JP2003166954A - Network solution analysis method - Google Patents

Network solution analysis method

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JP2003166954A
JP2003166954A JP2001368213A JP2001368213A JP2003166954A JP 2003166954 A JP2003166954 A JP 2003166954A JP 2001368213 A JP2001368213 A JP 2001368213A JP 2001368213 A JP2001368213 A JP 2001368213A JP 2003166954 A JP2003166954 A JP 2003166954A
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Koji Aramaki
Masanari Takaguchi
Ruriko Tokida
Kaoru Umemura
るり子 常田
馨 梅村
浩二 荒牧
雅成 高口
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Hitachi Ltd
株式会社日立製作所
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solution business for serving high-speed and diversified analysis work/result and apparatus management. <P>SOLUTION: An apparatus that a client (2) and an analysis organ (1) have is controlled by a common command via a network (12). The analysis organ (1) provides work regarding the advanced operation and apparatus management and the interpretation/analysis of acquired data. The client (2) participates in analysis work on-line through a television conference. In the host computer of the network, a charge system according to pieces of analysis apparatus (3, 5), and operation details is set. A charged condition is presented to the client on-line accompanied by the progress in the analysis work. Finally, required costs are recovered via a financial organ (14). Additionally, the host computer has a library function (15), thus enabling past data, literature, and the like to be stored and perused. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、試料分析技術に係り、特に、ネットワーク経由で試料分析を行なう試料分析方法および試料分析システムに関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] [Technical Field of the Invention The present invention relates to a sample analysis techniques, in particular, relates to a sample analyzing method and a sample analyzing system for sample analysis via a network. 【0002】 【従来の技術】従来の分析評価業務は以下の形態を取っていた。 [0002] conventional analytical evaluation work was taking the following form. まず、顧客から試料を仕様書と共に分析機関に送り、操作の専門家である分析担当者に分析してもらう。 First of all, we sent to the laboratory along with the specifications of the sample from the customer, ask them to analyze the analyst who is an expert in operation. 結果が出た時点でデータを顧客に郵送、もしくはメールで報告する。 Mailing the data to the customer at the time the results came out, or be reported by e-mail. また、顧客が装置を有している場合は、分析機関の専門家が顧客の実験室に出張し、データ収集を代行する方法が取られていた。 In addition, if the customer has the equipment, expert analysis institutions and business trip to the laboratory of the customer, how to act for the data collection has been taken. 【0003】一方、分析装置をインターネット経由で外部から制御する技術の幾つかは既に市場に提供されている。 Meanwhile, several techniques for controlling the analyzer from the outside via the Internet is already provided to the market. 例えば、「日本電子顕微鏡学会第55回学術講演会予稿集」(p181−182、1999年)に開示されている、大阪大学の超高圧電子顕微鏡におけるネットワークを介した遠隔操作が代表例である。 For example, "Japan Electron Microscopy Society of the 55th academic lecture Proceedings" (p181-182, 1999 years) are disclosed in, Osaka University of remote operation via the network in an ultra-high voltage electron microscope is a typical example. 本例では、電子顕微鏡に備えられた操作卓をさらに1式準備し、これを顧客側に設置する。 In this example, the console provided in the electron microscope further prepared one set and installed in a customer. この顧客側操作卓と電子顕微鏡はインターネットを介して接続されており、顧客は装置を遠隔操作できる。 The customer console and electron microscopy are connected via the Internet, the customer can remotely operate the device. また、操作卓のほか、双方にテレビカメラとモニタが備えられ、これによりテレビ会議の要領で、双方で意思の疎通を図りながら操作を進めて行くことができる。 In addition to the console, both provided with a TV camera and monitor, this makes it possible in the manner of TV conference, we complete the operation while achieving mutual understanding in both. 【0004】 【発明が解決しようとする課題】装置が大型かつ高価になるに従い、顧客で様々な分析装置を自前でそろえる際、設備投資や装置維持にかかる費用が増大し、操作の専門家の育成維持にも時間と費用が増大するという問題があった。 [0004] In accordance with SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the apparatus becomes large and expensive, when to align the various analytical equipment on their own customers, cost of capital investment and equipment maintenance is increased, the operation of the experts also to nurture maintain there is a problem that time and cost increases. また、操作技術が高度化するに従い、分析技術はもとより、試料作製・前処理のような工程に対して、専門オペレータの育成に時間とコストがかかるようになってきた。 Further, in accordance with the operation technique is advanced, analytical techniques, as well as with respect to steps such as sample preparation, pretreatment, have come to take time and cost to train specialized operators. 【0005】従って、外部の分析機関に試料を送付し、 [0005] Thus, to send a sample to the outside of the laboratory,
分析を依頼することでこれらの費用を節減する手段が取られることがしばしばあるが、顧客と分析機関が物理的に離れているのが通常であるため、視野指定をはじめ、 Although the means to save these costs by requesting the analysis is taken it is often because the customer and analysis engine is physically separated is usually started viewing designation,
観察中に方針を決める必要がある場合は、顧客が分析機関に出向く必要があった。 If there is a need to determine the policy during the observation, it was necessary that the customer go to the laboratory. これは実用上、分析担当者は時間的制約を受け、装置の調子の良いときに必ずしも分析できないという問題を発生する。 This is practical, the analyst is subject to time constraints, to generate a problem that can not be necessarily analysis when good condition of the device. 【0006】また、分析結果が出た際、結果は顧客にデータが送られるが、ここでさらに追加分析の要求が発生することがしばしばであるが、従来法では、結果データのやり取りと追加方針打ち合わせに時間がかかり、最終的に有益な情報を得るまでに時間がかかるという問題があった。 Further, when the analysis result is output, the result is the data to the customer is sent, but where it is often that the additional analysis request is generated, in the conventional method, exchanges result data and additional policy meeting takes a long time, there has been a problem that it takes a long time to obtain the final useful information. 【0007】一方で、顧客側に多くの優れた装置があるものの、操作や管理維持に専門的知識と技術を有する担当者が経済的もしくは時間的に揃えられないと言う問題がある場合も多い。 [0007] On the other hand, although there are a number of excellent equipment to the customer side, it is also often the case that there is a problem that is not aligned economically or time personnel with specialized knowledge and technology in the operation and management maintenance . この場合、分析機関から専門家を派遣、操作してもらう手段が取られるが、時間的制約や出張に伴う経済的負担が大きく、頻繁に利用できないという問題や即座の対応が受けられない等の問題があった。 In this case, they send experts from the analysis organization, but a means to get operation is taken, a large economic burden due to time constraints or business trip, frequent problems and immediate that can not be used, such as the corresponding can not receive there was a problem.
また、専門家がいない時間の装置運営(維持管理やメンテナンス)は顧客側で行わなければ成らないと言う問題があった。 Also, the device management of time that there are no specialists (maintenance and maintenance) there was a problem that does not become to be done at the customer side. 【0008】さらに、取得したデータが高度化・多様化するに従い、データ解釈も同時に複雑になってくる。 [0008] In addition, in accordance with the acquired data is sophisticated and diverse, data interpretation also becomes at the same time complicated. このため、分析経験の浅い顧客においては、取得したデータから十分な情報を引き出せないという問題があった。 For this reason, in the shallow analysis experience customer, there is a problem that does not pull out enough information from the acquired data. 【0009】そこで、本発明は、試料分析分野において、高速、かつ多角的な分析作業、分析結果、および装置運営をサービスするネットワークソリューション分析方法及び分析システムを提供することを目的とする。 [0009] Therefore, the present invention provides a sample analysis field, fast, and diversified analysis work, analysis results, and an object thereof is to provide a network solution analysis method and analysis system to service device management. 【0010】 【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するためには、まず、試料分析に用いる分析機器・装置と、機器・装置操作を含め試料分析の専門家(分析担当者)を擁する試料分析機関と、顧客との間を通信回線を介してネットワークで結ぶ。 [0010] In order to solve the above-mentioned problems SUMMARY In order to achieve the above, first, and analysis equipment and apparatus for use in sample analysis, experts of sample analysis, including the equipment and machinery operation (analyst) a sample analysis engine, with its, through a communication line between the client connecting with the network. ここで、試料分析機関の分析担当者と顧客とは、お互いにテレビ会議等を介して実時間で分析作業を進めていく。 Here, the analyst and the customer's sample analysis organization, proceed with analysis work in real time via a video conference, etc. to each other. 時には、顧客から分析機器・装置を遠隔操作で制御する。 Sometimes, controlled by remote control analytical instruments and equipment from a customer. また、専門的知識の必要な装置メンテナンス等、装置運営上必要な動作をネットワーク経由で分析担当者は顧客にサービスする。 In addition, the required equipment maintenance, etc. of professional knowledge, analysts equipment operational necessary operations over the network to service the customer. 【0011】また、データベース上に過去の取得データや解析事例を蓄積しておくことで、分析期間は顧客の取得したデータに解析や解釈を付与することができる。 [0011] In addition, in that you accumulate the past acquired data and analysis cases on the database, the analysis period can be given the analysis and interpretation of the acquired data of the customer. 予め分析や作業に要した時間や操作の難易度、付加価値量等にしたがった料金体系が定められており、ネットワークに接続された課金計算機能により自動的に料金を割り出し、顧客には操作画面上でオンラインで連絡すると共に、顧客はその料金積算を勘案しながら操作依頼メニューを組み立てていく。 Advance analysis and difficulty of time and operation required for the work, and fee structure in accordance with such added value amount is defined, automatically indexing the price by the connected billing calculation function to the network, the customer operation screen along with the contact online above, customers are going to assemble the operation request menu taking into account the fee integration. 【0012】従って、顧客は分析・作業内容によって料金が変化して行く様子を即座に理解でき、その後の依頼内容を検討して行ける。 [0012] Thus, the customer is able to understand how the fee by analysis and work is going to change immediately, go to consider a subsequent request content. 最終的に、分析機関から連絡を受けた金融機関から顧客に戴せて請求し、料金を回収する。 Finally, customers to Dai from financial institutions that received the communication from the analysis engine claims, to collect the fee. 本システムにより、装置と操作専門技術、データ解析技術を共有化し、分析に要するコスト、時間を低減する。 This system, apparatus and operating expertise, to share the data analysis techniques, the cost required for the analysis, to reduce the time. 【0013】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について、 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention,
