JP2003078102A - Flip-chip amplifier - Google Patents

Flip-chip amplifier

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JP2003078102A
JP2003078102A JP2001269869A JP2001269869A JP2003078102A JP 2003078102 A JP2003078102 A JP 2003078102A JP 2001269869 A JP2001269869 A JP 2001269869A JP 2001269869 A JP2001269869 A JP 2001269869A JP 2003078102 A JP2003078102 A JP 2003078102A
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JP
Japan
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field effect
effect transistor
dielectric substrate
chip amplifier
flip
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Application number
JP2001269869A
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Japanese (ja)
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Shinichi Eguchi
慎一 江口
Yukinori Tarui
幸宣 垂井
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multi-stage flip-chip amplifier which is small in size and inexpensive. SOLUTION: A DC cut capacitor is provided so as to stop a DC power applied to a field effect transistor forming an amplifier from flowing outside, an interdigital capacitor formed on a dielectric board mounted with an electric field effect transistor by the use of bumps is used as the above DC cut capacitor, and a bias circuit is formed by mounting a low-frequency bias laminated ceramic capacitor and an interdigital capacitor on the same dielectric board mounted with the above field effect transistor, by which a small, inexpensive, and multi- stage flip-chip amplifier can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、マイクロ波通信
等に用いる広帯域増幅器、発振器、送受信機等で使用さ
れる増幅器に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wide band amplifier used for microwave communication and the like, an amplifier used in an oscillator, a transceiver and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、従来の実施例によるフリップチ
ップ増幅器の形態を示す。図において、1はRF入力パ
ターン、2はRF出力パターン、3は誘電体基板、4は
誘電体基板3をハンダ付けもしくは接着剤により実装す
る金属製のキャリア、5は誘電体基板3にバンプ実装さ
れる電界効果トランジスタ、6及び7は電界効果トラン
ジスタ5のソース電極を接地するための誘電体基板3に
形成されたバイアホール、8は電界効果トランジスタ5
にバイアスを供給するためのゲートバイアス回路、9は
安定化抵抗、10はゲート側ショートスタブを構成する
パターン、77及び80は平行平板コンデンサ、76及
び79はワイヤ、78及び81はラジアルオープンスタ
ブである。
2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a form of a flip chip amplifier according to a conventional embodiment. In the figure, 1 is an RF input pattern, 2 is an RF output pattern, 3 is a dielectric substrate, 4 is a metal carrier on which the dielectric substrate 3 is mounted by soldering or adhesive, and 5 is bump-mounted on the dielectric substrate 3. Field effect transistors, 6 and 7 are via holes formed in the dielectric substrate 3 for grounding the source electrode of the field effect transistor 5, and 8 is the field effect transistor 5.
A gate bias circuit for supplying a bias to the device, 9 is a stabilizing resistor, 10 is a pattern forming a gate side short stub, 77 and 80 are parallel plate capacitors, 76 and 79 are wires, and 78 and 81 are radial open stubs. is there.

【0003】また、19は電界効果トランジスタ5にバ
イアスを供給するためのドレインバイアス回路、20は
ドレイン側ショートスタブを構成するパターン、82及
び83は電界効果トランジスタ5に供給される直流電力
とデバイス外部とを遮断するためのDCカット用の結合
線路、84及び85は整合回路である。
Further, 19 is a drain bias circuit for supplying a bias to the field effect transistor 5, 20 is a pattern forming a drain side short stub, and 82 and 83 are DC power supplied to the field effect transistor 5 and the outside of the device. Coupling lines for cutting DC for cutting off and, 84 and 85 are matching circuits.

【0004】また、図6及び図7は、電界効果トランジ
スタ5における詳細図及び誘電体基板3と電界効果トラ
ンジスタ5における実装図を示す。図において、86は
電界効果トランジスタ5におけるドレイン電極バンプ実
装用パッド、87は電界効果トランジスタ5におけるゲ
ート電極バンプ実装用パッド、88は電界効果トランジ
スタ5における一方のソース電極バンプ実装用パッド、
89は電界効果トランジスタ5におけるもう一方のソー
ス電極バンプ実装用パッド、90は誘電体基板3とドレ
イン電極バンプ実装用パッド86を熱圧着して接続する
ためのバンプ、91は誘電体基板3とゲート電極バンプ
実装用パッド87を熱圧着して接続するためのバンプ、
92は誘電体基板3とソース電極バンプ実装用パッド8
9を熱圧着して接続するための複数個のバンプ、93は
誘電体基板3とソース電極バンプ実装用パッド88を熱
圧着して接続するための複数個のバンプである。
6 and 7 show a detailed view of the field effect transistor 5 and a mounting view of the dielectric substrate 3 and the field effect transistor 5. In the figure, 86 is a drain electrode bump mounting pad in the field effect transistor 5, 87 is a gate electrode bump mounting pad in the field effect transistor 5, 88 is one source electrode bump mounting pad in the field effect transistor 5,
89 is another source electrode bump mounting pad in the field effect transistor 5, 90 is a bump for connecting the dielectric substrate 3 and the drain electrode bump mounting pad 86 by thermocompression bonding, and 91 is the dielectric substrate 3 and gate. Bumps for connecting the electrode bump mounting pads 87 by thermocompression bonding,
Reference numeral 92 denotes the dielectric substrate 3 and the source electrode bump mounting pad 8
A plurality of bumps for connecting 9 by thermocompression bonding, and 93 for a plurality of bumps for connecting the dielectric substrate 3 and the source electrode bump mounting pad 88 by thermocompression bonding.

