好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理や
コロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング
剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤
の使用が好ましい。カップリング剤としては、一般式
（１）の化合物も含めたオルガノアルコキシメタル化合
物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング
剤）が好ましく用いられる。該無機微粒子がシリカの場
合はシランカップリング処理が特に有効であり、一般式
（１）の化合物が好ましい。

【００１７】一般式（１） （Ｒ¹ ）ｍ−Ｓｉ（ＯＲ² ）ｎ 一般式（１）式中、Ｒ¹ は置換もしくは無置換のアルキ
ル基もしくは、アリール基を表す。Ｒ² は置換もしくは
無置換のアルキル基もしくはアシル基を表す。ｍは０〜
３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合
計は４である。

【００１８】一般式（１）で表される化合物について説
明する。一般式（１）においてＲ¹ は置換もしくは無置
換の、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘ
キシル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ヘキシル、デシ
ル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好
ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１
６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基と
してはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフ
ェニル基である。置換基としては特に制限はないが、ハ
ロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト
基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチ
ル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル
等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘ
テロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコ
キシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシ
ルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アル
キルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチ
オ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−
プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシ
リル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセ
トキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ
等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基
（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバ
モイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル
等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルア
ミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ま
しい。これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプ
ト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アル
コキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であ
り、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ
基（アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）、重
合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルア
ミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていて
も良い。Ｒ² は置換もしくは無置換の、アルキル基また
はアシル基を表す。アルキル基、アシル基ならびに置換
基の説明はＲ¹ と同じである。Ｒ² として好ましくは無
置換のアルキル基または無置換のアシル基であり、特に
好ましくは無置換のアルキル基である。ｍは０〜３の整
数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４
である。 Ｒ¹ もしくはＲ² が複数存在するとき、複数
のＲ¹ もしくはＲ² はそれぞれ同じであっても異なって
いても良い。ｍとして好ましくは０、１、２であり、特
に好ましくは１である。

【００１９】以下に一般式（１）で表される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００２０】

【化１】

【００２１】

【化２】

【００２２】

【化３】

【００２３】

【化４】

【００２４】

【化５】

【００２５】

【化６】

【００２６】これらの具体例の中で、（１）、（１
２）、（１８）、（１９）等が特に好ましい。

【００２７】一般式（１）の化合物は、低屈折率層の無
機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあら
かじめ表面処理を施すために用いてもよいが、本発明で
は特に、該層塗布液調製時に塗布液中に添加して用いる
ことが好ましい。好ましい添加量としては、無機微粒子
に対して０．５〜１０００質量％、より好ましくは５〜
９００質量％、さらに好ましくは５０〜７００質量％で
ある。このとき、過剰なシランカップリング剤は塗布乾
燥の過程で蒸発させる事が好ましい。

【００２８】［低屈折率層］本発明の低屈折率層につい
て以下に説明する。本発明の反射防止フィルムの低屈折
率層の屈折率は透明支持体の屈折率より低く、本発明の
反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、１．３８〜
１．４９が好ましく、より好ましくは１．３８〜１．４
４の範囲にある。本発明の場合、低屈折率層が無機微粒
子偏在構造を持つが、該無機微粒子層は低屈折率層内で
明確な界面を持たないため、低屈折率層全体の屈折率は
低屈折率層内全成分の屈折率の体積平均で定義される。
また膜厚は低屈折率層全体で定義する。さらに、低屈折
率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で
好ましい。

【００２９】 ｍλ／４×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜ｍλ／４×１．３ 数式（Ｉ）

【００３０】式中、ｍは正の奇数であり、ｎ₁ は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５
０ｎｍの範囲の値である。なお、上記数式（Ｉ）を満た
すとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ
（正の奇数、通常１である）が存在することを意味して
いる。

【００３１】本発明の低屈折率層を形成する素材のう
ち、前述の無機微粒子以外の素材について以下に説明す
る。

【００３２】本発明の低屈折率層は、屈折率の低いポリ
マー、あるいは屈折率の低い化合物とポリマーとの混合
物から形成する。また、特開平９−２８８２０１号公報
に記載されているように、光の波長以下のサイズの空気
または真空からなるミクロボイドを均一に形成すること
によって、低屈折率を達成することもできる。

【００３３】屈折率の低い化合物としては、フッ素化合
物あるいはケイ素化合物が用いられる。フッ素化合物と
ケイ素化合物とを併用してもよい。好ましくはフッ素化
合物である。

【００３４】ケイ素化合物は、下記式で表される有機置
換ケイ素系化合物が好ましい。

【００３５】Ｒ３ａＲ４ｂＳｉＸ_4-(a+b) 式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基またはフルオロアルキル基であ
り；Ｘは、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、ハ
ロゲン原子およびアシルオキシ基からなる群より選ばれ
る加水分解可能な置換基であり；ａ、ｂは、それぞれ、
０、１または２であって、ａ＋ｂは１または２である。
アルキル基、アルケニル基、アリール基およびフルオロ
アルキル基は、置換基（例、ハロゲン原子、エポキシ
基、アミノ、メルカプト、メタクリルオキシ、シアノ）
を有していてもよい。上記ケイ素化合物の加水分解生成
物を用いてもよい。

【００３６】低屈折率層に用いられるフッ素化合物とし
ては、フッ素原子を有するモノマーを重合して形成した
含フッ素ポリマーが好ましい。含フッ素ポリマーが架橋
性官能基を有し、塗布後に架橋することがさらに好まし
い。架橋方法としては、熱または電離放射線により架橋
することが好ましい。熱架橋性の含フッ素ポリマーの具
体例としてはオプスターＪＮ７２２８（商品名、屈折率
１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー、フッ素含率約３
６質量％、ＪＳＲ（株）製）などがある。電離放射線架
橋性の含フッ素ポリマーとしては、側鎖にエチレン性不
飽和基を有するポリマーが好ましい。これらのエチレン
性不飽和基を有するポリマーの架橋は電離放射線の照射
により行うことができる。このとき光ラジカル開始剤を
添加するとさらに好ましい。光ラジカル重合開始剤とし
ては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、
ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシム
エステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよ
びチオキサントン類等が挙げられる。特に、光開裂型の
光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカ
ル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５
９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，
１９９１年発行）に記載されている市販の光開裂型の光
ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）
製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が挙げ
られる。光重合開始剤は、含フッ素ポリマー１００質量
部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用すること
が好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲であ
る。光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。
光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケ
トンおよびチオキサントンを挙げることができる。電離
放射線架橋性の含フッ素ポリマーの別の例としては、側
鎖に酸触媒架橋性の官能基を有するポリマーを電離放射
線酸発生剤と組み合わせる方法、および側鎖に塩基触媒
反応性の官能基を有するポリマーを電離放射線塩基発生
剤とを組み合わせる方法、がある。前者がより好まし
く、酸触媒架橋性の官能基としてはエポキシ基が好まし
い。電離放射線酸発生剤としては光酸発生剤が好まし
く、具体的にはトリアリールスルホニウム塩類およびジ
アリールヨードニウム塩類が好ましい。光酸発生剤は、
含フッ素ポリマー１００質量部に対して、０．１〜１５
質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましく
は１〜１０質量部の範囲である。電離放射線としてはＵ
Ｖ、光、電子線、放射線などが利用できるが、光が好ま
しい。光のなかでもＵＶが好ましい。ＵＶの光源として
はメタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、などが好ま
しく、メタルハライドランプがより好ましい。ＵＶの照
度および照射量は、ベースへの悪影響がない限りはなる
べく大きい方が好ましく、照度：５０〜１０００ｍＷ／
ｃｍ² 、照射量：２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ² が好ま
しく、より好ましくは照度：１５０〜６００ｍＷ／ｃｍ
² 、照射量：２５０〜９００ｍＪ／ｃｍ² である。

