JP2003064467A - 堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル - Google Patents
堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルInfo
- Publication number
- JP2003064467A JP2003064467A JP2001248306A JP2001248306A JP2003064467A JP 2003064467 A JP2003064467 A JP 2003064467A JP 2001248306 A JP2001248306 A JP 2001248306A JP 2001248306 A JP2001248306 A JP 2001248306A JP 2003064467 A JP2003064467 A JP 2003064467A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- organic
- forming
- display panel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 26
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 19
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 15
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 所期の形状の堆積膜を容易にかつ簡単な工程
において形成することのできる堆積膜形成方法およびこ
れに用いるマスクを提供する。 【解決手段】 基板上若しくはその基板に形成された積
層構造体上に、開口部を有するマスクを配置して、基板
若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜を形成する
方法において、前記マスクの基板若しくは積層構造体に
対する対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より
略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配置時に、マ
スクの基板対向面全体が、基板若しくは積層構造体に接
触することを防止したことを特徴とする堆積膜の形成方
法。
において形成することのできる堆積膜形成方法およびこ
れに用いるマスクを提供する。 【解決手段】 基板上若しくはその基板に形成された積
層構造体上に、開口部を有するマスクを配置して、基板
若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜を形成する
方法において、前記マスクの基板若しくは積層構造体に
対する対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より
略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配置時に、マ
スクの基板対向面全体が、基板若しくは積層構造体に接
触することを防止したことを特徴とする堆積膜の形成方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、堆積膜形成方法および
これに用いるマスクに関するものである。詳しく述べる
と、本発明は、例えば、電流の注入によって発光する有
機化合物材料のエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬ
という）を利用する有機ＥＬディスプレイパネルの発光
層形成、電極形成に有用である堆積膜形成方法およびこ
れに用いるマスクに関するものである。本発明はさら
に、このような堆積膜形成方法を応用した有機ＥＬディ
スプレイパネルおよびその製造方法に関するものであ
る。
これに用いるマスクに関するものである。詳しく述べる
と、本発明は、例えば、電流の注入によって発光する有
機化合物材料のエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬ
という）を利用する有機ＥＬディスプレイパネルの発光
層形成、電極形成に有用である堆積膜形成方法およびこ
れに用いるマスクに関するものである。本発明はさら
に、このような堆積膜形成方法を応用した有機ＥＬディ
スプレイパネルおよびその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、有機ＥＬ素子の陰極や有機ＥＬ
媒体層をマイクロパターニングすることは、電荷注入層
や発光層に用いられる有機ＥＬ媒体の耐熱性（一般に１
００℃以下）、耐溶剤性、耐湿性の低さのため困難であ
る。例えば、通常薄膜のパターニングに用いられるフォ
トリソグラフィ法を有機ＥＬ素子に用いると、フォトレ
ジスト中の溶剤の素子への侵入や、フォトレジストベー
ク中の高温雰囲気や、フォトレジスト現像液またはエッ
チング液の素子への浸入や、ドライエッチング時のプラ
ズマによるダメージ等の原因により有機ＥＬ素子特性が
劣化する問題が生じる。
媒体層をマイクロパターニングすることは、電荷注入層
や発光層に用いられる有機ＥＬ媒体の耐熱性（一般に１
００℃以下）、耐溶剤性、耐湿性の低さのため困難であ
る。例えば、通常薄膜のパターニングに用いられるフォ
トリソグラフィ法を有機ＥＬ素子に用いると、フォトレ
ジスト中の溶剤の素子への侵入や、フォトレジストベー
ク中の高温雰囲気や、フォトレジスト現像液またはエッ
チング液の素子への浸入や、ドライエッチング時のプラ
ズマによるダメージ等の原因により有機ＥＬ素子特性が
劣化する問題が生じる。
【０００３】また、蒸着マスクを用いてパターニングす
る方法もあるが、基板及び蒸着間のマスクの密着不良に
よる蒸着物の回り込みや、強制的に基板と蒸着マスクを
密着させた場合のマスクとの接触により有機ＥＬ媒体層
が傷ついてインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）
などからなる陽極と陰極がショートすることや、陰極の
ストライプ状パターンなど開口部が大きくマスク部が細
いパターンの場合にはマスク強度が不足しマスクが撓む
こと等の問題により、微細なパターンが形成できない。
る方法もあるが、基板及び蒸着間のマスクの密着不良に
よる蒸着物の回り込みや、強制的に基板と蒸着マスクを
密着させた場合のマスクとの接触により有機ＥＬ媒体層
が傷ついてインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）
などからなる陽極と陰極がショートすることや、陰極の
ストライプ状パターンなど開口部が大きくマスク部が細
いパターンの場合にはマスク強度が不足しマスクが撓む
こと等の問題により、微細なパターンが形成できない。
【０００４】現在、有機ＥＬ材料を用いたディスプレイ
パネルとしては、特開平２−６６８７３号、特開平第５
−２７５１７２号、特開平第５−２５８８５９号及び特
開平第５−２５８８６０号の公報に開示されているもの
がある。このフルカラーディスプレイは、交差している
行と列において配置された複数の発光画素からなる画像
表示配列を有している発光装置である。
パネルとしては、特開平２−６６８７３号、特開平第５
−２７５１７２号、特開平第５−２５８８５９号及び特
開平第５−２５８８６０号の公報に開示されているもの
がある。このフルカラーディスプレイは、交差している
行と列において配置された複数の発光画素からなる画像
表示配列を有している発光装置である。
【０００５】この発光装置においては、各々の画素が共
通の電気絶縁性の光透過性基板上に配置されている。各
行内の画素は、基板上に伸長して配置された共通の光透
過性第１電極を含有し且つ該電極によって接合されてい
る。隣接行内の第１電極は、基板上で横方向に間隔をあ
けて配置されている。有機ＥＬ媒体は、第１電極及び基
板によって形成された支持面の上に配置されている。各
列の画素は、有機ＥＬ媒体上に配置された共通に伸長し
た第２電極を含有し且つ該電極によって接続されてい
る。隣接列内の第２電極は、有機ＥＬ媒体上で横方向に
間隔をあけて配置されている。この発光装置においては
有機ＥＬ媒体を挟んで交差している第１及び第２電極の
ラインを用いた単純マトリクス型を採用している。
通の電気絶縁性の光透過性基板上に配置されている。各
行内の画素は、基板上に伸長して配置された共通の光透
