JP2002268104A - 単一光子発生方法および単一光子発生装置 - Google Patents
単一光子発生方法および単一光子発生装置Info
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Abstract
生させる単一光子発生方法および単一光子発生装置を提
供すること。 【解決手段】半導体GaAs基板1の上に形成された単
一光子発生装置において、インターデジタルトランスデ
ューサ2を電圧駆動して表面音響波を発生させ、それに
よって、振幅の小さいソリトンと振幅の大きいソリトン
とを、半導体GaAs基板1表面に、この順に生成し、
ソリトン進行通路とメサ構造体4の2次元電子ガス領域
との共通部分すなわち電子捕獲チャネル8において、振
幅の小さいソリトンに電子を捕獲させた後、電子を捕獲
した振幅の小さいソリトンと電子を捕獲していない振幅
の大きいソリトンとの衝突、相互作用によって起こる電
子遷移によって単一光子を発生させることを特徴とする
単一光子発生方法および単一光子発生装置を構成する。
Description
および単一光子発生装置に関するものである。
を変調することによって情報を伝送している。この場
合、光子の集団を対象にしているが、光子1個を単位と
した情報伝達は究極の光通信と言える。したがって、単
一光子の規則的な流れを作り出すことは、量子情報処理
の基本要素である。
として単一電子ターンスタイルの原理にもとづいた発光
素子が開発された(J. Kim, O. Benson, H. Kan and Y.
Yamamoto, Nature 397, 500 (1999) 参照)。これは微小
トンネル接合における電子のクーロンブロッケイド効果
を利用したものである。その光子生成の仕組みは、電子
と正孔との再結合によって単一光子を発生させる従来の
発光原理に加え、あたかも回転ドアを通過するが如く、
時間的に規則正しく単一の電子と単一の正孔を結合層に
注入するクーロンブロッケイド効果によって、規則正し
い単一光子発生を実現するというものである。
素子では、発生光子の角周波数が素子の再結合層のエネ
ルギーギャップの大きさによって制限される。また、光
子生成時間もトンネル接合の静電容量によって決まり、
一度素子を構成すると、光子生成時間を容易に変える事
はできない。したがって任意の角周波数を有する光子を
任意の時間に発生させることは不可能である。
になされたものであり、任意の角周波数を有する光子を
任意の時間に発生させる単一光子発生方法および単一光
子発生装置を提供することを目的としている。
に、本発明は、請求項1に記載のように、単一光子発生
方法であって、第1のソリトンを生成し、前記第1のソ
リトンに電子を捕獲させ、前記第1のソリトンより振幅
の大きい第2のソリトンを生成し、前記第1のソリトン
と前記第2のソリトンとを衝突させ、前記第1のソリト
ンの束縛準位から前記第2のソリトンの束縛準位に電子
を遷移させて光子を放出させることを特徴とする単一光
子発生方法を構成する。
に、請求項1に記載の単一光子発生方法であって、前記
ソリトンが、可積分非線形分散方程式に従うことを特徴
とする単一光子発生方法を構成する。
に、単一光子発生方法であって、第1番目のソリトンを
生成し、前記第1番目のソリトンに電子を捕獲させ、第
N番目(Nは2以上の整数とする)のソリトンとして、
第N−1番目のソリトンよりも振幅の大きなソリトンを
生成し、全ての前記ソリトンについて、必ず前記第N−
1番目のソリトンと前記第N番目のソリトンが衝突して
から、前記第N番目のソリトンと前記第N+1番目のソ
リトンの衝突が起こるように、前記ソリトンの振幅と生
成のタイミングとを調整することによって、時間間隔を
置いて複数の光子を1つずつ発生させることを特徴とす
る単一光子発生方法を構成する。
に、請求項3に記載の単一光子発生方法であって、生成
されたソリトン列が次の方程式を満たすことを特徴とす
る単一光子発生方法を構成する。
生装置であって、ソリトン発生手段と、ソリトン伝播媒
体と、電子捕獲部と、ソリトン相互作用部とを有するこ