【0005】次に、動作について説明する。図5,6,
7に示す従来のフリップチップ増幅器において、RF信
号はRF入力パターン1から入力され、DCカット用の
RF信号に対して1/4波長の長さを有する結合線路8
2を通過し、入力側整合回路84にてインピーダンス変
換され、バンプ91を介して電界効果トランジスタ5に
入力する。この時、電界効果トランジスタ5はゲートバ
イアス回路8とドレインバイアス回路19より供給され
る直流電力にてバイアス設定され、かつドレインバイア
ス回路19より供給される直流電力によりRF信号は増
幅される。
Next, the operation will be described. 5, 6,
In the conventional flip-chip amplifier shown in FIG. 7, the RF signal is input from the RF input pattern 1, and the coupling line 8 having a length of ¼ wavelength with respect to the DC signal for DC cutting is used.
After passing through 2, the impedance is converted by the input side matching circuit 84 and input to the field effect transistor 5 via the bump 91. At this time, the field effect transistor 5 is biased by the DC power supplied from the gate bias circuit 8 and the drain bias circuit 19, and the RF signal is amplified by the DC power supplied from the drain bias circuit 19.

【0006】その後、RF信号はバンプ90を介し、出
力側整合回路85にてインピーダンス変換され、DCカ
ット用のRF信号に対して1/4波長の長さを有する結
合線路83を通過し、出力パターン2から出力される。
また、電界効果トランジスタ5に供給される電源につい
て、ゲートバイアスは外部より平行平板コンデンサ77
を介し、ワイヤ76、ショートスタブ10、安定化抵抗
9を通過して供給され、ドレインバイアスは外部より平
行平板コンデンサ80を介し、ワイヤ79、ショートス
タブ20を通過して供給される。
After that, the RF signal is impedance-converted by the output side matching circuit 85 via the bump 90, passes through the coupling line 83 having a length of ¼ wavelength with respect to the DC signal for the DC cut, and outputs. Output from pattern 2.
Regarding the power supplied to the field effect transistor 5, the gate bias is parallel plate capacitor 77 from the outside.
Is supplied through the wire 76, the short stub 10, and the stabilizing resistor 9, and the drain bias is externally supplied through the parallel plate capacitor 80, the wire 79, and the short stub 20.

【0007】ここで、安定化抵抗9はその抵抗値により
RF信号に対して不要な信号を除去し、ショートスタブ
10はラジアルオープンスタブ78によってRF信号に
対して短絡され、その線路長は所望のRF信号周波数に
対しては1/4波長を有する。さらに、金属製キャリア
4上に接着された平行平板コンデンサ77とワイヤ76
を介して接地されている。また、ショートスタブ20は
ラジアルオープンスタブ81によってRF信号に対して
短絡され、その線路長は所望のRF信号周波数に対して
は1/4波長の長さを有する。さらに金属製キャリア4
上に接着された平行平板コンデンサ80とワイヤ79を
介して接地されている。
Here, the stabilizing resistor 9 removes an unnecessary signal with respect to the RF signal by its resistance value, the short stub 10 is short-circuited with respect to the RF signal by the radial open stub 78, and its line length is desired. It has a quarter wavelength for the RF signal frequency. Further, the parallel plate capacitor 77 and the wire 76 bonded on the metal carrier 4 are attached.
Grounded through. Further, the short stub 20 is short-circuited with respect to the RF signal by the radial open stub 81, and the line length thereof has a length of ¼ wavelength with respect to the desired RF signal frequency. Further metal carrier 4
It is grounded via a parallel plate capacitor 80 bonded above and a wire 79.

【0008】図5,6,7における従来のフリップチッ
プ増幅器はDCカットとして結合線路82,83のパタ
ーンのみで形成されるため、安価であり、損失も小さい
利点がある。また、平行平板コンデンサ77,80によ
りショートスタブ10,20をRF的に短絡しているた
め、MIM(Metal Insulator Met
al)を使用せず、安価かつ簡易なプロセスで誘電体基
板3の作成が可能である。
Since the conventional flip-chip amplifier shown in FIGS. 5, 6 and 7 is formed by only the pattern of the coupled lines 82 and 83 as a DC cut, it has the advantages of being inexpensive and having a small loss. Further, since the short stubs 10 and 20 are short-circuited in RF by the parallel plate capacitors 77 and 80, the MIM (Metal Insulator Met) is used.
Al) is not used, and the dielectric substrate 3 can be formed by an inexpensive and simple process.

【0009】図5,6,7における従来のフリップチッ
プ増幅器は電界効果トランジスタ5と誘電体基板3との
接続をバンプ90,91,92,93で行ったため、ワ
イヤで接続した場合と比較し、寄生インダクタ成分も小
さいため、特性のばらつきも小さい。また、電界効果ト
ランジスタ5におけるソース電極88,89にバンプ9
2,93を複数個配列することで、電界効果トランジス
タ5から発生する熱に対する放熱を効率よく実施するこ
とが可能である。
In the conventional flip chip amplifier shown in FIGS. 5, 6 and 7, the field effect transistor 5 and the dielectric substrate 3 are connected by the bumps 90, 91, 92 and 93. Since the parasitic inductor component is also small, variations in characteristics are small. In addition, the bumps 9 are formed on the source electrodes 88 and 89 of the field effect transistor 5.
By arranging a plurality of 2, 93, it is possible to efficiently dissipate the heat generated from the field effect transistor 5.

