JP2002361125A - 機能性材料放出装置および方法 - Google Patents
機能性材料放出装置および方法Info
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Abstract
精密な堆積を可能にする技術を提供する。 【解決手段】 機能性材料をフォーカスする装置及び
方法が提供される。この装置10は、機能性材料との熱
力学的安定混合状態にある流体の加圧ソース11を含
む。入口と出口とを有する射出装置13が加圧ソース1
1に入口にて接続されている。射出装置13は、機能性
材料のコリメートビームを生成するように構成されてお
り、流体は、射出装置13の出口の手前またはそれを越
えた位置においては気体状態にある。気体状態の機能性
材料はレシーバ14に向けて放出される。
Description
びエッチング技術に関しており、より具体的には、超臨
界状態又は液体状態にあって、かつ周囲条件においては
気体になるような圧縮性流体の中に分散及び/又は溶解
された機能性材料のコリメート及び/又はフォーカスさ
れたビームをレシーバ上に放出して高解像度パターン又
はイメージを生成する技術に関する。
の従来の高解像度堆積及びエッチング技術が、半導体プ
ロセスからイメージ媒体の製造に至るアプリケーション
において、高付加価値の多層製品の生成に使用されてい
る。この場合、堆積技術は、典型的には、流体中に溶解
及び/又は分散された機能性材料をレシーバ(一般的に
は基材などとも称される)の上に堆積してパターンを生
成する技術と定義される。エッチング技術は、典型的に
は、流体中に溶解及び/又は分散された材料をレシーバ
上に放出することによってレシーバの一部を選択的に変
えて、レシーバの選択的な部分を物理的に除去したり又
はレシーバを化学的に改変することを通じて、レシーバ
上に特定のパターンを生成する技術として定義される。
ーバ上に堆積する技術は既知である。例えば、2000
年9月12日付けで発行された米国特許第6,116,
718号にてPeeters et al.はマーキング装置で使用さ
れるプリントヘッドを開示しており、このプリントヘッ
ドでは推進剤気体がチャンネルを通過する。機能性材料
は推進剤の流れの中に制御可能な状態で導入され、非コ
ロイド状の固体又は半固体微粒子、あるいは液体をレシ
ーバに向けて十分な運動エネルギーと共に推進させるた
めの弾道エアゾールを形成し、マーキング材料をレシー
バに溶融させる。この技術には、機能性材料と推進剤の
流れとは2つの異なった存在であり、推進剤が運動エネ
ルギーを機能性材料に付与するために使用されるという
問題点が存在する。機能性材料がチャンネル内の推進剤
の流れに加えられると、非コロイド状弾道エアゾール
が、プリントヘッドを出る前に形成される。この非コロ
イド状弾道エアゾールは機能性材料と推進剤との混合物
であって、熱力学的に安定/準安定ではない。そのため
に、この機能性材料は推進剤の流れの中に定在しがちで
あり、このことが今度は機能性材料の凝集を引き起こ
し、ノズルの詰まりや機能性材料の堆積に対する制御性
の劣化などの問題を引き起こす可能性がある。
成する技術も既知である。例えば、1988年3月29
日付けで発行された米国特許第4,734,227号に
おいてR.D.Smithは、固体材料の超臨界流体溶液への溶
解を通じて固体の膜を堆積するか又は微粉末を生成し、
それからその溶液を急速に膨張させて、膜を作成するた
めに使用し得る微粉末又は長細い繊維の形態で機能性材
料の粒子を生成する方法を開示している。この方法に
は、超臨界流体溶液の自由噴射膨張が、高解像度パター
ンをレシーバ上に生成するためには使用することができ
ない非コリメート/デフォーカス噴霧を形成することに
なるという問題点がある。さらに、デフォーカス状態に
あることで、機能性材料の損失が引き起こされる。
速で正確且つ精密に堆積することを可能にする技術が必
要とされている。また、極小(ナノスケール)粒子の機
能性材料の堆積を可能にする技術も必要とされている。
また、レシーバの高速で正確且つ精密なエッチングを可
能にしてレシーバ上に極小(ナノスケール)形状を生成
することを可能にする技術も必要とされている。加え
て、レシーバサイズからの制約を受けないフォーマット
で溶質の制御された堆積を行うことができる自励式でセ
ルフクリーニング形の技術も必要とされている。また、
レシーバの高速で正確且つ精密なパターニングを可能に
して高解像度パターンをレシーバ上に生成するために使
用できる技術も必要とされている。また、レシーバの高
