JP2003064274A - Dipyrromethene metal chelate compound and light recording medium using the same - Google Patents

Dipyrromethene metal chelate compound and light recording medium using the same

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JP2003064274A
JP2003064274A JP2001261234A JP2001261234A JP2003064274A JP 2003064274 A JP2003064274 A JP 2003064274A JP 2001261234 A JP2001261234 A JP 2001261234A JP 2001261234 A JP2001261234 A JP 2001261234A JP 2003064274 A JP2003064274 A JP 2003064274A
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Japan
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group
substituted
atom
formula
carbon atoms
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Pending
Application number
JP2001261234A
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Japanese (ja)
Inventor
Taizo Nishimoto
泰三 西本
Shinobu Inoue
忍 井上
Tsutayoshi Misawa
伝美 三沢
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Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light recording medium capable of recording and reproduction with shortwave laser having a wavelength of 520-690 nm, excellent in durability and suitable for high density and high speed recording, and to provide a dipyrromethene metal chelate compound for use in the same. SOLUTION: The light recording medium contains the dipyrromethene metal chelate compound expressed by formula 1 in a recording layer. (In formula 1, A denotes a 2-pyrrolyl group in which hetero atom-containing five member rings are fused). Specifically, examples include a compound of (D-1).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジピロメテ
ン金属キレート化合物、及びこれを用いた、従来に比較
して高密度に記録および再生可能な光記録媒体に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel dipyrromethene metal chelate compound and an optical recording medium using the same, capable of recording and reproducing at a higher density than ever before.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、CDと比較して大容量な光記録媒
体として、容量4.7GBであるDVDが開発され、商
品化されている。DVDは再生専用媒体であるので、こ
の容量に見合った記録再生可能な光記録媒体が望まれて
いる。その中でも、追記型のものはDVD−Rと呼ぶ。
2. Description of the Related Art At present, a DVD having a capacity of 4.7 GB has been developed and commercialized as an optical recording medium having a larger capacity than a CD. Since the DVD is a read-only medium, an optical recording medium capable of recording and reproducing corresponding to this capacity is desired. Among them, the write-once type is called DVD-R.

【0003】DVDでは高密度記録を行うためにレーザ
ー光の発信波長が630nm〜680nm近傍とCDの
場合より短波長化している。このような短波長用途の有
機色素系光記録媒体の色素としては、シアニン、アゾ、
ベンゾピラン、ベンゾジフラノン、インジゴ、ジオキサ
ジン、ポルフィリン系色素等が提案されており、特開平
4−74690号公報、特開平5−38878号公報、
特開平6−40161号公報、特開平6−40162号
公報、特開平6−199045号公報、特開平6−33
6086号公報、特開平7−76169号公報、特開平
7−125441号公報、特開平7−262604号公
報、特開平9−156218号公報、特開平9−193
544号公報、特開平9−193545号公報、特開平
9−193547号公報、特開平9−194748号公
報、特開平9−202052号公報、特開平9−267
562号公報、特開平9−274732号公報等がある
が、耐久性の問題や、特に短波長用途に固有の問題、例
えば、絞られたレーザー光で小さいピットを開けるべき
ところが、周りへの影響が大きく、分布の大きいピット
形成に起因するジッターの悪化、半径方向へのクロスト
ークの悪化や、ピットが極端に小さくなることに起因す
る変調度の悪化、あるいは、目的とするレーザー波長に
おいて、不適切な光学定数(屈折率、消衰係数)を有す
る有機色素を記録層に選択することに起因する反射率の
低下や感度の悪化等についてはなんら解決されていない
のが現状である。
In order to perform high-density recording on DVD, the emission wavelength of laser light is around 630 nm to 680 nm, which is shorter than that of CD. Examples of dyes for such organic dye-based optical recording media for short wavelength use include cyanine, azo,
Benzopyran, benzodifuranone, indigo, dioxazine, porphyrin dyes and the like have been proposed, and are disclosed in JP-A-4-74690 and JP-A-5-38878,
JP-A-6-40161, JP-A-6-40162, JP-A-6-199045, JP-A-6-33
No. 6086, No. 7-76169, No. 7-125441, No. 7-262604, No. 9-156218, No. 9-193.
No. 544, No. 9-193545, No. 9-193547, No. 9-194748, No. 9-202052, No. 9-2672.
562, JP-A-9-274732, etc., but there is a problem of durability and a problem peculiar to short wavelength applications, for example, a place where a small pit should be opened with a narrowed laser beam has an influence on the surroundings. Jitter, deterioration of crosstalk in the radial direction due to the formation of pits with a large distribution and a large distribution, deterioration of modulation due to extremely small pits, and At present, there is no solution to the problems such as reduction in reflectance and deterioration in sensitivity due to selection of an organic dye having an appropriate optical constant (refractive index, extinction coefficient) for the recording layer.

【0004】また、CD−Rにおける記録速度の高速化
に見られるように、今後DVD−Rにおいても通常の記
録速度に比べ、2倍速以上の高速度の記録に対応した光
記録媒体が望まれている。しかし、高速記録にともなう
記録感度の悪化、ジッターの悪化等の問題を有してい
る。
Further, as seen in the increase in the recording speed in the CD-R, an optical recording medium compatible with high-speed recording which is twice as fast as the normal recording speed in the DVD-R is desired in the future. ing. However, there are problems such as deterioration of recording sensitivity and deterioration of jitter associated with high speed recording.

【0005】本発明者らは、先に特開平10−2261
72号公報、特開平11−092682号公報、特開平
11−165465号公報、特開平11−227332
号公報、特開平11−227333号公報、特開平11
−321098号公報等において、新規なジピロメテン
金属キレート化合物を用いた光記録媒体を提案したが、
2倍速以上の高速記録再生特性の更なる向上が望まれて
いる。
The inventors of the present invention have previously disclosed Japanese Patent Laid-Open No. 10-2261.
72, JP-A-11-092682, JP-A-11-165465, and JP-A-11-227332.
JP-A-11-227333, JP-A-11-227333
No. 3,210,981 discloses an optical recording medium using a novel dipyrromethene metal chelate compound.
Further improvement in high-speed recording / reproducing characteristics at double speed or more is desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、波長
520〜690nmの短波長レーザーでの記録および再
生が可能でかつ、耐久性に優れた高密度、高速記録に適
した光記録媒体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical recording medium which is capable of recording and reproducing with a short wavelength laser having a wavelength of 520 to 690 nm and which is excellent in durability and suitable for high density and high speed recording. To provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、有機色素
として前記特開平10−226172号公報等のジピロ
メテン金属キレート化合物を用いた光記録媒体について
更に鋭意検討を進めた結果、ジピロメテン金属キレート
化合物の中で、特定の置換基を選択することにより、記
録特性や、耐久性に優れるばかりでなく、従来の記録速
度に比べ高速度の記録にも対応が可能な光記録媒体が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have further earnestly studied an optical recording medium using a dipyrromethene metal chelate compound as disclosed in JP-A-10-226172 and others, and as a result, dipyrromethene metal chelate. By selecting a specific substituent in the compound, it is possible to obtain an optical recording medium that is not only excellent in recording characteristics and durability, but also capable of recording at a higher speed than the conventional recording speed. The present invention has been completed and the present invention has been completed.

【0008】即ち、本発明は、 下記一般式(1)で示されるジピロメテン系化合物
と金属イオンとのジピロメテン金属キレート化合物。
That is, the present invention is a dipyrromethene metal chelate compound of a dipyrromethene compound represented by the following general formula (1) and a metal ion.

【0009】[0009]

【化5】 [Chemical 5]

【0010】〔式中、R1〜R5は、各々独立に、水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数
20以下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アラルキル基、
アリール基、またはヘテロアリール基を表し、R6は、
ハロゲン原子、炭素数20以下の置換または未置換のア
リール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アリールオキシ基、またはアリールチオ基を表
し、Aは、ヘテロ原子を含む5員環が縮環した2−ピロ
リル基を表す。〕
[In the formula, R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a substituent having 20 or less carbon atoms, or Unsubstituted alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl group,
Represents an aryl group or a heteroaryl group, R 6 is
A halogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less carbon atoms, a heteroaryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, or an arylthio group is represented, and A is a 5-membered ring containing a hetero atom which is condensed. Represents a 2-pyrrolyl group. ]

【0011】 Aが下記一般式(a1)、または(a
2)のいずれかから選択される、ヘテロ原子を含む5員
環が縮環した2−ピロリル基である記載のジピロメテ
ン金属キレート化合物。
A is the following general formula (a1) or (a
The dipyrromethene metal chelate compound according to claim 2, which is selected from any of 2) and is a 2-pyrrolyl group in which a 5-membered ring containing a hetero atom is condensed.

【0012】[0012]

【化6】 [Chemical 6]

【0013】〔式中、R7〜R11は、各々独立に、水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数
20以下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アラルキル基、
アリール基、またはヘテロアリール基を表し、X1は、
酸素原子、硫黄原子、または下記一般式(d)で表され
る置換または未置換の窒素原子を表す。
[Wherein R 7 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a substituent having 20 or less carbon atoms, or Unsubstituted alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl group,
Represents an aryl group or a heteroaryl group, X 1 is
It represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the following general formula (d).

【0014】 −N(R15)− (d) (式中、R15は、水素原子、炭素数20以下の置換また
は未置換のアルキル基、アルケニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表す。)〕
—N (R 15 ) — (d) (In the formula, R 15 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, Represents an aryl group or a heteroaryl group.)]

【0015】 Aが下記一般式(b1)、(b2)、
または(b3)のいずれかから選択される、ヘテロ原子
を含む5員環が縮環した2−ピロリル基である記載の
ジピロメテン金属キレート化合物。
A is the following general formula (b1), (b2),
Alternatively, a dipyrromethene metal chelate compound selected from the group (b3), wherein the 5-membered ring containing a hetero atom is a condensed 2-pyrrolyl group.

【0016】[0016]

【化7】 [Chemical 7]

【0017】〔式中、R7、R12〜R14は、各々独立
に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸
基、炭素数20以下の置換または未置換のアルキル基、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、ア
リールチオ基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アラル
キル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
1は、酸素原子、硫黄原子、または下記一般式(d)
で表される置換または未置換の窒素原子を表す。
[In the formula, R 7 , R 12 to R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a carbon number of 20 or less. A substituted or unsubstituted alkyl group of
An alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acylamino group, an aralkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group,
Y 1 is an oxygen atom, a sulfur atom, or the following general formula (d)
Represents a substituted or unsubstituted nitrogen atom.

【0018】 −N(R15)− (d) (式中、R15は、水素原子、炭素数20以下の置換また
は未置換のアルキル基、アルケニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表す。)〕
—N (R 15 ) — (d) (In the formula, R 15 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, Represents an aryl group or a heteroaryl group.)]

【0019】 Aが下記一般式(c1)、または(c
2)のいずれかから選択される、ヘテロ原子を含む5員
環が縮環した2−ピロリル基である記載のジピロメテ
ン金属キレート化合物。
A is the following general formula (c1) or (c
The dipyrromethene metal chelate compound according to claim 2, which is selected from any of 2) and is a 2-pyrrolyl group in which a 5-membered ring containing a hetero atom is condensed.

【0020】[0020]

【化8】 [Chemical 8]

【0021】〔式中、R7は、水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カ
ルボキシル基、スルホン酸基、炭素数20以下の置換ま
たは未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表し、Z1は、酸素原子、硫黄原
子、または下記一般式(d)で表される置換または未置
換の窒素原子を表す。
[In the formula, R 7 is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group. A group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acylamino group, an aralkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, Z 1 is an oxygen atom or a sulfur atom Or a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the following general formula (d).

