JP2002293760A - シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造法 - Google Patents
シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造法Info
- Publication number
- JP2002293760A JP2002293760A JP2002012610A JP2002012610A JP2002293760A JP 2002293760 A JP2002293760 A JP 2002293760A JP 2002012610 A JP2002012610 A JP 2002012610A JP 2002012610 A JP2002012610 A JP 2002012610A JP 2002293760 A JP2002293760 A JP 2002293760A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alcohol
- methyl
- general formula
- halogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
法を提供すること。 【解決手段】 一般式(1) (式中、R1、R2、R3、R4、R5は、水素、ハロゲ
ン、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラル
キル基、アリール基)で示されるシクロプロパンカルボ
ン酸類と一般式(2) R6OH
(2) (式中、 R6は、アルキル基;アラルキル基またはアリ
ール基を示す。)で示されるモノヒドロキシ化合物とを
周期表4族元素化合物存在下に反応させることを特徴と
する一般式(3) で示されるシクロプロパンカルボン酸エステル類の製造
法。
Description
ボン酸エステル類の製造法に関するものである。
コール類とのエステル化合物の一般的合成法としては、
相当するシクロプロパンカルボン酸を酸塩化物に変換し
た後、相当するモノヒドロキシ化合物と反応させること
により所望するエステル化合物を得る方法がよく知られ
ている。しかしながらこの方法は工程が長く工業的製法
としては、必ずしも充分なものとは言い難いものであっ
た。
るモノヒドロキシ化合物との脱水縮合反応により1工程
でエステルを製造する方法も提案されている。脱水縮合
反応は一般的には酸触媒存在下で実施され、特開平9−
188649号公報には硫酸を触媒とする製法、特開平
11−228491号公報にはp-トルエンスルホン酸を
触媒とする製法がそれぞれ報告されている。しかしなが
ら、このような強酸性の鉱酸や有機酸を用いる場合には
副反応による着色が多く、反応に長時間要するため、工
業的製法としては必ずしも充分なものとは言い難いもの
であった。また、特開昭60−64945号公報ではジ
シクロヘキシルカルボジイミドやジイソプロピルカルボ
ジイミドを脱水剤として用いる製法が報告されている。
しかしながら、この製法では、用いる脱水剤が高価であ
って、その使用量もシクロプロパンカルボン酸に対して
等量以上必要であり、工業的製法としては必ずしも充分
なものとは言い難いものであった。
元素化合物の存在下に、シクロプロパンカルボン酸類
と、モノヒドロキシ化合物との脱水縮合反応をおこなう
ことにより、目的とするシクロプロパンカルボン酸エス
テル類を、優れた収率で容易に得ることができる製造法
を提供しようとするものである。
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に至った。す
なわち本発明は、 一般式(1) (式中、R1、R2、R3、R4、R5はそれぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいア
ルキル基(ここでアルキル基は、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシイミノ
基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ
基またはヒドロキシスルフィニル基で置換されていても
よい)、置換されていてもよいアルケニル基、置換され
ていてもよいアルキニル基(ここでアルケニル基または
アルキニル基は、ハロゲン原子、アリール基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシイミノ基、
アルキルスルホニル基またはアルキルスルホニルオキシ
基で置換されていてもよい)、置換されていてもよいア
ラルキル基(ここでアラルキル基は、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルコキシイミノ基、アルキルスルホニル基またはアルキ
ルスルホニルオキシ基で置換されていてもよい)または
置換されていてもよいアリール基(ここでアリール基
は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アルキルスルホニル基またはアルキ
ルスルホニルオキシ基で置換されていてもよい)を示
す。)で示されるシクロプロパンカルボン酸類と一般式
(2) R6OH (2) (式中、 R6は、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキ
ニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基もしく
は複素環基で置換されていてもよいアルキル基;フェノ
キシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子もしくはア
ルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基;また
は、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原子で
置換されていてもよいアリール基を示す。)で示される
モノヒドロキシ化合物とを周期表4族元素化合物(Zr
ではない)存在下に反応させることを特徴とする一般式
(3) (式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同
じ意味を示す。)で示されるシクロプロパンカルボン酸
エステル類の製造法を提供するものである。
発明は、シクロプロパンカルボン酸エステル類(3)を
製造するにあたり、シクロプロパンカルボン酸類(1)
とモノヒドロキシ化合物(2)を周期表4族元素化合物
の存在下に反応させることを特徴とする。
ロプロパンカルボン酸類は、一般式(1)で示されるも
のであるが、式中、R1、R2、R3、R4、R5は各々独
立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよ
いアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置
換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよ
いアラルキル基、置換されていてもよいアリール基を示
す。