図面を参照して説明する。 It will be described with reference to the accompanying drawings. (実施例1)図1に本発明の実施例として、分析機関1 As an example of the present invention (Embodiment 1) FIG. 1, the analysis engine 1
に各種装置があり、顧客2がネットワーク12を介して遠隔操作しながら分析を進めていくビジネス形態の一つを示す。 To have various devices illustrates one business form which the customer 2 to proceed the analysis while remotely via the network 12. 【0014】分析装置、分析担当者10、依頼者11をネットワーク12で結び、双方にカメラ8やマイクを設置することにより、モニタ7やネットワーク端末16を用いたテレビ会議を通じて打ち合わせながら作業を進められるようにする。 [0014] analyzer, analyst 10, the requester 11 connected by a network 12, by installing a camera 8 and a microphone both are proceed while meeting through teleconference using the monitor 7 and the network terminal 16 so as to. ここで、A分析装置3、B分析装置5とは、例えば、電子顕微鏡、質量分析計、光電子分光装置、プローブ顕微鏡、オージェ分光装置、磁気共鳴装置等の各種物理分析装置や半導体検査装置、クロマトグラフィ、DNAシーケンサ、血液分析装置等の各種化学分析装置や生化学検査装置、収束イオン照射装置やプラズマクリーナ等の試料作製・前処理装置、パソコン、スキャナ等の各種画像・データ処理装置、ハードディスクのような過去のデータを蓄積したライブラリ機能等を広く含むこととし、これにより総合的なキャラクタリゼーションを実現する。 Here, the A analyzer 3, B analyzer 5, for example, electron microscopy, mass spectrometers, photoelectron spectrometer, the probe microscope, Auger spectroscopy apparatus, various physical analytical device, a semiconductor inspection device such as a magnetic resonance apparatus, chromatography , DNA sequencers, various chemical analyzers and biochemical test apparatus, such as a blood analyzer, sample preparation, pretreatment device such as a focused ion irradiation apparatus and a plasma cleaner, personal computers, various image data processing apparatus such as a scanner, as a hard disk such historical data and to include broadly the accumulated library function or the like, thereby realizing an overall characterization. これらの制御は、現在、技術的には概ねPC制御できるようになって市場に提供されてきている。 These controls, currently, have been provided to the market so as to be generally PC control technically. 【0015】従って、A分析装置用制御コンピュータ4、B分析装置用制御コンピュータ6、ネットワーク端末16をネットワークシステム12でつなぎ、各々の間で共通のコマンドをテキスト送信することで、外部からの遠隔操作を可能とする。 [0015] Therefore, A spectrometer control computer 4, B analyzer control computer 6, connect the network terminal 16 in the network system 12, by texting common commands between each remote control from the outside the possibility to be. ここで、装置制御とは、試料の装置への出し入れ、真空排気、ビーム出しと予備調整・光学軸だし、焦点補正、非点補正、試料微動・傾斜、 Here, the device control, and out of the sample device, evacuation, to I beams out a preliminary adjustment and optical axis, the focus correction, astigmatic correction, sample fine movement-inclined,
撮影、撮影データの保存とプリントアウト等を含む。 Shooting, including to save and print out the shooting data. 装置を制御する操作卓9には、視野探し時に用いる試料ステージの微動機構や焦点合わせ、データ収集スタートボタンなど、操作が容易で優先度が高く、頻繁に用いる機能に関するボタンやつまみを載せることとし、簡単な操作を参加することで効率的な分析を実現する。 The console 9 for controlling the apparatus, the fine movement mechanism and focusing of the sample stage used during looking field of view, such as data collection start button, the operation is high and easy priority, and to put the buttons and knobs about frequently used functions , to achieve efficient analysis by joining a simple operation. 【0016】これら装置制御は、ネットワーク端末16 [0016] These devices control the network terminal 16
とは別の操作卓12で行うことも、ネットワーク端末画面上で、たとえばタッチパネル式の制御画面を準備することで行うこともできる。 It is done in a separate console 12 and also, a network terminal screen, for example, can also be accomplished by preparing a control screen of the touch panel. 前者の場合は、予め顧客に操作卓を郵送する等の準備が必要であるが、後者の場合、 In the former case, it is necessary to prepare such mailing console in advance customers, in the latter case,
操作画面はソフトウェアであり、フロッピー(登録商標)ディスク等の記憶媒体を郵送するか、ネットワーク経由で該ソフトウェアをインストーラとともに事前に顧客に伝送するため、準備が容易である。 Operation screen is software, or mailing a storage medium such as a floppy disk, for transmission to the customer in advance the software with installers over a network, it is easy to prepare. また、分析装置により操作内容が異なるため、異なった操作卓、もしくはソフトウエアを送ることが必要である。 Further, since the operation content by the analyzer are different, it is necessary to send a different console or software. ソフトウエアの場合は、実施例2で述べる「操作画面」部分を分析装置毎に準備し、操作する際に呼び出すことも考えられる。 For software, Prepare "operation screen" portion described in Example 2 for each analyzer is also conceivable to call when operating. 【0017】ここで、例えば複数分析装置の活用例として、半導体検査装置や収束イオン照射装置でウエハまたはチップ上の不良部を探索し、該収束イオン照射装置で不良部分を摘出加工し、電子顕微鏡で形状観察する等の方法が考えられる。 [0017] Here, for example, as an example use of a plurality analyzer searches the defect portion of the wafer or chip in the semiconductor inspection apparatus or focused ion irradiation apparatus, it excised processing a defective portion in the focused ion irradiation apparatus, an electron microscope in a method such as shape observation is considered. 半導体検査装置や収束イオン照射装置間では不良ビット毎に座標データを共有しておくことにより、半導体検査装置で発見した不良箇所、いわゆるフェールビットマップから迅速に収束イオン照射装置で探し出し、加工工程に移ることができるようにする。 By keeping shared coordinate data for each defective bit between the semiconductor inspection apparatus and focused ion irradiation apparatus, discovered defective portion in a semiconductor inspection apparatus, a so-called fail bit map find quickly converged ion irradiation apparatus, the processing step move it to allow. 【0018】ネットワークシステム12を管理するホストコンピュータには、以下に述べる課金計算機能13やライブラリ機能15を搭載する。 The host computer that manages the network system 12 is equipped with a charge calculation function 13 and a library function 15 described below. 予め、分析に要する時間や操作の難易度、貸し出し機器種類や受けたサービスに従った料金体系が定められており、ネットワークに接続された課金計算機能13により料金を割り出し、顧客には操作画面上でオンラインで連絡すると共に、顧客はその料金積算を勘案しながら操作依頼メニューを組み立てていく。 Previously, the difficulty of time and operation required for analysis, rate structure in accordance with the rental equipment type and received services which is defined, indexing rates by charging calculation function 13 connected to the network, the customer operation screen in addition to contact online, customers are going to assemble the operation request menu taking into account the fee integration. 【0019】サービス内容には、複数種類の装置制御、 [0019] The service content, a plurality of types of device control,
データ取得、データ解釈、データ解析、質疑応答、過去のデータの参考提示、装置の維持管理やメンテナンス作業、半導体製造などに対するソリューションの提供を含む。 Data acquisition, data interpretation, including data analysis, Q and A, reference presentation of historical data, maintenance and servicing the unit, to provide solutions for the semiconductor manufacturing. 【0020】このほか、有償公開、即ち分析依頼項目によらず装置や分析専門家の時間貸しや、年間保守契約のような一括契約形態も料金体系に含め、課金を単純化することもできる。 [0020] In addition, paid public, and devices and analysis experts of hourly regardless of that is in the analysis request item, collective contract, such as the annual maintenance contract also included in the fee structure, it is also possible to simplify the billing. 最終的に、課金計算機能13から連絡を受けた金融機関14から顧客2に請求が成され、料金は回収される。 Finally, the claim is made from financial institutions 14, which has received a communication from the charge calculation function 13 to the customer 2, the fee is collected. 予め顧客2から分析機関1に試料や仕様書を送付すること、さらに予備分析などを通じて費用の見積りを算出し、本分析前に見積書を作成、顧客にネットワークシステム12経由で報告する過程をも含む。 In advance to send a sample and specifications to the analysis engine 1 from the customer 2, further to calculate an estimate of the cost through such preliminary analysis, create a written estimate before this analysis, even the process of reporting via the network system 12 to the customer including. 【0021】図2には、契約・発注から実際の分析作業、課金までの顧客、分析機関、金融機関間でのやり取りを含む一連の工程に必要なアルゴリズム例を示した。 [0021] FIG. 2, the actual analysis work from the contract, purchase order, shows an example of the algorithm necessary to a series of steps including up to billing the customer, analysis organization, the exchange between financial institutions.