【0022】 −N(R15)− (d) (式中、R15は、水素原子、炭素数20以下の置換また
は未置換のアルキル基、アルケニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表す。)〕
—N (R 15 ) — (d) (In the formula, R 15 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, Represents an aryl group or a heteroaryl group.)]

【0023】 基板上に少なくとも記録層および反射
層を有する光記録媒体において、記録層中に、〜記
載のジピロメテン金属キレート化合物を少なくとも1種
含有する光記録媒体。
An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer contains at least one dipyrromethene metal chelate compound described in

【0024】 レーザー波長において、記録層の屈折
率が1.8以上であり、消衰係数が0.04〜0.40
である記載の光記録媒体。
At the laser wavelength, the recording layer has a refractive index of 1.8 or more and an extinction coefficient of 0.04 to 0.40.
The optical recording medium according to item 1.

【0025】 波長520〜690nmの範囲から選
択されるレーザー光に対して、記録および再生が可能で
あるまたはに記載の光記録媒体、に関するものであ
る。
The present invention relates to an optical recording medium capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 520 to 690 nm.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.

【0027】一般式(1)で示されるジピロメテン金属
キレート化合物において、R1〜R5の具体例としては、
水素原子;フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原
子;ニトロ基;シアノ基;ヒドロキシ基;アミノ基;カ
ルボキシル基;スルホン酸基;メチル基、エチル基、n-
プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル
基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペ
ンチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-
ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプ
ロピル基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチル
ペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル
基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-
ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチ
ルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチ
ル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチル
ブチル基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチ
ルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘ
キシル基、n-ヘプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチ
ルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル
基、2,4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチル
ヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチ
ルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメ
チルペンチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-ノニ
ル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5
-ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル
基、1,3,5,7-テトラエチルオクチル基、4-ブチルオクチ
ル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メ
チル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペン
タデシル基、3,5-ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘ
プチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメ
チルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロ
ピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基等
の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換または未
置換のアルキル基;
In the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1), specific examples of R 1 to R 5 are:
Hydrogen atom; halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine, iodine; nitro group; cyano group; hydroxy group; amino group; carboxyl group; sulfonic acid group; methyl group, ethyl group, n-
Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-
Pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methyl Pentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-
Dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group , 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methyl Hexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group , 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4 ,Five
-Dimethylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl- 4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethyl A substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as hexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group;

【0028】メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ
基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ
基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、
iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキ
シ基、n-ドデシルオキシ基等の炭素数20以下、好まし
くは15以下の置換または未置換のアルコキシ基;メチ
ルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロ
ピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-
ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、is
o-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ基、1-メチルブ
チルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピ
ルチオ基、1,1-ジメチルプロピルチオ基等の炭素数20
以下、好ましくは15以下の置換または未置換のアルキ
ルチオ基;
Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group,
A substituted or unsubstituted alkoxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, n-hexyloxy group, n-dodecyloxy group; methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group Group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-
Butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, is
20 carbon atoms such as o-pentylthio group, 2-methylbutylthio group, 1-methylbutylthio group, neo-pentylthio group, 1,2-dimethylpropylthio group, 1,1-dimethylpropylthio group
Or less, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted alkylthio group;

【0029】フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、4-
メチルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノキシ基、2-メト
キシフェノキシ基、4-iso-プロピルフェノキシ基等の炭
素数20以下、好ましくは15以下の置換または未置換
のアリールオキシ基;フェニルチオ基、4-メチルフェニ
ルチオ基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェ
ニルチオ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の
置換または未置換のアリ−ルチオ基;ビニル基、プロペ
ニル基、1-ブテニル基、iso-ブテニル基、1-ペンテニル
基、2-ペンテニル基、2-メチル-1-ブテニル基、3-メチ
ル-1-ブテニル基、2-メチル-2-ブテニル基、2,2-ジシア
ノビニル基、2-シアノ-2-メチルカルボキシルビニル
基、2-シアノ-2-メチルスルホンビニル基、2-フェニル-
1-ブテニル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下
の置換または未置換のアルケニル基;ホルミル基、アセ
チル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル
基、iso-プロピルカルボニル基、n-ブチルカルボニル
基、iso-ブチルカルボニル基、sec-ブチルカルボニル
基、t-ブチルカルボニル基、n-ペンチルカルボニル基、
iso-ペンチルカルボニル基、neo-ペンチルカルボニル
基、2-メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカル
ボニル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置
換または未置換のアシル基;
Phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-
A substituted or unsubstituted aryloxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group; and a phenylthio group, 4 A substituted or unsubstituted arylthio group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as -methylphenylthio group, 2-methoxyphenylthio group, 4-t-butylphenylthio group; vinyl group, propenyl group, 1 -Butenyl group, iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2- Dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methylcarboxyl vinyl group, 2-cyano-2-methylsulfone vinyl group, 2-phenyl-
A substituted or unsubstituted alkenyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as 1-butenyl group; formyl group, acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group Group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group,
a substituted or unsubstituted acyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group, nitrobenzylcarbonyl group;

【0030】メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、イソプロピルオキシカルボニル基、2,4-ジメチル
ブチルオキシカルボニル基等の炭素数20以下、好まし
くは15以下の置換または未置換のアルコキシカルボニ
ル基;カルバモイル基;アセチルアミノ基、エチルカル
ボニルアミノ基、ブチルカルボニルアミノ基等の炭素数
20以下、好ましくは15以下の置換または未置換のア
シルアミノ基;ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノ
ベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル
基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジク
ロロベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジ
ル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル
基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル
基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチ
ル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数
20以下、好ましくは15以下の置換または未置換のア
ラルキル基;
A substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group and a 2,4-dimethylbutyloxycarbonyl group; a carbamoyl group; acetyl A substituted or unsubstituted acylamino group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as amino group, ethylcarbonylamino group, butylcarbonylamino group; benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group , Dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, dichlorobenzyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthyl A substituted or unsubstituted aralkyl group having a carbon number of 20 or less, preferably 15 or less, such as a methyl group, a methylnaphthylmethyl group, a trifluoromethylnaphthylmethyl group;

【0031】フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフ
ェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル
基、n-プロピルフェニル基、ジ(n-プロピル)フェニル
基、トリ(n-プロピル)フェニル基、iso-プロピルフェニ
ル基、ジ(iso-プロピル)フェニル基、トリ(iso-プロピ
ル)フェニル基、n-ブチルフェニル基、ジ(n-ブチル)フ
ェニル基、トリ(n-ブチル)フェニル基、 iso-ブチルフ
ェニル基、ジ(iso-ブチル)フェニル基、トリ(iso-ブチ
ル)フェニル基、 sec-ブチルフェニル基、ジ(sec-ブチ
ル)フェニル基、トリ(sec-ブチル)フェニル基、 t-ブチ
ルフェニル基、ジ(t-ブチル)フェニル基、トリ(t-ブチ
ル)フェニル基、ジメチル-t-ブチルフェニル基、フルオ
ロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、
ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N-ジメチル
アミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シ
アノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチ
ル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、ブロモ
ナフチル基、ヨードナフチル基、メトキシナフチル基、
トリフルオロメチルナフチル基、N,N-ジメチルアミノナ
フチル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置
換または未置換のアリール基;
Phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, hydroxyphenyl group, methylphenyl group,
Dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, ethylphenyl group, diethylphenyl group, triethylphenyl group, n-propylphenyl group, di (n-propyl) phenyl group, tri (n-propyl) phenyl group, iso-propylphenyl group, Di (iso-propyl) phenyl group, tri (iso-propyl) phenyl group, n-butylphenyl group, di (n-butyl) phenyl group, tri (n-butyl) phenyl group, iso-butylphenyl group, di ( iso-butyl) phenyl group, tri (iso-butyl) phenyl group, sec-butylphenyl group, di (sec-butyl) phenyl group, tri (sec-butyl) phenyl group, t-butylphenyl group, di (t- Butyl) phenyl group, tri (t-butyl) phenyl group, dimethyl-t-butylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group,
Iodophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, Chloronaphthyl group, bromonaphthyl group, iodonaphthyl group, methoxynaphthyl group,
A substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as a trifluoromethylnaphthyl group or an N, N-dimethylaminonaphthyl group;

【0032】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基、イソインドイル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のヘテロア
リール基;等を挙げることができる。
Carbons such as pyrrolyl group, thienyl group, furanyl group, oxazoyl group, isoxazoyl group, oxadiazoyl group, imidazoyl group, benzoxazoyl group, benzothiazoyl group, benzimidazoyl group, benzofuranyl group, indoyl group and isoindoyl group. A substituted or unsubstituted heteroaryl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less; and the like.

【0033】R7の具体例としては、フッ素、塩素、臭
素、沃素等のハロゲン原子;フェニル基、ニトロフェニ
ル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチ
ルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニ
ル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエ
チルフェニル基、n-プロピルフェニル基、ジ(n-プロピ
ル)フェニル基、トリ(n-プロピル)フェニル基、iso-プ
ロピルフェニル基、ジ(iso-プロピル)フェニル基、トリ
(iso-プロピル)フェニル基、n-ブチルフェニル基、ジ(n
-ブチル)フェニル基、トリ(n-ブチル)フェニル基、 iso
-ブチルフェニル基、ジ(iso-ブチル)フェニル基、トリ
(iso-ブチル)フェニル基、 sec-ブチルフェニル基、ジ
(sec-ブチル)フェニル基、トリ(sec-ブチル)フェニル
基、 t-ブチルフェニル基、ジ(t-ブチル)フェニル基、
トリ(t-ブチル)フェニル基、ジメチル-t-ブチルフェニ
ル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモ
フェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、
エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
N,N-ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナ
フチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、
メチルナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナフチ
ル基、ブロモナフチル基、ヨードナフチル基、メトキシ
ナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基、N,N-ジメ
チルアミノナフチル基等の炭素数20以下、好ましくは
15以下の置換または未置換のアリール基;
Specific examples of R 7 include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, hydroxyphenyl group, methylphenyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, Ethylphenyl group, diethylphenyl group, triethylphenyl group, n-propylphenyl group, di (n-propyl) phenyl group, tri (n-propyl) phenyl group, iso-propylphenyl group, di (iso-propyl) phenyl group ,bird
(iso-propyl) phenyl group, n-butylphenyl group, di (n
-Butyl) phenyl group, tri (n-butyl) phenyl group, iso
-Butylphenyl group, di (iso-butyl) phenyl group, tri
(iso-butyl) phenyl group, sec-butylphenyl group, di-
(sec-butyl) phenyl group, tri (sec-butyl) phenyl group, t-butylphenyl group, di (t-butyl) phenyl group,
Tri (t-butyl) phenyl group, dimethyl-t-butylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group,
Ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group,
N, N-dimethylaminophenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group,
Methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, chloronaphthyl group, bromonaphthyl group, iodonaphthyl group, methoxynaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group, N, N-dimethylaminonaphthyl group having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less carbon atoms A substituted or unsubstituted aryl group;

【0034】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基、イソインドイル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のヘテロア
リール基;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、
iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、se
c-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、iso-ペ
ントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキシ基、
n-ドデシルオキシ基等の炭素数20以下、好ましくは1
5以下の置換または未置換のアルコキシ基;
Carbons such as pyrrolyl group, thienyl group, furanyl group, oxazoyl group, isoxazoyl group, oxadiazoyl group, imidazoyl group, benzoxazoyl group, benzothiazoyl group, benzimidazoyl group, benzofuranyl group, indoyl group and isoindoyl group. A substituted or unsubstituted heteroaryl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less; a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group,
iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, se
c-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, n-hexyloxy group,
n-dodecyloxy group etc. has 20 or less carbon atoms, preferably 1
A substituted or unsubstituted alkoxy group of 5 or less;

【0035】メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピル
チオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブ
チルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペ
ンチルチオ基、iso-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチ
オ基、1-メチルブチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,
2-ジメチルプロピルチオ基、1,1-ジメチルプロピルチオ
基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換また
は未置換のアルキルチオ基;フェノキシ基、2-メチルフ
ェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノ
キシ基、2-メトキシフェノキシ基、4-iso-プロピルフェ
ノキシ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置
換または未置換のアリールオキシ基;
Methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, 2 -Methylbutylthio group, 1-methylbutylthio group, neo-pentylthio group, 1,
A substituted or unsubstituted alkylthio group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as 2-dimethylpropylthio group and 1,1-dimethylpropylthio group; phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, A substituted or unsubstituted aryloxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group;

【0036】フェニルチオ基、4-メチルフェニルチオ
基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェニルチ
オ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換ま
たは未置換のアリ−ルチオ基;等を挙げることができ
る。
A substituted or unsubstituted arylthio group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as phenylthio group, 4-methylphenylthio group, 2-methoxyphenylthio group, 4-t-butylphenylthio group; Etc. can be mentioned.