【００３７】含フッ素ポリマーの物性としては、動摩擦
係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２
０°を有する事が好ましい。

【００３８】フッ素原子を有するモノマー単位の具体例
としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオ
ロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロ
エチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプ
ロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−
ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完
全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコー
ト６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン
製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等
である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシ
ジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性
官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カ
ルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸
基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば
（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリル
アクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架
橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公
報および特開平１０−１４７７３９号公報に知られてい
る。

【００３９】また、上記含フッ素モノマーを構成単位と
するポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノ
マーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー
単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

【００４０】本発明に係る低屈折率層を形成するために
用いる塗布液の溶媒組成としては、単独および混合のい
ずれでもよい。下層に防眩層を有する場合は、溶媒の乾
燥速度が遅くなりすぎると塗布膜厚にムラが生じ、反射
率が高くなってしまうため、沸点が１００℃以下の溶媒
が５０〜１００％であることが好ましく、より好ましく
は８０〜１００％、より好ましくは９０〜１００％であ
る。

【００４１】沸点が１００℃以下の溶媒としては、例え
ば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．
４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．
１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、
クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、
１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチ
レン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチ
ルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６
８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒ
ドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５
４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７
７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル
類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエ
チルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール
（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノ
ール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）など
のアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピ
オニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化
炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エ
ステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。
ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。沸点が
１００℃を以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１
２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３
８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベ
ンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジ
ブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１
８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−
４−ペンタノン（＝ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタ
ノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６
６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがある。
好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペン
タノン、である。

【００４２】本発明に係る低屈折率層成分を前述の組成
の溶媒で希釈することにより本発明の低屈折率層用塗布
液が調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、低屈折
率層素材の比重などを考慮して適宜調節される事が好ま
しいが、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましく
は１〜１０質量％である。

【００４３】［防眩層］本発明の反射防止フィルムは必
要に応じ、低屈折率層よりも下層に、表面に微細な凹凸
を有する防眩層を設けることができる。また、必要に応
じ、防眩性ハードコート層の下層に平滑なハードコート
層を設けることができる。

【００４４】本発明の反射防止フィルムでは膜強度を向
上させる目的で各層に無機微粒子を添加することが好ま
しい。各層に添加する無機微粒子はそれぞれ同じでも異
なっていても良く、各層の屈折率、膜強度、膜厚、塗布
性などの必要性能に応じて、種類、添加量、は適宜調節
されることが好ましい。本発明に使用する無機微粒子形
状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板
状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく
用いられるが、球状が分散性がよくより好ましい。ま
た、無機微粒子の種類についても特に制限されるもので
はないが、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸
化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなること
が好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子とし
ては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆ
ｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇ
ａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃ
ｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉ等が挙げられる。無機
微粒子の平均粒子径は、透明な硬化膜を得るためには、
０.００１〜０．２μｍの範囲内の値とするのが好まし
く、より好ましくは０．００１〜０．１μｍ、さらに好
ましくは０．００１〜０．０６μｍである。ここで、粒
子の平均粒径はコールターカウンターにより測定され
る。

【００４５】本発明における無機微粒子の使用方法は特
に制限されるものではないが、例えば、乾燥状態で使用
することができるし、あるいは水または有機溶媒に分散
した状態で使用することもできる。本発明において、無
機微粒子の凝集、沈降を抑制する目的で、分散安定化剤
を併用することも好ましい。分散安定化剤としては、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロー
ス誘導体、ポリアミド、リン酸エステル、ポリエーテ
ル、界面活性剤および、一般式（１）の化合物も含め、
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、等を使
用することができる。特にシランカップリング剤が硬化
後の皮膜が強いため好ましい。分散安定化剤としてのシ
ランカップリング剤の添加量は特に制限されるものでは
ないが、例えば、無機微粒子１００質量部に対して、１
質量部以上の値とするのが好ましい。また、分散安定化
剤の添加方法も特に制限されるものではないが、予め加
水分解したものを添加することもできるし、あるいは、
分散安定化剤であるシランカップリング剤と無機微粒子
とを混合後、さらに加水分解および縮合する方法を採る
ことができるが、後者の方がより好ましい。また、一般
式（１）の化合物は、無機フィラーの分散安定化剤とし
て用いられる以外に、さらに各層のバインダー構成成分
の一部として、塗布液調製時の添加剤としても用いるこ
とが好ましい。

【００４６】本発明の防眩性ハードコート層について以
下に説明する。防眩性ハードコート層はハードコート性
を付与するためのバインダー、防眩性を付与するための
マット粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、高強度
化のための無機微粒子、から形成される。バインダーと
しては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖と
して有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水
素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好
ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有する
ことが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバ
インダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー
の重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有
し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとして
は、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの
（共）重合体が好ましい。高屈折率にするには、このモ
ノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原
子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少
なくとも１種の原子を含むことが好ましい。

【００４７】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベ
ンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチル
エステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニ
ルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用して
もよい。

【００４８】高屈折率モノマーの具体例としては、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用し
てもよい。

【００４９】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開
始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行う
ことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモ
ノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、
マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製
し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱
による重合反応により硬化して防眩性反射防止フィルム
を形成することができる。光ラジカル重合開始剤として
は、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミ
ヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエ
ステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよび
チオキサントン類等が挙げられる。特に、光開裂型の光
ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル
重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５
９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，
１９９１年発行）に記載されている。市販の光開裂型の
光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー
（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等
が挙げられる。光重合開始剤は、多官能モノマー１００
質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用する
ことが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲
である。光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよ
い。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリ
エチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラー
のケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。

【００５０】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。
多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるい
は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱に
より行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合
物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および
無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支
持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応によ
り硬化して防眩性反射防止フィルムを形成することがで
きる。

【００５１】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を
有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導
入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバイ
ンダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例に
は、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オ
キサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジ
ン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレ
ン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノ
アクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロー
ル、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランの
ような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するための
モノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基
のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を
用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基
は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結
果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能
基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱すること
によって架橋構造を形成することができる。

【００５２】防眩性ハードコート層には、防眩性付与の
目的で、平均粒径が０．３〜２０μｍ、好ましくは１〜
１０μｍ、より好ましくは１．５〜７．０μｍのマット
粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有さ
れる。マット粒子は大きすぎると表面の質感が悪化し、
小さすぎると防眩効果がなくなってしまう。上記マット
粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂ 粒
子等の無機化合物の粒子；架橋アクリル粒子、架橋スチ
レン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒
子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ス
チレン粒子が好ましい。マット粒子の形状は、真球ある
いは不定形のいずれも使用できる。また、異なる２種以
上のマット粒子を併用して用いてもよい。上記マット粒
子は、形成された防眩性ハードコート層中のマット粒子
量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ² 、より好まし
くは３０〜１００ｍｇ／ｍ² となるように防眩性ハード
コート層に含有される。また、特に好ましい態様は、マ
ット粒子として架橋スチレン粒子を用い、防眩性ハード
コート層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の架橋スチ
レン粒子が、該架橋スチレン粒子全体の４０〜１００％
を占める態様である。ここで、マット粒子の粒度分布は
コールターカウンター法により測定し、測定された分布
を粒子数分布に換算する。

