# JP2003121606A - Antireflection film, polarizing plate and image display device - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate and image display device

## Info

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JP2003121606A
JP2003121606A JP2002091199A JP2002091199A JP2003121606A JP 2003121606 A JP2003121606 A JP 2003121606A JP 2002091199 A JP2002091199 A JP 2002091199A JP 2002091199 A JP2002091199 A JP 2002091199A JP 2003121606 A JP2003121606 A JP 2003121606A
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JP
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refractive index
film
layer
antireflection film
index layer
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Application number
JP2002091199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Nakamura

Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd

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Publication date

## Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film excellent in display quality which decreases both of the reflectance and colors in the reflected light at a low cost. SOLUTION: The antireflection film has at least one layer having a lower refractive index than that of a supporting body on the transparent supporting body. The average mirror face reflectance at 5 deg. incident angle of the film is <=0.5% in the wavelength region from 450 nm to 650 nm. When the colors of the reflected light for the light with 5 deg. incident angle from a CIE standard light source D65 in the wavelength region from 380 nm to 780 nm are expressed by the a* and b* values in the CIE1976L*a*b* color chart, the a* and b* values are in the ranges of -7<=a*<=7 and -10<=b*<=10, respectively.

## Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィルム、それを用いた偏光板、およびそれらを用いた画像表示装置に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] [Technical Field of the Invention The present invention provides an antireflection film, a polarizing plate using the same, and an image display device using them. 【０００２】 【従来の技術】反射防止フィルムは、液晶表示装置（Ｌ [0002] as liquid crystal display device (L
ＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。 CD), a plasma display panel (PDP), is provided in various image display devices such as electroluminescent display (ELD) and cathode ray tube display device (CRT). 眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。 Antireflection film is also provided on the glasses and camera lenses. 反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。 The antireflection film, multilayer film as a laminate of transparent thin films of metal oxides are commonly used in the art. 複数の透明薄膜を用いるのは、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。 To use a plurality of transparent thin film is to prevent reflection of light as much as possible a wide wavelength region in the visible range. 金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。 Transparent thin film of metal oxide, chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, and is formed in particular by a vacuum vapor deposition or sputtering which is a kind of physical vapor deposition. 金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法による製膜方法は、生産性が低く大量生産に適していない。 Transparent thin film of metal oxide, have excellent optical properties as an anti-reflection film, film forming method by vapor deposition or sputtering, it is not suitable for mass production low productivity. 【０００３】蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。 [0003] Instead of the evaporation method, a method of forming an antireflection film by coating the inorganic fine particles have been proposed. 特公昭６０−５９２５０号公報は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示している。 Sho 60-59250 discloses discloses an anti-reflection layer having a fine pore and particulate inorganic substance. 反射防止層は、塗布により形成される。 Antireflection layer is formed by coating. 微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成される。 Microscopic voids is subjected to activated gas treatment after application of the layer, is formed by the gas is removed from the layer. 特開昭５９−５０４０１号公報は、 JP-A-59-50401 Patent Publication No.,

０２１号公報は、前記特開平２−２４５７０２号公報記載の反射防止フィルムに存在する超微粒子間隙をバインダーで充填することを開示している。 021 JP has ultrafine particles gaps existing in the antireflection film of the JP-A 2-245702 JP discloses a filling with a binder. 特開平７−４８ JP-A-7-48
５２７号公報は、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止フィルムを開示している。 527 JP discloses an antireflection film containing a fine inorganic powder and a binder consisting of porous silica. 特開平１１−６９０２号公報は、低屈折率層に無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねてミクロボイドを含有させた層を用いた、ウエット塗布による３層構成の反射防止膜を有するフィルムを開示している。 JP 11-6902 discloses the layers of containing microvoids stacked least two or more inorganic fine particles in the low refractive index layer using, discloses a film having an antireflection film of the three-layer structure by wet coating there. オールウエット塗布による安価な製造コストにて、膜強度と反射率の低さを両立した反射防止フィルムを与える技術が公開されている。 At low production cost due to all wet coating, techniques to provide an antireflection film which has both a low film strength and the reflectance is published. 【０００５】上述したような塗布による反射防止フィルムに防眩性を付与する手段としては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を反射防止層を形成する塗布液に添加する方法の他に、特開２０００−２７５４０１号公報、特開２０００−２７５４０４号公報に開示されているような、平滑な反射防止フィルムの作成後に、エンボス法等によって表面凹凸構造を形成する方法がある。 [0005] As means for imparting an antiglare property to the antireflection film according to the above-described coating, a method of applying an anti-reflection layer on a support having a surface unevenness, the matte particles for forming surface irregularities other methods of adding the coating solution for forming the anti-reflection layer, 2000-275401 JP, as disclosed in JP-a-2000-275404, after the creation of smooth antireflection film, embossing a method of forming a surface relief structure by like. 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の蒸着法やスパッタ法によって製造されている反射防止フィルムは、４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均反射率が０．４％以下のものは反射光の色味が赤紫色から青紫色に強く着色しており、反射光源が背後にある場合、表示品位を悪化させてしまう問題があった。 However [0005] anti-reflection film manufactured by vapor deposition or sputtering of said, 450 nm from the average reflectance in the wavelength region up to 650nm or less 0.4% ones tint of reflected light is strongly colored bluish purple from red-purple, when the reflection light is behind, there is a problem that exacerbates the display quality.

５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．５％以下、且つ、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩ The average value of the wavelength region of up to 50nm 0.5% or less, and, CI in the 780nm region from the wavelength 380nm
Ｅ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値がそれぞれ−７≦ａ＊≦７、且つ、−１０≦ｂ＊≦１０ Tint of regularly reflected light for 5 ° incident light E standard light source D65 is, CIE1976L * a * b * a * color space, b * values, respectively -7 ≦ a * ≦ 7, and, -10 ≦ b * ≦ 10
の範囲内にあることを特徴とする反射防止フィルム。 Antireflection film characterized in that in the range of. （２） 前記反射防止フィルムにおいて、ａ＊、ｂ＊値がそれぞれ０≦ａ＊≦５、且つ、−７≦ｂ＊≦０の範囲内にあることを特徴とする（１）に記載の反射防止フィルム。 (2) In the antireflection film, a *, b * values ​​are respectively 0 ≦ a * ≦ 5, and the reflection according to (1) to be within the scope of -7 ≦ b * ≦ 0 preventing film. （３） 前記反射防止フィルムにおいて、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．４％以下であることを特徴とする（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。 (3) In the antireflection film, according to the average value in the wavelength region from 450nm specular reflectance until 650nm is equal to or less than 0.4% in 5 degree incidence (1) or (2) anti-reflection film. （４） 前記反射防止フィルムにおいて、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．３％以下であることを特徴とする（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。 (4) In the antireflection film, according to the average value in the wavelength region from 450nm specular reflectance until 650nm is equal to or less than 0.3% in 5 degree incidence (1) or (2) anti-reflection film. （５） 前記反射防止フィルムのそれぞれの層が、膜形成性の溶質と少なくとも１種類の溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする（１）〜（４）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 (5) that each of the layers of the antireflection film, the coating of the coating composition containing at least one solvent and film-forming solute, the solvent is dried, formed by curing with heat and / or ionizing radiation the antireflection film as described in any one constitution (1) to (4) that is. （６） 前記低屈折率層と前記透明支持体の間に、低屈折率層側から順に該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、該支持体と高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層、の実質上３層の屈折率の異なる層が形成されていることを特徴とする（５）に記載の反射防止フィルム。 (6) the between the transparent support and the low refractive index layer, the high refractive index layer having a refractive index higher than the support in this order from the low refractive index layer side, of the support and the high refractive index layer of the intermediate the antireflection film as described in refractive index layer having a refractive index, characterized in that the different layers of refractive index of substantially three layers are formed (5). （７） 前記反射防止フィルムにおいて、設計波長λ (7) In the antireflection film, the design wavelength λ
（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、 (= 500 nm) medium refractive index layer satisfies the following relation with respect to the (I),

