JP2003216102A - Driving method of storage driving type display device and storage driving type display device - Google Patents

Driving method of storage driving type display device and storage driving type display device

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JP2003216102A
JP2003216102A JP2002014487A JP2002014487A JP2003216102A JP 2003216102 A JP2003216102 A JP 2003216102A JP 2002014487 A JP2002014487 A JP 2002014487A JP 2002014487 A JP2002014487 A JP 2002014487A JP 2003216102 A JP2003216102 A JP 2003216102A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the numerical aperture of pixels, to reduce electric power consumption and to prevent the occurrence of deterioration in the parts while conducting image display. <P>SOLUTION: A display is provided with a light emitting panel 1 which is provided with pixels P(1, 1) to P(2, 2),.... The pixels are provided with TFTs 11, DG memory TFTs 12, organic EL diodes 13, address lines Y1, Y2,... which transmit address signals, data signals, a power supply voltage and a reference voltage to respective pixels, data lines X1, X2,..., power supply voltage electrodes Z and reference voltage electrodes W. Luminance data (channel states) of the light emission of each pixel stored in the DG memory TFTs 12 are erased by a data erasing operation for every pixel, luminance data are written into the DG memory TFTs 12 by the voltages of the signals being inputted into the data lines during a data writing operation and the diodes 13 made to emit light based on the luminance data stored in the TFTs 12. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報を電気的に消
去及び書込み可能な記憶駆動手段を用いて画像を表示す
る記憶駆動式表示装置及びその駆動方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a storage drive type display device for displaying an image using a storage drive means capable of electrically erasing and writing information, and a driving method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、CRT(Cathode Ray Tube)に代
わる新しい表示技術として、蛍光物質であるEL(Elec
troluminescence)材料を用いてEL発光を得る技術が
研究されている。
2. Description of the Related Art Recently, as a new display technology replacing CRT (Cathode Ray Tube), EL (Elec
A technique for obtaining EL light emission using a troluminescence material has been studied.

【0003】蛍光物質であるEL材料としては、無機E
L材料を用いる研究がされていたが、その後、無機EL
にはない長所を有する有機EL材料について注目されて
きている。有機EL材料は、無機EL材料に比べて、カ
ラー化が容易なことと、より低い電圧の電流で動作する
こと等の長所を有する。有機EL材料を用いた有機EL
層薄膜を金属電極で挟み込み直流電流印加による電荷注
入を行う素子は有機(薄膜)ELダイオードと呼ばれ、
その応用によるフラットパネルディスプレイの実現を目
指し多くの研究が為されてきた。
Inorganic E is used as an EL material which is a fluorescent substance.
Research on the use of L materials was conducted, but after that, inorganic EL
Attention has been focused on organic EL materials having advantages not found in the above. The organic EL material has advantages over the inorganic EL material such as easy colorization and operation at a lower voltage current. Organic EL using organic EL material
An element in which a layer thin film is sandwiched between metal electrodes and a charge is injected by applying a direct current is called an organic (thin film) EL diode.
Much research has been done aiming at the realization of a flat panel display by its application.

【0004】有機ELディスプレイの発光パネルの各画
素に有機ELダイオードを設け、各画素の有機ELダイ
オードの発光制御のために、TFT(Thin Film Transi
stor)を各画素に設けていた。このように従来の有機E
Lダイオードの発光制御方式では、消費電力や寿命改善
のため、有機ELダイオードをアクティブ制御させる駆
動方式を採用することが主流となっている。
An organic EL diode is provided in each pixel of a light emitting panel of an organic EL display, and a TFT (Thin Film Transi) is used for controlling light emission of the organic EL diode of each pixel.
stor) was provided for each pixel. Thus, conventional organic E
In the light emission control method of the L diode, a drive method in which the organic EL diode is actively controlled is mainly used in order to improve power consumption and life.

【0005】有機ELダイオードをアクティブ制御させ
る従来の駆動方式を図8を参照して説明する。図8は、
従来の電圧制御の発光パネル6を示す図である。
A conventional driving method for active control of an organic EL diode will be described with reference to FIG. Figure 8
It is a figure which shows the conventional light emission panel 6 of voltage control.

【0006】図8に示すように、発光パネル6の1画素
には、任意の電圧の信号を供給するデータ線6A、制御
信号の通信路であるアドレス線6Bと、電源電圧供給路
である電源線6Cと、一方の端子をデータ線6Aに接続
しゲートをアドレス線6Bに接続したMOS(Metal Ox
ide Semiconductor)型でnチャネル型のTFT6D
と、一方の端子を電源線6Cに接続しゲートをTFT6
Dの他方の端子に接続したMOS型でnチャネル型のT
FT6Eと、アノードをTFT6Eの他方の端子に接続
した有機ELダイオード6Fと、有機ELダイオード6
Fのカソードと接続した各画素の共通接地部6Gとを設
ける。また一端をTFT6Eのゲートに接続され、他端
を共通接地部6Gに接続されたコンデンサ6Hが設けら
れている。
As shown in FIG. 8, in one pixel of the light emitting panel 6, a data line 6A for supplying a signal of an arbitrary voltage, an address line 6B as a control signal communication path, and a power supply as a power supply voltage supply path. Line 6C and a MOS (Metal Ox) with one terminal connected to the data line 6A and the gate connected to the address line 6B.
ide Semiconductor) type n-channel type TFT6D
And one terminal is connected to the power line 6C and the gate is the TFT6.
A MOS type n-channel type T connected to the other terminal of D
FT6E, an organic EL diode 6F having an anode connected to the other terminal of the TFT 6E, and an organic EL diode 6
A common ground portion 6G of each pixel connected to the F cathode is provided. Further, a capacitor 6H having one end connected to the gate of the TFT 6E and the other end connected to the common ground portion 6G is provided.

【0007】アドレス線6Bの選択時(アドレス線6B
にハイ信号の電圧が印加されたとき)には、TFT6D
のゲートにハイ信号が印加されてONし、データ線6A
の電位がTFT6Dのゲートに伝わり、データ線6Aの
電位に従った電流が、電源線6C、TFT6Eのドレイ
ン、ソース、有機ELダイオード6Fを順に介して、共
通接地部6Gに流れる。
When the address line 6B is selected (address line 6B
When a high signal voltage is applied to the TFT6D,
High signal is applied to the gate of and turns on, and the data line 6A
Is transmitted to the gate of the TFT 6D, and a current according to the potential of the data line 6A flows to the common ground portion 6G through the power supply line 6C, the drain and source of the TFT 6E, and the organic EL diode 6F in order.

【0008】アドレス線6Bの非選択時(アドレス線6
Bにロー信号の電圧が印加されたとき)には、TFT6
Dのゲートにロー信号が印加されてOFFし、TFT6
Eのゲートの電位がコンデンサ6Hに記憶され、記憶さ
れた電位に従った電流が、電源線6C、TFT6Eのド
レイン、ソース、有機ELダイオード6Fを順に介し
て、共通接地部6Gに流れる。このように、データ線6
Aの電圧を変化させて有機ELダイオード6Gの輝度を
制御していた。
When the address line 6B is not selected (address line 6
When a low signal voltage is applied to B), the TFT6
A low signal is applied to the gate of D to turn it off, and the TFT6
The potential of the gate of E is stored in the capacitor 6H, and a current according to the stored potential flows to the common ground portion 6G through the power supply line 6C, the drain and source of the TFT 6E, and the organic EL diode 6F in order. In this way, the data line 6
The brightness of the organic EL diode 6G was controlled by changing the voltage of A.

【0009】なお、データ線6Aに流す信号を供給する
データドライバと、アドレス線6Bに流す信号を供給す
るアドレスドライバと、発行パネル6に電源電圧を入力
する電源と、前記データドライバ、前記アドレスドライ
バ及び前記電源を制御するコントローラとを発光パネル
6の外部に設けてディスプレイを構成する。
A data driver for supplying a signal to the data line 6A, an address driver for supplying a signal to the address line 6B, a power source for inputting a power supply voltage to the issuing panel 6, the data driver and the address driver. And a controller for controlling the power source are provided outside the light emitting panel 6 to form a display.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図8に示す従
来の有機ELダイオードの発光制御方式では、TFT6
Eのゲート−ソース間の寄生容量が小さいため、コンデ
ンサ6Hを設けているが、1フレーム期間TFT6Eの
ゲート電位を保持するためには、十分な大きさのコンデ
ンサが必要となり、このため、有機ELダイオード6F
の発光面積を広げることが困難であった。また、静止画
像時の場合も、各フレーム毎にデータドライバ及びアド
レスドライバを稼動させねばならず、消費電力を下げら
れないという問題があった。
However, in the conventional organic EL diode emission control system shown in FIG.
The capacitor 6H is provided because the parasitic capacitance between the gate and the source of E is small, but a sufficiently large capacitor is required to hold the gate potential of the TFT 6E for one frame period. Diode 6F
It was difficult to increase the light emitting area. Further, even in the case of a still image, the data driver and the address driver have to be operated for each frame, which causes a problem that power consumption cannot be reduced.

【0011】更に、図8のTFT6Eのゲートには、常
に片方向の電位(ここでは正の電位)が印加されるの
で、長時間使用によるTFTのしきい値がシフトしてし
まいトランジスタ特性劣化現象が生ずるという問題も発
生していた。
Further, since a potential in one direction (a positive potential in this case) is always applied to the gate of the TFT 6E in FIG. 8, the threshold value of the TFT shifts due to long-term use and the transistor characteristic deterioration phenomenon occurs. There was also a problem that

【0012】本発明の課題は、画像表示において、画素
の開口率を上げ、また消費電力を減らし、部品の劣化を
防ぐことである。
An object of the present invention is to increase the aperture ratio of pixels, reduce power consumption, and prevent deterioration of parts in image display.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、マトリクス状に配置された複数の画素毎に、当該画
素を選択された場合、前記画素の発光の輝度を制御する
制御信号を出力する選択手段と、前記選択の期間に、前
記選択手段から出力された制御信号に対応して、電気的
に消去及び書込み可能に、発光の輝度データを長時間記
憶し、当該記憶された輝度データに対応して電源から入
力された電流を出力する記憶駆動手段と、当該記憶駆動
手段から出力された電流に基づき発光を行う発光手段
と、を設ける発光パネルを具備し、各画素の発光により
画像を表示する記憶駆動式表示装置の駆動方法であっ
て、前記選択の期間に、当該選択された画素に対して、
前記制御信号として、前記記憶駆動手段に記憶された輝
度データを消去する消去制御信号を生成し、前記選択手
段に、前記生成された消去制御信号を出力させ、前記記
憶駆動手段に、前記出力された消去制御信号に基づき自
身に記憶された輝度データを消去させるデータ消去手順
と、前記制御信号として、前記発光手段に次の輝度を指
定する発光制御信号を生成し、前記選択手段に、前記生
成された発光制御信号を出力させ、前記記憶駆動手段
に、前記出力された発光制御信号に基づき輝度データを
書込むデータ書込み手順と、を順に実行し、非選択の期
間に、当該非選択された画素において、前記記憶駆動手
段に、前記データ書込み手順で書込まれた輝度データに
対応する電流を出力させ、当該記憶駆動手段から出力さ
れた電流に基づき発光させるデータ読込み手順を実行す
る、ことを特徴としてなる。
According to a first aspect of the present invention, when a pixel is selected for each of a plurality of pixels arranged in a matrix, a control signal for controlling the luminance of light emission of the pixel is provided. The selecting means for outputting and the brightness data of the light emission are stored for a long time so as to be electrically erasable and writable in response to the control signal output from the selecting means during the selection period, and the stored brightness is stored. A light emitting panel is provided, which is provided with a memory driving unit that outputs a current input from a power source corresponding to data and a light emitting unit that emits light based on the current output from the memory driving unit. A driving method of a memory drive type display device for displaying an image, wherein during the selection period, for the selected pixel,
As the control signal, an erasing control signal for erasing the brightness data stored in the memory driving unit is generated, the selecting unit outputs the generated erasing control signal, and the memory driving unit outputs the erasing control signal. Data erasing procedure for erasing the brightness data stored therein based on the erasing control signal, and as the control signal, a light emission control signal for designating the next brightness to the light emitting means is generated, and the generation means is generated by the selecting means. A data writing procedure of causing the memory driving means to output the generated light emission control signal and writing the brightness data based on the output light emission control signal, and performing the non-selection during the non-selection period. In the pixel, the memory drive means is caused to output a current corresponding to the brightness data written in the data write procedure, and the current is generated based on the current output from the memory drive means. Executing a data reading procedure for, it becomes as characterized.

【0014】請求項2に記載の発明は、請求項1記載の
発明の特徴における前記選択及び前記非選択を、交互に
繰返し実行する、ことを特徴としてなる。
The invention described in claim 2 is characterized in that the selection and the non-selection in the feature of the invention described in claim 1 are repeatedly executed alternately.

【0015】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
記載の発明の特徴における前記選択が、前記発光制御信
号を変化させる場合に実行する、ことを特徴としてな
る。
The invention according to claim 3 is the same as claim 1 or 2.
It is characterized in that the selection in the feature of the described invention is executed when the light emission control signal is changed.

【0016】請求項4に記載の発明は、請求項1、2又
は3記載の発明の特徴における前記発光制御信号が、前
記発光手段の任意の輝度を指定する信号であり、前記輝
度データが、任意の輝度を指定するデータである、こと
を特徴としてなる。
According to a fourth aspect of the present invention, the light emission control signal according to the features of the first, second or third invention is a signal for designating an arbitrary luminance of the light emitting means, and the luminance data is It is characterized in that it is data for designating arbitrary brightness.

