JP2002316985A - Benzothiophene derivative - Google Patents

Benzothiophene derivative

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JP2002316985A
JP2002316985A JP2001122867A JP2001122867A JP2002316985A JP 2002316985 A JP2002316985 A JP 2002316985A JP 2001122867 A JP2001122867 A JP 2001122867A JP 2001122867 A JP2001122867 A JP 2001122867A JP 2002316985 A JP2002316985 A JP 2002316985A
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JP2001122867A
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Takaaki Jojima
Futoshi Nara
Takehide Nishi
Ryuichi Shimozato
隆一 下里
孝明 城島
太 奈良
剛秀 西
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Sankyo Co Ltd
三共株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a benzothiophene derivative having low toxicity and excellent immunosuppressive action and its pharmacologically permissible salt, ester and other derivative. SOLUTION: The present invention relates to a benzothiophene derivative expressed by general formula (I) [R<1> and R<2> are each H or an amino-protecting group; R<3> is H or a hydroxy-protecting group; R<4> is a lower alkyl; (n) is an integer of 1-6; X is ethylene group or the like; Y is a 1-10C alkylene or the like; R<5> is an aryl or the like; and R<6> and R<7> are each H or the like] and its pharmacologically permissible salt, ester and other derivative.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた免疫抑制作用を有するベンゾチオフェン誘導体、その薬理上許容される塩、そのエステル、又は、その他の誘導体、及びそれらを含有する医薬(好適には、免疫抑制剤)に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention provides benzothiophene derivatives having excellent immunosuppressive activity, a pharmacologically acceptable salt thereof, an ester thereof, or other derivatives, and pharmaceutical (preferably containing them, immunosuppressive agent) on.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、リウマチやその他の自己免疫疾患等の免疫関連病の治療においては、異常な免疫反応によって生じる炎症反応に対してステロイドなどの抗炎症薬が使用されてきたが、これらは対症療法であり根本的治療法ではない。 Conventionally, in the treatment of rheumatism and other immune-related diseases such as autoimmune diseases, but anti-inflammatory drugs such as steroids have been used against inflammatory reactions caused by abnormal immune response, they not a symptomatic treatment and is fundamental treatment.

【0003】また、糖尿病、腎炎の発症においても免疫系の異常が関与することは報告されているが[Kidney I [0003] Diabetes mellitus, but also involving abnormalities of the immune system in the development of nephritis have been reported [Kidney I
nternational, 51, 94(1997);Journal of Immunology, nternational, 51, 94 (1997); Journal of Immunology,
157,4691(1996)]、その異常を改善するような薬剤の開発には至っていない。 157,4691 (1996)], not yet led to the development of drugs, such as to improve the abnormality.

【0004】一方、免疫応答を抑制する方法の開発は、 [0004] On the other hand, the development of a method for suppressing an immune response,
臓器及び細胞移植における拒絶反応を防いだり、種々の自己免疫疾患を治療及び/又は予防する上でも極めて重要である。 Guests prevent rejection in organ and cell transplantation, is very important in treating and / or preventing various autoimmune diseases. 従来知られている免疫抑制剤については、以下のものがある。 The immunosuppressive agents known conventionally include the following. (1)WO94/08943号公報(EP62740 (1) WO94 / 08943 discloses (EP62740
6)には、下記一般式(a) To 6), the following general formula (a)

【0005】 [0005]

【化4】 [Of 4]

【0006】[上記化合物(a)において、Rは置換基を有してもよい直鎖または分岐鎖状の炭素鎖{当該鎖中に、二重結合、三重結合、酸素、硫黄、−N(R 6 )− [0006] [the compound in (a), R is in the straight which may have a substituent or branched carbon chain {the chain, a double bond, a triple bond, oxygen, sulfur, -N ( R 6) -
(式中、R 6は水素)、置換基を有してもよいアリーレン、置換基を有してもよいヘテロアリーレンを有してもよく、当該鎖端に、置換基を有してもよいアリール、置換基を有してもよいシクロアルキル、置換基を有してもよいヘテロアリールを有してよい。 (Wherein, R 6 is hydrogen), an arylene which may have a substituent, may have a good heteroarylene which may have a substituent, on the chain end, which may have a substituent aryl, cycloalkyl which may have a substituent, may have a heteroaryl which may have a substituent. }であり、R 2 } A and, R 2,
3 、R 4 、R 5は、同一または異なって、水素、アルキルである。 R 3, R 4, R 5 are the same or different and are hydrogen, alkyl. ]を有する化合物が、免疫抑制剤として開示されており、下記のような化合物が開示されている。 Compounds having] is disclosed as immunosuppressive agents, the following compounds are disclosed.

【0007】 [0007]

【化5】 [Of 5]

【0008】(2)WO96/06068号公報(EP [0008] (2) WO96 / 06068 Patent Publication No. (EP
778263)には、下記一般式(b) The 778,263), the following general formula (b)

【0009】 [0009]

【化6】 [Omitted]

【0010】[上記化合物(b)において、R 1 、R 2及びR 3は、水素原子等であり、Wは、水素原子、アルキル基等であり、Zは、単結合又はアルキレン基であり、 [0010] In [the compound (b), R 1, R 2 and R 3 is a hydrogen atom, etc., W is hydrogen atom, an alkyl group, Z is a single bond or an alkylene group,
Xは、水素原子又はアルコキシ基であり、Yは、水素原子、アルキル、アルコキシ、アシル、アシルオキシ、アミノ、アシルアミノ基等を示す。 X is a hydrogen atom or an alkoxy group, Y represents a hydrogen atom, an alkyl, alkoxy, acyl, acyloxy, amino, an acylamino group. ]を有する化合物が、 Compounds having a 'is
免疫抑制剤として開示されており、下記のような化合物が開示されている。 Are disclosed as immunosuppressive agents, the following compounds are disclosed.

【0011】 [0011]

【化7】 [Omitted]

【0012】(3)WO98/45249号公報(EP [0012] (3) WO98 / 45249 Patent Publication No. (EP
1002792)には、下記一般式(c) The 1,002,792), the following formula (c)

【0013】 [0013]

【化8】 [Of 8]

【0014】[上記化合物(c)において、R 1 、R 2 [0014] In [the compound (c), R 1, R 2,
3 、R 4は同一又は異なって、水素又はアシル基である。 R 3, R 4 are the same or different, hydrogen or an acyl group. ]を有する化合物が、免疫抑制剤として開示されており、下記のような化合物が開示されている。 Compounds having] is disclosed as immunosuppressive agents, the following compounds are disclosed.

【0015】 [0015]

【化9】 [Omitted]

【0016】 [0016]

【発明が解決しようとする課題】従来知られている免疫抑制剤は、腎臓及び肝臓に対して毒性を示すことが知られており、このような背景から、毒性が低く、優れた免疫抑制作用を有する化合物を見出すことが試みられている。 BRIEF attempt to resolve an object of the immunosuppressive agents known conventionally, are known to exhibit toxicity against the kidney and liver, from this background, low toxicity, excellent immunosuppressive activity attempts have been made to find compounds having an.

【0017】本発明者らは、免疫抑制作用を有する誘導体について鋭意研究を行った結果、ベンゾチオフェン誘導体は、従来知られている免疫抑制剤に比べて毒性が低く優れた免疫抑制作用を有することを見出し、本発明を完成した。 [0017] The present inventors, as a result of intense study for derivatives with immunosuppressive effects, benzothiophene derivatives having immunosuppressive effects toxicity and excellent low compared to immunosuppressive agents known in the prior art headlines, and completed the present invention.

【0018】 [0018]

【課題を解決するための手段】(1) 本発明のベンゾチオフェン誘導体は、下記一般式(I)を有する。 Benzothiophene derivatives SUMMARY OF THE INVENTION (1) The present invention has the following general formula (I).

【0019】一般式(I) [0019] The general formula (I)

【0020】 [0020]

【化10】 [Of 10]

【0021】[式中、R 1及びR 2は、同一又は異なって、水素原子又はアミノ基の保護基を示し、R 3は、水素原子又はヒドロキシ基の保護基を示し、R 4は、低級アルキル基を示し、nは、1乃至6の整数を示し、X [0021] [wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a protective group for an amino group, R 3 represents a hydrogen atom or a protecting group of hydroxy group, R 4 is lower an alkyl group, n is an integer of 1 to 6, X
は、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−D− Is an ethylene group, vinylene group, ethynylene group, the formula -D-
CH 2 −を有する基(式中、Dは、カルボニル基、式− CH 2 - groups with a (wherein, D is a carbonyl group, the formula -
CH(OH)−を有する基、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を示す。 CH (OH) - group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom. )、アリール基又は置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基を示し、Yは、単結合、C 1 −C 10アルキレン基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC 1 −C 10アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基、又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1 ), Ali substituted with at least one group selected from an aryl group or a substituent group a - indicates Le group, Y represents a single bond, C 1 -C 10 alkylene group, the substituent group a and b at least one C 1 -C 10 alkylene group substituted with a group selected, C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or chain end, or from substituent group a and b At least selected 1
個の基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基を示し、R 5は、水素原子、シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基、又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基を示し、R 6及びR 7は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群a Substituted with pieces of group, a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends, R 5 is a hydrogen atom, a cycloalkyl group, ant - group, a heterocyclic group, substituted with at least one group selected from substituent group a and b cycloalkyl group, at least one of Ari is substituted with a group selected from substituent group a and b - group, or substituted with at least one group selected from substituent group a and b are shown a heterocyclic group, R 6 and R 7 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent group a
から選択される基を示す。 It represents a group selected from.

【0022】但し、R 5が水素原子であるとき、Yは単結合及び直鎖のC 1 −C 10アルキレン基以外の基を示す。 [0022] However, when R 5 is a hydrogen atom, Y is a single bond and C 1 -C 10 group other than an alkylene group of straight chain. ]を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル、又は、その他の誘導体。 Compounds having, a pharmacologically acceptable salt, an ester, or other derivative. <置換基群a>ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、 <Substituent Group a> a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group,
ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ− Hydroxy groups, lower aliphatic acyl group, an amino group, a mono -
低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基 <置換基群b>シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基、置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基、及び置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基。 Lower alkylamino group, di - selected group, a heterocyclic group, the substituent group a - lower alkylamino group, a lower aliphatic acylamino group, a cyano group and a nitro group <substituent group b> cycloalkyl group, Ali at least one substituted cycloalkyl group with a group, at least one of Ari is substituted with a group selected from substituent group a - at least one group selected from the group, and substituent group a substituted heterocyclic groups.

【0023】好適な化合物としては、以下の化合物を挙げることができる。 [0023] Suitable compounds include the following compounds. (2) (1)において、式(Ia) (2) (1) In the formula (Ia)

【0024】 [0024]

【化11】 [Of 11]

【0025】を有する化合物、(3) (1)において、式(Ib) Compounds having a [0025], (3) (1), formula (Ib)

【0026】 [0026]

【化12】 [Of 12]

【0027】を有する化合物、(4) (1)乃至(3)から選択されるいずれか1項において、R 1及びR 2が、同一又は異なって、水素原子、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である化合物、(5) (1) [0027] Compounds having, in any one selected from (4) (1) to (3), R 1 and R 2 are the same or different, a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl compound 1 to 3 substituted aralkyloxycarbonyl group with a group selected from the group or substituent group a, (5) (1)
乃至(3)から選択されるいずれか1項において、R 1 Or in any one selected from (3), R 1
及びR 2が、水素原子である化合物、(6) (1)乃至(5)から選択されるいずれか1項において、R And R 2, represent hydrogen atom, in any one selected from (6) (1) to (5), R
3が、水素原子、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換された芳香族アシル基である化合物、(7) (1)乃至(5)から選択されるいずれか1項において、R 3が、 3 is a hydrogen atom, a lower aliphatic acyl group, a 1 to 3-substituted aromatic acyl group with a group selected from aromatic acyl group or a substituent group a compound (7) (1) to ( in any one selected from 5), it is R 3,
水素原子である化合物、(8) (1)乃至(7)から選択されるいずれか1項において、R 4が、C 1 −C 4アルキル基である化合物、(9) (1)乃至(7)から選択されるいずれか1項において、R 4が、C 1 −C 2アルキル基である化合物、(10) (1)乃至(7)から選択されるいずれか1項において、R 4が、メチル基である化合物、(11) (1)乃至(10)から選択されるいずれか1項において、nが、2又は3である化合物、(12) (1)乃至(10)から選択されるいずれか1項において、nが、2である化合物、(13) Represent hydrogen atoms, in any one selected from (8) (1) to (7), compounds wherein R 4 is C 1 -C 4 alkyl group, (9) (1) to (7 in any one selected from), R 4 is a compound which is an C 1 -C 2 alkyl group, in any one selected from (10) (1) to (7), R 4 is, compound is a methyl group, in any one selected from (11) (1) to (10), n is, compound 2 or 3, is selected from (12) (1) to (10) in any one of claims 1, n is a compound which is a 2, (13)
(1)乃至(12)から選択されるいずれか1項において、Xが、エチレン基である化合物、(14) In any one selected from (1) to (12), compound X is an ethylene group, (14)
(1)乃至(12)から選択されるいずれか1項において、Xが、エチニレン基である化合物、(15) In any one selected from (1) to (12), X is a compound which is an ethynylene group, (15)
(1)乃至(12)から選択されるいずれか1項において、Xが、アリール基又は置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物、(16) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、C 1 −C 10アルキレン基又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC 1 −C 10アルキレン基である化合物、(1 In any one selected from (1) to (12), X is, Ari is substituted with at least one group selected from an aryl group or a substituent group a - compound is group, (16 ) (in any one selected from 1) to (15), Y is, C 1 -C 10 C 1 substituted with at least one group selected from an alkylene group, or a substituent group a and b -C 10 compounds an alkylene group, (1
7) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、C 1 −C 6アルキレン基又は置換基群a In 7) (1) to (any one selected from 15), Y is, C 1 -C 6 alkylene group or a substituent group a
及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC 1 −C 6アルキレン基である化合物、(18) (1) C 1 -C 6 compounds an alkylene group substituted with at least one group selected from and b, (18) (1)
乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Y Or in any one selected from (15), Y
が、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、 There, an ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group,
又は、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン若しくはペンタメチレン基である化合物、(1 Or substituted with at least one group selected from substituent group a and b, ethylene, trimethylene, compound tetramethylene or pentamethylene group, (1
9) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物、(20) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、 In any one selected from 9) (1) to (15), one of Y is ethylene group, a trimethylene group or a compound which is a tetramethylene group, selected from (20) (1) to (15) or in item 1, Y is
エチレン基若しくはトリメチレン基である化合物、(2 Compound is an ethylene group or trimethylene group, (2
1) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基、又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基である化合物、 In any one selected from 1) (1) to (15), Y is, C 1 -C 10 alkylene group or a substituent group a and has an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends b substituted with at least one group selected from a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or chain end compound,
(22) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基である化合物、(23) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC 1 −C 10アルキレン基である化合物、(24) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC 1 −C 6アルキレン基である化合物、(2 In any one selected from (22) (1) to (15), Y is a compound which is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends, (23 ) (1) through at any one selected from (15), Y is a compound which is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom in the carbon chain or the chain ends, (24) (1) to in any one selected from (15), Y is a compound which is a C 1 -C 6 alkylene group having an oxygen atom in the carbon chain or the chain ends, (2
5) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、−O−CH 2 −、−O−(CH 2 5) (in any one selected from 1) to (15), Y is, -O-CH 2 -, - O- (CH 2)
2 −、−O−(CH 23 −、−CH 2 −O−、−(C 2 -, - O- (CH 2 ) 3 -, - CH 2 -O -, - (C
22 −O−、−(CH 23 −O−又は−CH 2 −O− H 2) 2 -O -, - (CH 2) 3 -O- or -CH 2 -O-
CH 2 −を有する基である化合物、(26) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Y CH 2 - compound is a group having, in any one selected from (26) (1) to (15), Y
が、−CH 2 −O−、−(CH 22 −O−又は−CH 2 There, -CH 2 -O -, - ( CH 2) 2 -O- or -CH 2 -
O−CH 2 −を有する基である化合物、(27) O-CH 2 - compound is a group having the (27)
(1)乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基又は置換基群a及びb In any one selected from (1) to (26), R 5 is a cycloalkyl group, ant - group, a heterocyclic group, at least one group selected from substituent groups a and b substituted cycloalkyl group, or a substituent group a and b
から選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ− Substituted with at least one group selected from the ant -
ル基である化合物、(28) (1)乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物、(29) (1) At least group, selected from Substituent group a and b - compounds which are group, in any one selected from (28) (1) to (26), R 5 is a cycloalkyl group, Ali one substituted with at least one group selected from a cycloalkyl group or a substituent group a and b, which are substituted by a group ant - compound is group, (29) (1)
乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R In any one selected from or (26), R
5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物、(30) (1)乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基又は1乃至3個置換されたアリ− 5, a cycloalkyl group, ant - group, Ali substituted with at least one group selected from substituent group a and b - compounds which are group, from (30) (1) to (26) in any one selected, R 5 is a cycloalkyl group, ant - group or 1 to 3-substituted ants -
ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基である。)である化合物、(31) (1)乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R 5が、シクロアルキル基、 Le group (the substituent is a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a group selected from the group consisting of lower alkoxy group and a lower alkylthio group.), Compound (31) (1) to in any one selected from (26), it is R 5, cycloalkyl group,
アリ−ル基又は1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である。)である化合物、(32) (1)乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R Ali - group or 1 to 3-substituted ants - Le group (. The substituent is a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group), compound (32) (1) to (26) in any one selected from, R
5が、シクロヘキシル基、フェニル基又はp−トリル基である化合物、(33) (1)乃至(32)から選択されるいずれか1項において、R 6及びR 7が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、 5, a cyclohexyl group, a phenyl group or compound is p- tolyl group, in any one selected from (33) (1) to (32), R 6 and R 7 are the same or different, hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group,
ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物、(34) (1)乃至(3 Halogeno-lower alkyl group, the compound is a lower alkoxy group or a lower alkylthio group, (34) (1) to (3
2)から選択されるいずれか1項において、R 6及びR 7 In any one selected from 2), R 6 and R 7
が、水素原子である化合物。 But the compound is a hydrogen atom.

【0028】上記式中、X、R 5及び置換基群bの定義における「アリ−ル基」、「置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基」及び「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基」のアリ−ル部分は、例えば、フェニル、インデニル、ナフチルのような炭素数6乃至10 [0028] In the above formulas, X, in the definition of R 5 and substituent group b - "substituted with at least one group selected from substituent group a Ari - Le group" "ant Le group", and ant - "Le group substituted with at least one group selected from substituent group a and b the ants' - le moiety, for example, phenyl, indenyl, C6 to 10, such as naphthyl
個の芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適にはフェニル又はナフチル基であり、最も好適にはフェニル基である。 It can be mentioned number of aromatic hydrocarbon group, preferably a phenyl or naphthyl group, most preferably a phenyl group.

【0029】上記式中、Yの定義における「C 1 −C 10 The "C 1 -C 10 in the above formula, Y definitions
アルキレン基」及び「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC 1 −C 10アルキレン基」のC 1 −C 10アルキレン部分は、メチレン、メチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、1− C 1 -C 10 alkylene moiety of the alkylene group "and" substituted with at least one group selected from substituent group a and b the C 1 -C 10 alkylene group "include methylene, methylmethylene, ethylene, propylene , trimethylene, 1-
メチルエチレン、テトラメチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3−メチルトリメチレン、1−メチルプロピレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1−メチルテトラメチレン、2− Methylethylene, tetramethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 3-methyltrimethylene, 1-methylpropylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 1-methyl tetramethylene, 2-
メチルテトラメチレン、3−メチルテトラメチレン、4 Methyl tetramethylene, 3-methyl tetramethylene, 4
−メチルテトラメチレン、1,1−ジメチルトリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、3,3−ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレン、1−メチルペンタメチレン、2−メチルペンタメチレン、3−メチルペンタメチレン、4−メチルペンタメチレン、5−メチルペンタメチレン、1,1−ジメチルテトラメチレン、2,2− - methyl tetramethylene, 1,1-dimethyl trimethylene, 2,2-dimethyl trimethylene, 3,3-dimethyl trimethylene, hexamethylene, 1-methyl pentamethylene, 2-methyl pentamethylene, 3-methyl pentamethylene, 4-methyl pentamethylene, 5-methyl-pentamethylene, 1,1-dimethyl tetramethylene, 2,2
ジメチルテトラメチレン、3,3−ジメチルテトラメチレン、4,4−ジメチルテトラメチレン、ヘプタメチレン、1−メチルヘキサメチレン、2−メチルヘキサメチレン、5−メチルヘキサメチレン、3−エチルペンタメチレン、オクタメチレン、2−メチルヘプタメチレン、 Dimethyl tetramethylene, 3,3-dimethyl tetramethylene, 4,4-dimethyl tetramethylene, heptamethylene, 1-hexamethylene, 2-methyl hexamethylene, 5-methyl-hexamethylene, 3-ethyl pentamethylene, octamethylene, 2-methyl heptamethylene,
5−メチルヘプタメチレン、2−エチルヘキサメチレン、2−エチル−3−メチルペンタメチレン、3−エチル−2−メチルペンタメチレン、ノナメチレン、2−メチルオクタメチレン、7−メチルオクタメチレン、4− 5-methyl heptamethylene, 2-ethyl-hexamethylene, 2-ethyl-3-methyl pentamethylene, 3-ethyl-2-methyl pentamethylene, nonamethylene, 2-methyl-octamethylene, 7-methyl octamethylene, 4-
エチルヘプタメチレン、3−エチル−2−メチルヘキサメチレン、2−エチル−1−メチルヘキサメチレン、デカメチレン基のような炭素数1乃至10個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基であり、好適にはC 1 −C 6アルキレン基であり、更に好適にはC 1 −C 5アルキレン基であり、 Ethyl heptamethylene, a 3-ethyl-2-methyl hexamethylene, 2-ethyl-1-methyl-hexamethylene, straight or branched chain alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, such as decamethylene group, preferably a a C 1 -C 6 alkylene group, more preferably a C 1 -C 5 alkylene group,
より好適には、エチレン、トリメチレン又はテトラメチレン基であり、最も好適にはエチレン基又はトリメチレン基である。 More preferably, ethylene, trimethylene or tetramethylene group, and most preferably an ethylene group or a trimethylene group.

【0030】上記式中、Yの定義における「炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 [0030] C 1 having the above formula, the oxygen atom or sulfur atom "carbon chain during or chain end in the definition of Y -
10アルキレン基」及び「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10 C 10 alkylene group "and" substituted with at least one group selected from substituent group a and b, C 1 -C 10 having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends
アルキレン基」の、「炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン」部分は、上記「C 1 −C 10アルキレン基」の鎖端若しくは鎖中に酸素原子若しくは硫黄原子を有する基であり、例えば、−O−CH 2 −、−O−(CH 22 −、−O−(C Alkylene group ", C 1 -C 10 alkylene" moiety having an oxygen atom or sulfur atom "carbon chain during or chain ends, an oxygen atom or the chain end or chain of the" C 1 -C 10 alkylene group " a group having a sulfur atom, for example, -O-CH 2 -, - O- (CH 2) 2 -, - O- (C
23 −、−O−(CH 24 −、−O−(CH 25 −、 H 2) 3 -, - O- (CH 2) 4 -, - O- (CH 2) 5 -,
−O−(CH 26 −、−O−(CH 27 −、−O−(C -O- (CH 2) 6 -, - O- (CH 2) 7 -, - O- (C
28 −、−O−(CH 29 −、−O−(CH 2 H 2) 8 -, - O- (CH 2) 9 -, - O- (CH 2)
10 −、−CH 2 −O−CH 2 −、−CH 2 −O−(CH 2 10 -, - CH 2 -O- CH 2 -, - CH 2 -O- (CH 2)
2 −、−CH 2 −O−(CH 23 −、−CH 2 −O−(C 2 -, - CH 2 -O- ( CH 2) 3 -, - CH 2 -O- (C
24 −、−(CH 22 −O−CH 2 −、−(CH 22 H 2) 4 -, - ( CH 2) 2 -O-CH 2 -, - (CH 2) 2
−O−(CH 22 −、−(CH 22 −O−(CH 2 -O- (CH 2) 2 -, - (CH 2) 2 -O- (CH 2)
3 −、−(CH 22 −O−(CH 24 −、−(CH 23 3 -, - (CH 2) 2 -O- (CH 2) 4 -, - (CH 2) 3
−O−CH 2 −、−(CH 23 −O−(CH 22 −、− -O-CH 2 -, - ( CH 2) 3 -O- (CH 2) 2 -, -
(CH 2 (CH 2) 3 −O−(CH 23 −、−(CH 24 −O−C 3 -O- (CH 2) 3 - , - (CH 2) 4 -O-C
2 −、−(CH 24 −O−(CH H 2 -, - (CH 2 ) 4 -O- (CH 22 −、−(CH 2 2) 2 -, - (CH 2)
5 −O−CH 2 −、−CH 2 −O−、−(CH 22 −O 5 -O-CH 2 -, - CH 2 -O -, - (CH 2) 2 -O
−、−(CH 23 −O−、−(CH 24 −O−、−(C -, - (CH 2) 3 -O -, - (CH 2) 4 -O -, - (C
25 −O−、−(CH 26 −O−、−(CH 27 −O H 2) 5 -O -, - (CH 2) 6 -O -, - (CH 2) 7 -O
−、−(CH 28 −O−、−(CH 29 −O−、−(C -, - (CH 2) 8 -O -, - (CH 2) 9 -O -, - (C
210 −O−、−S−CH 2 −、−S−(CH 22 −、 H 2) 10 -O -, - S-CH 2 -, - S- (CH 2) 2 -,
−S−(CH 23 −、−S−(CH 24 −、−S−(C -S- (CH 2) 3 -, - S- (CH 2) 4 -, - S- (C
25 −、−S−(CH 26 −、−S−(CH 27 −、 H 2) 5 -, - S- (CH 2) 6 -, - S- (CH 2) 7 -,
−S−(CH 28 −、−S−(CH 29 −、−S−(C -S- (CH 2) 8 -, - S- (CH 2) 9 -, - S- (C
210 −、−CH 2 −S−CH 2 −、−CH 2 −S−(C H 2) 10 -, - CH 2 -S-CH 2 -, - CH 2 -S- (C
22 −、−CH 2 −S−(CH 23 −、−CH 2 −S− H 2) 2 -, - CH 2 -S- (CH 2) 3 -, - CH 2 -S-
(CH 24 −、−(CH 22 −S−CH 2 −、−(C (CH 2) 4 -, - (CH 2) 2 -S-CH 2 -, - (C
22 −S−(CH 22 −、−(CH 22 −S−(CH H 2) 2 -S- (CH 2 ) 2 -, - (CH 2) 2 -S- (CH
23 −、−(CH 22 −S−(CH 24 −、−(C 2) 3 -, - (CH 2) 2 -S- (CH 2) 4 -, - (C
23 −S−CH 2 −、−(CH 23 −S−(CH 22 H 2) 3 -S-CH 2 -, - (CH 2) 3 -S- (CH 2) 2
−、−(CH 23 −S−(CH 23 −、−(CH 24 -, - (CH 2) 3 -S- (CH 2) 3 -, - (CH 2) 4 -
S−CH 2 −、−(CH 24 −S−(CH 22 −、− S-CH 2 -, - ( CH 2) 4 -S- (CH 2) 2 -, -
(CH 25 −S−CH 2 −、−CH 2 −S−、−(C (CH 2) 5 -S-CH 2 -, - CH 2 -S -, - (C
22 −S−、−(CH 23 −S−、−(CH 24 −S H 2) 2 -S -, - (CH 2) 3 -S -, - (CH 2) 4 -S
−、−(CH 25 −S−、−(CH -, - (CH 2) 5 -S -, - (CH 26 −S−、−(C 2) 6 -S -, - ( C
27 −S−、−(CH 28 −S−、−(CH 29 −S H 2) 7 -S -, - (CH 2) 8 -S -, - (CH 2) 9 -S
−、−(CH 210 −S−を有する基であり、好適には、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC 1 −C -, - (CH 2) a group having 10 -S-, preferably, C 1 -C having an oxygen atom in the carbon chain or the chain ends
10アルキレン基であり、更に好適には、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC 1 −C 4アルキレン基であり、より好適には、−O−CH 2 −、−O−(CH 22 10 is an alkylene group, more preferably a C 1 -C 4 alkylene group having an oxygen atom in the carbon chain or the chain ends, more preferably, -O-CH 2 -, - O- (CH 2 ) 2
−、−O−(CH 23 −、−CH 2 −O−、−(CH -, - O- (CH 2) 3 -, - CH 2 -O -, - (CH 2 2)
2 −O−、−(CH 23 −O−又は−CH 2 −O−CH 2 2 -O -, - (CH 2 ) 3 -O- or -CH 2 -O-CH 2
−を有する基であり、最も好適には、−CH 2 −O−、 - group having, most preferably, -CH 2 -O-,
−(CH 22 −O−又は−CH 2 −O−CH 2 −を有する基である。 - (CH 2) 2 -O- or -CH 2 -O-CH 2 - is a radical having a.

【0031】上記式中、R 5及び置換基群bの定義における「シクロアルキル基」、「置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基」 [0031] In the above formula, "cycloalkyl group" in the definition of R 5 and substituent group b, "substituted with at least one group selected from Substituent group a cycloalkyl group"
及び「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基」のシクロアルキル部分は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチル、インダニルのような炭素数3乃至10個の飽和炭素環基を挙げることができ、ベンゼン環のような他の環式基と縮環していてもよい。 And cycloalkyl moiety of the "optionally substituted with at least one group selected from substituent group a and b cycloalkyl group", for example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, norbornyl, adamantyl, indanyl It can be mentioned the number 3 to 10 saturated carbon ring group carbons such as, other may be condensed with a cyclic group such as benzene ring. そのようなシクロアルキル基としては、好適にはC 5 −C 6シクロアルキル基であり、最も好適にはシクロヘキシル基である。 Such cycloalkyl groups, preferably a C 5 -C 6 cycloalkyl group, most preferably a cyclohexyl group.

【0032】上記式中、R 5及び置換基群bの定義における「複素環基」、「置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基」及び「置換基群a [0032] In the above formula, "heterocyclic group" in the definition of R 5 and substituent group b, "substituted with at least one group selected from Substituent group a heterocycle group" and "substituent group a
及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基」の複素環基部分は、硫黄原子、酸素原子又は/及び窒素原子を1乃至3個含む5乃至7員複素環基を示し、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、1,2,3− Heterocyclic group moiety and at least one heterocyclic group substituted by a group selected from b "is a sulfur atom, an oxygen atom and / or nitrogen atoms from 1 to 3 containing 5 to 7-membered heterocyclic group shows, for example, furyl, thienyl, pyrrolyl, azepinyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, 1,2,3
オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピラニル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルのような芳香族複素環基、及びテトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾリジニル、イソキサゾリジニル、チアゾリジニル、ピラゾリジニルのようなこれらの基に対応する、部分若しくは完全還元型の飽和複素環基を挙げることができる。 Oxadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl, thiadiazolyl, pyranyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, aromatic heterocyclic groups such as pyrazinyl, and tetrahydropyranyl, morpholinyl, thiomorpholinyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, imidazolidinyl, pyrazolidinyl, piperidinyl, piperazinyl, oxazolidinyl, iso Kisazorijiniru, thiazolidinyl, corresponding to these groups such as pyrazolidinyl, can be mentioned saturated heterocyclic group partially or fully reduced form. 更に、上記複素環基は、ベンゼン環のような他の環式基と縮環していてもよく、例えば、ベンゾチエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、 Further, the heterocyclic group may be condensed with another cyclic group such as benzene ring, for example, benzothienyl, benzothiazolyl, benzoxazolyl, isobenzofuranyl, chromenyl, xanthenyl, Fenokisachi ynyl,
インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、カルボリニル、アクリジニル、イソインドリニルのような基を挙げることができる。 Indolizinyl, can be cited isoindolyl, indolyl, indazolyl, purinyl, quinolizinyl, isoquinolyl, quinolyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, carbazolyl, carbolinyl, acridinyl, a group such as isoindolinyl. 好適には5乃至6員芳香族複素環基であり、最も好適には、フリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリル基である。 Preferably a 5 or 6-membered aromatic heterocyclic group, and most preferably a furyl, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group.

【0033】上記式中、置換基群aの定義における「ハロゲン原子」は、弗素、塩素、臭素、沃素原子であり、 [0033] In the above formula, "halogen atom" in the definition of Substituent group a is a fluorine, chlorine, bromine, iodine atom,
好適には、弗素原子又は塩素原子であり、最も好適には弗素原子である。 Preferably a fluorine atom or a chlorine atom, and most preferably a fluorine atom.

【0034】上記式中、R 4及び置換基群aの定義における「低級アルキル基」は、例えば、メチル、エチル、 [0034] In the above formula, "lower alkyl group" in the definition of R 4 and substituent group a, for example, methyl, ethyl,
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチル、 Propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s- butyl, t- butyl, pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, hexyl, isohexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl,
3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl,
1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl,
1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、1 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 1
−エチルブチル、2−エチルブチル基のような炭素数1 - ethylbutyl, carbon atoms, such as 2-ethylbutyl group 1
乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適にはC 1 −C 4アルキル基であり、更に好適にはC 1 −C 2アルキル基であり、最も好適にはメチル基である。 Or a six straight or branched chain alkyl group, preferably a C 1 -C 4 alkyl group, more preferably a C 1 -C 2 alkyl group, most preferably is a methyl group .

【0035】上記式中、置換基群aの定義における「ハロゲノ低級アルキル基」は、前記「低級アルキル基」にハロゲン原子が置換した基を示し、例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、2, [0035] In the above formula, "halogeno lower alkyl group" in the definition of substituent group a represents a group halogen atom on the "lower alkyl group" is substituted, for example, trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl, fluoromethyl, 2,
2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−フルオロエチル、2−ヨ−ドエチル、3−クロロプロピル、4−フルオロブチル、6−ヨ−ドヘキシル、2,2 2,2-trifluoroethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl, 2-fluoroethyl, 2-Yo - Doechiru, 3-chloropropyl, 4-fluoro-butyl, 6-Yo - Dohekishiru, 2,2
−ジブロモエチル基のようなハロゲノC 1 −C 6アルキル基であり、好適にはハロゲノC 1 −C 4アルキル基であり、更に好適にはハロゲノC 1 −C 2アルキル基であり、 - a halogeno C 1 -C 6 alkyl groups such as dibromo ethyl group, preferably a halogeno C 1 -C 4 alkyl group, more preferably a halogeno C 1 -C 2 alkyl group,
最も好適にはトリフルオロメチル基である。 Most preferably a trifluoromethyl group.

【0036】上記式中、置換基群aの定義における「低級アルコキシ基」は、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基を示し、例えば、メトキシ、エトキシ、 [0036] In the above formula, "lower alkoxy group" in the definition of substituent group a represents a group wherein the above "lower alkyl group" is bonded to an oxygen atom, for example, methoxy, ethoxy,
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、2−メチルブトキシ、1−エチルプロポキシ、2−エチルプロポキシ、ネオペントキシ、ヘキシルオキシ、4−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2−メチルペントキシ、3,3−ジメチルブトキシ、2,2−ジメチルブトキシ、1,1−ジメチルブトキシ、1,2−ジメチルブトキシ、1,3−ジメチルブトキシ、2,3−ジメチルブトキシ基のような炭素数1 Propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, s- butoxy, t-butoxy, pentoxy, isopentoxy, 2-methylbutoxy, 1-ethylpropoxy, 2-ethylpropoxy, neopentoxy, hexyloxy, 4-methylpentoxy, 3-methyl pentoxy, 2-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2,2-dimethylbutoxy, 1,1-dimethylbutoxy, 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy, 2,3-dimethylbutoxy carbon atoms, such as group 1
乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、好適にはC 1 −C 4アルコキシ基であり、更に好適にはC 1 −C 2 Or a 6 linear or branched alkoxy group, preferably a C 1 -C 4 alkoxy group, more preferably C 1 -C 2
アルコキシ基であり、最も好適にはメトキシ基である。 An alkoxy group, most preferably a methoxy group.

【0037】上記式中、置換基群aの定義における「低級アルキルチオ基」は、前記「低級アルキル基」が硫黄原子に結合した基を示し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、 [0037] In the above formula, "lower alkylthio group" in the definition of substituent group a represents a group wherein the above "lower alkyl group" is bonded to a sulfur atom, such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio,
イソブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、2−メチルブチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、4−メチルペンチルチオ、3−メチルペンチルチオ、2−メチルペンチルチオ、3,3−ジメチルブチルチオ、2,2−ジメチルブチルチオ、1,1−ジメチルブチルチオ、1,2− Isobutylthio, s- butylthio, t-butylthio, pentylthio, isopentylthio, 2-methylbutylthio, neopentylthio, hexylthio, 4-methylpentylthio, 3-methylpentylthio, 2-methylpentylthio, 3,3 - dimethylbutyl thio, 2,2-dimethylbutyl-thio, 1,1-dimethylbutyl thio, 1,2
ジメチルブチルチオ、1,3−ジメチルブチルチオ、 Dimethylbutyl thio, 1,3-dimethylbutyl thio,
2,3−ジメチルブチルチオ基のような炭素数1乃至6 Carbon atoms such as 2,3-dimethyl butyl thio group 1 to 6
個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基であり、好適にはC A number of straight-chain or branched alkylthio group, preferably a C
1 −C 4アルキルチオ基であり、更に好適にはC 1 −C 2アルキルチオ基であり、最も好適にはメチルチオ基である。 An 1 -C 4 alkylthio group, more preferably a C 1 -C 2 alkylthio group, most preferably a methylthio group.

【0038】上記式中、置換基群aの定義における「低級アルコキシカルボニル基」は、前記「低級アルコキシ基」がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、s−ブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、 [0038] In the above formula, "lower alkoxycarbonyl group" in the definition of substituent group a represents a group wherein "lower alkoxy group" is bonded to a carbonyl group, e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, iso propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, s- butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, pentoxycarbonyl,
イソペントキシカルボニル、2−メチルブトキシカルボニル、ネオペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、4−メチルペントキシカルボニル、3−メチルペントキシカルボニル、2−メチルペントキシカルボニル、3,3−ジメチルブトキシカルボニル、2,2−ジメチルブトキシカルボニル、1,1−ジメチルブトキシカルボニル、1,2−ジメチルブトキシカルボニル、 Iso pentoxycarbonyl, 2-methyl-butoxycarbonyl, neo-pentoxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, 4-methyl-pentoxycarbonyl, 3-methyl-pentoxycarbonyl, 2-methyl-pentoxycarbonyl, 3,3-dimethyl-butoxycarbonyl, 2 , 2-dimethyl-butoxycarbonyl, 1,1-dimethyl-butoxycarbonyl, 1,2-dimethyl-butoxycarbonyl,
1,3−ジメチルブトキシカルボニル、2,3−ジメチルブトキシカルボニル基のような炭素数2乃至7個の直鎖又は分枝鎖アルコキシカルボニル基であり、であり、 1,3-dimethyl-butoxycarbonyl, a linear or branched alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as 2,3-dimethyl-butoxycarbonyl group, a,
好適にはC 2 −C 5アルコキシカルボニル基であり、更に好適にはC 2 −C 3アルコキシカルボニル基であり、最も好適にはメトキシカルボニル基である。 Suitable a C 2 -C 5 alkoxycarbonyl group, more preferably a C 2 -C 3 alkoxycarbonyl group, most preferably a methoxycarbonyl group.

【0039】上記式中、置換基群aの定義における「低級脂肪族アシル基」は、水素原子又は飽和若しくは不飽和の鎖状炭化水素基がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、 [0039] In the above formula, "lower aliphatic acyl group" in the definition of substituent group a represents a group chain hydrocarbon group hydrogen atom or a saturated or unsaturated linked to a carbonyl group, e.g., formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl, acryloyl, methacryloyl,
クロトノイル基のような炭素数1乃至7個の直鎖又は分枝鎖低級脂肪族アシル基であり、好適にはC 1 −C 5低級脂肪族アシル基であり、更に好適にはアセチル又はプロピオニル基であり、最も好適にはアセチル基である。 A linear or branched lower aliphatic acyl group having 1 to 7 carbon such as crotonoyl, preferably a C 1 -C 5 lower aliphatic acyl group, more preferably an acetyl or propionyl group , and the most preferably an acetyl group.

【0040】上記式中、置換基群aの定義における「モノ−低級アルキルアミノ基」は、前記「低級アルキル基」が1個アミノ基に結合した前述したものと同意義を示し、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、s−ブチルアミノ、t−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、イソペンチルアミノ、2−メチルブチルアミノ、ネオペンチルアミノ、1−エチルプロピルアミノ、ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、4−メチルペンチルアミノ、3−メチルペンチルアミノ、2−メチルペンチルアミノ、1−メチルペンチルアミノ、3,3 [0040] In the above formula, in the definition of substituent group a "mono - lower alkylamino group", the "lower alkyl group" is the same meanings as described above was bonded to one amino group, e.g., methyl amino, ethylamino, propylamino, isopropylamino, butylamino, isobutylamino, s- butylamino, t- butyl amino, pentylamino, isopentylamino amino, 2-methyl-butylamino, neopentyl amino, 1-ethyl-propylamino, hexylamino, isohexyl amino, 4-methylpentylamino, 3-methylpentylamino, 2-methylpentylamino, 1-methylpentylamino, 3,3
−ジメチルブチルアミノ、2,2−ジメチルブチルアミノ、1,1−ジメチルブチルアミノ、1,2−ジメチルブチルアミノ、1,3−ジメチルブチルアミノ、2,3 - dimethylbutylamino, 2,2-dimethyl-butylamino, 1,1-dimethyl-butylamino, 1,2-dimethyl-butylamino, 1,3-dimethyl-butylamino, 2,3
−ジメチルブチルアミノ、2−エチルブチルアミノ基のようなモノ−C 1 −C 6アルキルアミノ基であり、好適にはモノ−C 1 −C 4アルキルアミノ基であり、更に好適にはモノ−C 1 −C 2アルキルアミノ基であり、最も好適にはメチルアミノ基である。 - dimethylbutyl amino, mono--C 1 -C 6 alkylamino groups such as 2-ethyl butyl group, preferably a mono--C 1 -C 4 alkylamino group, more preferably mono--C is an 1 -C 2 alkylamino group, and most preferably a methylamino group.

【0041】上記式中、置換基群aの定義における「ジ−低級アルキルアミノ基」は、前記「低級アルキル基」 [0041] In the above formula, in the definition of substituent group a "di - lower alkylamino group", the "lower alkyl group"
が2個アミノ基に結合した基を示し、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−エチル−N−メチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ基のようなジ−C 1 −C 6アルキルアミノ基であり、好適にはジ−C 1 −C 4アルキルアミノ基であり、更に好適にはジ−C 1 −C 2アルキルアミノ基であり、最も好適にはジメチルアミノ基である。 There indicates bonded groups in two amino groups, for example, dimethylamino, diethylamino, N- ethyl -N- methylamino, dipropylamino, dibutylamino, dipentylamino, di -C 1 -C like dihexylamino group 6 alkylamino group, preferably a di -C 1 -C 4 alkylamino group, more preferably a di -C 1 -C 2 alkylamino group, most preferably a dimethylamino group.

【0042】上記式中、置換基群aの定義における「低級脂肪族アシルアミノ基」は、上記「低級脂肪族アシル基」がアミノ基に結合した基を示し、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミノ、イソバレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、アクリロイルアミノ、メタクリロイルアミノ、クロトノイルアミノ基のような炭素数1乃至7個の直鎖又は分枝鎖低級脂肪族アシルアミノ基であり、好適には、アセチルアミノ又はプロピオニルアミノ基であり、最も好適にはアセチルアミノ基である。 [0042] In the above formula, "lower aliphatic acylamino groups" in the definition of substituent group a represents a group which the "lower aliphatic acyl group" is bonded to an amino group, e.g., formylamino, acetylamino, propionyl amino, butyrylamino, isobutyrylamino, valerylamino, isovalerylamino, pivaloylamino, hexanoylamino, acryloylamino, methacryloylamino, having 1 to 7 carbon such as crotonoyloxy amino group linear or branched lower aliphatic a family acylamino group, preferably, acetylamino or propionylamino group, and most preferably acetylamino group.