Ｉ）をそれぞれ満足することを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 6, characterized by satisfying I), respectively. ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００ （Ｉ） ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５ （ＩＩ） ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５ （ＩＩＩ） （但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、 lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I) mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II) nλ / 4 × 0.95 <n3d3 < nλ / 4 × 1.05 (III) (in the formula, l is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and, d1 is at a layer thickness of the medium refractive index layer (nm) , m is 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and, d2 is the thickness of the high refractive index layer (nm),
ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である） （８）屈折率が１．４５〜１．５５である透明支持体に対してｎ１が１．６０〜１．６５、ｎ２が１．８５〜 n is 1, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, d3 is the thickness of the low refractive index layer (nm)) (8) a refractive index of 1.45 to 1.55 n1 to the transparent support is 1.60~1.65, n2 is 1.85～
１．９５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることを特徴とする（７）に記載の反射防止フィルム。 1.95, the antireflection film according to n3 is characterized by a refractive index of 1.35 to 1.45 (7). （９）屈折率が１．５５〜１．６５である透明支持体に対して ｎ１が１．６５〜１．７５、ｎ２が１．８５〜 (9) the refractive index n1 is the transparent support is 1.55 to 1.65 1.65 to 1.75, n2 is 1.85～
２．０５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることを特徴とする（７）に記載の反射防止フィルム。 2.05, the antireflection film according to n3 is characterized by a refractive index of 1.35 to 1.45 (7). （１０） 前記反射防止フィルムの低屈折率層が、熱または電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂からなることを特徴とする（７）〜（９）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 (10) The antireflection film as described in the low refractive index layer of the antireflection film, it consists of heat or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin, characterized in (7) to (9) any one . （１１） 前記反射防止フィルムの高屈折率層が、 Ｔ (11) a high refractive index layer of the antireflection film, T
ｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物を含有する超微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物を塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする（７）〜（９）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 i, Zr, In, Zn, Sn, ultrafine particles, an anionic dispersing agent containing at least one metal oxide selected from oxides of Sb, curable resin and polymerization having trifunctional or more polymerizable groups coating a coating composition comprising an initiator, drying the solvent, characterized in that one formed by curing with heat and / or ionizing radiation (7) to (9) antireflection according to any one the film. （１２） 前記反射防止フィルムの低屈折率層が、動摩擦係数が０．１５以下、純水の接触角が１００度以上であることを特徴とする（１０）に記載の反射防止フィルム。 (12) a low refractive index layer of the antireflection film, the antireflection film according to the dynamic friction coefficient of 0.15 or less, the contact angle of pure water is characterized in that at least 100 degrees (10). （１３） 前記低屈折率層と前記透明支持体との間に少なくとも１層のハードコート層を有することを特徴とする、（１）〜（１２）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 (13) and having a hard coat layer at least one layer of anti-reflection according to any one (1) to (12) film between the low refractive index layer and the transparent support. （１４） 前記低屈折率層と前記透明支持体との間に少なくとも１層の前方散乱層を有することを特徴とする、 (14) and having a forward scattering layer of at least one layer between the transparent support and the low refractive index layer,
（１）〜（１３）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 (1) - (13) The antireflection film of any one. （１５） ＴＤ方向あるいはＭＤ方向に１０ｃｍ離れた任意の２つの場所における波長３８０ｎｍから７８０ｎ (15) 780 from the wavelength 380nm in the TD direction or any two away 10cm in MD direction
ｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味ムラが、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ Specular reflection light in color unevenness for 5 degrees incident light CIE standard light source D65 in a region of m is, CIE 1976 L * a *
ｂ＊色空間のΔＥａｂ＊値で２未満であることを特徴とするであることを特徴とする（１）〜（１４）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 b * antireflection film according to any one characterized by (1) to (14) that it is characterized in that it is less than 2 in AEab * values ​​of the color space. （１６） トリアセチルセルロースあるいはポリエチレンテレフタレートのいずれかに対して常温常湿で測定した垂直剥離帯電量が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃ (16) a vertical separation charge measured at normal temperature and normal humidity for either triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate -200Pc (picocoulomb) / c
2 〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ 2であり、かつ表面抵抗値が１×１０ 11 Ω／□以上であることを特徴とするであることを特徴とする（１）〜（１５）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 m 2 ~ + 200 pC (pico coulomb) and / cm 2, and is characterized in that it is characterized in that the surface resistance value is 1 × 10 11 Ω / □ or more (1) to (15) any one the antireflection film according to item. （１７） ２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、（１）〜（１６）いずれか１項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、 (17) and two polarizing plates of the surface protection film laminated on the front and rear surfaces of the polarizer, after forming the low refractive index layer of the antireflection film as described in item 1 or (1) - (16) , it is dipped at least once in an alkali solution,

Ｓ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置。 S, transmission of OCB mode, reflective, or semi-transmissive liquid crystal display device. （２１） （１７）〜（１９）いずれか１項に記載の偏光板を少なくとも１枚有する透過型または半透過型の液晶表示装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置することを特徴とする液晶表示装置。 (21) (17) - (19) is a transmissive or transflective liquid crystal display device having at least one polarizing plate described in any one, to the viewer side and the opposite side of the polarizing plate and the backlight between a liquid crystal display apparatus characterized by disposing a polarization separation film having a polarization selection layer. （２２）前記透明支持体がポリエチレンテレフタレートフィルム、またはポリエチレンナフタレートフィルムであることを特徴とする（１）〜（１６）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 (22) the transparent support is a polyethylene terephthalate film or characterized in that it is a polyethylene naphthalate film (1) The antireflection film according to any one - (16). （２３） （１７）または（１８）に記載の偏光板の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、λ／ (23) (17) or the transparent protective film opposite to the antireflection film of the polarizing plate according to (18), lambda /
４板を配置したことを特徴とする透過または半透過型液晶装置。 4 transmissive or semi-transmissive liquid crystal device, characterized in that a plate. （２４） （１７）または（１８）に記載の偏光板の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、λ／ (24) (17) or the transparent protective film opposite to the antireflection film of the polarizing plate according to (18), lambda /
４板を配置したことを特徴とする、有機ＥＬディスプレイ装置。 4, characterized in that a plate, an organic EL display device. 【０００８】 【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムの基本的な構成を図面を引用しながら説明する。 [0008] The drawings a basic configuration of the antireflection film of the embodiment of the present invention will be described with reference. 【０００９】［反射防止フィルムの形成］図１は、本発明に用いられる反射防止フィルムの基本的な層構成を示す断面模式図である。 [0009] [Formation of Antireflection Film] FIG 1 is a schematic sectional view showing a basic constitution of layers of the antireflection film used in the present invention. 透明支持体（１）、ハードコート層（２）、中屈折率層（３）、高屈折率層（４）、そして低屈折率層（５）の順序の層構成を有する。 Transparent support (1), the hard coat layer (2), a middle refractive index layer (3), the high refractive index layer (4), and having a layer structure of the order of the low refractive index layer (5). このような３層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してｎλ／４前後、 Antireflection film of such a three-layer structure, a medium refractive index layer, the high refractive index layer, the optical thickness of each layer of the low refractive index layer, namely with respect to the product of the refractive index and thickness of the design wavelength λ nλ / 4 before and after,
またはその倍数であることが好ましいことが特開昭５９ Or JP 59 that is preferably a multiple thereof
−５０４０１号公報に記載されている。 It is described in -50401 JP. しかしながら、 However,

ｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足する必要がある。 Middle refractive index layer satisfies the following relation with respect to m) and (I), the formula is the high refractive index layer (II), the low refractive index layer is required to satisfy the following expression (III), respectively. 【００１０】 ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００ （Ｉ） 【００１１】 ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５ （ＩＩ） 【００１２】 ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５ （ＩＩＩ） 【００１３】式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎ [0010] lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I) [0011] mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II) [0012] nλ /4×0.95<n3d3<nλ/4×1.05 (III) [0013] wherein, l is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and, d1 is the medium refractive index the thickness of the layer (n
ｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、 A m), m is 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and, d2 is the thickness of the high refractive index layer (nm), n is 1, n3 low refractive the refractive index of the rate layer,
そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。 Then, d3 is the thickness of the low refractive index layer (nm). さらに、例えばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４ Furthermore, for example, triacetyl cellulose (refractive index: 1.4
９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要があり、例えばポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５ For transparent support so as refractive index from 9) is 1.45 to 1.55, n1 is 1.60-1.65, n2 is 1.85 to 1.95, n3 is 1.35 It must be a refractive index of ～1.45, such as polyethylene terephthalate (refractive index: 1.66) to become such a refractive index of 1.5
５〜１．６５の透明支持体に対しては、 ｎ１は１．６ For the transparent support of 5~1.65, n1 is 1.6
５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１． 5~1.75, n2 is 1.85~2.05, n3 is 1.
３５〜１．４５の屈折率である必要がある。 It is necessary that the refractive index of from 35 to 1.45. 上記のような屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層あるいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。 Equivalent material refractive index layer and the high refractive index layer having a refractive index as described above if it can not selected, the multiple layers combined layers having a layer with a low refractive index having a refractive index higher than the set refractive index using the principles of the film, it is known to be able to form an optically equivalent layer and refractive index layer or high refractive index layer in the substantially set refractive index, in order to realize the reflectance characteristics of the present invention it can be used. 本発明の「実質的に３層」とは、 By "substantially three layers" of the present invention,
このような等価膜を用いた４層、５層の屈折率の異なる項からなる反射防止層も含むものである。 Such equivalents film 4 layered with, but includes an antireflection layer consisting of different sections of the refractive index of the five layers. 【００１４】上記のような層構成とすることで達成される本特許の反射率特性は、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば液晶表示装置の最表面に適用した場合、これまでにない視認性の高さを有する表示装置が得られる。 [0014] reflectance characteristics of this patent is achieved by a layer structure as described above, it is possible to achieve both a reduction in color low reflection and the reflected light, for example, on the outermost surface of the liquid crystal display device when applied, the display device can be obtained with the free visibility of high far. ５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．５％以下であることによって、表示装置表面での外光の反射による視認性の低下が充分なレベルまで防止できる。 Prevention from 450nm specular reflectivity at 5 ° incidence by the average value in the wavelength region up to 650nm is 0.5% or less, until a sufficient level reduction of visibility due to reflection of external light on the display surface it can. 平均値は好ましくは０．４％以下であり、より好ましくは０．３％以下である。 Average value is preferably not more than 0.4%, more preferably 0.3% or less. また、波長３８０ｎｍ In addition, wavelength 380nm
から７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６ Tint of regularly reflected light for 5 ° incident light CIE standard light source D65 in the 780nm region from the, CIE1976
Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値がそれぞれ−７≦ａ L * a * b * color space a *, b * values, respectively -7 ≦ a
＊≦７、且つ、−１０≦ｂ＊≦１０の範囲内とすることで、従来の多層反射防止フィルムで問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに０≦ * ≦ 7, and, by a range of -10 ≦ b * ≦ 10, the tint of reflected light of the blue-violet from conventional red-purple, which has been a problem in multilayer antireflection film is reduced, further 0 ≦
ａ＊≦５、且つ、−７≦ｂ＊≦０の範囲内とすることで大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、気にならない。 a * ≦ 5, and is greatly reduced by a range of -7 ≦ b * ≦ 0, when applied to a liquid crystal display device, such as an indoor fluorescent lamp, high luminance ambient light is slightly the color of the case yelling reflected is in neutral, I do not mind. 詳しくはａ For more details, a
＊＞７では赤味が強く、ａ＊＜−７ではシアン味が強くなり、好ましくない。 *> 7 strong redness in, a * <- 7 in cyan taste becomes strong, which is not preferable. またｂ＊＜−７では青味が強く、 The b * <- 7 strong bluish in,
ｂ＊＞０では黄味が強くなり好ましくない。 b *> 0 in yellowish strongly unfavorably. 鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３ Measurement of specular reflectance and color is mounted an adapter ARV-474 in a spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation), 3
８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５ In the wavelength region of 80～780Nm, measuring the specular reflectivity of the emission angle of -5 ° at an incident angle of 5 °, 450 to 65
０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。 Calculates an average reflectance of 0 nm, it is possible to evaluate the antireflection property. さらに、測定された反射スペクトルから、 Furthermore, from the measured reflection spectrum,
ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表わすＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊ The CIE1976L * a * b * color space representing the color of specular reflection light with respect to 5 degrees incident light CIE standard light source D65 L *