ここではアルゴリズム全体を便宜上、契約/発注10 For convenience the entire algorithm, contract / purchase order 10
1、実作業102、課金103にグループ化して説明する。 1, the actual operation 102, described with grouped billing 103. また、アルゴリズムは顧客、分析機関、金融機関についての行動内容を時系列的に並べて示した。 In addition, the algorithm showed customer, analysis organization, side-by-side action content for financial institutions in time series. 【0022】不特定多数の顧客が利用できるシステムとして、インターネットを介したコミュニケーション法が考えられる。 [0022] as a system that an unspecified number of customers available, communication methods can be considered over the Internet. そこで、予め分析機関は顧客からの契約申込201を受けるためのWebサイト開設301を行っておく。 Therefore, pre-analysis institutions should perform the Web site opening 301 for receiving a contract offer 201 from the customer. 該Webサイトに契約申込201の到着が確認された後、分析機関は金融機関に課金口座開設401を要請する。 After the arrival of the contract application 201 to the Web site has been confirmed, analysis organization requests the billing account opening 401 to financial institutions. また、分析機関と顧客の間のリモート試料分析に関するコミュニケーションを実現させるために必要な物品、すなわち専用の制御画面や操作卓、TVカメラ、各種ソフトウェア、ハードウエアの取り扱い説明書、契約全般に関する契約説明書や料金表などを分析機関は顧客に送付302する。 Also, articles which are necessary to realize the communication of a remote sample analysis between laboratories and customer, i.e. dedicated control screen or console, TV camera, various types of software, hardware manuals, agreement on the contract General Description analysis institutions, such as calligraphy and price list will send 302 to the customer. また、金融機関も顧客に開設した課金口座通知402を行う。 In addition, financial institutions also performs billing account notification 402, which opened to the customer. 【0023】顧客は、インターネット回線の通信環境設定202を行うと共に、分析機関も同様に通信環境設定303を実施する。 [0023] The customer, performs communication configuration 202 of internet access, analysis engine also performs the same communication configuration 303. ここで、通信のセキュリティを確保するため、制御画面を立ち上げる際には、予め分析機関から通知されたパスワードを入力することとし、パスワードを知らない第3者がむやみに制御画面を使用できないようにすることも重要である。 Here, in order to ensure the security of the communication, while raising the control screen, and entering the password notified in advance from the laboratory, as a third party who does not know the password can not use the excessively control screen it is also important to. こうして作業環境の整備が成された後、顧客は評価したい試料を選定し、評価内容を詳細に指示した分析仕様書を添えて分析機関に送付する(203)。 Thus, after having been made the improvement of the working environment, customers can select the sample you want to evaluate, be sent to the laboratory along with the analysis specification has instructed the evaluation contents in detail (203). 【0024】これを見て、分析機関は大まかな予算の見積もりを発行すると共に、共同作業を行う分析日時通知304を行う。 [0024] a look at this, along with the analysis organization issues an estimate of the rough budget, carry out the analysis date and time notification 304 to collaborate. これを確認した後、顧客は正式発注20 After confirming this, the customer is formal order 20
4を行い、分析機関は受注した作業に対しての整理番号となる作業番号発行305を行う。 4 was carried out, the analysis engine performs the work number issued 305 serving as the reference number of against work orders. これは金融機関と共有することで円滑な金銭授受を成り立たせることが出来るため、金融機関でも同様に作業番号発行403を行う。 This is because it is possible to hold a smooth money transfer by sharing with financial institutions, do the work number issued 403 Similarly, in financial institutions. 【0025】次に、上記分析日時となり、顧客、分析機関は上記取り扱い説明書に従って相互に通信によるコミュニケーションをとるものとする。 Next, become the above-mentioned analysis date and time, the customer, analysis organization shall take the communication by communicate with each other in accordance with the above instructions. ここでTV会議しながら打ち合わせ詳細内容決定205を行う。 Here carry out the meeting details determined 205 while TV conference. 顧客の指示や一部ネットワーク経由で遠隔操作による参画を受けながら、分析機関は主体的に分析作業306を実施する。 While receiving a participation by remote control via the customer's instructions and some networks, analysis engine to implement subjectively analytical work 306.
顧客は分析作業参加やライブラリ参照206により、刻々と得られて行くデータを考察し、方針を検討しながら金融機関に希望の分析方法を選択・指示・修正していく。 Customer by analytical work participation and library reference 206, consider the data that we obtained from moment to moment, continue to select and instructions and modify the analysis method of hope to financial institutions while considering the policy. 分析機関は結果データ報告/送付307を行い、逐次データに関して打ち合わせ・結果の議論207をTV Analysis engine performs the result data reporting / sending 307, TV discussions 207 of meetings and results with respect to the sequential data
会議しながら進めて行く。 To proceed with the meeting. 【0026】ここで、データ報告/送付は迅速性が要求されることから、ネットワーク画面上での表示で進められる。 [0026] In this case, data reporting / sending from that rapidity is required, it is advanced in the display on the network screen. また、データのセキュリティの観点からは,データはネットワーク上では暗号化するものとし、何らかの方法でネットワーク途中でデータを入手した第3者がデータを参照できないようにすることも重要である。 From the viewpoint of data security, the data in the network shall be encrypted, it is also important that a third party who obtains the data on the way the network in some way from being able to see the data. 【0027】上記結果の議論により、データに問題があったり、不十分である場合は再度分析作業の繰り返しとなるし、データが十分と判断される場合は作業を完了する。 [0027] The discussion of the above results, or there is a problem with the data, if it is insufficient to be repeated again analytical work to complete the task if the data is determined to be sufficient. 作業完了と成った場合、分析機関は顧客と金融機関に対して料金計算/通知308を行う。 If you became the work is completed, the analysis engine performs the billing / notification 308 to customers and financial institutions. 尚、料金については常に顧客は、実施例2で示される図5の操作画面上にて費用画面部分でモニタでき、分析機関と相談し、自分のもつ予算に合わせて作業内容を絞りながら分析作業と並行に進めて行くことが望ましい。 It should be noted, always the customer for the fee, can be monitored in a cost-screen part in the operation screen of FIG. 5 shown in Example 2, in consultation with the laboratory, analytical work while squeezed your work in accordance with the budget with the yourself it is desirable that the to proceed in parallel. 従ってここでの料金計算/通知308は最終的な金額についての連絡であることが多い。 Therefore billing / notification 308 of here is often a contact for the final amount. これは通信画面を介しても良いし、郵送でも構わない。 This may be through the communication screen, it may be by mail. 【0028】金融機関はこれを見て顧客に対して請求書発行404を行い、顧客はこれに従い金融機関に費用振込208を行う。 [0028] financial institutions performs billing 404 to customers look at this, the customer performs a cost transfer 208 to it in accordance with the financial institution. 金融機関は振りこまれた費用から手数料を差し引いた後、分析機関に費用振込405を行う。 After the financial institutions minus the commission from a crowded pretend costs, perform cost transfer 405 to the analysis organization.
これを受け、分析機関は全ての作業の完了を確認し、顧客に完了通知発行309を行う。 In response to this, analysis institutions to confirm the completion of all of the work, perform a completion notification issued 309 to the customer. 顧客もこれにより完了209を確認する。 Customers also thereby confirm completion 209. この時、送付302により借り受けていた各種ハード/ソフトウエアを分析機関に返却する場合が多いと考えられる。 In this case, it is considered that there are many If you plan to return the various hard / software that has been borrowed by sending 302 to the analysis organization. 【0029】また、上記ライブラリ機能は、過去の分析データを蓄積していくことにより、これを参照した場合、類似例を見つけることにより同様の分析の2度手間を避けたり、分析方針立案の参考にできる。 Further, the library function, by accumulating historical analytical data, when referring to this, avoid or twice effort similar analysis by finding similar example, the analysis strategy planning reference It can be in. また、該ライブラリ機能は分析日時以外でも分析機関のWebサイト利用機能として常備しておき、会員制で平時より参照できるようにしても良い。 In addition, the library function is leave standing as a Web site use function of analysis organization other than the analysis date and time, may be able to see from peacetime in membership. ここではセキュリティの問題からパスワードを導入すること、公開できる情報を専門家がコーディネートして掲載するようにする。 Here the introduction of a password from the security of the problem, so as to me for experts to coordinate the public information that can be. 【0030】(実施例2)ここでは、実施例1で述べた分析ビジネスにおいて、顧客側のネットワーク端末16 [0030] (Example 2) Here, in the analysis business described in Example 1, the customer side of the network terminal 16
に提供される操作画面の1つの例を図5を用いて示す。 One example of an operation screen provided to indicate with reference to FIG.
