JP2003094840A

JP2003094840A - 感熱転写記録材料及び感熱転写記録方法

Info

Publication number: JP2003094840A
Application number: JP2001293641A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Watanabe; 洋渡邉; Yoriko Nakayama; 依子中山; Iku Fukumuro; 郁福室; Shigeru Mano; 茂間野
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-09-26
Filing date: 2001-09-26
Publication date: 2003-04-03

Abstract

(57)【要約】【課題】感度、色再現性、保存性、耐久性に優れたポ
ストキレート技術を用いた感熱転写記録材料及び画像形
成方法を提供する。【解決手段】支持体上の少なくとも一部にキレート形
成可能な熱拡散性色素を含有するインク層を有し、基材
上に前記キレート形成可能な熱拡散性色素と反応してキ
レート化合物を形成し得る金属イオン含有化合物を含有
する受像層を有する感熱転写記録用受像シートと合わせ
て使用される、感熱転写記録材料において、キレート形
成可能な熱拡散性色素として特定の色素を含有するイン
ク層を有するとともに、支持体上のインク層とは別の領
域に後加熱処理のための領域を有することを特徴とする
感熱転写記録材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感熱転写より画像
を記録する熱転写記録方法に関し、詳しくは、画像品
質、画像保存性、画像耐久性に優れた熱転写記録方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、カラー又はモノクロの画像の形成
技術として、加熱により拡散移行する性質を有する熱拡
散性染料を含有するインクシートを、受像シートの受像
層と対向させて、サーマルヘッドやレーザー等の加熱印
字手段を用いて、該受像層に該熱拡散性染料を画像様に
転写して画像を形成する技術が知られている。このよう
な感熱転写方式は、デジタルデータで画像形成を可能と
し、現像液等の処理液を使わず、しかも銀塩写真に匹敵
する高画質を形成できる方法として定評がある。

【０００３】しかし、得られた画像の保存性や耐久性に
関しては、銀塩写真に比較して弱いという欠点を有して
いる。

【０００４】得られた画像の安定性、特に定着や耐光性
を改良する目的で、キレート化可能な熱拡散性色素（以
下、後キレート色素と記す）を用いる感熱転写材料及び
画像形成方法（ポストキレート技術）が提案されてお
り、例えば特開昭５９−７８８９３号、同５９−１０９
３４９号、同６０−２３９８号公報等に記載されてい
る。

【０００５】また、ポストキレート技術で有られる画像
の画像保存性を更に高める技術として、色素を転写後、
後加熱する技術が提案されており、例えば特開平４−８
９２９２号公報等に記載されている。

【０００６】また、染料熱転写方式で形成された画像の
機械的な耐久性（耐擦過性、耐皮脂性等）を向上させる
技術として画像形成後、画像上に透明な保護層を熱転写
方式で形成する技術が知られており、ポストキレート技
術で得られる画像に関しても、例えば特開２００１−１
６８２４４号公報等に記載されている。

【０００７】上記特許で開示されるポストキレート色素
を用いて形成された画像は、耐光性や定着性に優れてい
るが、感熱転写材料の感度や材料自体の保存性の点では
十分に満足するものではなく、又、ポストキレート色素
と未キレート色素の間での色相差が大きいため、画像形
成時のキレート反応が不十分な場合には未キレート色素
の吸収が残存したり、形成されたキレート色素自体の不
整吸収があったりするため、フルカラー画像を得る場合
には、色再現の点で更に改良される必要があった。

【０００８】また、熱転写性の保護層は、転写時に受像
層中の金属イオン含有化合物の影響で変色する場合があ
り、特に紫外線吸収剤を含有させた場合顕著になる場合
があるという欠点を有していた。

【０００９】一方、ポストキレート技術では、受像層中
に通常の染料熱転写記録方式では使用しない金属イオン
含有化合物を含有するが、記録速度を向上させようとす
ると、後キレート色素と金属イオン含有化合物のキレー
ト反応を完結させるためには、印加エネルギーを増大さ
せたり、金属イオン含有化合物の添加量を増す等の手段
を要することがあり、特に金属イオン含有化合物を増量
することは材料コストの点で問題であった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は感度、色再現
性、保存性、耐久性に優れた画像を形成するための、ポ
ストキレート技術を用いた感熱転写記録材料と画像形成
方法を提供することにある。

【００１１】さらに、前記目的を損なうことなく、コス
トメリットのあるポストキレート技術を用いた感熱転写
記録材料と画像形成方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成によって達成される。

【００１３】（１）支持体上の少なくとも一部にキレー
ト形成可能な熱拡散性色素を含有するインク層を有し、
基材上に前記キレート形成可能な熱拡散性色素と反応し
てキレート化合物を形成し得る金属イオン含有化合物を
含有する受像層を有する感熱転写記録用受像シートと合
わせて使用される、感熱転写記録材料において、キレー
ト形成可能な熱拡散性色素として前記一般式（１）で表
される色素を含有するインク層を有するとともに、支持
体上のインク層とは別の領域に後加熱処理のための領域
を有することを特徴とする感熱転写記録材料。

【００１４】（２）支持体上の少なくとも一部にキレー
ト形成可能な熱拡散性色素を含有するインク層を有し、
基材上に前記キレート形成可能な熱拡散性色素と反応し
てキレート化合物を形成し得る金属イオン含有化合物を
含有する受像層を有する感熱転写記録用受像シートと合
わせて使用される、感熱転写記録材料において、キレー
ト形成可能な熱拡散性色素として前記一般式（１）で表
される色素を含有するインク層を有するとともに、支持
体上のインク層とは別の領域に熱転写性の保護層を有す
ることを特徴とする感熱転写記録材料。

【００１５】（３）後加熱処理のための領域に、キレー
ト形成可能な熱拡散性色素と反応してキレート化合物を
形成し得る金属イオン含有化合物を含有することを特徴
とする（１）記載の感熱転写記録材料。

【００１６】（４）熱転写性の保護層にＵＶ吸収剤を含
有することを特徴とする（２）記載の感熱転写記録材
料。

【００１７】（５）熱転写性の保護層が、支持体上に少
なくとも樹脂層と感熱接着層をこの順序で積層した構造
であることを特徴とする（２）又は（４）記載の感熱転
写記録材料。

【００１８】（６）インク層に含まれるキレート形成可
能な熱拡散性色素として、前記一般式（２）で表される
色素及び前記一般式（３）で表される色素を含有するこ
とを特徴とする（１）又は（３）記載の感熱転写記録材
料。

【００１９】（７）インク層に含まれるキレート形成可
能な熱拡散性色素として、前記一般式（２）で表される
色素及び前記一般式（３）で表される色素を含有するこ
とを特徴とする（２）、（４）又は（５）記載の感熱転
写記録材料。

【００２０】（８）受像層中に含有される金属イオン含
有化合物が前記一般式（４）で表されることを特徴とす
る（１）、（３）又は（６）記載の感熱転写記録材料。

【００２１】（９）受像層中に含有される金属イオン含
有化合物が前記一般式（４）で表されることを特徴とす
る（２）、（４）、（５）又は（７）記載の感熱転写記
録材料。

【００２２】（１０）後加熱処理のための領域に含有さ
れる金属イオン含有化合物が前記一般式（４）で表され
ることを特徴とする（３）、（６）又は（８）記載の感
熱転写記録材料。

【００２３】（１１）前記一般式（１）で表される色素
を含有するインク層を有するとともに、前記一般式
（１）で表される色素を含有するインク層以外のインク
層に、キレート形成可能な熱拡散性色素以外の熱拡散性
色素を含有するインク層を有し、支持体上の全てのイン
ク層とは別の領域に熱転写性の保護層を有することを特
徴とする（２）、（４）、（５）、（７）又は（９）記
載の感熱転写記録材料。

【００２４】（１２）前記（１）、（３）、（６）、
（８）又は（１０）記載の感熱転写記録材料のインク層
と、感熱転写記録用受像シートの受像層とを対向するよ
うに重ね、前記感熱転写記録材料の裏面よりサーマルヘ
ッドで像様に加熱することによりキレート形成可能な熱
拡散性色素を受像層に転写した後、前記感熱転写記録材
料の後加熱処理のための領域を前記色素が転写された受
像層面に対向するように重ね、前記感熱転写記録材料の
裏面よりサーマルヘッドで加熱することを特徴とする感
熱転写記録方法。

【００２５】（１３）前記（２）、（４）、（５）、
（７）、（９）又は（１１）記載の感熱転写記録材料の
インク層と、感熱転写記録用受像シートの受像層とを対
向するように重ね、前記感熱転写記録材料の裏面よりサ
ーマルヘッドで像様に加熱することによりキレート形成
可能な熱拡散性色素を受像層に転写した後、前記色素が
転写された受像層面に対向するように重ね、前記感熱転
写記録材料の裏面よりサーマルヘッドで加熱処理するこ
とにより前記熱転写性の保護層を受像層上に転写させる
ことを特徴とする感熱転写記録方法。

【００２６】（１４）後加熱処理時のサーマルヘッドの
抵抗体表面の温度が、ピーク温度の１／３以下にならな
いように通電時間間隔を一定以下にすることを特徴とす
る（１２）記載の熱転写記録方法。

【００２７】（１５）保護層熱転写時のサーマルヘッド
の抵抗体表面の温度が、ピーク温度の１／３以下になら
ないように通電時間間隔を一定以下にすることを特徴と
する（１３）記載の熱転写記録方法。

【００２８】（１６）保護層転写後の、染料が転写され
ていない領域のｂ^*値（ｂ２）と、印画前の同領域のｂ^*
値（ｂ１）の関係が、ｂ２−ｂ１≦２であることを特徴とする（１３）又は（１５）記載の熱
転写記録方法。

【００２９】以下本発明を詳細に説明する。本発明の感
熱転写記録材料（以下、熱転写シートとも言う）につい
て説明する。

【００３０】（支持体）本発明の感熱転写記録材料に用
いられる支持体は、従来の熱転写シートに使用されてい
る物と同じ支持体をそのまま用いることが出来、特に限
定される物ではない。好ましい支持体の具体例として
は、グラシン紙、コンデンサー紙、パラフィン紙等の薄
紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナ
フタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルサルフォン等の耐熱性の高いポ
リエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネイト、酢酸
セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチ
ックの延伸或いは未延伸フィルムや、これらの材料を積
層したものなどが挙げられる。

【００３１】この支持体の厚さは、強度、熱伝導性、耐
熱性等が適切になるように材料に応じて適宜選択するこ
とが出来るが、通常は１〜１００μｍ程度のものが好ま
しく用いられる。

【００３２】上記のごとき支持体は、この表面に形成す
るインク層との密着が乏しい場合には、その表面にプラ
イマー処理や、コロナ処理を施すことが好ましい。

【００３３】（インク層）本発明において、支持体の一
方の面に設けるインク層に含有させる熱拡散性インクと
しては、金属イオン含有化合物と反応してキレート形成
可能な熱拡散性色素を用いる。本発明では前記キレート
形成可能な熱拡散性色素として、前記一般式（１）で表
される色素を少なくとも１種含有することを特徴とす
る。

