JP2003034778A - Method for manufacturing pressure sensitive adhesive sheet and its apparatus - Google Patents
Method for manufacturing pressure sensitive adhesive sheet and its apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、シート状，テープ
状あるいはフィルム状などの支持体上に塗工された光重
合性組成物層に光を照射することによって、その光重合
性組成物層を光重合させて感圧性接着剤層を得る感圧性
接着シートの製造方法およびその装置に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photopolymerizable composition layer formed by irradiating a photopolymerizable composition layer coated on a sheet-shaped, tape-shaped or film-shaped support with light. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method and an apparatus for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, in which a pressure-sensitive adhesive layer is obtained by photopolymerization of.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、フィルム状などの支持体の上に光
重合性組成物層を適宜の厚さに塗エし、塗工後の光重合
性組成物層を光照射により重合させて、感圧性粘着剤層
を形成する感圧性接着シートの製造方法が知られてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, a photopolymerizable composition layer is coated on a support such as a film to an appropriate thickness, and the photopolymerizable composition layer after coating is polymerized by irradiation with light, A method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet for forming a pressure-sensitive adhesive layer is known.
【０００３】この方法では、光照射雰囲気中に存在する
酸素によって重合阻害が起こる事から、例えば、特開平
３−２８５９７５号、特開平３−２８５９７６号、特開
平３−２８５９７４号などの各公報に開示されているよ
うに、不活性ガス雰囲気中で光照射したり、支持体に光
透過性フィルムを貼り合わせて空気を遮断した状態で光
照射するなどの種々の工夫が施されている。In this method, oxygen existing in the light irradiation atmosphere inhibits polymerization, so that, for example, JP-A-3-285975, JP-A-3-285976, and JP-A-3-285974 disclose the methods. As disclosed, various measures such as light irradiation in an inert gas atmosphere, light irradiation in a state in which a light-transmitting film is attached to a support and air is blocked, and the like have been made.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】しかしながら、不活性ガ
スを光重合室に流入し空気を置換して、不活性ガス雰囲
気中で光重合させると、光重合性組成物中のモノマーの
一部が蒸発するので、この蒸発したモノマーが光重合室
を汚染し、ひどい場合には光照射部のガラスに付着して
光照度が低下するために重合不良が発生するという問題
点がある。However, when an inert gas is introduced into the photopolymerization chamber to replace the air and photopolymerize in an inert gas atmosphere, a part of the monomers in the photopolymerizable composition is removed. Since this evaporates, the evaporated monomer contaminates the photopolymerization chamber, and in severe cases, it adheres to the glass of the light irradiation part to reduce the light illuminance, resulting in poor polymerization.
【０００５】また、支持体に光透過性フィルムを貼り合
わせた状態で光照射を行う手法によれば、上記のような
問題は生じないが、光透過性フィルムを支持体上の光重
合性組成物層から容易に引き剥がすために、光透過性フ
ィルムにシリコーン樹脂を塗るなどの離型処理を施す必
要があるのでコストが嵩むとともに、離型処理によって
汚染が発生するおそれもある。Further, according to the method of irradiating light with the light-transmissive film attached to the support, the above problems do not occur, but the light-transmissive film is used as the photopolymerizable composition on the support. Since it is necessary to perform a mold release treatment such as coating the light transmissive film with a silicone resin in order to easily peel it off from the physical layer, the cost is increased and the release treatment may cause contamination.
【０００６】さらに、重合反応に伴う熱などにより光重
合性組成物層の表面からモノマーの一部が蒸発するの
で、沸点の異なる2種類以上のモノマーの混合物を光重
合性組成物層として用いた場合、モノマー間で蒸発量に
偏りが出る結果、モノマーの組成比が変化して粘着特性
が低下するという問題もある。Further, since a part of the monomer evaporates from the surface of the photopolymerizable composition layer due to heat accompanying the polymerization reaction, a mixture of two or more kinds of monomers having different boiling points was used as the photopolymerizable composition layer. In this case, there is also a problem that the composition ratio of the monomers is changed and the adhesive property is deteriorated as a result of uneven distribution of the evaporation amount among the monomers.
【０００７】本発明は、上述の事情に鑑み、モノマーの
蒸発による光照射部の汚染や照度低下を防止することが
できるとともに、離型処理が不要であり、しかも、モノ
マーの蒸発自体も抑えることができる感圧性接着シート
の製造方法およびその装置を提供することを目的として
いる。In view of the above-mentioned circumstances, the present invention can prevent contamination of the light-irradiated portion and reduction of illuminance due to evaporation of the monomer, does not require mold release treatment, and also suppresses evaporation of the monomer itself. It is an object of the present invention to provide a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet and a device therefor which can be manufactured.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために次のような構成を採る。すなわち、請求項１
に記載の発明は、支持体の表面上に塗布された光重合性
組成物層に光照射部からの光を照射することによって、
その光重合性組成物層を光重合させて感圧性接着剤層を
得る感圧性接着シートの製造方法において、前記支持体
の光重合性組成物層と前記光照射部との間に介在させた
光透過性フィルムを、前記光重合性組成物層に対して非
接触で移動させながら、この光透過性フィルムと光重合
性組成物層との間に不活性ガスを供給するようにして、
前記光透過性フィルムを透過した光を光重合性組成物層
に照射するとともに、前記光を照射する過程で前記光重
合性組成物層を冷却することを特徴とする。The present invention adopts the following configurations in order to achieve the above object. That is, claim 1
The invention described in, by irradiating the photopolymerizable composition layer coated on the surface of the support with light from a light irradiation part,
In the method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet in which the photopolymerizable composition layer is photopolymerized to obtain a pressure-sensitive adhesive layer, it is interposed between the photopolymerizable composition layer of the support and the light irradiation part. While moving the light-transmitting film in a non-contact manner with respect to the photopolymerizable composition layer, by supplying an inert gas between the light-transmitting film and the photopolymerizable composition layer,
The photopolymerizable composition layer is irradiated with the light transmitted through the light transmissive film, and the photopolymerizable composition layer is cooled in the process of irradiating the light.
【０００９】（作用・効果）請求項１に記載の発明によ
れば、支持体の光重合性組成物層と光照射部との間に設
けられた光透過性フィルムに蒸発したモノマーが付着し
光照射部の光透過窓への付着が防止される。さらに、こ
の光透過性フィルムを移動させているので、光透過性フ
ィルムの光透過箇所はモノマーが未付着である部分とな
るように順次移行していくことになり、光透過窓へのモ
ノマーの付着に起因する光照射部の汚染や光照度の低下
を防止でき、結果、光照度の低下による光重合性組成物
層の光重合不良を防止することができる。また、光透過
性フィルムは支持体の光重合性組成物層に非接触となっ
ているので、光透過性フィルムに対する離型処理を不要
にすることもできる。さらに、光透過性フィルムを透過
した光を光重合性組成物層に照射する過程で、光重合性
組成物層を冷却しているので、光重合性組成物層からの
モノマーの蒸発を抑制することができる。(Operation / Effect) According to the invention described in claim 1, the evaporated monomer adheres to the light-transmitting film provided between the photopolymerizable composition layer of the support and the light irradiation part. Adhesion of the light irradiation part to the light transmission window is prevented. Furthermore, since this light-transmissive film is moved, the light-transmissive portion of the light-transmissive film is sequentially moved so that the monomer does not adhere to the light-transmissive film. It is possible to prevent contamination of the light-irradiated portion and decrease in light illuminance due to the adhesion, and as a result, it is possible to prevent defective photopolymerization of the photopolymerizable composition layer due to decrease in light illuminance. Further, since the light transmissive film is not in contact with the photopolymerizable composition layer of the support, the release treatment for the light transmissive film can be omitted. Further, since the photopolymerizable composition layer is cooled in the process of irradiating the photopolymerizable composition layer with light transmitted through the light transmissive film, the evaporation of the monomer from the photopolymerizable composition layer is suppressed. be able to.
【００１０】本発明において、光を光重合性組成物層に
照射する過程で光重合性組成物層を冷却する手法は特に
限定されないが、例えば、冷却用液体を支持体に吹き付
けて光重合性組成物層を冷却する手法（請求項２に記載
の発明）、冷却用ガスを支持体に吹き付けて光重合性組
成物層を冷却する手法（請求項３に記載の発明）、冷媒
を循環させた冷却プレートを支持体に接触させて光重合
性組成物層を冷却する手法（請求項４に記載の発明）、
冷媒を循環させた冷却ロールを支持体に接触させて光重
合性組成物層を冷却する手法（請求項５に記載の発
明）、冷却ユニットで冷却された冷却コンベアを支持体
に接触させて光重合性組成物層を冷却する手法（請求項
６に記載の発明）、光透過性フィルムと光重合性組成物
層との間に冷却した不活性ガスを供給して光重合性組成
物層を冷却する手法（請求項７に記載の発明）などは好
適に用いることができる。In the present invention, the method of cooling the photopolymerizable composition layer in the process of irradiating the photopolymerizable composition layer with light is not particularly limited, but for example, a cooling liquid is sprayed onto the support to effect photopolymerization. A method of cooling the composition layer (the invention of claim 2), a method of blowing a cooling gas to the support to cool the photopolymerizable composition layer (the invention of claim 3), and circulating a refrigerant. A method of cooling the photopolymerizable composition layer by bringing the cooling plate into contact with a support (the invention according to claim 4),
A method of cooling the photopolymerizable composition layer by bringing a cooling roll in which a coolant is circulated into contact with the support (the invention according to claim 5), and bringing a cooling conveyor cooled by a cooling unit into contact with the support A method for cooling the polymerizable composition layer (the invention according to claim 6), in which a cooled inert gas is supplied between the light transmissive film and the photopolymerizable composition layer to form the photopolymerizable composition layer. A cooling method (the invention according to claim 7) and the like can be preferably used.
【００１１】さらに、請求項８に記載の発明は、支持体
の表面上に塗布された光重合性組成物層に光照射部から
の光を照射することによって、その光重合性組成物層を
光重合させて感圧性接着剤層を得る感圧性接着シートの
製造装置において、前記支持体の光重合性組成物層と前
記光照射部との間に介在させた光透過性フィルムを、前
記光重合性組成物層に対して非接触で移動させる移動手
段と、前記光透過性フィルムと光重合性組成物層との間
に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記光
重合性組成物層に光を照射する際に、光重合性組成物層
を冷却する冷却手段とを備えたことを特徴とする。Further, in the invention as set forth in claim 8, the photopolymerizable composition layer coated on the surface of the support is irradiated with light from a light irradiation part to form the photopolymerizable composition layer. In a pressure-sensitive adhesive sheet manufacturing apparatus for obtaining a pressure-sensitive adhesive layer by photopolymerization, a light-transmissive film interposed between the photopolymerizable composition layer of the support and the light-irradiating part is used as the light-transmitting film. A moving means for moving the polymerizable composition layer in a non-contact manner, an inert gas supply means for supplying an inert gas between the light-transmitting film and the photopolymerizable composition layer, and the photopolymerizable And a cooling means for cooling the photopolymerizable composition layer when the composition layer is irradiated with light.