【0037】Aは、ヘテロ原子を含む5員環が縮環した
2−ピロリル基を表すが、好ましくは、一般式(a
1)、(a2)、(b1)、(b2)、(b3)、(c
1)、または(c2)で表される2−ピロリル基を表
す。
A represents a 2-pyrrolyl group in which a 5-membered ring containing a hetero atom is condensed, and is preferably a compound represented by the general formula (a)
1), (a2), (b1), (b2), (b3), (c
1) or a 2-pyrrolyl group represented by (c2).

【0038】一般式(a1)、または一般式(a2)で
示される、ヘテロ原子を含む5員環が縮環した2−ピロ
リル基において、R7〜R11の具体例としては、水素原
子;フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子;ニト
ロ基;シアノ基;ヒドロキシ基;アミノ基;カルボキシ
ル基;スルホン酸基;メチル基、エチル基、n-プロピル
基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-
ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル
基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチ
ル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル
基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチ
ル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メ
チルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチル
ブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル
基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-
エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル
基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチ
ル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル
基、n-ヘプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキ
シル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,
4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシ
ル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペン
チル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペ
ンチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-ノニル基、
n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-ジメ
チルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、1,3,
5,7-テトラエチルオクチル基、4-ブチルオクチル基、6,
6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メチル-4-
ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル
基、3,5-ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘプチル
基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメチルヘ
キシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロピル
基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基等の炭
素数20以下、好ましくは15以下の置換または未置換
のアルキル基;
In the 2-pyrrolyl group represented by the general formula (a1) or the general formula (a2), in which a 5-membered ring containing a hetero atom is condensed, a specific example of R 7 to R 11 is a hydrogen atom; Halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine, iodine; nitro group; cyano group; hydroxy group; amino group; carboxyl group; sulfonic acid group; methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl Group, iso-butyl group, sec-
Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclo -Pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1 , 3-Dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-
Ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n- Heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,
4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group Group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group,
n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-dimethylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,
5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,
6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-
Butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group A substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less, such as 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group and 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group;

【0039】メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ
基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ
基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、
iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキ
シ基、n-ドデシルオキシ基等の炭素数20以下、好まし
くは15以下の置換または未置換のアルコキシ基;メチ
ルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロ
ピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-
ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、is
o-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ基、1-メチルブ
チルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピ
ルチオ基、1,1-ジメチルプロピルチオ基等の炭素数20
以下、好ましくは15以下の置換または未置換のアルキ
ルチオ基;フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、4-メ
チルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノキシ基、2-メトキ
シフェノキシ基、4-iso-プロピルフェノキシ基等の炭素
数20以下、好ましくは15以下の置換または未置換の
アリールオキシ基;フェニルチオ基、4-メチルフェニル
チオ基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェニ
ルチオ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置
換または未置換のアリ−ルチオ基;
Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group,
A substituted or unsubstituted alkoxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, n-hexyloxy group, n-dodecyloxy group; methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group Group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-
Butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, is
20 carbon atoms such as o-pentylthio group, 2-methylbutylthio group, 1-methylbutylthio group, neo-pentylthio group, 1,2-dimethylpropylthio group, 1,1-dimethylpropylthio group
Or less, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted alkylthio group; phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group A substituted or unsubstituted aryloxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as a group; carbon such as phenylthio group, 4-methylphenylthio group, 2-methoxyphenylthio group, 4-t-butylphenylthio group 20 or less, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted arylthio group;

【0040】ビニル基、プロペニル基、1-ブテニル基、
iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、2-
メチル-1-ブテニル基、3-メチル-1-ブテニル基、2-メチ
ル-2-ブテニル基、2,2-ジシアノビニル基、2-シアノ-2-
メチルカルボキシルビニル基、2-シアノ-2-メチルスル
ホンビニル基、2-フェニル-1-ブテニル基等の炭素数2
0以下、好ましくは15以下の置換または未置換のアル
ケニル基;ホルミル基、アセチル基、エチルカルボニル
基、n-プロピルカルボニル基、iso-プロピルカルボニル
基、n-ブチルカルボニル基、iso-ブチルカルボニル基、
sec-ブチルカルボニル基、t-ブチルカルボニル基、n-ペ
ンチルカルボニル基、iso-ペンチルカルボニル基、neo-
ペンチルカルボニル基、2-メチルブチルカルボニル基、
ニトロベンジルカルボニル基等の炭素数20以下、好ま
しくは15以下の置換または未置換のアシル基;メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピル
オキシカルボニル基、2,4-ジメチルブチルオキシカルボ
ニル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換
または未置換のアルコキシカルボニル基;カルバモイル
基;アセチルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ブ
チルカルボニルアミノ基等の炭素数20以下、好ましく
は15以下の置換または未置換のアシルアミノ基;
Vinyl group, propenyl group, 1-butenyl group,
iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-
Methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-
2 carbon atoms such as methylcarboxyl vinyl group, 2-cyano-2-methylsulfone vinyl group, 2-phenyl-1-butenyl group
0 or less, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted alkenyl group; formyl group, acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group,
sec-Butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-
Pentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group,
Substituted or unsubstituted acyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as nitrobenzylcarbonyl group; carbon number such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, 2,4-dimethylbutyloxycarbonyl group 20 or less, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group; carbamoyl group; acetylamino group, ethylcarbonylamino group, butylcarbonylamino group, etc., having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted Acylamino group;

【0041】ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベ
ンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、
ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル
基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル
基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル
基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチ
ル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数
20以下、好ましくは15以下の置換または未置換のア
ラルキル基;フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフ
ェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル
基、n-プロピルフェニル基、ジ(n-プロピル)フェニル
基、トリ(n-プロピル)フェニル基、iso-プロピルフェニ
ル基、ジ(iso-プロピル)フェニル基、トリ(iso-プロピ
ル)フェニル基、n-ブチルフェニル基、ジ(n-ブチル)フ
ェニル基、トリ(n-ブチル)フェニル基、 iso-ブチルフ
ェニル基、ジ(iso-ブチル)フェニル基、トリ(iso-ブチ
ル)フェニル基、 sec-ブチルフェニル基、ジ(sec-ブチ
ル)フェニル基、トリ(sec-ブチル)フェニル基、 t-ブチ
ルフェニル基、ジ(t-ブチル)フェニル基、トリ(t-ブチ
ル)フェニル基、ジメチル-t-ブチルフェニル基、フルオ
ロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、
ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N-ジメチル
アミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シ
アノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチ
ル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、ブロモ
ナフチル基、ヨードナフチル基、メトキシナフチル基、
トリフルオロメチルナフチル基、N,N-ジメチルアミノナ
フチル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置
換または未置換のアリール基;
Benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group,
Dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, dichlorobenzyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, A substituted or unsubstituted aralkyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as trifluoromethylnaphthylmethyl group; phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, hydroxyphenyl group, methylphenyl group,
Dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, ethylphenyl group, diethylphenyl group, triethylphenyl group, n-propylphenyl group, di (n-propyl) phenyl group, tri (n-propyl) phenyl group, iso-propylphenyl group, Di (iso-propyl) phenyl group, tri (iso-propyl) phenyl group, n-butylphenyl group, di (n-butyl) phenyl group, tri (n-butyl) phenyl group, iso-butylphenyl group, di ( iso-butyl) phenyl group, tri (iso-butyl) phenyl group, sec-butylphenyl group, di (sec-butyl) phenyl group, tri (sec-butyl) phenyl group, t-butylphenyl group, di (t- Butyl) phenyl group, tri (t-butyl) phenyl group, dimethyl-t-butylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group,
Iodophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, Chloronaphthyl group, bromonaphthyl group, iodonaphthyl group, methoxynaphthyl group,
A substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as a trifluoromethylnaphthyl group or an N, N-dimethylaminonaphthyl group;

【0042】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基、イソインドイル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のヘテロア
リール基;等を挙げることができる。
Carbon such as pyrrolyl group, thienyl group, furanyl group, oxazoyl group, isoxazoyl group, oxadiazoyl group, imidazoyl group, benzoxazoyl group, benzothiazoyl group, benzimidazoyl group, benzofuranyl group, indoyl group, isoindoyl group A substituted or unsubstituted heteroaryl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less; and the like.

【0043】X1の具体例としては、酸素原子、硫黄原
子、または下記一般式(d)で表される置換または未置
換の窒素原子を挙げることができる。
Specific examples of X 1 include an oxygen atom, a sulfur atom, and a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the following general formula (d).