速で正確且つ精密なパターニングを可能にする、材料凝
集特性が低減された技術も必要とされている。また、レ
シーバの高速で正確且つ精密なパターニングを可能に
し、レシーバ上に堆積されるべき機能性材料とその機能
性材料のキャリアである濃縮流体とが熱力学的安定/準
安定混合状態にあるような技術も必要とされている。ま
た、レシーバの高速で正確且つ精密なパターニングを可
能にする、材料の堆積能力が改善された技術も必要とさ
れている。
への高速で正確且つ精密な堆積を可能にする技術を提供
することである。
料の堆積を可能にする技術を提供することである。
確且つ精密なパターニングを可能にしてレシーバ上に極
小形状を生成することを可能にする技術を提供すること
である。
の制約を受けないフォーマットで機能性材料の制御され
た堆積を行うことができる自励式でセルフクリーニング
形の技術を提供することである。
確且つ精密なパターニングを可能にして高解像度パター
ンをレシーバ上に生成するために使用できる技術を提供
することである。
速で正確且つ精密なパターニングを可能にする、機能性
材料凝集特性が低減された技術を提供することである。
定/準安定である機能性材料と濃縮流体との混合物を使
用して、レシーバの高速で正確且つ精密なパターニング
を可能にする技術を提供することである。
速で正確且つ精密なパターニングを可能にする、材料堆
積特性が改善された技術を提供することである。
ば、機能性材料をフォーカスする装置が、機能性材料と
の熱力学的安定混合物にある流体の加圧ソースを含む。
入口と出口とを有する射出装置が、前記加圧ソースに前
記入口にて接続されている。この射出装置は、機能性材
料のコリメートビームを生成するように構成されてい
て、前記流体は、前記射出装置の前記出口の手前または
それを越えた位置においては気体状態にある。この流体
は、圧縮液体および超臨界流体のうちの一つであること
ができる。前記熱力学的安定混合物は、前記流体中に分
散されている機能性材料および前記流体に溶解されてい
る機能性材料のうちの一つであることができる。
フォーカスする方法が、機能性材料との熱力学的安定混
合物状態にある流体の加圧ソースを提供するステップ
と、前記機能性材料をコリメートさせるステップと、を
包含する。
フォーカスする装置が、機能性材料との熱力学的安定混
合物状態にある流体の加圧ソースを含む。入口と出口と
を有する射出装置が、前記加圧ソースに前記入口にて接
続されている。この射出装置は可変面積部と一定面積部
とを含んでおり、機能性材料のコリメートビームが、前
記射出装置の前記入口から前記射出装置の前記出口を通
る前記混合物の動きとして生成され、前記流体は、前記
射出装置に対して相対的な位置においては気体状態にあ
る。この位置は、前記射出装置のある領域の内部に位置
することができ、あるいは、前記射出装置を超えた領域
に位置することができる。
フォーカスする方法が、圧縮液体および超臨界流体のう
ちの一つを第1の所定の熱力学的状態で提供するステッ
プと、機能性材料を前記圧縮液体および超臨界流体のう
ちの一つに加えるステップと、前記機能性材料と前記圧
縮液体および超臨界流体のうちの一つとを第2の熱力学
的状態に動かすステップとを包含し、それによって、前
記圧縮液体および超臨界流体のうちの一つを蒸発させて
前記機能性材料をコリメートビーム内に放出することを
可能にする。この方法では、前記圧縮液体および超臨界
流体のうちの一つと前記機能性材料とを第2の熱力学的
状態に動かすステップは、前記機能性材料をフォーカス
するステップを含むことができる。
説明においては、添付の図面を参照する。
部を形成するか又はこの装置とより直接的に協働する構
成要素に関している。特に図示または記述されていない
構成要素が当業者によく知られた様々な形態を取り得る
ことが、理解されるべきである。加えて、本発明の様々
なファセット、例えば機能性材料、溶剤、装置などに適
していると特定されている材料は例示的なものとして取
り扱われるべきものであり、本発明の範囲を何らかの方
法で限定することを意図したものではない。
成要素11、12、及び13を有しており、これらは、
選択された溶剤及び/又は分散剤材料を圧縮液体及び/
又は超臨界流体状態にし、その選択された圧縮液体及び
/又は超臨界流体状態における適切な機能性材料(一種
類)又は複数の機能性材料の組み合わせの溶液及び/又
は分散剤を作成し、その機能性材料をコリメート及び/
又はフォーカスビームとしてレシーバ14に制御された
方法で放出する。機能性材料は、堆積、エッチング、コ