【００１２】（作用・効果）請求項８に記載の発明によ
れば、支持体の表面上に設けられた光重合性組成物層
と、この光重合性組成物層に光を照射するための光照射
部との間に光重合性組成物層に対して非接触に介在する
光透過性フィルムが移動手段によって移動される。不活
性ガス供給手段は、光透過性フィルムと光重合性組成物
層との間に不活性ガスを供給する。光照射部からの光
は、光透過性フィルムを介して支持体の光重合性組成物
層に照射され、その光重合性組成物層が光重合して感圧
性接着剤層を得る。支持体の光重合性組成物層と光照射
部との間に設けられた光透過性フィルムに蒸発したモノ
マーが付着し光照射部の光透過窓への付着が防止され
る。さらに、この光透過性フィルムを移動させているの
で、光透過性フィルムの光透過箇所はモノマーが未付着
である部分となるように順次移行していくことになり、
光透過窓へのモノマーの付着に起因する光照射部からの
光照度の低下が防止され、光照度の低下による光重合性
組成物層の光重合不良が防止される。また、光透過性フ
ィルムは支持体の光重合性組成物層に非接触となってい
るので、光透過性フィルムに対する離型処理を不要にで
きる。さらに、光重合性組成物層に光を照射する際に、
光重合性組成物層が冷却手段によって冷却されるので、
光重合性組成物層からのモノマーの蒸発を抑制すること
ができる。(Operation / Effect) According to the invention described in claim 8, a photopolymerizable composition layer provided on the surface of a support and a layer for irradiating the photopolymerizable composition layer with light. The light-transmissive film, which is interposed between the light-irradiated portion and the photopolymerizable composition layer in a non-contact manner, is moved by the moving means. The inert gas supply means supplies an inert gas between the light transmissive film and the photopolymerizable composition layer. Light from the light irradiation part is applied to the photopolymerizable composition layer of the support through the light transmissive film, and the photopolymerizable composition layer is photopolymerized to obtain a pressure-sensitive adhesive layer. The evaporated monomer adheres to the light-transmitting film provided between the photopolymerizable composition layer of the support and the light-irradiating part to prevent the light-irradiating part from adhering to the light-transmitting window. Furthermore, since this light-transmissive film is moved, the light-transmissive portion of the light-transmissive film will be sequentially moved so that the monomer is a non-adhesive portion.
The decrease in light illuminance from the light irradiation part due to the adhesion of the monomer to the light transmission window is prevented, and the photopolymerization failure of the photopolymerizable composition layer due to the decrease in light illuminance is prevented. Further, since the light transmissive film is not in contact with the photopolymerizable composition layer of the support, the release treatment for the light transmissive film can be omitted. Further, when irradiating the photopolymerizable composition layer with light,
Since the photopolymerizable composition layer is cooled by the cooling means,
Evaporation of the monomer from the photopolymerizable composition layer can be suppressed.
【００１３】[0013]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。本実施例に係る感圧性接着シートの製造装置の概
略構成について、図１，図２を参照して説明する。図１
は、本発明に係る感圧性接着シートの製造装置の一例の
概略構成図である。図２は、図１に示した製造装置の照
射室のＡ−Ａ断面図である。なお本実施例では、この感
圧性接着シートの製造装置により、感圧性接着シートと
して、例えば、支持体１を剥離ライナーとして使用する
両面接着シートを製造する場合を例に挙げて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The schematic configuration of the pressure-sensitive adhesive sheet manufacturing apparatus according to this example will be described with reference to FIGS. 1 and 2. Figure 1
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an example of a pressure-sensitive adhesive sheet manufacturing apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view of the irradiation chamber of the manufacturing apparatus shown in FIG. In this example, a case where a pressure-sensitive adhesive sheet, for example, a double-sided adhesive sheet using the support 1 as a release liner is manufactured by the pressure-sensitive adhesive sheet manufacturing apparatus will be described.
【００１４】本実施例に係る感圧性接着シートの製造装
置は、図１に示すように、シート状，テープ状あるいは
フィルム状などの支持体（基材）１を繰り出し供給する
支持体供給ロール２と、この支持体供給ロール２から繰
り出された支持体１に光重合性組成物を所定の厚さに塗
工（塗布）する塗工部３と、支持体１に塗工された光重
合性組成物（光重合性組成物層４）に短波長光をカット
した光を照射するための照射室５と、この照射室５で光
の照射を受けた支持体１に短波長光を照射する短波長光
照射部１５と、この短波長光照射部１５で短波長光の照
射を受けた支持体１を巻き取る巻き取り部６などで構成
されている。以下、各部の構成を詳細に説明する。As shown in FIG. 1, a pressure-sensitive adhesive sheet manufacturing apparatus according to this embodiment has a support supply roll 2 for feeding out a support (base material) 1 in the form of a sheet, tape or film. A coating part 3 for coating (applying) the photopolymerizable composition on the support 1 fed from the support supply roll 2 to a predetermined thickness, and the photopolymerizable composition coated on the support 1. Irradiation chamber 5 for irradiating the composition (photopolymerizable composition layer 4) with light of which short-wavelength light has been cut off, and support 1 that has been irradiated with light in this irradiation chamber 5 is irradiated with short-wavelength light. The short-wavelength light irradiation section 15 and the winding section 6 for winding up the support 1 irradiated with the short-wavelength light by the short-wavelength light irradiation section 15 are configured. Hereinafter, the configuration of each unit will be described in detail.
【００１５】支持体１は、例えば、ポリエステルフィル
ムなどのプラスチックフィルムや、不織布、織布、紙、
金属箔などが用いられる。The support 1 is, for example, a plastic film such as a polyester film, non-woven fabric, woven fabric, paper,
Metal foil or the like is used.
【００１６】また、光重合性組成物は、モノマーまたは
その一部重合物と光重合開始剤とを含有してなり、光照
射により重合して感圧性接着剤となるものであり、アク
リル系、ポリエステル系、エポキシ系などの光重合性組
成物が用いられる。これらの中でも、アクリル系の光重
合性組成物が特に好ましく用いられる。以下に本実施例
で用いられる光重合性組成物の各成分について例示す
る。The photopolymerizable composition contains a monomer or a partial polymer thereof and a photopolymerization initiator, and is polymerized by irradiation with light to form a pressure-sensitive adhesive. A photopolymerizable composition such as a polyester type or an epoxy type is used. Among these, the acrylic photopolymerizable composition is particularly preferably used. Each component of the photopolymerizable composition used in this example is illustrated below.
【００１７】本実施例では、光重合性組成物として、ア
ルキルアクリレート単量体を主成分とする単量体と、極
性基含有の共重合性単量体とが用いられる。本実施例で
用いられるアルキルアクリレート単量体とは、（メタ）
アクリル酸アルキルエステルを主成分とするビニル系モ
ノマーであり、具体例としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イ
ソペンチル基、ヘキシル基、プチル基、オクチル基、イ
ソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イ
ソデシル基の如きアルキル基を有するアクリル酸または
メタクリル酸のアルキルエステル、あるいはそのアルキ
ル基の一部をヒドロキシル基で置換したものなどアルキ
ル基の炭素数が１〜１４の範囲にあるものを、１種また
は２種以上を主成分に用いられる。In this embodiment, as the photopolymerizable composition, a monomer containing an alkyl acrylate monomer as a main component and a polar group-containing copolymerizable monomer are used. The alkyl acrylate monomer used in this example is (meth)
A vinyl-based monomer whose main component is an acrylic acid alkyl ester, and specific examples include a methyl group, an ethyl group,
Of acrylic acid or methacrylic acid having an alkyl group such as propyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, isopentyl group, hexyl group, butyl group, octyl group, isooctyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group One or two or more kinds of alkyl ester or one having two or more carbon atoms of the alkyl group such as one obtained by substituting a part of the alkyl group with a hydroxyl group is used as a main component.
【００１８】また、極性基含有の共重合性単量体として
は、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、２−アクリルア
ミドプロパンスルホン酸などの不飽和酸、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有単量体、カプ
ロラクトン（メタ）アクリレートなどが用いられる。ま
た、単量体に限らず、（メタ）アクリル酸ダイマーなど
の２量体を用いても良い。As the polar group-containing copolymerizable monomer, unsaturated acids such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and 2-acrylamidopropanesulfonic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- A hydroxyl group-containing monomer such as hydroxypropyl (meth) acrylate and caprolactone (meth) acrylate are used. Further, not only a monomer but also a dimer such as (meth) acrylic acid dimer may be used.
【００１９】アルキルアクリレート単量体を主成分とす
る単量体と、極性基含有の共重合性単量体との使用割合
は、前者が７０〜９９重量％、後者が３０〜１重量％で
あり、特に好ましくは前者が８０〜９６重量％、後者が
２０〜４重量％である。このような範囲で使用すること
により、接着性，凝集力などのバランスをうまくとるこ
とができる。The proportion of the monomer containing the alkyl acrylate monomer as the main component and the polar group-containing copolymerizable monomer is 70 to 99% by weight for the former and 30 to 1% by weight for the latter. It is particularly preferable that the former is 80 to 96% by weight and the latter is 20 to 4% by weight. By using it in such a range, the adhesiveness, cohesive force and the like can be well balanced.
【００２０】本実施例で用いられる光重合開始剤として
は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどのベンゾインエーテル類、アニソールメ
チルエーテルなどの置換ベンゾインエーテル類、２・２
ジエトキシアセトフェノン、２・２−ジメトキシ−２−
フェニルアセトフェノンなどの置換アセトフェノン類、
２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノンなどの置
換−α−ケトール類、２−ナフタレンスルホニルクロリ
ドなどの芳香族スルホニルクロリド類、１−フェニル−
１・１−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシムなどの光活性オキシム類などが用いられ
る。このような光重合開始剤の使用量は、前述したアル
キルアクリレート単量体を主成分とする単量体と、極性
基含有の共重合性単量体との合計１００重量部当たり、
通常０．１〜５重量部、より好ましくは０．１〜３重量
部が良い。この範囲より光重合開始剤の使用量が少ない
と、重合速度が遅くなりモノマーが多く残存しやすくな
り工業的に好ましくなく、逆に多いとポリマーの分子量
が低下し接着剤の凝集力の低下をきたしやすく接着特性
上好まし特性が得られない。Examples of the photopolymerization initiator used in this embodiment include benzoin ethers such as benzoin methyl ether and benzoin isopropyl ether, and substituted benzoin ethers such as anisole methyl ether, 2.2.
Diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-
Substituted acetophenones such as phenylacetophenone,
Substituted-α-ketols such as 2-methyl-2-hydroxypropiophenone, aromatic sulfonyl chlorides such as 2-naphthalenesulfonyl chloride, 1-phenyl-
Photoactive oximes such as 1,1-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime are used. The amount of such a photopolymerization initiator to be used is 100 parts by weight in total of the monomer containing the above-mentioned alkyl acrylate monomer as a main component and the polar group-containing copolymerizable monomer.
It is usually 0.1 to 5 parts by weight, and more preferably 0.1 to 3 parts by weight. When the amount of the photopolymerization initiator used is less than this range, the polymerization rate becomes slow and a large amount of the monomer tends to remain, which is industrially undesirable. It is easy to come and does not have favorable adhesive properties.
【００２１】本実施例で用いられる架橋剤としては、多
官能アクリレート単量体などが用いられ、例えば、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、１・２−エチレングリコー
ルジアクリレート、１・６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１・１２−ドデカンジオールジアクリレートな
どの２官能以上のアルキルアクリレート単量体が用いら
れる。この多官能アクリレート単量体の使用量は、その
官能基数などにより異なるが、一般には、前述したアル
キルアクリレート単量体を主成分とする単量体と、極性
基含有の共重合性単量体との合計１００重量部当たり、
０．０１〜５重量部、より好ましくは０．１〜３重量部
とするのが良い。このような範囲で多官能アクリレート
単量体を用いると、良好な凝集力が保持される。As the cross-linking agent used in this example, a polyfunctional acrylate monomer or the like is used. For example, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, 1.2-ethylene glycol diacrylate, 1.6 A bifunctional or higher functional alkyl acrylate monomer such as hexanediol diacrylate and 1 / 12-dodecanediol diacrylate is used. The amount of the polyfunctional acrylate monomer used varies depending on the number of functional groups and the like, but in general, the above-mentioned monomer containing an alkyl acrylate monomer as a main component and a polar group-containing copolymerizable monomer. With a total of 100 parts by weight,
The amount is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 3 parts by weight. When the polyfunctional acrylate monomer is used in such a range, good cohesive force is maintained.