【００３４】一般式（１）において、Ｒ₁₁およびＲ₁₂は
置換または無置換の脂肪族基を表し、Ｒ₁₁およびＲ₁₂は
同じでも異なっていてもよい。脂肪族基の例としては、
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基等が挙げられる。アルキル基の例としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基などを挙げ
ることができ、これらのアルキル基を置換しうる基とし
ては、直鎖あるいは分岐のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ド
デシル基、および１−ヘキシルノニル基等）、シクロア
ルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル
基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、およびアダマ
ンチル基等）、およびアルケニル基（例えば２−プロピ
レン基、オレイル基等）、アリール基（例えばフェニル
基、オルト−トリル基、オルト−アニシル基、１−ナフ
チル基、９−アントラニル基等）、複素環基（例えば２
−テトラヒドロフリル基、２−チオフェニル基、４−イ
ミダゾリル基、および２−ピリジル基等）、ハロゲン原
子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シア
ノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基（例えば
アセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基等
のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ペンタフルオ
ロベンゾイル基、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾイル基等のアリールカルボニル基等）、オキ
シカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、シクロ
ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基、フェノキシカル
ボニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニ
ル基、１−ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオ
キシカルボニル基、および２−ピリジルオキシカルボニ
ル基、１−フェニルピラゾリル−５−オキシカルボニル
基などの複素環オキシカルボニル基等）、カルバモイル
基（例えばジメチルカルバモイル基、４−（２，４−ジ
−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノカルボニル基等
のアルキルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、
１−ナフチルカルバモイル基等のアリールカルバモイル
基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、２−エトキシ
エトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ
基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−（４−
ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ基等）、複
素環オキシ基（例えば４−ピリジルオキシ基、２−ヘキ
サヒドロピラニルオキシ基等）、カルボニルオキシ基
（例えばアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキ
シ基、ピバロイルオキシ基等のアルキルカルボニルオキ
シ基、ベンゾイルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイル
オキシ基等のアリールオキシ基等）、ウレタン基（例え
ばＮ，Ｎ−ジメチルウレタン基等のアルキルウレタン
基、Ｎ−フェニルウレタン基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニ
ル）ウレタン基等のアリールウレタン基）、スルホニル
オキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフル
オロメタンスルホニルオキシ基、ｎ−ドデカンスルホニ
ルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼン
スルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基
等のアリールスルホニルオキシ基）、アミノ基（例えば
ジメチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ドデ
シルアミノ基等のアルキルアミノ基、アニリノ基、ｐ−
ｔ−オクチルアニリノ基等のアリールアミノ基等）、ス
ルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、
ヘプタフルオロプロパンスルホニルアミノ基、ｎ−ヘキ
サデシルスルホニルアミノ基等のアルキルスルホニルア
ミノ基、ｐ−トルエンスルホニルアミノ基、ペンタフル
オロベンゼンスルホニルアミノ等のアリールスルホニル
アミノ基）、スルファモイルアミノ基（例えばＮ，Ｎ−
ジメチルスルファモイルアミノ基等のアルキルスルファ
モイルアミノ基、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ基
等のアリールスルファモイルアミノ基）、アシルアミノ
基（例えばアセチルアミノ基、ミリストイルアミノ基等
のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等
アリールカルボニルアミノ基）、ウレイド基（例えば
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノウレイド基等のアルキルウレイ
ド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−（ｐ−シアノフェ
ニル）ウレイド基等のアリールウレイド基）、スルホニ
ル基（例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタン
スルホニル基等のアルキルスルホニル基、およびｐ−ト
ルエンスルホニル基等のアリールスルホニル基）、スル
ファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基、４−
（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノス
ルホニル基等のアルキルスルファモイル基、フェニルス
ルファモイル基等のアリールスルファモイル基）、アル
キルチオ基（例えばメチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基
等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、お
よび複素環チオ基（例えば１−フェニルテトラゾール−
５−チオ基、５−メチル−１，３，４−オキサジアゾー
ル−２−チオ基等）等が挙げられる。

【００３５】シクロアルキル基、アルケニル基の例とし
ては、上記置換基と同様である。また、アルキニル基の
例としては、１−プロピン、２−ブチン、１−ヘキシン
等が挙げられる。

【００３６】Ｒ₁₁、Ｒ₁₂で非芳香族性の環状構造（例え
ばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等）を形
成するのも好ましい。

【００３７】Ｒ₁₃は上記置換基の中でもアルキル基、シ
クロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ま
しい。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、複
数のＲ₁₃は同じでも異なっていてもよい。

【００３８】Ｒ₁₄はアルキル基であり、その例として
は、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ドデシル基、および１−ヘキシルノニル基等が
挙げられる。Ｒ₁₄は好ましくは２級または３級アルキル
基であり、好ましい２級または３級のアルキル基の例と
してはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、３−ヘプチル基などが挙げられる。Ｒ₁₄とし
て最も好ましい置換基はイソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基である。Ｒ₁₄のアルキル基は、置換されていても
良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置
換されており。その他の原子を含む置換基で置換される
ものではない。

【００３９】Ｒ₁₅はアルキル基であり、その例として
は、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、
ｎ−ドデシル基、および１−ヘキシルノニル基等が挙げ
られる。Ｒ₁₅は好ましくは２級または３級アルキル基で
あり、好ましい２級または３級のアルキル基の例として
はイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、３−ヘプチル基などが挙げられる。Ｒ₁₅として最
も好ましい置換基はイソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基である。Ｒ₁₅のアルキル基は、置換されていても良い
が、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換さ
れており。その他の原子を含む置換基で置換されるもの
ではない。

【００４０】Ｒ₁₆はアルキル基を表し、その例としては
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−へプチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、３−ヘプチル基など
が挙げられる。Ｒ₆として特に好ましい置換基は炭素数
３以上の直鎖のアルキル基であり、その例としてはｎ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、ｎ−へプチル基であり、最も好ましくはｎ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基である。なお、Ｒ₁₆のアルキル
基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素
原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を
含む置換基で置換されるものではない。

【００４１】本発明では、前記一般式（１）の色素以外
の色素を任意に併用することができる。キレート形成可
能な熱拡散性色素としては、熱転写が可能であれば特に
制限はなく、公知の各種の化合物を適宜に選定して使用
することができる。具体的には、例えば特開昭５９−７
８８９３号公報、同５９−１０９３４９号公報、特願平
２−２１３３０３号、同２−２１４７１９号、同２−２
０３７４２号に記載されているシアン染料、マゼンタ染
料、イエロー染料などを使用することができる。

【００４２】好ましくは、前記一般式（２）及び前記一
般式（３）が挙げられる。一般式（２）中、Ｒ₁及びＲ₂
で表される置換基としては、例えばハロゲン原子、アル
キル基（炭素数１〜１２のアルキル基で、酸素原子、窒
素原子、硫黄原子もしくはカルボニル基で連結する置換
基が置換するか、又はアリール基、アルケニル基、アル
キニル基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、カル
ボキシル基、シアノ基もしくはハロゲン原子が置換して
いてもよい。例えば、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチ
ル、トリフルオロメチル、メトキシメチル、２−メタン
スルホニルエチル、２−メタンスルホンアミドエチル、
シクロヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、４
−ｔ−ブチルフェニル、３−ニトロフェニル、３−アシ
ルアミノフェニル、２−メトキシフェニル等）、シアノ
基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルアミノ
基、アニリノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカルボニ
ル基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニル
アミノ基、イミド基、複素環チオ基、ホスホニル基、ア
シル基等が挙げられる。

【００４３】Ｒ₃で表されるアルキル基及びアリール基
としては、Ｒ₁及びＲ₂で表されるアルキル基、アリール
基と同じものを挙げることができる。

【００４４】Ｚ₁で表される２個の炭素原子と共に構成
される５〜６員の芳香族環としては、具体的にはベンゼ
ン、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピラジン、ピ
リダジン、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾー
ル、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、チア
ゾールなどの環を挙げることができ、これらの環は更に
他の芳香族環と縮合環を形成してもよい。これらの環上
には置換基を有していてもよく、該置換基としてはＲ₁
およびＲ₂で表される置換基と同じものを挙げることが
できる。

【００４５】前記一般式（３）中、Ｘは少なくとも２座
のキレート形成可能な基又は原子の集まりを表し、Ｙは
５員もしくは６員の芳香族炭化水素環又は複素環を形成
する原子の集まりを表し、Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、ハロゲ
ン原子又は１価の置換基を表す。ｎは０、１、２を表
す。

【００４６】Ｘ＝として特に好ましくは下記一般式
（６）で表される。

【００４７】

【化５】

【００４８】式中、Ｚ²は少くとも一つのキレート化可
能な窒素原子を含む基で置換された芳香族性含窒素複素
環を形成するに必要な原子群を表す。該環の具体例とし
てはピリジン、ピリミジン、チアゾール、イミダゾール
等の各環が挙げられる。これらの環は、更に他の炭素環
（ベンゼン環等）や複素環（ピリジン環等）と縮合環を
形成しても良い。

【００４９】Ｙは５員もしくは６員の芳香族炭化水素環
又は複素環を形成する原子の集まりを表し、該環上には
更に置換基を有していても良く、縮合環を有していても
良い。該環の具体例としては３Ｈ−ピロール環、オキサ
ゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、３Ｈ−ピロ
リジン環、オキサゾリジン環、イミダゾリジン環、チア
ゾリジン環、３Ｈ−インドール環、ベンズオキサゾール
環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、キノ
リン環、ピリジン環等が挙げられる。これらの環は更に
他の炭素環（例えばベンゼン環）や複素環（例えばピリ
ジン環）と縮合環を形成してもよい。環上の置換基とし
てはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、
アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アシルアミノ基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、ハ
ロゲン原子等であり、それらの基は更に置換されていて
も良い。

【００５０】Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子（例え
ばフッ素原子、塩素原子）又は１価の置換基を表すが、
１価の置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、シア
ノ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、ヘテロ環
基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アシル基、アシル
アミノ基等が挙げられる。

【００５１】Ｘは少なくとも２座のキレート形成可能な
基又は原子の集まりを表し、一般式（３）として色素を
形成できるものなら何でもよく、例えば５−ピラゾロ
ン、イミダゾール、ピラゾロピロール、ピラゾロピラゾ
ール、ピラゾロイミダゾール、ピラゾロトリアゾール、
ピラゾロテトラゾール、バルビツール酸、チオバルビツ
ール酸、ローダニン、ヒダントイン、チオヒダントイ
ン、オキサゾロン、イソオキサゾロン、インダンジオ
ン、ピラゾリジンジオン、オキサゾリジンジオン、ヒド
ロキシピリドン、またはピラゾロピリドンが好ましい。

【００５２】また本発明では、一般式（１）で表される
色素を含有するインク層以外のインク層に、キレート形
成可能な熱拡散性色素以外の熱拡散性色素を含有させる
ことができる。使用する染料としては、従来公知の感熱
昇華転写方式の熱転写シートに使用される、アゾ系、ア
ゾメチン系、メチン系、アントラキノン系、キノフタロ
ン系、ナフトキノン系等のあらゆる染料を使用でき、特
に制限はない。また、上記各種染料を組み合わせること
によりブラック等の任意の色相の染料を調製することが
できる。