ーティング、又はレシーバ上への機能性材料の配置を含
むその他のプロセスなどによってレシーバ上にあるパタ
ーンを生成するためにレシーバ上に放出される必要があ
る任意の材料であることができ、例えば、エレクトロル
ミネッセンス材料、イメージング染料、セラミックスナ
ノ粒子などである。
状態にされる選択された材料は、周囲気圧及び温度では
気体である。周囲条件は、このアプリケーションでは好
ましくは、−100℃から+100℃の範囲の温度及び
1×10-8から100atmの範囲の圧力として定義さ
れる。
されている。この放出システム10は、圧縮液体/超臨
界流体ソース11、調剤タンク12、及び射出装置13
を有しており、これらは放出経路16に沿って流体連通
状態で接続されている。放出システム10はまた、圧縮
液体/超臨界流体の流れを制御するために、放出経路1
6に沿って位置する単数又は複数のバルブ15を含むこ
ともできる。
る圧縮液体/超臨界流体は、機能性材料を溶解/可溶化
/分散させる任意の材料である。圧縮液体/超臨界流体
ソース11は、圧縮液体/超臨界流体キャリアを所定の
圧力、温度、及び流量条件にて超臨界流体又は圧縮液体
として放出する。臨界温度及び臨界圧力として定義され
る臨界点より上にある材料は、超臨界流体として知られ
ている。臨界温度及び臨界圧力は、典型的には、流体又
は材料が超臨界になって気体状であって且つ液体状であ
る性質を示すような熱力学的状態として定義される。十
分に高い温度にあるがその臨界点よりも低い圧力にある
材料は、圧縮液体として知られている。超臨界流体及び
/又は圧縮液体状態にあって周囲条件では気体として出
ていく材料は、対象となっている機能性材料を圧縮液体
又は超臨界状態で可溶化及び/又は分散させるというそ
のユニークな能力のために、アプリケーションを有して
いる。
物、アンモニア、キセノン、エタン、エチレン、プロパ
ン、プロピレン、ブタン、イソブタン、クロロトリフル
オロメタン、モノフルオロメタン、六フッ化硫黄、及び
それらの混合物を含むことができるが、これらに限定さ
れるものではない。例えば低コスト、広範囲の利用可能
性などのその性質のために、二酸化炭素が一般的には多
くのアプリケーションにて好まれている。
又は超臨界流体に、分散剤及び/又は表面活性剤と共に
又はそれなしに、温度、圧力、容積、及び濃度の所望の
調剤条件にて溶解及び/又は分散するために利用され
る。機能性材料と圧縮液体/超臨界流体との組み合わせ
は、典型的には混合物、調剤などと称される。
できる任意の適した材料から形成されることができる。
圧力で0.001気圧(1.013×102Pa)から
1000気圧(1.013×108Pa)及び−25℃
から1000℃までの動作範囲が、一般的に好ましい。
典型的には、好適な材料には高圧ステンレス鋼の様々な
グレードが含まれる。しかし、特定の堆積又はエッチン
グアプリケーションがそれほど極端な温度及び/又は圧
力条件を課さなければ、他の材料を使用することもでき
る。
度、及び容積)に関して正確に制御されるべきである。
機能性材料の溶解度/分散度は調剤タンク12内部の条
件に依存する。したがって、調剤タンク12内部の動作
条件の小さな変化が、機能性材料の溶解度/分散度に望
ましくない影響を及ぼす可能性がある。
機能性材料を圧縮液体/超臨界流体の中に可溶化/分散
させることができる任意の適切な表面活性剤及び/又は
分散剤材料を、機能性材料と圧縮液体/超臨界流体との
混合物の中に入れることができる。そのような材料には
パーフルオロポリエーテル、シロキサン合成物などのよ
うなフッ化ポリマーが含まれるが、これらに限定される
ものではない。
本発明の代替的な実施形態が描かれている。これらの実
施形態の各々において、個別の構成要素は、適切なよう
に放出経路16に沿って流体連通状態にある。
17が放出経路16に沿って位置している。この圧力制
御機構17は、特定のアプリケーションのために所望の
圧力を生成し且つ維持するために使用される。圧力制御
機構17は、図2に示すように、ポンプ18、バルブ
(単数又は複数)15、及び圧力調整器19aを含むこ
とができる。あるいは、圧力制御機構17は、図3に示
すように、ポンプ18、バルブ(単数又は複数)15、
及び多段圧力調整器19bを含むことができる。加え
て、圧力制御機構は、圧力制御装置などの代替的な組み
合わせを含むことができる。例えば、圧力制御機構17
は、付加的なバルブ(単数又は複数)15、流体/調剤
流を調整するアクチュエータ、システムの動作圧力を変
