JP2003230806A - Gas treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、光触媒フィルタ
や除塵フィルタといったガス処理フィルタを使用して、
ガスの脱臭や除塵を行うガス処理装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a gas treatment filter such as a photocatalyst filter or a dust filter,
The present invention relates to a gas treatment device that deodorizes gas and removes dust.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、空気中に含まれる臭気成分を取
り除く脱臭技術には、吸着方式のもの、中和方式のも
の、バイオ方式のもの等があるが、設備の簡単化やラン
ニングコストの低減を達成できることから、近年では光
触媒方式のものも多く用いられている。2. Description of the Related Art For example, deodorization technology for removing odorous components contained in air includes adsorption method, neutralization method, bio method, etc., but simplification of equipment and reduction of running cost In recent years, a photocatalyst type has been widely used because it can achieve the above.
【０００３】光触媒方式の脱臭技術は、例えば、光触媒
である粉末状の酸化チタン（TiO2）が所定のガスフィル
タに焼き付け等によって固定された光触媒フィルタに、
紫外線を当てることにより、この光触媒フィルタに付着
（接触）した臭気成分を光触媒反応（酸化・還元反応）
によって分解して除去するものである。The photocatalyst type deodorization technique is, for example, a photocatalyst filter in which powdery titanium oxide (TiO 2 ) which is a photocatalyst is fixed to a predetermined gas filter by baking or the like.
Photocatalytic reaction (oxidation / reduction reaction) of odorous components adhered (contacted) to this photocatalytic filter by applying ultraviolet rays
Is decomposed and removed by.
【０００４】図９はこのような光触媒フィルタを使用し
た従来の脱臭装置を示している。この脱臭装置１００
は、前面側にガス入口部１０１ａ、後面側にガス出口部
１０１ｂが形成されたケーシング１０１内に、板状の光
触媒装置１０２を備えたものである。この光触媒装置１
０２は、例えば、一対の光触媒フィルタ間に紫外線ラン
プを備えたものであり、ケーシング１０１のガス入口部
１０１ａから入った臭気成分を含んだガス（空気）が、
これを通過することにより、この臭気成分を光触媒フィ
ルタに付着（接触）させるとともに、この付着（接触）
した臭気成分に紫外線をあてて、これを最終的にＣＯ2
やＨ2Ｏに変えて除去する。FIG. 9 shows a conventional deodorizing device using such a photocatalytic filter. This deodorizing device 100
Includes a plate-like photocatalytic device 102 in a casing 101 having a gas inlet 101a on the front side and a gas outlet 101b on the rear side. This photocatalyst device 1
Reference numeral 02 denotes, for example, an ultraviolet lamp provided between a pair of photocatalytic filters, and the gas (air) containing the odorous component that has entered from the gas inlet portion 101a of the casing 101 is
By passing through this, the odorous component is attached (contacted) to the photocatalyst filter and is also attached (contacted).
UV light is applied to the odorous components, and this is finally converted into CO 2
Or H 2 O to remove.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の脱臭装置１００では、処理ガス量が多い場合、光触
媒装置１０２が面状に大型化し、装置の極端な大型化を
招いてしまうという問題があった。また、このガス脱臭
装置１００では、ガス入口部１０１ａからのガスが、光
触媒装置１０２のガス通過面１０２ａ中を均一に通過し
にくく、例えば、中央部はガス通過量が多いが、周辺部
はガス通過量が少なくなって、適正なガス処理（脱臭処
理）なされにくいという問題があった。However, in the above-mentioned conventional deodorizing apparatus 100, there is a problem that the photocatalytic device 102 becomes large in a plane shape when the amount of processing gas is large, which causes an extremely large size of the device. It was In addition, in the gas deodorizing device 100, it is difficult for the gas from the gas inlet portion 101a to uniformly pass through the gas passage surface 102a of the photocatalyst device 102. For example, the central portion has a large gas passage amount, but the peripheral portion has the gas passage amount. There has been a problem that the amount of passing gas is small and it is difficult to perform appropriate gas treatment (deodorization treatment).
【０００６】なお、以上の問題は、脱臭装置のようなガ
ス処理装置に限らず、ガス処理フィルタとして除塵フィ
ルタを使用して、ガス中の塵や異物等を除去する除塵装
置のようなガス処理装置にも同様に当てはまる。The above problems are not limited to gas treatment devices such as deodorizers, and gas treatment devices such as dust removal devices that remove dust and foreign substances in the gas by using a dust removal filter as a gas treatment filter. The same applies to the device.
【０００７】この発明は、以上の点に鑑み、ガス処理フ
ィルタを用いてガス処理を行う場合に、ガス処理フィル
タに対してできるだけ均一にガスを通すことができると
ともに、装置の小型化を達成できるガス処理装置を提供
することを目的とする。In view of the above points, the present invention makes it possible to pass the gas through the gas treatment filter as uniformly as possible when performing gas treatment using the gas treatment filter, and to achieve miniaturization of the apparatus. An object is to provide a gas treatment device.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１記載
の発明は、ガス処理フィルタを通過させることにより、
ガスの処理がなされるガス処理装置において、ガス処理
フィルタを用いて筒状に形成されたガス処理体と、ガス
処理体の一端側開口を閉じる閉塞手段と、ガス処理体の
閉塞手段側にガス入口部が形成されるとともに、ガス入
口部から閉塞手段に向かうように導入されたガスが、ガ
ス処理フィルタ中を通過してガス処理体内に導かれるよ
うに、このガス処理体の外方を覆い、かつ、ガス処理体
の開口した他端側に、このガス処理体内のガスを外部に
排出するガス出口部が形成されたケーシングとを有する
ことである。According to the invention of claim 1 of the present invention, by passing through a gas treatment filter,
In a gas processing apparatus for processing gas, a gas processing body formed in a cylindrical shape by using a gas processing filter, a closing means for closing one end side opening of the gas processing body, and a gas on the closing means side of the gas processing body. The inlet portion is formed, and the gas introduced from the gas inlet portion toward the closing means covers the outside of the gas treatment body so as to pass through the gas treatment filter and be introduced into the gas treatment body. And a casing having a gas outlet for discharging the gas in the gas processing body to the outside is provided on the other end side of the opening of the gas processing body.
【０００９】この発明では、ケーシングのガス入口部か
らガス処理体の一端側の閉塞手段に向かうように導入さ
れたガスは、閉塞手段に当たってこの閉塞手段に沿いつ
つ、ガス処理体の外周端側外方に向かって流れた後、向
きを変えて、筒状のガス処理体外方を、このガス処理体
に沿うように流れ、順次ガス処理フィルタ中を通過して
ガス処理されつつ、ガス処理体内に流れ込む。そして、
ガス処理体内のガス処理されたガスは、ガス処理体の他
端側開口を通って、ケーシングのガス出口部から装置外
へ排出される。In the present invention, the gas introduced from the gas inlet portion of the casing toward the closing means on one end side of the gas processing body hits the closing means and follows the closing means while being outside the outer peripheral end side of the gas processing body. After flowing toward the direction, the direction is changed, the tubular gas processing body outside, along the gas processing body, along the gas processing body, sequentially passing through the gas processing filter, while being gas processed, inside the gas processing body. Pour in. And
The gas processed gas in the gas processing body is discharged from the gas outlet portion of the casing to the outside of the apparatus through the opening on the other end side of the gas processing body.