【0043】上記式中、R 1及びR 2の定義における「アミノ基の保護基」とは、有機合成化学の分野で一般的に使用されるアミノ基の保護基を意味し、例えば、前記「低級アルキル基」;前記「低級脂肪族アシル基」、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級脂肪族アシル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシで置換された低級脂肪族アシル基などの「脂肪族アシル類」;ベンゾイル、1−インダンカルボニル、2−インダンカルボニル、1−若しくは2−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、4−クロロベンゾイル、4−フルオロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイルのような低級アルキル [0043] In the above formula, the term "amino-protecting group" in the definition of R 1 and R 2, means an amino-protecting group commonly used in the field of organic synthetic chemistry, for example, the " lower alkyl group "; the" lower aliphatic acyl group ", chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, halogeno lower aliphatic acyl group such as trifluoroacetyl, lower aliphatic substituted with lower alkoxy such as methoxy acetyl "aliphatic acyl such" such as an acyl group; benzoyl, 1-indane carbonyl, 2-indane carbonyl, arylcarbonyl group such as 1- or 2-naphthoyl, 4-chlorobenzoyl, halogenoaryl such as 4-fluorobenzoyl carbonyl group, 2,4,6-trimethylbenzoyl, lower alkyl such as 4-toluoyl で置換されたアリールカルボニル基、4−アニソイルのような低級アルコキシで置換されたアリールカルボニル基、4−ニトロベンゾイル、2 In substituted aryl carbonyl group, 4-lower alkoxy-substituted arylcarbonyl group such as anisoyl, 4-nitrobenzoyl, 2
−ニトロベンゾイルのようなニトロで置換されたアリールカルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニルで置換されたアリールカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのようなアリールで置換されたアリールカルボニル基などの「芳香族アシル類」;前記「低級アルコキシカルボニル基」、 - nitro-substituted arylcarbonyl groups, such as nitrobenzoyl, 2- (methoxycarbonyl) a lower alkoxycarbonyl-substituted arylcarbonyl groups in carbonyl such as benzoyl, 4-phenyl aryl in substituted aryl-carbonyl, such as benzoyl the "lower alkoxycarbonyl group"; "aromatic acyl such" such groups
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲンまたはトリ低級アルキルシリルで置換された低級アルコキシカルボニル基などの「アルコキシカルボニル類」;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル類」;ベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基、4− 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, "alkoxycarbonyl such" such as a lower alkoxycarbonyl group substituted with a halogen or tri-lower alkylsilyl as 2-trimethylsilyl-ethoxycarbonyl; vinyloxycarbonyl, such as allyloxycarbonyl "alkenyloxycarbonyl such"; aralkyloxycarbonyl group such as benzyloxycarbonyl, 4-
メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニルのような置換基群aから選択される基で1乃至3個置換されたアラルキルオキシカルボニル基などの「アラルキルオキシカルボニル類」;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ− Methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyl oxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-nitro 1 to 3 substituted aralkyloxycarbonyl groups selected from substituent group a such as benzyloxycarbonyl "aralkyloxycarbonyl such" such groups; trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyl dimethylsilyl, t- butyl dimethylsilyl, methyl diisopropylsilyl, methyl di -
t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのようなアリールまたはアリールと低級アルキルとでトリ置換されたシリル基などの「シリル類」;ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチルのような1乃至3個のアリール基で置換された低級アルキル基、4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、2 t- butylsilyl, tri-lower alkylsilyl group such as triisopropylsilyl, diphenylmethylsilyl, diphenyl-butylsilyl, diphenyl triisopropylsilyl, such as aryl or aryl and tri-substituted silyl group and a lower alkyl such as phenyl diisopropylsilyl "silyl ethers"; benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, alpha-naphthylmethyl, beta-naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, alpha-naphthyl diphenylmethyl, 1 to 3, such as 9-anthrylmethyl lower alkyl group substituted with an aryl group, 4-methylbenzyl, 2,4,6-trimethylbenzyl, 3,4,5-trimethyl benzyl, 4-methoxybenzyl, 4-methoxyphenyl diphenylmethyl, 2
−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル、4 - nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-bromobenzyl, 4-cyanobenzyl, 4
−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−ニトロフェニル)メチル、ピペロニルのような低級アルキル、 - cyanobenzyl diphenylmethyl, bis (2-nitrophenyl) methyl, lower alkyl such as piperonyl,
低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲンまたはシアノでアリール環が置換された1乃至3個のアリール基で置換された低級アルキル基などの「アラルキル類」;ならびにN,N−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、4− Lower alkoxy, nitro, "aralkyl such" such as a lower alkyl group in which an aryl ring by halogen or cyano is substituted by 1 to 3 aryl groups which are substituted; and N, N-dimethylaminomethylene, benzylidene, 4
メトキシベンジリデン、4−ニトロベンジリデン、サリシリデン、5−クロロサリシリデン、ジフェニルメチレン、(5−クロロ−2−ヒドロキシフェニル)フェニルメチレンのような「シッフ塩基を形成する置換されたメチレン基」が包含され、好適には、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である。 Methoxybenzylidene, 4-nitrobenzylidene, Sarishiriden, 5-chloro-butylsalicylidene, diphenylmethylene, are encompassed the (5-chloro-2-hydroxyphenyl) "substituted methylene group forming a Schiff base" such as phenylmethylene preferably a lower alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, or 1 to 3 groups selected from substituent group a substituted aralkyloxycarbonyl group.

【0044】R 3の定義における「ヒドロキシ基の保護基」とは、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る「反応における保護基」、及び、「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」を示す。 The "protecting group for a hydroxy group" in the definition of R 3 include hydrogenolysis, hydrolysis, electrolysis, can be cleaved by chemical methods such as photolysis "protecting group in a reaction", and " a protecting group "which can be cleaved by a biological process such as hydrolysis in vivo.

【0045】そのような「反応における保護基」としては、例えば、前記「低級アルキル基」;前記「脂肪族アシル類」;前記「芳香族アシル類」;テトラヒドロピラン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4−イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル類」;テトラヒドロフラン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル類」;前記「シリル類」;メトキシメチル、 [0045] Such a "protecting group in a reaction", for example, the "lower alkyl group"; the "aliphatic acyls"; the "aromatic acyls"; tetrahydropyran-2-yl, 3-bromo tetrahydropyran-2-yl, 4-methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl, 4-methoxy tetrahydrothiopyran-4 "tetrahydropyranyl or tetrahydrothiopyranyl acids" as-yl; tetrahydrofuran-2-yl, such as tetrahydrothiopyran-2-yl "tetrahydrofuranyl or tetrahydrothiofuranyl acids"; the "silyl compound"; methoxymethyl,
1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチルのようなハロゲノ低級アルコキシメチル等の「アルコキシメチル基」;1−エトキシエチル、1−(イソプロポキシ)エチルのような低級アルコキシ化エチル基、 1,1-dimethyl-1-methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, iso-propoxymethyl, butoxymethyl, lower alkoxymethyl groups such as t- butoxymethyl, 2-methoxyethoxy lower alkoxylated lower alkoxymethyl, such as methyl group, 2,2,2-trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) "alkoxymethyl group" such as a halogeno lower alkoxymethyl, such as methyl; 1-ethoxyethyl, such as 1- (isopropoxy) ethyl lower alkoxylated ethyl groups,
2,2,2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル類」;前記「アラルキル類」;前記「アルコキシカルボニル類」;前記「アルケニルオキシカルボニル類」;前記「アラルキルオキシカルボニル基」を挙げることができる。 2,2,2 "substituted ethyl ethers", such as a halogenated ethyl group such as trichloroethyl; the "aralkyl acids"; the "alkoxycarbonyl such"; the "alkenyloxycarbonyl such"; the "aralkyloxycarbonyl group "I can be mentioned.

【0046】一方、「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」としては、例えば、エチルカルボニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、ジメチルアミノアセチルキシメチル、1−アセトキシエチルのようなアシルオキシアルキル類;1−(メトキシカルボニルオキシ)エチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチル、エトキシカルボニルオキシメチル、1−(イソプロポキシカルボニルオキシ)エチル、 Meanwhile, the "protecting group such cleavable biological methods as hydrolysis in vivo" includes, for example, ethyl carbonyl oxymethyl, pivaloyloxymethyl, dimethylaminoacetyl carboxymethyl, 1-acetoxy acyloxyalkyl ethers such as ethyl; 1- (methoxycarbonyloxy) ethyl, 1- (ethoxycarbonyloxy) ethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, 1- (isopropoxycarbonyloxy) ethyl,
1−(t−ブトキシカルボニルオキシ)エチル、1− 1- (t-butoxycarbonyl) ethyl, 1-
(エトキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)エチルのような1− (Ethoxycarbonyloxy) propyl, 1-like (cyclohexyloxycarbonyloxy) ethyl 1
(アルコキシカルボニルオキシ)アルキル類;フタリジル基;4−メチル−オキソジオキソレニルメチル、4− (Alkoxycarbonyloxy) alkyl ethers; phthalidyl group; 4-methyl - oxodioxolenyl methyl, 4-
フェニル−オキソジオキソレニルメチル、オキソジオキソレニルメチルのようなオキソジオキソレニルメチル基等の「カルボニルオキシアルキル類」;前記「脂肪族アシル類」;前記「芳香族アシル類」;「コハク酸のハーフエステル塩残基」;「燐酸エステル塩残基」;「アミノ酸等のエステル形成残基」;カルバモイル基;ベンジリデンのようなアラルキリデン基;メトキシエチリデン、エトキシエチリデンのようなアルコキシエチリデン基;オキソメチレン;チオキソメチレンのような「2つの水酸基の保護基」;及び、ピバロイルオキシメチルオキシカルボニルのような「カルボニルオキシアルキルオキシカルボニル基」を挙げることができ、そのような誘導体か否かは、ラットやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、 Phenyl - oxodioxolenyl methyl, "alkylcarbonyloxy alkyls" such oxodioxolenyl methyl group such as oxodioxolenyl methyl; the "aliphatic acyls"; the "aromatic acyl compounds"; "half ester salt residue of succinic acid"; "phosphate ester salt residue": "ester forming residues such as amino acid"; a carbamoyl group; aralkylidene groups such as benzylidene; methoxy-ethylidene, alkoxy ethylidene group such as ethoxy-ethylidene ; "two hydroxyl protecting group" as a arylthioxo methylene; oxomethylene and pivaloyl "alkylcarbonyloxy alkyloxycarbonyl group" such as oxymethyl oxycarbonyl can be mentioned, or such derivatives whether it is administered by intravenous injection to experimental animals such as rats and mice, の後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬理学的に許容される塩を検出できることにより決定できる。 Examining body fluids of the animal, after, it can be determined by detectable compound or a pharmacologically acceptable salt thereof underlying.

【0047】このようなヒドロキシ基の保護基として、 [0047] as a protecting group of such hydroxy group,
好適には、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換された芳香族アシル基である。 Preferably a lower aliphatic acyl group, aromatic acyl group or by 1 to 3 substituted with a group selected from Substituent group a aromatic acyl group.

【0048】上記において、R 5の定義における「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基」の具体例としては、例えば、 [0048] In the above, specific examples of the "substituted with at least one group selected from substituent group a and b cycloalkyl group" in the definition of R 5 is, for example,
2−フルオロシクロプロピル、2−クロロシクロプロピル、2−若しくは3−フルオロシクロペンチル、2−若しくは3−クロロシクロペンチル、2−,3−若しくは4−フルオロシクロヘキシル、2−,3−若しくは4− 2-fluoro-cyclopropyl, 2-chloro-cyclopropyl, 2- or 3-fluoro-cyclopentyl, 2- or 3-chloro-cyclopentyl, 2-, 3- or 4-fluoro-cyclohexyl, 2-, 3- or 4-
クロロシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−ブロモシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−ヨ−ドシクロヘキシル、2−メチルシクロプロピル、2−メチルシクロブチル、2−若しくは3−メチルシクロペンチル、2 Chlorocyclohexyl, 2-, 3- or 4-bromocyclohexyl, 2-, 3- or 4-Yo - de cyclohexyl, 2-methylcyclopropyl, 2-methyl-cyclobutyl, 2- or 3-methylcyclopentyl, 2
−若しくは3−エチルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−メチルシクロヘキシル、2−,3−若しくは4 - or 3-ethyl-cyclopentyl, 2-, 3- or 4-methylcyclohexyl, 2-, 3- or 4
−エチルシクロヘキシル、2−トリフルオロメチルシクロプロピル、2−若しくは3−トリフルオロメチルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−トリフルオロメチルシクロヘキシル、2−メトキシシクロプロピル、2− - ethyl cyclohexyl, 2-trifluoromethyl-cyclopropyl, 2- or 3-trifluoromethyl-methylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-trifluoromethyl-cyclohexyl, 2-methoxy-cyclopropyl, 2-
若しくは3−メトキシシクロペンチル、2−若しくは3 Or 3-methoxy-cyclopentyl, 2- or 3
−エトキシシクロペンチル、2−,3−若しくは4−メトキシシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−エトキシシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−プロポキシシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−イソプロポキシシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−(1−エチルプロポキシ)シクロヘキシル、2−,3−若しくは4 - ethoxy cyclopentyl, 2-, 3- or 4-methoxy-cyclohexyl, 2-, 3- or 4-ethoxy-cyclohexyl, 2-, 3- or 4-isopropoxycyclohexyl, 2-, 3- or 4-isopropoxycyclohexyl, 2 -, 3- or 4- (1-ethyl-propoxy) cyclohexyl, 2-, 3- or 4
−(2−エチルプロポキシ)シクロヘキシル、2−カルボキシルシクロプロピル、2−若しくは3−カルボキシルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−カルボキシルシクロヘキシル、2−メトキシカルボニルシクロプロピル、2−若しくは3−メトキシカルボニルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−メトキシカルボニルシクロヘキシル、2−ヒドロキシシクロプロピル、2−若しくは3−ヒドロキシシクロペンチル、2−,3−若しくは4−ヒドロキシシクロヘキシル、2−ホルミルシクロプロピル、2−若しくは3−ホルミルシクロペンチル、 - (2-ethyl-propoxy) cyclohexyl, 2-carboxyl-cyclopropyl, 2- or 3-carboxy-cyclopentyl, 2-, 3- or 4-carboxyl-cyclohexyl, 2-methoxycarbonyl-cyclopropyl, 2- or 3-methoxycarbonyl cyclopentyl, 2-, 3- or 4-methoxycarbonyl-cyclohexyl, 2-hydroxycyclopropyl, 2- or 3-hydroxycyclopentyl, 2-, 3- or 4-hydroxycyclohexyl, 2-formyl-cyclopropyl, 2- or 3-formyl-cyclopentyl ,
2−,3−若しくは4−ホルミルシクロヘキシル、2− 2-, 3- or 4-formylcyclohexyl, 2
アセチルシクロプロピル、2−若しくは3−アセチルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−アセチルシクロヘキシル、2−アミノシクロプロピル、2−若しくは3 Acetyl cyclopropyl, 2- or 3-acetyl-cyclopentyl, 2-, 3- or 4-acetyl-cyclohexyl, 2-amino-cyclopropyl, 2 or 3
−アミノシクロペンチル、2−,3−若しくは4−アミノシクロヘキシル、2−メチルアミノシクロプロピル、 - aminocyclopentyl, 2-, 3- or 4-aminocyclohexyl, 2-methylamino-cyclopropyl,
2−若しくは3−メチルアミノシクロペンチル、2−若しくは3−エチルアミノシクロペンチル、2−,3−若しくは4−メチルアミノシクロヘキシル、2−ジメチルアミノシクロプロピル、2−若しくは3−ジメチルアミノシクロペンチル、2−若しくは3−ジエチルアミノシクロペンチル、2−,3−若しくは4−ジメチルアミノシクロヘキシル、2−シアノシクロプロピル、2−若しくは3−シアノシクロペンチル、2−,3−若しくは4 2- or 3-methylamino-cyclopentyl, 2- or 3-ethylamino cyclopentyl, 2-, 3- or 4-methylamino-cyclohexyl, 2-dimethylamino-cyclopropyl, 2- or 3-dimethylamino-cyclopentyl, 2- or 3 - diethylamino cyclopentyl, 2-, 3- or 4-dimethylaminocyclohexyl, 2-cyanocyclopropyl, 2- or 3-cyanocyclopentyl, 2-, 3- or 4
−シアノシクロヘキシル、2−若しくは3−シクロヘキシルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−シクロヘキシルシクロヘキシル、2−フェニルシクロプロピル、 - cyano cyclohexyl, 2- or 3-cyclohexyl cyclopentyl, 2-, 3- or 4-cyclohexylcyclohexyl, 2-phenylcyclopropyl,
2−若しくは3−フェニルシクロペンチル、2−,3− 2- or 3-phenylcyclopentyl, 2-, 3-
若しくは4−フェニルシクロヘキシル、3,4−ジフルオロシクロヘキシル、3,4−ジクロロシクロヘキシル、2,3−ジメトキシシクロヘキシル、3,4−ジメトキシシクロヘキシル、3,5−ジメトキシシクロヘキシル、3,4,5−トリメトキシシクロヘキシル基であり、好適には、置換基群a及びbから選択される基で1 Or 4-phenylcyclohexyl, 3,4-difluoro-cyclohexyl, 3,4-dichloro cyclohexyl, 2,3-dimethoxy-cyclohexyl, 3,4-dimethoxy-cyclohexyl, 3,5-dimethoxy-cyclohexyl, 3,4,5-trimethoxy-cyclohexyl a group, preferably, 1 a group selected from substituent groups a and b
乃至3個置換されたシクロアルキル基であり、更に好適には、1乃至3個置換されたシクロアルキル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基である。)であり、より好適には、1乃至3個置換されたシクロアルキル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基である。)であり、最も好適には、1個置換されたシクロヘキシル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である。)である。 Or a 3-substituted cycloalkyl group, and more preferably, 1 to 3 substituted cycloalkyl group (the substituent, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower is a radical selected from the group consisting of an alkylthio group.), more preferably, 1 to 3 substituted cycloalkyl group (the substituent, a halogen atom, a lower alkyl group and a lower alkoxy group is a radical selected from the group.), and the most preferred, one substituted cyclohexyl group (said substituent is a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group.).

【0049】上記において、R 5の定義における「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基」の具体例としては、例えば、2−, [0049] In the above, "substituted with at least one group selected from substituent group a and b were ants - Le group" in the definition of R 5 can be obtained by, for example, 2-,
3−若しくは4−フルオロフェニル、2−,3−若しくは4−クロロフェニル、2−,3−若しくは4−ブロモフェニル、2−,3−若しくは4−ヨ−ドフェニル、2 3- or 4-fluorophenyl, 2-, 3- or 4-chlorophenyl, 2-, 3- or 4-bromophenyl, 2-, 3- or 4-Yo - Dofeniru, 2
−,3−若しくは4−メチルフェニル、2−,3−若しくは4−エチルフェニル、2−,3−若しくは4−プロピルフェニル、2−,3−若しくは4−ブチルフェニル、2−,3−若しくは4−ペンチルフェニル、2−, -, 3- or 4-methylphenyl, 2-, 3- or 4-ethylphenyl, 2-, 3- or 4-propylphenyl, 2-, 3- or 4-butylphenyl, 2-, 3- or 4 - pentylphenyl, 2-,
3−若しくは4−トリフルオロメチルフェニル、2−, 3- or 4-trifluoromethylphenyl, 2-,
3−若しくは4−メトキシフェニル、2−,3−若しくは4−エトキシフェニル、2−,3−若しくは4−プロポキシフェニル、2−,3−若しくは4−イソプロポキシフェニル、2−,3−若しくは4−ブトキシフェニル、2−,3−若しくは4−(1−エチルプロポキシ) 3- or 4-methoxyphenyl, 2-, 3- or 4-ethoxyphenyl, 2-, 3- or 4-isopropoxyphenyl, 2-, 3- or 4-isopropoxyphenyl, 2-, 3- or 4- butoxyphenyl, 2-, 3- or 4- (1-ethyl-propoxy)
フェニル、2−,3−若しくは4−(2−エチルプロポキシ)フェニル、2−,3−若しくは4−メチルチオフェニル、2−,3−若しくは4−エチルチオフェニル、 Phenyl, 2-, 3- or 4- (2-ethyl-propoxy) phenyl, 2-, 3- or 4-methylthiophenyl, 2-, 3- or 4-ethyl-thiophenyl,
2−,3−若しくは4−カルボキシルフェニル、2−, 2-, 3- or 4-carboxyphenyl, 2-,
3−若しくは4−メトキシカルボニルフェニル、2−, 3- or 4-methoxycarbonylphenyl, 2-,
3−若しくは4−エトキシカルボニルフェニル、2−, 3- or 4-ethoxycarbonyl phenyl, 2-,
3−若しくは4−ヒドロキシフェニル、2−,3−若しくは4−ホルミルフェニル、2−,3−若しくは4−アセチルフェニル、2−,3−若しくは4−アミノフェニル、2−,3−若しくは4−メチルアミノフェニル、2 3- or 4-hydroxyphenyl, 2-, 3- or 4-formylphenyl, 2-, 3- or 4-acetylphenyl, 2-, 3- or 4-aminophenyl, 2-, 3- or 4-methyl aminophenyl, 2
−,3−若しくは4−ジメチルアミノフェニル、2−, -, 3- or 4-dimethylaminophenyl, 2-,
3−若しくは4−シアノフェニル、2−,3−若しくは4−シクロペンチルフェニル、2−,3−若しくは4− 3- or 4-cyanophenyl, 2-, 3- or 4-cyclopentylphenyl, 2-, 3- or 4-
シクロヘキシルフェニル、2−,3−若しくは4−ビフェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,4− Phenyl, 2-, 3- or 4-biphenyl, 2,4-difluorophenyl, 3,4-difluorophenyl, 3,5-difluorophenyl, 2,4
ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、3,5 Dichlorophenyl, 3,4-dichlorophenyl, 3,5
−ジクロロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、2, - dichlorophenyl, 3,4-dibromophenyl, 2,
3−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、 3-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl,
3,5−ジメチルフェニル、2,3−ジメトキシフェニル、3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジメトキシフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、3−フルオロ−4−メトキシフェニル、4−メチル−2−メトキシフェニル、6−フルオロ−4−メチル−2−メトキシフェニル、5−フルオロインデン−3−イル、5−フルオロインデン−3−イル、5−メチルインデン−3− 3,5-dimethylphenyl, 2,3-dimethoxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl, 3,5-dimethoxyphenyl, 3,4,5-trimethoxyphenyl, 3-fluoro-4-methoxyphenyl, 4-methyl 2-methoxyphenyl, 6-fluoro-4-methyl-2-methoxyphenyl, 5-fluoro-inden-3-yl, 5-fluoro-inden-3-yl, 5-methyl-indene-3-
イル、5−メトキシインデン−3−イル、5−フルオロインデン−2−イル、5−クロロインデン−2−イル、 Yl, 5-methoxy-inden-3-yl, 5-fluoro-inden-2-yl, 5-chloro-inden-2-yl,
5−メチルインデン−2−イル、5−メトキシインデン−2−イル、5−ヒドロキシインデン−3−イル、5− 5-methyl-inden-2-yl, 5-methoxy-inden-2-yl, 5-hydroxy-inden-3-yl, 5-
ニトロインデン−3−イル、5−シクロヘキシルインデン−3−イル、5−フェニルインデン−3−イル、5− Nitro inden-3-yl, 5-cyclohexyl-inden-3-yl, 5-phenyl-inden-3-yl, 5-
フェノキシインデン−3−イル、5−ベンジルオキシインデン−3−イル、5−フェニルチオインデン−3−イル、5−ヒドロキシインデン−2−イル、5−ニトロインデン−2−イル、5−シクロヘキシルインデン−2− Phenoxy inden-3-yl, 5-benzyloxy-inden-3-yl, 5-phenyl-thio-inden-3-yl, 5-hydroxy-inden-2-yl, 5-nitro-inden-2-yl, 5-cyclohexyl-indene - 2
イル、5−フェニルインデン−2−イル、5−フルオロナフタレン−2−イル、5−フルオロナフタレン−2− Yl, 5-phenyl-inden-2-yl, 5-fluoro-2-yl, 5-fluoro-2-
イル、5−メチルナフタレン−2−イル、5−メトキシナフタレン−2−イル、5−フルオロナフタレン−1− Yl, 5-methyl-2-yl, 5-methoxy-2-yl, 5-fluoro-naphthalene-1
イル、5−フルオロナフタレン−1−イル、5−メチルナフタレン−1−イル、5−メトキシナフタレン−1− Yl, 5-fluoro-1-yl, 5-methyl-naphthalen-1-yl, 5-methoxynaphthalene-1-
イル、5−ヒドロキシナフタレン−2−イル、5−ニトロナフタレン−2−イル、5−シクロヘキシルナフタレン−2−イル、5−フェニルナフタレン−2−イル、5 Yl, 5-hydroxy-2-yl, 5-nitro-2-yl, 5-cyclohexyl-2-yl, 5-phenyl-2-yl, 5
−フェノキシナフタレン−2−イル、5−ベンジルオキシナフタレン−2−イル、5−フェニルチオナフタレン−2−イル、5−ヒドロキシナフタレン−1−イル、5 - phenoxy-2-yl, 5-benzyloxy-2-yl, 5-phenylthio-2-yl, 5-hydroxy-1-yl, 5
−ニトロナフタレン−1−イル、5−シクロヘキシルナフタレン−1−イル、5−フェニルナフタレン−1−イル基であり、好適には、置換基群a及びbから選択される基で1乃至3個置換されたアリ−ル基であり、更に好適には、1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基である。)であり、より好適には、1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基である。)であり、更により1 - nitronaphthalene 1-yl, 5-cyclohexyl-1-yl, a 5-phenyl-1-yl group, preferably, 1 to 3 optionally substituted with a group selected from Substituent group a and b been ants - a group, and more preferably, 1 to 3-substituted ants - Le group (the substituent is a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower alkylthio group . from a group selected from the group consisting of), more preferably, 1 to 3-substituted ants - Le group (the substituent group consisting of a halogen atom, a lower alkyl group and a lower alkoxy group is a group selected from.), and even more 1
個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、 Pieces substituted ants - Le group (the substituent is a halogen atom,
低級アルキル基又は低級アルコキシ基である。 A lower alkyl group or a lower alkoxy group. )であり、最も好適にはp−トリル基である。 ), And it is most preferably a p- tolyl.

【0050】上記において、R 5の定義における「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基」の具体例としては、例えば、3−,4 [0050] In the above, specific examples of the "substituted with at least one group selected from substituent group a and b heterocycle group" in the definition of R 5 is, for example, 3-, 4
−若しくは5−メチルフラン−2−イル、2−,4−若しくは5−メチルフラン−3−イル、3−,4−若しくは5−フルオロチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5−フルオロフラン−3−イル、3−,4−若しくは5−ブロモチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5−ブロモフラン−3−イル、3−,4−若しくは5 - or 5-methyl-furan-2-yl, 2-, 4- or 5-methyl-furan-3-yl, 3-, 4- or 5-fluoro-2-yl, 2-, 4- or 5-fluoro furan-3-yl, 3-, 4- or 5-bromo-2-yl, 2-, 4- or 5-bromofuran-3-yl, 3-, 4- or 5
−メチルチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5 - methylthiophene-2-yl, 2-, 4- or 5
−メチルチオフェン−3−イル、3−,4−若しくは5 - methylthiophene-3-yl, 3-, 4- or 5
−エチルチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5 - ethyl thiophen-2-yl, 2-, 4- or 5
−エチルチオフェン−3−イル、3−,4−若しくは5 - ethyl thiophen-3-yl, 3-, 4- or 5
−メトキシチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5−メトキシチオフェン−3−イル、3−若しくは4− - methoxy-2-yl, 2-, 4- or 5-methoxy-thiophen-3-yl, 3- or 4-
メチルチアゾ−ル−5−イル、3−,4−若しくは5− Mechiruchiazo --5-yl, 3-, 4- or 5-
フルオロベンゾチオフェン−2−イル、3−,4−若しくは5−ブロモベンゾチオフェン−2−イル、3−,4 Fluorobenzoyl-2-yl, 3-, 4- or 5-bromobenzoyl-2-yl, 3-, 4
−若しくは5−メチルベンゾチオフェン−2−イル、3 - or 5-methyl-benzothiophen-2-yl, 3
−,4−若しくは5−メトキシベンゾチオフェン−2− -, 4- or 5-methoxy benzothiophene-2
イル、2−,4−若しくは5−フルオロベンゾチオフェン−3−イル、2−,4−若しくは5−ブロモベンゾチオフェン−3−イル、2−,4−若しくは5−メチルベンゾチオフェン−3−イル、2−,4−若しくは5−メトキシベンゾチオフェン−3−イル、4−,5−,6− Yl, 2-, 4- or 5-fluoro-3-yl, 2-, 4- or 5-bromo-3-yl, 2-, 4- or 5-methyl-3-yl, 2-, 4- or 5-methoxy-3-yl, 4-, 5-, 6-
若しくは7−メチルベンゾチオフェン−2−イル、3 Or 7-methyl benzothiophene-2-yl, 3
−,4−若しくは5−ヒドロキシフラン−2−イル、2 -, 4- or 5-hydroxy-furan-2-yl, 2
−,4−若しくは5−ヒドロキシフラン−3−イル、3 -, 4- or 5-hydroxy-3-yl, 3
−,4−若しくは5−ヒドロキシチオフェン−2−イル、3−,4−若しくは5−ニトロチオフェン−2−イル、3−,4−若しくは5−フェニルチオフェン−2− -, 4- or 5-hydroxy-2-yl, 3-, 4- or 5-nitro-2-yl, 3-, 4- or 5-phenyl-2-
イル、2−,4−若しくは5−ヒドロキシチオフェン− Yl, 2-, 4- or 5-hydroxy-thiophene -
3−イル、2−,4−若しくは5−シアノチオフェン− 3-yl, 2-, 4- or 5-cyano-thiophene -
3−イル、1−,2−若しくは3−ヒドロキシピリジン−4−イル、1−,2−若しくは3−シアノピリジン− 3-yl, 1-, 4- 2- or 3-hydroxypyridine-yl, 1-, 2- or 3-cyanopyridine -
4−イル、1−,2−若しくは3−フェニルピリジン− 4-yl, 1-, 2- or 3-phenylpyridine -
4−イル基であり、好適には、置換基群a及びbから選択される基で1乃至3個置換された複素環基であり、更に好適には、置換基群a及びbから選択される基で1乃至3個置換されたフリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリル基であり、より好適には、1乃至3個置換されたフリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基である。)であり、更により好適には、1乃至3個置換されたフリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基である。)であり、最も好適には、 A 4-yl group, preferably 1 to 3-substituted heterocyclic group with a group selected from Substituent group a and b, more preferably, are selected from substituent group a and b that 1 to 3-substituted furyl in groups, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group, and more preferably, 1 to 3-substituted furyl, thienyl, pyrrolyl, or imidazolyl group (the substituent is a halogen atom, lower alkyl, halogeno-lower alkyl group, a group selected from the group consisting of lower alkoxy and lower alkylthio groups.), and even more preferably more, 1 to 3-substituted furyl, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group (the substituent is a halogen atom, a group selected from the group consisting of lower alkyl groups and lower alkoxy groups.), and most preferably,
1個置換されたフリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基である。)である。 One substituted furyl, thienyl, pyrrolyl, or imidazolyl group (the substituent is a halogen atom, a group selected from the group consisting of lower alkyl groups and lower alkoxy groups.) Is.

【0051】「その薬理上許容される塩」とは、本発明の一般式(I)を有する化合物は、アミノ基のような塩基性の基を有する場合には酸と反応させることにより、 [0051] and "pharmacologically acceptable salt", compounds having the general formula (I) of the present invention, by reacting with an acid in the case of having a basic group such as amino group,
又、カルボキシル基のような酸性基を有する場合には塩基と反応させることにより、塩にすることができるので、その塩を示す。 Also, by reacting with a base in the case of having an acidic group such as carboxyl group, it is possible to salt shows a salt thereof.

【0052】塩基性基に基づく塩としては、好適には、 [0052] As salts based on basic groups, preferably,
弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩;メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、 Methanesulfonic acid; hydrofluoric acid salts, hydrochlorides, hydrobromides, hydrohalide such as hydroiodic acid, nitrate, perchlorate, sulfate, inorganic salts such as phosphates salt, trifluoromethanesulfonate, lower alkanesulfonates such as ethanesulfonic acid salts, benzenesulfonate,
p−トルエンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸塩、りんご酸塩、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、 Ants, such as p- toluenesulfonic acid salt - Rusuruhon, acetate, malate, fumarate - Le, succinate,
クエン酸塩、アスコルビン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩;及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができ、最も好適には有機酸塩を挙げることができる。 Citrate, ascorbate, tartrate, oxalate, organic acid salts such as maleate; and, glycine salts, lysine salts, arginine salts, ornithine salts, glutamic acid salts, mention amino acid salts such as aspartate it can be, and most preferably may be mentioned organic acid salts.

【0053】一方、酸性基に基づく塩としては、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩等の金属塩;アンモニウム塩のような無機塩、t−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、N−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、 [0053] On the other hand, the salt based on the acidic group, preferably a sodium salt, potassium salt, alkali metal salts, calcium salts, alkaline earth metal salts such as magnesium salts such as lithium salts, aluminum salts, iron metal salts of salt; inorganic salts such as ammonium salts, t-octylamine salts, dibenzylamine salts, morpholine salts, glucosamine salts, phenylglycine alkyl ester salts, ethylenediamine salts, N- methylglucamine salts, guanidine salts,
ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N'−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノ−ルアミン塩、N−ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩;及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができる。 Diethylamine salt, triethylamine salt, dicyclohexylamine salt, N, N'- dibenzylethylenediamine salts, chloroprocaine salts, procaine salts, Jietano - triethanolamine salts, N- benzylphenethylamine salt, piperazine salt, tetramethylammonium salt, tris (hydroxymethyl ) amine salts of organic salts such as aminomethane salts; and include glycine salts, lysine salts, arginine salts, ornithine salts, glutamic acid salts, amino acid salts such as aspartate.

【0054】本発明の一般式(I)を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体は、大気中に放置したり、又は、再結晶をすることにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような水和物も本発明の塩に包含される。 The compounds having the general formula (I) of the present invention, a pharmacologically acceptable salt, esters or other derivatives, or left in the air, or, by recrystallization, absorption of moisture and, or with adsorbed water, may become a hydrate, such hydrates are also included in the salts of the present invention.

【0055】本発明の一般式(I)を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体は、その分子内に不斉炭素原子が存在する場合があるので、種々の異性体を有することがある。 The compounds of general formula (I) of the present invention, a pharmacologically acceptable salt, esters or other derivatives, there is a case where asymmetric carbon atoms are present in the molecule, various isomers it may have the body. 本発明においては、これらの異性体およびこれらの異性体の混合物がすべて単一の式、即ち一般式(I)で示されている。 In the present invention, it is illustrated mixture all single expression of these isomers and these isomers, namely the general formula (I). 従って、本発明はこれらの異性体およびこれらの異性体の任意の割合の混合物をもすべて含むものである。 Accordingly, the present invention also includes all of these isomers and mixtures of any proportion of these isomers.

【0056】本発明の一般式(I)を有する化合物の下記式(I−1) [0056] formula of a compound having the general formula (I) of the present invention (I-1)

【0057】 [0057]

【化13】 [Of 13]

【0058】を有する基において、NR 12基、OR 3 [0058] In the group having, NR 1 R 2 groups, OR 3
基及びR 4基は不斉炭素原子に置換してるため、式(I Since the four groups and R is substituted on the asymmetric carbon atom, the formula (I
−1)を有する基は、下記(I−1a)又は(I−1 Group having -1), the following (I-1a) or (I-1
b) b)

【0059】 [0059]

【化14】 [Of 14]

【0060】 [0060]

【化15】 [Of 15]

【0061】の立体配置を有し得、特に(I-1b)の立体配置を有する化合物が好ましい。 [0061] have a configuration of, in particular compounds having a configuration of (I-1b) is preferred.

【0062】上記における「エステル」とは、本発明の化合物(I)は、エステルにすることができるので、そのエステルをいい、そのようなエステルとしては、「ヒドロキシ基のエステル」及び「カルボキシ基のエステル」を挙げることができ、各々のエステル残基が「一般的保護基」又は「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」であるエステルをいう。 [0062] "Ester" in the above compounds (I) of the present invention, it is possible to ester refers to an ester, examples of such esters, "ester of a hydroxy group" and "carboxy group can be mentioned ester "refers to each of the ester residue is a" general protecting group "or" protecting group which can be cleaved by a biological process such as hydrolysis in vivo "ester.

【0063】「一般的保護基」とは、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基をいう。 [0063] The "General protecting groups", hydrogenolysis, hydrolysis, electrolysis, refers to a protecting group which can be cleaved by chemical methods such as photolysis.

【0064】「ヒドロキシ基のエステル」に斯かる「一般的保護基」としては、前述したものと同意議を示す。 [0064] As Cal 斯 the "ester of a hydroxy group" "General protecting groups" refers to agree discussions with those described above.

【0065】一方、「カルボキシ基のエステル」に斯かる「一般的保護基」としては、好適には、前記「低級アルキル基」;エテニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル− [0065] On the other hand, as mow 斯 the "ester of a carboxy group" "General protecting groups", preferably the "lower alkyl group"; ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 1-methyl-2- propenyl, 1-methyl-1-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl -
2−プロペニル、2−エチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、1 2-propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 1-methyl-2-butenyl, 1
−メチル−1−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、 - methyl-1-butenyl, 3-methyl-2-butenyl,
1−エチル−2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl, 1-ethyl-3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl,
1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、 1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-pentenyl,
2−メチル−3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル1 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4-pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl 1
−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4− - hexenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-
ヘキセニル、5−ヘキセニルのような低級アルケニル基;エチニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−エチル−2 Hexenyl, lower alkenyl groups such as 5-hexenyl; ethynyl, 2-propynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-methyl-2-propynyl, 2-ethyl -2
−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニル、2−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2− - propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-butynyl, 2-methyl-2-butynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl-3-butynyl, 2-
メチル−3−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2 Methyl-3-butynyl, 1-ethyl-3-butynyl, 2
−ペンチニル、1−メチル−2−ペンチニル、2−メチル−2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メチル−3 - pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl, 2-methyl-2-pentynyl, 3-pentynyl, 1-methyl-3
−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−4−ペンチニル、2−メチル−4 - pentynyl, 2-methyl-3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-methyl-4-pentynyl, 2-methyl-4
−ペンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4− - pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 4-
ヘキシニル、5−ヘキシニルのような低級アルキニル基;前記「ハロゲノ低級アルキル」;2−ヒドロキシエチル、2,3−ジヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、3,4−ジヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチルのようなヒドロキシ「低級アルキル基」;アセチルメチルのような「低級脂肪族アシル」−「低級アルキル基」;前記「アラルキル基」;前記「シリル基」を挙げることができる。 Hexynyl, lower alkynyl groups such as 5-hexynyl; said "halogeno lower alkyl"; 2-hydroxyethyl, 2,3-dihydroxypropyl, 3-hydroxypropyl, 3,4-dihydroxy-butyl, such as 4-hydroxybutyl hydroxy "lower alkyl group"; "lower aliphatic acyl" such as acetyl methyl - "lower alkyl group"; the "aralkyl group"; can be given the "silyl group".

【0066】「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解等の生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩を生成する保護基をいい、そのような誘導体か否かは、ラットやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、 [0066] "Protecting group which can be cleaved by a biological process such as hydrolysis in vivo" is cleaved by biological methods such as hydrolysis in the human body to produce a free acid or a salt thereof refers to protecting groups, whether such derivatives or, administered by intravenous injection to experimental animals such as rats and mice,
その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬理学的に許容される塩を検出できることにより決定でき、「ヒドロキシ基のエステル」に斯かる「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」 Examine the fluid subsequent animal, it can be determined by the ability to detect a compound or a pharmacologically acceptable salt thereof as a source, mow 斯 the "hydroxy ester groups" "such as hydrolysis in vivo biological protecting group which can be cleaved by the method "
としては、前述したものと同意議を示す。 As shows agreement discussions with those described above.

【0067】一方、「カルボキシ基のエステル」に斯かる「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」としては、好適には、メトキシエチル、 [0067] On the other hand, as mow 斯 the "ester of a carboxy group" "protecting group which can be cleaved by a biological process such as hydrolysis in vivo" is preferably methoxyethyl,
1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチル、1−(イソプロポキシ)エチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル、1,1−ジメチル−1−メトキシエチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、 1-ethoxyethyl, 1-methyl-1-methoxyethyl, 1- (isopropoxy) ethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 1,1-dimethyl-1-methoxyethyl, ethoxymethyl, n- propoxymethyl ,
イソプロポキシメチル、n−ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低級アルコキシ低級アルキル基、2 Isopropoxymethyl, n- butoxymethyl, lower alkoxy-lower alkyl groups such as t- butoxymethyl, 2
−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシメチルのような「アリール」オキシ「低級アルキル基」、2,2,2 - lower alkoxylated lower alkoxy-lower alkyl groups such as methoxyethoxymethyl, phenoxy "aryl" oxy "lower alkyl group" such as methyl, 2,2,2
−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシ低級アルキル基等の「アルコキシアルキル基」;メトキシカルボニルメチルのような「「低級アルコキシ」カルボニル「低級アルキル基」」;シアノメチル、2−シアノエチルのような「シアノ「低級アルキル基」;メチルチオメチル、エチルチオメチルのような「「低級アルキル」チオメチル基」;フェニルチオメチル、ナフチルチオメチルのような「「アリール」チオメチル基」;2−メタンスルホニルエチル、2−トリフルオロメタンスルホニルエチルのような「ハロゲンで置換されていてもよい「低級アルキル」スルホニル「低級アルキル基」」;2−ベンゼンスルホニルエチル、2−トルエンスルホニルエチルのような「「アリ - trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) "alkoxyalkyl group" such as a halogenated lower alkoxy lower alkyl group such as methyl; such as methoxycarbonylmethyl, "" lower alkoxy "carbonyl" lower alkyl group ""; cyanomethyl, 2-"cyano" lower alkyl group "such as cyanoethyl; methylthiomethyl," "lower alkyl" thiomethyl group such as ethylthiomethyl "; phenylthiomethyl," "aryl" thiomethyl group such as a naphthylene Lucio methyl "; 2-methanesulfonyl-ethyl, 2-trifluoromethyl like methanesulfonylethyl" optionally substituted with halogens "lower alkyl" sulfonyl "lower alkyl group"; "2-benzenesulfonyl-ethyl, 2-toluenesulfonyl ethyl such as " 'Ali ル」スルホニル「低級アルキル基」」;前記「1−(アシルオキシ)「低級アルキル基」」;前記「フタリジル基」;前記「アリール基」; Le "sulfonyl" lower alkyl group "", the "1- (acyloxy)" lower alkyl group "", the "phthalidyl group"; the "aryl group";
前記「低級アルキル基」;カルボキシメチルのような「カルボキシアルキル基」;及びフェニルアラニンのような「アミノ酸のアミド形成残基」を挙げることができる。 May be mentioned and "amide forming residues of amino acids" such as phenylalanine; the "lower alkyl group"; carboxy "carboxyalkyl group" such as methyl.

【0068】「その他の誘導体」とは、本発明の一般式(I)を有する化合物が、アミノ基を有する場合、上記「薬理上許容される塩」及び上記「そのエステル」以外の誘導体にすることができるので、その誘導体を示す。 [0068] "Other derivatives", compounds having the general formula (I) of the present invention, when having an amino group, into derivatives other than the "pharmacologically acceptable salt" and the "ester thereof" it is possible, indicate its derivatives.
そのような誘導体としては、例えばアシル基を有するようなアミド誘導体を挙げることができる。 Such derivatives include an amide derivative such as having, for example, an acyl group.

【0069】本発明の一般式(I)を有する化合物の具体例としては、例えば、下記表1及び2に記載の化合物を挙げることができるが、本発明は、これらの化合物に限定されるものではない。 [0069] Specific examples of the compound having the general formula (I) of the present invention, for example, those may be cited the compounds described in the following Table 1 and 2, the present invention is to be limited to these compounds is not.

【0070】表中の略号は以下の通りである。 [0070] The abbreviations in the table are as follows. Bu : ブチル基 iBu : イソブチル基 Bz : ベンジル基 Et : エチル基 cHx : シクロヘキシル基 Me : メチル基 Np(1) : ナフタレン−1−イル基 Np(2) : ナフタレン−2−イル基 Ph : フェニル基 cPn : シクロペンチル基 Pr : プロピル基 iPr : イソプロピル基。 Bu: butyl group iBu: isobutyl group Bz: benzyl group Et: ethyl group cHx: cyclohexyl group Me: methyl group Np (1): naphthalen-1-yl group Np (2): naphthalen-2-yl group Ph: phenyl group CPN: cyclopentyl group Pr: propyl group iPr: isopropyl group.