【0010】図5,6,7における従来のフリップチッ
プ増幅器はアクティブ素子である電界効果トランジスタ
5とパッシブ素子である誘電体基板3を分離したことか
ら、マイクロ波集積回路(以下、MMIC:Monol
ithic Microwave Integrate
d Circuit)と比較し、MMICを構成するG
aAs(Gallium Arsenide:ガリウム
ヒ素)の面積を小さくでき、低価格化が可能である。
In the conventional flip chip amplifier shown in FIGS. 5, 6 and 7, the field effect transistor 5 which is an active element and the dielectric substrate 3 which is a passive element are separated from each other, so that a microwave integrated circuit (hereinafter, MMIC: Monol) is used.
itic Microwave Integrate
d Circuit) and G that constitutes the MMIC
The area of aAs (Gallium Arsenide) can be reduced, and the cost can be reduced.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図5,6,
7における従来のフリップチップ増幅器は、インピーダ
ンス変換時に用いるショートスタブ10,20について
は誘電体基板3と金属製キャリア4上の平行平板コンデ
ンサ77,80をワイヤ76,79を用いて接続するこ
とでRFを短絡する構造となっている。この構造である
ことから、電界効果トランジスタ5と誘電体基板3をバ
ンプ90,91,92,93で接続することでインダク
タンス成分を少なくしたとしても、ワイヤ76,79で
ショートスタブ10,20と平行平板コンデンサ77,
80を接続するためのワイヤ工程を必要とし、かつ電気
特性に対してもワイヤインダクタンスの影響が大きく、
かつ誘電体基板3に対して平行平板コンデンサ77,8
0は金属製キャリア4に接着する外付けの構造となるた
めフリップチップ増幅器が全体的に大型化してしまい、
フリップチップ増幅器の低コスト化が難しい課題があ
る。
However, as shown in FIGS.
In the conventional flip-chip amplifier of No. 7, the short stubs 10 and 20 used at the time of impedance conversion are connected to the dielectric substrate 3 and the parallel plate capacitors 77 and 80 on the metal carrier 4 by using wires 76 and 79. It has a structure that short-circuits. Due to this structure, even if the inductance component is reduced by connecting the field effect transistor 5 and the dielectric substrate 3 with the bumps 90, 91, 92, 93, the wires 76, 79 are parallel to the short stubs 10, 20. Flat plate capacitor 77,
A wire process for connecting 80 is required, and the influence of wire inductance on electrical characteristics is large,
And parallel plate capacitors 77 and 8 with respect to the dielectric substrate 3.
Since 0 has an external structure that is adhered to the metal carrier 4, the flip chip amplifier becomes large as a whole,
There is a problem that it is difficult to reduce the cost of the flip chip amplifier.

【0012】また、従来の図5におけるフリップチップ
増幅器は、電界効果トランジスタ5に供給される直流電
力をデバイスの外部回路と遮断するために挿入されてい
る結合線路82,83については一般的に所望のRF信
号周波数に対して1/4波長の長さを有するため、低周
波数に対しては大型化してしまい、フリップチップ多段
増幅器を構成することが困難である課題があった。ま
た、結合容量を任意に変えられないため、インピーダン
ス変成には使用しにくい課題がある。
Further, in the conventional flip-chip amplifier shown in FIG. 5, the coupling lines 82 and 83 inserted for cutting off the DC power supplied to the field effect transistor 5 from the external circuit of the device are generally desired. Since it has a length of 1/4 wavelength with respect to the RF signal frequency, it becomes large for low frequencies, and there is a problem that it is difficult to configure a flip-chip multistage amplifier. Moreover, since the coupling capacitance cannot be changed arbitrarily, there is a problem that it is difficult to use for impedance transformation.