【００１０】したがって、この発明では、ガス処理体の
外周端側外方に達したガスが、ガス処理体に沿って、こ
のガス処理体の外周面上全体にむらなく流れるので、ガ
ス処理フィルタのどの部分にでもガスをほぼ均一に通過
させることができ、ガス処理フィルタを無駄なく均一に
使用することができる。なお、ガスを閉塞手段に精度よ
く当てさえすれば、このガスを、ガス処理体の外周端側
に均一に流すことができる。Therefore, according to the present invention, the gas reaching the outer side of the outer peripheral end of the gas processing body flows evenly along the gas processing body on the entire outer peripheral surface of the gas processing body. The gas can be passed almost uniformly through any part, and the gas treatment filter can be used uniformly without waste. If the gas is accurately applied to the closing means, the gas can be made to flow uniformly to the outer peripheral end side of the gas processing body.
【００１１】また、この発明では、ガスをガス処理体
（ガス処理フィルタ）の外面に沿って流しつつ、ガス処
理フィルタ中を通過させているので、ガスがガス処理フ
ィルタに対して斜状に通過し、ガス処理フィルタに対す
るガスの接触面を増加させることができ、装置のガス処
理効率を上げることができる。Further, according to the present invention, the gas is passed along the outer surface of the gas treating body (gas treating filter) while passing through the gas treating filter, so that the gas passes obliquely with respect to the gas treating filter. However, the contact surface of the gas with respect to the gas treatment filter can be increased, and the gas treatment efficiency of the device can be improved.
【００１２】さらに、この発明では、ガス処理フィルタ
によってガス処理体が筒形に形成されているので、ガス
処理フィルタが立体的（３次元的）に配置されることと
なり、一定サイズのケーシング空間内で、ガス処理フィ
ルタを多く配置できることとなり、装置の小型化やコン
パクト化を図ることができる。Further, according to the present invention, since the gas treatment filter is formed into a cylindrical shape by the gas treatment filter, the gas treatment filters are arranged three-dimensionally (three-dimensionally), and the casing space of a certain size is provided. Therefore, a large number of gas treatment filters can be arranged, and the device can be made smaller and more compact.
【００１３】この発明の請求項２記載の発明は、ガス処
理フィルタを通過させることにより、ガスの処理がなさ
れるガス処理装置において、少なくとも一対の対向する
面がガス処理フィルタを用いて形成されている筒状のガ
ス処理体と、ガス処理体の一端側開口を閉じる閉塞手段
と、ガス処理体の閉塞手段側にガス入口部が形成される
とともに、ガス入口部から閉塞手段に向かうように導入
されたガスが、ガス処理フィルタ中を通過してガス処理
体内に導かれるように、このガス処理体のガス処理フィ
ルタ側外方を覆い、かつ、ガス処理体の開口する他端側
に、このガス処理体内のガスを外部に排出するガス出口
部が形成されたケーシングとを有することである。According to a second aspect of the present invention, in a gas treatment device in which gas is treated by passing through the gas treatment filter, at least a pair of opposing surfaces are formed by using the gas treatment filter. A tubular gas processing body, a closing means for closing an opening on one end side of the gas processing body, and a gas inlet part formed on the closing means side of the gas processing body, and introduced from the gas inlet part toward the closing means. The generated gas passes through the gas treatment filter and is introduced into the gas treatment body so as to cover the outside of the gas treatment body on the gas treatment filter side and to the other end side where the gas treatment body is open. And a casing formed with a gas outlet for discharging the gas in the gas processing body to the outside.
【００１４】この発明も、請求項１記載の発明と同様な
作用効果を達成できる。但し、この発明では、ガス処理
体全体がガス処理フィルタにて形成されていないので、
装置の小型化の点では、請求項１記載の発明よりやや劣
る。This invention can also achieve the same effects as the invention according to claim 1. However, in the present invention, since the entire gas processing body is not formed by the gas processing filter,
In terms of downsizing of the device, it is slightly inferior to the invention according to claim 1.
【００１５】この発明の請求項３記載の発明は、請求項
１又は２記載の発明の場合において、ガス処理フィルタ
が、脱臭用の光触媒フィルタであることである。According to a third aspect of the present invention, in the case of the first or second aspect of the invention, the gas treatment filter is a photocatalytic filter for deodorization.
【００１６】この発明の請求項４記載の発明は、請求項
３記載の発明の場合において、光触媒フィルタは、光源
と組み合わされて一定形状の光触媒カートリッジを形成
していることである。According to a fourth aspect of the present invention, in the case of the third aspect of the invention, the photocatalytic filter is combined with a light source to form a photocatalytic cartridge having a constant shape.
【００１７】この発明では、光触媒フィルタと、例えば
紫外線ランプのような光源とが、一定形状の光触媒カー
トリッジとして一体的に取り扱われるので、この光触媒
カートリッジを組み合わせることにより、脱臭装置用の
種々の形状のガス処理体を容易に形成できる。In the present invention, the photocatalyst filter and the light source such as an ultraviolet lamp are integrally handled as a photocatalyst cartridge having a fixed shape. Therefore, by combining the photocatalyst cartridge, various shapes for a deodorizing device can be obtained. The gas processing body can be easily formed.
【００１８】この発明の請求項５記載の発明は、請求項
４記載の発明の場合において、ガス処理体は断面が矩形
状に形成された四角筒状のものであることである。According to a fifth aspect of the present invention, in the case of the fourth aspect of the invention, the gas treating body is a rectangular cylinder having a rectangular cross section.
【００１９】この発明では、ガス処理体を四角筒状に形
成しているので、一定形状の光触媒カートリッジを用い
てガス処理体を容易に形成できるとともに、ガス処理体
の支持手段も比較的簡単な構造となり、かつ、支持手段
に対する光触媒カートリッジの着脱も容易にできるよう
になる。According to the present invention, since the gas treatment body is formed in the shape of a rectangular cylinder, the gas treatment body can be easily formed by using the photocatalyst cartridge having a fixed shape, and the means for supporting the gas treatment body is relatively simple. It has a structure, and the photocatalyst cartridge can be easily attached to and detached from the supporting means.
【００２０】この発明の請求項６記載の発明は、請求項
５記載の発明の場合において、ガス処理体のガス処理フ
ィルタ側にある、ケーシングの少なくとも一対の対向面
に、開閉可能なメンテナンス用開口が設けられているこ
とである。According to a sixth aspect of the present invention, in the case of the fifth aspect of the invention, a maintenance opening that can be opened and closed is provided on at least a pair of opposing surfaces of the casing on the gas processing filter side of the gas processing body. Is provided.
【００２１】この発明では、光源の交換等のために光触
媒カートリッジをケーシングから取り出したり、ケーシ
ング内に設置するのが容易となる。この場合、メンテナ
ンス用開口が一対しかなくても、例えば、ガス処理体が
横向きに置かれている場合には、上側と下側の光触媒カ
ートリッジを、メンテナンス用開口側に引き出すことが
できるので、すべての光触媒カートリッジの取り外し、
取り付けも容易となる。According to the present invention, it is easy to take out the photocatalyst cartridge from the casing or install it in the casing for replacing the light source. In this case, even if there is only one pair of maintenance openings, the upper and lower photocatalyst cartridges can be pulled out to the maintenance opening side, for example, when the gas processing body is placed sideways. Photocatalyst cartridge removal,
Installation is also easy.
