JP2003063841A - 光ファイバ母材の製造装置及び方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造装置及び方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
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- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 内付け化学気相蒸着法のような気相蒸着法を
利用した光ファイバ母材の製造装置及び方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 原料ガスが流入される第１端部と原料ガ
スが排出される第２端部とを有するシリンダー形蒸着用
チューブと、蒸着用チューブの外周面を加熱して蒸着用
チューブの内部に第１高温領域を形成するためにガイド
に装着される第１熱源と、蒸着用チューブの外周面を加
熱して蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成する
ために蒸着用チューブの長さ方向に沿って第１熱源と所
定の距離に離隔してガイドに装着される第２熱源と、第
１熱源と第２熱源との所定の距離を保持しつつ第１及び
第２熱源を移動させる熱源移動部とを含む。
利用した光ファイバ母材の製造装置及び方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 原料ガスが流入される第１端部と原料ガ
スが排出される第２端部とを有するシリンダー形蒸着用
チューブと、蒸着用チューブの外周面を加熱して蒸着用
チューブの内部に第１高温領域を形成するためにガイド
に装着される第１熱源と、蒸着用チューブの外周面を加
熱して蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成する
ために蒸着用チューブの長さ方向に沿って第１熱源と所
定の距離に離隔してガイドに装着される第２熱源と、第
１熱源と第２熱源との所定の距離を保持しつつ第１及び
第２熱源を移動させる熱源移動部とを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ母材の
製造装置及び方法に関し、特に、内付け化学気相蒸着法
のような気相蒸着法による光ファイバ母材の製造装置及
び方法に関する。
製造装置及び方法に関し、特に、内付け化学気相蒸着法
のような気相蒸着法による光ファイバ母材の製造装置及
び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバ母材の製造方法では、ＭＣＶ
Ｄ方法、ＶＡＤ(Vapour phase AxialDeposition)方法、
ＯＶＤ(Outside Vapour phase Deposition)方法などが
あり、これらの方法のうち、内付け化学気相蒸着法を利
用した光ファイバ用母材製造装置及び方法に関する。
Ｄ方法、ＶＡＤ(Vapour phase AxialDeposition)方法、
ＯＶＤ(Outside Vapour phase Deposition)方法などが
あり、これらの方法のうち、内付け化学気相蒸着法を利
用した光ファイバ用母材製造装置及び方法に関する。
【０００３】図１は、従来の内付け化学気相蒸着法を利
用した光ファイバ母材の製造装置の構成を示す。前記装
置は、原料ガス供給部１２０と、シェルフ１５０と、酸
素/水素バーナー１６０とから構成される。
用した光ファイバ母材の製造装置の構成を示す。前記装
置は、原料ガス供給部１２０と、シェルフ１５０と、酸
素/水素バーナー１６０とから構成される。
【０００４】前記原料ガス供給部１２０は、酸素と多数
の添加物質とを組み合わせて前記蒸着用チューブの内部
に酸素及びＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３などの
原料ガスを供給する。
の添加物質とを組み合わせて前記蒸着用チューブの内部
に酸素及びＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３などの
原料ガスを供給する。
【０００５】前記シェルフ１５０は、一対のチャック１
３２及び１３６とガイド１４０とを備え、前記一対のチ
ャック１３２には、蒸着用チューブ１１０の両端が回転
可能であるように固定され、前記ガイド１４０には、前
記酸素／水素バーナー１６０が移動可能であるように搭
載される。前記酸素／水素バーナー１６０は水素及び酸
素が供給され、前記蒸着用チューブ１１０の外周面を加
熱しつつ前記ガイド１４０に沿って所定の速度で移動す
る。
３２及び１３６とガイド１４０とを備え、前記一対のチ
ャック１３２には、蒸着用チューブ１１０の両端が回転
可能であるように固定され、前記ガイド１４０には、前
記酸素／水素バーナー１６０が移動可能であるように搭
載される。前記酸素／水素バーナー１６０は水素及び酸
素が供給され、前記蒸着用チューブ１１０の外周面を加
熱しつつ前記ガイド１４０に沿って所定の速度で移動す
る。
【０００６】図２及び図３は、図１に示した製造装置を
利用した光ファイバ母材の製造方法を説明する図であ
る。図２は、蒸着用チューブ１１０と前記蒸着用チュー
ブ１１０の外周面を加熱する酸素／水素バーナー１６０
とを示している。前記蒸着用チューブ１１０は、所定の