【0071】 [0071]

【表1】 [Table 1]

【0072】 [0072]

【化16】 [Of 16]

【0073】 [0073] Compd. R 1 R 2 R 3 R 4 n -XYR 5 R 6 R 7 Compd. R 1 R 2 R 3 R 4 n -XYR 5 R 6 R 7 1-1 HHH Me 1 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-2 HHH Me 1 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 1-3 HHH Me 1 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-4 HHH Me 1 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-5 HHH Me 1 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-6 HHH Me 1 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-7 HHH Me 1 -CO-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-8 HHH Me 1 -CO-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-9 HHH Me 1 -CH(OH)-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-10 HHH Me 1 -CH(OH)-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-11 HHH Me 1 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 1-12 HHH Me 1 -(4-BzO-Ph) HH 1-13 HHH Me 1 -C≡C-CH 2 O-cPn HH 1-14 HHH Me 1 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cPn HH 1-15 HHH Me 1 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-16 HHH Me 1 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-17 HHH Me 1 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-18 HHH Me 1 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-19 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -cHx HH 1-20 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -Ph HH 1-21 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-F-Ph) HH 1-22 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-Me-Ph) HH 1-23 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-Et-Ph) HH 1-24 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-25 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-MeO-Ph) HH 1-26 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-EtO-Ph) HH 1-27 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-MeS-Ph) HH 1- 1-1 HHH Me 1 - (CH 2 ) 5 -cHx HH 1-2 HHH Me 1 - (CH 2) 6 -cHx HH 1-3 HHH Me 1 -CH = CH- (CH 2) 3 -cHx HH 1 -4 HHH Me 1 -CH = CH- ( CH 2) 4 -cHx HH 1-5 HHH Me 1 -C≡C- (CH 2) 3 -cHx HH 1-6 HHH Me 1 -C≡C- (CH 2) 4 -cHx HH 1-7 HHH Me 1 -CO- (CH 2) 4 -cHx HH 1-8 HHH Me 1 -CO- (CH 2) 5 -cHx HH 1-9 HHH Me 1 -CH (OH ) - (CH 2) 4 -cHx HH 1-10 HHH Me 1 -CH (OH) - (CH 2) 5 -cHx HH 1-11 HHH Me 1 - [4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 1-12 HHH Me 1 - (4 -BzO-Ph) HH 1-13 HHH Me 1 -C≡C-CH 2 O-cPn HH 1-14 HHH Me 1 -C≡C- (CH 2) 2 O -cPn HH 1-15 HHH Me 1 -C≡C- CH 2 O-cHx HH 1-16 HHH Me 1 -C≡C- (CH 2) 2 O-cHx HH 1-17 HHH Me 1 -C≡C -CH 2 O-Ph HH 1-18 HHH Me 1 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 1-19 HHH Me 2 - (CH 2) 2 -cHx HH 1-20 HHH Me 2 - ( CH 2) 2 -Ph HH 1-21 HHH Me 2 - (CH 2) 2 - (4-F-Ph) HH 1-22 HHH Me 2 - (CH 2) 2 - (4-Me-Ph) HH 1 -23 HHH Me 2 - (CH 2 ) 2 - (4-Et-Ph) HH 1-24 HHH Me 2 - (CH 2) 2 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-25 HHH Me 2 - ( CH 2) 2 - (4- MeO-Ph) HH 1-26 HHH Me 2 - (CH 2) 2 - (4-EtO-Ph) HH 1-27 HHH Me 2 - (CH 2) 2 - (4- MeS-Ph) HH 1- 28 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-29 HHH Me 2 -(CH 2 ) 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-30 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-31 HH Me Me 2 -(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-32 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-33 CO 2 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-34 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-F-cHx) HH 1-35 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-Me-cHx) HH 1-36 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-MeO-cHx) HH 1-37 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-38 HH Me Me 2 -(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-39 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-40 CO 2 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-41 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-F-Ph) HH 1-42 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-Me-Ph) HH 1-43 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-Et-Ph) HH 1-44 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-45 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-MeO-Ph) HH 1-46 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-EtO-Ph) HH 1-47 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-MeS-Ph) HH 1-48 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-cHx-Ph) HH 1-49 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -(4-Ph-Ph) HH 1-50 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-51 HH Me Me 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-52 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-53 CO 2 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-54 HHH Me 2 -(CH 2 28 HHH Me 2 - (CH 2 ) 2 - (4-cHx-Ph) HH 1-29 HHH Me 2 - (CH 2) 2 - (4-Ph-Ph) HH 1-30 HHH Me 2 - (CH 2 ) 3 -cHx HH 1-31 HH Me Me 2 - (CH 2) 3 -cHx HH 1-32 Me HH Me 2 - (CH 2) 3 -cHx HH 1-33 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2 ) 3 -cHx HH 1-34 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-F-cHx) HH 1-35 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-Me-cHx) HH 1-36 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-MeO-cHx) HH 1-37 HHH Me 2 - (CH 2) 3 -Ph HH 1-38 HH Me Me 2 - (CH 2) 3 -Ph HH 1 -39 Me HH Me 2 - (CH 2) 3 -Ph HH 1-40 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2) 3 -Ph HH 1-41 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-F -Ph) HH 1-42 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-Me-Ph) HH 1-43 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-Et-Ph) HH 1-44 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-45 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-MeO-Ph) HH 1-46 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-EtO-Ph ) HH 1-47 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-MeS-Ph) HH 1-48 HHH Me 2 - (CH 2) 3 - (4-cHx-Ph ) HH 1-49 HHH Me 2 - ( CH 2) 3 - (4-Ph-Ph) HH 1-50 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -cHx HH 1-51 HH Me Me 2 - (CH 2) 4 -cHx HH 1-52 Me HH Me 2 - (CH 2) 4 -cHx HH 1-53 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2) 4 -cHx HH 1-54 HHH Me 2 - (CH 2 ) 4 -(4-F-cHx) HH 1-55 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-Me-cHx) HH 1-56 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-MeO-cHx) HH 1-57 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-58 HH Me Me 2 -(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-59 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-60 CO 2 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-61 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-F-Ph) HH 1-62 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-Me-Ph) HH 1-63 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-Et-Ph) HH 1-64 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-65 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-MeO-Ph) HH 1-66 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-EtO-Ph) HH 1-67 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-MeS-Ph) HH 1-68 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-cHx-Ph) HH 1-69 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -(4-Ph-Ph) HH 1-70 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cPn HH 1-71 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-72 HH Me Me 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-73 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-74 CO 2 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-75 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-F-cHx) HH 1-76 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Me-cHx) HH 1-77 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeO-cHx) HH 1-78 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-79 HH Me Me 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-80 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-81 CO 2 ) 4 - (4-F- cHx) HH 1-55 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-Me-cHx) HH 1-56 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-MeO- cHx) HH 1-57 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -Ph HH 1-58 HH Me Me 2 - (CH 2) 4 -Ph HH 1-59 Me HH Me 2 - (CH 2) 4 -Ph HH 1-60 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2) 4 -Ph HH 1-61 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-F-Ph) HH 1-62 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-Me-Ph ) HH 1-63 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-Et-Ph) HH 1-64 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-CF 3 - Ph) HH 1-65 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-MeO-Ph) HH 1-66 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-EtO-Ph) HH 1-67 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-MeS-Ph) HH 1-68 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-cHx-Ph) HH 1-69 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - (4-Ph-Ph) HH 1-70 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -cPn HH 1-71 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 1-72 HH Me Me 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 1-73 Me HH Me 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 1-74 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 1-75 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-F-cHx) HH 1-76 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Me-cHx) HH 1-77 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-MeO-cHx) HH 1-78 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -Ph HH 1-79 HH Me Me 2 - (CH 2) 5 -Ph HH 1-80 Me HH Me 2 - (CH 2) 5 -Ph HH 1- 81 CO 2 Me HH Me 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-82 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-F-Ph) HH 1-83 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-F-Ph) HH 1-84 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Cl-Ph) HH 1-85 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Br-Ph) HH 1-86 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-Me-Ph) HH 1-87 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Me-Ph) HH 1-88 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-Et-Ph) HH 1-89 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Et-Ph) HH 1-90 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-Pr-Ph) HH 1-91 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Pr-Ph) HH 1-92 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-iPr-Ph) HH 1-93 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-iPr-Ph) HH 1-94 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-Bu-Ph) HH 1-95 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Bu-Ph) HH 1-96 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-CF 3 -Ph) HH 1-97 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-98 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-MeO-Ph) HH 1-99 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeO-Ph) HH 1-100 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-EtO-Ph) HH 1-101 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-EtO-Ph) HH 1-102 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-PrO-Ph) HH 1-103 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-PrO-Ph) HH 1-104 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-iPrO-Ph) HH 1-105 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-iPrO-Ph) HH 1-106 HHH Me Me HH Me 2 - (CH 2 ) 5 -Ph HH 1-82 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-F-Ph) HH 1-83 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4- F-Ph) HH 1-84 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Cl-Ph) HH 1-85 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Br-Ph) HH 1-86 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-Me-Ph) HH 1-87 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Me-Ph) HH 1-88 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-Et-Ph ) HH 1-89 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Et-Ph) HH 1-90 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-Pr-Ph ) HH 1-91 HHH Me 2 - ( CH 2) 5 - (4-Pr-Ph) HH 1-92 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-iPr-Ph) HH 1-93 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - ( 4-iPr-Ph) HH 1-94 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-Bu-Ph) HH 1-95 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - ( 4-Bu-Ph) HH 1-96 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-CF 3 -Ph) HH 1-97 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-98 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-MeO-Ph) HH 1-99 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-MeO-Ph) HH 1-100 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3 -EtO-Ph) HH 1-101 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-EtO-Ph) HH 1-102 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3 -PrO-Ph) HH 1-103 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-PrO-Ph) HH 1-104 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (3-iPrO-Ph) HH 1- 105 HHH Me 2 - (CH 2 ) 5 - (4-iPrO-Ph) HH 1-106 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -[3-(2-Et-PrO)-Ph] HH 1-107 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -[4-(2-Et-PrO)-Ph] HH 1-108 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-iBuO-Ph) HH 1-109 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-iBuO-Ph) HH 1-110 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-MeS-Ph) HH 1-111 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeS-Ph) HH 1-112 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-EtS-Ph) HH 1-113 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-EtS-Ph) HH 1-114 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-PrS-Ph) HH 1-115 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-PrS-Ph) HH 1-116 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-iPrS-Ph) HH 1-117 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-iPrS-Ph) HH 1-118 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -[3-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-119 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-120 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-iBuS-Ph) HH 1-121 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-iBuS-Ph) HH 1-122 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-cHx-Ph) HH 1-123 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-cHx-Ph) HH 1-124 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(3-Ph-Ph) HH 1-125 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Ph-Ph) HH 1-126 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(2,4-diMe-Ph) HH 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-(3-Pr-Ph) HH 1-152 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Pr-Ph) HH 1-153 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(3-iPr-Ph) HH 1-154 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-iPr-Ph) HH 1-155 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(3 p (1) HH 1-130 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -Np (2) HH 1-131 HHH Me 2 - (CH 2) 6 -cPn HH 1-132 HHH Me 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 1-133 HH Me Me 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 1-134 Me HH Me 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 1-135 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 1-136 HHH Me 2 - ( CH 2) 6 - (4-F-cHx) HH 1-137 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-Me-cHx) HH 1-138 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-MeO-cHx) HH 1-139 HHH Me 2 - (CH 2) 6 -Ph HH 1-140 HH Me Me 2 - (CH 2) 6 -Ph HH 1-141 Me HH Me 2 - (CH 2 ) 6 -Ph HH 1-142 CO 2 Me HH Me 2 - (CH 2) 6 -Ph HH 1-143 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (3-F-Ph ) HH 1-144 HHH Me 2 - ( CH 2) 6 - (4-F-Ph) HH 1-145 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-Cl-Ph) HH 1-146 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - ( 4-Br-Ph) HH 1-147 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (3-Me-Ph) HH 1-148 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - ( 4-Me-Ph) HH 1-149 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (3-Et-Ph) HH 1-150 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-Et-Ph) HH 1 -151 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-O-(3-EtS-Ph) HH 1-293 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-EtS-Ph) HH 1-294 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(3-PrS-Ph) HH 1-295 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-PrS-Ph) HH 1-296 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(3-iPrS-Ph) HH 1-297 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-iPrS-Ph) HH 1-298 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-[3-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-299 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-300 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O H Me 2 - (CH 2) 4 -O- (3-MeO-Ph) HH 1-279 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-MeO-Ph) HH 1-280 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (3 -EtO-Ph) HH 1-281 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-EtO-Ph) HH 1-282 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (3-PrO-Ph ) HH 1-283 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-PrO-Ph) HH 1-284 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (3-iPrO-Ph) HH 1-285 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-iPrO-Ph) HH 1-286 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- [3- ( 2-Et-PrO) -Ph] HH 1-287 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- [4- (2-Et-PrO) -Ph] HH 1-288 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (3-iBuO-Ph ) HH 1-289 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-iBuO-Ph) HH 1-290 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (3-MeS-Ph) HH 1-291 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-MeS-Ph) HH 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2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4-iPr-Ph) HH 1-337 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4 -Bu-Ph) HH 1-338 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-339 HHH Me 2 - (CH 2 ) 4 -OCH 2 - (4- MeO-Ph) HH 1-340 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4-EtO-Ph) HH 1-341 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4-PrO- Ph) HH 1-342 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4-iPrO-Ph) HH 1-343 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - [4- (2-Et -PrO) -Ph] HH 1-344 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -OCH 2 - (4-iBuO-Ph) HH 1-345 HHH M e 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-MeS-Ph) HH 1-346 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-EtS-Ph) HH 1-347 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-PrS-Ph) HH 1-348 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-iPrS-Ph) HH 1-349 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-350 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-iBuS-Ph) HH 1-351 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-352 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-353 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(2,4-diMe-Ph) HH 1-354 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(3,4-diMe-Ph) HH 1-355 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -OCH 2 -(3,5-diMe-Ph) HH 1-356 HHH 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2) 3 - (4 -F-cHx) HH 1-378 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-Me-cHx) HH 1-379 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4 -MeO-cHx) HH 1-380 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 -Ph HH 1-381 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-F-Ph) HH 1-382 HHH Me 2 -CH = CH- ( CH 2) 3 - (4-Me-Ph) HH 1-383 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-Et-Ph) HH 1-384 HHH Me 2 -CH = CH- ( CH 2) 3 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-385 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-MeO-Ph) HH 1-386 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-EtO-Ph) HH 1-387 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-MeS-Ph) HH 1-388 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-cHx-Ph) HH 1-389 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -(4-Ph-Ph) HH 1-390 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-391 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-392 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-393 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-cHx HH 1-394 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-Ph HH 1-395 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-(4-Me-Ph) HH 1-396 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-397 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-398 HHH Me 2 -C≡C-cHx HH 1-399 HHH Me 2 -C≡C-(4-F-cHx) HH 1-400 HHH Me 2 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(CH 2) 3 - ( 4-Me-cHx) HH 1-428 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-MeO-cHx) HH 1-429 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 3 -Ph HH 1-430 HH Me Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 -Ph HH 1-431 Me HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 -Ph HH 1-432 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 -Ph HH 1-433 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (3-F-Ph) HH 1- 434 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 - (4-F-Ph) HH 1-435 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-Cl-Ph) HH 1- 436 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 - (4-Br-Ph) HH 1-437 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (3-Me-Ph) HH 1- 438 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -(4-Me-Ph) HH 1-439 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-Et-Ph) HH 1-440 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Et-Ph) HH 1-441 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-Pr-Ph) HH 1-442 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Pr-Ph) HH 1-443 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-iPr-Ph) HH 1-444 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-iPr-Ph) HH 1-445 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-Bu-Ph) HH 1-446 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Bu-Ph) HH 1-447 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-CF 3 -Ph) HH 1-448 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-449 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-MeO-Ph) HH 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( CH 2) 3 - (4- MeO-Ph) HH 1-451 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (3-EtO-Ph) HH 1-452 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 3 - (4- EtO-Ph) HH 1-453 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (3-PrO-Ph) HH 1-454 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 3 - (4- PrO-Ph) HH 1-455 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (3-iPrO-Ph) HH 1-456 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 3 - (4- iPrO-Ph) HH 1-457 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - [3- (2-Et-PrO) -Ph] HH 1-458 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - [ 4- (2-Et-PrO) -Ph] HH 1-459 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -(3-iBuO-Ph) HH 1-460 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-iBuO-Ph) HH 1-461 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-MeS-Ph) HH 1-462 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeS-Ph) HH 1-463 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-EtS-Ph) HH 1-464 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-EtS-Ph) HH 1-465 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-PrS-Ph) HH 1-466 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-PrS-Ph) HH 1-467 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(3-iPrS-Ph) HH 1-468 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-iPrS-Ph) HH 1-469 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -[3-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-470 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-471 HHH Me 2 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2) 4 - (4-CF 3 - Ph) HH 1-495 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-MeO-Ph) HH 1-496 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-EtO- Ph) HH 1-497 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-PrO-Ph) HH 1-498 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-iPrO- Ph) HH 1-499 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - [4- (2-Et-PrO) -Ph] HH 1-500 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-iBuO-Ph) HH 1-501 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-MeS-Ph) HH 1-502 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-EtS-Ph) HH 1-503 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-PrS-Ph) HH 1-504 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-iPrS-Ph) HH 1-505 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-506 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-iBuS-Ph) HH 1-507 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-cHx-Ph) HH 1-508 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Ph-Ph) HH 1-509 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(2,4-diMe-Ph) HH 1-510 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(3,4-diMe-Ph) HH 1-511 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(3,5-diMe-Ph) HH 1-512 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-513 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-F-cHx) HH 1-514 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-Me-cHx) HH 1-515 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-MeO-cHx) HH 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-C≡C- (CH 2) 5 -Ph HH 1-517 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-F-Ph) HH 1-518 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 - (4-Cl-Ph) HH 1-519 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-Br-Ph) HH 1-520 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 - (4-Me-Ph) HH 1-521 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-Et-Ph) HH 1-522 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 - (4-Pr-Ph) HH 1-523 HHH Me 2 -C C-(CH 2 ) 5 -(4-iPr-Ph) HH 1-524 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-Bu-Ph) HH 1-525 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-526 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-MeO-Ph) HH 1-527 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-EtO-Ph) HH 1-528 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-PrO-Ph) HH 1-529 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-iPrO-Ph) HH 1-530 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -[4-(2-Et-PrO)-Ph] HH 1-531 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-iBuO-Ph) HH 1-532 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-MeS-Ph) HH 1-533 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-EtS-Ph) HH 1-534 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-PrS-Ph) HH 1-535 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-iPrS-Ph) HH 1-536 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-537 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-iBuS-Ph) HH 1-538 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-cHx-Ph) HH 1-539 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(4-Ph-Ph) HH 1-540 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(2,4-diMe-Ph) HH 1-541 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(3,4-diMe-Ph) HH 1-542 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -(3,5-diMe-Ph) HH 1-543 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-544 HH Me Me C- (CH 2) 5 - ( 4-iPr-Ph) HH 1-524 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-Bu-Ph) HH 1-525 HHH Me 2 -C≡ C- (CH 2) 5 - ( 4-CF 3 -Ph) HH 1-526 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-MeO-Ph) HH 1-527 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 5 - ( 4-EtO-Ph) HH 1-528 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-PrO-Ph) HH 1-529 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 5 - ( 4-iPrO-Ph) HH 1-530 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - [4- (2-Et-PrO) -Ph] HH 1- 531 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 - (4-iBuO-Ph) HH 1-532 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-MeS-Ph) HH 1- 533 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 - (4-EtS-Ph) HH 1-534 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-PrS-Ph) HH 1- 535 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 - (4-iPrS-Ph) HH 1-536 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - [4- (2-Et-PrS) -Ph] HH 1-537 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-iBuS-Ph) HH 1-538 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-cHx -Ph) HH 1-539 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (4-Ph-Ph) HH 1-540 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (2,4 -diMe-Ph) HH 1-541 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (3,4-diMe-Ph) HH 1-542 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 - (3,5-diMe-Ph) HH 1-543 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-544 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-545 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-546 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-547 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-F-cHx) HH 1-548 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Me-cHx) HH 1-549 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-MeO-cHx) HH 1-550 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-551 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-552 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-553 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-554 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-F-Ph) HH 1-555 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Me-Ph) HH 1-556 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Me-Ph) 5-FH 1-557 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Me-Ph) 5-Me H 1-558 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Et-Ph) HH 1-559 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-CF 3 -Ph) HH 1-560 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-MeO-Ph) HH 1-561 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-EtO-Ph) HH 1-562 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-MeS-Ph) HH 1-563 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-cHx-Ph) HH 1-564 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Ph-Ph) HH 1-565 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cPn HH 1-566 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-567 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx 5-FH 1-568 HHH Me 2 -C 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-545 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-546 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-547 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-F-cHx) HH 1-548 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Me-cHx) HH 1-549 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- ( 4-MeO-cHx) HH 1-550 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-551 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-552 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-553 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-554 HHH Me 2 -C ≡C-CH 2 O- (4- F-Ph) HH 1-555 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Me-Ph) HH 1-556 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Me-Ph ) 5-FH 1-557 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Me-Ph) 5-Me H 1-558 HHH Me 2 -C≡C- CH 2 O- (4-Et- Ph) HH 1-559 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-CF 3 -Ph) HH 1-560 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O - (4-MeO-Ph) HH 1-561 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-EtO-Ph) HH 1-562 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4- MeS-Ph) HH 1-563 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-cHx-Ph) HH 1-564 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Ph-Ph) HH 1-565 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cPn HH 1-566 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cHx HH 1-567 HHH Me 2 -C≡ C- (CH 2) 2 O- cHx 5-FH 1-568 HHH Me 2 -C ≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx 5-Me H 1-569 HH Me Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-570 Me HH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-571 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-572 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-F-cHx) HH 1-573 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-cHx) HH 1-574 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-cHx) HH 1-575 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-576 HH Me Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-577 Me HH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-578 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-579 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-F-Ph) HH 1-580 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-F-Ph) HH 1-581 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Cl-Ph) HH 1-582 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Br-Ph) HH 1-583 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-Me-Ph) HH 1-584 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-Ph) HH 1-585 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-Et-Ph) HH 1-586 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Et-Ph) HH 1-587 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-Pr-Ph) HH 1-588 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Pr-Ph) HH 1-589 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-iPr-Ph) HH 1-590 H ≡C- (CH 2) 2 O- cHx 5-Me H 1-569 HH Me Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cHx HH 1-570 Me HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cHx HH 1-571 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cHx HH 1-572 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4 -F-cHx) HH 1-573 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Me-cHx) HH 1-574 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-MeO-cHx) HH 1-575 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 1-576 HH Me Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 1 -577 Me HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 1-578 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 1-579 HHH Me 2 - C≡C- (CH 2) 2 O- ( 3-F-Ph) HH 1-580 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-F-Ph) HH 1-581 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Cl-Ph) HH 1-582 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Br-Ph) HH 1-583 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-Me-Ph) HH 1-584 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Me-Ph) HH 1 -585 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (3-Et-Ph) HH 1-586 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Et-Ph) HH 1-587 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-Pr-Ph) HH 1-588 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Pr- Ph) HH 1-589 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-iPr-Ph) HH 1-590 H HH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-iPr-Ph) HH 1-591 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-Bu-Ph) HH 1-592 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Bu-Ph) HH 1-593 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-CF 3 -Ph) HH 1-594 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-CF 3 -Ph) HH 1-595 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-MeO-Ph) HH 1-596 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-Ph) HH 1-597 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-EtO-Ph) HH 1-598 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-EtO-Ph) HH 1-599 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-PrO-Ph) HH 1-600 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-PrO-Ph) HH 1-601 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-iPrO-Ph) HH 1-602 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-iPrO-Ph) HH 1-603 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-[3-(2-Et-PrO)-Ph] HH 1-604 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-[4-(2-Et-PrO)-Ph] HH 1-605 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-iBuO-Ph) HH 1-606 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-iBuO-Ph) HH 1-607 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-MeS-Ph) HH 1-608 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeS-Ph) HH 1-609 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-EtS-Ph) HH 1-610 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 HH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-iPr-Ph) HH 1-591 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-Bu-Ph) HH 1 -592 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-Bu-Ph) HH 1-593 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-CF 3 -Ph ) HH 1-594 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 2 O- (4-CF 3 -Ph) HH 1-595 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3- MeO-Ph) HH 1-596 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-MeO-Ph) HH 1-597 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- ( 3-EtO-Ph) HH 1-598 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-EtO-Ph) HH 1-599 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O - (3-PrO-Ph) HH 1-600 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-PrO-Ph) HH 1-601 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-iPrO-Ph ) HH 1-602 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-iPrO-Ph) HH 1-603 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- [3- (2 -Et-PrO) -Ph] HH 1-604 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- [4- (2-Et-PrO) -Ph] HH 1-605 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-iBuO-Ph) HH 1-606 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-iBuO- Ph) HH 1-607 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-MeS-Ph) HH 1-608 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4- MeS-Ph) HH 1-609 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-EtS-Ph) HH 1-610 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-(4-EtS-Ph) HH 1-611 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-PrS-Ph) HH 1-612 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-PrS-Ph) HH 1-613 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-iPrS-Ph) HH 1-614 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-iPrS-Ph) HH 1-615 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-[3-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-616 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-617 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-iBuS-Ph) HH 1-618 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-iBuS-Ph) HH 1-619 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-cHx-Ph) HH 1-620 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-cHx-Ph) HH 1-621 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3-Ph-Ph) HH 1-622 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Ph-Ph) HH 1-623 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(2,4-diMe-Ph) HH 1-624 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3,4-diMe-Ph) HH 1-625 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(3,5-diMe-Ph) HH 1-626 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 O-cHx HH 1-627 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 O-Ph HH 1-628 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 O-cHx HH 1-629 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 O-Ph HH 1-630 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 1-631 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 OC ) 2 O- (4-EtS- Ph) HH 1-611 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-PrS-Ph) HH 1-612 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 2 O- (4- PrS-Ph) HH 1-613 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-iPrS-Ph) HH 1-614 HHH Me 2 -C≡C - (CH 2) 2 O- ( 4-iPrS-Ph) HH 1-615 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- [3- (2-Et-PrS) -Ph] HH 1- 616 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- [4- (2-Et-PrS) -Ph] HH 1-617 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3 -iBuS-Ph) HH 1-618 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-iBuS-Ph) HH 1-619 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-cHx-Ph) HH 1-620 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-cHx-Ph) HH 1-621 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3-Ph-Ph) HH 1-622 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Ph-Ph) HH 1-623 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (2,4-diMe- Ph) HH 1-624 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (3,4-diMe-Ph) HH 1-625 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 2 O- ( 3,5-diMe-Ph) HH 1-626 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 O-cHx HH 1-627 HHH Me 2 -C≡C - (CH 2) 3 O- Ph HH 1-628 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 O-cHx HH 1-629 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 O-Ph HH 1-630 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 1-631 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 OC H 2 -cHx HH 1-632 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 1-633 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 1-634 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-F-cHx) HH 1-635 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Me-cHx) HH 1-636 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-MeO-cHx) HH 1-637 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-638 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-639 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-640 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-641 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-F-Ph) HH 1-642 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) HH 1-643 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Et-Ph) HH 1-644 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-645 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-MeO-Ph) HH 1-646 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-EtO-Ph) HH 1-647 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-MeS-Ph) HH 1-648 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-649 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-650 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -cPn HH 1-651 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -cHx HH 1-652 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-F-cHx) HH 1-653 HHH H 2 -cHx HH 1-632 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 1-633 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 1-634 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-F-cHx) HH 1-635 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-Me-cHx) HH 1-636 HHH Me 2 - C≡C-CH 2 OCH 2 - ( 4-MeO-cHx) HH 1-637 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-638 HH Me Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-639 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-640 CO 2 Me HH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 1-641 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - ( 4-F-Ph) HH 1-642 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-Me-Ph) HH 1-643 HHH Me 2 -C ≡C-CH 2 OCH 2 - ( 4-Et-Ph) HH 1-644 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-645 HHH Me 2 -C≡ C-CH 2 OCH 2 - ( 4-MeO-Ph) HH 1-646 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-EtO-Ph) HH 1-647 HHH Me 2 -C≡C- CH 2 OCH 2 - (4- MeS-Ph) HH 1-648 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-cHx-Ph) HH 1-649 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-Ph- Ph) HH 1-650 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 -cPn HH 1-651 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 -cHx HH 1-652 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 2 OCH 2 - (4-F-cHx) HH 1-653 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Me-cHx) HH 1-654 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-MeO-cHx) HH 1-655 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -Ph HH 1-656 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-F-Ph) HH 1-657 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Cl-Ph) HH 1-658 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Br-Ph) HH 1-659 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) HH 1-660 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) 5-FH 1-661 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) 5-Me H 1-662 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Et-Ph) HH 1-663 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Pr-Ph) HH 1-664 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-iPr-Ph) HH 1-665 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Bu-Ph) HH 1-666 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-667 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-MeO-Ph) HH 1-668 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-EtO-Ph) HH 1-669 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-PrO-Ph) HH 1-670 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-iPrO-Ph) HH 1-671 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -[4-(2-Et-PrO)Ph] HH 1-67 Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-Me-cHx) HH 1-654 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-MeO-cHx) HH 1-655 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 OCH 2 -Ph HH 1-656 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-F-Ph) HH 1- 657 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 OCH 2 - (4-Cl-Ph) HH 1-658 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-Br-Ph ) HH 1-659 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 2 OCH 2 - (4-Me-Ph) HH 1-660 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4 -Me-Ph) 5-FH 1-661 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-Me-Ph) 5-Me H 1-662 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 2 OCH 2 - ( 4-Et-Ph) HH 1-663 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-Pr-Ph) HH 1-664 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-iPr-Ph) HH 1-665 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-Bu-Ph) HH 1-666 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-667 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-MeO-Ph) HH 1-668 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-EtO-Ph) HH 1-669 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4- PrO-Ph) HH 1-670 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-iPrO-Ph) HH 1-671 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - [4- (2-Et-PrO) Ph] HH 1-67 2 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-iBuO-Ph) HH 1-673 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-MeS-Ph) HH 1-674 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-EtS-Ph) HH 1-675 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-PrS-Ph) HH 1-676 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-iPrS-Ph) HH 1-677 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -[4-(2-Et-PrS)Ph] HH 1-678 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-iBuS-Ph) HH 1-679 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-680 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-681 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(2,4-diMe-Ph) HH 1-682 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(3,4-diMe-Ph) HH 1-683 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(3,5-diMe-Ph) HH 1-684 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 OCH 2 -cHx HH 1-685 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 OCH 2 -Ph HH 1-686 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 OCH 2 -cHx HH 1-687 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 OCH 2 -Ph HH 1-688 HHH Me 2 -CO-CH 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-689 HHH Me 2 -CO-CH 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-690 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 -cHx HH 1-691 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 -Ph HH 1-692 HHH Me 2 -CO- 2 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 OCH 2 - (4-iBuO-Ph) HH 1-673 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-MeS-Ph ) HH 1-674 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 2 OCH 2 - (4-EtS-Ph) HH 1-675 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4 -PrS-Ph) HH 1-676 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-iPrS-Ph) HH 1-677 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - [4- (2-Et -PrS) Ph] HH 1-678 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-iBuS-Ph) HH 1-679 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-cHx-Ph) HH 1-680 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (4-Ph-Ph) HH 1-681 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (2,4-diMe-Ph) HH 1-682 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (3,4-diMe -Ph) HH 1-683 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 OCH 2 - (3,5-diMe-Ph) HH 1-684 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 OCH 2 -cHx HH 1-685 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 OCH 2 -Ph HH 1-686 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 OCH 2 -cHx HH 1-687 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 OCH 2 -Ph HH 1-688 HHH Me 2 -CO-CH 2 - (4-cHx-Ph) HH 1-689 HHH Me 2 -CO-CH 2 - ( 4-Ph-Ph) HH 1-690 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 2 -cHx HH 1-691 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 2 -Ph HH 1-692 HHH Me 2 -CO- (CH 2 ) 3 -cHx HH 1-693 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-694 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-695 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-F-cHx) HH 1-696 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-Me-cHx) HH 1-697 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-MeO-cHx) HH 1-698 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-699 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-F-Ph) HH 1-700 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-Me-Ph) HH 1-701 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-Et-Ph) HH 1-702 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-703 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-MeO-Ph) HH 1-704 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-EtO-Ph) HH 1-705 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-MeS-Ph) HH 1-706 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-cHx-Ph) HH 1-707 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -(4-Ph-Ph) HH 1-708 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-709 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-F-cHx) HH 1-710 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-Me-cHx) HH 1-711 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-MeO-cHx) HH 1-712 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-713 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-F-Ph) HH 1-714 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-Me-Ph) HH 1-715 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-Et-Ph) HH 1-716 HHH Me 2 (CH 2) 3 -cHx HH 1-693 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 3 -Ph HH 1-694 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 -cHx HH 1-695 HHH Me 2 -CO - (CH 2) 4 - ( 4-F-cHx) HH 1-696 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-Me-cHx) HH 1-697 HHH Me 2 -CO- (CH 2 ) 4 - (4-MeO- cHx) HH 1-698 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 -Ph HH 1-699 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-F-Ph) HH 1-700 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-Me-Ph) HH 1-701 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-Et-Ph) HH 1-702 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-CF 3 -Ph) HH 1-703 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-MeO-Ph) HH 1-704 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - ( 4-EtO-Ph) HH 1-705 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-MeS-Ph) HH 1-706 HHH Me 2 -CO- ( CH 2) 4 - (4- cHx-Ph) HH 1-707 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 - (4-Ph-Ph) HH 1-708 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 5 -cHx HH 1-709 HHH Me 2 -CO- ( CH 2) 5 - (4-F-cHx) HH 1-710 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 5 - (4-Me-cHx) HH 1 -711 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-MeO-cHx) HH 1-712 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-713 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-F-Ph) HH 1-714 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-Me-Ph) HH 1-715 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 - (4-Et-Ph) HH 1-716 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-717 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 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HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-cPn HH 1-742 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-cHx HH 1-743 HH Me Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-cHx HH 1-744 Me HH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-cHx HH 1-745 CO 2 Me HH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-cHx HH 1-746 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-F-cHx) HH 1-747 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Me-cHx) HH 1-748 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-MeO-cHx) HH 1-749 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-Ph HH 1-750 HH Me Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-Ph HH 1-751 Me HH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-Ph HH 1-752 CO 2 Me HH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-Ph HH 1-753 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-F-Ph) HH 1-754 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Cl-Ph) HH 1-755 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Br-Ph) HH 1-756 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Me-Ph) HH 1-757 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Et-Ph) HH 1-758 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Pr-Ph) HH 1-759 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-iPr-Ph) HH 1-760 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Bu-Ph) HH 1-761 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-CF 3 -Ph) HH 1-762 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-MeO-Ph) HH 1-763 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-EtO-Ph) HH 1-764 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-PrO-Ph) HH 1-765 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-iPrO-Ph) HH 1-766 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-[4-(2-Et-PrO)-Ph] HH 1-767 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-iBuO-Ph) HH 1-768 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-MeS-Ph) HH 1-769 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-EtS-Ph) HH 1-770 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-PrS-Ph) HH 1-771 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-iPrS-Ph) HH 1-772 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-[4-(2-Et-PrS)-Ph] HH 1-773 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-iBuS-Ph) HH 1-774 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-cHx-Ph) HH 1-775 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(4-Ph-Ph) HH 1-776 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(2,4-diMe-Ph) HH 1-777 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(3,4-diMe-Ph) HH 1-778 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 O-(3,5-diMe-Ph) HH 1-779 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 O-cHx HH 1-780 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 O-Ph HH 1-781 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 O-cHx HH 1-782 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 O-Ph HH 1-783 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -cHx HH 1-784 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-F-cHx) HH 1-785 HHH Me 2 -CO-(C H 2 ) 2 OCH 2 -(4-Me-cHx) HH 1-786 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-MeO-cHx) HH 1-787 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -Ph HH 1-788 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-F-Ph) HH 1-789 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) HH 1-790 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Et-Ph) HH 1-791 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-792 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-MeO-Ph) HH 1-793 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-EtO-Ph) HH 1-794 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-MeS-Ph) HH 1-795 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-796 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 2 OCH 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-797 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -cHx HH 1-798 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-F-cHx) HH 1-799 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Me-cHx) HH 1-800 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-MeO-cHx) HH 1-801 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -Ph HH 1-802 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-F-Ph) HH 1-803 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Cl-Ph) HH 1-804 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Br-Ph) HH 1-805 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Me-Ph) HH 1 -806 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Et-Ph) HH 1-807 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Pr-Ph) HH 1-808 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-iPr-Ph) HH 1-809 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Bu-Ph) HH 1-810 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-811 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-MeO-Ph) HH 1-812 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-EtO-Ph) HH 1-813 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-PrO-Ph) HH 1-814 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-iPrO-Ph) HH 1-815 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -[4-(2-Et-PrO)Ph] HH 1-816 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-iBuO-Ph) HH 1-817 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-MeS-Ph) HH 1-818 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-EtS-Ph) HH 1-819 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-PrS-Ph) HH 1-820 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-iPrS-Ph) HH 1-821 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -[4-(2-Et-PrS)Ph] HH 1-822 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-iBuS-Ph) HH 1-823 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-cHx-Ph) HH 1-824 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(4-Ph-Ph) HH 1-825 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -( 2,4-diMe-Ph) HH 1-826 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(3,4-diMe-Ph) HH 1-827 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 3 OCH 2 -(3,5-diMe-Ph) HH 1-828 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 OCH 2 -cHx HH 1-829 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 OCH 2 -Ph HH 1-830 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 OCH 2 -cHx HH 1-831 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 OCH 2 -Ph HH 1-832 HHH Me 2 -CH(OH)-CH 2 -cHx HH 1-833 HHH Me 2 -CH(OH)-CH 2 -Ph HH 1-834 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 2 -cHx HH 1-835 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 2 -Ph HH 1-836 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-837 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-838 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-839 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-840 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-841 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-842 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 6 -cHx HH 1-843 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 6 -Ph HH 1-844 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 7 -cHx HH 1-845 HHH Me 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 7 -Ph HH 1-846 HHH Me 2 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 1-847 HHH Me 2 -[4-(cHx-(CH 2 ) 2 O)Ph] HH 1-848 HHH Me 2 -[4-(cHx-(CH 2 ) 3 O)Ph] HH 1-849 HHH Me 2 -(4-BzO-Ph) HH 1-850 HHH Me 2 -[4-(Ph-(CH 2 ) 2 O)-Ph] HH 1-851 HHH Me 2 -[4-(Ph-(CH 2 ) 3 O)-Ph] HH 1-852 HHH Et 2 -(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-853 HHH Et 2 -(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-854 HHH Et 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-855 HHH Et 2 -(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-856 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -cPn HH 1-857 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-858 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-859 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-F-Ph) HH 1-860 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Me-Ph) HH 1-861 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Et-Ph) HH 1-862 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-863 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeO-Ph) HH 1-864 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-EtO-Ph) HH 1-865 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeS-Ph) HH 1-866 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-cHx-Ph) HH 1-867 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Ph-Ph) HH 1-868 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -cPn HH 1-869 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 1-870 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -Ph HH 1-871 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-F-Ph) HH 1-872 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Me-Ph) HH 1-873 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Et-Ph) HH 1-874 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-875 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-MeO-Ph) HH 1-876 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-EtO-Ph) HH 1-877 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-MeS-Ph) HH 1-878 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-cHx-Ph) HH 1-879 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Ph-Ph) HH 1-880 HHH Et 2 -(CH 2 ) 7 -cHx HH 1-881 HHH Et 2 -(CH 2 ) 7 -Ph HH 1-882 HHH Et 2 -CH=CH-cHx HH 1-883 HHH Et 2 -CH=CH-Ph HH 1-884 HHH Et 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-885 HHH Et 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-886 HHH Et 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-887 HHH Et 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-888 HHH Et 2 -CH=CH-CH 2 O-cHx HH 1-889 HHH Et 2 -CH=CH-CH 2 O-Ph HH 1-890 HHH Et 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-891 HHH Et 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-892 HHH Et 2 -C≡C-CH 2 -cHx HH 1-893 HHH Et 2 -C≡C-CH 2 -Ph HH 1-894 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 -cHx HH 1-895 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 -Ph HH 1-896 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cPn HH 1-897 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-898 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-F-cHx) HH 1-899 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Me-cHx) HH 1-900 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeO-cHx) HH 1-901 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-902 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-F-Ph) HH 1-903 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Me-Ph) HH 1-904 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Et-Ph) HH 1-905 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-906 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeO-Ph) HH 1-907 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-EtO-Ph) HH 1-908 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeS-Ph) HH 1-909 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-cHx-Ph) HH 1-910 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Ph-Ph) HH 1-911 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cPn HH 1-912 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-913 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-F-cHx) HH 1-914 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Me-cHx) HH 1-915 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-MeO-cHx) HH 1-916 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-917 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-F-Ph) HH 1-918 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Me-Ph) HH 1-919 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Et-Ph) HH 1-920 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-CF 3 -Ph) HH 1-921 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-MeO-Ph) HH 1-922 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-EtO-Ph) HH 1-923 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-MeS- Ph) HH 1-924 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-cHx-Ph) HH 1-925 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Ph-Ph) HH 1-926 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-927 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-928 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 6 -cHx HH 1-929 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 6 -Ph HH 1-930 HHH Et 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-931 HHH Et 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-932 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cPn HH 1-933 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-934 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-F-cHx) HH 1-935 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-cHx) HH 1-936 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-cHx) HH 1-937 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-938 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-F-Ph) HH 1-939 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-Ph) HH 1-940 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Et-Ph) HH 1-941 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-CF 3 -Ph) HH 1-942 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-Ph) HH 1-943 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-EtO-Ph) HH 1-944 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeS-Ph) HH 1-945 HHH Et 2 -CO-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-946 HHH Et 2 -CO-(CH 2 ) 3 -Ph H H 1-947 HHH Et 2 -CO-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-948 HHH Et 2 -CO-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-949 HHH Et 2 -CO-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-950 HHH Et 2 -CO-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-951 HHH Et 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-952 HHH Et 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-953 HHH Et 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-954 HHH Et 2 -CH(OH)-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-955 HHH Et 2 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 1-956 HHH Et 2 -[4-(cHx-(CH 2 ) 2 O)Ph] HH 1-957 HHH Et 2 -[4-(cHx-(CH 2 ) 3 O)Ph] HH 1-958 HHH Et 2 -(4-BzO-Ph) HH 1-959 HHH Et 2 -[4-(Ph-(CH 2 ) 2 O)-Ph] HH 1-960 HHH Et 2 -[4-(Ph-(CH 2 ) 3 O)-Ph] HH 1-961 HHH Pr 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-962 HHH Pr 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-963 HHH Pr 2 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 1-964 HHH Pr 2 -(CH 2 ) 6 -Ph HH 1-965 HHH Pr 2 -C≡C-CH 2 -cHx HH 1-966 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-967 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -Ph HH 1-968 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-969 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-970 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-971 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 1-972 HHH Pr 2 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 1- 973 HHH Pr 2 -(4-BzO-Ph) HH 1-974 HHH Me 3 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-975 HHH Me 3 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 1-976 HHH Me 3 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-977 HHH Me 3 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-978 HHH Me 3 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cHx HH 1-979 HHH Me 3 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-980 HHH Me 3 -CO-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-981 HHH Me 3 -CO-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-982 HHH Me 3 -CO-(CH 2 ) 4 -Ph HH 1-983 HHH Me 3 -CO-(CH 2 ) 5 -Ph HH 1-984 HHH Me 3 -CH(OH)-(CH 2 ) 4 -cHx HH 1-985 HHH Me 3 -CH(OH)-(CH 2 ) 5 -cHx HH 1-986 HHH Me 3 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 1-987 HHH Me 3 -(4-BzO-Ph) HH 1-988 HHH Me 3 -C≡C-CH 2 O-cPn HH 1-989 HHH Me 3 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cPn HH 1-990 HHH Me 3 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 1-991 HHH Me 3 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 1-992 HHH Me 3 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 1-993 HHH Me 3 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH

【0074】 [0074]

【表2】 TABLE 2

【0075】 [0075]

【化17】 [Of 17]

