JP2003043675A - Solder resistant resin layer and wiring board using the same and electronic device - Google Patents

Solder resistant resin layer and wiring board using the same and electronic device

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JP2003043675A
JP2003043675A JP2001226641A JP2001226641A JP2003043675A JP 2003043675 A JP2003043675 A JP 2003043675A JP 2001226641 A JP2001226641 A JP 2001226641A JP 2001226641 A JP2001226641 A JP 2001226641A JP 2003043675 A JP2003043675 A JP 2003043675A
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solder
resin layer
resistant resin
epoxy resin
wiring board
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Isamu Kirikihira
勇 桐木平
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Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solder resistant resin layer having the thermal fatigue resistance to a heat history and temperature cycle test(TCT) in packaging, the moisture resistance to a high acceleration test (HAST), etc., and a wiring board using the same and an electronic device. SOLUTION: The solder resistant resin layer 3 is formed by curing a resin composition containing an epoxy resin mixture, thermal stress absorption particles A formed by using elastomer particles not compatible with the epoxy resin mixture as cores and coating the cores with the resin compatible with the epoxy resin mixture as a shell layer and inorganic insulative fillers of 0.1 to 2 μm in average grain size and the Erichsen value thereof is 5 to 15 mm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性・耐湿性に
優れた耐半田樹脂層およびそれを用いた配線基板ならび
に電子装置に関し、特に、実装時の熱履歴や温度サイク
ル試験(TCT)等の耐熱疲労性および高加速度試験
(HAST)に対する耐湿性等に優れた耐半田樹脂層お
よびこれを用いた配線基板ならびに電子装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solder-resistant resin layer having excellent heat resistance and moisture resistance, a wiring board using the same, and an electronic device, and more particularly, to a heat history during mounting and a temperature cycle test (TCT). To a solder-resistant resin layer excellent in heat fatigue resistance and moisture resistance against a high acceleration test (HAST), a wiring board using the same, and an electronic device.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、現在の電子機器は、移動体通信
機器に代表されるように小型・薄型・軽量・高性能・高
機能・高品質・高信頼性が要求されてきており、このよ
うな電子機器に搭載される電子装置も小型・高密度化が
要求されるようになってきている。そのため、電子装置
を構成する配線基板にも小型・薄型・多端子化が求めら
れてきており、それを実現するために信号導体等の配線
導体の幅を細くするとともにその間隔を狭くし、さらに
配線導体の多層化により高密度配線化が図られている。
2. Description of the Related Art Generally, current electronic devices are required to be small, thin, lightweight, high-performance, high-performance, high-quality and highly reliable as represented by mobile communication devices. Electronic devices mounted on various electronic devices are also required to be small and have high density. Therefore, wiring boards that make up electronic devices are also required to be small, thin, and have multiple terminals. To achieve this, the widths of wiring conductors such as signal conductors are made narrower and the intervals between them are reduced. High-density wiring is achieved by multilayering wiring conductors.

【0003】このような高密度配線が可能な配線基板と
して、ビルドアップ法を採用して製作された配線基板が
知られている。ビルドアップ法とは、例えば、ガラスク
ロスやアラミド不布織等の補強材に耐熱性や耐薬品性を
有するエポキシ樹脂に代表される熱硬化性樹脂を含浸さ
せて硬化した芯体上に、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂
から成るワニスを塗布するとともに加熱硬化して絶縁層
を形成した後、絶縁層にレーザ光で径が50〜200μm程
度のビアホールを形成し、次に、絶縁層表面およびビア
ホール内壁を過マンガン酸カリウム溶液等の粗化液で化
学粗化し、しかる後、無電解銅めっき法および電解銅め
っき法を用いてビアホール内壁および絶縁層表面に配線
導体を形成し、さらに、この絶縁層上に上記と同様の工
程を繰り返して絶縁層や配線導体の形成を行なう配線基
板の製造方法である。また、この配線基板は、その最外
郭の絶縁層表面に、搭載される電子部品等との接続端子
として機能する半田接合パッドや外部電気回路基板の配
線導体と接続される半田接合パッドが形成されており、
さらに、半田接合パッドの外周部を含む絶縁層表面には
半田接合パッドの中央部を露出させる開口部を有する耐
半田樹脂層が被着形成されている。
A wiring board manufactured by adopting a build-up method is known as a wiring board capable of such high-density wiring. The build-up method is, for example, a core material obtained by impregnating a reinforcing material such as a glass cloth or an aramid non-woven fabric with a thermosetting resin typified by an epoxy resin having heat resistance and chemical resistance and curing the epoxy resin. A varnish made of a thermosetting resin such as a resin is applied and cured by heating to form an insulating layer, and then a via hole having a diameter of about 50 to 200 μm is formed in the insulating layer by laser light. The inner wall of the via hole is chemically roughened with a roughening solution such as potassium permanganate solution, and thereafter, a wiring conductor is formed on the inner wall of the via hole and the surface of the insulating layer by using an electroless copper plating method and an electrolytic copper plating method. This is a method of manufacturing a wiring board in which the same steps as described above are repeated on the insulating layer to form an insulating layer and a wiring conductor. In addition, this wiring board has solder bonding pads functioning as connection terminals for the electronic components to be mounted and solder bonding pads connected to the wiring conductors of the external electric circuit board on the outermost insulating layer surface. And
Further, on the surface of the insulating layer including the outer peripheral portion of the solder joint pad, a solder resistant resin layer having an opening for exposing the central portion of the solder joint pad is adhered and formed.

【0004】なお、このような耐半田樹脂層は、感光性
樹脂と無機絶縁フィラーと光開始剤とから成る未硬化樹
脂液をロールコータ法やスクリーン印刷法を用い最外郭
の絶縁層や配線導体・半田接合パッドの全面に所定の厚
みに塗布するとともに、これを乾燥することにより絶縁
層表面に被着し、しかる後、耐半田樹脂層に露光および
現像処理を行うことにより半田接合パッド上に開口部を
形成し、最後に光硬化および熱硬化することによって形
成される。さらに、露出した半田接合パッド表面には、
半田との濡れ性の良いニッケル・金めっきが被着されて
いる。
Such a solder-resistant resin layer is formed by using a roll coater method or a screen printing method with an uncured resin liquid composed of a photosensitive resin, an inorganic insulating filler, and a photoinitiator to form an outermost insulating layer or wiring conductor.・ Apply to a predetermined thickness on the entire surface of the solder bonding pad, and dry it to adhere to the surface of the insulating layer. Then, the solder resistant resin layer is exposed and developed to form a solder bonding pad. It is formed by forming an opening and finally by photo-curing and heat-curing. Furthermore, on the exposed solder joint pad surface,
Nickel / gold plating with good wettability with solder is applied.

【0005】そして、上記の半田接合パッド上の開口部
にスクリーン印刷により半田ペーストを充填し、リフロ
ー炉を通すことにより半田ペーストを溶融固化して半田
バンプを形成し、次に、この半田バンプを介して配線基
板の半田接合パッドと電子部品の接続端子とを電気的に
接続し、しかる後、配線基板と電子部品とをアンダーフ
ィル材で接着することにより電子装置が製作される。な
お、この電子装置は外部端子接続用の半田接合パッドを
外部電気回路基板の配線導体に半田バンプを介して接続
することにより外部電気回路基板に実装される。
Then, the openings on the solder bonding pads are filled with the solder paste by screen printing, and the solder paste is melted and solidified by passing through a reflow oven to form solder bumps. An electronic device is manufactured by electrically connecting the solder joint pads of the wiring board and the connection terminals of the electronic component via the interposer, and then bonding the wiring board and the electronic component with an underfill material. The electronic device is mounted on the external electric circuit board by connecting the solder joint pads for connecting the external terminals to the wiring conductors of the external electric circuit board via the solder bumps.

【0006】一般に、このような配線基板は、実装時の
熱履歴や温度サイクル試験(TCT)に対する耐熱疲労
性を向上させるために、耐半田樹脂層にエラストマーや
ゴム等の弾性体を配合している(特開2001-57446号公報
参照)。なお、これらエラストマーやゴム等の弾性体
は、耐半田樹脂層中に海島構造となるようにミクロ相分
離しており、半田接合パッドと耐半田樹脂層との熱膨張
差によって発生する応力を吸収・緩和して、クラックの
発生を抑制している。
[0006] In general, such a wiring board contains an elastic body such as an elastomer or rubber in the solder-resistant resin layer in order to improve thermal history at the time of mounting and thermal fatigue resistance to a temperature cycle test (TCT). (See Japanese Patent Laid-Open No. 2001-57446). Note that these elastomers, rubbers, and other elastic bodies are microphase-separated in the solder-resistant resin layer so as to form a sea-island structure, and absorb the stress generated by the difference in thermal expansion between the solder bonding pad and the solder-resistant resin layer. -It is relaxed and the generation of cracks is suppressed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記提
案の配線基板は、耐半田樹脂層中にミクロ相分離してい
るエラストマーやゴム等の弾性体の粒径が不均一で耐半
田樹脂層表面に偏在し易く、また、エラストマーやゴム
等の弾性体が露光時にガラスマスクに粘着し易いいこと
から、外観不良となってしまうという問題点を有してい
た。
However, in the above-mentioned wiring board, the particle size of the elastic body such as elastomer or rubber which is microphase-separated in the solder resistant resin layer is not uniform and the solder resistant resin layer surface is Since it is easily unevenly distributed, and the elastic body such as an elastomer or rubber easily sticks to the glass mask during exposure, there is a problem that the appearance becomes poor.