【００２２】[0022]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照しつつ説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２３】実施形態１．図１はこの発明の一実施の形
態に係る脱臭装置を示している。Embodiment 1. FIG. 1 shows a deodorizing device according to an embodiment of the present invention.
【００２４】脱臭装置１は、例えば、業務用の厨房設備
から排出される種々の臭気成分を含んだ空気（以下、処
理ガスＧ１という）を、光触媒を用いて脱臭し、臭いの
ない空気（以下、脱臭ガスＧ２という）にするものであ
り、例えば、30,000ｍ3／Ｈｒの処理ガスＧ１を脱臭処
理できるものである。The deodorizing device 1 deodorizes, for example, air containing various odorous components discharged from commercial kitchen equipment (hereinafter, referred to as treated gas G1) by using a photocatalyst to remove odorless air (hereinafter referred to as odorless air). , Deodorizing gas G2), for example, deodorizing treatment gas G1 of 30,000 m 3 / Hr.
【００２５】この脱臭装置１は、図１で示されるよう
に、複数の板状の光触媒カートリッジ２０を四角筒状に
並べて形成される横向きのガス処理体２と、ガス処理体
２を支持する枠体３と、ガス処理体２の一端側開口２ａ
を閉じる閉塞手段としての第１閉塞板４と、ガス処理体
２内にもれなく処理ガスＧ１を導く第２閉塞板５と、ガ
ス処理体２、枠体３、第１及び第２閉塞板４，５を覆う
ケーシング６と、ケーシング６に取り付けられる防鳥ネ
ット７と、電源ボックス８及び安定器ボックス９（いず
れも図４参照）等とから構成されている。As shown in FIG. 1, the deodorizing device 1 includes a lateral gas processing body 2 formed by arranging a plurality of plate-shaped photocatalyst cartridges 20 in a rectangular tube shape, and a frame for supporting the gas processing body 2. Body 3 and one end side opening 2a of gas processing body 2
A first closing plate 4 as a closing means for closing the gas, a second closing plate 5 for guiding the processing gas G1 into the gas processing body 2 without fail, a gas processing body 2, a frame body 3, first and second closing plates 4, 5, a bird-proof net 7 attached to the casing 6, a power source box 8 and a ballast box 9 (all of which are shown in FIG. 4).
【００２６】ガス処理体２は、図１で示されるように、
例えば、前後方向に３枚、左右方向に２枚、計６枚の光
触媒カートリッジ２０を密着させるようにして並べたカ
ートリッジシート２１を、上下、左右に４枚配置して形
成される四角筒状のものである。この場合、４枚のカー
トリッジシート２１の端部は、互いに重なりあわないよ
うに位置決めされている。The gas processing body 2 is, as shown in FIG.
For example, a cartridge having a total of six photocatalyst cartridges 20 in the front-rear direction and two in the left-right direction, which are arranged so as to be in close contact with each other, is arranged in a four-sided, four-sided cartridge sheet 21. It is a thing. In this case, the ends of the four cartridge sheets 21 are positioned so as not to overlap each other.
【００２７】光触媒カートリッジ２０は、図３の
（ａ）、（ｂ）で示されるように、例えば、厚さｔが２
０ｍｍの２枚の光触媒フィルタ２０ａ間に、複数の紫外
線ランプ２０ｂを配置したものの外周縁を、処理ガスＧ
１によって腐蝕されない金属板２０ｃで覆ったものであ
り、例えば、長さＬと幅Ｗが６５０ｍｍ、厚さＴが９０
ｍｍの大きさを有している。この光触媒フィルタ２０ａ
は、例えば、セラミック多孔体の表面に酸化チタン（Ｔ
ｉＯ2）の粉末を焼き付けて固定した４枚の光触媒多孔
質板Ｐを、処理ガスＧ１によって腐蝕されない金属枠Ｋ
で囲むようにして固定したものである。なお、光触媒カ
ートリッジ２０は、金属板２０ｃの一部を取り外して、
紫外線ランプ２０ｂの取り替えができるようになってい
る。As shown in FIGS. 3A and 3B, the photocatalyst cartridge 20 has a thickness t of 2 for example.
The outer peripheral edge of a plurality of ultraviolet lamps 20b arranged between two 0 mm photocatalyst filters 20a is treated gas G
It is covered with a metal plate 20c that is not corroded by 1. For example, the length L and the width W are 650 mm and the thickness T is 90.
It has a size of mm. This photocatalyst filter 20a
Is, for example, titanium oxide (T
A metal frame K which is not corroded by the processing gas G1 is used to fix the four photocatalyst porous plates P on which the powder of iO 2 ) is baked and fixed.
It is fixed so that it is surrounded by. In the photocatalyst cartridge 20, a part of the metal plate 20c is removed,
The ultraviolet lamp 20b can be replaced.
【００２８】枠体３は、各光触媒カートリッジ２０を容
易に着脱できるようにした状態で、ガス処理体２を支持
するものであり、図２で示されるように、２本の溝形の
上下柱３０と、２本の溝形の左右梁３１とを、井の字形
に交差させて形成した一対の井形構造体３２と、前後に
対向するように配置された一対の井形構造体３２の交差
部３２ａ直下同士を連結する４本の帯状前後梁３３と、
上側及び下側の一対づつの前後梁３３間を前後に３等分
して連結する４本のＨ形中間梁３４と、右側及び左側の
一対づつの前後梁３３間を前後に３等分して連結する４
本のＨ形中間柱３５とから構成されている。なお、枠体
３は、各部材を溶着やボルト締めによって連結すること
により形成されているとともに、処理ガスＧ１により腐
食されない材質のものを使用して形成されている。The frame 3 supports the gas processing body 2 in a state where each photocatalyst cartridge 20 can be easily attached and detached, and as shown in FIG. 2, two groove-shaped upper and lower columns are provided. 30 and two groove-shaped left and right beams 31 intersecting each other in a U-shape to form a pair of well-shaped structures 32, and a pair of well-shaped structures 32 arranged so as to face each other in the front-rear direction. 32a of four belt-like front and rear beams which connect immediately below each other,
The upper and lower pairs of front and rear beams 33 are equally divided into three parts, and four H-shaped intermediate beams 34 are connected to each other, and the pair of right and left paired front and rear beams 33 are equally divided into three parts. To connect 4
It is composed of an H-shaped intermediate column 35 of a book. The frame 3 is formed by connecting each member by welding or bolting, and is also formed by using a material that is not corroded by the processing gas G1.
【００２９】井形構造体３２は、左右梁３１が上下柱３
０を貫通するように連結されているとともに、一対のも
のが、梁や柱の溝部を互いに対向させるように位置決め
されている。また、前後梁３３は、井形構造体３２の交
差部３２ａ直下の上下柱３０を貫通した状態で、井形構
造体３２と連結されている。さらに、中間梁３４は、前
後に２つの溝が形成されるように、前後梁３３の上側と
下側とに固定され、中間柱３５は、前後に２つの溝が形
成されるように、上下一対の前後梁３３間に嵌め込まれ
るような状態で固定されている。In the well-shaped structure 32, the right and left beams 31 are the upper and lower pillars 3.
They are connected so as to pass through 0, and a pair of them are positioned so that the groove portions of the beam or column face each other. Further, the front and rear beams 33 are connected to the well-shaped structure 32 in a state of penetrating the upper and lower columns 30 immediately below the intersection 32 a of the well-shaped structure 32. Further, the intermediate beam 34 is fixed to the upper and lower sides of the front and rear beam 33 so that two grooves are formed at the front and rear, and the intermediate column 35 is vertically moved so that two grooves are formed at the front and rear. It is fixed in such a state that it is fitted between the pair of front and rear beams 33.
