JP2003217187A - Master disk for optical disk, stamper for optical disk, optical disk, and manufacturing method of master disk for optical disk - Google Patents
Master disk for optical disk, stamper for optical disk, optical disk, and manufacturing method of master disk for optical diskInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用原
盤、光ディスク用スタンパ、光ディスク、および光ディ
スク用原盤の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk master, an optical disk stamper, an optical disk, and a method for manufacturing an optical disk master.
【０００２】[0002]
【従来の技術】レーザ光等によって情報の記録、消去、
または再生が行われる光ディスクの製造方法において
は、先ず、情報を示すピットやトラッキングを行うため
の案内溝が表面に形成された光ディスク用原盤を作製す
る。その後、光ディスクの表面を導体化処理することに
より、金属からなる電鋳膜を析出形成した後に剥離し
て、光ディスク用スタンパを作製する。2. Description of the Related Art Recording and erasing of information by laser light,
Alternatively, in an optical disc manufacturing method in which reproduction is performed, first, an optical disc master having pits indicating information and guide grooves for tracking is formed on the surface. After that, the surface of the optical disk is subjected to a conductor treatment to deposit and form an electroformed film made of metal and then peeled off to manufacture an optical disk stamper.
【０００３】このように作製された光ディスク用スタン
パを射出成形機にセットし、樹脂材料を溶融、射出、冷
却固化することにより、光ディスク基板を形成する。そ
の光ディスク基板の情報面に、記録膜や反射膜をスパッ
タ法等により成膜し、その膜表面に保護コートを行う。The optical disk stamper thus prepared is set in an injection molding machine, and a resin material is melted, injected, and cooled to solidify to form an optical disk substrate. A recording film or a reflective film is formed on the information surface of the optical disk substrate by a sputtering method or the like, and a protective coating is applied to the surface of the film.
【０００４】上記の製造方法により、光ディスクが製造
される。なお、一定の種類の光ディスクについては、セ
ンターハブが接着され、保護ケースに収納される。An optical disk is manufactured by the above manufacturing method. For certain types of optical disks, the center hub is bonded and stored in a protective case.
【０００５】次に、従来の光ディスク用原盤の製造方法
について図１８を参照して説明する。なお、光ディスク
用原盤の材料としては、表面が平滑に研磨された石英原
盤あるいはガラス原盤等（以下、単に原盤とする）を用
いた。Next, a conventional method for manufacturing an optical disk master will be described with reference to FIG. As a material for the optical disk master, a quartz master, a glass master, or the like (hereinafter simply referred to as a master) whose surface was polished smoothly was used.
【０００６】先ず、原盤の表面を精密洗浄する(Ｓ１０
１)。精密洗浄の後、原盤の表面と次の工程で塗布する
フォトレジストとの密着性を向上させるため、ヘキサメ
チルジシラザン等の前処理剤を原盤表面に均一な厚さで
塗布する。First, the surface of the master is precisely cleaned (S10).
1). After precision cleaning, a pretreatment agent such as hexamethyldisilazane is applied to the surface of the master in a uniform thickness in order to improve the adhesion between the surface of the master and the photoresist applied in the next step.
【０００７】その後、前処理剤の上から、有機溶媒に溶
かされた感光性フォトレジストを均一な厚さで塗布する
(Ｓ１０２)。なお、必要があれば原盤の加熱処理（以
下、単にベイクとする）を行ってもよい。Thereafter, a photosensitive photoresist dissolved in an organic solvent is applied on the pretreatment agent to a uniform thickness.
(S102). If necessary, the master may be heat-treated (hereinafter simply referred to as baking).
【０００８】次に、フォトレジスト膜が塗布された原盤
に対し、カッティングマシンによって情報信号の記録を
行う(Ｓ１０３)。情報信号の記録は原盤を回転駆動しな
がら、記録されるべき信号で変調されたレーザ光を収束
してフォトレジスト膜に露光することによって行う。す
なわち、レーザ光の照射位置を原盤の半径方向に徐々に
移動させることによって、トラッキング用の溝を所定領
域に螺旋状に露光する。また、必要に応じて、ＲＯＭ情
報やプリフォーマット情報をあらわすピット等のパター
ンを所定領域に螺旋状に露光する。Then, an information signal is recorded by a cutting machine on the master coated with the photoresist film (S103). The recording of the information signal is performed by converging the laser light modulated by the signal to be recorded and exposing the photoresist film while rotating the master. That is, by gradually moving the irradiation position of the laser light in the radial direction of the master, the tracking groove is spirally exposed in a predetermined area. If necessary, a pattern such as pits representing ROM information or preformat information is spirally exposed in a predetermined area.
【０００９】次に、露光された原盤に対して無機アルカ
リ等の現像液を用いて現像処理を行い、所定のレジスト
パターンを形成する(Ｓ１０４)。その後必要があればベ
イクを行う。Next, the exposed master is developed with a developing solution such as an inorganic alkali to form a predetermined resist pattern (S104). Then bake if necessary.
【００１０】上記のステップＳ１０１〜Ｓ１０４を踏む
ことにより、所定のパターンが刻まれた光ディスク用原
盤が完成する。By performing the above steps S101 to S104, an optical disk master having a predetermined pattern engraved is completed.
【００１１】なお、必要に応じて、Ｓ１０４の後に、レ
ジストパターンをマスクとして、ＣＨＦ3ガスやＣＦ4ガ
ス等の雰囲気中で反応性イオンエッチングを行ってもよ
い(Ｓ１０５)。次いで、エッチングが終了した原盤全体
を露光後、無機アルカリ等の現像液に浸すことによって
残ったレジストパターンを除去する(Ｓ１０６)。このよ
うにしても、所定のパターンが刻まれた光ディスク用原
盤が完成する。If necessary, after S104, reactive ion etching may be performed in an atmosphere of CHF 3 gas, CF 4 gas or the like using the resist pattern as a mask (S105). Next, after the etching of the entire master is exposed, the remaining resist pattern is removed by immersing the master in a developer such as an inorganic alkali (S106). Even in this way, the optical disc master having the predetermined pattern is completed.
【００１２】ところで、上記従来の製造方法で造られた
光ディスク用原盤の溝幅やピットサイズ等を含むパター
ンサイズは、同一の光ディスク用原盤内の径方向で大き
く変動してしまう。その原因について図１９を用いて説
明する。By the way, the pattern size including the groove width and the pit size of the optical disk master manufactured by the above-mentioned conventional manufacturing method greatly varies in the radial direction within the same optical disk master. The cause will be described with reference to FIG.
【００１３】図１９は、フォトレジスト層１０１がコー
トされた光ディスク用原盤１０２に露光を行っている状
態を示している。対物レンズ１０３で収束されたレーザ
ビーム１０４は、フォトレジスト層１０１上の点１０５
に焦点を結び、これを透過する。その後、レーザビーム
１０４は、拡散しながら光ディスク用原盤１０２の内部
を透過し、光ディスク用原盤１０２の裏面において、所
定の反射率で反射レーザビーム１０６として反射され
る。FIG. 19 shows a state in which an optical disk master 102 coated with a photoresist layer 101 is being exposed. The laser beam 104 focused by the objective lens 103 is reflected by a point 105 on the photoresist layer 101.
Focus on and penetrate this. After that, the laser beam 104 is transmitted through the inside of the optical disc master 102 while being diffused, and is reflected as a reflected laser beam 106 at a predetermined reflectance on the back surface of the optical disc master 102.
【００１４】反射レーザビーム１０６は、拡散しながら
再びフォトレジスト層１０１を照射する。ここで、たと
えば対物レンズのＮＡ（Numeral Aperture：開口数）を
０．９、ガラス原盤を屈折率１．４８、厚さを１．２ｍ
ｍとすると、フォトレジスト層１０１上での反射レーザ
ビーム１０６で照射される領域は、図１９においてＤｅ
ｘで示す直径が約３．７ｍｍの円形となる。したがっ
て、上記の条件においてレーザビーム１０４で点１０５
を照射した場合、点１０５から１．８ｍｍ離れたフォト
レジスト層１０１上の点にも影響を及ぼすことになる。The reflected laser beam 106 irradiates the photoresist layer 101 again while being diffused. Here, for example, the NA (Numeral Aperture) of the objective lens is 0.9, the refractive index of the glass master is 1.48, and the thickness is 1.2 m.
m, the area irradiated with the reflected laser beam 106 on the photoresist layer 101 is De in FIG.
It becomes a circle with a diameter indicated by x of about 3.7 mm. Therefore, under the above conditions, the laser beam 104 causes a point 105
Is also affected on a point on the photoresist layer 101 that is 1.8 mm away from the point 105.
【００１５】ところで、レーザビーム１０４と反射レー
ザビーム１０６とによる露光量は、エネルギー密度の比
で考えれば反射レーザビーム１０６による露光量の方が
はるかに小さい。しかし、光ディスク用原盤１０２の所
定範囲に所定パターンを形成する場合は以下のようにな
る。By the way, the exposure amount by the laser beam 104 and the reflected laser beam 106 is much smaller than that by the reflected laser beam 106, considering the energy density ratio. However, in the case of forming a predetermined pattern in a predetermined range of the optical disc master 102, the procedure is as follows.
【００１６】すなわち、フォトレジスト層１０１上にお
けるグルーブ部の任意の点について、レーザビーム１０
４による露光は１度だけ行われる。一方、反射レーザビ
ーム１０６による露光は、光ディスク用原盤１０２を回
転させるとともに対物レンズ１０３を移動させながら行
われるので、かなり多くの回数の露光が断続的に繰り返
される。したがって、反射レーザビーム１０６による露
光は、多重露光となる。That is, the laser beam 10 is applied to an arbitrary point of the groove portion on the photoresist layer 101.
The exposure by 4 is done only once. On the other hand, since the exposure by the reflected laser beam 106 is performed while rotating the optical disc master 102 and moving the objective lens 103, a considerably large number of exposures are repeated intermittently. Therefore, the exposure by the reflected laser beam 106 is a multiple exposure.
【００１７】それゆえ、フォトレジスト層１０１上にお
けるグルーブ部の任意の点について、レーザビーム１０
４による露光量に対する反射レーザビーム１０６の多重
露光による累積露光量の割合は数％程度になる可能性が
ある。また、断続的に露光される回数は、最内周部や最
外周部に比べて中心付近が多くなる。すなわち、グルー
ブ部での総和の露光量は、図２０に示すように、光ディ
スク用原盤の径方向で変動する。Therefore, the laser beam 10 is applied to an arbitrary point of the groove portion on the photoresist layer 101.
The ratio of the cumulative exposure amount by the multiple exposure of the reflected laser beam 106 to the exposure amount of 4 may be about several percent. Further, the number of times of intermittent exposure is larger near the center than in the innermost peripheral portion and the outermost peripheral portion. That is, the total exposure amount in the groove portion varies in the radial direction of the optical disc master as shown in FIG.
【００１８】この総露光量の径方向の変動は、完成した
光ディスク用原盤の溝幅やピットサイズ等を含むパター
ン形状にも大きく影響を与え、総露光量が大きい部位で
はパターン形状の深さや幅が大きくなる。This variation in the total exposure amount in the radial direction also has a great influence on the pattern shape including the groove width and pit size of the completed master for an optical disk, and the depth and width of the pattern shape are increased in the portion where the total exposure amount is large. Grows larger.
【００１９】以上のようにして生じるパターンサイズの
不均一性は、再生信号のＣＮ比（Carrier to Noise rat
io）や、プリピットのビットエラーレートの悪化につな
がる。The nonuniformity of the pattern size generated as described above is caused by the CN ratio (Carrier to Noise rat) of the reproduced signal.
io) and the bit error rate of the pre-pit will deteriorate.
【００２０】上記の問題を解決するために、以下に説明
するような光ディスク用原盤が、ＷＯ９８／３７５５６
号公報において開示されている。In order to solve the above problem, an optical disk master as described below is WO98 / 37556.
Japanese Patent Publication No.
【００２１】上記公報に開示された光ディスク用原盤
は、図２１（ａ）に示すように、透明な円盤３０１に、
反射防止膜あるいは光吸収剤３０２が付けられているも
のである。The optical disc master disclosed in the above publication has a transparent disc 301 as shown in FIG.
An antireflection film or a light absorber 302 is attached.
【００２２】上記構成の光ディスク用原盤においては、
露光時にフォトレジスト層を透過したレーザ光は、円盤
３０１の裏面で反射するのを防止されているか、あるい
は円盤３０１の裏面で吸収される。したがって、円盤３
０１に対しての総露光量が径方向に対して一定となり、
パターンサイズが均一となる。In the optical disc master having the above structure,
The laser light transmitted through the photoresist layer at the time of exposure is prevented from being reflected on the back surface of the disk 301 or is absorbed by the back surface of the disk 301. Therefore, disk 3
The total exposure amount for 01 becomes constant in the radial direction,
The pattern size becomes uniform.
【００２３】また、上記公報には、図２１（ｂ）に示す
ように、光を吸収する着色剤を含むガラス３０３を材質
とした光ディスク用原盤が開示されている。Further, the above publication discloses an optical disc master made of glass 303 containing a colorant that absorbs light, as shown in FIG. 21 (b).
【００２４】この原盤においては、露光時にフォトレジ
スト層を透過したレーザ光は、原盤中を着色剤に吸収さ
れ減衰しながら透過するため、総露光量が径方向に対し
て一定となり、パターンサイズが均一となる。In this master, the laser light transmitted through the photoresist layer at the time of exposure is absorbed by the colorant in the master and is transmitted while being attenuated, so that the total exposure amount becomes constant in the radial direction and the pattern size becomes smaller. Be uniform.
【００２５】[0025]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報の光ディスク用原盤においては、それぞれ以下のよう
な問題点を有している。However, the optical disk masters of the above publications have the following problems, respectively.
【００２６】すなわち、透明な円盤３０１の裏面に反射
防止膜あるいは光吸収剤３０２が設けられている構成の
光ディスク用原盤では、反射防止膜あるいは光吸収剤３
０２を蒸着する工程が必要となる。したがって、生産性
が悪くなるとともに、反射防止膜および光吸収剤３０２
の材料コストや、それらを蒸着するための装置導入のた
めに、原盤作製のためのコストが高くなる。That is, in an optical disk master having a structure in which an antireflection film or a light absorber 302 is provided on the back surface of a transparent disc 301, the antireflection film or the light absorber 3 is used.