更する可変容積装置などを含むことができ、これらは放
出経路16に沿って適切に配置される。典型的には、ポ
ンプ18が放出経路16に沿って流体ソース11と調剤
タンク12との間に配置される。このポンプ18は、シ
ステムの動作圧力を増加させて且つ維持することなどが
できる高圧ポンプであることができる。圧力制御機構1
7はまた、放出システム10の圧力をモニタする任意の
数のモニタ装置、ゲージなどを含むこともできる。
度を生成し且つ維持するために、温度制御機構20が放
出経路16に沿って配置されている。この温度制御機構
20は、好ましくは調剤タンク12に位置している。温
度制御機構20は、ヒータ、電線を含むヒータ、ウォー
タジャケット、冷却コイル、温度制御装置の組み合わせ
などを含むことができる。この温度制御機構はまた、放
出システム10の温度をモニタする任意の数のモニタ装
置、ゲージなどを含むこともできる。
剤を放出させるように位置したノズル23を含む。この
射出装置13はまた、超臨界流体/圧縮液体と機能性材
料の混合物又は調剤の流れを調整するシャッタ22も含
むことができる。このシャッタ22は、所定の方法(す
なわち、所望の周波数でのオン/オフ又は部分的な開放
動作など)で調剤の流れを調整する。シャッタ22は、
手作業で、機械的に、空気圧的に、電気的に、又は電子
的に駆動されることができる。あるいは、射出装置13
は(図3に示すように)シャッタ22を含む必要はな
い。放出システム10における混合物は周囲条件に比べ
て高い圧力下にあるので、混合物は、より低い圧力領
域、周囲条件領域に向けて自然に移動する。この意味
で、放出システムは自励式ということができる。
中にレシーバの動きを制御するために使用される媒体運
搬機構50の上に配置されることができる。この媒体運
搬機構50は、ドラム、xyz並進器、他の既知の運搬
機構などであることができる。
2は適切な入口ポート52、54、56と出口ポート5
8とを有する加圧容器であることができる。入口ポート
52、54、56は、機能性材料のための入口52、及
び圧縮液体又は超臨界流体のための入口54として使用
されることができる。あるいは、入口ポート56は、調
剤タンク12に機能性材料を手作業で加えるために使用
されることができる。出口ポート58は、機能性材料と
圧縮/超臨界流体との混合物の出口として使用されるこ
とができる。
れるときには、ポンプ60が機能性材料放出経路62に
沿って機能性材料ソース64と調剤タンク12との間に
配置される。このポンプ60は、所望量の機能性材料を
入口ポート52を通じて調剤タンク12の中に汲み入れ
る。調剤タンク12はまた、少量の機能性材料又は機能
性材料と圧縮液体/超臨界流体との混合物を追加又は除
去するための付加的な入口/出口ポート59を含むこと
もできる。
2は、機能性材料と圧縮液体/超臨界流体との混合物を
生成するために使用される混合装置70を含むことがで
きる。これが典型的ではあるが、機能性材料のタイプ及
び圧縮液体/超臨界流体のタイプによっては、機能性材
料と圧縮/超臨界流体との混合物を生成するために混合
装置70が常に必要となるものではない。混合装置70
は、電源/制御ソース74に接続された混合要素72を
含み、確実に機能性材料が圧縮液体又は超臨界流体の中
に分散するか又はそれとの溶液を形成するようにするこ
とができる。
ると、調剤タンク12はまた、適切なゲージ機器を有す
る適当な温度制御機構20及び圧力制御機構17も含ん
で、上述のようにタンク内部の温度及び圧力条件を検出
してモニタすることができる。例えば、調剤タンク12
は、可動ピストン装置76などを含んで圧力を制御及び
維持することができる。調剤タンク12にはまた、タン
ク内部の温度を正確に制御するような装備を設けること
もできる。例えば、調剤タンク12は、温度を制御及び
維持するために、電線80、電気テープ、ウォータジャ
ケット82、他の加熱/冷却流体ジャケット、冷却コイ
ル84などを使用した電気加熱/冷却ゾーン78を含む
ことができる。温度制御機構20は、調剤タンクの内部
に位置してもよく、あるいは調剤タンクの外部に位置し
ても良い。加えて、温度制御機構20は、調剤タンク1
2の一部分に位置することも、調剤タンク中に位置する
ことも、あるいは調剤タンクの全領域に渡って位置する
こともできる。
た、適当な光ファイバ又はカメラセットを使用したマニ
ュアル観察又はデジタル観察用に、任意の数の適切な高
圧窓86を含むこともできる。これらの窓86は、典型
的には(可視、赤外、X線などの観察/検出/分析技術
を使用して)タンク内容物の観察/検出/分析を行うた