【0008】また、耐半田樹脂層は、その熱膨張係数を
絶縁層や配線導体の熱膨張係数と整合させるために平均
粒径が5〜20μmの無機絶縁性フィラーを30〜80重量%
含有しているが、この無機絶縁性フィラーと樹脂との界
面に水分が溜り易いとともにこの界面に沿って不純物イ
オンが移動し易く、配線基板の薄型化にともなって耐半
田樹脂層を5〜20μmの厚みに薄層化した場合に、耐半
田樹脂層の厚みよりも大きな粒径の無機絶縁性フィラー
の粒子が耐半田樹脂層の表裏両面を架橋してしまい、そ
の結果、高加速度試験(HAST)を行うと、不純物イ
オンが無機絶縁性フィラーと樹脂との界面に沿って耐半
田樹脂層の表裏両面を容易に移動して絶縁抵抗が急激に
低下してしまい、電気的に短絡してしまうという問題点
を有していた。
Further, the solder resistant resin layer contains 30 to 80% by weight of an inorganic insulating filler having an average particle diameter of 5 to 20 .mu.m in order to match the coefficient of thermal expansion with that of the insulating layer and the wiring conductor.
Although contained, moisture easily accumulates at the interface between the inorganic insulating filler and the resin and impurity ions easily move along this interface, and the solder-resistant resin layer is 5 to 20 μm as the wiring board becomes thinner. When the thickness of the solder-resistant resin layer is reduced, the particles of the inorganic insulating filler having a particle size larger than the thickness of the solder-resistant resin layer crosslinks both the front and back surfaces of the solder-resistant resin layer, resulting in a high acceleration test (HAST). ), The impurity ions easily move along the interface between the inorganic insulating filler and the resin on both the front and back surfaces of the solder-resistant resin layer, and the insulation resistance sharply decreases, causing an electrical short circuit. Had the problem.

【0009】本発明はかかる従来技術の問題点に鑑み完
成されたものであり、その目的は、実装時の熱履歴や温
度サイクル試験(TCT)に対する耐熱疲労性および高
加速度試験(HAST)に対する耐湿性に優れた耐半田
樹脂層およびこれを用いた配線基板ならびに電子装置を
提供することにある。
The present invention has been completed in view of the above problems of the prior art, and an object thereof is thermal fatigue at the time of mounting and thermal fatigue resistance to a temperature cycle test (TCT) and moisture resistance to a high acceleration test (HAST). An object is to provide a solder-resistant resin layer having excellent properties, a wiring board using the same, and an electronic device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の耐半田樹脂層
は、エポキシ樹脂混合物と、このエポキシ樹脂混合物に
相溶しないエラストマー粒子をコアとしエポキシ樹脂混
合物に相溶する樹脂をシェル層として被覆した熱応力吸
収粒子と、平均粒径が0.1〜2μmの無機絶縁性フィラ
ーとを含有する樹脂組成物を硬化させて成り、エリクセ
ン値が5〜15mmであることを特徴とするものである。
The solder-resistant resin layer of the present invention comprises an epoxy resin mixture, elastomer particles incompatible with the epoxy resin mixture as a core, and a resin compatible with the epoxy resin mixture as a shell layer. It is formed by curing a resin composition containing heat stress absorbing particles and an inorganic insulating filler having an average particle diameter of 0.1 to 2 μm, and has an Erichsen value of 5 to 15 mm.

【0011】また、本発明の耐半田樹脂層は、エポキシ
樹脂混合物がアクリル変性エポキシ樹脂40〜80重量%
と、エポキシ樹脂20〜60重量%とから成るとともに、エ
ポキシ樹脂混合物に対して、熱応力吸収粒子を20〜60重
量%および無機絶縁性フィラーを5〜20重量%含有して
いることを特徴とするものである。
In the solder-resistant resin layer of the present invention, the epoxy resin mixture is an acrylic modified epoxy resin 40 to 80% by weight.
And 20 to 60% by weight of an epoxy resin, and 20 to 60% by weight of heat stress absorbing particles and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler with respect to the epoxy resin mixture. To do.

【0012】本発明の配線基板は、半田接合パッドを被
着形成した絶縁基板上に上記の耐半田樹脂層を被着形成
するとともに、半田接合パッド上の耐半田樹脂層に開口
部を形成して成ることを特徴とするものである。
In the wiring board of the present invention, the above-mentioned solder-resistant resin layer is adhered and formed on the insulating substrate on which the solder-bonding pad is adhered, and an opening is formed in the solder-resistant resin layer on the solder-bonding pad. It is characterized by consisting of.

【0013】本発明の電子装置は、上記の配線基板の耐
半田樹脂層に形成した開口部内の半田接合パッドに半田
を介して電子部品の電極を接続したことを特徴とするも
のである。
The electronic device of the present invention is characterized in that the electrodes of the electronic component are connected to the solder joint pads in the openings formed in the solder-resistant resin layer of the wiring board through solder.

【0014】本発明の耐半田樹脂層によれば、エポキシ
樹脂混合物に、エポキシ樹脂混合物に相溶しないエラス
トマー粒子をコアとしエポキシ樹脂混合物に相溶する樹
脂をシェル層として被覆した熱応力吸収粒子を含有させ
たことから、熱応力吸収粒子を耐半田樹脂層中に均一に
分散させることができ、その結果、熱応力吸収粒子が耐
半田樹脂層表面に偏在することがないとともに露光時に
ガラスマスクに粘着することがなく、外観の良好な耐半
田樹脂層とすることができる。また、平均粒径が0.1〜
2μmの無機絶縁性フィラーを含有していることから、
耐半田樹脂層を配線基板の薄型化にともなって5〜20μ
mの厚みに薄層化したとしても、無機絶縁性フィラー粒
子が耐半田樹脂層の表裏両面を架橋することはなく、そ
の結果、高加速度試験(HAST)においてもイオンマ
イグレーションの発生がなく、耐熱・耐湿性に優れた感
光性耐半田樹脂層とすることができる。さらに、エリク
セン値を5〜15mmとしたことから、配線基板に電子部
品を実装する際や温度サイクル試験(TCT)を行った
際に耐半田樹脂層と半田接合パッドとの熱膨張差によっ
て発生する熱応力を緩和でき、耐半田樹脂層にクラック
が生じることはなく、その結果、配線導体層が断線する
ことのない電気的な接続信頼性に優れる耐半田樹脂層と
することができる。また、エポキシ樹脂混合物を含有し
ていることから、エポキシ基の極性により半田接合パッ
ドや絶縁基板と密着性の良好な耐半田樹脂層とすること
ができる。
According to the solder-resistant resin layer of the present invention, thermal stress absorbing particles obtained by coating an epoxy resin mixture with a shell layer of a resin that is compatible with the epoxy resin mixture and has a core of elastomer particles that are incompatible with the epoxy resin mixture. Since it is contained, the thermal stress absorption particles can be uniformly dispersed in the solder-resistant resin layer, and as a result, the thermal stress absorption particles are not unevenly distributed on the surface of the solder-resistant resin layer and the glass mask can be exposed at the time of exposure. It is possible to form a solder-resistant resin layer having good appearance without sticking. Also, the average particle size is 0.1 ~
Since it contains an inorganic insulating filler of 2 μm,
Solder resistant resin layer is 5 to 20μ as wiring board becomes thinner
Even if the thickness is reduced to m, the inorganic insulating filler particles do not crosslink both the front and back surfaces of the solder-resistant resin layer, and as a result, ion migration does not occur even in the high acceleration test (HAST) and heat resistance -A photosensitive solder resin layer having excellent moisture resistance can be formed. Furthermore, since the Erichsen value is set to 5 to 15 mm, it occurs due to the difference in thermal expansion between the solder-resistant resin layer and the solder joint pad when mounting an electronic component on the wiring board or when performing a temperature cycle test (TCT). The thermal stress can be relaxed, and the solder-resistant resin layer is not cracked. As a result, the solder-resistant resin layer can be excellent in electrical connection reliability without breaking the wiring conductor layer. Further, since it contains the epoxy resin mixture, it is possible to form a solder-resistant resin layer having good adhesion to the solder joint pad or the insulating substrate due to the polarity of the epoxy group.