【００５３】防眩性ハードコート層には、層の屈折率を
高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジ
ルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、ア
ンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸
化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは
０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下であ
る無機微粒子が含有されることが好ましい。また逆に、
マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率
マット粒子を用いた防眩性ハードコート層では層の屈折
率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好
ましい。好ましい粒径は前述の無機微粒子と同じであ
る。防眩性ハードコート層に用いられる無機微粒子の具
体例としては、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ａｌ₂Ｏ₃ 、Ｉｎ₂
Ｏ₃ 、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、ＩＴＯとＳｉＯ
₂ 等が挙げられる。ＴｉＯ₂ およびＺｒＯ₂ が高屈折率
化の点で特に好ましい。該無機微粒子は表面をシランカ
ップリング処理又はチタンカップリング処理されること
も好ましく、微粒子表面にバインダー種と反応できる官
能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。これら
の無機微粒子の添加量は、防眩性ハードコート層の全質
量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましく
は２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％で
ある。なお、このような微粒子は、粒径が光の波長より
も十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマー
に該微粒子が分散した分散体は光学的に均一な物質とし
て振舞う。

【００５４】本発明の防眩性ハードコート層のバインダ
ーおよび無機微粒子の混合物の合計の屈折率は、１．４
８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは
１．５０〜２．００、さらに好ましくは１．５７〜２．
００である。防眩性ハードコート層のバインダーの屈折
率は低すぎると反射防止効果が悪化し、高すぎると反射
光の色味が悪化する。屈折率を上記範囲とするには、バ
インダー及び無機微粒子の種類及び量割合を適宜選択す
ればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易
に知ることができる。

【００５５】本発明の防眩性ハードコート層は、特に塗
布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するた
めに、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、
あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有
する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量
において、本発明の防眩性反射防止フィルムの塗布ム
ラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現
れるため、好ましく用いられる。フッ素系の界面活性剤
の好ましい例としては、スリーエム社製のフロラードＦ
Ｃ−４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド
基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ−
１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６ＰＦ等の
パーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられ
る。シリコーン系の界面活性剤としては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種
の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチル
シロキサン等が挙げられる。

【００５６】しかしながら、上記のような界面活性剤を
使用することにより、防眩層表面にＦ原子を含有する官
能基および／またはＳｉ原子を有する官能基が偏析する
ことにより防眩層の表面エネルギーが低下し、上記防眩
層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止
性能が悪化する問題が生じる。これは低屈折率層を形成
するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪化するた
めに低屈折率層の膜厚の目視では検知できない微小なム
ラが悪化するためと推定される。このような問題を解決
するためには、フッ素系および／またはシリコーン系の
界面活性剤の構造と添加量を調整することにより、防眩
層の表面エネルギーを好ましくは２５ｍＮ・ｍ^-1〜７０
ｍＮ・ｍ^-1に、より好ましくは３５ｍＮ・ｍ^-1〜７０ｍ
Ｎ・ｍ^-1に制御することが効果的であり、さらに後述す
るように低屈折率層の塗布溶剤を５０〜１００質量パー
セントが１００℃以下の沸点を有するものとすることが
効果的であることを見出した。また、上記のような表面
エネルギーを実現するためには、 Ｘ線光電子分光法で
測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピー
クの比であるＦ／Ｃが０．４０以下、および／またはシ
リコン原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比で
あるＳｉ／Ｃが０．３０以下であることが必要である。

【００５７】防眩性ハードコート層の膜厚は１〜１０μ
ｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。

【００５８】［ハードコート層］本発明の反射防止フィ
ルムが防眩性ハードコート層を有する場合、さらにフィ
ルム強度向上の目的で防眩性を持たないいわゆる平滑な
ハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と防眩
性ハードコート層の間に塗設される。また本発明の反射
防止フィルムにおいて、防眩性が不要である場合にも、
平滑なハードコート層が用いられる。平滑なハードコー
ト層に用いる素材は防眩性付与のためのマット粒子を用
いないこと以外は上記防眩性ハードコート層において挙
げたものと同様であり、好ましくはバインダーと無機微
粒子から形成される。本発明の平滑なハードコート層で
は無機微粒子としては強度および汎用性の点でシリカ、
アルミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無
機微粒子は表面をシランカップリング処理されることが
好ましく、微粒子表面にバインダー種と反応できる官能
基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。これらの
無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全質量の１０
〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜
８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。平
滑なハードコート層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、
１．２〜６μｍがより好ましい。

【００５９】［高、中屈折率層］高屈折率層の屈折率
は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７
０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層
の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率
との間の値となるように調整され、１．５５〜１．８０
であることが好ましい。高屈折率層および中屈折率層の
ヘイズは、３％以下であることが好ましい。

【００６０】図５は、優れた反射防止性能を有する偏光
板用保護フィルムの層構成を模式的に示す断面図であ
る。図５に示す態様では、透明支持体１と高屈折率層５
と低屈折率層２は以下の関係を満足する屈折率を有す
る。高屈折率層５の屈折率＞透明支持体１の屈折率＞低
屈折率層の屈折率

【００６１】図５のような層構成では、特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、高屈折率層が
下記数式（ＩＩ）、低屈折率層が下記数式（ＩＩＩ）を
それぞれ満足することがさらに優れた反射防止性能を有
する反射防止フィルムを作製できる点で好ましい。

【００６２】 （ｎλ／４）×０．７＜ｎ₂ｄ₂＜（ｎλ／４）×１．３ 数式（ＩＩ）

【００６３】数式（ＩＩ）中、ｎは正の整数（一般に
１、２または３）であり、ｎ₂ は高屈折率層の屈折率で
あり、そして、ｄ₂ は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であ
る。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎ
ｍ）の範囲の値である。

【００６４】 （ｈλ／４）×０．７＜ｎ₃ｄ₃＜（ｈλ／４）×１．３ 数式（ＩＩＩ）

【００６５】数式（ＩＩＩ）中、ｈは正の奇数（一般に
１）であり、ｎ₃ は低屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ₃ は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値
である。なお、上記数式（ＩＩ）および数式（ＩＩＩ）
を満たすとは、数式（Ｉ）の場合と同様に、上記各波長
の範囲において数式（ＩＩ）を満たすｎ（正の整数、一
般に１、２または３である）およびｈ（正の奇数、一般
に１である）が存在することを意味している。以下、数
式（ＩＶ）〜（ＩＸ）についても同様である。

【００６６】図６に示す態様は、透明支持体１、ハード
コート層４、中屈折率層６、高屈折率層５、低屈折率層
２の順序の層構成を有する。透明支持体１、中屈折率層
６、高屈折率層５および低屈折率層２は、以下の関係を
満足する屈折率を有する。高屈折率層５の屈折率＞中屈
折率層６の屈折率＞透明支持体１の屈折率＞低屈折率層
２の屈折率図６のような層構成では、特開昭５９−５０
４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が下
記数式（ＩＶ）、高屈折率層が下記数式（Ｖ）、低屈折
率層が下記数式（ＶＩ）をそれぞれ満足することがより
優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムを作製で
きる点で好ましい。

【００６７】 （ｉλ／４）×０．７＜ｎ₄ｄ₄＜（ｉλ／４）×１．３ 数式（ＩＶ）

【００６８】数式（ＩＶ）中、ｉは正の整数（一般に
１、２または３）であり、ｎ₄ は中屈折率層の屈折率で
あり、そして、ｄ₄ は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であ
る。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎ
ｍ）の範囲の値である。

