JP2003117817A - ガラス研磨装置用洗浄具及びガラス研磨装置の洗浄方法 - Google Patents

ガラス研磨装置用洗浄具及びガラス研磨装置の洗浄方法

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JP2003117817A
JP2003117817A JP2001311160A JP2001311160A JP2003117817A JP 2003117817 A JP2003117817 A JP 2003117817A JP 2001311160 A JP2001311160 A JP 2001311160A JP 2001311160 A JP2001311160 A JP 2001311160A JP 2003117817 A JP2003117817 A JP 2003117817A
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JP
Japan
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cleaning
polishing
glass
polishing apparatus
glass polishing
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JP2001311160A
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English (en)
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Koichi Sugano
菅野  孝一
Hidetoshi Okamoto
秀俊 岡本
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 作業者が、安全に、かつ、簡単に、ガラス研
磨装置の洗浄を行うことができるガラス研磨装置用洗浄
具及びガラス研磨装置の洗浄方法を提供する。 【解決手段】 上下動自在で、定盤21に固定されてい
るガラス板50に下降位置で接触し、回転して、そのガ
ラス板50を研磨する研磨手段22,23を有するガラ
ス研磨装置20に使用するガラス研磨装置用洗浄具であ
って、研磨手段22,23が上昇位置にあるときに、定
盤21に着脱自在な着脱手段11と、着脱手段11に設
けられ、研磨手段22,23に当接し、その研磨手段2
2,23が回転させられたときに、その回転に抗して擦
って洗浄を行う洗浄手段12とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
やPDP(プラズマディスプレイパネル)のカラーフィ
ルター、フォトマスク等に使用するガラスを製造するガ
ラス研磨装置のメンテナンスを行うガラス研磨装置用洗
浄具及びガラス研磨装置の洗浄方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図4,図5は、ガラス研磨方法及び従来
の洗浄方法を示す図である。液晶ディスプレイやPDP
(プラズマディスプレイパネル)のカラーフィルター、
フォトマスク等に使用するガラス板は、高い精度の平面
度が要求される。そのような精度をだすために、例え
ば、図4(A)に示すようなガラス研磨装置20でガラ
ス板50を研磨している。ガラス研磨装置20は、表面
が平滑な鋳鉄製の定盤21と、回転してガラス板50を
研磨する回転盤22とを備える。ガラス研磨装置20
は、ガラス板50を定盤21に固定して、研磨粉24を
散布し、上面から回転盤22を押し当てて研磨する。
【0003】定盤21の上面には、テンプレート21a
が載置されており、このテンプレート21aで、ガラス
板50を定盤21に固定する。テンプレート21aは、
スウェード等のバッキング材にベークライトの枠が固定
されたものである。このスウェードに水分を含ませて、
ガラス板50を載置すると、ガラス板50が、スウェー
ドに吸着されるので、ガラス板50を傷つけることなく
固定することができる。回転盤22は、研磨対象物(ガ
ラス板)の大きさに応じて取替可能である。そのため、
回転盤22は、上方の位置で保持可能になっている。回
転盤22の表面には、研磨パッド23が貼付されてい
る。この研磨パッド23には、荒削り用の発泡ウレタ
ン、仕上げ用のスウェード等があり、用途に応じて使い
分けている。また、研磨粉24は、例えば、酸化セリウ
ム、酸化アルミニウム(アルミナ)などであり、水など
に溶解して使用する。その粒径も荒削り、仕上げ等の研
磨用途によって、さまざまである。