めに適切な周波数の放射を通過させるサファイア、水
晶、又はその他の材料から形成されている。
はそれ以上の高い圧力に耐えるために、適切な構造材料
からできている。典型的にはステンレス鋼が好適な構造
材料であるが、その他の高圧金属、金属合金、及び/又
は金属合成物を使用することができる。
能性材料と圧縮液体/超臨界流体との熱力学的安定/順
安定混合物が一つの調剤タンク12の内部に準備され、
それから一つ又はそれ以上の付加的な調剤タンク12a
に輸送されることができる。例えば、単一の大きな調剤
タンク12が、機能性材料と圧縮液体/超臨界流体との
混合物を制御された温度及び圧力条件にて維持する一つ
又はそれ以上の副高圧容器12aに適切に接続されるこ
とができる。各々の副高圧容器12aは、一つ又はそれ
以上の射出装置13に材料を供給する。タンク12及び
12aの一方又は双方に、温度制御機構20及び/又は
圧力制御機構17を設けることができる。射出装置13
は、混合物を単一のレシーバ14又は複数のレシーバ1
4に向けることができる。
適切な機能性材料の射出のためのポート、観察セル、及
びフーリエ変換赤外分光器、光分散、紫外又は可視分光
器などのような適切な分析機器を含み、放出システム1
0及びその放出システム10の構成要素のモニタリング
を可能にすることができる。加えて、放出システム10
は、放出システム10の制御のために使用される任意の
数の制御装置88、マイクロプロセッサ90などを含む
ことができる。
細に記載されている。射出アセンブリは、マニュアルで
又は自動的に駆動されて超臨界流体又は圧縮液体調剤の
流れを調整できるオン/オフバルブ21を含むことがで
きる。射出装置13はシャッタ装置22を含み、これも
またプログラマブルバルブであることができる。シャッ
タ装置22は、調剤流が射出装置13の利用可能断面の
全て又は一部を占めるように、流れを遮断したり又は流
したりすることができる。加えて、このシャッタ装置
は、調剤流を調節又は調整するために、部分的に開閉さ
れることができる。射出アセンブリはまた、ノズル23
も含む。このノズル23には、必要であれば、ビームの
コリメート化を援助するためにノズル加熱モジュール2
6及びノズルシールドガスモジュール27を設けること
もできる。射出装置13はまた流れ偏向器及び/又は捕
獲器モジュール24も含み、ビームがレシーバ25に到
達する前にビームのコリメート化を援助する。射出装置
13の構成要素22〜24、26、及び27は、調剤が
放出経路16に沿って連続するように、放出経路16に
対して位置されている。
熱モジュール26及びノズルシールドガスモジュール2
7の後、又はノズル加熱モジュール26とノズルシール
ドガスモジュール27との間に位置することもできる。
加えて、ノズルシールドガスモジュール27は、流れ偏
向器及び捕獲器モジュール24を有する場合のようなあ
るアプリケーションに対しては、必要とされないことも
ある。あるいは、射出装置13は、流れ偏向器及び捕獲
器モジュール24を含んでシャッタ装置22を含まない
ことができる。この場合には、流れ偏向器及び捕獲器モ
ジュール24は放出経路16に沿って移動可能に位置し
て、不連続な堆積及び/又はエッチングを可能にしなが
らも調剤の連続流が出て行くように調剤流を調整するた
めに使用される。
して、レシーバ14上への適切な不連続的及び/又は連
続的な機能性材料の堆積及び/又はエッチングを可能に
することができる。ノズルの並進運動は、マニュアル、
機械的、空気圧的、電気的、電子的、又はコンピュータ
化された制御機構を通じて達成されることができる。レ
シーバ14及び/又は媒体運搬機構50もまた、x、
y、z方向に並進運動して、レシーバ14上への適切な
機能性材料の堆積及び/又はエッチングを可能にするこ
とができる。あるいは、特定のアプリケーションによっ
ては、レシーバ14及びノズル23の両方がx、y、z
方向に並進運動することができる。
調剤流をレシーバ14に向けるように機能する。これは
また、機能性材料がレシーバ14に到達するときの最終
速度を減衰させるためにも使用される。したがって、ノ
ズルの形状(ジオメトリ)は、特定のアプリケーション
に依存して変わることができる。例えば、ノズルの形状
は、所定の形状(シリンダ28、正方形29、三角形3
0など)を有する一定面積、又は、収束及び/発散の角
度を変えることによってそれぞれ実現することができる
様々な形状を有する可変面積収束形状31、可変面積発
散形状38、又は可変面積収束・発散形状32であるこ
