JP2003311480A - Mig溶接用チタン合金溶接ワイヤ、溶接方法および溶接金属 - Google Patents

Mig溶接用チタン合金溶接ワイヤ、溶接方法および溶接金属

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チタン又はチタン合金をMIG溶接方法を用
いて、安定、かつ高能率に、かつ半自動溶接による現場
溶接を可能とし、溶接時間短縮によるシールドガス使用
量低減によるコスト削減を図ったMIG溶接用チタン合
金溶接ワイヤ、溶接方法および溶接金属の提供する。 【解決手段】 チタンまたはチタン合金用溶接ワイヤの
コア部軸方向に設けた中空部にAl:0.5〜10質量
%、必要に応じてO:1.0質量%以下を含むチタン合
金粉末、Al酸化物の何れか1種をこのコア部に充填
し、断面外径が1.6〜2.0mmの溶接ワイヤであり、
更にこの溶接ワイヤを用いて、300A≦(ピーク電
流)≦500A、2.0≦(ピーク電流)/(ベース電
流)≦5.0、を満たすパルス溶接電流を用いて溶接す
ることによりワンダリング現象を起こさず、安定してM
IG溶接しうる条件により溶接する方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、船舶、建築構造物
などに使用されるチタンまたはチタン合金部材の溶接の
際に使用されるMIG溶接用チタン合金溶接ワイヤに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来より、チタンまたはチタン合金は、
高い耐食性が要求される船舶、建築構造物、自動車、自
動二輪車等に使用されており、最近においてはその使用
量が益々増加している。このチタンまたはチタン合金の
溶接に際しては、現在では、主に非消耗電極式溶接方法
の1種であるTIG溶接方法(タングステンイナートガ
スメタル溶接方法)を採用している。これに対して、消
耗電極式溶接方法であるMIG溶接方法(イナートガス
メタルアーク溶接方法)では、TIG溶接方法に比較し
て数倍以上の溶接能率が得られるという利点を有するも
のの、純チタン製の溶接ワイヤを用いてMIG溶接を行
った場合、溶接アークが極めて不安定になる。
【0003】これは、チタンおよびチタン合金をMIG
溶接方法で溶接した場合、アークは陰極点を維持するた
めに、チタンおよびチタン合金の被溶接材の表面酸化膜
が残存する位置にアークが激しく移動して暴れるワンダ
リング現象が生じるため、溶接スパッタが多量に発生
し、母材となるチタンおよびチタン合金にスパッタが付
着する。また、このワンダリング現象によって溶接ビー
ドが蛇行するという問題があり、溶接部の外観不良が頻
発している。このため、チタンおよびチタン合金をMI
G溶接方法で溶接するという危険は極力忌避されてき
た。
【0004】一方、TIG溶接方法を採用した場合に
は、高融点の非消耗電極を使用してアークを発生させ
て、母材に生成される溶融池に、溶接ワイヤを供給しな
がら溶接を行うためにスパッタ発生はない。また、電極
側が負極性で、被溶接側が正極性であるために、被溶接
材表面に生成する酸化膜を除去するクリーニング作用が
あることから上記ワンダリング現象が生じることはな
く、依って、溶接ビードは蛇行はなく、良好な溶接外観
形状が得られる。このために、チタンおよびチタン合金
の溶接に際しては専らTIG溶接方法が採用されてい
た。
【0005】また、TIG溶接では溶接トーチを適正な
位置に保持しつつ、溶接ワイヤも適正な位置に保持する
必要がある。そのために、工場等で溶接トーチと溶接ワ
イヤを適切な位置に保持できる装置を準備できる場合は
良いものの、非溶接物が大型の構造物である場合には、
溶接作業者がこれら溶接トーチと溶接ワイヤ等を適切な
位置に保持しつつ、溶接進行に伴って移動しなければな
らないために溶接作業者にかかる負担は想像もできな
い。更に、溶接トーチ内に溶接ワイヤを送給するガイド
装置が組み込まれているものは、MIG溶接用半自動溶
接トーチに比較して極めて高価である。加えて、TIG
溶接は、MIG溶接に比べて溶接入熱が小さいために溶
接時間が長く、そのために溶接能率が悪いという問題が
ある。また、溶接時間が長いためにシールドガスに使用
するガス量が多量となり、コスト高となる。
【0006】例えば、特公昭59−226159号公報