過性第１電極を含有し且つ該電極によって接合されてい
る。隣接行内の第１電極は、基板上で横方向に間隔をあ
けて配置されている。有機ＥＬ媒体は、第１電極及び基
板によって形成された支持面の上に配置されている。各
列の画素は、有機ＥＬ媒体上に配置された共通に伸長し
た第２電極を含有し且つ該電極によって接続されてい
る。隣接列内の第２電極は、有機ＥＬ媒体上で横方向に
間隔をあけて配置されている。この発光装置においては
有機ＥＬ媒体を挟んで交差している第１及び第２電極の
ラインを用いた単純マトリクス型を採用している。
【０００６】前述の問題を解決する方法が、上記公開公
報に開示されている。たとえば、特開平２−６６８７３
号開示の技術は、有機ＥＬ媒体を溶解しない溶剤を用い
たフォトレジストを素子上にパターニングし、希硫酸を
用いて陰極をエッチングする方法である。しかし、エッ
チングの際、希硫酸により有機ＥＬ媒体が損傷を受け
る。
報に開示されている。たとえば、特開平２−６６８７３
号開示の技術は、有機ＥＬ媒体を溶解しない溶剤を用い
たフォトレジストを素子上にパターニングし、希硫酸を
用いて陰極をエッチングする方法である。しかし、エッ
チングの際、希硫酸により有機ＥＬ媒体が損傷を受け
る。
【０００７】また、特開平第５−２７５１７２号、特開
平第５−２５８８５９号及び特開平第５−２５８８６０
号開示の技術は、ＩＴＯパターニング後の基板上に平行
に配置したストライプ状の数〜数十μｍの高さの隔壁を
作製し、その基板に隔壁に対して垂直方向、基板面に対
して斜めの方向から有機ＥＬ媒体や陰極材料を蒸着する
ことによりパターニングする方法である。即ち、第１電
極ライン及び有機ＥＬ媒体の薄膜を、予め基板に設けら
れている境界の高い壁により所定気体流れを遮って、選
択的に斜め真空蒸着して形成する製造方法が採用されて
いる。しかし、この方法は、斜めの蒸着方向に対し垂直
な方向にしかパターニングできず、ストライプ状の形状
にしかならない。このため、ＲＧＢがデルタ配置された
ものや、陰極が屈曲もしくは蛇行するようなディスプレ
イパネルは実現できない。
平第５−２５８８５９号及び特開平第５−２５８８６０
号開示の技術は、ＩＴＯパターニング後の基板上に平行
に配置したストライプ状の数〜数十μｍの高さの隔壁を
作製し、その基板に隔壁に対して垂直方向、基板面に対
して斜めの方向から有機ＥＬ媒体や陰極材料を蒸着する
ことによりパターニングする方法である。即ち、第１電
極ライン及び有機ＥＬ媒体の薄膜を、予め基板に設けら
れている境界の高い壁により所定気体流れを遮って、選
択的に斜め真空蒸着して形成する製造方法が採用されて
いる。しかし、この方法は、斜めの蒸着方向に対し垂直
な方向にしかパターニングできず、ストライプ状の形状
にしかならない。このため、ＲＧＢがデルタ配置された
ものや、陰極が屈曲もしくは蛇行するようなディスプレ
イパネルは実現できない。
【０００８】このような観点から、さらに特開平８−３
１５９８１号公報においては、所期の形状にパターニン
グされた第１表示電極を形成後に、基板上に逆テーパー
状の断面形状を有する電気絶縁性の隔壁（以下、陰極隔
壁とも称する。）を設け、この隔壁をシャドーマスクと
して用いて、有機ＥＬ媒体、第２表示電極とを逐次堆積
する方法が提唱されている。この方法によれば、有機Ｅ
Ｌ媒体の例えばストライプ状パターンなど開口部が大き
くマスク部が細いパターンの場合にマスク強度が不足す
る傾向にあるマスクを基板に密着させても、前記隔壁が
有機ＥＬ膜の発光層を保護するので、微細なパターンが
形成でき発光層に損傷を与えることがなくなり、隔壁及
びマスクによりＲＧＢ有機層の分離が確実に行なえ、精
度良くＲＧＢの媒体の塗り分けができるものであった。
１５９８１号公報においては、所期の形状にパターニン
グされた第１表示電極を形成後に、基板上に逆テーパー
状の断面形状を有する電気絶縁性の隔壁（以下、陰極隔
壁とも称する。）を設け、この隔壁をシャドーマスクと
して用いて、有機ＥＬ媒体、第２表示電極とを逐次堆積
する方法が提唱されている。この方法によれば、有機Ｅ
Ｌ媒体の例えばストライプ状パターンなど開口部が大き
くマスク部が細いパターンの場合にマスク強度が不足す
る傾向にあるマスクを基板に密着させても、前記隔壁が
有機ＥＬ膜の発光層を保護するので、微細なパターンが
形成でき発光層に損傷を与えることがなくなり、隔壁及
びマスクによりＲＧＢ有機層の分離が確実に行なえ、精
度良くＲＧＢの媒体の塗り分けができるものであった。
【０００９】しかしながら、この方法も、逆テーパー状
の陰極隔壁を形成する上で、そのパターニング工程が必
要となるため、製造工程がやや複雑となるという問題が
あった。また、得られる有機ＥＬ素子において、この陰
極隔壁が残るため、素子全体を絶縁性封止膜で覆って
も、この隔壁部より発生する水分、ガス等によって、有
機ＥＬ媒体が損傷を受け、非発光部が発生したり発光寿
命が低下する虞れが残り、また、隔壁の存在によって当
該封止膜の形成が難しくまた得られる素子が嵩高のもの
となってしまうという問題もあった。さらに、アクティ
ブマトリックスパネルの場合においては、第２表示電極
（陰極）は、共通電極となるためにパターニングする必
要はなく、上記のような陰極隔壁を形成しないため、各
有機ＥＬ媒体層を形成する際マスクの接触により先に形
成した有機ＥＬ媒体層が傷ついて陽極と陰極がショート
するという問題が生じるものであった。
の陰極隔壁を形成する上で、そのパターニング工程が必
要となるため、製造工程がやや複雑となるという問題が
あった。また、得られる有機ＥＬ素子において、この陰
極隔壁が残るため、素子全体を絶縁性封止膜で覆って
も、この隔壁部より発生する水分、ガス等によって、有
機ＥＬ媒体が損傷を受け、非発光部が発生したり発光寿
命が低下する虞れが残り、また、隔壁の存在によって当
該封止膜の形成が難しくまた得られる素子が嵩高のもの
となってしまうという問題もあった。さらに、アクティ
ブマトリックスパネルの場合においては、第２表示電極
（陰極）は、共通電極となるためにパターニングする必
要はなく、上記のような陰極隔壁を形成しないため、各
有機ＥＬ媒体層を形成する際マスクの接触により先に形
成した有機ＥＬ媒体層が傷ついて陽極と陰極がショート
するという問題が生じるものであった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
したような従来技術における課題を鑑みてなされたもの
であり、所期の形状の堆積膜を容易にかつ簡単な工程に
おいて形成することのできる堆積膜形成方法およびこれ
に用いるマスクを提供することを課題とする。本発明は
また、有機ＥＬディスプレイパネルの発光層形成、電極
形成に有用である堆積膜形成方法およびこれに用いるマ
スクを提供することを課題とするものである。本発明は
さらに、容易にかつ簡単な工程において高品質の製品を
得ることのできる有機ＥＬディスプレイパネルの製造方
法およびこれにより得られる高品質な有機ＥＬディスプ
レイパネルを提供することを課題とする。
したような従来技術における課題を鑑みてなされたもの
であり、所期の形状の堆積膜を容易にかつ簡単な工程に
おいて形成することのできる堆積膜形成方法およびこれ
に用いるマスクを提供することを課題とする。本発明は
また、有機ＥＬディスプレイパネルの発光層形成、電極
形成に有用である堆積膜形成方法およびこれに用いるマ
スクを提供することを課題とするものである。本発明は
さらに、容易にかつ簡単な工程において高品質の製品を
得ることのできる有機ＥＬディスプレイパネルの製造方
法およびこれにより得られる高品質な有機ＥＬディスプ
レイパネルを提供することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の堆積膜の形成方法は、基板上若しくはその基板に形
成された積層構造体上に、開口部を有するマスクを配置
して、基板若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜
を形成する方法において、前記マスクの基板若しくは積
層構造体に対する対向面に、前記開口部以外の実部の任
意部分より略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配
置時に、マスクの基板対向面全体が、基板若しくは積層
構造体に接触することを防止したことを特徴とする。
明の堆積膜の形成方法は、基板上若しくはその基板に形
成された積層構造体上に、開口部を有するマスクを配置
して、基板若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜
を形成する方法において、前記マスクの基板若しくは積
層構造体に対する対向面に、前記開口部以外の実部の任
意部分より略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配
置時に、マスクの基板対向面全体が、基板若しくは積層
構造体に接触することを防止したことを特徴とする。
【００１２】また、上記課題を解決する本発明のマスク
は、基板上若しくはその基板に形成された積層構造体上
の選択位置に堆積膜を形成する際に用いられるマスクで
あって、前記選択位置に対応する開口部を有し、かつ、
基板ないし積層構造体に対する対向面に、前記開口部以
外の実部の任意部分より略垂直方向に突出する脚部が設
けられていることを特徴とする。
は、基板上若しくはその基板に形成された積層構造体上
の選択位置に堆積膜を形成する際に用いられるマスクで
あって、前記選択位置に対応する開口部を有し、かつ、
基板ないし積層構造体に対する対向面に、前記開口部以
外の実部の任意部分より略垂直方向に突出する脚部が設
けられていることを特徴とする。
【００１３】このように本発明においては、所期の位置
に堆積膜を形成する上で、用いられるマスクに脚部を設
け、この脚部によって基板ないしは基板上の積層構造物
にマスクが当接支持されるものとしているので、基板な
いしは基板上の積層構造物における該脚部の当接部を、
例えば、機能性薄膜形成部以外に設定してやれば、マス
ク面自体が基板上の当該薄膜等に触れることがなく、当
該接触によって引き起こされる薄膜等の損傷の虞れがな
くなる。
に堆積膜を形成する上で、用いられるマスクに脚部を設
け、この脚部によって基板ないしは基板上の積層構造物
にマスクが当接支持されるものとしているので、基板な
いしは基板上の積層構造物における該脚部の当接部を、
例えば、機能性薄膜形成部以外に設定してやれば、マス
ク面自体が基板上の当該薄膜等に触れることがなく、当
該接触によって引き起こされる薄膜等の損傷の虞れがな
くなる。
【００１４】さらに上記課題を解決する本発明は、複数
の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であ
って、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示
電極を形成するパターニング工程と、前記露出した第１
表示電極の部分に対応した複数の開口を有し、かつ基板
対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より略垂直
方向に突出する脚部が設けられているマスクを用い、前
記複数の第１表示電極間の間隙部に当該マスクの前記脚
部を位置させ載置することにより、当該マスクを第１表
示電極に接触させることなく、第１表示電極上部に配置
し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介
して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積さ
せ、少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体
の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクト
ロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極
を形成する工程とを含むことを特徴とする。
の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であ
って、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示
電極を形成するパターニング工程と、前記露出した第１
表示電極の部分に対応した複数の開口を有し、かつ基板
対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より略垂直
方向に突出する脚部が設けられているマスクを用い、前
記複数の第１表示電極間の間隙部に当該マスクの前記脚
部を位置させ載置することにより、当該マスクを第１表
示電極に接触させることなく、第１表示電極上部に配置
し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介
して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積さ
せ、少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体
の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクト
ロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極
を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【００１５】このような方法によれば、マスクを第１表
示電極ないしは先に形成した発光層等の下部構造体と接
触させることがないので、当該接触による膜の損傷等が
生じる虞がなく、また、素子中に前記した陰極隔壁のよ
うな構造体を形成する必要がないので、製造工程数が低
減するとともに、得られる素子構造も単純化、薄肉化さ
れ、例えば、素子構造を覆うような保護膜の形成も容易
となる。また本発明によればアクティブマトリックスタ
イプのような、機能上で陰極隔壁の形成ができないよう
なものも、容易に製造可能となる。
示電極ないしは先に形成した発光層等の下部構造体と接
触させることがないので、当該接触による膜の損傷等が
生じる虞がなく、また、素子中に前記した陰極隔壁のよ
うな構造体を形成する必要がないので、製造工程数が低
減するとともに、得られる素子構造も単純化、薄肉化さ
れ、例えば、素子構造を覆うような保護膜の形成も容易
となる。また本発明によればアクティブマトリックスタ
イプのような、機能上で陰極隔壁の形成ができないよう
なものも、容易に製造可能となる。
【００１６】また、本発明によれば、第２表示電極の形
成も、露出した前記発光層の部分に対応した複数の開口
を有し、かつ基板対向面に、前記開口部以外の実部の任
意部分より略垂直方向に突出する脚部が設けられている
マスクを用い、前記複数の発光層の間隙部に当該マスク
の前記脚部を位置させ載置することにより、形成され
る。
成も、露出した前記発光層の部分に対応した複数の開口
を有し、かつ基板対向面に、前記開口部以外の実部の任
意部分より略垂直方向に突出する脚部が設けられている
マスクを用い、前記複数の発光層の間隙部に当該マスク
の前記脚部を位置させ載置することにより、形成され
る。
【００１７】上記有機エレクトロルミネッセンスディス
プレイパネルの製造方法においては、前記第１表示電極
を形成するパターニング工程と前記発光層形成工程の間
に、露出した前記第１表示電極の部分の縁部を覆う絶縁
膜を、前記間隙の一部若しくは全体を埋めて、形成する
工程を含むことが、第１表示電極間相互、あるいは第１
表示電極と第２表示電極間の短絡を防止する上で好まし
いが、さらに、本発明において、好ましくは、前記間隙
部において、前記絶縁膜は、第１表示電極部分の縁部と
接する側方部よりも、中央部分が薄肉なものとされ、当
該間隙部へと配置される前記マスクの脚部に対する凹状
の受け部を形成していることが望ましい。このような構
成とすれば、マスクの脚部を基板側に当接させる際に、
当該凹部に脚部が誘導され、マスクの位置決めが容易と
なり、歩留まりが向上する。
プレイパネルの製造方法においては、前記第１表示電極
を形成するパターニング工程と前記発光層形成工程の間
に、露出した前記第１表示電極の部分の縁部を覆う絶縁
膜を、前記間隙の一部若しくは全体を埋めて、形成する
工程を含むことが、第１表示電極間相互、あるいは第１
表示電極と第２表示電極間の短絡を防止する上で好まし
いが、さらに、本発明において、好ましくは、前記間隙
部において、前記絶縁膜は、第１表示電極部分の縁部と
接する側方部よりも、中央部分が薄肉なものとされ、当
該間隙部へと配置される前記マスクの脚部に対する凹状
の受け部を形成していることが望ましい。このような構
成とすれば、マスクの脚部を基板側に当接させる際に、
当該凹部に脚部が誘導され、マスクの位置決めが容易と
なり、歩留まりが向上する。
【００１８】さらに上記課題を解決する本発明は、上記
製造方法により得られたことを特徴とする有機エレクト
ロルミネッセンスディスプレイパネルである。
製造方法により得られたことを特徴とする有機エレクト