A step of depositing 02 is required. Therefore, the productivity is deteriorated and the antireflection film and the light absorber 302 are used.
Because of the material cost and the introduction of the apparatus for depositing them, the cost for producing the master becomes high.
【００２７】一方、光を吸収する着色剤を含むガラス３
０３を使用している構成の光ディスク用原盤の場合、着
色剤のために必要なコストの分だけ光ディスク用原盤の
コストが高くなり、原盤作製のためのコストが高くな
る。On the other hand, glass 3 containing a colorant that absorbs light
In the case of the optical disk master having the structure of No. 03, the cost of the optical disk master is increased by the cost required for the colorant, and the cost for manufacturing the master is increased.
【００２８】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、低コストにて簡易に作製
することでき、パターンサイズが均一化された光ディス
ク用原盤、光ディスク用スタンパ、光ディスク、および
そのような光ディスク用原盤の製造方法を提供すること
である。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to be easily manufactured at a low cost, and a master for an optical disk and a stamper for an optical disk having a uniform pattern size. An optical disc and a method for manufacturing such an optical disc master.
【００２９】[0029]
【課題を解決するための手段】本発明の光ディスク用原
盤は、上記課題を解決するため、情報の記録または再生
を行う案内溝とピットとからなる所定パターンが環状に
形成されている光ディスク用原盤において、上記所定パ
ターンが形成されている領域以外に、該所定パターンと
同心円状のダミーパターンを備えていることを特徴とし
ている。In order to solve the above-mentioned problems, an optical disk master according to the present invention has an annular predetermined pattern consisting of guide grooves and pits for recording or reproducing information. In the third aspect, a dummy pattern concentric with the predetermined pattern is provided in a region other than the region where the predetermined pattern is formed.
【００３０】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、上記課題を解決するため、情報の記録または再生
を行う案内溝とピットとからなる所定パターンを環状に
形成する光ディスク用原盤の製造方法において、上記所
定パターンが形成されている領域以外を、該所定パター
ンと同心円状に露光することによりダミーパターンを形
成することを特徴としている。Further, in order to solve the above-mentioned problems, the method for manufacturing an optical disk master according to the present invention is a method for manufacturing an optical disk master in which a predetermined pattern including guide grooves and pits for recording or reproducing information is formed in an annular shape. In the above, the dummy pattern is formed by exposing the area other than the area in which the predetermined pattern is formed, concentrically with the predetermined pattern.
【００３１】すなわち、本発明における光ディスク用原
盤は、情報の記録または再生を行う案内溝とピットとか
らなる所定パターンが環状に形成されている。That is, in the optical disk master according to the present invention, a predetermined pattern consisting of guide grooves for recording or reproducing information and pits is formed in an annular shape.
【００３２】上記所定パターンは、レーザビームを用い
て露光することにより形成されるものである。しかしな
がら、所定パターンに対する露光量が不均一であると、
所定パターンにおける案内溝あるいはピットの寸法（以
下、パターンサイズとする）が不均一となり、再生信号
のＣＮ比や、プリビットのビットレラーレートの悪化に
つながる場合がある。The predetermined pattern is formed by exposing with a laser beam. However, if the exposure dose for a given pattern is non-uniform,
The size of the guide groove or pit (hereinafter referred to as a pattern size) in the predetermined pattern becomes non-uniform, which may lead to deterioration of the CN ratio of the reproduction signal and the bit-railer rate of the pre-bit.
【００３３】そこで、本発明では、特に、所定パターン
が形成されている領域以外に、該所定パターンと同心円
状のダミーパターンを備えていることを特徴としてい
る。Therefore, the present invention is characterized in that a dummy pattern concentric with the predetermined pattern is provided in addition to the area where the predetermined pattern is formed.
【００３４】本発明者らは、ダミーパターンが所定パタ
ーンと同心円状に形成されている光ディスク用原盤と、
ダミーパターンが形成されていない光ディスク用原盤と
について比較実験を行った。その鋭意研究の結果、所定
パターンにおけるダミーパターン近傍の部位と、所定パ
ターンの中心部の部位とにおいて、パターンサイズが均
一となることがわかった。The present inventors have made a master for an optical disc in which a dummy pattern is formed concentrically with a predetermined pattern,
A comparative experiment was performed with an optical disc master on which no dummy pattern was formed. As a result of the earnest research, it has been found that the pattern size is uniform in the part of the predetermined pattern near the dummy pattern and the part of the center of the predetermined pattern.
【００３５】また、光ディスク用原盤を回転させながら
露光を行う所定パターンの露光工程と同様の露光工程に
より、ダミーパターンを所定パターンと同心円状に形成
することができる。すなわち、ダミーパターンを同心円
状に形成することは、光ディスク用原盤の裏面に反射防
止膜等を設ける場合や、光ディスク用原盤に着色剤を含
む材料を用いる場合に比べて、生産性の悪化や、コスト
の増加を伴わずに行うことができる。Further, the dummy pattern can be formed concentrically with the predetermined pattern by the same exposure process as the predetermined pattern exposure process in which the exposure is performed while rotating the optical disc master. That is, forming the dummy pattern in a concentric pattern deteriorates productivity as compared with the case where an antireflection film or the like is provided on the back surface of the optical disc master, or the case where a material containing a coloring agent is used for the optical disc master. It can be done without increasing costs.
【００３６】それゆえ、低コストにて簡易に作製するこ
とでき、パターンサイズが均一化された光ディスク用原
盤を提供することができるという効果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master having a uniform pattern size, which can be easily manufactured at low cost.
【００３７】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
課題を解決するため、上記構成の光ディスク用原盤にお
いて、上記ダミーパターンが、上記所定パターンと同心
円状に複数本形成されていることを特徴としている。In order to solve the above problems, the optical disk master of the present invention is characterized in that, in the optical disk master having the above-mentioned structure, a plurality of the dummy patterns are formed concentrically with the predetermined pattern. There is.
【００３８】上記構成によれば、ダミーパターンは、所
定パターンと同心円状に複数本形成される。したがっ
て、ダミーパターンを所定パターンが形成されている範
囲外においてより広域に形成することができる。According to the above structure, a plurality of dummy patterns are formed concentrically with the predetermined pattern. Therefore, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【００３９】本発明者らにおいては、鋭意研究の結果、
ダミーパターンをより広域に形成することにより、所定
パターンにおけるダミーパターン近傍の部位と、所定パ
ターンの中心部の部位とにおいて、パターンサイズがよ
り均一となることを確認した。In the present inventors, as a result of earnest research,
It was confirmed that by forming the dummy pattern in a wider area, the pattern size becomes more uniform in the part in the vicinity of the dummy pattern in the predetermined pattern and the part in the center part of the predetermined pattern.
【００４０】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【００４１】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
課題を解決するため、上記構成の光ディスク用原盤にお
いて、上記ダミーパターンのピッチ幅が、上記所定パタ
ーンにおける上記案内溝および上記ピットの幅よりも広
いことを特徴としている。なお、ダミーパターンのピッ
チ幅とは、所定パターンと同心円状に形成される各ダミ
ーパターンの溝幅を指す。In order to solve the above-mentioned problems, the optical disk master of the present invention is the optical disk master of the above-mentioned structure, wherein the pitch width of the dummy pattern is larger than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern. It is characterized by being wide. The pitch width of the dummy pattern refers to the groove width of each dummy pattern formed concentrically with the predetermined pattern.
【００４２】上記構成によれば、ダミーパターンを所定
パターンが形成されている範囲外においてより広域に形
成することができる。According to the above structure, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【００４３】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【００４４】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
課題を解決するため、情報の記録または再生を行う案内
溝とピットとからなる所定パターンが環状に形成されて
いる光ディスク用原盤において、上記所定パターンが形
成されている領域以外に、該所定パターンと同心円状お
よび上記所定パターンの中心を軸とする螺旋状に形成さ
れるダミーパターンを備えていることを特徴としてい
る。In order to solve the above problems, the optical disk master of the present invention is an optical disk master in which a predetermined pattern of guide grooves and pits for recording or reproducing information is formed in an annular shape. In addition to the area where the pattern is formed, a dummy pattern is provided which is concentric with the predetermined pattern and spirally formed with the center of the predetermined pattern as an axis.
【００４５】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、上記課題を解決するため、情報の記録または再生
を行う案内溝とピットとからなる所定パターンを環状に
形成する光ディスク用原盤の製造方法において、上記所
定パターンが形成されている領域以外を、該所定パター
ンと同心円状に露光するとともに、上記所定パターンの
中心を軸として螺旋状に露光することによりダミーパタ
ーンを形成することを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the method of manufacturing an optical disk master according to the present invention is a method of manufacturing an optical disk master in which a predetermined pattern including guide grooves and pits for recording or reproducing information is formed in an annular shape. In the above, a region other than the region where the predetermined pattern is formed is exposed concentrically with the predetermined pattern, and a dummy pattern is formed by spirally exposing the center of the predetermined pattern as an axis. .
【００４６】上記構成によれば、ダミーパターンは、所
定パターンと同心円状および螺旋状に形成される。した
がって、ダミーパターンを所定パターンが形成されてい
る範囲外においてより広域に形成することができる。According to the above structure, the dummy pattern is formed in a concentric circle and a spiral with the predetermined pattern. Therefore, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【００４７】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【００４８】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
課題を解決するため、上記構成の光ディスク用原盤にお
いて、上記ダミーパターンが、上記所定パターンと同心
円状に形成されている複数の部位と、上記同心円状に形
成されている複数の部位の間において螺旋状に形成され
ている部位とを備えていることを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the optical disc master of the present invention is, in the optical disc master of the above-mentioned configuration, the dummy pattern, and a plurality of portions formed concentrically with the predetermined pattern, and It is characterized in that it has a spirally formed portion between a plurality of concentric portions.
【００４９】上記構成によれば、ダミーパターンにおけ
る螺旋状に形成されている部位は、複数の同心円状に形
成されている部位の間に形成されている。すなわち、ダ
ミーパターンを所定パターンが形成されている範囲外に
おいてより広域に形成することができる。According to the above structure, the spirally formed portion of the dummy pattern is formed between the plurality of concentric portions. That is, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【００５０】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【００５１】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
課題を解決するため、上記構成の光ディスク用原盤にお
いて、上記ダミーパターンにおける同心円状の形成され
ている部位の幅が、上記所定パターンにおける案内溝お
よびピットの幅よりも広いことを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the optical disk master of the present invention has a structure in which the width of the portion of the dummy pattern in which the concentric circles are formed is the guide groove in the predetermined pattern. And is wider than the width of the pit.
【００５２】上記構成によれば、ダミーパターンにおけ
る同心円状の形成されている部位の幅は、所定パターン
における案内溝およびピットの幅よりも広く形成され
る。すなわち、ダミーパターンを所定パターンが形成さ
れている範囲外においてより広域に形成することができ
る。According to the above construction, the width of the concentric circle-shaped portion in the dummy pattern is formed wider than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern. That is, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【００５３】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【００５４】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
課題を解決するため、上記構成の光ディスク用原盤にお
いて、上記ダミーパターンは、上記所定パターンの内周
側と外周側とに形成されていることを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the optical disk master of the present invention is such that, in the optical disk master having the above-mentioned structure, the dummy patterns are formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the predetermined pattern. Is characterized by.
【００５５】上記構成によれば、ダミーパターンは、所
定パターンの内周側と外周側とに形成されている。した
がって、所定パターンにおけるダミーパターン近傍の部
位、すなわち、所定パターンにおける内周部および外周
部と、所定パターンの中心部の部位とにおいて、パター
ンサイズを均一とすることができる。According to the above structure, the dummy pattern is formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the predetermined pattern. Therefore, it is possible to make the pattern size uniform in the portion of the predetermined pattern near the dummy pattern, that is, in the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the predetermined pattern and the central portion of the predetermined pattern.
【００５６】すなわち、図２０に示したような露光レー
ザの露光量の特性において、露光量が増加または減少す
る最内周付近または最外周付近における露光をダミーパ
ターンの形成に用い、露光量が均一となる中央付近にお
ける露光を所定パターンの形成に用いることができる。That is, in the characteristic of the exposure amount of the exposure laser as shown in FIG. 20, the exposure in the vicinity of the innermost periphery or the outermost periphery where the exposure amount increases or decreases is used for forming the dummy pattern, and the exposure amount is uniform. Exposure in the vicinity of the center can be used to form a predetermined pattern.
【００５７】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【００５８】また、本発明の光ディスク用スタンパは、
上記課題を解決するため、上記いずれかの構成の光ディ
スク用原盤を用いることを特徴としている。The optical disk stamper of the present invention comprises:
In order to solve the above problems, the optical disk master having any one of the above configurations is used.
【００５９】上記構成によれば、低コストにて簡易に作
製することでき、パターンサイズが均一化された光ディ
スク用原盤を用いている。According to the above construction, the optical disk master having a uniform pattern size, which can be easily manufactured at low cost, is used.
【００６０】それゆえ、再生信号のＣＮ比や、プリピッ
トのビットエラーレートが悪化することを防止できると
いう効果を奏する。Therefore, it is possible to prevent the CN ratio of the reproduction signal and the bit error rate of the prepit from being deteriorated.
【００６１】また、本発明の光ディスクは、上記課題を
解決するため、上記構成の光ディスク用スタンパを用い
ることを特徴としている。The optical disk of the present invention is characterized by using the optical disk stamper having the above-mentioned structure in order to solve the above-mentioned problems.
【００６２】上記構成によれば、低コストにて簡易に作
製することでき、パターンサイズが均一化された光ディ
スク用原盤を用いている。According to the above-mentioned structure, the master disc for an optical disk which can be easily manufactured at low cost and has a uniform pattern size is used.
【００６３】それゆえ、再生信号のＣＮ比や、プリピッ
トのビットエラーレートが悪化することを防止できると
いう効果を奏する。Therefore, it is possible to prevent the CN ratio of the reproduced signal and the bit error rate of the prepit from being deteriorated.
【００６４】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、上記課題を解決するため、上記ダミーパターン
が、光ディスク用原盤を回転させつつ露光位置を光ディ
スク用原盤の半径方向に移動させることにより形成され
ることを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the dummy pattern is formed by moving the exposure position in the radial direction of the optical disc master while rotating the optical disc master. It is characterized by being done.