は、炭素数1〜10のアルキル基が挙げられ、それらは
直鎖、分岐鎖又は環状の何れであってもよく、例えば、
メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、
sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、
シクロヘキシル、メンチル等を挙げることができる。こ
れらアルキル基を置換する置換基としては、フッ素、塩
素、臭素、沃素等のハロゲン原子;メトキシ、エトキ
シ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、n-ブトキシ、sec-ブ
トキシ、tert-ブトキシ等のアルコキシ基;メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニ
ル、i-プロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、
sec-ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等
のアルコキシカルボニル基;メトキシイミノ、エトキシ
イミノ、n-プロポキシイミノ等のアルコキシイミノ基;
メチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスル
ホニル、i-プロピルスルホニル、tert-ブチルスルホニ
ル等のアルキルスルホニル基;メチルスルホニルオキ
シ、エチルスルホニルオキシ、n-プロピルスルホニルオ
キシ、i-プロピルスルホニルオキシ、tert-ブチルスル
ホニルオキシ等のアルキルスルホニルオキシ基;ヒドロ
キシスルフィニル基等が挙げられる。
は、ビニル、1-メチルビニル、1−プロペニル、2-メチ
ル-1-プロペニル、1−ブテニル、3-メチル-2-ブテニ
ル、2,2-ジクロロビニル、2,2-ジブロモビニル、2-クロ
ロ-2-フルオロビニル、2-クロロ-2-トリフルオロメチル
ビニル、2-ブロモ-2-トリブロモメチルビニル等を例示
することができる。また、置換されていてもよいアルキ
ニル基としては、プロパルギル基等が挙げられる。これ
らアルケニル基、アルキニル基を置換する置換基として
は、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子;フェ
ニル、1-ナフチル、2-ナフチル等のアリール基;メトキ
シ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、n-ブトキ
シ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ等のアルコキシ基;
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキ
シカルボニル、i-プロポキシカルボニル、n-ブトキシカ
ルボニル、sec-ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカ
ルボニル等のアルコキシカルボニル基;メトキシイミ
ノ、エトキシイミノ、n-プロポキシイミノ等のアルコキ
シイミノ基;メチルスルホニル、エチルスルホニル、n-
プロピルスルホニル、i-プロピルスルホニル、tert-ブ
チルスルホニル等のアルキルスルホニル基;メチルスル
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、n-プロピルス
ルホニルオキシ、i-プロピルスルホニルオキシ、tert-
ブチルスルホニルオキシ等のアルキルスルホニルオキシ
基等が挙げられる。
はベンジル、ジフェニルメチル、フェニルエチル、ナフ
チルメチル、ナフチルエチル等が挙げられる。
ては、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子;メ
チル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、se
c-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、シ
クロヘキシル等のアルキル基;メトキシ、エトキシ、n-
プロポキシ、i-プロポキシ、n-ブトキシ、sec-ブトキ
シ、tert-ブトキシ等のアルコキシ基;メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、
i-プロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、sec-
ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等のア
ルコキシカルボニル基;メトキシイミノ、エトキシイミ
ノ、n-プロポキシイミノ等のアルコキシイミノ基;メチ
ルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニ
ル、i-プロピルスルホニル、tert-ブチルスルホニル等
のアルキルスルホニル基;メチルスルホニルオキシ、エ
チルスルホニルオキシ、n-プロピルスルホニルオキシ、
i-プロピルスルホニルオキシ、tert-ブチルスルホニル
オキシ等のアルキルスルホニルオキシ基等が挙げられ
る。
は、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル等が挙
げられる。
は、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子;メチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-
ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、シク
ロヘキシル等のアルキル基;メトキシ、エトキシ、n-プ
ロポキシ、i-プロポキシ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、
tert-ブトキシ等のアルコキシ基;メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、i-
プロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、sec-ブ
トキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等のアル
コキシカルボニル基;メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、n-プロピルスルホニル、i-プロピルスルホニル、
tert-ブチルスルホニル等のアルキルスルホニル基;メ
チルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、n-プ
ロピルスルホニルオキシ、i-プロピルスルホニルオキ
シ、tert-ブチルスルホニルオキシ等のアルキルスルホ
ニルオキシ基等が挙げられる。
(1)の具体的化合物としては、例えば、シクロプロパ
ンカルボン酸、2-フルオロシクロプロパンカルボン酸、
2,2-ジクロロシクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル
-3-(ジメトキシメチル)シクロプロパンカルボン酸、2,
2,3,3-テトラメチルシクロプロパンカルボン酸、2,2-ジ
メチル-3-(1-プロペニル)シクロプロパンカルボン酸、
2,2-ジメチル-3-(2-メチル-1-プロペニル)シクロプロパ
ンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-(3-メチル-2-ブテニル)
シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-(2,2-ジク
ロロビニル)シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-
3-(2,2,2-トリクロロエチル)シクロプロパンカルボン
酸、2,2-ジメチル-3-(2-クロロ-2-フルオロビニル)シク
ロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-(2-ブロモビニ
ル)シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-(2,2-
ジブロモビニル)シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメ
チル-3-(1,2,2,2-テトラブロモエチル)シクロプロパン
カルボン酸、2,2-ジメチル-3-(1,2-ジブロモ-2,2,-ジク
ロロエチル)シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-
3-(2-クロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペニル)シクロ
プロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-{3,3,3-トリフル
オロ-2-(トリフルオロメチル)-1-プロペニル}シクロプ
ロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-(2-フェニル-1-プ
ロペニル)シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-
(2-フェニルビニル)シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジ
メチル-3-(2-メチル-3-フェニル-2-ブテニル)シクロプ
ロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-{(2,2-ジフルオロ
シクロプロピリデン)メチル}シクロプロパンカルボン
酸、2,2-ジメチル-3-{2-(tert-ブトキシカルボニル)ビ
ニル}シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-{2-
フルオロ-2-(メトキシカルボニル)ビニル}シクロプロパ
ンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-{2-フルオロ-2-(エトキ
シカルボニル)ビニル}シクロプロパンカルボン酸、2,2-
ジメチル-3-{2-フルオロ-2-(tert-ブトキシカルボニル)
ビニル}シクロプロパンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-
〔2-{2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エト
キシカルボニル}ビニル〕シクロプロパンカルボン酸、
2,2-ジメチル-3-(2-アザ-2-メトキシビニル)シクロプロ
パンカルボン酸、2,2-ジメチル-3-(4-アザ-4-メトキシ-
3-メチルブタ-1,3-ジエニル)シクロプロパンカルボン
酸、2,2-ジメチル-3-〔2-{(tert-ブチル)スルホニル}-2
-(tert-ブトキシカルボニル)ビニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸、2,2-ジメチル-3-{2,2,2-トリブロモ-1-(メチ
ルスルホニルオキシ)エチル}シクロプロパンカルボン
酸、2,2-ジメチル-3-{2,2-ジブロモ-2-(ヒドロキシスル
フィニル)-1-(メトキシ)エチル}シクロプロパンカルボ
ン酸、2,2-ジメチル-3-{2,2,2-トリブロモ-1-(メチルス
ルホニルオキシ)エチル}シクロプロパンカルボン酸、2-
メチル-2-エチル-3-(1-プロペニル)シクロプロパンカル
ボン酸、2,2-ジエチル-3-(2,2-ジクロロビニル)シクロ
プロパンカルボン酸、2-メチル-2-フェニル-3-(2-メチ
ル-1-プロペニル)シクロプロパンカルボン酸等が挙げら
れる。好ましくは、2,2−ジメチル−3−(2,2−
ジクロロビニル)シクロプロパンカルボン酸、2,2−
ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロ
プロパンカルボン酸等が挙げられる。
ン酸類(1)は不斉炭素を有し、2種類以上の立体異性
体が存在するが、本発明はそれらのいずれをも含むもの
である。
るモノヒドロキシ化合物としては、置換されていてもよ
いアルキルアルコール、アラルキルアルコール、アリー
ルアルコール等が挙げられる。
のアルキル基は、炭素数1〜10のアルキル基が挙げら
れ、それらは直鎖、分岐鎖又は環状の何れであってもよ
く、二重結合または三重結合を有していてもよい。ま
た、その置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭
素、沃素等のハロゲン原子、フリル基、フェノキシフリ
ル基、ベンジルフリル基、ジフルオロメチル基、プロパ
ルギルフリル基、メチルイソオキサゾリル基、トリフル
オロメチルチアゾリル基、トリフルオロメトキシチアゾ
リル基、プロピニルピロリル基、プロピニルジオキソイ
ミダゾリジニル基、オキソ基、プロペニル基、プロピニ
ル基、ジオキソテトラヒドロイソインドリル基、オキソ
チアゾリル基等が挙げられる。
の具体的化合物としては、例えば、メチルアルコール、
エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチ
ルアルコール、tert−ブチルアルコール、n−ペン
チルアルコール、ネオペンチルアルコール、アミルアル
コール 、n−ヘキシルアルコール、n−オクチルアル
コール、n−デシルアルコール、2−フリルメチルアル
コール、3−フリルメチルアルコール、(5−フェノキ
シ−3−フリル)メチルアルコール、(5-ベンジル-3-フ
リル) メタン-1-オール、{5-(ジフルオロメチル)-3-フ
リル } メタン-1-オール、5−プロパルギルフルフリ―
ルアルコール、(5-メチルイソオキサゾル-3-イル) メタ
ン-1-オール、1-{2-(トリフルオロメチル)-1,3-チアゾ
ル-4-イル}プロプ-2-イン-1-オール、1-{2-(トリフルオ
ロメトキシ)-1,3-チアゾル-4-イル}プロプ-2-イン-1-オ
ール、1-{1-プロプ-2-イニル-5-(トリフルオロメチル)
ピロル-3-イル }プロプ-2-イン-1-オール、(1-プロプ-2
-イニルピロル-3-イル) メタン-1-オール、3−(ヒド