ロルミネッセンスディスプレイパネルである。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下本発明を、好ましい実施の形
態に基づきより詳細に説明する。
態に基づきより詳細に説明する。
【００２０】図１は、本発明に係る堆積膜形成用マスク
の一例の構造を模式的に示す図面である。
の一例の構造を模式的に示す図面である。
【００２１】本発明に係る堆積膜形成用マスクは、基板
上若しくはその基板に形成された積層構造体上の選択位
置に堆積膜を形成する際に用いられるマスク１であっ
て、図１に示すように、その水平板部２に前記選択位置
に対応する１ないし複数の開口部３を有しており、か
つ、水平板部２の基板ないし積層構造体に対する対向面
４に、前記開口部２以外の実部の任意部分より略垂直方
向に突出する脚部５が設けられている。
上若しくはその基板に形成された積層構造体上の選択位
置に堆積膜を形成する際に用いられるマスク１であっ
て、図１に示すように、その水平板部２に前記選択位置
に対応する１ないし複数の開口部３を有しており、か
つ、水平板部２の基板ないし積層構造体に対する対向面
４に、前記開口部２以外の実部の任意部分より略垂直方
向に突出する脚部５が設けられている。
【００２２】なお、実質的なマスクを形成する水平板部
２と、脚部５とは、同一素材によって一体的に形成する
ことも、あるいは同一素材または別の素材を用いて形成
した各部材を、融着、溶接、接着剤等により接合して形
成することができ、また各部材を構成する材質として
も、特に限定されるものではなく、堆積条件に対し不活
性なものである限り、その用途に応じて、ステンレス
鋼、クロム等の金属、アルミナ、チタニア、ジルコニア
等の金属酸化物ないし金属窒化物、ガラス（ＳｉＯ 2）
といった無機物、あるいはポリイミド、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート等の有機物等の各種のものを用いるこ
とができる。
２と、脚部５とは、同一素材によって一体的に形成する
ことも、あるいは同一素材または別の素材を用いて形成
した各部材を、融着、溶接、接着剤等により接合して形
成することができ、また各部材を構成する材質として
も、特に限定されるものではなく、堆積条件に対し不活
性なものである限り、その用途に応じて、ステンレス
鋼、クロム等の金属、アルミナ、チタニア、ジルコニア
等の金属酸化物ないし金属窒化物、ガラス（ＳｉＯ 2）
といった無機物、あるいはポリイミド、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート等の有機物等の各種のものを用いるこ
とができる。
【００２３】脚部５の長さとしては、特に限定されず、
マスクの種類、開口部の大きさ等に応じて適宜設定可能
であるが、例えば、マスクの水平板部２の肉厚を１とし
た場合に、脚部の長さが１／１００以上、より好ましく
は１／１０〜１／２程度とすることが一般的には望まし
い。また、例えば、後述するような、有機ＥＬディスプ
レイパネルの電極形成用、あるいは有機層（発光層）形
成用のマスクとしては、脚部の長さが０．１μｍ以上、
より好ましくは２〜１０μｍ程度のものとすることが通
常望まれる。脚部の長さが、極端に短いものであると、
水平板部（マスク面）と、基板上の構造体との接触を確
実に避けることが困難となり、一方、極端に長いもので
あると、水平板部（マスク面）と基板上の構造体との距
離が離れすぎて、特定部分のみを開放するマスクとして
有効に機能し得なくなる虞れが生じてくるためである。
マスクの種類、開口部の大きさ等に応じて適宜設定可能
であるが、例えば、マスクの水平板部２の肉厚を１とし
た場合に、脚部の長さが１／１００以上、より好ましく
は１／１０〜１／２程度とすることが一般的には望まし
い。また、例えば、後述するような、有機ＥＬディスプ
レイパネルの電極形成用、あるいは有機層（発光層）形
成用のマスクとしては、脚部の長さが０．１μｍ以上、
より好ましくは２〜１０μｍ程度のものとすることが通
常望まれる。脚部の長さが、極端に短いものであると、
水平板部（マスク面）と、基板上の構造体との接触を確
実に避けることが困難となり、一方、極端に長いもので
あると、水平板部（マスク面）と基板上の構造体との距
離が離れすぎて、特定部分のみを開放するマスクとして
有効に機能し得なくなる虞れが生じてくるためである。
【００２４】脚部５の形状としても、直柱状、断面半円
状、断面逆台形状等、特に限定されないが、水平板部側
より、先端部(基板側)に向かい漸次細くなるような形状
のものが、一般的には、基板との当接部をより確実に形
成できるために望ましい。さらに、先端部がアールを有
する丸みを付与されものであるものが、基板との接触に
おいて基板側に損傷を与えにくいことから一般には好ま
しい。
状、断面逆台形状等、特に限定されないが、水平板部側
より、先端部(基板側)に向かい漸次細くなるような形状
のものが、一般的には、基板との当接部をより確実に形
成できるために望ましい。さらに、先端部がアールを有
する丸みを付与されものであるものが、基板との接触に
おいて基板側に損傷を与えにくいことから一般には好ま
しい。
【００２５】また、脚部５の配置数、大きさ等も特に限
定されない。例えば、前記開口部の少なくとも一側面に
沿って設けたり、開口部の周縁を囲繞して設けたりする
ことができる。また、必ずしも、各開口部の全てに対し
て隣接する脚部を設ける必要はなく、マスクを支持でき
る限り、脚部を開口部に対して１つ置きであるとか数個
置きに配置するというように、より少ない数のものであ
ってもよい。さらに、前記脚部は、必ずしも、前記開口
部の実質的全長にわたり連続して存在するものである必
要はなく、点在するものであっても良い。このような脚
部は、上記したように、マスク面と、基板ないしは基板
上の積層構造物との間を、一定の距離に保つ役割を有す
るが、さらに、開口部直下の領域と、それ以外の領域と
を区画する隔壁としての機能も発揮し得、堆積膜形成時
において、所期の部位以外へ膜形成材料が回り込むこと
を防止することができる。なお、この機能の上からは、
前記脚部は、前記開口部の周縁の極力多くの部位に存在
することが望まれる。
定されない。例えば、前記開口部の少なくとも一側面に
沿って設けたり、開口部の周縁を囲繞して設けたりする
ことができる。また、必ずしも、各開口部の全てに対し
て隣接する脚部を設ける必要はなく、マスクを支持でき
る限り、脚部を開口部に対して１つ置きであるとか数個
置きに配置するというように、より少ない数のものであ
ってもよい。さらに、前記脚部は、必ずしも、前記開口
部の実質的全長にわたり連続して存在するものである必
要はなく、点在するものであっても良い。このような脚
部は、上記したように、マスク面と、基板ないしは基板
上の積層構造物との間を、一定の距離に保つ役割を有す
るが、さらに、開口部直下の領域と、それ以外の領域と
を区画する隔壁としての機能も発揮し得、堆積膜形成時
において、所期の部位以外へ膜形成材料が回り込むこと
を防止することができる。なお、この機能の上からは、
前記脚部は、前記開口部の周縁の極力多くの部位に存在
することが望まれる。
【００２６】なお、図１に示す例は、有機ＥＬディスプ
レイパネルの陰極パターニングマスクの一例であり、ス
トライプ状に開口された開口部３に対して、脚部５は、
これら開口部３間にある水平板部２実部毎の下部に、こ
の実部の略全体に大きさで形成されており、前記開口部
の両側面に同様にストライプ状に形成されている。な
お、この例において脚部５の実部への取付け位置５ａ
は、開口部５断面より若干後退、例えば、０〜５μｍ程
度実部中心側に寄った位置とされているが、これは、所
定大きさの陰極部を形成する上で、脚部５の存在が立体
的な障害とならないような配慮からである。しかしなが
ら、脚部の取付け位置としても、特段に限定があるわけ
ではなく、各実施形態に応じて、より開口部断面に近い
位置とすることもあるいはより実部中心側に寄った位置
とすることも可能である。
レイパネルの陰極パターニングマスクの一例であり、ス
トライプ状に開口された開口部３に対して、脚部５は、
これら開口部３間にある水平板部２実部毎の下部に、こ
の実部の略全体に大きさで形成されており、前記開口部
の両側面に同様にストライプ状に形成されている。な
お、この例において脚部５の実部への取付け位置５ａ
は、開口部５断面より若干後退、例えば、０〜５μｍ程
度実部中心側に寄った位置とされているが、これは、所
定大きさの陰極部を形成する上で、脚部５の存在が立体