【００５３】キレート形成可能な熱拡散性色素以外の熱
拡散性色素を含有させる場合はＣ（シアン）以外の色
素、特に好ましくはＹ（イエロー）色素、をキレート形
成可能な熱拡散性色素以外の熱拡散性色素とすることが
好ましい。キレート形成可能な熱拡散性色素以外の熱拡
散性色素は、ポストキレート方式の記録材料に併用して
も、色素の定着は行われていないため、高温環境下等で
にじみを生じ、特にＹ、Ｍ（マゼンタ）、Ｃを組み合わ
せた二次色、例えばニュートラル等でにじみを生じた場
合は主画像の周囲に異なる色のにじみとなって現れるた
め画像の品位を著しく損なうことが一般的であった。本
発明のように一般式（１）のキレート形成可能な熱拡散
性色素以外の熱拡散性色素と併用した場合はニュートラ
ル画像でのにじみが少ないことがわかった。この理由は
定かではないが、一般式（１）の色素が金属イオン化合
物となりやすく、そのために他のキレート形成可能な熱
拡散性色素を用いた場合よりも、後加熱処理や転写生保
護層の転写時にキレート形成可能な熱拡散性色素以外の
熱拡散性色素も受像層内部に拡散しやすくなるためでは
ないかと推測している。

【００５４】本発明に用いられる色素の添加量は、通
常、後述するインク層１ｍ²に対し、０．０５ｇ〜２０
ｇが好ましく、更に０．１ｇ〜５ｇがより好ましい。

【００５５】（バインダー）インク層に用いられるバイ
ンダー樹脂は、セルロース系、ポリアクリル酸系、ポリ
ビニルアルコール系、ポリビニルピロリドン系等の水溶
性ポリマー、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネイト、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセター
ル、エチルセルロース、ニトロセルロース等の有機溶媒
に可溶のポリマーが有る。これらの樹脂の中でも、保存
性の優れたポリビニルブチラール、ポリビニルアセター
ルあるいはセルロース系樹脂が好ましい。有機溶剤に可
溶のポリマーを用いる場合、１種又は２種以上を有機溶
媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分散の形で
使用してもよい。バインダー樹脂の使用量としては、支
持体１ｍ²あたり０．１ｇ〜５０ｇが好ましい。

【００５６】又、受像層との離型性を向上させるため
に、離型剤を添加、あるいは離型層を設けてもよい。離
型剤としては、反応硬化型シリコーン、燐酸エステル系
界面活性剤、フッ素化合物等を用いることが出来る。離
型剤の使用量は、含有させる層の固形分に対し、０．５
〜４０質量％が好ましい。又、離型層を設ける場合、バ
インダーは上記インク層に用いられるものと同様のもの
が使用可能である。

【００５７】（ＢＣ層）支持体の、インク層を設けた面
とは反対側の面に、耐熱性や熱転写シートの安定した走
行性を付与するためのＢＣ層を設けることが好ましい。
ＢＣ層に使用されるバインダー樹脂としては、ポリメタ
クリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル
アミド、アクリロニトリルースチレン共重合体等のアク
リル系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロー
ス、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、ニトロセルロ
ース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
タール、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、クマロンインデ
ン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、シリ
コーン変性又はフッ素変性ウレタン等が挙げられる。

【００５８】また、これらの樹脂は混合して用いても良
い。ＢＣ層の耐熱性をより高めるために、前記の樹脂の
うち、水酸基などの反応性基を有している樹脂を使用
し、架橋剤としてポリイソシアネート等を併用して架橋
樹脂層としてもよい。さらに、サーマルヘッドのような
加熱手段との滑り性を向上させるために、背面層に固形
あるいは液状の離型剤または滑剤を加えて、耐熱滑性を
もたせてもよい。離型剤または滑剤としては、例えばポ
リエチレンワックス、パラフィンワックス等の各種ワッ
クス類、高級脂肪族アルコール、オレガノポリシロキサ
ン、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両
性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活
性剤、有機カルボン酸及びその誘導体、フッ素系樹脂、
シリコーン系樹脂、タルク、シリカ、硫化モリブデン等
の無機化合物の微粒子等を用いることができる。背面層
への滑剤の好ましい添加量は、背面層の全固形分に対
し、５〜５０質量％であり、特に好ましくは１０〜３０
質量％である。背面層の厚みは、塗布乾燥後で０．１〜
１０μｍ程度が好ましい。

【００５９】（後加熱処理領域）本発明に用いられる熱
転写記録においては、染料転写後の転写された表面と、
非転写性の樹脂層の表面を対面させ、非転写性樹脂層と
は反対の側より熱を与えることで後加熱処理を行う。

【００６０】本発明に用いられる非転写性の樹脂層は、
前記インク層と同一面上に、いわゆる面順次で設けるこ
とも出来る。非転写性樹脂層を単独でシートとして用い
る場合は、支持体や背面層は前述したものと同様のもの
を用いることが出来る。

【００６１】非転写性樹脂層に用いられるバインダー樹
脂は、インク層に用いたバインダー樹脂と同様のものを
用いることができる。

【００６２】非転写性樹脂層を、インク層と面順次に設
ける場合には、樹脂層に微粒子を含有することが好まし
い。これは塗布後ロール状態で保存した際に、背面層に
染料がわずかながら移行し、製品形態で小巻にした時
に、この背面層に移行した染料が、非転写性樹脂層へ再
転写するという、いわゆるキックバックという現象が生
じるのを防止する目的で行われる。キックバックが生じ
ると、樹脂層へ再転写した染料が、印画時受像面を着色
することになり、画質を著しく損なう。微粒子として
は、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム等の無機微粒子
の他に、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリスチレン樹脂などの樹脂微粒子、あるいはワッ
クス粒子等が使用できる。これら微粒子の粒径は、好ま
しくは０．１〜５０μｍとする。０．１μｍ以下では樹
脂層表面の凹凸が少なすぎて，キックバックに対する効
果がなく、また５０μｍ以上では印画後の画像表面を荒
らしてしまい、画質を損なう。上記微粒子の好ましい添
加量としては、樹脂層全固形分に対し１〜５０質量％で
あり、特に好ましくは５〜３０質量％である。１％以下
では樹脂層表面の凹凸が少なすぎてキックバックに対す
る効果が少なく、また５０％以上では印画後の画像表面
を荒らしてしまい、画質を損なう。

【００６３】本発明において、後加熱処理領域にキレー
ト化反応を完結させるための目的として、樹脂層中に金
属イオン含有化合物（メタルソースともいう）を含有さ
せることが好ましい。

【００６４】メタルソースとしては、金属イオンの無機
又は有機の塩及び金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の
塩及び錯体が好ましい。金属としては、周期律表の第Ｉ
〜第VIII族に属する１価及び多価の金属が挙げられる
が、中でもＡｌ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｍｇ，Ｍ
ｎ，Ｍｏ，Ｎｉ，Ｓｎ，Ｔｉ及びＺｎが好ましく、特に
Ｎｉ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｃｏ及びＺｎが好ましい。メタルソ
ースの具体例としては、Ｎｉ₂ ⁺，Ｃｕ₂ ⁺，Ｃｒ₂ ⁺，Ｃｏ
₂ ⁺及びＺｎ₂ ⁺と酢酸やステアリン酸等の脂肪族の塩、或
いは安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩等
が挙げられる。また、下記一般式（７）で表される錯体
が後加熱領域の樹脂中に安定に添加でき、かつ実質的に
無色である為に特に好ましい。

【００６５】一般式（７）［Ｍ（Ｑ₁）_X（Ｑ₂）_Y（Ｑ₃）_Z］^P+（Ｌ^-）_P 一般式（７）中、Ｍは金属イオン、好ましくはＮｉ₂ ⁺，
Ｃｕ₂ ⁺，Ｃｒ₂ ⁺，Ｃｏ ₂ ⁺又はＺｎ₂ ⁺を表す。Ｑ₁，Ｑ₂及
びＱ₃は各々Ｍで表される金属イオンと配位結合可能な
配位化合物を表し、互いに同じであっても異なっていて
もよい。これらの配位化合物としては、例えばキレート
科学（５）（南江堂）に記載されている配位化合物から
選択することができる。Ｌ^-は有機アニオン基を表し、
具体的にはテトラフェニルホウ素アニオンやアルキルベ
ンゼンスルホン酸アニオン等を挙げることができる。Ｘ
は１、２又は３を表し、Ｙは１、２又は０を表し、Ｚは
１又は０を表すが、これらは前記一般式（１）で表され
る錯体が４座配位か、６座配位かによって決定される
か、或いはＱ₁，Ｑ₂，Ｑ₃の配位子の数によって決定さ
れる。Ｐは１又は２を表す。この種のメタルソースの具
体例としては、米国特許第４，９８７，０４９号明細書
に例示されたもの、或いは特開平９−３９４２３号明細
書に例示された化合物Ｎｏ．１〜９９などを挙げること
ができる。特に好ましくは、特開平１０−２４１４１０
号公報に記載された前記一般式（４）に記載された化合
物が好ましい。

【００６６】前記一般式（４）で表される化合物におい
て、Ｍ₂ ⁺は２価の遷移金属イオンを表すが、これらの中
でも金属イオン供給化合物自身の色およびキレート化し
た色素の色調からニッケルおよび亜鉛が好ましい。Ｘ₁ ^-
は２価の金属イオンと錯体を形成することができる前記
一般式（５）で表された配位化合物を表す。また、これ
らの化合物は中心金属に応じて中性の配位子を有しても
よく、代表的な配位子としてはＨ₂Ｏ或はＮＨ₃が挙げら
れる。

【００６７】前記一般式（５）で表される化合物におい
て、Ｚはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、ハロゲン原子または水素原子
を表す。Ｚがアリールオキシカルボニル基、アルコキシ
カルボニル基、ハロゲン原子などの電子吸引性基が金属
イオン供給化合物を安定化させるため好ましいが、この
中でもアリールオキシカルボニル基およびアルコキシカ
ルボニル基が溶解性の点で更に好ましい。該アリールオ
キシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基が
挙げられ、該アルコキシカルボニル基としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、ペンチルオキシカ
ルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基など
の炭素数１〜２０の直鎖または分岐を有するアルコキシ
カルボニル基を挙げることができ、また、これらのアル
コキシカルボニル基にはハロゲン原子、アリール基やア
ルコキシ基などが置換していてもよい。

【００６８】ＲおよびＲ′はアルキル基およびアリール
基を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよく、Ｒと
ＺまたはＲ′とＺが結合して環を形成してもよいが、Ｚ
が水素原子となる時にＲ、Ｒ′が共にメチル基となるこ
とはない。Ｚ、ＲおよびＲ′で表されるアルキル基とし
ては例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、オク
チル、２−エチルヘキシル基などの炭素数１〜２０の直
鎖または分岐を有するアルキル基を挙げることができ、
また、これらのアルキル基にはハロゲン原子、アリール
基やアルコキシ基などが置換していてもよい。Ｚ、Ｒお
よびＲ′で表されるアリール基としてはフェニル、ナフ
チル基が挙げられ、置換基を有していてもよい。Ｚで表
されるアルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブト
キシなど炭素数１〜２０の直鎖または分岐を有するアル
コキシ基を挙げることができる。Ｚで表されるアシル基
としてはアセチル、プロピオニル、クロロアセチル、フ
ェナセチル、ベンゾイル基などを挙げることができる。
Ｚで表されるハロゲン原子として好ましくは塩素原子を
挙げることができる。