【００３０】したがって、この枠体２には、図２で示さ
れるように、井形構造体３２の左右梁３１の溝部と中間
梁３４の溝部とに、左右から差し込むような状態で、６
枚づつの光触媒カートリッジ２０（カートリッジシート
２１）が上側と下側とに密着した状態で支持されている
とともに、井形構造体３２の上下柱３０の溝部と中間柱
３５の溝部とに、６枚づつの光触媒カートリッジ２０
（カートリッジシート２１）が、左側と右側とに密着し
た状態で嵌め込まれ、これらが下側の前後梁３３にて支
持されいる。Therefore, as shown in FIG. 2, the frame body 6 is inserted into the groove portions of the left and right beams 31 and the groove portion of the intermediate beam 34 of the well structure 32 from the left and right sides,
The photocatalyst cartridges 20 (cartridge sheets 21) one by one are supported in close contact with the upper side and the lower side, and six grooves are provided in the groove portions of the upper and lower columns 30 and the intermediate column 35 of the well structure 32. Photocatalyst cartridge 20
The (cartridge sheet 21) is fitted in the left side and the right side in close contact with each other, and these are supported by the lower front and rear beams 33.
【００３１】なお、中間柱３５の外方側のフランジ部３
５ａは取り外しができるようになっているので、左側と
右側のカートリッジシート２１中の光触媒カートリッジ
２０は、枠体２に対して容易に取り外し、取り付けでき
るようになっている。また、上側と下側のカートリッジ
シート２１中の光触媒カートリッジ２０は、左右方向へ
移動しないようにロックされているものとする。The flange 3 on the outer side of the intermediate column 35
Since 5a is removable, the photocatalyst cartridges 20 in the left and right cartridge sheets 21 can be easily removed and attached to the frame body 2. The photocatalyst cartridges 20 in the upper and lower cartridge sheets 21 are locked so as not to move in the left-right direction.
【００３２】第１閉塞板４は、一方側の井形構造体３２
中の矩形部分、すなわちち、ガス処理体２の一端側開口
２ａを覆って、処理ガスＧ１を、ガス処理体２の周端部
外方に均一に回り込ませるようにするものであり、例え
ば、処理ガスＧ１により腐蝕されない滑らかな金属板か
ら形成されている。The first closing plate 4 is a well structure 32 on one side.
The rectangular portion in the inside, that is, the one end side opening 2a of the gas processing body 2 is covered so that the processing gas G1 can be uniformly spilled to the outside of the peripheral end portion of the gas processing body 2. It is formed of a smooth metal plate that is not corroded by the processing gas G1.
【００３３】第２閉塞板５は、他方側の井形構造体３２
の矩形部分外方、すなわち、ガス処理体２の他方側開口
２ｂの外方に延びて、ガス処理体２外方に回り込んだ処
理ガスＧ１をもれなくガス処理体２内に誘い込むための
ものであり、第１閉塞板４と同様の金属板から形成され
ている。第１及び第２閉塞板４，５とも、例えば、溶着
によって井形構造体３２に取り付けられている。The second closing plate 5 has a well-shaped structure 32 on the other side.
Of the processing gas G1 extending outside the rectangular portion of the gas processing body 2, that is, outside the opening 2b on the other side of the gas processing body 2 and wrapping around the outside of the gas processing body 2 into the gas processing body 2 without fail. Yes, it is formed of the same metal plate as the first closing plate 4. Both the first and second closing plates 4 and 5 are attached to the well-shaped structure 32 by welding, for example.
【００３４】ケーシング６は、ガス処理体２を取り付け
た枠体３の外方を覆い、第１閉塞板４前方から、この第
１閉塞板４に向かって供給された処理ガスＧを、このガ
ス処理体２に沿わせるように、このガス処理体２の外方
に回り込ませた後、このガス処理体２のカートリッジシ
ート２１（光触媒カートリッジ２０）中を通過させてガ
ス処理体２内に導き、光触媒カートリッジ２０によって
臭気成分を除いたガス処理体２内の脱臭ガスＧ２を、外
部に排出させるためのものである。The casing 6 covers the outside of the frame 3 to which the gas processing body 2 is attached, and the processing gas G supplied from the front of the first closing plate 4 toward the first closing plate 4 is supplied to this gas. After wrapping around the outside of the gas processing body 2 so as to follow the processing body 2, the gas processing body 2 is passed through the cartridge sheet 21 (photocatalyst cartridge 20) and guided into the gas processing body 2. This is for discharging the deodorizing gas G2 in the gas processing body 2 from which the odor component has been removed by the photocatalyst cartridge 20 to the outside.
【００３５】ケーシング６は、図１で示されるように、
枠体３の一対の井形構造体３２の端部及び第２閉塞板５
の外端を内面に突き当てて固定するように箱形に形成さ
れ、かつ、内部には、第１閉塞板４前方に前室Ｖ１が形
成されているとともに、ガス処理体２に沿ったこのガス
処理体２外方に４つのガス流路Ｒが形成され、更に、第
２閉塞板５後方に後室Ｖ２が形成されている。このケー
シング６には、前室Ｖ１の第１閉塞板４との対向面に、
ガス入口部６０が形成され、後室Ｖ２の後端面に防鳥ネ
ット７を取り付けたガス出口部６１が形成されている。
また、ガス処理体２の左右のカートリッジシート２１に
対向する、ケーシング６の左部及び右部には、図４で示
されるように、メンテナンス用の開口Ｕが形成され、か
つ、この開口Ｕを覆うように、開閉扉６２，６２が設け
られている。なお、ケーシング６は、処理ガスＧ１によ
って腐蝕を生じることのない、例えば、金属板によって
形成されている。The casing 6 is, as shown in FIG.
Ends of the pair of well-shaped structures 32 of the frame body 3 and the second closing plate 5
Is formed in a box shape so as to abut and fix the outer end of the inner surface to the inner surface, and the front chamber V1 is formed inside the front of the first closing plate 4, and the front chamber V1 is formed along the gas processing body 2. Four gas flow paths R are formed outside the gas processing body 2, and a rear chamber V2 is formed behind the second closing plate 5. In the casing 6, on the surface of the front chamber V1 facing the first closing plate 4,
A gas inlet portion 60 is formed, and a gas outlet portion 61 having the bird net 7 attached thereto is formed on the rear end surface of the rear chamber V2.
Further, as shown in FIG. 4, an opening U for maintenance is formed in the left and right portions of the casing 6 facing the left and right cartridge sheets 21 of the gas processing body 2, and the opening U is formed. Opening / closing doors 62, 62 are provided so as to cover. The casing 6 is formed of, for example, a metal plate that does not corrode due to the processing gas G1.
【００３６】電源ボックス８は、電源の受け入れと、各
光触媒カートリッジ２０の紫外線ランプ２０ｂに電源を
供給するためのものである。安定器ボックス９は、光触
媒カートリッジ２０の紫外線ランプ２０ｂ用の安定器が
収納されている。電源ボックス８と安定器ボックス９
は、図４で示されるように、ケーシング６の前室Ｖ１側
外面に取り付けられているが、安定器ボックス９は、一
部、前室Ｖ１内に突出するように設けられている。The power supply box 8 is for receiving power and supplying power to the ultraviolet lamp 20b of each photocatalyst cartridge 20. The ballast box 9 houses a ballast for the ultraviolet lamp 20b of the photocatalyst cartridge 20. Power supply box 8 and ballast box 9
4 is attached to the outer surface of the casing 6 on the front chamber V1 side, as shown in FIG. 4, but the stabilizer box 9 is provided so as to partially project into the front chamber V1.