【００６５】上記構成によれば、所定パターンを形成す
る方法と同様の方法にて、ダミーパターンを形成するこ
とができる。According to the above structure, the dummy pattern can be formed by the same method as the method of forming the predetermined pattern.
【００６６】それゆえ、より簡易な方法で、パターンサ
イズが均一化された光ディスク用原盤を提供することが
できるという効果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern sizes are made uniform by a simpler method.
【００６７】[0067]
【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について図
１ないし図１７に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。なお、以下の説明では、（１）光ディスク用原盤の
製造方法、（２）光ディスク用スタンパの製造方法、
（３）光ディスクの製造方法について説明した後、光デ
ィスクの具体的な構成例についていくつか例示する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 17. In the following description, (1) a method for manufacturing an optical disk master, (2) a method for manufacturing an optical disk stamper,
(3) After explaining the method for manufacturing an optical disk, some specific examples of the structure of the optical disk will be illustrated.
【００６８】（１）光ディスク用原盤の製造方法
先ず、本実施の形態における光ディスク用原盤を製造す
る方法について図１３を参照して説明する。(1) Manufacturing Method of Optical Disc Master The method of manufacturing the optical disc master in the present embodiment will be described with reference to FIG.
【００６９】直径が150mm、厚さが1.2mmの表面が平滑に
研磨された石英ガラスの光ディスク用原盤を超純水およ
びイソプロピルアルコールで超音波洗浄した後、イソプ
ロピルアルコール乾燥する(Ｓ１)。A quartz glass optical disk master having a diameter of 150 mm and a thickness of 1.2 mm and having a smooth surface is ultrasonically cleaned with ultrapure water and isopropyl alcohol, and then dried with isopropyl alcohol (S1).
【００７０】次に、反応性イオンエッチング装置のチャ
ンバー内に光ディスク用原盤を入れ、真空度2(10-3 Pa
まで排気した後、Ｏ2ガスを導入しアッシング処理を行
う(Ｓ２)。なお、ガス流量は1.69×10-1Pa・m3/s（100sc
cm）であり、ガス圧力は3.7Pa、ＲＦ電力は200W、自己
バイアス電圧は160V、アッシング時間は5分でアッシン
グ処理を行った。なお、sccmとは、Standard pressure
Cubic Centimeter per Minuteの略で、流量を表す単位
の１つである。Next, the optical disk master is placed in the chamber of the reactive ion etching apparatus, and the degree of vacuum is set to 2 (10 -3 Pa).
After exhausting to 0, O 2 gas is introduced and an ashing process is performed (S2). The gas flow rate is 1.69 × 10 -1 Pa ・ m 3 / s (100sc
The gas pressure was 3.7 Pa, the RF power was 200 W, the self-bias voltage was 160 V, and the ashing time was 5 minutes. In addition, sccm is Standard pressure
Abbreviation for Cubic Centimeter per Minute, which is one of the units that express the flow rate.
【００７１】次に、ヘキサメチルジシラザンを主成分と
した前処理剤をスピンコートし、次いで有機溶剤に溶か
されたポジ型フォトレジストをスピンコートする(Ｓ
３)。その後、110℃のクリーンオーブン内で30分間ベイ
ク処理を行い、フォトレジスト中の溶剤を乾燥除去する
(Ｓ４)。なお、スピンコートとは、基板上に原料溶液
（前処理剤やレジスト等のスピンコート材料）を滴下
し、基板を回転させることにより均一な液膜を形成する
ことをいう。Next, a pretreatment agent containing hexamethyldisilazane as a main component is spin-coated, and then a positive photoresist dissolved in an organic solvent is spin-coated (S
3). Then, bake in a clean oven at 110 ° C for 30 minutes to dry and remove the solvent in the photoresist.
(S4). Note that spin coating means forming a uniform liquid film by dropping a raw material solution (a spin coating material such as a pretreatment agent or a resist) on a substrate and rotating the substrate.
【００７２】なお、本実施の形態では、フォトレジスト
の膜厚は約70nmである。一方、一般的なフォトレジスト
の膜厚は30〜1000nmとされている。In this embodiment, the photoresist film thickness is about 70 nm. On the other hand, the film thickness of a general photoresist is set to 30 to 1000 nm.
【００７３】次に、波長351nmのＫｒレーザを搭載した
カッティングマシンで光ディスク用原盤の露光を行う
(Ｓ５)。露光工程においては、図１４に示すように、光
ディスク用原盤１上に塗布したフォトレジスト２上に、
露光用ビーム３を集光照射する。そして、露光用ビーム
３の集光位置４を光ディスク用原盤１の半径方向に移動
させながら、光ディスク用原盤１をスピンドル５により
回転駆動することにより、光ディスク用原盤１の中心か
らの距離が10.5mmとなる位置から、半径23.9mmとなる位
置まで露光した。Next, an optical disk master is exposed by a cutting machine equipped with a Kr laser having a wavelength of 351 nm.
(S5). In the exposure step, as shown in FIG. 14, on the photoresist 2 applied on the optical disc master 1,
The exposure beam 3 is focused and irradiated. Then, while the focusing position 4 of the exposure beam 3 is moved in the radial direction of the optical disc master 1, the optical disc master 1 is rotationally driven by the spindle 5, so that the distance from the center of the optical disc master 1 is 10.5 mm. The exposure was performed from the position to the position where the radius was 23.9 mm.
【００７４】なお、以下の説明では、Ｓ５の露光工程に
より露光されるパターン（露光パターン）において、特
に、案内溝と、アドレスピットとからなる螺旋状のパタ
ーンを所定パターンとし、所定パターンが形成される領
域を所定領域とする。In the following description, in the pattern (exposure pattern) exposed in the exposure step S5, a spiral pattern composed of guide grooves and address pits is used as the predetermined pattern, and the predetermined pattern is formed. The specified area is defined as the predetermined area.
【００７５】一方、所定領域以外の領域に対して行う露
光をダミー露光とし、ダミー露光により露光されるパタ
ーンをダミーパターンとする。ダミー露光およびダミー
パターンについての詳細は後述する。On the other hand, the exposure performed on the area other than the predetermined area is the dummy exposure, and the pattern exposed by the dummy exposure is the dummy pattern. Details of the dummy exposure and the dummy pattern will be described later.
【００７６】また、所定パターンにおける案内溝のピッ
チは800nmであり、現像後に幅300〜400nmの案内溝と、
長さ150〜1000nmであって幅50〜400nmのピットが螺旋状
に形成される。さらに、露光工程における光ディスク用
原盤１の回転数は450rpmとし、露光ビームのスポット径
は約400nmとする。Further, the pitch of the guide grooves in the predetermined pattern is 800 nm, and after development, the guide grooves having a width of 300 to 400 nm,
Pits having a length of 150 to 1000 nm and a width of 50 to 400 nm are spirally formed. Further, the rotation speed of the optical disc master 1 in the exposure step is 450 rpm, and the spot diameter of the exposure beam is about 400 nm.
【００７７】Ｓ５における露光工程の後、図１３に示す
ように、無機アルカリ現像液を超純水で希釈した現像液
で露光された光ディスク用原盤をスピン現像する(Ｓ
６)。Ｓ６の現像工程により、フォトレジストの露光さ
れた部位が溶解除去され、案内溝やアドレスピット等の
形状が凹部として現れる。これにより、所定パターンと
ダミーパターンとが形成される。なお、スピン現像と
は、基板を回転させながら現像液を滴下することで現像
を行うことをいう。After the exposure step in S5, as shown in FIG. 13, the optical disk master exposed by the developer obtained by diluting the inorganic alkaline developer with ultrapure water is spin-developed (S).
6). By the developing step of S6, the exposed parts of the photoresist are dissolved and removed, and the shapes of the guide grooves, address pits, etc. appear as recesses. As a result, the predetermined pattern and the dummy pattern are formed. The spin development means that development is performed by dropping a developing solution while rotating the substrate.
【００７８】その後、95℃のクリーンオーブン内で30分
間ベイク処理を行う(Ｓ７)。なお、本実施の形態におい
ては、後述するエッチング処理を行う。しかし、一般的
には、上記Ｓ１からＳ６までの工程により、光ディスク
用原盤を完成させる。After that, baking treatment is carried out in a clean oven at 95 ° C. for 30 minutes (S7). In addition, in the present embodiment, an etching process described later is performed. However, generally, the optical disk master is completed by the steps from S1 to S6.
【００７９】次に、反応性イオンエッチング装置のチャ
ンバー内に光ディスク用原盤を入れ、真空度が2(10-3Pa
となるまで排気した後、CF4ガスを導入し反応性イオン
エッチング処理を行う(Ｓ８)。Next, the master for an optical disk was placed in the chamber of the reactive ion etching apparatus, and the degree of vacuum was 2 (10 −3 Pa).
After evacuating to such a level, CF 4 gas is introduced to carry out reactive ion etching treatment (S8).
【００８０】なお、Ｓ８のエッチング処理におけるガス
流量は1.69×10-2Pa・m3/s（10sccm）であり、ガス圧力
は 0.3〜0.5Pa、ＲＦ電力は400〜1500Ｗ、自己バイアス
電圧は260〜600Ｖ、アッシング時間は1〜3分である。The gas flow rate in the etching process of S8 was 1.69 × 10 −2 Pa · m 3 / s (10 sccm), the gas pressure was 0.3 to 0.5 Pa, the RF power was 400 to 1500 W, and the self-bias voltage was 260. ~ 600V, ashing time is 1 to 3 minutes.
【００８１】その後、超高圧ＵＶ（Ultra Violet：紫外
線）照射装置にて光ディスク用原盤全体を露光した後、
無機アルカリ現像液に浸し、残留フォトレジストを剥離
する(Ｓ９)。After that, after exposing the whole optical disc master with an ultra high pressure UV (Ultra Violet) irradiation device,
The residual photoresist is removed by immersing it in an inorganic alkali developing solution (S9).
【００８２】次いで超純水とイソプロピルアルコールと
で超音波洗浄した後、イソプロピルアルコールで乾燥す
る(Ｓ１０)。なお、乾燥後に形成されている案内溝の深
さ、およびピットの深さは35〜45nmである。Then, after ultrasonic cleaning with ultrapure water and isopropyl alcohol, it is dried with isopropyl alcohol (S10). The depth of the guide groove and the depth of the pit formed after drying are 35 to 45 nm.
【００８３】上記のＳ１〜Ｓ１０を踏むことにより、光
ディスク用原盤を作製する。なお、図１５に、上記ステ
ップにより得られた光ディスク用原盤１を示す。A master for an optical disc is manufactured by stepping on the above S1 to S10. FIG. 15 shows the optical disc master 1 obtained by the above steps.
【００８４】（２）光ディスク用スタンパの製造方法
次に、本実施の形態における光ディスク用スタンパの製
造方法について説明する。(2) Method for Manufacturing Optical Disk Stamper Next, a method for manufacturing the optical disk stamper according to the present embodiment will be described.
【００８５】Ｓ１〜Ｓ１０により製造した光ディスク用
原盤１を、スパッタ装置に取り付け、光ディスク用原盤
１上にNi金属膜を100nmの厚さで形成した。次いで、金
属膜Niを電極として、Niメッキ浴中で電鋳を行い、厚さ
0.3mmのNi光ディスク用スタンパ６を得た。なお、図１
６に上記方法により製造された光ディスク用スタンパ６
を示す。The optical disk master 1 manufactured by S1 to S10 was attached to a sputtering apparatus, and a Ni metal film having a thickness of 100 nm was formed on the optical disk master 1. Then, using the metal film Ni as an electrode, electroforming is performed in a Ni plating bath to obtain a thickness
A 0.3 mm Ni optical disk stamper 6 was obtained. Note that FIG.
6 is a stamper 6 for an optical disk manufactured by the above method
Indicates.
【００８６】（３）光ディスクの製造方法
次に、本実施の形態における光ディスクの製造方法につ
いて説明する。(3) Method of Manufacturing Optical Disk Next, a method of manufacturing the optical disk in the present embodiment will be described.
【００８７】まず、上記（２）の方法で製造した光ディ
スク用スタンパ６を、射出成形を行うための射出成形機
の形状に合わせて、内径および外径の打ち抜きを行う。
その後、光ディスク用スタンパ６を射出成形機に取り付
けるとともに、ポリカーボネート等の樹脂を溶融して成
形金型内に流し込み、図１７に示すように、厚さ０．６
ｍｍのディスク状基板７を成形した。First, the inner diameter and the outer diameter of the optical disk stamper 6 manufactured by the above method (2) are punched out in accordance with the shape of the injection molding machine for injection molding.
Thereafter, the optical disk stamper 6 is attached to the injection molding machine, and a resin such as polycarbonate is melted and poured into a molding die to have a thickness of 0.6.
A disk-shaped substrate 7 of mm was formed.
【００８８】その後、スパッタ装置を用いて、誘電体膜
８と、金属磁性膜９と、反射膜１０とを成膜し、さらに
これらの膜を保護するためのバックコート樹脂１１を塗
布することにより、光ディスクを完成させた。After that, a dielectric film 8, a metal magnetic film 9 and a reflective film 10 are formed by using a sputtering device, and a back coat resin 11 for protecting these films is applied. , Completed the optical disc.
【００８９】以上のように、上記した（１）〜（３）の
製造方法により、本実施の形態における光ディスク用原
盤、光ディスク用スタンパ、および光ディスクが製造さ
れる。As described above, the optical disk master, the optical disk stamper, and the optical disk according to the present embodiment are manufactured by the manufacturing methods (1) to (3) described above.
【００９０】次に、上述の方法で作製された本実施の形
態における光ディスクの具体的な構成例について、いく
つか例を挙げて説明する。なお、以下に説明する光ディ
スクの構成例は、光ディスク用スタンパ、あるいは光デ
ィスク用原盤の構成例としてとらえることも可能であ
る。Next, some specific examples of the structure of the optical disc according to the present embodiment manufactured by the above method will be described. The configuration example of the optical disc described below can also be regarded as a configuration example of the stamper for the optical disc or the master for the optical disc.