【0017】請求項5に記載の発明は、請求項1、2、
3又は4記載の発明の特徴における前記データ書込み手
順実行後、次のデータ書込み手順を引続き実行すること
ができる場合、次のデータ書込み手順の前に実行するデ
ータ消去手順の実行を省略する、ことを特徴としてな
る。
The invention according to claim 5 is the invention as defined in claims 1, 2 and
After the data writing procedure according to the features of the invention described in 3 or 4, if the next data writing procedure can be continuously executed, the execution of the data erasing procedure executed before the next data writing procedure is omitted. Will be a feature.

【0018】請求項6に記載の発明は、マトリクス状に
配置された複数の画素における各画素の発光の輝度を制
御する制御信号を生成する制御信号生成手段と、前記画
素の選択を指定する選択信号を生成する選択信号生成手
段と、前記複数の画素からなる発光パネルとを設け、各
画素の発光により画像を表示する記憶駆動式表示装置で
あって、前記各画素は、前記選択信号生成手段から出力
された選択信号による自画素の選択の期間に、前記制御
信号生成手段から出力された制御信号の出力を行う選択
手段と、前記選択の期間に、前記選択手段から出力され
た制御信号に対応して、電気的に消去及び書込み可能
に、発光の輝度データを長時間記憶し、非選択の期間
に、当該記憶された輝度データに基づいた電流を出力す
る記憶駆動手段と、当該記憶駆動手段から出力された電
流に基づき発光を行う発光手段と、を具備してなること
を特徴としてなる。
According to a sixth aspect of the present invention, in a plurality of pixels arranged in a matrix, control signal generating means for generating a control signal for controlling the luminance of light emission of each pixel, and selection for designating selection of the pixel A storage drive type display device provided with a selection signal generating means for generating a signal and a light emitting panel comprising the plurality of pixels, and displaying an image by light emission of each pixel, wherein each pixel is the selection signal generating means. A selection unit that outputs the control signal output from the control signal generation unit during the selection period of the own pixel by the selection signal output from the selection signal, and a control signal output from the selection unit during the selection period. Correspondingly, a storage driving unit that stores the emission luminance data for a long time so as to be electrically erasable and writable, and outputs a current based on the stored luminance data during a non-selected period, Light emitting means for emitting light based on the output current from the storage drive means, made as characterized by being provided with.

【0019】請求項7に記載の発明は、請求項6記載の
発明の特徴における前記選択信号生成手段が、前記選択
の旨の選択信号、前記非選択の旨の選択信号とを交互に
繰返し生成し、前記制御信号生成手段が、前記選択の期
間に、制御信号として、前記輝度データを消去する消去
制御信号及び前記輝度データを書込む発光信号を順に生
成する、ことを特徴としてなる。
According to a seventh aspect of the present invention, the selection signal generating means in the features of the sixth aspect alternately and repeatedly generates the selection signal indicating the selection and the selection signal indicating the non-selection. However, the control signal generating means sequentially generates, as the control signal, an erase control signal for erasing the brightness data and a light emission signal for writing the brightness data during the selection period.

【0020】請求項8に記載の発明は、請求項6又は7
記載の発明の特徴における前記選択信号生成手段が、前
記各画素の発光手段の発光の輝度を変化させる場合に前
記選択の旨の選択信号を生成する、ことを特徴としてな
る。
The invention according to claim 8 is the invention according to claim 6 or 7.
The selection signal generating means in the feature of the described invention is characterized in that the selection signal generating means generates the selection signal indicating the selection when the luminance of the light emission of the light emitting means of each pixel is changed.

【0021】請求項9に記載の発明は、請求項6、7又
は8記載の発明の特徴における前記制御信号生成手段
が、前記選択の期間に、期間前記各画素の発光手段の任
意の発光の輝度を指定する発光制御信号を生成し、前記
記憶駆動手段が、前記発光制御信号に対応して任意の発
光の輝度を指定する輝度データを記憶する、ことを特徴
としてなる。
According to a ninth aspect of the present invention, the control signal generating means in the features of the sixth, seventh or eighth aspect of the present invention emits any light of the light emitting means of each pixel during the selection period. It is characterized in that a light emission control signal for designating the brightness is generated, and the storage driving means stores the brightness data for designating the brightness of arbitrary light emission corresponding to the light emission control signal.

【0022】請求項10に記載の発明は、請求項6、
7,8又は9記載の発明の特徴における前記各画素にお
いて、前記選択手段は、第1のゲート、並びに第1及び
第2の端子が設けられ、前記第1のゲートが前記選択信
号生成手段に接続され、前記第1の端子が前記制御信号
生成手段に接続され、前記第1のゲートに入力された選
択信号及び前記第1の端子に入力された制御信号に対応
して、前記第1の端子及び第2の端子間のチャネルを形
成するTFTであり、前記記憶駆動手段は、第2及び第
3のゲート、並びに第3及び第4の端子が設けられ、前
記第2のゲートが前記TFTの第2の端子に接続され、
前記第3のゲート及び前記第3の端子が所定の電圧を供
給する電源に接続され、前記第4の端子が前記発光手段
に接続され、前記第2のゲートに入力された制御信号に
対応して前記輝度データを記憶し、当該記憶された輝度
データに対応して、前記第3の端子及び第4の端子間の
チャネルを形成するDGメモリTFTである、ことを特
徴としてなる。
The invention according to claim 10 is the invention according to claim 6,
In each of the pixels according to the features of the invention described in 7, 8, or 9, the selection unit is provided with a first gate and first and second terminals, and the first gate serves as the selection signal generation unit. The first terminal is connected to the control signal generating means, and the first signal is input in response to the selection signal input to the first gate and the control signal input to the first terminal. A TFT for forming a channel between a terminal and a second terminal, wherein the memory driving means is provided with second and third gates and third and fourth terminals, and the second gate is the TFT. Connected to the second terminal of
The third gate and the third terminal are connected to a power source that supplies a predetermined voltage, the fourth terminal is connected to the light emitting means, and the third gate and the third terminal correspond to a control signal input to the second gate. Is a DG memory TFT that stores the brightness data and that forms a channel between the third terminal and the fourth terminal in correspondence with the stored brightness data.

【0023】請求項11に記載の発明は、請求項10に
記載の記憶駆動式表示装置において、前記DGメモリT
FTの前記第2及び第3のゲートは互いに縦方向に重な
るように配置され、前記DGメモリTFTは、前記第2
及び第3のゲート間に、電子を捕捉するトラップが形成
された絶縁層を備えることを特徴とする。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the memory drive type display device according to the tenth aspect, the DG memory T is used.
The second and third gates of the FT are arranged to overlap each other in the vertical direction, and the DG memory TFT includes the second gate.
And an insulating layer in which a trap for capturing electrons is formed between the third gate and the third gate.

【0024】請求項1又は6記載の発明によれば、選択
手段に入力する選択の旨の選択信号により画素を選択
し、当該選択の期間に、選択手段を介する生成された制
御信号により記憶駆動手段上の輝度データを消去、書込
みをして記憶し、選択手段に入力する非選択の旨の選択
信号により画素を非選択し、制御信号は記憶駆動手段に
入力されず、記憶駆動手段に記憶されている輝度データ
に対応した電流を記憶駆動手段に入力し、発光手段の発
光を制御する。
According to the first or sixth aspect of the invention, the pixel is selected by the selection signal input to the selection means, and the storage drive is performed by the control signal generated through the selection means during the selection period. The brightness data on the means is erased, written and stored, and the pixel is deselected by the selection signal input to the selection means to the effect that the control signal is not input to the storage drive means but stored in the storage drive means. The electric current corresponding to the brightness data being input is input to the memory driving means to control the light emission of the light emitting means.

【0025】従って、請求項1又は6に記載の発明によ
れば、リフレッシュを行うことなく、画素毎の発光の輝
度データを消去、書込み可能に記憶駆動手段で長時間記
憶し、当該記憶された輝度データに対応して常時画素を
発光させるので、消費電力を低下させることができる。
また、画素のスイッチング部材として、選択手段及び記
憶制御手段のみを設けているので、画素毎の発光手段の
面積割合を大きくするので、一画素全体の面積をより小
さくして高精細な表示が可能となり、消費電力を更に低
下させることができる。
Therefore, according to the invention described in claim 1 or 6, the brightness data of the light emission of each pixel can be erased and written by the storage driving means for a long time without performing the refresh, and the data is stored. Since the pixels are always made to emit light corresponding to the brightness data, the power consumption can be reduced.
Further, since only the selection means and the storage control means are provided as the switching member of the pixel, the area ratio of the light emitting means for each pixel is increased, so that the area of one pixel as a whole can be made smaller and high-definition display is possible. Therefore, the power consumption can be further reduced.

【0026】請求項2又は7記載の発明によれば、記憶
駆動手段に消去制御信号及び発光制御信号を繰返し入力
させ、記憶駆動手段上の輝度データの消去及び書込みを
繰返し実行する。
According to the second or seventh aspect of the present invention, the erase control signal and the light emission control signal are repeatedly input to the memory drive means, and the erase and write of the brightness data on the memory drive means are repeatedly executed.

【0027】従って、請求項2又は7に記載の発明によ
れば、記憶駆動手段に消去制御信号及び発光制御信号を
繰返し入力させるので、同一信号の長時間入力による記
憶駆動手段の劣化を防ぐことができる。
Therefore, according to the second or seventh aspect of the present invention, since the erase control signal and the light emission control signal are repeatedly input to the memory drive means, deterioration of the memory drive means due to long-time input of the same signal is prevented. You can

【0028】請求項3又は8記載の発明によれば、前回
選択時と同じ輝度の画素についての輝度データの消去及
び書込みを行わず、非選択期間を継続して、同じ輝度デ
ータに対応する電流を発光手段に入力させる。
According to the invention of claim 3 or 8, the luminance data for the pixel having the same luminance as that of the previous selection is not erased and written, and the non-selection period is continued and the current corresponding to the same luminance data is continued. Is input to the light emitting means.

【0029】従って、請求項3又は8に記載の発明によ
れば、前回選択時と同じ輝度の画素については輝度デー
タの消去及び書込みを行う必要がなく、その画素への制
御信号の生成を行う必要がないので、処理の負担及び消
費電力を低下させることができる。特に、静止画像を表
示させる場合、全画素への制御信号の生成手段を停止で
きるので、大幅に消費電力及び処理の負荷を低下させる
ことができる。
Therefore, according to the invention described in claim 3 or 8, it is not necessary to erase and write the luminance data for the pixel having the same luminance as that of the previous selection, and the control signal is generated to the pixel. Since it is not necessary, the processing load and power consumption can be reduced. In particular, when a still image is displayed, the control signal generating means for all pixels can be stopped, so that the power consumption and the processing load can be significantly reduced.

【0030】請求項4又は9記載の発明によれば、選択
の期間に、任意の値の発光制御信号を出力し、これに対
応する輝度データも任意の値のデータとして記憶駆動手
段に入力し、これに対応する発光手段の輝度も任意とな
る。
According to the invention of claim 4 or 9, the light emission control signal of an arbitrary value is output during the selection period, and the brightness data corresponding thereto is also input to the storage driving means as the data of the arbitrary value. The luminance of the light emitting means corresponding to this is also arbitrary.

【0031】従って、請求項4又は9に記載の発明によ
れば、各画素を連続的な任意の発光の輝度に制御して発
光することができる。
Therefore, according to the invention described in claim 4 or 9, it is possible to emit light while controlling each pixel to a continuous arbitrary luminance of light emission.

【0032】請求項5記載の発明によれば、異なる輝度
に対するデータ書込み手順を連続で行うことができる場
合、前回のデータ書込み手順の後に行うデータ消去手順
を省略して、次のデータ書込み手順を実行する。
According to the invention described in claim 5, when the data writing procedure for different brightness can be continuously performed, the data erasing procedure performed after the previous data writing procedure is omitted and the next data writing procedure is performed. Run.

【0033】従って、請求項5に記載の発明によれば、
データ消去手順を実行する必要がないデータ書込み手順
を行う場合の、データ消去手順を省略するので、データ
消去手順実行の負荷及びその消費電力を低下させること
ができる。
Therefore, according to the invention of claim 5,
Since the data erasing procedure is omitted when performing the data writing procedure that does not need to execute the data erasing procedure, it is possible to reduce the load of executing the data erasing procedure and the power consumption thereof.

【0034】請求項10記載の発明によれば、選択信号
の電圧が制御信号に比べハイの選択信号が第1のゲート
に印加された場合、TFTは選択され、第1の端子及び
第2の端子を介して、制御信号をDGメモリTFTの第
1のゲートに入力し、制御信号がハイの時(消去制御信
号)、第3の端子及び第4の端子間のチャネル形成のた
めの電子を補充し、電源からの電流を第3の端子及び第
4の端子を介して発光手段へ入力し、制御信号がローの
時(発光制御信号)、第3の端子及び第4の端子間のチ
ャネル形成のための電子を放出し、当該発光制御信号に
対応した電源からの電流を第3の端子及び第4の端子を
介して発光手段へ入力する。
According to the tenth aspect of the invention, when the selection signal whose selection signal voltage is higher than that of the control signal is applied to the first gate, the TFT is selected, and the first terminal and the second terminal are selected. A control signal is input to the first gate of the DG memory TFT through the terminal, and when the control signal is high (erasing control signal), electrons for channel formation between the third terminal and the fourth terminal are generated. When the control signal is low (light emission control signal) and the current from the power source is supplied to the light emitting means through the third terminal and the fourth terminal, the channel between the third terminal and the fourth terminal is replenished. Electrons for formation are emitted, and a current from a power source corresponding to the light emission control signal is input to the light emitting means through the third terminal and the fourth terminal.