ここでは、ウィンドウズ(登録商標)パソコンで制御する「リモート分析システム」ファイルについての一例である。 Here is an example of "Remote Analysis System" file controlled by Windows (registered trademark) personal computer. 画面は4分割され、遠隔で操作する装置の「操作画面」、結果を表示する「結果画面」、チェックリストにより、課金を相談しながら決定していき、積算額がモニタできる「費用画面」、テレビ会議による質疑応答や装置運営、データ解釈等についてのコンサルタント等に用いる「モニタ画面」から構成した。 Screen is divided into four parts, "operation screen" of the device to operate in remote, displays the result "result screen", by the checklist, we are determined while consulting the accounting, the accumulated amount can be monitored "cost" screen, question-and-answer session and equipment operated by the TV conference, was constructed from the "monitor screen" used to consultants for data interpretation, or the like. 【0031】「操作画面」は、前記した装置基本操作のためのつまみやボタン、計器などを配置し、タッチパネルもしくはマウスによるクリックで制御できるようにする。 The "operation screen" is knobs and buttons for the the device basic operations, instruments and the like are arranged, to be controlled by clicking the touch panel or mouse. 結果画面には、分析作業を通じて撮影した像や収得したスペクトルのほか、ライブラリ機能から検索してきた過去のデータや、分析機関の専門化が提示する様々なデータを表示する。 On the results screen, in addition to the spectrum image and Shutoku taken through analytical work, and past data that has been retrieved from the library function, specialization of the analysis engine to display a variety of data to be presented. 【0032】このほか、経験のより豊かな分析機関の担当者は、取得したデータに対して解釈や解析を施し、自己の保有するデータベースに参照し、場合によっては複数の分析装置を駆使することで多角的な評価を行い、原因究明につながるソリューションを提示する。 [0032] In addition, the richer analysis organization of experience personnel, subjected to interpretation and analysis on the acquired data, refer to the database to be self-possessed, making full use of a plurality of analyzers in some cases in performs a multi-faceted evaluation, to present a solution that leads to investigate the cause. このとき、例えば「結果画面」に自己の見解を「報告書」の形で提示することとする。 This time, and be presented in the form of a "report" their own opinion, for example, to "result screen". 複数の分析装置を用いた場合、例えば「結果画面」の画面切替ボタンをクリックすることで、 When using a plurality of analytical devices, by clicking the screen switch button, for example, "Result" screen,
目的の分析装置のデータ画面に変えることができる。 It can be converted into data screen object of the analyzer. 【0033】また、「費用画面」には、予め分析機関が提供する価格表が一覧で掲載され、分析機関と顧客が相談しながら作業内容を決めて行く際、該当項目にマーク、例えば項目に添えられたラジオボタンをマークしていくこと等により、費用を積算していき、合計金額が一目でわかるようにする。 [0033] In addition, the "cost screen" is published in the price list is a list of pre-analysis institutions to provide, when the laboratory and the customer is going to decide your work while consulting, mark the appropriate item, for example, the item by going to mark the subscript are radio buttons and the like, we are integrating the cost, the total amount of money is to understand at a glance. 最終的に見積もり額が積算後、 Finally, estimates that after the integration,
顧客は承認ボタンをクリックすることで費用を確定するほか、これにより別画面が開き、金融機関に対する支払いのための請求書送付連絡先や引き落とし口座等を入力できるようにする。 In addition to the customer to determine the cost by clicking the approval button, This opens another screen, to be able to enter the billing contacts and debit account for payment, such as for financial institutions. 【0034】「モニタ画面」は、カメラ8で映し出されるお互いの姿やデータを示す画面である。 [0034] "monitor screen" is a screen that shows the appearance and the data of each other to be displayed in the camera 8. ここには、カメラ8のフォーカスやズーミングのほか、カメラ種類が複数ある場合はその切替ボタンなどを準備する。 Here, in addition to focus and zooming of the camera 8, when the camera type there are multiple prepares and the switching button. 【0035】このように、ネットワーク端末の制御画面には、装置制御画面、データ表示画面、課金状況確認画面、テレビ会議モニタ画面を同時に分割表示してもよいし、また必要に応じて、このうちの任意の画面が表示されるよう構成してもよい。 [0035] Thus, the control screen of the network terminal, the device control screen, data display screen, the billing status confirmation screen may be simultaneously split display videoconferencing monitor screen, and if necessary, these any screen may be configured to be displayed. 【0036】(実施例3)図3には、顧客2が各種装置を有し、分析機関1からネットワークを介して操作やメンテナンスなどのサービスを提供し、分析を進めていく場合の実施例を示す。 [0036] (Embodiment 3) FIG. 3, the customer 2 has various devices, the analysis engine 1 via a network to provide services such as operation and maintenance, an embodiment in to proceed with analysis show. 【0037】この場合のサービスには、分析データの取得と提供のほか、事前の試料作製・前処理、装置調整、 [0037] This service of the case, in addition to providing the acquisition of analysis data, in advance of sample preparation, pre-processing, equipment adjustment,
メンテナンスや真空度モニタ、ビーム量調整、液体窒素補給、分析作業前ウォーミングアップ、冷陰極フィールドエミッション電子銃のフラッシング、装置操作やデータ解析・解釈に関するQ&A等のコンサルタント等、装置運営上必要な専門的行為を広く含めるものとする。 Maintenance and vacuum monitor, beam quantity adjustment, the liquid nitrogen supply, warm-up before analysis work, the cold cathode field emission electron gun flushing, consultants the Q & A concerning device operation and data analysis and interpretation, device operational need professional activities It shall include the widely. 実施例1同様、これらの操作はコンピュータ化されていることが前提であるが、ほとんどの項目について、現在技術的に可能である。 Similarly Embodiment 1, but that these operations are computerized a prerequisite for most of the items, it is now technically possible. 【0038】ネットワークシステム12で用いる制御・ [0038] control and to be used in the network system 12
通信コマンドをシステム全体で共通にすることで、顧客2と分析機関1を1対1関係に限定することなく、多数の顧客2が複数の分析機関1の様々な分析装置を利用できるようにできる。 By a common communications command in the entire system, without limiting the customer 2 the analytical engine 1 in a one-to-one relationship, it as many customers 2 can utilize a variety of analytical devices of the plurality of analysis engine 1 . これにより、1分析機関で有しない分析手法も利用可能となる。 As a result, it becomes possible to use no analysis techniques in one laboratory. 【0039】また、ネットワークシステム12上には大きなメモリ領域、即ちライブラリ機能を確保し、希望者はデータを掲載すると共に閲覧できるようにする。 [0039] In addition, the network system 12 on will ensure a large memory area, that is a library function, who wish to be able to browse along with posting the data. このように、システムが多くの参照データを提供できるようになることで、顧客2は過去の分析例を参考にしながらデータ収集の2度手間を省き、この結果、時間とコスト低減を図ることができる。 In this manner, the system that will be able to provide a number of reference data, the customer 2 omits twice effort data collection while the past analysis example shows, this result is possible to achieve time and cost it can. 【0040】ライブラリ使用料も時間やデータの機密度に応じて課金する。 The library use fee may be charged depending on the sensitivity of the time and data. この顧客2がこのライブラリ機能を利用する際は、パスワードや登録番号などを示すことで、不特定多数がライブラリを利用・引用できないようにし、知的所有権を保全する。 When the customer 2 is to use this library function, by indicating, for example, password and registration number, an unspecified number is so can not be used, citing the library, to preserve the intellectual property rights. 同様に、ここに示されるデータは予めロックを掛けておくことにより、顧客が容易にコピーできないようにすることもできる。 Similarly, the data shown here by keeping over the previously locked, it is also possible to make the customer can not be easily copied. 【0041】このように、本発明では、収集したデータをライブラリ機能のデータを照らし合わせ、また専門家の解釈や解析を仰ぐことで高度な情報を抽出できるようになる。 [0041] Thus, in the present invention, the collected data against the data of the library function, also will be able to extract a high degree of information that seek expert interpretation and analysis. 【0042】図4には、契約・発注から実際の分析作業、課金までの顧客、分析機関、金融機関間でのやり取りを含む一連の工程に必要なアルゴリズム例を示した。 [0042] FIG. 4, the actual analysis work from the contract, purchase order, shows an example of the algorithm necessary to a series of steps including up to billing the customer, analysis organization, the exchange between financial institutions.
ここでもアルゴリズム全体を便宜上、契約/発注10 Again, for convenience the whole algorithm, contract / purchase order 10
1、実作業102、課金103にグループ化した。 1, the real work 102, were grouped in the billing 103. 【0043】契約/発注101において、図2と図4のアルゴリズムの違いは、前者では試料に分析仕様書を添えて送付203していたのに対し、後者では分析仕様書のみ送付210する。 [0043] In contract / order 101, the difference in the algorithm of FIG. 2 and FIG. 4, whereas in the former was sent 203 along with the analysis specifications in the sample, the latter only send 210 analysis specifications. これは装置が顧客側にあるからで、顧客は自ら試料を分析装置にセッティングする。 This is because device is in the customer, the customer settings to the analyzer itself sample. 【0044】実作業102において、はじめにTV会議しながら打ち合わせ詳細内容決定205を行う。 [0044] In the real work 102, carry out a meeting details determined 205 while TV conference at the beginning. 次に分析機関は分析作業や装置の維持管理作業310を行う。 Then laboratory performs maintenance work 310 analytical work and equipment.
ここでも分析作業は熟練技術を要した分析機関側が主体となって、ネットワークを介した遠隔操作にて顧客の有する装置を操作していく。 Analysis work Again become laboratory side which requires skill technology mainly, continue to operate the device with the customer by remote control via the network. 顧客は分析作業参加やライブラリ参照206により、刻々と得られて行くデータを考察し、方針を検討しながら金融機関に希望の分析方法を選択・指示・修正していく点は、実施例1と同様である。 The customer analysis work participation and library reference 206, consider the data that we obtained from moment to moment, that continue to select and instructions and modify the analysis method of hope to financial institutions while considering the policy, as in Example 1 it is the same. TV会議を利用した打ち合わせと結果の議論207 TV of the meeting and the meeting using the results discussion 207
も同様であるが、本実施例の場合、分析機関は装置維持管理作業を行い、これに伴うコンサルタント311も行う。 Is similar also in the case of this embodiment, the analysis engine performs device maintenance work, also performs consultant 311 associated therewith. 即ち、顧客により装置の性能を引き出すための維持管理、操作方法に助言を与えていくことが重要となる。 That is, maintenance of order to pull out the performance of the device by the customer, it is important to go advise the operating method.
こうして実作業102が完了すると、課金103に進む。 Thus, when the actual work 102 is completed, it proceeds to the billing 103. ここでのフローは実施例1と全く同様である。 Flow here is exactly the same as in Example 1. 【0045】上記実施例では、顧客2が装置を有している場合の例であったが、これは所有している装置のみならず、分析機関1や、図示されない分析機器メーカからのリース装置であってもビジネス形態として同様に成り立つ。 [0045] In the above embodiment, the customer 2 was an example in which a device, which not only apparatus owns, and analysis engine 1, leasing equipment from not shown analytical instrument manufacturers even similarly established as a business form. すなわち、リースとすることで顧客2の負担は軽減し、その分分析費用に回したり、管理装置の種類や台数を増やせる等のメリットがある。 In other words, the burden of customer 2 by a lease is to reduce, or turn to the minute analysis cost, there is a merit such as Fuyaseru the type and number of the management apparatus. 従って、分析機関は遠隔操作や維持管理・コンサルタントの費用にリース費用を上乗せして請求する。 Therefore, analysis organization is billed plus the lease cost to the cost of remote operation and maintenance management consultants. この時の操作画面は図5で共用できる。 In this case the operation screen can be shared by FIG. 【0046】このように、本発明では、自己の有しない装置による多角的分析を可能とする。 [0046] Thus, in the present invention allows for multilateral analysis by own device without. 【0047】(実施例4)上記実施例にて説明したコンサルタントについて具体例を示す。 [0047] (Example 4) shows a specific example of a consultant explained in the above embodiment. 例えば、電子顕微鏡で高分解能像を撮影した場合の例を示す。 For example, an example in the case of photographing a high-resolution image with an electron microscope. 高分解能像 High-resolution image
(格子像)は試料厚さやフォーカス条件で撮影される格子間隔が異なってくる。 (Lattice image) becomes different lattice spacing that is captured by the sample thickness and focus conditions. このため、原子配列モデルと撮影した像は簡単に比較できない。 Therefore, an image taken with the atomic sequence model can not easily compare. この場合、原子配列モデルと電子光学系を仮定したシミュレーションを用い、撮影した像の妥当性と解釈を行う必要がある。 In this case, using the simulation assuming an atomic arrangement model and the electron optical system, it is necessary to perform interpretation and validity of the photographed image. こうした技術は難易度が高く、分析機関にて撮影した像に解釈を施し、顧客にフィードバックするのが有効である。 Such technology has a high degree of difficulty, subjected to interpretation to a captured image by analysis organization, it is effective to feedback to the customer. 同様の目的で、高分解能像(格子像)をフーリエ変換し、その周期構造を示すパターン像と、電子回折像のデータベースを比較することにより、撮影した試料の結晶構造や格子面間隔、歪みや欠陥・転位の有無、材料の同定を行うことができる。 For the same purpose, the high-resolution image (lattice image) and Fourier transform, a pattern image indicating the periodic structure, by comparing the database of the electron diffraction image, the crystal structure and lattice spacing of the captured sample, distortion Ya the presence or absence of a defect-dislocations can be performed to identify the material. 【0048】また、試料に電子線を照射した場合、特性 [0048] Further, when irradiated with electron beam to the sample, the characteristics
X線が発生するほか、試料を透過する、材料に起因したエネルギーロス特性を示すことから、電子線照射領域の物質同定や原子の結合状態などを調べることができる。 In addition to X-rays are generated and transmitted through the sample, since it shows the energy loss characteristic due to the material, such as binding state of a substance identified or atoms of the electron beam irradiation area can be examined.