【００２２】また、上記多官能アクリレート以外にも、
粘着剤の用途に応じて架橋剤を併用することもできる。
併用する架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架
橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤など、通
常用いる架橋剤を使用することができる。なお、本発明
では、必要に応じて粘着付着剤などの添加剤を用いるこ
とができる。In addition to the above polyfunctional acrylates,
A cross-linking agent may be used in combination depending on the use of the pressure-sensitive adhesive.
As the cross-linking agent used in combination, for example, a cross-linking agent that is normally used, such as an isocyanate-based cross-linking agent, an epoxy-based cross-linking agent, or an aziridine-based cross-linking agent can be used. In the present invention, an additive such as a tacky adhesive can be used if necessary.
【００２３】図１に戻って、塗工部３は、支持体供給ロ
ール２から繰り出された支持体１に光重合性組成物を、
その支持体１の幅方向に所定幅で、所定厚さとなるよう
に塗工するためのものである。この塗工部３は、例え
ば、光重合性組成物を給液するための給液槽１１と、給
液槽１１から給液された光重合性組成物を支持体１の表
面に所定幅で付着して搬送するためのコーティングロー
ル１２と、このコーティングロール１２に付着された光
重合性組成物の厚みをコーティングロール１２と共に制
御するためのメタリングロール１３と、支持体１をコー
ティングロール１２に密接させて搬送するためのバック
アップロール１４とを備えている。Returning to FIG. 1, the coating section 3 applies the photopolymerizable composition to the support 1 fed from the support supply roll 2.
It is for applying a predetermined width and a predetermined thickness in the width direction of the support 1. The coating unit 3 includes, for example, a liquid supply tank 11 for supplying the photopolymerizable composition, and the photopolymerizable composition supplied from the liquid supply tank 11 on the surface of the support 1 with a predetermined width. A coating roll 12 for adhering and conveying, a metering roll 13 for controlling the thickness of the photopolymerizable composition attached to the coating roll 12 together with the coating roll 12, and a support 1 for the coating roll 12. And a backup roll 14 for carrying them in close contact with each other.
【００２４】なお、塗工部３の構成は、上述したような
リバースコータに限定されるものではなく、グラビアコ
ータなどの他の塗工方式のものであっても良く、光重合
性組成物の厚み調整の手法も各塗工方式に合わせて適宜
に変更実施することが可能である。The constitution of the coating section 3 is not limited to the reverse coater as described above, and other coating methods such as a gravure coater may be used. The method for adjusting the thickness can also be changed appropriately according to each coating method.
【００２５】照射室５は、支持体１の表面上に塗工され
た光重合性組成物（光重合性組成物層４）に、短波長光
をカットした光を照射するためのものである。この照射
室５は、例えば、支持体１の光重合性組成物層４の方に
向けて光を照射する光照射部２１と、支持体１に向けて
冷却用液体を吹き付けるための冷却機構２２と、支持体
１の光重合性組成物層４と光照射部２１との間に介在さ
せた、短波長光をカットする光透過性フィルム７を、光
重合性組成物層４に対して非接触で移動させる光透過性
フィルム供給部８と、光透過性フィルム７と光重合性組
成物層４との間に不活性ガス（例えば、窒素ガス）を供
給するための不活性ガス供給部２３（図２参照）に接続
されたノズル２４と、支持体１に向けて不活性ガス（例
えば、窒素ガス）を噴射して、支持体１の裏面に付着し
た冷却用液体を取り除くノズル２５と、光照射部２１と
冷却機構２２とノズル２４などが内部に配置される容器
２６とを備えている。The irradiation chamber 5 is for irradiating the photopolymerizable composition (photopolymerizable composition layer 4) coated on the surface of the support 1 with light of which short wavelength light is cut. . The irradiation chamber 5 includes, for example, a light irradiation unit 21 that irradiates light toward the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1, and a cooling mechanism 22 that sprays a cooling liquid toward the support 1. And a light-transmissive film 7 for cutting short-wavelength light, which is interposed between the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 and the light irradiating part 21, with respect to the photopolymerizable composition layer 4. The light-transmitting film supply unit 8 which moves by contact, and the inert gas supply unit 23 for supplying an inert gas (for example, nitrogen gas) between the light-transmitting film 7 and the photopolymerizable composition layer 4. (See FIG. 2), a nozzle 25 for ejecting an inert gas (for example, nitrogen gas) toward the support 1 to remove the cooling liquid adhering to the back surface of the support 1, The light irradiation unit 21, the cooling mechanism 22, and the container 26 in which the nozzle 24 and the like are arranged are Eteiru.
【００２６】光照射部２１は、図２に示すように、可視
光線や紫外線などの光を出射する光源３１と、この光源
３１からの光を反射させて支持体１の方に出射させるた
めのリフレクタ３２と、光源３１からの光を透過させる
光透過窓３３とを備えている。光照射部２１からの光
は、支持体１の幅方向に対して均一な光照度となるよう
に調整されている。この光源３１としては、直管式の光
源を採用しており、図１に示すように、光源３１の長手
方向が支持体１の幅方向に一致するように複数本（例え
ば、８本）の光源３１が並べて配置されている。個々の
光源３１は、例えば、独立して照射条件を設定できるよ
うになっている。例えば、前半部分の光源３１（例え
ば、支持体１の入力側から数えて４本目までの光源３
１）は弱めに紫外線を照射し、後半部分の光源３１（支
持体１の入力側から数えて５本目から８本目までの光源
３１）は強めに紫外線を照射するというような設定がで
きる。この光源３１としては、例えば、メタルハライド
ランプ、高圧水銀ランプ、ケミカルランプ、ブラックラ
イトランプなどが好ましい。As shown in FIG. 2, the light irradiator 21 is for emitting a light such as a visible ray or an ultraviolet ray and a light source 31 for reflecting the light from the light source 31 and emitting the light toward the support 1. The reflector 32 and the light transmission window 33 that transmits the light from the light source 31 are provided. The light from the light irradiation unit 21 is adjusted so as to have a uniform light illuminance in the width direction of the support 1. As the light source 31, a straight tube type light source is adopted, and as shown in FIG. 1, a plurality of (for example, 8) light sources 31 are arranged so that the longitudinal direction of the light sources 31 matches the width direction of the support 1. The light sources 31 are arranged side by side. For each light source 31, for example, irradiation conditions can be set independently. For example, the light source 31 in the first half (for example, the light sources 3 up to the fourth light source 3 counted from the input side of the support 1)
It can be set that 1) radiates UV light weakly, and the light source 31 in the latter half part (5th to 8th light sources 31 counting from the input side of the support 1) radiates UV light strongly. As the light source 31, for example, a metal halide lamp, a high pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp or the like is preferable.
【００２７】冷却機構２２は、光源３１からの熱や、光
源３１からの光により支持体１の光重合性組成物層４が
重合反応しこの化学反応により生じる重合熱などによっ
て温度上昇する光重合性組成物層４を所定の温度範囲内
となるように冷却するためのものであり、本発明におけ
る冷却手段に相当する。具体的には、冷却機構２２は、
重合中の光重合性組成物層４の温度が、６０°Ｃ〜−３
０°Ｃ、より好ましくは４０°Ｃ〜−２０°Ｃ、さらに
好ましくは２０°Ｃ〜−１０°Ｃの温度範囲内となるよ
うに冷却する。重合中の光重合性組成物層４の温度を前
述した所定の温度範囲内となるように冷却することで、
重合時のモノマー蒸発が低減される。重合中の光重合性
組成物層４の温度が低すぎる（例えば、−３０°Ｃ以
下）と、重合反応速度が過度に遅くなるので好ましくな
い。The cooling mechanism 22 is a photopolymerization in which the temperature of the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 is polymerized by heat from the light source 31 or the light from the light source 31 and the temperature is raised by the heat of polymerization generated by the chemical reaction. It is for cooling the composition layer 4 so as to be within a predetermined temperature range, and corresponds to the cooling means in the present invention. Specifically, the cooling mechanism 22 is
The temperature of the photopolymerizable composition layer 4 during polymerization is 60 ° C. to −3.
Cooling is carried out within a temperature range of 0 ° C, more preferably 40 ° C to -20 ° C, and further preferably 20 ° C to -10 ° C. By cooling the temperature of the photopolymerizable composition layer 4 during the polymerization so as to fall within the above-mentioned predetermined temperature range,
Monomer evaporation during polymerization is reduced. If the temperature of the photopolymerizable composition layer 4 during the polymerization is too low (for example, -30 ° C or lower), the polymerization reaction rate becomes excessively slow, which is not preferable.
【００２８】本実施例における冷却機構２２は箱状体で
あって、図３の平面図に示すように、その上面に支持体
１の幅方向に延びる複数個の細長い開口２２ａが開けら
れている。これらの開口２２ａから支持体１の裏面、す
なわち光重合性組成物層４が形成された面と反対側の面
に向けて、冷却用液体を吹き付けるようになっている。
冷却用液体の飛散を防止するために、開口２２ａの長さ
は、支持体１の幅よりも短くなっている。本実施例の冷
却機構２２は、照射室５の入口から出口にわたって配設
されているが、モノマーの蒸発量が多い重合初期段階の
エリア、例えば照射室５の入口から中央部分までに配設
してもよい。冷却用液体を噴出する開口２２ａはスリッ
ト状に限らず、多数の小孔を開設してもよい。また、開
口２２ａの配設間隔も任意であるが、例えば、モノマー
の蒸発量が多い重合初期段階のエリアで配設間隔を狭め
るようにすれば、効率的に冷却することができる。The cooling mechanism 22 in this embodiment is a box-shaped body, and as shown in the plan view of FIG. 3, a plurality of elongated openings 22a extending in the width direction of the support 1 are formed on the upper surface thereof. . The cooling liquid is sprayed from the openings 22a toward the back surface of the support 1, that is, the surface opposite to the surface on which the photopolymerizable composition layer 4 is formed.
In order to prevent the cooling liquid from splashing, the length of the opening 22a is shorter than the width of the support 1. Although the cooling mechanism 22 of the present embodiment is arranged from the entrance to the exit of the irradiation chamber 5, it is arranged in the area at the initial stage of polymerization where the amount of evaporation of the monomer is large, for example, from the entrance to the central portion of the irradiation chamber 5. May be. The opening 22a for ejecting the cooling liquid is not limited to the slit shape, and a large number of small holes may be formed. Further, the arrangement interval of the openings 22a is also arbitrary, but for example, if the arrangement interval is narrowed in the area in the initial stage of polymerization where the amount of evaporation of the monomer is large, efficient cooling can be achieved.
【００２９】冷却用液体は、冷却装置を備えた冷却液タ
ンク２７からポンプ２８によって冷却機構２２に送られ
る。また、冷却機構２２から噴出した冷却液は容器２６
の底部に集められて冷却液タンク２７に戻される。な
お、冷却用液体は、支持体１にダメージを与えない限
り、特にその種類は限定されないが、例えば水、または
エタノール、メタノールなどの有機溶剤、あるいは水に
エチレングリコールなどを適量混合して凝固点を降下さ
せた不凍液などを用いることができる。The cooling liquid is sent from the cooling liquid tank 27 equipped with a cooling device to the cooling mechanism 22 by the pump 28. Further, the cooling liquid ejected from the cooling mechanism 22 is stored in the container 26.
Are collected at the bottom of the tank and returned to the coolant tank 27. The type of the cooling liquid is not particularly limited as long as it does not damage the support 1, but, for example, water, an organic solvent such as ethanol or methanol, or water is mixed with an appropriate amount of ethylene glycol or the like to give a freezing point. A lowered antifreeze solution or the like can be used.