【0035】また、選択信号の電圧が制御信号に比べロ
ーの選択信号が第1のゲートに印加された場合、TFT
は非選択され、第1の端子及び第2の端子で制御信号を
止めて、DGメモリTFTの第3の端子及び第4の端子
間に形成され記憶されているチャネルの状態(輝度デー
タ)に対応して、電源からの電流を第3の端子及び第4
の端子を介して発光手段へ入力する。
When a selection signal whose selection signal voltage is lower than that of the control signal is applied to the first gate, the TFT
Is not selected, the control signal is stopped at the first terminal and the second terminal, and the channel state (luminance data) formed between the third terminal and the fourth terminal of the DG memory TFT is stored. Correspondingly, the current from the power supply is applied to the third terminal and the fourth
Input to the light emitting means through the terminal.

【0036】従って、請求項10に記載の発明によれ
ば、選択手段にTFT、記憶駆動手段にDGメモリTF
Tを使用し、選択信号及び制御信号の電圧により制御す
ることができる。
Therefore, according to the tenth aspect of the invention, the selection means is the TFT, and the memory drive means is the DG memory TF.
T can be used and controlled by the voltage of the select and control signals.

【0037】そして、請求項11に記載の発明によれ
ば、前記DGメモリTFTを縦構造とし、さらに電子を
捕捉する絶縁層を備えるので、別途コンデンサを設ける
必要がなく、省スペース化できるので、一画素あたりの
面積をより小さくして高精細な表示が可能となる。
According to the eleventh aspect of the invention, since the DG memory TFT has a vertical structure and an insulating layer for trapping electrons is further provided, it is not necessary to provide a separate capacitor, and space can be saved. The area per pixel can be made smaller to enable high-definition display.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態を説明する。先ず、図1及び図2を参照
して、装置構成を説明する。図1は、本実施の形態のデ
ィスプレイαを示す図であり、図2は、図1に示す発光
パネル1の構成を示す回路図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, the device configuration will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a diagram showing a display α of the present embodiment, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the light emitting panel 1 shown in FIG.

【0039】図1に示すように、ディスプレイαは、縦
にn個、横にm個のマトリクス状に設けられた画素毎の
発光を制御して画像を表示する発光パネル1と、横のラ
イン(行)の画素の発光を制御するアドレス信号(選択
信号)を生成するアドレスドライバ2(選択信号生成手
段)と、縦のライン(列)の画素の発光を制御するデー
タ信号(制御信号)を生成するデータドライバ3(制御
信号生成手段)と、各画素に共通な電源電圧を供給する
定電源4と、アドレスドライバ2、データドライバ3及
び定電源4を制御するコントローラ5を備える。コント
ローラ5は、図示しない外部機器からの画像情報を受信
し、当該画像情報に基づいて各部材を制御する。
As shown in FIG. 1, the display α includes a light emitting panel 1 for controlling the light emission for each pixel provided in a matrix of n vertically and m horizontally and displaying an image, and a horizontal line. An address driver 2 (selection signal generation means) that generates an address signal (selection signal) that controls light emission of pixels of (row) and a data signal (control signal) that controls light emission of pixels of a vertical line (column). A data driver 3 (control signal generation means) for generating, a constant power source 4 for supplying a common power source voltage to each pixel, an address driver 2, a data driver 3 and a controller 5 for controlling the constant power source 4 are provided. The controller 5 receives image information from an external device (not shown) and controls each member based on the image information.

【0040】アドレスドライバ2は、発光パネル2の各
行の画素に対して任意のn本のアドレス線Y1〜Ynで
接続し、データドライバ3は、発光パネル2の各列の画
素に対して任意のm本のデータ線X1〜Xmで接続し、
各行及び各列の画素毎に制御するアクティブマトリクス
方式を採用している。また、発光パネル2の各画素は、
定電源4からの電源電圧Vddを供給する電源電圧電極
Zに接続されるとともに、電源電圧Vddよりも低電位
の基準電圧Vssを供給する基準電圧電極Wに接続され
ている。ここで、データ線Xi、アドレス線Yjの画素
を画素P(i,j)とし、発光パネル1は、画素P
(1,1)〜P(m,n)を備える。
The address driver 2 is connected to the pixels in each row of the light emitting panel 2 by arbitrary n address lines Y1 to Yn, and the data driver 3 is connected to the pixels in each column of the light emitting panel 2 as desired. Connect with m data lines X1 to Xm,
An active matrix method is employed in which each pixel in each row and each column is controlled. In addition, each pixel of the light emitting panel 2 is
It is connected to a power supply voltage electrode Z that supplies a power supply voltage Vdd from the constant power supply 4 and is also connected to a reference voltage electrode W that supplies a reference voltage Vss having a lower potential than the power supply voltage Vdd. Here, the pixels of the data line Xi and the address line Yj are referred to as the pixel P (i, j), and the light emitting panel 1 has the pixel P.
(1,1) to P (m, n) are provided.

【0041】図2に示すように、発光パネル1の画素P
(1,1)には、アドレスドライバ2からのアドレス線
Y1とゲートを接続しデータドライバ3からのデータ線
X1と一方の端子を接続するMOS型でnチャネル型の
TFT11(選択手段)と、TFT11の他方の端子と
トップゲート12Aを接続し定電源4からの電源電圧電
極Zとボトムゲート12B及び端子12Cで接続するM
OS型でnチャネル型のDG(Double Gate)メモリT
FT12(記憶駆動手段)と、DGメモリTFT12の
端子12Dとアノードを接続する有機ELダイオード1
3と、を備える。各有機ELダイオード13のカソード
は基準電圧電極Wと接続されている。
As shown in FIG. 2, the pixel P of the light emitting panel 1 is
(1,1) is a MOS-type n-channel TFT 11 (selection means) that connects the gate to the address line Y1 from the address driver 2 and connects the data line X1 from the data driver 3 to one terminal, The other terminal of the TFT 11 is connected to the top gate 12A, and the power supply voltage electrode Z from the constant power source 4 is connected to the bottom gate 12B and the terminal 12C.
OS type n channel type DG (Double Gate) memory T
FT12 (memory driving means) and an organic EL diode 1 for connecting the terminal 12D of the DG memory TFT 12 and the anode
3 and. The cathode of each organic EL diode 13 is connected to the reference voltage electrode W.

【0042】画素P(i,j)(iは1以上m以下の整
数、jは1以上n以下の整数)において、TFT11の
ゲートをアドレス線Yjと接続し、同じく一方の端子を
データ線Xjと接続している。基準電圧電極W及び電源
電圧電極Zはそれぞれ、アドレス線Y1〜Ynに沿って
且つアドレス線Y1〜Yn毎に設けられた複数の配線で
あってもよく、複数の画素に跨った1枚又は複数枚の電
極であってもよい。
In the pixel P (i, j) (i is an integer of 1 or more and m or less, j is an integer of 1 or more and n or less), the gate of the TFT 11 is connected to the address line Yj, and one terminal is similarly connected to the data line Xj. Connected with. The reference voltage electrode W and the power supply voltage electrode Z may be a plurality of wirings provided along the address lines Y1 to Yn and for each of the address lines Y1 to Yn. It may be a single electrode.

【0043】DGメモリTFT12は、従来のLSI
(Large Scale Integration)のフラッシュメモリのよ
うにデータの高速書込みや、半永久的な保存はできない
が、本実施の形態のようなディスプレイでの画素メモリ
用途には十分な特性を持っている。特に、本実施の形態
では、ホール(正孔)よりも移動度の高い電子キャリア
を用いている。
The DG memory TFT 12 is a conventional LSI.
It cannot have high-speed data writing or semi-permanent storage like a (Large Scale Integration) flash memory, but has sufficient characteristics for use as a pixel memory in a display like this embodiment. In particular, in this embodiment mode, electron carriers having higher mobility than holes are used.

【0044】ここで、図3を参照して、有機ELダイオ
ード13について説明する。図3は、図1に示す発光パ
ネル1の概略断面図である。図3に示すように、発光パ
ネル2は、透明な絶縁材料のガラス、石英等からなる透
明基板A上に、各画素を仕分ける窒化シリコン等の絶縁
材料からなる隔壁Bと、隔壁B間に形成される、ITO
(Indium Tin Oxide)等の透明な導電材料からなる有機
ELダイオード13のアノード電極13Aと、アノード
電極13A上に形成される有機ELダイオード13の有
機EL層13Bと、隔壁B及び有機EL層13B上に形
成される有機ELダイオード13のカソード電極13C
と、カソード電極13C上に形成される封止材Cと、封
止材C上に形成される封止ガラスDとを順に設ける。
Here, the organic EL diode 13 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the light emitting panel 1 shown in FIG. As shown in FIG. 3, the light emitting panel 2 is formed between a partition B and a partition B made of an insulating material such as silicon nitride for partitioning each pixel on a transparent substrate A made of a transparent insulating material such as glass or quartz. To be ITO
On the anode electrode 13A of the organic EL diode 13 made of a transparent conductive material such as (Indium Tin Oxide), the organic EL layer 13B of the organic EL diode 13 formed on the anode electrode 13A, on the partition B and the organic EL layer 13B. Cathode electrode 13C of the organic EL diode 13 formed on
Then, the sealing material C formed on the cathode electrode 13C and the sealing glass D formed on the sealing material C are sequentially provided.

【0045】図3上、TFT11、DGメモリTFT1
2、アドレス線Y1〜Yn、データ線X1〜Xm、電源
電圧電極Z及び基準電圧電極Wは省略されている。TF
T11、DGメモリTFT12は、例えば隔壁Bの下に
形成される。
In FIG. 3, the TFT 11 and the DG memory TFT 1
2, the address lines Y1 to Yn, the data lines X1 to Xm, the power supply voltage electrode Z, and the reference voltage electrode W are omitted. TF
The T11 and DG memory TFT 12 are formed under the partition wall B, for example.

【0046】有機EL層13Bは、例えば、アノード電
極13Aから順に正孔輸送層、発光層、電子輸送層とな
る三層構造であっても良いし、アノード電極13Aから
順に正孔輸送層、電子輸送層を兼ねた発光層となる二層
構造であっても良いし、発光層からなる一層構造であっ
ても良いし、その他の層構造であっても良い。
The organic EL layer 13B may have, for example, a three-layer structure in which a hole transporting layer, a light emitting layer and an electron transporting layer are formed in this order from the anode electrode 13A, or a hole transporting layer and an electron are formed in this order from the anode electrode 13A. It may have a two-layer structure that serves as a light-emitting layer that also serves as a transport layer, a single-layer structure that includes a light-emitting layer, or any other layer structure.

【0047】つまり、有機EL層13Bは、正孔及び電
子を注入する機能、正孔及び電子を輸送する機能、正孔
と電子の再結合により励起子を生成して発光する機能を
有する。有機EL層13Bは、電子的に中立な有機化合
物であることが望ましく、これにより正孔と電子が有機
EL層13Bでバランス良く注入及び輸送される。
That is, the organic EL layer 13B has a function of injecting holes and electrons, a function of transporting holes and electrons, and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons to emit light. The organic EL layer 13B is preferably an electronically neutral organic compound, and thereby holes and electrons are injected and transported in a well-balanced manner in the organic EL layer 13B.

【0048】なお、電子輸送性の物質が発光層に適宜混
合されていても良いし、正孔輸送性の物質が発光層に適
宜混合されても良いし、電子輸送性の物質及び正孔輸送
性の物質が発光層に適宜混合されていても良い。
An electron-transporting substance may be appropriately mixed in the light-emitting layer, a hole-transporting substance may be appropriately mixed in the light-emitting layer, an electron-transporting substance and a hole-transporting substance. Substance may be appropriately mixed in the light emitting layer.

【0049】また、有機EL層13Bの発光層には、発
光材料が含有されている。発光材料としては、高分子系
材料が用いられることになる。高分子系材料としては、
ポリカルバゾール、ポリパラフェニレン、ポリアリーレ
ンビニレン、ポリチオフェン、ポリフルオレン、ポリシ
ラン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピリジン、
ポリピリジンビニレン、ポリピロールが挙げられる。ま
た、高分子材料としては、上記高分子材料(ポリマー)
を形成しているモノマーまたはオリゴマーの重合体や共
重合体、或いはモノマーまたはオリゴマーの誘導物の重
合体及び共重合体と、オキサゾール(オキサンジアゾー
ル、トリアゾール、ジアゾール)又はトリフェニルアミ
ン骨格を有するモノマーを重合した重合体及び共重合体
を挙げることができる。また、これらポリマーのモノマ
ーとしては、熱、圧、UV、電子線などを与える事で上
述の化合物を形成するモノマー及びプレカーサポリマー
を含むものである。また、これらモノマー間を結合する
非共役系ユニットを導入しても構わない。
The light emitting layer of the organic EL layer 13B contains a light emitting material. A polymer material is used as the light emitting material. As polymeric materials,
Polycarbazole, polyparaphenylene, polyarylene vinylene, polythiophene, polyfluorene, polysilane, polyacetylene, polyaniline, polypyridine,
Examples thereof include polypyridine vinylene and polypyrrole. Further, as the polymer material, the above polymer material (polymer)
A polymer or copolymer of a monomer or an oligomer forming a polymer, or a polymer or copolymer of a derivative of a monomer or an oligomer, and a monomer having an oxazole (oxanediazole, triazole, diazole) or triphenylamine skeleton Examples thereof include polymers and copolymers obtained by polymerizing. Further, the monomers of these polymers include monomers and precursor polymers that form the above-mentioned compounds by applying heat, pressure, UV, electron beam or the like. Further, a non-conjugated unit that bonds these monomers may be introduced.