【００９１】図１（ａ）に示すように、本実施の形態に
おける光ディスクの一構成例においては、光ディスク用
原盤１２の表面に、所定パターン１３と、ダミーパター
ン１４とが形成されている。As shown in FIG. 1A, in one configuration example of the optical disc in the present embodiment, a predetermined pattern 13 and a dummy pattern 14 are formed on the surface of the optical disc master 12.
【００９２】ダミーパターン１４は、所定パターン１３
と同心円状に形成されるものである。また、ダミーパタ
ーン１４は、上記（１）の光ディスク用原盤の製造方法
におけるＳ５のカッティングマシンを用いた露光の際
に、露光用光ビームの集光位置を光ディスク用基板の中
心から10.48mmの位置にて固定するとともに、光ディス
ク用原盤を３分間回転駆動することにより形成されたも
のである。The dummy pattern 14 is the predetermined pattern 13
And is formed concentrically with. In addition, the dummy pattern 14 has a focus position of the exposure light beam at the position of 10.48 mm from the center of the optical disc substrate during the exposure using the cutting machine of S5 in the method of manufacturing an optical disc master described in (1) above. The optical disc master is formed by rotating the master for optical discs for 3 minutes.
【００９３】さらに、ダミーパターン１４は、図１
（ｂ）に示すように、所定パターン１３の内側において
幅約20μｍの溝として形成されている。Further, the dummy pattern 14 has the same structure as that shown in FIG.
As shown in (b), it is formed as a groove having a width of about 20 μm inside the predetermined pattern 13.
【００９４】また、図２（ａ）に示すように、本実施の
形態における光ディスクの他の構成例においては、図１
（ａ）に示した構成例と同様に、光ディスク用原盤１２
の表面に、所定パターン１３と、ダミーパターン１４と
が形成されている。Further, as shown in FIG. 2A, in another configuration example of the optical disc according to the present embodiment, FIG.
Similarly to the configuration example shown in (a), the optical disk master 12
A predetermined pattern 13 and a dummy pattern 14 are formed on the surface of the.
【００９５】本構成例におけるダミーパターン１４は、
所定パターン１３の内側および外側において同心円状に
形成されるものである。また、本構成例のダミーパター
ン１４は、以下のように形成される。The dummy pattern 14 in this configuration example is
It is formed concentrically inside and outside the predetermined pattern 13. Further, the dummy pattern 14 of this configuration example is formed as follows.
【００９６】すなわち、上記（１）の光ディスク用原盤
の製造方法におけるＳ５のカッティングマシンを用いた
露光の際に、露光用光ビームの集光位置を光ディスク用
基板の中心から10.48mmの位置にて固定するとともに、
光ディスク用原盤を３分間回転駆動した。さらにその
後、露光用光ビームの集光位置を光ディスク用原盤の中
心から23.92mmの位置にて固定した状態で光ディスク用
原盤を３分間回転駆動することにより、同心円状にダミ
ーパターン１４の露光を行った。That is, during the exposure using the cutting machine of S5 in the above-mentioned method (1) of manufacturing an optical disk master, the exposure light beam is focused at a position of 10.48 mm from the center of the optical disk substrate. While fixing
The master for optical disks was rotationally driven for 3 minutes. After that, the dummy pattern 14 is exposed concentrically by rotating the optical disc master for 3 minutes while fixing the focus position of the exposure light beam at a position 23.92 mm from the center of the optical disc master. It was
【００９７】以上のように形成することにより、本構成
例のダミーパターン１４は、図２（ｂ）に示すように、
所定パターン１３の内側および外側に、幅約20μｍの溝
として形成されている。By forming as described above, the dummy pattern 14 of this configuration example has a structure as shown in FIG.
A groove having a width of about 20 μm is formed inside and outside the predetermined pattern 13.
【００９８】さらに、図３（ａ）に示すように、本実施
の形態における光ディスクの他の構成例では、光ディス
ク用原盤１２の表面において、所定パターン１３の内側
に、複数本のダミーパターン１４…が同心円状に形成さ
れている。本構成例におけるダミーパターン１４…は、
以下のように形成される。Further, as shown in FIG. 3A, in another configuration example of the optical disc in the present embodiment, a plurality of dummy patterns 14 ... Are provided inside the predetermined pattern 13 on the surface of the optical disc master 12. Are formed concentrically. In this configuration example, the dummy patterns 14 ...
It is formed as follows.
【００９９】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が10.00mmとなる位置から10.48mmとな
る位置まで0.01mmずつずらした位置にて固定するととも
に、それぞれの固定位置において光ディスク用原盤を10
秒間回転駆動することにより、複数のダミーパターン１
４…の露光を行った。したがって、ダミーパターン１４
は、図３（ｂ）に示すように、所定パターン１３の内側
において、溝ピッチが10μｍであり、幅500〜1000ｎｍ
の溝として複数本の同心円状に形成されている。That is, at the time of exposure using a cutting machine in the method of manufacturing an optical disc master in the above (1), the focus position of the exposure light beam is 10.00 mm from the center of the optical disc master. From the position of 10.48 mm to the position of 0.01 mm, and fix the optical disk master at each fixed position by 0.01 mm.
By rotating and driving for a second, a plurality of dummy patterns 1
4 ... Exposure was performed. Therefore, the dummy pattern 14
As shown in FIG. 3B, the groove pitch is 10 μm and the width is 500 to 1000 nm inside the predetermined pattern 13.
The grooves are formed in a plurality of concentric circles.
【０１００】さらに、図４（ａ）に示すように、本実施
の形態における光ディスクの他の構成例では、光ディス
ク用原盤１２の表面において、所定パターン１３と、ダ
ミーパターン１４とが同心円状に形成されている。本構
成例におけるダミーパターン１４…は、以下のように形
成される。Further, as shown in FIG. 4A, in another example of the structure of the optical disk according to the present embodiment, the predetermined pattern 13 and the dummy pattern 14 are concentrically formed on the surface of the optical disk master 12. Has been done. The dummy patterns 14 ... In this configuration example are formed as follows.
【０１０１】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が10.2mmとなる位置から10.48mmとな
る位置まで、光ディスク用原盤の半径方向に移動させな
がら、光ディスク用原盤を回転駆動することにより、ダ
ミーパターン１４の露光を行う。That is, at the time of exposure using a cutting machine in the method of manufacturing an optical disk master in (1) above, the focus position of the exposure light beam is set to 10.2 mm from the center of the optical disk master. The dummy pattern 14 is exposed by rotationally driving the optical disc master while moving the optical disc master from the above position to the position of 10.48 mm in the radial direction.
【０１０２】上記の工程により、ダミーパターン１４
は、図４（ｂ）に示すように、所定パターン１３の内側
において幅約300μｍの溝として形成される。なお、本
構成例において、ダミーパターン１４の幅は、所定パタ
ーン１３における案内溝およびピットの幅よりも大きく
形成されている。Through the above steps, the dummy pattern 14 is formed.
Is formed as a groove having a width of about 300 μm inside the predetermined pattern 13, as shown in FIG. In this configuration example, the width of the dummy pattern 14 is formed larger than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern 13.
【０１０３】このように、露光用ビームの集光位置を光
ディスク用原盤の半径方向に移動させながらダミー露光
を行うことで、ダミーパターン１４の溝幅が広がる。し
たがって、所定パターン１３における総露光量の分布
が、ダミーパターン１４近傍と中心部とにおいてより等
しくなり、ダミーパターン１４近傍と中心部におけるパ
ターンサイズをより均一化することが可能となる。As described above, by performing the dummy exposure while moving the converging position of the exposure beam in the radial direction of the optical disc master, the groove width of the dummy pattern 14 is expanded. Therefore, the distribution of the total exposure amount in the predetermined pattern 13 becomes more equal in the vicinity of the dummy pattern 14 and in the central portion, and the pattern size in the vicinity of the dummy pattern 14 and the central portion can be made more uniform.
【０１０４】また、図５（ａ）に示すように、本実施の
形態における光ディスクの他の構成例では、光ディスク
用原盤１２の表面における所定パターン１３の内側の領
域に、所定パターン１３と同心円状に形成される部位
と、該同心円状に形成される部位の外側において螺旋状
に形成される部位とからなるダミーパターン１４が形成
されている。本構成例におけるダミーパターン１４は、
以下のように形成される。Further, as shown in FIG. 5A, in another configuration example of the optical disc according to the present embodiment, an area inside the predetermined pattern 13 on the surface of the optical disc master 12 is concentric with the predetermined pattern 13. The dummy pattern 14 is formed of a portion formed in the above and a portion formed in a spiral shape outside the concentric portion. The dummy pattern 14 in this configuration example is
It is formed as follows.
【０１０５】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が6.10mmとなる位置にて固定した状態
で、光ディスク用原盤を10秒間回転駆動する。これによ
り、所定パターン１３と同心円状に、ダミーパターン１
４の露光が行われる。That is, at the time of exposure using the cutting machine in the method for manufacturing an optical disc master in the above (1), the focus position of the exposure light beam is set to 6.10 mm from the center of the optical disc master. The optical disc master is rotationally driven for 10 seconds while being fixed at the position. Thereby, the dummy pattern 1 is formed concentrically with the predetermined pattern 13.
4 exposures are performed.
【０１０６】その後、露光用光ビームの集光位置を、光
ディスク用原盤の中心との距離が6.10mmとなる位置か
ら、光ディスク用原盤の中心との距離が10.48mmとなる
位置まで光ディスク用原盤の半径方向に移動させなが
ら、光ディスク用原盤を回転駆動することにより、螺旋
状にダミーパターン１４の露光を行う。Then, the focus position of the exposure light beam is changed from the position where the distance from the center of the optical disc master is 6.10 mm to the position where the distance from the center of the optical disc master is 10.48 mm to the optical disc master. The dummy pattern 14 is spirally exposed by rotationally driving the optical disk master while moving it in the radial direction.
【０１０７】上記の工程により、ダミーパターン１４
は、図５（ａ）および図５（ｂ）に示すように、所定パ
ターン１３の内側において、幅が約500〜1000nmである
１本の円形溝の外側に、溝ピッチが約800nmであり幅が
約300〜約400nmである螺旋状の溝が形成された形状とな
る。Through the above steps, the dummy pattern 14 is formed.
As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), inside the predetermined pattern 13, outside the one circular groove having a width of about 500 to 1000 nm, the groove pitch is about 800 nm and the width is Is about 300 to about 400 nm, and a spiral groove is formed.
【０１０８】また、図６（ａ）に示すように、本実施の
形態における光ディスクの他の構成例では、図５（ａ）
に示した構成例と同様に、光ディスク用原盤１２の表面
における所定パターン１３の内側の領域に、所定パター
ン１３と同心円状に形成される部位と、該同心円状に形
成される部位の内側において螺旋状に形成される部位と
からなるダミーパターン１４が形成されている。本構成
例におけるダミーパターン１４は、以下のように形成さ
れる。Further, as shown in FIG. 6A, in another configuration example of the optical disc according to the present embodiment, FIG.
Similar to the configuration example shown in FIG. 5, in the area inside the predetermined pattern 13 on the surface of the optical disc master 12, a portion formed concentrically with the predetermined pattern 13 and a spiral inside the portion formed in the concentric circle are provided. A dummy pattern 14 is formed, which has a portion formed in a shape of a circle. The dummy pattern 14 in this configuration example is formed as follows.
【０１０９】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が6.10mmとなる位置から、光ディスク
用原盤の中心との距離が10.48mmとなる位置まで光ディ
スク用原盤の半径方向に移動させながら、光ディスク用
原盤を回転駆動することにより、螺旋状にダミーパター
ン１４の露光を行う。That is, at the time of exposure using a cutting machine in the method of manufacturing an optical disk master in (1) above, the focus position of the exposure light beam is set to 6.10 mm from the center of the optical disk master. The dummy pattern 14 is spirally exposed by rotationally driving the optical disc master while moving in a radial direction of the optical disc master to a position where the distance from the center position to the center of the optical disc master is 10.48 mm. .
【０１１０】その後、露光用光ビームの集光位置を、光
ディスク用原盤の中心との距離が10.48mmとなる位置に
て固定した状態で、光ディスク用原盤基板を10秒間回転
駆動することにより、所定パターン１３と同心円状にダ
ミーパターン１４の露光を行う。After that, the optical disc master substrate was rotated for 10 seconds while the focusing position of the exposure light beam was fixed at a position where the distance from the center of the optical disc master was 10.48 mm, and the predetermined position was obtained. The dummy pattern 14 is exposed concentrically with the pattern 13.
【０１１１】上記の工程により、ダミーパターン１４
は、図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、所定パ
ターン１３の内側において、幅が約500〜1000nmである
１本の円形溝の内側に、溝ピッチが約800nmであり幅が
約300〜約400nmである螺旋状の溝が形成された形状とな
る。Through the above steps, the dummy pattern 14 is formed.
As shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b), inside the predetermined pattern 13, inside a single circular groove having a width of about 500 to 1000 nm, the groove pitch is about 800 nm and the width is Is about 300 to about 400 nm, and a spiral groove is formed.
【０１１２】さらに、図７（ａ）に示すように、本実施
の形態における光ディスクのほかの構成例では、光ディ
スク用原盤１２の表面における所定パターン１３の内側
および外側の領域に、所定パターン１３と同心円状に形
成される部位と、該同心円状に形成される部位の外側に
おいて螺旋状に形成される部位とからなるダミーパター
ン１４が形成されている。本構成例におけるダミーパタ
ーン１４は以下のように形成される。Further, as shown in FIG. 7A, in another configuration example of the optical disk according to the present embodiment, the predetermined pattern 13 is formed in the area inside and outside the predetermined pattern 13 on the surface of the optical disk master 12. A dummy pattern 14 is formed that includes a concentric portion and a spiral portion outside the concentric portion. The dummy pattern 14 in this configuration example is formed as follows.
【０１１３】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が6.10mmとなる位置にて固定した状態
で、光ディスク用原盤を10秒間回転駆動する。これによ
り、所定パターン１３の内側において、所定パターン１
３と同心円状に、ダミーパターン１４の露光が行われ
る。That is, at the time of exposure using the cutting machine in the method for manufacturing an optical disk master in the above (1), the focus position of the exposure light beam is set to 6.10 mm from the center of the optical disk master. The optical disc master is rotationally driven for 10 seconds while being fixed at the position. Thereby, inside the predetermined pattern 13, the predetermined pattern 1
Exposure of the dummy pattern 14 is performed concentrically with the dummy pattern 14.