速度で回転し、前記酸素／水素バーナー１６０によって
加熱されるにつれて前記蒸着用チューブ１１０の内部に
は高温領域が形成される。
利用した光ファイバ母材の製造方法を説明する図であ
る。図２は、蒸着用チューブ１１０と前記蒸着用チュー
ブ１１０の外周面を加熱する酸素／水素バーナー１６０
とを示している。前記蒸着用チューブ１１０は、所定の
速度で回転し、前記酸素／水素バーナー１６０によって
加熱されるにつれて前記蒸着用チューブ１１０の内部に
は高温領域が形成される。
【０００７】前記高温領域を通過する原料ガスは反応物
１７０を生成し、このときの反応式は、例えば、ＳｉＣ
ｌ４＋Ｏ２ →ＳｉＯ２＋２Ｃｌ２、ＧｅＣｌ４＋Ｏ２
→ＧｅＯ２＋２Ｃｌ２のようである。前記反応物１７０
は、熱泳動メカニズム(thermophoretic mechanism)によ
って相対的に温度が低い前記蒸着用チューブ１１０の内
壁へ移動するにつれて前記蒸着用チューブ１１０の内壁
に蒸着される。図２は、このような蒸着過程によって形
成される第１蒸着領域を示している。
１７０を生成し、このときの反応式は、例えば、ＳｉＣ
ｌ４＋Ｏ２ →ＳｉＯ２＋２Ｃｌ２、ＧｅＣｌ４＋Ｏ２
→ＧｅＯ２＋２Ｃｌ２のようである。前記反応物１７０
は、熱泳動メカニズム(thermophoretic mechanism)によ
って相対的に温度が低い前記蒸着用チューブ１１０の内
壁へ移動するにつれて前記蒸着用チューブ１１０の内壁
に蒸着される。図２は、このような蒸着過程によって形
成される第１蒸着領域を示している。
【０００８】しかし、示したように、前記蒸着用チュー
ブ１１０の内壁に蒸着されない反応物１７０は、前記蒸
着用チューブ１１０の内部に形成された気流によって継
続して移動し、このような移動過程で粒子衝突による反
応物１７０の成長が発生する。すなわち、反応物１７０
の粒子大きさ及び質量が増加するものである。成長した
反応物１７０が前記蒸着用チューブ１１０の内壁へ移動
するにつれて前記蒸着用チューブ１１０の内壁に蒸着さ
れる。図２は、このような蒸着過程によって形成される
第２蒸着領域を示している。
ブ１１０の内壁に蒸着されない反応物１７０は、前記蒸
着用チューブ１１０の内部に形成された気流によって継
続して移動し、このような移動過程で粒子衝突による反
応物１７０の成長が発生する。すなわち、反応物１７０
の粒子大きさ及び質量が増加するものである。成長した
反応物１７０が前記蒸着用チューブ１１０の内壁へ移動
するにつれて前記蒸着用チューブ１１０の内壁に蒸着さ
れる。図２は、このような蒸着過程によって形成される
第２蒸着領域を示している。
【０００９】図３は、前記製造方法による結果物を示し
ている。すなわち、前記蒸着用チューブ１１０の内壁に
蒸着された層１８０は、正常蒸着領域１８１及び非正常
蒸着領域１８２に区分される。前記正常蒸着領域１８１
の層１８０は、粒子大きさ及び組成比が均一な反面、前
記非正常蒸着領域１８２の層１８０は、粒子大きさ及び
組成比が不均一である。また、前記蒸着された層１８０
の幾何構造も不均一であることがわかる。
ている。すなわち、前記蒸着用チューブ１１０の内壁に
蒸着された層１８０は、正常蒸着領域１８１及び非正常
蒸着領域１８２に区分される。前記正常蒸着領域１８１
の層１８０は、粒子大きさ及び組成比が均一な反面、前
記非正常蒸着領域１８２の層１８０は、粒子大きさ及び
組成比が不均一である。また、前記蒸着された層１８０
の幾何構造も不均一であることがわかる。
【００１０】前述したように、従来の内付け化学気相蒸
着法を利用した光ファイバ母材の製造装置及び方法は、
第１及び第２蒸着過程が同時に進行するにつれて、製造
された光ファイバ母材の物性が全体長さに対して不均一
であるという短所があった。
着法を利用した光ファイバ母材の製造装置及び方法は、
第１及び第２蒸着過程が同時に進行するにつれて、製造
された光ファイバ母材の物性が全体長さに対して不均一
であるという短所があった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、反応物の第２蒸着を抑制することによって光ファイ
バ母材の物性の均一性を確保し、蒸着用チューブの内壁
に蒸着された層の幾何構造を安定化させることができる
内付け化学気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造
装置及び方法を提供することにある。
は、反応物の第２蒸着を抑制することによって光ファイ
バ母材の物性の均一性を確保し、蒸着用チューブの内壁
に蒸着された層の幾何構造を安定化させることができる
内付け化学気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造
装置及び方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記のような目的を達成
するために、本発明の一実施形態による気相蒸着法を利
用した光ファイバ母材の製造装置において、原料ガスが
流入する第１端部と前記原料ガスが排出される第２端部
とを有するシリンダー形蒸着用チューブと、前記蒸着用
チューブの外周面を加熱して前記蒸着用チューブの内部
に第１高温領域を形成するためにガイドに装着される第
１熱源と、前記蒸着用チューブの外周面を加熱して前記
蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成するために