には、加工組織をなす2本のチタン帯板の長さ方向端面
を突き合わせ、TIG溶接して溶接部近傍の母材部を軟
化焼鈍することで破断することのないチタン帯板の接続
方法が開示されている。このように、従来ではチタン帯
板の溶接に際しては専らTIG溶接方法での溶接が行わ
れている。また、特公平12−280076号公報に
は、不活性ガスに微量の酸化性ガスを添加したシールド
ガス、及びチタン又はチタン合金の消耗電極を使用して
パルス溶接電流を通電して溶接するチタン又はチタン合
金のアーク溶接方法が開示されている。しかし、シール
ドガスから酸素或いは酸化物を供給すると溶接アークを
安定化させるだけでなく、溶接金属内に大量の酸素が混
入するために、溶接部が硬化し、伸びが低下するなどの
機会的特性の劣化を招くことになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した従
来技術の問題点に鑑み、チタン又はチタン合金をMIG
溶接方法を用いて、安定、かつ高能率に、かつ半自動溶
接による現場溶接を可能とし、溶接時間短縮によるシー
ルドガス使用量低減によるコスト削減を図ったMIG溶
接用チタン合金溶接ワイヤ、溶接方法および溶着金属を
提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたもので、その要旨は次の通りであ
る。 (1)チタンまたはチタン合金用溶接ワイヤであって、
前記ワイヤが管状で、コア部軸方向に中空部を有し、こ
の中空部に、Al:0.5〜10質量%含むチタン合金
粉末、Al酸化物の何れか1種を充填したことを特徴と
するMIG溶接用チタン合金溶接ワイヤ。 (2)前記粉末に、更にO:1.0質量%以下を含有す
ることを特徴とする(1)記載のMIG溶接用チタン合
金溶接ワイヤ。 (3)前記粉末の粒径が1〜100μmであることを特
徴とする(1)または(2)記載のMIG溶接用チタン
合金溶接ワイヤ。 (4)前記溶接ワイヤの断面外径が、1.6〜2.0mm
であることを特徴とする(1)〜(3)の何れかに記載
のMIG溶接用チタン合金溶接ワイヤ。 (5)チタンまたはチタン合金のMIG溶接において、
(1)〜(4)に記載の何れかの溶接ワイヤを用い、か
つ以下の条件を満たすパルス溶接電流で溶接することを
特徴とするチタンまたはチタン合金のMIG溶接方法。
【0009】 300A≦(ピーク電流)≦500A 2.0≦(ピーク電流)/(ベース電流)≦5.0 (6)チタンまたはチタン合金の溶着部の組成が、質量
%で、Al:0.5〜10%、O:0〜1.0%、残部
チタンであることを特徴とするMIG溶接により溶接し
た溶着金属。
【0010】
【発明の実施の形態】先ず、MIG溶接に使用する溶接
装置について図1を用いて説明する。図1において、被
溶接材1に対し、溶接部位の直上に、中心に溶接ワイヤ
3、その外周に別途設けたシールドガス供給装置3から
供給されるシールドガス4を溶融地5に向けて噴射する
噴射口を備えたMIG溶接用トーチ2を配置し、溶接電
流を通電して溶接作業を行い、溶接ビード6を形成す
る。一般に、チタンまたはチタン合金は鋼などに比べて
低温で酸化し易く、鋼で用いる溶接トーチ先端のみのガ
スシールドでは、溶接金属が酸化して硬化し、溶接金属
の良好な伸びが得られなくなる。そのために、溶接直後
の溶接トーチの後方にシールドボックスを設けて、溶接
アーク点の後方もArガスなどの不活性ガスでシールド
する。
【0011】本発明で用いる上記シールドガス供給装置
3は、シールドガス供給パイプ3−1から供給されたシ
ールドガスをシールドボックス3−2内に一旦取り込
み、このシールドボックス3−2内に、シールドガスが
溶接ビード6の表面に均一に供給されるように、溶接方
向と平行にガス供給パイプ3−3を配置し、ガス出口3
−4を溶接ビード6と反対の出口に複数箇所設けてガス
出口から噴射するシールドガス4′をシールドボックス
3−2内の上壁に当ててから、下面の溶接ビード6に当
てる方法が採用される。
【0012】図2に従来方法によるMIG溶接を行った
場合のワンダリング現象によるスパッタの飛散状況を、
また図3に溶接ビード外観の模式図をそれぞれ示した。
図2に示すように、従来のチタンおよびチタン合金のM
IG溶接においては、アークが陰極点を維持するために
溶接アークが極めて不安定になり、被溶接材の表面酸化
膜が残存する位置にアークが激しく移動して暴れるワン