的な障害とならないような配慮からである。しかしなが
ら、脚部の取付け位置としても、特段に限定があるわけ
ではなく、各実施形態に応じて、より開口部断面に近い
位置とすることもあるいはより実部中心側に寄った位置
とすることも可能である。
【００２７】なお、開口部の存在により、マスクの強度
が問題となる場合には、実際に形成される陰極パターン
の各ストライプピン全てに対応する開口部を設けること
なく、１つ置きないしは複数個置きに対応して、開口部
を設けることで、開口部間の距離（実部幅）を大きなも
のとしたマスクとすることもできる。この場合も脚部
は、開口部に近接して設ければよい。このようなマスク
を用いて一旦、パターニングした後、マスクを一位相分
だけずらして、先に形成したパターン部に隣接したパタ
ーン部を形成するという操作を、所定回数繰り返すこと
で、所期の陰極パターンを形成することも可能である。
が問題となる場合には、実際に形成される陰極パターン
の各ストライプピン全てに対応する開口部を設けること
なく、１つ置きないしは複数個置きに対応して、開口部
を設けることで、開口部間の距離（実部幅）を大きなも
のとしたマスクとすることもできる。この場合も脚部
は、開口部に近接して設ければよい。このようなマスク
を用いて一旦、パターニングした後、マスクを一位相分
だけずらして、先に形成したパターン部に隣接したパタ
ーン部を形成するという操作を、所定回数繰り返すこと
で、所期の陰極パターンを形成することも可能である。
【００２８】図２に示す例は、有機ＥＬディスプレイパ
ネルの有機膜（発光層）パターニングマスクの一例であ
り、図１に示す陰極パターニングマスクとほぼ同様に、
ストライプ状に開口された開口部３に対して、脚部５
は、これら開口部３間に並行して存在する水平板部２実
部毎の下部に、形成されており、前記開口部の両側面に
同様にストライプ状に形成されている。
ネルの有機膜（発光層）パターニングマスクの一例であ
り、図１に示す陰極パターニングマスクとほぼ同様に、
ストライプ状に開口された開口部３に対して、脚部５
は、これら開口部３間に並行して存在する水平板部２実
部毎の下部に、形成されており、前記開口部の両側面に
同様にストライプ状に形成されている。
【００２９】さらに、図３に示す例は、有機ＥＬディス
プレイパネルの有機膜（発光層）パターニングマスクの
別の一例であり、ドット状に開口された開口部３に対し
て、脚部５は、これら開口部３間に存在する水平板部２
実部の下部に、前記開口部３の並行する2側面に並行す
るようにストライプ状に形成されている。
プレイパネルの有機膜（発光層）パターニングマスクの
別の一例であり、ドット状に開口された開口部３に対し
て、脚部５は、これら開口部３間に存在する水平板部２
実部の下部に、前記開口部３の並行する2側面に並行す
るようにストライプ状に形成されている。
【００３０】なお、図示してはいないが、前記したよう
に、ドット状に開口された各開口部３を囲繞するような
矩形形状の脚部を設けることも可能であり、その他、適
当な部位にピン状の脚部を点在させて設けることも可能
である。
に、ドット状に開口された各開口部３を囲繞するような
矩形形状の脚部を設けることも可能であり、その他、適
当な部位にピン状の脚部を点在させて設けることも可能
である。
【００３１】このようなマスクを用いて、基板上の選択
部位に堆積膜を形成する方法としては、従来のマスクを
用いた堆積膜の形成方法と特段変わるところはなく、基
板上に、当該マスクを前記脚部で支持して配置し、開口
された選択部位に所定のソースより蒸着等の適当な手段
によって製膜すればよい。
部位に堆積膜を形成する方法としては、従来のマスクを
用いた堆積膜の形成方法と特段変わるところはなく、基
板上に、当該マスクを前記脚部で支持して配置し、開口
された選択部位に所定のソースより蒸着等の適当な手段
によって製膜すればよい。
【００３２】次に、このような本発明に係るマスクを用
いて、有機ＥＬディスプレイパネルを製造する方法につ
いて説明する。
いて、有機ＥＬディスプレイパネルを製造する方法につ
いて説明する。
【００３３】本発明に係る有機ＥＬディスプレイパネル
の製造方法は、上述したような形状のマスクを用いて、
所定パターンの有機層（発光層）および／または第２表
示電極を形成するものである。
の製造方法は、上述したような形状のマスクを用いて、
所定パターンの有機層（発光層）および／または第２表
示電極を形成するものである。
【００３４】図４は、本発明に係る有機ＥＬディスプレ
イパネルの製造工程を模式的に示す図面である。
イパネルの製造工程を模式的に示す図面である。
【００３５】図４（ａ）に示すように、この有機ＥＬデ
ィスプレイパネルの基板１０上には、ＩＴＯなどからな
る第１表示電極ライン１１が設けられている。第１表示
電極ライン１１は互いに平行な複数のストライプ状に配
列されている。この基板１０上に、上記したような脚付
のマスク１を、マスクの脚部５が、基板上の第１表示電
極ライン１１の各ストライプ間の間隙に配座するように
位置させて、基板上に配置する。この状態において、マ
スク１の開口部３は、第１の色の画素、例えば、赤色の
画素形成部を開口している。開口された位置に、赤色の
有機ＥＬ媒体１２Ａを例えば蒸着などの方法を用いて所
定厚さに成膜する。次に、図４（ｂ）に示すように、マ
スクを移動し、開口部により、第２の色の画素、例え
ば、緑色の画素形成部を開口させ、同様にして、緑色の
有機ＥＬ媒体１２Ｇを所定厚さに成膜する。最後に、図
４（ｃ）に示すように、さらにマスクを移動させ、第３
の色の画素、例えば、青色の画素形成部を開口させ、同
様にして、青色の有機ＥＬ媒体１２Ｂを所定厚さに成膜
する。なお、図ではＲＧＢ３色の２画素のみの説明であ
るが、実際は２次元に複数個の画素を同時に形成する。
なお、各有機ＥＬ媒体は、有機発光層の単一層、あるい
は有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電子輸送層の３
層構造の媒体、または有機正孔輸送層及び有機発光層２
層構造の媒体などであり得る。このようにして発光層形
成が完了するが、前記したように、用いられるマスク
は、脚付であり、マスク面が直接、有機ＥＬ媒体層等の
既に形成した積層構造体に触れることがないため、マス
クの位置合わせ、移動配置した際に、マスクにより有機
ＥＬ媒体層等を傷つけることがない。
ィスプレイパネルの基板１０上には、ＩＴＯなどからな
る第１表示電極ライン１１が設けられている。第１表示
電極ライン１１は互いに平行な複数のストライプ状に配
列されている。この基板１０上に、上記したような脚付
のマスク１を、マスクの脚部５が、基板上の第１表示電
極ライン１１の各ストライプ間の間隙に配座するように
位置させて、基板上に配置する。この状態において、マ
スク１の開口部３は、第１の色の画素、例えば、赤色の
画素形成部を開口している。開口された位置に、赤色の
有機ＥＬ媒体１２Ａを例えば蒸着などの方法を用いて所
定厚さに成膜する。次に、図４（ｂ）に示すように、マ
スクを移動し、開口部により、第２の色の画素、例え
ば、緑色の画素形成部を開口させ、同様にして、緑色の
有機ＥＬ媒体１２Ｇを所定厚さに成膜する。最後に、図
４（ｃ）に示すように、さらにマスクを移動させ、第３
の色の画素、例えば、青色の画素形成部を開口させ、同
様にして、青色の有機ＥＬ媒体１２Ｂを所定厚さに成膜
する。なお、図ではＲＧＢ３色の２画素のみの説明であ
るが、実際は２次元に複数個の画素を同時に形成する。
なお、各有機ＥＬ媒体は、有機発光層の単一層、あるい
は有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電子輸送層の３
層構造の媒体、または有機正孔輸送層及び有機発光層２
層構造の媒体などであり得る。このようにして発光層形
成が完了するが、前記したように、用いられるマスク
は、脚付であり、マスク面が直接、有機ＥＬ媒体層等の
既に形成した積層構造体に触れることがないため、マス
クの位置合わせ、移動配置した際に、マスクにより有機
ＥＬ媒体層等を傷つけることがない。
【００３６】その後、各有機ＥＬ媒体の上に、陰極とな
る第２表示電極を形成するが、この場合も第２表示電極
の形成の場合と同様に、各有機ＥＬ媒体層に対応する位
置が開口した脚付きのマスクを用いて、形成を行うこと
により、マスクの接触による有機ＥＬ媒体層等の既に形
成した積層構造体を損傷することない。陰極の材質は電
気的に導通のあるものならなんでもよいが、Ａｌ，Ｃ
ｕ，Ａｕなど抵抗率の低い金属が望ましいのはもちろん
である。最後に防湿封止を行い、有機ＥＬフルカラーデ
ィスプレイが完成する。