前記蒸着用チューブの長さ方向に沿って前記第１熱源と
所定の距離に離隔して前記ガイドに装着される第２熱源
と、前記第１熱源と第２熱源との所定の距離を保持しつ
つ前記第１及び第２熱源を移動させる熱源移動部とを含
むことを特徴とする。
するために、本発明の一実施形態による気相蒸着法を利
用した光ファイバ母材の製造装置において、原料ガスが
流入する第１端部と前記原料ガスが排出される第２端部
とを有するシリンダー形蒸着用チューブと、前記蒸着用
チューブの外周面を加熱して前記蒸着用チューブの内部
に第１高温領域を形成するためにガイドに装着される第
１熱源と、前記蒸着用チューブの外周面を加熱して前記
蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成するために
前記蒸着用チューブの長さ方向に沿って前記第１熱源と
所定の距離に離隔して前記ガイドに装着される第２熱源
と、前記第１熱源と第２熱源との所定の距離を保持しつ
つ前記第１及び第２熱源を移動させる熱源移動部とを含
むことを特徴とする。
【００１３】また、本発明による内付け化学気相蒸着法
を利用した光ファイバ母材の製造方法において、第１熱
源を利用してシリンダー形蒸着用チューブの内部に第１
高温領域を形成するステップと、前記第１高温領域を通
じて原料ガスを注入することにより前記原料ガスの反応
物を生成するステップと、熱泳動メカニズムによって前
記反応物が前記シリンダー形蒸着用チューブの内壁に蒸
着されるステップと、成長した前記反応物が前記蒸着用
チューブの内壁に蒸着されないように第２熱源を利用し
て前記蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成する
ステップとを含むことを特徴とする。
を利用した光ファイバ母材の製造方法において、第１熱
源を利用してシリンダー形蒸着用チューブの内部に第１
高温領域を形成するステップと、前記第１高温領域を通
じて原料ガスを注入することにより前記原料ガスの反応
物を生成するステップと、熱泳動メカニズムによって前
記反応物が前記シリンダー形蒸着用チューブの内壁に蒸
着されるステップと、成長した前記反応物が前記蒸着用
チューブの内壁に蒸着されないように第２熱源を利用し
て前記蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成する
ステップとを含むことを特徴とする。
【００１４】さらに、本発明のまた他の実施形態による
気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造装置におい
て、原料ガスが流入される第１端部及び前記原料ガスが
排出される第２端部を有するシリンダー形蒸着用チュー
ブと、前記蒸着用チューブの内部に第１高温領域を形成
するための第１熱源と、前記蒸着用チューブの内部に第
２高温領域を形成するための第２熱源と、前記第１熱源
と前記第２熱源との所定の距離を保持しつつ前記第１及
び第２熱源を移動させる熱源移動部とを含むことを特徴
とする。
気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造装置におい
て、原料ガスが流入される第１端部及び前記原料ガスが
排出される第２端部を有するシリンダー形蒸着用チュー
ブと、前記蒸着用チューブの内部に第１高温領域を形成
するための第１熱源と、前記蒸着用チューブの内部に第
２高温領域を形成するための第２熱源と、前記第１熱源
と前記第２熱源との所定の距離を保持しつつ前記第１及
び第２熱源を移動させる熱源移動部とを含むことを特徴
とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明に従う好適な実施形
態について添付図を参照しつつ詳細に説明する。下記の
説明において、本発明の要旨のみを明確にする目的か
ら、関連した公知機能または構成に関する具体的な説明
は省略する。
態について添付図を参照しつつ詳細に説明する。下記の
説明において、本発明の要旨のみを明確にする目的か
ら、関連した公知機能または構成に関する具体的な説明
は省略する。
【００１６】図４及び図５は、本発明による内付け化学
気相蒸着（ＭＣＶＤ）法を利用した光ファイバ母材の製
造方法を説明するための図である。図４は、蒸着用チュ
ーブ２１０と前記蒸着用チューブ２１０の外周面を加熱
する第１熱源２６２及び第２熱源２６６とを示してい
る。
気相蒸着（ＭＣＶＤ）法を利用した光ファイバ母材の製
造方法を説明するための図である。図４は、蒸着用チュ
ーブ２１０と前記蒸着用チューブ２１０の外周面を加熱
する第１熱源２６２及び第２熱源２６６とを示してい
る。
【００１７】前記蒸着用チューブ２１０は所定の速度で
回転し、前記蒸着用チューブ２１０の一端を通じて原料
ガスが流入され、前記蒸着用チューブ２１０の内部に
は、前記蒸着用チューブ２１０の一端からその他端へ進
行する内部気流が形成される。
回転し、前記蒸着用チューブ２１０の一端を通じて原料
ガスが流入され、前記蒸着用チューブ２１０の内部に
は、前記蒸着用チューブ２１０の一端からその他端へ進
行する内部気流が形成される。
【００１８】前記第１熱源２６２は、前記蒸着用チュー
ブ２１０の外周面を加熱することにより、前記蒸着用チ
ューブ２１０の内部に第１高温領域３３０を形成する。
前記原料ガスは、前記第１高温領域３３０を通過しつつ
反応物を生成し、前記反応物３１０は、熱泳動メカニズ
ムによって前記蒸着用チューブ２１０の内壁に蒸着され