【0013】本発明はDCカット及びショートスタブ用
キャパシタにインターディジタルキャパシタと積層セラ
ミックキャパシタを用い、小型、低コストなフリップチ
ップ増幅器を得ることを目的とするものである。
It is an object of the present invention to obtain a small-sized and low-cost flip chip amplifier by using an interdigital capacitor and a laminated ceramic capacitor as a DC cut and short stub capacitor.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】第1の発明によるフリッ
プチップ増幅器は、ソース電極、ゲート電極及びドレイ
ン電極上にバンプ実装用パッドを有する電界効果トラン
ジスタとこの電界効果トランジスタを実装するための誘
電体基板及び電界効果トランジスタとこの誘電体基板を
実装するためのバンプを備えたフリップチップ増幅器に
おいて、誘電体基板は、電界効果トランジスタの入出力
インピーダンス変換に用いる整合回路と、電界効果トラ
ンジスタにバイアスを印加するバイアス回路を具備し、
このバイアス回路は、低周波バイパス用の積層セラミッ
クキャパシタ及び誘電体基板上に形成されるインターデ
ィジタルキャパシタを具備し、電界効果トランジスタと
誘電体基板をバンプ実装するようにしたものである。第
2の発明によるフリップチップ増幅器は、第1の発明に
おいて、誘電体基板の同一面内に複数の電界効果トラン
ジスタを具備し、複数のインピーダンス整合回路を具備
したものである。第3の発明によるフリップチップ増幅
器は、第1または第2の発明において、電界効果トラン
ジスタは、誘電体基板と電界効果トランジスタの間に樹
脂系のアンダーフィル剤を具備したものである。
A flip-chip amplifier according to a first aspect of the present invention is a field effect transistor having bump mounting pads on a source electrode, a gate electrode and a drain electrode, and a dielectric for mounting the field effect transistor. In a flip-chip amplifier including a substrate, a field effect transistor, and bumps for mounting this dielectric substrate, the dielectric substrate applies a bias to the matching circuit used for input / output impedance conversion of the field effect transistor and the field effect transistor. Equipped with a bias circuit to
This bias circuit is provided with a laminated ceramic capacitor for low frequency bypass and an interdigital capacitor formed on a dielectric substrate, and the field effect transistor and the dielectric substrate are bump-mounted. A flip-chip amplifier according to a second invention is the flip-chip amplifier according to the first invention, comprising a plurality of field effect transistors in the same plane of a dielectric substrate and a plurality of impedance matching circuits. A flip-chip amplifier according to a third invention is the flip-chip amplifier according to the first or second invention, wherein the field effect transistor comprises a resin-based underfill agent between the dielectric substrate and the field effect transistor.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】実施の形態1.図1は、この発明
の実施の形態1におけるフリップチップ増幅器の構成
図、図2(a)は、図1のインターディジタルキャパシ
タ17の詳細図、図2(b)は、図1のゲートバイアス
回路8の詳細図を示すものである。電界効果トランジス
タをバンプ実装する構造自体は従来のフリップチップ増
幅器と同様な構造であり、その構造は図6及び図7に示
す。図1において、1はRF入力パターン、2はRF出
力パターン、3は誘電体基板、4は誘電体基板3をハン
ダ付けもしくは接着剤により実装する金属製のキャリア
である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1. 1 is a configuration diagram of a flip chip amplifier according to Embodiment 1 of the present invention, FIG. 2A is a detailed diagram of an interdigital capacitor 17 of FIG. 1, and FIG. 2B is a gate bias circuit of FIG. 8 is a detailed view of FIG. The structure itself for bump mounting the field effect transistor is similar to the conventional flip chip amplifier, and the structure is shown in FIGS. 6 and 7. In FIG. 1, 1 is an RF input pattern, 2 is an RF output pattern, 3 is a dielectric substrate, and 4 is a metal carrier on which the dielectric substrate 3 is mounted by soldering or an adhesive.

【0016】また、5,28,52は誘電体基板3にバ
ンプ実装される第1,2,N(N=3,4,・・…)の
電界効果トランジスタ、6,29,53は電界効果トラ
ンジスタ5,28,52における図6に示されるソース
電極88とソース電極88に接続される複数のバンプ9
3を介し、電界効果トランジスタ5,28,52を接地
するためのバイアホール、7,30,54は電界効果ト
ランジスタ5,28,52における図6に示されるソー
ス電極89とソース電極89に接続される複数のバンプ
92を介し、電界効果トランジスタ5を接地するための
バイアホールである。
5, 28, 52 are field effect transistors of the first, second, N (N = 3, 4, ...) Which are bump-mounted on the dielectric substrate 3, and 6, 29, 53 are field effects. The source electrode 88 and the plurality of bumps 9 connected to the source electrode 88 shown in FIG.
Via holes 7, 30, 30 and 54 for grounding the field effect transistors 5, 28 and 52 are connected to the source electrode 89 and the source electrode 89 shown in FIG. Via holes 92 for connecting the field effect transistor 5 to the ground.

【0017】また、8,32,57は電界効果トランジ
スタ5,28,52に直流電力を供給するためのゲート
バイアス回路(第2図a詳細)、9,33,58は安定
化抵抗、10,34,59はショートスタブを形成する
パターン、11,35,60はインターディジタルキャ
パシタ、12,36,61はショートスタブを形成する
パターン10,34,59をインターディジタルキャパ
シタ11,35,60を介し接地するためのバイアホー
ル、13,37,62は抵抗、14,38,63はRF
パターン、15,39,64は積層セラミックキャパシ
タ、16,40,65はバイアホールである。
Further, 8, 32 and 57 are gate bias circuits (details of FIG. 2a) for supplying DC power to the field effect transistors 5, 28 and 52, and 9, 33 and 58 are stabilizing resistors, 10. 34 and 59 are patterns forming short stubs, 11, 35 and 60 are interdigital capacitors, and 12, 36 and 61 are patterns 10, 34 and 59 forming short stubs, which are grounded through the interdigital capacitors 11, 35 and 60. Via holes, 13, 37, 62 are resistors, 14, 38, 63 are RF
Patterns, 15, 39 and 64 are multilayer ceramic capacitors, and 16, 40 and 65 are via holes.