【０１１４】その後、露光用光ビームの集光位置を光デ
ィスク用原盤の中心との距離が6.10mmとなる位置から、
光ディスク用原盤の中心との距離が10.48mmとなる位置
まで光ディスク用原盤の半径方向に移動させながら、光
ディスク用原盤を回転駆動することにより、螺旋状にダ
ミーパターン１４の露光を行う。Then, from the position where the distance from the center of the optical disk master is 6.10 mm, the focus position of the exposure light beam is changed to
The dummy pattern 14 is spirally exposed by rotationally driving the optical disc master while moving the optical disc master to a position where the distance from the center of the optical disc master is 10.48 mm.
【０１１５】さらに、露光用光ビームの集光位置を、光
ディスク用原盤の中心との距離が23.92mmとなる位置に
て固定した状態で、光ディスク用原盤を10秒間回転駆動
する。これにより、所定パターン１３の外側において、
所定パターン１３と同心円状に、ダミーパターン１４の
露光が行われる。Further, with the focusing position of the exposure light beam fixed at a position where the distance from the center of the optical disc master is 23.92 mm, the optical disc master is rotationally driven for 10 seconds. As a result, outside the predetermined pattern 13,
The dummy pattern 14 is exposed concentrically with the predetermined pattern 13.
【０１１６】その後、露光用光ビームの集光位置を光デ
ィスク用原盤の中心との距離が23.92mmとなる位置か
ら、光ディスク用原盤の中心との距離が29.00mmとなる
位置まで光ディスク用原盤の半径方向に移動させなが
ら、光ディスク用原盤を回転駆動することにより、螺旋
状にダミーパターン１４の露光を行う。After that, the radius of the optical disc master is changed from the position where the distance from the center of the optical disc master is 23.92 mm to the position where the distance from the center of the optical disc master is 29.00 mm. The dummy pattern 14 is spirally exposed by rotationally driving the optical disk master while moving it in the direction.
【０１１７】上記の工程により、ダミーパターン１４
は、図７（ａ）および図７（ｂ）に示すように、所定パ
ターン１３の内側においては、幅が約500〜1000nmであ
る１本の円形溝の外側に、溝ピッチが約800nmであり幅
が約300〜約400nmである螺旋状の溝が形成された形状と
なる。一方、所定パターン１３の外側においても、幅が
約500〜1000nmである１本の円形溝の外側に、溝ピッチ
が約800nmであり幅が約300〜約400nmである螺旋状の溝
が形成された形状となる。Through the above steps, the dummy pattern 14 is formed.
As shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), the inside of the predetermined pattern 13 has a groove pitch of about 800 nm on the outside of one circular groove having a width of about 500 to 1000 nm. A spiral groove having a width of about 300 to about 400 nm is formed. On the other hand, also on the outside of the predetermined pattern 13, a spiral groove having a groove pitch of about 800 nm and a width of about 300 to about 400 nm is formed on the outside of one circular groove having a width of about 500 to 1000 nm. It will have a different shape.
【０１１８】また、図８（ａ）に示すように、本実施の
形態における光ディスクの他の構成例では、光ディスク
用原盤１２の表面における所定パターン１３の内側の領
域に、所定パターン１３と同心円状に形成される２つの
部位と、該同心円状に形成される２つの部位の間におい
て螺旋状に形成される部位とからなるダミーパターン１
４が形成されている。本構成例におけるダミーパターン
１４は、以下のように形成される。Further, as shown in FIG. 8A, in another configuration example of the optical disc according to the present embodiment, an area inside the predetermined pattern 13 on the surface of the optical disc master 12 is concentric with the predetermined pattern 13. Pattern 1 composed of two parts formed in a circle and a part formed in a spiral shape between the two concentric parts
4 are formed. The dummy pattern 14 in this configuration example is formed as follows.
【０１１９】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が6.10mmとなる位置にて固定した状態
で、光ディスク用原盤を10秒間回転駆動する。これによ
り、所定パターン１３と同心円状に、ダミーパターン１
４の露光が行われる。That is, at the time of exposure using the cutting machine in the method of manufacturing an optical disk master in the above (1), the focus position of the exposure light beam is set to 6.10 mm from the center of the optical disk master. The optical disc master is rotationally driven for 10 seconds while being fixed at the position. Thereby, the dummy pattern 1 is formed concentrically with the predetermined pattern 13.
4 exposures are performed.
【０１２０】その後、露光用光ビームの集光位置を光デ
ィスク用原盤の中心との距離が6.10mmとなる位置から、
光ディスク用原盤の中心との距離が10.48mmとなる位置
まで光ディスク用原盤の半径方向に移動させながら、光
ディスク用原盤を回転駆動することにより、螺旋状にダ
ミーパターン１４の露光を行う。Then, from the position where the distance from the center of the optical disk master is 6.10 mm, the focus position of the exposure light beam is changed to
The dummy pattern 14 is spirally exposed by rotationally driving the optical disc master while moving the optical disc master to a position where the distance from the center of the optical disc master is 10.48 mm.
【０１２１】さらに、露光用光ビームの集光位置を、光
ディスク用原盤の中心との距離が10.48mmとなる位置に
て固定した状態で、光ディスク用原盤を10秒間回転駆動
する。Further, with the focusing position of the exposure light beam fixed at a position where the distance from the center of the optical disc master is 10.48 mm, the optical disc master is rotationally driven for 10 seconds.
【０１２２】上記の工程により、ダミーパターン１４
は、図８（ａ）および図８（ｂ）に示すように、所定パ
ターン１３の内側において、幅が約500〜1000nmである
２本の円形溝の間に、溝ピッチが約800nmであり幅が約3
00〜約400nmである螺旋状の溝が形成された形状とな
る。Through the above steps, the dummy pattern 14 is formed.
8A and 8B, inside the predetermined pattern 13, between two circular grooves having a width of about 500 to 1000 nm, a groove pitch of about 800 nm and a width of Is about 3
The shape is such that a spiral groove having a diameter of 00 to about 400 nm is formed.
【０１２３】さらに、図９（ａ）に示すように、本実施
の形態における光ディスクの他の構成例では、光ディス
ク用原盤１２の表面における所定パターン１３の内側の
領域に、所定パターン１３と同心円状に形成される部位
と、該同心円状に形成される部位の外側において螺旋状
に形成される部位とからなるダミーパターン１４が形成
されている。本構成例におけるダミーパターン１４は、
以下のように形成される。Further, as shown in FIG. 9A, in another example of the structure of the optical disk according to the present embodiment, the area inside the predetermined pattern 13 on the surface of the optical disk master 12 is concentric with the predetermined pattern 13. The dummy pattern 14 is formed of a portion formed in the above and a portion formed in a spiral shape outside the concentric portion. The dummy pattern 14 in this configuration example is
It is formed as follows.
【０１２４】すなわち、上記（１）での光ディスク用原
盤の製造方法におけるカッティングマシンを用いた露光
の際に、露光用光ビームの集光位置を、光ディスク用原
盤の中心との距離が6.10mmとなる位置から、光ディスク
用原盤の中心との距離が6.30mmとなる位置まで、光ディ
スク用原盤の半径方向に移動させながら、光ディスク用
原盤を回転駆動することにより、所定パターン１３と同
心円状にダミーパターン１４の露光を行う。That is, at the time of exposure using a cutting machine in the method of manufacturing an optical disk master in (1) above, the focus position of the exposure light beam is set to 6.10 mm from the center of the optical disk master. From the above position to a position where the distance from the center of the optical disc master is 6.30 mm, the dummy disc is concentrically formed with the predetermined pattern 13 by rotationally driving the optical disc master while moving in the radial direction of the optical disc master. 14 exposure is performed.
【０１２５】その後、露光用光ビームの集光位置を、光
ディスク用原盤の中心との距離が6.30mmとなる位置か
ら、光ディスク用原盤の中心との距離が10.48mmとなる
位置まで、光ディスク用原盤の半径方向に移動させなが
ら、光ディスク用原盤を回転駆動することにより、螺旋
状にダミーパターン１４の露光を行う。After that, the focusing position of the exposure light beam is changed from the position where the distance from the center of the optical disc master is 6.30 mm to the position where the distance from the center of the optical disc master is 10.48 mm to the optical disc master. The dummy pattern 14 is spirally exposed by rotationally driving the optical disk master while moving the dummy pattern 14 in the radial direction.
【０１２６】上記の工程により、ダミーパターン１４
は、図９（ａ）および図９（ｂ）に示すように、所定パ
ターン１３の内側において、幅が約200mmである１本の
円形溝の外側に、溝ピッチが約800nmであり幅が約300〜
約400nmである螺旋状の溝が形成された形状となる。Through the above steps, the dummy pattern 14 is formed.
As shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b), the inside of the predetermined pattern 13 has a groove pitch of about 800 nm and a width of about 800 nm outside a single circular groove having a width of about 200 mm. 300 ~
The shape is such that a spiral groove having a length of about 400 nm is formed.
【０１２７】ここで、図２に示したような構成例に係る
光ディスクと、図７に示したような構成例に係る光ディ
スクと、ダミーパターンが形成されていない光ディスク
との性質を以下のように比較した。なお、ダミーパター
ンが形成されていない光ディスクとして、図１０（ａ）
および図１０（ｂ）に示すようなものを用いた。Here, the characteristics of the optical disc having the configuration example shown in FIG. 2, the optical disc having the configuration example shown in FIG. 7, and the optical disc having no dummy pattern formed are as follows. Compared. In addition, as an optical disc in which no dummy pattern is formed, FIG.
And what was shown in FIG.10 (b) was used.
【０１２８】すなわち、ベイク処理後の光ディスク用原
盤、すなわち反応性イオンエッチング処理前の光ディス
ク用原盤について、所定領域（ディスク中心からの距離
が10.5mm〜23.9mmまでの位置）における案内溝の幅、お
よびピット長を原子間力顕微鏡(AFM：Atomic Force Mic
roscope)にて測定した。その結果をそれぞれ図１１と図
１２とに示す。That is, with respect to the optical disk master after the baking treatment, that is, the optical disk master before the reactive ion etching treatment, the width of the guide groove in the predetermined region (the distance from the disk center is 10.5 mm to 23.9 mm), And pit length are determined by AFM (Atomic Force Mic).
roscope). The results are shown in FIGS. 11 and 12, respectively.
【０１２９】なお、図１１および図１２においては、ダ
ミーパターンが形成されていない光ディスクを作製する
ための光ディスク用原盤について測定した結果を図１１
（ａ）および図１２（ａ）、図２に示したような光ディ
スクを作製するための光ディスク用原盤について測定し
た結果を図１１（ｂ）および図１２（ｂ）、図７に示し
たような光ディスクを作製するための光ディスク用原盤
について測定した結果を図１１（ｃ）および図１２
（ｃ）して示す。11 and 12, the measurement results of the optical disc master for producing an optical disc on which no dummy pattern is formed are shown in FIG.
(A), FIG. 12 (a), and FIG. 7 show the measurement results of an optical disc master for producing the optical disc as shown in FIG. 11 (b), FIG. 12 (b), and FIG. FIG. 11C and FIG. 12 show the measurement results of the optical disc master for producing the optical disc.
(C) shows.
【０１３０】図１１（ａ）および図１２（ａ）に示すよ
うに、ダミーパターン１４のない光ディスク用原盤にお
ける案内溝の幅およびピット長は、所定領域の中心付近
（中心からの距離が、15mm〜20mmとなる領域）ではそれ
ぞれ約300nmおよび約400nmとして、ほぼ一定となってい
る。As shown in FIGS. 11 (a) and 12 (a), the width and pit length of the guide groove in the optical disk master without the dummy pattern 14 are near the center of the predetermined area (the distance from the center is 15 mm. In the region of ~ 20 mm), they are about 300 nm and about 400 nm, respectively, and are almost constant.
【０１３１】しかし、所定領域の端部における寸法は、
所定領域の中心における寸法よりそれぞれ小さな値にな
っている。すなわち、図１１（ａ）および図１２（ａ）
に示すように、光ディスク用原盤の内周部における案内
溝の幅およびピット長はそれぞれ0nmおよび約350nmであ
って、外周部における案内溝の幅およびピット長はそれ
ぞれ約250nmおよび約350nmである。However, the dimension at the end of the predetermined area is
The values are smaller than the size at the center of the predetermined area. That is, FIG. 11A and FIG. 12A
As shown in, the width and the pit length of the guide groove in the inner peripheral portion of the optical disk master are 0 nm and about 350 nm, respectively, and the width and the pit length of the guide groove in the outer peripheral portion are about 250 nm and about 350 nm, respectively.
【０１３２】このように、ダミーパターン１４のない光
ディスク用原盤については、案内溝の幅の寸法が、約0n
mから約300nmまでの範囲で変動する。また、ピット長
は、約350nmから約400nmまでの範囲で変動するという結
果が得られた。As described above, with respect to the optical disk master having no dummy pattern 14, the width of the guide groove is about 0n.
It varies from m to about 300 nm. It was also obtained that the pit length fluctuates in the range of about 350 nm to about 400 nm.
【０１３３】一方、同心円状のダミーパターン１４を所
定パターン１３の内側および外側に形成した光ディスク
用原盤については、図１１（ｂ）に示すように、案内溝
の幅は約300ｎｍで略均一に形成されていることがわか
る。また、図１２（ｂ）に示すように、ピット長も約40
0nmで略均一に形成されていることがわかる。On the other hand, with respect to the optical disc master in which the concentric circular dummy patterns 14 are formed inside and outside the predetermined pattern 13, as shown in FIG. 11 (b), the width of the guide groove is approximately 300 nm and formed substantially uniformly. You can see that it is done. Also, as shown in FIG. 12 (b), the pit length is about 40.
It can be seen that the film is formed substantially uniformly at 0 nm.