【００６９】 （ｊλ／４）×０．７＜ｎ₅ｄ₅＜（ｊλ／４）×１．３ 数式（Ｖ）

【００７０】数式（Ｖ）中、ｊは正の整数（一般に１、
２または３）であり、ｎ₅ は高屈折率層の屈折率であ
り、そして、ｄ₅ は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の
範囲の値である。

【００７１】 （ｋλ／４）×０．７＜ｎ₆ｄ₆＜（ｋλ／４）×１．３ 数式（ＶＩ）

【００７２】数式（ＶＩ）中、ｋは正の奇数（一般に
１）であり、ｎ₆ は低屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ₆ は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値
である。図６のような層構成では、中屈折率層が下記数
式（ＶＩＩ）、高屈折率層が下記数式（ＶＩＩＩ）、低
屈折率層が下記数式（ＩＸ）をそれぞれ満足すること
が、特に好ましい。ここで、λは５００ｎｍ、ｉは１、
ｊは２、ｋは１である。

【００７３】 （ｉλ／４）×０．８０＜ｎ₄ｄ₄＜（ｉλ／４）×１．００ 数式（ＶＩＩ ）

【００７４】 （ｊλ／４）×０．７５＜ｎ₅ｄ₅＜（ｊλ／４）×０．９５ 数式（ＶＩＩＩ ）

【００７５】 （ｋλ／４）×０．９５＜ｎ₆ｄ₆＜（ｋλ／４）×１．０５ 数式（ＩＸ）

【００７６】なお、ここで記載した高屈折率、中屈折
率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をい
う。ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層に、平均
粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有させて、防眩機能
を有する防眩性反射防止フィルムを作製することも好ま
しい。

【００７７】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００７８】屈折率の高い無機微粒子を前述のモノマー
と開始剤、有機置換されたケイ素化合物、または上記ポ
リマー中に分散してもよい。無機微粒子としては、金属
（例、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アン
チモン）の酸化物が好ましい。モノマーと開始剤を用い
る場合は、塗布後に電離放射線または熱による重合反応
によりモノマーを硬化させることで、耐傷性や密着性に
優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。無機微粒
子の平均粒径は、０．０１〜０．１μｍであることが好
ましい。

【００７９】被膜形成能を有する有機金属化合物から、
高屈折率層または中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散できるか、あるいは液状
であることが好ましい。有機金属化合物の例には、金属
アルコレート（例、チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｓｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ
−ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ア
ンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、
ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−
ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−ｓｅｃ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ
−ｔｅｒｔ−ブトキシド）、キレート化合物（例、ジ−
イソプロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、
ジ−ブトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ
−エトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビス
アセチルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチル
アセトネート、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエ
チルアセトアセテート、アルミニウムジ−ｉ−プロポキ
シドモノメチルアセトアセテート、トリ−ｎ−ブトキシ
ドジルコニウムモノエチルアセトアセテート）、有機酸
塩（例、炭酸ジルコニールアンモニウム）およびジルコ
ニウムを主成分とする活性無機ポリマーが含まれる。

【００８０】反射防止フィルムには、さらに、防湿層、
帯電防止層や保護層を設けてもよい。特に低屈折率層の
上に、保護層を設けることが好ましい。保護層は、滑り
層または汚れ防止層として機能する。滑り層に用いる滑
り剤の例には、ポリオルガノシロキサン（例、ポリジメ
チルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリジフェ
ニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、アル
キル変性ポリジメチルシロキサン）、天然ワックス
（例、カルナウバワックス、キャンデリラワックス、ホ
ホバ油、ライスワックス、木ろう、蜜ろう、ラノリン、
鯨ろう、モンタンワックス）、石油ワックス（例、パラ
フィンワックス、マイクロクリスタリンワックス）、合
成ワックス（例、ポリエチレンワックス、フィッシャー
・トロプシュワックス）、高級脂肪脂肪酸アミド（例、
ステアラミド、オレインアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビ
スステアラミド）、高級脂肪酸エステル（例、ステアリ
ン酸メチル、ステアリン酸ブチル、グリセリンモノステ
アレート、ソルビタンモノオレエート）、高級脂肪酸金
属塩（例、ステアリン酸亜鉛）およびフッ素含有ポリマ
ー（例、パーフルオロ主鎖型パーフルオロポリエーテ
ル、パーフルオロ側鎖型パーフルオロポリエーテル、ア
ルコール変性パーフルオロポリエーテル、イソシアネー
ト変性パーフルオロポリエーテル）が含まれる。汚れ防
止層には、含フッ素疎水性化合物（例、含フッ素ポリマ
ー、含フッ素界面活性剤、含フッ素オイル）を添加す
る。保護層の厚さは、反射防止機能に影響しないように
するため、０．０２μｍ以下であることが好ましく、
０．０１μｍ以下であると更に好ましい。

【００８１】［透明支持体］本発明の反射防止フィルム
の透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いる
ことが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリ
マーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチル
セルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写
真フィルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、ＴＤ８０ＵＦな
ど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボル
ネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質
ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社
製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロース
（屈折率：１．４９）が好ましい。

【００８２】本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置
に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレ
イの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセ
ルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィル
ムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本
発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用い
ることがコストの上では好ましい。

【００８３】トリアセチルセルロースフィルムは、トリ
アセチルセルロースを溶剤に溶解することで調整したト
リアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延
の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロ
ースフィルムが好ましい。特に、環境保全の観点から、
トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解
法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶
解することで調整したトリアセチルセルロースドープを
用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ま
しい。単層のトリアセチルセルロースフィルムは、公開
特許公報の特開平７−１１０５５等で開示されているド
ラム流延、あるいはバンド流延等により作製され、後者
の複数の層からなるトリアセチルセルロースフィルム
は、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５、特公昭６
２−４３８４６等で開示されている、いわゆる共流延法
により作製される。

【００８４】例えば、原料フレークをハロゲン化炭化水
素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノー
ル、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メ
チル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオ
キソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、
これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止
剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液
（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベル
トまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ
供給手段（ダイと称する）により流延する。単層ならば
単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセ
ルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延
し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィ
ルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により
乾燥部を通過させて溶剤を除去する。

【００８５】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかし、地球環境や作業環境の観点では、溶剤
はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含
まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有
機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満
（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。ジ
クロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリア
セチルセルロースのドープを調整する場合には、後述す
るような特殊な溶解法を用いることが好ましい。

【００８６】第一の方法は、冷却溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温付近の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好まし
くは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２
０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。
冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５
℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−
２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、トリ
アセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さら
に、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さ
らに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０
℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが
流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけで
もよいし、温浴中で加温してもよい。

【００８７】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温付近の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加する。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各
種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロース
を添加し予め膨潤させることが好ましい。本法におい
て、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以
下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、
なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混
合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２
４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に
好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１
９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布で
きないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却
する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して
常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセ
ルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やライン
を、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却
水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロ
ロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセ
ルロースアセテートフィルムおよびその製造法について
は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２
００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７
４５号と略す）に記載されている。

【００８８】上記のトリアセチルセルロースフィルムの
膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３０
０μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ま
しくは５０〜１２０μｍである。