【0004】しかし、上述のようなガラス研磨装置20
においては、同一の研磨パッド23を長時間使用してい
ると、その研磨パッド23の表面に、研磨粉や異物(例
えば、研磨対象物の削屑など)が堆積することがある。
また、回転盤22は、研磨対象物に応じて取り替える
が、取り外して長期間に渡って使用していないと、研磨
パッド23の表面に、研磨粉・異物が固着してしまうこ
とがある。このような状態では、研磨パッド23の研磨
性能が低下するので、除去しなければならない。そのた
め、従来は、図4(B)に示すように、研磨パッド23
を取り付けたまま、回転盤22を、上方の取替位置に保
持して、洗浄液31を散布し、回転盤22を回しなが
ら、ブラシ30で擦って洗浄したり、図5に示すよう
に、回転軸22aから回転盤22を取り外して(図5
(A))、洗浄液31を散布しながら研磨パッド23を
ブラシ30で擦っていた(図5(B))。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図4(B)の
ように、回転盤22を回しながらブラシで擦っても、研
磨パッド23の全面を均一に洗浄することは困難であ
り、洗浄ムラを生じやすい。また、回転する回転盤22
の近傍に近づいて行う作業は、危険を伴う。さらに、下
面からブラシを押し当てても、力が入らず、長時間擦ら
なければいけない。一方、図5のように、回転盤22を
取り外しての作業は、回転盤22が重いため、非常に骨
の折れる作業である。また、脱着の作業時間もかかる。
このため、洗浄作業に数時間かかってしまうことも多
く、ガラス研磨装置の運転時間が損なわれる。
【0006】本発明の課題は、作業者が、安全に、か
つ、簡単に、ガラス研磨装置の洗浄を行うことができる
ガラス研磨装置用洗浄具及びガラス研磨装置の洗浄方法
を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のような
解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容
易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付
して説明するが、これに限定されるものではない。前記
課題を解決するために、請求項1の発明は、上下動自在
で、定盤(21)に固定されているガラス板(50)に
下降位置で接触し、回転して、そのガラス板(50)を
研磨する研磨手段(22,23)を有するガラス研磨装
置(20)に使用するガラス研磨装置用洗浄具であっ
て、前記研磨手段(22,23)が上昇位置にあるとき
に、前記定盤(21)に着脱自在な着脱手段(11)
と、前記着脱手段(11)に設けられ、前記研磨手段
(22,23)に当接し、その研磨手段(22,23)
が回転させられたときに、その回転に抗して擦って洗浄
を行う洗浄手段(12)とを備えることを特徴とするガ
ラス研磨装置用洗浄具である。
【0008】請求項2の発明は、請求項1に記載のガラ
ス研磨装置用洗浄具において、前記洗浄手段(12)
は、前記着脱手段へ固定する高さ方向の位置を調整可能
な位置調整部(12a)を備えることを特徴とするガラ
ス研磨装置用洗浄具である。
【0009】請求項3の発明は、請求項1又は請求項2
に記載のガラス研磨装置用洗浄具において、前記洗浄手
段(12)は、その全長が、少なくとも、前記研磨手段
(22,23)の半径よりも長く、その研磨手段(2
2,23)の回転軸(22a)の延長線を通過する直線
上に配置されていることを特徴とするガラス研磨装置用
洗浄具である。
【0010】請求項4の発明は、請求項1から請求項3
までのいずれか1項に記載のガラス研磨装置用洗浄具を
使用してガラス研磨装置を洗浄するガラス研磨装置の洗
浄方法であって、前記研磨手段(22,23)を上昇位
置に上昇させる研磨手段上昇工程(#102)と、前記
着脱手段(11)を前記定盤(21)に取り付ける着脱
手段取付工程(#103)と、前記洗浄手段(12)を
移動させて、前記研磨手段(22,23)に当接させる
洗浄手段位置合わせ工程(#104)と、前記研磨手段
(22,23)を回転させて、その研磨手段(22,2
3)を前記洗浄手段(12)に擦らせて洗浄する洗浄工
程(#105)とを備えることを特徴とするガラス研磨
装置の洗浄方法である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
の実施の形態について、さらに詳しく説明する。図1
は、本発明によるガラス研磨装置用洗浄具の一実施形態
を示す図であり、図1(A)は平面図、図1(B)は正
面図、図1(C)は側面図である。なお、前述した従来