る。図４は、このような蒸着過程によって形成される蒸
着領域３３１を示している。
ブ２１０の外周面を加熱することにより、前記蒸着用チ
ューブ２１０の内部に第１高温領域３３０を形成する。
前記原料ガスは、前記第１高温領域３３０を通過しつつ
反応物を生成し、前記反応物３１０は、熱泳動メカニズ
ムによって前記蒸着用チューブ２１０の内壁に蒸着され
る。図４は、このような蒸着過程によって形成される蒸
着領域３３１を示している。
【００１９】また、前記蒸着用チューブ２１０の内壁に
蒸着されない反応物３１０は、前記蒸着用チューブ２１
０の内部に形成された気流によって継続して移動し、こ
のような移動過程で粒子衝突による反応物３１０の成長
が発生する。図４は、このような成長過程が発生する粒
子成長領域３３２を示している。この後、成長した反応
物３１０は、前記蒸着用チューブ２１０の内壁へ移動す
るようになる。
蒸着されない反応物３１０は、前記蒸着用チューブ２１
０の内部に形成された気流によって継続して移動し、こ
のような移動過程で粒子衝突による反応物３１０の成長
が発生する。図４は、このような成長過程が発生する粒
子成長領域３３２を示している。この後、成長した反応
物３１０は、前記蒸着用チューブ２１０の内壁へ移動す
るようになる。
【００２０】前記第２熱源２６６は、前記蒸着用チュー
ブ２１０の長さ方向に沿って前記第１熱源２６２と所定
の距離で離隔して設置されており、前記蒸着用チューブ
２１０の外周面を加熱して前記蒸着用チューブ２１０の
内部に第２高温領域３３３を形成する。これにより、前
記蒸着用チューブ２１０の内壁へ移動する成長した反応
物３１０を前記蒸着用チューブ２１０の中心へ移動、す
なわちフローティングさせる。前記第２熱源２６６は、
粒子衝突によって生成される成長した反応物３１０が前
記蒸着用チューブ２１０の内壁に蒸着されることを抑制
する機能を遂行するものである。この後、成長した反応
物３１０は、前記蒸着用チューブ２１０の外部へ円滑に
排出される。
ブ２１０の長さ方向に沿って前記第１熱源２６２と所定
の距離で離隔して設置されており、前記蒸着用チューブ
２１０の外周面を加熱して前記蒸着用チューブ２１０の
内部に第２高温領域３３３を形成する。これにより、前
記蒸着用チューブ２１０の内壁へ移動する成長した反応
物３１０を前記蒸着用チューブ２１０の中心へ移動、す
なわちフローティングさせる。前記第２熱源２６６は、
粒子衝突によって生成される成長した反応物３１０が前
記蒸着用チューブ２１０の内壁に蒸着されることを抑制
する機能を遂行するものである。この後、成長した反応
物３１０は、前記蒸着用チューブ２１０の外部へ円滑に
排出される。
【００２１】図５は、前記製造方法による結果物を示し
ている。すなわち、前記蒸着用チューブ２１０の内壁に
蒸着された層３２０は、全体長さにわたって粒子大きさ
及び組成比が均一である。また、前記蒸着された層３２
０の幾何構造も均一であることが分かる。
ている。すなわち、前記蒸着用チューブ２１０の内壁に
蒸着された層３２０は、全体長さにわたって粒子大きさ
及び組成比が均一である。また、前記蒸着された層３２
０の幾何構造も均一であることが分かる。
【００２２】図６は、本発明の好適な実施形態による内
付け化学気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造装
置の構成を示す。前記製造装置は、原料ガス供給部２２
０、シェルフ２５０、第１熱源２６２及び第２熱源２６
６、ガイド２４６、熱源移動部２４２、位置センサー２
７０、第１流量調節部２８０及び第２流量調節部２９
０、及び制御部３００で構成される。
付け化学気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造装
置の構成を示す。前記製造装置は、原料ガス供給部２２
０、シェルフ２５０、第１熱源２６２及び第２熱源２６
６、ガイド２４６、熱源移動部２４２、位置センサー２
７０、第１流量調節部２８０及び第２流量調節部２９
０、及び制御部３００で構成される。
【００２３】前記原料ガス供給部２２０は、酸素と多数
の添加物質とを組み合わせて、前記蒸着用チューブ２１
０の内部に酸素とＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣ
ｌ３、及びフレオンなどの原料ガスを供給する。
の添加物質とを組み合わせて、前記蒸着用チューブ２１
０の内部に酸素とＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣ
ｌ３、及びフレオンなどの原料ガスを供給する。
【００２４】前記シェルフ２５０は、一対のチャック２
３２及び２３６とガイド２４６とを備え、前記一対のチ
ャック２３２及び２３６には、前記蒸着用チューブ２１
０の両端が回転可能であるように固定され、前記ガイド
２４６には、前記第１熱源２６２及び第２熱源２６６が
移動可能であるように搭載される。前記第１熱源２６２
及び第２熱源２６６は、水素及び酸素を供給され、前記
蒸着用チューブ２１０の外周面を加熱しつつ前記ガイド
２４６に沿って所定の速度で移動する。また、前記ガイ
ド２４６は、前記蒸着用チューブ２１０の長さ方向に平
行に設置される。また、前記第１熱源２６２または第２
熱源２６６で酸素／水素バーナーの代わりにプラズマト
ーチ(plasma torch)を使用することができ、前記第１熱
源２６２または第２熱源２６６の形状は、半円形、棒