【０１３４】すなわち、所定パターン１３の範囲外に同
心円状のダミーパターン１４を形成することにより、所
定パターン１３におけるダミーパターン１４近傍の部位
の総露光量と、所定パターン１３の中心部における総露
光量とがほぼ等しくなっていることがわかる。したがっ
て、所定パターン１３におけるダミーパターン１４の近
傍の部位と、所定パターン１３の中心部におけるパター
ンサイズが均一化された光ディスクを実現することがで
きる。That is, by forming the concentric dummy patterns 14 outside the range of the predetermined pattern 13, the total exposure amount of the portion of the predetermined pattern 13 near the dummy pattern 14 and the total exposure amount of the center portion of the predetermined pattern 13 are formed. You can see that and are almost equal. Therefore, it is possible to realize an optical disk in which the pattern size in the portion of the predetermined pattern 13 in the vicinity of the dummy pattern 14 and the center portion of the predetermined pattern 13 are made uniform.
【０１３５】また、ダミーパターン１４を所定パターン
と同心円状に形成する場合、ダミーパターン１４は、20
μmという非常に狭い幅にて形成される。したがって、
比較的狭いスペースでもダミーパターン１４を形成する
ことができ、パターンサイズの均一化を実現できる。When the dummy pattern 14 is formed concentrically with the predetermined pattern, the dummy pattern 14 has 20
It is formed with a very narrow width of μm. Therefore,
The dummy pattern 14 can be formed even in a relatively narrow space, and the pattern size can be made uniform.
【０１３６】一方、同心円状および螺旋状のダミーパタ
ーン１４を、所定パターン１３の内側および外側に形成
した光ディスク用原盤については、図１１（ｃ）に示す
ように、案内溝の幅は約360ｎｍで略均一に形成されて
いることがわかる。また、図１２（ｃ）に示すように、
ピット長も約400nmで略均一に形成されていることがわ
かる。On the other hand, with respect to the optical disc master in which the concentric circular and spiral dummy patterns 14 are formed inside and outside the predetermined pattern 13, as shown in FIG. 11C, the width of the guide groove is about 360 nm. It can be seen that they are formed substantially uniformly. In addition, as shown in FIG.
It can be seen that the pit length is about 400 nm and is formed substantially uniformly.
【０１３７】さらに、図１１（ｂ）および図１１（ｃ）
を比較してわかるように、同心円状および螺旋状にダミ
ーパターン１４を形成した光ディスク用原盤の方が、同
心円状のみにダミーパターン１４を形成した光ディスク
用原盤よりも、案内溝の幅がより均一に形成されてい
る。同様に、図１２（ｂ）および図１２（ｃ）を比較し
てわかるように、同心円状および螺旋状にダミーパター
ン１４を形成した光ディスク用原盤の方が、同心円状の
みにダミーパターン１４を形成した光ディスク用原盤よ
りも、ピット長がより均一に形成されている。Further, FIG. 11 (b) and FIG. 11 (c).
As can be seen by comparing, the width of the guide groove is more uniform in the optical disk master in which the dummy patterns 14 are formed in the concentric circle shape and the spiral shape than in the optical disk master in which the dummy patterns 14 are formed only in the concentric circle shape. Is formed in. Similarly, as can be seen by comparing FIGS. 12B and 12C, the optical disk master having the dummy patterns 14 formed concentrically and spirally forms the dummy patterns 14 only in the concentric circles. The pit length is more uniform than that of the optical disk master.
【０１３８】すなわち、同心円状および螺旋状のダミー
パターン１４を形成すれば、図２に示したような同心円
状のダミーパターン１４を１本のみ形成する場合より
も、より広域にダミーパターン１４が形成される。これ
により、所定パターン１３におけるダミーパターン１４
近傍の部位の総露光量と、所定パターン１３の中心部に
おける総露光量とがより等しくなっているということが
わかる。That is, when the concentric circular and spiral dummy patterns 14 are formed, the dummy patterns 14 are formed in a wider area than in the case where only one concentric circular dummy pattern 14 as shown in FIG. 2 is formed. To be done. Thereby, the dummy pattern 14 in the predetermined pattern 13
It can be seen that the total exposure amount in the vicinity portion and the total exposure amount in the central portion of the predetermined pattern 13 are more equal.
【０１３９】したがって、ダミーパターン１４をより広
域に形成すれば、所定パターン１３におけるパターンサ
イズをより均一化することができるということができ
る。Therefore, it can be said that if the dummy pattern 14 is formed in a wider area, the pattern size of the predetermined pattern 13 can be made more uniform.
【０１４０】上記図１〜図９を用いて説明したように、
本実施の形態の光ディスク用原盤１２は、所定パターン
１３が環状に形成されている光ディスク用原盤におい
て、所定パターン１３が形成されている領域以外を、所
定パターン１３と同心円状に露光することにより形成さ
れるダミーパターン１４を備えているものである。As described with reference to FIGS. 1 to 9 above,
The optical disk master 12 of the present embodiment is formed by exposing the optical disk master on which the predetermined pattern 13 is formed in an annular shape, except the area where the predetermined pattern 13 is formed, in a concentric pattern with the predetermined pattern 13. The dummy pattern 14 is provided.
【０１４１】本発明者らは、ダミーパターン１４が所定
パターン１３と同心円状に形成されている光ディスク用
原盤と、ダミーパターンが形成されていない光ディスク
用原盤とについて比較実験を行った。その鋭意研究の結
果、所定パターンにおけるダミーパターン近傍の部位
と、所定パターンの中心部の部位とにおいて、パターン
サイズが均一となることがわかった。The present inventors conducted a comparative experiment on an optical disk master in which the dummy pattern 14 was formed concentrically with the predetermined pattern 13 and an optical disk master in which the dummy pattern was not formed. As a result of the earnest research, it has been found that the pattern size is uniform in the part of the predetermined pattern near the dummy pattern and the part of the center of the predetermined pattern.
【０１４２】また、光ディスク用原盤１２を回転させな
がら露光を行う所定パターンの露光工程と同様の露光工
程により、ダミーパターン１４を所定パターン１３と同
心円状に形成することができる。すなわち、ダミーパタ
ーン１４を同心円状に形成することは、光ディスク用原
盤の裏面に反射防止膜等を設ける場合や、光ディスク用
原盤に着色剤を含む材料を用いることに比べて、生産性
の悪化や、コストの増加を伴わずに行うことができる。Further, the dummy pattern 14 can be formed concentrically with the predetermined pattern 13 by the same exposure step as the predetermined pattern exposure step of performing the exposure while rotating the optical disk master 12. That is, forming the dummy patterns 14 in a concentric pattern causes deterioration in productivity as compared with the case where an antireflection film or the like is provided on the back surface of the optical disc master, or the case where a material containing a coloring agent is used for the optical disc master. Can be done without increasing the cost.
【０１４３】それゆえ、低コストにて簡易に作製するこ
とでき、パターンサイズが均一化された光ディスク用原
盤１２を提供することができる。Therefore, it is possible to provide the optical disk master 12 which can be easily manufactured at low cost and has a uniform pattern size.
【０１４４】また、本実施の形態の光ディスク用原盤１
２は、図３に示したように、ダミーパターン１４が、所
定パターン１３と同心円状に複数本形成されている構成
であってもよい。Further, the optical disc master 1 according to the present embodiment
As shown in FIG. 3, 2 may have a configuration in which a plurality of dummy patterns 14 are formed concentrically with the predetermined pattern 13.
【０１４５】上記構成によれば、ダミーパターン１４
は、所定パターン１３と同心円状に複数本形成される。
したがって、ダミーパターン１４を所定パターン１３が
形成されている範囲外においてより広域に形成すること
ができる。According to the above configuration, the dummy pattern 14
Are formed concentrically with the predetermined pattern 13.
Therefore, the dummy pattern 14 can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern 13 is formed.
【０１４６】本発明者らにおいては、鋭意研究の結果、
ダミーパターン１４をより広域に形成することにより、
所定パターン１３におけるダミーパターン１４近傍の部
位と、所定パターン１３の中心部の部位とにおいて、パ
ターンサイズがより均一となることを確認した。As a result of earnest research by the present inventors,
By forming the dummy pattern 14 in a wider area,
It was confirmed that the pattern size was more uniform in the part of the predetermined pattern 13 near the dummy pattern 14 and the part of the center of the predetermined pattern 13.
【０１４７】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができる。Therefore, it is possible to provide an optical disk master having a more uniform pattern size.
【０１４８】また、本実施の形態の光ディスク用原盤１
２は、図４あるいは図９に示したように、ダミーパター
ン１４の幅が、所定パターン１３における案内溝および
ピットの幅よりも広いものであってもよい。Further, the optical disc master 1 of the present embodiment
2, the width of the dummy pattern 14 may be wider than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern 13, as shown in FIG. 4 or FIG.
【０１４９】上記構成によれば、ダミーパターン１４を
所定パターン１３が形成されている範囲外においてより
広域に形成することができる。According to the above structure, the dummy pattern 14 can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern 13 is formed.
【０１５０】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができる。Therefore, it is possible to provide an optical disk master having a more uniform pattern size.
【０１５１】また、本実施の形態の光ディスク用原盤１
２は、図５〜図９に示したように、所定パターン１３が
形成されている領域以外を、所定パターン１３と同心円
状に露光するとともに、所定パターン１３の中心を軸と
して螺旋状に露光することにより形成されるダミーパタ
ーン１４を備えているものであってもよい。Further, the optical disc master 1 of the present embodiment
As shown in FIGS. 5 to 9, the pattern 2 is exposed concentrically with the predetermined pattern 13 except for the region where the predetermined pattern 13 is formed, and is spirally exposed with the center of the predetermined pattern 13 as an axis. The dummy pattern 14 thus formed may be provided.
【０１５２】上記構成によれば、ダミーパターン１４
は、所定パターン１３と同心円状および螺旋状に形成さ
れる。したがって、ダミーパターン１４を所定パターン
１３が形成されている範囲外においてより広域に形成す
ることができる。According to the above configuration, the dummy pattern 14
Are formed concentrically and spirally with the predetermined pattern 13. Therefore, the dummy pattern 14 can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern 13 is formed.
【０１５３】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０１５４】また、本実施の形態の光ディスク用原盤１
２は、図８に示したように、ダミーパターン１４が、所
定パターン１３と同心円状に形成されている複数の部位
と、上記同心円状に形成されている複数の部位の間にお
いて螺旋状に形成されている部位とを備えているもので
あってもよい。Further, the optical disc master 1 of the present embodiment
2, as shown in FIG. 8, the dummy pattern 14 is formed in a spiral shape between a plurality of portions concentrically formed with the predetermined pattern 13 and the plurality of portions concentrically formed. It may be provided with the part which is.
【０１５５】上記構成によれば、ダミーパターン１４に
おける螺旋状に形成されている部位は、複数の同心円状
に形成されている部位の間に形成されている。すなわ
ち、ダミーパターン１４を所定パターン１３が形成され
ている範囲外においてより広域に形成することができ
る。According to the above construction, the spirally formed portion of the dummy pattern 14 is formed between the plurality of concentric portions. That is, the dummy pattern 14 can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern 13 is formed.
【０１５６】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０１５７】また、本実施の形態の光ディスク用原盤１
２は、図９に示したように、ダミーパターン１４におけ
る同心円状の形成されている部位の幅が、所定パターン
１３における案内溝およびピットの幅よりも広いもので
あってもよい。Further, the optical disc master 1 of the present embodiment
As shown in FIG. 9, 2 may have a width of a concentric circular portion of the dummy pattern 14 wider than the width of the guide groove and the pit of the predetermined pattern 13.
【０１５８】上記構成によれば、ダミーパターン１４に
おける同心円状の形成されている部位の幅は、所定パタ
ーン１３における案内溝およびピットの幅よりも広く形
成される。すなわち、ダミーパターン１４を所定パター
ンが形成されている範囲外においてより広域に形成する
ことができる。According to the above structure, the width of the concentric portion of the dummy pattern 14 is formed wider than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern 13. That is, the dummy pattern 14 can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【０１５９】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【０１６０】また、本実施の形態の光ディスク用原盤１
２は、図２あるいは図７に示したように、ダミーパター
ン１４が、所定パターン１３の内周側と外周側とに形成
されている構成であってもよい。Further, the optical disc master 1 of the present embodiment
2 may have a configuration in which the dummy patterns 14 are formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the predetermined pattern 13, as shown in FIG. 2 or 7.
【０１６１】上記構成によれば、ダミーパターン１４
は、所定パターン１３の内周側と外周側とに形成されて
いる。したがって、所定パターン１３におけるダミーパ
ターン１４近傍の部位、すなわち、所定パターン１３に
おける内周部および外周部と、所定パターン１３の中心
部の部位とにおいて、パターンサイズを均一とすること
ができる。According to the above configuration, the dummy pattern 14
Are formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the predetermined pattern 13. Therefore, the pattern size can be made uniform in the portion of the predetermined pattern 13 near the dummy pattern 14, that is, in the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the predetermined pattern 13 and the central portion of the predetermined pattern 13.
【０１６２】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができる。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【０１６３】なお、本発明の光ディスクは、記録再生の
ための案内溝およびピットからなる所定パターンを有す
る光ディスクにおいて、上記所定パターンが形成された
範囲外に、同心円状ダミーパターンが形成されている構
成であってもよい。The optical disc of the present invention is an optical disc having a predetermined pattern of guide grooves and pits for recording and reproduction, and a concentric dummy pattern is formed outside the range where the predetermined pattern is formed. May be
【０１６４】上記構成の光ディスクによれば、所定パタ
ーンの範囲外にダミー露光を行うことにより、ダミーパ
ターン近傍の所定パターンの総露光量が中心部とほぼ等
しくなる。したがって、所定パターンのダミーパターン
近傍と中心部におけるパターンサイズの均一化した光デ
ィスクを実現することができる。According to the optical disc having the above-described structure, by performing the dummy exposure outside the range of the predetermined pattern, the total exposure amount of the predetermined pattern near the dummy pattern becomes substantially equal to that of the central portion. Therefore, it is possible to realize an optical disc in which the pattern size is uniform in the vicinity of the dummy pattern of the predetermined pattern and in the central portion.
【０１６５】また、たとえばピットのみで形成された所
定パターンと案内溝のみで形成された所定パターンなど
総露光量の異なる所定パターンが存在する際、その間の
限られた狭い範囲においてもダミーパターンを形成し、
パターンサイズの均一化を実現することができる。Further, when there are predetermined patterns having different total exposure amounts, such as a predetermined pattern formed of only pits and a predetermined pattern formed of only guide grooves, dummy patterns are formed even in a limited narrow range therebetween. Then
The pattern size can be made uniform.