【0044】 −N(R15)− (d) 一般式(d)で示される置換または未置換の窒素原子に
おいて、R15の具体例としては、水素原子;メチル基、
エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル
基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペン
チル基、iso-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-メチル
ブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、
1,1-ジメチルプロピル基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシ
ル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メ
チルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブ
チル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル
基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,
1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチ
ル基、1-エチルブチル基、1,2,2-トリメチルブチル基、
1,1,2-トリメチルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピ
ル基、cyclo-ヘキシル基、n-ヘプチル基、2-メチルヘキ
シル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-
メチルヘキシル基、2,4-ジメチルペンチル基、n-オクチ
ル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、
2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル
基、2,2,4-トリメチルペンチル基、3,5,5-トリメチルヘ
キシル基、n-ノニル基、n-デシル基、4-エチルオクチル
基、4-エチル-4,5-ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル
基、n-ドデシル基、1,3,5,7-テトラエチルオクチル基、
4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリ
デシル基、6-メチル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデ
シル基、n-ペンタデシル基、3,5-ジメチルヘプチル基、
2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,
2,5,5-テトラメチルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2
-ジメチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチル
プロピル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の
置換または未置換のアルキル基;
—N (R 15 ) — (d) In the substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the general formula (d), specific examples of R 15 include a hydrogen atom; a methyl group,
Ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1- Methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group,
1,1-dimethylpropyl group, cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,
1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group,
1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-
Methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group,
2,5,5-Trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4- Ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-dimethylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group,
4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group,
2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,
2,5,5-Tetramethylhexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2
-Substituted or unsubstituted alkyl groups having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as dimethylpropyl group and 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group;

【0045】ビニル基、プロペニル基、1-ブテニル基、
iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、2-
メチル-1-ブテニル基、3-メチル-1-ブテニル基、2-メチ
ル-2-ブテニル基、2,2-ジシアノビニル基、2-シアノ-2-
メチルカルボキシルビニル基、2-シアノ-2-メチルスル
ホンビニル基、2-フェニル-1-ブテニル基等の炭素数2
0以下、好ましくは15以下の置換または未置換のアル
ケニル基;ホルミル基、アセチル基、エチルカルボニル
基、n-プロピルカルボニル基、iso-プロピルカルボニル
基、n-ブチルカルボニル基、iso-ブチルカルボニル基、
sec-ブチルカルボニル基、t-ブチルカルボニル基、n-ペ
ンチルカルボニル基、iso-ペンチルカルボニル基、neo-
ペンチルカルボニル基、2-メチルブチルカルボニル基、
ニトロベンジルカルボニル基等の炭素数20以下、好ま
しくは15以下の置換または未置換のアシル基;
Vinyl group, propenyl group, 1-butenyl group,
iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-
Methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-
2 carbon atoms such as methylcarboxyl vinyl group, 2-cyano-2-methylsulfone vinyl group, 2-phenyl-1-butenyl group
0 or less, preferably 15 or less, substituted or unsubstituted alkenyl group; formyl group, acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group,
sec-Butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-
Pentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group,
A substituted or unsubstituted acyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as a nitrobenzylcarbonyl group;

【0046】メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、イソプロピルオキシカルボニル基、2,4-ジメチル
ブチルオキシカルボニル基等の炭素数20以下、好まし
くは15以下の置換または未置換のアルコキシカルボニ
ル基;ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル
基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチ
ルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジ
ル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリ
フルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロ
ナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキ
シナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフ
ルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数20以下、好
ましくは15以下の置換または未置換のアラルキル基;
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒ
ドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェ
ニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジ
エチルフェニル基、トリエチルフェニル基、n-プロピル
フェニル基、ジ(n-プロピル)フェニル基、トリ(n-プロ
ピル)フェニル基、iso-プロピルフェニル基、ジ(iso-プ
ロピル)フェニル基、トリ(iso-プロピル)フェニル基、n
-ブチルフェニル基、ジ(n-ブチル)フェニル基、トリ(n-
ブチル)フェニル基、 iso-ブチルフェニル基、ジ(iso-
ブチル)フェニル基、トリ(iso-ブチル)フェニル基、 se
c-ブチルフェニル基、ジ(sec-ブチル)フェニル基、トリ
(sec-ブチル)フェニル基、 t-ブチルフェニル基、ジ(t-
ブチル)フェニル基、トリ(t-ブチル)フェニル基、ジメ
チル-t-ブチルフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオ
ロメチルフェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル基、
ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒ
ドロキシナフチル基、メチルナフチル基、フルオロナフ
チル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、ヨード
ナフチル基、メトキシナフチル基、トリフルオロメチル
ナフチル基、N,N-ジメチルアミノナフチル基等の炭素数
20以下、好ましくは15以下の置換または未置換のア
リール基;
A substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, 2,4-dimethylbutyloxycarbonyl group; benzyl group, nitro Benzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, dichlorobenzyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, A substituted or unsubstituted aralkyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as a cyanonaphthylmethyl group, a hydroxynaphthylmethyl group, a methylnaphthylmethyl group, a trifluoromethylnaphthylmethyl group;
Phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl, dimethylphenyl, trimethylphenyl, ethylphenyl, diethylphenyl, triethylphenyl, n-propylphenyl, di (n-propyl) ) Phenyl group, tri (n-propyl) phenyl group, iso-propylphenyl group, di (iso-propyl) phenyl group, tri (iso-propyl) phenyl group, n
-Butylphenyl group, di (n-butyl) phenyl group, tri (n-
Butyl) phenyl group, iso-butylphenyl group, di (iso-
Butyl) phenyl group, tri (iso-butyl) phenyl group, se
c-Butylphenyl group, di (sec-butyl) phenyl group, tri
(sec-Butyl) phenyl group, t-butylphenyl group, di (t-
Butyl) phenyl group, tri (t-butyl) phenyl group, dimethyl-t-butylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group,
Methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group,
Naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, chloronaphthyl group, bromonaphthyl group, iodonaphthyl group, methoxynaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group, N, N-dimethyl A substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms such as aminonaphthyl group;

【0047】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基、イソインドイル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のヘテロア
リール基;等を挙げることができる。
Carbon such as pyrrolyl group, thienyl group, furanyl group, oxazoyl group, isoxazoyl group, oxadiazoyl group, imidazoyl group, benzoxazoyl group, benzothiazoyl group, benzimidazoyl group, benzofuranyl group, indoyl group, isoindoyl group A substituted or unsubstituted heteroaryl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less; and the like.

【0048】一般式(b1)、(b2)、または(b
3)で示される、ヘテロ原子を含む5員環が縮環した2
−ピロリル基において、R7、R12〜R14の具体例とし
ては、前記一般式(a1)、(a2)におけるR7〜R
11と同様の置換基を挙げることができる。
General formula (b1), (b2), or (b
3), which is a condensed 5-membered ring containing a hetero atom
In the -pyrrolyl group, specific examples of R 7 and R 12 to R 14 include R 7 to R in the general formulas (a1) and (a2).
The same substituents as 11 can be mentioned.

【0049】Y1の具体例としては、酸素原子、硫黄原
子、または前記一般式(d)で表される置換または未置
換の窒素原子を挙げることができる。
Specific examples of Y 1 include an oxygen atom, a sulfur atom, and a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the general formula (d).

【0050】一般式(c1)、または(c2)で示され
る、ヘテロ原子を含む5員環が縮環した2−ピロリル基
において、R7の具体例としては、前記一般式(a
1)、(a2)におけるR7と同様の置換基を挙げるこ
とができる。
In the 2-pyrrolyl group represented by the general formula (c1) or (c2), in which a 5-membered ring containing a hetero atom is condensed, specific examples of R 7 include the general formula (a).
The same substituents as R 7 in 1) and (a2) can be mentioned.

【0051】Z1の具体例としては、酸素原子、硫黄原
子、または前記一般式(d)で表される置換または未置
換の窒素原子を挙げることができる。
Specific examples of Z 1 include an oxygen atom, a sulfur atom, and a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the general formula (d).

【0052】一般式(1)で示されるジピロメテン系化
合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレート化合物
において、金属イオンの具体例としては、ジピロメテン
化合物とキレートを形成する能力を有する遷移元素であ
れば特に制限されないが、8、9、10族(VIII族)、
11族(Ib族)、12族(IIb族)、3族(IIIa族)、
4族(IVa族)、5族(Va族)、6族(VIa族)、7族
(VIIa族)の金属イオンが挙げられ、好ましくは、ニッ
ケル、コバルト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、銅、オスミウム、イリジウム、白金、亜鉛等であ
り、耐光性の点から特に銅、コバルトが好ましい。
In the dipyrromethene metal chelate compound of the dipyrromethene compound represented by the general formula (1) and a metal ion, a specific example of the metal ion is not particularly limited as long as it is a transition element capable of forming a chelate with the dipyrromethene compound. It is not done, but groups 8, 9 and 10 (group VIII),
Group 11 (Ib group), Group 12 (IIb group), Group 3 (IIIa group),
Examples thereof include metal ions of Group 4 (IVa group), Group 5 (Va group), Group 6 (VIa group) and Group 7 (VIIa group), preferably nickel, cobalt, iron, ruthenium, rhodium, palladium and copper. , Osmium, iridium, platinum, zinc and the like, and copper and cobalt are particularly preferable from the viewpoint of light resistance.

【0053】本発明の一般式(1)で示されるジピロメ
テン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレー
ト化合物は、限定されないが、例えば、Aust. J. Che
m., 1965, 11, 1835-45、Heteroatom Chemistry, Vol.
1, 5, 389(1990)、USP-4,774,339、USP-5,433,896等に
記載の方法に準じて製造される。代表的には、以下の2
段階反応にて製造することができる。
The dipyrromethene metal chelate compound of the present invention represented by the general formula (1) and the metal ion is not limited, and examples thereof include Aust. J. Che.
m., 1965, 11, 1835-45, Heteroatom Chemistry, Vol.
It is produced according to the method described in 1, 5, 389 (1990), USP-4,774,339, USP-5,433,896 and the like. Typically, the following 2
It can be produced by a stepwise reaction.

【0054】まず、第1段階では一般式(2)で示され
る化合物と一般式(3)で示される化合物、又は一般式
(4)で示される化合物と一般式(5)で示される化合
物とを臭化水素酸や塩化水素酸等の酸触媒の存在下、適
当な溶媒中で反応して、一般式(1)で示されるジピロ
メテン化合物を得る。次いで第2段階では一般式(1)
で示されるジピロメテン化合物とニッケル、コバルト、
鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オスミウ
ム、イリジウム、白金、亜鉛等金属の酢酸塩やハロゲン
化物とを反応させて、一般式(1)で示されるジピロメ
テン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレー
ト化合物を得る。
First, in the first step, the compound represented by the general formula (2) and the compound represented by the general formula (3), or the compound represented by the general formula (4) and the compound represented by the general formula (5) are used. Is reacted in the presence of an acid catalyst such as hydrobromic acid or hydrochloric acid in a suitable solvent to obtain a dipyrromethene compound represented by the general formula (1). Next, in the second stage, the general formula (1)
Dipyrromethene compound represented by and nickel, cobalt,
A dipyrromethene metal chelate of a dipyrromethene compound represented by the general formula (1) with a metal ion by reacting with an acetate or halide of a metal such as iron, ruthenium, rhodium, palladium, copper, osmium, iridium, platinum and zinc. Obtain the compound.