形、または板形であることもある。
３２及び２３６とガイド２４６とを備え、前記一対のチ
ャック２３２及び２３６には、前記蒸着用チューブ２１
０の両端が回転可能であるように固定され、前記ガイド
２４６には、前記第１熱源２６２及び第２熱源２６６が
移動可能であるように搭載される。前記第１熱源２６２
及び第２熱源２６６は、水素及び酸素を供給され、前記
蒸着用チューブ２１０の外周面を加熱しつつ前記ガイド
２４６に沿って所定の速度で移動する。また、前記ガイ
ド２４６は、前記蒸着用チューブ２１０の長さ方向に平
行に設置される。また、前記第１熱源２６２または第２
熱源２６６で酸素／水素バーナーの代わりにプラズマト
ーチ(plasma torch)を使用することができ、前記第１熱
源２６２または第２熱源２６６の形状は、半円形、棒
形、または板形であることもある。
【００２５】前記熱源移動部２４２は、前記制御部３０
０の移動制御信号によって前記第１熱源２６２及び第２
熱源２６６の移動速度を調節する。このとき、前記第１
熱源２６２及び第２熱源２６６は、設定された離隔距離
を保持したまま移動するようになる。また、前記蒸着用
チューブ２１０内に形成される蒸着領域３３１の安全な
確保のために前記離隔距離が３００ｍｍ以上であること
が望ましい。
０の移動制御信号によって前記第１熱源２６２及び第２
熱源２６６の移動速度を調節する。このとき、前記第１
熱源２６２及び第２熱源２６６は、設定された離隔距離
を保持したまま移動するようになる。また、前記蒸着用
チューブ２１０内に形成される蒸着領域３３１の安全な
確保のために前記離隔距離が３００ｍｍ以上であること
が望ましい。
【００２６】前記位置センサー２７０は、前記第２熱源
２６６の位置を感知し、その感知された位置信号を前記
制御部３００へ出力する。前記第２熱源２６６は、前記
第１熱源２６２と所定の距離で離隔しているので、前記
第１熱源２６２は、前記蒸着用チューブ２１０の範囲内
にあるが、前記第２熱源２６６は、前記蒸着用チューブ
２１０の範囲を外れる場合が発生することがある。これ
を防止するために、前記位置センサー２７０は、前記第
２熱源２６６の位置が前記蒸着用チューブ２１０の範囲
内にあるか否かを監視する機能を遂行する。
２６６の位置を感知し、その感知された位置信号を前記
制御部３００へ出力する。前記第２熱源２６６は、前記
第１熱源２６２と所定の距離で離隔しているので、前記
第１熱源２６２は、前記蒸着用チューブ２１０の範囲内
にあるが、前記第２熱源２６６は、前記蒸着用チューブ
２１０の範囲を外れる場合が発生することがある。これ
を防止するために、前記位置センサー２７０は、前記第
２熱源２６６の位置が前記蒸着用チューブ２１０の範囲
内にあるか否かを監視する機能を遂行する。
【００２７】前記第１流量調節部２８０及び第２流量調
節部２９０は、それぞれ前記制御部３００の流量制御信
号によって前記第１熱源２６２または第２熱源２６６に
供給される燃料、すなわち、酸素及び水素の流量を調節
する。
節部２９０は、それぞれ前記制御部３００の流量制御信
号によって前記第１熱源２６２または第２熱源２６６に
供給される燃料、すなわち、酸素及び水素の流量を調節
する。
【００２８】前記制御部３００は、前記熱源移動部２４
２へ移動制御信号を出力して前記第１熱源２６２及び第
２熱源２６６の移動速度を調節し、前記位置センサー２
７０から前記第２熱源２６６の位置を示す位置感知信号
を入力される。また、前記第２熱源２６６の位置が前記
蒸着用チューブ２１０の範囲を外れた場合、前記第２流
量調節部２９０へ流量制御信号を出力して前記第２熱源
２６６に供給される燃料を遮断することにより、不要に
浪費される燃料の損失を防止する。この後、前記第１熱
源２６２及び第２熱源２６６は、次の蒸着パスを進行す
るために初期の位置にさらに復帰することができる。
２へ移動制御信号を出力して前記第１熱源２６２及び第
２熱源２６６の移動速度を調節し、前記位置センサー２
７０から前記第２熱源２６６の位置を示す位置感知信号
を入力される。また、前記第２熱源２６６の位置が前記
蒸着用チューブ２１０の範囲を外れた場合、前記第２流
量調節部２９０へ流量制御信号を出力して前記第２熱源
２６６に供給される燃料を遮断することにより、不要に
浪費される燃料の損失を防止する。この後、前記第１熱
源２６２及び第２熱源２６６は、次の蒸着パスを進行す
るために初期の位置にさらに復帰することができる。
【００２９】前記制御部３００は、コンピュータで読み
取り可能なコード、すなわち、前記機能に関連したアプ
リケーションを実行するためのマイクロプロセッサーな
どを含む。このようなアプリケーションは、内部メモ
リ、ディスクドライブ内のフロッピー（登録商標）ディ
スク、またはＣＤ−ＲＯＭドライブ内のＣＤ−ＲＯＭに
貯蔵されることもできる。前記制御部３００は、メモリ
インターフェースを通じてフロッピー（登録商標）ディ
スクに貯蔵されたアプリケーションまたは他のデータ)
にアクセスするか、ＣＤ−ＲＯＭドライブインターフェ
ースを通じてＣＤ−ＲＯＭに貯蔵されたアプリケーショ
ン(または他のデータ)にアクセスする。また、前記制御
部３００は、遠隔通信インターフェース(remote commun
ication interface)を含むこともできる。
取り可能なコード、すなわち、前記機能に関連したアプ
リケーションを実行するためのマイクロプロセッサーな
どを含む。このようなアプリケーションは、内部メモ
リ、ディスクドライブ内のフロッピー（登録商標）ディ