【0050】高分子材料の具体的なものとしては、ポリ
ピニルカルバゾール、ポリトデシルチオフェン、ポリエ
チレンジオキシチオフェン、ポリスチレンスルフォン酸
分散体変性物、ポリ9,9−ジアルキルフルオレン、ポ
リ(チエニレン−9,9−ジアルキルフルオレン)、ポ
リ(2,5−ジアルキルパラフェニレン−チエニレ
ン)、(ジアルキル:R=C1〜C20)、ポリパラフェニレ
ンビニレン、ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチル
−ヘキシロキシ)−パラフェニレンビニレン)、ポリ
(2−メトキシ−5−(2’−エチル−ペンチロキシ)
−パラフェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジメチル
−パラフェニレンビニレン)、ポリ(2,5−チエニレ
ンビニレン)、ポリ(2,5−ジメトキシパラフェニレ
ンビニレン)、ポリ(1,4−パラフェニレンシアノビ
ニレン)などが挙げられる。
Specific examples of the polymer material include polypinylcarbazole, polytodecylthiophene, polyethylenedioxythiophene, modified polystyrene sulfonic acid dispersion, poly 9,9-dialkylfluorene, poly (thienylene-9). , 9-dialkylfluorene), poly (2,5-dialkylparaphenylene-thienylene), (dialkyl: R = C1 to C20), polyparaphenylenevinylene, poly (2-methoxy-5- (2'-ethyl-hexyloxy) ) -Paraphenylene vinylene), poly (2-methoxy-5- (2'-ethyl-pentyloxy))
-Paraphenylene vinylene), poly (2,5-dimethyl-paraphenylene vinylene), poly (2,5-thienylene vinylene), poly (2,5-dimethoxyparaphenylene vinylene), poly (1,4-paraphenylene) Cyanovinylene) and the like.

【0051】また、高分子系材料に限られるものではな
く、低分子材料をポリマー分散して用いるものとしても
良い。また、低分子材料の性質によっては、低分子材料
を溶媒に溶かした状態で塗布して使用するものとしても
良い。そして、低分子材料をポリマー分散する際のポリ
マーとしては、周知の汎用ポリマーを含む各種ポリマー
を状況に応じて使用することができる。
Further, the material is not limited to the polymer material, and a low molecular material may be used by polymer dispersion. Further, depending on the properties of the low molecular weight material, the low molecular weight material may be used by being applied in a state of being dissolved in a solvent. As the polymer for polymer-dispersing the low molecular weight material, various polymers including well-known general-purpose polymers can be used depending on the situation.

【0052】低分子の発光材料(発光物質またはドーパ
ント)としては、アントラセン、ナフタレン、フェナン
トレン、ピレン、テトラセン、コロネン、クリセン、フ
ルオレセイン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペ
リレン、ペリノン、フタロペリノン、ナフタロペリノ
ン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエ
ン、クマリン、オキサジアゾール、アルダジン、ビスベ
ンゾキゾリン、ビススチリル、ピラジン、オキシン、ア
ミノキノリン、イミン、ジフェニルエチレン、ビニルア
ントラセン、ジアミノカルバゾール、ピラン、チオピラ
ン、ポリメチン、メロシアニン、イミダゾールキレート
化オキシノイド化合物等、4−ジシアノメチレン−4H
−ピラン及び4−ジシアノメチレン−4H−チオピラ
ン、ジケトン、クロリン系化合物やこれらの誘導体が挙
げられる。低分子発光材料の具体的なものとしては、A
lq3、キナクリドンなどが挙げられる。
Examples of the low molecular weight light emitting material (light emitting substance or dopant) include anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, tetracene, coronene, chrysene, fluorescein, perylene, phthaloperylene, naphthaloperylene, perinone, phthaloperinone, naphthaloperinone, diphenylbutadiene, tetraphenyl. Butadiene, coumarin, oxadiazole, aldazine, bisbenzoxazoline, bisstyryl, pyrazine, oxine, aminoquinoline, imine, diphenylethylene, vinylanthracene, diaminocarbazole, pyran, thiopyran, polymethine, merocyanine, imidazole chelated oxinoid compound, etc. 4-dicyanomethylene-4H
-Pyran and 4-dicyanomethylene-4H-thiopyran, diketones, chlorin compounds and derivatives thereof can be mentioned. Specific examples of the low-molecular light emitting material include A
Examples include lq3 and quinacridone.

【0053】また、発光材料は、次式に示すポリフルオ
レン系材料も用いられる。
As the light emitting material, a polyfluorene material represented by the following formula is also used.

【化1】 当該ポリフルオレン系材料は、5未満の多分散度を有す
る化合物である。
[Chemical 1] The polyfluorene-based material is a compound having a polydispersity of less than 5.

【0054】但し、上式中、Eは各々独立に、水素、ハ
ロゲン、アリール又は連鎖延長もしくは架橋することの
できる反応性基で置換されたアリール、又はトリアルキ
ルシロキシ部分であり、R1は、各々独立に、C1-20ヒ
ドロカルビル又はS、N、O、PもしくはSiのヘテロ
原子を1以上含むC1-20ヒドロカルビルであり、又は2
つのR1はフルオレン環の9位の炭素と共に、C5-20環
構造又はS、NもしくはOのヘテロ原子を1以上含むC
4-20環構造を形成してもよく、R2は、各々独立に、C1
-20ヒドロカルビル、C1-20ヒドロカルビルオキシ、C1
-20チオエーテル、C1-20ヒドロカルビルオキシカルボ
ニル、C1-20ヒドロカルビルカルボニルオキシ、又はシ
アノである。aは、各々独立に、0〜1の数であり、そ
してmは負でない数である。なお、発光材料は、上述の
ものに限定されるものではない。
However, in the above formula, E is independently hydrogen, halogen, aryl or aryl substituted with a reactive group capable of chain extension or crosslinking, or a trialkylsiloxy moiety, and R 1 is each Independently C1-20 hydrocarbyl or C1-20 hydrocarbyl containing one or more S, N, O, P or Si heteroatoms, or 2
R1 is a C5-20 ring structure or a C containing at least one hetero atom of S, N or O together with the 9th carbon of the fluorene ring.
4-20 ring structure may be formed, and each R2 independently represents C1.
-20 Hydrocarbyl, C1-20 Hydrocarbyloxy, C1
-20 thioether, C1-20 hydrocarbyloxycarbonyl, C1-20 hydrocarbylcarbonyloxy, or cyano. a is each independently a number from 0 to 1 and m is a non-negative number. The light emitting material is not limited to the above.

【0055】発光層或いは電子輸送層に含有する電子輸
送性物質としては、トリス(8−キノリノラト)アルミ
ニウム(Alq3)等の8−キノリノール又はその誘導
体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、
オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘
導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェ
ニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体などが
挙げられる。
Examples of the electron-transporting substance contained in the light-emitting layer or the electron-transporting layer include quinoline derivatives such as organometallic complexes having 8-quinolinol such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) or its derivative as a ligand. ,
Examples thereof include an oxadiazole derivative, a perylene derivative, a pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a quinoxaline derivative, a diphenylquinone derivative, and a nitro-substituted fluorene derivative.

【0056】発光層或いは正孔輸送層に含有する正孔輸
送性物質としては、テトラアリールベンジシン化合物
(トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン:
TPD)、芳香族三級アミン、フタロシアニン系化合物
(phthalocyanines)、ナタフタロシアニン系化合物(n
aphthalocyanines)、ポルフィリン系化合物(porphyri
ns)、トリアゾール(triazole)、イミダゾール(imid
azole)、イミダゾロン(imidazolon)、イミダゾール
チオン(imidazolethione)、ピラゾリン(pyrazolin
e)、ピラゾロン(pyrazoline)、テトラヒドロイミダ
ゾール(tetrahydroimidazole)、オキサゾール(oxazol
e)、オキサジアゾール(oxadiazole)、ヒドラゾン(hydra
zone)、アシルヒドラゾン(acylhydrazone)、ポリアリー
ルアルカン(polyarylalkane)スチルベン(stilbene)、ブ
タジエン(butadiene)、ベンジジン型トリフェニルアミ
ン(benzidine-triphenylamine)、スチリルアミン型トリ
フェニルアミン(styrylamine-triphenylamine)、ジアミ
ン型トリフェニルアミン(diamine-triphenylamine)やこ
れ等の誘導体(derivative)、ポリビニルカルバゾール(p
olyvinylcarbazole)、ポリシラン(polysilane)、ポリエ
チレンジオキシチオフェン(polyethylenedioxythiophop
hen:PEDOT)、ポリスチレンスルホン酸(polysthyr
enesulfonate:PSS)、ポリアニリン(polyaniline)
等の導電性の高分子材料の中から少なくとも1種類以上
選択された材料であり、より好ましくは、次式
The hole-transporting substance contained in the light-emitting layer or the hole-transporting layer is a tetraarylbenzidine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine:
TPD), aromatic tertiary amine, phthalocyanines, naphthaphthalocyanines (n
aphthalocyanines), porphyrin compounds
ns), triazole, imidazole (imid
azole), imidazolone, imidazolethione, pyrazoline
e), pyrazolone, tetrahydroimidazole, oxazol
e), oxadiazole, hydrazone (hydra
zone), acylhydrazone (acylhydrazone), polyarylalkane (polyarylalkane) stilbene, butadiene, benzidine-triphenylamine, styrylamine-triphenylamine, diamine-type Triphenylamine (diamine-triphenylamine) and their derivatives (derivative), polyvinylcarbazole (p
olyvinylcarbazole), polysilane, polyethylenedioxythiophop
hen: PEDOT), polystyrene sulfonic acid (polysthyr
enesulfonate: PSS), polyaniline
It is a material selected from at least one kind or more of conductive polymer materials such as

【化2】 (式中、n,lは負でない整数である。)で表されるP
EDOTをPSS等の保護コロイド(protective colloi
d)により分散重合してなる重合体を適用する材料も挙げ
られる。
[Chemical 2] (In the formula, n and l are non-negative integers.)
EDOT is a protective colloid such as PSS.
Materials to which a polymer obtained by dispersion polymerization according to d) is applied are also included.

【0057】カソード電極13Cは、隔壁B上にも形成
され、発光パネル1に設けられる前画素P(1,1)〜
P(m,n)全てに共通する層であり、基準電圧電極W
に接続される。カソード電極13Cの具体的なものとし
て、金、銀、銅、アルミニウム、インジウム、マグネシ
ウム、カルシウム若しくはバリウム若しくはこれらの合
金又はこれら金属若しくは合金にリチウム、マグネシウ
ム若しくはインジウムを含む化合物若しくは混合物等が
挙げられる。また、カソード電極13Cは、以上の各種
材料の層が積層された積層構造となっていても良く、具
体的には、例えば、有機EL層13B上にマグネシウム
と銀を共蒸着させたマグネシウム/銀電極層等の通常の
電極層が使用できるが、特にアルミニウム/リチウム電
極層は他の材料の電極に比べて、有機EL層への電子の
注入効率がよいため、EL素子の発光効率、発光輝度を
高めることができ、異常な発熱の発生によるEL素子の
発光寿命、安定性も更に向上する。また、高純度のバリ
ウム層、高純度アルミニウム層を順に形成する積層構造
も挙げられる。
The cathode electrode 13C is also formed on the partition wall B, and is provided on the light emitting panel 1 in front pixels P (1,1) to P (1,1).
A layer common to all P (m, n), and the reference voltage electrode W
Connected to. Specific examples of the cathode electrode 13C include gold, silver, copper, aluminum, indium, magnesium, calcium, barium, or alloys thereof, or compounds or mixtures containing lithium, magnesium or indium in these metals or alloys. Further, the cathode electrode 13C may have a laminated structure in which layers of various materials described above are laminated. Specifically, for example, magnesium / silver obtained by co-evaporating magnesium and silver on the organic EL layer 13B. Although a normal electrode layer such as an electrode layer can be used, the efficiency of injecting electrons into the organic EL layer is particularly good in the aluminum / lithium electrode layer as compared with electrodes made of other materials, so that the luminous efficiency and luminous brightness of the EL element are improved. And the emission life and stability of the EL element due to abnormal heat generation are further improved. Further, a laminated structure in which a high-purity barium layer and a high-purity aluminum layer are sequentially formed can be given.

【0058】以上のように積層構造となる発光パネル1
の発光動作時には、TFT11及びDGメモリTFT1
2のスイッチングにより、アノード電極13Aとカソー
ド電極13Cとの間に順方向の電界が生じると、アノー
ド電極13Aから正孔が有機EL層13Bの発光層に注
入され、カソード電極13Cから有機EL層13Bの発
光層に電子が注入される。
The light emitting panel 1 having a laminated structure as described above
During the light emitting operation of the TFT 11 and the DG memory TFT 1.
When a forward electric field is generated between the anode electrode 13A and the cathode electrode 13C due to the switching of No. 2, holes are injected from the anode electrode 13A into the light emitting layer of the organic EL layer 13B, and the cathode electrode 13C to the organic EL layer 13B. Electrons are injected into the light emitting layer of.

【0059】そして、有機EL層13Bの発光層へ正孔
及び電子が輸送されて、発光層にて正孔及び電子が再結
合することによって励起子が生成され、励起子が消滅す
るときに光子が発生して発光する。発生した光子は、ア
ノード電極13A、透明基板Aを順に透過して出力され
る。
Then, holes and electrons are transported to the light emitting layer of the organic EL layer 13B, excitons are generated by recombination of the holes and electrons in the light emitting layer, and photons are generated when the excitons disappear. Occurs and emits light. The generated photons are transmitted through the anode electrode 13A and the transparent substrate A in order and output.