【0055】[0055]

【化9】 〔式(2)〜(5)において、R1〜R6、及びAは前記
と同じ意味を表す。〕
[Chemical 9] [In the formulas (2) to (5), R 1 to R 6 and A have the same meanings as described above. ]

【0056】表−1に本発明の一般式(1)で示される
ジピロメテン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金
属キレート化合物の具体例を示す。表中、D−1〜D−
160は、一般式(1)で示されるジピロメテン系化合
物と金属イオンとのジピロメテン金属キレート化合物の
通し番号を表し、1−1〜1−160は、一般式(1)
で示されるジピロメテン系化合物の通し番号を表す。
Table 1 shows specific examples of the dipyrromethene metal chelate compound of the present invention represented by the general formula (1) and the metal ion. In the table, D-1 to D-
160 represents the serial number of the dipyrromethene metal chelate compound of the dipyrromethene compound represented by the general formula (1) and a metal ion, and 1-1 to 1-160 represent the general formula (1).
Represents the serial number of the dipyrromethene compound.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】[0059]

【表3】 [Table 3]

【0060】[0060]

【表4】 [Table 4]

【0061】[0061]

【表5】 [Table 5]

【0062】[0062]

【表6】 [Table 6]

【0063】[0063]

【表7】 [Table 7]

【0064】[0064]

【表8】 [Table 8]

【0065】[0065]

【表9】 [Table 9]

【0066】[0066]

【表10】 [Table 10]

【0067】[0067]

【表11】 [Table 11]

【0068】[0068]

【表12】 [Table 12]

【0069】[0069]

【表13】 [Table 13]

【0070】[0070]

【表14】 [Table 14]

【0071】[0071]

【表15】 [Table 15]

【0072】[0072]

【表16】 [Table 16]

【0073】[0073]

【表17】 [Table 17]

【0074】[0074]

【表18】 [Table 18]

【0075】[0075]

【表19】 [Table 19]

【0076】[0076]

【表20】 [Table 20]

【0077】本発明の具体的構成について以下に説明す
る。光記録媒体とは予め情報を記録されている再生専用
の光再生専用媒体及び情報を記録して再生することので
きる光記録媒体の両方を示すものである。但し、ここで
は適例として後者の情報を記録して再生のできる光記録
媒体、特に基板上に記録層、反射層を有する光記録媒体
に関して説明する。本発明の光記録媒体は図1に示すよ
うな貼り合わせ構造を有している。すなわち、基板1上
に記録層2が形成されており、その上に密着して反射層
3が設けられており、さらにその上に接着層4を介して
基板5が貼り合わされている。ただし、記録層2の下ま
たは上に別の層があっても良く、反射層3の上に別の層
があっても良い。
A specific configuration of the present invention will be described below. The optical recording medium refers to both a read-only optical read-only medium in which information is recorded in advance and an optical recording medium in which information can be recorded and reproduced. However, here, as a suitable example, an optical recording medium capable of recording and reproducing the latter information, particularly an optical recording medium having a recording layer and a reflective layer on a substrate will be described. The optical recording medium of the present invention has a bonding structure as shown in FIG. That is, the recording layer 2 is formed on the substrate 1, the reflective layer 3 is provided in close contact with the recording layer 2, and the substrate 5 is further bonded thereto via the adhesive layer 4. However, another layer may be provided below or above the recording layer 2, and another layer may be provided above the reflective layer 3.

【0078】基板の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹
脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に
成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピット
を形成することもある。このような案内溝やピットは、
基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に
紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。通常
DVDとして用いる場合は、厚さ1.2mm程度、直径
80ないし120mm程度の円盤状であり、中央に直径
15mm程度の穴が開いている。
Basically, the material of the substrate should be transparent at the wavelengths of the recording light and the reproducing light. For example, a polymer material such as a polycarbonate resin, a vinyl chloride resin, an acrylic resin such as polymethylmethacrylate, a polystyrene resin, an epoxy resin, or an inorganic material such as glass is used.
These substrate materials are formed into a disc-shaped substrate by an injection molding method or the like. Guide grooves or pits may be formed on the surface of the substrate as needed. Such guide grooves and pits
Although it is desirable to apply it at the time of molding the substrate, it is also possible to apply it by using an ultraviolet curable resin layer on the substrate. When used as a normal DVD, it has a disk shape with a thickness of about 1.2 mm and a diameter of about 80 to 120 mm, and has a hole with a diameter of about 15 mm in the center.

【0079】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、λmaxが450nm〜630
nm付近に存在する一般式(1)で示されるジピロメテ
ン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレート
化合物を含有する。中でも、520nm〜690nmよ
り選択される記録および再生レーザー波長に対して適度
な光学定数(光学定数は複素屈折率(n+ki)で表現
される。式中のn、kは、実数部nと虚数部kとに相当
する係数である。ここでは、nを屈折率、kを消衰係数
とする。)を有する必要がある。
In the present invention, a recording layer is provided on the substrate. The recording layer of the present invention has a λmax of 450 nm to 630.
It contains a dipyrromethene metal chelate compound of a metal ion with a dipyrromethene compound represented by the general formula (1) present in the vicinity of nm. Above all, an appropriate optical constant for a recording and reproducing laser wavelength selected from 520 nm to 690 nm (the optical constant is expressed by a complex refractive index (n + ki). In the formula, n and k are a real part n and an imaginary part. It is necessary to have a coefficient corresponding to k, where n is a refractive index and k is an extinction coefficient.

【0080】一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率
nと消衰係数kが大きく変化する特徴がある。nが1.8
より小さい値になると正確な信号読み取りに必要な反射
率と信号変調度は得られず、kが0.40を越えても反
射率が低下して良好な再生信号が得られないだけでな
く、再生光により信号が変化しやすく実用に適さない。
この特徴を考慮して、目的とするレーザー波長において
好ましい光学定数を有する有機色素を選択し記録層を成
膜することで、高い反射率を有し、かつ、感度の良い媒
体とすることができる。
Generally, the organic dye has a refractive index with respect to the wavelength λ.
It is characterized by a large change in n and the extinction coefficient k. n is 1.8
When the value is smaller, the reflectance and the signal modulation required for accurate signal reading cannot be obtained, and even if k exceeds 0.40, the reflectance decreases and a good reproduced signal cannot be obtained. The signal is likely to change due to the reproduction light, which is not suitable for practical use.
In consideration of this feature, by selecting an organic dye having a preferable optical constant at a target laser wavelength and forming a recording layer, a medium having high reflectance and high sensitivity can be obtained. .

【0081】本発明で使用する一般式(1)で示される
ジピロメテン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金
属キレート化合物は、通常の有機色素に比べ、吸光係数
が高く、また置換基の選択により吸収波長域を任意に選
択できるため、前記レーザー光の波長において記録層に
必要な光学定数(nが1.8以上、且つ、kが0.04
から0.40であり、好ましくは、nが2.0以上、且
つ、kが0.04〜0.20)を満足する極めて有用な
化合物である。
The dipyrromethene metal chelate compound of the general formula (1) used in the present invention and the metal ion of the dipyrromethene compound has a higher extinction coefficient than ordinary organic dyes, and the absorption wavelength depends on the selection of the substituent. Since the range can be arbitrarily selected, the optical constants required for the recording layer at the wavelength of the laser light (n is 1.8 or more and k is 0.04
To 0.40, preferably n is 2.0 or more, and k is 0.04 to 0.20), which is a very useful compound.

【0082】本発明の記録層においては、更に、記録特
性などの改善のために、一般式(1)で示されるジピロ
メテン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレ
ート化合物を2種以上を混合しても良い。ジピロメテン
金属キレート化合物の混合割合については特に制限はさ
れないが、前記の理由で、光学定数nが1.8以上、好
ましくは2.0以上で、且つ、kが0.04から0.4
0であり、好ましくは0.04〜0.20になるように
混合するのが好ましい。
In the recording layer of the present invention, two or more dipyrromethene metal chelate compounds of the general formula (1) and metal ions are mixed in order to improve recording characteristics and the like. Is also good. The mixing ratio of the dipyrromethene metal chelate compound is not particularly limited, but for the above reason, the optical constant n is 1.8 or more, preferably 2.0 or more, and k is 0.04 to 0.4.
It is preferable to mix so as to be 0, preferably 0.04 to 0.20.

【0083】また、波長450nm〜630nmに吸収
極大を有し、520nm〜690nmでの屈折率が大き
い前記以外の色素と混合しても良い。具体的には、シア
ニン系色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン系色
素、アントラキノン系色素、ポルフィリン系色素、アザ
ポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系色
素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオ
ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニル
メタン系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色
素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニ
ン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサ
ジン系色素等があり、複数の色素の混合であっても良
い。これらの色素の混合割合は、0.1〜30%程度で
ある。
Further, it may be mixed with a dye other than the above which has an absorption maximum at a wavelength of 450 nm to 630 nm and has a large refractive index at 520 nm to 690 nm. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, porphyrin dyes, azaporphyrin dyes, tetrapyrporphyrazine dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, Azurenium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, indasulen dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, etc. It may be mixed. The mixing ratio of these dyes is about 0.1 to 30%.

【0084】更に、一般式(1)で示されるジピロメテ
ン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレート
化合物の、520nm〜690nmから選択される記録
及び再生レーザー波長に対してのkが小さい場合には、
記録特性などの改善のために、波長600nm〜900
nmに吸収極大を有する光吸収化合物と混合しても良
い。具体的には、シアニン系色素、スクアリリウム系色
素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ポル
フィリン系色素、アザポルフィリン系色素、テトラピラ
ポルフィラジン系色素、インドフェノール系色素、ピリ
リウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、
インダスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系
色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジ
ン系色素、オキサジン系色素、フタロシアニン系色素、
ナフタロシアニン系色素等があり、複数の色素の混合で
あっても良い。これらの色素の混合割合は、0.1〜3
0%程度である。
Further, when the dipyrromethene metal chelate compound of the dipyrromethene compound represented by the general formula (1) and a metal ion has a small k for a recording and reproducing laser wavelength selected from 520 nm to 690 nm,
Wavelength 600nm-900 for improving recording characteristics
You may mix with the light absorption compound which has an absorption maximum in nm. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, porphyrin dyes, azaporphyrin dyes, tetrapyrporphyrazine dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, Azurenium dye, triphenylmethane dye, xanthene dye,
Induslen dye, indigo dye, thioindigo dye, merocyanine dye, thiazine dye, acridine dye, oxazine dye, phthalocyanine dye,
There are naphthalocyanine dyes and the like, and a mixture of a plurality of dyes may be used. The mixing ratio of these dyes is 0.1 to 3
It is about 0%.

【0085】本発明の光記録媒体を520nm〜690
nmから選択されるレーザー光で再生することは、基本
的には、反射率が20%あれば一応可能であるが、30
%以上の反射率が好ましい。
The optical recording medium of the present invention is manufactured from 520 nm to 690 nm.
Reproduction with a laser beam selected from nm is basically possible if the reflectance is 20%.
% Or more is preferable.

【0086】記録層を成膜する際に、必要に応じて前記
の色素に、クエンチャー、色素分解促進剤、紫外線吸収
剤、接着剤、吸熱分解化合物などを混合するか、あるい
は、そのような効果を有する化合物を前記色素の置換基
として導入することも可能である。
When forming the recording layer, if necessary, a quencher, a dye decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive, an endothermic decomposition compound, or the like is mixed with the above dye, or It is also possible to introduce a compound having an effect as a substituent of the dye.

【0087】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフ
ェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミン
も好適である。
Specific examples of the quencher include acetylacetonate type, bisdithiol type such as bisdithio-α-diketone type and bisphenyldithiol type, thiocatechol type, salicylaldehyde oxime type and thiobisphenolate type metal. Complexes are preferred. Also, amines are suitable.

【0088】熱分解促進剤としては、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナート系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。
Examples of the thermal decomposition accelerator include metal compounds such as metal anti-knocking agents, metallocene compounds and acetylacetonate metal complexes.

【0089】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などを併用することもできる。好まし
いバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、
ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポ
リオレフィンなどが挙げられる。
Further, if necessary, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be used in combination. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate,
Examples thereof include ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

【0090】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。
When the recording layer is formed on the substrate, in order to improve the solvent resistance, reflectance, recording sensitivity, etc. of the substrate,
A layer made of an inorganic material or a polymer may be provided on the substrate.

【0091】ここで、記録層における一般式(1)で示
されるジピロメテン系化合物と金属イオンとのジピロメ
テン金属キレート化合物の含有量は、30%以上、好ま
しくは60%以上である。尚、実質的に100%である
ことも好ましい。
Here, the content of the dipyrromethene metal chelate compound of the dipyrromethene compound represented by the general formula (1) and the metal ion in the recording layer is 30% or more, preferably 60% or more. It is also preferable that it is substantially 100%.