一般にスペクトルデータには、目的の物質からの信号のほか、さまざまなバックグラウンドが含まれる。 In general the spectral data, other signals from the material of interest, include various backgrounds. 例えば、装置を形成する材料からのシステムピークや制動X For example, the system peaks and braking X from the material forming the device
線などの連続的なバックグラウンドが存在するし、試料中に幾つかの材料が含まれると、近接したピークのテール部分がお互いのピークのバックグラウンドになる。 It continuous background such as lines are present, is contained several materials in the sample, the tail portion of the peak in the vicinity is the background peak each other. 【0049】こうした場合、取得した生データからバックグラウンド減算する必要があり、ピーク強度から元素組成に定量化する際にはデータ変換が必要である。 [0049] In these cases, it is necessary to background subtraction from the acquired raw data, when quantifying the elemental composition from the peak intensity is required data conversion. これらの処理は一般に初心者には難しいため、従来は解析ソフトを鵜呑みにして結果を出していたが、試料厚さや装置状態で結果が異なり、データの信頼度は低かった。 Since difficult for a beginner these processes are generally conventionally had out the results of the analysis software to swallow, different results with sample thickness and device status, data reliability was low. このような場合、専門家による精密な解析が重要となり、 In such a case, a precise analysis by experts is important,
ネットワークを介して結果を相談しながら解析してもらうメリットは極めて大きい。 Benefits get analysis while consulting the results via a network is very large. 【0050】(実施例5)測定したデータから有益な情報を抽出するために、専門家に委託した解析がしばしば有効であることは既に述べてきた。 [0050] In order to extract useful information from Example 5 measured data, it analysis entrusted to experts are often effective it has been already mentioned. 例えば、近年の最先端半導体デバイス開発において、微細化と新材料・新構造導入に伴うシリコン結晶内部応力の増大とこれに伴う不良が問題となってきており、実測による現象の把握と応力低減プロセス確立が急務である。 For example, in recent advanced semiconductor device development, miniaturization and new materials and new construction defect involved with growth and to the silicon crystal internal stress caused by the introduction have become a problem, the phenomenon by actual measurement grasp and Stress reduction process establishment There is an urgent need. この場合、応力量が微小であり、微細な領域に局在していることから、試料作製、測定、解析、解釈ともに難しい問題であり、本発明におけるような専門家との連携によるソリューションの獲得は極めて有効な例となり得る。 In this case, the amount of stress is very small, because it is localized in fine regions, sample preparation, measurement, analysis, interpretation are both difficult, acquisition of solutions in cooperation with specialists, such as in the present invention It can be a very effective example. 【0051】ここでは、透過電子顕微鏡(TEM)の電子回折像の測定と解析から、半導体デバイスの2次元応力分布を解析する例を説明する。 [0051] Here, the measurement and analysis of the electron diffraction image of a transmission electron microscope (TEM), illustrating an example of analyzing a two-dimensional stress distribution in the semiconductor device. 先ず、図6を用いて、 First, with reference to FIG. 6,
回折像から結晶の歪みや応力を測定する方法を説明する。 The method of measuring crystal strain and stress from the diffraction image will be described. 【0052】電子線60が試料61に入射すると、電子線は結晶面で回折される。 [0052] When the electron beam 60 is incident on the specimen 61, the electron beam is diffracted by the crystal plane. 試料に歪みが無い場合の結晶面を結晶面(a)64と結晶面(b)65とし、応力により歪みが発生した結果、結晶面(b)65が歪み結晶面66 Sample crystal plane when undistorted by crystal face (a) 64 and the crystal plane (b) 65, the result of distortion occurs due to stress, the crystal plane (b) 65 is distorted crystal face 66
に移動したものとする。 It is assumed that has moved to. 各結晶面で回折された電子線は電子レンズ62で屈折し、この結果回折像63が形成される。 Electron beam diffracted by the crystal plane is refracted by an electron lens 62, the result diffraction image 63 is formed. 【0053】ここで、歪みが無い場合の回折像における回折点間距離をaとする。 [0053] Here, the distance between the diffraction spots in the diffraction image when undistorted to a. 結晶面間隔dと回折点間距離aは反比例の関係にある。 Lattice spacing d and the distance between the diffraction points a is inversely proportional. 従って、回折点間距離の変化量をΔaとすると、格子歪みΔd/d=Δa/aの関係が成り立つ。 Thus, the variation in the distance between the diffraction spots When .DELTA.a, relationship lattice strain Δd / d = Δa / a is satisfied. また、応力Pは、歪み量に材料や結晶面の種類に固有な比例係数である弾性定数kを掛けたものであるため、P=k・Δd/d=k・Δa/aである。 Further, the stress P is because it is multiplied by the elastic constant k is a specific proportionality factor on the type of material and crystal plane distortion quantity is P = k · Δd / d = k · Δa / a. 従って、回折像から歪み量や応力を測定できることが分かる。 Therefore, it can be seen that measuring the strain amount or stress from the diffraction image. 【0054】透過電子顕微鏡では、電子線を10nm以下に収束して照射し、図6のような回折像を観察できる。 [0054] In the transmission electron microscope, and irradiated by converging the electron beam to 10nm or less, you can observe the diffraction image shown in FIG. 6. そこで、図7に示す形状、即ち、FIB(Focused Therefore, the shape shown in FIG. 7, i.e., FIB (Focused
Ion Beam)等の一般に用いられている試料加工法で目的とするトランジスタ部分の断面方向から観察できる試料を加工する。 Processing the sample can be observed from the cross-sectional direction of the transistor part targeted by Ion Beam) General sample processing methods used in the such as. 【0055】典型的なトランジスタでは、素子分離層4 [0055] In a typical transistor, the isolation layer 4
1で挟まれた領域のシリコン基板44上に、プラグ4 On the silicon substrate 44 in the region sandwiched between at 1, plug 4
0、ゲート42が形成されており、図中の応力発生場4 0, the gate 42 is formed, the stress generated field 4 in FIG.
3の結晶が大きく歪んでいる場合が多い。 3 If the crystal is greatly distorted in many cases. このような場合、基板深部は元々のシリコン結晶状態であることが多く、ここを格子間隔の基準点とし、図中に示したように複数の測定点に電子線を照射して回折像を取得する。 In such cases, it often deep portion of the substrate is original silicon crystal state, here as a reference point of the lattice spacing, obtaining a diffraction image by irradiating an electron beam to a plurality of measurement points as shown in FIG. to. 【0056】次に、図中に示した測定点でも同様の測定を行うことで、基準点に対して、格子間隔の変化量を算出する。 Next, by performing the same measurement at the measurement points shown in the figure, with respect to a reference point, and it calculates the amount of change in lattice spacing. 同時に、測定箇所を含む試料構造を表す拡大像を取得しておく。 At the same time, we obtain a magnified image representing a sample structure including a measurement point. 【0057】こうして得られた拡大像上に、格子間隔の変化量、すなわち歪み量を定量化して、図8のように表示する。 [0057] Thus on the resulting enlarged image, the amount of change in lattice spacing, that is, quantifying the distortion amount is displayed as shown in FIG. 即ち、歪み量に比例した長さの歪み量強度表示用矢印31を構造像写真32上に書く。 That is, write amount of distortion intensity display arrow 31 of length proportional to the amount of strain on the structure image photograph 32. ここで、矢印の長さと歪み量の関係をスケールバー33にて明示する。 Demonstrating Here, the relationship between the length and the amount of strain of the arrow at the scale bar 33.
ここでは、図示のように、基板平行方向、垂直方向の2 Here, as shown, the substrate parallel, vertical 2
方向の矢印をクロスさせており、クロスポイントが電子線照射位置を示す。 And are crossed in the direction of arrow, the cross point indicates the electron beam irradiation position. また、内向きの矢印対が圧縮歪み、 The arrows pair of inwardly directed compressive strain,
外向きが引張歪みを示すものとする。 It denotes the tensile strain is outward. 【0058】構造像写真82上には、基準点表示34も合わせて記載しておく。 [0058] On the structure micrograph 82 previously described reference point display 34 together. さらに、歪みと応力は比例関係にあることから、矢印長さを応力として表示することもできる。 Moreover, the strain and the stress from that a proportional relation, it is also possible to display the arrow length as a stress. この場合、スケールバーは応力量を規定するものとする。 In this case, the scale bar is intended to define the amount of stress. 結果の表示方法には他の例が考えられる。 The result display method other examples are contemplated. 例えば、図8に示すデータをもとに、等しい歪みもしくは応力量を示す場所を等応力線でつなぐ方法や、応力値に応じて色分けして表示する方法等が有効であると考えられる。 For example, based on the data shown in FIG. 8, a method of connecting the place indicated equal strain or stress amount stress contours, and a method of color-coded depending on the stress value is considered valid. 【0059】このように、応力解析はかなり複雑な処理が必要であるため、本発明におけるようなネットワークを介した専門家との連携が有効である。 [0059] In this way, the stress analysis is required rather complex process, cooperation with experts via a network, such as in the present invention is effective. ここでの進め方の一例を、図9のフローチャートで説明する。 An example of how to proceed in this case will be described with reference to a flowchart of FIG. 【0060】TEMを用いた評価の場合、はじめに試料を薄膜加工する必要がある。 [0060] For evaluation using TEM, the need to thin film processing of the sample at the beginning. 半導体デバイスで特定の不良ビット箇所を抜き取るためには高精度な加工技術が求められるため、例えば処理500で示すように、顧客から分析機関に試料が送付される。 Since the high-precision processing technology is required to withdraw a particular defective bit locations in the semiconductor device, for example, as shown in process 500, the sample is sent to the analysis engine from the customer. そこで処理501に示すように、イオンビーム加工法等を用い、0.1μm以上の厚さに試料を薄膜加工する。 Therefore, as shown in process 501, using an ion beam processing method, the sample is a thin film processed into more than 0.1μm thick. 試料加工時の応力緩和の点では、試料は厚いほうが望ましく、かつ、複数試料間で応力値を比較する場合は厚さを精度よく揃える必要がある。 In terms of stress relaxation at the time of sample processing, samples thicker is desirable, and when comparing the stress values ​​across multiple samples must be aligned accurately thickness. ここでも高精度な試料厚さ管理が重要である。 Again accurate sample thickness management is important.