【0015】また、本発明の耐半田樹脂層によれば、エ
ポキシ樹脂混合物がアクリル変性エポキシ樹脂40〜80重
量%と、エポキシ樹脂20〜60重量%とから成ることか
ら、めっき液等に対する耐薬品性に優れるとともにクラ
ックの発生のない耐半田樹脂層とすることができる。さ
らに、エポキシ樹脂混合物に対して、熱応力吸収粒子を
20〜60重量%含有していることから、可撓性・耐熱性・
耐湿性に優れたものとすることができ、また、無機絶縁
性フィラーを5〜20重量%含有していることから、耐半
田樹脂層を平坦に成形することができるとともに、露光
・現像により開口部を形成する際にフィラーが残ること
もない。
Further, according to the solder-resistant resin layer of the present invention, since the epoxy resin mixture is composed of 40 to 80% by weight of the acrylic modified epoxy resin and 20 to 60% by weight of the epoxy resin, it is resistant to chemicals such as plating solutions. It is possible to obtain a solder-resistant resin layer which has excellent properties and does not cause cracks. Furthermore, for the epoxy resin mixture, heat stress absorbing particles are added.
Since it contains 20 to 60% by weight, it has flexibility, heat resistance, and
It has excellent moisture resistance, and since it contains 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler, the solder-resistant resin layer can be formed flat and exposed by exposure and development. No filler remains when forming the part.

【0016】本発明の配線基板によれば、半田接合パッ
ドを被着形成した絶縁基板上に上記の耐半田樹脂層を被
着形成するとともに、半田接合パッド上の耐半田樹脂層
に開口部を形成したことから、耐半田樹脂層が配線基板
に電子部品を実装する際の熱から絶縁層を保護するとと
もに半田接合パッドを湿気による酸化や腐蝕から保護す
ることができ、その結果、耐熱性・耐湿性に優れた配線
基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, the solder resistant resin layer is deposited on the insulating substrate on which the solder bonding pad is deposited, and the opening is formed in the solder resistant resin layer on the solder bonding pad. Since it is formed, the solder-resistant resin layer can protect the insulating layer from heat when mounting electronic components on the wiring board and protect the solder joint pads from oxidation and corrosion due to moisture, resulting in heat resistance and A wiring board having excellent moisture resistance can be obtained.

【0017】また、本発明の電子装置によれば、上記の
配線基板の耐半田樹脂層に形成した開口部内の半田接合
パッドに半田を介して電子部品の電極を接続したことか
ら、温度サイクル試験(TCT)においてもクラックや
剥離の発生がなく、耐熱・耐湿性に優れた電子装置とす
ることができる。
Further, according to the electronic device of the present invention, since the electrode of the electronic component is connected to the solder joint pad in the opening formed in the solder-resistant resin layer of the wiring board through the solder, the temperature cycle test is performed. Even in (TCT), no crack or peeling occurs, and an electronic device having excellent heat resistance and humidity resistance can be obtained.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】次に、本発明の耐半田樹脂層およ
びそれを用いた配線基板ならびに電子装置について詳細
に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, a solder-resistant resin layer of the present invention, a wiring board using the same, and an electronic device will be described in detail.

【0019】本発明の耐半田樹脂層は、エポキシ樹脂混
合物と、このエポキシ樹脂混合物に相溶しないエラスト
マー粒子をコアにエポキシ樹脂混合物に相溶する樹脂を
シェル層として被覆した熱応力吸収粒子と、平均粒径が
0.1〜2μmの無機絶縁性フィラーとを含有する樹脂組
成物を硬化することにより形成されている。また、エポ
キシ樹脂混合物は、アクリル変性エポキシ樹脂40〜80重
量%と、エポキシ樹脂20〜60重量%とから成るととも
に、エポキシ樹脂化合物に対して、熱応力吸収粒子が20
〜60重量%および無機絶縁性フィラーが5〜20重量%含
有されている。
The solder-resistant resin layer of the present invention comprises an epoxy resin mixture, thermal stress absorbing particles obtained by coating a core of elastomer particles incompatible with the epoxy resin mixture with a resin compatible with the epoxy resin mixture as a shell layer. Average particle size is
It is formed by curing a resin composition containing an inorganic insulating filler of 0.1 to 2 μm. The epoxy resin mixture is composed of 40 to 80% by weight of an acrylic modified epoxy resin and 20 to 60% by weight of an epoxy resin.
.About.60% by weight and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler.

【0020】このようなエポキシ樹脂混合物は、カルボ
ン酸や水酸基を有することから、配線基板の半田接合パ
ッドや絶縁基板との密着性を良好とする機能を有すると
ともに耐半田樹脂層の架橋密度を高くし、熱による樹脂
の分子切断および樹脂中への水分の浸入を抑制する機能
を有する。
Since such an epoxy resin mixture has a carboxylic acid or a hydroxyl group, it has the function of improving the adhesion to the solder joint pad of the wiring board and the insulating substrate, and the crosslinking density of the solder-resistant resin layer is high. However, it has a function of suppressing molecular cutting of the resin due to heat and permeation of water into the resin.

【0021】アクリル変性エポキシ樹脂は、その含有量
を後述する耐半田樹脂層に露光・現像により開口を形成
する際に樹脂残りやアンダーカットを生じ難くするとい
う観点からは40重量%以上とすることが好ましく、めっ
き液等に対する耐薬品性に優れるという観点からは80重
量%以下とすることが好ましい。従って、アクリル変性
エポキシ樹脂の含有量は40〜80重量%の範囲にすること
が好ましい。また、エポキシ樹脂は、その含有量が20重
量%より少ないと耐半田樹脂層の架橋密度が低くなり、
耐熱性・耐薬品性が低下してしまう傾向があり、60重量
%を超えると耐半田樹脂層の架橋密度が高くなり可撓性
が低下して、クラックが発生し易くなる傾向がある。従
って、エポキシ樹脂の含有量は20〜60重量%の範囲にす
ることが好ましい。
The content of the acrylic modified epoxy resin is 40% by weight or more from the viewpoint that it is difficult for resin residue or undercut to occur when an opening is formed in the solder resistant resin layer described later by exposure and development. Is preferable, and it is preferably 80% by weight or less from the viewpoint of excellent chemical resistance to plating solutions and the like. Therefore, the content of the acrylic modified epoxy resin is preferably in the range of 40 to 80% by weight. If the content of the epoxy resin is less than 20% by weight, the crosslink density of the solder-resistant resin layer becomes low,
Heat resistance and chemical resistance tend to decrease, and if it exceeds 60% by weight, the crosslink density of the solder resistant resin layer becomes high and flexibility decreases, and cracks tend to occur easily. Therefore, the content of the epoxy resin is preferably in the range of 20 to 60% by weight.

【0022】このようなアクリル変性エポキシ樹脂とし
ては、アクリル化クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
やアクリル化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の
感光性樹脂が用いられ、露光・現像性の観点からは分子
量が数百〜数千程度のものが好ましい。また、エポキシ
樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビス
フェノールF型エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が用いら
れ、耐熱性・耐薬品性の観点からは分子量が数百程度の
ものが好ましい。さらに、樹脂組成物には露光・現像を
促進するためにα-アミノケトン系の光重合開始剤やベ
ンゾフェノン系の光増感剤を添加しても良い。
As such an acrylic-modified epoxy resin, a photosensitive resin such as an acrylated cresol novolac type epoxy resin or an acrylated phenol novolac type epoxy resin is used, and has a molecular weight of several hundreds from the viewpoint of exposure and developability. Thousands are preferable. As the epoxy resin, a thermosetting resin such as a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol F type epoxy resin is used. From the viewpoint of heat resistance and chemical resistance, a resin having a molecular weight of about several hundreds is preferable. Further, an α-aminoketone-based photopolymerization initiator or a benzophenone-based photosensitizer may be added to the resin composition in order to accelerate exposure and development.

【0023】また、本発明の耐半田樹脂層は、エポキシ
樹脂化合物100重量%に対して、エポキシ樹脂混合物に
相溶しないエラストマー粒子をコアにエポキシ樹脂混合
物に相溶する樹脂をシェル層として被覆した熱応力吸収
粒子を20〜60重量%含有している。このような熱応力吸
収粒子は、配線基板に電子部品を実装する際や温度サイ
クル試験(TCT)を行った際に発生する熱応力を吸収
し、耐半田樹脂層のクラックを防止する機能を有する。
また、コアであるエラストマー粒子をエポキシ樹脂混合
物に相溶する樹脂で被覆していることから耐半田樹脂層
中に均一に分散することができ、その結果、耐半田樹脂
層表面に偏在することがなく、露光時にガラスマスクに
粘着することがなく外観の良好な耐半田樹脂層とするこ
とができる。
In the solder-resistant resin layer of the present invention, 100% by weight of the epoxy resin compound is coated with elastomer particles which are incompatible with the epoxy resin mixture as a core and a resin which is compatible with the epoxy resin mixture as a shell layer. It contains 20 to 60% by weight of heat stress absorbing particles. Such thermal stress absorbing particles have a function of absorbing thermal stress generated when an electronic component is mounted on a wiring board or when performing a temperature cycle test (TCT), and prevent cracks in the solder-resistant resin layer. .
Further, since the core elastomer particles are coated with a resin compatible with the epoxy resin mixture, they can be uniformly dispersed in the solder-resistant resin layer, and as a result, uneven distribution on the solder-resistant resin layer surface may occur. In addition, the solder-resistant resin layer has a good appearance without sticking to the glass mask during exposure.