とを特徴とする単一光子発生装置を構成する。
に、請求項5に記載の単一光子発生装置であって、前記
ソリトン発生手段は表面弾性波発生装置であり、前記ソ
リトン伝播媒体は半導体基板表面であり、前記電子捕獲
部は、前記半導体基板表面に形成された2次元電子ガス
領域とソリトン進行通路である1次元ソリトン伝播チャ
ネルとの共通部分であることを特徴とする単一光子発生
装置を構成する。
ル中に束縛された電子を利用したサブポアソン単一光子
発生方法および単一光子発生装置に関する。この場合
に、ソリトンとしては、可積分非線形分散方程式に従う
ソリトンを利用することができる。ここに、「可積分非
線形分散方程式」とは、波の変位に関する非線形微分方
程式であって、波の速度を波の振幅の関数とするもので
あり、その一例が後述のKdV方程式である。また、上
記の式(1)で表されるソリトン(N=1の場合以外は
ソリトン列)は上記の「可積分非線形分散方程式に従う
ソリトン」の一例となっている。
長の単一光子を発生させるために、ソリトンポテンシャ
ルを利用する。
基づいており、その量子遷移は波動関数の重なりによっ
て決定される。したがって、この重なりを外部より制御
することによって発光過程を制御することが可能とな
る。この制御がソリトンによって如何に行われるか次に
述べる。
果とが釣り合った孤立波である。ソリトンはその伝播お
よび他のソリトンとの衝突に対して安定であるため、通
信や次に述べるソリトン輸送へ応用される。
して働くと、電子を捕獲し、ソリトンの伝播とともに電
子を輸送することが可能となる(T. Sakuma and N. Nish
iguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 137 (1991)参照)。
これがソリトン輸送である。特に、KdV方程式(Kort
eweg - de Vries 方程式)を満足するソリトンでは、ソ
リトンポテンシャル中にただ1つの束縛準位しか存在し
ない。したがって、量子遷移など起こらず、発光に対し
ても安定である。ここで、より深いエネルギー準位をも
ったソリトンポテンシャルを用意し、前述の電子を束縛
したソリトンと衝突させる。この、より深いエネルギー
準位をもったソリトンポテンシャルは、振幅がより大き
いソリトンを生成することによって得られる。衝突前、
波動関数の重なりはほとんど0であるので量子遷移は禁
止される。したがって発光過程も禁止される。しかし、
相互作用中心では、重なりは最大になり、よりエネルギ
ーの低い状態に電子の遷移が可能となる。このとき準位
差に相当したエネルギーをもつ光子が発生する。衝突
後、再び波動関数の重なりは消え発光過程は禁止され
る。したがって、ソリトンポテンシャルの衝突のタイミ
ングを制御する事によって、任意の時刻に単一光子を発
生させる事が可能となる。この概念図を図1に示す。
び波動関数を表し、横方向は位置を表し、(a)〜
(e)は各瞬間におけるソリトンと電子の状態を表し、
時間は(a)から(e)に向けて経過している。ただ
し、波動関数の原点はソリトンによって変えてある。図
1の(a)は、電子を捕獲した第1のソリトンの後に、
第1のソリトンより振幅の大きい第2のソリトンが生成
された状態を示し、(b)は、第2のソリトンが、その
速さが第1のソリトンよりも速いので、第1のソリトン
に近づく状態を示し、(c)は、第2のソリトンが第1
のソリトンに追いつき、電子の量子遷移と光子放出とが
起こる状態を示し、(d)および(e)は、電子を捕獲
した第2のソリトンが第1のソリトンを追い越して行く
状態を示している。
って発生光子の波長も制御できる。更に、適当に配置さ
れた複数のソリトン列によって、次々と規則正しく単一
光子を発生させる事が可能となる。
単一光子発生装置の一例と、それを用いた単一光子発生
方法を説明する図である。
GaAs基板1の上に形成されており、その構成要素と
して、表面音響波(SAW)を発生するインターデジタ
ルトランスデューサ(IDT)2と、インターデジタル
トランスデューサ2を電圧駆動するための金(Au)の
接続パッド3、3’と、GaAs基板1表面に2次元電