【００６９】本発明に用いられるメタルソース化合物の
添加量は、通常、支持体に対して、０．５〜２０ｇ／ｍ
²が好ましく、１〜１５ｇ／ｍ²がより好ましい。

【００７０】メタルソースの添加量は、樹脂層全固形分
に対し０．０１〜１質量％が好ましく、特に好ましくは
０．０５〜０．５質量％である。０．０１質量％より少
ないと、添加する効果が少なく、また１質量％より多い
と、上述したキックバックの発生がより顕著になる。

【００７１】又、受像層と後加熱領域の非熱転写性樹脂
層との離型性を向上させるために、離型剤を添加、ある
いは離型層を設けてもよい。離型剤としては、反応硬化
型シリコーン、燐酸エステル系界面活性剤、フッ素化合
物等を用いることが出来る。離型剤の使用量は、含有さ
せる層の固形分に対し、０．５〜４０質量％が好まし
い。又、離型層を設ける場合、バインダーは上記インク
層に用いられるものと同様のものが使用可能である。

【００７２】（保護層）本発明に用いられる熱転写性の
保護層は、受像シート上に熱転写して形成された画像の
表面を覆う保護層となる透明な樹脂層からなる。

【００７３】保護層を形成する樹脂としては、例えば、
ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、
ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、これらの各樹脂のエポキシ変性樹脂、これ
らの樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂
の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線遮断性樹脂等
を例示することができる。好ましい樹脂としては、ポリ
エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ変性樹
脂、電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。ポリエステル
樹脂としては、ジオール成分および酸成分が一種類以上
の脂環族化合物を有する脂環族ポリエステル樹脂が好ま
しい。ポリカーボネート樹脂としては、芳香族ポリカー
ボネート樹脂が好ましく、特開平１１−１５１８６７号
に記載された芳香族ポリカーボネート樹脂が特に好まし
い。

【００７４】本発明に使用されるエポキシ変性樹脂とし
てはエポキシ変性ウレタン、エポキシ変性ポリエチレ
ン、エポキシ変性ポリエチレンテレフタレート、エポキ
シ変性ポリフェニルサルファイト、エポキシ変性セルロ
ース、エポキシ変性ポリプロピレン、エポキシ変性ポリ
塩化ビニル、エポキシ変性ポリカーボネート、エポキシ
変性アクリル、エポキシ変性ポリスチレン、エポキシ変
性ポリメチルメタクリレート、エポキシ変性シリコー
ン、エポキシ変性ポリスチレンとエポキシ変性ポリメチ
ルメタクリレートの共重合体、エポキシ変性アクリルと
エポキシ変性ポリスチレンの共重合体、エポキシ変性ア
クリルとエポキシ変性シリコーンの共重合体が挙げら
れ、好ましくはエポキシ変性アクリル、エポキシ変性ポ
リスチレン、エポキシ変性ポリメチルメタクリレート、
エポキシ変性シリコーンであり、更に好ましくはエポキ
シ変性ポリスチレンとエポキシ変性ポリメチルメタクリ
レートの共重合体、エポキシ変性アクリルとエポキシ変
性ポリスチレンの共重合体、エポキシ変性アクリルとエ
ポキシ変性シリコーンの共重合体である。

【００７５】〈電離放射線硬化性樹脂〉熱転写性保護層
として電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱
転写性保護層に含有することにより、耐可塑剤性や耐擦
過性が特に優れている。電離放射線硬化性樹脂としては
公知のものを使用することができ、例えば、ラジカル重
合性のポリマー又はオリゴマーを電離放射線照射により
架橋、硬化させ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、
電子線や紫外線によって重合架橋させたものを使用する
ことができる。

【００７６】（紫外線遮断性樹脂）紫外線遮断性樹脂を
含有する保護層は、印画物に耐光性を付与することを主
目的とする。紫外線遮断性樹脂としては、例えば、反応
性紫外線吸収剤を熱可塑性樹脂又は上記の電離放射線硬
化性樹脂に反応、結合させて得た樹脂を使用することが
できる。より具体的には、サリシレート系、ベンゾフェ
ノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル
系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系のような
従来公知の非反応性の有機系紫外線吸収剤に、付加重合
性二重結合（例えばビニル基、アクリロイル基、メタア
クリロイル基等）、アルコール性水酸基、アミノ基、カ
ルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基のような
反応性基を導入したものを例示することができる。

【００７７】上記のごとき単層構造の熱転写性保護層又
は多層構造の熱転写性保護層中に設けられた主保護層
は、保護層形成用樹脂の種類にもよるが、通常は０．５
〜１０μｍ程度の厚さに形成する。

【００７８】本発明の熱転写性の保護層は、支持体上に
非転写性の離型層を介して設けることが好ましい。

【００７９】非転写性離型層は、支持体と非転写性離型
層との間の接着力を、非転写性離型層と熱転写性保護層
との間に接着力よりも常に充分高くし、且つ、熱を印加
する前の非転写性離型層と熱転写性保護層との間の接着
力が、熱印加後のそれに対し高くなるようにする目的
で、（１）樹脂バインダーと共に、平均粒子径が４０ｎ
ｍ以下の無機微粒子を３０〜８０質量％含有している
か、（２）アルキルビニルエーテル・無水マレイン酸共
重合体、その誘導体、或いはそれらの混合物を合計２０
質量％以上の割合で含有しているか、或いは（３）アイ
オノマーを２０質量％以上の割合で含有している、こと
が好ましい。非転写性離型層には、必要に応じて他の添
加物が含有されていてもよい。

【００８０】無機微粒子としては、例えば、無水シリ
カ、コロイダルシリカ等のシリカ微粒子や、酸化錫、酸
化亜鉛、アンチモン酸亜鉛等の金属酸化物を使用するこ
とが出来る。無機微粒子の粒子径は、４０ｎｍ以下とす
ることが好ましい。４０ｎｍを越えると、離型層表面の
凹凸に起因して熱転写性保護層の表面の凹凸も大きくな
り、その結果保護層の透明性が低下してしまい好ましく
ない。

【００８１】無機微粒子と混合する樹脂バインダーは特
に制限されず、混合可能なあらゆる樹脂を用いることが
出来る。例えば、各種ケン化度のポリビニルアルコール
樹脂（ＰＶＡ）；ポリビニルアセタール樹脂；ポリビニ
ルブチラール樹脂；アクリル系樹脂；ポリアミド系樹
脂；酢酸セルロース、アルキルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース等の
セルロース系樹脂；ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げ
られる。

【００８２】無機微粒子と樹脂バインダーを主体とする
他の配合成分との配合比（無機微粒子／他の配合成分）
は、質量比で３０／７０以上、８０／２０以下の範囲と
することが好ましい。配合比が３０／７０未満になる
と、無機微粒子の効果が不十分となり、一方８０／２０
を越えると離型層が完全な膜とならず、支持体と保護層
が直接触れる部分が生じてしまう。

【００８３】アルキルビニルエーテル・無水マレイン酸
共重合体又はその誘導体としては、例えば、アルキルビ
ニルエーテル部分のアルキル基がメチル基或いはエチル
基であるもの、無水マレイン酸部分が部分的に又は完全
にアルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノー
ル等）とのハーフエステルとなったものを用いることが
できる。

【００８４】離型層は、アルキルビニルエーテル・無水
マレイン酸共重合体、その誘導体、或いはそれらの混合
物だけで形成しても良いが、離型層と保護層の間の剥離
力を調整する目的で、他の樹脂又は微粒子をさらに加え
ても良い。その場合、離型層には、アルキルビニルエー
テル・無水マレイン酸共重合体、その誘導体、或いはそ
れらの混合物が２０質量％以上含有されているのが望ま
しい。含有量が２０質量％未満になると、アルキルビニ
ルエーテル・無水マレイン酸共重合体又はその誘導体の
効果が十分に得られなくなる。

【００８５】アルキルビニルエーテル・無水マレイン酸
共重合体又はその誘導体に配合される樹脂又は微粒子と
しては、混合可能で、被膜形成時に高い膜透明性が得ら
れるもので有れば特に限定されず、あらゆる材料を用い
ることが出来る。例えば、前述の無機微粒子及び無機微
粒子と混合可能な樹脂バインダーは好ましく用いられ
る。

【００８６】アイオノマーとしては、例えば、サーリン
Ａ（デュポン社製）や、ケミパールＳシリーズ（三井石
油化学社製）等を使用することができる。また、アイオ
ノマーには、例えば、前述の無機微粒子、無機微粒子と
混合可能な樹脂バインダー、或いはその他の樹脂や微粒
子をさらに加えることが出来る。

【００８７】非転写性離型層を形成するには、上記
（１）乃至（３）いずれかの成分を所定の配合割合で含
有する塗布液を調製し、かかる塗布液を、グラビアコー
ト法、グラビアリバースコート法のような公知の技術で
支持体上に塗布し、塗布層を乾燥させる。非転写性離型
層の厚みは、通常、乾燥後の厚みで０．１〜２μｍ程度
とする。

【００８８】非転写性離型層を介して、あるいは介さず
に支持体上に積層される熱転写性保護層は、多層構造を
とっていてもよいし、単層構造をとっていてもよい。多
層構造をとる場合には、画像に各種の耐久性を付与する
ための主体となる主保護層の他、熱転写性保護層と印画
物の受像面との接着性を高めるために、熱転写性保護層
の最表面に配置される接着層や、補助的な保護層や、保
護層本来の機能以外の機能を付加するための層（例えば
偽造防止層、ホログラム層等）が設けられてもよい。主
保護層とその他の層の順序は任意であるが、通常は、転
写後に主保護層が受像面の最表面となるように、接着層
と主保護層との間に他の層を配置する。

【００８９】熱転写性保護層の最表面には接着層が形成
されていても良い。接着層は、例えばアクリル樹脂、塩
化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル／酢酸
ビニル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系
樹脂のような加熱時接着性の良好な樹脂で形成すること
ができる。また、上記樹脂に加え、上述した電離放射線
硬化性樹脂、紫外線遮断性樹脂などを必要に応じて混合
してもよい。接着層の厚さは、通常０．１〜５μｍとす
る。

【００９０】非転写性離型層上あるいは支持体上に熱転
写性保護層を形成するには、例えば、保護層形成用樹脂
を含有する保護層用塗布液、熱接着性樹脂を含有する接
着層用塗布液、その他必要に応じて付加される層を形成
するための塗布液をあらかじめ調製し、それらを所定の
順序で非転写性離型層上あるいは支持体上に塗布し、乾
燥させる。各塗布液は従来公知の方法で塗布すればよ
い。また、各層の間には適切なプライマー層を設けても
良い。

【００９１】〈ＵＶ吸収剤〉熱転写性保護層の少なくと
も１層に、紫外線吸収剤が含有されていることが好まし
いが、透明樹脂層に含有させた場合、保護層転写後は透
明樹脂層が印画物の最表面に存在するため、長期間の間
に環境などの影響を受け経時的にその効果が低下するこ
とから、特に好ましくは、感熱接着剤層に含有させる。