【0076】 [0076] Compd. R 1 R 2 R 3 R 4 n -XYR 5 R 6 R 7 Compd. R 1 R 2 R 3 R 4 n -XYR 5 R 6 R 7 2-1 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -cHx HH 2-2 HHH Me 2 -(CH 2 ) 3 -Ph HH 2-3 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-4 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -Ph HH 2-5 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cPn HH 2-6 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-7 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-F-cHx) HH 2-8 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Me-cHx) HH 2-9 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeO-cHx) HH 2-10 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -Ph HH 2-11 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-F-Ph) HH 2-12 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Me-Ph) HH 2-13 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-Et-Ph) HH 2-14 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeO-Ph) HH 2-15 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-EtO-Ph) HH 2-16 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -(4-MeS-Ph) HH 2-17 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -cPn HH 2-18 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-19 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-F-cHx) HH 2-20 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Me-cHx) HH 2-21 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-MeO-cHx) HH 2-22 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -Ph HH 2-23 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-F-Ph) HH 2-24 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Me-Ph) HH 2-25 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-Et-Ph) HH 2-26 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-MeO-Ph) HH 2-27 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -(4-EtO-Ph) HH 2-28 HHH Me 2-1 HHH Me 2 - (CH 2 ) 3 -cHx HH 2-2 HHH Me 2 - (CH 2) 3 -Ph HH 2-3 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -cHx HH 2-4 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -Ph HH 2-5 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -cPn HH 2-6 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 2-7 HHH Me 2 - (CH 2 ) 5 - (4-F- cHx) HH 2-8 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Me-cHx) HH 2-9 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-MeO- cHx) HH 2-10 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -Ph HH 2-11 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-F-Ph) HH 2-12 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Me-Ph ) HH 2-13 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-Et-Ph) HH 2-14 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-MeO-Ph ) HH 2-15 HHH Me 2 - ( CH 2) 5 - (4-EtO-Ph) HH 2-16 HHH Me 2 - (CH 2) 5 - (4-MeS-Ph) HH 2-17 HHH Me 2 - (CH 2) 6 -cPn HH 2-18 HHH Me 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 2-19 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-F-cHx) HH 2-20 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-Me-cHx) HH 2-21 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-MeO-cHx) HH 2-22 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - Ph HH 2-23 HHH Me 2 - ( CH 2) 6 - (4-F-Ph) HH 2-24 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-Me-Ph) HH 2-25 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - ( 4-Et-Ph) HH 2-26 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - (4-MeO-Ph) HH 2-27 HHH Me 2 - (CH 2) 6 - ( 4-EtO-Ph) HH 2-28 HHH Me 2 -(CH 2 ) 7 -cHx HH 2-29 HHH Me 2 -(CH 2 ) 7 -Ph HH 2-30 HHH Me 2 -(CH 2 ) 5 -cPn HH 2-31 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-32 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-F-cHx) HH 2-33 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-Me-cHx) HH 2-34 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-MeO-cHx) HH 2-35 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-Ph HH 2-36 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-F-Ph) HH 2-37 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-Me-Ph) HH 2-38 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-MeO-Ph) HH 2-39 HHH Me 2 -(CH 2 ) 4 -O-(4-EtO-Ph) HH 2-40 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 -cHx HH 2-41 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 -Ph HH 2-42 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 -cHx HH 2-43 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 -Ph HH 2-44 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -cHx HH 2-45 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -Ph HH 2-46 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -(4-F-Ph) HH 2-47 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -(4-Me-Ph) HH 2-48 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 3 -(4-MeO-Ph) HH 2-49 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-50 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -Ph HH 2-51 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -(4-F-Ph) HH 2-52 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -(4-Me-Ph) HH 2-53 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 4 -( 2 - (CH 2) 7 -cHx HH 2-29 HHH Me 2 - (CH 2) 7 -Ph HH 2-30 HHH Me 2 - (CH 2) 5 -cPn HH 2-31 HHH Me 2 - (CH 2 ) 4 -cHx HH 2-32 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-F-cHx) HH 2-33 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-Me-cHx) HH 2-34 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-MeO-cHx) HH 2-35 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O-Ph HH 2-36 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-F -Ph) HH 2-37 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-Me-Ph) HH 2-38 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - O- (4-MeO-Ph) HH 2-39 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-EtO-Ph) HH 2-40 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 -cHx HH 2 -41 HHH Me 2 -CH = CH- CH 2 -Ph HH 2-42 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 2 -cHx HH 2-43 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 2 -Ph HH 2-44 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 -cHx HH 2-45 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 -Ph HH 2-46 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - ( 4-F-Ph) HH 2-47 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - (4-Me-Ph) HH 2-48 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 3 - ( 4-MeO-Ph) HH 2-49 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 -cHx HH 2-50 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 -Ph HH 2-51 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 - (4-F-Ph) HH 2-52 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 - (4-Me -Ph) HH 2-53 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 - ( 4-MeO-Ph) HH 2-54 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-55 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 5 -Ph HH 2-56 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-57 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 6 -Ph HH 2-58 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-cHx HH 2-59 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-Ph HH 2-60 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-(4-F-Ph) HH 2-61 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-(4-Me-Ph) HH 2-62 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 O-(4-MeO-Ph) HH 2-63 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-64 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 2-65 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-(4-F-Ph) HH 2-66 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-Ph) HH 2-67 HHH Me 2 -CH=CH-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-Ph) HH 2-68 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 OCH 2 -cHx HH 2-69 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 OCH 2 -Ph HH 2-70 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 OCH 2 -(4-F-Ph) HH 2-71 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) HH 2-72 HHH Me 2 -CH=CH-CH 2 OCH 2 -(4-MeO-Ph) HH 2-73 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 -cHx HH 2-74 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 -Ph HH 2-75 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 -cHx HH 2-76 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 -Ph HH 2-77 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cPn HH 2-78 HHH Me 2 -C≡C-(CH 4-MeO-Ph) HH 2-54 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 5 -cHx HH 2-55 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 5 -Ph HH 2-56 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 6 -cHx HH 2-57 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 6 -Ph HH 2-58 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O-cHx HH 2-59 HHH Me 2 -CH = CH- CH 2 O-Ph HH 2-60 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O- (4-F-Ph) HH 2-61 HHH Me 2 -CH = CH -CH 2 O- (4-Me- Ph) HH 2-62 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O- (4-MeO-Ph) HH 2-63 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-64 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 2 O-Ph HH 2-65 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 2 O- (4-F-Ph ) HH 2-66 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 2 O- (4-Me-Ph) HH 2-67 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 2 O- (4-MeO -Ph) HH 2-68 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2 -cHx HH 2-69 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2 -Ph HH 2-70 HHH Me 2 -CH = CH -CH 2 OCH 2 - (4- F-Ph) HH 2-71 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2 - (4-Me-Ph) HH 2-72 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2 - (4-MeO -Ph) HH 2-73 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 -cHx HH 2-74 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 -Ph HH 2-75 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 -cHx HH 2-76 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 -Ph HH 2-77 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 -cPn HH 2-78 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -cHx HH 2-79 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-F-cHx) HH 2-80 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Me-cHx) HH 2-81 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeO-cHx) HH 2-82 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -Ph HH 2-83 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-F-Ph) HH 2-84 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Me-Ph) HH 2-85 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-Et-Ph) HH 2-86 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeO-Ph) HH 2-87 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-EtO-Ph) HH 2-88 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -(4-MeS-Ph) HH 2-89 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cPn HH 2-90 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-91 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-F-cHx) HH 2-92 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Me-cHx) HH 2-93 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-MeO-cHx) HH 2-94 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -Ph HH 2-95 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-F-Ph) HH 2-96 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Me-Ph) HH 2-97 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-Et-Ph) HH 2-98 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-MeO-Ph) HH 2-99 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -(4-EtO-Ph) HH 2-100 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-101 HHH Me 2 -C 2) 3 -cHx HH 2-79 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-F-cHx) HH 2-80 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4 -Me-cHx) HH 2-81 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-MeO-cHx) HH 2-82 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 -Ph HH 2-83 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 - (4-F-Ph) HH 2-84 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-Me-Ph) HH 2-85 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 - (4-Et-Ph) HH 2-86 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-MeO-Ph) HH 2-87 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 - (4-EtO-Ph) HH 2-88 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 3 - (4-MeS-Ph) HH 2-89 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 4 -cPn HH 2-90 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 -cHx HH 2-91 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 4 - (4- F-cHx) HH 2-92 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-Me-cHx) HH 2-93 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 4 - (4- MeO-cHx) HH 2-94 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 -Ph HH 2-95 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - ( 4-F-Ph) HH 2-96 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-Me-Ph) HH 2-97 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - ( 4-Et-Ph) HH 2-98 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-MeO-Ph) HH 2-99 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - ( 4-EtO-Ph) HH 2-100 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 5 -cHx HH 2-101 HHH Me 2 -C ≡C-(CH 2 ) 5 -Ph HH 2-102 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-103 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 6 -Ph HH 2-104 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cPn HH 2-105 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 2-106 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-F-cHx) HH 2-107 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Me-cHx) HH 2-108 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-MeO-cHx) HH 2-109 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 2-110 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-F-Ph) HH 2-111 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Me-Ph) HH 2-112 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-Et-Ph) HH 2-113 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-MeO-Ph) HH 2-114 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-EtO-Ph) HH 2-115 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-(4-MeS-Ph) HH 2-116 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cPn HH 2-117 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-118 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-F-cHx) HH 2-119 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-cHx) HH 2-120 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-cHx) HH 2-121 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 2-122 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-F-Ph) HH 2-123 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Me-Ph) HH 2-124 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-Et-Ph) HH 2-1 ≡C- (CH 2) 5 -Ph HH 2-102 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 6 -cHx HH 2-103 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 6 -Ph HH 2 -104 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cPn HH 2-105 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 2-106 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4 -F-cHx) HH 2-107 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Me-cHx) HH 2-108 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-MeO-cHx ) HH 2-109 HHH Me 2 -C≡C- CH 2 O-Ph HH 2-110 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-F-Ph) HH 2-111 HHH Me 2 -C ≡C-CH 2 O- (4- Me-Ph) HH 2-112 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Et-Ph) HH 2-113 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-MeO-Ph ) HH 2-114 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-EtO-Ph) HH 2-115 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- ( 4-MeS-Ph) HH 2-116 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cPn HH 2-117 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-cHx HH 2-118 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-F-cHx) HH 2-119 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Me-cHx) HH 2 -120 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-MeO-cHx) HH 2-121 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 2-122 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-F-Ph) HH 2-123 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Me-Ph) HH 2-124 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-Et-Ph) HH 2-1 25 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeO-Ph) HH 2-126 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-EtO-Ph) HH 2-127 HHH Me 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-(4-MeS-Ph) HH 2-128 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cPn HH 2-129 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 2-130 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-F-cHx) HH 2-131 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Me-cHx) HH 2-132 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-MeO-cHx) HH 2-133 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -Ph HH 2-134 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-F-Ph) HH 2-135 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Me-Ph) HH 2-136 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-Et-Ph) HH 2-137 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-MeO-Ph) HH 2-138 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-EtO-Ph) HH 2-139 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -(4-MeS-Ph) HH 2-140 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-141 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 4 -Ph HH 2-142 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-143 HHH Me 2 -CO-(CH 2 ) 5 -Ph HH 2-144 HHH Me 2 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 2-145 HHH Me 2 -[4-(cHx-(CH 2 ) 2 O)Ph] HH 2-146 HHH Me 2 -[4-(cHx-(CH 2 ) 3 O)Ph] HH 2-147 HHH Me 2 -(4-BzO-Ph) HH 2-148 HH 25 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-MeO-Ph) HH 2-126 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 2 O- (4-EtO-Ph) HH 2-127 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-MeS-Ph) HH 2-128 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cPn HH 2-129 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 2-130 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-F-cHx) HH 2-131 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-Me-cHx ) HH 2-132 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-MeO-cHx) HH 2-133 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - Ph HH 2-134 HHH Me 2 -C≡C- CH 2 OCH 2 - (4-F-Ph) HH 2-135 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-Me-Ph) HH 2-136 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-Et-Ph) HH 2-137 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-MeO-Ph) HH 2- 138 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-EtO-Ph) HH 2-139 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 - (4-MeS-Ph) HH 2-140 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 -cHx HH 2-141 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 4 -Ph HH 2-142 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 5 -cHx HH 2-143 HHH Me 2 -CO- (CH 2) 5 -Ph HH 2-144 HHH Me 2 - [4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 2-145 HHH Me 2 - [4- (cHx- (CH 2) 2 O) Ph] HH 2-146 HHH Me 2 - [4- (cHx- (CH 2) 3 O) Ph] HH 2-147 HHH Me 2 - (4-BzO-Ph) HH 2-148 HH H Me 2 -[4-(Ph-(CH 2 ) 2 O)-Ph] HH 2-149 HHH Me 2 -[4-(Ph-(CH 2 ) 3 O)-Ph] HH 2-150 HHH Et 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-151 HHH Et 2 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-152 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cHx HH 2-153 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-154 HHH Et 2 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 2-155 HHH Et 2 -(4-BzO-Ph) HH 2-156 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-157 HHH Et 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH 2-158 HHH Pr 2 -(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-159 HHH Pr 2 -(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-160 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 3 -cHx HH 2-161 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-162 HHH Pr 2 -[4-(cHx-CH 2 O)-Ph] HH 2-163 HHH Pr 2 -(4-BzO-Ph) HH 2-164 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-165 HHH Pr 2 -C≡C-(CH 2 ) 2 O-Ph HH H Me 2 - [4- (Ph- (CH 2) 2 O) -Ph] HH 2-149 HHH Me 2 - [4- (Ph- (CH 2) 3 O) -Ph] HH 2-150 HHH Et 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 2-151 HHH Et 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 2-152 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2) 3 -cHx HH 2-153 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2) 4 -cHx HH 2-154 HHH Et 2 - [4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 2-155 HHH Et 2 - (4-BzO-Ph) HH 2 -156 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-157 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH 2-158 HHH Pr 2 - (CH 2) 5 -cHx HH 2-159 HHH Pr 2 - (CH 2) 6 -cHx HH 2-160 HHH Pr 2 -C≡C- (CH 2) 3 -cHx HH 2-161 HHH Pr 2 -C≡C- ( CH 2) 4 -cHx HH 2-162 HHH Pr 2 - [4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 2-163 HHH Pr 2 - (4-BzO-Ph) HH 2-164 HHH Pr 2 - C≡C- (CH 2) 2 O- cHx HH 2-165 HHH Pr 2 -C≡C- (CH 2) 2 O-Ph HH .

【0077】上記表1及び2において、好適な化合物としては、 例示化合物番号:1-19〜1-31, 1-34〜1-37, 1-41〜1-5 [0077] In Table 1 and 2, as a preferable compound is Compound No.: 1-19~1-31, 1-34~1-37, 1-41~1-5
0, 1-54〜1-57, 1-61〜1-71, 1-75〜1-78, 1-82〜1-13 0, 1-54~1-57, 1-61~1-71, 1-75~1-78, 1-82~1-13
2, 1-136〜1-139, 1-143〜1-192, 1-226, 1-230〜1-23 2 1-136~1-139, 1-143~1-192, 1-226, 1-230~1-23
3, 1-237〜1-247, 1-253〜1-256, 1-260〜1-319, 1-323 3, 1-237~1-247, 1-253~1-256, 1-260~1-319, 1-323
〜1-326, 1-330〜1-359, 1-398, 1-402, 1-412〜1-422, ~1-326, 1-330~1-359, 1-398, 1-402, 1-412~1-422,
1-426〜1-429, 1-433〜1-516, 1-547〜1-550, 1-554〜 1-426~1-429, 1-433~1-516, 1-547~1-550, 1-554~
1-568, 1-572〜1-575, 1-579〜1-630, 1-634〜1-637, 1 1-568, 1-572~1-575, 1-579~1-630, 1-634~1-637, 1
-641〜1-708,1-712〜1-724, 1-731〜1-742, 1-746〜1-7 -641~1-708,1-712~1-724, 1-731~1-742, 1-746~1-7
49, 1-753〜1-831, 1-852〜1-881, 1-891〜1-960, 2-1 49, 1-753~1-831, 1-852~1-881, 1-891~1-960, 2-1
〜2-27, 2-31〜2-39, 2-73〜2-101, 2-104〜2-153 を挙げることができ、更に好適には、 例示化合物番号:1-226, 1-230〜1-233, 1-237〜1-247, ~2-27, 2-31~2-39, 2-73~2-101, can be mentioned 2-104~2-153, more preferably, Compound No.: 1-226, 1-230 ~1-233, 1-237~1-247,
1-253〜1-256, 1-260〜1-319, 1-323〜1-326, 1-330〜 1-253~1-256, 1-260~1-319, 1-323~1-326, 1-330~
1-359, 1-412〜1-422, 1-426〜1-429, 1-433〜1-511, 1 1-359, 1-412~1-422, 1-426~1-429, 1-433~1-511, 1
-547〜1-550, 1-554〜1-568, 1-572〜1-575, 1-579〜1- -547~1-550, 1-554~1-568, 1-572~1-575, 1-579~1-
630, 1-634〜1-637, 1-641〜1-651, 1-659〜1-687, 1-6 630, 1-634~1-637, 1-641~1-651, 1-659~1-687, 1-6
90〜1-694, 1-698〜1-708, 1-731〜1-1-742, 1-749, 1- 90~1-694, 1-698~1-708, 1-731~1-1-742, 1-749, 1
753〜1-780, 1-783, 1-787〜1-797, 1-801〜1-827, 2-1 753~1-780, 1-783, 1-787~1-797, 1-801~1-827, 2-1
〜2-27, 2-31〜2-39, 2-73〜2-101, 2-104, 2-105, 2-1 ~2-27, 2-31~2-39, 2-73~2-101, 2-104, 2-105, 2-1
09〜2-117, 2-121〜2-129, 2-133〜2-139, 2-140〜2-14 09~2-117, 2-121~2-129, 2-133~2-139, 2-140~2-14
3 を挙げることができ、より好適には、 例示化合物番号:1-226, 1-233, 1-237〜1-247, 1-260 3 can be mentioned, more preferably, Compound No.: 1-226, 1-233, 1-237~1-247, 1-260
〜1-285, 1-309〜1-313,1-317〜1-319, 1-326, 1-330, ~1-285, 1-309~1-313,1-317~1-319, 1-326, 1-330,
1-333〜1-336, 1-338, 1-412〜1-422, 1-429, 1-433〜1 1-333~1-336, 1-338, 1-412~1-422, 1-429, 1-433~1
-481, 1-550, 1-554〜1-568, 1-575, 1-579〜1-627, 1- -481, 1-550, 1-554~1-568, 1-575, 1-579~1-627, 1-
630, 1-690, 1-691, 1-698, 1-708, 1-731, 1-742, 2-1 630 1-690, 1-691, 1-698, 1-708, 1-731, 1-742, 2-1
04, 2-105, 2-109〜2-117を挙げることができる。 04, 2-105, can be mentioned 2-109~2-117.

【0078】 [0078]

【発明の実施の形態】本発明の一般式(I)を有する化合物は、以下に記載する方法に従って製造することができる。 The compounds having general formula (I) of the present invention DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION may be prepared according to methods described below.

【0079】A法は、化合物(I)において、Xがエチニレン基である化合物(Ic)、Xがエチレン基である化合物(Id)、Xがビニレン基である化合物(I [0079] A method, In compound (I), compounds wherein X is an ethynylene group (Ic), compound X is an ethylene group (Id), compounds wherein X is vinylene group (I
e)、Xが−CO−CH 2 −を有する基である化合物(If)、Xが−CH(OH)−CH 2 −を有する基である化合物(Ig)及びXがアリール基又は置換基群a e), X is -CO-CH 2 - groups with a compound (the If), X is -CH (OH) -CH 2 - compound is a group having a (Ig) and X is an aryl group or a substituent group a
から選択される基で1乃至3個置換されたアリ−ル基である化合物(Ih)を製造する方法である。 It is 1 to 3 substituted with a group selected from ants - a process for preparing a compound which is Le based on (Ih).

【0080】 [0080]

【化18】 [Of 18]

【0081】 [0081]

【化19】 [Of 19]

【0082】上記式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 [0082] In the above formulas, R 1, R 2, R 3, R 4, R 5,
6 、R 7 、Y及びnは、前述したものと同意義を示し、 R 6, R 7, Y and n have the same meanings as described above,
5a 、R 6a及びR 7aは、各々R 5 、R 6及びR 7基において置換基として含まれるアミノ、ヒドロキシ及び/又はカルボキシル基が、保護されてもよいアミノ、ヒドロキシ及び/又はカルボキシル基である他R 5 、R 6及びR 7 R 5a, R 6a and R 7a are each amino contained as substituents in R 5, R 6 and R 7 groups, hydroxy and / or carboxyl group, a protected or an amino, hydroxy and / or carboxyl group there other R 5, R 6 and R 7
基の基の定義における基と同様の基を示し、R 8及びR Shows the same groups in the definitions of the radicals, R 8 and R
8aは、同一に水素原子を示すか又は一緒に低級アルキル基を示し、環Arは、アリール基又は置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基を示す。 8a is identical to a lower alkyl group or together represent a hydrogen atom, ring Ar is Ali substituted by at least one group selected from the aryl group or substituent group a - shows the Le group.

【0083】上記において、R 5a 、R 6a及びR 7aの定義における「保護されてもよいアミノ基」の「保護基」 [0083] In the above, R 5a, "protecting group" of the "protected or an amino group" in the definition of R 6a and R 7a
は、有機合成化学の分野で使用されるアミノ基の保護基であれば特に限定はされないが、前述したものと同意儀を示し、好適には、低級アルコキシカルボニル基又は低級脂肪族アシル基であり、最も好適には、t-ブトキシカルボニル基又はアセチル基である。 Is not specifically limited as long as the protecting group for amino groups used in the field of organic synthetic chemistry, shows agreement Yi as described above preferably is an the lower alkoxycarbonyl group or lower fatty acyl group , and most preferred, t-butoxycarbonyl group or an acetyl group.

【0084】上記において、R 5a 、R 6a及びR 7aの定義における「保護されてもよいヒドロキシ基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるヒドロキシ基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記「加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る反応における」ヒドロキシ基の保護基と同意義を示し、好適には、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、低級アルコキシカルボニル基又は(低級アルコキシ)メチル基であり、更に好適には、低級脂肪族アシル基又は(低級アルコキシ)メチル基であり、最も好適にはアセチル基又はメトキシメチル基である。 [0084] In the above, R 5a, "protecting group" in "protected which may be hydroxy group" in the definition of R 6a and R 7a, if the protecting group of the hydroxy group used in the field of organic synthetic chemistry is not particularly limited, for example, the "hydrogenolysis, hydrolysis, electrolysis, in the reaction cleavable by chemical methods such as photolysis" indicates the same meaning as the hydroxy-protecting group, preferably, lower aliphatic acyl group, aromatic acyl group, a lower alkoxycarbonyl group or (lower alkoxy) methyl group, more preferably a lower aliphatic acyl group or (lower alkoxy) methyl groups, most preferably acetyl a group or a methoxymethyl group.

【0085】上記において、R 5a 、R 6a及びR 7aの定義における「保護されてもよいカルボキシル基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるカルボキシル基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記低級アルキル基、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピル、1−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、 [0085] In the above, R 5a, "protecting group" in "protected which may be a carboxyl group" in the definition of R 6a and R 7a, if a protecting group of a carboxyl group used in the field of organic synthetic chemistry is not particularly limited, for example, the lower alkyl group, benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, 1-naphthylmethyl, diphenylmethyl,
トリフェニルメチル、4−メチルベンジル、4−メトキシベンジル、4−ニトロベンジル、4−フルオロベンジル、4−シアノベンジルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシアノで置換されてもよい1乃至3個のアリールで置換された低級アルキル基であり、好適には低級アルキル基であり、最も好適にはメチル基である。 Triphenylmethyl, 4-methylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-fluorobenzyl, 4-cyano-lower alkyl as benzyl, lower alkoxy, nitro, 1 or may be substituted by halogen or cyano a lower alkyl group substituted by three aryl, preferably lower alkyl groups, most preferably methyl.

【0086】第A1工程は、一般式(IV)を有する化合物を製造する工程であり、一般式(II)を有する化合物を、不活性溶媒中、窒素雰囲気下、塩基及びパラジウム触媒の存在下、一般式(III)を有する化合物と [0086] Step A1 is a step for preparing a compound having the general formula (IV), a compound of general formula (II), in an inert solvent, under a nitrogen atmosphere in the presence of a base and a palladium catalyst, and compounds of general formula (III)
Sonogashira coupling反応させることにより行なわれる。 Performed by Sonogashira coupling reaction.

【0087】上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、 [0087] The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert,
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、 For example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride,
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、 Chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, esters such as diethyl carbonate; diethyl - ether, diisopropyl et - ether, tetrahydrofuran, dioxane, d like dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl - ethers; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone,
シクロヘキサノンのようなケトン類;アセトニトリル、 Ketones such as cyclohexanone; acetonitrile,
イソブチルビトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類; Nitriles such as isobutyl bi tolyl formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide; dimethylsulfoxide, sulfoxides such as sulfolane;
であり、好適には、エ−テル類、アミド類又はスルホキシド類(最も好適には、アミド類又はエ−テル類)である。 , And the suitably et - ethers, amides or sulfoxides (most preferably, amides or e - ethers) is. また、反応溶媒中に少量の水を添加することで、反応の進行が促進されることがある。 Further, by adding a small amount of water in the reaction solvent, there may progress of the reaction is accelerated.

【0088】上記反応に使用される塩基としては、通常 [0088] As the base used in the above reaction, usually
Sonogashira coupling反応に使用される塩基であれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化リチウム、 Is not particularly limited as long as the base used in the Sonogashira coupling reaction, for example, lithium carbonate, sodium carbonate, alkali metal carbonates such as potassium; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, an alkali such as potassium hydrogen carbonate metal bicarbonates; lithium hydride,
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5 Sodium hydride, alkali metal hydrides such as potassium hydride; lithium hydroxide, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide; lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium alkali metal alkoxides such as t- butoxide; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N- methylmorpholine, pyridine, 4-(N, N- dimethylamino) pyridine, N, N- dimethylaniline, N, N- diethyl aniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non -5
−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4. - ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8- diazabicyclo [5.4.
0]−7−ウンデセン(DBU)のような有機アミン類;であり、好適には有機アミン類(最も好適にはトリエチルアミン)である。 0] -7-undecene (DBU) Organic amines such as; a, preferably an organic amines (most preferably triethylamine).

【0089】上記反応に使用されるパラジウム触媒としては、通常Sonogashira coupling反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、炭酸パラジウムのようなパラジウム塩類、配位子と錯体を形成しているジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム錯体のようなパラジウム塩錯体類を挙げることができる。 [0089] As the palladium catalyst used in the above reaction is not particularly limited as long as it is usually used for Sonogashira coupling reaction, for example, palladium acetate, palladium chloride, palladium salts such as carbonate palladium coordination it can be exemplified palladium salt complexes such as dichlorobis (triphenylphosphine) palladium complex to form a child and complex.

【0090】また、添加剤として、沃化銅(I)、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムを使用することにより、収率を向上させることができる。 [0090] Further, as an additive, copper iodide (I), by using benzyltriethylammonium chloride, it is possible to improve the yield.

【0091】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃ [0091] The reaction temperature varies depending on the starting material, base, varies depending on the solvent type, etc., usually, -20 ° C. to 200 ° C.
(好適には0℃乃至120℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 120 ° C.) it is.

【0092】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、5分乃至48時間(好適には15分乃至24時間)である。 [0092] The reaction time varies depending on the starting material, base, solvent, the reaction temperature, etc., but is usually 5 minutes to 48 hours (preferably 15 minutes to 24 hours).

【0093】本工程の目的化合物(IV)は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0093] desired compound of this step (IV) may, if necessary, conventional methods, for example recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium over adsorption column chromatography using a support such as Florisil silica gel system; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0094】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0094] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means.

【0095】第A2工程は、一般式(Ic)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(I - 0095] The A2 step, a step for preparing a compound having the general formula (Ic), inert solvent, Compound (I
V)を塩基と反応させ加水分解した後、所望によりR 5a 、R After the V) it is hydrolyzed by reacting with a base, optionally R 5a, R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/ Amino in 6a and R 7a, hydroxy and /
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1 Or removing the protecting group of a carboxyl group, R 1
及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われる。 And protecting the amino group in R 2, and / or carried out by protection of the hydroxy group in R 3.

【0096】化合物(IV)を塩基と反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、 [0096] inert solvent used compound (IV) in the reaction with the base, but it if not particularly limited but in this reaction inert, e.g., hexane, heptane,
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類; Ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ− Benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, Four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol ethers such as dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol -
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;水;或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、アルコール類及びエーテル類の混合溶媒(最も好適には、メタノール及びテトラヒドロフランの混合溶媒)である。 Le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol like methyl cellosolve - Le acids; water; a or a mixed solvent of the above solvents, preferably, a mixed solvent of alcohols and ethers (most preferably a mixed solvent of methanol and tetrahydrofuran) is.

【0097】化合物(IV)を塩基と反応させる際に使用される塩基としては、例えば、前記A法第A1工程において使用される塩基と同様なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水酸化物類(最も好適には、水酸化カリウム、水酸化リチウム又は水酸化ナトリウム)である。 [0097] As the base used compound (IV) in the reaction with a base, for example, the method A can be mentioned those similar to the bases used in Step A1, preferably, alkali metal hydroxides (most preferably potassium hydroxide, lithium hydroxide or sodium hydroxide) is.

【0098】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至250℃ [0098] The reaction temperature varies depending on the starting material, base, varies depending on the solvent type, etc., usually, -20 ° C. to 250 ° C.
(好適には0℃乃至150℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 0.99 ° C.) it is.

【0099】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、通常、30分間乃至7 [0099] The reaction time varies depending on the starting material, base, type of solvent, the reaction temperature or the like, usually, 30 minutes to 7
2時間(好適には1時間乃至48時間)である。 2 hours (preferably 1 hour to 48 hours).

【0100】所望の工程である、アミノ基、ヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基の保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、TWGreen,(Protective Groups in [0100] desired is a process, an amino group, removal of the protecting group of hydroxy group and / or carboxy group may vary according to its kind, methods well known in the general organic synthetic chemistry techniques, for example, TWGreen, (Protective Groups in
Organic Synthesis),JohnWiley & Sons:JFWMcOmi Organic Synthesis), JohnWiley & Sons: JFWMcOmi
s,(Protective Groups in OrganicChemistry),Plenu s, (Protective Groups in OrganicChemistry), Plenu
m Pressに記載の方法により行うことができ、例えば、 m can be carried out by the method described in Press, for example,
以下のように行うことができる。 It can be carried out as follows.

【0101】アミノ基の保護基が、シリル類である場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理することにより除去される。 [0102] amino-protecting group is, in the case of silyl ethers is generally tetrabutylammonium fluoride, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid - pyridine, compound which forms a fluoride anion such as potassium fluoride in is removed by treatment.

【0102】上記反応に使用される不活性溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、 [0102] Inert solvents used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, for example,
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類が好適である。 Diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, et such as diethylene glycol dimethyl - ethers are preferred.

【0103】反応温度及び反応時間は、特に限定はないが、通常、0℃乃至50℃で10分間乃至18時間実施される。 [0103] The reaction temperature and reaction time is not particularly limited, usually, carried out 0 ℃ to 50 10 minutes ° C. to 18 hours.

【0104】アミノ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合には、水性溶媒の存在下に、酸又は塩基で処理することにより除去することができる。 [0104] amino-protecting group is an aliphatic acyl, aromatic acyl compounds, when it is substituted methylene group forming a alkoxycarbonyl compound or Schiff base, in the presence of an aqueous solvent, acid or base in can be removed by treatment.

【0105】上記反応に使用される酸としては、通常酸として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、硫酸、 [0105] As the acid used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction in what is generally used as an acid, for example, hydrobromic, hydrochloric, sulfuric,
過塩素酸、燐酸、硝酸のような無機酸であり、好適には塩酸である。 Perchloric acid, phosphoric acid, an inorganic acid such as nitric acid, preferably hydrochloric acid.

【0106】上記反応に使用される塩基としては、通常塩基として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t−ブトキシドのような金属アルコキシド類; [0106] As the base used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction in what is generally used as a base, preferably, lithium carbonate, sodium carbonate, such as potassium carbonate alkali metal carbonates; metal alkoxides such as lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium -t- butoxide; lithium hydroxide, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide;
アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類;が用いられる。 Ammonia water, concentrated ammonia - methanol - ammonia, such as Le; are used.

【0107】上記反応に使用される不活性溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、n− [0107] As the inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is usually used for the hydrolysis reaction, for example, methano -, ethanol - le, n-
プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ− Propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - Le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol -
ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;水;水と上記有機溶媒との混合溶媒;であり、好適にはエーテル類(最も好適にはジオキサン)である。 Le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve alcohols such as cellosolve - Le ethers diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, et such as diethylene glycol dimethyl - ethers; water; water and the organic a mixed solvent of a solvent; a, preferably ethers (most preferably dioxane).

【0108】反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常、0℃乃至150℃で、1時間乃至10時間反応させる。 [0108] The reaction temperature and reaction time varies depending on the starting material, depends on the solvent and acid are employed or base such is not particularly limited, in order to suppress side reactions, usually at 0 ℃ to 0.99 ° C., 1 hour to react for 10 hours.

【0109】アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより(好適には、触媒下、常温にて接触還元)除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。 [0109] amino-protecting group is, in the case of aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl such is usually in an inert solvent, thereby (preferably by contacting with a reducing agent, a catalyst under catalytic reduction at room temperature ) is the preferred method of removing by using a method or an oxidizing agent is removed.

【0110】接触還元による除去に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n− [0110] The inert solvent used in removal by catalytic reduction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; toluene, benzene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, esters such as diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether seedlings - ethers; methanol -, ethanol - le, n-
プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ− Propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol -
ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;酢酸のような有機酸類;水;上記溶媒と水との混合溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類、エーテル類、有機酸類又は水(最も好適には、アルコール類又は有機酸類)である。 A mixed solvent of the above solvent and water; organic acids such as acetic acid; water Le acids - Le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve is, preferably, alcohol - Le acids , ethers, (most preferably, alcohols or organic acids) and organic acids or water are.

【0111】接触還元による除去に使用される使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム− [0111] As the catalyst to be used is used in removal by catalytic reduction, typically, as long as it used to catalytic reduction is not particularly limited, preferably, palladium -
炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム− Carbon, Raney - nickel, platinum oxide, platinum black, rhodium -
酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。 Aluminum oxide, triphenylphosphine - rhodium chloride, palladium - barium sulfate is used.

【0112】圧力は、特に限定はないが、通常1乃至1 [0112] The pressure is not particularly limited, but usually 1 to 1
0気圧で行なわれる。 It is carried out at 0 atm.

【0113】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至100℃ [0113] The reaction temperature and reaction time varies depending on the starting material, catalyst, varies depending on the solvent or the like, usually, 0 ° C. to 100 ° C.
で、5分間乃至24時間実施される。 In is carried out for 5 minutes to 24 hours.

【0114】酸化による除去において使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、 [0114] The inert solvent used in the removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, for example, chloroform, dichloromethane,
1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトンのようなケトン類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類;スルホラン;であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類又はスルホキシド類(最も好適には、ハロゲン化炭化水素類又はスルホキシド類)である。 1,2-dichloroethane, four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; nitriles such as acetonitrile, diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, et such as diethylene glycol dimethyl - ethers; acetone ketones such as; sulfoxides such as and dimethyl sulfoxide; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide sulfolane is, preferably, the halogenated hydrocarbons, e - ethers or sulfoxides (most preferably halogenated hydrocarbons or sulfoxides) are.

【0115】使用される酸化剤としては、通常酸化剤として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト(CA [0115 As oxidizing agents to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction in what is generally used as oxidizing agent, preferably, potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium cerium Nitrate (CA
N)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)が用いられる。 N), 2,3-dichloro-5,6-dicyano -p- benzoquinone (DDQ) is used.

【0116】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至150℃ [0116] The reaction temperature and reaction time varies depending on the starting material, catalyst, varies depending on the solvent or the like, usually, 0 ° C. to 0.99 ° C.
で、10分間乃至24時間実施される。 In is carried out for 10 minutes to 24 hours.

【0117】また、アミノ基の保護基が、アラルキル類である場合には、酸を用いて保護基を除去することもできる。 [0117] The protective group of amino group is, in the case of aralkyl compounds can also remove the protecting group with an acid.

【0118】上記反応に使用される酸は、通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、 [0118] The acid used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used as an acid catalyst in conventional reactions, for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, perchloric acid,
燐酸のような無機酸;酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸;塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、 Inorganic acids such as phosphoric acid; formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, p- toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoroacetic acid, Bronsted acid such as organic acid such as trifluoromethanesulfonic acid; zinc tetrachloride, tin chloride, boron tri chloride, boron trifluoride,
ボロントリブロミドのようなルイス酸;酸性イオン交換樹脂;であり、好適には、無機酸又は有機酸(最も好適には、塩酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸)である。 Lewis acids such as boron tribromide; acidic ion exchange resin; a, preferably, (most preferably, hydrochloric acid, acetic acid or trifluoroacetic acid) inorganic or organic acid is.

【0119】上記反応に使用される不活性溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、 [0119] inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, for example,
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類; Hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, halogenated such as carbon tetrachloride carbide hydrogen like; methyl acetate, ethylacetate, propyl acetate, butyl acetate, esters such as diethyl carbonate;
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、 Diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - le, t - butanol - le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol,
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;水;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、エーテル類、アルコ−ル類又は水(最も好適には、ジオキサン、 Glycerin, Octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le acids; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide; a, water; or water or a mixed solvent of the above solvents , preferably, ethers, alcohols - Le acids or water (most preferably dioxane,
テトラヒドロフラン、エタノール又は水)である。 Tetrahydrofuran, ethanol or water).

【0120】反応温度は、原料化合物、使用される酸、 [0120] The reaction temperature varies depending on the starting material, the acid used,
溶媒等により異なるが、通常、−20℃乃至沸点温度(好適には、0℃乃至100℃)である。 Varies depending solvent like, usually, -20 ° C. to the boiling point (preferably, 0 ° C. to 100 ° C.) it is.

【0121】反応時間は、原料化合物、使用される酸、 [0121] The reaction time varies depending on the starting material, the acid used,
溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分間乃至48時間(好適には、30分間乃至20時間)である。 The solvent, the reaction temperature or the like, usually, 15 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to 20 hours).

【0122】アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、アミノの保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより行われる。 [0122] When the amino-protecting group is an alkenyloxycarbonyl such are usually aliphatic acyl such protecting groups of amino said, aromatic acyls, alkoxycarbonyl such or substituted methylene to form a Schiff base in analogy to the conditions of removal reaction when a group is done by treatment with a base.

【0123】尚、アミノ基の保護基がアリルオキシカルボニル基の場合は、特に、パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。 [0123] In the case the amino protecting group is allyloxycarbonyl group, in particular, palladium, and a method of removing by using triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is convenient, that side reactions are carried out less it can.

【0124】ヒドロキシ基の保護基として、シリル類を使用した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、 [0124] As the hydroxy-protecting group, when using the silyl compound is usually tetrabutylammonium fluoride, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid - pyridine, to produce a fluorine anion such as potassium fluoride or treated with a compound,
又は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、p Or, hydrochloric, hydrobromic, sulfuric, perchloric acid, inorganic acids such as phosphoric acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, p
−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸で処理することにより除去できる。 - it can be removed toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoroacetic acid, by treatment with an organic acid such as trifluoromethanesulfonic acid.

【0125】弗素アニオンにより保護基を除去する場合に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、ジエチルエ− [0125] The inert solvent used in the case of removing the protecting group by a fluorine anion is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, preferably, diethyl -
テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、 Ether, diisopropyl et - ether, tetrahydrofuran,
ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;酢酸のような有機酸;水;上記溶媒の混合溶媒;である。 Dioxane, dimethoxyethane, et such as diethylene glycol dimethyl - ethers; acetonitrile, nitriles such as isobutyronitrile; a; a mixed solvent of the above solvents; water; organic acids such as acetic acid.

【0126】尚、弗素アニオンにより保護基を除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えることによって、反応が促進することがある。 [0126] In the case of removal of the protecting group by a fluorine anion, formic acid, acetic acid, by adding an organic acid such as propionic acid, the reaction is promoted.

【0127】弗素アニオンにより保護基を除去する場合の反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至100℃(好適には、 [0127] The reaction temperature and reaction time in the case of removing the protecting group by a fluorine anion, the starting compound, a catalyst, varies depending on the solvent or the like, usually, 0 ° C. to 100 ° C. (preferably,
10℃乃至50℃)で、1時間乃至24時間実施される。 At 10 ° C. to 50 ° C.), it is carried out for 1 hour to 24 hours.

【0128】無機酸又は有機酸により保護基を除去する場合、アミノ基又はイミノ基の保護基がアラルキル類である場合の除去反応の条件と同様にして、無機酸又は有機酸と処理することにより達成される。 [0128] When removing the protective group by an inorganic or organic acid, by the protecting group for an amino or imino group in the same manner and conditions of removal reaction when aralkyl acids, treatment with inorganic or organic acids They are achieved.

【0129】ヒドロキシ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより(好適には、触媒下、常温にて接触還元)除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。 [0129] protecting groups for a hydroxy group is, in the case of aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl such is usually in an inert solvent, thereby (preferably by contacting with a reducing agent, a catalyst under catalytic reduction at room temperature ) is the preferred method of removing by using a method or an oxidizing agent is removed.

【0130】接触還元による除去に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、アミノ基又はイミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、還元剤と接触させることにより除去する際に使用される不活性溶媒と同様なものを挙げることができ、好適にはアルコ−ル類(最も好適にはメタノール)である。 [0130] The inert solvent used in removal by catalytic reduction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, for example, the amino-protecting group or an imino group, aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl such If it is, it is similar to those listed inert solvent used is removed by contacting it with a reducing agent, preferably alcohol - is Le acids (most preferably methanol).

【0131】接触還元による除去に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、 [0131] As the catalyst to be used in the removal by catalytic reduction, typically, as long as it is used in catalytic reduction reactions,
特に限定はないが、例えば、アミノ基又はイミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、還元剤と接触させることにより除去する際に使用される不活性触媒と同様なものを挙げることができ、好適にはパラジウム−炭素である。 Is not particularly limited, for example, the amino-protecting group or an imino group, if an aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl such, those similar to the inert catalyst used in removing by contact with a reducing agent It can be mentioned, preferably a palladium - carbon.

【0132】圧力は、特に限定はないが、通常1乃至1 [0132] The pressure is, is not particularly limited, usually 1 to 1
0気圧で行なわれる。 It is carried out at 0 atm.

【0133】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至100℃ [0133] The reaction temperature and reaction time varies depending on the starting material, catalyst, varies depending on the solvent or the like, usually, 0 ° C. to 100 ° C.
(好適には、20℃乃至70℃)、5分間乃至48時間(好適には、1時間乃至24時間)である。 (Preferably, 20 ° C. to 70 ° C.), 5 min to 48 hours (preferably 1 hour to 24 hours).

【0134】酸化による除去において使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、酸化剤と接触させることにより除去する際に使用される不活性溶媒と同様なものを挙げることができる。 [0134] As the solvent used in the removal by oxidation, if is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, for example, the amino-protecting group is an aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl such oxidant it can be exemplified those similar to the inert solvent used is removed by contacting it with.

【0135】使用される酸化剤としては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はないが、例えば、アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、酸化剤と接触させることにより除去する際に使用される酸化剤と同様なものを挙げることができる。 - 0135] As the oxidizing agent used is not particularly limited as long as it is a compound used in the oxidation, for example, the amino-protecting group is, if an aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl such, contact with an oxidizing agent it can be exemplified those similar to the oxidizing agent used when removing by.

【0136】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至150℃ [0136] The reaction temperature and reaction time, the starting compound, catalyst, varies depending on the solvent, etc., usually, 0 ° C. to 0.99 ° C.
で、10分間乃至24時間実施される。 In is carried out for 10 minutes to 24 hours.

【0137】また、液体アンモニア中若しくはメタノ− [0137] In addition, in liquid ammonia or methanol -
ル、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノ− , Ethanol - Le, n- propanol, isopropanol -
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ− Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol -
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類中において、−78℃ Le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - in Le acids in, -78 ° C.
乃至0℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなアルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。 To at 0 ° C., the metal lithium can be removed also by the action of alkali metals such as metallic sodium.

【0138】更に、ヒドロキシ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又は、 [0138] Further, a protecting group for a hydroxy group is, in the case of aralkyl acids or aralkyloxycarbonyl carbonyls in a solvent, aluminum chloride - sodium iodide or,
トリメチルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド類を用いることにより、保護基を除去することができる。 The use of alkyl silyl halide such as trimethylsilyl iodide, can be removed protecting group.

【0139】塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はアルキルシリルハライド類を用いて保護基を除去場合使用される不活性溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;上記溶媒の混合溶媒;が挙げられる。 [0139] Aluminum chloride - The inert solvent used when removal of the protecting groups using sodium iodide or alkylsilyl halides, is not particularly limited so long as it does not participate in the reaction, preferably, methylene chloride, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; nitriles such as acetonitrile; mixed solvent of the above solvents; and the like.

【0140】塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はアルキルシリルハライド類を用いて保護基を除去場合の反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常は0℃乃至50℃で、5分間乃至72時間実施される。 [0140] Aluminum chloride - reaction temperature and reaction time in the case removal of the protecting groups using sodium iodide or alkylsilyl halides, the starting compound, varies depending on the solvent, etc., usually at 0 ℃ to 50 ° C., 5 minutes to be carried out 72 hours.

【0141】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、 [0141] Incidentally, if the reaction substrate has a sulfur atom,
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いられる。 Preferably, aluminum chloride - sodium iodide is used.

【0142】ヒドロキシ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル基類である場合には、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。 [0142] protecting groups for a hydroxy group is, aliphatic acyls, if aromatic acyls or an alkoxycarbonyl group such in solvents, are removed by treatment with a base.

【0143】上記反応において使用される塩基としては、通常塩基として使用されるもので化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t−ブトキシドのような金属アルコキシド類;アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類;であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類、金属アルコキシド類又はアンモニア類(最も好適には、アルカリ [0143] As the base used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound that is usually used as a base, for example, lithium carbonate, sodium carbonate, alkali metal carbonates such as potassium; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, alkali metal bicarbonate salts such as potassium hydrogen carbonate; lithium hydroxide, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide; metal alkoxides such as lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium -t- butoxide; aqueous ammonia, concentrated ammonia - methanol - ammonia, such as Le; are, preferably, alkali metal hydroxide things, metal alkoxides or ammonia compounds (most preferably, alkali 属水酸化物類又は金属アルコキシド類)である。 Is a genus hydroxides or metal alkoxides).

【0144】上記反応において使用される溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、 [0,144] The solvent to be used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used in the conventional hydrolysis reaction, for example, diethyl - ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether ethers - d, such as; methanol -, ethanol - Le, n- propanol, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol - le,
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ− Diethylene, glycerine, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve -
ル類;水;上記溶媒の混合溶媒が好適である。 Le acids; water; a mixed solvent of the above solvents are suitable.

【0145】反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なり特に限定はないが、 [0145] The reaction temperature and reaction time varies depending on the starting material, the base used is not particularly limited depends on the solvent or the like,
副反応を抑制するために、通常、−20℃乃至150℃ In order to suppress side reactions, usually, -20 ° C. to 0.99 ° C.
で、1時間乃至10時間実施される。 In is carried out for 1 hour to 10 hours.

【0146】ヒドロキシ基の保護基が、アルコキシメチル類、テトラヒドロピラニル類、テトラヒドロチオピラニル類、テトラヒドロフラニル類、テトラヒドロチオフラニル類又は置換されたエチル類である場合には、通常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。 [0146] protecting groups for a hydroxy group is, alkoxymethyl ethers, tetrahydropyranyl ethers, tetrahydrothiopyranyl acids, tetrahydrofuranyl ethers, in the case of tetrahydrothiofuranyl acids or substituted ethyl ethers are usually in a solvent It is removed by treatment with an acid.

【0147】上記反応に使用される酸としては、通常、 [0147] As the acid used in the above reaction, usually,
ブレンステッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩化水素;塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸;又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸:三弗化ホウ素のようなルイス酸であるが、ダウエックス50Wのような強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができる。 It is not particularly limited as long as it is used as a Bronsted acid or a Lewis acid, preferably hydrogen chloride, hydrochloric acid, sulfuric acid, mineral acids such as nitric acid; or acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, p- organic acids such as Bronsted acids such as toluene sulfonic acid: is a trifluoride Lewis acid such as boron, it may also be used a strongly acidic cation-exchange resin such as Dowex 50 W.