例と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付し
て、重複する説明を適宜省略する。ガラス研磨装置用洗
浄具10は、ガラス研磨装置20の研磨パッド23を洗
浄する洗浄具であり、脚部11と、ブラシ12とを備え
る。ガラス研磨装置用洗浄具10は、後述の通り、ボル
ト11aで定盤21に脱着自在であり、洗浄作業時にの
み取り付けられ、通常の研磨作業時には取り外される。
ガラス研磨装置用洗浄具10は、定盤21のテンプレー
ト21aの有無にかかわらず装着することができる。
【0012】脚部11は、研磨パッド23を洗浄すると
きに、定盤21にボルト11aで取り付ける取付部であ
る。脚部11は、通常の研磨作業時には取り外される。
ボルト11aは、定盤21のネジ穴21bに螺合され
る。このネジ穴21bは、定盤21をメンテナンス等す
るときに取り外す際に、ジグを固定するために設けられ
ているものである。また、脚部11には、図1(C)に
示すように、長穴11bが形成されている。
【0013】ブラシ12は、研磨パッド23に当接し、
その研磨パッド23に付着している研磨粉・異物等を除
去する。ブラシ12には、PP(ポリプロピレン)、ナ
イロン、塩化ビニルなどが植毛されており、この毛によ
って研磨パッド23を擦る。ブラシ12は、位置調整台
12aの上面に配置されている。この位置調整台12a
は、正面から見ると「コ」の字の形状をした部材である
(図1(B))。位置調整台12aは、両側部分に2本
ずつ、合計4本のボルト12bで脚部11に固定され
る。ボルト12bは、長穴11bに沿って上下方向に移
動可能である。作業者は、ボルト12bをゆるめて、ブ
ラシ12が研磨パッド23に当接するように、位置調整
台12aの高さを変更し、その後、再度、ボルト12b
を締め付けて、位置の調整を行う。ブラシ12は、少な
くとも、回転盤22の半径よりも長く、かつ、その回転
盤22の回転軸の延長線を通過する位置に直線状に並べ
られている。このため、回転盤22が一回転すると、回
転盤22の全面を擦ることができる。また、洗浄は、洗
浄液31を噴射しながら行う。この洗浄液31には、水
道水、純水、電界イオン水などがあり、用途によって使
い分ける。
【0014】図2,図3は、ガラス研磨装置用洗浄具を
使用する洗浄方法を説明する図である。研磨パッド23
を、定盤21に保持されているガラス板50に押し付け
て、研磨し(図2(A);研磨工程#101)、研磨パ
ッド23の洗浄時期になったら、回転盤22を上昇させ
る(図2(B);回転盤上昇工程#102)。そして、
ガラス研磨装置用洗浄具10を定盤21に取り付け(図
2(C);洗浄具取付工程#103)、ブラシ12が、
研磨パッド23に接触するまで、位置調整台12aを上
げて、ボルト12bで固定する(図3(A);研磨パッ
ド高さ調整工程#104)。この状態で、洗浄液31を
かけながら、回転盤22を回転させて洗浄を行う(図3
(B);洗浄工程#105)。これによって、研磨パッ
ド23がブラシ12で擦られて、付着している研磨粉・
異物等を除去することができる。洗浄後は、ガラス研磨
装置用洗浄具10を定盤21から取り外して、研磨作業
を再開する。
【0015】本実施形態によれば、以下の効果がある。 (1)ガラス研磨装置用洗浄具10は、着脱自在であっ
て、洗浄時にのみ、取り付けることができるので、広い
設置スペースを必要としない。また、非常に、簡単な構
造で、動力等も不要であり、ジグ固定用のネジ穴21b
を利用して取り付けるものである。したがって、非常に
安価なコストで実現可能である。
【0016】(2)ガラス研磨装置用洗浄具10を取り
付けて、回転盤22を回しながら研磨パッド23を洗浄
するので、作業者が、回転する回転盤22の近傍で作業
する必要がなくなり、作業の安全性向上が図れる。
【0017】(3)少なくとも、回転盤22の半径より
も長く、かつ、その回転盤22の回転軸の延長線を通過
する位置に、直線状に、ブラシ12が配置されているの
で、研磨パッド23の全面を、もれなく洗浄することが
できる。
【0018】(4)洗浄作業を繰り返し行って、ブラシ
の植毛の長さが短くなっても、位置調整台12aの高さ
を調整することで、そのブラシを使用し続けることがで
きる。したがって、ブラシ12の交換間隔を延ばすこと
ができ、交換作業時間、交換コスト等の削減を図ること
ができる。
【0019】(5)重量のある回転盤22を取り外すこ
となく、洗浄することができるので、作業者の負担を軽
減でき、また、洗浄時間の短縮を図ることができる。
【0020】(6)ガラス研磨装置用洗浄具10は、テ
ンプレート21aを外すことなく、使用することができ
るので、作業が容易である。