【００３０】図１に示すように、光透過性フィルム供給
部８は、例えば、未使用の光透過性フィルム７が巻き取
られている供給ロール４１と、この供給ロール４１から
の光透過性フィルム７を支持体１の光重合性組成物層４
と光照射部２１との間に介在させるように案内するため
の複数個のローラ４２ａ，４２ｂと、光透過性フィルム
７を巻き取るように回転駆動する巻き取りロール４３と
を備えている。As shown in FIG. 1, the light-transmissive film supply unit 8 includes, for example, a supply roll 41 on which an unused light-transmission film 7 is wound, and a light-transmission film from the supply roll 41. 7 is the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1
A plurality of rollers 42a and 42b for guiding the light-transmitting film 7 to be interposed between the light-irradiating section 21 and the light-irradiating section 21, and a winding roll 43 that is rotationally driven so as to wind up the light-transmissive film 7.
【００３１】光透過性フィルム７の移動方向（ｂ方向）
は、照射室５内において支持体１の移動方向（ａ方向）
に対して逆方向となっている。その理由は次のとおりで
ある。支持体１の光重合性組成物層４からのモノマーの
蒸発量をみた場合、光照射部２１の入口側で比較的に多
くのモノマーが蒸発し、出口側に向かって蒸発量は次第
に少なくなる。蒸発したモノマーを光透過性フィルム７
に付着させて、照射室５の外へ搬出する場合に、光透過
性フィルム７と支持体１との移動方向を同じ方向に設定
すると、光照射部２１の入口側でモノマーが多く付着し
た光透過性フィルム７がそのまま光照射部２１の出口側
まで進行するので、汚れた光透過性フィルム７によって
光が遮られる量が多くなる。これに対して、本実施例の
ように光透過性フィルム７と支持体１との移動方向を逆
方向に設定すると、光照射部２１の入口側でモノマーが
多く付着した光透過性フィルム７がすぐに照射室５の外
に出るので、前者のものと比べて、汚れた光透過性フィ
ルム７によって光が遮られる量が少なくなり、効率よく
光照射を行うことができる。Direction of movement of light-transmitting film 7 (direction b)
Is the moving direction (direction a) of the support 1 in the irradiation chamber 5.
It is the opposite direction. The reason is as follows. When looking at the amount of evaporation of the monomer from the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1, a relatively large amount of the monomer is evaporated at the entrance side of the light irradiation section 21, and the evaporation amount gradually decreases toward the exit side. . The evaporated monomer is used as the light-transmitting film 7.
When the light-transmissive film 7 and the support 1 are set to move in the same direction in the case where the light-transmissive film 7 and the support 1 are transferred to the outside of the irradiation chamber 5, the light having a large amount of monomer adhered to the entrance side of the light irradiation unit 21. Since the transparent film 7 advances to the exit side of the light irradiation unit 21 as it is, the amount of light blocked by the dirty transparent film 7 increases. On the other hand, when the moving directions of the light-transmissive film 7 and the support 1 are set to opposite directions as in the present embodiment, the light-transmissive film 7 having a large amount of monomer attached at the entrance side of the light irradiation section 21 is generated. Since it goes out of the irradiation chamber 5 immediately, the amount of light blocked by the dirty light-transmitting film 7 is smaller than that in the former case, and the light irradiation can be performed efficiently.
【００３２】光透過性フィルム７は、短波長光をカット
する特性を備えたものとしている。その理由は次のとお
りである。短波長を含む光を照射すると、光重合させる
ことで生成された感圧性接着剤層と支持体１との剥離性
が低下する。これはいわゆる両面接着シートの場合に不
都合であるので、光透過性フィルム７で短波長光をカッ
トしている。The light-transmitting film 7 has a characteristic of cutting short-wavelength light. The reason is as follows. Irradiation with light containing a short wavelength reduces the peelability between the pressure-sensitive adhesive layer generated by photopolymerization and the support 1. Since this is inconvenient in the case of a so-called double-sided adhesive sheet, the light transmitting film 7 cuts short wavelength light.
【００３３】具体的には、この光透過性フィルム７とし
ては、例えば、短波長光（例えば、３００ｎｍ 以下）
の透過を９０％以上カットできるフィルムが好ましく、
より好ましくは９３％以上カット、さらに好ましくは９
５％以上カットできるフィルムが好ましい。また、この
光透過性フィルム７は、可視光透過率が７０％以上のも
のを用いており、必要な光透過量を得ることができる。
この光透過性フィルム７としては、可視光透過率が８０
％以上のものがより好ましく、可視光透過率が９０％以
上のものがさらに好ましい。この光透過性フィルム７
は、照射室５における処理に十分に耐えうる程度の耐熱
性を有するものである。これらの特性を有する光透過性
フィルム７としては、例えば、ポリエステルフィルムな
どが挙げられる。光透過性フィルム７により短波長光が
カットされた光の照射光量は、感圧性接着剤層などの必
要特性により任意に設定することになるが、通常、１０
０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内、より好ましくは１
０００〜４０００ｍＪ／ｃｍ 2 の範囲内、さらに好まし
くは２０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内であるこ
とが好ましい。Specifically, the light transmissive film 7 is
For example, short wavelength light (for example, 300 nm or less)
A film that can cut the transmission of 90% or more is preferable,
More preferably cut by 93% or more, further preferably 9
A film that can be cut by 5% or more is preferable. Also this
The light transmissive film 7 has a visible light transmittance of 70% or more.
Is used, and the required amount of light transmission can be obtained.
The light transmissive film 7 has a visible light transmittance of 80.
% Or more is more preferable, and the visible light transmittance is 90% or more.
The above are more preferred. This transparent film 7
Is heat resistant enough to withstand processing in the irradiation chamber 5.
It has a sex. Light transmission with these properties
The film 7 is, for example, a polyester film.
Which can be mentioned. Short-wavelength light can be emitted by the light-transmissive film 7.
The amount of irradiation of the cut light is necessary for the pressure sensitive adhesive layer, etc.
It will be set arbitrarily depending on the required characteristics, but normally 10
0 to 5000 mJ / cm2 Within the range, more preferably 1
000-4000 mJ / cm 2 Within the range of, and more preferred
Kuha 2000-3000 mJ / cm2 Within the range of
And are preferred.
【００３４】光透過性フィルム７の供給速度が速いと、
この光透過性フィルム７の使用量が増加し製造コストが
上がることになるので、この供給速度を遅くする方が良
いが、余りに遅すぎると支持体１の光重合性組成物層４
から蒸発したモノマーが光透過性フィルム７に付着し，
光透過性フィルム７の光の透過率が低下することになっ
てしまうので、ある程度以上の速度が望まれる。以下に
光透過性フィルム７の好適な供給速度について例示す
る。光透過性フィルム７の供給速度は、支持体１の移動
速度をＶ（ｍ／分）とすると、例えば、０．００５Ｖ〜
０．５Ｖ（ｍ／分）程度が好ましく、より好ましくは
０．０１Ｖ〜０．２Ｖ（ｍ／分）であり、さらに好まし
くは０．０２Ｖ〜０．１Ｖ（ｍ／分）である。When the feeding speed of the light transmitting film 7 is high,
Since the amount of the light-transmissive film 7 used increases and the manufacturing cost increases, it is better to slow the supply rate, but if it is too slow, the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 may be slowed down.
The monomer evaporated from the film adheres to the transparent film 7,
Since the light transmittance of the light transmissive film 7 will be reduced, a speed higher than a certain level is desired. The suitable supply rate of the light transmissive film 7 is illustrated below. When the moving speed of the support 1 is V (m / min), the supply speed of the light transmissive film 7 is, for example, 0.005 V to
The voltage is preferably about 0.5 V (m / min), more preferably 0.01 V to 0.2 V (m / min), and further preferably 0.02 V to 0.1 V (m / min).
【００３５】なお、上述した光透過性フィルム供給部８
が本発明における移動手段に相当する。The above-mentioned light-transmitting film supply unit 8
Corresponds to the moving means in the present invention.
【００３６】図１，図２に示すように、不活性ガス供給
部２３に接続されたノズル２４の噴出口２４ａは、光透
過性フィルム７と光重合性組成物層４との間に不活性ガ
スを供給するように、光透過性フィルム７と光重合性組
成物層４の幅方向の両端側で、光透過性フィルム７と光
重合性組成物層４との間に配置されている。不活性ガス
は、光透過性フィルム７と光重合性組成物層４との間
に、光透過性フィルム７と光重合性組成物層４の幅方向
の両端側からその幅方向の中央に向かって供給される。As shown in FIGS. 1 and 2, the ejection port 24a of the nozzle 24 connected to the inert gas supply section 23 is inert between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4. It is arranged between the light-transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 at both ends in the width direction of the light-transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 so as to supply gas. The inert gas is directed between the light-transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 from both ends in the width direction of the light-transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 toward the center in the width direction. Supplied.
【００３７】ここでは、ノズル２４は、光透過性フィル
ム７と光重合性組成物層４との間に僅かながら差し込ま
れて配置されているが、この配置に限定されるものでは
なく、光透過性フィルム７と光重合性組成物層４との間
に不活性ガスを供給できれば十分であり、次のような変
形例も適宜に実施することができる。例えば、光透過性
フィルム７と光重合性組成物層４との間から引き出した
状態で光透過性フィルム７と光重合性組成物層４との間
に不活性ガスを供給するようにしても良いし、光透過性
フィルム７と光重合性組成物層４との間をノズル２４の
噴出口２４ａの口径よりも小さくして、この光透過性フ
ィルム７と光重合性組成物層４との間に不活性ガスを供
給するようにしても良い。Here, the nozzle 24 is arranged so as to be slightly inserted between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4, but the arrangement is not limited to this, and the light transmission is not limited. It is sufficient that an inert gas can be supplied between the photosensitive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4, and the following modified examples can be appropriately implemented. For example, an inert gas may be supplied between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 in a state of being drawn out from between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4. The distance between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 is made smaller than the diameter of the ejection port 24a of the nozzle 24 so that the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 are separated from each other. An inert gas may be supplied between them.
【００３８】本実施例では、不活性ガスとして窒素ガス
を用いているが、アルゴンガスや二酸化炭素ガスなどの
種々の不活性ガスを用いることができる。光透過性フィ
ルム７と光重合性組成物層４との間に不活性ガスを供給
して置換しており、この間における酸素濃度を、例え
ば、１００００ｐｐｍ以下、より好ましくは５０００ｐ
ｐｍ以下、さらに好ましくは１０００ｐｐｍ以下にして
いる。Although nitrogen gas is used as the inert gas in this embodiment, various inert gases such as argon gas and carbon dioxide gas can be used. An inert gas is supplied between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 for replacement, and the oxygen concentration during this is, for example, 10,000 ppm or less, more preferably 5000 p.
pm or less, more preferably 1000 ppm or less.
【００３９】光透過性フィルム供給部８の複数個のロー
ラ４２ａ，４２ｂなどによって、光透過性フィルム７
は、光重合性組成物層４に近接している。光透過性フィ
ルム７と光重合性組成物層４との間の距離は、２００ｍ
ｍ以下程度が好ましく、より好ましくは１００ｍｍ以
下、より好ましくは５０ｍｍ以下、より好ましくは２０
ｍｍ以下である。なお、光透過性フィルム７と光重合性
組成物層４との間に供給された後の不要となった不活性
ガスは、排気系統（図示省略）により適宜排気されるよ
うになっている。The light-transmissive film 7 is provided by a plurality of rollers 42a, 42b of the light-transmissive film supply unit 8.
Is close to the photopolymerizable composition layer 4. The distance between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 is 200 m.
m or less is preferable, more preferably 100 mm or less, more preferably 50 mm or less, more preferably 20 mm or less.
mm or less. The unnecessary inert gas after being supplied between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 is appropriately exhausted by an exhaust system (not shown).