【0148】上記反応に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、 [0148] As the inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction,
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、 For example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride,
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトン、 Chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, esters such as diethyl carbonate; diethyl - ether, diisopropyl et - ether, ethers - tetrahydrofuran, dioxane, d like dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - Le , isoamyl alcohols - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le like; acetone, methyl ethyl ketone,
メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;水;上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、エ−テル類(最も好適には、テトラヒドロフラン)又はアルコール類(最も好適には、メタノール)である。 Methyl isobutyl ketone, isophorone, ketones such as cyclohexanone, water; a mixed solvent of the above solvents; are, suitably e - ethers (most preferably tetrahydrofuran) or an alcohol (most preferably methanol ) it is.

【0149】反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−10℃乃至200℃(好適には、0℃乃至150℃)で、5分間乃至48時間(好適には、30分間乃至10時間)である。 [0149] The reaction temperature and reaction time varies depending on the starting material, the acid used varies depending on the solvent or the like, usually, at -10 ° C. to 200 ° C. (preferably, 0 ° C. to 0.99 ° C.), 5 min to 48 hours (preferably 30 minutes to 10 hours).

【0150】ヒドロキシ基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、ヒドロキシ基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成される。 [0150] protecting groups for a hydroxy group is, if it is alkenyloxycarbonyl include, typically, aliphatic acyl such protecting group for a hydroxy group is said, the elimination reaction when an aromatic acyl compound or alkoxycarbonyl such conditions in the same manner as is accomplished by treating with a base.

【0151】尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、 [0151] In the case of allyloxycarbonyl group,
特にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス(メチルジフェニルホスフィン)(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)・ヘキサフルオロホスフェートを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。 In particular palladium, and triphenylphosphine, or bis method of removing by using a (methyl diphenyl phosphine) (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) · hexafluorophosphate is simple, that the side reactions are carried out less can.

【0152】カルボキシ基の保護基が、低級アルキル基又は低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシアノで置換されてもよい1乃至3個のアリールで置換された低級アルキル基である場合は、通常、ヒドロキシ基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成される。 [0152] protecting group of a carboxyl group with a lower alkyl group or a lower alkyl, optionally lower alkoxy, nitro, lower alkyl group substituted with a halogen or by a three 1 may be aryl substituted with cyano, usually , a protecting group for a hydroxy group is an aliphatic acyl such the, in the same manner and conditions of removal reaction when an aromatic acyl compound or alkoxycarbonyl compound is accomplished by treatment with a base.

【0153】アミノ及びヒドロキシ基を保護する方法は、その保護基の種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、Protective [0153] How to protect the amino and hydroxy groups varies depending on the kind of the protecting groups, methods well known in the general organic synthetic chemistry techniques, for example, in Protective
Groups in Organic Synthesis(Third Edition,1999,Jo Groups in Organic Synthesis (Third Edition, 1999, Jo
hn Wiley & Sons,Inc.社発行)に記載された方法により行うことができ、例えば、以下のように行うことができる。 hn Wiley & Sons, can be carried out by the method described in Inc. companies issued), for example, it can be performed as follows.

【0154】アミノ基を保護する方法としては、例えば、化合物(Ic)において、R 1及びR 2が水素原子である化合物を、不活性溶媒中(好適には、ジエチルエ− [0154] As a method of protecting an amino group, for example, in compound (Ic), a compound wherein R 1 and R 2 are a hydrogen atom, in an inert solvent (preferably diethyl -
テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、 Ether, diisopropyl et - ether, tetrahydrofuran,
ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n− Ethers - dioxane, et such as dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - le, n-
ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、 Butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerine,
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;である。 Octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le like; a. )、塩基(トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、ピリジンのような有機アミン類)の存在下又は非存在下、下記化合物 R 1a −Q (VIII) [上記式中、R 1aはアミノ基の保護基(前述したものと同意儀を示す。)を示し、Qはハロゲン原子を示す。 ), A base (triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N- methylmorpholine, presence or absence of organic amines) such as pyridine, the following compounds R 1a -Q (VIII) [In the above formula, R 1a is an amino-protecting group (. indicating consent Yi as described above), Q represents a halogen atom. ]
と、0℃乃至50℃(好適には室温付近)で30分間乃至10時間(好適には1時間乃至5時間)反応させることにより行なわれる。 When, 0 ° C. to 50 ° C. 30 minutes to 10 hours (preferably at around room temperature is) (1 hour to 5 hours preferably) it is performed by reacting.

【0155】ヒドロキシ基を保護する方法としては、例えば、化合物(Ic)において、R [0155] As a method for protecting a hydroxy group is, for example, in compound (Ic), R 3が水素原子である化合物を、不活性溶媒中(好適には、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類)、塩基の存在下(好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、 3 a compound having a hydrogen atom in an inert solvent (preferably chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, Four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoric amides such as triamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide) in the presence of a base (preferably, lithium hydride, sodium hydride, alkali metal hydrides such as potassium hydride; triethylamine, butylamine, diisopropylethylamine,
N−メチルモルホリン、ピリジンのような有機アミン類)、下記化合物 R 3a −Q (IX) [上記式中、R 3aは水酸基の保護基(前述したものと同意儀を示す。)を示し、Qは前述したものと同意儀を示す。 N- methylmorpholine, organic amines such as pyridine), the following compound R 3a -Q (IX) [in the formula, R 3a represents a hydroxy-protecting group (. Indicating consent Yi as described above), Q shows a consent ceremony with those described above. ]と、0℃乃至50℃(好適には室温付近)で30 ] And, 30 at 0 ℃ to 50 ° C. (preferably around room temperature)
分間乃至24時間(好適には1時間乃至24時間)反応させることにより行なわれる。 Minutes to 24 hours (preferably 1 hour to 24 hours) is performed by reacting.

【0156】アミノ基、ヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基の保護基の除去、並びに、アミノ基及び/又はヒドロキシ基の保護は、順不同で希望する反応を順次実施することができる。 [0156] Amino groups, removal of protecting group for a hydroxy group and / or carboxyl groups, as well as protection of the amino group and / or hydroxy groups can be performed sequentially and the reaction desired in any order.

【0157】本工程の目的化合物(Ic)は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0157] The object compound of this step (Ic) is, if necessary, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium chromatography adsorption column chromatography using a carrier such as Florisil silica gel system; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0158】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0158] When you need to separate the isomers after the completion of the reaction of each step, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means.

【0159】第A3工程は、一般式(Id)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(I [0159] The A3 step is a step for preparing a compound having the general formula (Id), in an inert solvent, Compound (I
c)を還元(好適には、水素雰囲気下、接触還元)した後、所望によりR 1 、R 2 、R 3 、R 5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われる。 reduction of c) (preferably, a hydrogen atmosphere, catalytic reduction), and then optionally R 1, R 2, R 3 , R 5a, amino in R 6a and R 7a, hydroxy and / or carboxyl-protecting group removing a protecting the amino group in R 1 and R 2, and / or carried out by protecting the hydroxy group in R 3.

【0160】接触還元による除去に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、 [0160] Contact The inert solvent used in the removal by reduction, although not particularly limited as long as the present reaction inert, e.g., hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether s: toluene, benzene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane,
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、 Chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate,
酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ− Butyl acetate, esters such as diethyl carbonate; diethyl ether, d like diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene dimethyl - ethers; methanol -
ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ− , Ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol -
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ− Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol -
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;酢酸、塩酸のような有機酸類;水;上記溶媒と水との混合溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類又はエ−テル類(最も好適には、 Le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le acids; acetic, organic acids such as hydrochloric acid; water; a mixed solvent of the above solvent and water; a, suitable , the alcohol - Le acids or e - ethers (most preferably,
メタノール)である。 Methanol).

【0161】接触還元に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、 [0161] As the catalyst used in the catalytic reduction, typically, as long as it is used in the catalytic reduction is not particularly limited, preferably palladium - carbon, Raney - Ni, platinum oxide, platinum black , rhodium - aluminum oxide,
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム− Triphenylphosphine - rhodium chloride, palladium -
硫酸バリウムが用いられる。 Barium sulfate is used.

【0162】反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃ [0162] The reaction temperature varies depending on the starting material, catalyst, varies depending on the solvent type, etc., usually, -20 ° C. to 200 ° C.
(好適には0℃乃至100℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 100 ° C.) it is.

【0163】反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、5分乃至96時間(好適には15分乃至72時間)である。 [0163] The reaction time varies depending on the starting material, catalyst, solvent, the reaction temperature, etc., but is usually 5 minutes to 96 hours (preferably 15 minutes to 72 hours).

【0164】所望により行われるR 1 、R 2 、R 3 [0164] R 1 performed optionally, R 2, R 3,
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/ R 5a, amino at R 6a and R 7a, hydroxy and /
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1 Or removing the protecting group of a carboxyl group, R 1
及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。 And protecting the amino group in R 2, and / or a method for protecting a hydroxy group for R 3, amino of A Act A2 step, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl radical, R protecting the amino group in 1 and R 2, and / or is carried out similarly to the method for protecting a hydroxy group in R 3.

【0165】本工程の目的化合物(Id)は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0165] The object compound of this step (Id) is, if necessary, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium chromatography adsorption column chromatography using a carrier such as Florisil silica gel system; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0166】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0166] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means.

【0167】第A4工程は、一般式(V)を有する化合物を製造する工程であり、化合物(III)をカテコールボランと反応させた後、化合物(II)とSuzuki co [0167] The A4 step is a step of producing a compound having general formula (V), after the compound (III) is reacted with catechol borane, and the compound (II) Suzuki co
upling反応させることにより行なわれる。 Performed by upling reaction.

【0168】化合物(III)をカテコールボランと反応させる際の反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、0℃乃至150℃(好適には1 [0168] The reaction temperature when the compound (III) is reacted with catechol borane, starting compound, varies depending on the solvent type or the like, usually, 0 ° C. to 0.99 ° C. (Suitable 1
0℃乃至100℃)である。 0 ℃ to a 100 ° C.).

【0169】化合物(III)をカテコールボランと反応させる際の反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至24時間(好適には30分乃至12時間)である。 [0169] The reaction time for the compound (III) is reacted with catechol borane, the starting compound, solvent, the reaction temperature, etc., usually is 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours) .

【0170】その後、Suzuki coupling反応させる方法は、前記A法第A1工程のSonogashira coupling反応と同様に行われる。 [0170] Then, a method of Suzuki coupling reaction is carried out in the same manner as Sonogashira coupling reaction of the Method A Step A1.

【0171】上記反応に使用される溶媒、塩基及びパラジウム触媒としては、前記A法第A1工程で用いられるものと同様なものを挙げることができる。 [0171] The solvent used in the reaction, as a base and a palladium catalyst, may be mentioned those similar to the ones used in the Method A Step A1.

【0172】本工程の目的化合物(V)は必要ならば、 [0172] The object compound of this step (V) is, if necessary,
常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、 Conventional methods, for example recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, adsorption column chromatography using silica gel, alumina, a carrier, such as Florisil of magnesium over a silica gel-based ; Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia),
アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Amberlite XAD-11 (Rohm & Haas), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, ion-exchange chromatography how to use, or normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel or alkylated silica gel (preferably, a high-speed liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, purified can do.

【0173】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0173] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means.

【0174】第A5工程は、一般式(Ie)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(V)を塩基と反応させ加水分解した後、所望によりR [0174] The A5 step is a step for preparing a compound having the general formula (Ie), in an inert solvent, after which the compound (V) was hydrolyzed and reacted with a base, optionally R
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 5a, amino at R 6a and R 7a, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl groups, protecting the amino group in R 1 and R 2, and / Or, R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われ、本工程は前記A法第A2工程と同様に行われる。 Done by protecting the hydroxy group in the 3, this process is carried out similarly to the second A2 step the A method.

【0175】第A6工程は、一般式(If)を有する化合物を製造する工程であり、化合物(Ic)を、不活性溶媒中、酸触媒を用いた水の付加反応により行なわれ、 [0175] The A6 step is a step for preparing a compound having the general formula (the If), compound (Ic), in an inert solvent, carried out by an addition reaction of water with an acid catalyst,
その後所望によりR 1 、R 2 、R 3 、R 5a 、R 6a及びR 7a Then optionally R 1, R 2, R 3 , R 5a, R 6a and R 7a
におけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われる。 Amino, removing the protective group of hydroxyl and / or carboxyl groups that in, protecting the amino group in R 1 and R 2, and / or carried out by protecting the hydroxy group in R 3.

【0176】上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、 [0176] The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert,
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、 For example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride,
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトン、 Chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, esters such as diethyl carbonate; diethyl - ether, diisopropyl et - ether, ethers - tetrahydrofuran, dioxane, d like dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - Le isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le ethers; acetone, methyl ethyl ketone,
メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;水;上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、アルコール類である。 Methyl isobutyl ketone, isophorone, ketones such as cyclohexanone, water; a mixed solvent of the above solvents; is, preferably, is an alcohol.

【0177】上記反応に使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、 [0177] As the acid catalyst used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used as an acid catalyst in conventional reactions, for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid,
過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、 Perchloric acid, inorganic acids such as phosphoric acid, formic acid, oxalic acid,
メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸又は、酸性イオン交換樹脂を挙げることができ、好適には無機酸である。 Methanesulfonic acid, p- toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, Bronsted acid or zinc chloride and organic acid such as trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, tin tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride, Borontori or a Lewis acid, such as bromide, can be mentioned acidic ion exchange resin, preferably a mineral acid.

【0178】反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃ [0178] The reaction temperature varies depending on the starting material, catalyst, varies depending on the solvent type, etc., usually, -20 ° C. to 200 ° C.
(好適には0℃乃至100℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 100 ° C.) it is.

【0179】反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、5分乃至96時間(好適には15分乃至72時間)である。 [0179] The reaction time varies depending on the starting material, catalyst, solvent, the reaction temperature, etc., but is usually 5 minutes to 96 hours (preferably 15 minutes to 72 hours).

【0180】所望により行われるR 1 、R 2 、R 3 [0180] R 1 performed optionally, R 2, R 3,
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/ R 5a, amino at R 6a and R 7a, hydroxy and /
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1 Or removing the protecting group of a carboxyl group, R 1
及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。 And protecting the amino group in R 2, and / or a method for protecting a hydroxy group for R 3, amino of A Act A2 step, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl radical, R protecting the amino group in 1 and R 2, and / or is carried out similarly to the method for protecting a hydroxy group in R 3.

【0181】第A7工程は、一般式(Ig)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(I [0181] The A7 step is a step for preparing a compound having the general formula (Ig), in an inert solvent, Compound (I
f)のCO基を−CH(OH)−基に還元することにより行なわれ、その後所望によりR 1 、R 2 、R、R 5a 、R -CH a CO group f) (OH) - performed by reducing the base, then optionally R 1, R 2, R, R 5a, R
6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われる。 Amino in 6a and R 7a, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl groups, protecting the amino group in R 1 and R 2, and / or carried out by protecting the hydroxy group in R 3 .

【0182】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、 [0182] inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, e.g., hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene , toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, tetrahalide hydrocarbons such as carbontetrachloride diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether ethers such as; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol - le,
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ− Diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve -
ル類或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、エーテル類又はアルコ−ル類(最も好適には、メタノ−ル又はエタノ−ル)である。 A Le ethers or a mixed solvent of the above solvents, preferably, ethers or alcohols - Le acids (and most preferably, methanol - Le or ethanol - Le) is.

【0183】上記反応に使用される還元剤としては、C [0183] The reducing agent used in the reaction, C
O基を−CH(OH)−基に還元できる還元剤であれば特に限定はされないが、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化シアノホウ素ナトリウムのような水素化ホウ素アルカリ金属類;水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、 The O group -CH (OH) - but it if not particularly limited a reducing agent capable of reducing the base, such as sodium borohydride, lithium borohydride, alkali metal borohydrides, such as sodium cyanoborohydride ; diisobutylaluminum hydride, lithium aluminum hydride,
水素化トリエトキシアルミニウムリチウムのような水素化アルミニウム化合物;であり、好適には水素化ホウ素アルカリ金属類(水素化シアノホウ素ナトリウム)である。 Aluminum hydride compounds such as hydrogenated triethoxy aluminum lithium; a and, preferably a alkali metal borohydride such (sodium cyanoborohydride).

【0184】反応温度は、原料化合物、還元剤、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−10℃乃至100℃ [0184] The reaction temperature, starting compound, the reducing agent may vary depending on the kind of solvent, etc., usually, -10 ° C. to 100 ° C.
(好適には−20℃乃至20℃)である。 (Preferably -20 ° C. to 20 ° C.) is.

【0185】反応時間は、原料化合物、還元剤、溶媒、 [0185] The reaction time varies depending on the starting material, reducing agent, solvent,
反応温度等により異なるが、通常、10分間乃至48時間(好適には30分間乃至12時間)である。 Varies depending on the reaction temperature or the like, but is usually 10 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to to 12 hours).

【0186】所望により行われるR 1 、R 2 、R 3 [0186] R 1 performed optionally, R 2, R 3,
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/ R 5a, amino at R 6a and R 7a, hydroxy and /
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1 Or removing the protecting group of a carboxyl group, R 1
及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。 And protecting the amino group in R 2, and / or a method for protecting a hydroxy group for R 3, amino of A Act A2 step, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl radical, R protecting the amino group in 1 and R 2, and / or is carried out similarly to the method for protecting a hydroxy group in R 3.

【0187】第A8工程は、一般式(VII)を有する化合物を製造する工程であり、一般式(VI)を有する化合物を、化合物(II)とSuzuki coupling反応させることにより行なわれ、本工程は、前記A法第A4工程の、カテコールボランと反応させた化合物(III)を化合物(II)とSuzuki coupling反応させる方法と同様に行なわれる。 [0187] The A8 step is a step for preparing a compound having the general formula (VII), a compound having the general formula (VI), performed by Suzuki coupling with a compound (II), this step , said a Act A4 step is carried out similarly to the method for compound reacted with catechol borane (III) the compound (II) Suzuki coupling reaction.

【0188】第A9工程は、一般式(Ih)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(V [0188] The A9 step is a step for preparing a compound having the general formula (Ih), in an inert solvent, compound (V
II)を塩基と反応させ加水分解した後、所望によりR After the II) was hydrolyzed by reacting with a base, optionally R
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われ、本工程は前記A法第A2工程と同様に行われる。 5a, amino at R 6a and R 7a, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl groups, protecting the amino group in R 1 and R 2, and / or to protect the hydroxy group in R 3 performed by the present process is carried out similarly to the second A2 step the A method.

【0189】また、化合物(II)において、下記(I [0189] Further, in the compound (II), the following (I
I-1)基 I-1) based on

【0190】 [0190]

【化20】 [Of 20]

【0191】[上記式中、R 4は前述したものと同意議を示す。 [0191] [In the formula, R 4 represents an agreement discussions with those described above. ]の代わりに、下記(II-2)基 Instead, the following (II-2) group]

【0192】 [0192]

【化21】 [Of 21]

【0193】[上記式中、R 1a及びR 2aは、R 1及びR 2 [0193] [In the formulas, R 1a and R 2a, R 1 and R 2
基が同時に水素原子を示さない他R 1及びR 2基の定義における基と同様の基を示し、R 3及びR 4は前述したものと同意議を示す。 Group represents the same groups in the other R 1 and the definition of R 2 groups which do not exhibit hydrogen atoms at the same time, R 3 and R 4 is a consent discussions with those described above. ]を有する化合物(X) Compounds having] (X)

【0194】 [0194]

【化22】 Embedded image

【0195】をA法の出発原料として用いて、化合物(III)又は(VI)と反応させた後、所望によりR [0195] as a starting material for Method A, it is reacted with a compound (III) or (VI), optionally R
1 、R 2 、R 3 、R 5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより、(II−1)基を開環する工程を省略して直接目的化合物(Ic)〜(Ih)を製造することもできる。 1, R 2, R 3, R 5a, amino at R 6a and R 7a, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl groups, protecting the amino group in R 1 and R 2, and / or, by protecting the hydroxy group in R 3, it is also possible to produce (II-1) directly target compound omit the step of opening the group (Ic) ~ (Ih).

【0196】B法は、化合物(II)又は(X)である化合物(XI)を製造する方法である。 [0196] Method B is a method for producing a compound (II) or compound is a (X) (XI).

【0197】 [0197]

【化23】 [Of 23]

【0198】上記式中、R 6a 、R 7a及びnは前述したものと同意議を示し、Zは、前記(II−1)基又は(I [0198] In the above formulas, R 6a, R 7a and n is an agreement discussions as described above, Z is the (II-1) group, or (I
I−2)基を示す。 It shows the I-2) group.

【0199】第B1工程は、化合物(XI)を製造する工程であり、不活性溶媒中、一般式(X)を有する化合物を臭素化剤と反応させることにより行なわれる。 [0199] The B1 process is a process for preparing a compound (XI), in an inert solvent, a compound having the general formula (X) made by reacting with a brominating agent.

【0200】上記反応に使用される溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、 [0200] As the solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, for example,
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;であり、好適にはアミド類(最も好適には、ジメチルホルムアミド)である。 Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; diethyl - ether, diisopropyl et - ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, et such as diethylene glycol dimethyl - ethers; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide; is, preferably (most preferably, dimethylformamide) amides are.

【0201】上記反応に使用される臭素化剤としては、 [0201] as the brominating agent used in the above reaction,
特に限定はないが、例えば、“Comprehensive Organic Is not particularly limited but, for example, "Comprehensive Organic
Transformations”(Larock, VCH, p316-317)に記載されているような臭素化剤を挙げることができ、好適には、 Transformations "(Larock, VCH, p316-317) can be brominated agent as described in, preferably,
N−ブロムスクイシンイミド又は臭素である。 It is N- Bro musk leucine imide or bromine.

【0202】反応温度は、原料化合物、臭素化剤、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−78℃乃至150 [0202] The reaction temperature, starting compound, the brominating agent may vary depending on the kind of solvent, etc., usually, -78 ° C. to 150
℃(好適には−20℃乃至100℃)である。 A ° C. (preferably -20 ° C. to 100 ° C.).

【0203】反応時間は、原料化合物、臭素化剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、5分間乃至48 [0203] The reaction time varies depending on the starting material, the brominating agent, solvent, the reaction temperature or the like, usually 5 minutes to 48
時間(好適には30分間乃至24時間)である。 Time (preferably 30 minutes to to 24 hours).

【0204】本工程の目的化合物(XI)は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0204] The object compound of this step (XI) is, if necessary, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium chromatography adsorption column chromatography using a carrier such as Florisil silica gel system; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using DIAION HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0205】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0205] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means. C法は、化合物(X)において、Zが式(I C method, in the compounds (X), Z has the formula (I
I−2)を有する基であり、R 1が水素原子であり、R 2 I-2) is a group having, R 1 is hydrogen atom, R 2
が低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、又は置換基群aから選択される基で1乃至3 1 to 3 with a group is a lower alkoxycarbonyl group, selected from an aralkyloxycarbonyl group, or a substituent group a
個置換されたアラルキルオキシカルボニル基であり、R A number substituted aralkyloxycarbonyl radical, R
3が水素原子である化合物(Xa)、Zが式(II− 3 is a hydrogen atom Compound (Xa), Z has the formula (II-
1)を有する基である化合物(Xb)及びZが式(II 1) is a group having a compound (Xb) and Z has the formula (II
−2)を有する基である化合物(Xc)を製造する方法である。 -2) is a process for preparing compounds that are based on (Xc) with.

【0206】 [0206]

【化24】 [Of 24]

【0207】上記式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 6a 、R [0207] In the above formulas, R 1, R 2, R 3, R 4, R 6a, R
7a 、及びnは、前述したものと同意義を示し、R 9は、 7a, and n have the same meanings as described above, R 9 is
ホルミル基、カルボキシ基又は低級アルコキシカルボニル基を示し、R 10は、水素原子又は低級アルキル基を示し、R 10aは、低級アルキル基を示し、R 11は、低級アルキル基、アラルキル基、又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換されたアラルキル基を示す。 It shows the formyl group, a carboxy group or a lower alkoxycarbonyl group, R 10 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 10a is a lower alkyl group, R 11 is a lower alkyl group, an aralkyl group, or a substituent It shows a 1 to 3-substituted aralkyl group with a group selected from the group a.

【0208】第C1工程は、一般式(XIII)を有する化合物を製造する工程であり、一般式(XII)を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下(好適には存在下)、還元剤と反応させることにより行われる。 [0208] Step C1 is a step for preparing a compound having the general formula (XIII), a compound having the general formula (XII), in an inert solvent in the presence or absence of a base (preferably presence), is carried out by reacting with a reducing agent.

【0209】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;酢酸、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ− [0209] inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, e.g., hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene , toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; acetate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, carbonate esters such as diethyl diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol -
ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ− Le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol -
ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;水;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適にはエーテル類である。 Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le acids; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide ; water; or a mixed solvent of water or the solvent; a, preferably an ether.

【0210】上記反応に使用される還元剤は、例えば、 [0210] The reducing agent used in the above reaction is, for example,
前記A法第A7工程において使用される還元剤と同様なものを挙げることができる。 It can be mentioned those similar to reducing agent used in the A Act A7 step.

【0211】上記反応に使用される塩基は、例えば、前記A法第A1工程において使用される還元剤と同様なものを挙げることができる。 [0211] The base used in the reaction, for example, may be similar to those listed reducing agent used in the method A Step A1.

【0212】反応温度は、原料化合物、使用される還元剤、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−5 [0212] The reaction temperature varies depending on the starting material, the reducing agent used, the base may vary depending on the type of solvent and the like, usually, -5
0℃乃至100℃(好適には0℃乃至50℃)である。 0 ℃ to 100 ° C. (Suitable 0 ℃ to 50 ° C.) it is.

【0213】反応時間は、原料化合物、使用される還元剤、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、1 [0213] The reaction time varies depending on the starting material, the reducing agent used, the base, solvent, the reaction temperature or the like, usually, 1
5分乃至150時間(好適には1時間乃至100時間) 5 minutes to 150 hours (preferably 1 hour to 100 hours)
である。 It is.

【0214】第C2工程は、一般式(XIV)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物(XIII)のヒドロキシ基を脱離基に変換した後、沃素化剤と反応させ脱離基を沃素化することにより行われる。 [0214] The C2 step is a step for preparing a compound having the general formula (XIV), in an inert solvent in the presence of a base, after converting the hydroxy group of the compound (XIII) into a leaving group, iodine is carried out by iodination a leaving group is reacted with a reduction agent.

【0215】脱離基を形成する試薬としては、例えば、 [0215] As a reagent for forming the leaving group, for example,
メタンスルホニルクロリド、P−トルエンスルホニルクロリドのようなスルホニルハライド;チオニルクロリド、チオニルブロミド、チオニルアイオダイドのようなチオニルハライド類;スルフリルクロリド、スルフリルブロミド、スルフリルアイオダイドのようなスルフリルハライド類;三塩化燐、三臭化燐のような三ハロゲン化燐類;五塩化燐、五臭化燐のような五ハロゲン化燐類; Methanesulfonyl chloride, sulfonyl halides such as P- toluenesulfonyl chloride; sulfuryl chloride, sulfuryl bromide, sulfuryl halides such as sulfuryl iodide; phosphorus trichloride thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl, such as thionyl iodide three-trihalides such as phosphorus tribromide Karinrui; phosphorus pentachloride, pentahalide such as phosphorus pentabromide Karinrui;
オキシ塩化燐、オキシ臭化燐のようなオキシハロゲン化燐類;メチルトリオキソレニウム(VII)のようなレニウム試薬;を挙げることができる。 Rhenium reagents such as methyltrioxorhenium (VII);; oxychloride, oxyhalides such as oxybromide phosphorus Karinrui can be cited.

【0216】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際に使用される塩基としては、通常、有機合成化学の分野において、ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際に使用される塩基として使用されているものであれば特に限定されないが、例えば、前記A法第A1工程において使用される塩基と同様なものを挙げることができる。 [0216] The base to be used in converting the hydroxyl group to a leaving group is usually in the field of organic synthetic chemistry, are used as bases for use in converting the hydroxy group to a leaving group it is not particularly limited as long as, for example, may be similar to those listed base used in the method a step A1.

【0217】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、 [0217] Inert solvents for use in the conversion of hydroxy group into a leaving group is not particularly limited as long as the present reaction inert, e.g., hexane, heptane,
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類; Ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトン、2−ブタノンのようなケトン類;ホルムアミド、 Benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, Four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol ethers such as dimethyl ether; ketones such as acetone, 2-butanone; formamide,
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類;スルホラン;であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類である。 Dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; sulfolane; is, preferably, a halogenated hydrocarbon.

【0218】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際の反応温度は、原料化合物、使用される試薬、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−50℃乃至200℃(好適には−10℃乃至150℃)である。 [0218] The reaction temperature for the conversion of hydroxy group into a leaving group on the starting material, the reagent to be used may vary depending on the kind of solvent, etc., usually, -50 ° C. to 200 ° C. (or preferably at -10 ° C. it is a 150 ℃).

【0219】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際の反応時間は、原料化合物、使用される試薬、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至24時間(好適には30分乃至12時間)である。 [0219] The reaction time for the conversion of hydroxy group into a leaving group on the starting material, reagents used, the solvent, the reaction temperature or the like, usually, 15 minutes to 24 hours (or preferably 30 minutes 12 is the time).

【0220】上記反応に使用される沃素化剤は、通常、 [0220] iodine agent that is used in the above reaction is, usually,
有機合成化学の分野において使用される沃素化剤であれば特に限定されないが、例えば、沃化ナトリウム、沃化カリウムである。 If iodinated agents used in the field of organic synthetic chemistry is not particularly limited, for example, sodium iodide, and potassium iodide.

【0221】脱離基を沃素化する際の反応温度は、原料化合物、使用される試薬、溶媒の種類等によって異なるが、通常、0℃乃至200℃(好適には10℃乃至15 [0221] The reaction temperature for the iodination of the leaving group on the starting material, the reagent used may vary depending on the kind of solvent, etc., usually, 0 ° C. to 200 ° C. (preferably at 10 ° C. to 15
0℃)である。 It is 0 ℃).

【0222】脱離基を沃素化する際の反応時間は、原料化合物、使用される試薬、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至24時間(好適には30分乃至12時間)である。 [0222] The reaction time for iodination of the leaving group on the starting material, reagents used, the solvent, the reaction temperature or the like, usually, 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours) it is.

【0223】第C3工程は、一般式(XVI)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(XIV)を、塩基の存在下、一般式(XV)を有する化合物と反応させることにより行われる。 [0223] The C3 step is a step for preparing a compound having the general formula (XVI), in an inert solvent, compound (XIV), in the presence of a base, is reacted with a compound having the general formula (XV) It is carried out by.

【0224】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t− [0224] inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, such as diethylene glycol dimethyl ether ethers; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - le, t-
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、 Butanol - le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le acids; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide,
ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;水; Amides such as hexamethylphosphoric triamide; water;
或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類又はアミド類である。 Or a mixed solvent of water or the solvent; a and, preferably, alcohol - a le or amides.

【0225】上記反応に使用される塩基としては、例えば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水素化物類、アルカリ金属水酸化物類又はアルカリ金属アルコキシド類である。 [0225] As the base used in the reaction, for example, the ones used in the method A Step A1 and can be exemplified by same, preferably, alkali metal hydrides, alkali metal hydroxide as an object or alkali metal alkoxides.

【0226】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−78℃乃至100℃ [0226] The reaction temperature varies depending on the starting material, base, varies depending on the solvent type, etc., usually, -78 ° C. to 100 ° C.
(好適には0℃乃至50℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 50 ° C.) it is.

【0227】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至48時間(好適には30分乃至12時間)である。 [0227] The reaction time varies depending on the starting material, base, solvent, the reaction temperature, etc., it is usually 15 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to 12 hours).

【0228】第C4工程は、一般式(XVII)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(XVI)を塩基と反応させ、エステル基をカルボキシ基に加水分解することにより行われる。 [0228] The C4 process is a process for preparing a compound having the general formula (XVII), in an inert solvent, compound (XVI) is reacted with a base, row by hydrolyzing the ester group into a carboxy group divide.

【0229】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ− [0229] inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, e.g., hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene , toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; methanol -, ethanol -
ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類である。 Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohols - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le s; or a mixture of water or the solvent; are, preferably, alcohol - is Le acids.

【0230】上記反応に使用される塩基としては、通常、有機合成化学の分野において、エステル基をカルボキシ基に加水分解する際に使用される塩基であれば特に限定されないが、例えば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水酸化物類である。 [0230] As the base used in the above reaction, usually, in the field of organic synthetic chemistry, is not particularly limited as long as the base used in the hydrolysis of the ester group into a carboxy group, for example, the method A It can be mentioned those similar to those used in step A1, suitably alkali metal hydroxides.

【0231】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃ [0231] The reaction temperature varies depending on the starting material, base, varies depending on the solvent type, etc., usually, -20 ° C. to 200 ° C.
(好適には0℃乃至50℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 50 ° C.) it is.

【0232】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、30分乃至120時間(好適には1時間乃至80時間)である。 [0232] The reaction time varies depending on the starting material, base, solvent, the reaction temperature, etc., it is usually 30 minutes to 120 hours (preferably 1 hour to 80 hours).

【0233】第C5工程は、一般式(XIX)を有する化合物を製造する工程であり、化合物(XVII)のカルボキシ基をクルチウス転位反応に付し、カルバメートに変換する方法であり、化合物(XVII)を、不活性溶媒中、塩基の存在下、ジフェニルリン酸アジドのようなジアリール燐酸アジド誘導体と反応させた後、一般式(XVIII)を有する化合物と加熱反応させることにより行われる。 [0233] The C5 step is a step for preparing a compound having the general formula (XIX), subjected carboxy group of the compound (XVII) in the Curtius rearrangement reaction, a method of converting into a carbamate, Compound (XVII) the, in an inert solvent in the presence of a base, it is reacted with a diaryl phosphate azide derivative such as diphenylphosphoryl azide, the compound having the general formula (XVIII) and performed by heating the reaction.

【0234】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジド誘導体と反応させる際に使用される不活性溶媒及び化合物(XVIII)と反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には芳香族炭化水素類(最も好適には、ベンゼ [0234] inert solvent used in the reaction with an inert solvent and the compound being employed compound (XVII) in the reaction with the diaryl phosphate azide derivative (XVIII) is as long as the present reaction inert if is not particularly limited, for example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, tetrahalide hydrocarbons such as carbon tetrachloride diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; or water or a mixed solvent of said solvent; are preferably aromatic family hydrocarbons (most preferably, benzene )である。 ) It is.

【0235】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジド誘導体と反応させる際に使用される塩基は、通常、有機合成化学の分野において、クルチウス転位反応に使用される塩基であれば特に限定されないが、例えば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様なものを挙げることができ、好適には、有機アミン類である。 [0235] The base used compound (XVII) in the reaction with diaryl phosphate azide derivative is generally in the field of organic synthetic chemistry, is not particularly limited as long as base used in the Curtius rearrangement reaction, for example, wherein those used in method a step A1 and can be exemplified by same, preferably a organic amines.

【0236】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジド誘導体と反応させる際の反応温度及び化合物(XVI [0236] Compound (XVII) and the reaction temperature and the compounds in the reaction with diaryl phosphate azide derivative (XVI
II)と反応させる際の反応温度ともに、原料化合物、 The reaction temperature both on the starting material when reacted with II),
塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、0℃乃至200℃(好適には20℃乃至150℃)である。 Bases, it varies depending on the solvent type or the like, usually 0 ℃ to 200 ° C. (preferably at 20 ° C. to 0.99 ° C.).

【0237】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジド誘導体と反応させる際の反応温度及び化合物(XVI [0237] Compound (XVII) and the reaction temperature and the compounds in the reaction with diaryl phosphate azide derivative (XVI
II)と反応させる際の反応温度ともに、原料化合物、 The reaction temperature both on the starting material when reacted with II),
塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至24時間(好適には30分乃至12時間)である。 Bases, solvents, the reaction temperature, etc., it is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours).

【0238】また、化合物(XVIII)のうち、ジアリール燐酸アジド誘導体と直接反応しにくいものを、化合物(XVII)をジアリール燐酸アジド誘導体と反応させる際に一緒に反応させることにより、カルボキシル基を一気にカルバメートに変換することができる。 [0238] Also, among the compounds (XVIII), those less likely to react directly with diaryl phosphoric azide derivatives, by reacting with compound (XVII) in the reaction with diaryl phosphate azide derivative, once carbamate carboxyl group it can be converted to.

【0239】第C6工程は、一般式(Xa)を有する化合物を製造する工程であり、化合物(XIX)のエステル基を還元することにより行なわれ、不活性溶媒中、化合物(XIX)を、還元剤と反応させることにより行われる。 [0239] The C6 step is a step for preparing a compound having the general formula (Xa), is carried out by reducing the ester group of the compound (XIX), in an inert solvent, compound (XIX), reduced It is carried out by reacting with agent.

【0240】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、 [0240] inert solvent used for the reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, e.g., hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene , toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether ethers such as; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol - le, isoamyl alcohol - le,
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ− Diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve -
ル類或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、アルコール類及びエーテル類の混合溶媒である。 Le ethers or a mixture of the above solvents, preferably a mixed solvent of alcohol and ethers.

【0241】上記反応に使用される還元剤としては、通常、有機合成化学の分野において、エステル基を還元する際に使用される還元剤であれば特に限定されないが、 [0241] As the reducing agent used in the reaction is usually in the field of organic synthetic chemistry, is not particularly limited as long as it is a reducing agent for use in reducing the ester group,
例えば、前記A法第A7工程で用いられるものと同様なものを挙げることができ、好適には、水素化ホウ素アルカリ金属類である。 For example, the one used in A Act A7 step and can be exemplified by same, preferably a alkali metal borohydride such.

【0242】反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−78℃乃至150℃(好適には−20℃乃至50℃)である。 [0242] The reaction temperature, the starting compound may vary depending on the type of solvent, etc., and it is usually, -78 ° C. to 0.99 ° C. (preferably -20 ° C. to 50 ° C.).

【0243】反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、5分間乃至48時間(好適には30分間乃至24時間)である。 [0243] The reaction time varies depending on the starting material, the solvent, the reaction temperature, etc., it is usually 5 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to to 24 hours).

【0244】第C7工程は、化合物(Xb)を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(Xa)を塩基と反応させ、オキサゾリジン環に閉環することにより行なわれる。 [0244] The C7 step is a step of producing the compound (Xb), in an inert solvent, is carried out by compound (Xa) is reacted with a base, ring closure to the oxazolidine ring.

【0245】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t− [0245] inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert, such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, such as diethylene glycol dimethyl ether ethers; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - le, t-
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、 Butanol - le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le acids; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide,
ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;水; Amides such as hexamethylphosphoric triamide; water;
或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類又はアミド類である。 Or a mixed solvent of water or the solvent; a and, preferably, alcohol - a le or amides.

【0246】上記反応に使用される塩基としては、例えば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属アルコキシド類である。 [0246] As the base used in the reaction, for example, the ones used in the method A Step A1 and can be exemplified by same, preferably a alkali metal alkoxides.

【0247】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−78℃乃至100℃ [0247] The reaction temperature varies depending on the starting material, base, varies depending on the solvent type, etc., usually, -78 ° C. to 100 ° C.
(好適には−50℃乃至50℃)である。 (Preferably -50 ° C. to 50 ° C.) is.

【0248】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至48時間(好適には30分乃至12時間)である。 [0248] The reaction time varies depending on the starting material, base, solvent, the reaction temperature, etc., it is usually 15 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to 12 hours).

【0249】第C8工程は、化合物(Xc)を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(Xb)を塩基と反応させ加水分解した後、所望によりR 1 、R 2 、R 3 、R [0249] The C8 step is a step of producing the compound (Xc), in an inert solvent, after which the compound (Xb) is hydrolyzed by reacting with a base, optionally R 1, R 2, R 3 , R
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行われる。 5a, amino at R 6a and R 7a, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl groups, protecting the amino group in R 1 and R 2, and / or to protect the hydroxy group in R 3 They are carried out by.

【0250】化合物(Xb)を塩基と反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、 [0250] inert solvent used compound (Xb) in the reaction with the base, but it if not particularly limited but in this reaction inert, e.g., hexane, heptane,
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類; Ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ− Benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, Four halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol ethers such as dimethyl ether; methanol -, ethanol - Le, n- propanol - le, isopropanol - Le, n- butanol - le, isobutanol - Le, t-butanol -
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;水;或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、アルコール類及びエーテル類の混合溶媒である。 Le, isoamyl alcohol - le, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, alcohol such as methyl cellosolve - Le acids; water; a or a mixed solvent of the above solvents, preferably a mixed solvent of alcohols and ethers it is.

【0251】化合物(Xb)を塩基と反応させる際に使用される塩基としては、例えば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水酸化物類である。 [0251] As the base used compound (Xb) in the reaction with a base, for example, the ones used in the method A Step A1 and can be exemplified by similar, preferably, alkali metal it is a hydroxides.

【0252】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃ [0252] The reaction temperature varies depending on the starting material, base, varies depending on the solvent type, etc., usually, -20 ° C. to 200 ° C.
(好適には0℃乃至100℃)である。 (Preferably 0 ℃ to 100 ° C.) it is.

【0253】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、通常、30分間乃至4 [0253] The reaction time varies depending on the starting material, base, type of solvent, the reaction temperature or the like, usually, 30 minutes to 4
8時間(好適には1時間乃至24時間)である。 8 hours (preferably 1 hour to 24 hours).

【0254】所望により行われるR 1 、R 2 、R 3 [0254] R 1 performed optionally, R 2, R 3,
5a 、R 6a及びR 7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/ R 5a, amino at R 6a and R 7a, hydroxy and /
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1 Or removing the protecting group for a carboxyl group, R 1
及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R 1及びR 2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R 3におけるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。 And protecting the amino group in R 2, and / or a method for protecting a hydroxy group for R 3, amino of A Act A2 process, removing the protecting group of the hydroxyl and / or carboxyl radical, R protecting the amino group in 1 and R 2, and / or is carried out similarly to the method for protecting a hydroxy group in R 3.

【0255】本C法の各工程の目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0255] The object compound of each step of the method C is, if desired, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium Mushirikageru based adsorption column chromatography using a carrier such as Florisil of; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0256】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0256] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired steps can be carried out by the separation and purification means.

【0257】また、本C方法のC1〜C5工程のいずれかの工程の後に、臭素化工程(前記B法と同意議を示す。)を挿入することにより、B法とは別途に化合物(XI)を製造することができる。 [0257] Also, after any step of C1~C5 step of the C method, by inserting the bromination step (. Indicating consent discussions with the B method), separately compounds with B method (XI ) can be produced.

【0258】D法は、化合物(X)において、nが2以上の整数であり、Zが(II−2)基であり、R 3が水素原子である化合物(Xd)、nが2以上の整数であり、Wが(II−1)基である化合物(Xe)、及び、 [0258] Method D, in the compounds (X), n is an integer of 2 or more, Z is (II-2) group, and R 3 is a hydrogen atom (Xd), n is 2 or more is an integer, W is (II-1) compound is a group (Xe), and,
nが2以上の整数であり、Wが(II−2)基である化合物(Xf)を製造する方法である。 n is an integer of 2 or more, a method of W to manufacture the (II-2) compound is a group (Xf).

【0259】 [0259]

【化25】 [Of 25]

【0260】上記式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 6a 、R [0260] In the above formulas, R 1, R 2, R 3, R 4, R 6a, R
7a及びPhは、前述したものと同意義を示し、R 12は、 7a and Ph have the same meanings as described above, R 12 is,
1 −C 20アルキル基、ヘテロ原子が介在するC 2 −C 20 C 2 -C 20 which C 1 -C 20 alkyl group, a hetero atom-mediated
アルキル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたC 1 −C 20アルキル基、C 2 −C 20アルキニル基、ヘテロ原子が介在するC 3 −C 20アルキニル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたC 2 −C 20アルキニル基、C 2 −C 20アルケニル基、ヘテロ原子が介在するC 3 Alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic C 1 -C 20 alkyl group substituted with a group, C 2 -C 20 alkynyl group, C 3 -C 20 alkinyl groups heteroatoms are mediated, aryl group or aromatic heterocyclic C 2 -C 20 alkynyl groups substituted with cyclic group, C 2 -C 20 alkenyl group, C 3 heteroatoms are mediated
−C 20アルケニル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたC 2 −C 20アルケニル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたヘテロ原子が介在するC 2 -C 20 alkenyl, group, C 2 an aryl group or an aromatic heterocyclic C 2 -C 20 alkenyl, groups substituted with one, heteroatom substituted with an aryl group or an aromatic heterocyclic group interposed -
20アルキル基、或はC 3 −C 10シクロアルキル基を示し、mは0乃至4の整数を示す。 C 20 alkyl group, or indicates a C 3 -C 10 cycloalkyl group, m is an integer of 0 to 4.