出来た試料は再度顧客に送付され、処理502に示すように、電子顕微鏡の試料ステージに試料をセットし、処理503に示されるように、電子線を結晶面に対し厳密に平行入射するよう試料ステージで方位合わせをする。 Can samples sent back customers, as shown in process 502, the sample was set to the sample stage of an electron microscope, as shown in process 503, to strictly parallel incident electron beam with respect to the crystal plane sample the azimuth alignment on stage. 【0061】次に、回折像を撮像する。 Next, imaging the diffraction image. ここで、試料が傾斜していると回折点強度のアンバランスが発生し、回折点間距離測定の精度が下がることが分かっており、これを防ぐために方位合わせは必須である。 Here, the sample is unbalanced diffraction point intensity occurs inclined, it has been found to decrease the accuracy of the diffraction point distance measurement, the azimuth alignment in order to prevent this is essential. こうして処理504に示すように微小かつ平行入射するナノプローブ電子線を形成し、処理505に示すように、投射レンズを調整することで、焦点の合ったカメラの受光面積に合った大きさの回折像を形成し、CCD等の画素検出器上に結像させる。 Small and as shown in process 504 thus forming a nano-probe electron beam parallel incident, as shown in process 505, by adjusting the projection lens, the diffraction of a size corresponding to the light receiving area of ​​the camera in focus to form an image, it is imaged on the pixel detector such as a CCD. 回折点間距離を正確に測定するためには、受光面上でできるだけ回折点が離れていることが望ましく、例えば正方形の受光面を持ったCCDで回折像を撮像する際は、間隔を測定される回折点ペアを受光面の対角線上に並ぶように、試料を回転するか、投射レンズを調整して回折像を回転するか、画素検出器を回転させることにする。 In order to accurately measure the distance between the diffraction spots, it is desirable that as much as possible the diffraction points are separated on the light receiving surface, for example, when imaging a diffraction image by a CCD having a light receiving surface of the square are measured interval a diffraction point pairs so as to be arranged on a diagonal line of the light-receiving surface that either rotating the sample, and adjust the projection lens or rotation of the diffraction image, to rotate the pixel detector. 【0062】こうしてナノディフラクション法による回折像を撮影した後、処理506に示されるように、試料への照射条件を変え、電子ビームを広げ、TEMの拡大像で視野を確認し、次に測定点を探す。 [0062] Thus after taking a diffraction image by the nano-diffraction method, as shown in process 506, changing the irradiation conditions of the sample, spread the electron beam, check the field of view magnified image of TEM, then measured Find a point. ここで、結晶試料と電子線の相対位置を変化させる。 Here, changing the relative position of the crystal sample and the electron beam. 目的視野位置に電子線を振ってもよいが、ステージで電子線経路上に視野を移動させる方が回折像の歪み等を防ぐ点で望ましい。 May shake the electron beam on the purpose field position, but who moves the field on the electron beam path in the stage is preferable from the viewpoint of preventing distortion of a diffraction pattern.
処理507に示されるように、電子ビームを収束し、歪みや応力がゼロと考えられる点、例えば基板深部にて回折像(Diff.像)を回折像の基準(reference)として撮影する。 As shown in process 507, to converge the electron beam, that the strain and stress are considered to be zero, for example, to photograph a diffraction image of (Diff. Image) as the reference diffraction image (reference) at a substrate deep portion. 【0063】こうして拡大像と回折像を相互に切り替え観察を繰り返していき、処理508に示すように目的点数を満足した後は、処理509に示すように、顧客からデータを分析機関に送付し、分析機関では取得した回折像の解析を行い、結晶の有する特性、すなわち歪みや応力を求める工程に移る。 [0063] In this way continue to repeat the mutually switching observe the diffraction image and the enlarged image, after satisfying the purpose score as shown in processing 508, as shown in the processing 509, and sent to the analytical laboratory data from the customer, analyzes the diffraction image obtained in the laboratory, the characteristics possessed by the crystals, i.e. moves to obtaining a strain or stress. 【0064】まず、処理510に示すように、目的の回折点間距離を測定し、基準値からのずれを求めることで歪み量Δd/dを算出する。 [0064] First, as shown in process 510, to measure the distance between the diffraction points of interest, calculates a distortion amount [Delta] d / d by determining a deviation from the reference value. 次に、処理511に示すように、元素や結晶構造、結晶面ごとに異なる弾性定数を歪み量に掛けることで、応力を算出する。 Next, as shown in process 511, by multiplying the elements and crystal structure, the amount of distortion of different elastic constants for each crystal face, it calculates the stress. 例えば、シリコンの(220)面の場合、弾性定数k=1300MP For example, if the (220) plane of silicon, the elastic constant k = 1300MP
a、シリコンの(002)面の場合、弾性定数k=17 a, when the (002) plane of silicon, the elastic constant k = 17
00MPaである。 Is 00MPa. 即ち、シリコンの(220)面で回折点が0.1%シフトしていた場合、応力は130MP That is, when the diffraction point (220) plane of silicon was 0.1% shift, stress 130MP
aであることが分かる。 It can be seen is a. 最後に,処理512に示すように、歪みや応力の2次元分布を可視化した後、処理51 Finally, as shown in process 512, after the visualization of a two-dimensional distribution of strain and stress, treatment 51
3のように、顧客に報告し、最終的な課金状況を確認し、本作業を終了する。 As of 3, it reported to the customer, to see the final accounting situation, to end the present work. 【0065】こうした一連の評価作業において、処理5 [0065] In this series of evaluation work, processing 5
03、504、505は難度の高い調整作業であり、ネットワークを介した分析機関のサポートによって実現する。 03,504,505 is a high degree of difficulty adjustment is achieved by supporting the analysis organization over the network. さらに、ネットワークを介して、分析機関が直接顧客側に設置された装置を調整してもよい。 Furthermore, via the network, analysis engine may adjust the devices installed directly customer. 【0066】また、データ取得後の解析も難度が高いため、ここでは結果を顧客が分析機関に一度送ることで、 [0066] In addition, since difficulty even analysis after the data acquisition is high, here by sending once the results to the customer analysis organization,
分析機関が解析とディスプレイ全般を受け持つことにした。 Analysis engine is to be responsible for the analysis and display in general. この場合も、難度や作業量に応じた課金が成されることは言うまでもない。 Again, the accounting according to the difficulty and amount of work is it goes without saying that made. 【0067】本実施例のように、高度な解析や画像処理については、測定、解析ごと顧客は分析機関に依頼することも有る。 [0067] As in this embodiment, the advanced analysis and image processing, measurement, analysis per customer is also ask the laboratory. この場合、フローチャートは図10のようになる。 In this case, the flow chart is as shown in FIG. 10. 【0068】即ち、処理500で顧客から分析機関に試料が送付される。 [0068] In other words, the sample is sent to the analysis organization from the customer in the process 500. そこで処理501に示すように、イオンビーム加工法等を用い、0.1μm以上の厚さに試料を薄膜加工する。 Therefore, as shown in process 501, using an ion beam processing method, the sample is a thin film processed into more than 0.1μm thick. この後、図9に示す実施例のように試料を顧客に送ることなく、処理502に示すように、分析会社内の装置にセットされる。 Thereafter, without sending samples to the customer as in the embodiment shown in FIG. 9, as shown in process 502, it is set in the apparatus in the analysis company. この後の処理503から処理508までは、図9に示す実施例では分析会社と相談しながら顧客自らで対応していたのに対し、図10 From processing 503 subsequent to process 508, whereas corresponded with their own customers while consulting and analysis company in the embodiment shown in FIG. 9, FIG. 10
実施例では、随時顧客とネットワークを介して相談しながら、分析会社が進めていく点が異なる。 In an embodiment, at any time while consulting through the customer and the network, that the analysis company to proceed is different. 【0069】処理508で目的点数測定が完了したことを確認した後は、引き続き分析会社で処理510から処理512までの解析作業に入る。 [0069] After confirming that the objective score measurement is completed in operation 508, continue into the analysis work from the processing 510 in the analysis company to process 512. 最後に処理513で、 Finally, in process 513,
顧客に報告し、最終的な課金状況を確認し、本作業を終了する。 Reported to the customer, to see the final accounting situation, to end the present work. 【0070】課金は受けたサービスの質や量によって細かく規定される。 [0070] billing is finely defined by the quality and quantity of the received services. 例えば、図7に示した分析点の点数や、解析図面の数で変化する。 For example, the number of analysis points and shown in FIG. 7, changing the number of analysis drawings. また、顧客主体で作業を進める図9に示すフローより、分析機関主体で作業を進める図10の場合の方が金額は高い。 Further, from the flow shown in FIG. 9 proceeding customer mainly towards the case of FIG. 10 proceeding in laboratory principal amount is high. この他、サンプリングの難易やコンサルタントの回数、データベース利用回数や利用した分析機器の種類、ネットワークを接続した時間が昼間か深夜、分析期間の応対者の熟練度等にも課金状況は変化する。 In addition, the number of sampling of difficulty and consultants, databases use count and use analytical type of the device, midnight or time of connecting the network daytime, answering's also charged proficiency such situations the analysis period is changed. これらの料金体系は、図5に示した「費用画面」で確認できるものとする。 These fee structure shall be confirmed in shown in FIG. 5 "cost screen". 【0071】以上、本発明を整理すれば、次のようになる。 [0071] As described above, if the arrangement of the present invention, is as follows. 【0072】1)分析機関の有する複数の分析装置と複数の顧客がネットワークで結ばれた状態で、分析機関は分析装置を遠隔装置制御してデータ取得する工程、ネットワーク端末上の制御画面上で分析機関から受けるサービス内容に応じた課金状況と取得データを顧客が確認し、装置制御に参加するための制御ソフトを提供する工程、ネットワークを介して分析機関が顧客に回答書を提示する工程、分析結果の課金状況に応じて顧客が振り込んだ費用を金融機関から回収する工程を含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0072] 1) in a state in which a plurality of analyzers and a plurality of customers having the analysis engine is networked, laboratory the process of data acquisition analysis device and remote device control, on the control screen of the network terminal process the acquired data and billing situation in accordance with the service content received from laboratory customers to check the steps of providing a control software in order to participate in the device control, the analysis engine via the network is to present a written response to the customer, network solution analysis method characterized in that it comprises the step of recovering from the financial institutions the cost of transfer money the customer in accordance with the accounting situation of the analysis results. 【0073】2)顧客の有する複数の分析装置と分析機関がネットワークで結ばれた状態で、分析機関は分析装置を遠隔装置制御してデータ取得する工程、ネットワーク端末上の制御画面上で分析機関から受けるサービス内容に応じた課金状況と取得データを顧客が確認し、装置制御に参加するための制御ソフトを提供する工程、ネットワークを介して分析機関が顧客に回答書を提示する工程、課金状況に応じて顧客が振り込んだ費用を金融機関から回収する工程を含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0073] 2) in a state in which a plurality of analyzers and analysis engine with the customer networked, laboratory the process of data acquisition analysis device and remote device control, laboratory on control screen on a network terminal the acquired data and billing situation in accordance with the service contents of the customer is sure to receive from the steps of providing a control software in order to participate in the device control, process analysis engine via the network is to present a written response to the customer, accounting situation network solution analysis method characterized in that it comprises the step of the customer to recover from the cost of the financial institutions to transfer money in accordance with the. 【0074】3)前記1)又は前記2)記載の構成において、双方に設置されたテレビカメラの信号を伝達することで、分析機関と顧客間でオンライン会議を可能とすることを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0074] 3) In the configuration of the 1) or 2) above, wherein, by transmitting a signal of a television camera installed on both the network, characterized in that to enable online meetings between laboratory and the customer solutions analytical methods. 【0075】4)前記1)又は前記2)記載の構成において、サービス内容には、複数種類の装置制御、データ取得、データ解釈、データ解析、質疑応答、過去のデータの参考提示、装置の維持管理やメンテナンス作業、半導体製造に対するソリューションの提供を含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0075] 4) In the configuration of the 1) or 2) above, wherein, in the service content, a plurality of types of apparatus control, data acquisition, data interpretation, data analysis, Q and A, reference presentation of historical data, maintenance of the apparatus management and maintenance, network solution analysis method characterized in that it comprises the provision of solutions for semiconductor fabrication. 【0076】5)前記1)又は前記2)記載の構成において、制御画面には、装置制御画面、データ表示画面、 [0076] 5) the 1) or 2) above in the configuration according to the control screen, device control screen, data display screen,