【００４０】なお、上述した不活性ガス供給部２３とノ
ズル２４と本発明の不活性ガス供給手段に相当する。The inert gas supply section 23, the nozzle 24, and the inert gas supply means of the present invention are described above.
【００４１】短波長光照射部１５は、照射室５により短
波長光をカットした光の照射を受けた支持体１の光重合
性組成物層４に、少なくとも短波長光（例えば、３００
ｎｍ以下）を含む光を照射するためのものである。この
ような短波長光照射部１５を備えた理由は次のとおりで
ある。すなわち、光透過性フィルム７と光重合性組成物
層４との間に不活性ガスを供給しても、その間の酸素を
完全に除去することは困難である。その結果、僅かに残
存した酸素により重合阻害を受けて光重合性組成物層４
の表面に低分子量体が生成され、この低分子量体により
感圧性接着剤層の凝集力が低下することがある。そこ
で、本実施例では、短波長光照射部１５で短波長光を照
射することにより、光重合性組成物層４の表面の低分子
量体を架橋して高分子量化して、感圧性接着剤層の凝集
力の低下を防止している。The short-wavelength light irradiation section 15 applies at least short-wavelength light (for example, 300 to the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 that has been irradiated with the light obtained by cutting the short-wavelength light by the irradiation chamber 5).
It is for irradiating the light containing (nm or less). The reason for providing such a short wavelength light irradiation unit 15 is as follows. That is, even if an inert gas is supplied between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4, it is difficult to completely remove oxygen between them. As a result, the photopolymerizable composition layer 4 was subjected to polymerization inhibition by slightly remaining oxygen.
A low molecular weight substance is formed on the surface of the polymer, and the low molecular weight substance may reduce the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer. Therefore, in this example, by irradiating the short-wavelength light irradiation unit 15 with short-wavelength light, the low-molecular weight substance on the surface of the photopolymerizable composition layer 4 is crosslinked to have a high molecular weight, and the pressure-sensitive adhesive layer is obtained. It prevents the decrease of the cohesive force of.
【００４２】短波長光照射部１５は、少なくとも短波長
光を含む光を照射する光源１６を備えている。この光源
１６としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水
銀ランプなどの高圧放電ランプや、低圧水銀ランプなど
がある。短波長光照射部１５による短波長光（例えば、
３００ｎｍ以下）の照射光量は、例えば、５０〜３００
０ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内、より好ましくは１００〜２０
００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内、さらに好ましくは２００〜
１０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。
短波長光照射部１５による少なくとも短波長光を含む光
の照射は、照射室５による光照射を受けた支持体１の光
重合性組成物層４に対して行えば良いが、照射室５によ
る光照射を受けた支持体１の光重合性組成物層４の重合
率が低いと、この短波長光照射部１５による少なくとも
短波長光を含む光の照射時にモノマー揮散が起こり、短
波長光照射部１５の光源の汚染や支持体１の剥離性が低
下するなどの問題が発生するので、照射室５による光照
射を受けた支持体１の光重合性組成物層４の重合率が、
８０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは
９５％以上となった後に、短波長光照射部１５による少
なくとも短波長光を含む光の照射を行うようにしてい
る。The short-wavelength light irradiation section 15 includes a light source 16 for irradiating light containing at least short-wavelength light. Examples of the light source 16 include a high pressure discharge lamp such as a metal halide lamp and a high pressure mercury lamp, and a low pressure mercury lamp. Short wavelength light by the short wavelength light irradiation unit 15 (for example,
The irradiation light amount of 300 nm or less) is, for example, 50 to 300.
Within the range of 0 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 20
Within the range of 00 mJ / cm 2 , more preferably 200-
It is preferably in the range of 1000 mJ / cm 2 .
Irradiation of light containing at least short-wavelength light by the short-wavelength light irradiation section 15 may be performed on the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 which has been irradiated with light by the irradiation chamber 5, but by the irradiation chamber 5. When the polymerization rate of the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 which has been irradiated with light is low, monomer volatilization occurs when the short wavelength light irradiation section 15 irradiates light containing at least short wavelength light, and thus short wavelength light irradiation is performed. Since problems such as contamination of the light source of the part 15 and deterioration of the peeling property of the support 1 occur, the polymerization rate of the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 which has been irradiated with light by the irradiation chamber 5 is
After reaching 80% or more, preferably 90% or more, and more preferably 95% or more, the short wavelength light irradiation unit 15 irradiates light including at least short wavelength light.
【００４３】また、この短波長光照射部１５にも、重合
中の光重合性組成物層４を所定の温度範囲内に冷却する
ための冷却機構２２が備えられている。こうすること
で、重合時の光重合性組成物層４からのモノマー蒸発が
低減できる。なおここでは、この短波長光照射部１５に
冷却機構２２を備えているが、重合時のモノマー蒸発が
問題無い程度であるなど特に必要無ければ設けなくても
構わない。The short-wavelength light irradiation section 15 is also provided with a cooling mechanism 22 for cooling the photopolymerizable composition layer 4 being polymerized within a predetermined temperature range. By doing so, the evaporation of the monomer from the photopolymerizable composition layer 4 during the polymerization can be reduced. Although the cooling mechanism 22 is provided in the short-wavelength light irradiation unit 15 here, it may be omitted if it is not particularly necessary, for example, the degree of monomer evaporation during polymerization does not pose a problem.
【００４４】巻き取り部６は、照射室５と短波長光照射
部１５とにより光の照射を受けた支持体１を所定の方向
に案内するためのガイドローラ９と、このガイドローラ
９によって案内された重合処理済みの支持体１を巻き取
る支持体巻き取りロール１０とを備えている。The winding section 6 guides the guide roller 9 for guiding the support 1 irradiated with light by the irradiation chamber 5 and the short wavelength light irradiation section 15 in a predetermined direction, and the guide roller 9. And a support take-up roll 10 for taking up the polymerized support 1 thus obtained.
【００４５】なお、照射室５と短波長光照射部１５との
間には、照射室５による光照射（短波長光をカットした
光の照射）後の支持体１に乾燥処理を施すための乾燥部
５１が備えられている。この乾燥部５１は、光照射後の
支持体１の光重合性組成物層４中に残存する未反応モノ
マーや溶剤その他の非反応性不純物を可及的に揮散除去
するために、光照射後の支持体１に対して強制乾燥ある
いは加熱乾燥を施すものである。この乾燥部５１の温度
は、支持体１や光重合性組成物層４などの使用材料によ
り任意に設定されるが、通常、８０°Ｃ〜１５０°Ｃに
設定される。Between the irradiation chamber 5 and the short-wavelength light irradiation unit 15, there is used a drying treatment for the support 1 after light irradiation (irradiation of light with short-wavelength light cut off) by the irradiation chamber 5. A drying unit 51 is provided. The drying section 51 is provided after the light irradiation in order to volatilize and remove the unreacted monomer, the solvent and other non-reactive impurities remaining in the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 after the light irradiation. The support 1 is subjected to forced drying or heat drying. The temperature of the drying section 51 is arbitrarily set depending on the materials used such as the support 1 and the photopolymerizable composition layer 4, but it is usually set to 80 ° C to 150 ° C.
【００４６】次に上記のように構成された実施例装置に
より、感圧性接着シートとして、例えば、支持体１を剥
離ライナーとして使用する両面接着シートを製造する製
造工程について、以下に説明する。Next, a manufacturing process for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet, for example, a double-sided adhesive sheet using the support 1 as a release liner, by the embodiment apparatus configured as described above will be described below.
【００４７】まず、塗工部３は、支持体供給ロール２か
ら供給される支持体１に対して、光重合性組成物をその
支持体１の所定の幅で、なおかつ、所定の厚さとなるよ
うに塗工する。このように光重合性組成物が塗工された
支持体１は、移動方向（ａ方向）に移動されて照射室５
の方へ搬送される。First, the coating unit 3 forms the photopolymerizable composition on the support 1 supplied from the support supply roll 2 in a predetermined width and a predetermined thickness of the support 1. To apply. The support 1 coated with the photopolymerizable composition in this manner is moved in the moving direction (direction a) to move the irradiation chamber 5
Be transported to.
【００４８】照射室５は、支持体１に塗工された光重合
性組成物（光重合性組成物層４）に対して、次に説明す
るような状態で、短波長光をカットした光を照射する。
すなわち、支持体１の光重合性組成物層４と光照射部２
１との間を非接触でｂ方向に光透過性フィルム７を移動
させながら、この光透過性フィルム７と光重合性組成物
層４との間に不活性ガスを供給するようにして、光透過
性フィルム７を透過した光照射部２１からの光（短波長
光をカットした光）をａ方向に移動する支持体１の光重
合性組成物層４に照射する。また、冷却機構２２は支持
体１に冷却用液体を吹き付けて、支持体１をその下側か
ら冷却している。その結果、光重合反応に伴う熱などの
影響で、光重合性組成物層４からモノマーが蒸発するの
が抑制される。In the irradiation chamber 5, the photopolymerizable composition (photopolymerizable composition layer 4) coated on the support 1 is irradiated with light of which short wavelength light is cut in the state described below. Irradiate.
That is, the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 and the light irradiation part 2
While moving the light-transmitting film 7 in the b direction in a non-contact manner between the light-transmitting film 1 and the light-transmitting film 1, an inert gas is supplied between the light-transmitting film 7 and the photopolymerizable composition layer 4, The photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 moving in the a direction is irradiated with the light (light of which short-wavelength light is cut) from the light irradiation unit 21 that has passed through the transparent film 7. Further, the cooling mechanism 22 sprays a cooling liquid onto the support 1 to cool the support 1 from below. As a result, the evaporation of the monomer from the photopolymerizable composition layer 4 is suppressed by the influence of heat and the like accompanying the photopolymerization reaction.
【００４９】なお、照射室５による短波長光をカットし
た光の支持体１の光重合性組成物層４への照射は、光重
合性組成物層４の重合率が少なくとも８０％以上なるま
で行われる。光重合性組成物層４の重合率が８０％以上
になっていることの検出は、例えば、製造しようとする
製品の仕様に応じた光重合性組成物が支持体に塗工され
たサンプルに対して、照射室５における照射光量などの
各条件を適宜変更して照射実験を行い、この実験後のサ
ンプルの重合率を測定することで、実験的に求めること
ができる。このように、光重合開始当初においては短波
長光をカットした光を光重合性組成物層４に照射してい
るので、光重合開始当初における短波長光照射に起因す
る支持体１と感圧性接着剤層との重剥離化現象の発生を
防止でき、支持体１の剥離性を損なうことがない。The irradiation of the light having the short wavelength light cut off by the irradiation chamber 5 to the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 is performed until the polymerization rate of the photopolymerizable composition layer 4 becomes at least 80% or more. Done. Detection that the degree of polymerization of the photopolymerizable composition layer 4 is 80% or more can be performed by, for example, detecting a sample in which the photopolymerizable composition according to the specifications of the product to be manufactured is applied to the support. On the other hand, it is possible to experimentally determine by performing an irradiation experiment by appropriately changing each condition such as the irradiation light amount in the irradiation chamber 5 and measuring the polymerization rate of the sample after this experiment. As described above, since the photopolymerizable composition layer 4 is irradiated with the light having the short wavelength light cut off at the beginning of the photopolymerization, the support 1 and the pressure-sensitive material caused by the irradiation of the short wavelength light at the beginning of the photopolymerization start. It is possible to prevent the phenomenon of heavy peeling from the adhesive layer and prevent the peelability of the support 1 from being impaired.