Ｄ方向（支持体長手方向と直交する方向）あるいはＭＤ D direction (direction perpendicular to the support longitudinal direction) or MD

＊ｂ＊色空間のΔＥａｂ＊値で２未満であることが好ましく、１．５未満であると完全に人間の目でムラを検出できなくなり、より好ましい。 * Preferably AEab * value is less than 2 in the b * color space, fully will not be able to detect irregularities in the human eye is less than 1.5, more preferably. 【００１６】本発明の反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）あるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のいずれかに対して常温常湿で測定した垂直剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ The antireflection film of [0016] the present invention, vertical separation charge measured at normal temperature and normal humidity for either triacetyl cellulose (TAC) or polyethylene terephthalate (PET) is -200Pc (picocoulomb) / cm
2 〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ 2であることが、防塵性の観点から好ましい。 It is preferable from the viewpoint of dust resistance is 2 ~ + 200pc (picocoulomb) / cm 2. より好ましくは−１０ More preferably -10
０ｐｃ／ｃｍ〜＋１００ｐｃ／ｃｍ 2であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ 2 〜＋５０ｐｃ／ｃｍ 2であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ 2である。 A 0pc / cm~ + 100pc / cm 2 , more preferably from -50pc / cm 2 ~ + 50pc / cm 2, and most preferably 0pc / cm 2. ここで、単位のｐｃ（ピコクーロン）は、１０ -12クーロンである。 Here, the unit of pc (pico coulomb) is 10 -12 Coulomb. さらに好ましくは、常温１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−１００ｐｃ／ｃｍ 2 〜＋１００ｐｃ／ｃｍ 2 More preferably, the vertical peeling electrification measured at ordinary temperature 10% RH is -100pc / cm 2 ~ + 100pc / cm 2
であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ 2 〜＋５０ , And still more preferably -50pc / cm 2 ~ + 50
ｐｃ／ｃｍ 2であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ 2である。 a pc / cm 2, and most preferably 0pc / cm 2. 【００１７】垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りである。 [0017] The method of measuring the vertical separation charge is as follows. 測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で２時間以上放置しておく。 Measurement sample is left standing 2 hours or more in an environment of previously measured temperature and humidity. 測定装置は測定サンプルを置く台と相手のフィルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに帯電量を測定するエレクトロメーターがつながっている。 Measuring device consists of a head that can repeat the crimp and the separation from the top to the measurement sample by holding the film platform and party placing a measurement sample, electrometer is connected to measure the charge amount to the head. 測定する反射防止フィルムを台に乗せ、ヘッドにＴ Place the anti-reflection film to be measured to the table, T to the head
ＡＣあるいはＰＥＴを装着する。 Attaching the AC or PET. 測定部分を除電したのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯電の値を読み、これを平均する。 After neutralizing the measurement portion, repeatedly be peeled is crimped into a measurement sample, read the value of the first peeling during the fifth peeling during charging, averaging this. サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電とする。 Changing the sample, this operation is repeated on three samples, and vertical separation charge an average of the all. 【００１８】相手フィルムや測定サンプルの種類によってプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があるが、問題となるのは絶対値の大きさである。 [0018] Although sometimes negatively charged and the case of positively charged depending on the type of mating film or measurement sample, what becomes a problem is the magnitude of the absolute value. また、一般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくなる。 The absolute value of generally towards the low humidity environment is charged increases. 本発明の反射防止フィルムはこの絶対値も小さい。 The antireflection film of the present invention is smaller absolute value. 【００１９】本発明の反射防止フィルムは、常温常湿及び常温１０％ＲＨでの垂直剥離帯電の絶対値が小さいので防塵性に優れる。 The antireflection film of [0019] the present invention is excellent in dust-proof since the absolute value of the vertical separation charge at normal temperature and normal humidity and ambient temperature 10% RH is small. 垂直剥離帯電の値を上記の範囲とするには、反射防止フィルム表面の各種元素の割合を調節することによって行われる。 The value of the vertical separation charge in the above range is carried out by adjusting the ratio of the various elements of the antireflection film surface. 【００２０】本発明の反射防止フィルムの表面抵抗値は、１×１０ 11 Ω／□以上、好ましくは１×１０ 12 Ω／ The surface resistance of the antireflection film of the present invention, 1 × 10 11 Ω / □ or more, preferably 1 × 10 12 Ω /
□以上である。 □ is greater than or equal to. 表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されている円電極法である。 Method of measuring the surface resistance value is a circle electrode method described in JIS. 即ち、電圧印加後、１分後の電流値を読み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。 That is, after the voltage application, read the current value after 1 minute, the surface resistance value (SR) determined. 本発明では、表面抵抗値を小さくすること、例えば１×１０ 10 Ω In the present invention, to reduce the surface resistance value, for example, 1 × 10 10 Ω
／□以下にすることで防塵性（ゴミ付着防止性）を良くする方法とは考え方が根本的に異なる。 / □ thinking fundamentally different from the method to improve dust resistance (dust adhesion preventing property) by the following. この方法は画像表示品位が落ちるため採用せず、本発明では上記した方法で垂直剥離帯電の絶対値を小さくしているので、表面抵抗値を小さくする必要がなく、表面抵抗値を１×１０ This method is not employed for image display quality drops, since the present invention is to reduce the absolute value of the vertical separation charge in the manner described above, it is not necessary to reduce the surface resistance value, the surface resistivity 1 × 10
11 Ω／□以上とすることができ画像表示品位が落ちない。 11 Ω / □ or more and does not fall image display quality can be. 【００２１】本発明の反射防止フィルムに用いる透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。 [0021] As the transparent support for use in the antireflection film of the present invention, it is preferable to use a plastic film. プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメ Examples of the material of the plastic film include cellulose esters (e.g., triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitro cellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (e.g., polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate , poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrenes (such as syndiotactic polystyrene), polyolefins (e.g., polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyether sulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethyl タクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。 It includes methacrylate and polyether ketone. 特に液晶表示装置や有機ＥＬ In particular, a liquid crystal display device or an organic EL

Ｕ（富士写真フィルム（株）製）等の公知のもの、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。 U (Fuji Photo Film Co., Ltd.) of known like, is preferably used, published by Giho No. 2001-1745. また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、あるいははポリエチレンナフタレートが好ましい。 Further, polyethylene terephthalate when used in bonding the glass substrate or the like for use in flat CRT or PDP, etc., or polyethylene naphthalate is preferred. 透明支持体の光透過率は、８０％ Light transmittance of the transparent support, 80%

１３０μｍがより好ましく、７０〜１２０μｍが更に好ましい。 130μm, and still more preferably 70 to 120. 【００２２】中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマー、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によって形成される。 The middle refractive index layer and the high refractive index layer, a high inorganic particle refractive index, the application of heat or ionizing radiation-curable monomer, initiator and the coating composition containing a solvent, drying the solvent, heat and / or it is formed by curing by ionizing radiation. 無機微粒子としては、 Ｔｉ、Ｚｒ、 As the inorganic fine particles, Ti, Zr,
Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるものが好ましい。 In, Zn, Sn, those composed of at least one metal oxide selected from oxides of Sb preferred. このようにして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。 Thus refractive index layer and the high refractive index layer thus formed is coated with a polymer solution having a high refractive index, compared to those drying, excellent scratch resistance and adhesion. 分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７ And dispersion stability, in order to secure the film strength and the like after curing, JP 11-1537
０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。 As described in 03 JP and Patent No. US6210858B1 like, it is preferable that the polyfunctional (meth) acrylate monomer and an anionic group-containing (meth) acrylate dispersing agent is included in the coating composition. 【００２３】無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍ The mean particle size of the inorganic fine particles, 100 nm from 1 with an average particle size as measured by Coulter counter method
であることが好ましい。 It is preferable that. １ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好ましくない。 1nm Hereinafter, the specific surface area is too large, poor stability in the dispersion is not preferable. １００ｎｍ以上では、バインダとの屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。 The 100nm or more, scattering of visible light is generated due to the difference in refractive index between the binder is not preferred. 高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、０． The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, 0.
５％以下であることが更に好ましい。 And still more preferably 5% or less. 【００２４】低屈折率層には、熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物が用いられる。 [0024] low refractive index layer, a fluorine-containing compound which is cured by heat or ionizing radiation is used. 該硬化物の動摩擦係数は好ましくは０．０３〜０．１５、純水に対する接触角は好ましくは１００〜１２０度である。 Dynamic friction coefficient of the cured product is preferably 0.03 to 0.15, the contact angle to pure water is preferably 100 to 120 degrees. 動摩擦係数が０．１５より高いと、表面を擦った時に傷つきやすくなり、好ましくない。 When the coefficient of dynamic friction is higher than 0.15, it vulnerable when rubbed surface, undesirable. また、純水に対する接触角が１００度未満では指紋や油汚れ等が付着しやすくなるため、防汚性の観点で好ましくない。 Further, since the contact angle to pure water is likely to adhere fingerprints and oil stains such as less than 100 degrees is not preferable in the viewpoint of antifouling property. 該硬化性の含フッ素高分子化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２， Curable perfluoroalkyl group-containing silane compound as a fluorine-containing polymer compound (e.g., (heptadecafluoro -1, 1,
２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。 2-tetradecyl) triethoxysilane) other such fluorine-containing copolymer containing a monomer constituent unit for imparting a crosslinking group and a fluorine-containing monomer. 含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２ Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2
−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ - dimethyl-1,3-dioxol), (meth) partially or completely fluorinated alkyl ester derivatives of acrylic acid (e.g., Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical) and M
−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であり、これらのなかでも低屈折率、モノマーの扱いやすさの観点で特にヘキサフルオロプロピレンが好ましい。 -2020 (produced by Daikin Industries, Ltd.)), a completely or partially fluorinated vinyl ethers, low refractive index Among these, hexafluoropropylene is preferable in terms of ease of use of the monomer. 架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ） Other crosslinking monomer include for group imparting having previously crosslinkable functional group in the molecule, such as glycidyl methacrylate (meth) acrylate monomers, carboxyl group or hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group or the like (meth ) acrylate monomers (e.g., (meth) acrylic acid, methylol (meth)
アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。 Acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate). 後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５ The latter after the copolymerization, it is JP-A can be introduced a crosslinked structure 10-25
３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されており、特に好ましい。 It is disclosed by 388 and JP-10-147739 and JP particularly preferred. 【００２５】また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。 Further not only the polymer as a constituent unit of the above fluorine-containing monomer, may be a copolymer of a monomer containing no fluorine atom. 併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、 Used in combination is not particularly limited monomer units, for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate,
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２− Methyl acrylate, ethyl acrylate, 2
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７ Ethylhexyl), methacrylic esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, alpha-methyl styrene), vinyl ethers (methyl vinyl ether etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamides (N-tert-butylacrylamide, N- cyclohexyl acrylamide), methacrylamides, can and acrylonitrile derivatives , JP-A 10-25388 and JP-A No. 10-147
７３９号公報により開示されている。 It disclosed by 739 JP. 【００２６】さらに耐傷性を付与するために動摩擦係数を低下させる手段として、滑り性を良化できる共重合単位を導入することができる。 [0026] can further as a means of reducing the dynamic friction coefficient in order to impart scratch resistance, introducing copolymerized units capable improved slip properties. 主鎖中にポリジメチルシロキサンセグメントを導入する方法が特開平１１−２２８ A method of introducing a polydimethylsiloxane segment in the main chain JP 11-228
６３１号公報に開示されており、特に好ましい。 It is disclosed in 631 JP particularly preferred. 【００２７】低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を付与するためにＳｉの酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。 The fluorine-containing resin used in the formation of the low refractive index layer is preferably used by adding Si oxide ultrafine particles in order to impart scratch resistance. 反射防止性の観点からは屈折率が低いほど好ましいが、含フッ素樹脂の屈折率を下げていくと耐傷性が悪化する。 The lower the refractive index from the viewpoint of antireflection preferred, scratch resistance is deteriorated when gradually lowering the refractive index of the fluorine-containing resin. そこで、含フッ素樹脂の屈折率とＳｉの酸化物超微粒子の添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率のバランスの最も良い点を見出すことができる。 Therefore, by optimizing the addition amount of the oxide ultrafine particle refractive index and Si fluororesin may find the best point of balance between scratch resistance and low refractive index. Ｓｉの酸化物超微粒子としては、 The Si oxide ultrafine particles,

μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがさらに好ましく、２〜１５μｍであることが最も好ましい。 Is preferably [mu] m, more preferably from 1 to 20 [mu] m, and most preferably from 2 to 15 [mu] m. ハードコート層の鉛筆硬度はＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。 Preferably a pencil hardness of the hard coat layer is not less than H, more preferably at least 2H, most preferably not more than 3H. ハードコート層の屈折率は、１．４５〜２．０の範囲が好ましく、１．５〜１． Refractive index of the hard coat layer is preferably in the range of 1.45 to 2.0, 1.5 to 1.
８の範囲がさらに好ましい。 Range of 8 is more preferable. ハードコート層は二酸化珪素を主とする無機化合物からなる層、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー等の有機化合物からなる層、あるいは無機／有機化合物のハイブリッド化された層として形成できる。 The hard coat layer may be formed as a layer hybrid inorganic compound consisting of compound layers, a layer made of an organic compound, such as a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain or inorganic / organic compounds, mainly containing silicon dioxide . 飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーからなる層であることが特に好ましい。 A saturated hydrocarbon and particularly preferably a layer made of a polymer having a main chain. ポリマーは架橋していることが好ましい。 Polymer is preferably crosslinked. 飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。 Polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by polymerization of ethylenically unsaturated monomers. 架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。 To obtain the crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. 【００２９】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびそ [0029] Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (e.g., ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate , pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its 誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。 Derivatives (e.g., 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinyl cyclohexanone), vinyl sulfones (e.g., divinyl sulfone), acrylamides (e.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamides amides include. ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。 The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させる必要がある。 Monomers having ethylenically unsaturated groups, it is necessary to cure by polymerization reaction by applying following ionizing radiation or heat. 【００３０】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。 [0030] Additionally, instead or monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, by reaction of the crosslinkable group, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.

エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。 Etherified methylol, esters and urethane and metal alkoxides such as tetramethoxysilane may be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。 Such as a block isocyanate group, it may also be used a functional group which exhibits crosslinking property as a result of decomposition reaction. また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。 Further, the bridging group in the present invention, may indicate the results reactivity the functional group is not limited to the above compound was decomposed. これら架橋基を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要がある。 These compounds having crosslinking groups must be crosslinked, such as by coating after heat. 【００３１】更にハードコート層には、屈折率の調節や膜の硬化強度を高めるために無機の微粒子を添加しても良い。 Furthermore the hard coat layer, may be added inorganic fine particles to enhance the cure strength of regulation or film having a refractive index. 無機の微粒子としては平均粒子サイズが０．００ The average particle size of the inorganic fine particles is 0.00
１〜０．５μｍのものが好ましく、０．００１〜０．２ It is preferably a 1~0.5μm, 0.001~0.2
μｍのものが特に好ましい。 Those of μm is particularly preferred. 無機微粒子としては二酸化珪素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、 Silicon dioxide particles as the inorganic fine particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles,

タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子があげられ、二酸化珪素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子が特に好ましい。 Talc, raised kaolin and calcium sulfate particles, silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles are particularly preferred. 無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましく、３０ The addition amount of the inorganic fine particles is preferably from 10 to 90% by weight of the total weight of the hard coat layer, more preferably to be 20 to 80 wt%, 30
〜６０質量％が特に好ましい。 60% by weight is particularly preferred. 【００３２】前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。 The forward scattering layer, when applied to a liquid crystal display device, provided in order to impart a viewing angle improving effect when tilting the viewing angle vertically and horizontally. 上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。 By dispersing fine particles having different refractive indexes in the hard coat layer can also serves as a hard coat function. 【００３３】本発明の塗布組成物のウエット塗布による多層反射防止フィルムに表面凹凸によって背景の映り込みをぼかす、防眩性を付与する場合には、一般に用いられているようなマット粒子等を含有する表面凹凸を有する層の上に反射防止層を形成するよりも、エンボス法等によって反射防止層形成後に表面凹凸構造を形成したほうが、膜厚均一性が良化するため、反射防止性能が向上するので好ましい。 The blur the reflection of the background by the surface irregularities on the multilayer antireflection film according to a wet coating of the coating composition of the present invention, anti when imparting glare property may contain matte particles and the like as are commonly used rather than forming an anti-reflection layer on a layer having a surface unevenness, better to form the uneven surface structure after preventing layer formed reflecting the embossing method or the like, since the film thickness uniformity is improved, improved anti-reflection performance preferable to. 【００３４】反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。 [0034] Each layer of the anti-reflection film is, dip coating method, an air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, micro gravure method, an extrusion coating method (US Patent 2,681,294 Pat. ), it is possible to form a coating. ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。 Micro gravure method and gravure method are preferable in view of eliminating the drying unevenness by minimizing the amount of wet coating, in particular a gravure method is preferred in view of film thickness uniformity in the width direction. ２層以上の層を同時に塗布してもよい。 Two or more layers may be coated simultaneously. 同時塗布の方法については、米国特許２７ Methods of simultaneous coating is described in US patent 27
６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７ Nos. 61,791, 2,941,898, the same 3508947

コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。 Coating Engineering, p. 253, Asakura Shoten (1973). 【００３５】本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが必要である。 When using [0035] The antireflection film of the present invention as one surface protective film of the polarizer, the surface on which the antireflection layer of the transparent support is formed to be saponified by alkali surface opposite is necessary. アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。 As a specific method for the alkali saponification treatment can be selected from the following two. 汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。 Although in that it can process in the same step as triacetyl cellulose film universal is (1) is better, because it is saponified to the antireflection film surface, that surface is deteriorated alkali hydrolyzed with film, saponified When the liquid leaves the point to contamination can be a problem. その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。 In this case, although a special process, excellent in (2). （１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。 (1) on after forming the anti-reflection layer on a transparent support, the support is dipped at least once in an alkali solution, to saponify the back surface of the film. （２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。 (2) on a transparent before or after forming the anti-reflection layer on a support, coated on the surface opposite to the surface to form the anti-reflection film of the antireflection film of alkali solution, heating, washing and / or medium by sum, to saponify only the back surface of the film. 【００３６】偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。 The polarizer may dye-based polarizer and a polyene-based polarizer using iodine-based polarizer, a dichroic dye. ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルム（以下、ＰＶＡと記載する）が好ましく用いられる。 Containing-based polarizer and the dye-based polarizer iodide is generally polyvinyl alcohol film (hereinafter referred to as PVA) is preferably used. ＰＶＡは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、変性ＰＶＡも用いることができる。 PVA is usually is obtained by saponifying polyvinyl acetate, modified PVA may also be used. ＰＶＡを染色して偏光膜が得られる。 Stained PVA polarizing film is obtained. 染色を行う例としては、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にＰＶＡフィルムを浸漬させる方法、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧など任意の手段で行うことができる。 Examples of performing staining, iodine - a method of dipping the PVA film in an aqueous potassium iodide solution, can be carried out by any means such as coating or spraying of iodine or a dye solution. ＰＶ PV
Ａを延伸して偏光膜を製造する過程では、ＰＶＡを架橋させる添加物、例えばホウ酸類を用いることが好ましい。 In the process for producing a polarizing film by stretching A, additive to crosslink the PVA, for example, it is preferable to use boric acid. 偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、 Transmittance of the polarizing plate at the wavelength of 550 nm,
３０乃至５０％の範囲にあることが好ましく、３５乃至５０％の範囲にあることがさらに好ましい。 Preferably in the range of 30 to 50%, more preferably in the range of 35 to 50%. 偏光度は、 The degree of polarization,