【０１６６】また、本発明の光ディスクは、上記構成の
光ディスクにおいて、上記同心円状ダミーパターンが複
数本形成されている構成であってもよい。Further, the optical disc of the present invention may have a constitution in which a plurality of the concentric circular dummy patterns are formed in the optical disc of the above constitution.
【０１６７】上記構成の光ディスクによれば、所定パタ
ーンの範囲外のダミーパターンを広域にすることによ
り、所定パターンの総露光量がダミーパターン近傍と中
心部においてより等しくなる。したがって、ダミーパタ
ーン近傍と中心部におけるパターンサイズをより均一化
することが可能となる。According to the optical disc having the above-mentioned structure, by making the dummy pattern outside the range of the predetermined pattern wide, the total exposure amount of the predetermined pattern becomes more equal in the vicinity of the dummy pattern and in the central portion. Therefore, it becomes possible to make the pattern sizes near the dummy pattern and in the central portion more uniform.
【０１６８】また、本発明の光ディスクは、上記構成の
光ディスクにおいて、上記同心円状ダミーパターンの幅
が、上記案内溝およびピットの幅よりも広い構成であっ
てもよい。Further, the optical disc of the present invention may be configured such that the width of the concentric dummy pattern is wider than the width of the guide groove and the pit in the optical disc of the above configuration.
【０１６９】上記構成の光ディスクによれば、ダミーパ
ターンの幅を広くすることにより、所定パターンの総露
光量がダミーパターン近傍と中心部においてより等しく
なる。したがって、ダミーパターン近傍と中心部におけ
るパターンサイズをより均一化することが可能となる。According to the optical disc having the above-described structure, by widening the width of the dummy pattern, the total exposure amount of the predetermined pattern becomes more equal in the vicinity of the dummy pattern and in the central portion. Therefore, it becomes possible to make the pattern sizes near the dummy pattern and in the central portion more uniform.
【０１７０】また、本発明の光ディスクは、記録再生の
ための案内溝およびピットからなる所定パターンを有す
る光ディスクにおいて、上記所定パターンが形成された
範囲外に、螺旋状ダミーパターンと同心円状ダミーパタ
ーンとが形成されている構成であってもよい。Further, the optical disk of the present invention is an optical disk having a predetermined pattern of guide grooves and pits for recording and reproduction, and a spiral dummy pattern and a concentric dummy pattern are provided outside the range where the above predetermined pattern is formed. May be formed.
【０１７１】上記構成の光ディスクによれば、所定パタ
ーンの範囲外のダミーパターンを広域にすることによ
り、所定パターンの総露光量がダミーパターン近傍と中
心部においてより等しくなる。したがって、ダミーパタ
ーン近傍と中心部におけるパターンサイズをより均一化
することが可能となる。According to the optical disc having the above-described structure, by making the dummy pattern outside the range of the predetermined pattern wide, the total exposure amount of the predetermined pattern becomes more equal in the vicinity of the dummy pattern and in the central portion. Therefore, it becomes possible to make the pattern sizes near the dummy pattern and in the central portion more uniform.
【０１７２】また、本発明の光ディスクは、上記構成の
光ディスクにおいて、２本以上の上記同心円状ダミーパ
ターンが形成されており、該同心円状ダミーパターンの
間に、上記螺旋状ダミーパターンが形成されている構成
であってもよい。Further, in the optical disc of the present invention, two or more of the concentric dummy patterns are formed in the optical disc of the above configuration, and the spiral dummy pattern is formed between the concentric dummy patterns. It may be configured to be.
【０１７３】上記構成の光ディスクによれば、所定パタ
ーンの範囲外のダミーパターンを広域にすることによ
り、所定パターンの総露光量がダミーパターン近傍と中
心部においてより等しくなる。したがって、ダミーパタ
ーン近傍と中心部におけるパターンサイズをより均一化
することが可能となる。According to the optical disc having the above-mentioned structure, by making the dummy pattern outside the range of the predetermined pattern wide, the total exposure amount of the predetermined pattern becomes more equal in the vicinity of the dummy pattern and in the central portion. Therefore, it becomes possible to make the pattern sizes near the dummy pattern and in the central portion more uniform.
【０１７４】また、本発明の光ディスクは、上記構成の
光ディスクにおいて、上記同心円状ダミーパターンの幅
が、上記螺旋状ダミーパターンおよび案内溝およびピッ
トの幅よりも広い構成であってもよい。Further, the optical disc of the present invention may be configured such that the width of the concentric dummy pattern is wider than the width of the spiral dummy pattern, the guide groove and the pit in the optical disc of the above configuration.
【０１７５】上記構成の光ディスクによれば、ダミーパ
ターンの幅を広くすることにより、所定パターンの総露
光量がダミーパターン近傍と中心部においてより等しく
なる。したがって、ダミーパターン近傍と中心部におけ
るパターンサイズをより均一化することが可能となる。According to the optical disc having the above-described structure, by increasing the width of the dummy pattern, the total exposure amount of the predetermined pattern becomes more equal in the vicinity of the dummy pattern and in the central portion. Therefore, it becomes possible to make the pattern sizes near the dummy pattern and in the central portion more uniform.
【０１７６】また、本発明の光ディスクは、上記構成の
光ディスクにおいて、上記所定パターンが形成された範
囲外の領域において、上記同心円状ダミーパターン、お
よび、上記螺旋状ダミーパターンが、内周側と外周側と
の両方に設けられている構成であってもよい。Further, in the optical disc of the present invention, in the optical disc having the above-mentioned configuration, the concentric circular dummy pattern and the spiral dummy pattern are provided on the inner peripheral side and the outer peripheral side in an area outside the range where the predetermined pattern is formed. The configuration may be provided on both the side and the side.
【０１７７】上記構成の光ディスクによれば、所定パタ
ーンの内側および外側にダミー露光を行うことにより、
所定パターンの内周部および外周部の総露光量が中心部
とほぼ等しくなる。したがって、所定パターンの全領域
におけるパターンサイズの均一化した光ディスク用原盤
を実現することができる。According to the optical disc having the above-mentioned structure, the dummy exposure is performed on the inside and the outside of the predetermined pattern.
The total exposure amount of the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the predetermined pattern becomes substantially equal to the central portion. Therefore, it is possible to realize an optical disk master in which the pattern size is made uniform in the entire area of the predetermined pattern.
【０１７８】また、本発明の光ディスク用スタンパは、
上記いずれかの構成の光ディスクを製造するための光デ
ィスク用スタンパであってもよい。The optical disk stamper of the present invention comprises:
It may be an optical disk stamper for manufacturing an optical disk having any one of the above configurations.
【０１７９】上記構成の光ディスク用スタンパによれ
ば、所定パターンのダミーパターン近傍と中心部におけ
るパターンサイズの均一化した光ディスクを実現するこ
とができる。According to the optical disk stamper having the above structure, it is possible to realize an optical disk in which the pattern size is uniform in the vicinity of the dummy pattern of the predetermined pattern and in the central portion.
【０１８０】また、本発明の光ディスク用原盤は、上記
構成の光ディスク用スタンパを製造するための光ディス
ク用原盤であってもよい。Further, the optical disk master of the present invention may be an optical disk master for manufacturing the optical disk stamper having the above structure.
【０１８１】上記構成の光ディスク用原盤によれば、所
定パターンのダミーパターン近傍と中心部におけるパタ
ーンサイズの均一化した光ディスク用スタンパを実現す
ることができる。According to the optical disk master having the above structure, it is possible to realize an optical disk stamper having a uniform pattern size in the vicinity of the dummy pattern of the predetermined pattern and in the central portion.
【０１８２】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、上記構成の光ディスク用原盤の製造方法におい
て、原盤基板上にフォトレジストを塗布し、該フォトレ
ジスト上に露光用光ビームを集光照射し、該光ビームの
集光位置を固定した状態で、該原盤基板を回転駆動する
ことにより、上記同心円状ダミーパターンの露光を行う
方法であってもよい。Further, the method of manufacturing an optical disk master according to the present invention is the same as the method of manufacturing an optical disk master having the above-mentioned structure, in which a photoresist is applied on the master substrate and the exposure light beam is focused and irradiated onto the photoresist. However, a method may also be used in which the concentric circular dummy pattern is exposed by rotationally driving the master substrate while the light beam focusing position is fixed.
【０１８３】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、上記構成の光ディスク用原盤の製造方法におい
て、原盤基板上にフォトレジストを塗布し、該フォトレ
ジスト上に露光用光ビームを集光照射し、該光ビームの
集光位置を該原盤基板の半径方向に移動させながら、該
原盤基板を回転駆動することにより、案内溝およびピッ
トの幅よりも広い同心円状ダミーパターンの露光を行う
方法であってもよい。Further, in the method for manufacturing an optical disk master according to the present invention, in the method for manufacturing an optical disk master having the above-mentioned structure, a photoresist is applied onto the master substrate, and the exposure light beam is focused and irradiated onto the photoresist. Then, by rotating the master substrate while moving the condensing position of the light beam in the radial direction of the master substrate, exposure of a concentric dummy pattern wider than the width of the guide groove and the pit is performed. It may be.
【０１８４】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、上記構成の光ディスク用原盤の製造方法におい
て、原盤基板上にフォトレジストを塗布し、該フォトレ
ジスト上に露光用光ビームを集光照射し、該光ビームの
集光位置を該原盤基板の半径方向に移動させながら、該
原盤基板を回転駆動することにより、上記螺旋状ダミー
パターンの露光を行う方法であってもよい。Further, the method of manufacturing an optical disk master according to the present invention is the same as the method of manufacturing an optical disk master having the above-mentioned structure, in which a photoresist is coated on the master substrate and the exposure light beam is focused and irradiated onto the photoresist. Then, the spiral dummy pattern may be exposed by rotationally driving the master substrate while moving the condensing position of the light beam in the radial direction of the master substrate.
【０１８５】上記構成の光ディスク用原盤の製造方法に
より、光ディスク用原盤を作製し、それより光ディスク
用スタンパ、光ディスクを作製することにより、所定パ
ターンのダミーパターン近傍と中心部におけるパターン
サイズの均一化した光ディスク用原盤、光ディスク用ス
タンパおよび光ディスクを実現することができる。An optical disk master was manufactured by the method for manufacturing an optical disk master having the above-described structure, and then an optical disk stamper and an optical disk were manufactured to make the pattern sizes near the dummy pattern of the predetermined pattern and in the central portion uniform. An optical disc master, an optical disc stamper, and an optical disc can be realized.
【０１８６】[0186]
【発明の効果】本発明の光ディスク用原盤は、以上のよ
うに、所定パターンが形成されている領域以外に、該所
定パターンと同心円状のダミーパターンを備えているも
のである。As described above, the optical disk master of the present invention is provided with the dummy pattern concentric with the predetermined pattern in addition to the area where the predetermined pattern is formed.
【０１８７】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、以上のように、所定パターンが形成されている領
域以外を、該所定パターンと同心円状に露光することに
よりダミーパターンを形成する方法である。Further, the method for manufacturing an optical disk master according to the present invention is a method of forming a dummy pattern by exposing the area other than the area where the predetermined pattern is formed concentrically with the predetermined pattern as described above. is there.
【０１８８】それゆえ、低コストにて簡易に作製するこ
とでき、パターンサイズが均一化された光ディスク用原
盤を提供することができるという効果を奏する。Therefore, it is possible to easily manufacture the optical disk at a low cost and to provide an optical disk master having a uniform pattern size.
【０１８９】また、本発明の光ディスク用原盤は、以上
のように、上記構成の光ディスク用原盤において、上記
ダミーパターンが、上記所定パターンと同心円状に複数
本形成されているものである。Further, as described above, the optical disk master of the present invention is the optical disk master having the above-mentioned configuration, in which a plurality of the dummy patterns are formed concentrically with the predetermined pattern.
【０１９０】上記構成によれば、ダミーパターンは、所
定パターンと同心円状に複数本形成される。したがっ
て、ダミーパターンを所定パターンが形成されている範
囲外においてより広域に形成することができる。According to the above structure, a plurality of dummy patterns are formed concentrically with the predetermined pattern. Therefore, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【０１９１】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is made more uniform.
【０１９２】また、本発明の光ディスク用原盤は、以上
のように、上記構成の光ディスク用原盤において、上記
ダミーパターンのピッチ幅が、上記所定パターンにおけ
る上記案内溝および上記ピットの幅よりも広いものであ
る。As described above, the optical disc master of the present invention has the above-described optical disc master in which the pitch width of the dummy pattern is wider than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern. Is.
【０１９３】上記構成によれば、ダミーパターンを所定
パターンが形成されている範囲外においてより広域に形
成することができる。According to the above structure, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【０１９４】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０１９５】また、本発明の光ディスク用原盤は、以上
のように、所定パターンが形成されている領域以外に、
該所定パターンと同心円状および上記所定パターンの中
心を軸とする螺旋状に形成されるダミーパターンを備え
ているものである。In addition, the optical disk master of the present invention is, as described above, provided in the area other than the area where the predetermined pattern is formed
The dummy pattern is provided so as to be concentric with the predetermined pattern and spirally around the center of the predetermined pattern.
【０１９６】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、以上のように、所定パターンが形成されている領
域以外を、該所定パターンと同心円状に露光するととも
に、上記所定パターンの中心を軸として螺旋状に露光す
ることによりダミーパターンを形成する方法である。Further, as described above, the method for manufacturing an optical disk master according to the present invention exposes the area other than the area where the predetermined pattern is formed concentrically with the predetermined pattern, and the center of the predetermined pattern is used as an axis. Is a method of forming a dummy pattern by exposing in a spiral shape.