ロキシメチル)−1−プロピニル−イミダゾリジン−
2,4−ジオン、4−ヒドロキシ−3−メチル−2−
(2−プロペニル)−2−シクロペンテン−1−オン、
4−ヒドロキシ−3−メチル−2−(2−プロピニル)
−2−シクロペンテン−1−オン、2−(ヒドロキシメ
チル)―4,5,6,7−テトラヒドロイソインドール
−1,3−ジオン、{1−(2−プロピニル)ピロール
−3−イル}メタン−1−オール、5−(ヒドロキシメ
チル)−4−メチル−(2−プロピニル)−1,3−チ
アゾリン−2−オン、4−メチルヘプト−4−エン−1
−イン−3−オール、クロロメチルアルコール、ジクロ
ロメチルアルコール、トリクロロメチルアルコール、ブ
ロモメチルアルコール、ジブロモメチルアルコール、ト
リブロモメチルアルコール、フルオロメチルアルコー
ル、ジフルオロメチルアルコール、トリフルオロメチル
アルコール、フルオロエチルアルコール、ジフルオロエ
チルアルコール、トリフルオロエチルアルコール、テト
ラフルオロエチルアルコール、ペンタフルオロエチルア
ルコール、3,3-ジブロモ-2-プロペン-1-オール、パーフ
ルオロプロピルアルコール、ヘキサフルオロイソプロピ
ルアルコール、パーフルオロブチルアルコール、パーフ
ルオロペンチルアルコール、パーフルオロヘキシルアル
コール、パーフルオロオクチルアルコール、パーフルオ
ロデシルアルコール、{1−(2−プロピニル)−5−
(トリフルオロメチル)−4−ピラゾリル}メタン−1
−オール、1−{1−(2−プロピニル)−5−(トリ
フルオロメチル)ピロール−3−イル}プロプ−2−イ
ン−1−オール、1−{2−(トリフルオロメチル)−
1,3−チアゾール−4−イル}プロプ−2−イン−1
−オール、1−{2−(トリフルオロメトキシ)−1,
3−チアゾール−4−イル}プロプ−2−イン−1−オ
ール、4−フルオロヘプト−4−エン−1−イン−3−
オールなどが挙げられる。
ルのアラルキルとしては、例えば、ベンジル、フェニル
エチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル、ナフチル
エチル、アントラセニルメチル、インドリルメチル等が
挙げられる。その置換基としては、アルキル基、ハロゲ
ン原子、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロアルコキシ基、ハロアル
キルアセチルオキシ基、フェノキシ基、フェニル基、シ
アノ基、ハロフェノキシ基、アミノ基、ピリジル基、チ
エニル基等が挙げられる。
ルの具体例としては例えば、ベンジルアルコール、2-メ
チル-3-フェニルベンジルアルコール、2,3,5,6-テトラ
フルオロベンジルアルコール、2,3,5,6-テトラフルオロ
-4-メチルベンジルアルコール、2,3,5,6-テトラフルオ
ロ-4-メトキシベンジルアルコール、2,3,5,6-テトラフ
ルオロ-4-(メトキシメチル)ベンジルアルコール、2,3,
5,6-テトラフルオロ-4-プロパルギルベンジルアルコー
ル、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(ジフルオロメチル)ベ
ンジルアルコール、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(ジフル
オロメトキシ)ベンジルアルコール、2,3,5,6-テトラフ
ルオロ-4-(2,2,2-トリフルオロアセチルオキシ)メチル
ベンジルアルコール、4-(トリフルオロメチル)ベンジル
アルコール、2,3,4,5-テトラフルオロ-6-メチルベンジ
ルアルコール、3-フェニルベンジルアルコール、2,6-ジ
クロロベンジルアルコール、3−フェノキシベンジルア
ルコール、2−ヒドロキシ−2−(3−フェノキシフェ
ニル)エタンニトリル、2−ヒドロキシ−2−{4-(メ
トキシメチル)フェニル}エタンニトリル、2−{3−
(4-クロロフェノキシ)フェニル}−2−ヒドロキシエ
タンニトリル、2-(4-アミノ-2,3,5,6-テトラフルオロフ
ェニル)-2-ヒドロキシエタンニトリル、2-(4-フルオロ-
3-フェノキシフェニル)-2-ヒドロキシエタンニトリル、
(2−メチルフェニル)メチルアルコール、(3−メチ
ルフェニル)メチルアルコール、(4−メチルフェニ
ル)メチルアルコール、(2,3−ジメチルフェニル)
メチルアルコール、(2,4−ジメチルフェニル)メチ
ルアルコール、(2,5−ジメチルフェニル)メチルア
ルコール、(2,6−ジメチルフェニル)メチルアルコ
ール、(3,4−ジメチルフェニル)メチルアルコー
ル、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチルアルコ
ール、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチルアル
コール、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチルア
ルコール、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル
アルコール、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチ
ルアルコール、(2,3,4,5−テトラメチルフェニ
ル)メチルアルコール、(2,3,4,6−テトラメチ
ルフェニル)メチルアルコール、(2,3,5,6−テ
トラメチルフェニル)メチルアルコール、(ペンタメチ
ルフェニル)メチルアルコール、(エチルフェニル)メ
チルアルコール、(n−プロピルフェニル)メチルアル
コール、(イソプロピルフェニル)メチルアルコール、
(n−ブチルフェニル)メチルアルコール、(sec−
ブチルフェニル)メチルアルコール、(tert−ブチ
ルフェニル)メチルアルコール、(n−ペンチルフェニ
ル)メチルアルコール、(ネオペンチルフェニル)メチ
ルアルコール、(n−ヘキシルフェニル)メチルアルコ
ール、(n−オクチルフェニル)メチルアルコール、
(n−デシルフェニル)メチルアルコール、(n−ドデ
シルフェニル)メチルアルコール、(n−テトラデシル
フェニル)メチルアルコール、ナフチルメチルアルコー
ル、アントラセニルメチルアルコール、1−フェニルエ
チルアルコール、1−(1−ナフチル)エチルアルコー
ル、1−(2−ナフチル)エチルアルコール、4−プロ
プ−2−イニルフェニル)メタン−1−オール、3−プ
ロプ−2−イニルフェニル)メタン−1−オール、(1
−プロプ−2−イニル−2−メチルインドル−3−イ
ル)メタン−1−オール、{1−プロプ−2−イニル−
2−(トリフルオロメチル)インドル−3−イル}メタン
−1−オール、4-プロプ-2-エニルインダン-1-オール、
4-フェニルインダン-2-オール、4-(2-チエニル)インダ
ン-2-オール、(2,3,6-トリフルオロ-4-ピリジル) メタ
ン-1-オールおよび前記ハロアラルキルアルコールにお
いてハロゲン原子をメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、sec−ブトキ
シ、tert−ブトキシなどに任意に変更したアルコキ
シアラルキルアルコール、およびシアノアラルキルアル
コール、ニトロアラルキルアルコール等が挙げられる。