【0024】このよな熱応力吸収粒子は、その含有量が
20重量%未満となると耐半田樹脂層の可撓性が低下して
耐半田樹脂層にクラックが発生し易くなる傾向があり、
また、60重量%を超えると架橋密度が低下し、耐熱性・
耐湿性が低下する傾向がある。従って、熱応力吸収粒子
の含有量は20〜60重量%の範囲にすることが好ましい。
The content of such thermal stress absorbing particles is
If it is less than 20% by weight, the flexibility of the solder-resistant resin layer is reduced and the solder-resistant resin layer tends to be cracked,
Also, if it exceeds 60% by weight, the cross-linking density decreases and heat resistance
Moisture resistance tends to decrease. Therefore, the content of the heat stress absorbing particles is preferably in the range of 20 to 60% by weight.

【0025】また、熱応力吸収粒子の平均粒径は1〜5
μmの範囲が好ましく、混合時の粘度上昇を抑制するた
めに1μm以上が好ましく、耐半田樹脂層表面の外観を
良好にするために5μm以下が好ましい、従って、熱応
力吸収粒子の粒径は1〜5μmの範囲が好ましい。
The average particle size of the heat stress absorbing particles is 1 to 5
The range of μm is preferable, 1 μm or more is preferable in order to suppress the increase in viscosity at the time of mixing, and 5 μm or less is preferable in order to improve the appearance of the surface of the solder-resistant resin layer. The range of ˜5 μm is preferable.

【0026】このような熱応力吸収粒子のコアとなるエ
ラストマーとしては、エポキシ樹脂混合物とは相溶しな
い弾性体であれば良いが、例えば、スチレン−エチレン
−ブチレン−スチレントリブロックポリマー(SEB
S)・スチレン−エチレン−イソプレン−スチレントリ
ブロックポリマー(SEPS)・ポリエーテル−ポリエ
ステルマルチブロックポリマー等の熱可塑性エラストマ
ー類や、アクリルゴム(ACM)・水素添加アクリロニ
トリル−ブタジエンゴム(HNBR)等の合成ゴム類が
用いられる。また、シェル層の樹脂は、エポキシ樹脂混
合物と相溶する樹脂であればよいが、例えば、エポキシ
樹脂やアクリロニトリルースチレン樹脂(AS)等が用
いられる。
As the elastomer serving as the core of such heat stress absorbing particles, any elastic material which is incompatible with the epoxy resin mixture may be used. For example, styrene-ethylene-butylene-styrene triblock polymer (SEB).
S) -Styrene-ethylene-isoprene-styrene triblock polymer (SEPS) -Polyether-polyester multiblock polymer thermoplastic elastomers, acrylic rubber (ACM), hydrogenated acrylonitrile-butadiene rubber (HNBR), etc. Rubber is used. The resin for the shell layer may be any resin that is compatible with the epoxy resin mixture. For example, epoxy resin, acrylonitrile-styrene resin (AS), or the like is used.

【0027】なお、熱応力吸収粒子の製造方法として
は、例えば、SEBS等のエラストマーを有機溶剤にホ
モジナイザー等で均一に分散させるとともに、これに有
機溶剤に溶解させたAS等のシェル層と成る樹脂を添加
混合した後、スプレードラヤーで乾燥して樹脂を被覆す
る方法や、乳化重合や懸濁重合等でアクリルゴム等の弾
性体粒子を合成した後、アクリロニトリルモノマーやス
チレンモノマーをさらに添加してシード重合することに
よって弾性体粒子をAS樹脂で被覆する方法等がある。
As a method of producing the heat stress absorbing particles, for example, an elastomer such as SEBS is uniformly dispersed in an organic solvent with a homogenizer or the like, and a resin to be a shell layer such as AS is dissolved in the organic solvent. After mixing and mixing, a method of coating the resin by drying with a spray dryer, or after synthesizing elastic particles such as acrylic rubber by emulsion polymerization or suspension polymerization, further adding acrylonitrile monomer and styrene monomer. There is a method of coating elastic particles with AS resin by seed polymerization.

【0028】また、本発明の耐半田樹脂層は、平均粒径
が0.1〜2μmの無機絶縁性フィラーを含有している。
無機絶縁性フィラーは耐半田樹脂層の強度を高めるとと
もに半田樹脂層の熱膨張係数と絶縁層や配線導体の熱膨
張係数とを整合させる機能を有する。本発明の耐半田樹
脂層によれば、無機絶縁性フィラーの平均粒径を0.1〜
2μmとしたことから、耐半田樹脂層を配線基板の薄型
化にともなって5〜20μmの厚みに薄層化したとして
も、無機絶縁性フィラー粒子が耐半田樹脂層の表裏両面
を架橋することはなく、その結果、高加速度試験(HA
ST)においてもイオンマイグレーションの発生がな
く、耐熱・耐湿性に優れた耐半田樹脂層とすることがで
きる。
The solder-resistant resin layer of the present invention contains an inorganic insulating filler having an average particle size of 0.1 to 2 μm.
The inorganic insulating filler has a function of increasing the strength of the solder-resistant resin layer and matching the thermal expansion coefficient of the solder resin layer with the thermal expansion coefficient of the insulating layer or the wiring conductor. According to the solder-resistant resin layer of the present invention, the average particle size of the inorganic insulating filler is 0.1 to
Since the thickness of the solder-resistant resin layer is 2 μm, even if the thickness of the solder-resistant resin layer is reduced to 5 to 20 μm as the wiring board is made thinner, the inorganic insulating filler particles do not crosslink both the front and back surfaces of the solder-resistant resin layer. As a result, high acceleration test (HA
Even in ST), ion migration does not occur, and a solder-resistant resin layer having excellent heat resistance and humidity resistance can be obtained.

【0029】無機絶縁性フィラーは、その平均粒径が0.
1μmより小さいと嵩密度が高くなり耐半田樹脂層の成
形時の粘度が上昇し厚みの制御が困難となる傾向にあ
り、また、平均粒径が2μmを超えると耐半田樹脂層を
5μm程度の厚みに薄層化した時に、無機絶縁性フィラ
ー粒子が複数個連なって耐半田樹脂層の表裏両面を架橋
してしまい、無機絶縁性フィラーと樹脂との界面に沿っ
てイオンマイグレーションが発生し耐半田樹脂層の絶縁
抵抗を低下させてしまい易くなる傾向にある。従って、
無機絶縁性フィラーの平均粒径は0.1〜2μmの範囲に
することが好ましい。また、無機絶縁性フィラーの含有
量は、耐半田樹脂層の形成時の平坦性を確保するという
観点からは5重量%以上とすることが好ましく、露光・
現像により開口を形成する際に無機絶縁性フィラー残り
を生じ難くするという観点からは20重量%以下とするこ
とが好ましい。従って、無機絶縁性フィラー含有量はエ
ポキシ樹脂混合物に対して5〜20重量%の範囲にするこ
とが好ましい。
The inorganic insulating filler has an average particle size of 0.
If it is less than 1 μm, the bulk density tends to be high, and the viscosity of the solder-resistant resin layer at the time of molding tends to increase, making it difficult to control the thickness. When the thickness is reduced, a plurality of inorganic insulating filler particles are connected in a row to crosslink both the front and back surfaces of the solder-resistant resin layer, and ion migration occurs along the interface between the inorganic insulating filler and the resin to prevent soldering. The insulation resistance of the resin layer tends to decrease. Therefore,
The average particle size of the inorganic insulating filler is preferably in the range of 0.1 to 2 μm. Further, the content of the inorganic insulating filler is preferably 5% by weight or more from the viewpoint of ensuring the flatness at the time of forming the solder resistant resin layer.
It is preferably 20% by weight or less from the viewpoint that the residual inorganic insulating filler is less likely to be generated when the opening is formed by development. Therefore, the content of the inorganic insulating filler is preferably in the range of 5 to 20% by weight based on the epoxy resin mixture.

【0030】このような無機絶縁性フィラーとしては、
酸化珪素や酸化アルミニウム・窒化アルミニウム・炭化
珪素・チタン酸カルシウム・酸化チタン・ゼオライト等
の無機絶縁性粒子が用いられ、熱膨張係数の制御の観点
から酸化珪素が好ましい。さらに、樹脂との濡れ性を良
くするためにシランカップリング剤等で処理を行って用
いても良い。
As such an inorganic insulating filler,
Inorganic insulating particles such as silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon carbide, calcium titanate, titanium oxide, and zeolite are used, and silicon oxide is preferable from the viewpoint of controlling the thermal expansion coefficient. Further, in order to improve the wettability with the resin, it may be used after being treated with a silane coupling agent or the like.