【0018】また、17,31,51,55,56はD
Cカット用のインターディジタルキャパシタ(第2図b
詳細)、18,27,41,50,66,75はインピ
ーダンス変換を行うための整合回路、19,42,67
は電界効果トランジスタ5,28,52に直流電力を供
給するためのドレインバイアス回路、20,43,68
はショートスタブを形成するパターン、21,44,6
9はインターディジタルキャパシタ、22,45,70
はショートスタブを形成するパターン20,43,68
をインターディジタルキャパシタ21,44,69を介
し接地するためのバイアホール、23,47,71は抵
抗、24,47,72はRFパターン、25,48,7
3は積層セラミックキャパシタ、26,49,74はバ
イアホールである。なお、回路の特性によって、安定化
抵抗9,33,58が不要になる場合がある事は自明で
ある。また、ドレインバイアス回路19,42,67
は、ゲートバイアス回路5,28,52における安定化
抵抗9,33,58がない場合と同等であることは自明
である。
Also, 17, 31, 51, 55 and 56 are D
C-cut interdigital capacitor (Fig. 2b
(Details), 18, 27, 41, 50, 66, and 75 are matching circuits for performing impedance conversion, 19, 42, and 67.
Is a drain bias circuit for supplying DC power to the field effect transistors 5, 28, 52, 20, 43, 68
Is a pattern forming short stubs, 21, 44, 6
9 is an interdigital capacitor, 22, 45, 70
Is a pattern 20, 43, 68 forming a short stub
Vias for grounding via the interdigital capacitors 21, 44, 69, 23, 47, 71 are resistors, 24, 47, 72 are RF patterns, 25, 48, 7
Reference numeral 3 is a monolithic ceramic capacitor, and reference numerals 26, 49 and 74 are via holes. It is obvious that the stabilizing resistors 9, 33, 58 may be unnecessary depending on the characteristics of the circuit. Further, the drain bias circuits 19, 42, 67
Is obviously equivalent to the case without the stabilizing resistors 9, 33, 58 in the gate bias circuits 5, 28, 52.

【0019】次に、実施の形態1の詳細な説明を行う。
RF信号はRFパターン1から入力され、DCカット用
インターディジタルキャパシタ17を通過する。この
時、インターディジタルキャパシタ17のC成分により
インピーダンス変換されたRF信号は整合回路18によ
り、更にインピーダンス変換される。その後、RF信号
はバンプ91を介して電界効果トランジスタ5に入力す
る。この時、電界効果トランジスタ5はゲートバイアス
回路8とドレインバイアス回路19より供給される直流
電力にてバイアス設定され、ドレインバイアス回路19
より供給される直流電力によりRF信号が増幅される。
その後、RF信号はバンプ90を介し、出力整合回路1
6にてインピーダンス変換される。以降、2段目、3…
N段目と同様な動作をし、RF信号はN段目のインタデ
ィジタルキャパシタ56を通過し、RFパターン2から
出力される。
Next, a detailed description of the first embodiment will be given.
The RF signal is input from the RF pattern 1 and passes through the interdigital capacitor 17 for DC cut. At this time, the RF signal impedance-converted by the C component of the interdigital capacitor 17 is further impedance-converted by the matching circuit 18. After that, the RF signal is input to the field effect transistor 5 via the bump 91. At this time, the field effect transistor 5 is biased by the DC power supplied from the gate bias circuit 8 and the drain bias circuit 19, and the drain bias circuit 19 is set.
The RF signal is amplified by the supplied DC power.
After that, the RF signal is output to the output matching circuit 1 via the bump 90.
The impedance is converted at 6. After that, the second stage, 3 ...
The same operation as in the Nth stage is performed, and the RF signal passes through the Nth stage interdigital capacitor 56 and is output from the RF pattern 2.

【0020】また、電界効果トランジスタ5に供給され
る電源について、ゲートバイアスは外部よりショートス
タブ10のRF的に短絡される点に供給され、ショート
スタブ10、安定化抵抗9を通過して供給され、ドレイ
ンバイアスはショートスタブ20のRF的に短絡される
点に供給され、ショートスタブ20を通過して供給され
る。ここで、安定化抵抗9はRF信号に対して不要な信
号を除去し、ショートスタブ10は一般にその線路長は
所望のRF信号に対して1/4波長を有する。また、シ
ョートスタブとしてインピーダンス変換に用いる場合
は、必要な長さを有する。さらにショートスタブ10は
DCカット用のインターディジタルキャパシタ11とバ
イアホール12で接地される事で不要なRF信号は除去
され、かつ抵抗13、RFパターン14、積層セラミッ
クキャパシタ15及びバイアホール16にて接地される
ことにより、所望のRF信号に対して低周波側の不要な
信号は抵抗13にて除去される。
Regarding the power supplied to the field effect transistor 5, the gate bias is externally supplied to the point of the short stub 10 which is short-circuited in terms of RF, and is supplied through the short stub 10 and the stabilizing resistor 9. The drain bias is supplied to a point where the short stub 20 is short-circuited in terms of RF, and is supplied through the short stub 20. Here, the stabilizing resistor 9 removes an unnecessary signal with respect to the RF signal, and the short stub 10 generally has a line length of ¼ wavelength with respect to the desired RF signal. When used as a short stub for impedance conversion, it has a required length. Further, the short stub 10 is grounded by the interdigital capacitor 11 for DC cutting and the via hole 12 to remove unnecessary RF signals, and is grounded by the resistor 13, the RF pattern 14, the laminated ceramic capacitor 15 and the via hole 16. As a result, the unnecessary signal on the low frequency side with respect to the desired RF signal is removed by the resistor 13.

【0021】また、ショートスタブ20は一般にその線
路長は所望のRF信号に対して1/4波長を有し、ショ
ートスタブとしてインピーダンス変換に用いる場合は必
要な長さを有する。さらにショートスタブ20はDCカ
ット用のインターディジタルキャパシタ21とバイアホ
ール22で接地される事で不要なRF信号は除去され、
かつ抵抗23、RFパターン24、積層セラミックキャ
パシタ25及びバイアホール26にて接地されることに
より、所望のRF信号に対して低周波側の不要な信号は
抵抗23にて除去される。以降、2、3・…N段目は同
様な動作である。
Further, the short stub 20 generally has a line length of ¼ wavelength with respect to a desired RF signal, and has a necessary length when it is used for impedance conversion as a short stub. Further, the short stub 20 is grounded by the interdigital capacitor 21 for DC cut and the via hole 22 to remove unnecessary RF signals,
Further, by grounding the resistor 23, the RF pattern 24, the multilayer ceramic capacitor 25, and the via hole 26, unnecessary signals on the low frequency side of the desired RF signal are removed by the resistor 23. Thereafter, the second, third, ... Nth stages are similar in operation.