【００３７】つぎに、この脱臭装置１の作用効果につい
て図５を参照しつつ説明する。ガス入口部６０から第１
閉塞板４に向かうようにケーシング６の前室Ｖ１内に導
入された処理ガスＧ１は、第１閉塞板４に当たった後、
この第１閉塞板４に沿うように、上方、下方、左方及び
右方に流れ、ガス処理体２外方に設けたガス流路Ｒ側に
向かう。そして、この処理ガスＧ１は、ガス流路Ｒ側に
達すると、９０度向きを変えつつガス流路Ｒ中に流れ込
みはじめ、最終的にケーシング６の内面に当たった後、
すべてのものが９０度向きを変えて、ガス処理体２と平
行なガス流路Ｒ中に流れ込む。Next, the function and effect of the deodorizing device 1 will be described with reference to FIG. First from the gas inlet 60
The processing gas G1 introduced into the front chamber V1 of the casing 6 so as to be directed toward the closing plate 4 hits the first closing plate 4 and then
Flowing upward, downward, leftward, and rightward along the first closing plate 4, toward the gas flow path R side provided outside the gas processing body 2. Then, when the processing gas G1 reaches the gas flow path R side, it begins to flow into the gas flow path R while changing its direction by 90 degrees, and finally after hitting the inner surface of the casing 6,
All of them turn 90 degrees and flow into the gas passage R parallel to the gas processing body 2.
【００３８】つづいて、ガス流路Ｒ中に入った処理ガス
Ｇ１は、ガス処理体２（光触媒カートリッジ２０）と平
行に流れつつ、ガス処理体２のカートリッジシート２１
中を通過して脱臭処理され、最終的にすべてのものが第
２閉塞板５に当たった後、カートリッジシート２１中を
通過して脱臭処理され、ガス処理体２内に流れ込む。そ
して、脱臭処理されたガス処理体２内の脱臭ガスＧ２
は、ガス処理体２の開口２ｂから、後室Ｖ２を通って流
速を落とされた後、装置外へ排出される。Subsequently, the processing gas G1 having entered the gas flow path R flows in parallel with the gas processing body 2 (photocatalyst cartridge 20), and the cartridge sheet 21 of the gas processing body 2 is supplied.
After passing through the inside to be deodorized and finally everything hits the second closing plate 5, it passes through the cartridge sheet 21 to be deodorized and flows into the gas processing body 2. The deodorizing gas G2 in the gas processing body 2 that has been deodorized
Is discharged from the opening 2b of the gas processing body 2 through the rear chamber V2 to reduce the flow rate, and then is discharged to the outside of the apparatus.
【００３９】以上のように、この脱臭装置１では、第１
閉塞板４に当たった処理ガスＧ１が、ほぼ均一な状態
で、ガス処理体２の外周端側外方に流れるとともに、こ
の外周端側外方に流れた処理ガスＧ１が、ガス処理体２
に沿うようにガス流路Ｒ中を流れて、このガス処理体２
の外周面上全体にむらなく到達する。したがって、この
脱臭装置１では、どの光触媒カートリッジ２０の光触媒
フィルタ２０ａに対しても、ほぼ均一に処理ガスＧ１を
通過させることができ、従来の脱臭装置１００に比べ、
光触媒カートリッジ２０（光触媒フィルタ２０ａ）を無
駄なく、効率的に使用することができ、装置の脱臭効率
を上げることができる。As described above, in the deodorizing device 1, the first
The processing gas G1 hitting the closing plate 4 flows outward in the outer peripheral end side of the gas processing body 2 in a substantially uniform state, and the processing gas G1 flowing outward in the outer peripheral end side is the gas processing body 2
Flowing in the gas flow path R along the
It reaches the entire outer peripheral surface evenly. Therefore, in the deodorizing device 1, the processing gas G1 can be almost uniformly passed through the photocatalyst filter 20a of any photocatalyst cartridge 20, and compared with the conventional deodorizing device 100.
The photocatalyst cartridge 20 (photocatalyst filter 20a) can be efficiently used without waste, and the deodorization efficiency of the device can be improved.
【００４０】また、この脱臭装置１では、光触媒カート
リッジ２０を筒状に立体的（３次元的）に配置して、一
定のケーシング空間内に光触媒フィルタ２０ａ（光触媒
カートリッジ２０）をできるだけ多く配置するようにし
ているので、光触媒フィルタ２０ａを面状にのみ配置し
た従来の脱臭装置１００に比べ、装置の小型化やコンパ
クト化を達成できる。Further, in this deodorizing device 1, the photocatalyst cartridge 20 is arranged three-dimensionally (three-dimensionally) in a cylindrical shape, and as many photocatalyst filters 20a (photocatalyst cartridge 20) as possible are arranged in a fixed casing space. Therefore, as compared with the conventional deodorizing device 100 in which the photocatalytic filter 20a is arranged only in a planar shape, the device can be made smaller and more compact.
【００４１】さらに、この脱臭装置１では、処理ガスＧ
１を光触媒カートリッジ２０の光触媒フィルタ２０ａの
面に平行に流しつつ、この光触媒カートリッジ２０中を
通過させるようにしているので、処理ガスＧ１が光触媒
カートリッジ２０を斜めに通過することとなり、処理ガ
スＧ１を光触媒フィルタ２０ａ中の多くの面に接触させ
ることができて、装置の脱臭効率を上げることができ
る。Further, in the deodorizing apparatus 1, the processing gas G
1 is made to pass through the photocatalyst cartridge 20 while flowing 1 in parallel to the surface of the photocatalyst filter 20a of the photocatalyst cartridge 20, so that the processing gas G1 passes through the photocatalyst cartridge 20 at an angle and the processing gas G1 It can be brought into contact with many surfaces in the photocatalytic filter 20a, and the deodorizing efficiency of the device can be improved.
【００４２】また、この脱臭装置１では、ガス処理体２
を四角筒状に形成しているので、一定形状をした光触媒
カートリッジ２０で、ガス処理体２を容易に形成できる
とともに、枠体３に対する光触媒カートリッジ２０の取
り付け、取り外しも容易にできるようになる。もちろ
ん、枠体３の構造も簡単なものでよくなる。Further, in this deodorizing apparatus 1, the gas processing body 2
Since it is formed in a square tube shape, the gas processing body 2 can be easily formed with the photocatalyst cartridge 20 having a constant shape, and the photocatalyst cartridge 20 can be easily attached to and removed from the frame body 3. Of course, the frame 3 may have a simple structure.
【００４３】さらに、この脱臭装置１では、光触媒カー
トリッジ２０と向き合った、ケーシング６の対向する一
対の面に、開閉扉６２で開閉されるメンテナンス用の開
口Ｕを設けているので、紫外線ランプ２０ｂの交換等の
ために、光触媒カートリッジ２０を枠体３から取り外し
たり、この枠体３に取り付けたりするのが容易となり、
メンテナンス作業の容易化を達成できる。Further, in the deodorizing apparatus 1, since the maintenance opening U opened / closed by the opening / closing door 62 is provided on the pair of opposed surfaces of the casing 6 facing the photocatalyst cartridge 20, the ultraviolet lamp 20b is protected. It becomes easy to remove the photocatalyst cartridge 20 from the frame 3 or attach it to the frame 3 for replacement,
The maintenance work can be facilitated.