子ガス生成領域を有するメサ構造体4と、メサ構造体4
へのオーミックコンタクト5、5'、6とを備えてい
る。なお、インターデジタルトランスデューサ2の櫛型
電極はNiCrAlで形成されている。
インターデジタルトランスデューサ2を電圧駆動する
と、表面音響波(SAW)が発生し、SAWは半導体の
非線形弾性効果と分散効果が釣り合い、自発的に表面弾
性波ソリトンになり、GaAs基板1表面を右方向に進
行する。そのソリトンの進行通路(図2の平行鎖線で挟
まれた領域)を1次元ソリトン伝播チャネルと呼ぶ。
ン発生手段」は表面弾性波発生装置であるインターデジ
タルトランスデューサ2に該当し、「ソリトン伝播媒
体」はGaAs基板1の表面に該当し、「電子捕獲部」
は、メサ構造体4中にエッチングによって形成されたト
レンチ7、7’に挟まれた半導体GaAs基板の表面部
分である電子捕獲チャネル8(この部分には2次元電子
ガスが存在する)に該当し、「ソリトン相互作用部」
は、電子捕獲チャネル8と右側のインターデジタルトラ
ンスデューサ2’との中間に位置する半導体GaAs基
板の表面に該当する。
よって単一光子を発生させる方法について説明する。
したインターデジタルトランスデューサ2を駆動して表
面音響波(SAW)を発生させる。発生したSAWは半
導体の非線形弾性効果と分散効果が釣り合い、自発的に
表面弾性波ソリトンになり、GaAs基板1表面を右方
向に進行する。この時、ソリトンの振幅は、SAWを発
生させる際、インターデジタルトランスデューサ2に印
加した電圧によって決定される。したがって、異なる振
幅を持っソリトンを形成することは、異なる電圧を与え
ることによって達成される。この方法によって、単一光
子発生のために2つの振幅の異なるソリトンを生成す
る。一方は振幅の小さい電子捕獲用ソリトンであり、他
方は振幅の大きな空のソリトンである。以下、前者を捕
獲ソリトン、後者をターゲットソリトンと呼ぶ。生成の
順序は、捕獲ソリトンそしてターゲットソリトンであ
る。2つのソリトンは、捕獲ソリトンが前、ターゲット
ソリトンが後となって、右方向に進行する。
そのために、ソリトン進行通路(1次元ソリトン伝播チ
ャネル)とメサ構造体4の2次元電子ガス領域との共通
部分すなわち電子捕獲チャネル8における2次元電子ガ
スのフェルミ準位を調節することによって電子をソリト
ンに捕獲、束縛させる(C. H. W. Barnes, J. M. Shilt
on and A. M. Robinson, Phys. Rev. B 62, 8410 (200
0) 参照)。2次元電子ガスのフェルミ準位の調節は、
オーミックコンタクト6に印加する電圧Vgを変えるこ
とによって行う。一方、ターゲットソリトンに対して
は、フェルミ準位を変えて、空のまま電子捕獲チャネル
8を通過させる。
リトン相互作用部、すなわち、電子捕獲チャネル8とそ
の右側のインターデジタルトランスデューサ2’との中
間に位置する半導体GaAs基板の表面において、捕獲
ソリトンとターゲットソリトンとを衝突、相互作用させ
て、単一光子を発生させる。
はソリトンによる電子の捕獲を検知するためのものであ
り、インターデジタルトランスデューサ2’はソリトン
を検知するためのものである。
置を半導体GaAs基板1の上に形成したが、半導体G
aAs基板1に代えて、シリコンなどの半導体基板を用
いてもよい。
た方法でソリトンを生成する。ただし、ソリトンの配置
は次に示すようにソリトンを生成する。これによって、
単一光子は一定の時間間隔Tで発生する。
図中の黒丸は、捕獲ソリトンとターゲットソリトンとの
相互作用によって単一光子が発生する位置と時間とを示
している。
より、任意の角周波数を有する光子を任意の時間に発生
させる単一光子発生方法および単一光子発生装置を提供
することが可能となる。
がなされている。その実現には、究極の情報伝達単位で
ある単一光子を任意に制御できることが非常に重要な課
題となっている。本発明の実施によって、この課題が解
決され、いままで不可能であった単一の光子を任意に発
生させることが可能となる。それによって完全に安全な