【0031】さらに、本発明の耐半田樹脂層は、上記の
樹脂組成物を硬化した後のエリクセン値を5〜15mmと
したことから、配線基板に電子部品を実装する際や温度
サイクル試験(TCT)を行った際に、耐半田樹脂層が
耐半田樹脂層と絶縁層との熱膨張差を良好に吸収し耐半
田樹脂層にクラックが生じることはなく、その結果、配
線導体が断線することのない電気的な接続信頼性に優れ
る耐半田樹脂層とすることができる。
Furthermore, since the solder-resistant resin layer of the present invention has an Erichsen value of 5 to 15 mm after the above resin composition is cured, it can be used for mounting electronic parts on a wiring board or in a temperature cycle test (TCT). ), The solder-resistant resin layer absorbs the difference in thermal expansion between the solder-resistant resin layer and the insulating layer well, and the solder-resistant resin layer does not crack. As a result, the wiring conductor is disconnected. It is possible to obtain a solder-resistant resin layer having excellent electrical connection reliability.

【0032】なお、ここで耐半田樹脂層のエリクセン値
は、1mmの鉄板に耐半田樹脂層を被着するとともに直
径10mmの鉄球を裏側から押付け耐半田樹脂層を盛り上
げ、クラックが発生する盛り上げ高さで表わされる。
Here, the Erichsen value of the solder-resistant resin layer is such that a solder-resistant resin layer is adhered to an iron plate of 1 mm and an iron ball having a diameter of 10 mm is pressed from the back side to raise the solder-resistant resin layer and raise cracks. Expressed in height.

【0033】このような耐半田樹脂層は、例えば、アク
リル変性エポキシ樹脂としてアクリル変性したクレゾー
ルノボラック型エポキシ60重量%と、エポキシ樹脂とし
てビスフェノールA型エポキシ40重量%とから成るエポ
キシ樹脂混合物に、熱応力吸収粒子としてコアがアクリ
ルゴムでシェル層がAS樹脂から成り、平均粒径が3μ
mの粒子を50重量%と、無機絶縁性フィラーとして平均
粒径が0.1〜2μmの酸化珪素を10重量%と、有機溶剤
とを添加して混練することにより液状ワニスを作成し、
これをスクリーン印刷法またはロールコート法を採用す
ることにより所定の絶縁基板上に均一に塗布することに
より被着し、さらに乾燥して有機溶剤を除去した後、U
Vおよび熱硬化することにより製作される。また、耐半
田樹脂層は、上記の液状ワニスを離型フィルム上に塗布
して乾燥させたフィルム状耐半田樹脂として用いても良
く、この場合、フィルム状耐半田樹脂は、真空ラミネー
タを用いることにより絶縁基板上に被着される。
Such a solder-resistant resin layer is formed, for example, by adding an epoxy resin mixture consisting of 60% by weight of an acrylic-modified cresol novolac type epoxy as an acrylic-modified epoxy resin and 40% by weight of a bisphenol A type epoxy as an epoxy resin to a heat-resistant epoxy resin mixture. As the stress absorbing particles, the core is acrylic rubber and the shell layer is AS resin, and the average particle size is 3μ.
A liquid varnish is prepared by adding 50% by weight of m particles, 10% by weight of silicon oxide having an average particle size of 0.1 to 2 μm as an inorganic insulating filler, and an organic solvent, and kneading.
This is applied by uniformly applying it onto a predetermined insulating substrate by employing a screen printing method or a roll coating method, further drying to remove the organic solvent, and then U
Manufactured by V and heat curing. Further, the solder-resistant resin layer may be used as a film-shaped solder-resistant resin obtained by applying the above liquid varnish on a release film and drying it. In this case, the film-shaped solder-resistant resin should use a vacuum laminator. To be deposited on the insulating substrate.

【0034】かくして、本発明の耐半田樹脂層によれ
ば、温度サイクル試験(TCT)においてもクラックの
発生しない、耐熱性・耐湿性に優れたものとすることが
できる。
Thus, the solder-resistant resin layer of the present invention can be made excellent in heat resistance and moisture resistance without cracking even in the temperature cycle test (TCT).

【0035】なお、本発明の耐半田樹脂層は上記の実施
例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、上記
の耐半田樹脂層に外観検査を容易にするためにフタロシ
アニングリーン等の有機色素や成形性をより向上させる
ために高級脂肪酸エステル等の滑剤を含有させることも
可能である。
The solder-resistant resin layer of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the above solder-resistant resin layer may contain an organic dye such as phthalocyanine green for facilitating visual inspection and a lubricant such as higher fatty acid ester for improving moldability.

【0036】次に、本発明の耐半田樹脂層を用いた配線
基板および電子装置を添付の図面に基づいて詳細に説明
する。
Next, a wiring board and an electronic device using the solder-resistant resin layer of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0037】図1は、本発明の耐半田樹脂層を用いた配
線基板に半導体素子等の電子部品を搭載して成る電子装
置の実施の形態の一例を示す断面図である。この図にお
いて1は絶縁基板、2は半田接合パッド、3は耐半田樹
脂層で主にこれらで本発明の配線基板4が構成される。
また、5は開口部、6は半田バンプ、7は電子部品で主
に配線基板4と半田バンプ6・電子部品7とで本発明の
電子装置8が構成される。なお、本例では絶縁基板1の
両面に被着形成した半田接合パッド2を貫通孔9に形成
した貫通導体10により電気的に接続した例を示してい
る。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of an electronic device in which an electronic component such as a semiconductor element is mounted on a wiring board using a solder-resistant resin layer of the present invention. In this figure, 1 is an insulating substrate, 2 is a solder bonding pad, 3 is a solder-resistant resin layer, and these mainly constitute the wiring substrate 4 of the present invention.
Further, 5 is an opening, 6 is a solder bump, 7 is an electronic component, and the electronic device 8 of the present invention is mainly composed of the wiring board 4, the solder bump 6 and the electronic component 7. In this example, the solder joint pads 2 adhered and formed on both surfaces of the insulating substrate 1 are electrically connected by the through conductors 10 formed in the through holes 9.

【0038】また、図2(a)は図1の要部拡大断面図
であり、図2(b)は、従来の配線基板の要部拡大断面
図である。これらの図においてAは熱応力吸収粒子、B
はエラストマーやゴム等の弾性体粒子である。
Further, FIG. 2A is an enlarged sectional view of an essential part of FIG. 1, and FIG. 2B is an enlarged sectional view of an essential part of a conventional wiring board. In these figures, A is a thermal stress absorbing particle, B is
Are elastic particles such as elastomer and rubber.

【0039】絶縁基板1は、ガラスクロス−エポキシ樹
脂やガラスクロス−ビスマレイミドトリアジン樹脂、ガ
ラスクロス−ポリフェニレンエーテル、アラミド繊維−
エポキシ樹脂等からなり、半田接合パッド2および耐半
田樹脂層3の支持体としての機能を有し、定法により製
作される。
The insulating substrate 1 is made of glass cloth-epoxy resin, glass cloth-bismaleimide triazine resin, glass cloth-polyphenylene ether, aramid fiber-.
It is made of epoxy resin or the like, has a function as a support for the solder bonding pad 2 and the solder-resistant resin layer 3, and is manufactured by a conventional method.

【0040】絶縁基板1の表裏両面には、銅やニッケル
・アルミニウム等の金属薄膜から成る半田接合パッド2
が被着形成されている。
On both front and back surfaces of the insulating substrate 1, solder joint pads 2 made of a metal thin film of copper, nickel, aluminum or the like are provided.
Has been formed.

【0041】半田接合パッド2は、絶縁基板1の表裏両
面に形成される配線導体の一部であり、絶縁基板1の表
面側の部位には電子部品7の各電極が半田等の導体バン
プ6を介して電気的に接続され、裏側の部位には外部電
気回路基板の配線導体(図示せず)が半田等の導体バン
プ6を介して電気的に接続される。
The solder joint pads 2 are a part of wiring conductors formed on both front and back surfaces of the insulating substrate 1. At the front surface side of the insulating substrate 1, each electrode of the electronic component 7 is a conductive bump 6 such as solder. And a wiring conductor (not shown) of the external electric circuit board is electrically connected to the rear side portion via conductor bumps 6 such as solder.

【0042】このような半田接合パッド2は、例えば絶
縁基板1上に接着材を介して銅から成る金属箔を被着
し、その上にドライフィルムレジストでパターン加工を
施した後、配線導体および半田接合パッド2となる部分
以外の箇所をエッチングして除去することにより形成さ
れる。
Such a solder bonding pad 2 is obtained by, for example, depositing a metal foil made of copper on the insulating substrate 1 via an adhesive, patterning it with a dry film resist, and then wiring conductors and It is formed by etching and removing a portion other than the portion to be the solder joint pad 2.