る第２表示電極を形成するが、この場合も第２表示電極
の形成の場合と同様に、各有機ＥＬ媒体層に対応する位
置が開口した脚付きのマスクを用いて、形成を行うこと
により、マスクの接触による有機ＥＬ媒体層等の既に形
成した積層構造体を損傷することない。陰極の材質は電
気的に導通のあるものならなんでもよいが、Ａｌ，Ｃ
ｕ，Ａｕなど抵抗率の低い金属が望ましいのはもちろん
である。最後に防湿封止を行い、有機ＥＬフルカラーデ
ィスプレイが完成する。
【００３７】なお、図４（ａ）〜（ｃ）の工程で３色の
有機ＥＬ媒体ではなく１色分の有機ＥＬ媒体を全面に成
膜すれば、単色のディスプレイができるのは明らかであ
る。また、この１色の色を白色にして、ＲＧＢのフィル
ターと組み合わせれば、フルカラーディスプレイにもな
る。
有機ＥＬ媒体ではなく１色分の有機ＥＬ媒体を全面に成
膜すれば、単色のディスプレイができるのは明らかであ
る。また、この１色の色を白色にして、ＲＧＢのフィル
ターと組み合わせれば、フルカラーディスプレイにもな
る。
【００３８】さらに、本発明の好ましい実施形態におい
ては、表示電極間の短絡、特に第２表示電極エッジ部の
短絡を防止する上で、図５に示すように、予め第１表示
電極１１（ＩＴＯ陽極）が所定の形状にパターニングさ
れた基板上に、露出した前記第１表示電極の部分の縁部
を覆う絶縁膜１３を、前記間隙の一部若しくは全体を埋
めて、形成する。この際に、例えば図６に示すように、
特に、前記絶縁膜１３を、第１表示電極１１部分の縁部
と接する側方部１３ａよりも、中央部分１３ｂが薄肉な
ものとして形成することが望ましい。膜構造上で、この
部位に絶縁膜１３を形成すれば、自然に側方部１３と中
央部分１３ｂとの間に段差が生じるが、さらに、一般的
なフォトリソグラフィーあるいはスパッタリング等の技
術を用いて、中央部分１３ｂの絶縁膜１３をより積極的
に除去したりあるいは中央部１３ｂには絶縁膜が形成さ
れないような態様とすることが望ましい。このようにし
て、当該間隙部に、凹状の受け部を形成する。なお、こ
の受け部の深さとしては、特に限定されないが、例えば
１μｍ以上、特に、１〜５μｍ程度のものであることが
好ましい。この間隙部には、前記したように、マスク１
を配置する際に、その脚部５が配座されるものであるた
め、このような凹状の受け部が形成されていると、図７
に示すように、当該凹部に脚部が誘導され、マスクの位
置決めが容易となり、歩留まりが向上する。
ては、表示電極間の短絡、特に第２表示電極エッジ部の
短絡を防止する上で、図５に示すように、予め第１表示
電極１１（ＩＴＯ陽極）が所定の形状にパターニングさ
れた基板上に、露出した前記第１表示電極の部分の縁部
を覆う絶縁膜１３を、前記間隙の一部若しくは全体を埋
めて、形成する。この際に、例えば図６に示すように、
特に、前記絶縁膜１３を、第１表示電極１１部分の縁部
と接する側方部１３ａよりも、中央部分１３ｂが薄肉な
ものとして形成することが望ましい。膜構造上で、この
部位に絶縁膜１３を形成すれば、自然に側方部１３と中
央部分１３ｂとの間に段差が生じるが、さらに、一般的
なフォトリソグラフィーあるいはスパッタリング等の技
術を用いて、中央部分１３ｂの絶縁膜１３をより積極的
に除去したりあるいは中央部１３ｂには絶縁膜が形成さ
れないような態様とすることが望ましい。このようにし
て、当該間隙部に、凹状の受け部を形成する。なお、こ
の受け部の深さとしては、特に限定されないが、例えば
１μｍ以上、特に、１〜５μｍ程度のものであることが
好ましい。この間隙部には、前記したように、マスク１
を配置する際に、その脚部５が配座されるものであるた
め、このような凹状の受け部が形成されていると、図７
に示すように、当該凹部に脚部が誘導され、マスクの位
置決めが容易となり、歩留まりが向上する。
【００３９】上記のようにして得られる本発明に係る有
機ＥＬディスプレイパネルは、従来技術におけるような
陰極隔壁の存在なく、微細なパターンが形成でき製造工
程に起因して発光層に損傷を与えることがなくなり、隔
壁及びマスクによりＲＧＢ有機層の分離が確実に行な
え、精度良くＲＧＢの媒体の塗り分けでき、また、隔壁
部より発生する水分、ガス等によって、有機ＥＬ媒体が
損傷を受けることもないために、高品質で精度の高い製
品となるものであり、かつ得られる製品は構造が単純か
つ薄肉のものとなり、製品保護のための封止膜の形成も
容易であるといった優れた特性を有するものとなる。
機ＥＬディスプレイパネルは、従来技術におけるような
陰極隔壁の存在なく、微細なパターンが形成でき製造工
程に起因して発光層に損傷を与えることがなくなり、隔
壁及びマスクによりＲＧＢ有機層の分離が確実に行な
え、精度良くＲＧＢの媒体の塗り分けでき、また、隔壁
部より発生する水分、ガス等によって、有機ＥＬ媒体が
損傷を受けることもないために、高品質で精度の高い製
品となるものであり、かつ得られる製品は構造が単純か
つ薄肉のものとなり、製品保護のための封止膜の形成も
容易であるといった優れた特性を有するものとなる。
【００４０】なお、以上は、本発明に係る堆積膜形成方
法およびこれに用いるマスクにつき、有機ＥＬディスプ
レイパネルの製造を中心に説明したが、本発明の堆積膜
形成方法およびこれに用いるマスクの適用分野として
は、これに何ら限定されるものではなく、例えば、液晶
表示素子の画素ないし電極形成等をはじめとするその他
の各種の分野に広く適用可能である。
法およびこれに用いるマスクにつき、有機ＥＬディスプ
レイパネルの製造を中心に説明したが、本発明の堆積膜
形成方法およびこれに用いるマスクの適用分野として
は、これに何ら限定されるものではなく、例えば、液晶
表示素子の画素ないし電極形成等をはじめとするその他
の各種の分野に広く適用可能である。
【００４１】
【発明の効果】以上の述べたように本発明によれば、精
度高く選択位置に堆積膜を形成することができ、マスク
の配置によって、下部の積層構造体を損傷することもな
いので、各種の薄膜デバイスの堆積膜形成、特に、有機
ＥＬディスプレイパネルの製造において好適に使用する
ことが可能である。
度高く選択位置に堆積膜を形成することができ、マスク
の配置によって、下部の積層構造体を損傷することもな
いので、各種の薄膜デバイスの堆積膜形成、特に、有機
ＥＬディスプレイパネルの製造において好適に使用する
ことが可能である。
【図１】 本発明に係るマスクの一実施形態の概略部分
拡大断面図。
拡大断面図。
【図２】 本発明に係るマスクの別の実施形態における
概略斜視図。
概略斜視図。
【図３】 本発明に係るマスクのさらに別の実施形態に
おける概略斜視図。
おける概略斜視図。
【図４】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイパネルの
製造工程を示す模式図。
製造工程を示す模式図。
【図５】 本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造
方法の一実施形態における一工程を示す模式図。
方法の一実施形態における一工程を示す模式図。
【図６】 本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造
方法の別の実施形態における一工程を示す模式図。
方法の別の実施形態における一工程を示す模式図。
【図７】 本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造
方法の別の実施形態における別の工程を示す模式図。
方法の別の実施形態における別の工程を示す模式図。
１ マスク
２ マスク水平部
３ 開口部
５ 脚部
７ 隔壁
１０ 基材
１１ 第１表示電極
１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ 有機ＥＬ媒体
１３ 絶縁膜
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ
33/22 33/22 Ｚ
Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB18 BA06 CB01 DA01
DB03 EB00 FA01
4K029 BA62 BD00 HA01 HA03
5C094 AA08 AA42 AA43 AA48 BA12
BA27 CA19 CA24 DA13 DB01
DB04 EA05 EB02 FA01 FA02
FB01 FB20 GB10
5G435 AA04 AA17 BB05 CC09 HH20
KK05 KK10
Claims (12)
- 【請求項１】 基板上若しくはその基板に形成された積