【０１９７】上記構成によれば、ダミーパターンは、所
定パターンと同心円状および螺旋状に形成される。した
がって、ダミーパターンを所定パターンが形成されてい
る範囲外においてより広域に形成することができる。According to the above structure, the dummy pattern is formed in a concentric shape and a spiral shape with the predetermined pattern. Therefore, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【０１９８】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０１９９】また、本発明の光ディスク用原盤は、以上
のように、上記構成の光ディスク用原盤において、上記
ダミーパターンが、上記所定パターンと同心円状に形成
されている複数の部位と、上記同心円状に形成されてい
る複数の部位の間において螺旋状に形成されている部位
とを備えているものである。Further, as described above, the optical disk master of the present invention is, in the optical disk master having the above-mentioned structure, the dummy pattern, a plurality of portions formed concentrically with the predetermined pattern, and the concentric circle. And a portion formed in a spiral shape between the plurality of portions formed in.
【０２００】上記構成によれば、ダミーパターンにおけ
る螺旋状に形成されている部位は、複数の同心円状に形
成されている部位の間に形成されている。すなわち、ダ
ミーパターンを所定パターンが形成されている範囲外に
おいてより広域に形成することができる。According to the above structure, the spirally formed portion of the dummy pattern is formed between a plurality of concentric portions. That is, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【０２０１】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０２０２】また、本発明の光ディスク用原盤は、以上
のように、上記構成の光ディスク用原盤において、上記
ダミーパターンにおける同心円状の形成されている部位
の幅が、上記所定パターンにおける案内溝およびピット
の幅よりも広いものである。Further, as described above, the optical disk master of the present invention is the same as the optical disk master having the above-mentioned structure, but the width of the concentric portion of the dummy pattern is the guide groove and the pit in the predetermined pattern. Is wider than.
【０２０３】上記構成によれば、ダミーパターンにおけ
る同心円状の形成されている部位の幅は、所定パターン
における案内溝およびピットの幅よりも広く形成され
る。すなわち、ダミーパターンを所定パターンが形成さ
れている範囲外においてより広域に形成することができ
る。According to the above structure, the width of the concentric circle-shaped portion of the dummy pattern is formed wider than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern. That is, the dummy pattern can be formed in a wider area outside the area where the predetermined pattern is formed.
【０２０４】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０２０５】また、本発明の光ディスク用原盤は、以上
のように、上記構成の光ディスク用原盤において、上記
ダミーパターンは、上記所定パターンの内周側と外周側
とに形成されているものである。Further, as described above, the optical disc master of the present invention is the optical disc master having the above-mentioned configuration, in which the dummy patterns are formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the predetermined pattern. .
【０２０６】上記構成によれば、ダミーパターンは、所
定パターンの内周側と外周側とに形成されている。した
がって、所定パターンにおけるダミーパターン近傍の部
位、すなわち、所定パターンにおける内周部および外周
部と、所定パターンの中心部の部位とにおいて、パター
ンサイズを均一とすることができる。According to the above structure, the dummy pattern is formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the predetermined pattern. Therefore, it is possible to make the pattern size uniform in the portion of the predetermined pattern near the dummy pattern, that is, in the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the predetermined pattern and the central portion of the predetermined pattern.
【０２０７】それゆえ、パターンサイズがより均一化さ
れた光ディスク用原盤を提供することができるという効
果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master in which the pattern size is more uniform.
【０２０８】また、本発明の光ディスク用スタンパは、
以上のように、上記いずれかの構成の光ディスク用原盤
を用いるものである。Further, the optical disk stamper of the present invention is
As described above, the optical disc master having any one of the above configurations is used.
【０２０９】上記構成によれば、低コストにて簡易に作
製することでき、パターンサイズが均一化された光ディ
スク用原盤を用いている。According to the above-mentioned structure, the master disk for an optical disk which can be easily manufactured at low cost and has a uniform pattern size is used.
【０２１０】それゆえ、再生信号のＣＮ比や、プリピッ
トのビットエラーレートが悪化することを防止できると
いう効果を奏する。Therefore, it is possible to prevent the CN ratio of the reproduced signal and the bit error rate of the prepit from being deteriorated.
【０２１１】また、本発明の光ディスクは、以上のよう
に、上記構成の光ディスク用スタンパを用いるものであ
る。Further, the optical disk of the present invention uses the optical disk stamper having the above-mentioned configuration as described above.
【０２１２】上記構成によれば、低コストにて簡易に作
製することでき、パターンサイズが均一化された光ディ
スク用原盤を用いている。According to the above-mentioned structure, the master disc for an optical disc which can be easily manufactured at low cost and has a uniform pattern size is used.
【０２１３】それゆえ、再生信号のＣＮ比や、プリピッ
トのビットエラーレートが悪化することを防止できると
いう効果を奏する。Therefore, it is possible to prevent the CN ratio of the reproduced signal and the bit error rate of the prepit from being deteriorated.
【０２１４】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、以上のように、上記ダミーパターンが、光ディス
ク用原盤を回転させつつ露光位置を光ディスク用原盤の
半径方向に移動させることにより形成される方法であ
る。Further, in the method for manufacturing an optical disk master according to the present invention, as described above, the dummy pattern is formed by moving the exposure position in the radial direction of the optical disk master while rotating the optical disk master. Is the way.
【０２１５】上記構成によれば、所定パターンを形成す
る方法と同様の方法にて、ダミーパターンを形成するこ
とができる。According to the above structure, the dummy pattern can be formed by the same method as the method of forming the predetermined pattern.
【０２１６】それゆえ、より簡易な方法で、パターンサ
イズが均一化された光ディスク用原盤を提供することが
できるという効果を奏する。Therefore, it is possible to provide an optical disk master having a uniform pattern size by a simpler method.
【図１】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
実施の一形態を示す平面図であり、（ｂ）は、該光ディ
スク用原盤の断面図である。FIG. 1A is a plan view showing an embodiment of an optical disk master according to the present invention, and FIG. 1B is a sectional view of the optical disk master.
【図２】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、該光デ
ィスク用原盤の断面図である。FIG. 2A is a plan view showing another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG. 2B is a sectional view of the optical disk master.
【図３】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 3 (a) is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図４】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 4A is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図５】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 5A is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図６】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 6A is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図７】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 7A is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図８】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 8A is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図９】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤の
さらに他の実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）は、
該光ディスク用原盤の断面図である。FIG. 9A is a plan view showing still another embodiment of the optical disk master according to the present invention, and FIG.
It is a sectional view of the master for optical disks.
【図１０】（ａ）は、本発明における光ディスク用原盤
との比較のために作製した従来の光ディスク用原盤の平
面図であり、（ｂ）は、該光ディスク用原盤の断面図で
ある。FIG. 10A is a plan view of a conventional optical disk master prepared for comparison with the optical disk master of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view of the optical disk master.
【図１１】本発明の光ディスク用原盤の溝幅とディスク
中心からの距離との関係を、従来の光ディスク用原盤と
比較して示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing the relationship between the groove width of the optical disc master of the present invention and the distance from the center of the disc in comparison with the conventional optical disc master.
【図１２】本発明の光ディスク用原盤のピット長とディ
スク中心からの距離との関係を、従来の光ディスク用原
盤と比較して示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing the relationship between the pit length of the optical disc master of the present invention and the distance from the disc center, in comparison with the conventional optical disc master.
【図１３】本発明における光ディスク用原盤の製造方法
の実施の一形態を示すフローチャートである。FIG. 13 is a flowchart showing an embodiment of a method for manufacturing an optical disk master according to the present invention.
【図１４】本発明における光ディスク用原盤の製造方法
における露光工程を説明するための模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining an exposure step in the method of manufacturing an optical disc master according to the present invention.
【図１５】本発明における光ディスク用原盤の断面を示
す模式図である。FIG. 15 is a schematic view showing a cross section of an optical disk master according to the present invention.
【図１６】本発明における光ディスク用スタンパの断面
を示す模式図である。FIG. 16 is a schematic view showing a cross section of an optical disk stamper according to the present invention.
【図１７】本発明における光ディスクの断面を示す模式
図である。FIG. 17 is a schematic view showing a cross section of an optical disc according to the present invention.
【図１８】従来の光ディスク用原盤の製造方法を示すフ
ローチャートである。FIG. 18 is a flowchart showing a conventional method for manufacturing an optical disk master.
【図１９】従来の製造方法で光ディスク用原盤を作製し
た場合に、露光工程におけるレーザビームの状態を示す
模式図である。FIG. 19 is a schematic diagram showing a state of a laser beam in an exposure process when an optical disk master is manufactured by a conventional manufacturing method.
【図２０】従来の光ディスク用原盤における総露光量と
半径方向の位置との関係を示すグラフである。FIG. 20 is a graph showing the relationship between the total exposure amount and the position in the radial direction in the conventional optical disk master.
【図２１】（ａ）は、従来の光ディスク用原盤の一構成
例を示す断面図であり、（ｂ）は、従来の光ディスク用
原盤の他の構成例を示す断面図である。FIG. 21 (a) is a cross-sectional view showing one configuration example of a conventional optical disc master, and (b) is a cross-sectional view showing another configuration example of the conventional optical disc master.
１ 光ディスク用原盤 １２ 光ディスク用原盤 １３ 所定パターン １４ ダミーパターン 1 Optical disc master 12 Optical disc master 13 predetermined pattern 14 dummy pattern
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三枝 理伸 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 広兼 順司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 PA10 5D121 BB01 BB21 BB40 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Rinobu Saegusa 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Inside the company (72) Inventor Junji Hirokane 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Inside the company F term (reference) 5D029 PA10 5D121 BB01 BB21 BB40
Claims (12)
トとからなる所定パターンが環状に形成されている光デ
ィスク用原盤において、 上記所定パターンが形成されている領域以外に、該所定
パターンと同心円状のダミーパターンを備えていること
を特徴とする光ディスク用原盤。1. A master disc for an optical disc in which a predetermined pattern consisting of guide grooves and pits for recording or reproducing information is formed in an annular shape, and a concentric circle with the predetermined pattern other than the area where the predetermined pattern is formed. An optical disc master, which is provided with a dummy pattern.
と同心円状に複数本形成されていることを特徴とする請
求項１に記載の光ディスク用原盤。2. The optical disk master according to claim 1, wherein a plurality of the dummy patterns are formed concentrically with the predetermined pattern.
定パターンにおける上記案内溝および上記ピットの幅よ
りも広いことを特徴とする請求項１または２に記載の光
ディスク用原盤。3. The optical disk master according to claim 1, wherein the pitch width of the dummy pattern is wider than the width of the guide groove and the pit in the predetermined pattern.
トとからなる所定パターンが環状に形成されている光デ
ィスク用原盤において、 上記所定パターンが形成されている領域以外に、該所定
パターンと同心円状および上記所定パターンの中心を軸
とする螺旋状に形成されるダミーパターンを備えている
ことを特徴とする光ディスク用原盤。4. An optical disk master in which a predetermined pattern including guide grooves for recording or reproducing information and pits is formed in an annular shape, and is concentric with the predetermined pattern in a region other than the region where the predetermined pattern is formed. And a dummy pattern formed in a spiral shape with the center of the predetermined pattern as an axis, an optical disk master.
と同心円状に形成されている複数の部位と、 上記同心円状に形成されている複数の部位の間において
螺旋状に形成されている部位とを備えていることを特徴
とする請求項４に記載の光ディスク用原盤。5. The dummy pattern has a plurality of portions formed concentrically with the predetermined pattern and a portion formed in a spiral shape between the plurality of concentric portions. The optical disc master according to claim 4, wherein the master disc is provided.
成されている部位の幅は、上記所定パターンにおける案
内溝およびピットの幅よりも広いことを特徴とする請求
項４または５に記載の光ディスク用原盤。6. The optical disk master according to claim 4, wherein the width of the concentric circular portion of the dummy pattern is wider than the width of the guide groove and the pit of the predetermined pattern. .
の内周側と外周側とに形成されていることを特徴とする
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光ディスク用
原盤。7. The optical disk master according to claim 1, wherein the dummy pattern is formed on an inner peripheral side and an outer peripheral side of the predetermined pattern.
光ディスク用原盤を用いることを特徴とする光ディスク
用スタンパ。8. A stamper for an optical disc, which uses the master disc for an optical disc according to any one of claims 1 to 7.
用いることを特徴とする光ディスク。9. An optical disc comprising the optical disc stamper according to claim 8.
ットとからなる所定パターンを環状に形成する光ディス
ク用原盤の製造方法において、 上記所定パターンが形成されている領域以外を、該所定
パターンと同心円状に露光することによりダミーパター
ンを形成することを特徴とする光ディスク用原盤の製造
方法。10. A method of manufacturing an optical disk master in which a predetermined pattern consisting of guide grooves for recording or reproducing information and pits is formed in an annular shape, and the predetermined pattern is formed in a region other than the region where the predetermined pattern is formed. A method of manufacturing an optical disk master, comprising forming a dummy pattern by exposing in a concentric pattern.
ットとからなる所定パターンを環状に形成する光ディス
ク用原盤の製造方法において、 上記所定パターンが形成されている領域以外を、該所定
パターンと同心円状に露光するとともに、上記所定パタ
ーンの中心を軸として螺旋状に露光することによりダミ
ーパターンを形成することを特徴とする光ディスク用原
盤の製造方法。11. A method for manufacturing an optical disk master in which a predetermined pattern consisting of guide grooves for recording or reproducing information and pits is formed in an annular shape, and the predetermined pattern is formed in a region other than the region where the predetermined pattern is formed. A method for manufacturing an optical disk master, which comprises forming a dummy pattern by exposing concentrically and spirally with the center of the predetermined pattern as an axis.
盤を回転させつつ露光位置を光ディスク用原盤の半径方
向に移動させることにより形成されることを特徴とする
請求項１０または１１に記載の光ディスク用原盤の製造
方法。12. The optical disk master according to claim 10, wherein the dummy pattern is formed by moving an exposure position in a radial direction of the optical disk master while rotating the optical disk master. Manufacturing method.
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| JP2002011960A JP4087119B2 (en) | 2002-01-21 | 2002-01-21 | Optical disk substrate, optical disk stamper, optical disk, and optical disk master manufacturing method |
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|---|---|---|---|---|
| US7296514B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Convex/concave pattern-forming stamp, convex/concave pattern-forming method and magnetic recording medium |
| JP2011067994A (en) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Toshiba Corp | Template and pattern forming method |
| JP2011249817A (en) * | 2011-06-29 | 2011-12-08 | Toshiba Corp | Template and pattern formation method |
-
2002
- 2002-01-21 JP JP2002011960A patent/JP4087119B2/en not_active Expired - Fee Related
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