JP2002273659A - スラリー濃度自動管理システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スラリー濃度を規定値に保つことを可能と
し、安定的な研磨を行えるようにする。 【解決手段】 ガラス研磨に使用されるスラリーを保管
するスラリータンク１と、そのスラリータンク１にスラ
リーを供給するサブタンク２と、そのサブタンク２に研
磨粉を供給する研磨粉タンク３とを具備し、スラリータ
ンク１とサブタンク２は共に濃度を測定するための比重
計４，６と水が供給される水ライン５，７とを有してな
り、スラリータンク１内のスラリー濃度が規定値の下限
以下になった時はサブタンク２からスラリータンク１に
高濃度のスラリーを供給し、規定値の上限以上になった
時はスラリータンク１に水を供給する構成とする。スラ
リーの補充を人手で行っていた時のようにオペレーター
ごとの個体差を生じることがなく、スラリー濃度を規定
値に保つことが可能となり、安定的な研磨を行うことが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨粉を水に溶解
したスラリーを使用して行うガラス研磨の技術分野に属
するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、高い平面度が要求されるガラス
研磨の工程では、酸化セリウム、アルミナなどの研磨粉
を水などに溶解したスラリーが使用されている。そし
て、ガラスワークの研磨を行うに際しては、オペレータ
ーがそのスラリー濃度を定期的に確認し、スラリー濃度
が低くなると、研磨粉を水に溶かしてスラリー濃度の調
整を行うか、或いは、一定濃度に調整されたスラリーを
購入し、そのスラリーを注ぎ足すことでスラリー濃度の
調整を行っている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記した従来の濃度調
整のやり方では、スラリー濃度の管理を一定時間ごとに
或いは研磨処理枚数ごとにチェックする必要があった。
また、前者の場合、補充した研磨粉が水に対して一定に
溶解しないことが往々にして発生しており、またこの補
充作業は、オペレーターの手によって行われていたた
め、オペレーターごとの個体差が生じるということもあ
り、スラリー濃度を常時一定に保つことは非常に困難で
あった。また、濃度調整を行う際、研磨粉やスラリーを
取り扱うため、オペレータが研磨粉を吸い込んだり、作
業場所の周辺やオペレーター自身が汚れるなどの問題も
生じていた。また、後者においては、一定濃度に調整さ
れたスラリーが研磨粉単体よりも価格が高いため、ラン
ニングコストがかさむという問題点を抱えていた。

【０００４】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、スラリー濃
度を規定値に保つことを可能とし、安定的な研磨を行え
るようにしたスラリー濃度自動管理システムを提供する
ことにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のスラリー濃度自動管理システムは、ガラス
研磨に使用されるスラリーを保管するスラリータンク
と、そのスラリータンクにスラリーを供給するサブタン
クと、そのサブタンクに研磨粉を供給する研磨粉タンク
とを具備し、スラリータンクとサブタンクは共に濃度を
測定するための比重計と水が供給される水ラインとを有
してなり、スラリータンク内のスラリー濃度が規定値の
下限以下になった時はサブタンクからスラリータンクに
高濃度のスラリーを供給し、規定値の上限以上になった
時はスラリータンクに水を供給するようにしたことを特
徴としている。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。

【０００７】図１は本発明に係るスラリー濃度自動管理
システムの具体例を示した概略構成図である。

【０００８】図１において１はスラリータンクであり、
ガラス研磨に使用されるスラリーがここに保管される。
本発明で行うガラス研磨は、平面度を要求されるすべて
のガラス板が対象となる。そして、そのガラスの研磨に
使用するスラリーは、研磨粉を水などに溶解したもので
あり、研磨粉としては、ガラス研磨を行う際に一般的に
用いられている物質でよく、酸化セリウム、アルミナな
どが代表的であり、研磨用途により様々な粒径のものが
用いられる。