【0060】有機EL層13Bの発光材料の各色の色分
けは、赤、緑、青等の各色を発光する各発光材料を用い
る、又は、白色発光する発光材料に前記各色の蛍光塗料
を混ぜることにより行われる。
Coloring of each color of the light emitting material of the organic EL layer 13B is performed by using each light emitting material which emits each color of red, green, blue or the like, or by mixing the light emitting material which emits white light with the fluorescent paint of each color. Done.

【0061】有機EL層13Bの形成は、以上説明した
有機EL材料をエチレン等の溶媒に溶解させて、発光材
料の溶液を生成し、当該溶液を液滴噴射装置で液滴噴射
させる等の湿式コーティング法や、抵抗加熱蒸着による
ドライ蒸着加熱法により形成される。
The organic EL layer 13B is formed by a wet method in which the above-described organic EL material is dissolved in a solvent such as ethylene to produce a solution of a light emitting material and the solution is ejected by a droplet ejecting device. It is formed by a coating method or a dry vapor deposition heating method by resistance heating vapor deposition.

【0062】次に、図4及び図5を参照してDGメモリ
TFT12の動作を説明する。ここでは、画素P(1,
1)を代表して説明する。図4は、データ消去動作を示
すDGメモリTFT12の断面図であり、図5は、デー
タ書込み動作を示すDGメモリTFT12の断面図であ
る。データとは、有機ELダイオード13の発光の輝度
のデータである。
Next, the operation of the DG memory TFT 12 will be described with reference to FIGS. Here, the pixel P (1,
1) will be described as a representative. FIG. 4 is a sectional view of the DG memory TFT 12 showing a data erasing operation, and FIG. 5 is a sectional view of the DG memory TFT 12 showing a data writing operation. The data is data of the luminance of light emitted from the organic EL diode 13.

【0063】先ず、図4を参照して、DGメモリTFT
12の構造を説明する。図3上の透明基板A上に、ボト
ムゲート12Bから、絶縁層12F、アモルファスシリ
コンのi型半導体の半導体層12E、絶縁層12G、ト
ップゲート12Aまで順に形成する。絶縁層12Fは、
例えば窒化シリコンであり、通常の絶縁膜はSi34
用いられるが、シリコンの原子数比を高くし、結合する
手の余ったシリコンができ、電子が捕捉可能となるトラ
ップ12Faを形成する。実際には、ホールトラップも
存在するが、ホールは高速移動できないため、トップゲ
ート12Aにおけるデータ書込み時の電圧の変動幅が小
さい。絶縁層12Fは、例えば窒化シリコンであり、図
3の隔壁Bの一部である。ボトムゲート12Bからトッ
プゲート12Aに至るまでの各構成部材による構造は、
縦方向に対して少なくとも部分的に重なるように配置さ
れている。なお図中省略してあるが、半導体層12Eと
ソース、ドレイン電極に相当する端子12C、端子12
Dとの間にn型不純物イオンを含む不純物半導体層が介
在してもよい。
First, referring to FIG. 4, a DG memory TFT
The structure of 12 will be described. On the transparent substrate A shown in FIG. 3, a bottom gate 12B, an insulating layer 12F, a semiconductor layer 12E of an amorphous silicon i-type semiconductor, an insulating layer 12G, and a top gate 12A are sequentially formed. The insulating layer 12F is
For example, it is silicon nitride, and Si 3 N 4 is used as a usual insulating film, but the atomic ratio of silicon is increased to form silicon with a surplus of bonding and form a trap 12Fa capable of trapping electrons. . Actually, there is a hole trap, but the hole cannot move at high speed, and therefore the fluctuation range of the voltage at the time of writing data in the top gate 12A is small. The insulating layer 12F is, for example, silicon nitride and is a part of the partition wall B in FIG. The structure of each component from the bottom gate 12B to the top gate 12A is
It is arranged so as to at least partially overlap in the vertical direction. Although not shown in the figure, the semiconductor layer 12E and the terminals 12C and 12 corresponding to the source and drain electrodes, respectively.
An impurity semiconductor layer containing n-type impurity ions may be interposed between the impurity semiconductor layer and D.

【0064】ここで、DGメモリTFT12のデータ消
去動作を図4を参照して説明する。データ消去動作時に
は、アドレス信号であるハイ信号(例えばここでは15
Vとする)をアドレス線Y1からTFT11のゲートに
入力し、TFT11がONし、ハイ信号(15V)をデ
ータ線X1からTFT11の端子(ドレイン)に入力
し、データ線X1のデータ信号であるハイ信号(15
V)(消去制御信号)の電位をTFT11のドレイン、
ソースを介してトップゲート12Aに伝える。
Here, the data erasing operation of the DG memory TFT 12 will be described with reference to FIG. At the time of data erasing operation, a high signal (for example, 15
V) is input to the gate of the TFT 11 from the address line Y1, the TFT 11 is turned on, and a high signal (15 V) is input to the terminal (drain) of the TFT 11 from the data line X1 to obtain the high level data signal of the data line X1. Signal (15
V) (erase control signal) potential is applied to the drain of the TFT 11,
It is transmitted to the top gate 12A via the source.

【0065】DGメモリTFT12では、電源電圧電極
Zから電源電圧Vdd(15V)がボトムゲート12B
及び端子12C(ドレイン)に印加され、ボトムゲート
12Bがハイ信号の電圧(15V)であるので、ドレイ
ン12Cと電位の低い端子12D(ソース、例えば5
V、つまりDGメモリTFT12には10V分圧されて
いる)との間の半導体層12Eに電子キャリアのチャネ
ルを形成し、電源電圧電極Zから、ドレイン12C、ソ
ース12D、有機ELダイオード13を介して基準電圧
電極Wへ電流が流れ、有機ELダイオード13を発光す
る。
In the DG memory TFT 12, the power supply voltage Vdd (15V) from the power supply voltage electrode Z is applied to the bottom gate 12B.
Since the bottom gate 12B has a high signal voltage (15V) applied to the terminal 12C (drain) and the terminal 12C (drain), the drain 12C and the terminal 12D (source, for example, 5) having a low potential are applied.
V, that is, the DG memory TFT 12 is divided by 10 V) to form a channel of an electron carrier in the semiconductor layer 12E between the power source voltage electrode Z, the drain 12C, the source 12D, and the organic EL diode 13. A current flows to the reference voltage electrode W, and the organic EL diode 13 emits light.

【0066】これと同時に、トップゲート12Aのハイ
信号の電圧(15V)により、絶縁層12Fのトラップ
12Faに捕捉されていた電子が引張り出されて、半導
体層12Eに取込まれ、チャネルの形成を阻害すること
はなくなる。
At the same time, the high signal voltage (15 V) of the top gate 12A pulls out the electrons trapped in the trap 12Fa of the insulating layer 12F and takes them into the semiconductor layer 12E to form a channel. It will not interfere.

【0067】ここで、DGメモリTFT12のデータ書
込み動作を図5を参照して説明する。データ書込み動作
時には、アドレス信号であるロー信号(ここでは、例え
ば0Vとする)をアドレス線Y1からTFT11のゲー
トに入力する。このとき、データ信号である、0〜−1
5Vの任意の信号(発光制御信号)をデータ線X1から
TFT11のソース端子に入力される。TFT11のゲ
ート電位は、ほぼTFT11のソースより高い電位のた
めにTFT11がONし、0〜−15Vの信号の電位が
データ線X1、TFT11を介してトップゲート12A
に印加される。
Here, the data writing operation of the DG memory TFT 12 will be described with reference to FIG. At the time of data writing operation, a low signal (here, for example, 0 V) which is an address signal is input from the address line Y1 to the gate of the TFT 11. At this time, the data signal is 0 to -1.
An arbitrary signal of 5 V (light emission control signal) is input from the data line X1 to the source terminal of the TFT 11. Since the gate potential of the TFT 11 is higher than that of the source of the TFT 11, the TFT 11 is turned on, and the potential of the signal of 0 to −15 V is applied to the top gate 12A via the data line X1 and the TFT 11.
Applied to.

【0068】電源電圧電極Z及び基準電圧電極W間に
は、DGメモリTFT12及び有機ELダイオード13
が直列に接続され、両端には、電源電圧Vdd及び基準
電圧Vssが常時印加されている。したがって、DGメ
モリTFT12にnチャネルが形成されると、DGメモ
リTFT12の低いオン抵抗により有機ELダイオード
13の分圧比が高くなり発光する。逆にDGメモリTF
T12にnチャネルが形成されないと、DGメモリTF
T12の高いオフ抵抗により有機ELダイオード13の
アノード、カソード間には発光に十分な電流が流れるほ
どの電圧が分圧されない。このようにDGメモリTFT
12のソース、ドレイン間電圧はチャネルの状態により
制御されるが、チャネルは、トップゲート電圧、ボトム
ゲート電圧、及びトップゲート12A、ボトムゲート1
2B間に蓄積された電荷により制御される。
Between the power supply voltage electrode Z and the reference voltage electrode W, the DG memory TFT 12 and the organic EL diode 13 are provided.
Are connected in series, and the power supply voltage Vdd and the reference voltage Vss are constantly applied to both ends. Therefore, when the n channel is formed in the DG memory TFT 12, the partial pressure ratio of the organic EL diode 13 becomes high due to the low ON resistance of the DG memory TFT 12, and light is emitted. On the contrary, DG memory TF
If the n channel is not formed in T12, the DG memory TF
Due to the high off-resistance of T12, a voltage sufficient to flow a current for light emission is not divided between the anode and cathode of the organic EL diode 13. Thus, DG memory TFT
The voltage between the source and drain of 12 is controlled by the state of the channel, but the channel has a top gate voltage, a bottom gate voltage, a top gate 12A, and a bottom gate 1
It is controlled by the charge accumulated between 2B.

【0069】データ書込み時に、DGメモリTFT12
では、電源電圧電極Zから電源電圧Vdd(15V)が
ボトムゲート12Bに印加されている。一方、対向して
いるトップゲート12Aの0〜−15Vの信号の電位が
印加されているため、半導体層12E内の電子が反発さ
れて、絶縁層12Fのトラップ12Faに捕捉される。
ボトムゲート12Bは定電圧なので、捕捉される電子の
量は、トップゲート12Aに印加される発光制御信号電
位で一義的に制御され、当該電位が、0Vに近いほど電
子は反発せずトラップ12Faに捕捉されなく、−15
Vに近いほど反発する作用が増大するのでトラップ12
Faに捕捉される電子の量が増大する。
When writing data, the DG memory TFT 12
Then, the power supply voltage Vdd (15V) is applied from the power supply voltage electrode Z to the bottom gate 12B. On the other hand, since the signal potential of 0 to −15 V of the facing top gate 12A is applied, the electrons in the semiconductor layer 12E are repelled and are trapped by the trap 12Fa of the insulating layer 12F.
Since the bottom gate 12B is a constant voltage, the amount of trapped electrons is uniquely controlled by the light emission control signal potential applied to the top gate 12A, and the closer the potential is to 0V, the more electrons are not repelled and the trap 12Fa is trapped. Not captured, -15
The closer to V, the greater the repulsive action, so trap 12
The amount of electrons trapped in Fa increases.

【0070】そして、半導体層12Fで電子キャリアを
形成する電子が捕捉されるので、捕捉された電子が多い
ほど電流が流れなくなる。なお、トラップ12Faに捕
捉される電子は、チャネルを形成する電子の他にも、半
導体層12Eに周りの光が当たることにより発生する電
子−正孔対の中の電子も捕捉される。
Since the electrons forming the electron carriers are trapped in the semiconductor layer 12F, the more the trapped electrons are, the less current flows. In addition to the electrons forming the channel, the electrons captured in the trap 12Fa are also captured in the electron-hole pairs generated by the ambient light hitting the semiconductor layer 12E.

【0071】このように、データ線X1の電位(0〜−
15V)を制御することにより、有機ELダイオード1
3に流れる電流を制御し、有機ELダイオード13の発
光の輝度を制御できる。そして、DGメモリTFT12
にデータ線X1の0〜−15Vの任意の電位にしたがっ
た電荷が、リフレッシュ不要で長時間記憶可能に、輝度
データ(チャネル状態)としてトラップ12Faに蓄積
されることで記憶される。
In this way, the potential of the data line X1 (0 to −
15V) to control the organic EL diode 1
It is possible to control the current flowing through the element 3 and control the luminance of the light emitted from the organic EL diode 13. Then, the DG memory TFT 12
The electric charge according to an arbitrary potential of 0 to -15 V of the data line X1 is stored in the trap 12Fa as luminance data (channel state) so that it can be stored for a long time without refreshing.

【0072】次に、DGメモリTFT12のデータ読込
み動作動作を説明する。有機ELダイオード13は、デ
ータ書込み動作中は、トップゲート12Aの0〜−15
Vの信号の電位に対応した輝度の発光を行う。画素P
(1,1)のデータ書込み動作後は、データ読込み動作
として、アドレス線Y1から−15Vの信号の電位をT
FT11のゲートに入力してOFFし、データ線X1の
電位がDGメモリTFT12のトップゲート12Aに伝
わらないようにすれば、DGメモリTFT12の半導体
層12Eに前回のデータ書込み動作時の発光の輝度デー
タ(0〜−15Vの電位に対応するチャネル状態)が記
憶されているので、データ消去動作を行わない限り、有
機ELダイオード11を前回のデータ書込み動作時に記
憶した輝度に発光させ続ける。
Next, the data read operation of the DG memory TFT 12 will be described. The organic EL diode 13 has 0 to −15 of the top gate 12A during the data writing operation.
Light emission is performed with a luminance corresponding to the potential of the V signal. Pixel P
After the (1,1) data write operation, the potential of the signal of −15V from the address line Y1 is changed to T as the data read operation.
If the potential of the data line X1 is prevented from being transmitted to the top gate 12A of the DG memory TFT 12 by inputting it to the gate of the FT11 and turning it off, the luminance data of the light emission at the time of the previous data writing operation to the semiconductor layer 12E of the DG memory TFT Since (the channel state corresponding to the potential of 0 to -15V) is stored, the organic EL diode 11 continues to emit light at the brightness stored in the previous data writing operation unless the data erasing operation is performed.