【0043】なお、配線導体・半田接合パッド2の厚み
は、絶縁基板1からの剥離を防止するという観点からは
3μm以上であることが好ましく、また、配線導体・半
田接合パッド2を絶縁基板1に被着形成させる際に配線
導体・半田接合パッド2に大きな応力を残留させず、配
線導体・半田接合パッド2を絶縁基板1より剥離させ難
くするという観点からは50μm以下とすることが好まし
い。従って、配線導体・半田接合パッド2の厚みは、3
〜50μmの範囲にすることが好ましい。
The thickness of the wiring conductor / solder joint pad 2 is preferably 3 μm or more from the viewpoint of preventing the wiring conductor / solder joint pad 2 from peeling off from the insulating substrate 1. Further, the thickness of the wiring conductor / solder joint pad 2 is set to the insulating substrate 1. It is preferable that the thickness is 50 μm or less from the viewpoint that a large stress does not remain in the wiring conductor / solder joint pad 2 when it is adhered and formed, and the wiring conductor / solder joint pad 2 is less likely to be separated from the insulating substrate 1. Therefore, the thickness of the wiring conductor / solder joint pad 2 is 3
It is preferably in the range of ˜50 μm.

【0044】そして、絶縁基板1の表面には、半田接合
パッド2の中央部に開口部5を有する耐半田樹脂層3が
被着形成されている。
On the surface of the insulating substrate 1, a solder resistant resin layer 3 having an opening 5 at the center of the solder bonding pad 2 is adhered and formed.

【0045】耐半田樹脂層3は、配線基板4に電子部品
7を実装する際の熱から絶縁基板1を保護するととも
に、配線導体や半田接合パッド2を湿気による酸化や腐
蝕から保護する機能を有する。また、耐半田樹脂層3
は、エポキシ樹脂混合物を含有していることから、エポ
キシ基の極性により配線導体・半田接合パッド2や絶縁
基板1と良好な密着性を有する。さらに、従来例では図
2(b)に示すように弾性体粒子Bが耐半田樹脂層30表
面に偏在し易いのに対して、本発明の耐半田樹脂層3
は、エポキシ樹脂混合物に相溶しないエラストマー粒子
をコアとしエポキシ樹脂混合物に相溶する樹脂をシェル
層として被覆して熱応力吸収粒子Aを形成したことか
ら、図2(a)に示すように、熱応力吸収粒子Aが耐半
田樹脂層中に均一に分散し耐半田樹脂層3表面に偏在す
ることがなく、その結果、熱応力吸収粒子Aが露光時に
ガラスマスクに粘着することがなく、外観の良好な耐半
田樹脂層3とすることができる。さらに、平均粒径が0.
1〜2μmの無機絶縁性フィラーを含有するしているこ
とから、耐半田樹脂層3を配線基板4の薄型化にともな
って5〜20μmの厚みに薄層化したとしても、無機絶縁
性フィラー粒子が耐半田樹脂層3の表裏両面を架橋する
ことはなく、その結果、高加速度試験(HAST)にお
いてもイオンマイグレーションの発生がなく、耐熱・耐
湿性に優れた耐半田樹脂層3とすることができる。
The solder-resistant resin layer 3 has a function of protecting the insulating substrate 1 from heat when mounting the electronic component 7 on the wiring substrate 4 and protecting the wiring conductor and the solder joint pad 2 from oxidation and corrosion due to moisture. Have. In addition, the solder-resistant resin layer 3
Has a good adhesion to the wiring conductor / solder joint pad 2 and the insulating substrate 1 due to the polarity of the epoxy group. Further, in the conventional example, the elastic body particles B are likely to be unevenly distributed on the surface of the solder resistant resin layer 30 as shown in FIG.
In order to form the thermal stress absorbing particles A by coating the resin compatible with the epoxy resin mixture as the shell layer with the elastomer particles not compatible with the epoxy resin mixture as the core, as shown in FIG. The thermal stress absorbing particles A are not evenly dispersed in the solder-resistant resin layer and unevenly distributed on the surface of the solder-resistant resin layer 3. As a result, the thermal stress absorbing particles A do not adhere to the glass mask during exposure, and the appearance It is possible to obtain a good solder-resistant resin layer 3. Furthermore, the average particle size is 0.
Since it contains the inorganic insulating filler of 1 to 2 μm, even if the solder resistant resin layer 3 is thinned to a thickness of 5 to 20 μm as the wiring board 4 is made thinner, the inorganic insulating filler particles are Does not crosslink both the front and back surfaces of the solder-resistant resin layer 3, and as a result, the solder-resistant resin layer 3 is excellent in heat resistance and humidity resistance without ion migration even in a high acceleration test (HAST). it can.

【0046】このような耐半田樹脂層3は、例えば、ア
クリル変性エポキシ樹脂としてアクリル変性したクレゾ
ールノボラック型エポキシ60重量%と、エポキシ樹脂と
してビスフェノールA型エポキシ40重量%とから成るエ
ポキシ樹脂混合物に、熱応力吸収粒子Aとしてコアがア
クリルゴムでシェル層がAS樹脂から成り、平均粒径が
3μmの粒子を50重量%と、無機絶縁性フィラーとして
平均粒径が0.1〜2μmの酸化珪素を10重量%と、有機
溶剤とを添加して混練することにより液状ワニスを作成
し、これをスクリーン印刷法またはロールコート法を採
用することにより所定の絶縁基板1上に均一に塗布する
ことにより被着し、さらに乾燥して有機溶剤を除去した
後、露光・現像により半田接合パッド2上に開口部5を
形成し、UVおよび熱硬化を行なうことにより形成され
る。なお、耐半田樹脂層3は液状ワニスを離型フィルム
上に塗布して乾燥させたフィルム状耐半田樹脂として用
いても良く、この場合、フィルム状耐半田樹脂は、真空
ラミネータを用いることにより絶縁基板1および半田接
合パッド2に被着され、また、半田接合パッド2上の耐
半田樹脂層3にレーザを照射することにより開口部5が
形成される。
Such a solder-resistant resin layer 3 is, for example, an epoxy resin mixture composed of 60% by weight of acrylic-modified cresol novolac type epoxy as an acrylic-modified epoxy resin and 40% by weight of bisphenol A type epoxy as an epoxy resin. 50% by weight of particles having an average particle diameter of 3 μm and 50% by weight of particles of silicon oxide having an average particle diameter of 0.1 to 2 μm as an inorganic insulating filler, and 10% by weight of silicon oxide as an inorganic insulating filler. % And an organic solvent are added and kneaded to form a liquid varnish, which is applied by uniformly applying it onto a predetermined insulating substrate 1 by employing a screen printing method or a roll coating method. After further drying to remove the organic solvent, the opening 5 is formed on the solder joint pad 2 by exposure and development, and UV and thermosetting are performed. It is formed by performing. The solder-resistant resin layer 3 may be used as a film-shaped solder-resistant resin obtained by applying a liquid varnish on a release film and drying it. In this case, the film-shaped solder-resistant resin is insulated by using a vacuum laminator. The openings 5 are formed by being adhered to the substrate 1 and the solder bonding pads 2 and by irradiating the solder resistant resin layer 3 on the solder bonding pads 2 with a laser.

【0047】このような開口部5は、その径が通常30〜
300μmであり、径が300μmより大きいと半田接合パッ
ド2の径が大きなものとなり配線基板4が大きなものと
なる傾向があり、また、30μmより小さいと電気的な接
続信頼性が低下する傾向がある。従って、開口部5の径
は30〜300μmの大きさにすることが好ましい。
The diameter of the opening 5 is usually 30 to 30.
When the diameter is 300 μm and the diameter is larger than 300 μm, the diameter of the solder bonding pad 2 tends to be large and the wiring board 4 tends to be large, and when it is smaller than 30 μm, the electrical connection reliability tends to be deteriorated. . Therefore, the diameter of the opening 5 is preferably 30 to 300 μm.

【0048】なお、通常であれば、開口部5の半田接合
パッド2の露出する表面には、半田接合パッド2の酸化
腐蝕の防止と導体バンプ6との接続を良好にするために
ニッケル・金等の良導電性で耐腐蝕性に優れた金属をめ
っき法により1〜20μmの厚さに被着することが好まし
い。
Normally, on the exposed surface of the solder joint pad 2 in the opening 5, nickel / gold is used to prevent oxidation and corrosion of the solder joint pad 2 and to improve the connection with the conductor bump 6. It is preferable to deposit a metal having good electrical conductivity and excellent corrosion resistance such as, for example, a thickness of 1 to 20 μm by a plating method.