とができる。あるいは、一定面積と可変面積との組み合
わせ、例えばチューブ状に拡大していく収束・発散ノズ
ルなどを使用することができる。加えて、ノズル23
は、同軸形、非対称形、対称形、又はそれらの任意の組
み合わせ(一般的に参照番号33として示されている)
であることができる。ノズル23の形状28、29、3
0、31、32、33は、調剤流の調整を援助すること
ができる。本発明の好適な実施形態では、ノズル23
は、収束部又はモジュール34、スロート部又はモジュ
ール35、及び発散部又はモジュール36を含む。ノズ
ル23のスロート部又はモジュール35は、直線部又は
モジュール37を含むことができる。
4上に向けるように作用する。射出装置13又は射出装
置13の一部は静止していることが可能であり、あるい
は必要であれば旋回又はラスタ運動して、機能性材料の
レシーバ14上への高解像度及び高精度な堆積又はレシ
ーバ14の機能性材料によるエッチングを行うことがで
きる。あるいは、レシーバ14が所定の様式で移動する
一方で射出装置13が静止状態に留まることができる。
シャッタ装置22もまた、ノズル23の後に位置するこ
とができる。したがって、シャッタ22をノズル23の
前または後に配置して堆積及び/又はエッチングのフレ
キシビリティの最大化のために独立して制御するよう
に、シャッタ装置22及びノズル23は分離した装置で
あることもできる。あるいは、シャッタ装置22は、ノ
ズル23の内部に一体的に形成されることもできる。
る。図21〜図24は、放出システム10の動作を模式
的に表す図であるが、本発明の範囲をいかなる形でも限
定するものと解釈されるべきではない。超臨界流体及び
/又は圧縮液体41内の機能性材料40の調剤42は、
調剤タンク12にて準備される。機能性材料40は固相
又は液相にある任意の関心のある材料であって、超臨界
流体及び/又は圧縮液体41に分散(図21に示される
ように)及び/又は溶解されて、混合物又は調剤42を
形成することができる。機能性材料40は、調剤にて使
用される機能性材料40のタイプに依存して、様々な形
状及びサイズを有することができる。
相を形成し、機能性材料40は分散及び/又は溶解した
単一相を形成する。調剤42(機能性材料40及び超臨
界流体及び/又は圧縮液体41)は、特定のアプリケー
ションにて使用される機能性材料40及び超臨界流体及
び/又は圧縮液体41に対して適した温度及び適した圧
力に維持される。シャッタ22は、調剤42を制御され
た分量で射出できるように駆動される。ノズル23は、
調剤42をビーム43にコリメート及び/又はフォーカ
スする。
制御可能に導入される。圧縮液体/超臨界流体41もま
た、調剤タンク12の中に制御可能に導入される。調剤
タンク12の内容物は混合装置70を使用して適切に混
合されて、機能性材料40と圧縮液体/超臨界流体41
とが確実に密接するようにする。混合プロセスが進むに
つれて、機能性材料40は圧縮液体/超臨界流体41に
溶解又は分散される。機能性材料40の量及び混合が進
む速度を含めてこの溶解/分散プロセスは、機能性材料
40それ自身、(機能性材料40が固体であれば)機能
性材料の粒子サイズ及び粒子サイズ分布、使用される圧
縮液体/超臨界流体41、調剤タンク12内部の温度及
び圧力に依存する。混合プロセスが完了すると、機能性
材料と圧縮液体/超臨界流体41との混合物又は調剤4
2は熱力学的に安定/準安定になり、機能性材料は圧縮
液体/超臨界流体内に、調剤チャンバ内部の温度及び圧
力が一定に維持される限りは同じ状態で含まれるように
溶解及び/又は分散される。この状態は、タンク内部の
温度及び圧力の熱力学的条件が変わるまでは調剤タンク
内部で機能性材料粒子の凝縮、沈殿、及び/又は塊化が
生じないという点で、他の物理的混合物から区別され
る。そのために、本発明の機能性材料40と圧縮液体/
超臨界流体41との混合物又は調剤42は、熱力学的に
安定/準安定であると言える。
であることもできる。加えて、機能性材料40は、有機
分子、ポリマー分子、有機金属分子、無機分子、有機ナ
ノ粒子、ポリマーナノ粒子、有機金属ナノ粒子、無機ナ
ノ粒子、有機マイクロ粒子、ポリマーマイクロ粒子、有
機金属マイクロ粒子、無機マイクロ粒子、及び/又はこ
れらの材料の合成物などであることができる。調剤タン
ク12の内部で圧縮液体/超臨界流体41と適切に混合
された後に、機能性材料40は熱力学的安定/準安定混
合物の内部に一様に分布される。この混合物は、圧縮液
体/超臨界流体41との溶液又は分散物であることがで