【0073】これは、DGメモリTFT12の発光動作
では、アドレス線Y1から−15Vの信号の電位をTF
T11のゲートに入力し、データ線X1の電位がDGメ
モリTFT12のトップゲート12Aに伝わらないよう
にするので、トップゲート12Aとソース12Dとの間
の寄生容量で構成するコンデンサが十分に大きいので、
トップゲート12Aに前回のデータ書込み動作時の電圧
が記憶されている。このように、トラップ12Faに蓄
積された電子による電荷並びにトップゲート12A及び
ソース12D間のコンデンサに蓄積された電荷での電界
によって、定電源4からの電源電圧Vddにより形成さ
れるボトムゲート12Bの電界を抑制又は相殺すること
によりDGメモリTFT12のチャネルの大きさを制御
している。
This is because in the light emitting operation of the DG memory TFT 12, the potential of the signal of −15 V from the address line Y1 is changed to TF.
Since it is inputted to the gate of T11 so that the potential of the data line X1 is not transmitted to the top gate 12A of the DG memory TFT 12, the capacitor constituted by the parasitic capacitance between the top gate 12A and the source 12D is sufficiently large.
The voltage at the time of the previous data write operation is stored in the top gate 12A. As described above, the electric field of the bottom gate 12B formed by the power supply voltage Vdd from the constant power supply 4 is generated by the electric field of the electric charge accumulated by the electrons accumulated in the trap 12Fa and the electric charge accumulated in the capacitor between the top gate 12A and the source 12D. The channel size of the DG memory TFT 12 is controlled by suppressing or canceling.

【0074】ボトムゲート12Bによるチャネル形成を
阻害するためにトップゲート12Aによりトラップ12
Faに捕捉される電子の量(トラップ12Faに捕捉さ
れる電子量)は、データ書込み動作時のトップゲート1
2Aの電圧の大きさの絶対値とトップゲート12Aへの
データ書込み時間の積に比例する。
The trap 12 is formed by the top gate 12A in order to prevent channel formation by the bottom gate 12B.
The amount of electrons trapped in Fa (the amount of electrons trapped in the trap 12Fa) is equal to that of the top gate 1 during the data write operation.
It is proportional to the product of the absolute value of the voltage magnitude of 2 A and the data writing time to the top gate 12A.

【0075】ここで、図6を参照して、DGメモリTF
T12の電圧−電流特性を説明する。図6は、DGメモ
リTFT12の電圧−電流特性例を示すグラフである。
図6に示すように、DGメモリTFT12のボトムゲー
ト12Bの電圧Vg(=電源電圧Vdd)に対する、D
GメモリTFT12のドレイン12Cからソース12D
に流れるドレイン電流Idは、データ消去動作を完了し
たデータ消去状態(I)から最低の輝度にデータ書込み
動作を終了した最低輝度データ書込み状態(II)に変化
させると、図6のようにシフトする。
Now, referring to FIG. 6, the DG memory TF
The voltage-current characteristic of T12 will be described. FIG. 6 is a graph showing an example of voltage-current characteristics of the DG memory TFT 12.
As shown in FIG. 6, D with respect to the voltage Vg (= power supply voltage Vdd) of the bottom gate 12B of the DG memory TFT 12
The drain 12C to the source 12D of the G memory TFT 12
The drain current Id flowing in the area shifts as shown in FIG. 6 when the data erasing state (I) in which the data erasing operation is completed is changed to the lowest luminance data writing state (II) in which the data writing operation is finished to the lowest luminance. .

【0076】図6のグラフ上の最低輝度データ書込み状
態(II)は、データ線X1を−15VにしてDGメモリ
TFT12のドレイン12C、ソース12D間に流れる
電流を最も低くするようにデータ書込みをした状態であ
り、図示しないが、データ線X1を0V〜−15Vにし
て書込みをした状態は、データ消去状態(I)と最低輝
度データ書込み状態(II)との間に位置する。よって、
電源電圧Vddを15Vに固定するので、ドレイン電流
Idを、データ消去状態のドレイン電流値Id1と、デ
ータ書込み最大状態(II)のドレイン電流値Id2との
間で自在に制御可能となる。
In the lowest brightness data writing state (II) on the graph of FIG. 6, data writing is performed so that the data line X1 is set to −15 V to minimize the current flowing between the drain 12C and the source 12D of the DG memory TFT 12. Although not shown, the state in which the data line X1 is written with 0V to −15V is located between the data erased state (I) and the lowest luminance data written state (II). Therefore,
Since the power supply voltage Vdd is fixed at 15V, the drain current Id can be freely controlled between the drain current value Id1 in the data erase state and the drain current value Id2 in the data write maximum state (II).

【0077】次に、図7を参照して、アドレス線Y1〜
Yn,データ線X1〜Xmに入力する信号によるDGメ
モリTFT12の画素P(1,1)〜P(m,n)の動
作タイミングを説明する。図7は、アドレス線Y1,Y
2、データ線X1,X2に入力する信号のタイミングチ
ャートである。
Next, referring to FIG. 7, address lines Y1 ...
The operation timing of the pixels P (1,1) to P (m, n) of the DG memory TFT 12 according to signals input to Yn and the data lines X1 to Xm will be described. FIG. 7 shows address lines Y1 and Y.
2 is a timing chart of signals input to the data lines X1 and X2.

【0078】全体の流れとしては、アドレス線Y1を選
択して、アドレス線Y1の信号及びデータ線X1〜Xm
の信号により、画素P(1,1)〜P(m,1)を同時
にデータ消去動作及びデータ書込み動作させ、次に、同
様に、アドレス線Y2を選択して、画素P(1,2)〜
P(m,2)を同時にデータ消去動作及びデータ書込み
動作させ、順に動作させていき、最終的に、同様に、ア
ドレス線Ynを選択して、画素P(1,n)〜P(m,
n)を同時にデータ消去動作及びデータ書込み動作さ
せ、この動作を繰返して、画素P(1,1)〜P(m,
n)の有機ELダイオード13の輝度を制御する。予
め、全てのアドレス線Y1〜Ynは非選択とし、−15
Vの一定の信号が入力されているものとする。ここで
は、データ書込み期間において、データ線X1〜Xmに
0〜−15Vの信号を入力し、データ線X1〜Xmに0
を入力する場合、DGメモリTFT12の半導体層12
Eにおいて最大のキャリアを形成するので有機ELダイ
オード13は最も明るい輝度になるとし、データ線X1
〜Xmに−15Vを入力する場合、最もキャリア形成を
阻害するので、有機ELダイオード13は最も暗い輝度
になるとする。
In the overall flow, the address line Y1 is selected, and the signal of the address line Y1 and the data lines X1 to Xm are selected.
Signal causes the pixels P (1,1) to P (m, 1) to simultaneously perform the data erasing operation and the data writing operation, and then similarly, the address line Y2 is selected and the pixel P (1,2) is selected. ~
P (m, 2) are simultaneously operated to erase data and write data, and are sequentially operated. Finally, similarly, the address line Yn is selected and pixels P (1, n) to P (m,
n) are simultaneously subjected to the data erasing operation and the data writing operation, and this operation is repeated to repeat the operations of the pixels P (1, 1) to P (m,
The brightness of the organic EL diode 13 of n) is controlled. In advance, all address lines Y1 to Yn are unselected, and −15
It is assumed that a constant V signal is input. Here, in the data writing period, a signal of 0 to −15 V is input to the data lines X1 to Xm and 0 is input to the data lines X1 to Xm.
When inputting, the semiconductor layer 12 of the DG memory TFT 12
Since the largest carrier is formed in E, the organic EL diode 13 is assumed to have the brightest brightness, and the data line X1
When −15 V is input to −Xm, carrier formation is most hindered, so that the organic EL diode 13 has the darkest luminance.

【0079】ここでは、全画素P(1,1)〜P(m,
n)のうち図2に示すアドレス線Y1,Y2、データ線
X1,X2の接続された画素P(1,1),P(1,
2),P(2,1),P(2,2)の動作タイミングを
代表して説明する。先ず、アドレス線Y1選択のデータ
消去期間において、アドレスドライバ2がアドレス線
Y1に15V、それ以外のアドレス線Y2に−15Vを
出力し、コントローラ5からの制御信号に応じてデータ
ドライバ3がデータ線X1,X2に15Vの信号をパラ
出力して、画素P(1,1)及び画素P(2,1)のデ
ータ消去動作を行う。
Here, all pixels P (1,1) to P (m,
n), the pixels P (1,1), P (1,) to which the address lines Y1, Y2 and the data lines X1, X2 shown in FIG. 2 are connected.
The operation timings of 2), P (2,1), and P (2,2) will be representatively described. First, in the data erasing period for selecting the address line Y1, the address driver 2 outputs 15V to the address line Y1 and −15V to the other address lines Y2, and the data driver 3 outputs the data line 3 in response to the control signal from the controller 5. A signal of 15V is para-outputted to X1 and X2 to perform the data erasing operation of the pixel P (1,1) and the pixel P (2,1).

【0080】そして、アドレス線Y1選択のデータ書込
み期間において、アドレス線Y1に0V、データ線X
1,X2に0〜−15Vの信号を入力して、画素P
(1,1)及び画素P(2,1)のデータ書込み動作を
行う。ここでは、データドライバ3がデータ線X1に0
Vの信号を入力して、データ線X2に−15Vの信号を
入力して、画素P(1,1)の輝度を最高に明るく輝度
データを書込みし、画素P(2,1)の輝度を最高に暗
く輝度データを書込みしている。なお、アドレス線Y1
選択のデータ消去期間及びデータ書込み期間では、
アドレス線Y2を非選択とし、−15Vの一定の信号を
入力し、画素P(1,2),P(2,2)の輝度は、そ
れぞれ前回のデータ書込み動作で書込まれた輝度データ
に対応して発光されている。
Then, in the data write period for selecting the address line Y1, 0 V is applied to the address line Y1 and the data line X
A signal of 0 to -15 V is input to 1, X2, and the pixel P
The data write operation of (1,1) and the pixel P (2,1) is performed. Here, the data driver 3 sets 0 to the data line X1.
V signal is input, -15V signal is input to the data line X2, the brightness of the pixel P (1,1) is maximized to write brightness data, and the brightness of the pixel P (2,1) is changed. The brightness data is written in the darkest. The address line Y1
In the selected data erasing period and data writing period,
The address line Y2 is not selected, a constant signal of -15 V is input, and the brightness of the pixels P (1,2) and P (2,2) is the brightness data written in the previous data write operation. Correspondingly emitted.

【0081】そして、アドレス線Y2選択のデータ消去
期間において、アドレス線Y2に15V、データ線X
1,X2に15Vの信号を入力して、画素P(1,2)
及び画素P(2,2)のデータ消去動作を行う。また、
アドレス線Y1を非選択として、−15Vの一定の信号
を入力し、画素P(1,1),P(2,1)の輝度は、
それぞれデータ書込み期間で書込まれた輝度データに
対応して発光されている。
Then, in the data erasing period for selecting the address line Y2, 15 V is applied to the address line Y2 and the data line X
Input a 15V signal to 1, X2, and set the pixel P (1, 2)
And the data erasing operation of the pixel P (2,2) is performed. Also,
When the address line Y1 is not selected and a constant signal of −15 V is input, the brightness of the pixels P (1,1) and P (2,1) is
Light is emitted corresponding to the brightness data written in each data writing period.

【0082】そして、アドレス線Y2選択のデータ書込
み期間において、アドレス線Y2に0V、データ線X
1,X2に0〜−15Vの信号を入力して、画素P
(1,2)及び画素P(2,2)のデータ書込み動作を
行う。ここでは、データ線X1に0Vの信号を入力し
て、データ線X2に−7.5Vの信号を入力して、画素
P(1,2)の輝度を最高に明るく輝度データを書込み
し、画素P(2,2)の輝度を中間値にする輝度データ
を書込みしている。
Then, in the data writing period for selecting the address line Y2, 0 V is applied to the address line Y2 and the data line X
A signal of 0 to -15 V is input to 1, X2, and the pixel P
The data write operation of (1, 2) and the pixel P (2, 2) is performed. Here, a 0V signal is input to the data line X1, a -7.5V signal is input to the data line X2, and the brightness of the pixel P (1,2) is maximized to write the brightness data. Luminance data is written to set the luminance of P (2, 2) to an intermediate value.

【0083】そして、アドレス線Y1,Y2非選択のデ
ータ読込み期間において、アドレス線Y1を非選択と
したまま、アドレス線Y2を非選択とし、−15Vの一
定の信号を入力し、画素P(1,2),P(2,2)の
輝度は、それぞれデータ書込み期間で書込まれた輝度
データに対応して発光されている。
Then, in the data reading period in which the address lines Y1 and Y2 are not selected, the address line Y2 is deselected while the address line Y1 is deselected, and a constant signal of -15 V is input to the pixel P (1 , 2) and P (2, 2) are emitted corresponding to the luminance data written in the data writing period.