【０００９】スラリータンク１には、図１に示すよう
に、スラリーを供給するためのサブタンク２が接続され
ており、さらにサブタンク２には研磨粉を供給する研磨
粉タンク３が接続されている。さらに、スラリータンク
１には、スラリー濃度を計測するための比重計４が取り
付けられるとともに、水が供給される水ライン５が接続
しており、サブタンク２にも、同様な比重計６が取り付
けられるとともに、水が供給される水ライン７が接続し
ている。そして、図示のように制御ユニット８が設けら
れており、この制御ユニット８は、比重計４，６からの
信号を受け、この信号に基づいて水ライン５，７のバル
ブ５ａ，７ａを開閉することでスラリータンク１とサブ
タンク２へ供給する水の量をそれぞれ制御し、また研磨
粉タンク３からサブタンク２へ供給する研磨粉の量を制
御する。

【００１０】図１に示したシステムにおいては、スラリ
ータンク１内のスラリー濃度が規定値の範囲外になった
時に、スラリータンク１の比重計４からの信号によりス
ラリー濃度を一定に保つように制御が行われる。

【００１１】具体的には、スラリー濃度が規定値の下限
以下になった時に、研磨粉タンク３からサブタンク２へ
研磨粉が供給され、サブタンク２内で研磨粉が水と溶解
されてスラリータンク１内のスラリーよりも高い濃度の
スラリーが作られる。この時、必要に応じてバルブ７ａ
が開き、水ライン７から水が供給される。そして、その
スラリーがスラリータンク１に供給され、スラリータン
ク１内のスラリー濃度が規定値の濃度になるまでこの作
業が繰り返される。逆に、スラリータンク１内のスラリ
ー濃度が規定値の上限以上になった時、バルブ５ａが開
き、規定値の濃度になるまで水ライン５からスラリータ
ンク１内に水が直接供給される。

【００１２】以上、本発明を実施の形態に基づいて説明
したが、本発明によるスラリー濃度自動管理システム
は、上記実施の形態に何ら限定されるものでなく、本発
明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能で
あることは言うまでもない。

【００１３】

【発明の効果】本発明のスラリー濃度自動管理システム
は、ガラス研磨に使用されるスラリーを保管するスラリ
ータンクと、そのスラリータンクにスラリーを供給する
サブタンクと、そのサブタンクに研磨粉を供給する研磨
粉タンクとを具備し、スラリータンクとサブタンクは共
に濃度を測定するための比重計と水が供給される水ライ
ンとを有してなり、スラリータンク内のスラリー濃度が
規定値の下限以下になった時はサブタンクからスラリー
タンクに高濃度のスラリーを供給し、規定値の上限以上
になった時はスラリータンクに水を供給するようにした
ことを特徴としているので、スラリーの補充を人手で行
っていた時のようにオペレーターごとの個体差を生じる
ことがなく、スラリー濃度を規定値に保つことが可能と
なり、安定的な研磨を行うことができる。

【００１４】また、研磨粉を水に溶かす作業が自動的に
行われることで、研磨粉が水に対して一定に溶解するよ
うになり、人手で研磨粉を補充していた時のようなスラ
リーの濃度ムラをなくすことができる。

【００１５】また、オペレーターが研磨粉を吸い込むこ
ともなくなり、作業場所の周辺やオペレーター自身が汚
れるということもなくなる。

【００１６】また、一定濃度に調整されたスラリーを購
入するような必要もなくなり、ランニングコストを削減
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るスラリー濃度自動管理システムの
具体例を示した概略構成図である。

【符号の説明】

１ スラリータンク ２ サブタンク ３ 研磨粉タンク ４ 比重計 ５ 水ライン ６ 比重計 ７ 水ライン ８ 制御ユニット

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス研磨に使用されるスラリーを保管
   するスラリータンクと、そのスラリータンクにスラリー
   を供給するサブタンクと、そのサブタンクに研磨粉を供
   給する研磨粉タンクとを具備し、スラリータンクとサブ
   タンクは共に濃度を測定するための比重計と水が供給さ
   れる水ラインとを有してなり、スラリータンク内のスラ
   リー濃度が規定値の下限以下になった時はサブタンクか
   らスラリータンクに高濃度のスラリーを供給し、規定値
   の上限以上になった時はスラリータンクに水を供給する
   ようにしたことを特徴とするスラリー濃度自動管理シス
   テム。