【0022】本実施の形態では、DCカット用としてR
F信号に対して1/4波長の結合線路ではなく、インタ
ーディジタルキャパシタを用いることで、低周波数のR
F信号に対し、インターディジタルキャパシタを構成す
るフィンガー数又はフィンガー長を所望の長さに設計す
ることで、比較的自由な容量値を得ることが可能であ
り、結合線路で構成した場合と比較して大型化しない利
点がある。
In this embodiment, R is used for DC cutting.
By using an interdigital capacitor instead of a 1/4 wavelength coupled line for F signals, low frequency R
It is possible to obtain a relatively free capacitance value by designing the number of fingers or the finger length forming the interdigital capacitor to a desired length for the F signal, and compared with the case of using a coupled line. It has the advantage of not increasing in size.

【0023】また、RFのインピーダンス変換を行う
際、RF的に先端を短絡させるショートスタブが必要な
場合があり、その個所に対してもDCがデバイス外部に
流れるのを防ぐ必要があり、ここにもインターディジタ
ルキャパシタを用いることで、そのフィンガー数又はフ
ィンガー長を所望の長さに設計することで比較的自由な
容量値に設定することが可能となる。
When RF impedance conversion is performed, a short stub that short-circuits the tip in terms of RF may be required, and it is necessary to prevent DC from flowing to the outside of the device at that point as well. Also, by using the interdigital capacitor, it is possible to set the number of fingers or the finger length to a desired length to set a relatively free capacitance value.

【0024】また、低周波バイパス用のキャパシタとし
て、一般的なセラミック誘電体の両端に外部電極が設け
られている積層セラミックキャパシタを用いることで、
誘電体基板のパターン上へ直接、ハンダ付け、又は接着
するが可能となり、従来の技術で必要であった平行平板
キャパシタを用いる場合と比較し、ワイヤ接続工程を実
施する必要がないことから、工数の低減による低コスト
化が可能となる。
Further, by using a monolithic ceramic capacitor in which external electrodes are provided at both ends of a general ceramic dielectric as a capacitor for low frequency bypass,
Since it is possible to solder or adhere directly to the pattern of the dielectric substrate, there is no need to carry out the wire connection process as compared with the case of using the parallel plate capacitor, which was required in the conventional technology. The cost can be reduced by reducing

【0025】さらに、積層セラミックキャパシタを使用
してワイヤ接続がなくなったことにより、同一基板内に
複数の増幅器パターンを形成し、積層セラミックキャパ
シタをハンダ付け又は接着し、電界効果トランジスタを
一括してバンプ実装した後、オンウェーハでの測定が可
能である。さらに同一基板内に複数の増幅器を形成、実
装し、純水を吹きかけながら基板ダイシングすることか
ら低コスト化が図れる。
Further, since the wire connection is eliminated by using the laminated ceramic capacitor, a plurality of amplifier patterns are formed in the same substrate, the laminated ceramic capacitors are soldered or adhered, and the field effect transistors are collectively bumped. After mounting, on-wafer measurement is possible. Further, a plurality of amplifiers are formed and mounted on the same substrate, and the substrate is diced while spraying pure water, so that the cost can be reduced.

【0026】また、低周波バイパス用のキャパシタとし
て積層セラミックキャパシタを用いることで、RF回路
と同一基板内に低周波用のバイアス回路を形成でき、フ
リップチップ増幅器のバイアス回路一体化を実現し、全
体的な回路の小型化を実現できる利点もある。
Further, by using a laminated ceramic capacitor as a low frequency bypass capacitor, a low frequency bias circuit can be formed on the same substrate as the RF circuit, and the flip chip amplifier can be integrated into the bias circuit. There is also an advantage that a compact circuit can be realized.

【0027】さらに、バイアス回路にインターディジタ
ルキャパシタと積層セラミックキャパシタと、複数の電
界効果トランジスタを用いることにより、容易に多段の
高利得なフリップチップ増幅器を構成することができる
利点もある。
Further, by using an interdigital capacitor, a laminated ceramic capacitor and a plurality of field effect transistors in the bias circuit, there is an advantage that a multistage high gain flip chip amplifier can be easily constructed.

【0028】実施の形態2.図3は、この発明の実施の
形態2を示す図であり、図4は、この発明の実施の形態
2における誘電体基板3と電界効果トランジスタ5にお
ける実装を示す詳細図である。フリップチップ増幅器の
基本的な構造は実施の形態1と同様であるが、電界効果
トランジスタと誘電体基板の間に樹脂系のアンダーフィ
ル剤を注入することがその特徴である。
Embodiment 2. FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a detailed diagram showing mounting on the dielectric substrate 3 and the field effect transistor 5 in the second embodiment of the present invention. The basic structure of the flip chip amplifier is the same as that of the first embodiment, but is characterized in that a resin-based underfill agent is injected between the field effect transistor and the dielectric substrate.