スク、またはＣＤ−ＲＯＭドライブ内のＣＤ−ＲＯＭに
貯蔵されることもできる。前記制御部３００は、メモリ
インターフェースを通じてフロッピー（登録商標）ディ
スクに貯蔵されたアプリケーションまたは他のデータ)
にアクセスするか、ＣＤ−ＲＯＭドライブインターフェ
ースを通じてＣＤ−ＲＯＭに貯蔵されたアプリケーショ
ン(または他のデータ)にアクセスする。また、前記制御
部３００は、遠隔通信インターフェース(remote commun
ication interface)を含むこともできる。
【００３０】前述したように、前記制御部３００の機能
は、データ処理装置によって実行されるコンピュータで
読み取り可能なコードによって具現されることもでき
る。前記コードは、前記データ処理装置内のメモリに貯
蔵されるか、またはＣＤ−ＲＯＭまたはフロッピー（登
録商標）ディスクのようなメモリ媒体から読み取り／ダ
ウンロードされることもできる。反面に、他の実施形態
でハードウェア的な回路が本発明を具現するためのソフ
トウェア的な指示に代えて(またはともに)使用されるこ
ともできる。
は、データ処理装置によって実行されるコンピュータで
読み取り可能なコードによって具現されることもでき
る。前記コードは、前記データ処理装置内のメモリに貯
蔵されるか、またはＣＤ−ＲＯＭまたはフロッピー（登
録商標）ディスクのようなメモリ媒体から読み取り／ダ
ウンロードされることもできる。反面に、他の実施形態
でハードウェア的な回路が本発明を具現するためのソフ
トウェア的な指示に代えて(またはともに)使用されるこ
ともできる。
【００３１】前述の如く、本発明の詳細な説明では具体
的な実施形態を参照して詳細に説明してきたが、本発明
の範囲は前記実施形態によって限られるべきではなく、
本発明の範囲内で様々な変形が可能であるということ
は、当該技術分野における通常の知識を持つ者には明ら
かである。
的な実施形態を参照して詳細に説明してきたが、本発明
の範囲は前記実施形態によって限られるべきではなく、
本発明の範囲内で様々な変形が可能であるということ
は、当該技術分野における通常の知識を持つ者には明ら
かである。
【００３２】
【発明の効果】以上から述べてきたように、本発明によ
る内付け化学気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製
造装置及び方法は、第２熱源を利用して蒸着用チューブ
の内部に第２高温領域を形成することにより、成長した
反応物の第２蒸着を抑制することができる。これによ
り、本発明による内付け化学気相蒸着法を利用した光フ
ァイバ母材の製造装置及び方法を利用して生成された光
ファイバ母材は、均一な物性を有し、安定した幾何構造
を有することができる。
る内付け化学気相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製
造装置及び方法は、第２熱源を利用して蒸着用チューブ
の内部に第２高温領域を形成することにより、成長した
反応物の第２蒸着を抑制することができる。これによ
り、本発明による内付け化学気相蒸着法を利用した光フ
ァイバ母材の製造装置及び方法を利用して生成された光
ファイバ母材は、均一な物性を有し、安定した幾何構造
を有することができる。
【図１】 従来技術による内付け化学気相蒸着法を利用
した光ファイバ母材の製造装置の構成を示す図である。
した光ファイバ母材の製造装置の構成を示す図である。
【図２】 図１に示した製造装置を利用した光ファイバ
母材の製造方法を説明するための図である。
母材の製造方法を説明するための図である。
【図３】 図１に示した製造装置を利用した光ファイバ
母材の製造方法を説明するための図である。
母材の製造方法を説明するための図である。
【図４】 本発明による内付け化学気相蒸着法を利用し
た光ファイバ母材の製造方法を説明するための図であ
る。
た光ファイバ母材の製造方法を説明するための図であ
る。
【図５】 本発明による内付け化学気相蒸着法を利用し
た光ファイバ母材の製造方法を説明するための図であ
る。
た光ファイバ母材の製造方法を説明するための図であ
る。
【図６】 本発明の好適な実施形態による内付け化学気
相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造装置の構成を
示す図である。
相蒸着法を利用した光ファイバ母材の製造装置の構成を
示す図である。
２１０ シリンダー形蒸着用チューブ
２４２ 熱源移動部
２６２ 第１熱源
２６６ 第２熱源
２７０ 位置センサー
２８０ 第１流量調節部
２９０ 第２流量調節部
３００ 制御部
３３０ 第１高温領域
３３３ 第２高温領域
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 徐 晩碩
大韓民国慶尚北道龜尾市玉渓洞（番地な
し） 大白アパート103棟904號
(72)発明者 金 成珍
大韓民国慶尚北道龜尾市玉渓洞（番地な
し） 富榮アパート２次907號
(72)発明者 金 允鎬
大韓民国大邱廣域市東區栗下洞915番地２
號
Ｆターム(参考） 4G021 EA02 EB14 EB26
Claims (10)
- 【請求項１】 気相蒸着法による光ファイバ母材の製造
装置において、 原料ガスが流入される第１端部と前記原料ガスが排出さ
れる第２端部とを有するシリンダー形蒸着用チューブ
と、 前記蒸着用チューブの外周面を加熱して前記蒸着用チュ