ダリング現象のために溶接スパッタが多量に発生し、母
材表面にスパッタ7が飛散して付着する。また、図3に
示すように、上記スパッタの飛散・付着に加え、ワンダ
リング現象によって溶接ビードが蛇行し、溶接部の外観
不良の発生および溶接金属の強度低下となる。図3にお
いて、ワンダリング現象が起こると溶接ビード始端部の
外側に、上記ワンダリング現象によってアークがうねり
幅方向に移動した痕跡が残り、極めて劣悪な溶接ビード
形状となる。
【0013】そこで、本発明においては、チタンまたは
チタン合金用溶接ワイヤとしてコア部軸方向に中空部を
有する管状とし、この中空部にAl:0.5〜10質量
%、必要に応じてO:1.0質量%以下を含むチタン合
金粉末、Al23 に代表されるAl酸化物粉末の何れ
か1種を充填した、断面外径が1.6〜2.0mmの溶接
ワイヤを使用し、更に好ましくは、この溶接ワイヤを用
いて、以下の条件を満たすパルス溶接電流で溶接するこ
とによりワンダリング現象を起こさず、安定してMIG
溶接しうる条件を見いだしたものである。
【0014】 300A≦(ピーク電流)≦500A 2.0≦(ピーク電流)/(ベース電流)≦5.0 上記溶接ワイヤのコア部に充填されるチタン合金粉末或
いはAl酸化物の粉末中に含まれるAl量は、0.5〜
10質量%、好ましくは2〜10質量%、必要に応じて
O量を1.0質量%以下、を含有させ、これを用いてM
IG溶接すると、MIG溶接時のアークが安定してワン
ダリング現象が減少し、ほぼ0mmとなり、しかもスパッ
タが少なくなり、溶接ビードの蛇行も減少し、図4に示
すような、良好な溶接ビードの外観形状を得ることがで
きる。しかし、このAl量が0.5質量%未満、或いは
10質量%超では、アークが不安定となってワンダリン
グ現象が大きくなり、溶接ビード始端部の外側にワンダ
リング現象の痕跡が残り、ワンダリング現象幅が大きく
なる。また、溶接ビードの蛇行幅も大きくなり外観形状
の不良部の発生が増大するのである。なお、Oはアーク
を安定させる上からも必要な元素で、しかも、このアー
クを安定させる酸素がアーク近傍のみに存在するため溶
融池への進入が非常に少なくなるため継ぎ手性能が劣化
しないことから、その添加量は1.0質量%以下が好ま
しい。
【0015】また、本発明においては、上述した溶接ワ
イヤを用いてMIG溶接する場合の操業条件として、溶
接電源にパルス溶接電源を用い、かつ、300A≦(ピ
ーク電流)≦500A、および2.0≦(ピーク電流)
/(ベース電流)≦5.0、の条件を満たすパルス溶接
電流を用いて溶接することによりワンダリング現象を起
こさず、安定してMIG溶接しうる条件を採用すること
が好ましい。
【0016】すなわち、図5に示すように上記条件内で
MIG溶接することにより極めて良好な溶接ビード(図
5中の◎)を得ることができる。また、上記条件を外れ
た場合においても良好な溶接ビード(図5中の○)を得
ることができる。なお、上記の良好な溶接ビード外観と
は、ワンダリング現象幅(Ww)が0mm、ビード蛇行幅
(Wb)が0.2超0.6mm以下を云い、極めて良好な
溶接ビード外観とは、ワンダリング現象幅(Ww)が0
mm、ビード蛇行幅(Wb)が0.2mm以下を云う。
【0017】このような溶接ワイヤを用い、かつ上述で
特定した溶接条件を採用してチタン或いはチタン合金を
MIG溶接した場合には、チタンまたはチタン合金の溶
着部の組成が、質量%で、Al:0.5〜10%、O:
0〜1.0%、残部チタンである溶着金属を得ることが
できる。
【0018】また、本発明においては、溶接時の溶滴移
行を規則的、かつスムースに行うため、一般にパルス溶
接電流を用いて溶接電流をパルス状に制御して溶接する
ことが知られているが、本発明におけるMIG溶接にお
いては、通常の直流溶接電源の代わりに、直流パルス溶
接電源を用いてパルス溶接電流を使用することで、ワン
ダリング現象幅、或いは溶接ビード蛇行幅を更に現象さ
せることができる。
【0019】
【実施例】<実施例1>被溶接材料として、板厚:1
2.7mmのV開先(90°)を有する純チタン材を、溶
接電流:300A、溶接電圧:30V、溶接速度:10
0cm/min 、流量:251/min のArガスをシールド
ガスとして用い、Al量を様々に変化するチタン合金粉
末またはAl酸化物粉末を充填したチタンベースの径
1.6mmφの溶接ワイヤでMIG溶接を行った。その結
果を表1に示した。
【0020】
【表1】
【0021】なお、表1において、ワンダリング現象幅
とは、ワンダリング現象によりアークが不安定となって
ワンダリング現象が大きくなり、溶接ビード始端部の外
側にワンダリング現象の痕跡が残る幅をいい、溶接ビー
ド蛇行幅とは、溶接ビード始端部が最も凹んでいる位置
を通って溶接方向に平行な直線と、溶接ビード始端部が
最も出っ張っている位置を通って溶接方向に平行な直線
との最短距離をいう。(図3参照) <実施例2>被溶接材料として、板厚:12.7mmのV
開先(90°)を有する純チタン材を、溶接速度:50
〜100cm/min 、流量:251/min のArガスをシ
ールドガスとして用いた溶接条件で、更にパルス溶接電
流のピーク電流を200Aから600Aに、ベース電流
を50Aから250Aの範囲内で溶接を行った結果を表
2および図5に示した。
【0022】
【表2】
【0023】表2および図5から分かるように、ピーク
溶接電流が300Aから500Aで、かつピーク電流/
ベース電流が2.0〜5.0の範囲内にある場合にはワ
ンダリング幅およびビード蛇行幅が著しく減少し、溶接
ビードの外観形状も極めて良好であった。
【0024】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は、チタン又
はチタン合金をMIG溶接方法を用いて、安定、かつ高
能率に、かつ半自動溶接による現場溶接を可能とし、溶
接時間短縮によるシールドガス使用量低減によるコスト
削減を図ったMIG溶接用チタン合金溶接ワイヤ、溶接
方法および溶接金属の提供を可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図1】MIG溶接装置の外観模式図。
【図2】MIG溶接法の外観模式図。
【図3】従来のMIG溶接による溶接ビードの平面模式
図。
【図4】本発明によるMIG溶接による溶接ビードの平
面模式図。
【図5】パルス溶接時の適正溶接電流範囲を示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C22C 14/00 C22C 14/00 Z (72)発明者 長谷 泰治 千葉県習志野市東習志野7−6−1 日鐵 溶接工業株式会社内日溶工テクノサービス 株式会社内 Fターム(参考) 4E001 AA03 BB08 CB04 DB03 DD02 DE04 EA05 4E084 AA07 BA21 CA23 CA24 CA25 DA10 EA04 GA19 HA10 HA11

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタンまたはチタン合金用溶接ワイヤで
    あって、前記ワイヤが管状で、コア部軸方向に中空部を
    有し、この中空部に、Al:0.5〜10質量%を含む
    チタン合金粉末、Al酸化物の粉末の何れか1種を充填
    したことを特徴とするMIG溶接用チタン合金溶接ワイ
    ヤ。
  2. 【請求項2】 前記粉末に、更にO:1.0質量%以下
    を含有することを特徴とする請求項1記載のMIG溶接
    用チタン合金溶接ワイヤ。
  3. 【請求項3】 前記粉末の粒径が1〜100μmである
    ことを特徴とする請求項1または2記載のMIG溶接用
    チタン合金溶接ワイヤ。
  4. 【請求項4】 前記溶接ワイヤの断面外径が、1.6〜
    2.0mmであることを特徴とする請求項1〜3の何れか
    に記載のMIG溶接用チタン合金溶接ワイヤ。
  5. 【請求項5】 チタンまたはチタン合金のMIG溶接に
    おいて、請求項1〜4に記載の何れかの溶接ワイヤを用
    い、かつ以下の条件を満たすパルス溶接電流を用いて溶
    接することを特徴とするチタンまたはチタン合金のMI
    G溶接方法。 300A≦(ピーク電流)≦500A 2.0≦(ピーク電流)/(ベース電流)≦5.0
  6. 【請求項6】 チタンまたはチタン合金の溶着部の組成
    が、質量%で、Al:0.5〜10%、O:0〜1.0
    %、残部チタンであることを特徴とするMIG溶接によ
    り溶接した溶着金属。
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