【００４４】この場合、上側及び下側の光触媒カートリ
ッジ２０は、枠体３の左右梁３１や中間梁３４に沿っ
て、左右の開口Ｕ側に引き出せばよいし、左側及び右側
の光触媒カートリッジ２０は、中間柱３５のフランジ部
３５ａを取り外すことにより、左右の開口Ｕから装置外
へ取り出せばよい。In this case, the upper and lower photocatalyst cartridges 20 may be pulled out to the left and right openings U side along the left and right beams 31 and the intermediate beams 34 of the frame body 3, and the left and right photocatalyst cartridges 20 may be By removing the flange portion 35a of the intermediate column 35, it may be taken out of the apparatus through the left and right openings U.
【００４５】なお、光触媒フィルタ２０ａは、例えば、
繊維状フィルタの表面に光触媒（ＴｉＯ2）や、必要に
より吸着材（例えば、活性炭）を固定した（担持させ
た）ものであってもよい。The photocatalytic filter 20a is, for example,
A photocatalyst (TiO 2 ) and, if necessary, an adsorbent (for example, activated carbon) may be fixed (carried) on the surface of the fibrous filter.
【００４６】また、光触媒カートリッジ２０を用いず、
一定形状の光触媒フィルタと紫外線ランプとを、例えば
枠体３に別々に取り付けるようにしてもよい。Further, without using the photocatalyst cartridge 20,
For example, the photocatalytic filter having a fixed shape and the ultraviolet lamp may be separately attached to the frame body 3, for example.
【００４７】さらに、ガス処理体２の断面形状は、矩形
状のものに限らず、３角形、５角形、６角形のような多
角形状のものや、円形、楕円形のようなものであっても
よい。また、ガス処理体２の形成に使用される光触媒カ
ートリッジ２０の数を変えて、例えば、四角筒状のガス
処理体２の形状を種々に変えてもよい。もちろん、光触
媒カートリッジ２０の個々のサイズを変えることによ
り、ガス処理体２を種々の形状に形成してもよい。Further, the cross-sectional shape of the gas processing body 2 is not limited to a rectangular shape, but may be a polygonal shape such as a triangle, a pentagon or a hexagon, or a circle or an ellipse. Good. Further, the number of the photocatalyst cartridges 20 used for forming the gas processing body 2 may be changed, and for example, the shape of the gas processing body 2 having a rectangular tubular shape may be variously changed. Of course, the gas processing body 2 may be formed in various shapes by changing the individual size of the photocatalyst cartridge 20.
【００４８】また、光触媒カートリッジ２０の形状も、
曲がりのない板状のものに限らず、円柱面の一部のよう
な湾曲した形状のものであってもよい。Also, the shape of the photocatalyst cartridge 20 is
The shape is not limited to the plate shape without bending, and may be a curved shape such as a part of a cylindrical surface.
【００４９】さらに、ガス処理体２の一端側の閉塞手段
は、第１閉塞板４のように平面的なものに限らず、４つ
のガス流路Ｒへできるだけ均一に処理ガスＧ１を分配す
るために、例えば、ガス入口部６０側に突出する４角錐
状（角錐状や円錐状）のものであってもよい。Further, the closing means on the one end side of the gas processing body 2 is not limited to a flat one like the first closing plate 4 in order to distribute the processing gas G1 to the four gas flow paths R as uniformly as possible. In addition, for example, it may have a quadrangular pyramid shape (pyramidal shape or conical shape) protruding toward the gas inlet portion 60 side.
【００５０】また、脱臭装置１は、処理ガスＧ１を水平
方向でなく、例えば、上から下に流すものであってもよ
い。この場合、ガス処理体２が垂直に位置決めされるた
め、ケーシング６の外周面に４つのメンテナンス用の開
口Ｕを設けることができ、光触媒カートリッジ２０のメ
ンテナンスの容易化を達成できる。Further, the deodorizing device 1 may flow the processing gas G1 not in the horizontal direction but, for example, from the top to the bottom. In this case, since the gas processing body 2 is positioned vertically, four maintenance openings U can be provided on the outer peripheral surface of the casing 6, and the maintenance of the photocatalyst cartridge 20 can be facilitated.
【００５１】さらに、図６で示されるように、例えば、
ガス流路Ｒの入口部、すなわち、枠体２の第１閉塞板４
外方部に、複数のがらり（羽板）Ｎを回動可能に取り付
け、各がらりＮの傾斜角度をそれぞれ変えることによ
り、ガス処理体２のカートリッジシート２１を通過する
処理ガスＧ１の流量が、カートリッジシート２１の長手
方向に対してより均一になるようにしてもよい。Further, as shown in FIG. 6, for example,
The inlet of the gas flow path R, that is, the first closing plate 4 of the frame body 2.
A plurality of burrs (blades) N are rotatably attached to the outer portion, and the inclination angles of the burrs N are respectively changed, whereby the flow rate of the processing gas G1 passing through the cartridge sheet 21 of the gas processing body 2 is You may make it more uniform with respect to the longitudinal direction of the cartridge sheet 21.
【００５２】ところで、この脱臭装置１は、厨房設備の
外、例えば、ゴミ、動植物、下水、その他、種々の工場
や施設から排出される臭気成分を脱臭するのに用いるこ
とができるのはもちろんである。この場合、処理できる
処理ガスＧ１の流量も、大から小まで、どの程度のもの
であってもよい。By the way, the deodorizing device 1 can be used not only for deodorizing odorous components discharged from various facilities and plants such as garbage, animals and plants, sewage, etc. in addition to kitchen equipment. is there. In this case, the flow rate of the processing gas G1 that can be processed may be any amount from large to small.
【００５３】実施形態２．図７はこの発明の他の実施の
形態に係る脱臭装置を示している。なお、実施形態１で
説明したものと同一の機能を有するものには、同一符号
を付し、その説明を省略する。Embodiment 2. FIG. 7 shows a deodorizing device according to another embodiment of the present invention. The components having the same functions as those described in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
【００５４】この脱臭装置１Ａでは、光触媒カートリッ
ジ２０を例えば６個ずつ並べた２枚の対向するカートリ
ッジシート２１と、ケーシング６の上板６３及び下板６
４とにより、四角筒状のガス処理体１０を形成してい
る。そして、このガス処理体１０の一端側開口１０ａに
第１閉塞板４が取り付けられているとともに、他端側開
口１０ｂの外方に、一対の第２閉塞板５が取り付けられ
ている。なお、図７では、光触媒カートリッジ２０を着
脱自在に取り付ける枠体の絵は省略している。In this deodorizing device 1A, two photocatalyst cartridges 20, for example, two opposing cartridge sheets 21 arranged side by side, an upper plate 63 and a lower plate 6 of the casing 6 are arranged.
4 together form a rectangular tubular gas treatment body 10. The first closing plate 4 is attached to the one end side opening 10a of the gas processing body 10, and the pair of second closing plates 5 is attached to the outside of the other end side opening 10b. Note that, in FIG. 7, a picture of the frame body to which the photocatalyst cartridge 20 is detachably attached is omitted.