【００５０】照射室５の出口部分では、支持体１の下面
に向けて、ノズル２５から不活性ガスが吹き付けられる
ことにより、支持体１の下面に付着した冷却用液体が取
り除かれる。照射室５を出た支持体１は乾燥部５１に導
かれる。乾燥部５１では、照射室５により短波長光をカ
ットした光の照射を受けた支持体１、すなわち重合率が
８０％以上になった光重合性組成物層４に対して、乾燥
処理を施す。乾燥部５１で乾燥処理を施すことによっ
て、この光照射後の支持体１の光重合性組成物層４中に
残存する未反応モノマーや溶剤その他の非反応性不純物
を可及的に揮散除去される。これにより、後段の短波長
光照射部１５のモノマー蒸発による汚染が低減される。At the exit of the irradiation chamber 5, the inert gas is blown from the nozzle 25 toward the lower surface of the support 1 to remove the cooling liquid adhering to the lower surface of the support 1. The support 1 that has left the irradiation chamber 5 is guided to the drying unit 51. In the drying section 51, a drying process is performed on the support 1 that has been irradiated with the light of which the short-wavelength light has been cut by the irradiation chamber 5, that is, the photopolymerizable composition layer 4 having a polymerization rate of 80% or more. . By performing a drying process in the drying section 51, unreacted monomers, solvents and other non-reactive impurities remaining in the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 after the light irradiation are volatilized and removed. It As a result, contamination of the short-wavelength light irradiation unit 15 in the subsequent stage due to monomer evaporation is reduced.
【００５１】短波長光照射部１５では、乾燥部５１によ
り乾燥処理が施された支持体１の光重合性組成物層４
に、少なくとも短波長光を含む光を照射する。例えば、
照射室５において、残存酸素による重合阻害に起因して
光重合性組成物層４の表面に低分子量体が生成されてい
る場合であっても、短波長光照射部１５により光重合性
組成物層４に短波長光を照射するので、光重合性組成物
層４の表面の低分子量体を架橋して高分子量化すること
ができ、感圧性接着剤層の凝集力低下を防止できる。In the short-wavelength light irradiation section 15, the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 which has been dried by the drying section 51.
Then, light containing at least short wavelength light is irradiated. For example,
In the irradiation chamber 5, even when a low molecular weight substance is generated on the surface of the photopolymerizable composition layer 4 due to polymerization inhibition by residual oxygen, the photopolymerizable composition is irradiated by the short-wavelength light irradiation unit 15. Since the layer 4 is irradiated with light having a short wavelength, the low molecular weight substance on the surface of the photopolymerizable composition layer 4 can be crosslinked to have a high molecular weight, and a decrease in cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer can be prevented.
【００５２】巻き取り部６は、短波長光照射部１５で短
波長光が照射された支持体１を巻き取る。このようにし
て感圧性接着シートが製造される。The winding section 6 winds up the support 1 irradiated with the short wavelength light by the short wavelength light irradiation section 15. In this way, the pressure-sensitive adhesive sheet is manufactured.
【００５３】以下に、図１に示した装置を用いて得られ
た感圧性接着シートの具体例１〜３と、同じ装置を用い
て、但し光重合性組成物層４の冷却を行わないで得られ
た比較例とを示す。Hereinafter, using the same apparatus as the specific examples 1 to 3 of the pressure-sensitive adhesive sheet obtained by using the apparatus shown in FIG. 1, but without cooling the photopolymerizable composition layer 4. The obtained comparative example is shown.
【００５４】＜具体例１＞光重合において、短波長光カ
ット用の光透過性フィルム７には、３８μｍのポリエチ
レンフィルムを用い、短波長光カット時の光量は２００
０ｍＪ／ｃｍ2になるように、また短波長光カット無し
の時の光量は１０００ｍＪ／ｃｍ2になるよう調整を行
った。短波長光カット用の光透過性フィルム７と支持体
１との距離は１０ｍｍであり、支持体１には、シリコー
ン処理を行ったポリエチレンフィルムを用いた。また、
不活性ガスには窒素ガスを用い、照射室５内の酸素濃度
が０．１％になるように置換を行った。<Specific Example 1> In photopolymerization, a 38 μm polyethylene film was used as the light-transmitting film 7 for cutting short-wavelength light, and the amount of light when cutting short-wavelength light was 200.
Such that 0 mJ / cm 2, also the light amount at the time of short-wavelength light without cut was adjusted to 1000 mJ / cm 2. The distance between the light-transmissive film 7 for cutting short-wavelength light and the support 1 was 10 mm, and a polyethylene film treated with silicone was used as the support 1. Also,
Nitrogen gas was used as the inert gas, and substitution was performed so that the oxygen concentration in the irradiation chamber 5 was 0.1%.
【００５５】光重合性組成物は次のようにして得た。ア
ルキルアクリレート単体を主成分とする主単量体として
の２エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）９０重量
部、極性基含有の共重合性単量体アクリル酸（ＡＡ）１
０重量部に、光重合開始剤として２・２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン０．０５重畳部 を４つ口
フラスコに投入し、窒素雰囲気下で紫外線に暴露するこ
とによって部分的に光重合したシロップを得た。この部
分重合したシロップ１００重量部に、架橋割としてトリ
メチロールプロパントリアクリレート０．３重量部を均
一に混合し、光重合性組成物を得た。この光重合性組成
物が５０μｍになるように塗工部３にて塗工し、冷却用
液体としては３０°Ｃの水を用い、この冷却用液体を支
持体１の裏面に直接接触させる方式にて冷却しながら光
照射を行い具体例1を得た。The photopolymerizable composition was obtained as follows. 90 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) as a main monomer whose main component is an alkyl acrylate, and a polar group-containing copolymerizable monomer acrylic acid (AA) 1
0-2 parts by weight of 2,2-dimethoxy- as a photopolymerization initiator
2-Phenylacetophenone (0.05) was placed in a four-necked flask and exposed to ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere to obtain a partially photopolymerized syrup. 100 parts by weight of this partially polymerized syrup was uniformly mixed with 0.3 part by weight of trimethylolpropane triacrylate as a cross-linking component to obtain a photopolymerizable composition. A method in which the photopolymerizable composition is coated in the coating unit 3 to have a thickness of 50 μm, water at 30 ° C. is used as the cooling liquid, and the cooling liquid is brought into direct contact with the back surface of the support 1. Illumination was performed while cooling in to obtain Example 1.
【００５６】＜具体例２＞図1に示した装置を用い、冷
却用液体として１０°Ｃの水を用いて、この冷却用液体
を支持体１の裏面に直接接触させる方式で冷却したこと
以外は、具体例１と同様にして具体例２を得た。<Specific Example 2> Using the apparatus shown in FIG. 1, except that water at 10 ° C. was used as the cooling liquid and the cooling liquid was brought into direct contact with the back surface of the support 1 to cool it. Example 2 was obtained in the same manner as Example 1.
【００５７】＜具体例３＞図1に示した装置を用い、冷
却用液体として２°Ｃの水を用いて、この冷却用液体を
支持体１の裏面に直接接触させる方式で冷却したこと以
外は、具体例１と同様にして具体例３を得た。<Example 3> Using the apparatus shown in FIG. 1, except that water at 2 ° C. was used as the cooling liquid and the cooling liquid was brought into direct contact with the back surface of the support 1 to cool it. Example 3 was obtained in the same manner as Example 1.
【００５８】＜比較例＞図1に示した装置を用い、冷却
用液体による冷却を行わないこと以外は、具体例1と同
様にして比較例を得た。Comparative Example A comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the cooling liquid was not used and the apparatus shown in FIG. 1 was used.
【００５９】上記具体例１〜３および比較例に係る各感
圧性接着シートについて、光重合性接着剤層の剥離ライ
ナー面と窒素面における各接着剤組成および各接着力を
それぞれ測定した。その結果を表１に示す。With respect to the pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples 1 to 3 and Comparative Example, the adhesive composition and adhesive force on the release liner surface and the nitrogen surface of the photopolymerizable adhesive layer were measured. The results are shown in Table 1.
【００６０】[0060]
【表１】 [Table 1]
【００６１】＜光重合性接着剤組成測定方法＞各感圧性
接着シートをＦＴ−ＩＲ（ＡＴＲ法）によって、重合時
に剥離ライナーと接した面（剥離ライナー面）と窒素に
さらされた面（窒素面）をそれぞれ測定し、２−エチル
ヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ：１７３４ｃｍ-1）と
アクリル酸（ＡＡ：１７０２ｃｍ-1）とのカルボニル基
のピークの高さ比を算出することによって光重合性接着
剤の組成を測定した。<Method for measuring photopolymerizable adhesive composition> Each pressure-sensitive adhesive sheet was subjected to FT-IR (ATR method) by FT-IR (ATR method), the surface in contact with a release liner (release liner surface) and the surface exposed to nitrogen (nitrogen). Surface), and the composition of the photopolymerizable adhesive by calculating the peak height ratio of the carbonyl group of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA: 1734 cm −1 ) and acrylic acid (AA: 1702 cm −1 ). Was measured.
【００６２】＜接着力測定方法＞ＪＩＳ Ｚ−１５２２
に準じ、被着体としてステンレス板を用いて，重合時に
剥離ライナー面と窒素面との接着力（Ｎ／２０ｍｍ）を
引っ張り速度３００ｍｍ／ｍｉｎで測定した。<Adhesive force measuring method> JIS Z-1522
According to the above, using a stainless steel plate as an adherend, the adhesive force (N / 20 mm) between the release liner surface and the nitrogen surface during polymerization was measured at a pulling speed of 300 mm / min.
【００６３】表１に示した測定結果から明らかなよう
に、剥離ライナー面の接着剤組成を比較すると、光重合
反応の過程で光重合性組成物層４を冷却した具体例１〜
３に比べて、冷却を行わない比較例の場合、窒素面側を
基準とした剥離ライナー面の接着剤組成の変化量が大き
い、すなわち剥離ライナー面におけるモノマー（アクリ
ル酸）の蒸発量が多いことが分かる。その結果、冷却を
行わない比較例の場合、剥離ライナー面の接着力が具体
例１〜３に比べて大きく低下している。また、具体例１
〜３の各々を比較すると、冷却水温度が低いほど剥離ラ
イナー面の接着剤組成の変化量が小さく、その結果、接
着力の低下量も小さくなっていることが分かる。なお、
窒素面における接着剤組成および接着力に関して、具体
例１〜３と比較例との間に差がないのは、光重合性組成
物層４に含まれるプレポリマーが重合中に表面（窒素
面）に偏析し、このプレポリマーからはモノマーが蒸発
しないので、具体例１〜３と比較例との間に差が生じな
かったものと考えられる。As is clear from the measurement results shown in Table 1, comparing the adhesive compositions on the release liner surface, specific examples 1 to 1 in which the photopolymerizable composition layer 4 was cooled in the course of the photopolymerization reaction were obtained.
Compared with No. 3, in the case of the comparative example without cooling, the amount of change in the adhesive composition of the release liner surface with respect to the nitrogen surface side is large, that is, the amount of evaporation of the monomer (acrylic acid) on the release liner surface is large. I understand. As a result, in the case of the comparative example in which the cooling is not performed, the adhesive force of the release liner surface is greatly reduced as compared with the specific examples 1 to 3. In addition, specific example 1
Comparing each of Nos. 3 to 3, it can be seen that the lower the cooling water temperature, the smaller the change amount of the adhesive composition on the release liner surface, and the smaller the decrease amount of the adhesive force. In addition,
Regarding the adhesive composition and the adhesive force on the nitrogen surface, there is no difference between the specific examples 1 to 3 and the comparative example, because the prepolymer contained in the photopolymerizable composition layer 4 has a surface (nitrogen surface) during the polymerization. It is considered that there was no difference between the specific examples 1 to 3 and the comparative example because the prepolymer did not evaporate.