【００８９】［鹸化処理］透明支持体の鹸化処理は、公
知の手法、例えば、アルカリ液の中にセルロースエステ
ルフィルムを適切な時間浸漬して実施される。鹸化処理
することにより、透明支持体の表面が親水化される。
偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表
面を偏光膜と接着させて使用する。親水化された表面
は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接
着性を改良するのに有効である。鹸化処理は、透明支持
体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように
実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、
特に好ましくは２０゜以下である。鹸化処理の具体的手
段としては、以下の２つから選択することができる。汎
用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処
理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで
鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜
が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題
になり得る。その場合には、特別な工程となるが、
（２）が優れる。 （１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ
液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏
面を鹸化処理する （２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後
に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィル
ムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗お
よび／または中和することで、該フィルムの裏面だけを
鹸化処理する

【００９０】［表面処理］鹸化処理したセルロースエス
テルフィルムに用いるコロナ放電処理，グロー放電処
理，火焔処理としては、公知の手法を用いることが出来
る。グロー放電処理は、例えば、特公昭３５−７５７８
号、同３６−１０３３６号、同４５−２２００４号、同
４５−２２００５号、同４５−２４０４０号、同４６−
４３４８０号、米国特許３，０５７，７９２号、同３，
０５７，７９５号、同３，１７９，４８２号、同３，２
８８，６３８号、同３，３０９，２９９号、同３，４２
４，７３５号、同３，４６２，３３５号、同３，４７
５，３０７号、同３，７６１，２９９号、英国特許９９
７，０９３号、特開昭５３−１２９２６２号等に記載の
手法を用いることができる。

【００９１】グロー放電処理時の圧力は０．６６７〜２
６６６Ｐａ（０．００５〜２０Ｔｏｒｒ）とするのが好
ましい。より好ましくは２．６７〜２６６．６Ｐａ
（０．０２〜２Ｔｏｒｒ）である。圧力が低すぎると支
持体表面を十分に改質することができず、充分な接着性
を得ることができない。一方、圧力が高すぎると安定な
放電が起こらない。また、電圧は、５００〜５０００Ｖ
の間が好ましい。より好ましくは５００〜３０００Ｖで
ある。電圧が低過ぎると支持体表面を十分に改質するこ
とができず、十分な接着性を得ることができない。使用
する放電周波数は、直流から数１０００ＭＨｚ、好まし
くは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ、更に好ましくは１ＫＨｚ〜
１ＭＨｚである。放電処理強度は、０．０１ＫＶ・Ａ・
分／ｍ² 〜５ＫＶ・Ａ・分／ｍ² が好ましく、更に好ま
しくは０．１５ＫＶ・Ａ・分／ｍ² 〜１ＫＶ・Ａ・分／
ｍ² である。グロー放電処理を施した支持体は、グロー
放電処理しながら、又は、グロー放電処理後直ちに冷却
ロールを用いて温度を下げることが好ましい。火焔処理
としては、例えば、液化プロパンガス、天然ガスなどを
利用できる。空気と混合しながら処理することが好まし
く、好ましいガス／空気の混合比は、液化プロパンガス
では容積比で１／１４〜１／２２、より好ましくは１／
１６〜１／１９である。天然ガスでは１／６〜１／１
０、より好ましくは１／７〜１／９である。火焔処理は
４．１９×１０³〜２．０９×１０⁵Ｊ（１〜５０Ｋｃａ
ｌ）／ｍ²で実施することが好ましく、より好ましくは
１．２６×１０⁴〜８．３７×１０⁴（３〜２０Ｋｃａ
ｌ）／ｍ² である。またバーナーの内炎の先端と支持体
の距離を４ｃｍ未満とすることがより効果的である。

【００９２】本発明の反射防止フィルムの各層は以下の
方法で形成することができるが、この方法に制限されな
い。まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液
が調製される。次に、各層の塗布液を、ディップコート
法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラ
ーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法
やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９
４号明細書参照）により透明支持体上に順次、塗布、乾
燥、硬化することにより各層を形成する。マイクログラ
ビアコート法が特に好ましい。

【００９３】本発明で用いられるマイクログラビアコー
ト法とは、直径が約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパ
ターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、
かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転
させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブ
レードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗
布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置における
その支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを
特徴とするコート法である。

【００９４】本発明の反射防止フィルムが防眩性を有す
る場合、ヘイズ値は３〜５０％、好ましくは４〜４５％
の範囲にあり、そして４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均
反射率が２．２％以下、好ましくは１．９％以下であ
る。本発明の反射防止フィルムが防眩性を有する場合、
上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、
透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防
止性が得られる。

【００９５】本発明の偏光板は、偏光層の２枚の保護フ
ィルムのうち少なくとも１枚に上記反射防止フィルムを
用いてなる。本発明の反射防止フィルムを最表層に使用
することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷
性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。ま
た、本発明の偏光板において反射防止フィルムが保護フ
ィルムを兼ねることで、製造コストを低減できる。

【００９６】本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装
置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置
に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは
透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示
装置の画像表示面に接着して用いられる。タッチパネル
付きの表示装置であってもよい。また、本発明の反射防
止フィルムは、偏光子、透明支持体およびディスコティ
ック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光
学補償フィルム、並びに光散乱層からなる偏光板と組み
合わせて用いられることが好ましい。光散乱層からなる
偏光板は、例えば特開平１１−３０５０１０号公報等に
記載がある。

【００９７】さらに詳述すると、本発明の反射防止フィ
ルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた
場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイ
ステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメ
ント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、
オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣ
Ｂ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液
晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモ
ードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２
００１−１０００４３等に記載されているように、視野
角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光子の裏表２
枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは
反対側の面に用いることにより、１枚の偏光板の厚みで
反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得るこ
とができ、特に好ましい。

【００９８】偏光膜としては、いかなる偏光膜をも適用
することができる。例えばポリビニルアルコール系フィ
ルムを連続的に供給し、その両端を保持手段により保持
しつつ張力を付与して延伸する際、フィルムの一方端の
実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌
跡Ｌ１と、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除
点までの保持手段の軌跡Ｌ２が、左右の実質保持解除点
の距離Ｗに対し、下記式（２）の関係にあると共に、左
右の実質保持開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入され
るフィルムの中心線と略直交するものとし、左右の実質
保持解除点を結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィル
ムの中心線と略直交するようにして延伸したものであっ
てもよい（米国特許公開２００２−８８４０号参照）。 式（２） ｜Ｌ２−Ｌ１｜＞０．４Ｗ

【００９９】また、透過型または半透過型の液晶表示装
置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選
択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）
製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さら
に視認性の高い表示装置を得ることができる。また、λ
／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板
や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面およ
び内部からの反射光を低減するのに用いることができ
る。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明
の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）や有機エレクトロルミネッセンス表示装置や
陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用
できる。

【０１００】

【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【０１０１】（ハードコート層用塗布液Ａの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）１５０ｇをメチルエチルケトン／シク
ロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２０６ｇに溶解
した。得られた溶液に、シリカゾル３０％メチルエチル
ケトン分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学社製、平均粒径
約１５ｎｍ）３３３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９
０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カ
ヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４
９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過した。

【０１０２】（ハードコート層用塗布液Ｂの調製）市販
シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７
５２６、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、シリカ含率３
８％、平均粒径約２０ｎｍ）３４７ｇをメチルエチルケ
トン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４０
３ｇで希釈し、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過した。

【０１０３】（ハードコート層用塗布液Ｃの調製）市販
アルミナ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライト、
ＪＳＲ社製、溶剤：イソプロパノール、固形分濃度５０
％、アルミナ含率５０％、平均粒径約２０ｎｍ）５００
ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５
０％の混合溶媒２５０ｇで希釈し、孔径１μｍのポリプ
ロピレン製フィルターでろ過した。