【0261】上記において、R 12の定義における「C 1 [0261] In the above, "C 1 in the definition of R 12
−C 20アルキル基」は、例えば、前記「低級アルキル基」、ヘプチル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、5− -C 20 alkyl group ", for example, the" lower alkyl group ", heptyl, 1-methylhexyl, 2- methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-
メチルヘキシル、1−プロピルブチル、4,4−ジメチルペンチル、オクチル、1−メチルヘプチル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、1−プロピルペンチル、2−エチルヘキシル、5,5−ジメチルヘキシル、ノニル、3−メチルオクチル、4−メチルオクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオクチル、 Methylhexyl, 1-propyl butyl, 4,4-dimethyl pentyl, octyl, 1-methylheptyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 1-propyl pentyl, 2-ethylhexyl, 5,5-dimethyl hexyl, nonyl, 3-methyl-octyl, 4-methyl-octyl, 5-methyl-octyl, 6-methyl-octyl,
1−プロピルヘキシル、2−エチルヘプチル、6,6− 1-propyl-hexyl, 2-ethyl-heptyl, 6,6
ジメチルヘプチル、デシル、1−メチルノニル、3−メチルノニル、8−メチルノニル、3−エチルオクチル、 Dimethylheptyl, decyl, 1-methylnonyl, 3-methylnonyl, 8-methylnonyl, 3-ethyloctyl,
3,7−ジメチルオクチル、7,7−ジメチルオクチル、ウンデシル、4,8−ジメチルノニル、ドデシル、 3,7-dimethyl-octyl, 7,7-dimethyl octyl, undecyl, 4,8-dimethyl nonyl, dodecyl,
トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、3,7,1 Tridecyl, tetradecyl pentadecyl, 3,7,1
1−トリメチルドデシル、ヘキサデシル、4,8,12 1-trimethyl-dodecyl, hexadecyl, 4, 8, 12
−トリメチルトリデシル、1−メチルペンタデシル、1 - trimethyltridecyl, 1-methyl pentadecyl, 1
4−メチルペンタデシル、13,13−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチルヘキサデシル、オクタデシル、1−メチルヘプタデシル、ノナデシル、アイコシル、及び、3,7,11,15−テトラメチルヘキサデシル基のような炭素数1乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適にはC 1 −C 10アルキル基である。 4-methyl pentadecyl, 13,13-dimethyl tetradecyl, heptadecyl, 15-methyl hex decyl, octadecyl, 1-methylheptadecyl, nonadecyl, eicosyl, and 3,7,11,15-tetramethyl-hexadecyl group a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbons, such as, preferably a C 1 -C 10 alkyl group.

【0262】上記において、R 12の定義における「ヘテロ原子が介在するC 2 −C 20アルキル基」は、前記「C 1 [0262] In the above, "C 2 -C 20 alkyl group having a heteroatom-mediated" in the definition of R 12, the "C 1
−C 20アルキル基」の内の「炭素数2乃至20個のアルキル基」が、同一又は異なって、1又は2個の、硫黄原子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示し、例えば、メチルチオメチル、1−メチルチオエチル、2−メチルチオエチル、エチルチオメチル、1−メチルチオプロピル、2−メチルチオプロピル、3−メチルチオプロピル、2−エチルチオエチル、2−メチルー2−メチルチオエチル、1−メチルチオブチル、2−メチルチオブチル、3−メチルチオブチル、2−エチルチオプロピル、3−メチル−3−メチルチオプロピル、4 -C 20 alkyl group "is the" number 2 to 20 alkyl group having a carbon "of the the same or different, one or two sulfur atom, an oxygen atom, or a group which is disposed a nitrogen atom shows, for example, methylthiomethyl, 1-methylthioethyl, 2-methylthioethyl, ethylthiomethyl, 1-methylthiopropyl, 2-methylthiopropyl, 3-methylthiopropyl, 2-ethylthioethyl, 2- methyl-2-methylthioethyl, 1-methyl thio-butyl, 2-methyl-thio-butyl, 3-methyl-thio-butyl, 2-ethyl-thio-propyl, 3-methyl-3-methylthiopropyl, 4
−メチルチオペンチル、3−メチルチオペンチル、2− - methylthio pentyl, 3-methyl-thio-pentyl, 2-
メチルチオペンチル、1−メチルチオペンチル、3,3 Methylthio pentyl, 1-methyl-thio-pentyl, 3,3
−ジメチルチオブチル、2,2−ジメチルチオブチル、 - dimethyl thio-butyl, 2,2-dimethyl-thio-butyl,
1,1−ジメチルチオブチル、1−メチル−2−メチルチオブチル、1,3−ジメチルチオブチル、2,3−ジメチルチオブチル、2−エチルチオブチル、1−メチルチオヘキシル、2−メチルチオヘキシル、3−メチルチオヘキシル、4−メチルチオヘキシル、5−メチルチオヘキシル、1−プロピルチオブチル、4−メチル−4− 1,1-dimethyl-thio-butyl, 1-methyl-2-methylthio-butyl, 1,3-dimethyl-thio-butyl, 2,3-dimethyl-thio-butyl, 2-ethyl-thio-butyl, 1-methyl-thio-hexyl, 2-methyl-thio-hexyl, 3 - methyl thio hexyl, 4-methyl-thio-hexyl, 5-methyl-thio-hexyl, 1-propyl thio-butyl, 4-methyl-4-
メチルチオペンチル、1−メチルチオヘプチル、2−メチルチオヘプチル、3−メチルチオヘプチル、4−メチルチオヘプチル、5−メチルチオヘプチル、6−メチルチオヘプチル、1−プロピルチオペンチル、2−エチルチオヘキシル、5−メチル−5−メチルチオヘキシル、 Methylthio pentyl, 1-methyl-thio-heptyl, 2-methyl-thio-heptyl, 3-methyl-thio-heptyl, 4-methylthiophenyl-heptyl, 5-methyl-thio-heptyl, 6-methyl-thio-heptyl, 1-propyl thio-pentyl, 2-ethyl-thio-hexyl, 5-methyl-5 - methyl thio hexyl,
3−メチルチオオクチル、4−メチルチオオクチル、5 3-methyl-thio-octyl, 4-methyl-thio-octyl, 5
−メチルチオオクチル、6−メチルチオオクチル、1− - methylthio octyl, 6-methyl-thio-octyl, 1-
プロピルチオヘキシル、2−エチルチオヘプチル、6− Propyl thio hexyl, 2-ethyl-thio-heptyl, 6-
メチル−6−メチルチオヘプチル、1−メチルチオノニル、3−メチルチオノニル、8−メチルチオノニル、3 Methyl-6-methylthio-heptyl, 1-methyl-thio-nonyl, 3-methyl-thio-nonyl, 8 methylthio nonyl, 3
−エチルチオオクチル、3−メチル−7−メチルチオオクチル、7,7−ジメチルチオオクチル、4−メチル− - ethylthiomethyl octyl, 3-methyl-7-methylthio-octyl, 7,7-dimethyl-thio-octyl, 4-methyl -
8−メチルチオノニル、3,7−ジメチル−11−メチルチオドデシル、4,8−ジメチル−12−メチルチオトリデシル、1−メチルチオペンタデシル、14−メチルチオペンタデシル、13−メチル−13−メチルチオテトラデシル、15−メチルチオヘキサデシル、1−メチルチオヘプタデシル、及び、3,7,11−トリメチル−15−メチルチオヘキサデシルのような1又は2個の硫黄原子で介在されている炭素数2乃至20個のアルキル基;メチルオキシメチル、1−メチルオキシエチル、2−メチルオキシエチル、エチルオキシメチル、1 8-methyl-thio-nonyl, 3,7-dimethyl-11-methylthio-dodecyl, 4,8-dimethyl-12-methylthio tridecyl, 1-methyl-thio-pentadecyl, 14-methyl thio-pentadecyl, 13-methyl-13-methylthio tetradecyl, 15 methylthiophenyl hexadecyl, 1- methylthio heptadecyl and, 3,7,11-trimethyl-15-methylthio hexa one or two alkyl having 2 to 20 carbon which is interposed a sulfur atom, such as decyl group; methyloxymethyl, 1-methyl oxyethyl, 2-methyl oxyethyl, ethyloxymethyl, 1
−メチルオキシプロピル、2−メチルオキシプロピル、 - methyl propyl, 2-methyl-propyl,
3−メチルオキシプロピル、2−エチルオキシエチル、 3-methyl-propyl, 2-ethyloxyethyl,
2−メチルー2−メチルオキシエチル、1−メチルオキシブチル、2−メチルオキシブチル、3−メチルオキシブチル、2−エチルオキシプロピル、3−メチル−3− 2-methyl-2-methyloxy-ethyl, 1- methyl-oxy-butyl, 2-methyloxy-butyl, 3-methyloxy-butyl, 2-ethyl propyl, 3-methyl-3-
メチルオキシプロピル、4−メチルオキシペンチル、3 Methyl propyl, 4-methyloxy pentyl, 3
−メチルオキシペンチル、2−メチルオキシペンチル、 - methyloxy pentyl, 2-methyloxy pentyl,
1−メチルオキシペンチル、3,3−ジメチルオキシブチル、2,2−ジメチルオキシブチル、1,1−ジメチルオキシブチル、1−メチル−2−メチルオキシブチル、1,3−ジメチルオキシブチル、2,3−ジメチルオキシブチル、2−エチルオキシブチル、1−メチルオキシヘキシル、2−メチルオキシヘキシル、3−メチルオキシヘキシル、4−メチルオキシヘキシル、5−メチルオキシヘキシル、1−プロピルオキシブチル、4−メチル−4−メチルオキシペンチル、1−メチルオキシヘプチル、2−メチルオキシヘプチル、3−メチルオキシヘプチル、4−メチルオキシヘプチル、5−メチルオキシヘプチル、6−メチルオキシヘプチル、1−プロピルオキシペンチル、2−エチルオキシヘキシル、5−メチル−5−メチルオキ 1-methyloxy pentyl, 3,3-dimethyl-oxy-butyl, 2,2-dimethyl-oxy-butyl, 1,1-dimethyl-oxy-butyl, 1-methyl-2-methyloxy-butyl, 1,3-dimethyl-oxy-butyl, 2, 3-dimethyl-oxy-butyl, 2-ethyl-oxy-butyl, 1-methyloxy-hexyl, 2-methyloxy-hexyl, 3-methyloxy-hexyl, 4 methyloxy hexyl, 5-methyloxy-hexyl, 1-propyloxy-butyl, 4- methyl-4-methyloxy pentyl, 1-methyloxy-heptyl, 2-methyloxy-heptyl, 3-methyloxy-heptyl, 4-methyloxy-heptyl, 5-methyloxy-heptyl, 6-methyloxy-heptyl, 1-propyloxy pentyl, 2-ethyl-oxy-hexyl, 5-methyl-5- Mechiruoki ヘキシル、3−メチルオキシオクチル、4−メチルオキシオクチル、5−メチルオキシオクチル、6−メチルオキシオクチル、1−プロピルオキシヘキシル、2−エチルオキシヘプチル、6−メチル− Hexyl, 3-methyloxy-octyl, 4-methyl-oxy-octyl, 5-methyloxy-octyl, 6-methyloxy-octyl, 1-propyloxy-hexyl, 2-ethyl-oxy-heptyl, 6-methyl -
6−メチルオキシヘプチル、1−メチルオキシノニル、 6 methyloxy heptyl, 1-methyloxy-nonyl,
3−メチルオキシノニル、8−メチルオキシノニル、3 3-methyloxy-nonyl, 8-methyloxy-nonyl, 3
−エチルオキシオクチル、3−メチル−7−メチルオキシオクチル、7,7−ジメチルオキシオクチル、4−メチル−8−メチルオキシノニル、3,7−ジメチル−1 - ethyl oxy octyl, 3-methyl-7-methyloxy-octyl, 7,7-dimethyl-oxy-octyl, 4-methyl-8-methyloxy-nonyl, 3,7-dimethyl-1
1−メチルオキシドデシル、4,8−ジメチル−12− 1-methyloxy-dodecyl, 4,8-dimethyl-12-
メチルオキシトリデシル、1−メチルオキシペンタデシル、14−メチルオキシペンタデシル、13−メチル− Methyloxy tridecyl, 1-methyloxy-pentadecyl, 14-methyloxy-pentadecyl, 13-methyl -
13−メチルオキシテトラデシル、15−メチルオキシヘキサデシル、1−メチルオキシヘプタデシル、及び、 13-methyloxy tetradecyl, 15-methyloxy-hexadecyl, 1-methyloxy heptadecyl and,
3,7,11−トリメチル−15−メチルオキシヘキサデシルのような1又は2個の酸素原子で介在されている炭素数2乃至20個のアルキル基;N−メチルアミノメチル、1−(N−メチルアミノ)エチル、2−(N−メチルアミノ)エチル、N−エチルアミノメチル、1− 3,7,11-trimethyl-15-methyloxy 1 or 2 2 to carbon atoms are interposed by an oxygen atom in the 20 alkyl groups such as hexadecyl; N- methylaminomethyl, 1-(N- methylamino) -ethyl, 2-(N-methylamino) -ethyl, N- ethylamino, 1-
(N−メチルアミノ)プロピル、2−(N−メチルアミノ)プロピル、3−(N−メチルアミノ)プロピル、2 (N- methylamino) propyl 2-(N- methylamino) propyl 3- (N- methylamino) propyl 2
−(N−エチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、1−(N−メチルアミノ)ブチル、 - (N-ethylamino) ethyl, 2-(N, N-dimethylamino) ethyl, 1-(N-methylamino) butyl,
2−(N−メチルアミノ)ブチル、3−(N−メチルアミノ)ブチル、2−(N−エチルアミノ)プロピル、3 2-(N-methylamino) butyl, 3- (N-methylamino) butyl, 2-(N-ethylamino) propyl, 3
−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル、4−(N−メチルアミノ)ペンチル、3−(N−メチルアミノ)ペンチル、2−(N−メチルアミノ)ペンチル、1−(N− - (N, N-dimethylamino) propyl, 4-(N-methylamino) pentyl, 3- (N-methylamino) pentyl, 2-(N-methylamino) pentyl, 1-(N-
メチルアミノ)ペンチル、3−(N,N−ジメチルアミノ)ブチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)ブチル、 Methylamino) pentyl, 3- (N, N-dimethylamino) butyl, 2-(N, N-dimethylamino) butyl,
1−(N,N−ジメチルアミノ)ブチル、1−メチル− 1- (N, N-dimethylamino) butyl, 1-methyl -
2−(N−メチルアミノ)ブチル、1,3−ジ(N−メチルアミノ)ブチル、2,3−ジ(N−メチルアミノ) 2-(N- methylamino) butyl, 1,3-di (N- methylamino) butyl, 2,3-di (N- methylamino)
ブチル、2−(N−エチルアミノ)ブチル、1−(N− Butyl, 2-(N-ethylamino) butyl, 1-(N-
メチルアミノ)ヘキシル、2−(N−メチルアミノ)ヘキシル、3−(N−メチルアミノ)ヘキシル、4−(N Methylamino) hexyl, 2-(N-methylamino) hexyl, 3- (N-methylamino) hexyl, 4-(N
−メチルアミノ)ヘキシル、5−(N−メチルアミノ) - methylamino) hexyl, 5-(N-methylamino)
ヘキシル、1−(N−プロピルアミノ)ブチル、4−メチル−4−(N−メチルアミノ)ペンチル、1−(N− Hexyl, 1-(N-propylamino) butyl, 4-methyl-4-(N-methylamino) pentyl, 1-(N-
メチルアミノ)ヘプチル、2−(N−メチルアミノ)ヘプチル、3−(N−メチルアミノ)ヘプチル、4−(N Methylamino) heptyl, 2-(N-methylamino) heptyl, 3- (N-methylamino) heptyl, 4-(N
−メチルアミノ)ヘプチル、5−(N−メチルアミノ) - methylamino) heptyl, 5-(N-methylamino)
ヘプチル、6−(N−メチルアミノ)ヘプチル、1− Heptyl, 6- (N-methylamino) heptyl, 1-
(N−プロピルアミノ)ペンチル、2−(N−エチルアミノ)ヘキシル、5−メチル−5−(N−メチルアミノ)ヘキシル、3−(N−メチルアミノ)オクチル、4 (N- propylamino) pentyl, 2-(N- ethylamino) hexyl, 5-methyl-5-(N- methylamino) hexyl, 3- (N- methylamino) octyl, 4
−(N−メチルアミノ)オクチル、5−(N−メチルアミノ)オクチル、6−(N−メチルアミノ)オクチル、 - (N-methylamino) octyl, 5-(N-methylamino) octyl, 6- (N-methylamino) octyl,
1−(N−プロピルアミノ)ヘキシル、2−(N−エチルアミノ)ヘプチル、6−メチル−6−(N−メチルアミノ)ヘプチル、1−(N−メチルアミノ)ノニル、3 1-(N-propylamino) hexyl, 2-(N-ethylamino) heptyl, 6-methyl-6-(N-methylamino) heptyl, 1-(N-methylamino) nonyl, 3
−(N−メチルアミノ)ノニル、8−(N−メチルアミノ)ノニル、3−(N−エチルアミノ)オクチル、3− - (N-methylamino) nonyl, 8- (N-methylamino) nonyl, 3- (N-ethylamino) octyl, 3-
メチル−7−(N−メチルアミノ)オクチル、7,7− Methyl-7-(N-methylamino) octyl, 7,7
ジ(N−メチルアミノ)オクチル、4−メチル−8− Di (N- methylamino) octyl, 4-methyl-8
(N−メチルアミノ)ノニル、3,7−ジメチル−11 (N- methylamino) nonyl, 3,7-dimethyl -11
−(N−メチルアミノ)ドデシル、4,8−ジメチル− - (N-methylamino) dodecyl, 4,8-dimethyl -
12−(N−メチルアミノ)トリデシル、1−(N−メチルアミノ)ペンタデシル、14−(N−メチルアミノ)ペンタデシル、13−メチル−13−(N−メチルアミノ)テトラデシル、15−(N−メチルアミノ)ヘキサデシル、1−(N−メチルアミノ)ヘプタデシル、 12-(N-methylamino) tridecyl, 1-(N-methylamino) pentadecyl, 14- (N-methylamino) pentadecyl, 13-methyl -13-(N-methylamino) tetradecyl, 15-(N-methyl amino) hexadecyl, 1-(N-methyl-amino) heptadecyl,
及び、3,7,11−トリメチル−15−(N−メチルアミノ)ヘキサデシルのような1又は2個の窒素原子で介在されている炭素数2乃至20個のアルキル基を挙げることができ、好適には、ヘテロ原子が介在するC 2 And there may be mentioned the 3,7,11-trimethyl-15-(N-methylamino) one or two carbon atoms are interposed by a nitrogen atom 2 to 20 alkyl groups such as hexadecyl, preferably the heteroatom is interposed C 2 -
10アルキル基である。 It is a C 10 alkyl group.

【0263】上記において、R 12の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたC 1 −C 20アルキル基」は、前記「炭素数C 1 −C 20アルキル基」が、 [0263] In the above, "C 1 -C 20 alkyl group substituted by an aryl group or an aromatic heterocyclic group" of the definition of R 12, the "C 1 -C 20 alkyl group carbon atoms" is,
同一又は異なって、1又は3個のアリール基又は芳香族複素環基で置換された基を示し、斯かる「アリール基」 The same or different and each represents one or three aryl groups or aromatic heterocyclic substituted groups in groups, such "aryl group"
及び「芳香族複素環基」は、前述したものと同意議を示す。 And "aromatic heterocyclic group" refers to agree discussions with those described above. 上記において、R 12の定義における「C 2 −C 20 In the above, "C 2 -C 20 in the definition of R 12
アルキニル基」は、例えば、エチニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−エチル−2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニル、2−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、3−ブチニル、1− Alkynyl group ", for example, ethynyl, 2-propynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-methyl-2-propynyl, 2-ethyl-2-propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-butynyl, 2 - methyl-2-butynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-butynyl, 1-
メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、1 Methyl-3-butynyl, 2-methyl-3-butynyl 1
−エチル−3−ブチニル、2−ペンチニル、1−メチル−2−ペンチニル、2−メチル−2−ペンチニル、3− - ethyl-3-butynyl, 2-pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl, 2-methyl-2-pentynyl, 3
ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−4− Pentynyl, 1-methyl-3-pentynyl, 2-methyl-3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-methyl-4-
ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニル、ヘプチニル、1−メチルヘキシニル、2−メチルヘキシニル、3−メチルヘキシニル、4−メチルヘキシニル、5−メチルヘキシニル、1−プロピルブチニル、 Pentynyl, 2-methyl-4-pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 4-hexynyl, 5-hexynyl, heptynyl, 1-Mechiruhekishiniru, 2- Mechiruhekishiniru, 3- Mechiruhekishiniru, 4 Mechiruhekishiniru, 5- Mechiruhekishiniru, 1- propyl butynyl,
4,4−ジメチルペンチニル、オクチニル、1−メチルヘプチニル、2−メチルヘプチニル、3−メチルヘプチニル、4−メチルヘプチニル、5−メチルヘプチニル、 4,4-dimethyl-pentynyl, octynyl, 1 Mechiruhepuchiniru, 2- Mechiruhepuchiniru, 3- Mechiruhepuchiniru, 4- Mechiruhepuchiniru, 5- Mechiruhepuchiniru,
6−メチルヘプチニル、1−プロピルペンチニル、2− 6- Mechiruhepuchiniru, 1-propyl pentynyl, 2-
エチルヘキシニル、5,5−ジメチルヘキシニル、ノニニル、3−メチルオクチニル、4−メチルオクチニル、 Echiruhekishiniru, 5,5-dimethyl-f carboxymethyl sulfonyl, nonynyl, 3-methyl-octynyl, 4-methyl-octynyl,
5−メチルオクチニル、6−メチルオクチニル、1−プロピルヘキシニル、2−エチルヘプチニル、6,6−ジメチルヘプチニル、デシニル、1−メチルノニニル、3 5-methyl-octynyl, 6-methyl-octynyl, 1-propyl f carboxymethyl sulfonyl, 2-Echiruhepuchiniru, 6,6-dimethyl-heptylene, cycloalkenyl, decynyl, 1-Mechirunoniniru, 3
−メチルノニニル、8−メチルノニニル、3−エチルオクチニル、3,7−ジメチルオクチニル、7,7−ジメチルオクチニル、ウンデシニル、4,8−ジメチルノニニル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、3,7,11−トリメチルドデシニル、 - Mechirunoniniru, 8- Mechirunoniniru, 3 Echiruokuchiniru, 3,7-dimethyl-octynyl 7,7-dimethyl-octynyl, undecynyl, 4,8 dimethyl Noni sulfonyl, dodecynyl, tridecynyl, tetradecynyl, pentadecynyl 3, 7, 11 - trimethyl-dodecylcarbamoyl alkenyl,
ヘキサデシニル、4,8,12−トリメチルトリデシニル、1−メチルペンタデシニル、14−メチルペンタデシニル、13,13−ジメチルテトラデシニル、ヘプタデシニル、15−メチルヘキサデシニル、オクタデシニル、1−メチルヘプタデシニル、ノナデシニル、アイコシニル、及び、3,7,11,15−テトラメチルヘキサデシニル基のような炭素数2乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、好適にはC 1 −C 10アルキニル基である。 Hexadecynyl, 4,8,12 trimethyl Desi alkenyl, 1-methyl-penta Desi sulfonyl, 14-methyl pentamethylene Desi sulfonyl, 13,13-dimethyl-tetradecylcarbamoyl sulfonyl, Heputadeshiniru, 15-methyl hexadecylcarbamoyl sulfonyl, octadecynyl, 1-Mechiruheputa decynyl, Nonadeshiniru, Aikoshiniru, and, 3,7,11,15 a-tetramethyl hexadecylcarbamoyl sulfonyl straight or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as radicals, preferably C 1 - I am a C 10 alkynyl group.

【0264】上記において、R 12の定義における「ヘテロ原子が介在するC 3 −C 20アルキニル基」は、前記「C 1 −C 20アルキニル基」の内の「C 3 −C 20アルキニル基」が、同一又は異なって、1又は2個の、硫黄原子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示し、例えば、1−メチルチオエチニル、2−メチルチオエチニル、1−メチルチオプロピニル、2−メチルチオプロピニル、3−メチルチオプロピニル、2−エチルチオエチニル、2−メチルー2−メチルチオエチニル、1 [0264] In the above, "C 3 -C 20 alkynyl heteroatoms are mediated" in the definition of R 12, the "C 3 -C 20 alkynyl group" of the "C 1 -C 20 alkynyl group" , same or different, one or two sulfur atom, an oxygen atom, or represents a group that is interposed by a nitrogen atom, such as 1-methyl-thio-ethynyl, 2-methylthio ethynyl, 1-methylthio-propynyl, 2- methylthio propynyl, 3-methylthio-propynyl, 2-ethyl-thio ethynyl, 2-methyl-2-methylthio-ethynyl, 1
−メチルチオブチニル、2−メチルチオブチニル、3− - methylthio butynyl, 2-methyl-thio butynyl, 3-
メチルチオブチニル、2−エチルチオプロピニル、3− Methylthio butynyl, 2 ethylthiomethyl-propynyl, 3-
メチル−3−メチルチオプロピニル、4−メチルチオペンチニル、3−メチルチオペンチニル、2−メチルチオペンチニル、1−メチルチオペンチニル、3,3−ジメチルチオブチニル、2,2−ジメチルチオブチニル、 Methyl-3-methylthio-propynyl, 4-methylthiophenyl pentynyl, 3-methyl-thio pentynyl, 2-methyl-thio pentynyl, 1-methyl-thio pentynyl, 3,3-dimethyl-thio-butynyl, 2,2-dimethyl-thio-butynyl,
1,1−ジメチルチオブチニル、1−メチル−2−メチルチオブチニル、1,3−ジメチルチオブチニル、2, 1,1-dimethyl-thio-butynyl, 1-methyl-2-methylthio butynyl, 1,3-dimethyl-thio-butynyl, 2,
3−ジメチルチオブチニル、2−エチルチオブチニル、 3-dimethyl-thio-butynyl, 2-ethyl-thio butynyl,
1−メチルチオヘキシニル、2−メチルチオヘキシニル、3−メチルチオヘキシニル、4−メチルチオヘキシニル、5−メチルチオヘキシニル、1−プロピルチオブチニル、4−メチル−4−メチルチオペンチニル、1− 1-methyl-thio f carboxymethyl sulfonyl, 2-methyl-thio f carboxymethyl sulfonyl, 3-methyl-thio f alkoxy sulfonyl, 4-methylthiophenyl f carboxymethyl sulfonyl, 5-methyl-thio f carboxymethyl sulfonyl, 1-propyl thio-butynyl, 4-methyl-4-methylthio pentynyl, 1-
メチルチオヘプチニル、2−メチルチオヘプチニル、3 Methylthio heptylene sulfonyl, 2-methyl-thio-heptylene, cycloalkenyl, 3
−メチルチオヘプチニル、4−メチルチオヘプチニル、 - methylthio heptylene sulfonyl, 4-methylthiophenyl heptylene sulfonyl,
5−メチルチオヘプチニル、6−メチルチオヘプチニル、1−プロピルチオペンチニル、2−エチルチオヘキシニル、5−メチル−5−メチルチオヘキシニル、3− 5-methylthio heptylene sulfonyl, 6-methyl-thio heptylene, cycloalkenyl, 1-propyl thio pentynyl, 2-ethyl-thio f carboxymethyl sulfonyl, 5-methyl-5-methylthio f carboxymethyl sulfonyl, 3-
メチルチオオクチニル、4−メチルチオオクチニル、5 Methylthio-octynyl, 4-methylthiophenyl-octynyl, 5
−メチルチオオクチニル、6−メチルチオオクチニル、 - methylthio-octynyl, 6-methylthio-octynyl,
1−プロピルチオヘキシニル、2−エチルチオヘプチニル、6−メチル−6−メチルチオヘプチニル、1−メチルチオノニニル、3−メチルチオノニニル、8−メチルチオノニニル、3−エチルチオオクチニル、3−メチル−7−メチルチオオクチニル、7,7−ジメチルチオオクチニル、4−メチル−8−メチルチオノニニル、3, 1-propyl thio-f carboxymethyl sulfonyl, 2-ethyl-thio heptylene sulfonyl, 6-methyl-6-methylthio heptylene, cycloalkenyl, 1-methyl-thio Noni sulfonyl, 3-methylthio Noni sulfonyl, 8-methyl-thio Noni sulfonyl, 3-ethyl-thio-octynyl , 3-methyl-7-methylthio-octynyl, 7,7-dimethyl-thio-octynyl, 4-methyl-8-methylthio Noni sulfonyl, 3,
7−ジメチル−11−メチルチオドデシニル、4,8− 3,7-dimethyl-11-methylthio-dodecylcarbamoyl sulfonyl, 4,8-
ジメチル−12−メチルチオトリデシニル、1−メチルチオペンタデシニル、14−メチルチオペンタデシニル、13−メチル−13−メチルチオテトラデシニル、 Dimethyl-12-methylthio tri Desi alkenyl, 1-methyl-thio penta Desi sulfonyl, 14-methyl thio penta Desi sulfonyl, 13-methyl-13-methylthio tetradecylcarbamoyl alkenyl,
15−メチルチオヘキサデシニル、1−メチルチオヘプタデシニル、及び、3,7,11−トリメチル−15− 15 methylthiophenyl hexadecylcarbamoyl alkenyl, 1-methyl-thio hept Desi alkylsulfonyl and, 3,7,11-trimethyl-15-
メチルチオヘキサデシニルのような1又は2個の硫黄原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルキニル基;1−メチルオキシエチニル、2−メチルオキシエチニル、1−メチルオキシプロピニル、2−メチルオキシプロピニル、3−メチルオキシプロピニル、2−エチルオキシエチニル、2−メチルー2−メチルオキシエチニル、1−メチルオキシブチニル、2−メチルオキシブチニル、3−メチルオキシブチニル、2−エチルオキシプロピニル、3−メチル−3−メチルオキシプロピニル、 Methylthio hexadecylcarbamoyl one or two carbon atoms are interposed in the sulfur atom 3 to 20 alkynyl group, such as sulfonyl; 1-methyloxy-ethynyl, 2-methyloxy ethynyl, 1-methyloxy-propynyl, 2-methyl oxy-propynyl, 3-methyloxy-propynyl, 2-ethyl-oxy ethynyl, 2-methyl-2-methyloxy ethynyl, 1-methyloxy-butynyl, 2-methyloxy butynyl, 3-methyloxy-butynyl, 2-ethyloxy-propynyl , 3-methyl-3-methyloxy-propynyl,
4−メチルオキシペンチニル、3−メチルオキシペンチニル、2−メチルオキシペンチニル、1−メチルオキシペンチニル、3,3−ジメチルオキシブチニル、2,2 4- methyloxy pentynyl, 3-methyloxy pentynyl, 2-methyloxy pentynyl, 1-methyloxy pentynyl, 3,3-dimethyl-oxy-butynyl, 2,2
−ジメチルオキシブチニル、1,1−ジメチルオキシブチニル、1−メチル−2−メチルオキシブチニル、1, - dimethyloxy butynyl, 1,1-dimethyl-oxy-butynyl, 1-Methyl-2-methyloxy butynyl, 1,
3−ジメチルオキシブチニル、2,3−ジメチルオキシブチニル、2−エチルオキシブチニル、1−メチルオキシヘキシニル、2−メチルオキシヘキシニル、3−メチルオキシヘキシニル、4−メチルオキシヘキシニル、5 3-dimethyl-oxy-butynyl, 2,3-dimethyl-oxy-butynyl, 2-ethyloxy butynyl, 1-methyloxy f carboxymethyl sulfonyl, 2-methyloxy f carboxymethyl sulfonyl, 3-methyloxy f alkoxy sulfonyl, 4-methyloxy f carboxymethyl sulfonyl , 5
−メチルオキシヘキシニル、1−プロピルオキシブチニル、4−メチル−4−メチルオキシペンチニル、1−メチルオキシヘプチニル、2−メチルオキシヘプチニル、 - methyloxy F carboxymethyl sulfonyl, 1-propyloxy butynyl, 4-methyl-4-methyloxy pentynyl, 1-methyloxy heptylene alkenyl, 2-methyloxy heptylene alkenyl,
3−メチルオキシヘプチニル、4−メチルオキシヘプチニル、5−メチルオキシヘプチニル、6−メチルオキシヘプチニル、1−プロピルオキシペンチニル、2−エチルオキシヘキシニル、5−メチル−5−メチルオキシヘキシニル、3−メチルオキシオクチニル、4−メチルオキシオクチニル、5−メチルオキシオクチニル、6−メチルオキシオクチニル、1−プロピルオキシヘキシニル、2−エチルオキシヘプチニル、6−メチル−6−メチルオキシヘプチニル、1−メチルオキシノニニル、3 3-methyloxy heptylene sulfonyl, 4-methyloxy heptylene sulfonyl, 5-methyloxy heptylene sulfonyl, 6-methyloxy heptylene sulfonyl, 1-propyloxy pentynyl, 2-ethyloxy f carboxymethyl sulfonyl, 5-methyl - 5-methyloxy f carboxymethyl sulfonyl, 3-methyloxy-octynyl, 4-methyloxy-octynyl, 5-methyloxy-octynyl, 6-methyloxy-octynyl, 1-propyloxy f carboxymethyl sulfonyl, 2-ethyloxy heptylene sulfonyl, 6-methyl-6-methyloxy heptylene sulfonyl, 1-methyloxy noni sulfonyl, 3
−メチルオキシノニニル、8−メチルオキシノニニル、 - methyloxy Noni sulfonyl, 8-methyloxy Noni sulfonyl,
3−エチルオキシオクチニル、3−メチル−7−メチルオキシオクチニル、7,7−ジメチルオキシオクチニル、4−メチル−8−メチルオキシノニニル、3,7− 3-ethyl-oxy-octynyl, 3-methyl-7-methyloxy-octynyl, 7,7-dimethyl-oxy-octynyl, 4-methyl-8-methyloxy Noni sulfonyl, 3,7
ジメチル−11−メチルオキシドデシニル、4,8−ジメチル−12−メチルオキシトリデシニル、1−メチルオキシペンタデシニル、14−メチルオキシペンタデシニル、13−メチル−13−メチルオキシテトラデシニル、15−メチルオキシヘキサデシニル、1−メチルオキシヘプタデシニル、及び、3,7,11−トリメチル−15−メチルオキシヘキサデシニルのような1又は2 Dimethyl-11-methyl-oxide Desi sulfonyl, 4,8-dimethyl-12-methyloxy bird Desi sulfonyl, 1-methyloxy penta Desi sulfonyl, 14-methyloxy penta Desi sulfonyl, 13-methyl-13-methyloxy tetradecylcarbamoyl sulfonyl, 15 methyloxy hexadecylcarbamoyl sulfonyl, 1-methyloxy hept Desi sulfonyl and, 3,7,11-trimethyl-15-one or 2, such as methyloxy hexadecylcarbamoyl sulfonyl
個の酸素原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルキニル基;1−(N−メチルアミノ)エチニル、2− Pieces having 3 to 20 carbon alkynyl group having a carbon is interposed by an oxygen atom; 1-(N-methylamino) ethynyl, 2-
(N−メチルアミノ)エチニル、1−(N−メチルアミノ)プロピニル、2−(N−メチルアミノ)プロピニル、3−(N−メチルアミノ)プロピニル、2−(N− (N- methylamino) ethynyl, 1-(N- methylamino) propynyl, 2-(N- methylamino) propynyl, 3- (N- methylamino) propynyl, 2-(N-
エチルアミノ)エチニル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチニル、1−(N−メチルアミノ)ブチニル、2 Ethylamino) ethynyl, 2-(N, N-dimethylamino) ethynyl, 1-(N-methylamino) butynyl, 2
−(N−メチルアミノ)ブチニル、3−(N−メチルアミノ)ブチニル、2−(N−エチルアミノ)プロピニル、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピニル、4− - (N-methylamino) butynyl, 3- (N-methylamino) butynyl, 2-(N-ethylamino) propynyl, 3- (N, N-dimethylamino) propynyl, 4-
(N−メチルアミノ)ペンチニル、3−(N−メチルアミノ)ペンチニル、2−(N−メチルアミノ)ペンチニル、1−(N−メチルアミノ)ペンチニル、3−(N, (N- methylamino) pentynyl, 3- (N- methylamino) pentynyl, 2-(N- methylamino) pentynyl, 1-(N- methylamino) pentynyl, 3- (N,
N−ジメチルアミノ)ブチニル、2−(N,N−ジメチルアミノ)ブチニル、1−(N,N−ジメチルアミノ) N- dimethylamino) butynyl, 2- (N, N- dimethylamino) butynyl, 1- (N, N- dimethylamino)
ブチニル、1−メチル−2−(N−メチルアミノ)ブチニル、1,3−ジ(N−メチルアミノ)ブチニル、2, Butynyl, 1-methyl-2-(N- methylamino) butynyl, 1,3-di (N- methylamino) butynyl, 2,
3−ジ(N−メチルアミノ)ブチニル、2−(N−エチルアミノ)ブチニル、1−(N−メチルアミノ)ヘキシニル、2−(N−メチルアミノ)ヘキシニル、3−(N 3-di (N- methylamino) butynyl, 2-(N- ethylamino) butynyl, 1-(N- methylamino) hexynyl, 2-(N- methylamino) hexynyl, 3- (N
−メチルアミノ)ヘキシニル、4−(N−メチルアミノ)ヘキシニル、5−(N−メチルアミノ)ヘキシニル、1−(N−プロピルアミノ)ブチニル、4−メチル−4−(N−メチルアミノ)ペンチニル、1−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、2−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、3−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、4− - methylamino) hexynyl, 4- (N-methylamino) hexynyl, 5-(N-methylamino) hexynyl, 1-(N-propylamino) butynyl, 4-methyl-4-(N-methylamino) pentynyl, 1-(N-methylamino) heptynyl, 2-(N-methylamino) heptynyl, 3- (N-methylamino) heptynyl, 4-
(N−メチルアミノ)ヘプチニル、5−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、6−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、1−(N−プロピルアミノ)ペンチニル、2−(N (N- methylamino) heptynyl, 5-(N- methylamino) heptynyl, 6- (N- methylamino) heptynyl, 1-(N- propylamino) pentynyl, 2-(N
−エチルアミノ)ヘキシニル、5−メチル−5−(N− - ethylamino) hexynyl, 5-methyl-5-(N-
メチルアミノ)ヘキシニル、3−(N−メチルアミノ) Methylamino) hexynyl, 3- (N-methylamino)
オクチニル、4−(N−メチルアミノ)オクチニル、5 Octynyl, 4-(N-methylamino) octynyl, 5
−(N−メチルアミノ)オクチニル、6−(N−メチルアミノ)オクチニル、1−(N−プロピルアミノ)ヘキシニル、2−(N−エチルアミノ)ヘプチニル、6−メチル−6−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、1−(N - (N-methylamino) octynyl, 6- (N-methyl-amino) octynyl, 1-(N-propylamino) hexynyl, 2-(N-ethylamino) heptynyl, 6-methyl-6-(N-methylamino ) heptynyl, 1- (N
−メチルアミノ)ノニニル、3−(N−メチルアミノ) - methylamino) nonynyl, 3- (N-methylamino)
ノニニル、8−(N−メチルアミノ)ノニニル、3− Nonynyl, 8- (N-methylamino) nonynyl, 3-
(N−エチルアミノ)オクチニル、3−メチル−7− (N- ethylamino) octynyl, 3-methyl-7-
(N−メチルアミノ)オクチニル、7,7−ジ(N−メチルアミノ)オクチニル、4−メチル−8−(N−メチルアミノ)ノニニル、3,7−ジメチル−11−(N− (N- methylamino) octynyl, 7,7-di (N- methylamino) octynyl, 4-methyl-8-(N- methylamino) nonynyl, 3,7-dimethyl-11-(N-
メチルアミノ)ドデシニル、4,8−ジメチル−12− Methylamino) dodecynyl, 4,8-dimethyl-12-
(N−メチルアミノ)トリデシニル、1−(N−メチルアミノ)ペンタデシニル、14−(N−メチルアミノ) (N- methylamino) tridecynyl, 1-(N- methylamino) pentadecynyl, 14- (N- methylamino)
ペンタデシニル、13−メチル−13−(N−メチルアミノ)テトラデシニル、15−(N−メチルアミノ)ヘキサデシニル、1−(N−メチルアミノ)ヘプタデシニル、及び、3,7,11−トリメチル−15−(N−メチルアミノ)ヘキサデシニルのような1又は2個の窒素原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルキニル基であり、好適には、ヘテロ原子が介在するC 3 −C 10 Pentadecynyl, 13-methyl -13-(N-methylamino) tetradecynyl, 15-(N-methylamino) hexadecynyl, 1-(N-methylamino) Heputadeshiniru and, 3,7,11-trimethyl-15-(N - methylamino) 1 or 2 having 3 to carbon atoms is interposed at the nitrogen atom of the 20 alkynyl group such as hexadecynyl, preferably, C 3 -C 10 hetero atom-mediated
アルキニル基である。 An alkynyl group.

【0265】上記において、R 12の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたC 2 −C 20アルキニル基」は、前記「C 2 −C 20アルキニル基」が、同一又は異なって、1又は3個の、前記「アリール基」又は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。 [0265] In the above, "aryl group or an aromatic heterocyclic C 2 -C 20 alkynyl group substituted with a group" in the definition of R 12, the "C 2 -C 20 alkynyl group" are the same or different shows the 1 or 3, the "aryl group" or the "aromatic heterocyclic group" in the substituted groups.

【0266】上記において、R 12の定義における「C 2 [0266] "C 2 In the above, the definition of R 12
−C 20アルケニル基」は、例えば、エテニル、2−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2 -C 20 alkenyl, group ", for example, ethenyl, 2-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, 2-methyl-2
−プロペニル、2−エチル−2−プロペニル、2−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、1−エチル−2−ブテニル、3−ブテニル、1 - propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 2-butenyl, 1-methyl-2-butenyl, 2-methyl-2-butenyl, 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1
−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、 - methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl,
1−エチル−3−ブテニル、2−ペンテニル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3 1-ethyl-3-butenyl, 2-pentenyl, 1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3
−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−4 - pentenyl, 1-methyl-3-pentenyl, 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4
−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、ヘプテニル、1−メチルヘキセニル、2−メチルヘキセニル、3−メチルヘキセニル、4−メチルヘキセニル、5−メチルヘキセニル、1−プロピルブテニル、 - pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 5-hexenyl, heptenyl, 1-methyl-hexenyl, 2-methyl-hexenyl, 3-methyl-hexenyl, 4-methyl-hexenyl, 5 - methyl hexenyl, 1-Puropirubuteniru,
4,4−ジメチルペンテニル、オクテニル、1−メチルヘプテニル、2−メチルヘプテニル、3−メチルヘプテニル、4−メチルヘプテニル、5−メチルヘプテニル、 4,4-dimethyl-pentenyl, octenyl, 1-Mechiruheputeniru, 2- Mechiruheputeniru, 3- Mechiruheputeniru, 4- Mechiruheputeniru, 5- Mechiruheputeniru,
6−メチルヘプテニル、1−プロピルペンテニル、2− 6-Mechiruheputeniru, 1-propyl-pentenyl, 2
エチルヘキセニル、5,5−ジメチルヘキセニル、ノネニル、3−メチルオクテニル、4−メチルオクテニル、 Ethyl hexenyl, 5,5-dimethyl cyclohexenyl, nonenyl, 3-methyl-octenyl, 4-methyl-octenyl,
5−メチルオクテニル、6−メチルオクテニル、1−プロピルヘキセニル、2−エチルヘプテニル、6,6−ジメチルヘプテニル、デセニル、1−メチルノネニル、3 5-methyl-octenyl, 6-methyl octenyl, 1-propyl-hexenyl, 2-Echiruheputeniru, 6,6-dimethyl-heptenyl, decenyl, 1-Mechirunoneniru, 3
−メチルノネニル、8−メチルノネニル、3−エチルオクテニル、3,7−ジメチルオクテニル、7,7−ジメチルオクテニル、ウンデセニル、4,8−ジメチルノネニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、3,7,11−トリメチルドデセニル、 - Mechirunoneniru, 8- Mechirunoneniru, 3 Echiruokuteniru, 3,7-dimethyl-octenyl, 7,7-dimethyl octenyl, undecenyl, 4,8 Jimechirunoneniru, dodecenyl, tridecenyl, tetradecenyl, pentadecenyl, 3,7,11-trimethyl dodecenyl,
ヘキサデセニル、4,8,12−トリメチルトリデセニル、1−メチルペンタデセニル、14−メチルペンタデセニル、13,13−ジメチルテトラデセニル、ヘプタデセニル、15−メチルヘキサデセニル、オクタデセニル、1−メチルヘプタデセニル、ノナデセニル、アイコセニル、及び、3,7,11,15−テトラメチルヘキサデセニル基のような炭素数2乃至20の直鎖又は分枝鎖アルケニル基を挙げることができ、好適にはC 2 −C Hexadecenyl, 4,8,12 trimethyl-decenyl, 1-methyl-pentadecenyl, 14-methyl-pentadecenyl, 13,13-dimethyl-tetradecenyl, heptadecenyl, 15-methyl hexadecenyl, octadecenyl , 1-methyl-heptadecenyl, nonadecenyl, Aikoseniru, and, and a straight-chain or branched alkenyl group having 3,7,11,15-tetramethyl-hexadecenyl carbon number of 2 to 20, such as a group It can be suitably C 2 -C
10アルケニル基である。 10 alkenyl group.