層構造体上に、開口部を有するマスクを配置して、基板
若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜を形成する
方法において、前記マスクの基板若しくは積層構造体に
対する対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より
略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配置時に、マ
スクの基板対向面全体が、基板若しくは積層構造体に接
触することを防止したことを特徴とする堆積膜の形成方
法。 - 【請求項２】 基板上若しくはその基板に形成された積
層構造体上の選択位置に堆積膜を形成する際に用いられ
るマスクであって、前記選択位置に対応する開口部を有
し、かつ、基板ないし積層構造体に対する対向面に、前
記開口部以外の実部の任意部分より略垂直方向に突出す
る脚部が設けられていることを特徴とするマスク。 - 【請求項３】 前記脚部は、前記開口部の少なくとも一
側面に沿って設けられているものである請求項２に記載
のマスク。 - 【請求項４】 前記脚部は、前記開口部の実質的全長に
わたり連続して存在するものである請求項３に記載のマ
スク。 - 【請求項５】 前記脚部は、前記開口部の少なくとも一
側面に沿って点在するものである請求項３に記載のマス
ク。 - 【請求項６】 前記脚部は、前記開口部の周縁を囲繞し
て設けられているものである請求項２に記載のマスク。 - 【請求項７】 複数の発光部からなる画像表示配列を有
している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパ
ネルの製造方法であって、 基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を
形成するパターニング工程と、 前記露出した第１表示電極の部分に対応した複数の開口
を有し、かつ基板対向面に、前記開口部以外の実部の任
意部分より略垂直方向に突出する脚部が設けられている
マスクを用い、前記複数の第１表示電極間の間隙部に当
該マスクの前記脚部を位置させ載置することにより、当
該マスクを第１表示電極に接触させることなく、第１表
示電極上部に配置し、 有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介して
前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させ、少
くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜
を形成する発光層形成工程と、 前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の
上に第２表示電極を形成する工程とを含むことを特徴と
する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル
の製造方法。 - 【請求項８】 前記発光層形成工程は、第１の有機エレ
クトロルミネッセンス媒体を前記マスクの開口を介して
前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させた
後、１つの前記開口が１つの前記第１表示電極上からそ
の隣接する前記第１表示電極上へ配置されるように前記
マスクを逐次移動せしめ、第２、第３…の有機エレクト
ロルミネッセンス媒体を用いて前記発光層形成工程を逐
次繰り返すことを特徴とする請求項７記載の有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項９】 前記第２表示電極が、露出した前記発光
層の部分に対応した複数の開口を有し、かつ基板対向面
に、前記開口部以外の実部の任意部分より略垂直方向に
突出する脚部が設けられているマスクを用い、前記複数
の発光層の間隙部に当該マスクの前記脚部を位置させ載
置することにより、形成されるものである請求項７また
は８に記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレ
イパネルの製造方法。 - 【請求項１０】 前記第１表示電極を形成するパターニ
ング工程と前記発光層形成工程の間に、露出した前記第
１表示電極の部分の縁部を覆う絶縁膜を、前記間隙の一
部若しくは全体を埋めて、形成する工程を含むことを特
徴とする請求項７９のいずれか１つに記載の有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項１１】 前記間隙部において、前記絶縁膜は、
第１表示電極部分の縁部と接する側方部よりも、中央部
分が薄肉なものとされ、当該間隙部へと配置される前記
マスクの脚部に対する凹状の受け部を形成していること
を特徴とする請求項７〜１０のいずれか１つに記載の有
機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造
方法。 - 【請求項１２】 請求項７〜１１のいずれか１つに記載
の製造方法により得られたことを特徴とする有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001248306A JP4494681B2 (ja) | 2001-08-17 | 2001-08-17 | 堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001248306A JP4494681B2 (ja) | 2001-08-17 | 2001-08-17 | 堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003064467A true JP2003064467A (ja) | 2003-03-05 |
| JP4494681B2 JP4494681B2 (ja) | 2010-06-30 |
Family
ID=19077491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001248306A Expired - Fee Related JP4494681B2 (ja) | 2001-08-17 | 2001-08-17 | 堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4494681B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006009103A1 (ja) * | 2004-07-16 | 2006-01-26 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
| KR100751326B1 (ko) | 2005-02-28 | 2007-08-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 마스크, 그 제조방법 및 상기 마스크를 이용한 유기 발광디스플레이 장치의 제조방법 |
| JP2010180476A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置 |
| KR100986787B1 (ko) * | 2003-03-19 | 2010-10-12 | 도호꾸 파이오니어 가부시끼가이샤 | 성막용 마스크, 유기 ｅｌ 패널, 및 유기 ｅｌ 패널의제조 방법 |
| WO2018198311A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着装置および表示装置の製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03250583A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| JP2000091069A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Pioneer Electronic Corp | 有機ｅｌフルカラーディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| JP2000100576A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Sony Corp | 有機ｅｌディスプレイ |