【0084】そして、アドレス線Y1,Y2を非選択と
したまま、図示しないが、アドレス線Y3〜Ynを順に
選択していく。最後のアドレス線Ynの選択後、次のア
ドレス線Y1選択を行い、画素P(1,1)及び画素P
(2,1)のデータ消去動作及びデータ書込み動作を行
う。同様に、今回のアドレス線Y1の選択後、次のアド
レス線Y2選択を行い、画素P(1,2)及び画素P
(2,2)のデータ消去動作及びデータ書込み動作を行
う。
Although not shown, the address lines Y3 to Yn are sequentially selected while the address lines Y1 and Y2 are not selected. After the last address line Yn is selected, the next address line Y1 is selected, and the pixel P (1,1) and the pixel P are selected.
The data erasing operation and the data writing operation of (2, 1) are performed. Similarly, after the address line Y1 is selected this time, the next address line Y2 is selected, and the pixel P (1,2) and the pixel P are selected.
The data erase operation and the data write operation of (2, 2) are performed.

【0085】画素P(1,1),P(2,1)は、アド
レス線Y1選択のデータ消去期間で最高の輝度に発光
し、アドレス線Y1選択のデータ書込み期間でデータ
書込み動作完了時に目的の輝度に発光するが、選択期間
、は、非選択期間、に比べ極短い期間である
ので、全体としては、目的の輝度に発光されているよう
に表示される。画素P(1,2),P(2,2)につい
ても同様である。
Pixels P (1,1) and P (2,1) emit light of the highest luminance in the data erasing period of selecting the address line Y1 and have the purpose of completing the data writing operation in the data writing period of selecting the address line Y1. However, since the selected period is a very short period compared to the non-selected period, it is displayed as if it were emitted to the target luminance as a whole. The same applies to the pixels P (1,2) and P (2,2).

【0086】ここで述べたタイミングは、各画素に周期
的にデータ消去動作及びデータ書込み動作を行うタイミ
ングであるが、ある画素で、データ書込み動作をした
後、次の周期的なデータ書込み動作で同じ輝度データを
書込む場合、その画素中のDGメモリTFT12に前回
に書込んだ輝度データが記憶されているので、データ消
去動作及びデータ書込み動作を省略することができる。
このとき、その画素に接続されるアドレス線を非選択
(−15Vの信号を入力)にし、その画素に接続される
アドレス線に信号を入力しない(0Vの信号を入力)。
The timing described here is the timing at which the data erasing operation and the data writing operation are periodically performed on each pixel. However, after the data writing operation is performed on a certain pixel, the next periodic data writing operation is performed. When the same brightness data is written, since the brightness data written previously is stored in the DG memory TFT 12 in the pixel, the data erasing operation and the data writing operation can be omitted.
At this time, the address line connected to the pixel is deselected (a signal of −15V is input), and no signal is input to the address line connected to the pixel (a signal of 0V is input).

【0087】例えば、発光パネル1の画像を、静止画像
にする場合、全画素の輝度を変化させないので、全デー
タ線X1〜Xmに制御信号を入力するためデータドライ
バ3を動作させる必要がなく、アドレスドライバ2から
は−15Vの一定の信号を全アドレス線Y1〜Ymに入
力すればよく、データドライバ3及びアドレスドライバ
2で生成する信号の切換を行う必要がないので、全体と
して消費電力を小さくすることができる。
For example, when the image of the light emitting panel 1 is a still image, since the brightness of all pixels is not changed, it is not necessary to operate the data driver 3 to input control signals to all the data lines X1 to Xm. It is only necessary to input a constant -15V signal from the address driver 2 to all the address lines Y1 to Ym, and it is not necessary to switch the signals generated by the data driver 3 and the address driver 2, so that the overall power consumption is small. can do.

【0088】また、あるアドレス線選択時のデータ書込
み期間中に、当該アドレス線に対応した画素のデータ書
込み動作が完了する場合、データ書込み期間が終了する
まで、データ書込みが完了した画素に接続されたデータ
線に引き続いて0Vを入力する構成でもよい。つまり、
トラップ12Faに蓄積された電子による電荷のみでボ
トムゲート12Bの電界を抑制又は相殺することにより
チャネルの大きさを制御している。この場合、データ書
込みが完了した画素に対してデータドライバ3での信号
生成、出力を停止しているので、データドライバ3の消
費電力を低くできる。
When the data writing operation of the pixel corresponding to the address line is completed during the data writing period when a certain address line is selected, the pixel connected to the data writing is connected until the end of the data writing period. A configuration may be adopted in which 0V is input subsequently to the data line. That is,
The size of the channel is controlled by suppressing or canceling the electric field of the bottom gate 12B only by the charges due to the electrons accumulated in the trap 12Fa. In this case, since signal generation and output in the data driver 3 are stopped for the pixels for which data writing has been completed, the power consumption of the data driver 3 can be reduced.

【0089】よって、本実施の形態によれば、周期的に
リフレッシュを行うことなく、画素毎の発光の輝度デー
タ(チャネル状態)をDGメモリTFT12で記憶する
ので、常時画素を発光させつつ、前フレームと同じ輝度
の画素についてはデータ消去動作及びデータ書込み動作
を行う必要がなく、データドライバ及びアドレスドライ
バで信号の切換の動作を行う必要がないので、消費電力
及び処理の負荷を低下させることができる。特に、静止
画像を表示させる場合、データドライバを停止させ、ア
ドレスドライバに一定の電圧の信号を生成させるので、
大幅に消費電力及び処理の負荷を低下させることができ
る。
Therefore, according to the present embodiment, the luminance data (channel state) of the light emission for each pixel is stored in the DG memory TFT 12 without performing the refresh periodically, so that the pixel is always made to emit light while Since it is not necessary to perform the data erasing operation and the data writing operation for the pixel having the same brightness as that of the frame, and it is not necessary to perform the signal switching operation by the data driver and the address driver, the power consumption and the processing load can be reduced. it can. Especially when displaying a still image, the data driver is stopped and the address driver generates a signal of a constant voltage.
The power consumption and the processing load can be significantly reduced.

【0090】また、DGメモリTFT12がトラップ1
2Faにより電子を捕捉するので、トランジスタの寄生
容量以外のコンデンサを設ける必要もなく、スイッチン
グ部材をTFT11とDGメモリTFT12の2個にす
るので、画素毎の有機ELダイオード13の面積割合を
大きくして開口率を上げることができ、画素の小型化及
び高精細な表示を図り、また開口率の上昇により同輝度
の表示において画素毎の有機ELダイオードの発光の輝
度を抑えて流す電流の量を抑えることができ、消費電力
を更に低下させることができる。
The DG memory TFT 12 has the trap 1
Since the electrons are captured by 2Fa, it is not necessary to provide a capacitor other than the parasitic capacitance of the transistor, and two switching members, the TFT 11 and the DG memory TFT 12, are used. Therefore, the area ratio of the organic EL diode 13 for each pixel is increased. The aperture ratio can be increased, the pixel can be miniaturized and high-definition display can be achieved, and the increase in the aperture ratio can suppress the luminance of the light emission of the organic EL diode for each pixel in the display of the same luminance to suppress the amount of current flowing. Therefore, the power consumption can be further reduced.

【0091】また、データ書込み動作において、DGメ
モリTFT12のトップゲート12Aに、0〜−15V
の任意の電圧を印加し、任意の輝度の発光に制御するこ
とができる。
In the data writing operation, 0 to -15V is applied to the top gate 12A of the DG memory TFT 12.
It is possible to control the emission of light of any brightness by applying any voltage of.

【0092】更に、データ消去動作時に15Vの信号、
データ書込み動作時に0〜−15Vの信号をデータ線に
入力し、DGメモリTFT12のトップゲート12Aに
強い正負のバイアスを繰返し印加するので片方のバイア
スを長時間印加することによる劣化を防ぎ、DGメモリ
TFT12の寿命を長くすることができる。
Furthermore, during the data erasing operation, a signal of 15V,
When a data write operation is performed, a signal of 0 to -15 V is input to the data line, and a strong positive and negative bias is repeatedly applied to the top gate 12A of the DG memory TFT 12, so deterioration due to long-term application of one bias is prevented, and the DG memory The life of the TFT 12 can be extended.

【0093】なお、本実施の形態では、発光手段とし
て、有機ELダイオード13を使用しているが、無機E
Lダイオード等の他の発光素子を用いる構成にしてもよ
く、また、発光パネルにLCD(Liquid Crystal Displ
ay)を採用し、各画素毎に設けられた液晶に印加する電
圧を制御することにより、バックライト等の発光源から
の光に対する液晶での光透過を制御して、画像を表示さ
せる構成にしてもよい。
Although the organic EL diode 13 is used as the light emitting means in the present embodiment, the inorganic EL diode 13 is used.
A configuration using other light emitting elements such as an L diode may be used, and an LCD (Liquid Crystal Displ
ay) is adopted and the voltage applied to the liquid crystal provided for each pixel is controlled to control the light transmission through the liquid crystal to the light from the light emitting source such as a backlight, thereby displaying an image. May be.

【0094】また、本実施の形態は、TFT11及びD
GメモリTFT12に、nチャネルを形成する半導体層
にアモルファスシリコンを用いるものを採用したが、ポ
リシリコン等を用いるものを採用してもよい。
Further, in this embodiment, the TFT 11 and the D
Although the G memory TFT 12 uses amorphous silicon for the semiconductor layer forming the n-channel, it may use polysilicon or the like.

【0095】更に、データ書込み動作において、DGメ
モリTFT12のトップゲート12Aに、0〜−15V
の電圧で、前回のデータ書込み動作に比べて絶対値の大
きな電圧を印加する場合、当該データ書込み動作の直前
のデータ消去操作を省略しても、半導体層12Eに目的
の電流を流すチャネルを形成させることができる。最高
輝度に発光させるデータ消去動作を省略する場合、消費
電力及び処理の負荷を抑えることができる。
Furthermore, in the data write operation, 0 to -15V is applied to the top gate 12A of the DG memory TFT 12.
When a voltage whose absolute value is larger than that of the previous data write operation is applied with the voltage of, the channel for flowing a target current to the semiconductor layer 12E is formed even if the data erasing operation immediately before the data write operation is omitted. Can be made. When omitting the data erasing operation for emitting light at the maximum brightness, it is possible to suppress power consumption and processing load.

【0096】以上、本発明の実施の形態につき説明した
が、本発明は、必ずしも上述した手段及び手法にのみ限
定されるものではなく、本発明にいう目的を達成し、本
発明にいう効果を有する範囲内において適宜に変更実施
が可能なものである。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not necessarily limited to only the above-described means and methods, and the objects referred to in the present invention can be achieved and the effects referred to in the present invention can be achieved. Modifications can be appropriately made within the range.

【0097】[0097]

【発明の効果】請求項1又は6記載の発明によれば、リ
フレッシュを行うことなく、画素毎の発光の輝度データ
を消去、書込み可能に記憶駆動手段で長時間記憶し、当
該記憶された輝度データに対応して常時画素を発光させ
るので、消費電力を低下させることができる。また、画
素のスイッチング部材として、選択手段及び記憶制御手
段のみを設けているので、画素毎の発光手段の面積割合
を大きくするので、一画素全体の面積をより小さくして
高精細な表示が可能となり、消費電力を更に低下させる
ことができる。
According to the present invention, the luminance data of the light emission of each pixel can be erased and stored in the memory drive means for a long time without being refreshed, and the stored luminance can be stored. Since the pixel always emits light in accordance with the data, it is possible to reduce the power consumption. Further, since only the selection means and the storage control means are provided as the switching member of the pixel, the area ratio of the light emitting means for each pixel is increased, so that the area of one pixel as a whole can be made smaller and high-definition display is possible. Therefore, the power consumption can be further reduced.

【0098】また、請求項2又は7記載の発明によれ
ば、記憶駆動手段に消去制御信号及び発光制御信号を繰
返し入力させるので、同一信号の長時間入力による記憶
駆動手段の劣化を防ぐことができる。
According to the second or seventh aspect of the present invention, since the erase control signal and the light emission control signal are repeatedly input to the memory drive means, deterioration of the memory drive means due to long-time input of the same signal can be prevented. it can.

【0099】請求項3又は8記載の発明によれば、前回
選択時と同じ輝度の画素については輝度データの消去及
び書込みを行う必要がなく、その画素への制御信号の生
成を行う必要がないので、処理の負担及び消費電力を低
下させることができる。特に、静止画像を表示させる場
合、全画素への制御信号の生成手段を停止できるので、
大幅に消費電力及び処理の負荷を低下させることができ
る。
According to the invention of claim 3 or 8, it is not necessary to erase and write the brightness data for the pixel having the same brightness as that of the previous selection, and it is not necessary to generate the control signal to the pixel. Therefore, the processing load and power consumption can be reduced. In particular, when displaying a still image, the means for generating control signals for all pixels can be stopped,
The power consumption and the processing load can be significantly reduced.

【0100】請求項4又は9記載の発明によれば、各画
素を連続的な任意の発光の輝度に制御して発光すること
ができる。
According to the invention of claim 4 or 9, it is possible to control each pixel to emit light of continuous arbitrary emission.

【0101】請求項5記載の発明によれば、データ消去
手順を実行する必要がないデータ書込み手順を行う場合
の、データ消去手順を省略するので、データ消去手順実
行の負荷及びその消費電力を低下させることができる。
According to the invention of claim 5, the data erasing procedure is omitted when the data erasing procedure which does not require the data erasing procedure is performed. Therefore, the load of executing the data erasing procedure and the power consumption thereof are reduced. Can be made.

【0102】請求項10記載の発明によれば、選択手段
にTFT、記憶駆動手段にDGメモリTFTを使用し、
選択信号及び制御信号の電圧により制御することができ
る。
According to the tenth aspect of the invention, a TFT is used as the selecting means and a DG memory TFT is used as the memory driving means,
It can be controlled by the voltages of the selection signal and the control signal.