【0092】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布
法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げら
れるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
Examples of the method for providing the recording layer include a coating method such as a spin coating method, a spraying method, a casting method and a dipping method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method and a vacuum vapor deposition method. The spin coating method is simple. Is preferred.

【0093】スピンコート法等の塗布法を用いる場合に
は、一般式(1)で示されるジピロメテン系化合物と金
属イオンとのジピロメテン金属キレート化合物を1〜4
0重量%、好ましくは3〜30重量%となるように溶媒
に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、
溶媒は基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ま
しい。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピル
アルコール、オクタフルオロペンタノール、アリルアル
コール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラ
フルオロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチル
シクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶
媒、トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水
素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエ
タン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセ
トン、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノンなどのケトン
系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル系溶
媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても良
く、あるいは、複数混合しても良い。
When a coating method such as spin coating is used, 1 to 4 dipyrromethene metal chelate compounds of the dipyrromethene compound represented by the general formula (1) and metal ions are used.
A coating solution which is dissolved or dispersed in a solvent so as to be 0% by weight, preferably 3 to 30% by weight is used.
It is preferable to select a solvent that does not damage the substrate. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrafluoropropanol, hexane, heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane. Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as, toluene, xylene, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane, dibromoethane, diethyl ether, Ether-based solvents such as dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane, ketone-based solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone, ethyl acetate and lactic acid Ester solvents such as Le, and water. These may be used alone or in combination of two or more.

【0094】なお、必要に応じて、記録層の色素を高分
子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
If necessary, the dye in the recording layer may be dispersed in a polymer thin film or the like and used.

【0095】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。
When a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, sputtering, chemical vapor deposition, vacuum vapor deposition, etc. are effective.

【0096】色素層の膜厚は、特に限定するものではな
いが、好ましくは50nm〜300nmである。色素層
の膜厚を50nmより薄くすると、熱拡散が大きいため
記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅
が小さくなる。また、膜厚が300nmより厚い場合は
反射率が低下し、再生信号特性が悪化する。
The thickness of the dye layer is not particularly limited, but is preferably 50 nm to 300 nm. When the film thickness of the dye layer is less than 50 nm, recording cannot be performed because of large thermal diffusion, distortion occurs in the recording signal, and the signal amplitude becomes small. Further, when the film thickness is thicker than 300 nm, the reflectance is lowered and the reproduction signal characteristic is deteriorated.

【0097】次に記録層の上に、好ましくは50nm〜
300nmの厚さの反射層を形成する。反射層の材料と
しては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例え
ば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、P
t、Ta、CrおよびPdの金属を単独あるいは合金に
して用いることが可能である。この中でもAu、Al、
Agは反射率が高く反射層の材料として適している。こ
れ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、M
g、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、F
e、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属お
よび半金属を挙げることができる。また、Auを主成分
とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため
好適である。ここで主成分というのは含有率が50%以
上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈
折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層と
して用いることも可能である。
Next, on the recording layer, preferably 50 nm-
A reflective layer having a thickness of 300 nm is formed. The material of the reflective layer has a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, P.
The metals of t, Ta, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among these, Au, Al,
Ag has a high reflectance and is suitable as a material for the reflective layer. Other than the above, the following may be included. For example, M
g, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, F
e, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, S
Mention may be made of metals and metalloids such as i, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi. Further, a material containing Au as a main component is preferable because a reflective layer having a high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means that the content rate is 50% or more. It is also possible to stack a low refractive index thin film and a high refractive index thin film alternately with a material other than metal to form a multilayer film and use it as a reflective layer.

【0098】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。
As a method of forming the reflective layer, for example,
Examples of the method include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method and the like. Further, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer in order to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion.

【0099】さらに、反射層の上の保護層の材料として
は反射層を外力から保護するものであれば特に限定しな
い。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げること
ができる。また、無機物質としては、SiO2、Si3
4、MgF2、SnO2などが挙げられる。熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して塗布液を
塗布し、乾燥することによって形成することができる。
紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶媒に溶
解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外
線を照射して硬化させることによって形成することがで
きる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンア
クリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアク
リレートなどのアクリレート樹脂を用いることができ
る。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良
く、1層だけでなく多層膜にして用いても良い。
Further, the material of the protective layer on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. As the organic substance, a thermoplastic resin, a thermosetting resin,
Examples thereof include electron beam curable resins and ultraviolet curable resins. Further, as the inorganic substance, SiO 2 , Si 3 N
4 , MgF 2 , SnO 2 and the like. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by dissolving in a suitable solvent, applying a coating solution, and drying.
The UV-curable resin can be formed as it is or by dissolving it in a suitable solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution, and then irradiating it with ultraviolet rays to cure it. As the ultraviolet curable resin, for example, an acrylate resin such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, and may be used not only as one layer but also as a multilayer film.

【0100】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。
As a method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method and the like are used similarly to the recording layer, and the spin coating method is preferable among them.

【0101】保護層の膜厚は、一般には0.1μm〜1
00μmの範囲であるが、本発明においては、3μm〜
30μmであり、より好ましくは5μm〜20μmであ
る。
The thickness of the protective layer is generally 0.1 μm to 1
Although it is in the range of 00 μm, in the present invention, 3 μm
It is 30 μm, and more preferably 5 μm to 20 μm.

【0102】保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を
行うこともできる。また、反射層面に保護シートまたは
基板を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし
対向させ、光記録媒体2枚を貼り合わせるなどの手段を
用いても良い。また、基板鏡面側に、表面保護やごみ等
の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を
成膜しても良い。
Printing such as a label can be further performed on the protective layer. Alternatively, a protective sheet or substrate may be attached to the reflective layer surface, or two optical recording media may be attached such that the reflective layer surfaces face each other inside. In addition, an ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface side of the substrate in order to protect the surface or prevent adhesion of dust or the like.

【0103】本発明でいう波長520nm〜690nm
のレーザーは、特に制限はないが、例えば、可視光領域
の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波長633
nmのヘリウムネオンレーザー、最近開発されている波
長680、650、635nm付近の高出力半導体レー
ザー、波長532nmの高調波変換YAGレーザーなど
が挙げられる。本発明では、これらから選択される1波
長または複数波長において高密度記録および再生が可能
となる。
Wavelength referred to in the present invention is 520 nm to 690 nm
The laser is not particularly limited, but for example, a dye laser capable of wavelength selection in a wide range of visible light region or a wavelength 633.
helium neon laser of wavelength nm, recently developed high power semiconductor lasers of wavelengths 680, 650 and 635 nm, and harmonic conversion YAG laser of wavelength 532 nm. In the present invention, high-density recording and reproduction can be performed at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.

【0104】[0104]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0105】〔実施例1〕 ジピロメテン金属キレート
化合物(D−1)の合成 エタノール150mlに下記構造式(2−a)で示され
る化合物3.00g及び下記構造式(3−a)で示され
る化合物1.31gを溶解し、47%臭化水素酸1.9
6gを滴下した後、室温で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、クロロホルム200mlで抽出、水洗、分液後、溶
媒を溜去して、下記構造式(1−1)で示される化合物
3.70gを得た。
Example 1 Synthesis of Dipyrromethene Metal Chelate Compound (D-1) In 150 ml of ethanol, 3.00 g of a compound represented by the following structural formula (2-a) and a compound represented by the following structural formula (3-a) Dissolve 1.31 g, 47% hydrobromic acid 1.9
After dropping 6 g, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the residue was extracted with 200 ml of chloroform, washed with water, separated, and the solvent was distilled off to obtain 3.70 g of a compound represented by the following structural formula (1-1).

【0106】[0106]

【化10】 [Chemical 10]

【0107】次に、エタノール200mlに式(1−
1)で示される化合物3.00gを溶解し、酢酸銅0.
86gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(D−1)で示される化合物2.98gを得
た。
Next, the formula (1-
3.00 g of the compound represented by 1) is dissolved and copper acetate
86 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 2.98 g of a compound represented by the following structural formula (D-1).

【0108】[0108]

【化11】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。[Chemical 11] From the following analysis results, it was confirmed to be the target product.

【0109】[0109]

【表21】 [Table 21]

【0110】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において580nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.98×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained has a maximum absorption at 580 nm in a toluene solution and a gram extinction coefficient of 1.98 × 10 5 ml / g. It was cm.

【0111】〔実施例2〕 ジピロメテン金属キレート
化合物(D−8)の合成 エタノール200mlに下記構造式(4−a)で示され
る化合物5.00g及び下記構造式(5−a)で示され
る化合物4.76gを溶解し、47%臭化水素酸3.5
2gを滴下した後、室温で3時間攪拌した。減圧濃縮
後、クロロホルム200mlで抽出、水洗、分液後、溶
媒を溜去して、下記構造式(1−8)で示される化合物
8.27gを得た。
Example 2 Synthesis of dipyrromethene metal chelate compound (D-8) In 200 ml of ethanol, 5.00 g of a compound represented by the following structural formula (4-a) and a compound represented by the following structural formula (5-a) Dissolve 4.76 g, 47% hydrobromic acid 3.5
After dropping 2 g, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, the residue was extracted with 200 ml of chloroform, washed with water, separated, and the solvent was distilled off to obtain 8.27 g of a compound represented by the following structural formula (1-8).

【0112】[0112]

【化12】 [Chemical 12]

【0113】次に、エタノール400mlに式(1−
8)で示される化合物7.00gを溶解し、酢酸銅1.
63gを加えて、還流温度で4時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(D−8)で示される化合物6.77gを得
た。
Next, the formula (1-
7.00 g of the compound represented by 8) was dissolved and copper acetate 1.
63 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 4 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 6.77 g of a compound represented by the following structural formula (D-8).

【0114】[0114]

【化13】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。[Chemical 13] From the following analysis results, it was confirmed to be the target product.

【0115】[0115]

【表22】 [Table 22]

【0116】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において625nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は2.17×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained has a maximum absorption at 625 nm in a toluene solution and a gram extinction coefficient of 2.17 × 10 5 ml / g. It was cm.

【0117】〔実施例3〕 ジピロメテン金属キレート
化合物(D−10)の合成 エタノール250mlに下記構造式(4−b)で示され
る化合物5.00g及び下記構造式(5−b)で示され
る化合物6.12gを溶解し、47%臭化水素酸3.3
3gを滴下した後、還流温度で3時間攪拌した。減圧濃
縮後、クロロホルム300mlで抽出、水洗、分液後、
溶媒を溜去して、下記構造式(1−10)で示される化
合物9.68gを得た。
Example 3 Synthesis of dipyrromethene metal chelate compound (D-10) In 250 ml of ethanol, 5.00 g of a compound represented by the following structural formula (4-b) and a compound represented by the following structural formula (5-b) Dissolve 6.12g, 47% hydrobromic acid 3.3
After dropping 3 g, the mixture was stirred at reflux temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, extraction with 300 ml of chloroform, washing with water, separation of liquids,
The solvent was distilled off to obtain 9.68 g of a compound represented by the following structural formula (1-10).

【0118】[0118]

【化14】 [Chemical 14]

【0119】次に、エタノール400mlに式(1−1
0)で示される化合物7.00gを溶解し、酢酸銅1.
33gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(D−10)で示される化合物6.98gを得
た。
Next, the formula (1-1) was added to 400 ml of ethanol.
7.00 g of the compound represented by the formula (0) is dissolved and copper acetate 1.
33 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 6.98 g of a compound represented by the following structural formula (D-10).

【0120】[0120]

【化15】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。[Chemical 15] From the following analysis results, it was confirmed to be the target product.