ーブの内部に第１高温領域を形成するためにガイドに装
着される第１熱源と、 前記蒸着用チューブの外周面を加熱して前記蒸着用チュ
ーブの内部に第２高温領域を形成するために前記蒸着用
チューブの長さ方向に沿って前記第１熱源と所定の距離
に離隔して前記ガイドに装着される第２熱源と、 前記第１熱源と第２熱源との所定の距離を保持しつつ前
記第１及び第２熱源を移動させる熱源移動部とを含むこ
とを特徴とする光ファイバ母材の製造装置。 - 【請求項２】 前記気相蒸着法は、内付け化学気相蒸着
法であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ母
材の製造装置。 - 【請求項３】 前記第１及び第２熱源に連結されて供給
される燃料量を調節する第１及び第２流量調節部と、 前記第２熱源の位置を示す位置感知信号を出力する位置
センサーと、 前記位置感知信号から把握された前記第２熱源の位置が
所定の位置を外れた場合、前記第２熱源に供給される燃
料を減少させるように前記第２流量調節部へ流量制御信
号を出力する制御部とをさらに含むことを特徴とする請
求項２記載の光ファイバ母材の製造装置。 - 【請求項４】 前記所定の離隔距離は、３００ｍｍ以上
であることを特徴とする請求項３記載の光ファイバ母材
の製造装置。 - 【請求項５】 内付け化学気相蒸着法による光ファイバ
母材の製造方法において、 第１熱源を利用してシリンダー形蒸着用チューブの内部
に第１高温領域を形成するステップと、 前記第１高温領域を通じて原料ガスを注入することによ
り前記原料ガスの反応物を生成するステップと、 熱泳動メカニズムによって前記反応物が前記シリンダー
形蒸着用チューブの内壁に蒸着されるステップと、 成長した前記反応物が前記蒸着用チューブの内壁に蒸着
されないように第２熱源を利用して前記蒸着用チューブ
の内部に第２高温領域を形成するステップとを含むこと
を特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項６】 前記第２高温領域から前記蒸着用チュー
ブの内壁へ移動する前記成長した反応物がフローティン
グされることを特徴とする請求項５記載の光ファイバ母
材の製造方法。 - 【請求項７】 所定の離隔距離を保持しつつ前記第１及
び第２熱源を移動させるステップをさらに含むことを特
徴とする請求項５記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項８】 気相蒸着法による光ファイバ母材の製造
装置において、 原料ガスが流入される第１端部及び前記原料ガスが排出
される第２端部を有するシリンダー形蒸着用チューブ
と、 前記蒸着用チューブの内部に第１高温領域を形成するた
めの第１熱源と、 前記蒸着用チューブの内部に第２高温領域を形成するた
めの第２熱源と、 前記第１熱源と前記第２熱源との所定の距離を保持しつ
つ前記第１及び第２熱源を移動させる熱源移動部とを含
むことを特徴とする光ファイバ母材の製造装置。 - 【請求項９】 前記気相蒸着法は、内付け化学気相蒸着
法であることを特徴とする請求項８記載の光ファイバ母
材の製造装置。 - 【請求項１０】 前記第１及び第２熱源に供給される燃
料の量と前記熱源移動部の移動を制御するための制御部
をさらに含むことを特徴とする請求項９記載の光ファイ
バ母材の製造装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0044092A KR100450928B1 (ko) | 2001-07-23 | 2001-07-23 | 수정된 화학기상 증착법을 이용한 광섬유 모재의 제조장치 및 방법 |
| KR2001-044092 | 2001-07-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003063841A true JP2003063841A (ja) | 2003-03-05 |
Family
ID=19712410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002175049A Withdrawn JP2003063841A (ja) | 2001-07-23 | 2002-06-14 | 光ファイバ母材の製造装置及び方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030017262A1 (ja) |
| EP (1) | EP1279647A3 (ja) |
| JP (1) | JP2003063841A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| WO2007073031A1 (en) * | 2005-12-19 | 2007-06-28 | Ls Cable Ltd. | Method for fabricating optical fiber preform with low oh concentration using mcvd process |
| KR100809185B1 (ko) * | 2006-11-13 | 2008-02-29 | 엘에스전선 주식회사 | 광센서를 이용한 광섬유 모재와 전기로의 자동정렬장치 및이를 이용한 정렬방법 |
| NL1037163C2 (nl) * | 2009-07-30 | 2011-02-02 | Draka Comteq Bv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels. |