【００９２】紫外線吸収剤としては、サリチル酸系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリ
レート系等の紫外線吸収剤があげられ、例えば具体的に
はＴｉｎｕｖｉｎＰ、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、Ｔｉ
ｎｕｖｉｎ３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、Ｔｉｎ
ｕｖｉｎ３２７、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８、Ｔｉｎｕ
ｖｉｎ３１２、Ｔｉｎｕｖｉｎ３１５（チバガイギ
ー社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１１０、Ｓｕｍｉｓｏｒ
ｂ−１３０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１４０、Ｓｕｍｉｓｏ
ｒｂ−２００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２５０、Ｓｕｍｉｓ
ｏｒｂ−３００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３２０、Ｓｕｍｉ
ｓｏｒｂ−３４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３５０、Ｓｕｍ
ｉｓｏｒｂ−４００（住友化学工業（株）製）、Ｍａｒ
ｋＬＡ−３２、ＭａｒｋＬＡ−３６、Ｍａｒｋ１
４１３（アデカアーガス化学（株）製）等の商品名で市
場から入手でき、いずれも本発明で使用することが出来
る。

【００９３】又、反応性紫外線吸収剤とアクリル系モノ
マーとがランダム共重合したＴｇ６０℃以上、好ましく
は８０℃以上のランダム共重合体を用いることも出来
る。

【００９４】上記の反応性紫外線吸収剤は、従来公知の
サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾー
ル系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、
ヒンダードアミン系等の非反応性紫外線吸収剤に、例え
ば、ビニル基やアクリロイル基、メタアクリロイル基等
の付加重合性二重結合、或いは、アルコール系水酸基、
アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネー
ト基等を導入したものを使用することができる。具体的
には、ＵＶＡ６３５Ｌ、ＵＶＡ６３３Ｌ（ＢＡＳＦジャ
パン（株）製）、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）
製）等の商品名で市場から入手でき、何れも本発明で使
用することが出来る。

【００９５】以上のような反応性紫外線吸収剤とアクリ
ル系モノマーとのランダム共重合体における反応性紫外
線吸収剤の量は１０〜９０質量％、好ましくは３０〜７
０質量％の範囲である。また、このようなランダム共重
合体の分子量は５０００〜２５００００程度、好ましく
は９０００〜３００００程度とすることが出来る。上述
した紫外線吸収剤、及び、反応性紫外線吸収剤とアクリ
ル系モノマーとのランダム共重合体は、各々単独で含有
させても良いし、両方を含有させても良い。反応性紫外
線吸収剤とアクリル系モノマーとのランダム共重合体の
添加量は、含有させる層に対し５〜５０質量％の範囲で
含有させることが好ましい。

【００９６】もちろん紫外線吸収剤以外にも他の耐光化
剤を含有させても良い。ここで耐光化剤とは、光エネル
ギー、熱エネルギー、酸化作用など、染料を変質あるい
は分解する作用を吸収又は遮断して染料の変質や分解を
防止する薬剤であり、具体的には上述した紫外線防止剤
の他、従来合成樹脂の添加剤などとして知られている酸
化防止剤、光安定剤があげられる。その場合も、熱転写
性保護層の少なくとも１層、即ち前記剥離層、透明樹脂
層、感熱接着層のうち少なくとも１層に含有させてよい
が、特に好ましくは、感熱接着剤層に含有させる。

【００９７】酸化防止剤としてはフェノール系、モノフ
ェノール系、ビスフェノール系、アミン系等の一次酸化
防止剤、或いは硫黄系、リン系等の二次酸化防止剤があ
げられる。又、光安定剤としてはヒンダードアミン系等
があげられる。

【００９８】上記の、紫外線吸収剤を含む、耐光化剤の
使用量は特に限定されないが、好ましくは含有させる層
を形成する樹脂１００質量部当たり０．０５〜１０質量
部、好ましくは３〜１０質量部の割合で使用する。使用
量が少なすぎると耐光化剤としての効果が得難く、一方
多すぎては不経済である。

【００９９】又、上記の耐光化剤の他にも、例えば、蛍
光増白剤、充填剤等の各種の添加剤も同時に接着剤層に
適当な量で添加することができる。

【０１００】保護層転写シートの透明樹脂層は、支持体
上に単独で設けても良いし、熱転写シートのインク層と
面順次に設けても良い。

【０１０１】（受像シート基材）受像シート基材は、受
像層を保持するという役割を有するとともに、熱転写時
には熱が加えられるため、過熱された状態でも取り扱い
上支障のない程度の機械的強度を有することが好まし
い。

【０１０２】このような基材の材料としては特に限定さ
れず、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫
酸紙、またはサイズ度の高い紙、合成紙（ポリオレフィ
ン系、ポリスチレン系）、上質紙、アート紙、コート
紙、キャストコート紙、壁紙、裏打用紙、合成樹脂又は
エマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成
樹脂内添紙、板紙等、セルロース繊維紙、あるいはポリ
エステル、ポリアクリレート、ポリカーボネイト、ポリ
ウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロー
ス誘導体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォ
ン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロアルキルビ
ニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオ
ロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキ
サフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、ポリビニリデンフルオライド等のフィルムが挙げら
れ、また、これらの合成樹脂に白色顔料や充填剤を加え
て成膜した白色不透明フィルムあるいは発泡させた発泡
シートも使用でき、特に限定されない。

【０１０３】また、上記基材の任意の組み合わせによる
積層体も使用できる。代表的な積層体の例として、セル
ロース繊維紙と合成紙或いはセルロース合成紙とプラス
チックフィルムとの合成紙が挙げられる。これらの支持
体の厚みは任意でよく、通常１０〜３００μｍ程度であ
る。

【０１０４】より高い印字感度を有すると共に、濃度ム
ラや白抜けのない高画質を得るためには、微細空隙を有
する層を存在させることが好ましい。微細空隙を有する
層としては、内部に微細空隙を有するプラスチックフィ
ルムや合成紙を用いることが出来る。また、各種支持体
の上に、各種の塗工方式で微細空隙を有する層を形成で
きる。微細空隙を有するプラスチックフィルム又は合成
紙としては、ポリオレフィン、特にポリプロピレンを主
体として、それに無機顔料及び／又はポリプロピレンと
非相溶なポリマーをブレンドし、これらをボイド（空
隙）形成開始剤として用い、これらの混合物を延伸、成
膜したプラスチックフィルム又は合成紙が好ましい。こ
れらがポリエステル等を主体としたものの場合には、そ
の粘弾性的あるいは熱的性質から、クッション性、及び
断熱性が、ポリプロピレンを主体としたものに比較して
劣るため、印字感度に劣り、濃度ムラなども生じやす
い。

【０１０５】これらの点を考慮すると、プラスチックフ
ィルム及び合成紙の２０℃における弾性率は５×１０⁸
Ｐａ〜１×１０¹⁰Ｐａが好ましい。、また、これらのプ
ラスチックフィルムや合成紙は、通常２軸延伸により成
膜されたものであるが故に、これらは加熱により収縮す
る。これらを１１０℃下で６０秒放置した場合の収縮率
は０．５〜２．５％である。上述のプラスチックフィル
ムや合成紙は、それ自体が、微細空隙を含む層の単層で
合っても良いし、複数の層構成であっても良い。複数の
層構成の場合には、その構成する全ての層に微細空隙を
含有しても良いし、微細空隙が存在しない層が含有して
も良い。このプラスチックフィルムや合成紙には、必要
に応じて隠蔽剤として、白色顔料を混入させてもよい。
又、白色性を増すために、蛍光増白剤等の添加剤を含有
させても良い。微細空隙を有する層は、３０〜８０μｍ
の厚みが好ましい。

【０１０６】微細空隙を有する層としては、基材の上に
コーティング法によって微細空隙を有する層を形成する
ことも可能である。使用するプラスチック樹脂として
は、ポリエステル、ウレタン樹脂、ポリカーボネイト、
アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等の公
知の樹脂を単独或いは複数をブレンドして使用すること
ができる。

【０１０７】又、必要に応じて、基材の受像層を設ける
側とは反対側の面に、カール防止の目的として、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、
ポリプロピレン、変性ポリオレフィン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネイト等の樹脂や合成紙の層
を設けることが出来る。貼り合わせ方法としては、例え
ば、ドライラミネーション、ノンソルベント（ホットメ
ルト）ラミネーション、ＥＣラミネーション法等の公知
の積層方法が使用できるが、好ましい方法はドライラミ
ネーション及びノンソルベントラミネーション法であ
る。ノンソルベントラミネーション法に好適な接着剤と
しては、例えば、武田薬品工業（株）製のタケネート７
２０Ｌ等が挙げられ、ドライラミネーションに好適な接
着剤としては、例えば、武田薬品工業（株）製のタケラ
ックＡ９６９／タケネートＡ−５（３／１）、昭和高分
子（株）製の、ポリゾールＰＳＡＳＥ−１４００、
ビニロールＰＳＡＡＶ−６２００シリーズ等が挙げ
られる。これらの接着剤の使用量としては、固形分で約
１〜８ｇ／ｍ²、好ましくは２〜６ｇ／ｍ²の範囲であ
る。

【０１０８】上述したような、プラスチックフィルムと
合成紙、或いはそれら同士、或いは各種紙とプラスチッ
クフィルムや合成紙、等を積層する場合、接着層により
貼り合わせることが出来る。

【０１０９】上記基材と熱転写受像層及びインクジェッ
ト受像層との接着強度を大きくする等の目的で、基材の
表面に各種プライマー処理やコロナ放電処理を施すのが
好ましい。

【０１１０】（受像シート中間層）受像層と受像シート
基材との間には、少なくとも１層以上の中間層を設けて
も良い。中間層は、接着層（プライマー層）、バリアー
層、紫外線吸収層、発泡層、帯電防止層等、受像層と基
材の間に設ける層すべてを意味し、公知のものは、必要
に応じていずれも使用できる。さらに、基材のギラツキ
感やムラを隠蔽するために、中間層に酸化チタン等の白
色顔料を添加すると、基材選択の自由度が広がるので好
ましい。中間層樹脂と白色顔料との含有量は、樹脂固形
分１００質量部に対し、白色顔料固形分３０〜３００質
量部が好ましいが、隠蔽性を高めるには１００〜３００
質量部の範囲で用いることがさらに好ましい。

【０１１１】中間層としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、或いは官能基を有する熱可塑性樹脂を、各種の添
加剤その他の手法を用いて硬化させた層を用いることが
できる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、ポリエステル、塩素化ポリプロピレン、
変性ポリオレフィン、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポ
リカーボネイト、アイオノマー、単官能及び／又は多官
能水酸基含有のプレポリマーをイソシアネート等で硬化
させた樹脂等を使用することが出来る。

【０１１２】（受像層）受像層は基材の一方の面に、メ
タルソースとバインダー樹脂と、必要に応じて離型剤等
の各種添加剤から構成されている。メタルソースとして
は、前述した後加熱領域の非転写性樹脂層で使用するこ
とができるものが同様に使用できる。好ましくは、前記
一般式（７）で示される化合物であり、特に好ましくは
一般式（４）で示される化合物である。メタルソースの
添加量は、通常、受像層固形分に対し１０〜６０質量％
が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。

【０１１３】バインダー樹脂は公知のものを用いること
ができ、染料が染着しやすいものを用いることが好まし
い。具体的にはポリプロピレン等のポリオレフィン樹
脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン
化樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステルなど
のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリス
チレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ樹脂、エ
チレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニル系モ
ノマーとの共重合体、ポリウレタン、ポリカーボネイ
ト、アクリル樹脂、アイオノマー、セルロース誘導体等
の単体、又は混合物を用いることができ、これらの中で
もポリエステル系樹脂、及びビニル系樹脂が好ましい。