【００６４】以上のように、本実施例によれば、支持体
１の光重合性組成物層４と光照射部２１との間に介在さ
せた、短波長光をカットする光透過性フィルム７を、光
重合性組成物層４に対して非接触で移動させながら、こ
の光透過性フィルム７と光重合性組成物層４との間に不
活性ガスを供給するようにして、光透過性フィルム７を
透過した光（短波長光をカットした光）を光重合性組成
物層４に照射し、この短波長光をカットした光の照射を
受けた光重合性組成物層４に短波長光を照射しているの
で、光照射部２１の光透過窓３３へのモノマーの付着に
起因する光重合性組成物層４の光重合不良を防止でき、
支持体１の剥離性を損なうことなく、感圧性接着剤層の
凝集力低下を防止でき、なおかつ、光透過性フィルム７
に対する離型処理を不要にできる。しかも、光重合反応
過程で支持体１を介して光重合性組成物層４を冷却して
いるので、モノマーの蒸発による組成変化を抑え、接着
剤層の表裏の特性差を小さくした、優れた感圧性接着シ
ートを得ることができる。As described above, according to this embodiment, the light-transmissive film 7 for cutting short-wavelength light, which is interposed between the photopolymerizable composition layer 4 of the support 1 and the light irradiation part 21, is provided. While being moved in a non-contact manner with respect to the photopolymerizable composition layer 4, an inert gas is supplied between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4 to obtain a light transmissive property. The light having passed through the film 7 (light having a short wavelength light cut off) is irradiated to the photopolymerizable composition layer 4, and the photopolymerizable composition layer 4 having received the light having a short wavelength light cut out has a short wavelength. Since the light is irradiated, it is possible to prevent the photopolymerization failure of the photopolymerizable composition layer 4 due to the adhesion of the monomer to the light transmission window 33 of the light irradiation part 21,
It is possible to prevent a decrease in the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer without impairing the releasability of the support 1, and at the same time, the light-transmitting film 7
It is possible to eliminate the need for mold release processing. Moreover, since the photopolymerizable composition layer 4 is cooled through the support 1 in the photopolymerization reaction process, the composition change due to the evaporation of the monomer is suppressed, and the difference in the characteristics between the front and back surfaces of the adhesive layer is reduced, which is excellent. A pressure sensitive adhesive sheet can be obtained.
【００６５】本発明は上述した実施例のものに限らず、
次のように変形実施することもできる。
（１）図１に示した装置では、冷却機構２２から支持体
１に向けて冷却用液体を吹き付けて光重合性組成物層４
を冷却するようにしたが、冷却用液体に代えて、冷却し
た不活性ガス（例えば、窒素ガス）のような冷却用ガス
を支持体に吹き付けて光重合性組成物層を冷却してもよ
い。The present invention is not limited to the above embodiment,
Modifications can be made as follows. (1) In the apparatus shown in FIG. 1, the photopolymerizable composition layer 4 is formed by spraying the cooling liquid from the cooling mechanism 22 toward the support 1.
However, instead of the cooling liquid, a cooling gas such as a cooled inert gas (for example, nitrogen gas) may be sprayed on the support to cool the photopolymerizable composition layer. .
【００６６】（２）さらに、上記実施例の冷却機構２２
に代えて、図４に示すように、冷媒を循環させた冷却プ
レート５２に支持体１を接触させて光重合性組成物層４
を冷却するようにしてもよい。図４中、符号５３は、冷
却プレート５２に連通接続されて冷媒を循環させる冷媒
循環装置である。なお、冷却プレート５２の材質は、熱
伝導性の良い金属（銅、アルミニウム、ステンレス鋼な
ど）が好ましく、特に銅が好ましい。また、この例にお
いて、支持体１と冷却プレート５２との間に液体層を介
在させると、支持体１と冷却プレート５２とが密着して
熱伝導性が高まるので一層好ましい。さらに、冷却プレ
ート５２は、モノマーが蒸発しやすい照射室５の前半部
分にだけ設置してもよい。(2) Further, the cooling mechanism 22 of the above embodiment
Instead of the above, as shown in FIG. 4, the support 1 is brought into contact with the cooling plate 52 in which the cooling medium is circulated, and the photopolymerizable composition layer 4 is formed.
May be cooled. In FIG. 4, reference numeral 53 is a refrigerant circulation device that is connected to the cooling plate 52 and circulates the refrigerant. The material of the cooling plate 52 is preferably a metal having good thermal conductivity (copper, aluminum, stainless steel, etc.), and particularly preferably copper. Further, in this example, it is more preferable to interpose a liquid layer between the support 1 and the cooling plate 52, because the support 1 and the cooling plate 52 are in close contact with each other to enhance the thermal conductivity. Further, the cooling plate 52 may be installed only in the first half portion of the irradiation chamber 5 where the monomer easily evaporates.
【００６７】（３）また、上記実施例の冷却機構２２に
代えて、図５に示すように、冷媒循環装置５３によって
冷媒を循環させた冷却ロール５４を支持体１に接触させ
て光重合性組成物層４を冷却するようにしてもよい。こ
の例の場合にも、支持体１と冷却ロール５４との間に液
体層を介在させると、支持体１と冷却ロール５４とが密
着して熱伝導性が高まるので一層好ましい。(3) Further, in place of the cooling mechanism 22 of the above embodiment, as shown in FIG. 5, a cooling roll 54 in which a refrigerant is circulated by a refrigerant circulation device 53 is brought into contact with the support 1 to photopolymerize. The composition layer 4 may be cooled. Also in the case of this example, it is more preferable to interpose a liquid layer between the support 1 and the cooling roll 54, since the support 1 and the cooling roll 54 are in close contact with each other to enhance the thermal conductivity.
【００６８】（４）さらに、上記実施例の冷却機構２２
に代えて、図６に示すように、冷却ユニット５５で冷却
された冷却コンベア５６を循環移動させながら支持体１
に接触させて光重合性組成物層４を冷却するようにして
もよい。冷却コンベア５６としては、ステンレスベルト
製コンベアが好ましい。また、上記（２）、（３）と同
様に、支持体１と冷却コンベア５６との間に液体層を介
在させてもよい。(4) Further, the cooling mechanism 22 of the above embodiment
Instead of the above, as shown in FIG. 6, the supporting member 1 is circulated while moving the cooling conveyor 56 cooled by the cooling unit 55.
The photopolymerizable composition layer 4 may be cooled by contacting with. As the cooling conveyor 56, a stainless belt conveyor is preferable. Further, similarly to the above (2) and (3), a liquid layer may be interposed between the support 1 and the cooling conveyor 56.
【００６９】（５）また、上記実施例の冷却機構２２に
代えて、図７に示すように、冷却ガス源５７から送られ
てきた、冷却された不活性ガス（例えば、窒素ガス）を
ノズル５８から噴出させて、光透過性フィルム７と光重
合性組成物層４との間に供給することにより、光重合性
組成物層４を冷却するようにしてもよい。冷却ガス源５
７としては、液体窒素源を用いることができる。また、
図７に示した例と、図１に示した冷却機構２２や、上記
(１)〜（４）で説明した各冷却機構と組み合わせて実施
することも可能である。この例によれば、照射室５内の
酸素を置換するための不活性ガスの供給手段を兼ねるこ
とができるので、装置構成を簡素化する上で好ましい。(5) In place of the cooling mechanism 22 of the above embodiment, as shown in FIG. 7, the cooled inert gas (for example, nitrogen gas) sent from the cooling gas source 57 is used as the nozzle. The photopolymerizable composition layer 4 may be cooled by being ejected from 58 and supplied between the light transmissive film 7 and the photopolymerizable composition layer 4. Cooling gas source 5
A liquid nitrogen source can be used as 7. Also,
The example shown in FIG. 7, the cooling mechanism 22 shown in FIG.
It is also possible to implement in combination with each cooling mechanism described in (1) to (4). According to this example, it is possible to serve also as the supply means of the inert gas for replacing the oxygen in the irradiation chamber 5, which is preferable in simplifying the apparatus configuration.
【００７０】[0070]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、支持体の光重合性組成物層と光照射部との間
に光透過性フィルムを介在させるとともに、この光透過
性フィルムを移動させているので、蒸発したモノマーの
付着に起因する光照射部の汚染や光照度の低下を防止す
ることができる。また、光透過性フィルムは支持体の光
重合性組成物層に非接触となっているので、光透過性フ
ィルムに対する離型処理を不要にすることもできる。さ
らに、光透過性フィルムを透過した光を光重合性組成物
層に照射する過程で、光重合性組成物層を冷却している
ので、光重合性組成物層からのモノマーの蒸発を抑制す
ることができ、その結果、モノマーの組成比の変化に起
因した粘着特性の低下を防止することができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, the light-transmitting film is interposed between the photopolymerizable composition layer of the support and the light-irradiated portion, and Since the film is moved, it is possible to prevent the contamination of the light irradiation portion and the decrease of the light illuminance due to the adhesion of the evaporated monomer. Further, since the light transmissive film is not in contact with the photopolymerizable composition layer of the support, the release treatment for the light transmissive film can be omitted. Further, since the photopolymerizable composition layer is cooled in the process of irradiating the photopolymerizable composition layer with light transmitted through the light transmissive film, the evaporation of the monomer from the photopolymerizable composition layer is suppressed. As a result, it is possible to prevent deterioration of the adhesive property due to a change in the composition ratio of the monomers.
【図１】本発明に係る感圧性粘着シートの製造装置の一
例を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of an apparatus for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention.
【図２】図１に示した装置のＡ−Ａ断面図である。2 is a cross-sectional view of the device shown in FIG.
【図３】冷却機構の平面図である。FIG. 3 is a plan view of a cooling mechanism.
【図４】冷却機構の変形例である。FIG. 4 is a modification of the cooling mechanism.
【図５】冷却機構の別の変形例である。FIG. 5 is another modification of the cooling mechanism.
【図６】冷却機構のさらに別の変形例である。FIG. 6 is another modification of the cooling mechanism.
【図７】冷却機構のさらに別の変形例である。FIG. 7 is another modification of the cooling mechanism.
１ …支持体 ４ …光重合性組成物層 ７ …光透過性フィルム ２１ …光照射部 ２２ …冷却機構 ２３ …不活性ガ供給部 ２４ …ノズル 1 ... Support 4 ... Photopolymerizable composition layer 7 ... Light transmissive film 21 ... Light irradiation unit 22 ... Cooling mechanism 23 ... Inert gas supply section 24 ... Nozzle
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 海田 邦彦 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 広瀬 閥 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 佐野 建志 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 Ｆターム(参考） 4F100 AK01B AT00A BA02 CB05B EJ503 EJ523 EJ583 JB14B 4J004 AA01 AB01 AB07 CA01 CA06 CA08 CB01 CB02 CC02 EA01 EA05 EA06 GA01 GA02 4J011 QA02 QA03 QA13 QA22 SA04 SA14 SA34 SA82 SA83 UA01 VA01 VA09 WA06 4J040 EC002 EF282 EH002 FA081 FA131 FA231 FA261 FA271 HB14 HB18 HC16 JB07 JB09 KA13 KA16 KA26 LA06 LA10 MA02 MA09 MA10 MB03 NA08 NA10 PA23 PA32 PA33 PB01 PB06 PB13 PB15 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Kunihiko Kaita 1-2 1-2 Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture Nitto Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Hirose 1-2 1-2 Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture Nitto Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Takeshi Sano 1-2 1-2 Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture Nitto Electric Works Co., Ltd. F-term (reference) 4F100 AK01B AT00A BA02 CB05B EJ503 EJ523 EJ583 JB14B 4J004 AA01 AB01 AB07 CA01 CA06 CA08 CB01 CB02 CC02 EA01 EA05 EA06 GA01 GA02 4J011 QA02 QA03 QA13 QA22 SA04 SA14 SA34 SA82 SA83 UA01 VA01 VA09 WA06 4J040 EC002 EF282 EH002 FA081 FA131 FA231 FA261 FA271 HB14 HB18 HC16 JB07 JB09 KA13 KA16 KA26 LA06 LA10 MA02 MA09 MA10 MB03 NA08 NA10 PA23 PA32 PA33 PB01 PB06 PB13 PB15
Claims (8)
成物層に光照射部からの光を照射することによって、そ
の光重合性組成物層を光重合させて感圧性接着剤層を得
る感圧性接着シートの製造方法において、 前記支持体の光重合性組成物層と前記光照射部との間に
介在させた光透過性フィルムを、前記光重合性組成物層
に対して非接触で移動させながら、この光透過性フィル
ムと光重合性組成物層との間に不活性ガスを供給するよ
うにして、前記光透過性フィルムを透過した光を光重合
性組成物層に照射するとともに、前記光を照射する過程
で前記光重合性組成物層を冷却することを特徴とする感
圧性接着シートの製造方法。1. A pressure-sensitive adhesive layer by photopolymerizing the photopolymerizable composition layer by irradiating the photopolymerizable composition layer coated on the surface of the support with light from a light irradiation part. In the method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet to obtain a light-transmissive film interposed between the photopolymerizable composition layer of the support and the light irradiation part, non-sensitive to the photopolymerizable composition layer. While moving by contact, an inert gas is supplied between the light transmissive film and the photopolymerizable composition layer, and the light transmitted through the light transmissive film is irradiated to the photopolymerizable composition layer. In addition, the method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, characterized in that the photopolymerizable composition layer is cooled in the process of irradiating with the light.
造方法において、 冷却用液体を支持体に吹き付けて前記光重合性組成物層
を冷却する感圧性接着シートの製造方法。2. The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein a cooling liquid is sprayed on a support to cool the photopolymerizable composition layer.
造方法において、 冷却用ガスを支持体に吹き付けて前記光重合性組成物層
を冷却する感圧性接着シートの製造方法。3. The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein a cooling gas is blown onto a support to cool the photopolymerizable composition layer.
造方法において、 冷媒を循環させた冷却プレートを支持体に接触させて前
記光重合性組成物層を冷却する感圧性接着シートの製造
方法。4. The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein a cooling plate in which a refrigerant is circulated is brought into contact with a support to cool the photopolymerizable composition layer. Method.
造方法において、 冷媒を循環させた冷却ロールを支持体に接触させて前記
光重合性組成物層を冷却する感圧性接着シートの製造方
法。5. The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein a cooling roll in which a refrigerant is circulated is brought into contact with a support to cool the photopolymerizable composition layer. Method.
造方法において、 冷却ユニットで冷却された冷却コンベアを支持体に接触
させて前記光重合性組成物層を冷却する感圧性接着シー
トの製造方法。6. The method of manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the cooling conveyor cooled by a cooling unit is brought into contact with a support to cool the photopolymerizable composition layer. Production method.
造方法において、 前記光透過性フィルムと光重合性組成物層との間に冷却
した不活性ガスを供給して前記光重合性組成物層を冷却
する感圧性接着シートの製造方法。7. The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein a cooled inert gas is supplied between the light transmissive film and the photopolymerizable composition layer. A method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet for cooling a material layer.
成物層に光照射部からの光を照射することによって、そ
の光重合性組成物層を光重合させて感圧性接着剤層を得
る感圧性接着シートの製造装置において、 前記支持体の光重合性組成物層と前記光照射部との間に
介在させた光透過性フィルムを、前記光重合性組成物層
に対して非接触で移動させる移動手段と、 前記光透過性フィルムと光重合性組成物層との間に不活
性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、 前記光重合性組成物層に光を照射する際に、光重合性組
成物層を冷却する冷却手段とを備えたことを特徴とする
感圧性接着シートの製造装置。8. A pressure-sensitive adhesive layer by photopolymerizing the photopolymerizable composition layer by irradiating the photopolymerizable composition layer coated on the surface of the support with light from a light irradiation part. In the apparatus for producing a pressure-sensitive adhesive sheet to obtain a light-transmitting film interposed between the photopolymerizable composition layer of the support and the light irradiation part, non-sensitive to the photopolymerizable composition layer. Moving means for moving by contact, an inert gas supply means for supplying an inert gas between the light transmissive film and the photopolymerizable composition layer, and when irradiating the photopolymerizable composition layer with light And a cooling means for cooling the photopolymerizable composition layer.
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|---|---|
| JP (1) | JP4646457B2 (en) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008120903A (en) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Nitto Denko Corp | Heat-foamable re-releasable acrylic adhesive tape or sheet |
| JP2012082433A (en) * | 2011-12-02 | 2012-04-26 | Nitto Denko Corp | Heat-foamable re-releasable acrylic adhesive tape or sheet |
| EP2543710A1 (en) * | 2011-07-08 | 2013-01-09 | Nitto Denko Corporation | Method and apparatus for producing pressure-sensitive adhesive sheet |
| US8808811B2 (en) | 2009-04-15 | 2014-08-19 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for a nanovoided article |
| US8850715B2 (en) * | 2006-09-07 | 2014-10-07 | Eisenmann Ag | Process and installation for drying articles |
| US9464179B2 (en) | 2009-04-15 | 2016-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for a nanovoided article |
| KR20180078405A (en) * | 2016-12-29 | 2018-07-10 | 주식회사 영우 | Pressure sensitive adhesive tape comprising an ultraviolet curable adhesive composition having a low hardening shrinkage and a method for producing the same |
| KR20180078404A (en) * | 2016-12-29 | 2018-07-10 | 주식회사 영우 | A method for manufacturing a pressure sensitive adhesive tape for controlling heat of UV curing reaction and a pressure sensitive adhesive tape |
| JP2020002298A (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Method for manufacturing cured product |
| JP2020046650A (en) * | 2019-04-15 | 2020-03-26 | デクセリアルズ株式会社 | Method of manufacturing image display device |
| JP2020046557A (en) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | デクセリアルズ株式会社 | Method of manufacturing image display device |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06504809A (en) * | 1991-02-28 | 1994-06-02 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | Multistage irradiation for the production of acrylic-based compositions and compositions produced thereby |
| JP2000086984A (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-28 | Nichiban Co Ltd | Production of tacky sheet |
| JP2001047521A (en) * | 1999-08-12 | 2001-02-20 | Teijin Seiki Co Ltd | Method and apparatus for optically three dimensional modeling |
| JP2002020706A (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-23 | Nitto Denko Corp | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet and apparatus therefor |
| JP2002138258A (en) * | 2000-11-01 | 2002-05-14 | Nitto Denko Corp | Process for producing pressure-sensitive adhesive sheet and its equipment |
| JP2002146313A (en) * | 2000-11-08 | 2002-05-22 | Nitto Denko Corp | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet |
| JP2002322434A (en) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Nitto Denko Corp | Adhesive sheet and method for producing the same |
| JP2002322435A (en) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Nitto Denko Corp | Adhesive sheet and method for producing the same |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2918960B2 (en) * | 1990-02-28 | 1999-07-12 | ランテクニカルサービス株式会社 | Method and apparatus for curing ultraviolet-curable material |
| JPH03285975A (en) * | 1990-03-31 | 1991-12-17 | Sekisui Chem Co Ltd | Photopolymerization chamber of photosensitive composition |
| JP2806599B2 (en) * | 1990-04-20 | 1998-09-30 | 積水化学工業株式会社 | Method for producing adhesive film or sheet |
| JPH0776329B2 (en) * | 1990-06-08 | 1995-08-16 | 積水化学工業株式会社 | Adhesive tape or sheet manufacturing method |
| JPH0775668B2 (en) * | 1990-07-27 | 1995-08-16 | 積水化学工業株式会社 | Light irradiation device |
| JPH05239417A (en) * | 1992-02-26 | 1993-09-17 | Sekisui Chem Co Ltd | Apparatus for producing pressure-sensitive adhesive film or sheet |
| JPH10259361A (en) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Sekisui Chem Co Ltd | Production of self-adhesive film or sheet |
-
2001
- 2001-07-25 JP JP2001224177A patent/JP4646457B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06504809A (en) * | 1991-02-28 | 1994-06-02 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | Multistage irradiation for the production of acrylic-based compositions and compositions produced thereby |
| JP2000086984A (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-28 | Nichiban Co Ltd | Production of tacky sheet |
| JP2001047521A (en) * | 1999-08-12 | 2001-02-20 | Teijin Seiki Co Ltd | Method and apparatus for optically three dimensional modeling |
| JP2002020706A (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-23 | Nitto Denko Corp | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet and apparatus therefor |
| JP2002138258A (en) * | 2000-11-01 | 2002-05-14 | Nitto Denko Corp | Process for producing pressure-sensitive adhesive sheet and its equipment |
| JP2002146313A (en) * | 2000-11-08 | 2002-05-22 | Nitto Denko Corp | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet |
| JP2002322434A (en) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Nitto Denko Corp | Adhesive sheet and method for producing the same |
| JP2002322435A (en) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Nitto Denko Corp | Adhesive sheet and method for producing the same |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8850715B2 (en) * | 2006-09-07 | 2014-10-07 | Eisenmann Ag | Process and installation for drying articles |
| JP2008120903A (en) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Nitto Denko Corp | Heat-foamable re-releasable acrylic adhesive tape or sheet |
| US8808811B2 (en) | 2009-04-15 | 2014-08-19 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for a nanovoided article |
| JP2015063689A (en) * | 2009-04-15 | 2015-04-09 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Process and apparatus for nanovoided article |
| US9464179B2 (en) | 2009-04-15 | 2016-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for a nanovoided article |
| KR101679895B1 (en) * | 2009-04-15 | 2016-11-25 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | Process and apparatus for a nanovoided article |
| EP2543710A1 (en) * | 2011-07-08 | 2013-01-09 | Nitto Denko Corporation | Method and apparatus for producing pressure-sensitive adhesive sheet |
| JP2013018836A (en) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Nitto Denko Corp | Method and apparatus for producing pressure sensitive adhesive sheet |
| JP2012082433A (en) * | 2011-12-02 | 2012-04-26 | Nitto Denko Corp | Heat-foamable re-releasable acrylic adhesive tape or sheet |
| KR20180078404A (en) * | 2016-12-29 | 2018-07-10 | 주식회사 영우 | A method for manufacturing a pressure sensitive adhesive tape for controlling heat of UV curing reaction and a pressure sensitive adhesive tape |
| KR20180078405A (en) * | 2016-12-29 | 2018-07-10 | 주식회사 영우 | Pressure sensitive adhesive tape comprising an ultraviolet curable adhesive composition having a low hardening shrinkage and a method for producing the same |
| KR101907910B1 (en) * | 2016-12-29 | 2018-10-17 | 주식회사 영우 | Pressure sensitive adhesive tape comprising an ultraviolet curable adhesive composition having a low hardening shrinkage and a method for producing the same |
| KR101918556B1 (en) * | 2016-12-29 | 2018-11-16 | 주식회사 영우 | A method for manufacturing a pressure sensitive adhesive tape for controlling heat of UV curing reaction and a pressure sensitive adhesive tape |
| JP2020002298A (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Method for manufacturing cured product |
| JP7056413B2 (en) | 2018-06-29 | 2022-04-19 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Manufacturing method of cured product |
| JP2020046557A (en) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | デクセリアルズ株式会社 | Method of manufacturing image display device |
| CN110930864A (en) * | 2018-09-19 | 2020-03-27 | 迪睿合株式会社 | Method for manufacturing image display device |
| CN110930864B (en) * | 2018-09-19 | 2023-05-05 | 迪睿合株式会社 | Method for manufacturing image display device |
| JP2020046650A (en) * | 2019-04-15 | 2020-03-26 | デクセリアルズ株式会社 | Method of manufacturing image display device |
| JP7160745B2 (en) | 2019-04-15 | 2022-10-25 | デクセリアルズ株式会社 | Method for manufacturing image display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4646457B2 (en) | 2011-03-09 |
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