としては例えば、フェノール、1−ナフトール、2−ナ
フトール、4−プロプ−2−イニルフェノール、3−プ
ロプ−2−イニルフェノール、4−ヒドロキシアセトフ
ェノン、4−ヒドロキシベンズアルデヒド及びこれらの
芳香環がアルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子等で置換されたものが挙げられる。
のとして、一級アルコール類、ベンジルアルコール類、
ヒドロキシシクロペンテノン類が挙げられ、より好まし
くは、3−フェノキシベンジルアルコール、4−ヒドロ
キシ−3−メチル−2−(2−プロペニル)−2−シク
ロペンテン−1−オン、4−ヒドロキシ−3−メチル−
2−(2−プロピニル)−2−シクロペンテン−1−オ
ンが挙げられる。
(2)は不斉炭素を有する場合があり、2種類以上の立
体異性体が存在する場合があるが、本発明はそれらのい
ずれをも含むものである。本発明において、モノヒドロ
キシ化合物(2)の立体構造はそのまま保持されて、ア
ルコール由来部に同様の立体構造を有するシクロプロパ
ンカルボン酸エステル類(3)が製造される。
量はシクロプロパンカルボン酸類(1)に対し通常、1
当量以上であり、必要に応じ過剰に用いてもよく、溶媒
として使用することもできる。また、原料回収の容易
さ、価格などを考慮し、モノヒドロキシ化合物(2)の
使用量をシクロプロパンカルボン酸類(1)に対し1当
量未満にしてもよい。一般に反応終了後、未反応の原料
は、例えば蒸留、抽出、分液等の操作により回収するこ
ともできる。
化合物としては、ルイス酸性化合物が挙げられ、より好
ましくは、一般式(4) M(O)m(X)n(Y)4-2m-n (4) (式中、X,Yはそれぞれ独立してハロゲン原子、アル
コキシ基、アシルオキシ基、アセチルアセトナート基、
シクロペンタジエニル基またはアミノ基を示し、Mは周
期表4族元素を示し、mは0または1を示し、nは0、
1または2を示す。)で示される化合物が挙げられる。
周期表4族元素化合物の具体例としては、例えば、四弗
化チタン、四塩化チタン、四臭化チタン、四沃化チタ
ン、酢酸チタン、チタン アセチルアセトナート、チタ
ン エトキシド、チタン i-プロポキシド、チタン n-ブ
トキシド、チタン t-ブトキシド、オキシ塩化チタン、
テトラキス(ジメチルアミノ)チタン、テトラキス(ジ
エチルアミノ)チタン、チタノセン ジクロライド、チ
タノセン ジメトキシド、デカメチルチタノセン ジクロ
ライド、四弗化ハフニウム、四塩化ハフニウム、四臭化
ハフニウム、四沃化ハフニウム、酢酸ハフニウム、ハフ
ニウムアセチルアセトナート、ハフニウム エトキシ
ド、ハフニウム i-プロポキシド、ハフニウム n-ブトキ
シド、ハフニウム t-ブトキシド、オキシ塩化ハフニウ
ム、テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム、テトラ
キス(ジエチルアミノ)ハフニウム、ハフノセン ジク
ロライド、ハフノセン ジメトキシド、デカメチルハフ
ノセン ジクロライド等が挙げられ、好ましくは、四塩
化チタン、チタン i-プロポキシド、チタノセン ジク
ロライド、四塩化ハフニウム、ハフニウム t-ブトキシ
ド、ハフノセン ジクロライド等が挙げられる。
るいは水和物をそのまま使用することができる。また、
テトラヒドロフランやテトラメチルエチレンジアミンな
どの配位性を有する化合物との錯体を用いることもでき
る。
されないが、通常、シクロプロパンカルボン酸類(1)
に対し0.001〜200モル%程度であり、好ましくは0.1〜1
0モル%程度の範囲である。
ヒドロキシ化合物(2)を周期表4族元素化合物の存在
下反応させるにあたっては、通常、アルゴン、窒素等不
活性ガスの雰囲気下で実施される。反応は常圧、加圧及
び減圧下、何れでも実施することができる。好ましくは
常圧もしくは減圧下に反応を実施する。また、脱水縮合
反応の副生物である水を反応系外に連続的に蒸留等の方
法により除去しながら行うことが好ましい。
とができる。用いられる溶媒としては、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナ
ンのような脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル溶媒
等が挙げられる。また水と共沸する溶媒を加えることに
より、副生物である水のみを連続的に除去することもで
きる。
は20〜200℃程度の範囲である。
ボン酸エステル類(3)は水もしくは酸性水で洗浄等を
行うことにより触媒を除去することができ、必要に応じ
て蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の通常の
操作を行うことにより、反応混合物から容易に分離する
ことができる。
モノヒドロキシ化合物(2)とを、周期表4族元素化合
物の存在下反応させることにより、目的とするシクロプ
ロパンカルボン酸エステル類(3)を優れた収率および
選択率で容易に得ることができ、その工業的製法として
有利である。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
チル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロ
パンカルボン酸と0.50gの3−フェノキシベンジル
アルコール、8.0mgの四塩化ハフニウム、5mlの
キシレンを仕込んだ。この反応器に冷却管付きのDean−
Starkトラップを装着し、反応中に副生してくる水をト
ラップ中に分液除去しながら145℃にて8時間攪拌還
流した。この反応混合物をガスクロマトグラフィーで分
析したところ、(3−フェノキシフェニル)メチル
2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニ
ル)シクロプロパンカルボキシレートの収率は、原料ア
ルコールに対し86%(選択率94%)であった。
えて11.6mgの四塩化ハフニウム・2テトラヒドロ
フラン錯体を仕込む以外は実施例1に準じて反応をおこ
なった。この反応混合物をガスクロマトグラフィーで分
析したところ、(3−フェノキシフェニル)メチル
2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニ
ル)シクロプロパンカルボキシレートの収率は、原料ア
ルコールに対し97%(選択率98%)であった。
えて12.0mgの四塩化ハフニウム・2ピリジン錯体
を仕込む以外は実施例1に準じて反応をおこなった。こ
の反応混合物をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、(3−フェノキシフェニル)メチル 2,2−ジメ
チル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロ
パンカルボキシレートの収率は、原料アルコールに対し
96%(選択率98%)であった。
えて12.5mgの四臭化ハフニウムを仕込む以外は実
施例1に準じて反応をおこなった。この反応混合物をガ
スクロマトグラフィーで分析したところ、(3−フェノ
キシフェニル)メチル 2,2−ジメチル−3−(2−
メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレ
ートの収率は、原料アルコールに対し87%(選択率9
3%)であった。
えて10.5mgのペンタメチルシクロペンタジエニル
ハフニウム トリクロライドを仕込む以外は実施例1に
準じて反応をおこなった。この反応混合物をガスクロマ
トグラフィーで分析したところ、(3−フェノキシフェ
ニル)メチル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−
1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレートの収
率は、原料アルコールに対し90%(選択率94%)で
あった。
えて8.9mgのテトラキス(ジメチルアミノ)ハフニ
ウムを仕込む以外は実施例1に準じて反応をおこなっ
た。この反応混合物をガスクロマトグラフィーで分析し
たところ、(3−フェノキシフェニル)メチル 2,2
−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シク
ロプロパンカルボキシレートの収率は、原料アルコール
に対し93%(選択率99%)であった。
えて12.5mgの濃硫酸を仕込む以外は実施例1に準
じて反応をおこなった。この反応混合物をガスクロマト
グラフィーで分析したところ、(3−フェノキシフェニ
ル)メチル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1
−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレートの収率
は、原料アルコールに対し81%(選択率87%)であ
った。
えて23.7mgのp-トルエンスルホン酸を仕込む以外
は実施例1に準じて反応をおこなった。この反応混合物
をガスクロマトグラフィーで分析したところ、(3−フ
ェノキシフェニル)メチル 2,2−ジメチル−3−
(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボ
キシレートの収率は、原料アルコールに対し61%(選
択率93%)であった。
チル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロ
パンカルボン酸と0.38gの4−ヒドロキシ−3−メ
チル−2−(2−プロペニル)−2−シクロペンテン−
1−オン、58.1mgの四塩化ハフニウム・2テトラ
ヒドロフラン錯体、5mlのキシレンを仕込んだ。この
反応器に冷却管付きのDean−Starkトラップを装着し、
反応中に副生してくる水をトラップ中に分液除去しなが
ら145℃にて8時間攪拌還流した。この反応混合物を
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、3−(2−
プロペニル)−2−メチル−4−オキソ−2−シクロペ
ンテニル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−
プロペニル)シクロプロパンカルボキシレートの収率
は、原料アルコールに対し65%(選択率84%)であ
った。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて62.1mgの四塩
化ハフニウム・2ジオキサン錯体を仕込む以外は実施例
6に準じて反応をおこなった。この反応混合物をガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、3−(2−プロペ
ニル)−2−メチル−4−オキソ−2−シクロペンテニ
ル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペ
ニル)シクロプロパンカルボキシレートの収率は、原料
アルコールに対し59%(選択率80%)であった。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて12.5mgの濃硫
酸を仕込む以外は実施例7に準じて反応をおこなった。
この反応混合物をガスクロマトグラフィーで分析したと
ころ、3−(2−プロペニル)−2−メチル−4−オキ
ソ−2−シクロペンテニル 2,2−ジメチル−3−
(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボ
キシレートの収率は、原料アルコールに対し30%(選
択率31%)であった。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて23.7mgのp-ト
ルエンスルホン酸を仕込む以外は実施例7に準じて反応
をおこなった。この反応混合物をガスクロマトグラフィ
ーで分析したところ、3−(2−プロペニル)−2−メ
チル−4−オキソ−2−シクロペンテニル 2,2−ジ
メチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプ
ロパンカルボキシレートの収率は、原料アルコールに対
し6.4%(選択率8.0%)であった。
チル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロ
パンカルボン酸と0.38gの4−ヒドロキシ−3−メ
チル−2−(2−プロピニル)−2−シクロペンテン−
1−オン、58.1mgの四塩化ハフニウム・2テトラ
ヒドロフラン錯体、5mlのキシレンを仕込んだ。この
反応器に冷却管付きのDean−Starkトラップを装着し、
反応中に副生してくる水をトラップ中に分液除去しなが
ら145℃にて8時間攪拌還流した。この反応混合物を
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、3−(2−
プロピニル)−2−メチル−4−オキソ−2−シクロペ
ンテニル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−
プロペニル)シクロプロパンカルボキシレートの収率
は、原料アルコールに対し61%(選択率79%)であ
った。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて62.1mgの四塩
化ハフニウム・2ジオキサン錯体を仕込む以外は実施例
6に準じて反応をおこなった。この反応混合物をガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、3−(2−プロピ
ニル)−2−メチル−4−オキソ−2−シクロペンテニ
ル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペ
ニル)シクロプロパンカルボキシレートの収率は、原料
アルコールに対し58%(選択率79%)であった。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて12.5mgの濃硫
酸を仕込む以外は実施例9に準じて反応をおこなった。
この反応混合物をガスクロマトグラフィーで分析したと
ころ、3−(2−プロピニル)−2−メチル−4−オキ
ソ−2−シクロペンテニル 2,2−ジメチル−3−
(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボ
キシレートの収率は、原料アルコールに対し9.3%
(選択率12%)であった。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて23.7mgのp-ト
ルエンスルホン酸を仕込む以外は実施例9に準じて反応
をおこなった。この反応混合物をガスクロマトグラフィ
ーで分析したところ、3−(2−プロピニル)−2−メ
チル−4−オキソ−2−シクロペンテニル 2,2−ジ
メチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプ
ロパンカルボキシレートの収率は、原料アルコールに対
し0.8%(選択率4.4%)であった。
ロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸と0.22gの2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(メトキシ
メチル)ベンジルアルコール、4.6mgの四塩化ハフ
ニウム・2テトラヒドロフラン錯体、5mlのキシレン
を仕込んだ。この反応器に冷却管付きのDean−Starkト
ラップを装着し、反応中に副生してくる水をトラップ中
に分液除去しながら145℃にて8時間攪拌還流した。
この反応混合物をガスクロマトグラフィーで分析したと
ころ、{2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(メトキシメチル)
フェニル}メチル 3−(1−プロペニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボキシレートの収率は、原
料アルコールに対し80%(選択率99%)であった。
2テトラヒドロフラン錯体に代えて5.0mgの四臭化
ハフニウムを仕込む以外は実施例11に準じて反応をお
こなった。この反応混合物をガスクロマトグラフィーで
分析したところ、{2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(メトキ
シメチル)フェニル}メチル 3−(1−プロペニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレートの収
率は、原料アルコールに対し95%(選択率97%)で
あった。
チル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロ
パンカルボン酸と0.45gの2,3,5,6-テトラフルオロ
-4-(メトキシメチル)ベンジルアルコール、18.6m
gの四塩化ハフニウム・2テトラヒドロフラン錯体、5
mlのキシレンを仕込んだ。この反応器に冷却管付きの
Dean−Starkトラップを装着し、反応中に副生してくる
水をトラップ中に分液除去しながら145℃にて8時間
攪拌還流した。この反応混合物をガスクロマトグラフィ
ーで分析したところ、{2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(メ
トキシメチル)フェニル}メチル2,2−ジメチル−3
−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカル
ボキシレートの収率は、原料アルコールに対し70%
(選択率99%)であった。
・2テトラヒドロフラン錯体に代えて19.9mgの四
臭化ハフニウムを仕込む以外は実施例13に準じて反応
をおこなった。この反応混合物をガスクロマトグラフィ
ーで分析したところ、{2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(メ
トキシメチル)フェニル}メチル2,2−ジメチル−3
−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカル
ボキシレートの収率は、原料アルコールに対し81%
(選択率87%)であった。
Claims (13)
- 【請求項1】一般式(1) (式中、R1、R2、R3、R4、R5はそれぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいア
ルキル基(ここでアルキル基は、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシイミノ
基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ
基またはヒドロキシスルフィニル基で置換されていても
よい)、置換されていてもよいアルケニル基、置換され
ていてもよいアルキニル基(ここでアルケニル基または
アルキニル基は、ハロゲン原子、アリール基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシイミノ基、
アルキルスルホニル基またはアルキルスルホニルオキシ
基で置換されていてもよい)、置換されていてもよいア
ラルキル基(ここでアラルキル基は、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルコキシイミノ基、アルキルスルホニル基またはアルキ
ルスルホニルオキシ基で置換されていてもよい)または
置換されていてもよいアリール基(ここでアリール基
は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アルキルスルホニル基またはアルキ
ルスルホニルオキシ基で置換されていてもよい)を示
す。)で示されるシクロプロパンカルボン酸類と一般式
(2) R6OH (2) (式中、 R6は、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキ
ニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基もしく
は複素環基で置換されていてもよいアルキル基;フェノ
キシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子もしくはア
ルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基;また
は、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原子で
置換されていてもよいアリール基を示す。)で示される
モノヒドロキシ化合物とを周期表4族元素化合物(Zr
ではない)存在下に反応させることを特徴とする一般式
(3) (式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同
じ意味を示す。)で示されるシクロプロパンカルボン酸
エステル類の製造法。 - 【請求項2】周期表4族元素化合物がルイス酸性化合物
である請求項1記載の製造法。 - 【請求項3】周期表4族元素化合物が一般式(4) M(O)m(X)n(Y)4-2m-n (4) (式中、X,Yはそれぞれ独立してハロゲン原子、アル
コキシ基、アシルオキシ基、アセチルアセトナート基、
シクロペンタジエニル基またはアミノ基を示し、Mは周
期表4族元素を示し、mは0または1を示し、nは0、
1または2を示す。)で示される化合物である請求項1
記載の製造法。 - 【請求項4】周期表4族元素化合物がハフニウム化合物