７、チバガイギー社製）７．５質量部をを加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部の ＭＥＫ−ＳＴ 7, manufactured by Ciba-Geigy) 7.5 parts by mass was added, after stirring until dissolved, 450 parts by weight MEK-ST
（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳ (Average particle size: 10 to 20 nm, S having a solid content concentration of 30 wt%
ｉＯ 2ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍ methyl ethyl ketone dispersion of iO 2 sol, was added Nissan Chemical Co., Ltd.), to give the mixture was stirred, pore size 3μm
のポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液Ａを調製した。 Was prepared hard coat layer coating solution A was filtered through a polypropylene filter (PPE-03). 【００３９】（ハードコート層用塗布液Ｂの調整）上記ハードコート層用塗布液Ａ（溶剤乾燥し、紫外線硬化後の屈折率：１．５１）１０００質量部に、平均粒径１． [0039] (Preparation of coating solution for hard coat layer B) the hard coat layer coating solution A (and solvent drying, the refractive index after ultraviolet curing: 1.51) to 1000 parts by weight, an average particle diameter of 1.
３μｍの架橋ポリスチレンからなる前方散乱性付与粒子（ＳＸ−１３０Ｈ、屈折率：１．６１、綜研化学（株） Forward scattering imparting particles comprising a 3μm of crosslinked polystyrene (SX-130H, refractive index: 1.61, manufactured by Soken Chemical & Engineering Co.

を調製した。 It was prepared. 【００４１】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原テクノ（株）製）３ [0041] (titanium dioxide preparation of the dispersion) titanium dioxide ultrafine particles (TTO-55B, manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd.) 3
０質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡ 0 parts by weight dimethylaminoethyl acrylate (DMA
ＥＡ、興人（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６質量部およびシクロヘキサノン６３質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調製した。 EA, Kojin Co., Ltd.) 1 part by mass, phosphoric acid group-containing anionic dispersant manufactured (KAYARAD PM-21, manufactured by Nippon Kayaku Co.) and 6 parts by mass of cyclohexanone 63 parts by weight, the sand grinder, Coulter the average particle size measured by the law are dispersed until 42 nm, to prepare a titanium dioxide dispersion. 【００４２】（中屈折率層用塗布液Ａの調製）シクロヘキサノン７５質量部およびメチルエチルケトン１９質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１１質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。 [0042] 75 parts by mass of methyl ethyl ketone 19 parts of cyclohexanone (Preparation of coating solution for middle refractive index layer A), a photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy) 0.11 parts by mass of a photosensitizer agent (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved 0.04 parts by weight. さらに、二酸化チタン分散物３．１質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、 Furthermore, the titanium dioxide dispersion 3.1 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,

ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。 ETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in 0.4 parts by weight.
さらに、二酸化チタン分散物１０５質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２１質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（Ｐ Furthermore, the titanium dioxide dispersion 105 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co.) 21 parts by mass was added, followed by stirring for 30 minutes at room temperature, pore size 3μm a polypropylene filter (P of
ＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。 And filtered through a PE-03), was prepared coating solution for middle refractive index layer B. 【００４４】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキサノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤ [0044] 54 parts by mass of methyl ethyl ketone 18 parts of cyclohexanone (Preparation of high-refractive index layer coating solution), a photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy) 0.13 parts by mass of a photosensitizer agent (Kayacure D
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。 ETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved 0.04 parts by weight. さらに、二酸化チタン分散物２６．４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ Furthermore, the titanium dioxide dispersion 26.4 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH
Ａ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３ A, manufactured by Nippon Kayaku Co.) 1.6 parts by weight was added, at room temperature for 3
０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。 After stirring for 30 minutes, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3μm (PPE-03), was prepared a high refractive index layer coating solution. 【００４５】（低屈折率層用塗布液の調製）屈折率１． [0045] (Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer) refractive index 1.
４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６質量パーセントのメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳ Was 42, 6 percent by weight methyl ethyl ketone solution of a thermally crosslinkable fluorine-containing polymer (JN-7228, JS
Ｒ（株）製）を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン８５質量％、２−ブタノール１５質量％からなる混合溶媒中に固形分１０質量％を含有するポリマー溶液を得た。 And R a, Ltd.) solvent substitution, to give a polymer solution having a solid content of 10 mass% in the mixed solvent of methyl isobutyl ketone 85 wt%, 2-butanol 15 wt%. このポリマー溶液７０質量部にＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ 2 The polymer solution 70 parts by mass MEK-ST (average particle size: 10 to 20 nm, solid concentration 30 wt% of SiO 2
ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製） Methyl ethyl ketone dispersion of the sol, Nissan Chemical Co., Ltd.)
１０質量部、およびメチルイソブチルケトン４２質量部およびシクロヘキサノン２８質量部を添加、攪拌の後、 10 parts by weight, and addition of 42 parts by weight and cyclohexanone 28 parts by mass of methyl isobutyl ketone. After stirring,

３）でろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。 And filtered through a 3) to prepare a coating solution for low refractive index layer. 【００４６】［実施例１］ （反射防止フィルムの作成）８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製、屈折率：１．４７）に、上記のハードコート層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。 [0046] [Example 1] triacetyl cellulose film having a thickness of (the creation antireflection film) 80 [mu] m (TAC-TD80U, Fuji Photo Film Co., Ltd., refractive index: 1.47), the above hard coat the layers coating solution a, was applied using a gravure coater, and dried for 2 minutes at 100 ° C.. 次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率： Then by irradiating ultraviolet rays to cure the coating layer, a hard coat layer (refractive index:
１．５１、膜厚：６μｍ）を形成した。 1.51, thickness: 6 [mu] m) was formed. 続いて、上記の中屈折率層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：６７ Subsequently, a coating solution A for medium refractive index layer described above was applied using a gravure coater, dried at 100 ° C., ultraviolet was irradiated to cure the coated layer, middle refractive index layer (refractive index: 1. 63, film thickness: 67
ｎｍ）を設けた。 nm) and the provided. 中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃ On the middle refractive index layer, the above-mentioned high refractive index layer coating solution was coated using a gravure coater, 100 ° C.
で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ）を設けた。 After in the drying, ultraviolet was irradiated to cure the coating layer, high refractive index layer (refractive index: 1.90, film thickness: 107 nm) and the provided. さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で８ Further on the high refractive index layer, the above low refractive index layer coating solution was coated using a gravure coater, 8 at 120 ° C.

３、膜厚：８６ｎｍ ）を設けた。 3, thickness: 86nm) was the arranged. このようにして反射防止フィルムを作成した。 To prepare an anti-reflection film in this way. 【００４７】（反射防止フィルムの評価）得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。 [0047] The resulting film (Evaluation of the anti-reflection film), were evaluated for the following items. その結果を表１にまとめる。 The results are summarized in Table 1. （１）鏡面反射率及び色味分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。 (1) by mounting an adapter ARV-474 in the specular reflectivity and color spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) in the wavelength region of 380 to 780 nm, emission angle at an incident angle of 5 ° -5 measuring the specular reflectivity of the time, to calculate the average reflectance of 450 to 650 nm, it was evaluated antireflection property. さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表わすＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ Furthermore, from the measured reflection spectrum, CIE 1976 L * a representative of the color of specular reflection light with respect to 5 degrees incident light CIE standard light source D65
＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価した。 * B * color space of L * value, a * value, b * color values ​​were evaluated the color of the reflected light. （２）鉛筆硬度評価耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。 (2) it was subjected to a pencil hardness evaluation according as an index of the pencil hardness evaluation scratch resistance to JIS K 5400. 反射防止膜を温度２５℃、湿度６０ Antireflection film temperature 25 ° C., humidity 60
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する２Ｈ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。 % After dampening 2 hours conditioned at RH, by using the test pencil 2H~5H prescribed in JIS S 6006, under a load of 500 g, were evaluated in the determination of the following, evaluation the highest hardness to be OK It was a value. ｎ＝５の評価において傷なし〜傷１つ ：ＯＫ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：ＮＧ （３）接触角測定表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、 Scratch No ~ wound one in the evaluation of n = 5: OK n = 5 evaluated scratches three or more in the: NG (3) as an indicator of contamination resistance of the contact angle measurement surface, an optical material temperature 25 ° C.,

ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ Stainless steel balls, the load 100 g, speed of 60cm / min
にて測定した値を用いた。 Using the value measured by. （５）垂直剥離帯電量測定本文中に記載した通りの方法で垂直剥離帯電量を測定した。 (5) measurement of the vertical separation charge by the method as described in the vertical separation charge measuring body. （６）表面抵抗値円電極法により表面抵抗値を測定した。 (6) was measured surface resistance with a surface resistance of the circular electrode method. 【００４８】［比較例］物理蒸着法により、実施例１のハードコート上に順次、酸化チタン（屈折率：２．３ [0048] [Comparative Example] The physical vapor deposition method, sequentially on the hard coat of Example 1, titanium oxide (refractive index: 2.3
９）２５ｎｍと酸化ケイ素（屈折率１．４７）２５ｎｍ 9) 25 nm and silicon oxide (refractive index 1.47) 25 nm
の２層からなる実質上中屈折率層、酸化チタン４６ｎｍ Substantially in refractive index layer composed of two layers of titanium oxide 46nm
からなる高屈折率層、酸化ケイ素９７ｎｍからなる低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作成し、実施例１ High refractive index layer made of, to form a low refractive index layer made of silicon oxide 97 nm to prepare an anti-reflection film, Example 1
と同様の評価を行った。 It was evaluated in the same manner as. 図２に本発明の実施例１および比較例１の反射防止フィルムの波長３８０ｎｍから７８ 78 from the wavelength 380nm of the antireflection film of Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention in FIG. 2
０ｎｍまでにおける反射率スペクトルを示した。 It shows the reflectance spectra of up to 0 nm. 【００４９】［実施例２］実施例１で作成した反射防止フィルムを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。 [0049] The antireflection film prepared in Example 2 Example 1, 2.0 defined by dipping it saponified triacetyl cellulose surface of the back of the film 2 minutes in an aqueous NaOH solution of 55 ° C., 80 [mu] m thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, Fuji Photo film Co., Ltd.) by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol and film saponified under the same conditions, adhered to both surfaces of a polarizer prepared by stretching , it was to create a polarizing plate. このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。 Thus a polarizing plate was prepared, as an anti-reflection film side is uppermost surface transmissive type TN liquid crystal display liquid crystal display device equipped laptop device (Sumitomo a polarization separation film having a polarization selection layer 3M (Co.) Made in was replaced laminated with polarizing plate on the viewing side of a) between the backlight and the liquid crystal cell D-BEF, very little reflection of background, very high display of display quality was obtained. 【００５０】［実施例３］実施例２の鹸化処理を、１． [0050] The saponification of Example 3 Example 2, 1.
０規定のＫＯＨ水溶液を＃３バーにて反射防止フィルムの裏面に塗布し、膜面温度６０℃にて１０秒間処理した後に水洗、乾燥して行った以外は実施例２と同様にして、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例２と同様の表示品位の高い表示装置が得られた。 0 defines the KOH aqueous solution was applied to the back surface of the antireflection film at # 3 bar, washing with water after treatment for 10 seconds at a film surface temperature of 60 ° C., except that went dry in the same manner as in Example 2, the liquid crystal It was affixed to the display device, display device with high same display quality as in example 2 were obtained. 【００５１】［実施例４］実施例３の反射防止フィルムを貼り付けた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フィルム（株） [0051] [Example 4] Protection of the liquid crystal cell side of the polarizing plate protective film and the backlight side of the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the viewing side of the pasted transmission type TN liquid crystal cell antireflection film of Example 3 the film is inclined disc plane of the discotic structural unit with respect to the transparent support plane, and the angle between the disc plane and the transparent support of the discotic structural unit, the change in the depth direction of the optically anisotropic layer viewing angle film having an optical compensation layer you are (wide view film SA-12B, manufactured by Fuji Photo film Co.,

Ａ、富士写真フィルム（株）製）を有する偏光板を配置した透過型ＴＮ液晶表示装置を作成した。 A, creating the transmission type TN liquid crystal display device which is arranged a polarizing plate having a Fuji Photo Film Co., Ltd.). このようにして作成した液晶表示装置は、実施例４と比較して、下方向に視角を倒した時の階調反転が起こる限界角が４０度から６０度まで改善され、視認性、表示品位において大変優れたものであった。 Such liquid crystal display apparatus produced in the, compared to Example 4, is a limit angle where grayscale inversion occurs when tilted viewing angle downward is improved to 60 degrees from 40 degrees, visibility, display quality It was those very excellent in. 【００５３】［実施例６］実施例３の反射防止層を有する偏光板を最表面に配し、アクリル前面板の内側と外側の両面に実施例１で作成した反射防止フィルムを粘着剤を介して貼り合わせて、前面板を最表面に配した半透過型液晶表示装置を具備する携帯電話を作成したところ、 [0053] [Example 6] arranged polarizing plate having an antireflection layer of Example 3 on the outermost surface, an antireflection film prepared in Example 1 on both sides of the inside and outside of the acrylic front plate via an adhesive bonded Te, it was created a mobile phone having a transflective liquid crystal display device which arranged front plate on the outermost surface,

８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、帝人（株）製、屈折率：１．６ Polyethylene terephthalate film of 88 .mu.m (Cosmo Shine A4100, Teijin Ltd., refractive index: 1.6
５）の下塗り面にハードコート用塗布液Cを実施例１と同様にして塗布、溶媒の乾燥、紫外線硬化を行い、ハードコート層（屈折率：１．６１、膜厚：８μｍ）を形成した。 5) the primed surface hard coat coating solution C in the same manner as in Example 1 of the application, drying of the solvent, subjected to ultraviolet curing, a hard coat layer (refractive index: 1.61, thickness: 8 [mu] m) was formed . 続いて、上記の中屈折率層用塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率： Subsequently, a coating solution B for middle refractive index layer described above was applied using a gravure coater, dried at 100 ° C., ultraviolet was irradiated to cure the coated layer, middle refractive index layer (refractive index:
１．７０、膜厚：７０ｎｍ）を設けた。 1.70, thickness: 70nm) was the arranged. 中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１２０ｎｍ）を設けた。 On the middle refractive index layer, after the above high refractive index layer coating solution was coated using a gravure coater, dried at 100 ° C., ultraviolet was irradiated to cure the coating layer, high refractive index layer (refractive rate: 1.90, thickness: 120nm) was the arranged. さらに高屈折率層の上に、 Further on the high refractive index layer,

ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味ムラが、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ Color unevenness of the positive reflected light to 5 degrees incident light CIE standard light source D65 in nm regions, CIE 1976 L * a
＊ｂ＊色空間のΔＥａｂ＊値で０〜１．５の範囲に入っているため、場所違いでの反射光の色味の均一性が高い。 * B * because it contains a range of 0 to 1.5 in AEab * value of the color space, a high uniformity of tint of the reflected light at misplaced. また、表面抵抗値はいずれも１×１０ Moreover, both the surface resistance value is 1 × 10 12 Ω／□以上であったが垂直剥離帯電が＋１２０ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ 2であり、防塵性に優れていた。 12 Omega / □ or more in which was but a vertical separation charge is + 120pc (picocoulomb) / cm 2, were excellent in dustproof property. 比較例の反射防止フィルムは、反射光が赤紫色に強く着色しておリ、表示品位に劣っていた。 Anti-reflection film of the comparative example, colored by your re-reflected light is strongly red-purple, was inferior in display quality. また、動摩擦が高いため、 In addition, because of the high dynamic friction,

と同一であったが、得られた偏光子の吸収軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜しており、偏光板を各サイズに打ち抜く際に発生する打ち抜き屑が減少した。 Was identical with the absorption axis direction of the obtained polarizer is inclined by 45 ° to the longitudinal, chippings generated when punching the polarizing plate to the respective size is reduced. （偏光子の作製）ＰＶＡフィルムをヨウ素５．０ｇ／ (Production of Polarizer) PVA film with iodine 5.0 g /
ｌ、ヨウ化カリウム１０．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて９０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶液に２ l, and immersed for 90 seconds at 25 ° C. in an aqueous solution of potassium iodide 10.0 g / l, more aqueous boric acid 10 g / l 2
５℃にて６０秒浸漬後、米国特許公開第２００２−８８ 60 seconds after immersion at 5 ° C., U.S. Patent Publication No. 2002-88
４０Ａ１号のFig.２の形態のテンター延伸機に導入し、 Introduced into a tenter stretching machine of Fig.2 in the form of a No. 40A1,
７．０倍に一旦延伸した後５．３倍まで収縮させ、以降幅を一定に保ち、７０℃で乾燥した後テンターより離脱した。 Until 5.3 times after once stretched 7.0 times shrunk, keeping width and subsequent constant was detached from the tenter after drying at 70 ° C.. 左右のテンタークリップの搬送速度差は、０．０ Transport speed difference between the left and right tenter clips, 0.0
５％未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、０゜であった。 Less than 5%, the angle of the center line of film delivered to the center line and the next step of the introduced film was 0 °. ここでFig.2中｜Ｌ１−Ｌ２｜、Ｗとも０．７ｍであった。 Here Fig.2 in | L1-L2 |, was 0.7m both W. テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。 Wrinkles in the tenter exit, the film deformation was observed. この偏光子の５５０ｎｍにおける透過率は４３．３％、偏光度は９９．９８％であった。 43.3% transmittance at 550nm of the polarizer, polarization degree was 99.98%. 【００６０】 【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、４５０ｎ [0060] The antireflection film of the present invention exhibits, 450n
ｍから６５０ｎｍまでの平均反射率が０．５％以下であるため、液晶ディスプレイに適用したとき、反射光の映り込みによる視認性の悪化が高いレベルで防止される。 Since the average reflectance from m to 650nm is 0.5% or less, when applied to a liquid crystal display, the deterioration of visibility due to reflection of the reflected light is prevented at a high level.
さらに、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味で評価した時に、 ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値がそれぞれ−７≦ａ＊≦７、−１０ Furthermore, when evaluated in the color of specular reflection light with respect to 5 degrees incident light CIE standard light source D65 in the 780nm region from wavelength 380nm, CIE1976L * a * b * color space a *, b * values ​​-7 ≦ respectively a * ≦ 7, -10
≦ｂ＊≦１０の範囲内にあるため、ディスプレイに向かう使用者の背面の蛍光灯等、輝度の高い光源がディスプレイ表面に映りこんだときにも赤紫色や青紫色に着色することがなく、表示品位の低下が少ないと同時に膜厚ムラに対する色味ムラが小さく製造得率が高い。 ≦ b * for in the range of ≦ 10, a fluorescent lamp or the like on the back of the user towards the display, in no be colored to reddish purple or violet even when a high light source brightness took reflected on the display surface, small decrease in display quality when a high color unevenness is small manufacturing yield ratio with respect to the film thickness unevenness at the same time. また、垂直剥離帯電量が小さいため、表面抵抗値が高くても防塵性に優れる。 Further, since the vertical separation charge is small, even with a high surface resistance is excellent in dustproof property. また、種々のモードの液晶表示装置に用いる偏光板、有機ＥＬに用いる偏光板とλ／４板を組み合わせた表面保護板、ＰＥＴフィルムに適用した平面ＣＲ The polarizing plate used in liquid crystal display devices of various modes, a surface protection plate that combines a polarizing plate and a lambda / 4 plate used in the organic EL, the plane was applied to a PET film CR
ＴあるいはＰＤＰ用表面保護板等、様々なディスプレイに用いることができる。 For T or PDP surface protection plate, it can be used for a variety of displays.