【００５５】この脱臭装置１Ａでは、ガス入口部６０か
らケーシング６の前室Ｖ１に導入された処理ガスＧ１
は、第１閉塞板４に当たった後、左右のガス流路Ｒに流
れ、その後、カートリッジシート２１中を通過して脱臭
処理がなされ、脱臭ガスＧ２に変えられる。そして、ガ
ス処理体１０内の脱臭ガスＧ２は、ケーシング６の後室
Ｖ２でガス流速が落とされた後、ガス出口部６１を通っ
て、装置外に排出される。したがって、この脱臭装置１
Ａにおいても、実施形態１の脱臭装置１と同様な効果を
得ることができる。In this deodorizing apparatus 1A, the processing gas G1 introduced into the front chamber V1 of the casing 6 from the gas inlet 60
After hitting the first closing plate 4, the gas flows into the left and right gas flow paths R, and then passes through the cartridge sheet 21 to be deodorized and converted into deodorized gas G2. Then, the deodorized gas G2 in the gas processing body 10 is discharged to the outside of the apparatus through the gas outlet portion 61 after the gas flow velocity is reduced in the rear chamber V2 of the casing 6. Therefore, this deodorizing device 1
Also in A, the same effect as that of the deodorizing device 1 of the first embodiment can be obtained.
【００５６】但し、この脱臭装置１Ａでは、ガス処理体
１０の上下両面には、光触媒カートリッジ２０が配置さ
れていないため、光触媒フィルタ２０ａと処理ガスＧ１
との接触面がやや減少し、実施形態１の脱臭装置１に比
べて装置がやや大型となる。However, in this deodorizing apparatus 1A, since the photocatalyst cartridges 20 are not arranged on the upper and lower surfaces of the gas processing body 10, the photocatalyst filter 20a and the processing gas G1 are not provided.
The contact surface with is slightly reduced, and the device becomes slightly larger than the deodorizing device 1 of the first embodiment.
【００５７】すなわち、図８の（ａ）で示されるよう
に、例えば、一辺の長さ２ａの正方形断面のケーシング
６内に、この実施形態２のガス処理体１０を設置した場
合には、カートリッジシート２１の総長さは２ａ×２＝
４ａとなるが、同様なケーシング６内に図８の（ｂ）で
示されるように、実施形態１のガス処理体２を設置した
場合には、例えば、ガス流路Ｒ中のガス流速とガス処理
体２内のガス流速とが等しいとしたときに、カートリッ
ジシート２１の総長さは、４×(2)1/2ａとなり、図８の
（ｂ）の場合が、図８の（ａ）の場合に比べて同一ケー
シング６内に、１．４倍以上のカートリッジシート２１
を配置できることとなる。したがって、脱臭装置１Ａに
比べて実施形態１の脱臭装置１の方が、大きさが同じで
あっても、脱臭効率を上げることができる。That is, as shown in FIG. 8A, for example, when the gas treating body 10 of the second embodiment is installed in the casing 6 having a square cross section with a side length 2a, the cartridge is The total length of the sheet 21 is 2a × 2 =
4a, when the gas treatment body 2 of the first embodiment is installed in the same casing 6 as shown in FIG. 8B, for example, the gas flow velocity in the gas flow path R and the gas flow rate When the gas flow velocity in the processing body 2 is the same, the total length of the cartridge sheet 21 is 4 × (2) 1/2 a, and the case of FIG. 8B corresponds to that of FIG. 1.4 times or more of the cartridge sheet 21 in the same casing 6 as compared with the case of
Can be placed. Therefore, the deodorizing device 1 according to the first embodiment can have higher deodorizing efficiency than the deodorizing device 1A even if the deodorizing device 1 has the same size.
【００５８】なお、このガス処理体１０の断面形状は、
６角形、８角形のような多角形状であってもよく、か
つ、ガス処理体１０への光触媒カートリッジ２０の配置
は、例えば、断面が６角形状の場合、１対又は２対の対
向面に光触媒カートリッジ２０を配置するものであって
もよい。The cross-sectional shape of this gas processing body 10 is
The photocatalyst cartridge 20 may be arranged in a polygonal shape such as a hexagon or an octagon, and the gas treatment body 10 may be arranged in one or two pairs of facing surfaces when the cross section has a hexagonal shape. The photocatalyst cartridge 20 may be arranged.
【００５９】また、実施形態１、２とも、ガス処理装置
が、脱臭装置１，１Ａの場合について説明したが、この
ガス処理装置は、ガス処理体２，１０を除塵フィルタ
（例えば、ＨＥＰＡフィルタ）で形成した除塵装置であ
ってもよい。In the first and second embodiments, the case where the gas treatment device is the deodorizing device 1 or 1A has been described. However, in this gas treatment device, the gas treatment bodies 2 and 10 are removed by a dust filter (for example, HEPA filter). It may be a dust removing device formed in.
【００６０】[0060]
【発明の効果】この発明では、ガス処理フィルタを用い
て筒状に形成されたガス処理体、又は、少なくとも一対
の対向する面がガス処理フィルタによって形成された筒
状のガス処理体の、一端側開口を閉塞する閉塞手段に向
かって、ガスを流し、このガスをガス処理体の外方から
ガス処理フィルタを通してガス処理体内に導くようにし
ているので、ガス処理フィルタを用いて、例えば、脱臭
処理といったガスの処理を行う場合に、ガス処理フィル
タに対してできるだけ均一にガスを通すことができると
ともに、一定サイズのケーシング空間内に、ガス処理フ
ィルタを多く配置することができ、装置の小型化・コン
パクト化を達成できる。According to the present invention, one end of a gas treatment body formed in a tubular shape by using a gas treatment filter, or one end of a tubular gas treatment body in which at least a pair of opposing surfaces are formed by a gas treatment filter. A gas is caused to flow toward the closing means that closes the side opening, and this gas is introduced from the outside of the gas processing body through the gas processing filter into the gas processing body. When performing gas treatment such as gas treatment, the gas can be passed through the gas treatment filter as evenly as possible, and many gas treatment filters can be placed in a casing space of a certain size, which reduces the size of the device.・ Compactness can be achieved.
【図１】この発明の実施形態１に係る脱臭装置の斜視断
面図である。FIG. 1 is a perspective sectional view of a deodorizing device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】枠体にガス処理体を取り付けたものを後方から
見た斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a frame body to which a gas processing body is attached as seen from the rear side.
【図３】光触媒カートリッジの説明図であり、（ａ）は
外観斜視図、（ｂ）は構成説明図である。3A and 3B are explanatory views of a photocatalyst cartridge, FIG. 3A is an external perspective view, and FIG.
【図４】図１の脱臭装置の外観斜視図である。FIG. 4 is an external perspective view of the deodorizing device in FIG.
【図５】図１の脱臭装置の作用説明図である。5 is an explanatory view of the operation of the deodorizing device of FIG.
【図６】枠体にガラリを取り付けた状態を示す斜視図で
ある。FIG. 6 is a perspective view showing a state in which a louver is attached to the frame body.
【図７】この発明の実施形態２に係る脱臭装置の斜視断
面図である。FIG. 7 is a perspective sectional view of a deodorizing device according to a second embodiment of the present invention.
【図８】実施形態１と実施形態２の脱臭装置の性能の違
いを説明する図であり、（ａ）は実施形態１側を示し、
（ｂ）は実施形態２側を示す。FIG. 8 is a diagram for explaining a difference in performance between the deodorizing devices of the first and second embodiments, (a) shows the first embodiment side,
(B) shows the second embodiment side.