【0029】次に、実施の形態2の詳細な説明を行う。
基本的な構造は図1の実施の形態1と同様であるが、図
4において、3は誘電体基板、4は金属製キャリア、5
は電界効果トランジスタ、6はバイアホール、90は図
7にしめすものと同様な誘電体基板3とドレイン電極用
パッド86を熱圧着して接続するためのバンプ、91は
図7に示すものと同様な誘電体基板3とゲート電極用パ
ッド87を熱圧着して接続するためのバンプ、92は図
7に示すものと同様な誘電体基板3とソース電極用パッ
ド89を熱圧着して接続するためのバンプ、94は誘電
体基板3と電界効果トランジスタ5の間に注入される樹
脂系のアンダーフィル剤である。
Next, a detailed description of the second embodiment will be given.
The basic structure is the same as that of the first embodiment of FIG. 1, but in FIG. 4, 3 is a dielectric substrate, 4 is a metal carrier, and 5 is a metal carrier.
Is a field effect transistor, 6 is a via hole, 90 is a bump for connecting the dielectric substrate 3 and the drain electrode pad 86 by thermocompression bonding similar to those shown in FIG. 7, 91 is the same as that shown in FIG. 7. A bump for connecting the dielectric substrate 3 and the gate electrode pad 87 by thermocompression bonding, and 92 for thermocompression bonding and connecting the dielectric substrate 3 and the source electrode pad 89 similar to those shown in FIG. And 94 are resin-based underfill agents injected between the dielectric substrate 3 and the field effect transistor 5.

【0030】このように、上記実施の形態2では電界効
果トランジスタと誘電体基板の間に樹脂系のアンダーフ
ィル剤を注入することで耐湿性、振動、衝撃における信
頼性を向上させる利点がある。さらに、アンダーフィル
剤を注入したことにより、気密パッケージを用いた封止
が不要となるため、低コスト化が図れる利点もある。
As described above, the second embodiment has the advantage of improving the moisture resistance, the reliability against vibration and the impact by injecting the resin underfill agent between the field effect transistor and the dielectric substrate. Furthermore, by injecting the underfill agent, sealing using an airtight package is not necessary, and there is an advantage that cost can be reduced.

【0031】[0031]

【発明の効果】第1から第3の発明によるフリップチッ
プ増幅器は、低周波数のRF信号に対しても回路を小型
化でき、かつ所望の容量値を得ることが可能である。ま
た、ワイヤのインダクタンス成分のばらつきによる影響
も除外され、かつ誘電体基板上に一体構成できるため、
フリップチップ増幅器の小型化及び低コスト化が可能で
ある。さらに、上記効果に加え、容易に多段のフリップ
チップ増幅器を構成することが可能である。また、オン
ウェーハでの評価が可能となり、かつ基板ダイシングま
で一連の作業で実施できることから、低コスト化が可能
である。
The flip-chip amplifier according to the first to third aspects of the present invention can miniaturize the circuit even for a low-frequency RF signal and obtain a desired capacitance value. In addition, the influence of variations in the inductance component of the wire is excluded, and since it can be integrally configured on the dielectric substrate,
It is possible to reduce the size and cost of the flip chip amplifier. Further, in addition to the above effects, it is possible to easily configure a multi-stage flip chip amplifier. In addition, on-wafer evaluation is possible, and since substrate dicing can be performed in a series of operations, cost reduction can be achieved.

【0032】また、第3の発明によるフリップチップ増
幅器は、電界効果トランジスタと誘電体基板との間に樹
脂系のアンダーフィル剤を注入することで耐湿性、振
動、衝撃における信頼性が向上し、さらにフリップチッ
プ増幅器の外部パッケージによる気密封止を実施する必
要がないため、低コスト化も可能である。
Further, in the flip-chip amplifier according to the third aspect of the present invention, by injecting a resin-based underfill agent between the field effect transistor and the dielectric substrate, the moisture resistance, the reliability against vibration and the impact are improved, Further, since it is not necessary to carry out the hermetic sealing by the external package of the flip chip amplifier, the cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明によるフリップチップ増幅器の実施
の形態1を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a flip chip amplifier according to the present invention.

【図2】 この発明によるフリップチップ増幅器の実施
の形態1におけるインターディジタルキャパシタおよび
ゲートバイアス回路の詳細図である。
FIG. 2 is a detailed diagram of an interdigital capacitor and a gate bias circuit in the first embodiment of the flip chip amplifier according to the present invention.

【図3】 この発明によるフリップチップ増幅器の実施
の形態2を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of a flip chip amplifier according to the present invention.

【図4】 この発明によるフリップチップ増幅器の実施
の形態2における実装断面図を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a mounting cross-sectional view of a flip-chip amplifier according to a second embodiment of the present invention.

【図5】 従来のフリップチップ増幅器を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a conventional flip chip amplifier.

【図6】 従来のフリップチップ増幅器の電界効果トラ
ンジスタの外略図を示す図である。
FIG. 6 is a schematic view of a field effect transistor of a conventional flip chip amplifier.