【0121】[0121]

【表23】 [Table 23]

【0122】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において605nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は2.03×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 605 nm in a toluene solution and has a Gram extinction coefficient of 2.03 × 10 5 ml / g. It was cm.

【0123】〔実施例4〕 ジピロメテン金属キレート
化合物(D−27)の合成 エタノール250mlに前記構造式(4−a)で示され
る化合物4.00g及び下記構造式(5−c)で示され
る化合物2.65gを溶解し、47%臭化水素酸2.7
8gを滴下した後、室温で3時間攪拌した。減圧濃縮
後、クロロホルム200mlで抽出、水洗、分液後、溶
媒を溜去して、下記構造式(1−27)で示される化合
物5.58gを得た。
Example 4 Synthesis of Dipyrromethene Metal Chelate Compound (D-27) In 250 ml of ethanol, 4.00 g of the compound represented by the structural formula (4-a) and the compound represented by the following structural formula (5-c) 2.65 g was dissolved and 47% hydrobromic acid 2.7
After dropping 8 g, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, the residue was extracted with 200 ml of chloroform, washed with water, separated, and the solvent was distilled off to obtain 5.58 g of a compound represented by the following structural formula (1-27).

【0124】[0124]

【化16】 [Chemical 16]

【0125】次に、エタノール400mlに式(1−2
7)で示される化合物5.00gを溶解し、酢酸銅1.
49gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(D−27)で示される化合物4.68gを得
た。
Next, the formula (1-2
5.00 g of the compound represented by 7) was dissolved, and copper acetate 1.
49 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 4.68 g of a compound represented by the following structural formula (D-27).

【0126】[0126]

【化17】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。[Chemical 17] From the following analysis results, it was confirmed to be the target product.

【0127】[0127]

【表24】 [Table 24]

【0128】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において589nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.87×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 589 nm in a toluene solution and a gram extinction coefficient of 1.87 × 10 5 ml / g. It was cm.

【0129】〔実施例5〕 ジピロメテン金属キレート
化合物(D−39)の合成 エタノール250mlに下記構造式(4−c)で示され
る化合物4.00g及び下記構造式(5−d)で示され
る化合物1.84gを溶解し、47%臭化水素酸2.1
8gを滴下した後、室温で4時間攪拌した。減圧濃縮
後、クロロホルム400mlで抽出、水洗、分液後、溶
媒を溜去して、下記構造式(1−39)で示される化合
物5.30gを得た。
Example 5 Synthesis of dipyrromethene metal chelate compound (D-39) In 250 ml of ethanol, 4.00 g of the compound represented by the following structural formula (4-c) and the compound represented by the following structural formula (5-d) Dissolve 1.84 g, 47% hydrobromic acid 2.1
After dropping 8 g, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. After concentration under reduced pressure, extraction with 400 ml of chloroform, washing with water, liquid separation, and evaporation of the solvent gave 5.30 g of the compound represented by the structural formula (1-39) below.

【0130】[0130]

【化18】 [Chemical 18]

【0131】次に、エタノール400mlに式(1−3
9)で示される化合物5.00gを溶解し、酢酸銅3.
33gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(D−39)で示される化合物4.70gを得
た。
Next, the formula (1-3
9.00 g of the compound represented by 9) was dissolved, and copper acetate was added to 3.
33 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 4.70 g of a compound represented by the following structural formula (D-39).

【0132】[0132]

【化19】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。[Chemical 19] From the following analysis results, it was confirmed to be the target product.

【0133】[0133]

【表25】 [Table 25]

【0134】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において590nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.88×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 590 nm in a toluene solution and a gram extinction coefficient of 1.88 × 10 5 ml / g. It was cm.

【0135】〔実施例6〕ジピロメテン金属キレート化
合物(D−1)0.2gをジメチルシクロヘキサン10
mlに溶解し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカー
ボネート樹脂製で連続した案内溝(トラックピッチ:
0.74μm)を有する直径120mm、厚さ0.6m
mの円盤状のものを用いた。
Example 6 Dipyrromethene metal chelate compound (D-1) (0.2 g) was added to dimethylcyclohexane (10).
It was dissolved in ml to prepare a dye solution. The board is made of polycarbonate resin and has continuous guide grooves (track pitch:
0.74 μm) diameter 120 mm, thickness 0.6 m
A m-shaped disc was used.

【0136】この基板上に色素溶液を回転数1500r
pmでスピンコートし、70℃で3時間乾燥して記録層
を形成した。この記録層の640nm、650nm、6
60nm各波長における光学定数は、下記のとおりであ
った。
The dye solution is spun on this substrate at a rotation speed of 1500r.
pm was spin-coated and dried at 70 ° C. for 3 hours to form a recording layer. 640 nm, 650 nm, 6 of this recording layer
The optical constants at each wavelength of 60 nm were as follows.

【0137】[0137]

【表26】 [Table 26]

【0138】この記録層の上にバルザース社製スパッタ
装置(CDI−900)を用いてAuをスパッタし、厚さ
100nmの反射層を形成した。スパッタガスには、ア
ルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー
2.5kW、スパッタガス圧1.33Pa(1.0×1
-2Torr)で行った。
Au was sputtered on the recording layer using a sputtering apparatus (CDI-900) manufactured by Balzers Co., Ltd. to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as the sputtering gas. The sputtering conditions are as follows: sputter power 2.5 kW, sputter gas pressure 1.33 Pa (1.0 × 1)
0 -2 Torr).

【0139】さらに反射層上に紫外線硬化性樹脂SD−
1700(大日本インキ化学工業製)をスピンコートし
た後、紫外線を照射して厚さ6μmの保護層を形成し
た。
Furthermore, an ultraviolet curable resin SD-
After spin-coating 1700 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), it was irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 6 μm.

【0140】さらに保護層上に紫外線硬化性接着剤SD
−301(大日本インキ化学工業製)をスピンコート
し、その上にポリカーボネート樹脂製で直径120m
m、厚さ0.6mmの円盤状基板をのせた後、紫外線を
照射して貼り合わせた光記録媒体を作製した。
Further, an ultraviolet curable adhesive SD is formed on the protective layer.
-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated, and a polycarbonate resin was applied on it with a diameter of 120 m.
An optical recording medium was produced by placing a disc-shaped substrate having a thickness of m and a thickness of 0.6 mm and then irradiating it with ultraviolet rays.

【0141】得られた光記録媒体に、波長658nmで
レンズの開口数が0.6の半導体レーザーヘッドを搭載
したパルステック工業製光ディスク評価装置(DDU−
1000)およびパルステック工業製パルスジェネレー
ターを用いて、線速3.5m/sで最短ピット長が0.
40μmになるように記録した。記録感度は8.9mW
であった。記録後、650nm赤色半導体レーザーヘッ
ド(レンズの開口数は0.6)を搭載した評価装置を用
いて信号を再生し、反射率、ジッターおよび変調度を測
定した結果、650nm再生で反射率49.5%、ジッ
ター7.5%、変調度0.60といずれも良好な値を示
した。また、100時間のカーボンアークでの耐光性試
験、並びに80℃、85%、100時間の耐湿熱試験後
も変化は見られなかった。また、0.7mWの再生光で
100万回再生してもジッターの変化は1%以下であっ
た。
An optical disk evaluation device (DDU-manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.) equipped with a semiconductor laser head having a wavelength of 658 nm and a lens numerical aperture of 0.6 on the obtained optical recording medium.
1000) and a pulse generator manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., and the shortest pit length is 0.1 at a linear velocity of 3.5 m / s.
It was recorded so as to be 40 μm. Recording sensitivity is 8.9mW
Met. After recording, a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 650 nm red semiconductor laser head (the numerical aperture of the lens was 0.6), and the reflectance, jitter, and degree of modulation were measured. The favorable values were 5%, jitter 7.5%, and modulation degree 0.60. Further, no change was observed after the light resistance test with a carbon arc for 100 hours and the humidity heat resistance test at 80 ° C., 85%, 100 hours. Further, even if the reproduction light of 0.7 mW was reproduced 1 million times, the change in jitter was 1% or less.

【0142】更に、線速10.5m/s(記録速度3
倍)で最短ピット長が0.40μmになるように記録し
たところ、記録感度は12.5mWであった。記録後、
650nm赤色半導体レーザーヘッド(レンズの開口数
は0.6)を搭載した評価装置を用いて信号を再生し、
反射率、ジッターおよび変調度を測定した結果、650
nm再生で反射率47.5%、ジッター7.9%、変調
度0.68といずれも良好な値を示した。
Furthermore, a linear velocity of 10.5 m / s (recording speed of 3
When the recording was performed so that the shortest pit length was 0.40 μm, the recording sensitivity was 12.5 mW. After recording,
A signal is reproduced using an evaluation device equipped with a 650 nm red semiconductor laser head (lens numerical aperture is 0.6).
As a result of measuring reflectance, jitter and modulation, 650
In the reproduction by nm, the reflectance was 47.5%, the jitter was 7.9%, and the degree of modulation was 0.68.

【0143】〔実施例7〜21〕表−1に記載したジピ
ロメテン金属キレート化合物を、適宜用いる以外は実施
例6と同様にして光記録媒体を作製し、1倍速、及び3
倍速の記録を行った。感度、反射率、ジッター、変調度
いずれも良好な値を示した。また、100時間のカーボ
ンアークでの耐光性試験、並びに80℃、85%、10
0時間の耐湿熱試験後も変化は見られなかった。また、
0.7mWの再生光で100万回再生してもジッターの
変化は1%以下であった。
[Examples 7 to 21] An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 6 except that the dipyrromethene metal chelate compound shown in Table 1 was appropriately used.
Double speed recording was performed. The sensitivity, reflectance, jitter, and degree of modulation all showed good values. Also, the light resistance test with a carbon arc for 100 hours, and 80 ° C, 85%, 10
No change was observed even after the 0-hour moist heat resistance test. Also,
Even if the reproduction light of 0.7 mW was reproduced 1 million times, the change in jitter was 1% or less.

【0144】〔比較例1〕実施例6において、下記構造
式(A−1)で示されるジピロメテン金属キレート化合
物0.2gをジメチルシクロヘキサン10mlに溶解し
てスピンコートする以外は同様にして光記録媒体を作製
した。
[Comparative Example 1] An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 6, except that 0.2 g of the dipyrromethene metal chelate compound represented by the following structural formula (A-1) was dissolved in 10 ml of dimethylcyclohexane and spin-coated. Was produced.

【0145】[0145]

【化20】 [Chemical 20]

【0146】作製した媒体に実施例6と同様に658n
m半導体レーザーヘッドを搭載した光ディスク評価装置
(パルステック工業製、商品名「DDU−1000」)
および、パルステック工業製パルスジェネレーターを用
いて線速3.5m/s、レーザーパワー9.5mWで記
録した。記録後、650nm赤色半導体レーザーヘッド
を搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反射率、ジ
ッターおよび変調度を測定した結果、650nm再生で
反射率62%、ジッター20%以上、変調度0.61と
ジッター特性が劣っていた。
658n was applied to the produced medium in the same manner as in Example 6.
m Optical disk evaluation device equipped with semiconductor laser head (Pulstec Industrial Co., Ltd., trade name "DDU-1000")
Recording was performed at a linear velocity of 3.5 m / s and a laser power of 9.5 mW using a pulse generator manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. After recording, a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 650 nm red semiconductor laser head, and the reflectance, jitter, and modulation degree were measured. As a result, at 650 nm reproduction, the reflectance was 62%, the jitter was 20% or more, and the modulation degree was 0. The jitter characteristic was 61, which was inferior.