【０１１４】受像層は、インク層との熱融着を防止する
ために、離型剤を添加することが好ましい。離型剤とし
ては、燐酸エステル系可塑剤、フッ素系化合物、シリコ
ーンオイル（反応硬化型シリコーンを含む）等を使用す
ることができるが、この中でもシリコーンオイルが好ま
しい。シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーン
を始め各種の変性シリコーンを用いることができる。具
体的には、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコ
ーン、アルコール変性シリコーン、ビニル変性シリコー
ン、ウレタン変性シリコーン等を用い、これらをブレン
ドしたり、各種の反応を用いて重合させて用いることも
できる。離型剤は１種もしくは２種以上のものが使用さ
れる。また、離型剤の添加量は、受像層形成用樹脂１０
０質量部に対し、０．５〜３０質量部が好ましい。この
添加量の範囲を満たさない場合は、熱転写シートと受像
シートの受像層との融着もしくは印画感度低下などの問
題が生じる場合がある。尚、これらの離型剤は受像層に
添加せず、受像層上に別途離型層として設けても良い。

【０１１５】（層構成、塗布方法等）以上の受像層は、
基材上に、水又は有機溶剤などの溶媒に溶解又は分散さ
せた塗布液を、バーコーター、グラビア印刷法、スクリ
ーン印刷法、ロールコーティング法、グラビア版を用い
たリバースロールコーティング法、エアナイフコーティ
ング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、
エクストルージョンコート法などの通常の方法で塗布
し、乾燥して形成することができる。バリアー層、中間
層、裏面層の形成手段も、上記の受像層の場合と同様の
方法で行われる。又、受像層は、上記のように基材上に
直接塗布液を塗布し、乾燥して形成するだけでなく、別
の支持体に受像層を予め形成してあるものから、基材上
に受像層を転写形成してもよい。また、各層を２層以上
を同時に塗布することもでき、特に全ての層を一回の塗
布で済ます同時塗布を行うこともできる。

【０１１６】受像層の厚さは、塗布乾燥後の膜厚で、
０．１〜１０μｍ程度が好ましい。（受像シート形状）本発明で用いられる受像シートは、
プリンターに枚葉で供給されてもロール形態で供給され
ても良い。枚葉供給とは、例えば、受像シートを一定サ
イズにカットし、５０枚程度を１セットとしてカセット
に入れ、プリンターに装着して使用される形態を指す。
又、ロール形態とは、その形でプリンタに受像シートを
供給し、印画後所望のサイズに切断して使用する形態の
ことである。特に後者は、２枚差し等の給紙不良や排出
不良等の搬送系のトラブルが解消される他、印画可能枚
数の大容量化にも対応することが出来るため好ましい。

【０１１７】ロール形態で受像シートを供給する場合、
特に、上述したようなハガキ仕様にした場合や、ラベル
やシールタイプの受像シートを用いる場合は、裏面側に
形成された郵便番号枠等のデザインマークや、シールの
ハーフカットの位置に対して切断位置を合わせるため
に、検知マークを裏面側に設けることが出来る。

【０１１８】（キレート記録方法）次に、本発明の熱転
写記録方法の一例を示す。

【０１１９】熱転写性の保護層、或いは後加熱処理領域
が熱転写シートのインク層と面順次に供給される場合の
実施の形態について、図面に基づいて説明する。図１は
本発明の熱転写シートの１実施例を示す図である。図１
の熱転写シート１には、支持体の同一平面上にイエロー
（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）各染料に対応し
たインク層１Ｙ、１Ｍ、１Ｃが形成されており、インク
層とは別の領域に、１ａの熱転写性の保護層、又は後加
熱処理領域が、面順次に設けられている。

【０１２０】尚、図１では、各々の層の間に僅かな隙間
を持っているが、熱転写記録装置の制御方法に併せて適
宜隙間を設けても良い。又、各インク層の頭出しを精度
良く行なうために、検知マークを熱転写シートに設ける
ことが好ましく、設け方については特に限定されること
はない。支持体の同一平面上にインク層と熱転写性の保
護層、或いは後加熱処理を行う領域を設けたものを示し
たが、もちろん、別個の支持体上にそれぞれの層を設け
ても良いことは言うまでもない。尚、各インク層に反応
型の染料を用いた場合、インク層に含有されている染料
自身は反応前の化合物であり厳密にいえばＹ、Ｍ、Ｃ染
料とは言えないが、Ｙ、Ｍ、Ｃ画像を最終的に形成する
為の層という意味で、便宜上同様に表現する。

【０１２１】（キレート記録装置）本発明に用いられる
熱転写記録装置として、例えば、図２に示すような装置
を用いることができる。図２において、１０は熱転写シ
ートの供給ロール、１５は熱転写シート、１１は使用さ
れた熱転写シート１５を巻き取る巻取ロール、１２はサ
ーマルヘッド、１３はプラテンローラ、１４はサーマル
ヘッド１２とプラテンローラ１３との間に挿入された受
像シートである。

【０１２２】本発明に用いられる熱転写記録装置におい
て、光沢調とマット調の制御を同一装置内で選択可能に
すると、１機種で所望の表面性の印画物が得られるため
好ましい。選択の方法は特に限定されない。例えば、熱
転写記録装置内に本発明の光沢調とマット調に対応する
制御データを保持しておき、オペレータの簡単な操作で
選択された制御データを読み出して、そのデータに従い
制御部をコントロールしてもよいし、記録装置にパソコ
ンが接続されている場合は、パソコン側に制御データを
保持しておき、オペレータの簡単な操作で選択された制
御データを記録装置に送りだしても良い。また、熱ロー
ラーにて加熱をする場合には、表面を変質させる材料、
たとえば光沢を出すような離型シート、マット調にする
ための凹凸のあるシートを画像記録後の受像層表面にあ
てがって、シート裏面より熱ローラーにて加熱を行うこ
とで、表面の異なった記録体を得ることができる。

【０１２３】（後加熱処理・保護層転写条件）１）後加熱処理におけるサーマルヘッドの抵抗体表面の
温度がピーク温度の１／３以下にならないように非通電
時間間隔を一定以下にすること即ちサーマルヘッド抵抗
体表面の温度がピーク温度と降下温度の差がなるべく少
なくなるように通電を行うことが好ましい。

【０１２４】印画の１ライン中にエネルギー印加パルス
を適度な時間間隔に配分することによりサーマルヘッド
の抵抗体表面の温度が上昇し続けることもなく、かつあ
るレベル以下の温度に降温することもないようする。こ
れにより受像層表面が受ける後加熱処理温度の分布の高
低差を少なくすることができるため、受像層表面の凹凸
が均一に修正され画像表面の光沢度は向上する。この方
法では非通電時間間隔を、抵抗体表面の温度がピーク温
度の１／３以下となる前に通電すればよく、その間隔は
適宜設定されればよい。本発明においては、サーマルヘ
ッドの抵抗体表面の温度がピーク時の１／２以下になら
ないように非通電時間間隔を一定以下にすることがより
好ましい。

【０１２５】２）後加熱処理の際、サーマルヘッドと受
像シートの１ラインごとの相対的移動距離を、サーマル
ヘッド抵抗体の副走査方向の長さの１／２以下にするこ
と、これは即ち副走査方向の１ラインの移動距離を短く
して画像ドット間が密になるよう図り、受像層表面の凹
凸を均一な平面に仕上げることを狙ったものであり、そ
の結果画像表面は光沢度を増すことになる。

【０１２６】本発明において、ラインタイプのサーマル
ヘッドの場合、抵抗体が並んでいる方向を主走査方向と
呼び、その直角の方向を副走査方向と呼ぶ。一般にサー
マルヘッドと受像シートは副走査方向に相対的に移動さ
せて印画が行われる。

【０１２７】本発明においては、サーマルヘッドと受像
シートの１ラインごとの相対的移動距離を、サーマルヘ
ッド抵抗体の副走査方向の長さの１／３以下にすること
がより好ましい。

【０１２８】本発明において、特にキレート型の昇華熱
転写では染料転写の後にキレート化を終了させるため、
染料転写後の後加熱処理が必要である。この後加熱処理
工程において、上記に記載したような均一な熱分布にな
るように、サーマルヘッドで加熱することにより反応終
了とともに、光沢のある画像を形成することができるた
め、好適である。又後加熱処理と熱転写性の保護層の転
写を同時に行ってもよく、その工程で均一な熱分布にな
るように、サーマルヘッドで加熱することにより、光沢
のある画像を形成することができる。

【０１２９】又後加熱処理する際、又は熱転写性の保護
層を転写しながら後加熱処理する際のキレート反応率が
７０％以上であり、かつ光沢度が７０以上であるように
印加パルス条件を設定することが好ましい。

【０１３０】本発明においてキレート反応率について以
下の通り定義する。先ず、染料転写後、受像シートを高
温長時間（例えば１２０℃、１０分）で処理したものを
１００％キレート反応の終了した試料とする。又受像層
側に金属イオン含有化合物を添加せずに染料のみ転写し
たものを０％キレート反応の試料とする。上記１００％
と０％の試料の分光吸収スペクトルを測定し、０％の試
料における極大吸収波長における吸光度と、その波長に
おけるキレート反応率１００％の試料の吸光度を求め、
両者の比例配分から得られた結果をキレート反応率とす
る。

【０１３１】又光沢度については、光沢度計にて入射
角、反射角６０°で測定した値を表し、本発明において
はその値が７０以上、好ましくは８０以上となるように
印加パルス条件を設定することが、高画質、高画像保存
性と高光沢度の両立の面で好ましい。

【０１３２】（保護層転写条件）サーマルヘッドの制御
は通常１駆動周期の間に、パルス状のエネルギーをＯＮ
／ＯＦＦさせる。ＯＮの間ヘッド表面温度は上昇し、Ｏ
ＦＦの間にＯＮする前の温度に降温される。また蓄熱に
よって温度が上昇するのを防止するために、ヘッドに印
加する電圧を１つの大きなパルスでなく、細かな複数の
パルス（以下基準パルスと呼ぶ）に分けて行われること
が通常多い。さらに電源容量の関係から、ヘッド１ライ
ン全体（例えば２０００個以上の発熱体）を同時に駆動
することは実用上行われず、通常は１ラインのヘッドを
２〜８分割してそのブロック毎に複数の画像データを同
時処理して記録していく。ここでは、説明を簡単にする
ために同時駆動を基本に説明しているが、上述の如く分
割して同時処理しても良いのは当然である。

【０１３３】保護層を転写する際も、通常上記の如きプ
ロセスを用いる。本発明では、保護層を転写する際に、
基準パルスを制御することが好ましい。例えば、５μｓ
の基準パルスに１００回電圧の印加を繰り返すことで、
トータル０．５ｍｓのパルスを与えるところを、１回毎
にパルスをＯＦＦにする（即ちＯＮ時間のトータルとし
ては０．２５ｍｓ）、５１回目以降は５μｓＯＮではな
く３μｓＯＮ／２μｓＯＦＦにする（即ちＯＮ時間のト
ータルとしては０．４ｍｓ）等のように制御することで
変色を抑えることができる。

【０１３４】

【実施例】次に、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、以下の実施例において、「部」は「質量
部」を意味する。