【０１０４】（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケトン／シク
ロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４３９ｇに溶解
した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９
０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カ
ヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４
９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過した。

【０１０５】（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）ジル
コニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７
４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含
率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７８ｇにジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１２０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）７．７ｇを加え、メチルエチル
ケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３
５５ｇを加え、攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレ
ン製フィルターでろ過した。 （ハードコート層用塗布液Ｆの調製）ジルコニア含有Ｕ
Ｖ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳ
Ｒ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平
均粒径約２０ｎｍ）２７８ｇにジペンタエリスリトール
ペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１
２０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）７．７ｇ、γ−アクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン（ＫＢＭ−５１０３信越化学工業（株）
製）を２８ｇを加え、メチルエチルケトン／シクロヘキ
サノン＝５０／５０％の混合溶媒３５５ｇを加え、攪拌
した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過した。

【０１０６】（防眩性ハードコート層用塗布液Ａの調
製）市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デ
ソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、
ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２５０ｇ
にジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）１０５ｇ、γ−アクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３信越化学
工業（株）製）２５．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチ
ルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒
３８４ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して
得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。さらにこの
溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品
名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加
して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、
分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液Ａを調製し
た。

【０１０７】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調
製）市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デ
ソライトＺ７４０１の溶剤組成変更及び開始剤添加品、
ＪＳＲ社製、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチ
ルエチルケトン＝１０／９０質量比、固形分濃度６５
％、固形分中ＺｒＯ₂含率約６８％、重合性モノマー、
重合開始剤含有）１７４ｇにジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）５
６．４ｇ、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン（ＫＢＭ−５１０３信越化学工業（株）製）１８．８
ｇを加え、さらにメチルエチルケトン１２．０ｇ、メチ
ルイソブチルケトン２９．８ｇで希釈した。この溶液を
塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６２
であった。さらにこの溶液に平均粒径３．０μｍの架橋
アクリル粒子（商品名：ＭＸ−３００、綜研化学（株）
製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロ
ン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液
を２９．４ｇ加え、次いで、平均粒径１．５μｍの架橋
アクリル粒子（商品名：ＭＸＳ−１５０ＣＦ、綜研化学
（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポ
リトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した
分散液を８０．０ｇ加えた。上記混合液を孔径３０μｍ
のポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハード
コート層の塗布液Ｂを調製した。

【０１０８】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調
製）市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソラ
イトＺ７５２６の溶剤組成変更品、ＪＳＲ社製、溶剤組
成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝５
７／４３質量比、固形分濃度約７２％、固形分中ＳｉＯ
₂ 含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２
７２ｇをメチルイソブチルケトン２６．２ｇで希釈し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５１であった。さらにこの溶液に平均粒径
３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−３
５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチル
ケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍ
で３０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均粒
径５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−５０
０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケ
トン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで
３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。上記混合液
を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て防眩性ハードコート層の塗布液Ｃを調製した。

【０１０９】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｄの調
製）市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソラ
イトＺ７５２６の溶剤組成変更品、ＪＳＲ社製、溶剤組
成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝５
７／４３質量比、固形分濃度約７２％、固形分中ＳｉＯ
₂ 含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２
４５ｇにγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（ＫＢＭ−５１０３信越化学工業（株）製）１９．６ｇ
を加え、さらにメチルイソブチルケトン３３．６ｇで希
釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜
の屈折率は１．５１であった。さらにこの溶液に平均粒
径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−
３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチ
ルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐ
ｍで３０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均
粒径５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−５
００Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチル
ケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍ
で３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。上記混合
液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して防眩性ハードコート層の塗布液Ｄを調製した。

【０１１０】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリ
カゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形
分濃度３０％、日産化学社製）１５．２ｇ、γ−アクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３
信越化学工業（株）製）２９．３ｇおよびメチルエチル
ケトン９５ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌
の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。

【０１１１】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）屈折率
１．４０の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇに平均
粒径３０ｎｍのフッ化マグネシウム粒子４．６ｇ、γ−
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５
１０３信越化学工業（株）製）２９．３ｇおよびメチル
エチルケトン１０６ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添
加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。

【０１１２】（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）屈折率
１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８の
溶剤組成変更品、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／
１−ブタノール＝８５／１５質量比、固形分濃度１０
％、ＪＳＲ（株）製）１０６ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−
ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日
産化学社製）１５．２ｇ、γ−アクリロキシプロピルト
リメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３信越化学工業
（株）製）２９．３ｇおよびメチルイソブチルケトン１
６６ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、
孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、
低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。

【０１１３】（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）屈折率
１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８の
溶剤組成変更品、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／
１−ブタノール＝８５／１５質量比、固形分濃度１０
％、ＪＳＲ（株）製）１０６ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−
ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日
産化学社製）１５．２ｇ、およびメチルイソブチルケト
ン１９５ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、低屈折率層用塗布液Ｄを調製した。

【０１１４】（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）下記式で
表されるエポキシ基含有含フッ素ポリマー２．０６ｇを
メチルイソブチルケトン７３．３ｇに溶解した。このポ
リマー溶液に、多官能エポキシ硬化剤（商品名：デナコ
ールＥＸ３１４、ナガセ化成製）０．８８ｇ、シリカゾ
ル（商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、
固形分濃度３０％、日産化学社製）４．２ｇ、シクロヘ
キサノン２０．０ｇ、光酸発生剤（商品名：サイラキュ
アＵＶＩ６９９０、ユニオンカーバイド製）０．４２
ｇ、変性シリコーン滑り剤（商品名：ＫＦ−１００Ｔ、
信越シリコーン製）０．０８４ｇ、をこの順に添加、攪
拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、低屈折率層用塗布液Ｅを調製した。

【０１１５】

【化７】

【０１１６】（比較用低屈折率層用塗布液Ｆの調製）屈
折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２
２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）２５３ｇにメ
チルエチルケトン５５ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを
添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィル
ターでろ過して、比較用低屈折率層用塗布液Ｆを調製し
た。

【０１１７】（比較用低屈折率層用塗布液Ｇの調製）屈
折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２
８の溶剤組成変更品、溶剤組成：メチルイソブチルケト
ン／１−ブタノール＝８５／１５質量比、固形分濃度１
０％、ＪＳＲ（株）製）１５２ｇにメチルイソブチルケ
トン１５６ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌
の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、比較用低屈折率層用塗布液Ｇを調製した。

【０１１８】（比較用低屈折率層用塗布液Ｈの調製）エ
ポキシ基含有含フッ素ポリマー（低屈折率層用塗布液Ｅ
の調製で使用したのと同じ）２．０６ｇをメチルイソブ
チルケトン７７．５ｇに溶解した。このポリマー溶液
に、多官能エポキシ硬化剤（商品名：デナコールＥＸ３
１４、ナガセ化成製）０．８８ｇ、シクロヘキサノン２
０．０ｇ、光酸発生剤（商品名：サイラキュアＵＶＩ６
９９０、ユニオンカーバイド製）０．４２ｇ、変性シリ
コーン滑り剤（商品名：ＫＦ−１００Ｔ、信越シリコー
ン製）０．０８４ｇ、をこの順に添加、攪拌の後、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、比較
用低屈折率層用塗布液Ｈを調製した。