課金状況確認画面、テレビ会議モニタ画面に分割表示、 Billing status confirmation screen, split displayed on the TV conference monitor screen,
もしくはこのうちの任意の画面が表示されることを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 Or Network Solutions analysis method characterized in that any screen of this is displayed. 【0077】6)前記1)又は前記2)記載の構成において、分析装置には、電子顕微鏡、質量分析計、光電子分光装置、プローブ顕微鏡、オージェ分光装置、磁気共鳴装置、半導体検査装置、クロマトグラフィ、DNAシーケンサ、血液分析装置、化学分析装置、生化学検査装置、収束イオン照射装置、プラズマクリーナ、試料加工作製装置、試料前処理装置、パソコン、スキャナ、画像処理装置、データ処理装置、ハードディスク、記憶媒体装置を含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0077] 6) In the configuration of the 1) or 2) above, wherein the analysis device, an electron microscope, the mass spectrometer, a photoelectron spectrometer, the probe microscope, Auger spectroscopy apparatus, a magnetic resonance device, a semiconductor inspection device, chromatography, DNA sequencer, blood analyzer, chemical analyzer, biochemical test apparatus, the focused ion irradiation apparatus, a plasma cleaner, sample processing manufacturing apparatus, sample pretreatment apparatus, a personal computer, a scanner, an image processing apparatus, data processing apparatus, a hard disk, storage medium network Solutions analysis method characterized in that it comprises a device. 【0078】7)前記1)又は前記2)記載の構成において、遠隔装置制御には、事前の試料作製・前処理、試料の装置への出し入れ、真空排気、加速電圧印加、ビーム出し、予備調整・光学軸だし、焦点補正、非点補正、 [0078] 7) In the configuration of the 1) or 2) above, wherein the remote device control, prior sample preparation Pretreatment, and out of the sample device, evacuation, the acceleration voltage applied, the beam out, preconditioning - it's optical axis, the focus correction, astigmatic correction,
試料微動・傾斜、データ撮影・取得、データの保存と管理、結果のプリントアウトを含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 Sample fine movement-inclined, data capturing and acquisition, storage and management of data, network solution analysis method characterized in that it comprises a printout of results. 【0079】8)前記1)又は前記2)記載の構成において、ネットワークは、メモリ領域を有し、過去の分析データを蓄積し、顧客からの要請に応じて該分析データを開示するライブラリ機能を有することを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0079] 8) In the configuration of the 1) or 2) above, wherein the network has a memory area, stores historical analytical data, the library functions to disclose the analysis data in response to requests from customers network Solutions analysis method characterized in that it has. 【0080】9)前記8)の構成において、ライブラリ機能は、顧客のネットワーク端末からパスワードや登録番号を入力することで利用できるライブラリ管理機能を有することを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0080] 9) In the configuration of the 8), library function, network solution analysis method characterized by having a library management features available by entering a password or registration number from the customer network terminals. 【0081】10)前記1)又は前記2)記載の構成において、装置の維持管理やメンテナンス作業には、真空度モニタ、ビーム量調整、液体窒素補給、分析作業前ウォーミングアップ、冷陰極フィールドエミッション電子銃のフラッシングを含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0081] 10) in the configuration of the 1) or 2) above, wherein, in the maintenance and servicing the unit, vacuum monitor, beam quantity adjustment, the liquid nitrogen supply, analytical work before warming up, the cold cathode field emission electron gun network Solutions analysis method characterized in that it comprises a flushing. 【0082】11)前記1)又は前記2)記載の構成において、遠隔装置制御には、顧客に提供された専用の操作卓もしくはネットワーク端末にインストールされた専用制御ソフトウエアにより成されることを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0082] 11) in the configuration of the 1) or 2) above, wherein the remote device control, characterized in that is made by a dedicated control software installed on the console or a network terminal of a dedicated provided to the customer network solution analysis method to. 【0083】12)前記2)の構成において、顧客の有する分析装置は、分析機関もしくは分析機器会社もしくは金融機関から貸与された装置であり、借用費用が該分析機関もしくは分析機器会社もしくは金融機関に支払われることを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0083] 12) In the configuration of the two), the analyzer having the customer is loaned a device from the analysis engine or the analysis instruments companies or financial institutions, borrowing costs is the analytical engine or analytical instruments companies or financial institutions network Solutions analysis method characterized in that paid. 【0084】13)前記1)又は前記2)記載の構成において、回答書には、取得したデータに解釈や解析結果を付加したり、ライブラリ機能から呼び出した関連データを記載したり、他分析装置の結果を併記する工程を含むことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0084] 13) wherein 1) or the 2) In the configuration described, the answer sheet, or adding interpretation and analysis results in the obtained data, or any relevant data called from the library functions, other analyzers network Solutions analysis method characterized by comprising the step of also shown results. 【0085】14)前記1)又は前記2)記載の構成において、データ取得する工程には、半導体検査装置や収束イオン照射装置でウエハまたはチップ上の不良部を探索し、収束イオン照射装置で不良部分を摘出加工し、分析装置にて分析することを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0085] 14) In the configuration of the 1) or 2) above, wherein, in the step of data acquisition searches the defect portion of the wafer or chip in the semiconductor inspection apparatus or focused ion irradiation apparatus, failure in the focused ion irradiation device network Solutions analysis method characterized by the portion excised processed and analyzed by the analyzer. 【0086】15)荷電粒子線を試料に照射して得られる回折像から試料の応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客は、ネットワーク端末を介して前記分析機関から技術的サービスを受けながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得して、前記計測データを前記分析機関へ送付するステップと、前記分析機関は、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記測定結果を含む報告を確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0086] 15) The charged particle beam In the process of measuring the stress distribution in the sample from the diffraction image obtained by irradiating the sample, connected by a network through a communication line between the customer and the laboratory, the customer while undergoes technical services from the analysis engine via a network terminal, it acquires the measurement data including the diffraction pattern of the sample, a step of sending the measurement data to the analysis engine, the analysis engine, step the stress distribution was measured by analyzing the measurement data including the diffraction pattern of the sample, comprising the steps of: reporting the results to the customer, the customer to confirm the report including the measurement result from the laboratory a bets, network solution analysis method characterized by being configured the process. 【0087】16)荷電粒子線を試料に照射して得られる回折像から試料の応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客からの発注に沿い、前記分析機関は、前記顧客とは前記ネットワークを介して連絡を取り合いながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得し、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記測定結果を含む報告を確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0087] 16) The charged particle beam In the process of measuring the stress distribution in the sample from the diffraction image obtained by irradiating the sample, connected by a network through a communication line between the customer and the laboratory, the customer along the order from the laboratory, while said customer keep in touch via the network, it acquires the measurement data including the diffraction pattern of the sample, analyzing the measurement data including the diffraction pattern of the sample the stress distribution measured Te, comprising the steps of: reporting the results to the customer, the customer is, and a step of confirming a report including the measurement result from the laboratory that was constructed the process network Solutions analysis method comprising. 【0088】17)透過電子顕微鏡の電子回折像から半導体デバイスの応力分布を測定するプロセスにあって、 [0088] 17) there from the electron diffraction image of the transmission electron microscope in the process of measuring the stress distribution in the semiconductor device,
顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客から試料の送付を受けて、前記分析機関は、前記顧客とは相互にネットワーク端末を介して連絡を取り合いながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得し、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記結果報告を確認し、前記分析機関からのサービス内容に応じた課金状況をネットワーク端末の画面を介して確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 Conclusion In the network via the communication line between the customer and the analysis engine, receives the sending of the sample from the customer, the analysis engine, while keep in touch via the network terminal to each other and the customer, the sample It acquires measurement data including the diffraction pattern, and analyzes the measurement data including the diffraction pattern of the sample is measured the stress distribution, the steps of reporting the results to the customer, the customer is, from the laboratory the result report to verify the accounting situation in accordance with the service content from the laboratory and a step of checking via the screen of the network terminal, the network solutions analyzed, characterized by being configured the process of Method. 【0089】18)荷電粒子線を試料に照射して得られる回折像から試料の2次元応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客は、ネットワーク端末を介して前記分析機関から技術的サービスを受けながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得して、前記計測データを前記分析機関へ送付するステップと、前記分析機関は、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記2次元応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記結果報告とサービス内容に応じた課金状況とを確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0089] 18) The charged particle beam In the process of measuring the two-dimensional stress distribution in the sample from the diffraction image obtained by irradiating the sample, connected by a network through a communication line between the customer and the laboratory, the customer while receiving technical services from the analysis engine via a network terminal, acquires the measurement data including the diffraction pattern of the sample, a step of sending the measurement data to the analysis engine, the laboratory analyzes the measurement data including the diffraction pattern of the sample is measured the two-dimensional stress distribution, a step of reporting the results to the customer, the customer, the result report and service content from the laboratory network Solutions analysis method characterized in that comprises the step of confirming the accounting situation and constitutes the process in accordance with. 【0090】19)荷電粒子線を試料に照射して得られる回折像から試料の2次元応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客からの発注に沿い、前記分析機関は、前記顧客とは前記ネットワークを介して連絡を取り合いながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得し、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記2次元応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記結果報告とサービス内容に応じた課金状況とを確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 [0090] 19) The charged particle beam In the process of measuring the two-dimensional stress distribution in the sample from the diffraction image obtained by irradiating the sample, connected by a network through a communication line between the customer and the laboratory, along the order from the customer, the analysis engine, while said customer keep in touch via the network, acquires the measurement data including the diffraction pattern of the sample, the measurement data including the diffraction pattern of the sample analyzed by measuring the two-dimensional stress distribution, a step of reporting the results to the customer, the customer has a step of confirming the accounting status in accordance with the result report and service content from the laboratory a, the network solution analysis method characterized by being configured the process. 【0091】 【発明の効果】本発明は、装置と操作専門技術を顧客と分析機関で共有化し、分析に要するコスト、時間を低減することができるようになる。 [0091] According to the present invention, by sharing the equipment and operations expertise in customer and analysis organization, cost required for the analysis, it is possible to reduce the time.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の実施例1を説明する図。 View for illustrating Embodiment 1 of the BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [Figure 1] present invention. 【図2】図1に示すビジネス形態を実現するための手順例を示すフロー図。 Figure 2 is a flow diagram illustrating an exemplary procedure for implementing a business form shown in FIG. 【図3】本発明の実施例3を説明する図。 Diagram illustrating a third embodiment of the present invention; FIG. 【図4】図3に示すビジネス形態を実現するための手順例を示すフロー図。 Figure 4 is a flow diagram illustrating an exemplary procedure for implementing a business form shown in FIG. 【図5】分析作業を進めるための遠隔操作をサポートする操作画面の一例を示す図。 5 is a diagram showing an example of an operation screen that supports remote control to advance the analysis work. 【図6】電子線が試料を透過する際の回折を示す図。 6 shows the diffraction of when the electron beam passes through the sample. 【図7】本発明の実施例5に用いられる半導体デバイスの例を示す断面図。 Cross-sectional view showing an example of a semiconductor device used in Example 5 of the present invention; FIG. 【図8】本発明の実施例5における表示の一例を示す図。 8 is a diagram showing an example of a display in Example 5 of the present invention. 【図9】本発明の実施例5における応力分布を求めるフローチャート図。 FIG. 9 is a flowchart diagram for obtaining the stress distribution in the fifth embodiment of the present invention. 【図10】本発明の実施例5における応力分布を求めるフローチャート図。 10 is a flowchart diagram for obtaining the stress distribution in the fifth embodiment of the present invention. 【符号の説明】 1:分析機関、2:顧客、3:A分析装置、4:A分析装置用制御コンピュータ、5:B分析装置、6:B分析装置用制御コンピュータ、7:モニタ、8:カメラ、 [Description of Reference Numerals] 1: analysis organization, 2: Customer, 3: A analyzer, 4: A analyzer control computer, 5: B analyzer, 6: B analyzer control computer, 7: monitor, 8: camera,
9:操作卓、10:分析担当者、11:依頼者、12: 9: console, 10: Analysis person in charge, 11: Requester, 12:
ネットワークシステム、13:課金計算機能、14:金融機関、15:ライブラリ機能、16:ネットワーク端末、31:歪み量強度表示矢印、32:構造像写真3 Network Systems, 13: charging calculation functions, 14: financial institutions, 15: Library Function, 16: network terminal, 31: strain amount strength indicator arrows 32: structure image Photo 3
2、33:スケールバー、34:基準点表示、40:プラグ、41:素子分離層、42:ゲート、43:応力発生場、44:シリコン基板、60:電子線、61:試料、62:電子レンズ、63:回折像、64:結晶面 2, 33: Scale bar, 34: reference point display, 40: plug, 41: element isolation layer, 42: gate 43: Stress generated field 44: silicon substrate, 60: electron beam 61: sample 62: Electronic lens, 63: diffraction image, 64: crystal plane
(a)、65:結晶面(b)、66:歪み結晶面。 (A), 65: crystal face (b), 66: Distortion crystal plane.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 常田 るり子 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内(72)発明者 荒牧 浩二 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内Fターム(参考) 2G001 AA03 BA08 BA09 BA11 BA18 CA03 FA01 GA01 GA06 HA09 HA13 JA16 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Ruriko Tsuneda Tokyo Kokubunji east Koigakubo chome 280 address Hitachi, Ltd. center within the Institute (72) inventor Koji Aramaki Tokyo Kokubunji east Koigakubo chome 280 address Hitachi, Ltd. central Research Institute of the F-term (reference) 2G001 AA03 BA08 BA09 BA11 BA18 CA03 FA01 GA01 GA06 HA09 HA13 JA16

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】荷電粒子線を試料に照射して得られる回折像から試料の応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客は、ネットワーク端末を介して前記分析機関から技術的サービスを受けながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得して、前記計測データを前記分析機関へ送付するステップと、前記分析機関は、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、 There Patent Claims 1. A charged particle beam to a process for measuring the stress distribution in the sample from the diffraction image obtained by irradiating the sample, via a communication line between the customer and the laboratory Conclusion in the network, the customer, the steps of while receiving technical services from the analysis engine via a network terminal, acquires the measurement data including the diffraction pattern of the sample, and sends the measurement data to the analysis engine the analysis engine analyzes the measurement data including the diffraction pattern of the sample is measured the stress distribution, the steps of reporting the results to the customer,
    前記顧客は、前記分析機関からの前記測定結果を含む報告を確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 The customer and a step of confirming a report including the measurement result from the laboratory, network solution analysis method characterized by being configured the process. 【請求項2】荷電粒子線を試料に照射して得られる回折像から試料の応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客からの発注に沿い、前記分析機関は、前記顧客とは前記ネットワークを介して連絡を取り合いながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得し、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記測定結果を含む報告を確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 2. A In the process of measuring the stress distribution in the sample from the diffraction image obtained by irradiating the charged particle beam to the sample, connected by a network through a communication line between the customer and the laboratory, the customer along the order from the laboratory, while said customer keep in touch via the network, it acquires the measurement data including the diffraction pattern of the sample, analyzing the measurement data including the diffraction pattern of the sample the stress distribution measured Te, comprising the steps of: reporting the results to the customer, the customer is, and a step of confirming a report including the measurement result from the laboratory that was constructed the process network Solutions analysis method comprising. 【請求項3】透過電子顕微鏡の電子回折像から半導体デバイスの応力分布を測定するプロセスにあって、顧客と分析機関との間を通信回線を介してネットワークで結び、前記顧客から試料の送付を受けて、前記分析機関は、前記顧客とは相互にネットワーク端末を介して連絡を取り合いながら、前記試料の回折像を含む計測データを取得し、前記試料の回折像を含む計測データを解析して前記応力分布を測定し、その結果を前記顧客に報告するステップと、前記顧客は、前記分析機関からの前記結果報告を確認し、前記分析機関からのサービス内容に応じた課金状況をネットワーク端末の画面を介して確認するステップとを有して、前記プロセスを構成したことを特徴とするネットワークソリューション分析方法。 3. There the electron diffraction image of the transmission electron microscope in the process of measuring the stress distribution in the semiconductor device, connected by a network through a communication line between the customer and the analysis engine, the delivery of the sample from the customer receiving by the analysis engine, while keep in touch via the network terminal to each other and the customer, obtains the measurement data including the diffraction pattern of the sample, and analyzes the measurement data including the diffraction pattern of the sample and measuring the stress distribution, the steps of reporting the results to the customer, the customer confirms the results reported from the laboratory, the accounting situation in accordance with the service content from the laboratory of the network terminal and a step of checking via the window, network solution analysis method characterized by being configured the process.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011243540A (en) * 2010-05-21 2011-12-01 Hitachi High-Technologies Corp Selected area aperture plate of transmission electron microscope, manufacturing method of selected area aperture plate, and observing method of selected area electron diffraction image
WO2019065607A1 (en) * 2017-09-27 2019-04-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ Assistance system for specific test, and assistance method and program for specific test

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