きる。この熱力学的安定/準安定混合物又は調剤42
は、調剤タンク12から射出装置13を通じて制御可能
な状態で放出される。
度及び/又は圧力条件が変化するにつれて、圧縮液体/
超臨界流体41から沈殿する。沈殿した機能性材料44
は、射出装置13によってフォーカス及び/又はコリメ
ートビームとしてレシーバ14に向けられる。レシーバ
14上に堆積される機能性材料40の粒子サイズは、典
型的には100nm〜1000nmの範囲にある。粒子
サイズの分布は、射出装置13の温度及び/又は圧力の
変化率、射出装置13に対するレシーバ14の位置、及
び射出装置13の外部の周囲条件を制御することによっ
て、一様になるように制御され得る。
及び圧力を適当に変えて機能性材料40の制御された沈
殿及び/又は集合化を可能にするようにも設計される。
圧力は典型的には段階的に減らされるので、調剤42流
体の流れは自励式である。調剤42の条件に対する引き
続く変化(圧力の変化、温度の変化、など)の結果とし
て、機能性材料40の沈殿及び/又は集合化が、超臨界
流体及び/又は圧縮液体41の蒸発(一般的に参照番号
45として示されている)と共に発生する。この結果と
して生じる沈殿及び/又は集合化した機能性材料44
が、精密且つ正確な様式でレシーバ14上に堆積する。
超臨界流体及び/又は圧縮液体41の蒸発45は、射出
装置13の外部に位置する領域で発生することができ
る。あるいは、超臨界流体及び/又は圧縮液体41の蒸
発45は、射出装置13の内部で発生して射出装置13
の外部に位置する領域に継続することができる。あるい
は、蒸発45は、射出装置13の内部で発生することが
できる。
縮液体41とのビーム(流れなど)は、調剤42が射出
装置13を通って動くときに形成される。沈殿及び/又
は集合化された機能性材料44のサイズが射出装置13
のノズル23の出口直径と実質的に等しいと、沈殿及び
/又は集合化された機能性材料44はノズル23によっ
てコリメートされる。沈殿及び/又は集合化された機能
性材料44のサイズが射出装置13のノズル23の出口
直径より小さいと、沈殿及び/又は集合化された機能性
材料44はノズル23によってフォーカスされる。
れた機能性材料44がレシーバ14上に堆積するように
経路16に沿って配置されている。あるいは、沈殿及び
/又は集合化された機能性材料44はレシーバ14の一
部を除去することができる。沈殿及び/又は集合化され
た機能性材料44がレシーバ14上に堆積するのか又は
レシーバ14の一部を除去するのかは、典型的には、特
定のアプリケーションにて使用される機能性材料40の
タイプに依存する。
は、超臨界流体及び/又は圧縮液体41がレシーバ14
に到達する前に液相及び/又は超臨界相から気相に蒸発
する(一般的に参照番号45にて示されている)ように
選ばれる。これより、引き続くレシーバ乾燥プロセスが
必要ない。さらに、調剤42のノズル23からの射出及
び機能性材料の沈殿に引き続いて、電磁場、機械シール
ド、磁気レンズ、静電レンズなどのような外部装置を使
用して、付加的なフォーカシング及び/又はコリメーシ
ョンを達成し得る。あるいは、レシーバ14は、機能性
材料40の一部を制御できるように電気的又は静電気的
に変化されることができる。
ノズル23から射出される速度を制御することも望まし
い。放出システム10の内部から動作環境までの間に把
握可能な圧力低下が存在するので、差圧が放出システム
10の位置エネルギーを運動エネルギーに変換し、これ
が機能性材料粒子46をレシーバ14上に推進する。こ
れらの粒子46の速度は、適切なノズルの設計、及びシ
ステム内部の動作圧力及び温度の変化率に対する制御に
よって、制御されることができる。さらに、調剤42の
ノズル23からの射出及び機能性材料40の沈殿に引き
続いて、機能性材料40の付加的な速度調整を、電磁
場、機械シールド、磁気レンズ、静電レンズなどのよう
な外部装置を使用して達成し得る。ノズル設計及びレシ
ーバ14に対する位置もまた、機能性材料40の堆積パ
ターンを決定する。実際のノズル設計は、対象とされて
いる特定のアプリケーションに依存する。
ができる。ノズル温度の制御は、ノズルの開口部47が
所望の流体流れ特性を確実に維持するために特定のアプ
リケーションによって要求されるように、制御され得
る。ノズル温度は、ウォータジャケット、電気加熱技術
などを使用したノズル加熱モジュール26を通じて制御
されることができる。適切なノズル設計を用いれば、流
出する流れの温度は、図14に示されるように、流出す
る流れを温かいか又は冷たい不活性ガスの環状共流(co