【０１１９】（中屈折率層用塗布液および高屈折率層塗
布液の調製） （二酸化チタン分散液の調製）二酸化チタン微粒子（商
品名：ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）２５０ｇ、
下記一般式で表される 架橋反応性基含有アニオン性ポ
リマー３７．５ｇ、カチオン性モノマー（商品名：ＤＭ
ＡＥＡ、興人（株）製）２．５ｇおよびシクロヘキサノ
ン７１０ｇをダイノミルにより分散し、質量平均径６５
ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。

【０１２０】

【化８】

【０１２１】（中屈折率層用塗布液Ａの調製）上記の二
酸化チタン分散液１５５．２ｇに、ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）８９．５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
日本チバガイギー（株）製）４．６８ｇ、光増感剤（カ
ヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．５６ｇ、
メチルエチルケトン７７０．４ｇ、およびシクロヘキサ
ノン２９８３．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μ
ｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層
用の塗布液Ａを調製した。

【０１２２】（高屈折率層用塗布液Ａの調製）上記の二
酸化チタン分散液９８５．７ｇに、ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）４８．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
日本チバガイギー（株）製）４．０３ｇ、光増感剤（カ
ヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３５ｇ、
メチルエチルケトン６２２．５ｇ、およびシクロヘキサ
ノン１８６５．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μ
ｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層
用の塗布液Ａを調製した。

【０１２３】（高屈折率層用塗布液Ｂの調製）上記の二
酸化チタン分散液９８５．７ｇに、ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）４８．８ｇ、アクリル基含有シランカップリング剤
３３．５ｇ（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガ
イギー（株）製）４．０３ｇ、光増感剤（カヤキュア−
ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３５ｇ、メチルエチ
ルケトン６２２．５ｇ、およびシクロヘキサノン１８６
５．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプ
ロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液
Ｂを調製した。

【０１２４】［実施例１］ハードコート層Ａ〜Ｆ、防眩
性ハードコート層Ａ〜Ｄ、低屈折率層Ａ〜Ｅ、中屈折率
層Ａ、高屈折率層ＡおよびＢを、それぞれを以下のよう
にして塗設し、本発明の反射防止フィルムを作製した。
また、比較用低屈折率層Ｆ〜Ｈを塗設し、比較用反射防
止フィルムを作製した。積層の組み合わせは表１に記載
のとおりに行った。

【０１２５】（試料１〜６、比較用試料１６〜１８） （１）ハードコート層の塗設 ８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（Ｔ
ＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上
記のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用い
て塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が０．１
体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１
６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフ
ィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、厚さ３．５μｍのハードコート層を形
成した。 （２）中屈折率層の塗設 ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をグラビア
コーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸
素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パ
ージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドラン
プ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５
０ｍＷ／ｃｍ² 、照射量６００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６
３、膜厚６７ｎｍ）を形成した。 （３）高屈折率層の塗設 中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液をグラビアコー
ターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃
度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージ
しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０
ｍＷ／ｃｍ² 、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．９
０、膜厚１０７ｎｍ）を形成した。 （４）低屈折率層の塗設 高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液をグラビアコー
ターを用いて塗布した。１００℃で２分乾燥した後、酸
素濃度が２体積％以下の雰囲気になるように窒素パージ
しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ ²の紫外線を照
射し、１２０℃で１０分間加熱して、低屈折率層（屈折
率１．４３、膜厚８６ｎｍ）を形成した。

【０１２６】（比較用試料２２）前記「（試料１〜６、
比較用試料１６〜１８）塗設条件」の「（４）低屈折率
層の塗設」の条件のうち塗布直後の乾燥条件を１００℃
２分から７０℃３分に変更した以外は前記と同じ条件
で、比較用試料を作成した。

【０１２７】（試料７〜１５、比較用試料１９〜２１） （１）ハードコート層の塗設 ８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（Ｔ
ＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロー
ル形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液を
線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパター
ンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとド
クターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒ
ｐｍ、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃、
２分で乾燥の後、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下
で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグ
ラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ
²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ２．５μｍのハードコート層を形成
し、巻き取った。 （２）防眩性ハードコート層の塗設 該ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフ
イルムを再び巻き出して、上記の防眩性ハードコート層
用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラ
ビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビア
ロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回
転数３０ｒｐｍ、搬送速度５ｍ/分の条件で塗布し、１
２０℃で４分乾燥の後、窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍ
の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス
（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量
３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、厚さ２．５μｍの防眩性ハードコート層を形成し、
巻き取った。 （３）低屈折率層の塗設 該ハードコート層と防眩性ハードコート層を塗設したト
リアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記
低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０
μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイク
ログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビ
アロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ／分の条件
で塗布し、１００℃で２分乾燥の後、さらに窒素パージ
下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射し、
１４０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低
屈折率層を形成し、巻き取った。

【０１２８】（比較用試料２３〜２５）前記「（試料７
〜１５、比較用試料１９〜２１）塗設条件」の「（３）
低屈折率層の塗設」の条件のうち塗布直後の乾燥条件を
１００℃２分から７０℃３分に変更した以外は前記と同
じ条件で、比較用試料を作成した。

【０１２９】

【表１】

【０１３０】（反射防止膜の評価）得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。 （１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。 （２）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。 （３）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ ：× ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：×× （４）接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる ：○ 指紋がやや見える ：△ 指紋がほとんど拭き取れない ：×

【０１３１】（５）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。 （６）防眩性評価 作成した防眩性フィルムに、ルーバーなしのむき出し蛍
光灯（８０００ｃｄ／ｍ²）を映し、その反射像のボケ
の程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：× （７）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない ：○ わずかにギラツキがある ：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある ：×

【０１３２】（８）スチールウールこすり耐性評価 ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテスト
をおこなった。 試料調湿条件： ２５℃、６０％ＲＨ、２時間以上。 こすり材： 試料と接触するテスターのこすり先端部
（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウ
ール製、ゲレードＮｏ．００００）を巻いて、動かない
ようバンド固定した。 移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／
秒、荷重：２００ｇ／ｃｍ² 、先端部接触面積：１ｃｍ
×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。 こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光
で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価
した。 非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。 ： ◎ 非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。 ： ○ 弱い傷が見える。 ： △ 中程度の傷が見える。 ： × 一目見ただけで強い傷が見える。 ： ××

【０１３３】（９）水綿棒こすり耐性評価 ラビングテスターのこすり先端部に綿棒を固定し、平滑
皿中で試料の上下をクリップで固定し、室温２５℃で、
試料と綿棒を２５℃の水に浸し、綿棒に３００ｇの荷重
をかけて、こすり回数を変えてこすりテストを行った。
こすり条件は以下のとおり。 こすり距離（片道）：１ｃｍ、 こすり速度：約２往
復／秒 こすり終えた試料を観察して、膜剥がれが起こった回数
で、こすり耐性を以下のように評価した。 ０〜１０往復で膜剥がれ × １０〜３０往復で膜剥がれ △× ３０〜５０往復で膜剥がれ △ ５０〜１００往復で膜剥がれ ○△ １００〜１５０往復で膜剥がれ ○ １５０往復でも膜剥がれなし ◎

【０１３４】（１０）無機微粒子偏在構造の評価 試料の超薄切片（切片厚５０ｎｍ）を作製し、ＴＥＭに
より層の断面を撮影し（倍率１５０，０００倍）、無機
微粒子偏在構造の有無を確認した。この断面ＴＥＭ写真
撮影を１０視野にわたって行い、層厚の平均値を求め
た。