【0147】また、線速10.5m/s(記録速度3
倍)で最短ピット長が0.40μmになるように記録検
討を実施したところ、記録感度に劣り(>15mW)、
良好な記録を行うことができなかった。
The linear velocity of 10.5 m / s (recording speed of 3
When the recording was examined so that the shortest pit length would be 0.40 μm, the recording sensitivity was inferior (> 15 mW).
Good recording could not be performed.

【0148】〔比較例2〕実施例6において、ペンタメ
チンシアニン色素「NK−2929」(1,3,3,1',3',3'
-ヘキサメチル-2',2'-(4,5,4',5'-ジベンゾ)インドジカ
ルボシアニンパークロレート、日本感光色素研究所製)
1gをテトラフルオロプロパノール10mlに溶解して
スピンコートする以外は同様にして光記録媒体を作製し
た。作製した媒体に実施例6と同様に658nm半導体
レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディス
ク評価装置(DDU−1000)および、パルステック
工業製パルスジェネレーターを用いて線速3.5m/
s、レーザーパワー10.0mWで記録した。記録後、
650nm赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装
置を用いて信号を再生し、反射率、ジッターおよび変調
度を測定した結果、650nm再生で反射率10%、ジ
ッター20%以上、変調度0.14と劣っていた。ま
た、100時間のカーボンアークでの耐光性試験後、信
号は劣化し、再生ができなかった。
Comparative Example 2 In Example 6, the pentamethine cyanine dye “NK-2929” (1,3,3,1 ′, 3 ′, 3 ′)
-Hexamethyl-2 ', 2'-(4,5,4 ', 5'-dibenzo) indodicarbocyanine perchlorate, manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute)
An optical recording medium was prepared in the same manner except that 1 g was dissolved in 10 ml of tetrafluoropropanol and spin-coated. As in Example 6, a pulsed optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial Co., which has a 658 nm semiconductor laser head mounted on the manufactured medium, and a pulse generator manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. were used to obtain a linear velocity of 3.5 m /
s, laser power was recorded at 10.0 mW. After recording,
A signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 650 nm red semiconductor laser head, and the reflectance, jitter, and modulation were measured, and as a result, the reflectance was 10%, the jitter was 20% or more, and the modulation was 0.14 at 650 nm reproduction. Was there. Also, after the light resistance test with a carbon arc for 100 hours, the signal was deteriorated and could not be reproduced.

【0149】また、線速10.5m/s(記録速度3
倍)で最短ピット長が0.40μmになるように記録検
討を実施したところ、記録感度に劣り(>15mW)、
良好な記録を行うことができなかった。
The linear velocity of 10.5 m / s (recording speed of 3
When the recording was examined so that the shortest pit length would be 0.40 μm, the recording sensitivity was inferior (> 15 mW).
Good recording could not be performed.

【0150】以上の実施例6〜21及び比較例1、2に
おいて、各光記録媒体を1倍速、3倍速で記録して再生
したときの感度、反射率、ジッター、変調度を表−2に
まとめて示す。
In Examples 6 to 21 and Comparative Examples 1 and 2 described above, Table 2 shows the sensitivity, reflectance, jitter and degree of modulation when each optical recording medium was recorded and reproduced at 1 × speed and 3 × speed. Shown together.

【0151】[0151]

【表27】 [Table 27]

【0152】[0152]

【発明の効果】本発明のジピロメテン金属キレート化合
物を記録層として用いることにより、高密度光記録媒体
として非常に注目されている波長520〜690nmの
レーザーで記録再生が可能で耐久性に優れた高密度、高
速記録に適した追記型光記録媒体を提供することが可能
となる。
EFFECT OF THE INVENTION By using the dipyrromethene metal chelate compound of the present invention as a recording layer, it is possible to record and reproduce with a laser having a wavelength of 520 to 690 nm, which is attracting a great deal of attention as a high density optical recording medium. It is possible to provide a write-once type optical recording medium suitable for high density and high speed recording.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の光記録媒体および本発明の層構成を示す
断面構造図である。
FIG. 1 is a sectional structural view showing a conventional optical recording medium and a layer structure of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 記録層 3 反射層 4 接着層 5 基板 1 substrate 2 recording layers 3 reflective layer 4 Adhesive layer 5 substrates

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 522 B41M 5/26 Y (72)発明者 井上 忍 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 FA12 FB42 FB60 4C050 AA01 BB04 CC16 EE01 FF02 FF05 GG02 HH04 4C071 AA01 BB01 CC01 CC21 DD04 EE13 FF03 GG05 JJ05 LL05 4H056 CA01 CC02 CC08 CE03 DD03 FA06 5D029 JA04 JC05 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11B 7/24 522 B41M 5/26 Y (72) Inventor Shinobu Inoue 580-32 Nagaura, Sodegaura, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals In-company (72) Inventor Misawa Denmi 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Mitsui Chemicals In-company F-term (reference) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 FA12 FB42 FB60 4C050 AA01 BB04 CC16 EE01 FF02 FF05 GG02 HH04 4C071 AA01 BB01 CC01 CC21 DD04 EE13 FF03 GG05 JJ05 LL05 4H056 CA01 CC02 CC08 CE03 DD03 FA06 5D029 JA04 JC05

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるジピロメテ
ン系化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレート
化合物。 【化1】 〔式中、R1〜R5は、各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数20以下の置換
または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表し、R6は、ハロゲン原子、炭
素数20以下の置換または未置換のアリール基、ヘテロ
アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール
オキシ基、またはアリールチオ基を表し、Aは、ヘテロ
原子を含む5員環が縮環した2−ピロリル基を表す。〕
1. A dipyrromethene metal chelate compound of a dipyrromethene compound represented by the following general formula (1) and a metal ion. [Chemical 1] [In the formula, R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group,
Carboxyl group, sulfonic acid group, substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl group, an aryl group or a heteroaryl group,, R 6 is a halogen atom, of 20 or less substituted or unsubstituted aryl group having a carbon heteroaryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group or an arylthio group, Represents A, and represents a 2-pyrrolyl group in which a 5-membered ring containing a hetero atom is condensed. ]
【請求項2】 Aが下記一般式(a1)、または(a
2)のいずれかから選択される、ヘテロ原子を含む5員
環が縮環した2−ピロリル基である請求項1記載のジピ
ロメテン金属キレート化合物。 【化2】 〔式中、R7〜R11は、各々独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ
基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数20以下の
置換または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケ
ニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基、
またはヘテロアリール基を表し、X1は、酸素原子、硫
黄原子、または下記一般式(d)で表される置換または
未置換の窒素原子を表す。 −N(R15)− (d) (式中、R15は、水素原子、炭素数20以下の置換また
は未置換のアルキル基、アルケニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表す。)〕
2. A is the following general formula (a1) or (a
The dipyrromethene metal chelate compound according to claim 1, which is a 2-pyrrolyl group condensed with a 5-membered ring containing a hetero atom, which is selected from any of 2). [Chemical 2] [In the formula, R 7 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted group having 20 or less carbon atoms. Alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl group, aryl group,
Alternatively, it represents a heteroaryl group, and X 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the following general formula (d). —N (R 15 ) — (d) (In the formula, R 15 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, an aryl group, Or represents a heteroaryl group.)]
【請求項3】 Aが下記一般式(b1)、(b2)、ま
たは(b3)のいずれかから選択される、ヘテロ原子を
含む5員環が縮環した2−ピロリル基である請求項1記
載のジピロメテン金属キレート化合物。 【化3】 〔式中、R7、R12〜R14は、各々独立に、水素原子、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数20以
下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ア
ルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール
基、またはヘテロアリール基を表し、Y1は、酸素原
子、硫黄原子、または下記一般式(d)で表される置換
または未置換の窒素原子を表す。 −N(R15)− (d) (式中、R15は、水素原子、炭素数20以下の置換また
は未置換のアルキル基、アルケニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表す。)〕
3. A 2-pyrrolyl group in which a 5-membered ring containing a hetero atom, which is selected from any of the following general formulas (b1), (b2) or (b3), is condensed: The described dipyrromethene metal chelate compound. [Chemical 3] [In the formula, R 7 , R 12 to R 14 are each independently a hydrogen atom,
Halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxy group, amino group, carboxyl group, sulfonic acid group, substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group , An acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acylamino group, an aralkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, Y 1 is an oxygen atom, a sulfur atom, or a substituent represented by the following general formula (d) or Represents an unsubstituted nitrogen atom. —N (R 15 ) — (d) (In the formula, R 15 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, an aryl group, Or represents a heteroaryl group.)]
【請求項4】 Aが下記一般式(c1)、または(c
2)のいずれかから選択される、ヘテロ原子を含む5員
環が縮環した2−ピロリル基である請求項1記載のジピ
ロメテン金属キレート化合物。 【化4】 〔式中、R7は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、
スルホン酸基、炭素数20以下の置換または未置換のア
ルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロアリール
基を表し、Z1は、酸素原子、硫黄原子、または下記一
般式(d)で表される置換または未置換の窒素原子を表
す。 −N(R15)− (d) (式中、R15は、水素原子、炭素数20以下の置換また
は未置換のアルキル基、アルケニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、また
はヘテロアリール基を表す。)〕
4. A is the following general formula (c1) or (c
The dipyrromethene metal chelate compound according to claim 1, which is a 2-pyrrolyl group condensed with a 5-membered ring containing a hetero atom, which is selected from any of 2). [Chemical 4] [In the formula, R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group,
Cyano group, hydroxy group, amino group, carboxyl group,
Sulfonic acid group, substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl group, aryl Represents a group or a heteroaryl group, and Z 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a substituted or unsubstituted nitrogen atom represented by the following general formula (d). —N (R 15 ) — (d) (In the formula, R 15 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, an aryl group, Or represents a heteroaryl group.)]
【請求項5】 基板上に少なくとも記録層および反射層
を有する光記録媒体において、記録層中に、請求項1〜
4のいずれか1項に記載のジピロメテン金属キレート化
合物を少なくとも1種含有する光記録媒体。
5. An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer comprises
5. An optical recording medium containing at least one dipyrromethene metal chelate compound according to any one of 4 above.
【請求項6】 レーザー波長において、記録層の屈折率
が1.8以上であり、消衰係数が0.04〜0.40で
ある請求項5記載の光記録媒体。
6. The optical recording medium according to claim 5, wherein the recording layer has a refractive index of 1.8 or more and an extinction coefficient of 0.04 to 0.40 at a laser wavelength.
【請求項7】 波長520〜690nmの範囲から選択
されるレーザー光に対して、記録および再生が可能であ
る請求項5または6に記載の光記録媒体。
7. The optical recording medium according to claim 5, which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 520 to 690 nm.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018186397A1 (en) * 2017-04-07 2018-10-11 富士フイルム株式会社 Photoelectric conversion element, photosensor, imaging element and compound
KR20190126107A (en) * 2017-04-07 2019-11-08 후지필름 가부시키가이샤 Photoelectric conversion elements, photosensors, imaging elements, and compounds
JPWO2018186397A1 (en) * 2017-04-07 2020-02-27 富士フイルム株式会社 Photoelectric conversion device, optical sensor, imaging device, and compound
US10886479B2 (en) 2017-04-07 2021-01-05 Fujifilm Corporation Photoelectric conversion element, optical sensor, imaging element, and compound
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