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の反射防止フィルムの具体例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing a specific example of the antireflection film of the BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [Figure 1] present invention. 【図２】本発明の実施例１および比較例１の反射防止フィルムの波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでにおける反射率スペクトルである。 2 is a reflectance spectrum at the wavelength 380nm to 780nm of the antireflection film of Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention. 【符号の説明】 １ 透明支持体２ ハードコート層３ 中屈折率層４ 高屈折率層５ 低屈折率層 [EXPLANATION OF SYMBOLS] 1 transparent support 2 hard coat layer 3 in refractive index layer 4 a high refractive index layer 5 low refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 7識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ ４Ｆ１００ ５００ 1/13363 ５Ｇ４３５ ５１０ 1/139 1/13363 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ 1/139 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｚ Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA05 BA06 BA07 BA42 BB23 BB33 BC22 2H088 HA17 HA18 HA24 JA04 JA11 JA13 MA20 2H089 QA16 RA10 TA14 TA15 TA16 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA26X FA37X FA41Z FC02 FD06 HA10 LA30 2K009 AA06 AA15 BB24 BB28 CC03 CC24 CC26 DD02 DD05 4F100 AA21C AA25C AA27C AA28C AA29C AJ06A AK01B AK42A AR00D AR00E BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA26 CA30C DE01C EH46 EH46C EJ42 EJ53 EJ53C EJ86C GB41 JB05B JB14A JB14B JK16B JN01A JN06 JN18A JN18B JN18C JN18D JN18E YY00A YY00B YY00C 5G435 AA02 BB05 BB06 BB12 ────────────────────────────────────────────────── ─── front page continued (51) Int.Cl. 7 identifications FI theme coat Bu (reference) G02F 1/1335 G02F 1/1335 510 4F100 500 1/13363 5G435 510 1/139 1/13363 G09F 9/00 313 1/139 G02B 1/10 A G09F 9/00 313 Z F term (reference) 2H049 BA02 BA05 BA06 BA07 BA42 BB23 BB33 BC22 2H088 HA17 HA18 HA24 JA04 JA11 JA13 MA20 2H089 QA16 RA10 TA14 TA15 TA16 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA26X FA37X FA41Z FC02 FD06 HA10 LA30 2K009 AA06 AA15 BB24 BB28 CC03 CC24 CC26 DD02 DD05 4F100 AA21C AA25C AA27C AA28C AA29C AJ06A AK01B AK42A AR00D AR00E BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA26 CA30C DE01C EH46 EH46C EJ42 EJ53 EJ53C EJ86C GB41 JB05B JB14A JB14B JK16B JN01A JN06 JN18A JN18B JN18C JN18D JN18E YY00A YY00B YY00C 5G435 AA02 BB05 BB06 BB12 FF04 FF05 FF14 HH02 FF04 FF05 FF14 HH02

## Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 透明支持体上に該支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を少なくとも一層有する反射防止フィルムにおいて、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍ In the antireflection film having Claims 1. A transparent on a support said support at least one layer of low refractive index and low refractive index layer than, the mirror reflectivity at 5 ° incidence 450nm
から６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．５％以下、且つ、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、 The average value of the wavelength region of up to 650nm is 0.5% or less from, and, specular reflection light in color against 5 degrees incident light CIE standard light source D65 in the 780nm region from wavelength 380nm, CIE1976L * a * b * a * color space,
ｂ＊値がそれぞれ−７≦ａ＊≦７、且つ、−１０≦ｂ＊ b * values, respectively -7 ≦ a * ≦ 7, and, -10 ≦ b *
≦１０の範囲内にあることを特徴とする反射防止フィルム。 Antireflection film characterized in that in the range of ≦ 10. 【請求項２】 前記反射防止フィルムにおいて、ａ＊、 Wherein in said antireflective film, a *,
ｂ＊値がそれぞれ０≦ａ＊≦５、且つ、−７≦ｂ＊≦０ b * values ​​respectively 0 ≦ a * ≦ 5, and, -7 ≦ b * ≦ 0
の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1, characterized in that in the range of. 【請求項３】 前記反射防止フィルムにおいて、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．４％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。 3. A the antireflection film, according to claim 1 or 2 the average value of the wavelength region from 450nm specular reflectance until 650nm is equal to or less than 0.4% in 5 degree incidence anti-reflection film. 【請求項４】 前記反射防止フィルムにおいて、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．３％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。 4. A the antireflection film, according to claim 1 or 2 the average value of the wavelength region from 450nm specular reflectance until 650nm is equal to or less than 0.3% in 5 degree incidence anti-reflection film. 【請求項５】 前記反射防止フィルムのそれぞれの層が、膜形成性の溶質と少なくとも１種類の溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 Each layer of claim 5, wherein the antireflection film, the coating of the coating composition containing at least one solvent and film-forming solute, the solvent is dried, is formed by curing with heat and / or ionizing radiation the antireflection film according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the. 【請求項６】 前記低屈折率層と前記透明支持体の間に、低屈折率層側から順に該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、該支持体と高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層、の実質上３層の屈折率の異なる層が形成されていることを特徴とする請求項５に記載の反射防止フィルム。 Between wherein said low refractive index layer and the transparent support, high refractive index layer having a refractive index higher than the support in this order from the low refractive index layer side, of the support and the high refractive index layer the antireflection film according to claim 5, characterized in that different layers of refractive index layers, substantially three layers are formed in having a refractive index of the intermediate. 【請求項７】 前記反射防止フィルムにおいて、設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ） Wherein said anti-reflection film, the design wavelength λ (= 500nm) medium refractive index layer satisfies the following relation with respect to (I)
を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film of claim 6, the high refractive index layer following equation (II), wherein the low refractive index layer satisfies the following formula (III) is, respectively. ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００ （Ｉ） ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５ （ＩＩ） ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５ （ＩＩＩ） （但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、 lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I) mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II) nλ / 4 × 0.95 <n3d3 < nλ / 4 × 1.05 (III) (in the formula, l is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and, d1 is at a layer thickness of the medium refractive index layer (nm) , m is 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and, d2 is the thickness of the high refractive index layer (nm),
ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である） 【請求項８】 屈折率が１．４５〜１．５５である透明支持体に対して、ｎ１が１．６０〜１．６５、ｎ２が１．８５〜１．９５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることを特徴とする請求項７に記載の反射防止フィルム。 n is 1, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, d3 is is the thickness of the low refractive index layer (nm)) 8. refractive index 1.45 to 1.55 claims the transparent support is, n1 is 1.60-1.65, n2 is 1.85 to 1.95, n3 is characterized by a refractive index of 1.35 to 1.45 the antireflection film according to 7. 【請求項９】 屈折率が１．５５〜１．６５である透明支持体に対して、ｎ１が１．６５〜１．７５、ｎ２が１．８５〜２．０５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることを特徴とする請求項７に記載の反射防止フィルム。 Against 9. refractive index transparent support is 1.55 to 1.65, n1 is 1.65-1.75, n2 is 1.85-2.05, n3 is 1.35 the antireflection film according to claim 7, characterized in that a refractive index of 1.45. 【請求項１０】 前記反射防止フィルムの低屈折率層が、熱または電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂からなることを特徴とする請求項５〜９いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 10. The antireflective film of claim 5-9 any one having a low refractive index layer, characterized in that it consists of heat or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin of the antireflective film . 【請求項１１】 前記反射防止フィルムの高屈折率層が、 Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物を含有する超微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物を塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする請求項５〜１０いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 11. The high-refractive index layer of the antireflection film, Ti, Zr, In, Zn, Sn, ultrafine particles containing at least one metal oxide selected from oxides of Sb, anionic dispersant agent, characterized in that a coating composition containing a curable resin and a polymerization initiator having 3 or more functional polymerizable group coating, drying of the solvent, and is formed by curing with heat and / or ionizing radiation the antireflection film according to any one of claims 5-10. 【請求項１２】 前記反射防止フィルムの低屈折率層が、動摩擦係数が０．１５以下、純水の接触角が１００ 12. The low refractive index layer of the antireflection film, the dynamic friction coefficient of 0.15 or less, the contact angle of pure water is 100
度以上であることを特徴とする請求項１０に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 10, characterized in that at least once. 【請求項１３】 前記低屈折率層と前記透明支持体との間に少なくとも１層のハードコート層を有することを特徴とする請求項１〜１２いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 13. The antireflection film as described in any one of claims 1 to 12, characterized in that it has a hard coat layer at least one layer between the transparent support and the low refractive index layer. 【請求項１４】 前記低屈折率層と前記透明支持体との間に少なくとも１層の前方散乱層を有することを特徴とする請求項１〜１３いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 14. The antireflection film according to any one of claims 1 to 13, characterized in that it comprises a forward scattering layer of at least one layer between the transparent support and the low refractive index layer. 【請求項１５】 ＴＤ方向あるいはＭＤ方向に１０ｃｍ 15. TD direction or 10cm in MD direction
離れた任意の２つの場所における波長３８０ｎｍから７ 7 Wavelength 380nm at any two locations apart
８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味ムラが、ＣＩＥ１９７６Ｌ Color unevenness of the positive reflected light to 5 degrees incident light CIE standard light source D65 in the 80nm regions, CIE 1976 L
＊ａ＊ｂ＊色空間のΔＥａｂ＊値で２未満であることを特徴とするであることを特徴とする請求項１〜１４いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 * A * b * antireflection film according to any one of claims 1 to 14, characterized in that it is characterized in that it is less than 2 in AEab * values ​​of the color space. 【請求項１６】 トリアセチルセルロースあるいはポリエチレンテレフタレートのいずれかに対して常温常湿で測定した垂直剥離帯電量が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ 2 〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ 2であり、かつ表面抵抗値が１×１０ 11 Ω／□以上であることを特徴とするであることを特徴とする請求項１〜１５ 16. The vertical separation charge measured at normal temperature and normal humidity for either triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate -200Pc (picocoulomb) / cm 2 ~ + 200pc (pico coulomb) and / cm 2, and the surface resistivity claim, characterized in that the value is characterized in that it is 1 × 10 11 Ω / □ or more to 15
いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one. 【請求項１７】 ２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、請求項１〜１６ 17. A polarizing plate obtained by bonding two of the surface protective film on the front and back surfaces of the polarizer, according to claim 1 to 16
いずれか１項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。 After forming the low refractive index layer of the antireflection film described in any one, is dipped at least once in an alkali solution, at least on one side of the surface protective film an antireflection film was saponified back surface of the film a polarizing plate characterized by using. 【請求項１８】 ２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、請求項１〜１６ 18. A polarizing plate obtained by bonding two of the surface protective film on the front and back surfaces of the polarizer, according to claim 1 to 16
いずれか１項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を形成する面を形成前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの低屈折率層を形成する面の反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。 Either before or after forming a surface for forming a low refractive index layer of the antireflection film as described in item 1, by coating the alkali solution on the surface opposite to the surface to form a low refractive index layer of the antireflective film, heated, washed with water and / or neutralization, polarizer, characterized in that it uses at least one side of the surface protective film an antireflection film by the saponified back surface of the film. 【請求項１９】 前記表面保護フィルムのうちの反射防止フィルム以外のフィルムが、該表面保護フィルムの偏光子と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする請求項１７または１８ Film other than the antireflection film of claim 19, wherein the surface protective film, an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optically anisotropic layer on the surface opposite to the polarizer surface protective film There is a layer having a negative birefringence optically anisotropic layer comprises a compound having a discotic structural unit, the disc plane of the discotic structural unit is inclined with respect to the surface protective film plane, and the angle between the disc plane and the surface protective film plane of the discotic structural unit, according to claim, characterized in that changes in the depth direction of the optically anisotropic layer 17 or 18
に記載の偏光板。 The polarizing plate according to. 【請求項２０】 請求項１７〜１９いずれか１項に記載の偏光板を少なくとも１枚有するＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、 20. A TN at least one have the polarizing plate according to any one of claims 17~19, STN, VA,
ＩＰＳ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置。 IPS, transmission of OCB mode, reflective, or semi-transmissive liquid crystal display device. 【請求項２１】 請求項１７〜１９いずれか１項に記載の偏光板を少なくとも１枚有する透過型または半透過型の液晶表示装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置することを特徴とする液晶表示装置。 21. A transmissive or transflective liquid crystal display device having at least one polarizing plate of any one of claims 17 to 19, the visible side and the opposite side of the polarizing plate and the backlight between a liquid crystal display apparatus characterized by disposing a polarization separation film having a polarization selection layer. 【請求項２２】 前記透明支持体がトリアセチルセルロールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、 22. The transparent support is triacetyl cellulose film, polyethylene terephthalate film,
またはポリエチレンナフタレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜１６いずれか１項に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 16, characterized in that or a polyethylene naphthalate film. 【請求項２３】 請求項１７または１８に記載の偏光板の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、 The transparent protective film opposite to the antireflection film of the polarizing plate according to 23. Claim 17 or 18,
λ／４板を配置したことを特徴とする透過または半透過型液晶装置。 Transmission or semi-transmission type liquid crystal device, characterized in that a lambda / 4 plate. 【請求項２４】 請求項１７または１８に記載の偏光板の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、 The transparent protective film opposite to the antireflection film of the polarizing plate according to 24. Claim 17 or 18,
λ／４板を配置したことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ装置。 The organic EL display apparatus characterized in that a lambda / 4 plate.
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## Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004333735A (en) * 2003-05-06 2004-11-25 Konica Minolta Opto Inc Liquid crystal display device and reflection preventing film to be used therefor
WO2005063484A1 (en) 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, polarizing plate, method for producing them, liquid crystal display element, liquid crystal display device, and image display device
JP2005301245A (en) * 2004-03-16 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection coating, antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device using them
JP2006017870A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizer, and image display device
WO2006016592A1 (en) * 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Anti-reflection film
JP2006091422A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Display device in which hue of regular reflected light color is controlled
JP2006116754A (en) * 2004-10-20 2006-05-11 Nof Corp Reflection decreasing material, and electronic image displaying device using it
JP2006145656A (en) * 2004-11-17 2006-06-08 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display
JP2006227162A (en) * 2005-02-16 2006-08-31 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, method of manufacturing antireflection film, polarizing plate, and display device
US7137701B2 (en) 2003-06-10 2006-11-21 Seiko Epson Corporation Stain-proofing spectacle lens and manufacturing method thereof
JP2007065191A (en) * 2005-08-30 2007-03-15 Nippon Zeon Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007147798A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Nippon Zeon Co Ltd Antireflection film and optical product
JP2007147797A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Nippon Zeon Co Ltd Antireflection film and optical product
JP2008151930A (en) * 2006-12-15 2008-07-03 Nof Corp Antireflection film for transferring, and transferred material and display apparatus using the same
JP2009244623A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Nof Corp Reflection reducing material and electronic image display device equipped with the same
JP2010191969A (en) * 2002-03-15 2010-09-02 Kimoto & Co Ltd Transparent hard coat film and transparent conductive hard coat film
WO2011007729A1 (en) * 2009-07-15 2011-01-20 日東電工株式会社 Transparent film and surface-protection film using said film
WO2011007728A1 (en) * 2009-07-15 2011-01-20 日東電工株式会社 Transparent film and use thereof
JP2012027322A (en) * 2010-07-26 2012-02-09 Nitto Denko Corp Circularly polarizing plate with antireflection layer and image display device
US8557332B2 (en) 2006-03-28 2013-10-15 Fujifilm Corporation Production method of optical film, optical film and image display
US8691351B2 (en) 2007-03-20 2014-04-08 Fujifilm Corporation Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2014228829A (en) * 2013-05-27 2014-12-08 日油株式会社 Antireflection film

## Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009081596A1 (en) * 2007-12-20 2009-07-02 Toppan Printing Co., Ltd. Antireflection film
JP5251192B2 (en) * 2008-03-21 2013-07-31 凸版印刷株式会社 Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP5365083B2 (en) * 2008-07-29 2013-12-11 凸版印刷株式会社 Anti-reflection film

## Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5935716A (en) * 1997-07-07 1999-08-10 Libbey-Owens-Ford Co. Anti-reflective films
US6124026A (en) * 1997-07-07 2000-09-26 Libbey-Owens-Ford Co. Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article
JP3946357B2 (en) * 1997-09-18 2007-07-18 富士フイルム株式会社 Antireflection film and an image display apparatus using the same
JP4117062B2 (en) * 1998-03-10 2008-07-09 富士フイルム株式会社 Antireflection film and a display device arranged to it
JP3919983B2 (en) * 1999-09-30 2007-05-30 富士フイルム株式会社 Method of manufacturing a polarizer
JP4271842B2 (en) * 2000-03-28 2009-06-03 富士フイルム株式会社 Antiglare antireflection film, a polarizing plate, and liquid crystal display device

## Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010191969A (en) * 2002-03-15 2010-09-02 Kimoto & Co Ltd Transparent hard coat film and transparent conductive hard coat film
JP2004333735A (en) * 2003-05-06 2004-11-25 Konica Minolta Opto Inc Liquid crystal display device and reflection preventing film to be used therefor
JP4552386B2 (en) * 2003-05-06 2010-09-29 コニカミノルタオプト株式会社 The liquid crystal display device
US7137701B2 (en) 2003-06-10 2006-11-21 Seiko Epson Corporation Stain-proofing spectacle lens and manufacturing method thereof
WO2005063484A1 (en) 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, polarizing plate, method for producing them, liquid crystal display element, liquid crystal display device, and image display device
JP2005301245A (en) * 2004-03-16 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection coating, antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device using them
JP2006017870A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizer, and image display device
WO2006016592A1 (en) * 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Anti-reflection film
JP2006091422A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Display device in which hue of regular reflected light color is controlled
EP1804087A1 (en) * 2004-10-20 2007-07-04 Nof Corporation Reflection-reducing layered film and display device using the same
JP2006116754A (en) * 2004-10-20 2006-05-11 Nof Corp Reflection decreasing material, and electronic image displaying device using it
EP1804087A4 (en) * 2004-10-20 2008-11-12 Nof Corp Reflection-reducing layered film and display device using the same
JP2006145656A (en) * 2004-11-17 2006-06-08 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display
JP2006227162A (en) * 2005-02-16 2006-08-31 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, method of manufacturing antireflection film, polarizing plate, and display device
JP2007065191A (en) * 2005-08-30 2007-03-15 Nippon Zeon Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007147797A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Nippon Zeon Co Ltd Antireflection film and optical product
JP2007147798A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Nippon Zeon Co Ltd Antireflection film and optical product
US8557332B2 (en) 2006-03-28 2013-10-15 Fujifilm Corporation Production method of optical film, optical film and image display
JP2008151930A (en) * 2006-12-15 2008-07-03 Nof Corp Antireflection film for transferring, and transferred material and display apparatus using the same
US8691351B2 (en) 2007-03-20 2014-04-08 Fujifilm Corporation Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2009244623A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Nof Corp Reflection reducing material and electronic image display device equipped with the same
WO2011007729A1 (en) * 2009-07-15 2011-01-20 日東電工株式会社 Transparent film and surface-protection film using said film
WO2011007728A1 (en) * 2009-07-15 2011-01-20 日東電工株式会社 Transparent film and use thereof
JP2011020348A (en) * 2009-07-15 2011-02-03 Nitto Denko Corp Transparent film and using of the same
KR101867788B1 (en) 2009-07-15 2018-06-15 닛토덴코 가부시키가이샤 Transparent film and surface-protection film using said film
US9321247B2 (en) 2009-07-15 2016-04-26 Nitto Denko Corporation Transparent film and use thereof
KR101741975B1 (en) 2009-07-15 2017-05-30 닛토덴코 가부시키가이샤 Surface protection film
JP2012027322A (en) * 2010-07-26 2012-02-09 Nitto Denko Corp Circularly polarizing plate with antireflection layer and image display device
JP2014228829A (en) * 2013-05-27 2014-12-08 日油株式会社 Antireflection film

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