【０１３５】実施例１〈熱転写シートの作製〉厚さ６μｍの片面に易接着処理
が施されたＰＥＴフィルム（ダイアホイルヘキスト
（株）製、Ｋ−２０３Ｅ−６Ｆ）の易接着処理面とは反
対側の面に、下記組成のＢＣ層塗布用組成物をグラビア
塗布方式で塗布、乾燥した後、加熱硬化処理を行い乾燥
膜厚１μｍのＢＣ層を有する熱転写シート用支持体Ａを
作製した。

【０１３６】（ＢＣ層塗布用組成物）ポリビニルブチラール樹脂（積水化学工業社製エスレックＢＸ−１）３．５質量部リン酸エステル系界面活性剤（第一工業製薬社製プライサーフＡ２０８Ｓ）３．０質量部リン酸エステル系界面活性剤（東邦化学社製フォスファノールＲＤ７２０）０．３質量部ポリイソシアネート（大日本インキ化学工業社製バーノックＤ７５０−４５）１９．０質量部タルク（日本タルク社製Ｙ／Ｘ＝０．０３）０．２質量部メチルエチルケトン３５質量部トルエン３５質量部熱転写シート用支持体Ａ上に、表１、２記載の組成のイ
エロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）各インク
層、および表３記載の組成の後加熱処理層を、表４の組
み合わせでグラビア塗布方式で面順次に塗布し、乾燥さ
せて、図１に示すような熱転写シート１〜３２を作製し
た。なお、乾燥後の塗布量はインク層は０．７ｇ／
ｍ²、後加熱処理層は０．５ｇ／ｍ²とした。

【０１３７】

【表１】

【０１３８】

【表２】

【０１３９】

【化６】

【０１４０】

【表３】

【０１４１】

【表４】

【０１４２】〈受像シートの作製〉基材として厚み１５
０μｍの合成紙（王子油化合成紙（株）製ユポＦＰＧ−
１５０）の一方の面に、下記の下引形成用塗布組成物を
ワイヤーバーコーティング方式にて塗布し、１２０℃で
１分間乾燥させ乾燥時の塗布量２．０ｇ／ｍ²の下引層
を形成した。次に、前記下引層の上に、表５の組成の受
像層塗布組成物をワイヤーバーコーティング方式にて乾
燥時塗布量が４ｇ／ｍ²になるように塗布後、１１０℃
にて３０秒間乾燥して受像シートＲ１〜Ｒ３を得た。（下引形成用塗工液）アクリル系エマルジョン（日本カーバイド（株）製、ニカゾールＡ−０８）３５％水溶液５．７部純水９４．０部

【０１４３】

【表５】

【０１４４】〈画像形成〉抵抗体形状がスクエア（主走
査方向長８０μｍ×副走査方向長１２０μｍ）、３００
ｄｐｉ（以下、ｄｐｉは２．５４ｃｍ当りのドット数を
表す）ラインヘッドのサーマルヘッドを搭載した熱転写
装置に受像シートの受像層部と熱転写シートのインク層
を重ね合わせてセットし、サーマルヘッドとプラテンロ
ールで圧接しながら、５〜８０ｍＪ／ｍｍ²の印加エネ
ルギー範囲で順次増加させるイエロー、マゼンタ、シア
ン、ニュートラル（前記３色重ね）ステップパターン
を、送り速度１０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ、１ライン当たり
の送り長さを８５μｍで、インク層の背面側から加熱し
て受像層上に染料を転写させた後、次いで後加熱処理層
を受像層部に重ねてサーマルヘッドとプラテンロールで
圧接しながら７０ｍＪ／ｍｍ²の印加エネルギーで、送
り速度１０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ、１ライン当たりの送り
長さを８５μｍで、インク層の背面側から加熱して後加
熱処理を行った。熱転写シートと受像シートとを組み合
わせた結果を表９〜１１に示す。

【０１４５】実施例２実施例１の後加熱処理層を、表６、７記載の熱転写性保
護層に変えた他は実施例１と同様にして、表８の組み合
わせでグラビア塗布方式で面順次に塗布し、熱転写シー
ト３３〜６４を作製した。

【０１４６】

【表６】

【０１４７】

【表７】

【０１４８】

【表８】

【０１４９】表７中、化合物−９は下記（式ｂ）で表さ
れる構成単位を２０ｍｏｌ％、下記（式ａ）で表される
構成単位を８０ｍｏｌ％含むランダム共重合体であるポ
リカーボネート樹脂である。

【０１５０】

【化７】

【０１５１】又、化合物−１０は下記のモノマー成分か
ら重合されたＴｇ９２℃、粘度平均分子量５，０００の
脂環族ポリエステル樹脂である。

【０１５２】ジエチレングリコール１０モル％トリシクロデカンジメタノール（ＴＣＤ−Ｍ）９０モル％テレフタル酸５０モル％イソフタル酸５０モル％〈画像形成〉抵抗体形状がスクエア（主走査方向長８０
μｍ×副走査方向長１２０μｍ）、３００ｄｐｉライン
ヘッドのサーマルヘッドを搭載した熱転写装置に、受像
シートの受像層部と熱転写熱転写シートのインク層部を
重ね合わせてセットし、サーマルヘッドとプラテンロー
ルで圧接しながら、５〜８０ｍＪ／ｍｍ²の印加エネル
ギー範囲で順次増加させるイエロー、マゼンタ、シア
ン、ニュートラル（前記３色重ね）ステップパターンを
送り速度１０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ、１ライン当たりの送
り長さを８５μｍで、インク層の背面側から加熱して受
像層上に染料を転写させた後、次いで熱転写性保護層を
受像層部に重ねてサーマルヘッドとプラテンロールで圧
接しながら８０ｍＪ／ｍｍ²の印加エネルギーで、送り
速度１０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ、１ライン当たりの送り長
さを８５μｍで、保護層の背面側から加熱した後支持体
を剥離して熱転写性保護層を画像上に転写した。熱転写
シートと受像シートとを組み合わせた結果を表１２〜１
４に示す。

【０１５３】実施例３実施例１と同じ熱転写シートと受像シートを用いて下記
の条件で画像を形成した。

【０１５４】〈画像形成〉抵抗体形状：スクエア（８０
μｍ（主走査方向長）×１２０μｍ（副走査方向
長））、３００ｄｐｉラインヘッドのサーマルヘッドを
担持したサーマルプリンタ装置（１ヘッド面順次Ａ４
サイズ）内に受像シートの受像層部と感熱転写シートの
インク層部を重ね合わせてセットし、サーマルヘッドと
プラテンロールで圧接しながら、イエロー、マゼンタ、
シアンを１ライン当たりの送り長さを８５μｍの条件で
インク層の背面側から加熱して受像層上に染料を転写さ
せた。次いで、同じサーマルヘッドとプラテンロール
で、同じ１ライン当たりの送り長さの条件で後加熱処理
領域を介して染料転写した受像シートを圧接し、印加エ
ネルギー３０ｍＪ／ｍｍ²、パルス条件を再加熱中の抵
抗体表面の温度が±５０％の範囲、かつキレート反応率
が９０％以上となるように設定して後加熱処理を行っ
た。熱転写シートと受像シートとを組み合わせた結果を
表１５〜１７に示す。

【０１５５】尚、パルス形状は以下の図３の通りであ
る。図３は実施例３の後加熱処理におけるサーマルヘッ
ドのパルス形状を示す図である。縦軸は印加電圧
（Ｖ）、横軸は時間である。１周期を幅Ａ、幅Ａ／２、
幅Ａ／３の順にパルス形状を設定し、サーマルヘッドの
抵抗体表面の温度がピーク温度の±５０％の範囲となる
よう非通電時間間隔Ｂを設定した。各パルスは更に短時
間のパルスを組み合わせて構成しても良い。

【０１５６】実施例４実施例２と同じ熱転写シートと受像シートを用いて下記
の条件で画像を形成した。〈画像形成〉抵抗体形状：スクエア（８０μｍ（主走査
方向長）×１２０μｍ（副走査方向長））、３００ｄｐ
ｉラインヘッドのサーマルヘッドを担持したサーマルプ
リンタ装置（１ヘッド面順次Ａ４サイズ）内に受像シ
ートの受像層部と熱転写シートのインク層部を重ね合わ
せてセットし、サーマルヘッドとプラテンロールで圧接
しながら、イエロー、マゼンタ、シアンを１ライン当た
りの送り長さを８５μｍの条件でインク層の背面側から
加熱して受像層上に染料を転写させた。次いで、同じサ
ーマルヘッドとプラテンロールで、同じ１ライン当たり
の送り長さの条件で再加熱領域を介して染料転写した受
像シートを圧接し、印加エネルギー３５ｍＪ／ｍｍ²、
図３に示すパルス条件を後加熱処理中の抵抗体表面の温
度が±５０％の範囲、かつキレート反応率が９０％以上
となるように設定して後加熱処理を行った。熱転写シー
トと受像シートとを組み合わせた結果を表１８〜２０に
示す。

【０１５７】実施例５実施例２及び実施例３と同じ熱転写シートと受像シート
を用いて下記の条件で画像を形成した。〈画像形成〉作製した受像シートの受像層部と熱転写シ
ートのインク層部を重ね合わせ、解像度１２ｄｏｔ／ｍ
ｍ、平均抵抗値３２００Ωのサーマルヘッドとプラテン
ロールで圧接し、５〜８０ｍＪ／ｍｍ²（約０．０３５
〜０．５５６ｍＪ／ドット）の印加エネルギー範囲で順
次増加させるイエロー、マゼンタ、シアン、ニュートラ
ル（前記３色重ね）ステップパターンを、ヘッド駆動周
期５ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅの条件でインク層の背面側から
加熱して受像層上に染料を転写させた。次いで、同じサ
ーマルヘッドとプラテンロールで、保護層と染料転写し
た受像シートを圧接し、下記６種類の保護層転写条件を
適宜選択し、保護層の背面側から加熱して保護層転写を
行った。作製した印画物は、滲み、印字抜け等の発生は
認められなかった。