【0267】上記において、R 12の定義における「ヘテロ原子が介在するC 3 −C 20アルケニル基」は、前記「C 2 −C 20アルケニル基」の内の「C 3 −C 20アルケニル基」が、同一又は異なって、1又は2個の、硫黄原子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示し、例えば、1−メチルチオエテニル、2−メチルチオエテニル、1−メチルチオプロペニル、2−メチルチオプロペニル、3−メチルチオプロペニル、2−エチルチオエテニル、2−メチルー2−メチルチオエテニル、1 [0267] In the above, "C 3 -C 20 alkenyl group which heteroatoms are mediated" in the definition of R 12, the "C 3 -C 20 alkenyl group" of the "C 2 -C 20 alkenyl group" , same or different, one or two sulfur atom, an oxygen atom, or represents a group that is interposed by a nitrogen atom, for example, 1-methyl-thio ethenyl, 2-methylthio ethenyl, 1-methyl-thio-propenyl, 2methylthioethoxy propenyl, 3-methylthio-propenyl, 2-ethyl-thio ethenyl, 2-methyl-2-methylthio ethenyl, 1
−メチルチオブテニル、2−メチルチオブテニル、3− - methylthiazol of butenyl, 2-methylthiazol-of-butenyl, 3-
メチルチオブテニル、2−エチルチオプロペニル、3− Methylthiazol of butenyl, 2-ethyl-thio-propenyl, 3-
メチル−3−メチルチオプロペニル、4−メチルチオペンテニル、3−メチルチオペンテニル、2−メチルチオペンテニル、1−メチルチオペンテニル、3,3−ジメチルチオブテニル、2,2−ジメチルチオブテニル、 Methyl-3-methylthio-propenyl, 4-methyl-thio-pentenyl, 3-methyl-thio-pentenyl, 2-methyl-thio-pentenyl, 1-methyl-thio-pentenyl, 3,3-dimethylthiazol-of-butenyl, 2,2-dimethylthiazol-of-butenyl,
1,1−ジメチルチオブテニル、1−メチル−2−メチルチオブテニル、1,3−ジメチルチオブテニル、2, 1,1-dimethylthiazol-of-butenyl, 1-methyl-2-methylthiazole-of butenyl, 1,3-dimethylthiazol-of-butenyl, 2,
3−ジメチルチオブテニル、2−エチルチオブテニル、 3-dimethylthiazol-of-butenyl, 2-ethyl-Ji of butenyl,
1−メチルチオヘキセニル、2−メチルチオヘキセニル、3−メチルチオヘキセニル、4−メチルチオヘキセニル、5−メチルチオヘキセニル、1−プロピルチオブテニル、4−メチル−4−メチルチオペンテニル、1− 1-methyl-thio-hexenyl, 2-methylthio-hexenyl, 3-methylthio-hexenyl, 4-methylthiophenyl hexenyl, 5-methylthio-hexenyl, 1-propyl Ji of butenyl, 4-methyl-4-methylthio-pentenyl, 1
メチルチオヘプテニル、2−メチルチオヘプテニル、3 Methylthio heptenyl, 2-methylthio heptenyl, 3
−メチルチオヘプテニル、4−メチルチオヘプテニル、 - methylthio heptenyl, 4-methylthiophenyl heptenyl,
5−メチルチオヘプテニル、6−メチルチオヘプテニル、1−プロピルチオペンテニル、2−エチルチオヘキセニル、5−メチル−5−メチルチオヘキセニル、3− 5-methylthio heptenyl, 6-methylthio heptenyl, 1-propyl thio-pentenyl, 2-ethyl-thio-hexenyl, 5-methyl-5-methylthio-hexenyl, 3
メチルチオオクテニル、4−メチルチオオクテニル、5 Methylthio-octenyl, 4-methylthiophenyl octenyl, 5
−メチルチオオクテニル、6−メチルチオオクテニル、 - methylthio octenyl, 6-methylthio-octenyl,
1−プロピルチオヘキセニル、2−エチルチオヘプテニル、6−メチル−6−メチルチオヘプテニル、1−メチルチオノネニル、3−メチルチオノネニル、8−メチルチオノネニル、3−エチルチオオクテニル、3−メチル−7−メチルチオオクテニル、7,7−ジメチルチオオクテニル、4−メチル−8−メチルチオノネニル、3, 1-propyl thio-hexenyl, 2-ethyl-thio heptenyl, 6-methyl-6-methylthio heptenyl, 1-methyl-thio root sulfonyl, 3-methylthio root sulfonyl, 8-methyl-thio root sulfonyl, 3-ethyl-thio-octenyl, 3- methyl-7-methylthio-octenyl, 7,7-dimethyl-thio-octenyl, 4-methyl-8-methylthio root sulfonyl, 3,
7−ジメチル−11−メチルチオドデセニル、4,8− 3,7-dimethyl-11-methylthio-dodecenyl, 4,8
ジメチル−12−メチルチオトリデセニル、1−メチルチオペンタデセニル、14−メチルチオペンタデセニル、13−メチル−13−メチルチオテトラデセニル、 Dimethyl-12-methylthio tri-decenyl, 1-methyl-thio-pentadecenyl, 14-methylthio-pentadecenyl, 13-methyl-13-methylthio-tetradecenyl,
15−メチルチオヘキサデセニル、1−メチルチオヘプタデセニル、及び、3,7,11−トリメチル−15− 15 methylthiophenyl hexadecenyl, 1-methylthio-heptadecenyl and, 3,7,11-trimethyl-15-
メチルチオヘキサデセニルのような1又は2個の硫黄原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルケニル基;1−メチルオキシエテニル、2−メチルオキシエテニル、1−メチルオキシプロペニル、2−メチルオキシプロペニル、3−メチルオキシプロペニル、2−エチルオキシエテニル、2−メチルー2−メチルオキシエテニル、1−メチルオキシブテニル、2−メチルオキシブテニル、3−メチルオキシブテニル、2−エチルオキシプロペニル、3−メチル−3−メチルオキシプロペニル、 One or two carbon atoms are interposed in the sulfur atom 3 to 20 alkenyl groups, such as methyl thio hexadecenyl; 1-methyloxy ethenyl, 2-methyloxy ethenyl, 1-methyloxy-propenyl, 2-methyloxy propenyl, 3-methyloxy propenyl, 2-ethyloxy ethenyl, 2-methyl-2-methyloxy ethenyl, 1-methyloxy-butenyl, 2-methyloxy-butenyl, 3-methyloxy-butenyl, 2-ethyl-oxy-propenyl, 3-methyl-3-methyloxy propenyl,
4−メチルオキシペンテニル、3−メチルオキシペンテニル、2−メチルオキシペンテニル、1−メチルオキシペンテニル、3,3−ジメチルオキシブテニル、2,2 4-methyl-oxy-pentenyl, 3-methyloxy-pentenyl, 2-methyloxy pentenyl, 1-methyloxy-pentenyl, 3,3-dimethyl-oxy-butenyl, 2,2
−ジメチルオキシブテニル、1,1−ジメチルオキシブテニル、1−メチル−2−メチルオキシブテニル、1, - dimethyloxy butenyl, 1,1-dimethyl-oxy-butenyl, 1-methyl-2-methyloxy-butenyl, 1,
3−ジメチルオキシブテニル、2,3−ジメチルオキシブテニル、2−エチルオキシブテニル、1−メチルオキシヘキセニル、2−メチルオキシヘキセニル、3−メチルオキシヘキセニル、4−メチルオキシヘキセニル、5 3-dimethyl oxy butenyl 2,3 dimethyloxy butenyl, 2-ethyloxy-butenyl, 1-methyl oxy-hexenyl, 2-methyl oxy-hexenyl, 3-methyl oxy-hexenyl, 4-methyl oxy-hexenyl, 5
−メチルオキシヘキセニル、1−プロピルオキシブテニル、4−メチル−4−メチルオキシペンテニル、1−メチルオキシヘプテニル、2−メチルオキシヘプテニル、 - methyloxy hexenyl, 1-propyloxy-butenyl, 4-methyl-4-methyloxy-pentenyl, 1-methyloxy heptenyl, 2-methyloxy heptenyl,
3−メチルオキシヘプテニル、4−メチルオキシヘプテニル、5−メチルオキシヘプテニル、6−メチルオキシヘプテニル、1−プロピルオキシペンテニル、2−エチルオキシヘキセニル、5−メチル−5−メチルオキシヘキセニル、3−メチルオキシオクテニル、4−メチルオキシオクテニル、5−メチルオキシオクテニル、6−メチルオキシオクテニル、1−プロピルオキシヘキセニル、2−エチルオキシヘプテニル、6−メチル−6−メチルオキシヘプテニル、1−メチルオキシノネニル、3 3-methyloxy heptenyl, 4-methyloxy heptenyl, 5-methyloxy heptenyl, 6-methyloxy heptenyl, 1-propyloxy-pentenyl, 2-ethyloxy-hexenyl, 5-methyl-5-methyloxy-hexenyl, 3-methyloxy-octenyl, 4-methyloxy-octenyl, 5-methyloxy-octenyl, 6-methyloxy-octenyl, 1-propyloxy-hexenyl, 2-ethyloxy heptenyl, 6-methyl-6-methyloxy Cheb thenyl, 1-methyloxy root sulfonyl, 3
−メチルオキシノネニル、8−メチルオキシノネニル、 - methyloxy root sulfonyl, 8-methyloxy root sulfonyl,
3−エチルオキシオクテニル、3−メチル−7−メチルオキシオクテニル、7,7−ジメチルオキシオクテニル、4−メチル−8−メチルオキシノネニル、3,7− 3-ethyl-oxy-octenyl, 3-methyl-7-methyloxy-octenyl, 7,7-dimethyl-oxy-octenyl, 4-methyl-8-methyloxy root sulfonyl, 3,7
ジメチル−11−メチルオキシドデセニル、4,8−ジメチル−12−メチルオキシトリデセニル、1−メチルオキシペンタデセニル、14−メチルオキシペンタデセニル、13−メチル−13−メチルオキシテトラデセニル、15−メチルオキシヘキサデセニル、1−メチルオキシヘプタデセニル、及び、3,7,11−トリメチル−15−メチルオキシヘキサデセニルのような1又は2 Dimethyl-11-methyl-oxide-decenyl, 4,8-dimethyl-12- methyloxy tri-decenyl, 1-methyloxy-pentadecenyl, 14-methyloxy-pentadecenyl, 13-methyl-13-methyloxy tetradecenyl, 15-methyloxy hexadecenyl, 1-methyloxy-heptadecenyl and, 3,7,11-trimethyl-15-one or 2, such as methyloxy hexadecenylsuccinic
個の酸素原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルケニル基;1−(N−メチルアミノ)エテニル、2− Number of an alkenyl group having 3 to 20 carbon being interposed by an oxygen atom; 1-(N-methylamino) ethenyl, 2-
(N−メチルアミノ)エテニル、1−(N−メチルアミノ)プロペニル、2−(N−メチルアミノ)プロペニル、3−(N−メチルアミノ)プロペニル、2−(N− (N- methylamino) ethenyl, 1-(N- methylamino) propenyl, 2-(N- methylamino) propenyl, 3- (N- methylamino) propenyl, 2-(N-
エチルアミノ)エテニル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エテニル、1−(N−メチルアミノ)ブテニル、2 Ethylamino) ethenyl, 2-(N, N-dimethylamino) ethenyl, 1-(N-methylamino) butenyl, 2
−(N−メチルアミノ)ブテニル、3−(N−メチルアミノ)ブテニル、2−(N−エチルアミノ)プロペニル、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロペニル、4− - (N-methylamino) butenyl, 3- (N-methylamino) butenyl, 2-(N-ethylamino) propenyl, 3- (N, N-dimethylamino) propenyl, 4-
(N−メチルアミノ)ペンテニル、3−(N−メチルアミノ)ペンテニル、2−(N−メチルアミノ)ペンテニル、1−(N−メチルアミノ)ペンテニル、3−(N, (N- methylamino) pentenyl, 3- (N- methylamino) pentenyl, 2-(N- methylamino) pentenyl, 1-(N- methylamino) pentenyl, 3- (N,
N−ジメチルアミノ)ブテニル、2−(N,N−ジメチルアミノ)ブテニル、1−(N,N−ジメチルアミノ) N- dimethylamino) butenyl, 2- (N, N- dimethylamino) butenyl, 1- (N, N- dimethylamino)
ブテニル、1−メチル−2−(N−メチルアミノ)ブテニル、1,3−ジ(N−メチルアミノ)ブテニル、2, Butenyl, 1-methyl-2-(N- methylamino) butenyl, 1,3-di (N- methylamino) butenyl, 2,
3−ジ(N−メチルアミノ)ブテニル、2−(N−エチルアミノ)ブテニル、1−(N−メチルアミノ)ヘキセニル、2−(N−メチルアミノ)ヘキセニル、3−(N 3-di (N- methylamino) butenyl, 2-(N- ethylamino) butenyl, 1-(N- methylamino) hexenyl, 2-(N- methylamino) hexenyl, 3- (N
−メチルアミノ)ヘキセニル、4−(N−メチルアミノ)ヘキセニル、5−(N−メチルアミノ)ヘキセニル、1−(N−プロピルアミノ)ブテニル、4−メチル−4−(N−メチルアミノ)ペンテニル、1−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、2−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、3−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、4− - methylamino) hexenyl, 4- (N-methylamino) hexenyl, 5-(N-methylamino) hexenyl, 1-(N-propylamino) butenyl, 4-methyl-4-(N-methylamino) pentenyl, 1-(N-methylamino) heptenyl, 2-(N-methylamino) heptenyl, 3- (N-methylamino) heptenyl, 4-
(N−メチルアミノ)ヘプテニル、5−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、6−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、1−(N−プロピルアミノ)ペンテニル、2−(N (N- methylamino) heptenyl, 5-(N- methylamino) heptenyl, 6- (N- methylamino) heptenyl, 1-(N- propylamino) pentenyl, 2-(N
−エチルアミノ)ヘキセニル、5−メチル−5−(N− - ethylamino) hexenyl, 5-methyl-5-(N-
メチルアミノ)ヘキセニル、3−(N−メチルアミノ) Methylamino) hexenyl, 3- (N-methylamino)
オクテニル、4−(N−メチルアミノ)オクテニル、5 Octenyl, 4-(N-methylamino) octenyl, 5
−(N−メチルアミノ)オクテニル、6−(N−メチルアミノ)オクテニル、1−(N−プロピルアミノ)ヘキセニル、2−(N−エチルアミノ)ヘプテニル、6−メチル−6−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、1−(N - (N-methylamino) octenyl, 6- (N-methylamino) octenyl, 1-(N-propylamino) hexenyl, 2-(N-ethylamino) heptenyl, 6-methyl-6-(N-methylamino ) heptenyl, 1- (N
−メチルアミノ)ノネニル、3−(N−メチルアミノ) - methylamino) nonenyl, 3- (N-methylamino)
ノネニル、8−(N−メチルアミノ)ノネニル、3− Nonenyl, 8- (N-methylamino) nonenyl, 3-
(N−エチルアミノ)オクテニル、3−メチル−7− (N- ethylamino) octenyl, 3-methyl-7-
(N−メチルアミノ)オクテニル、7,7−ジ(N−メチルアミノ)オクテニル、4−メチル−8−(N−メチルアミノ)ノネニル、3,7−ジメチル−11−(N− (N- methylamino) octenyl, 7,7-di (N- methylamino) octenyl, 4-methyl-8-(N- methylamino) nonenyl, 3,7-dimethyl-11-(N-
メチルアミノ)ドデセニル、4,8−ジメチル−12− Methylamino) dodecenyl, 4,8-dimethyl-12-
(N−メチルアミノ)トリデセニル、1−(N−メチルアミノ)ペンタデセニル、14−(N−メチルアミノ) (N- methylamino) tridecenyl, 1-(N- methylamino) pentadecenyl, 14- (N- methylamino)
ペンタデセニル、13−メチル−13−(N−メチルアミノ)テトラデセニル、15−(N−メチルアミノ)ヘキサデセニル、1−(N−メチルアミノ)ヘプタデセニル、及び、3,7,11−トリメチル−15−(N−メチルアミノ)ヘキサデセニルのような1又は2個の窒素原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルケニル基を挙げることができ、好適には、ヘテロ原子が介在するC 3 −C 10アルケニル基である。 Pentadecenyl, 13-methyl -13-(N-methylamino) tetradecenyl, 15-(N-methylamino) hexadecenyl, 1-(N-methylamino) heptadecenyl, and, 3,7,11-trimethyl-15-(N - methylamino) having 3 or carbon atoms such is interposed with one or two nitrogen atoms as hexadecenyl may be mentioned 20 alkenyl groups, preferably, C 3 -C 10 alkenyl heteroatoms are mediated a group.

【0268】上記において、R 12の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたC 2 −C 20アルケニル基」は、前記「C 2 −C 20アルケニル基」が、同一又は異なって、1又は3個の、前記「アリール基」又は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。 [0268] In the above, "an aryl group or an aromatic heterocyclic C 2 -C 20 alkenyl group which is substituted with a group 'in the definition of R 12, the" C 2 -C 20 alkenyl group "are the same or different shows the 1 or 3, the "aryl group" or the "aromatic heterocyclic group" in the substituted groups.

【0269】上記において、R 12の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたヘテロ原子が介在するC 2 −C 20アルキル基」は、前記「ヘテロ原子が介在するC 2 −C 20アルキル基」が、同一又は異なって、1又は3個の、前記「アリール基」又は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。 [0269] In the above, "C 2 -C 20 alkyl group hetero atom substituted by an aryl group or an aromatic heterocyclic group is interposed" in the definition of R 12 is, C 2 -C said that "heteroatom-mediated 20 alkyl group "is, identical to or different from one or three, the" aryl group "or the" aromatic heterocyclic group "in the substituted groups.

【0270】上記において、R 12の定義における「C 3 [0270] In the above, "C 3 in the definition of R 12
−C 10シクロアルキル基」は、前記「シクロアルキル基」と同意議を示す。 -C 10 cycloalkyl group "refers to agree discussions and the" cycloalkyl group ".

【0271】第D1工程は、一般式(XXII)を有する化合物を製造する工程であり、一般式(XX)を有する化合物の一方の水酸基のみを、不活性溶媒の存在又は非存在下(好適には存在下)、リパーゼの存在下に、一般式(XXI)を有する化合物を用いて選択的にアシル化することにより行なわれる。 [0271] The Step D1 is a step for preparing a compound having the general formula (XXII), the general formula only one of the hydroxyl groups of the compound having a (XX), the presence or absence of an inert solvent (preferably the presence), in the presence of a lipase, is performed by selectively acylated with a compound having the general formula (XXI).

【0272】上記反応において使用される「リパーゼ」 [0272] As used in the above reaction "lipase"
は、特に限定はなく、原料化合物の種類により最適なものが異なるが、好ましくは、Pseudomonas sp.、Pseudom Are not particularly limited, optimum is varies depending upon the kind of starting compound, preferably, Pseudomonas sp., Pseudom
onasfluorescens、Pseudomonas cepacia、Chromobacter onasfluorescens, Pseudomonas cepacia, Chromobacter
ium viscosum、Aspergillusniger、Aspergillus oryza ium viscosum, Aspergillusniger, Aspergillus oryza
e、Candida antarctica、Candida cylindracea、Candid e, Candida antarctica, Candida cylindracea, Candid
a lipolytica、Candida rugosa、Candida utilis、Peni a lipolytica, Candida rugosa, Candida utilis, Peni
cillium roqueforti、Rhizopus arrhizus、Rhizopus de cillium roqueforti, Rhizopus arrhizus, Rhizopus de
lemar、Rhizopus javanicus、Rhizomucor miehei、Rhiz lemar, Rhizopus javanicus, Rhizomucor miehei, Rhiz
opus niveus、Humicola lanuginosa、Mucor javanicus、 opus niveus, Humicola lanuginosa, Mucor javanicus,
Mucor miehei、Thermus aquaticus、Thermus flavus、Ther Mucor miehei, Thermus aquaticus, Thermus flavus, Ther
mus thermophilus等やhuman pancreas、hog pancreas、 mus thermophilus, etc. and human pancreas, hog pancreas,
porcine pancreas、wheat germ由来のリパーゼであり、 porcine pancreas, a lipase from wheat germ,
酵素は部分的に又は完全に精製して用いることができるばかりではなく、固定化した形態で使用することができる。 Enzyme not only can be used to partially or completely purified, can be used in immobilized form.

【0273】最も好適には、Pseudomonas sp.を固定化したもの(例えば、immobilized lipase from Pseudomo [0273] Most preferably, Pseudomonas sp. Which has been immobilized (e.g., immobilized lipase from Pseudomo
nas sp.(TOYOBO社))である。 nas sp is. (TOYOBO Co., Ltd.)).

【0274】上記反応において使用される化合物(XX [0274] The compounds used in the above reaction (XX
I)において好適な化合物としては、原料化合物の種類により最適なものが異なるが、n−ヘキサン酸 ビニルエステル、n−ヘプタン酸 ビニルエステル、n−ペンタン酸 ビニルエステル、酢酸 ビニルエステル等の直鎖状脂肪族カルボン酸 ビニルエステルであり、最も好適には、n−ヘキサン酸 ビニルエステルである。 Suitable compounds in I), optimal depending on the kind of starting compound are different but, n- hexanoic acid vinyl ester, n- heptanoic acid vinyl ester, n- pentanoic acid vinyl esters, such as vinyl acetate ester linear aliphatic carboxylic acid vinyl ester, and most preferably a n- hexanoic acid vinyl ester.

【0275】上記反応において使用される不活性溶媒は特に限定はなく、化合物(XXI)のみでも良いし、また原料化合物の種類により最適なものが異なるが、各種有機溶媒、含水有機溶媒を使用することができ、好適には、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類;n−ヘキサン、n−ペンタンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類;及びジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類を挙げることができ、更に好適には、エーテル類であり、最も好適には、ジイソプロピルエーテルである。 [0275] The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited, Compound (XXI) may be only, also the optimal ones differ depending on the type of starting compounds, using various organic solvents, the water-containing organic solvent it can be, preferably, diisopropyl ether, t- butyl methyl ether, diethyl ether, ethers such as tetrahydrofuran; n- hexane, aliphatic hydrocarbons such as n- pentane; benzene, aromatic such as toluene family hydrocarbons; and dichloromethane can be exemplified halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, more preferably, an ether, and most preferably diisopropyl ether.

【0276】反応温度は、原料化合物、使用される溶媒、使用されるリパーゼの種類等によって異なるが、通常、−50〜50℃であり、好適には、0〜40℃である。 [0276] The reaction temperature, starting compound, the solvent used varies depending on the type of lipase used, usually from -50 to 50 ° C., preferably a 0 to 40 ° C..

【0277】反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、使用されるリパーゼ、及び、反応温度等によって異なるが、通常、15分乃至150時間であり、好適には30分乃至24時間である。 [0277] The reaction time varies depending on the starting material, the solvent being used, lipases used, and varies depending on the reaction temperature and is usually from 15 minutes to 150 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.

【0278】第D2工程は、一般式(XXIII)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸化剤の存在下、化合物(XXII)アルコール部分をアルデヒドに酸化することにより行なわれる。 [0278] The D2 step is a step for preparing a compound having the general formula (XXIII), in an inert solvent in the presence of an oxidizing agent is carried out by oxidizing the compound (XXII) an alcohol moiety to an aldehyde.

【0279】上記反応における酸化反応としては、一級アルコールからアルデヒドを生成する酸化反応であれば、特に限定はないが、例えば、塩化メチレン中、ピリジン及びクロム酸を用いて行われるCollins酸化;塩化メチレン中、塩化クロム酸ピリジニウム(PCC)を用いて行われるPCC酸化;塩化メチレン中、二クロム酸ピリジニウム(PDC)を用いて行われるPDC酸化;塩化メチレン中、親電子剤(例えば無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキザリル、 [0279] The oxidation reaction in the above reaction, when the oxidation reaction to produce aldehydes from primary alcohols is not particularly limited, for example, Collins oxidation is carried out using in methylene chloride, pyridine and chromic acid; methylene chloride among, PCC oxidation performed using pyridinium chlorochromate a (PCC); in methylene chloride, pyridinium dichromate PDC oxidation performed using (PDC); in methylene chloride, electrophilic agents (for example acetic anhydride, tri anhydride trifluoroacetic acid, thionyl chloride, sulfuryl chloride, oxalyl chloride,
ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルケテン− Dicyclohexylcarbodiimide, diphenyl ketene -
p−トリルイミン、N,N-ジエチルアミノアセチレン、三酸化硫黄・ピリジン錯体など)及びジメチルスルホキシド(DMSO)を用いて行われる、Swern酸化のような、DMSO p- Toriruimin, N, N-diethylamino acetylene is carried out using a three such sulfur trioxide-pyridine complex) and dimethyl sulfoxide (DMSO), such as Swern oxidation, DMSO
酸化;及び塩化メチレン若しくはベンゼン中、二酸化マンガンを用いて行われる二酸化マンガン酸化などをあげることができ、好適には、塩化メチレン中で行われる、 Oxidation; and methylene or benzene chloride, etc. may be mentioned. Manganese dioxide oxidation which is conducted using manganese dioxide, preferably carried out in methylene chloride,
PCC酸化又はSwern酸化である。 A PCC oxidation or Swern oxidation.

【0280】反応温度は、原料化合物、溶媒、酸化剤の種類等によって異なるが、通常、−50℃乃至50℃で行われ、好適には、−10℃乃至30℃である。 [0280] The reaction temperature, starting compound, solvent, varies depending on the type of oxidizing agent, usually carried out at -50 ° C. to 50 ° C., preferably a -10 ° C. to 30 ° C..

【0281】反応時間は、原料化合物、溶媒、酸化剤の種類、反応温度等によって異なるが、通常10分間乃至24時間であり、好適には、30分間乃至24時間である。 [0281] reaction time varies depending on the starting material, solvent, type of oxidizing agent, varies depending on the reaction temperature and the like, is usually 10 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.

【0282】第D3工程は、一般式(XXV)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物(XXIII)のアルデヒドに、一般式(XXIV)を反応させることにより行なわれる。 [0282] The D3 step is a step for preparing a compound having the general formula (XXV), in an inert solvent in the presence of a base, the aldehyde compound (XXIII), reacting the general formula (XXIV) It is carried out by.

【0283】上記反応に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば、特に限定はないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類;ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;を挙げることができ、好適には、エーテル類(最も好適にはテトラヒドロフラン)である。 [0283] The inert solvent used in the reaction, does not inhibit the reaction, so long as it dissolves a starting substance to a certain extent, is not particularly limited, for example, benzene, toluene, aromatics such as xylene amides such as formamide, N, N-dimethylformamide, N, N- dimethylacetamide, hexamethylphosphoric triamide; hydrocarbons diethyl ether, diisopropyl ether, t- butyl methyl ether, ethers such as tetrahydrofuran; It can be mentioned, preferably a ethers (most preferably tetrahydrofuran).

【0284】上記反応に使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属アルコキシド類(最も好適には、カリウムt−ブトキシド)である。 [0284] As the base used in the reaction, so long as it is used as a base in conventional reactions is not particularly limited, for example, those similar to those used in the method A Step A1 can be mentioned, preferably, alkali metal alkoxides (most preferably potassium t- butoxide) it is.

【0285】反応温度は、原料化合物、溶剤、塩基の種類等によって異なるが、通常、−78℃乃至200℃で行われるが、好適には、−50℃乃至150℃である。 [0285] The reaction temperature varies depending on the starting material, the solvent and the base of the kind usually carried out at -78 ° C. to 200 ° C., preferably a -50 ° C. to 0.99 ° C..

【0286】反応時間は、原料化合物、溶剤、塩基の種類、反応温度等によって異なるが、通常10分間乃至4 [0286] The reaction time varies depending on the starting material, solvent, type of base, but varies depending on the reaction temperature and the like, usually 10 minutes to 4
8時間であり、好適には、15分間乃至12時間である。 It is 8 hours, preferably 15 minutes to 12 hours.

【0287】第D4工程は、一般式(XXVI)を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、還元剤の存在下、化合物(XXV)を化合物(XXVI)に変換することにより行なわれ、本工程は前記A法第A3工程において行なわれる接触還と同様に行なわれる。 - 0287] The D4 step is a step of producing a compound having general formula (XXVI), in an inert solvent in the presence of a reducing agent, carried out by converting the compound (XXV) to the compound (XXVI) this step is carried out similarly to place the contact takes place in the a Act A3 step.

【0288】第D5工程は、化合物(Xd)を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物(X [0288] The D5 step is a step of producing the compound (Xd), in an inert solvent in the presence of a base, compounds (X
XVI)を加水分解することにより行なわれる。 The XVI) is carried out by hydrolysis.

【0289】上記反応に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害せず、出発原料をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類、又は、これら溶媒の混合溶媒、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒を挙げることができ、好適には、アルコール類及びエーテル類である。 [0289] The inert solvents employed in the reaction, does not inhibit the reaction, is not particularly limited so long as it dissolves the starting materials to some degree, such as methanol, alcohols, such as ethanol, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, or a mixed solvent of these solvents, or can be mentioned a mixed solvent of these solvents and water, preferably, alcohols and ethers.

【0290】上記反応に使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、前記A法第A1工程と同様なものを挙げることができ、好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム等のようなアルカリ金属水酸化物類をあげることができる。 [0290] As the base to be used in the above reaction, as long as it is used as a base in conventional reactions is not particularly limited, for example, can be similar to those listed above Method A Step A1 preferably, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, may be mentioned alkali metal hydroxides such as barium hydroxide.

【0291】反応温度は、原料化合物、不活性溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至20 [0291] The reaction temperature, starting compound, an inert solvent may vary depending on the base such as the type, usually, -20 ° C. to 20
0℃であり、好適には、0℃乃至20℃である。 Is 0 ℃, preferably a 0 ℃ to 20 ° C..

【0292】反応時間は、原料化合物、反応温度、不活性溶媒、塩基の種類、反応温度等によって異なるが、通常、30分間乃至48時間であり、好適には、1時間乃至24時間である。 [0292] The reaction time varies depending on the starting material, reaction temperature, inert solvent, type of base, but varies depending on the reaction temperature and is usually from 30 minutes to 48 hours, preferably from 1 hour to 24 hours.

【0293】第D6工程は、化合物(Xe)を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(Xd)を塩基と反応させることにより行なわれる。 [0293] The D6 step is a step of producing the compound (Xe), in an inert solvent, Compound (Xd) is carried out by reaction with a base.

【0294】上記反応に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害せず、出発原料をある程度溶解するものであれば、特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類であり、好適には、エーテル類、アミド類である。 [0294] The inert solvent used in the reaction, does not inhibit the reaction, so long as it dissolves the starting materials to some degree, is not particularly limited, for example, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; N, N- dimethylformamide, N, N- dimethylacetamide, N- methyl-2-pyrrolidone, N- methylpyrrolidinone, amides such as hexamethylphosphoric triamide; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, preferably, ethers, amides.

【0295】上記反応に使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム ビス(トリメチルシリル)アミドのような有機金属塩基類を挙げることができ、好適には、アルカリ金属アルコキシド類、アルカリ金属水素化物類である。 [0295] As the base used in the reaction, so long as it is used as a base in conventional reactions is not particularly limited, for example, lithium hydride, sodium hydride, an alkali such as potassium hydride metal hydrides; sodium fluoride, inorganic bases such as alkali metal fluorides, such as potassium fluoride; sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, potassium t- butoxide, lithium methoxide alkali metal alkoxides such as, or butyl lithium, lithium diisopropylamide, organometallic bases such as lithium bis (trimethylsilyl) amide can be mentioned, preferably, alkali metal alkoxides, alkali metal hydrides is there.

【0296】反応温度は、原料化合物、不活性溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、−80℃乃至10 [0296 reaction temperature, starting compound, an inert solvent may vary depending on the base such as the type, usually, -80 ° C. to 10
0℃であり、好適には、0℃乃至50℃である。 Is 0 ℃, preferably a 0 ℃ to 50 ° C..

【0297】反応時間は、原料化合物、反応温度、不活性溶媒、塩基の種類、反応温度等によって異なるが、通常、5分間乃至48時間である。 [0297] The reaction time, starting compound, reaction temperature, inert solvent, type of base, but varies depending on the reaction temperature or the like, but is usually 5 minutes to 48 hours.

【0298】第D7工程は、一般式(Xf)を有する化合物を製造する工程であり、化合物(Xd)の水酸基を保護することにより行なわれ、本工程は前記A法第A2 [0298] The D7 step is a step for preparing a compound having the general formula (Xf), carried out by protecting the hydroxyl group of the compound (Xd), this step the A Act A2
工程の水酸基を保護する方法と同様に行なわれる。 It is performed similarly to the method of protecting the hydroxyl group of steps.

【0299】本D法の各工程の目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0299] The object compound of each step of the D method, if necessary, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium Mushirikageru based adsorption column chromatography using a carrier such as Florisil of; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as distribution column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Co.) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0300】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0300] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means.

【0301】上記の目的化合物(Xd)、(Xe)及び(Xf)の製造に関する記載では、一方の光学異性体の構造式のみを表記しているが、第D1工程において、リパーゼの種類を変えることにより、逆の絶対配置を有する光学異性体も得られるので、本方法は、記載した絶対配置に限定されるものではない。 [0301] The object compound (Xd), in the description of the preparation of (Xe) and (Xf), although represented only structural formula of one of the optical isomers, in the D1 step, changing the type of lipase They, since optical isomers is also obtained with the opposite absolute configuration, the method are not limited to the arrangement absolutely described.

【0302】また、本方法のD1〜D5工程のいずれかの工程の後に、臭素化工程(前記B法と同意議を示す。)を挿入することにより、B法とは別途に化合物(XI)を製造することができる。 [0302] Also, after any step of D1~D5 step of the method, by inserting the bromination step (. Indicating consent discussions with the B method), separately compounds with Method B (XI) it can be produced.

【0303】E法は、化合物(XXIV)を製造する方法である。 [0303] Process E is a process for preparing a compound (XXIV).

【0304】 [0304]

【化26】 [Of 26]

【0305】上記式中、R 6a 、R 7a 、m、Q及びPh [0305] In the above formulas, R 6a, R 7a, m , Q and Ph
は、前述したものと同意義を示す。 It has the same meanings as those described above.

【0306】第E1工程は、化合物(XXIV)を製造する工程であり、不活性溶媒中、一般式(XXVII) [0306] The E1 step is a step of producing the compound (XXIV), in an inert solvent, the general formula (XXVII)
を有する化合物をトリフェニルホスフィンと反応させることにより行なわれる。 Compounds having performed by reacting with triphenylphosphine.

【0307】上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、 [0307] The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the present reaction inert,
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、 For example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether: toluene, benzene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride,
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエテレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類であり好適には芳香族炭化水素類(最も好適にはベンゼン)である。 Chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, an ether such as diethylene terrain glycol dimethyl ether preferably aromatic hydrocarbons (most preferably benzene).

【0308】反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、室温乃至200℃で行われ、好適には0℃乃至150℃(最も好適には110℃)である。 [0308] The reaction temperature, starting compound, varies depending on the solvent type or the like, usually carried out at room temperature to 200 ° C., preferably in the 0 ℃ to 0.99 ° C. (most preferably 110 ° C.).

【0309】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、 [0309] The reaction time, mainly on the reaction temperature, the raw material compound,
使用される溶媒の種類等によって異なるが、通常、5分間乃至96時間であり、好適には15分乃至48時間(最も好適には24時間)である。 It varies depending on the type of solvent used, usually from 5 minutes to 96 hours, preferably 15 minutes to 48 hours (most preferably 24 hours).

【0310】本E法の各工程の目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ [0310] The object compound of each step of the E method, if necessary, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or, usually, the conventional methods for separation purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium Mushirikageru based adsorption column chromatography using a carrier such as Florisil of; Sephadex LH-20 (Pharmacia Inc.), Amberlite XAD-11 (Rohm &
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。 How to use the Haas Co.), synthetic adsorbent such as partition column chromatography using Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei Corporation) as a carrier, a method using an ion exchange chromatography, or silica gel or alkylated normal phase · reversed phase column chromatography on silica gel (preferably high performance liquid chromatography.) the appropriate combination, separated by eluting with a suitable eluent, can be purified.

【0311】尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。 [0311] In the case where it is necessary to separate the isomers after the completion of the reaction the above steps, or, at an appropriate time after the end of the desired process can be performed by the separating and purifying means.

【0312】原料化合物(III)、(VI)、(VI [0312] The starting compound (III), (VI), (VI
II),(IX)、(XV)、(XVIII)、(X II), (IX), (XV), (XVIII), (X
X)及び(XXI)は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される[例えば、化合物(III)は、J. Med. Chem., 35, 2253 (1992);J. X) and (XXI) are known or, [for example, are readily prepared according to known methods or methods analogous thereto, compound (III), J Med Chem, 35, 2253 (1992);... J.
Org. Chem., 59, 3368 (1994)記載の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造され、化合物(VI) Org. Chem., 59, 3368 (1994) are readily prepared according to the method or methods analogous thereto described, the compound (VI)
は、J. Org. Chem., 60, 7508 (1995)記載の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造され、化合物(X Is, J. Org. Chem., 60, 7508 (1995) are readily prepared according to the method or methods analogous thereto described compound (X
V)は、J. Am. Chem. Soc., 68, 1934 (1946)記載の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造され、化合物(XX)は、J. Med. Chem., 39, 4451(1996)記載の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される。 V) is, J. Am. Chem. Soc., 68, 1934 (1946) are readily prepared according to the method or methods analogous thereto described, the compound (XX) is, J. Med. Chem., 39, 4451 ( 1996) are readily prepared according to the method or methods analogous thereto described. ]。 ].

【0313】本発明の前記一般式(I)を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体は、優れた免疫抑制作用を有する。 [0313] The compounds having the formula (I), a pharmacologically acceptable salt, esters or other derivatives of the present invention have excellent immunosuppressive effect.

【0314】本発明の前記一般式(I)を有する化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステル又はその他の誘導体を、上記治療剤又は予防剤として使用する場合には、それ自体或は適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠剤、カプセル剤、 [0314] The compounds having the general formula (I) of the present invention, its pharmacologically acceptable salt or ester thereof or other derivative, if used as the therapeutic agent or prophylactic agent, per se or appropriate pharmacologically acceptable, excipients, diluents, etc., for example, tablets, capsules,
顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することができる。 Granules, can be administered parenterally orally or by injection or suppository by powders or syrups.

【0315】これらの製剤は、賦形剤(例えば、乳糖、 [0315] These formulations include excipients (e.g., lactose,
白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖誘導体;トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、 White sugar, glucose, mannitol, sugar derivatives such as sorbitol; starch, potato starch,
α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体;結晶セルロースのようなセルロース誘導体;アラビアゴム;デキストラン;プルランのような有機系賦形剤:及び、軽質無水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体;燐酸水素カルシウムのような燐酸塩;炭酸カルシウムのような炭酸塩;硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。 α starch, starch derivatives such as dextrin; gum arabic; dextran; cellulose derivatives such as crystalline cellulose organic excipients such as pullulan: and, light anhydrous silicic acid, synthetic aluminum silicate, calcium silicate, metasilicate aluminate mention may be made of inorganic excipients such as sulfuric acid salts, such as calcium sulfate, carbonates such as calcium carbonate; phosphate salts such as phosphate calcium hydrogen; silicate derivatives such as magnesium. )、滑沢剤(例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金属塩;タルク;コロイドシリカ;ビーガム、ゲイ蝋のようなワックス類;硼酸;アジピン酸;硫酸ナトリウムのような硫酸塩;グリコール;フマル酸;安息香酸ナトリウム;DLロイシン;脂肪酸ナトリウム塩;ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩;無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類;及び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。)、結合剤(例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができる。)、崩壊剤(例えば、低置換度ヒドロキシプロピルセ ), Lubricants (e.g., stearic acid, calcium stearate, such metal stearate such as magnesium stearate; such as sodium sulfate; boric acid; adipic acid waxes such as bee gum, Gay waxes; talc; colloidal silica DL leucine; fatty acid sodium salts; sulfate; glycol; fumaric acid; sodium benzoate silicic acid anhydride, silicic acids such as silicic acid hydrate; sodium lauryl sulfate, lauryl sulfates such as lauryl magnesium sulfate and the starch may be mentioned derivatives.), binding agents (e.g., hydroxypropyl cellulose, hydroxypropylmethyl cellulose, polyvinylpyrrolidone, macrogol, and can include the similar excipient compounds.), disintegrating agents (e.g. , low-substituted hydroxypropyl Se ロース、カルボキシルメチルセルロース、カルボキシルメチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシルメチルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導体;カルボキシルメチルスターチ、カルボキシルメチルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げることができる。)、安定剤(メチルパラベン、プロピルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類;クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールのようなアルコール類;塩化ベンザルコニウム;フェノール、クレゾールのようなフェノール類;チメロサール;デヒドロ酢酸;及び、ソルビン酸を挙げることができる。)、矯味矯臭剤(例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料 Mention may be made of carboxymethyl starch, sodium carboxymethyl starch, chemically modified starches and celluloses such as cross-linked polyvinyl pyrrolidone); loin, carboxymethyl cellulose, carboxymethyl cellulose calcium, cellulose derivatives such as internally crosslinked sodium carboxymethyl cellulose. , parahydroxybenzoate esters such as stabilizers (methyl paraben, propyl paraben; chlorobutanol, benzyl alcohol, alcohols such as phenylethyl alcohol; benzalkonium chloride; phenols, phenols such as cresol; thimerosal; dehydroacetic acid ;. and capable of sorbic acid), flavoring agents (e.g., normally used sweeteners, acidulants, flavoring を挙げることができる。)、希釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。 Can be mentioned.), Are prepared in a known manner by using additives such as diluents.

【0316】その使用量は症状、年齢等により異なるが、経口投与の場合には、1回当り1日下限0.01m [0316] The amount used symptoms varies depending on the age and the like, in the case of oral administration, the lower limit per day per 0.01m
g(好適には、5mg)、上限200mg(好適には、 g (preferably, 5mg), upper limit of 200mg (preferably,
40mg)を、静脈内投与の場合には、1回当り1日下限0.005mg(好適には、1mg)、上限100m The 40 mg), in the case of intravenous administration, the lower limit 0.005 mg (preferably 1 day per, 1 mg), upper 100m
g(好適には、10mg)を成人に対して、1日当り1 g (preferably, 10mg) with respect to the adult, per day
乃至6回症状に応じて投与することが望ましい。 Or it is desirable to administer in accordance with the six symptoms.

【0317】 [0317]

【実施例】以下に、実施例及び試験例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定するものではない。 EXAMPLES Hereinafter, Examples and Test Examples, the present invention will be described in more detail, the scope of the present invention is not limited thereto.

【0318】実施例1 (2R)−アミノ−4−[3−(4−シクロヘキシルオ [0318] Example 1 (2R) - amino-4- [3- (4-cyclohexyl O
キシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チオフェン−6− Kishibuto-1-ynyl) benzo [b] thiophen-6
イル]−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-566) (1a) 臭化 (ベンゾ[b]チオフェン−6−イル) Yl] -2-methylbutan-1-ol (Compound No. 1-566) (1a) bromide (benzo [b] thiophen-6-yl)
メチルトリフェニルホスホニウム塩 6−ブロモメチルベンゾ[b]チオフェン 42.9g Methyltriphenylphosphonium salt of 6-bromomethyl-benzo [b] thiophene 42.9g
(189ミリモル)とトリフェニルホスフィン 49. (189 mmol) and triphenylphosphine 49.
5g(189ミリモル)をベンゼン 300mlに溶解し、100度にて16時間攪拌した。 5g of (189 mmoles) was dissolved in benzene 300 ml, stirred for 16 hours at 100 degrees. 反応液を濾過後、 After the reaction mixture was filtered,
濾物を減圧乾燥することにより目的とする化合物 8 Compound aims dried under reduced pressure filtrate 8
7.0g(収率94.2%)を得た。 It was obtained 7.0 g (94.2% yield).

【0319】(1b) (2R)−t−ブトキシカルボニ [0319] (1b) (2R) -t- butoxycarbonyl
ルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル− Arylamino -3-n-hexanoyloxy-2-methyl -
1−プロパノール 2−t−ブトキシカルボニルアミノ−2−メチル−1, 1-propanol 2-t-butoxycarbonylamino-2-methyl-1,
3−プロパンジオール20.0 g (97.4 mmol)をジイソプロピルエーテル200 ml中に懸濁し、n−ヘキサン酸ビニルエステル16.3 ml (0.10 mol)及びリパーゼ[Immobilized 3-propanediol 20.0 g of (97.4 mmol) was suspended in diisopropyl ether 200 ml, n-vinyl hexanoate ester 16.3 ml (0.10 mol) and lipase [Immobilized
lipase from Pseudomonas sp. (TOYOBO; 0.67U/mg)] . Lipase from Pseudomonas sp (TOYOBO; 0.67U / mg)]
0.8 gを加え、室温で2時間激しく攪拌した。 0.8 g, and the mixture was vigorously stirred at room temperature for 2 hours. 反応液を濾過後、濾液を減圧下留去した。 The reaction mixture was filtered and the filtrate was evaporated under reduced pressure. 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=10:1〜2:1)により精製して、標記化合物25.0 g (85 %)を無色油状物として得た。 The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; hexane: ethyl acetate = 10: 1 to 2: 1) to afford the title compound 25.0 g (85%) as a colorless oil.

【0320】得られた(2R)-t-ブトキシカルボニルアミノ-3-n-ヘキサノイルオキシ-2-メチル-1-プロパノールは、分析用光学活性HPLCカラム(ChiralCel OF(ダイセル)、(0.46 cm x 25 cm)、溶出溶媒;n-ヘキサン:2- [0320] The obtained (2R)-t-butoxycarbonylamino -3-n-hexanoyloxy-2-methyl-1-propanol, analytical optically active HPLC column (ChiralCel OF (Daicel), (0.46 cm x 25 cm), eluting solvent; n-hexane: 2
プロパノール=70:30、流速;0.5 ml/min)で光学純度を決定した。 Propanol = 70: 30, flow rate; and determining optical purity 0.5 ml / min).

【0321】先に溶出されるもの(8.2分)が2S体、後から溶出されるもの(10.5分)が2R体であり、この反応における光学純度は85 %eeであることを確認した。 [0321] which eluted destination (8.2 minutes) 2S body, those (10.5 min) eluted later was the 2R body, it was confirmed that the optical purity is ee 85% in this reaction.