【０１３５】結果を表２および表３に示す。本発明の試
料１〜１５はいずれも最表層の低屈折率層が無機微粒子
偏在構造を有し、このため鉛筆硬度、スチールウールこ
すり耐性および水綿棒こすり耐性などの膜強度および耐
擦傷性に優れ、その他の性能も良好であった。一方、比
較用試料１６〜２５はいずれも無機微粒子偏在構造を形
成せず、このため鉛筆硬度、スチールウールこすり耐性
および水綿棒こすり耐性などの膜強度および耐擦傷性が
不足していた。このうち比較用試料１６〜２１は無機微
粒子を含まないため無機微粒子偏在構造をとれず、特に
膜強度および耐擦傷性が不足していた。一方、比較用試
料２２〜２５は無機微粒子を含有するが、乾燥温度が低
いため、乾燥速度が遅くなり、２層分離構造がとれず、
膜強度および耐擦傷性が不足していた。

【０１３６】

【表２】

【０１３７】

【表３】

【０１３８】次に、本発明の試料１〜１５のフィルムを
用いて反射防止付き偏光板を作成した。この偏光板を用
いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製
したところ、外光の映り込みが少ないために優れたコン
トラストが得られ、さらに試料９〜１５は防眩性により
反射像が目立たず優れた視認性を有していた。さらに同
様にして、上記本発明の試料を偏光子、透明支持体およ
びディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層か
ら構成される光学補償フィルム、並びに光散乱層からな
る偏光板と組み合わせて液晶表示装置を作製して視認性
を評価したところ、外光の映り込みが少なく、優れたコ
ントラストが得られ、さらに試料９〜１５は防眩性によ
り反射像が目立たず優れた視認性を有していた。

【０１３９】（反射防止フィルムの鹸化処理）前記試料
１〜１５について、以下の処理を行った。１．５Ｎの水
酸化ナトリウム水溶液を調製し、５０゜Ｃに保温した。
０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。作製した反射防
止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸
漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に
洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬
した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。
さらに反射防止フィルムを１００゜Ｃで十分に乾燥させ
た。このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを
作製した。

【０１４０】［実施例２］ＰＶＡフィルムをヨウ素２．
０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５
℃にて２４０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶
液に２５℃にて６０秒浸漬後、米国特許公開２００２−
８８４０号のＦｉｇ．２の形態のテンター延伸機に導入
し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し同Ｆ
ｉｇ．２の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。８０
℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右の
テンタークリップの搬送速度差は、０．０５％未満であ
り、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフ
ィルムの中心線のなす角は、４６゜であった。ここで｜
Ｌ１−Ｌ２｜は０．７ｍ、Ｗは０．７ｍであり、｜Ｌ１
−Ｌ２｜＝Ｗの関係にあった。テンター出口における実
質延伸方向Ａｘ−Ｃｘは、次工程へ送られるフィルムの
中心線２２に対し４５゜傾斜していた。テンター出口に
おけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。さら
に、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水
溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム
（株）製フジタック（セルローストリアセテート、レタ
ーデーション値３．０ｎｍ）と貼り合わせ、さらに８０
℃で乾燥して有効幅６５０ｍｍの偏光板を得た。得られ
た偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜し
ていた。この偏光板の５５０ｎｍにおける透過率は４
３．７％、偏光度は９９．９７％であった。さらに米国
特許２００２−８８４０号のＦｉｇ．８の如く３１０×
２３３ｍｍサイズに裁断したところ、９１．５％の面積
効率で辺に対し４５゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。
次に、実施例１の本発明の試料１〜１５の鹸化処理した
フィルムを上記偏光板と貼り合わせて反射防止付き偏光
板を作製した。この偏光板を用いて反射防止層を最表層
に配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り
込みがないために優れたコントラストが得られ、さらに
試料９〜１５は防眩性により反射像が目立たず優れた視
認性を有していた。

【０１４１】［実施例３］上記実施例２の４５°吸収軸
が傾斜した偏光板作製の中の、「富士写真フィルム
（株）製フジタック（セルローストリアセテート、レタ
ーデーション値３．０ｎｍ）」の代わりに実施例１の本
発明の試料１〜１５の鹸化処理したフィルムを張り合わ
せて反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用い
て反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製し
たところ、実施例２同様に、外光の映り込みがないため
に優れたコントラストが得られ、さらに試料９〜１５は
防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有してい
た。

【０１４２】［実施例４］実施例１で作製した本発明の
試料１〜１５を、１．５規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液
中に２分間浸漬したあと中和、水洗してフィルムの裏面
のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの
厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化処
理したフィルムにポリビニルアルコールにヨウ素を吸着
させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して
偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、
反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示
装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層
を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ
−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の
視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが
極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られ
た。

【０１４３】［実施例５］実施例１で作製した本発明の
試料１〜１５を貼りつけた透過型ＴＮ液晶セルの視認側
の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックラ
イト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディス
コティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾
いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と
透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に
おいて変化している光学補償層を有する視野角拡大フィ
ルム（ワイドビューフィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フ
イルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラス
トに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極め
て視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られ
た。

【０１４４】［実施例６］実施例１で作製した本発明の
試料１〜１５を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に
粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反
射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られえた。

【０１４５】［実施例７］実施例１で作製した本発明の
試料１〜１５を用いて、片面反射防止フィルム付き偏光
板を作製し、偏光板の反射防止膜を有している側の反対
面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面の
ガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガ
ラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高
い表示が得られた。

【０１４６】

【発明の効果】本発明の無機微粒子による偏在構造を形
成させることにより、良好な耐擦傷性および反射防止性
を有する反射防止フィルムを得ることができた。この反
射防止フィルムを偏光板保護フィルムおよび画像表示装
置の最表層に用いることにより、耐擦傷性および視認性
に優れ、表示品位の高い表示装置を得ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式
図である。

【図２】 本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式
図である。

【図３】 本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式
図である。

【図４】 本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式
図である。

【図５】 本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式
図である。

【図６】 本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式
図である。

【図７】 本発明の低屈折率層の偏在構造（支持体側）
を示す模式図である。

【図８】 本発明の低屈折率層の偏在構造（表面側）を
示す模式図である。

【符号の説明】

１ 透明支持体 ２ 低屈折率層 ３ 防眩層 ４ ハードコート層 ５ 高屈折率層 ６ 中屈折率層 ７ 無機微粒子層 ８ バインダー層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB65 BC22 2H091 FA08X FA37X FB13 FC01 FC22 FD06 KA01 LA02 LA16 2K009 AA04 AA15 BB28 CC03 CC06 CC26 CC42 DD02 DD17 4F100 AA01B AT00A AT00C BA03 BA06 BA07 BA10B BA10C BA25 BA44 DE01B EH46 EH462 EJ08 EJ082 GB41 JK14 JN01A JN06 JN18B

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に、透明支持体よりも低い
   屈折率の低屈折率層を有し、低屈折率層が無機微粒子を
   含有し、該無機微粒子が低屈折率層内で支持体側もしく
   は表面側に偏在した構造を有することを特徴とする反射
   防止フィルム。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の反射防止フィルムを少
   なくとも片面に有することを特徴とする偏光板。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の反射防止フィルム、ま
   たは請求項２に記載の偏光板を低屈折率層がディスプレ
   イの最表層になるように用いたことを特徴とする画像表
   示装置。
4. 【請求項４】 透明支持体上に、無機微粒子を含有する
   低屈折率層用塗布液を１回塗布および硬化し、該無機微
   粒子を低屈折率層内で支持体側もしくは表面側に偏在さ
   せることを特徴とする反射防止フィルムの形成方法。