【図９】従来技術の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of a conventional technique.
１，１Ａ 脱臭装置（ガス処理装置） ２，１０ ガス処理体 ２ａ，１０ａ 開口 ２ｂ，１０ｂ 開口 ６ ケーシング ２０ 光触媒カートリッジ ２０ａ 光触媒フィルタ ２０ｂ 光源（紫外線ランプ） ６０ ガス入口部 ６１ ガス出口部 Ｇ１ 処理ガス（ガス） Ｇ２ 脱臭ガス（ガス） Ｕ 開口（メンテナンス用開口） 1,1A deodorizing device (gas processing device) 2,10 Gas processing body 2a, 10a opening 2b, 10b opening 6 casing 20 Photocatalyst cartridge 20a photocatalytic filter 20b Light source (ultraviolet lamp) 60 gas inlet 61 Gas outlet G1 processing gas (gas) G2 deodorizing gas (gas) U opening (opening for maintenance)
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 46/10 Ｂ０１Ｄ 46/10 Ａ 53/86 Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｊ Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｈ Ｊ (72)発明者 目川 浩 石川県金沢市小阪町北39番地４ Ｆターム(参考） 4C080 AA10 BB02 JJ06 KK08 MM02 NN02 4D019 AA01 BA05 BB06 BC07 CB01 CB02 4D048 AA22 AB03 BA07X BA41X BB03 BB08 EA01 4D058 JA12 JB06 KA02 KB01 KC30 KC52 LA04 TA06 TA07 UA25 4G069 AA03 AA11 BA04B BA48A CA10 CA17 DA06 EA11 EA13Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B01D 46/10 B01D 46/10 A 53/86 B01J 35/02 J B01J 35/02 B01D 53/36 H J (72) inventor Megawa Hiroshi Kanazawa, Ishikawa Prefecture Kosaka Machikita 39 address 4 F-term (reference) 4C080 AA10 BB02 JJ06 KK08 MM02 NN02 4D019 AA01 BA05 BB06 BC07 CB01 CB02 4D048 AA22 AB03 BA07X BA41X BB03 BB08 EA01 4D058 JA12 JB06 KA02 KB01 KC30 KC52 LA04 TA06 TA07 UA25 4G069 AA03 AA11 BA04B BA48A CA10 CA17 DA06 EA11 EA13
Claims (6)
り、ガスの処理がなされるガス処理装置において、 前記ガス処理フィルタを用いて筒状に形成されたガス処
理体と、 前記ガス処理体の一端側開口を閉じる閉塞手段と、 前記ガス処理体の前記閉塞手段側にガス入口部が形成さ
れるとともに、前記ガス入口部から前記閉塞手段に向か
うように導入されたガスが、前記ガス処理フィルタ中を
通過して前記ガス処理体内に導かれるように、このガス
処理体の外方を覆い、かつ、前記ガス処理体の開口した
他端側に、このガス処理体内のガスを外部に排出するガ
ス出口部が形成されたケーシングとを有することを特徴
とするガス処理装置。1. A gas processing apparatus in which a gas is processed by passing through a gas processing filter, wherein a gas processing body is formed in a cylindrical shape by using the gas processing filter, and one end side of the gas processing body. A closing means for closing the opening, and a gas inlet portion is formed on the side of the closing means of the gas treating body, and the gas introduced from the gas inlet portion toward the closing means flows through the gas treatment filter. A gas outlet that covers the outside of the gas processing body so as to be passed therethrough and is guided into the gas processing body, and discharges the gas in the gas processing body to the outside on the other end side where the gas processing body is opened. And a casing in which a portion is formed.
り、ガスの処理がなされるガス処理装置において、 少なくとも一対の対向する面が前記ガス処理フィルタを
用いて形成されている筒状のガス処理体と、 前記ガス処理体の一端側開口を閉じる閉塞手段と、 前記ガス処理体の前記閉塞手段側にガス入口部が形成さ
れるとともに、前記ガス入口部から前記閉塞手段に向か
うように導入されたガスが、前記ガス処理フィルタ中を
通過して前記ガス処理体内に導かれるように、このガス
処理体の前記ガス処理フィルタ側外方を覆い、かつ、前
記ガス処理体の開口する他端側に、このガス処理体内の
ガスを外部に排出するガス出口部が形成されたケーシン
グとを有することを特徴とするガス処理装置。2. A gas processing apparatus in which gas is processed by passing it through a gas processing filter, and a tubular gas processing body having at least a pair of opposing surfaces formed by using the gas processing filter. A closing means for closing the one end side opening of the gas processing body, and a gas inlet part formed on the closing means side of the gas processing body, and a gas introduced from the gas inlet part toward the closing means. Is, so as to be introduced into the gas treatment body through the gas treatment filter, covers the gas treatment filter side outer side of the gas treatment body, and on the other end side of the opening of the gas treatment body, A gas processing apparatus, comprising: a casing having a gas outlet for discharging the gas in the gas processing body to the outside.
媒フィルタであることを特徴とする請求項１又は２記載
のガス処理構造。3. The gas treatment structure according to claim 1, wherein the gas treatment filter is a photocatalytic filter for deodorization.
されて一定形状の光触媒カートリッジを形成しているこ
とを特徴とする請求項３記載のガス処理装置。4. The gas treatment apparatus according to claim 3, wherein the photocatalyst filter is combined with a light source to form a photocatalyst cartridge having a constant shape.
れた四角筒状のものであることを特徴とする請求項４記
載のガス処理装置。5. The gas processing apparatus according to claim 4, wherein the gas processing body is a rectangular tube having a rectangular cross section.
側にある、前記ケーシングの少なくとも一対の対向面
に、開閉可能なメンテナンス用開口が設けられているこ
とを特徴とする請求項５記載のガス処理装置。6. The gas according to claim 5, wherein at least a pair of facing surfaces of the casing on the gas processing filter side of the gas processing body are provided with openable and closable maintenance openings. Processing equipment.
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP2003230806A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007089754A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Toshiba Corp | Air cleaner |
| WO2011010627A1 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | アークハイテック株式会社 | Photocatalytic air purifier and photocatalyst unit |
| KR101552003B1 (en) * | 2013-01-16 | 2015-09-09 | 한국기계연구원 | Apparatus for purificating exhaust gas |
| CN110621353A (en) * | 2017-05-12 | 2019-12-27 | 首尔伟傲世有限公司 | Fluid treatment device |
| JP7375100B1 (en) | 2022-04-27 | 2023-11-07 | 日機装株式会社 | air purifier |
-
2002
- 2002-02-07 JP JP2002030868A patent/JP2003230806A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007089754A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Toshiba Corp | Air cleaner |
| WO2011010627A1 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | アークハイテック株式会社 | Photocatalytic air purifier and photocatalyst unit |
| JP5660897B2 (en) * | 2009-07-24 | 2015-01-28 | アークハイテック株式会社 | Photocatalytic air purifier |
| KR101552003B1 (en) * | 2013-01-16 | 2015-09-09 | 한국기계연구원 | Apparatus for purificating exhaust gas |
| CN110621353A (en) * | 2017-05-12 | 2019-12-27 | 首尔伟傲世有限公司 | Fluid treatment device |
| JP7375100B1 (en) | 2022-04-27 | 2023-11-07 | 日機装株式会社 | air purifier |
| JP2023165055A (en) * | 2022-04-27 | 2023-11-15 | 日機装株式会社 | Air cleaning device |
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