【0322】[α] D 25 -8.5 (c 1.86, CHCl 3 ) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δppm : 4.86 - 0322] [α] D 25 -8.5 (c 1.86, CHCl 3) NMR spectrum (400MHz, CDCl 3) δppm: 4.86
(s, 1H), 4.25 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.19 (d, 1H, J (S, 1H), 4.25 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.19 (d, 1H, J
= 11.2 Hz), 3.86 (brs, 1H), 3.70-3.55 (m,2H), 2.3 = 11.2 Hz), 3.86 (brs, 1H), 3.70-3.55 (m, 2H), 2.3
6 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 1.68-1.58 (m, 2H), 1.44 (s, 6 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 1.68-1.58 (m, 2H), 1.44 (s,
9H), 1.40-1.30 (m, 4H), 1.25 (s, 3H), 0.90 (t, 3 9H), 1.40-1.30 (m, 4H), 1.25 (s, 3H), 0.90 (t, 3
H, J = 7.0 Hz) 赤外吸収スペクトルνmax cm -1 (Liquid Film) : 3415, H, J = 7.0 Hz) Infrared absorption spectrum νmax cm -1 (Liquid Film): 3415,
3380, 2961, 2935, 2874, 1721, 1505, 1458, 1392, 1 3380, 2961, 2935, 2874, 1721, 1505, 1458, 1392, 1
368, 1293, 1248, 1168, 1076 マススペクトル(FAB)m/z:304((M+H) + )。 368, 1293, 1248, 1168, 1076 Mass spectrum (FAB) m / z: 304 ((M + H) +).

【0323】(1c) (2R)−t−ブトキシカルボニ [0323] (1c) (2R) -t- butoxycarbonyl
ルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル− Arylamino -3-n-hexanoyloxy-2-methyl -
1−プロパナール実施例1bで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル− The resulting 1-propanal Example 1b (2R) -t- butoxycarbonylamino -3-n-hexanoyloxy-2-methyl -
1−プロパノール30.7 g (0.10 mol)を塩化メチレン600 Methylene chloride 1-propanol 30.7 g (0.10 mol) 600
mlに溶解し、モレキュラーシーブ4Å 220 g及び塩化クロム酸ピリジニウム43.6 g (0.20 mol)を氷冷下加え、その後、室温で2時間攪拌した。 Was dissolved ml, and molecular sieves 4 Å 220 g and pyridinium chloride 43.6 g of (0.20 mol) was added under ice-cooling, followed by stirring for 2 hours at room temperature. 反応液をエーテルで希釈後、濾過した。 The reaction solution was diluted with ether and filtered. 濾液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n-ヘキサン:酢酸エチル=10:1〜5:1)により精製して、 The filtrate was evaporated under reduced pressure and the residue purified by column chromatography on silica gel (eluting solvent; n-hexane: Ethyl acetate = 10: 1 to 5: 1) to give
標記化合物28.8 g (95 %)を無色油状物として得た。 The title compound 28.8 g (95%) as a colorless oil.

【0324】核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 [0324] Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3)
δppm : 9.45 (s, 1H), 5.26 (brs,1H), 4.44 (d, 1H, δppm: 9.45 (s, 1H), 5.26 (brs, 1H), 4.44 (d, 1H,
J = 11.2 Hz), 4.32 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.32 (t, J = 11.2 Hz), 4.32 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.32 (t,
2H,J = 7.6 Hz), 1.70-1.55 (m, 2H), 1.45 (s, 9H), 2H, J = 7.6 Hz), 1.70-1.55 (m, 2H), 1.45 (s, 9H),
1.38 (s, 3H), 1.40-1.25 (m, 4H), 0.90 (t, 3H, J = 1.38 (s, 3H), 1.40-1.25 (m, 4H), 0.90 (t, 3H, J =
7.0 Hz) 赤外吸収スペクトルνmax cm -1 (Liquid Film) : 3367, 7.0 Hz) Infrared absorption spectrum νmax cm -1 (Liquid Film): 3367,
2961, 2935, 2874, 1742, 1707, 1509, 1458, 1392, 1 2961, 2935, 2874, 1742, 1707, 1509, 1458, 1392, 1
369, 1290, 1274, 1254, 1166, 1100, 1078 マススペクトル(FAB)m/z:302((M+H) + ) (1d) (2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−1 369, 1290, 1274, 1254, 1166, 1100, 1078 Mass spectrum (FAB) m / z: 302 ((M + H) +) (1d) (2R) -t- butoxycarbonylamino -1
−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−4−(ベンゾ -N- hexanoyloxy-2-methyl-4- (benzo
[b]チオフェン−6−イル)−3−ブテン実施例1cで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル− [B] thiophen-6-yl) -3 obtained in butene Example 1c (2R)-t-butoxycarbonylamino -3-n-hexanoyloxy-2-methyl -
1−プロパナール28.2g(93.6ミリモル)と実施例1aで合成した臭化 (ベンゾ[b]チオフェン− 1-propanal 28.2 g (93.6 mmol) and bromide synthesized in Example 1a (benzo [b] thiophene -
6−イル)メチルトリフェニルホスホニウム塩45.8 6-yl) methyl triphenylphosphonium salt 45.8
g(93.6ミリモル)をテトラヒドロフラン 700 g (93.6 mmol) in tetrahydrofuran 700
mlに懸濁させ、そこにt−ブトキシカリウム 11. ml, and the suspension there t- butoxy potassium 11.
6g(0.103モル)を加え、室温下30分攪拌した。 6 g (0.103 mol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. その後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、 Thereafter, water was added to the reaction mixture, followed by extraction with ethyl acetate,
酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。 The ethyl acetate layer was washed with saturated brine. 酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。 The ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure.
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=10:1)により精製して、標記化合物28.0g(収率69.3%)を得た。 The residue was purified by silica-gel chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate 10: 1) afforded the title compound 28.0g of (69.3% yield). 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.82 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.82
(d, 1H, J = 9.7 Hz),7.75 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.4 (D, 1H, J = 9.7 Hz), 7.75 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.4
4-7.39 (m, 1H), 7.32-7.26 (m, 2H), 6.74, 5.73 (d, 4-7.39 (m, 1H), 7.32-7.26 (m, 2H), 6.74, 5.73 (d,
計1H, J = 12.6Hz), 6.61, 6.34 (d, 計1H, J = 16.2 H Total 1H, J = 12.6Hz), 6.61, 6.34 (d, in total 1H, J = 16.2 H
z), 4.87, 4.69(br s, 計1H), 4.34-4.16, (m, 2H), 2. z), 4.87, 4.69 (br s, total 1H), 4.34-4.16, (m, 2H), 2.
37-2.32 (m, 2H), 1.67-1.15 (m, 20H),0.91-0.84 (m, 37-2.32 (m, 2H), 1.67-1.15 (m, 20H), 0.91-0.84 (m,
3H). 赤外吸収スペクトルν max cm -1 (Liquid Film) : 3440, . 3H) infrared absorption spectrum ν max cm -1 (Liquid Film) : 3440,
3373, 2961, 2932, 2872, 1724, 1597, 1498, 1457, 1 3373, 2961, 2932, 2872, 1724, 1597, 1498, 1457, 1
390, 1367, 1247, 1167, 1099, 1073. マススペクトル(FAB)m/z:431(M + ) (1e) (2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−1 390, 1367, 1247, 1167, 1099, 1073. Mass spectrum (FAB) m / z: 431 (M +) (1e) (2R) -t- butoxycarbonylamino -1
−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−4−(ベンゾ -N- hexanoyloxy-2-methyl-4- (benzo
[b]チオフェン−6−イル)ブタン実施例1dで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−1−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル− [B] thiophen-6-yl) obtained in butane Example 1d (2R)-t-butoxycarbonylamino -1-n-hexanoyloxy-2-methyl -
4−(ベンゾ[b]チオフェン−6−イル)−3−ブテン 28.0g(64.9ミリモル)をメタノール 7 4- (benzo [b] thiophen-6-yl) -3-methanol 7 butene 28.0 g (64.9 mmol)
00mlに溶解し、10%パラジウム−炭素 14.0 It was dissolved in 100 ml, 10% palladium - carbon 14.0
g加え、水素雰囲気下、6日間室温で攪拌した。 g was added, under hydrogen atmosphere and stirred at room temperature for 6 days. パラジウム−炭素をセライトろ過後、ろ液を減圧下留去した。 Palladium - After carbon Celite filtration, and the filtrate was evaporated under reduced pressure.
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=15:1〜10:1)により精製して、標記化合物24.30g(収率86.6%)を得た。 The residue purified by chromatography on silica gel (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 15: 1 to 10: 1) to afford the title Compound 24.30g (the 86.6% yield). 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.73 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.73
(d, 1H, J = 8.2 Hz),7.69 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J (D, 1H, J = 8.2 Hz), 7.69 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J
= 5.2 Hz), 7.28 (d, 1H, J = 5.6 Hz), 7.19 (d, 1H, = 5.2 Hz), 7.28 (d, 1H, J = 5.6 Hz), 7.19 (d, 1H,
J = 8.1 Hz), 4.56 (br s, 1H), 4.28 (d, 1H, J = 11. J = 8.1 Hz), 4.56 (br s, 1H), 4.28 (d, 1H, J = 11.
0 Hz), 4.14 (d,1H, J = 11.0 Hz), 2.73 (t, 2H, J = 0 Hz), 4.14 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 2.73 (t, 2H, J =
8.7 Hz), 2.34 (t, 2H, J = 7.5 Hz),1.68-1.61 (m, 2 8.7 Hz), 2.34 (t, 2H, J = 7.5 Hz), 1.68-1.61 (m, 2
H), 1.45 (s, 9H), 1.41-1.38 (m, 8H), 0.89 (t, 3H, H), 1.45 (s, 9H), 1.41-1.38 (m, 8H), 0.89 (t, 3H,
J = 6.7Hz). 赤外吸収スペクトルν max cm -1 (Liquid Film) : 3371, . J = 6.7Hz) infrared absorption spectrum ν max cm -1 (Liquid Film) : 3371,
2960, 2933, 2870, 1720, 1604, 1501, 1466, 1392, 1 2960, 2933, 2870, 1720, 1604, 1501, 1466, 1392, 1
367, 1248, 1167, 1074. マススペクトル(FAB)m/z:456((M+Na) + ) (1f) (4R)−[2−(ベンゾ[b]チオフェン− 367, 1248, 1167, 1074. Mass spectrum (FAB) m / z: 456 ((M + Na) +) (1f) (4R) - [2- ( benzo [b] thiophene -
6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2− 6-yl) ethyl] -4-methyl-oxazolidine-2
オン実施例1eで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−1−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル− Obtained in one Example 1e (2R) -t- butoxycarbonylamino -1-n-hexanoyloxy-2-methyl -
4−(ベンゾ[b]チオフェン−6−イル)ブタン 2 4- (benzo [b] thiophene-6-yl) butane 2
4.3g(56.0ミリモル)をテトラヒドロフラン 4.3 g (56.0 mmol) in tetrahydrofuran
220ml、メタノール 110mlに溶解し、そこに1規定水酸化ナトリウム水溶液 110mlを氷冷下加え、氷冷下で15分、室温で2時間攪拌した。 220 ml, was dissolved in methanol 110ml, was added under ice-cooling 1 N sodium hydroxide aqueous solution 110ml thereto, 15 minutes under ice-cooling, followed by stirring at room temperature for 2 hours. 反応液を減圧下濃縮後、水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄した。 The reaction solution is concentrated under reduced pressure, water was added, extracted with methylene chloride, The methylene chloride layer was washed with saturated brine. 塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、目的とするアルコール体 18.8g(収率100%)を得た。 The methylene chloride layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure to give the alcohol compound 18.8g of interest (100% yield). このアルコール体18.8g(56.0ミリモル)をジメチルフォルムアミド 380mlに溶解させ、t−ブトキシカリウム 9.43g(84.1ミリモル)を氷冷下加え、氷冷下で5分、室温で1時間攪拌した。 The alcohol derivative 18.8g of (56.0 mmol) was dissolved in dimethylformamide 380 ml, a t- butoxy potassium 9.43 g (84.1 mmol) under ice-cooling, 5 minutes under ice-cooling, at room temperature for 1 time was stirred. 反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。 Water was added to the reaction solution, and extracted with ethyl acetate, the ethyl acetate layer was washed with saturated brine. 酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。 The ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. 残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/ The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: hexane /
酢酸エチル=3:2〜2:1)により精製して、標記化合物13.8g(収率 94.2%)を得た。 Ethyl acetate = 3: 2 to 2: 1) to afford the title compound 13.8g of (94.2% yield). 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.73 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.73
(d, 1H, J = 8.2 Hz),7.68 (s, 1H), 7.38 (d, 1H, J (D, 1H, J = 8.2 Hz), 7.68 (s, 1H), 7.38 (d, 1H, J
= 5.7 Hz), 7.29 (d, 1H, J =13.0 Hz), 7.18 (d, 1H, = 5.7 Hz), 7.29 (d, 1H, J = 13.0 Hz), 7.18 (d, 1H,
J = 13.6 Hz), 5.91 (br s, 1H), 4.21 (d, 1H, J = 8. J = 13.6 Hz), 5.91 (br s, 1H), 4.21 (d, 1H, J = 8.
7 Hz), 4.09 (d,1H, J = 8.7 Hz), 2.84-2.76 (m, 2H), 7 Hz), 4.09 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 2.84-2.76 (m, 2H),
1.97 (t, J = 8.5 Hz, 3H). 赤外吸収スペクトルν max cm -1 (KBr) : 3292, 2970, 2 1.97 (t, J = 8.5 Hz , 3H) Infrared absorption spectrum ν max cm -1 (KBr): . 3292, 2970, 2
930, 1749, 1722, 1601,1479, 1461, 1397, 1277, 104 930, 1749, 1722, 1601,1479, 1461, 1397, 1277, 104
5. マススペクトル(EI)m/z:261(M + ) (1g) (4R)−[2−(3−ブロモベンゾ[b]チ 5. Mass spectrum (EI) m / z: 261 (M +) (1g) (4R) - [2- (3- bromobenzo [b] Ji
オフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリ Thiophene-6-yl) ethyl] -4- Mechiruokisazori
ジン−2−オン実施例1fで得られた(4R)−[2−(ベンゾ[b] Obtained in-2-one Example 1f (4R) - [2- (Benzo [b]
チオフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オン12.8g(49.0ミリモル)をジメチルホルムアミド 250mlに溶解させ、N−ブロモスクシンイミド 10.5g(58.8ミリモル)を氷冷下加え、氷冷下で10分、室温で4時間半攪拌した。 Thiophen-6-yl) ethyl] -4-methyl-oxazolidine-2-one 12.8g of (49.0 mmol) was dissolved in dimethylformamide 250 ml, N-bromosuccinimide 10.5 g (58.8 mmol) of ice-cold under addition, 10 minutes under ice-cooling and stirred for 4 hours at room temperature. 反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。 The reaction mixture was poured into water, and extracted with ethyl acetate, the ethyl acetate layer was washed with saturated brine. 酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。 The ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. 残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=3:2〜1:1)により精製して、標記化合物12.2g(収率 62.2%)を得た。 The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3: 2 to 1: 1) afforded the title compound 12.2g of (62.2% yield). 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.73 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.73
(d, 1H, J = 8.3 Hz),7.64 (s, 1H), 7.37 (s, 1H), (D, 1H, J = 8.3 Hz), 7.64 (s, 1H), 7.37 (s, 1H),
7.28 (d, 1H, J = 1.3 Hz), 6.12 (br s, 1H), 4.21, 7.28 (d, 1H, J = 1.3 Hz), 6.12 (br s, 1H), 4.21,
(d, J = 8.6 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 2.88-2. (D, J = 8.6 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 2.88-2.
75, (m, 2H), 1.96(t, 2H, J = 8.4 Hz), 1.66 (s, 3 75, (m, 2H), 1.96 (t, 2H, J = 8.4 Hz), 1.66 (s, 3
H). 赤外吸収スペクトルν max cm -1 (KBr) : 3269, 3109, 2 . H) Infrared absorption spectrum ν max cm -1 (KBr): 3269, 3109, 2
972, 2916, 1749, 1602,1555, 1481, 1462, 1401, 131 972, 2916, 1749, 1602,1555, 1481, 1462, 1401, 131
9, 1272, 1220, 1165, 1043, 937, 817, 758. 9, 1272, 1220, 1165, 1043, 937, 817, 758. マススペクトル(FAB)m/z:340((M+H) + ) (1h) (4R)−[2−(3−(4−シクロヘキシル Mass Spectrum (FAB) m / z: 340 ((M + H) +) (1h) (4R) - [2- (3- (4- cyclohexyl
オキシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チオフェン−6 Okishibuto-1-ynyl) benzo [b] thiophene -6
−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オ - yl) ethyl] -4-methyl-oxazolidine-2-O
実施例1gで得られた(4R)−[2−(3−ブロモベンゾ[b]チオフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オン1.00g(2.95ミリモル)をジメチルホルムアミド8.0mlに溶解させ、 Emissions obtained in Example 1 g (4R) - [2- (3-bromobenzo [b] thiophen-6-yl) ethyl] -4-methyl-oxazolidine-2-one 1.00 g (2.95 mmol) dimethyl It was dissolved in formamide 8.0 ml,
4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g 4-cyclohexyl-1-butyne 1.12g
(7.37ミリモル)、トリエチルアミン4.11ml (7.37 mmol), triethylamine 4.11ml
(29.5ミリモル)、よう化銅(I)112mg (29.5 mmol), copper iodide (I) 112 mg
(0.059ミリモル)ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム414mg(0.59ミリモル) (0.059 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium 414 mg (0.59 mmol)
を加え、窒素雰囲気下80℃で16時間攪拌した。 And the mixture was stirred for 16 hours at 80 ° C. under a nitrogen atmosphere. 反応液を減圧下、留去した後残渣を逆相HPLC[TSKgel ODS Under reduced pressure the reaction solution, reverse phase the residue was distilled HPLC [TSKgel ODS
−80Ts(2.0mmIDx25cm)、溶出溶媒:アセトニトリル/水=7:3]により精製して、標記化合物0.55g(収率 45.3%)を得た。 -80Ts (2.0mmIDx25cm), elution solvent: acetonitrile / water = 7: 3] afforded the title compound 0.55g of (45.3% yield).

【0325】(1i) (2R)−アミノ−4−[3− [0325] (1i) (2R) - amino-4- [3-
(4−シクロヘキシルオキシブト−1−イニル)ベンゾ (4-cyclohexyloxy-but-1-ynyl) benzo
[b]チオフェン−6−イル]−2−メチルブタン−1 [B] thiophen-6-yl] -2-methylbutane -1
−オール実施例1hで得られた(4R)−[2−(3−(4−シクロヘキシルオキシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オンをテトラヒドロフラン/メタノール=2 - obtained in all Examples 1h (4R) - [2- ( 3- (4- cyclohexyloxy but-1-ynyl) benzo [b] thiophen-6-yl) ethyl] -4-methyl-oxazolidine-2 on tetrahydrofuran / methanol = 2
/1の混合溶媒12mlに溶解させ、10規定水酸化カリウム水溶液4mlを加え100度で16時間攪拌した。 / 1 mixture are dissolved in a solvent 12ml of and 16 hours at 100 ° was added 10N aqueous solution of potassium hydroxide 4 ml. その後、反応液を1規定水酸化ナトリウム水溶液に加えそ、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。 Thereafter, Resona reaction mixture was added to 1 N sodium hydroxide solution, and extracted with methylene chloride, The methylene chloride layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. 残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン/メタノール/アンモニア水溶液=100:10: The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: methylene chloride / methanol / aqueous ammonia = 100: 10:
1)により精製して、標記化合物548mg(収率10 1) to give titled compound 548 mg (Yield 10
0%)を得た。 0%) was obtained. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.83 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.83
(d, 1H, J = 9.0 Hz),7.75 (s, 1H), 7.57 (s, 1H), (D, 1H, J = 9.0 Hz), 7.75 (s, 1H), 7.57 (s, 1H),
7.33 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 3.72 (t, 2H, J = 6.8 H 7.33 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 3.72 (t, 2H, J = 6.8 H
z), 3.61, (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 1 z), 3.61, (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 1
1.6 Hz), 3.45-3.38(m, 1H), 3.31 (s, 1H), 2.88-2.77 1.6 Hz), 3.45-3.38 (m, 1H), 3.31 (s, 1H), 2.88-2.77
(m, 2H), 2.73 (t, 1H, J = 6.7 Hz), 2.07-1.90 (m, (M, 2H), 2.73 (t, 1H, J = 6.7 Hz), 2.07-1.90 (m,
4H), 1.77-1.74 (m, 2H), 1.57-1.52 (m, 1H), 1.40-1. 4H), 1.77-1.74 (m, 2H), 1.57-1.52 (m, 1H), 1.40-1.
21 (m, 10H) マススペクトル(FAB)m/z:386(M+H + ) 実施例2 (2R)−アミノ−4−[3−(3−シクロヘキシルメ 21 (m, 10H) Mass Spectrum (FAB) m / z: 386 (M + H +) Example 2 (2R) - amino-4- [3- (3-cyclohexyl main
チルオキシプロピン−1−イニル)ベンゾ[b]チオフ Chill oxy propyne-1-ynyl) benzo [b] Chiofu
ェン−6−イル]−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-630) 4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g E down-6-yl] -2-methylbutan-1-ol (Compound No. 1-630) 4-cyclohexyloxy-1-butyne 1.12g
(7.37ミリモル)の代わりに3−シクロヘキシルメチルオキシ−1−プロピン0.88gを用いて、実施例1と同様にして、標記化合物を311mgを得た。 Using 3-cyclohexylmethyl-1- propyne 0.88g instead of (7.37 mmol) in the same manner as in Example 1, the title compound was obtained 311 mg. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.8 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.8
3 (d. 1H, J = 8.7 Hz),7.78 (s, 1H), 7.72 (s, 1H), 3 (d. 1H, J = 8.7 Hz), 7.78 (s, 1H), 7.72 (s, 1H),
7.36 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 4.43 (s, 2H), 3.67, (d, 7.36 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 4.43 (s, 2H), 3.67, (d,
1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.31 1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.31
(s, 1H), 2.86-2.78 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1. (S, 1H), 2.86-2.78 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.
83-1.60 (m,7H), 1.37 (s,1H), 1.40-1.18(m, 5H), 1.0 83-1.60 (m, 7H), 1.37 (s, 1H), 1.40-1.18 (m, 5H), 1.0
6-0.97 (m, 2H) マススペクトル(FAB)m/z:386(MH + )。 6-0.97 (m, 2H) Mass spectrum (FAB) m / z: 386 (MH +).

【0326】実施例3 (2R)−アミノ−4−[3−(5−シクロヘキシル− [0326] Example 3 (2R) - amino-4- [3- (5-cyclohexyl--
1−ペンチニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−イル] 1-pentynyl) benzo [b] thiophen-6-yl]
−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-42 2-methylbutan-1-ol (Compound No. 1-42
2) 4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g 2) 4-cyclohexyloxy-1-butyne 1.12g
(7.37ミリモル)の代わりに5−シクロヘキシル− Instead 5- cyclohexyl (7.37 mmol) -
1−ペンチン1.30gを用いて、実施例1と同様にして、標記化合物を381mgを得た。 Using 1-pentyne 1.30 g, in the same manner as in Example 1, the title compound was obtained 381 mg. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.79 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.79
(d. 1H, J = 9.1 Hz),7.75 (s, 1H), 7.55 (s, 1H), (D. 1H, J = 9.1 Hz), 7.75 (s, 1H), 7.55 (s, 1H),
7.32 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 6.27 (s, 2H), 3.66, (d, 7.32 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 6.27 (s, 2H), 3.66, (d,
1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 2.86- 1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 2.86-
2.78 (m, 2H), 2.48 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.8 2.78 (m, 2H), 2.48 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.8
6-1.60 (m,8H), 1.45-1.14 (m, 8H), 1.00-0.91 (m, 2 6-1.60 (m, 8H), 1.45-1.14 (m, 8H), 1.00-0.91 (m, 2
H) マススペクトル(FAB)m/z:384(M+H + )。 H) Mass spectrum (FAB) m / z: 384 (M + H +).

【0327】実施例4 (2R)−アミノ−4−[3−(3−p−トリロキシ− [0327] Example 4 (2R) - amino -4- [3- (3-p- tolyloxy -
1−プロピニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−イル] 1-propynyl) benzo [b] thiophen-6-yl]
−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-55 2-methylbutan-1-ol (Compound No. 1-55
5) 4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g 5) 4-cyclohexyloxy-1-butyne 1.12g
(7.37ミリモル)の代わりに3−p−トリロキシ− Alternatively 3-p-tolyloxy of (7.37 mmol) -
1−プロピン1.30mgを用いて、実施例1と同様にして、標記化合物を185mgを得た。 Using 1-propyne 1.30 mg, in the same manner as in Example 1, the title compound was obtained 185 mg. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.76 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.76
(s, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.70 (d, 1H, J = 7.9 Hz), (S, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.70 (d, 1H, J = 7.9 Hz),
7.30 (d, 1H, J = 7.9 Hz), 7.12 (d, 2H, J = 8.5 H 7.30 (d, 1H, J = 7.9 Hz), 7.12 (d, 2H, J = 8.5 H
z), 6.97 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 5.00 (s, 2H), 3.66, z), 6.97 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 5.00 (s, 2H), 3.66,
(d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.6 Hz), (D, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.6 Hz),
3.31 (S, 2H), 2.87-2.75 (m, 2H), 2.29 (s,3H), 2.07 3.31 (S, 2H), 2.87-2.75 (m, 2H), 2.29 (s, 3H), 2.07
-1.89 (m, 2H) 1.36 (s, 3H), 1.41-1.17 (m, 3H) マススペクトル(FAB)m/z:380(M+H + )。 -1.89 (m, 2H) 1.36 ( s, 3H), 1.41-1.17 (m, 3H) Mass Spectrum (FAB) m / z: 380 (M + H +).

【0328】実施例5 (2R)−アミノ−4−[3−(4−シクロヘキシルオ [0328] Example 5 (2R) - amino-4- [3- (4-cyclohexyl O
キシブタン−1−イル)ベンゾ[b]チオフェン−6− Kishibutan-1-yl) [b] thiophene-6-
イル]−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-247) 実施例1で得られた(2R)−アミノ−4−[3−(4 Yl] -2-methylbutan-1-ol obtained in (Compound No. 1-247) Example 1 (2R) - amino-4- [3- (4
−シクロヘキシルオキシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−イル]−2−メチルブタン−1 - cyclohexyloxy but-1-ynyl) benzo [b] thiophen-6-yl] -2-methylbutane -1
−オール250mg(6.48ミリモル)をメタノール 10mlに溶解し、10%パラジウム−炭素 250 - ol 250mg of (6.48 mmoles) was dissolved in methanol 10 ml, 10% palladium - carbon 250
mg加え、水素雰囲気下、2日間室温で攪拌した。 mg In addition, under a hydrogen atmosphere and stirred at room temperature for 2 days. パラジウム−炭素をセライトろ過後、ろ液を減圧下留去した。 Palladium - After carbon Celite filtration, and the filtrate was evaporated under reduced pressure. 残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒: The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent:
塩化メチレン/メタノール/アンモニア水溶液=10 Methylene chloride / methanol / aqueous ammonia = 10
0:10:1)により精製して、標記化合物 236m 0:10: 1) to afford the title compound 236m
g(収率93.3%)を得た。 It was obtained g (93.3% yield). 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl 3 )δ ppm : 7.73 Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 7.73
(d. 1H, J = 8.7 Hz),7.71 (s, 1H), 7.26 (d, 1H, J (D. 1H, J = 8.7 Hz), 7.71 (s, 1H), 7.26 (d, 1H, J
= 8.7 Hz), 7.16 (s, 1H), 4.88 (s, 2H), 3.66, (d, 1 = 8.7 Hz), 7.16 (s, 1H), 4.88 (s, 2H), 3.66, (d, 1
H, J = 11.6 Hz), 3.57-3.49 (m, 3H , 3.31-3.39 (m, H, J = 11.6 Hz), 3.57-3.49 (m, 3H, 3.31-3.39 (m,
1H), 3.30-3.20(m, 1H),2.88-2.74 (m, 4H), 2.07-1.52 1H), 3.30-3.20 (m, 1H), 2.88-2.74 (m, 4H), 2.07-1.52
(m, 2H), 1.37 (s,3H), 1.36-1.19 (m,4H) マススペクトル(FAB)m/z:390(M+H + )。 (m, 2H), 1.37 ( s, 3H), 1.36-1.19 (m, 4H) Mass spectrum (FAB) m / z: 390 (M + H +).

【0329】試験例1 ラットHvGR(Host versus Graft Reaction)に対する抑 [0329] depression for the Test Example 1 rat HvGR (Host versus Graft Reaction)
制活性の測定 (1)2系統のラット[Lewis(雄、6週齢、日本チャールス・リバー株式会社)とWKAH/Hkm(雄、7週齢日本エスエルシー株式会社)]を使用した。 Control the activity of the measurement (1) 2 strains of rats [Lewis (male, 6 weeks old, Japan Charles River Co., Ltd.) and WKAH / Hkm (male, 7-week-old Japan SLC, Inc.)] was used. 1群5匹のラット(宿主)を用いた。 With 1 group 5 rats (host). (2)HvGRの誘導 WKAH/HkmラットまたはLewisラットの脾臓から脾臓細胞を単離し、RPMI1640培地(LIFE TECHNOLOGIES,Rockvill (2) Spleen cells from the spleen of induction WKAH / Hkm rats or Lewis rats HvGR isolated, RPMI1640 medium (LIFE TECHNOLOGIES, Rockville
e MD USA)で1x10 8個/ml濃度に浮遊した。 It was suspended in 8 cells / ml concentration of 1x10 in the e MD USA). Lewisラットの両後肢foot padの皮下に、WKAH/HkmラットまたはLe Subcutaneously in both hind foot Pad Lewis rats, WKAH / Hkm rats or Le
wisラットの脾臓細胞浮遊液各100μl(脾臓細胞数として1x10 7 )を注射した。 Spleen cell suspensions wis rats were injected with (1x10 7 as the number of splenic cells) each 100 [mu] l. (3)化合物の投与 化合物は0.5%トラガント液に懸濁した。 (3) Administration The compounds of the compounds were suspended in 0.5% tragacanth solution. 懸濁した化合物は、化合物投与群(WKAH/Hkmラット脾臓細胞を注射され、検体を投与されるLewisラット)に5ml/kgの割合で、1日1回、脾臓細胞注射日から4日間連日でラットに経口投与した。 Suspended compounds, compound-administered group (injected with WKAH / Hkm rats spleen cells, Lewis rats receiving the specimen) at a rate of 5 ml / kg to once daily, from spleen cell injection day 4 consecutive days It was orally administered to rats. なお、同系群(Lewisラット脾臓細胞を注射されたLewisラット群)と対照群(WKAH/Hkmラット脾臓細胞を注射され、検体を投与されないLewisラット)には、検体の代わりに0.5%トラガント液を経口投与した。 Incidentally, syngeneic group (injected with Lewis Rat spleen cells were Lewis rats) and the control group in the (injected with WKAH / Hkm rats spleen cells, Lewis rats not administered the sample), 0.5% tragacanth solution in place of the sample They were orally administered. (4)HvGRに対する抑制活性の測定方法 各個体のpoplitealリンパ節重量から同系群の平均popli (4) Measurement method of inhibitory activity against HvGR The average popli syngeneic group from popliteal lymph nodes weight of each individual
tealリンパ節重量を引き(「HvGRによるpoplitealリンパ節重量」)、対照群の平均「HvGRによるpoplitealリンパ節重量」に対する化合物投与群の各個体の「HvGRによるpoplitealリンパ節重量」から抑制率を算出した。 teal lymph node pull the weight ( "popliteal lymph node weight due to HvGR"), calculated the inhibition rate from the average of the control group "popliteal lymph weight by HvGR" of each individual compound administration group to "popliteal lymph node weight due to HvGR" did.
化合物の抑制活性は、化合物の投与量と抑制率から最小二乗法を用いて算出したID50値(mg/kg)で表示した。 Inhibitory activity of the compounds was indicated by ID50 values ​​were calculated using the least square method from the dosage and inhibition rate of compound (mg / kg).

【0330】本試験の結果、本発明の化合物はFTY‐ [0330] This test results, the compounds of the invention FTY-
720[WO94/08943号公報(EP62740 720 [WO94 / 08943 discloses (EP62740
6)の実施例29の化合物]より優れた抑制活性を示した。 Compound of Example 29 6)] showed a more excellent inhibitory activity.

【0331】 [0331]

【発明の効果】本発明の一般式(I)を有する化合物は、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有することから、 The compounds having general formula (I) of the present invention exhibits, because they have immunosuppressive effects toxicity excellent low
免疫抑制剤として有用である。 It is useful as immunosuppressive agents.

フロントページの続き (72)発明者 下里 隆一 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 奈良 太 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 Fターム(参考) 4C086 AA03 BB03 ZB08 Following (72) inventor Ryuichi Shimozato Shinagawa-ku, Tokyo Hiromachi 1-chome 2 No. 58 No. Sankyo Co., the company (72) inventor Nara thick, Shinagawa-ku, Tokyo Hiromachi 1-chome 2 No. 58 No. Sankyo Co., Ltd. of the front page formula company in the F-term (reference) 4C086 AA03 BB03 ZB08

Claims (34)

    【特許請求の範囲】 Claims:
  1. 【請求項1】一般式(I) 【化1】 1. A general formula (I) ## STR1 ## [式中、 R 1及びR 2は、同一又は異なって、水素原子又はアミノ基の保護基を示し、 R 3は、水素原子又はヒドロキシ基の保護基を示し、 R 4は、低級アルキル基を示し、 nは、1乃至6の整数を示し、 Xは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−D [Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a protective group for an amino group, R 3 represents a hydrogen atom or a protecting group of hydroxy group, R 4 is a lower alkyl group shown, n is an integer of 1 to 6, X is an ethylene group, vinylene group, ethynylene group, the formula -D
    −CH 2 −を有する基(式中、Dは、カルボニル基、式−CH(OH)−を有する基、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を示す。)、アリール基又は置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基を示し、 Yは、単結合、C 1 −C 10アルキレン基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC Group (wherein, D represents a carbonyl group, the formula -CH (OH) - group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom.) Having - -CH 2 selected from aryl group or a substituent group a is the ant substituted with at least one group - indicates Le group, Y represents a single bond, C 1 -C 10 alkylene group, substituted with at least one group selected from substituent group a and b was C
    1 −C 10アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基、 1 -C 10 alkylene group, C 1 -C 10 alkylene groups having an oxygen atom or sulfur atom in the carbon chain or the chain ends,
    又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基を示し、 R 5は、水素原子、シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1 Or substituted with at least one group selected from Substituent Group a and b, shows a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends, R 5 is hydrogen atoms, a cycloalkyl group, ant - group, at least one selected from the heterocyclic group, the substituent groups a and b
    個の基で置換されたシクロアルキル基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基、又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基を示し、R 6及びR Number of substituted cycloalkyl group with a group, substituted with at least one group selected from substituent group a and b were ants - group, or at least one selected from substituent group a and b a substituted heterocycle group with a group, R 6 and R
    7は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群aから選択される基を示す。 7 are the same or different and are each a group selected from hydrogen atom or a substituent group a. 但し、R 5が水素原子であるとき、Yは単結合及び直鎖のC 1 −C 10アルキレン基以外の基を示す。 However, when the R 5 is a hydrogen atom, Y represents a group other than C 1 -C 10 alkylene group a single bond and linear. ]を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル、又は、その他の誘導体。 Compounds having, a pharmacologically acceptable salt, an ester, or other derivative. <置換基群a>ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、 <Substituent Group a> a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group,
    ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ− Hydroxy groups, lower aliphatic acyl group, an amino group, a mono -
    低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基 <置換基群b>シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基、置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基、及び置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換された複素環基。 Lower alkylamino group, a di - selected group, a heterocyclic group, the substituent group a - lower alkylamino group, a lower aliphatic acylamino group, a cyano group and a nitro group <substituent group b> cycloalkyl group, Ali at least one substituted cycloalkyl group with a group, at least one of Ari is substituted with a group selected from substituent group a - at least one group selected from the group, and substituent group a substituted heterocyclic groups.
  2. 【請求項2】請求項1において、式(Ia) 【化2】 2. The method of claim 1, formula (Ia) ## STR2 ## を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体。 Compounds having, a pharmacologically acceptable salt, esters or other derivatives.
  3. 【請求項3】請求項1において、式(Ib) 【化3】 3. The method of claim 1, wherein (Ib) ## STR3 ## を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体。 Compounds with, its pharmacologically acceptable salts, esters or other derivatives.
  4. 【請求項4】請求項1乃至3から選択されるいずれか1 Wherein any one selected from claims 1 to 3 1
    項において、 R 1及びR 2が、同一又は異なって、水素原子、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 In terms, R 1 and R 2 are the same or different, a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, 1 to 3 amino substituted aralkyloxycarbonyl group with a group selected from an aralkyloxycarbonyl group or a substituent group a a compound or a pharmacologically acceptable salt thereof.
  5. 【請求項5】請求項1乃至3から選択されるいずれか1 Wherein any one selected from claims 1 to 3 1
    項において、 R 1及びR 2が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。 Salts in the section, R 1 and R 2 are acceptable compound or a pharmacologically a hydrogen atom.
  6. 【請求項6】請求項1乃至5から選択されるいずれか1 6. any one selected from claims 1 to 5 1
    項において、 R 3が、水素原子、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換された芳香族アシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 In terms, R 3 is a hydrogen atom, a lower aliphatic acyl group, aromatic acyl group or a 1 to a radical selected from the substituent group a is a three-substituted aromatic acyl group compound or a pharmacologically acceptable salt.
  7. 【請求項7】請求項1乃至5から選択されるいずれか1 7. any one selected from claims 1 through 5 1
    項において、 R 3が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。 Salts in the section, R 3 is acceptable compound or a pharmacologically a hydrogen atom.
  8. 【請求項8】請求項1乃至7から選択されるいずれか1 8. any one selected from claims 1 to 7 1
    項において、 R 4が、C 1 −C 4アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 Salts in the section, R 4 is acceptable C 1 -C 4 alkyl group, compound or a pharmacologically.
  9. 【請求項9】請求項1乃至7から選択されるいずれか1 9. any one selected from claims 1 to 7 1
    項において、 R 4が、C 1 −C 2アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 Salts in the section, R 4 is acceptable C 1 -C 2 alkyl group, compound or a pharmacologically.
  10. 【請求項10】請求項1乃至7から選択されるいずれか1項において、 R 4が、メチル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 10. A any one selected from claims 1 to 7, R 4 are acceptable compound or a pharmacologically a methyl group salt.
  11. 【請求項11】請求項1乃至10から選択されるいずれか1項において、 nが、2又は3である化合物又はその薬理上許容される塩。 11. The any one selected from claims 1 to 10, salts n is 2 or 3 compounds or a pharmacologically acceptable.
  12. 【請求項12】請求項1乃至10から選択されるいずれか1項において、 nが、2である化合物又はその薬理上許容される塩。 12. The any one selected from claims 1 to 10, salts n is a 2 compound or a pharmacologically acceptable.
  13. 【請求項13】請求項1乃至12から選択されるいずれか1項において、 Xが、エチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 13. The any one selected from claims 1 to 12, salts X is acceptable compound or a pharmacologically an ethylene group.
  14. 【請求項14】請求項1乃至12から選択されるいずれか1項において、 Xが、エチニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 14. The any one selected from claims 1 to 12, salts X is acceptable compound or a pharmacologically ethynylene group.
  15. 【請求項15】請求項1乃至12から選択されるいずれか1項において、 Xが、アリール基又は置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 15. A any one selected from claims 1 to 12, X is, Ari is substituted with at least one group selected from an aryl group or a substituent group a - a le group compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
  16. 【請求項16】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、C 1 −C 10アルキレン基又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC 1 −C 16. A any one selected from claims 1 to 15, Y is substituted by at least one group selected from C 1 -C 10 alkylene group or a substituent group a and b C 1 -C
    10アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 10 compound or pharmacologically acceptable salt thereof is an alkylene group.
  17. 【請求項17】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、C 1 −C 6アルキレン基又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC 1 −C 6アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 17. any one selected from claims 1 to 15, Y is substituted by at least one group selected from C 1 -C 6 alkylene group or a substituent group a and b C 1 -C 6 compound or pharmacologically acceptable salt thereof is an alkylene group.
  18. 【請求項18】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、又は、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン若しくはペンタメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 18. The any one selected from claims 1 to 15, Y is ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, or at least one group selected from substituent groups a and b in substituted, ethylene, trimethylene, tetramethylene or compound or a pharmacologically acceptable salt thereof is a pentamethylene group.
  19. 【請求項19】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 19. any one selected from claims 1 to 15, salts Y is ethylene group, acceptable compound or a pharmacologically a trimethylene group or a tetramethylene groups.
  20. 【請求項20】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、エチレン基若しくはトリメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 20. A any one selected from claims 1 to 15, salts Y is a compound an ethylene group or a trimethylene group or a pharmacologically acceptable.
  21. 【請求項21】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基、又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、 21.] any one selected from claims 1 to 15, Y is, C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or chain end, or a substituent group a and substituted with at least one group selected from b,
    炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 C 1 -C 10 compound or pharmacologically acceptable salt thereof is an alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or in an chain end.
  22. 【請求項22】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC 1 −C 10アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 22. A any one selected from claims 1 to 15, Y is a compound or a pharmacologically a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends salt to be above acceptable.
  23. 【請求項23】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC 1 23. A any one selected from claims 1 to 15, Y is, C 1 having an oxygen atom in the carbon chain or the chain ends -
    10アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 C 10 compound or pharmacologically acceptable salt thereof is an alkylene group.
  24. 【請求項24】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC 1 24. A any one selected from claims 1 to 15, Y is, C 1 having an oxygen atom in the carbon chain or the chain ends -
    6アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。 C 6 compound or pharmacologically acceptable salt thereof is an alkylene group.
  25. 【請求項25】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、−O−CH 2 −、−O−(CH 22 −、−O− 25. A any one selected from claims 1 through 15, Y is, -O-CH 2 -, - O- (CH 2) 2 -, - O-
    (CH 23 −、−CH 2 −O−、−(CH 22 −O−、 (CH 2) 3 -, - CH 2 -O -, - (CH 2) 2 -O-,
    −(CH 23 −O−又は−CH 2 −O−CH 2 −を有する基である化合物又は、その薬理上許容される塩。 - (CH 2) 3 -O- or -CH 2 -O-CH 2 - compound is a group having or a pharmacologically acceptable salt thereof.
  26. 【請求項26】請求項1乃至15から選択されるいずれか1項において、 Yが、−CH 2 −O−、−(CH 22 −O−又は−CH 2 26. A any one selected from claims 1 to 15, Y is, -CH 2 -O -, - ( CH 2) 2 -O- or -CH 2
    −O−CH 2 −を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩。 -O-CH 2 - group compound or a pharmacologically acceptable salt thereof is having.
  27. 【請求項27】請求項1乃至26から選択されるいずれか1項において、 R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 27. The any one selected from claims 1 to 26, R 5 is a cycloalkyl group, ant - group, a heterocyclic group, at least one selected from the substituent group a and b Ali substituted with at least one group selected from cycloalkyl group or substituent groups a and b, which are substituted by a group - compound or pharmacologically acceptable salt thereof is Le group.
  28. 【請求項28】請求項1乃至26から選択されるいずれか1項において、 R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 28. A any one selected from claims 1 to 26, R 5 is a cycloalkyl group, ant - at least one group group, selected from Substituent group a and b substituents cycloalkyl group or at least one of Ari is substituted with a group selected from substituent group a and b - the compound or pharmacologically acceptable salt thereof is Le group.
  29. 【請求項29】請求項1乃至26から選択されるいずれか1項において、 R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 29. The any one selected from claims 1 to 26, R 5 is a cycloalkyl group, ant - at least one group group, selected from Substituent group a and b substituents been ant - compound or pharmacologically acceptable salt thereof is Le group.
  30. 【請求項30】請求項1乃至26から選択されるいずれか1項において、 R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基又は1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基である。)である化合物又はその薬理上許容される塩。 30. A any one selected from claims 1 to 26, R 5 is a cycloalkyl group, ant - group or 1 to 3-substituted ants - Le group (the substituent a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group is a group selected from the group consisting of lower alkoxy and lower alkylthio groups.) compound or a pharmacologically acceptable salt thereof is.
  31. 【請求項31】請求項1乃至26から選択されるいずれか1項において、 R 5が、シクロアルキル基、アリ−ル基又は1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である。)である化合物、又はその薬理上許容される塩。 31. A any one selected from claims 1 to 26, R 5 is a cycloalkyl group, ant - group or 1 to 3-substituted ants - Le group (the substituent halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group.), compound, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
  32. 【請求項32】請求項1乃至26から選択されるいずれか1項において、 R 5が、シクロヘキシル基、フェニル基又はp−トリル基である化合物又はその薬理上許容される塩。 32. A any one selected from claims 1 to 26, salts R 5 is cyclohexyl, acceptable compound or a pharmacologically phenyl or p- tolyl group.
  33. 【請求項33】請求項1乃至32から選択されるいずれか1項において、 R 6及びR 7が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物又はその薬理上許容される塩。 33. A any one selected from claims 1 to 32, R 6 and R 7 are the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a lower alkoxy group or a compound or a pharmacologically acceptable salt thereof a lower alkylthio group.
  34. 【請求項34】請求項1乃至32から選択されるいずれか1項において、 R 6及びR 7が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。 In 34. any one selected from claims 1 to 32, R 6 and R 7 are acceptable compound or a pharmacologically a hydrogen atom salts.
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