【図7】 従来のフリップチップ増幅器の実装断面図を
示す図である。
FIG. 7 is a view showing a mounting cross-sectional view of a conventional flip chip amplifier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 RF入力パターン、 2 RF出力パターン、 3
誘電体基板、4 キャリア、 5,28,52 第
1,第2,第N(N=3,4,・…)の電界効果トラン
ジスタ、 6,47,72 バイアホール、 7,3
0,54 バイアホール、 8,32,57 ゲートバ
イアス回路、 9,33,58 安定化抵抗、 1
0,34,59 ショートスタブを形成するパターン、
11,35,60 インターディジタルキャパシタ、
12,36,61 バイアホール、13,37,62
抵抗、 14,38,63 RFパターン、 1
5,39,64 積層セラミックキャパシタ、 16,
40,65 バイアホール、 17,31,51,5
5,56 DCカット用インターディジタルキャパシ
タ、18,27,41,50,66,75 整合回路、
19,42,67 ドレインバイアス回路、 20,
43,68 ショートスタブを形成するパターン、2
1,44,69 インターディジタルキャパシタ、 2
2,45,70 バイアホール、 23,47,71
抵抗、 24,47,72 RFパターン、25,4
8,73 積層セラミックキャパシタ、 26,4
9,74 バイアホール、 76,79 ワイヤ、 7
7,80 平行平板コンデンサ、 78,81 ラジア
ルオープンスタブ、 82,83 DCカット用結合線
路、 84,85 整合回路、 86 ドレイン電極バ
ンプ実装用パッド、 87 ゲート電極バンプ実装用パ
ッド、 88 ソース電極バンプ実装用パッド、 89
ソース電極バンプ実装用パッド、 90 バンプ、
91 バンプ、 92 バンプ、 93 バンプ、 9
4 樹脂系のアンダーフィル剤
1 RF input pattern, 2 RF output pattern, 3
Dielectric Substrate, 4 Carriers, 5, 28, 52 First, Second, Nth (N = 3, 4, ...) Field Effect Transistors, 6, 47, 72 Via Holes, 7, 3
0,54 via hole, 8,32,57 gate bias circuit, 9,33,58 stabilizing resistor, 1
0,34,59 Patterns that form short stubs,
11,35,60 interdigital capacitors,
12,36,61 via hole, 13,37,62
Resistance, 14, 38, 63 RF pattern, 1
5, 39, 64 monolithic ceramic capacitor, 16,
40,65 via holes, 17,31,51,5
5,56 DC cut interdigital capacitor, 18,27,41,50,66,75 Matching circuit,
19, 42, 67 Drain bias circuit, 20,
43,68 Patterns that form short stubs, 2
1,44,69 interdigital capacitor, 2
2,45,70 via holes, 23,47,71
Resistance, 24, 47, 72 RF pattern, 25, 4
8,73 Multilayer ceramic capacitor, 26,4
9,74 Via hole, 76,79 Wire, 7
7,80 Parallel plate capacitor, 78,81 Radial open stub, 82,83 DC cut coupling line, 84,85 Matching circuit, 86 Drain electrode bump mounting pad, 87 Gate electrode bump mounting pad, 88 Source electrode bump mounting Pad, 89
Source electrode bump mounting pad, 90 bump,
91 bumps, 92 bumps, 93 bumps, 9
4 Resin-based underfill agent

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5J067 AA01 AA04 CA87 CA92 FA16 HA09 HA25 HA29 KA12 KA29 KA66 KA68 KS11 LS11 MA08 QA04 QS02 QS06 SA13    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 5J067 AA01 AA04 CA87 CA92 FA16                       HA09 HA25 HA29 KA12 KA29                       KA66 KA68 KS11 LS11 MA08                       QA04 QS02 QS06 SA13

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ソース電極、ゲート電極及びドレイン電
極上にバンプ実装用パッドを有する電界効果トランジス
タとこの電界効果トランジスタを実装するための誘電体
基板及び上記電界効果トランジスタとこの誘電体基板を
実装するためのバンプを備えたフリップチップ増幅器に
おいて、上記誘電体基板は、上記電界効果トランジスタ
の入出力インピーダンス変換に用いる整合回路と、上記
電界効果トランジスタにバイアスを印加するバイアス回
路を具備し、このバイアス回路は、低周波バイパス用の
積層セラミックキャパシタ及び上記誘電体基板上に形成
されるインターディジタルキャパシタを具備し、上記電
界効果トランジスタと上記誘電体基板をバンプ実装する
ことを特徴とするフリップチップ増幅器。
1. A field effect transistor having bump mounting pads on a source electrode, a gate electrode and a drain electrode, a dielectric substrate for mounting the field effect transistor, the field effect transistor and the dielectric substrate. In the flip-chip amplifier provided with bumps for use in the dielectric substrate, the dielectric substrate includes a matching circuit used for input / output impedance conversion of the field effect transistor, and a bias circuit for applying a bias to the field effect transistor. A flip-chip amplifier comprising a multilayer ceramic capacitor for low frequency bypass and an interdigital capacitor formed on the dielectric substrate, wherein the field effect transistor and the dielectric substrate are bump-mounted.
【請求項2】 上記誘電体基板の同一面内に複数の上記
電界効果トランジスタを具備し、複数のインピーダンス
整合回路を具備することを特徴とする請求項1記載のフ
リップチップ増幅器。
2. The flip chip amplifier according to claim 1, further comprising a plurality of the field effect transistors and a plurality of impedance matching circuits in the same plane of the dielectric substrate.
【請求項3】 上記電界効果トランジスタは、上記誘電
体基板と上記電界効果トランジスタの間に樹脂系のアン
ダーフィル剤を具備していることを特徴とする請求項1
または2に記載のフリップチップ増幅器。
3. The field-effect transistor comprises a resin-based underfill agent between the dielectric substrate and the field-effect transistor.
Alternatively, the flip chip amplifier according to item 2.
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