【0049】かくして、本発明の配線基板4によれば、
半田接合パッド2を被着形成した絶縁基板1上に上記の
耐半田樹脂層3を被着形成するとともに、半田接合パッ
ド2上の耐半田樹脂層3に開口部5を形成したことか
ら、耐半田樹脂層3が配線基板4に電子部品7を実装す
る際の熱から絶縁基板1を保護するとともに半田接合パ
ッド2を湿気による酸化や腐蝕から保護することがで
き、その結果、耐熱性・耐湿性に優れた配線基板4とす
ることができる。
Thus, according to the wiring board 4 of the present invention,
Since the solder resistant resin layer 3 is deposited on the insulating substrate 1 on which the solder bonding pad 2 is deposited, and the opening 5 is formed in the solder resistant resin layer 3 on the solder bonding pad 2, The solder resin layer 3 can protect the insulating substrate 1 from heat when the electronic component 7 is mounted on the wiring board 4, and can protect the solder joint pads 2 from oxidation and corrosion due to moisture, and as a result, heat resistance and moisture resistance. The wiring board 4 having excellent properties can be obtained.

【0050】また、開口部5内の半田接合パッド2の露
出する表面には、導体バンプ6が固着形成されている。
導体バンプ6は、半田接合パッド2と電子部品7とを電
気的および機械的に接続する機能を有する。
A conductor bump 6 is fixedly formed on the exposed surface of the solder joint pad 2 in the opening 5.
The conductor bump 6 has a function of electrically and mechanically connecting the solder joint pad 2 and the electronic component 7.

【0051】このような導体バンプ6は、金や鉛−錫、
錫−亜鉛、錫−銀−ビスマス等の導電性材料から成り、
例えば、導電性材料が鉛−錫から成る半田の場合、この
ペーストを開口部5内にスクリーン印刷法で印刷あるい
は鉛−錫から成る半田ボールを開口部5内に載置した
後、リフロー炉を通すことにより開口部5内に半円状に
固着形成される。
Such conductive bumps 6 are made of gold, lead-tin,
Made of a conductive material such as tin-zinc, tin-silver-bismuth,
For example, when the conductive material is solder made of lead-tin, the paste is printed in the opening 5 by a screen printing method or a solder ball made of lead-tin is placed in the opening 5 and then a reflow furnace is used. By passing through, it is fixedly formed in the opening 5 in a semicircular shape.

【0052】そして、電子部品7を導体バンプ6に載置
し、リフロー炉を通し半田接合パッド2と電子部品7と
の各電極とを電気的に接続することにより、本発明の電
子装置8となる。なお、導体バンプ6の保護と電子部品
7および配線基板4を強固に固着するために、電子部品
7と配線基板4表層との間に、熱硬化性樹脂とフィラー
とから成るアンダーフィル材Fを注入しても良い。
Then, the electronic component 7 is placed on the conductor bump 6, and the solder bonding pad 2 and each electrode of the electronic component 7 are electrically connected through a reflow furnace, whereby the electronic device 8 of the present invention is obtained. Become. In order to protect the conductor bumps 6 and firmly fix the electronic component 7 and the wiring board 4, an underfill material F composed of a thermosetting resin and a filler is provided between the electronic component 7 and the surface layer of the wiring board 4. May be injected.

【0053】かくして、本発明の電子装置8によれば、
上記の配線基板4の耐半田樹脂層3に形成した開口部5
内の半田接合パッド2に導体バンプ6を介して電子部品
7の電極を接続したことから、温度サイクル試験(TC
T)においてもクラックや剥離の発生がなく、耐熱・耐
湿性に優れた電子装置8とすることができる。
Thus, according to the electronic device 8 of the present invention,
Opening 5 formed in the solder-resistant resin layer 3 of the wiring board 4
Since the electrode of the electronic component 7 was connected to the solder joint pad 2 in the interior through the conductor bump 6, the temperature cycle test (TC
Even in T), the electronic device 8 has excellent heat resistance and moisture resistance without cracking or peeling.

【0054】なお、本発明の電子装置は、上記の実施例
に限定されるものでなく、例えば、配線基板として絶縁
基板上に配線導体と絶縁層とを交互に積層したビルドア
ップ配線基板を用いても良い。
The electronic device of the present invention is not limited to the above embodiment, and for example, a built-up wiring board in which wiring conductors and insulating layers are alternately laminated on an insulating board is used as the wiring board. May be.

【0055】図3はこのようなビルドアップ配線基板に
電子部品を搭載して成る電子装置の実施の形態の一例を
示す断面図であり、この図において11は絶縁基板、12は
スルーホール、13はスルーホール導体、14は絶縁層、15
は半田接合パッド、16は貫通孔、17は貫通導体、18は耐
半田樹脂層であり、主にこれらで本発明の配線基板20が
構成されている。さらに、19は開口部、21は導体バン
プ、22は電子部品であり、主に配線基板20と開口部19・
導体バンプ21・電子部品22とで本発明の電子装置23が構
成されている。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of an embodiment of an electronic device in which electronic components are mounted on such a build-up wiring board. In this figure, 11 is an insulating substrate, 12 is a through hole, and 13 is a through hole. Is a through-hole conductor, 14 is an insulating layer, 15
Is a solder joint pad, 16 is a through hole, 17 is a through conductor, and 18 is a solder-resistant resin layer. These mainly constitute the wiring board 20 of the present invention. Further, 19 is an opening, 21 is a conductor bump, 22 is an electronic component, and mainly the wiring board 20 and the opening 19.
The conductor bump 21 and the electronic component 22 form an electronic device 23 of the present invention.

【0056】この例では、配線基板20は、絶縁基板11の
表裏両面に配線導体15と絶縁層14とを交互に積層し、耐
半田樹脂層18を被着形成することにより構成されてい
る。
In this example, the wiring board 20 is constructed by alternately laminating the wiring conductors 15 and the insulating layers 14 on both front and back surfaces of the insulating substrate 11 and forming the solder-resistant resin layer 18 by adhesion.

【0057】なお、上述の例では電子装置に搭載される
電子部品として半導体素子の例を示したが、抵抗器・キ
ャパシタ・圧電素子等の電子部品を搭載しても良い。さ
らに、電子部品の作動時に発生する熱を放散するために
スティフナー等の放熱板を配線基板に被着しても良い。
また、電子部品22と配線基板20表層との間に、熱硬化性
樹脂とフィラーとから成るアンダーフィル材Fを注入し
ても良い。
In the above example, a semiconductor element is shown as an electronic component to be mounted in the electronic device, but electronic components such as a resistor, a capacitor and a piezoelectric element may be mounted. Further, a heat dissipation plate such as a stiffener may be attached to the wiring board in order to dissipate heat generated during the operation of the electronic component.
Further, an underfill material F composed of a thermosetting resin and a filler may be injected between the electronic component 22 and the surface layer of the wiring board 20.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の耐半田樹脂層によれば、エポキ
シ樹脂混合物に、エポキシ樹脂混合物に相溶しないエラ
ストマー粒子をコアとしエポキシ樹脂混合物に相溶する
樹脂をシェル層として被覆した熱応力吸収粒子を含有さ
せたことから、熱応力吸収粒子を耐半田樹脂層中に均一
に分散させることができ、その結果、熱応力吸収粒子が
耐半田樹脂層表面に偏在することがないとともに露光時
にガラスマスクに粘着することがなく、外観の良好な耐
半田樹脂層とすることができる。また、平均粒径が0.1
〜2μmの無機絶縁性フィラーを含有していることか
ら、耐半田樹脂層を配線基板の薄型化にともなって5〜
20μmの厚みに薄層化したとしても、無機絶縁性フィラ
ー粒子が耐半田樹脂層の表裏両面を架橋することはな
く、その結果、高加速度試験(HAST)においてもイ
オンマイグレーションの発生がなく、耐熱・耐湿性に優
れた感光性耐半田樹脂層とすることができる。さらに、
エリクセン値を5〜15mmとしたことから、配線基板に
電子部品を実装する際や温度サイクル試験(TCT)を
行った際に耐半田樹脂層と半田接合パッドとの熱膨張差
によって発生する熱応力を緩和でき、耐半田樹脂層にク
ラックが生じることはなく、その結果、配線導体層が断
線することのない電気的な接続信頼性に優れる耐半田樹
脂層とすることができる。また、エポキシ樹脂混合物を
含有していることから、エポキシ基の極性により半田接
合パッドや絶縁基板と密着性の良好な耐半田樹脂層とす
ることができる。
According to the solder-resistant resin layer of the present invention, the epoxy resin mixture is coated with a resin that is compatible with the epoxy resin mixture as a shell layer, and a core layer is made of elastomer particles that are incompatible with the epoxy resin mixture. Since the particles are contained, the thermal stress absorption particles can be uniformly dispersed in the solder-resistant resin layer, and as a result, the thermal stress absorption particles do not become unevenly distributed on the surface of the solder-resistant resin layer and the glass is exposed at the time of exposure. The solder-resistant resin layer has a good appearance without sticking to the mask. The average particle size is 0.1
Since it contains an inorganic insulating filler with a thickness of ~ 2 μm, the solder-resistant resin layer is used as the wiring board becomes thinner.
Even if the thickness is reduced to 20 μm, the inorganic insulating filler particles do not crosslink both sides of the solder-resistant resin layer, and as a result, ion migration does not occur even in high acceleration test (HAST) and heat resistance -A photosensitive solder resin layer having excellent moisture resistance can be formed. further,
Since the Erichsen value is set to 5 to 15 mm, thermal stress generated by the difference in thermal expansion between the solder-resistant resin layer and the solder joint pad when mounting electronic components on the wiring board or when performing a temperature cycle test (TCT). Can be alleviated and cracks do not occur in the solder-resistant resin layer, and as a result, a solder-resistant resin layer having excellent electrical connection reliability without disconnection of the wiring conductor layer can be obtained. Further, since it contains the epoxy resin mixture, it is possible to form a solder-resistant resin layer having good adhesion to the solder joint pad or the insulating substrate due to the polarity of the epoxy group.