| CN106495461A (zh) * | 2016-11-02 | 2017-03-15 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种掺稀土光纤预制棒气相掺杂加热保温装置及掺杂方法 |
| CN109231812A (zh) * | 2018-12-04 | 2019-01-18 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种掺稀土光纤预制棒的制备方法与装置 |
| CN109487242B (zh) * | 2019-01-07 | 2021-01-29 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置 |
| CN115403262B (zh) * | 2022-08-30 | 2023-06-13 | 富通集团有限公司 | 预制棒的加工方法及其加工设备 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS53143624A (en) * | 1977-05-23 | 1978-12-14 | Toshiba Ceramics Co | Production of glass for photoconductive fiber |
| JPS5614431A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-12 | Fujitsu Ltd | Manufacture of optical fiber |
| US4280829A (en) * | 1980-05-12 | 1981-07-28 | Corning Glass Works | Apparatus for controlling internal pressure of a bait tube |
| US4328018A (en) * | 1980-06-19 | 1982-05-04 | Corning Glass Works | Method and apparatus for making optical fiber waveguides |
| JPS5747736A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-18 | Fujitsu Ltd | Manufacture of base material for optical fiber |
| US4528009A (en) * | 1983-06-01 | 1985-07-09 | Corning Glass Works | Method of forming optical fiber having laminated core |
| JPS60122739A (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-01 | Fujitsu Ltd | 光ファイバ母材の製法 |
| GB8610053D0 (en) * | 1986-04-24 | 1986-05-29 | British Telecomm | Glass fibre |
| JP3517848B2 (ja) * | 1994-08-26 | 2004-04-12 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
| KR100342189B1 (ko) * | 1995-07-12 | 2002-11-30 | 삼성전자 주식회사 | 휘발성복합체를사용한희토류원소첨가광섬유제조방법 |
| US6145345A (en) * | 1998-06-05 | 2000-11-14 | Lucent Technologies Inc. | Modified chemical vapor deposition using independently controlled thermal sources |
-
2001
- 2001-07-23 KR KR10-2001-0044092A patent/KR100450928B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-12-06 US US10/012,647 patent/US20030017262A1/en not_active Abandoned
- 2001-12-28 EP EP01131014A patent/EP1279647A3/en not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-06-14 JP JP2002175049A patent/JP2003063841A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
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|---|---|
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| EP1279647A3 (en) | 2004-02-04 |
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