もしくはチタン化合物である請求項1記載の製造法。 - 【請求項5】周期表4族元素化合物がハフニウムもしく
はチタンのハロゲン化物、ハフニウムもしくはチタンの
アルコキシドまたはハフニウムもしくはチタンのアミド
化合物である請求項1記載の製造法。 - 【請求項6】一般式(1)で示されるシクロプロパンカ
ルボン酸類が2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロ
ロビニル)シクロプロパンカルボン酸である請求項1〜
5のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項7】一般式(1)で示されるシクロプロパンカ
ルボン酸類が2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1
−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸である請求項
1〜5のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項8】一般式(2)で示されるモノヒドロキシ化
合物が一級アルコール類である請求項1〜7のいずれか
に記載の製造法。 - 【請求項9】一般式(2)で示されるモノヒドロキシ化
合物がベンジルアルコール類である請求項1〜7のいず
れかに記載の製造法。 - 【請求項10】一般式(2)で示されるモノヒドロキシ
化合物が3−フェノキシベンジルアルコールである請求
項1〜7のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項11】一般式(2)で示されるモノヒドロキシ
化合物がヒドロキシシクロペンテノン類である請求項1
〜7のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項12】一般式(2)で示されるモノヒドロキシ
化合物が4−ヒドロキシ−3−メチル−2−(2−プロ
ペニル)−2−シクロペンテン−1−オンである請求項
1〜7のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項13】一般式(2)で示されるモノヒドロキシ
化合物が4−ヒドロキシ−3−メチル−2−(2−プロ
ピニル)−2−シクロペンテン−1−オンである請求項
1〜7のいずれかに記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002012610A JP2002293760A (ja) | 2001-01-24 | 2002-01-22 | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001016106 | 2001-01-24 | ||
JP2001-16106 | 2001-01-24 | ||
JP2002012610A JP2002293760A (ja) | 2001-01-24 | 2002-01-22 | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002293760A true JP2002293760A (ja) | 2002-10-09 |
Family
ID=26608229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002012610A Pending JP2002293760A (ja) | 2001-01-24 | 2002-01-22 | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002293760A (ja) |
-
2002
- 2002-01-22 JP JP2002012610A patent/JP2002293760A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7399873B2 (en) | Process for the preparation of carboxylic acid esters | |
JP4284914B2 (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
US6909013B2 (en) | Process for producing cyclopropanecarboxylates | |
JP2002293760A (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造法 | |
US6706910B2 (en) | Method for producing cyclopropanecarboxylates | |
JP4876339B2 (ja) | トランス−ビニル置換シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP4051860B2 (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP4131082B2 (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP5315810B2 (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP2000178232A (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP5617317B2 (ja) | 3−(2−シアノ−1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸またはその塩の製造方法 | |
EP1061065B1 (en) | Methods for producing cyclopropane carboxylates | |
KR100624348B1 (ko) | 사이클로프로판카복실레이트의 제조방법 | |
US20120310003A1 (en) | Method for producing cyanoalkenylcyclopropanecarboxylic acid salt | |
JP2000191589A (ja) | シクロプロパンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP2013199448A (ja) | シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸塩の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040513 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071227 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080325 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080430 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080512 |