【０１５８】又、印画前の受像シートと印画後の受像シ
ートの差を目視観察及び色度測定するため、上記ステッ
プパターン印画物作製と同時に、染料は転写せず保護層
のみを下記６条件で転写させた印画物も作製した。保護
層転写領域は受像シートの幅より狭くした。〈転写条件〉解像度１２ｄｏｔ／ｍｍ、平均抵抗値３２
００Ωのサーマルヘッドを用いて、ヘッド駆動周期５ｍ
ｓにて下記６種類の保護層転写条件を設定した。転写条件１：５μｓＯＮの基準パルス×７００回転写条件２：４μｓＯＮの基準パルス×９００回転写条件３：５μｓＯＮの基準パルスを５２回＋３μｓ
ＯＮ／２μｓＯＦＦの基準パルスを１８回、の組み合わ
せを１０回繰り返し転写条件４：５μｓＯＮの基準パルスを３５回＋３μｓ
ＯＮ／２μｓＯＦＦの基準パルスを３５回、の組み合わ
せを１０回繰り返し転写条件５：５μｓＯＮの基準パルスを１８回＋３μｓ
ｅｃＯＮ／２μｓＯＦＦの基準パルスを５２回、の組み
合わせを１０回繰り返し転写条件６：５μｓＯＮの基準パルス＋５μｓＯＦＦの
基準パルス、の組み合わせを３５０回繰り返し作製した画像について、下記の項目について評価を行っ
た。（印画濃度）作製した画像のイエロー（Ｙ）、マゼンタ
（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ニュートラル（Ｎｔ）の画像パ
ターンの最大濃度部の反射光学濃度を濃度計（Ｘ−ｒｉ
ｔｅ３１０）を用いて測定した。（耐光性）作製した画像をキセノンフェードメーター
（７万ルックス）に１ヶ月間光照射した後のシアン、ニ
ュートラルの画像パターンの反射濃度Ｄ＝１．０部の反
射光学濃度を濃度計（Ｘ−ｒｉｔｅ３１０）を用いて測
定し、光照射後の画像濃度残存率を算定した。（暗退色）作製した画像を６０℃／８０％の恒温恒湿槽
に３ヶ月間保存した後のシアン、ニュートラルの画像パ
ターンの反射濃度Ｄ＝１．０部の反射光学濃度を濃度計
（Ｘ−ｒｉｔｅ３１０）を用いて測定し、保存後の画像
濃度残存率を算定した。（画像にじみ）作製した画像を６０℃／８０％の恒温恒
湿槽に３ヶ月間保存した後のニュートラルの最大濃度の
画像パターンの画像端部を目視観察した。評価基準は以
下の通りである。

【０１５９】 ○：にじみが認められない △：よく見ればにじみがわずかに認められる ×：にじみがはっきりと認められる（光沢度）光沢度計（日本電色工業、型式ＶＧＳ−１
Ｄ）を用いて、作製した画像のニュートラルの画像パタ
ーンの反射光学濃度Ｄ＝２．０の部分の光沢度を測定し
た。（色付）白地作製した画像の保護層が転写された白地部分と、保護層
が転写されていない白地部分の色の差を目視にて評価し
た。評価基準は以下の通りである。

【０１６０】 ○：色の差はわからない △：よく見れば色の差が認識できるが実用上問題ない ×：色の差がはっきりと現れ見苦しい同時に、保護層が転写されていない白地部分と保護層が
転写された白地部分のＬ^*ａ^*ｂ^*を測定し、保護層が転
写されていない白地部分のｂ^*と保護層が転写された白
地部分のｂ^*の差を求めΔｂ^*とした。測定はＣＲ−２２
１（ミノルタ（株）製）を用い、Ｄ₆₅光源、２度視野の
条件で行った。

【０１６１】実施例１〜５の評価結果を表９〜３２に記
す。

【０１６２】

【表９】

【０１６３】

【表１０】

【０１６４】

【表１１】

【０１６５】

【表１２】

【０１６６】

【表１３】

【０１６７】

【表１４】

【０１６８】

【表１５】

【０１６９】

【表１６】

【０１７０】

【表１７】

【０１７１】

【表１８】

【０１７２】

【表１９】

【０１７３】

【表２０】

【０１７４】

【表２１】

【０１７５】

【表２２】

【０１７６】

【表２３】

【０１７７】

【表２４】

【０１７８】

【表２５】

【０１７９】

【表２６】

【０１８０】

【表２７】

【０１８１】

【表２８】

【０１８２】

【表２９】

【０１８３】

【表３０】

【０１８４】

【表３１】

【０１８５】

【表３２】

【０１８６】

【発明の効果】支持体上のインク層にポストキレート染
料を含有し、インク層とは別の領域に後加熱処理のため
の領域又は熱転写性の保護層を有する熱転写シートを用
い、受像シートにはキレート形成可能な金属を含有する
化合物を含有させた感熱転写記録材料を用いることによ
り、光沢性や感度、色再現性、保存性、耐久性に優れた
画像形成方法を提供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の熱転写シートの１実施例を示す図であ
る。

【図２】本発明に用いられる熱転写記録装置の模式図で
ある。

【図３】後加熱処理におけるサーマルヘッドのパルス形
状を示す図である。

【符号の説明】

１、１５熱転写シート１ａ熱転写性の保護層、又は後加熱処理領域１Ｙ、１Ｍ、１Ｃインク層１０供給ロール１１巻取ロール１２サーマルヘッド１３プラテンローラ１４受像シート

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ４１Ｍ 5/26 １０１Ｈ１０１ＫＢ４１Ｊ 3/20 １０９Ｊ (72)発明者間野茂東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会社内Ｆターム(参考） 2C065 AB03 CJ02 CJ03 CJ08 2C068 AA06 AA22 BB33 BD15 BD17 2H111 AA08 AA27 AA33 AA51 AA52 BA11 BA14 BA39 BA55 CA03 CA33 CA41 4C050 AA01 BB05 CC08 EE03 FF02 GG01 GG04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上の少なくとも一部にキレート形
成可能な熱拡散性色素を含有するインク層を有し、基材
上に前記キレート形成可能な熱拡散性色素と反応してキ
レート化合物を形成し得る金属イオン含有化合物を含有
する受像層を有する感熱転写記録用受像シートと合わせ
て使用される、感熱転写記録材料において、キレート形
成可能な熱拡散性色素として下記一般式（１）で表され
る色素を含有するインク層を有するとともに、支持体上
のインク層とは別の領域に後加熱処理のための領域を有
することを特徴とする感熱転写記録材料。【化１】〔式中、Ｒ₁₁及びＲ₁₂はそれぞれ、置換又は無置換の脂
肪族基を表し、Ｒ₁₃は置換基を表す。ｎは０又は１〜４
の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ₁₃は同じでも
異なってもよい。Ｒ₁₄、Ｒ₁₅およびＲ₁₆はいずれもアル
キル基を表す。この時、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅およびＲ₁₆は同一で
も異なっていてもよい。但し、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は炭素数３か
ら８のアルキル基である。〕
【請求項２】支持体上の少なくとも一部にキレート形
成可能な熱拡散性色素を含有するインク層を有し、基材
上に前記キレート形成可能な熱拡散性色素と反応してキ
レート化合物を形成し得る金属イオン含有化合物を含有
する受像層を有する感熱転写記録用受像シートと合わせ
て使用される、感熱転写記録材料において、キレート形
成可能な熱拡散性色素として前記一般式（１）で表され
る色素を含有するインク層を有するとともに、支持体上
のインク層とは別の領域に熱転写性の保護層を有するこ
とを特徴とする感熱転写記録材料。
【請求項３】後加熱処理のための領域に、キレート形
成可能な熱拡散性色素と反応してキレート化合物を形成
し得る金属イオン含有化合物を含有することを特徴とす
る請求項１記載の感熱転写記録材料。
【請求項４】熱転写性の保護層にＵＶ吸収剤を含有す
ることを特徴とする請求項２記載の感熱転写記録材料。
【請求項５】熱転写性の保護層が、支持体上に少なく
とも樹脂層と感熱接着層をこの順序で積層した構造であ
ることを特徴とする請求項２又は４記載の感熱転写記録
材料。
【請求項６】インク層に含まれるキレート形成可能な
熱拡散性色素として、下記一般式（２）で表される色素
及び下記一般式（３）で表される色素を含有することを
特徴とする請求項１又は３記載の感熱転写記録材料。【化２】〔式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々、水素原子又は置換基を表
し、Ｒ₃は置換基を有してもよいアルキル基又はアリー
ル基を表し、Ｚ₁は２個の炭素原子と共に５〜６員の芳
香族環を形成するに必要な原子群を表す。〕【化３】〔式中、Ｘは少なくとも２座のキレート形成可能な基又
は原子の集まりを表し、Ｙは５員もしくは６員の芳香族
炭化水素環又は複素環を形成するに必要な原子群を表
し、Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子又は１価の置換
基を表す。ｎは０、１、２を表す。〕
【請求項７】インク層に含まれるキレート形成可能な
熱拡散性色素として、前記一般式（２）で表される色素
及び前記一般式（３）で表される色素を含有することを
特徴とする請求項２、４又は５記載の感熱転写記録材
料。
【請求項８】受像層中に含有される金属イオン含有化
合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする請
求項１、３又は６記載の感熱転写記録材料。一般式（４）Ｍ₂ ⁺（Ｘ₁ ^-）₂ 〔式中、Ｍ₂ ⁺は２価の遷移金属イオンを表す。Ｘ₁ ^-は２
価の金属イオンと錯体を形成することができる下記一般
式（５）で表される配位化合物を表す。【化４】式中、Ｚはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、カルバモイル基、ハロゲン原子または水素原
子を表す。ＲおよびＲ′はアルキル基またはアリール基
を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよく、ＲとＺ
またはＲ′とＺが結合して環を形成してもよいが、Ｚが
水素原子のとき、ＲおよびＲ′が共にメチル基であるこ
とはない。〕
【請求項９】受像層中に含有される金属イオン含有化
合物が前記一般式（４）で表されることを特徴とする請
求項２、４、５又は７記載の感熱転写記録材料。
【請求項１０】後加熱処理のための領域に含有される
金属イオン含有化合物が前記一般式（４）で表されるこ
とを特徴とする請求項３、６又は８記載の感熱転写記録
材料。
【請求項１１】前記一般式（１）で表される色素を含
有するインク層を有するとともに、前記一般式（１）で
表される色素を含有するインク層以外のインク層に、キ
レート形成可能な熱拡散性色素以外の熱拡散性色素を含
有するインク層を有し、支持体上の全てのインク層とは
別の領域に熱転写性の保護層を有することを特徴とする
請求項２、４、５、７又は９記載の感熱転写記録材料。
【請求項１２】請求項１、３、６、８又は１０記載の
感熱転写記録材料のインク層と、感熱転写記録用受像シ
ートの受像層とを対向するように重ね、前記感熱転写記
録材料の裏面よりサーマルヘッドで像様に加熱すること
によりキレート形成可能な熱拡散性色素を受像層に転写
した後、前記感熱転写記録材料の後加熱処理のための領
域を前記色素が転写された受像層面に対向するように重
ね、前記感熱転写記録材料の裏面よりサーマルヘッドで
加熱することを特徴とする感熱転写記録方法。
【請求項１３】請求項２、４、５、７、９又は１１記
載の感熱転写記録材料のインク層と、感熱転写記録用受
像シートの受像層とを対向するように重ね、前記感熱転
写記録材料の裏面よりサーマルヘッドで像様に加熱する
ことによりキレート形成可能な熱拡散性色素を受像層に
転写した後、前記色素が転写された受像層面に対向する
ように重ね、前記感熱転写記録材料の裏面よりサーマル
ヘッドで加熱処理することにより前記熱転写性の保護層
を受像層上に転写させることを特徴とする感熱転写記録
方法。
【請求項１４】後加熱処理時のサーマルヘッドの抵抗
体表面の温度が、ピーク温度の１／３以下にならないよ
うに通電時間間隔を一定以下にすることを特徴とする請
求項１２記載の熱転写記録方法。
【請求項１５】保護層熱転写時のサーマルヘッドの抵
抗体表面の温度が、ピーク温度の１／３以下にならない
ように通電時間間隔を一定以下にすることを特徴とする
請求項１３記載の熱転写記録方法。
【請求項１６】保護層転写後の、染料が転写されてい
ない領域のｂ^*値（ｂ２）と、印画前の同領域のｂ^*値
（ｂ１）の関係が、ｂ２−ｂ１≦２であることを特徴とする請求項１３又は１５記載の熱転
写記録方法。