量子暗号の実現などが可能となり、この分野における本
発明の貢献は計り知れない。
ある。
ある。
作用の様子を説明する図である。
トランスデューサ、3、3’…接続パッド、4…メサ構
造体、5、5'、6…オーミックコンタクト、7、7’
…トレンチ、8…電子捕獲チャネル。
Claims (6)
- 【請求項1】単一光子発生方法であって、 第1のソリトンを生成し、 前記第1のソリトンに電子を捕獲させ、 前記第1のソリトンより振幅の大きい第2のソリトンを
生成し、 前記第1のソリトンと前記第2のソリトンとを衝突さ
せ、前記第1のソリトンの束縛準位から前記第2のソリ
トンの束縛準位に電子を遷移させて光子を放出させるこ
とを特徴とする単一光子発生方法。 - 【請求項2】請求項1に記載の単一光子発生方法であっ
て、前記ソリトンが、可積分非線形分散方程式に従うこ
とを特徴とする単一光子発生方法。 - 【請求項3】単一光子発生方法であって、 第1番目のソリトンを生成し、 前記第1番目のソリトンに電子を捕獲させ、 第N番目(Nは2以上の整数とする)のソリトンとし
て、第N−1番目のソリトンよりも振幅の大きなソリト
ンを生成し、 全ての前記ソリトンについて、必ず前記第N−1番目の
ソリトンと前記第N番目のソリトンが衝突してから、前
記第N番目のソリトンと前記第N+1番目のソリトンの
衝突が起こるように、前記ソリトンの振幅と生成のタイ
ミングとを調整することによって、時間間隔を置いて複
数の光子を1つずつ発生させることを特徴とする単一光
子発生方法。 - 【請求項4】請求項3に記載の単一光子発生方法であっ
て、 生成されたソリトン列が次の方程式を満たすことを特徴
とする単一光子発生方法。 【数1】 - 【請求項5】単一光子発生装置であって、 ソリトン発生手段と、 ソリトン伝播媒体と、 電子捕獲部と、 ソリトン相互作用部とを有することを特徴とする単一光
子発生装置。 - 【請求項6】請求項5に記載の単一光子発生装置であっ
て、 前記ソリトン発生手段は表面弾性波発生装置であり、 前記ソリトン伝播媒体は半導体基板表面であり、 前記電子捕獲部は、前記半導体基板表面に形成された2
次元電子ガス領域とソリトン進行通路である1次元ソリ
トン伝播チャネルとの共通部分であることを特徴とする
単一光子発生装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001065010A JP3735043B2 (ja) | 2001-03-08 | 2001-03-08 | 単一光子発生方法および単一光子発生装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007274108A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Fujitsu Ltd | 単一光子発生装置 |
US7492901B2 (en) | 2003-02-20 | 2009-02-17 | Fujitsu Limited | Single-photon generator and single-photon generating method |
-
2001
- 2001-03-08 JP JP2001065010A patent/JP3735043B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CN1317598C (zh) * | 2004-11-26 | 2007-05-23 | 华东师范大学 | 一种通信波段单光子源的产生方法 |
JP2007274108A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Fujitsu Ltd | 単一光子発生装置 |
JP4724035B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-07-13 | 富士通株式会社 | 単一光子発生装置 |
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