【0059】また、本発明の耐半田樹脂層によれば、エ
ポキシ樹脂混合物がアクリル変性エポキシ樹脂40〜80重
量%と、エポキシ樹脂20〜60重量%とから成ることか
ら、めっき液等に対する耐薬品性に優れるとともにクラ
ックの発生のない耐半田樹脂層とすることができる。さ
らに、エポキシ樹脂混合物に対して、熱応力吸収粒子を
20〜60重量%含有していることから、可撓性・耐熱性・
耐湿性に優れたものとすることができ、また、無機絶縁
性フィラーを5〜20重量%含有していることから、耐半
田樹脂層を平坦に成形することができるとともに、露光
・現像により開口部を形成する際にフィラーが残ること
もない。
Further, according to the solder-resistant resin layer of the present invention, since the epoxy resin mixture is composed of 40 to 80% by weight of the acrylic modified epoxy resin and 20 to 60% by weight of the epoxy resin, it is resistant to chemicals such as plating solution. It is possible to obtain a solder-resistant resin layer which has excellent properties and does not cause cracks. Furthermore, for the epoxy resin mixture, heat stress absorbing particles are added.
Since it contains 20 to 60% by weight, it has flexibility, heat resistance, and
It has excellent moisture resistance, and since it contains 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler, the solder-resistant resin layer can be formed flat and exposed by exposure and development. No filler remains when forming the part.

【0060】本発明の配線基板によれば、半田接合パッ
ドを被着形成した絶縁基板上に上記の耐半田樹脂層を被
着形成するとともに、半田接合パッド上の耐半田樹脂層
に開口部を形成したことから、耐半田樹脂層が配線基板
に電子部品を実装する際の熱から絶縁層を保護するとと
もに半田接合パッドを湿気による酸化や腐蝕から保護す
ることができ、その結果、耐熱性・耐湿性に優れた配線
基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, the above-mentioned solder-resistant resin layer is adhered and formed on the insulating substrate on which the solder-bonding pad is adhered, and an opening is formed in the solder-resistant resin layer on the solder-bonding pad. Since it is formed, the solder-resistant resin layer can protect the insulating layer from heat when mounting electronic components on the wiring board and protect the solder joint pads from oxidation and corrosion due to moisture, resulting in heat resistance and A wiring board having excellent moisture resistance can be obtained.

【0061】また、本発明の電子装置によれば、上記の
配線基板の耐半田樹脂層に形成した開口部内の半田接合
パッドに半田を介して電子部品の電極を接続したことか
ら、温度サイクル試験(TCT)においてもクラックや
剥離の発生がなく、耐熱・耐湿性に優れた電子装置とす
ることができる。
Further, according to the electronic device of the present invention, since the electrode of the electronic component is connected to the solder joint pad in the opening formed in the solder-resistant resin layer of the wiring board through the solder, the temperature cycle test is performed. Even in (TCT), no crack or peeling occurs, and an electronic device having excellent heat resistance and humidity resistance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の配線基板に電子部品を搭載して成る電
子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of an electronic device in which an electronic component is mounted on a wiring board of the present invention.

【図2】(a)は、図1の要部拡大断面図であり、
(b)は、従来の配線基板の要部拡大断面図である。
FIG. 2 (a) is an enlarged cross-sectional view of a main part of FIG.
(B) is an enlarged cross-sectional view of a main part of a conventional wiring board.

【図3】本発明の配線基板に電子部品を搭載して成る電
子装置の実施の形態の他の例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the embodiment of the electronic device in which the electronic component is mounted on the wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11・・・・・・絶縁基板 2、15・・・・・・半田接合パッド 3、18・・・・・・耐半田樹脂層 4、20・・・・・・配線基板 5、19・・・・・・開口部 6、21・・・・・・導体バンプ 7、22・・・・・・電子部品 8、23・・・・・・電子装置 A・・・・・・熱応力吸収粒子 1, 11 ... Insulating substrate 2, 15 ...- Solder joint pads 3, 18 ... Solder resistant resin layer 4, 20 ... Wiring board 5, 19 ... ・ Opening 6, 21 ... Conductor bumps 7,22 ... Electronic parts 8 ・ 23 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Electronic device A ・ ・ Thermal stress absorption particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/12 501 H01L 23/12 501B 23/14 H05K 3/28 C H05K 3/28 H01L 23/14 R Fターム(参考) 2H025 AA02 AA10 AA20 AB15 AC01 AD01 BC13 BC42 BC74 BJ03 CB30 CC08 CC20 4J038 CQ012 DB061 DB071 DB451 KA08 KA15 NA04 NA14 PB09 5E314 AA24 AA25 AA27 AA32 AA42 BB05 CC01 CC15 FF01 GG01 GG08 GG11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01L 23/12 501 H01L 23/12 501B 23/14 H05K 3/28 C H05K 3/28 H01L 23/14 R F-term (reference) 2H025 AA02 AA10 AA20 AB15 AC01 AD01 BC13 BC42 BC74 BJ03 CB30 CC08 CC20 4J038 CQ012 DB061 DB071 DB451 KA08 KA15 NA04 NA14 PB09 5E314 AA24 AA25 AA27 AA32 AA42 BB05 CC11 CC01 FF15

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂混合物と、該エポキシ樹脂
混合物に相溶しないエラストマー粒子をコアとし前記エ
ポキシ樹脂混合物に相溶する樹脂をシェル層として被覆
した熱応力吸収粒子と、平均粒径が0.1〜2μmの無
機絶縁性フィラーとを含有する樹脂組成物を硬化させて
成り、エリクセン値が5〜15mmであることを特徴と
する耐半田樹脂層。
1. An epoxy resin mixture, thermal stress absorption particles coated with a shell layer of a resin compatible with the epoxy resin mixture, the core being made of elastomer particles incompatible with the epoxy resin mixture, and an average particle size of 0. A solder resistant resin layer, which is formed by curing a resin composition containing 1 to 2 μm of an inorganic insulating filler and has an Erichsen value of 5 to 15 mm.
【請求項2】 前記エポキシ樹脂混合物がアクリル変性
エポキシ樹脂40〜80重量%と、エポキシ樹脂20〜
60重量%とから成るとともに、前記エポキシ樹脂混合
物に対して、前記熱応力吸収粒子を20〜60重量%お
よび前記無機絶縁性フィラーを5〜20重量%含有して
いることを特徴とする請求項1記載の耐半田樹脂層。
2. The epoxy resin mixture comprises 40 to 80% by weight of an acrylic modified epoxy resin and 20 to 20% of the epoxy resin.
60 wt% of the epoxy resin mixture, and 20 to 60 wt% of the thermal stress absorbing particles and 5 to 20 wt% of the inorganic insulating filler with respect to the epoxy resin mixture. 1. The solder-resistant resin layer according to 1.
【請求項3】 半田接合パッドを被着形成した絶縁基板
上に請求項1または請求項2記載の耐半田樹脂層を被着
形成するとともに、前記半田接合パッド上の前記耐半田
樹脂層に開口部を形成して成ることを特徴とする配線基
板。
3. The solder resistant resin layer according to claim 1 or 2 is deposited on an insulating substrate on which a solder bonding pad is deposited, and an opening is formed in the solder resistant resin layer on the solder bonding pad. A wiring board formed by forming a portion.
【請求項4】 請求項3記載の配線基板の前記耐半田樹
脂層に形成した開口部内の前記半田接合パッドに導体バ
ンプを介して電子部品の電極を接続したことを特徴とす
る電子装置。
4. An electronic device, wherein an electrode of an electronic component is connected to the solder joint pad in the opening formed in the solder-resistant resin layer of the wiring board according to claim 3 via a conductor bump.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007125806A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-08 Showa Denko K.K. Thermosetting resin composition and use thereof
JPWO2007125806A1 (en) * 2006-04-28 2009-09-10 昭和電工株式会社 Thermosetting resin composition and use thereof
KR101004242B1 (en) 2006-04-28 2010-12-24 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Thermosetting resin composition and use thereof

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