【0103】請求項11記載の発明によれば、前記DG
メモリTFTを縦構造とし、さらに電子を捕捉する絶縁
層を備えるので、別途コンデンサを設ける必要がなく、
省スペース化できるので、一画素あたりの面積をより小
さくして高精細な表示が可能となる。
According to the invention of claim 11, the DG
Since the memory TFT has a vertical structure and further has an insulating layer for trapping electrons, it is not necessary to provide a separate capacitor,
Since the space can be saved, the area per pixel can be made smaller and high-definition display can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態のディスプレイαを示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a display α according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す発光パネル1の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of light emitting panel 1 shown in FIG.

【図3】図1に示す発光パネル1の概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the light emitting panel 1 shown in FIG.

【図4】データ消去動作を示すDGメモリTFT12の
断面図である。
FIG. 4 is a sectional view of the DG memory TFT 12 showing a data erasing operation.

【図5】データ書込み動作を示すDGメモリTFT12
の断面図である。
FIG. 5 is a DG memory TFT 12 showing a data writing operation.
FIG.

【図6】DGメモリTFT12の電圧−電流特性を示す
グラフである。
FIG. 6 is a graph showing a voltage-current characteristic of the DG memory TFT 12.

【図7】アドレス線Y1,Y2、データ線X1,X2に
入力する信号のタイミングチャートである。
FIG. 7 is a timing chart of signals input to address lines Y1 and Y2 and data lines X1 and X2.

【図8】従来の電圧制御の発光パネル6を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a conventional voltage-controlled light emitting panel 6.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

α…ディスプレイ 1…発光パネル 11…TFT 12…DGメモリTFT 12A…トップゲート 12B…ボトムゲート 12C…端子(ドレイン) 12D…端子(ソース) 12E…半導体層 12F…トラップ絶縁層 12Fa…トラップ 12G…絶縁層 13…有機ELダイオード 13A…アノード電極 13B…有機EL層 13C…カソード電極 2…アドレスドライバ 3…データドライバ 4…電源 5…コントローラ A…透明基板 B…隔壁 C…封止材 D…封止ガラス Y1〜Yn…アドレス線 X1〜Xm…データ線 Z…電源電圧電極 W…基準電圧電極 P(1,1)〜P(m,n)…画素 6…発光パネル 6A…データ線 6B…アドレス線 6C…電源線 6D,6E…TFT 6F…有機ELダイオード 6G…共通接地部 6H…コンデンサ α ... display 1 ... Luminescent panel 11 ... TFT 12 ... DG memory TFT 12A ... Top gate 12B ... bottom gate 12C ... terminal (drain) 12D ... Terminal (source) 12E ... Semiconductor layer 12F ... Trap insulation layer 12 Fa ... trap 12G ... Insulating layer 13 ... Organic EL diode 13A ... Anode electrode 13B ... Organic EL layer 13C ... Cathode electrode 2 ... Address driver 3 ... Data driver 4 ... power supply 5 ... Controller A: Transparent substrate B ... Partition C ... Sealing material D ... Sealing glass Y1 to Yn ... address lines X1 to Xm ... Data line Z ... Power supply voltage electrode W ... Reference voltage electrode P (1,1) to P (m, n) ... Pixels 6 ... Light emitting panel 6A ... Data line 6B ... Address line 6C ... Power line 6D, 6E ... TFT 6F ... Organic EL diode 6G ... Common grounding part 6H ... Capacitor

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マトリクス状に配置された複数の画素毎
に、 当該画素を選択された場合、前記画素の発光の輝度を制
御する制御信号を出力する選択手段と、 前記選択の期間に、前記選択手段から出力された制御信
号に対応して、電気的に消去及び書込み可能に、発光の
輝度データを長時間記憶し、当該記憶された輝度データ
に対応して電源から入力された電流を出力する記憶駆動
手段と、 当該記憶駆動手段から出力された電流に基づき発光を行
う発光手段と、を設ける発光パネルを具備し、各画素の
発光により画像を表示する記憶駆動式表示装置の駆動方
法であって、 前記選択の期間に、当該選択された画素に対して、 前記制御信号として、前記記憶駆動手段に記憶された輝
度データを消去する消去制御信号を生成し、前記選択手
段に、前記生成された消去制御信号を出力させ、前記記
憶駆動手段に、前記出力された消去制御信号に基づき自
身に記憶された輝度データを消去させるデータ消去手順
と、 前記制御信号として、前記発光手段に次の輝度を指定す
る発光制御信号を生成し、前記選択手段に、前記生成さ
れた発光制御信号を出力させ、前記記憶駆動手段に、前
記出力された発光制御信号に基づき輝度データを書込む
データ書込み手順と、を順に実行し、 非選択の期間に、当該非選択された画素において、 前記記憶駆動手段に、前記データ書込み手順で書込まれ
た輝度データに対応する電流を出力させ、当該記憶駆動
手段から出力された電流に基づき発光させるデータ読込
み手順を実行する、 ことを特徴とする記憶駆動式表示装置の駆動方法。
1. A selection unit that outputs a control signal for controlling the luminance of the light emission of the pixel when the pixel is selected for each of a plurality of pixels arranged in a matrix, and during the selection period, Corresponding to the control signal output from the selecting means, the luminance data of the light emission is stored for a long time so as to be electrically erasable and writable, and the current input from the power source is output corresponding to the stored luminance data. A driving method for a memory driving display device, which comprises a light emitting panel provided with a memory driving means for performing light emission based on a current output from the memory driving means, and displays an image by light emission of each pixel. Then, during the selection period, an erase control signal for erasing the brightness data stored in the storage drive unit is generated as the control signal for the selected pixel, A data erasing procedure that causes the generated erasing control signal to be output and causes the storage driving unit to erase the brightness data stored therein based on the output erasing control signal; Data writing for generating a light emission control signal designating the brightness of the light, causing the selection unit to output the generated light emission control signal, and writing the brightness data to the storage drive unit based on the output light emission control signal. The procedure and are sequentially executed, and in the non-selected period, in the non-selected pixel, the memory drive unit is caused to output a current corresponding to the luminance data written in the data write procedure, and the memory drive is performed. A method of driving a memory drive type display device, characterized in that a data reading procedure for causing light emission is executed based on the current output from the means.
【請求項2】前記選択及び前記非選択を、交互に繰返し
実行する、ことを特徴とする請求項1記載の記憶駆動式
表示装置の駆動方法。
2. The method for driving a memory drive type display device according to claim 1, wherein the selection and the non-selection are alternately and repeatedly executed.
【請求項3】前記選択は、前記発光制御信号を変化させ
る場合に実行する、ことを特徴とする請求項1又は2記
載の記憶駆動式表示装置の駆動方法。
3. The drive method for a memory drive type display device according to claim 1, wherein the selection is executed when the light emission control signal is changed.
【請求項4】前記発光制御信号は、前記発光手段の任意
の輝度を指定する信号であり、 前記輝度データは、任意の輝度を指定するデータであ
る、ことを特徴とする請求項1、2又は3記載の記憶駆
動式表示装置の駆動方法。
4. The light emission control signal is a signal for designating an arbitrary brightness of the light emitting means, and the brightness data is data for designating an arbitrary brightness. Alternatively, the method of driving the memory-driven display device according to the above item 3.
【請求項5】前記データ書込み手順実行後、次のデータ
書込み手順を引続き実行することができる場合、次のデ
ータ書込み手順の前に実行するデータ消去手順の実行を
省略する、ことを特徴とする請求項1、2、3又は4記
載の記憶駆動式表示装置の駆動方法。
5. After the execution of the data writing procedure, if the next data writing procedure can be continued, the execution of the data erasing procedure executed before the next data writing procedure is omitted. A method for driving a memory-driven display device according to claim 1, 2, 3, or 4.
【請求項6】マトリクス状に配置された複数の画素にお
ける各画素の発光の輝度を制御する制御信号を生成する
制御信号生成手段と、前記画素の選択を指定する選択信
号を生成する選択信号生成手段と、前記複数の画素から
なる発光パネルとを設け、各画素の発光により画像を表
示する記憶駆動式表示装置であって、 前記各画素は、 前記選択信号生成手段から出力された選択信号による自
画素の選択の期間に、前記制御信号生成手段から出力さ
れた制御信号の出力を行う選択手段と、 前記選択の期間に、前記選択手段から出力された制御信
号に対応して、電気的に消去及び書込み可能に、発光の
輝度データを長時間記憶し、非選択の期間に、当該記憶
された輝度データに基づいた電流を出力する記憶駆動手
段と、 当該記憶駆動手段から出力された電流に基づき発光を行
う発光手段と、 を具備してなる記憶駆動式表示装置。
6. A control signal generation means for generating a control signal for controlling the luminance of light emission of each pixel in a plurality of pixels arranged in a matrix, and a selection signal generation for generating a selection signal designating selection of the pixel. Means and a light-emitting panel consisting of the plurality of pixels, the storage drive type display device for displaying an image by the light emission of each pixel, each pixel according to the selection signal output from the selection signal generation means. A selection unit that outputs the control signal output from the control signal generation unit during the selection period of its own pixel, and an electrical signal corresponding to the control signal output from the selection unit during the selection period. A storage drive unit that stores the emission brightness data for a long time so that it can be erased and written, and outputs a current based on the stored brightness data during a non-selected period, and an output from the storage drive unit. A memory drive type display device comprising: a light emitting unit that emits light based on the generated current.
【請求項7】前記選択信号生成手段は、前記選択の旨の
選択信号、前記非選択の旨の選択信号とを交互に繰返し
生成し、 前記制御信号生成手段は、前記選択の期間に、制御信号
として、前記輝度データを消去する消去制御信号及び前
記輝度データを書込む発光信号を順に生成する、ことを
特徴とする請求項6記載の記憶駆動式表示装置。
7. The selection signal generating means alternately and repeatedly generates the selection signal indicating the selection and the selection signal indicating the non-selection, and the control signal generating means controls during the selection period. 7. The memory drive type display device according to claim 6, wherein an erase control signal for erasing the brightness data and a light emission signal for writing the brightness data are sequentially generated as signals.
【請求項8】前記選択信号生成手段は、前記各画素の発
光手段の発光の輝度を変化させる場合に前記選択の旨の
選択信号を生成する、ことを特徴とする請求項6又は7
記載の記憶駆動式表示装置。
8. The selection signal generating means generates a selection signal indicating the selection when the luminance of the light emission of the light emitting means of each pixel is changed.
The memory-driven display device described.
【請求項9】前記制御信号生成手段は、前記選択の期間
に、期間前記各画素の発光手段の任意の発光の輝度を指
定する発光制御信号を生成し、 前記記憶駆動手段は、前記発光制御信号に対応して任意
の発光の輝度を指定する輝度データを記憶する、ことを
特徴とする請求項6、7又は8記載の記憶駆動式表示装
置。
9. The control signal generating means generates a light emission control signal for designating the luminance of arbitrary light emission of the light emitting means of each of the pixels during the selection period, and the storage driving means controls the light emission control. 9. The storage drive type display device according to claim 6, wherein brightness data for designating an arbitrary brightness of light emission is stored in correspondence with a signal.
【請求項10】前記各画素において、 前記選択手段は、第1のゲート、並びに第1及び第2の
端子が設けられ、前記第1のゲートが前記選択信号生成
手段に接続され、前記第1の端子が前記制御信号生成手
段に接続され、前記第1のゲートに入力された選択信号
及び前記第1の端子に入力された制御信号に対応して、
前記第1の端子及び第2の端子間のチャネルを形成する
TFTであり、 前記記憶駆動手段は、第2及び第3のゲート、並びに第
3及び第4の端子が設けられ、前記第2のゲートが前記
TFTの第2の端子に接続され、前記第3のゲート及び
前記第3の端子が所定の電圧を供給する電源に接続さ
れ、前記第4の端子が前記発光手段に接続され、前記第
2のゲートに入力された制御信号に対応して前記輝度デ
ータを記憶し、当該記憶された輝度データに対応して、
前記第3の端子及び第4の端子間のチャネルを形成する
DGメモリTFTである、ことを特徴とする請求項6、
7、8又は9に記載の記憶駆動式表示装置。
10. In each of the pixels, the selection means is provided with a first gate and first and second terminals, the first gate is connected to the selection signal generation means, and the first signal is connected to the selection signal generation means. Has a terminal connected to the control signal generation means, and corresponds to the selection signal input to the first gate and the control signal input to the first terminal,
It is a TFT which forms a channel between the first terminal and the second terminal, wherein the memory driving means is provided with second and third gates, and third and fourth terminals, The gate is connected to the second terminal of the TFT, the third gate and the third terminal are connected to a power supply that supplies a predetermined voltage, the fourth terminal is connected to the light emitting means, and The brightness data is stored in correspondence with the control signal input to the second gate, and the brightness data is stored in correspondence with the stored brightness data.
7. A DG memory TFT that forms a channel between the third terminal and the fourth terminal,
The memory-driven display device according to item 7, 8 or 9.
【請求項11】前記DGメモリTFTの前記第2及び第
3のゲートは互いに縦方向に重なるように配置され、前
記DGメモリTFTは、前記第2及び第3のゲート間
に、電子を捕捉するトラップが形成された絶縁層を備え
ることを特徴とする請求項10に記載の記憶駆動式表示
装置。
11. The second and third gates of the DG memory TFT are arranged so as to be vertically overlapped with each other, and the DG memory TFT traps electrons between the second and third gates. The memory drive type display device according to claim 10, further comprising an insulating layer in which a trap is formed.
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