【0021】(変形形態)以上説明した実施形態に限定
されることなく、種々の変形や変更が可能であって、そ
れらも本発明の均等の範囲内である。例えば、上記実施
形態では、ブラシ12は、図1(A)に示すように、小
形のものが、複数個、並べられているが、1個の大形の
ブラシが設けられていてもよい。
【0022】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、請求項1の
発明によれば、定盤に着脱自在な着脱手段を備えるの
で、広い設置スペースを必要としない。また、研磨手段
の回転に抗して擦って洗浄を行う洗浄手段を備えるの
で、洗浄のための特別な動力を必要とせず、簡単に、洗
浄可能であり、コストも安価である。
【0023】請求項2の発明によれば、着脱手段へ固定
する高さ方向の位置を調整可能な位置調整部を備えるの
で、洗浄手段の寿命を延ばすことができる。
【0024】請求項3の発明によれば、洗浄手段の全長
が、少なくとも、研磨手段の半径よりも長く、その研磨
手段の回転軸の延長線を通過する直線上に配置されてい
るので、研磨手段の全面を、もれなく洗浄可能である。
【0025】請求項4の発明によれば、着脱手段を前記
定盤に取り付けて、研磨手段を回転させて、その研磨手
段を洗浄手段に擦らせて洗浄するので、安全に、また、
コストをかけることなく、研磨手段を洗浄することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるガラス研磨装置用洗浄具の一実施
形態を示す図である。
【図2】ガラス研磨装置用洗浄具を使用する洗浄方法を
説明する図である。
【図3】ガラス研磨装置用洗浄具を使用する洗浄方法を
説明する図である。
【図4】ガラス研磨方法及び従来の洗浄方法を示す図で
ある。
【図5】従来の洗浄方法を示す図である。
【符号の説明】
10 ガラス研磨装置用洗浄具 11 脚部 12 ブラシ 12a 位置調整台 20 ガラス研磨装置 21 定盤 22 回転盤 23 研磨パッド 50 ガラス板(研磨対象物)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3B116 AA02 AB34 AB53 BA02 BB21 3B201 AA03 AB34 AB53 BA02 BB21 BB92 BB93 3C047 AA34 3C058 AA06 CA06 CB03

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下動自在で、定盤に固定されているガ
    ラス板に下降位置で接触し、回転して、そのガラス板を
    研磨する研磨手段を有するガラス研磨装置に使用するガ
    ラス研磨装置用洗浄具であって、 前記研磨手段が上昇位置にあるときに、前記定盤に着脱
    自在な着脱手段と、 前記着脱手段に設けられ、前記研磨手段に当接し、その
    研磨手段が回転させられたときに、その回転に抗して擦
    って洗浄を行う洗浄手段とを備えることを特徴とするガ
    ラス研磨装置用洗浄具。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のガラス研磨装置用洗浄
    具において、 前記洗浄手段は、前記着脱手段へ固定する高さ方向の位
    置を調整可能な位置調整部を備えることを特徴とするガ
    ラス研磨装置用洗浄具。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載のガラス研
    磨装置用洗浄具において、 前記洗浄手段は、その全長が、少なくとも、前記研磨手
    段の半径よりも長く、その研磨手段の回転軸の延長線を
    通過する直線上に配置されていることを特徴とするガラ
    ス研磨装置用洗浄具。
  4. 【請求項4】 請求項1から請求項3までのいずれか1
    項に記載のガラス研磨装置用洗浄具を使用してガラス研
    磨装置を洗浄するガラス研磨装置の洗浄方法であって、 前記研磨手段を上昇位置に上昇させる研磨手段上昇工程
    と、 前記着脱手段を前記定盤に取り付ける着脱手段取付工程
    と、 前記洗浄手段を移動させて、前記研磨手段に当接させる
    洗浄手段位置合わせ工程と、 前記研磨手段を回転させて、その研磨手段を前記洗浄手
    段に擦らせて洗浄する洗浄工程とを備えることを特徴と
    するガラス研磨装置の洗浄方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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