| JP2000188179A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Nec Corp | 有機薄膜ｅｌデバイスの製造方法 |
| JP2001089841A (ja) * | 1999-09-22 | 2001-04-03 | Sony Corp | 表面加工用冶具及び表面加工方法 |
-
2001
- 2001-08-17 JP JP2001248306A patent/JP4494681B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03250583A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| JP2000091069A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Pioneer Electronic Corp | 有機ｅｌフルカラーディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| JP2000100576A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Sony Corp | 有機ｅｌディスプレイ |
| JP2000188179A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Nec Corp | 有機薄膜ｅｌデバイスの製造方法 |
| JP2001089841A (ja) * | 1999-09-22 | 2001-04-03 | Sony Corp | 表面加工用冶具及び表面加工方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100986787B1 (ko) * | 2003-03-19 | 2010-10-12 | 도호꾸 파이오니어 가부시끼가이샤 | 성막용 마스크, 유기 ｅｌ 패널, 및 유기 ｅｌ 패널의제조 방법 |
| WO2006009103A1 (ja) * | 2004-07-16 | 2006-01-26 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
| KR100751326B1 (ko) | 2005-02-28 | 2007-08-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 마스크, 그 제조방법 및 상기 마스크를 이용한 유기 발광디스플레이 장치의 제조방법 |
| JP2010180476A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置 |
| US8343278B2 (en) | 2009-02-05 | 2013-01-01 | Samsung Display Co., Ltd | Mask assembly and deposition and apparatus for a flat panel display using the same |
| WO2018198311A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着装置および表示装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4494681B2 (ja) | 2010-06-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5952037A (en) | Organic electroluminescent display panel and method for manufacturing the same | |
| JP3813217B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法 | |
| US5701055A (en) | Organic electoluminescent display panel and method for manufacturing the same | |
| JP3401356B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法 | |
| EP0767599B1 (en) | Organic electroluminescent display panel and method for manufacturing the same | |
| JP3570857B2 (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネルとその製造方法 | |
| US6407408B1 (en) | Method for patterning devices | |
| US20040221806A1 (en) | Organic electroluminescent device for fabricating shadow mask | |
| JP2001237073A (ja) | 多面取り用メタルマスク及びその製造方法 | |
| JP2003059671A (ja) | 表示素子及びその製造方法 | |
| US20170179420A1 (en) | 3d oled substrate and fine metal mask | |
| JP2760347B2 (ja) | 有機薄膜電界発光素子およびその製造方法 | |
| JP2003123969A (ja) | 蒸着用マスクおよび有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法 | |
| JP2000100576A (ja) | 有機ｅｌディスプレイ | |
| JPH11329743A (ja) | 電界発光素子およびその製造方法 | |
| US6596443B2 (en) | Mask for patterning devices | |
| JP2003064467A (ja) | 堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル | |
| KR100975295B1 (ko) | 전기 디바이스 및 전기 디바이스 제조 방법 | |
| JP2001230073A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及びその製造方法 | |
| JP3901719B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法 | |
| JP2003142259A (ja) | 有機薄膜発光ディスプレイ及びその製造方法 | |
| JP3926314B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法 | |
| JP3652136B2 (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| JP3901675B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法 | |
| JP2001196171A (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネル及びその製法方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070615 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090930 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091006 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091207 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100112 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100315 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100408 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |