JP2003033932A - Solution film-forming method - Google Patents

Solution film-forming method

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JP2003033932A
JP2003033932A JP2001224984A JP2001224984A JP2003033932A JP 2003033932 A JP2003033932 A JP 2003033932A JP 2001224984 A JP2001224984 A JP 2001224984A JP 2001224984 A JP2001224984 A JP 2001224984A JP 2003033932 A JP2003033932 A JP 2003033932A
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Japan
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film
solution
support
organic polymer
forming method
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Application number
JP2001224984A
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Japanese (ja)
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Goro Furumoto
五郎 古本
Kohei Kita
孝平 北
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Asahi Kasei Corp
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Asahi Kasei Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film-forming method which optimizes a film surface shape in a solution film-forming, and obtains the film or a sheet-shaped molding efficiently and at high productivity. SOLUTION: In the film-forming method for forming the film or the sheet- shaped molding by casting an organic macromolecular solution on a supporting body and by removing a solvent, the film is formed by controlling a shape of the supporting body face of the film by making the supporting body have controlled wettability and surface roughness on which the organic macromolecular solution is to be cast.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、芳香族ポリアミ
ド、芳香族ポリイミドなどの有機高分子の溶液製膜方法
に関する。さらに詳しくは、磁気テープのベースフィル
ム等として用いられる、薄手で、表面形状が制御された
フィルムまたはシートの効率的な溶液製膜方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solution casting method for an organic polymer such as aromatic polyamide or aromatic polyimide. More specifically, the present invention relates to an efficient solution casting method for a thin film or sheet whose surface shape is controlled, which is used as a base film of a magnetic tape.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気テープのような記録メディアは小型
化が進む一方、記録時間の長時間化の要請により、薄膜
化が要望されている。また、記録時間の長時間化に対応
するための、蒸着タイプ磁性体等の極薄磁性層における
電磁変換特性の維持の要求からは、基材フィルムには高
度に制御された表面平滑性が求められるようになった。
一方、磁気記録装置等の中でテープが安定に滑りよく走
行するために、あるいは、基材フィルムの製造における
ライン中で安定に滑りよく走行し、平滑な巻形態を得る
ために、基材フィルムの滑り性が不可欠である。
2. Description of the Related Art While a recording medium such as a magnetic tape has been miniaturized, a thin film has been demanded due to a demand for a longer recording time. In addition, in order to support longer recording times, the base film is required to have highly controlled surface smoothness in order to maintain the electromagnetic conversion characteristics of the ultra-thin magnetic layer such as the vapor deposition type magnetic material. Came to be.
On the other hand, in order for the tape to run stably and smoothly in a magnetic recording device, or to run smoothly and smoothly in the line for producing a base film, a base film is obtained. The slipperiness of is essential.

【0003】そのため、一般にはシリカ、炭酸カルシウ
ムなどの無機粒子を基材フィルム原料ポリマ−中に添加
するが、極めて平滑な磁性層面と、良好な滑り性を確保
するための適当な凹凸を付与した裏面とを有する基材フ
ィルムを製造するために、基材を2層膜とし、磁性層と
支持層とを異なる添加粒子によってそれぞれの表面形態
を形成するなどの高度な技術が試行されている。しかし
ながら、2層膜構造とするためには各層毎に原液を調製
し、別々のラインで送液し、さらにそれらを厚さ方向に
積み重ねて押し出すことが必要であることから製造装置
が極めて複雑になり、非効率的であり、もっと簡潔に効
率よく製造できる方法が望まれてきた。
Therefore, generally, inorganic particles such as silica and calcium carbonate are added to the base film raw material polymer, but an extremely smooth magnetic layer surface and appropriate irregularities for ensuring good slipperiness are provided. In order to produce a base film having a back surface, a high-level technique has been tried in which the base material is a two-layer film, and the magnetic layer and the support layer are formed with different surface morphologies by different additive particles. However, in order to have a two-layer film structure, it is necessary to prepare a stock solution for each layer, send the solution on separate lines, and stack and extrude them in the thickness direction, which makes the manufacturing apparatus extremely complicated. Therefore, there has been a demand for a method that is inefficient and can be manufactured more simply and efficiently.

【0004】加えて、磁気記録媒体用基材フィルムには
従来ポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられて
きたが、磁気記録媒体用基材フィルムをより薄くするす
るために、高い剛性を有する芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドなどの素材が検討されている。しかし
ながら、高い剛性を有する芳香族ポリアミドや芳香族ポ
リイ ミドのフィルムは溶液製膜でしか製造できず、高
度に制御された表面の薄膜を、長時間安定して製造する
溶液製膜方法が求められている。
In addition, a polyethylene terephthalate film has been conventionally used as a base film for a magnetic recording medium, but in order to make the base film for a magnetic recording medium thinner, an aromatic polyamide or aromatic having a high rigidity is used. Materials such as group polyimide are being studied. However, a film of aromatic polyamide or aromatic polyimide having high rigidity can be produced only by solution casting, and a solution casting method for stably producing a highly controlled surface thin film for a long time is required. ing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決して、有機高分子溶液からフィルムあるいはシ
ート状成形体を製膜する方法において、従来の製膜方法
では成し得なかった簡便さで、得られるフィルムあるい
はシート状成形体の一方の面は平滑で良好な磁気特性を
与え、もう片方の面は凹凸形状を最適化し良好な走行性
を与える表面性を実現する製膜方法を提供することを目
的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems and is a method for forming a film or sheet-like molded article from an organic polymer solution, which cannot be achieved by a conventional film forming method. With a simple and easy method, one surface of the obtained film or sheet-shaped molded product is smooth and gives good magnetic characteristics, and the other surface has a surface property that optimizes the uneven shape and gives good running performance. The purpose is to provide a method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】製膜方法においては、溶
液製膜であれ、溶融製膜であれ、支持体上に液体状の有
機高分子をキャストして製膜する場合、得られるフィル
ムの片面は支持体表面の形状に多大の影響を受ける。本
発明の溶液製膜方法は、支持体の表面状態を転写してフ
ィルムの表面形状を制御するためには、液体状の高分子
と支持体の濡れが安定して良好であることが必要で、金
属製の支持体と高分子との濡れ性を制御する必要がある
ことを見出したことに基くものである。
[Means for Solving the Problems] In the film forming method, whether a solution film formation or a melt film formation, when a liquid organic polymer is cast on a support to form a film, the film obtained is One side is greatly affected by the shape of the support surface. In order to control the surface shape of the film by transferring the surface state of the support, the solution film-forming method of the present invention requires stable and good wetting of the liquid polymer and the support. It is based on the finding that it is necessary to control the wettability between a metal support and a polymer.

【0007】すなわち、本発明は、[1]有機高分子の
溶液を支持体上にキャストし、該溶液中の溶媒を除去し
てフィルムまたはシート状成形体を得る製膜方法におい
て、濡れ指数が50dyne/cm以上、表面粗さ(R
a)が、0<Ra≦0.1μmであることを特徴とする
金属製支持体表面に有機高分子の溶液をキャストするこ
とを特徴とする製膜方法、[2]有機高分子の溶液をキ
ャストする金属製支持体表面に、下地の金属の酸化皮膜
を形成した金属製支持体を用いることを特徴とする
[1]に記載の製膜方法、[3]金属製支持体が、酸化
被膜中に微小粒子を含有し、該酸化被膜の表面の20%
以上が酸化被膜から露出した微小粒子によって占められ
る金属製支持体であることを特徴とする[2]に記載の
製膜方法、[4]金属製支持体の材質がステンレス、炭
素鋼およびタンタルのいずれかであることを特徴とする
[1]、[2]又は[3]に記載の製膜方法、[5]有
機高分子が芳香族ポリアミド及び芳香族ポリイミドの群
から選ばれる少なくとも1種である[1]、[2]、
[3]又は[4]に記載の製膜方法、である。
That is, the present invention provides [1] a method of casting a solution of an organic polymer on a support and removing the solvent in the solution to obtain a film or sheet-like molded article, wherein the wetting index is 50 dyne / cm or more, surface roughness (R
a) is a film forming method characterized by casting a solution of an organic polymer on the surface of a metal support, wherein 0 <Ra ≦ 0.1 μm, [2] a solution of an organic polymer A film-forming method according to [1], characterized in that a metal support having an underlying metal oxide film formed on the surface of the metal support to be cast is used. [3] The metal support is an oxide film 20% of the surface of the oxide film containing fine particles
The above is the metal support occupied by the fine particles exposed from the oxide film, [4] the film formation method according to [2], and [4] the metal support is made of stainless steel, carbon steel or tantalum. [1], [2] or [3], wherein the organic polymer is at least one selected from the group consisting of aromatic polyamides and aromatic polyimides. There are [1], [2],
The film forming method according to [3] or [4].

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明に用いられる有機高分子
は、1種以上の適当な有機あるいは無機の溶媒に溶解
し、その溶液を製膜に供することができるものであれば
特に制限はない。このような有機高分子の例としては、
芳香族ポリアミドなどのポリアミド樹脂、芳香族ポリイ
ミド、セルロース系高分子、ポリアクリル酸樹脂、 ポ
リメタクリル酸樹脂、ポリカーボネート、ポリウレタ
ン、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアクリロニトリ
ル、ポリエステルアミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂などが挙げられ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The organic polymer used in the present invention is not particularly limited as long as it can be dissolved in one or more appropriate organic or inorganic solvents and the solution can be used for film formation. . Examples of such organic polymers include:
Polyamide resin such as aromatic polyamide, aromatic polyimide, cellulose polymer, polyacrylic acid resin, polymethacrylic acid resin, polycarbonate, polyurethane, polyvinyl alcohol resin, polyacrylonitrile, polyesteramide, polyamideimide, polyester resin, silicone resin , Fluororesins and the like.

【0009】本発明の溶液製膜方法は、300℃を越え
るような高融点を有する、あるいは、融点よりも低い熱
分解温度を有する有機高分子に対して好ましく用いられ
る。特に、高い剛性や強度を有し、磁気テープ基材等の
用途で薄手フィルムとしての要求が強い芳香族ポリアミ
ド、芳香族ポリイミドが好ましく採用される。本発明で
言う芳香族ポリアミドとしては、次の構成単位からなる
群より選択された単位より実質的に構成される。 −NH−Ar1−NH− (1) −CO−Ar2−CO− (2) −NH−Ar3−CO− (3) ここでAr1、Ar2、Ar3は少なくとも1個の芳香環
を含む2価の芳香族残基である。これらは同一でも異な
っていてもよく、これらの代表例としては次式のものが
挙げられる。
The solution film-forming method of the present invention is preferably used for an organic polymer having a high melting point exceeding 300 ° C. or having a thermal decomposition temperature lower than the melting point. In particular, aromatic polyamide and aromatic polyimide, which have high rigidity and strength and are strongly required as thin films for applications such as magnetic tape substrates, are preferably used. The aromatic polyamide referred to in the present invention is substantially composed of a unit selected from the group consisting of the following structural units. —NH—Ar 1 —NH— (1) —CO—Ar 2 —CO— (2) —NH—Ar 3 —CO— (3) where Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 are at least one aromatic ring. It is a divalent aromatic residue containing. These may be the same or different, and typical examples thereof include the following formulas.

【0010】[0010]

【化1】 [Chemical 1]

【0011】(式中、Xは−O−、−CH2−、−SO2
−、−S−、−CO−などを示す。)また、これらの芳
香環の環上の水素の一部が、ハロゲン基、ニトロ基、ア
ルキル基、アルコキシ基などで置換されていてもよい。
特に、全ての芳香環の80モル%以上がパラ位にて結合
されている芳香族ポリアミドは、高強度、高弾性率等の
好ましい特性を有しており、本発明に用いられる有機高
分子として好ましい。中でも、ポリパラフェニレンテレ
フタルアミド(以下、PPTAという。)は熱寸法変化
が小さく、剛性、強度の大きなフィルムあるいはシート
状成形体が得られるという点で最も好ましい。
(In the formula, X is --O--, --CH 2- , --SO 2
-, -S-, -CO-, etc. are shown. ) Further, a part of hydrogen atoms on these aromatic rings may be substituted with a halogen group, a nitro group, an alkyl group, an alkoxy group or the like.
In particular, an aromatic polyamide in which 80 mol% or more of all aromatic rings are bound in the para position has preferable properties such as high strength and high elastic modulus, and thus, as an organic polymer used in the present invention. preferable. Among them, polyparaphenylene terephthalamide (hereinafter referred to as PPTA) is the most preferable in that a film or sheet-shaped molded product having small thermal dimensional change and high rigidity and strength can be obtained.

【0012】かかる芳香族ポリアミドを得る方法には、
例えば低温溶液重合法、界面重合法、イソシアネートと
カルボン酸とを反応させる方法、脱水触媒を用い直接縮
重合させる方法などがあるが、低温溶液重合法が高重合
度のポリマーが得やすいため適している。すなわち、酸
クロリドとジアミンから、N−メチルピロリドン(以
下、NMPという。)、ジメチルアセトアミド(以下、
DMAc という。)、ジメチルホルムアミド(以下、
DMFという。)などの非プロトン性有機極性溶媒中で
重合する。
A method for obtaining such an aromatic polyamide includes
For example, there are a low temperature solution polymerization method, an interfacial polymerization method, a method of reacting an isocyanate with a carboxylic acid, and a method of directly polycondensing using a dehydration catalyst, but the low temperature solution polymerization method is suitable because a polymer having a high degree of polymerization is easily obtained. There is. That is, from acid chloride and diamine, N-methylpyrrolidone (hereinafter, referred to as NMP), dimethylacetamide (hereinafter, referred to as NMP).
It is called DMAc. ), Dimethylformamide (hereinafter,
It is called DMF. Polymerization in an aprotic organic polar solvent such as).

【0013】有機高分子溶液は、単量体として酸クロリ
ドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これ
を中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またはエチレン
オキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリ
エチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールア
ミンなどの有機の中和剤が使用される。
When an acid chloride and a diamine are used as monomers in the organic polymer solution, hydrogen chloride is produced as a by-product. When neutralizing this, an inorganic medium such as calcium hydroxide, calcium carbonate or lithium carbonate is used. A solvating agent or an organic neutralizing agent such as ethylene oxide, propylene oxide, ammonia, triethylamine, triethanolamine or diethanolamine is used.

【0014】これらの有機高分子溶液はそのまま製膜原
液として使用してもよく、あるいは有機高分子を一度単
離してから上記の非プロトン性有機極性溶媒や、硫酸等
の無機溶剤に再溶解して製膜原液を調製してもよい。ま
た、有機高分子の固有粘度(有機高分子0.5 gを硫
酸中で100mlの溶液として30℃で測定した値)
は、2から8の範囲であることが好ましい。有機高分子
溶液には溶解助剤として無機塩類、例えば塩化カルシウ
ム、塩化マグネシウム、塩化リチウム、硝酸リチウムな
どを添加する場合もある。有機高分子溶液中の有機高分
子濃度は2〜40wt%程度が好ましい。
These organic polymer solutions may be used as they are as a stock solution for film formation, or the organic polymer may be isolated once and then redissolved in the above aprotic organic polar solvent or inorganic solvent such as sulfuric acid. A film-forming stock solution may be prepared by Also, the intrinsic viscosity of the organic polymer (value measured at 30 ° C. with 0.5 g of the organic polymer as a 100 ml solution in sulfuric acid)
Is preferably in the range of 2 to 8. Inorganic salts such as calcium chloride, magnesium chloride, lithium chloride and lithium nitrate may be added to the organic polymer solution as a dissolution aid. The organic polymer concentration in the organic polymer solution is preferably about 2-40 wt%.

【0015】本発明に用いられる芳香族ポリイミドとし
ては、有機高分子の繰り返し単位の中に芳香環とイミド
基をそれぞれ1個以上含むものであり、下記化2または
化3に記載の一般式で表されるものである。
The aromatic polyimide used in the present invention is one having at least one aromatic ring and at least one imide group in the repeating unit of the organic polymer, and has the general formula shown in Chemical formula 2 or 3 below. It is what is represented.

【0016】[0016]

【化2】 [Chemical 2]

【0017】[0017]

【化3】 [Chemical 3]

【0018】ここで、Ar4及びAr6は、それぞれ少な
くとも1個の芳香環を含み、イミド環を形成する2個の
カルボニル基は芳香環上の隣接する炭素原子に結合して
いる。このAr4は、芳香族テトラカルボン酸またはそ
の無水物に由来する。代表例としては、次式のものがあ
る。
Here, Ar 4 and Ar 6 each include at least one aromatic ring, and two carbonyl groups forming an imide ring are bonded to adjacent carbon atoms on the aromatic ring. This Ar 4 is derived from an aromatic tetracarboxylic acid or its anhydride. The following formula is a typical example.

【0019】[0019]

【化4】 [Chemical 4]

【0020】(式中、Yは、−O−、−CO−、−CH
2−、−S−、−SO2−などを示す。) また、Ar6は無水トリカルボン酸、あるいはそのハラ
イドに由来する。代表例としては次式のものがある。
(Wherein Y is --O--, --CO--, --CH)
2 -, - S -, - SO 2 - shows the like. Further, Ar 6 is derived from tricarboxylic acid anhydride or its halide. The following formula is a typical example.

【0021】[0021]

【化5】 [Chemical 5]

【0022】Ar5、Ar7は、少なくとも1個の芳香環
を含み、芳香族ジアミン、芳香族イソシアネートに由来
する。Ar5またはAr7の代表例としては次のものがあ
る。
Ar 5 and Ar 7 contain at least one aromatic ring and are derived from aromatic diamines and aromatic isocyanates. The following are typical examples of Ar 5 or Ar 7 .

【0023】[0023]

【化6】 [Chemical 6]

【0024】(式中、Zは、−O−、−CH2−、−S
−、−SO2−、−CO−などを示す。) また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲン
基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基などで置換さ
れていても良い。 特に、Ar5、Ar7の80%以上が
パラ位に結合された芳香環である芳香族ポリイミドが、
高い機械物性を有するフィルムまたはシート状に成形で
きるという点で、本発明に用いられる有機高分子として
好ましい。
(In the formula, Z is --O--, --CH 2- , --S
-, - SO 2 -, - CO- shows the like. ) Further, a part of hydrogen atoms on these aromatic rings may be substituted with a halogen group, a nitro group, an alkyl group, an alkoxy group or the like. In particular, an aromatic polyimide in which 80% or more of Ar 5 and Ar 7 are aromatic rings bonded in the para position is
It is preferable as the organic polymer used in the present invention because it can be formed into a film or sheet having high mechanical properties.

【0025】かかる芳香族ポリイミドの溶液は次のよう
にして得られる。即ち、原料となるポリアミド酸は、N
MP、DMAc、DMFなどの非プロトン性有機極性溶
媒中で、テトラカルボン酸二水物と芳香族ジアミンを反
応させて調製することができる。それから芳香族ポリイ
ミドは、前記のポリアミド酸を含有する溶液を加熱した
り、ピリジンなどのイミド化剤を添加してポリイミドの
粉末を得、これを再度溶媒に溶解して調製できる。製膜
原液中の有機高分子濃度は5〜40wt%程度が好まし
い。
A solution of such an aromatic polyimide is obtained as follows. That is, the polyamic acid used as the raw material is N
It can be prepared by reacting a tetracarboxylic acid dihydrate with an aromatic diamine in an aprotic organic polar solvent such as MP, DMAc or DMF. Then, the aromatic polyimide can be prepared by heating the solution containing the polyamic acid or adding an imidizing agent such as pyridine to obtain a polyimide powder, which is dissolved again in a solvent. The concentration of the organic polymer in the stock solution for film formation is preferably about 5 to 40 wt%.

【0026】次に有機高分子溶液を調製する溶媒として
は、上記の有機高分子が溶解するものであれば特に制限
はなく、また、混合溶媒であっても溶解助剤などの無機
塩が含有されていても構わないが、溶液を調製した後、
外観上の変化あるいは有機高分子の析出のみられないも
のでなければならない。また、溶液とする手段には特に
制限はなく、公知の溶解手段の他上述のように溶媒中で
重合を実施して直接に有機高分子溶液を得る方法も含ま
れる。
Next, the solvent for preparing the organic polymer solution is not particularly limited as long as it can dissolve the above organic polymer, and even if it is a mixed solvent, it contains an inorganic salt such as a dissolution aid. However, after preparing the solution,
There should be no change in appearance or precipitation of organic polymers. The means for forming a solution is not particularly limited, and well-known dissolution means and a method for directly obtaining an organic polymer solution by polymerizing in a solvent as described above are also included.

【0027】また、安定に溶液状態を維持できるのであ
れば、該有機高分子溶液には可溶性の有機物あるいは無
機塩が溶解されていても良い。また、物性を損なわない
範囲で滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等が添加されて
いてもよく、また、有機あるいは無機の粒子などの不溶
性成分が分散されていても良い。有機高分子溶液は、乾
式法または湿式法にてフィルムあるいはシート状成形体
に製膜することができる。フィルムあるいはシート状成
形体にキャストする手段については従来公知の手段を採
用することができ、T−ダ イ、L−ダイなどを用いる
方法が実用的である。
In addition, a soluble organic substance or inorganic salt may be dissolved in the organic polymer solution as long as the solution state can be stably maintained. Further, a lubricant, an antioxidant and other additives may be added within a range that does not impair the physical properties, and insoluble components such as organic or inorganic particles may be dispersed. The organic polymer solution can be formed into a film or sheet-shaped molded product by a dry method or a wet method. As a means for casting into a film or sheet-shaped molded product, conventionally known means can be adopted, and a method using T-die, L-die or the like is practical.

【0028】本発明において有機高分子溶液をキャスト
する支持体は、その表面の濡れ性が制御されたものが用
いられる。本発明において用いられる支持体は、濡れ指
数が50dyne/cm以上の表面を有する金属製支持
体である。濡れ指数とは、親水性の程度を定量的に表す
尺度として用いるもので、JIS K6768に開示さ
れている方法が、本発明における金属製支持体表面の濡
れ特性を評価する方法として都合よく利用できる。
In the present invention, the support on which the organic polymer solution is cast is one whose surface wettability is controlled. The support used in the present invention is a metal support having a surface having a wetting index of 50 dyne / cm or more. The wettability index is used as a scale for quantitatively expressing the degree of hydrophilicity, and the method disclosed in JIS K6768 can be conveniently used as a method for evaluating the wettability of the surface of a metal support in the present invention. .

【0029】フィルムまたはシート状成形体の溶液製膜
において、求められるフィルムまたはシート状成形体表
面の形状を支持体からの転写によって安定的に実現する
ためには、キャストした有機高分子溶液のウェブと支持
体との親和性が大きな要因であり、この親和性を改善
し、密着力を大きくすることが肝要である。有機高分子
溶液のウェブと支持体との親和性の代用特性である支持
体表面の濡れ指数が、極めて重要な要素であり、50d
yne/cmより小さい領域では、有機高分子溶液のウ
ェブと支持体との親和性が低く、転写性が不安定で、得
られるフィルムまたはシート状成形体の表面性が不均一
になり好ましくない。
In solution casting of a film or sheet-shaped molded product, in order to stably realize the required shape of the surface of the film or sheet-shaped molded product by transfer from the support, a web of cast organic polymer solution is used. The affinity with the support is a major factor, and it is important to improve this affinity and increase the adhesion. The wetting index of the surface of the support, which is a substitute property of the affinity between the web of the organic polymer solution and the support, is a very important factor.
In a region smaller than yne / cm, the affinity of the web of the organic polymer solution with the support is low, the transferability is unstable, and the surface property of the obtained film or sheet-shaped molded product becomes uneven, which is not preferable.

【0030】安定した転写性を得、フィルムまたはシー
ト状成形体表面形状が均一にできるという点で、濡れ指
数が60dyne/cm以上あると好ましく、70dy
ne/cm以上あるとさらに好ましい。因みに、清浄に
された平滑なクロムメッキ、ニッケルメッキ、ステンレ
ススチ−ル等の表面は、一般に濡れ指数が34〜35d
yne/cmでしかない。上限は80dyne/cmで
ある。80dyne/cmを超える濡れ性は実現するの
が極めて難しい。
From the viewpoint that stable transferability can be obtained and the surface shape of the film or sheet-like molded article can be made uniform, the wetting index is preferably 60 dyne / cm or more, and 70 dy
It is more preferable that it is ne / cm or more. Incidentally, the surface of cleaned smooth chrome plating, nickel plating, stainless steel, etc. generally has a wetting index of 34 to 35d.
Only yne / cm. The upper limit is 80 dyne / cm. It is extremely difficult to realize wettability of more than 80 dyne / cm.

【0031】有機高分子溶液のウェブと支持体との親和
性を高めるという観点で、支持体の表面がその下地金属
の酸化被膜で覆われていることが好ましい。特に、ポ
リ、p−フェニレンテレフタルアミド(以後、PPTA
と略す。)等の難溶性の芳香族ポリアミドにおいては溶
媒として硫酸等を用いるため、親和性が高まり、高速で
製膜できるという効果が顕著になる。
From the viewpoint of enhancing the affinity between the web of the organic polymer solution and the support, the surface of the support is preferably covered with an oxide film of the underlying metal. In particular, poly, p-phenylene terephthalamide (hereinafter PPTA
Abbreviated. In the case of a sparingly soluble aromatic polyamide such as), since sulfuric acid or the like is used as a solvent, the affinity is enhanced and the effect of forming a film at high speed becomes remarkable.

【0032】支持体表面の濡れ性を高めるということ
は、表面自由エネルギーを大きくするということである
が、表面の粗さを適当な状態にすることが、支持体と高
分子溶液の密着性を高め安定した形状転写を達成すると
いう意味と、得られるフィルムまたはシート状成形体の
表面状態を制御するという意味の両方で重要である。支
持体の表面粗さは、Raで、0<Ra≦0.1μmの範
囲が適当である。表面が鏡面のように滑らかで、Raが
0であると、得られたフィルムの滑り性が悪く、ライン
を安定して走行しなかったり、巻形状が悪くなったりす
る。一方、Raが0.1μm以下であれば、磁気記録媒
体用の薄手、高剛性フィルムに求められるフィルム表面
の平滑性も満足し、かつ得られたフィルムの滑り性も良
く、ラインを安定して走行できる。0.001≦Ra≦
0.07μmの範囲が好ましく、更に好ましくは0.0
03≦Ra≦0.05μmである。
Increasing the wettability of the surface of the support means increasing the surface free energy, but adjusting the surface roughness to an appropriate level improves the adhesion between the support and the polymer solution. It is important both in terms of achieving highly stable shape transfer and controlling the surface condition of the obtained film or sheet-shaped molded product. The surface roughness Ra of the support is preferably in the range of 0 <Ra ≦ 0.1 μm. When the surface is smooth like a mirror surface and Ra is 0, the slipperiness of the obtained film is poor, the line cannot be stably run, and the winding shape is poor. On the other hand, when Ra is 0.1 μm or less, the smoothness of the film surface required for a thin and high-rigidity film for a magnetic recording medium is satisfied, and the obtained film has good slipperiness to stabilize the line. Can run. 0.001 ≦ Ra ≦
The range of 0.07 μm is preferable, and 0.0 is more preferable.
03 ≦ Ra ≦ 0.05 μm.

【0033】該支持体の表面の凹凸に関して、さらに詳
細には、1mm2 当たり5nmを超え100nm以下の
突起の個数をN1 、100nmを超える突起の個数をN
2 としたとき、5×106 個/mm2≦N1 ≦ 5×10
7 個/mm2、でかつN2 ≦ 2.5×106 個/mm2
であることが得られるフィルムの表面の易滑性の安定化
を助ける。これらの制御された支持体の表面を得るには
例えば以下の方法を利用することができる。
With regard to the irregularities on the surface of the support, more specifically, the number of protrusions of more than 5 nm and less than 100 nm per 1 mm 2 is N 1 , and the number of protrusions of more than 100 nm is N 1 .
When 2 is set, 5 × 10 6 pieces / mm 2 ≦ N 1 ≦ 5 × 10
7 pieces / mm 2 , and N 2 ≦ 2.5 × 10 6 pieces / mm 2
It helps stabilize the slipperiness of the surface of the resulting film. For obtaining these controlled surfaces of the support, the following methods can be used, for example.

【0034】支持体の下地金属を圧延、溶接、研削、研
磨して、下地表面を形成する。研磨粒子を次第に小さく
し、最終的に#10000以上の極細粒を選択し、水分
の存在下に長時間研磨することで、適当な凹凸を形成す
ることが可能である。研磨用粒子としては、シリカ、ホ
ワイトアランダム、グリーンカーボランダム、ダイヤモ
ンド等の無機粒子が好ましく用いられる。極細粒の大き
さは10μm以下が好ましい。より好ましくは5μm以
下、更に好ましくは1μm以下のものが選択される。極
細粒の形状には特に制限はないが、均一な凹凸の形成
と、部分的な深い凹部形成のないことから球状が好まし
い。
The base metal of the support is rolled, welded, ground, and polished to form the base surface. It is possible to form appropriate irregularities by gradually reducing the size of the abrasive particles, finally selecting ultrafine particles of # 10000 or more, and polishing for a long time in the presence of water. As the polishing particles, inorganic particles such as silica, white alundum, green carborundum and diamond are preferably used. The size of the ultrafine particles is preferably 10 μm or less. It is more preferably 5 μm or less, and further preferably 1 μm or less. The shape of the ultrafine particles is not particularly limited, but a spherical shape is preferable because uniform unevenness is not formed and no deep deep recesses are formed.

【0035】下地金属が浸食される酸、アルカリ等の溶
剤で下地金属の表面をエッチングすることによっても凹
凸を形成することができる。浸食性の溶剤としては、硫
酸、塩酸、塩素酸ソーダ、次亜塩素酸ソーダ、苛性ソー
ダ等の水溶液を用いることができる。このとき、極細粒
の研磨粒子を溶剤中に分散せしめ、エッチングと研磨と
を同時に活用して支持体表面の凹凸を形成することもで
きる。 凹凸を制御して形成せしめた後、さらに支持体
表面を酸化処理することが好ましい。酸化処理には、例
えば、陽極酸化法により実施することができる。支持体
となる金属をアノ−ド(+極)、カ−ボン等の安定な電
極をカソード(−極)として電圧を印加するとカソ−ド
からは水素が発生するのに対して、アノ−ドからは酸素
の発生は見られず、金属表面に酸化被膜が形成される。
The unevenness can also be formed by etching the surface of the base metal with a solvent such as an acid or alkali that corrodes the base metal. As the corrosive solvent, an aqueous solution of sulfuric acid, hydrochloric acid, sodium chlorate, sodium hypochlorite, caustic soda, or the like can be used. At this time, it is also possible to disperse ultrafine abrasive particles in a solvent and simultaneously utilize etching and polishing to form irregularities on the surface of the support. After the unevenness is controlled and formed, it is preferable to further oxidize the surface of the support. The oxidation treatment can be performed by, for example, an anodic oxidation method. When a voltage is applied using a metal serving as a support as an anode (+ pole) and a stable electrode such as carbon as a cathode (-pole), hydrogen is generated from the cathode, whereas an anode is used. No oxygen is seen to be generated, and an oxide film is formed on the metal surface.

【0036】陽極酸化を行なう際の電解液としては一般
的に陽極酸化に用いることが可能な硫酸、リン酸、硝
酸、水酸化ナトリウム、水等を用いることが可能であ
り、問題の無い範囲で有機溶剤等を共存させることも可
能であるし、電解質である無機塩をあらかじめリン酸、
硝酸、水酸化ナトリウム、水等の溶剤に溶解しておくこ
とも可能である。陽極酸化は浴中で数ミリアンペアから
数百ミリアンペアの定電流密度で実施し、所定の電圧に
達したところで定電圧に切り替え、金属表面に酸化層が
形成され、電流が実質的に流れなくなるまで行われる。
定電圧に切り替えると電流密度は急激に降下する現象が
認められ、生成された被膜の緻密性が増加していること
が分かる。この光干渉性薄膜は、陽極酸化時の最終電圧
により被膜厚さが決まり、例えばタンタルでは1Vあた
りおよそ1.6nm程度の酸化被膜が形成されるが、こ
の値は金属の材質によって変化する。
As the electrolytic solution for the anodization, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, sodium hydroxide, water or the like, which can be generally used for the anodization, can be used within a range not causing a problem. It is also possible to coexist with an organic solvent or the like, and the inorganic salt which is the electrolyte is phosphoric acid in advance,
It is also possible to dissolve it in a solvent such as nitric acid, sodium hydroxide or water. Anodization is performed in the bath at a constant current density of several milliamperes to several hundred milliamperes, and when a predetermined voltage is reached, the voltage is switched to a constant voltage until an oxide layer is formed on the metal surface and the current substantially stops flowing. Be seen.
When the voltage is switched to a constant voltage, a phenomenon in which the current density drops sharply is recognized, and it can be seen that the denseness of the formed film increases. The film thickness of this optical interference thin film is determined by the final voltage during anodic oxidation. For example, tantalum forms an oxide film of about 1.6 nm per 1 V, but this value changes depending on the metal material.

【0037】最終的な陽極酸化被膜の膜厚は特に限定さ
れないが、膜厚が増大するにつれ、表面は次第に平滑に
なる方向で変化するため、効果的な濡れ性を示す表面と
するためには支持体金属のキャスト面に形成した凹凸形
状が保持され、最終的に本発明の目的とする有機高分子
溶液との濡れ性、親和性が達成される厚さに制御するの
が肝要である。膜厚は光干渉によって表面に現れる色で
判断することが可能で、一般的に100nm程度とする
と良い。
The thickness of the final anodic oxide coating is not particularly limited, but as the thickness increases, the surface gradually changes in a direction of smoothing, so that a surface exhibiting effective wettability is required. It is important to control the thickness so that the uneven shape formed on the cast surface of the support metal is retained and finally the wettability and affinity with the organic polymer solution targeted by the present invention are achieved. The film thickness can be determined by the color that appears on the surface due to optical interference, and it is generally good to set it to about 100 nm.

【0038】また、陽極酸化処理において、酸化被膜を
形成する過程において電解液中に微小粒子を存在させる
ことによって、微小粒子を酸化被膜中に取り込み、積極
的に酸化被膜表面に凹凸を形成させることも好ましい態
様である。微小粒子は電解液中で負に帯電するものであ
れば良い。例えばコロイダルシリカ、ヒュ−ムドシリカ
等のシリカ、酸化タンタル、酸化チタン、ゼオライト、
アルミナ、水酸化アルミニウム、珪酸アルミニウム、酸
化鉄、アルミニウム等を挙げることができ、中でもコロ
イダルシリカ、酸化チタン、アルミナが好ましく用いら
れる。
In the anodic oxidation treatment, fine particles are allowed to be present in the electrolytic solution in the process of forming the oxide film, so that the fine particles are taken into the oxide film and positively form irregularities on the surface of the oxide film. Is also a preferred embodiment. The fine particles may be those that are negatively charged in the electrolytic solution. For example, colloidal silica, silica such as fumed silica, tantalum oxide, titanium oxide, zeolite,
Alumina, aluminum hydroxide, aluminum silicate, iron oxide, aluminum and the like can be mentioned, and among them, colloidal silica, titanium oxide and alumina are preferably used.

【0039】陽極酸化を行なう際の電解液としてはこれ
らの微小粒子をリン酸、硝酸、水酸化ナトリウム、水等
の溶剤に分散したものが用いられる。電解液中に含まれ
る該微小粒子の濃度は特に限定されないが、一般的に良
好な濡れ性を得るためには0.001wt%以上で、好
ましくは0.01wt%以上、更に好ましくは0.1w
t%以上である。濃度の上限は特に制限がないが実質的
には70wt%程度である。
An electrolytic solution used for anodic oxidation is one in which these fine particles are dispersed in a solvent such as phosphoric acid, nitric acid, sodium hydroxide or water. The concentration of the fine particles contained in the electrolytic solution is not particularly limited, but is generally 0.001 wt% or more, preferably 0.01 wt% or more, and more preferably 0.1 w in order to obtain good wettability.
It is t% or more. The upper limit of the concentration is not particularly limited, but is substantially about 70 wt%.

【0040】微小粒子の平均粒子径は1nm以上1μm
以下が好ましく、より好ましくは5nm以上800nm
以下、さらに好ましくは20nm以上、500nm以下
である。1nmよりも小さいと酸化被膜に完全に取り込
まれてしまうか、または一部露出したものは酸化被膜と
の接触面積が著しく小さいため脱落が生じやすくなる。
逆に1μmよりも大きい場合には陽極酸化過程で沈降
し、分散及び陽極酸化中の泳動ができなくなるし、金属
製支持体として用いる場合に凹凸が大きくなりすぎるた
めに適さない。これらの微小粒子は粒径が単一にそろっ
たものを用いても複数の粒径分布があるものを用いても
平均粒子径が1nm〜1μmの範囲にあれば構わない。
The average particle size of the fine particles is 1 nm or more and 1 μm.
The following is preferable, and more preferably 5 nm or more and 800 nm
The thickness is more preferably 20 nm or more and 500 nm or less. If it is less than 1 nm, it will be completely taken into the oxide film, or if it is partially exposed, the contact area with the oxide film is extremely small and it will easily fall off.
On the other hand, when it is larger than 1 μm, it is not suitable because it precipitates in the anodizing process, the dispersion and migration during the anodizing cannot be performed, and when it is used as a metal support, irregularities become too large. These fine particles may have a uniform particle size or may have a plurality of particle size distributions as long as the average particle size is in the range of 1 nm to 1 μm.

【0041】微小粒子を酸化被膜中に取り込み、積極的
に酸化被膜表面に凹凸を形成させる場合、金属表面に形
成された酸化被膜の表面に対する露出した微小粒子の表
面は濡れ指数に大きく影響を及ぼし金属製成形体表面の
20%以上が酸化被膜から露出した微小粒子によって占
められることが必要であり、より好ましくは30%以
上、さらに好ましくは35%以上である。表面の20%
以上が微小粒子によって占められることで、濡れ指数5
0dyne/cm以上が達成される。酸化被膜に対する
露出した微小粒子の表面の割合は、酸化被膜表面をSE
M観察することによって容易に求められ、例えば1平方
マイクロメ−トル当たりに露出した粒子が占めている割
合を算出して行なう。
When the fine particles are incorporated into the oxide film to positively form irregularities on the surface of the oxide film, the surface of the exposed fine particles with respect to the surface of the oxide film formed on the metal surface greatly affects the wetting index. It is necessary that 20% or more of the surface of the metal molded body be occupied by the fine particles exposed from the oxide film, more preferably 30% or more, further preferably 35% or more. 20% of surface
Since the above is occupied by the fine particles, the wetting index is 5
0 dyne / cm or more is achieved. The ratio of the surface of the exposed fine particles to the oxide film depends on SE of the oxide film surface.
It is easily obtained by observing M, and for example, the ratio of exposed particles per 1 square micrometer is calculated.

【0042】本発明に用いられる金属製支持体の材質
は、入手のし易さ、表面の加工性、耐久性、耐食性等か
ら、SUS、炭素鋼等が好ましく用いられる。PPTA
に用いられる硫酸等の強腐食性の溶媒に対する耐食性の
高さからTaは特に好ましい材料である。有機高分子溶
液の湿式製膜法では、口金から金属ドラムやエンドレス
ベルト等の支持体上にキャストした有機高分子溶液は、
支持体上の有機高分子溶液のウェブから必要に応じて加
熱することにより溶媒の一部を蒸発させた後、凝固浴に
導かれ凝固する。
As the material of the metal support used in the present invention, SUS, carbon steel or the like is preferably used in view of availability, surface workability, durability, corrosion resistance and the like. PPTA
Ta is a particularly preferable material because of its high corrosion resistance against a strongly corrosive solvent such as sulfuric acid used for. In the wet film forming method of an organic polymer solution, an organic polymer solution cast from a die onto a support such as a metal drum or an endless belt is
A part of the solvent is evaporated by heating the web of the organic polymer solution on the support, if necessary, and then introduced into a coagulation bath to coagulate.

【0043】凝固工程を終えたフィルムまたはシート状
成形体は支持体から剥離され、水等の浴中で抽出媒によ
って脱塩、脱溶媒などが行なわれる工程に導入され、次
いで延伸、乾燥、熱処理などの処理が施され製品とな
る。本発明で得られるフィルムまたはシート状成形体の
厚みに特に制限はないが、先述のように従来の技術は特
に薄ものの成形において技術的に制限が大きかったの
で、本発明はフィルムあるいはシート状成形体の最終厚
みとして、1μm以上、10μm以下、好ましくは1μ
m以上、7μm以下、更に好ましくは1μm以上、5μ
m以下、特に好ましくは1μm以上、4μm以下のもの
を得るに当たって極めて好ましく採用される。
The film or sheet-shaped molded product that has undergone the coagulation process is peeled from the support and introduced into a process in which desalting and solvent removal are carried out with an extraction medium in a bath of water or the like, and then stretching, drying and heat treatment. The product is then processed. There is no particular limitation on the thickness of the film or sheet-shaped molded product obtained in the present invention, but as described above, the conventional technique has a large technical limitation in molding a thin product, and therefore the present invention is a film or sheet-shaped molded product. The final thickness of the body is 1 μm or more and 10 μm or less, preferably 1 μm
m or more and 7 μm or less, more preferably 1 μm or more and 5 μm
m or less, particularly preferably 1 μm or more and 4 μm or less, is very preferably adopted.

【0044】さらに本発明は、得られたフィルムあるい
はシート状成形体の表面性や平面性にも優れるため、ま
すます高容量化が要求され、またかかる要求にも厳しい
磁気記録媒体用ベース材や小型軽量化の進むフレキシブ
ルプリント基板やTABキャリアテープ、太陽電池基板
などの電気電子機器用絶縁性配線部材、コンデンサーあ
るいは感熱記録用転写材のベース材などの製造に好まし
く採用される。また、本発明はもちろん単層のフィルム
あるいはシート状成形体の成形でも用いられるが、積層
成形体の成形にも好ましく用いられる。積層時の各層を
構成する成分は同じ種類であっても異なるものであって
も良い。また、各層を構成する少なくとも一層に本発明
の目的を損なわない範囲で、粒子などの添加材を含有し
ていてもよく、これら添加材の種類、含有量、粒径など
は同じであっても異なっていても良い。
Further, according to the present invention, since the obtained film or sheet-shaped molded product is excellent in surface property and flatness, it is required to have a higher capacity, and a base material for a magnetic recording medium, which is also strict with such a requirement. It is preferably used in the production of flexible printed circuit boards, TAB carrier tapes, solar cell substrates and other insulating wiring members for electric and electronic devices, capacitors and base materials for heat-sensitive recording transfer materials, which are becoming smaller and lighter. Further, the present invention is of course used for molding a single-layer film or sheet-shaped molded product, but is also preferably used for molding a laminated molded product. The components forming each layer during lamination may be the same or different. In addition, at least one layer forming each layer may contain an additive such as particles within a range that does not impair the object of the present invention, and the type, content, and particle size of these additives may be the same. It can be different.

【0045】このようにして得られたフィルムあるいは
シート状成形体は磁気記録媒体、電気機器用絶縁性配
線部材、光記録媒体、ディスプレイ用基材等の光学材
料、コンデンサー、インクリボン基材、製版材料などの
印刷部材、など各種用途に好適に用いることができる。
なお、本発明の特性値の測定方法は次の通りである。 (1)支持体表面の濡れ指数 支持体の下地金属を、圧延、溶接、研削、研磨し、さら
に本発明の要件であるところの制御された表面を得るた
めの加工として、必要に応じて化学エッチング、陽極酸
化等の加工を施して支持体の制御された表面を形成す
る。最終的に得た支持体一部をカットする等して測定用
のサンプルとして採取し、JIS−K6768に規定さ
れる方法によって高分子溶液をキャストする面を測定
し、支持体表面の濡れ指数とする。なお、単位はdyn
e/cmである。
The film or sheet-shaped molded product thus obtained is a magnetic recording medium, an insulating wiring member for electric equipment, an optical recording medium, an optical material such as a display substrate, a condenser, an ink ribbon substrate, a plate-making plate. It can be suitably used for various applications such as printing members such as materials.
The method of measuring the characteristic value of the present invention is as follows. (1) Wetting Index of Support Surface As a process for rolling, welding, grinding, polishing the base metal of the support, and further obtaining a controlled surface which is a requirement of the present invention, chemical treatment is carried out if necessary. Processing such as etching and anodization is performed to form a controlled surface of the support. A part of the support finally obtained is taken as a sample for measurement by cutting, etc., and the surface on which the polymer solution is cast is measured by the method specified in JIS-K6768. To do. The unit is dyn
e / cm.

【0046】(2)支持体およびフィルム製品の表面粗
さ(Ra) 本発明における支持体およびフィルムの表面粗さは以下
のようにして求めることができる。 測定装置:小坂研究所製三次元微細形状測定器ET-30K 触針0.5μmRを用い、荷重0.05mN以下、カッ
トオフ0.025mmでX測定長100μm、Y送りピ
ッチ0.2μmで100μm×50μm(X軸XY軸)
の表面を倍率200000倍で10回測定し、この平均
値を用いた。 また、標準偏差を求めて均一性の指標と
した。 (3)フィルムの厚み フィルムの厚みは、1m長さのサンプルについて任意の
箇所20点において直径2mmの測定面を持つデジタル
マイクロメータ(アンリツ株式会社製K351C型)で
測定し、その平均値を求めた。 (4)厚み斑 デジタルマイクロメータ(アンリツ株式会社製K351
C型)を使用し、フィルムの幅方向の厚さを20点測定
し、その最大値と最小値の差を平均厚みで除した値に1
00を乗じて求めた値とした。
(2) Surface Roughness of Support and Film Product (Ra) The surface roughness of the support and film in the present invention can be determined as follows. Measuring device: Kosaka Laboratory's three-dimensional fine shape measuring instrument ET-30K Using a 0.5 μm stylus, a load of 0.05 mN or less, a cutoff of 0.025 mm, an X measuring length of 100 μm, and a Y feed pitch of 0.2 μm, 100 μm × 50 μm (X axis XY axis)
The surface of was measured 10 times at a magnification of 200,000 and the average value was used. Further, the standard deviation was obtained and used as an index of uniformity. (3) Film thickness The film thickness is measured with a digital micrometer (K351C type manufactured by Anritsu Co., Ltd.) having a measurement surface with a diameter of 2 mm at 20 arbitrary points on a 1 m-long sample, and the average value is obtained. It was (4) Thickness variation digital micrometer (K351 manufactured by Anritsu Corporation
C type), the thickness of the film in the width direction is measured at 20 points, and the difference between the maximum value and the minimum value is divided by the average thickness to be 1
The value was obtained by multiplying by 00.

【0047】(5)強度、伸度、弾性率の測定法 強度、伸度、ヤング率は、定速伸長型強伸度測定機(島
津社製DSS500型)を用い、測定長100mm、引
張り速度50mm/minで測定したものである。 (6)支持体表面の突起数 加工された支持体の小片を固定し、原子間力顕微鏡(At
omic Force Microscopy)( Topometorix社
製のTMX2010 Discoverer型)を用い
て、ノンコンタクトモードにて30μm×30μmの範
囲を走査速度2Hzにて観測し、10視野の測定値の平
均値で突起の数を求めた。 (7)支持体の酸化被膜表面に占める粒子表面の割合の
算出 陽極酸化した支持体の小片を切り出し、2nmの厚さで
白金パラジウムを蒸着し、日立社製S−4700型電子
顕微鏡を用い3万倍〜6万倍の倍率で表面観察を行っ
た。測定は視野を変えて5回行い1μm2当たりに占め
る露出した微小粒子の平均的な割合を算出した。
(5) Strength, Elongation and Elastic Modulus Measuring Method The strength, elongation and Young's modulus were measured using a constant velocity elongation type strong elongation measuring machine (DSS500 type manufactured by Shimadzu Corporation), measuring length 100 mm, pulling speed. It is measured at 50 mm / min. (6) A small piece of the support, on which the number of projections on the surface of the support is processed, is fixed, and an atomic force microscope (At
omic Force Microscopy) (TMX2010 Discoverer type manufactured by Topometrix) is used to observe the range of 30 μm × 30 μm in the non-contact mode at a scanning speed of 2 Hz, and the number of protrusions is calculated as the average value of the measured values of 10 fields of view. It was (7) Calculation of the ratio of the particle surface to the surface of the oxide film of the support A small piece of the anodized support is cut out, platinum palladium is vapor-deposited to a thickness of 2 nm, and a Hitachi S-4700 electron microscope is used to The surface was observed at a magnification of 10,000 to 60,000 times. The measurement was performed 5 times while changing the visual field, and the average ratio of the exposed fine particles per 1 μm 2 was calculated.

【0048】[0048]

【実施例】以下具体的に実施例に基づき本発明を説明す
るが、本発明はかかる記載に限定されるものではない。
有機高分子溶液としては、次のものを用いた。平均一次
粒径15nmのシリカ粒子をPPTAあたり0.05w
t%となるように超音波撹拌機により分散した濃度9
9.8%の硫酸に、重合度指標として固有粘度(PPT
A0.5 gを硫酸中で100mlの溶液として30℃
で測定した値)が4.2のPPTAを有機高分子濃度が
12wt%になるように溶解し、PPTA/濃硫酸溶液
を得た。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to such descriptions.
The following was used as the organic polymer solution. Silica particles having an average primary particle diameter of 15 nm are added to 0.05 w per PPTA.
Concentration 9 dispersed by ultrasonic stirrer to be t%
Intrinsic viscosity (PPT
A 0.5 g as a 100 ml solution in sulfuric acid at 30 ° C
PPTA having a value (measured by 1.) of 4.2 was dissolved so that the organic polymer concentration was 12 wt% to obtain a PPTA / concentrated sulfuric acid solution.

【0049】[0049]

【実施例1】PPTA/硫酸溶液の押し出し手段として
キャスト支持体から5mm上方に配されてギヤポンプに
つながった幅300mmのI(アイ)ダイ、キャスト支
持体として一旦鏡面状に磨かれた後、0.5Nの苛性ソ
ーダ水溶液中でエッチングを施したタンタルベルトと、
ベルト駆動のためのキャストロールとからなる支持体、
密着手段としてI(アイ)ダイ上流側にスリットクリア
ランス2mmの吸引ノズルを配し、上記の通りに調製し
たPPTA/濃硫酸溶液をホッパーからギヤポンプ、5
μmカットのフィルタ−を通じて、60℃に保たれたI
(アイ)ダイから80℃のタンタルベルト上に膜厚40
μmで流延した。製膜の間、ベルト速度に対応させてギ
アポンプの回転数をして流延するPPTA/濃硫酸溶液
の膜厚を40μmに保った。
[Example 1] A 300 mm wide I (eye) die placed 5 mm above the cast support and connected to a gear pump as a means for extruding a PPTA / sulfuric acid solution. A tantalum belt that has been etched in a 5N caustic soda solution,
A support consisting of a cast roll for driving the belt,
A suction nozzle with a slit clearance of 2 mm is arranged on the upstream side of the I (eye) die as a contact means, and the PPTA / concentrated sulfuric acid solution prepared as described above is fed from a hopper to a gear pump.
I kept at 60 ° C through a filter of μm cut
(Eye) Film thickness of 40 from tantalum belt at 80 ℃
It was cast at a thickness of μm. During film formation, the film thickness of the PPTA / concentrated sulfuric acid solution cast was kept at 40 μm by rotating the gear pump in response to the belt speed.

【0050】ベルト上で加熱と同時に吸湿処理して、P
PTA/濃硫酸溶液を液晶相から等方相に相転換した
後、0℃の25%硫酸中にて凝固させ自己保持性を得た
フィルムをベルトから連続的に剥離した。次いで、槽内
へフィルムを導入し、中和、水洗し、ロール周速度を変
えて長さ方向に1.05倍の延伸を施した後、クリップ
テンターにより1.05倍に横延伸し、次に定長状態を
保ちつつ150℃で熱風乾燥し、次いで450℃で緊張
熱処理、300℃でフリー熱処理した後、200mピッ
チで50mmのオシレーションを掛けながら、高張力・
高抑えロール圧下に樹脂製ボビンにロール状に捲き上げ
た。
Moisture absorption treatment is performed on the belt simultaneously with heating, and P
After the PTA / concentrated sulfuric acid solution was phase-converted from the liquid crystal phase to the isotropic phase, the self-supporting film solidified in 25% sulfuric acid at 0 ° C. was continuously peeled from the belt. Then, the film was introduced into the tank, neutralized, washed with water, stretched 1.05 times in the length direction by changing the roll peripheral speed, and then horizontally stretched 1.05 times by a clip tenter. While maintaining a constant length, hot-air drying at 150 ° C, tension heat treatment at 450 ° C, free heat treatment at 300 ° C, and high tension while applying 50mm oscillation at 200m pitch.
It was rolled up on a resin bobbin under high pressure roll pressure.

【0051】8m/minのベルト速度でキャストを開始
し、次いで最終フィルム厚みが一定となるよう吐出量と
キャストベルトの速度を調整しつつ徐々に速度を上げて
いったところ、45m/minのベルト速度でも極めて安定
してキャストすることができた。フィルムは製造ライン
を極めて安定に走行し、ロールの巻姿も良好であった。
得られたフィルムの支持体側表面のRaは3nm、空気
面側表面のRaは1nmで、測定点10ヶ所のばらつき
は殆ど無く、磁気テープベースフィルムとして好適なも
のであった。ヤング率は長手方向、幅方向それぞれ14
GPa、14GPa、伸度19%であった。また、表面
性においては全く問題が無く、厚み斑は4%で、実用上
極めて優れたものであった。結果を表1に示す。
When the casting was started at a belt speed of 8 m / min, and then the speed was gradually increased while adjusting the discharge rate and the speed of the cast belt so that the final film thickness became constant, a belt of 45 m / min was obtained. I was able to cast very stably even at speed. The film ran in the manufacturing line extremely stably, and the winding shape of the roll was good.
The Ra of the surface on the support side of the obtained film was 3 nm, the Ra of the surface on the air side was 1 nm, and there was almost no variation at 10 measurement points, and it was suitable as a magnetic tape base film. Young's modulus is 14 in both longitudinal and width directions
GPa, 14 GPa, and elongation 19%. Further, there was no problem in surface property, and the thickness unevenness was 4%, which was extremely excellent in practical use. The results are shown in Table 1.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】[0053]

【実施例2】2Nの苛性ソーダ水溶液中でエッチングを
施したタンタルベルトを支持体として用いた以外は実施
例1と同様の方法でPPTA/濃硫酸溶液から製膜を実
施した。40m/minのベルト速度でもキャストは極めて
安定して実施することができた。フィルムは製造ライン
を極めて安定に走行し、ロールの巻姿も良好であった。
得られたフィルムの支持体側表面のRaは4nm、空気
面側表面のRaは1nmで、測定点10ヶ所のばらつき
は殆ど無く、磁気テープベースフィルムとして好適なも
のであった。ヤング率は長手方向、幅方向それぞれ14
GPa、13GPa、伸度17%であった。厚み斑は4
%であった。結果を表2に示す。
Example 2 A film was formed from a PPTA / concentrated sulfuric acid solution in the same manner as in Example 1 except that a tantalum belt etched in a 2N caustic soda aqueous solution was used as a support. Casting could be carried out extremely stably even at a belt speed of 40 m / min. The film ran in the manufacturing line extremely stably, and the winding shape of the roll was good.
The Ra of the surface on the support side of the obtained film was 4 nm, the Ra of the surface on the air side was 1 nm, and there was almost no variation at 10 measurement points, and it was suitable as a magnetic tape base film. Young's modulus is 14 in both longitudinal and width directions
It was GPa, 13 GPa, and the elongation was 17%. Thickness variation is 4
%Met. The results are shown in Table 2.

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【実施例3】0.5Nの苛性ソーダ水溶液中でエッチン
グし、さらに電解液として1Nの硫酸を用い10mAの
一定電流下、電圧可変、25℃で初期酸化を行ない、電
圧が100Vになった時点で、電圧100Vの定電圧制
御に切り替え、電流が0mAに達するまで維持して陽極
酸化処理を施したタンタルベルトを支持体として用いた
以外は実施例1と同様の方法でPPTA/濃硫酸溶液か
ら製膜を実施した。陽極酸化処理後のベルト表面は明青
色を呈した。
Example 3 Etching in a 0.5N caustic soda aqueous solution, further using 1N sulfuric acid as an electrolytic solution, under a constant current of 10 mA, variable voltage, and performing initial oxidation at 25 ° C. When the voltage reached 100V A PPTA / concentrated sulfuric acid solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a tantalum belt subjected to anodization was used as a support while switching to a constant voltage control with a voltage of 100 V and maintaining the current until it reached 0 mA. The membrane was carried out. The surface of the belt after anodizing exhibited a light blue color.

【0056】50m/minのベルト速度でキャストは極め
て安定して実施することができた。フィルムは製造ライ
ンを極めて安定に走行し、ロールの巻姿も良好であっ
た。得られたフィルムの支持体側表面のRaは2nm、
空気面側表面のRaは1nmで、測定点10ヶ所のばら
つきは殆ど無く、磁気テープベースフィルムとして好適
なものであった。ヤング率は長手方向、幅方向それぞれ
14GPa、14GPa、伸度20%であった。厚み斑
は4%であった。結果を表3に示す。
Casting could be carried out very stably at a belt speed of 50 m / min. The film ran in the manufacturing line extremely stably, and the winding shape of the roll was good. Ra on the support side surface of the obtained film was 2 nm,
Ra on the air surface side was 1 nm, and there was almost no variation at 10 measurement points, which was suitable as a magnetic tape base film. Young's modulus was 14 GPa and 14 GPa in the longitudinal direction and the width direction, respectively, and the elongation was 20%. The thickness variation was 4%. The results are shown in Table 3.

【0057】[0057]

【表3】 [Table 3]

【0058】[0058]

【実施例4】キャスト面を鏡面に仕上げた後、実施例3
と同様の条件下に陽極酸化処理を施したタンタルベルト
を支持体として用いた以外は実施例1と同様の方法でP
PTA/濃硫酸溶液から製膜を実施した。陽極酸化処理
後のベルト表面は黄色を呈した。35m/minのベルト速
度でキャストは極めて安定して実施することができた。
製造ライン中巻取り手前のフリーロール上で時折縦皺の
発生が認められたが、固定皺になることなく走行し、ロ
ールの巻姿は良好であった。35m/minのベルト速度で
得られたフィルムの支持体側表面のRaは2nm、空気
面側表面のRaは1nmで、測定点10ヶ所のばらつき
は殆ど無く、磁気テープベースフィルムとして好適なも
のであった。ヤング率は長手方向、幅方向それぞれ14
GPa、14GPa、伸度19%であった。厚み斑は4
%であった。結果を表4に示す。
[Embodiment 4] After the cast surface is mirror-finished, Embodiment 3
P was prepared in the same manner as in Example 1 except that a tantalum belt anodized under the same conditions as in Example 1 was used as the support.
Film formation was carried out from a PTA / concentrated sulfuric acid solution. The surface of the belt after the anodizing treatment was yellow. Casting could be carried out extremely stably at a belt speed of 35 m / min.
Occurrence of vertical wrinkles was occasionally observed on the free roll just before the winding in the production line, but the roll was running without running fixed wrinkles, and the winding appearance of the roll was good. The film obtained at a belt speed of 35 m / min had a Ra on the support side surface of 2 nm and an Ra on the air side surface of 1 nm, and there was almost no variation at 10 measurement points, and it is suitable as a magnetic tape base film. It was Young's modulus is 14 in both longitudinal and width directions
GPa, 14 GPa, and elongation 19%. Thickness variation is 4
%Met. The results are shown in Table 4.

【0059】[0059]

【表4】 [Table 4]

【0060】[0060]

【実施例5】キャスト面を一旦鏡面仕上げを施したタン
タルベルトを、平均粒径が180nmのコロイダルシリ
カを10wt%含有する電解液を用い、実施例3と同様
の条件下に陽極酸化して支持体として用いた以外は実施
例1と同様の方法でPPTA/濃硫酸溶液から製膜を実
施した。タンタルベルトの表面は黄金色を呈した。タン
タルベルトに形成された酸化被膜の表面に対する露出し
たコロイダルシリカ粒子の割合は30%であった。
[Example 5] A tantalum belt whose cast surface is once mirror-finished is anodized under the same conditions as in Example 3 using an electrolytic solution containing 10 wt% of colloidal silica having an average particle diameter of 180 nm. A film was formed from a PPTA / concentrated sulfuric acid solution in the same manner as in Example 1 except that it was used as a body. The surface of the tantalum belt had a golden color. The ratio of the exposed colloidal silica particles to the surface of the oxide film formed on the tantalum belt was 30%.

【0061】40m/minのベルト速度でキャストは極め
て安定して実施することができた。フィルムは製造ライ
ンを極めて安定に走行し、ロールの巻姿も良好であっ
た。得られたフィルムの支持体側表面のRaは5nm、
空気面側表面のRaは1nmで、測定点10ヶ所のばら
つきは殆ど無く、磁気テープベースフィルムとして好適
なものであった。ヤング率は長手方向、幅方向それぞれ
14GPa、14GPa、伸度15%であった。厚み斑
は5%であった。結果を表5に示す。
Casting could be carried out very stably at a belt speed of 40 m / min. The film ran in the manufacturing line extremely stably, and the winding shape of the roll was good. Ra on the support side surface of the obtained film was 5 nm,
Ra on the air surface side was 1 nm, and there was almost no variation at 10 measurement points, which was suitable as a magnetic tape base film. Young's modulus was 14 GPa and 14 GPa in the longitudinal direction and the width direction, respectively, and the elongation was 15%. The thickness variation was 5%. The results are shown in Table 5.

【0062】[0062]

【表5】 [Table 5]

【0063】[0063]

【実施例6】キャスト面を#10000のダイヤモンド
砥粒で研磨仕上げし、さらに実施例3と同様の条件下に
陽極酸化を施したタンタルベルトを支持体として用いた
以外は実施例1と同様の方法でPPTA/濃硫酸溶液か
ら製膜を実施した。陽極酸化処理後のベルト表面は黄色
を呈した。40m/minのベルト速度でキャストは極めて
安定して実施することができた。フィルムは製造ライン
を極めて安定に走行し、ロールの巻姿も良好であった。
得られたフィルムの支持体側表面のRaは5nm、空気
面側表面のRaは1nmで、測定点10ヶ所のばらつき
は殆ど無く、磁気テープベースフィルムとして好適なも
のであった。ヤング率は長手方向、幅方向それぞれ14
GPa、14GPa、伸度19%であった。厚み斑は5
%であった。結果を表6に示す。
Example 6 The same as Example 1 except that the cast surface was polished and finished with # 10000 diamond abrasive grains, and an anodized tantalum belt was used as the support under the same conditions as in Example 3. The film was formed from PPTA / concentrated sulfuric acid solution by the method. The surface of the belt after the anodizing treatment was yellow. Casting could be carried out extremely stably at a belt speed of 40 m / min. The film ran in the manufacturing line extremely stably, and the winding shape of the roll was good.
The Ra of the surface on the support side of the obtained film was 5 nm, the Ra of the surface on the air side was 1 nm, and there was almost no variation at 10 measurement points, and it was suitable as a magnetic tape base film. Young's modulus is 14 in both longitudinal and width directions
GPa, 14 GPa, and elongation 19%. Thickness unevenness is 5
%Met. The results are shown in Table 6.

【0064】[0064]

【表6】 [Table 6]

【0065】[0065]

【比較例1】キャスト面を鏡面仕上げしたタンタルベル
トを支持体として用いた以外は実施例1と同様の方法で
PPTA/濃硫酸溶液から製膜を実施した。16m/min
では時折キャストが不安定になる現象が観察された。フ
ィルムは巻き取り機入口のフリーロール上できつい縦皺
を発生し、ロールに巻取った後は、この縦皺により巻姿
も散々であった。得られたフィルムの支持体側表面のR
aは平均0.2nmであったが部分的に1nm程度の部
分があるなど斑を生じた。空気面側表面のRaは1.2
nmで均一であった。結果を表7に示す。
Comparative Example 1 A film was formed from a PPTA / concentrated sulfuric acid solution in the same manner as in Example 1 except that a tantalum belt having a mirror-finished cast surface was used as a support. 16m / min
It was observed that the cast occasionally became unstable. The film produced a vertical wrinkle on the free roll at the entrance of the winder, and after being wound on the roll, the vertical wrinkle caused the winding appearance to be scattered. R on the support side surface of the obtained film
The average value of a was 0.2 nm, but spots such as a part of about 1 nm were generated. Ra on the air side is 1.2
It was uniform in nm. The results are shown in Table 7.

【0066】[0066]

【表7】 [Table 7]

【0067】[0067]

【比較例2】キャスト面を#3000のダイヤモンド砥
粒で研磨仕上げしたタンタルベルトを支持体として用い
た以外は実施例1と同様の方法でPPTA/濃硫酸溶液
から製膜を実施した。16m/minのベルト速度でキャス
トはほぼ安定して実施することができたが、支持体から
のフィルムの剥離性が悪く、満足なフィルムが得られな
かった。結果を表8に示す。
Comparative Example 2 A film was formed from a PPTA / concentrated sulfuric acid solution in the same manner as in Example 1 except that a tantalum belt having a cast surface polished and finished with # 3000 diamond abrasive grains was used as a support. Casting could be carried out almost stably at a belt speed of 16 m / min, but a satisfactory film could not be obtained due to poor peelability of the film from the support. The results are shown in Table 8.

【0068】[0068]

【表8】 [Table 8]

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明は上記の構成とすることにより、
これまで困難であった溶液製膜におけるフィルム両面
の表面形状制御という課題において、特に薄膜であって
も安定かつ効率的な生産が高い生産性で可能となる。ま
た、本発明は、得られるフィルムあるいはシート状成形
体の表面性が制御されているため、製造ライン中での走
行性が良く、ロール形状も良好なものとすることができ
る。
According to the present invention having the above constitution,
In the problem of controlling the surface shape on both sides of the film in the solution film formation, which has been difficult until now, stable and efficient production can be performed with high productivity, especially for a thin film. Further, in the present invention, since the surface property of the obtained film or sheet-shaped molded product is controlled, the running property in the production line is good and the roll shape can be good.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 7:00 B29L 7:00 Fターム(参考) 4F202 AA30 AA40 AC05 AG01 AJ02 AJ11 AR13 CA07 CB02 CK11 4F205 AA30 AA40 AC05 AG01 AJ02 AJ08 AJ11 AR13 GA07 GB02 GC02 GC07 GN28 5D112 AA02 BA01 BA09 Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B29L 7:00 B29L 7:00 F term (reference) 4F202 AA30 AA40 AC05 AG01 AJ02 AJ11 AR13 CA07 CB02 CK11 4F205 AA30 AA40 AC05 AG01 AJ02 AJ08 AJ11 AR13 GA07 GB02 GC02 GC07 GN28 5D112 AA02 BA01 BA09

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機高分子の溶液を支持体上にキャスト
し、該溶液中の溶媒を除去してフィルムまたはシート状
成形体を得る製膜方法において、濡れ指数が50dyn
e/cm以上、表面粗さ(Ra)が、0<Ra≦0.1
μmである金属製支持体表面に有機高分子の溶液をキャ
ストすることを特徴とする製膜方法。
1. A film-forming method in which a solution of an organic polymer is cast on a support and the solvent in the solution is removed to obtain a film or sheet-like molded article, wherein the wetting index is 50 dyn.
e / cm or more, surface roughness (Ra) is 0 <Ra ≦ 0.1
A method for forming a film, which comprises casting a solution of an organic polymer on the surface of a metal support having a thickness of μm.
【請求項2】 有機高分子の溶液をキャストする金属製
支持体表面に、下地の金属の酸化皮膜を形成した金属製
支持体を用いることを特徴とする請求項1に記載の製膜
方法。
2. The film forming method according to claim 1, wherein a metal support having an underlying metal oxide film formed on a surface of the metal support on which the organic polymer solution is cast is used.
【請求項3】 金属製支持体が、酸化被膜中に微小粒子
を含有し、該酸化被膜の表面の20%以上が酸化被膜か
ら露出した微小粒子によって占められる金属製支持体で
あることを特徴とする請求項2に記載の製膜方法。
3. The metal support, wherein the oxide support contains fine particles, and 20% or more of the surface of the oxide cover is occupied by the fine particles exposed from the oxide coating. The film forming method according to claim 2.
【請求項4】 金属製支持体の材質がステンレス、炭素
鋼およびタンタルのいずれかであることを特徴とする請
求項1、2又は3に記載の製膜方法
4. The film forming method according to claim 1, 2 or 3, wherein the material of the metal support is any one of stainless steel, carbon steel and tantalum.
【請求項5】 有機高分子が芳香族ポリアミド及び芳香
族ポリイミドの群から選ばれる少なくとも1種である請
求項1、2、3又は4に記載の製膜方法。
5. The film forming method according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the organic polymer is at least one selected from the group consisting of aromatic polyamide and aromatic polyimide.
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