-current annular stream)で内包することによって制
御されることができる。
き、これには有機材料、無機材料、有機金属材料、金属
材料、合金、セラミック、合成及び/又は天然ポリマ材
料、ゲル、ガラス、及び合成材料を含む。レシーバ14
は、多孔性又は非多孔性であることができる。加えて、
レシーバ14は一層より多くの層を有することができ
る。
参照しながら説明してきたが、本発明の範囲内で変更及
び改変を施すことができることを理解されたい。
態の模式的な図である。
の模式的な図である。
の模式的な図である。
の模式的な図である。
の模式的な図である。
の模式的な図である。
の模式的な図である。
ク図である。
る。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
ス、12 調剤タンク、13 射出装置、14 レシー
バ、15 バルブ、16 放出経路。
Claims (3)
- 【請求項1】 機能性材料を放出する装置であって、 流体と機能性材料との熱力学的安定混合物の加圧ソース
と、 入口と出口とを有する射出装置と、を備えており、 前記射出装置は、前記加圧ソースに前記入口にて接続さ
れ、かつ機能性材料のコリメートビームを生成するよう
に構成されており、 前記流体は、前記射出装置の前記出口を越えた位置にお
いて気体状態にあることを特徴とする装置。 - 【請求項2】 機能性材料を放出する方法であって、 流体と機能性材料との熱力学的安定混合物の加圧ソース
を提供するステップと、 前記機能性材料をコリメートさせるステップと、を有す
ることを特徴とする方法。 - 【請求項3】 機能性材料のビームを放出する装置であ
って、 流体と機能性材料との熱力学的安定混合物の加圧ソース
と、 入口と出口とを有する射出装置と、を備えており、 前記射出装置は、前記加圧ソースに前記入口にて接続さ
れており、かつ可変面積部と一定面積部とを含んでお
り、 機能性材料のコリメートビームが、前記射出装置の前記
入口から前記射出装置の前記出口を通る混合物の動きと
して生成され、 前記流体は、前記射出装置に対して相対的な位置におい
ては気体状態にあることを特徴とする装置。
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2001
- 2001-02-27 US US09/794,671 patent/US6471327B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-02-15 JP JP2002037907A patent/JP2002361125A/ja active Pending
- 2002-02-15 EP EP02075633A patent/EP1236519A1/en not_active Ceased
- 2002-03-06 US US10/091,842 patent/US6752484B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6471327B2 (en) | 2002-10-29 |
US6752484B2 (en) | 2004-06-22 |
EP1236519A1 (en) | 2002-09-04 |
US20020118246A1 (en) | 2002-08-29 |
US20020118245A1 (en) | 2002-08-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050121 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20071128 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20071203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080304 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080513 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080828 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080919 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20081031 |