JP2002267833A - Method for manufacturing color filter for liquid crystal display - Google Patents

Method for manufacturing color filter for liquid crystal display

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JP2002267833A
JP2002267833A JP2001071899A JP2001071899A JP2002267833A JP 2002267833 A JP2002267833 A JP 2002267833A JP 2001071899 A JP2001071899 A JP 2001071899A JP 2001071899 A JP2001071899 A JP 2001071899A JP 2002267833 A JP2002267833 A JP 2002267833A
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JP2001071899A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Kagami
Yasushi Kobayashi
裕史 小林
信行 鏡味
Original Assignee
Toray Ind Inc
東レ株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display by which irregular coating can be significantly improved when a radiation reactive resin composition is applied on a substrate by a die coating or a die coating and spin coating method, and the spacer formed from a photoresist instead of a conventional spacer member shows superior uniformity in its height.
SOLUTION: The method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display features that a radiation reactive resin composition containing a radiation reactive resin component, propylene glycol as the solvent for the component, ethyl lactate and/or propylene glycol monomethylether acetate, and a fluorine- based surfactant on a substrate by a die coating method or a die coating and spin coating method and subjecting the composition to photolithographic processes to form a spacer.
COPYRIGHT: (C)2002,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法に関するものであり、詳しくはカラー液晶ディスプレイのセルギャップを形成するスペーサ部材の代わりに放射線反応性樹脂によりスペーサを形成する液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法に関するものである。 The present invention relates to is a method of manufacturing a color liquid crystal display filter, and more particularly a liquid crystal display for forming a spacer by radiation-reactive resin in place of the spacer members forming the cell gap of the color liquid crystal display a method of manufacturing a use color filters.

【0002】 [0002]

【従来の技術】カラー液晶ディスプレイ(LCD)が急速に普及し、とりわけ動画などの表示品位に優れたTF BACKGROUND OF THE INVENTION color liquid crystal display (LCD) is rapidly spreading, TF especially excellent in display quality such as video
T型LCDが広く用いられるようになってきている。 T-type LCD has been widely used. 図3に一般的なLCDパネルの断面概略図を示す。 Figure 3 shows a cross-sectional schematic view of a typical LCD panel. カラーフィルタ基板1とThin FilmTransistor(TFT)基板2とを、ガラスビーズ、樹脂ビーズなどからなるスペーサ部材3を介してシール剤4で貼り合わせてセルギャップを設け、このセルギャップに液晶5が封入されている。 A color filter substrate 1 and Thin FilmTransistor (TFT) substrate 2, glass beads, the cell gap by bonding a sealing agent 4 via the spacer member 3 made of resin beads is provided, the liquid crystal 5 is filled in this cell gap ing. カラーフィルタ基板1にはブラックマトリックス(BM)層6と、レッド(R)着色層7、グリーン(G)着色層8、ブルー(B)着色層9、および透明電極層10が形成されており、一方TFT基板2には、薄膜トランジスタ11が形成されている。 A black matrix (BM) layer 6 in the color filter substrate 1, red (R) color layer 7, green (G) color layer 8, blue (B) color layer 9, and the transparent electrode layer 10 are formed, on the other hand, the TFT substrate 2, a thin film transistor 11 is formed. LCDパネルの製造工程で、スペーサ部材3は霧状に散布されて、カラーフィルタ基板1およびTFT基板2に設置されるが、 In the manufacturing process of the LCD panel, the spacer member 3 is sprayed in a mist form, but is installed in the color filter substrate 1 and the TFT substrate 2,
スペーサ部材3が静電気で帯電して凝集したり、液晶の注入時に移動すると、セルギャップの均一性が悪化して表示品位低下の原因となる。 Or agglomerated spacer member 3 is electrostatically charged, moving during the injection of liquid, the uniformity of the cell gap causes to display quality decreases worse. また、スペーサ部材3はL The spacer member 3 is L
CDの表示領域にも多数存在してしまうので、スペーサ部材3によって光が散乱されたり、輝度が低くなったりして表示品位を損なう問題も引き起こす。 Since thus that much display area of ​​the CD, the light is scattered by the spacer member 3 or, problem causes impairing the display quality or brightness becomes lower. 最近LCD Recently LCD
は、より高画質が求められる大画面モニターや、テレビなどにも用途拡大されており、表示品位の低下は重大な問題となる。 Is more and large-screen monitor that high quality is required, are also expanding applications in such as television, degradation of the display quality is a serious problem.

【0003】上記したスペーサ部材を用いることによる問題を解決するため、例えば特開平10−20314号公報では、フォトリソ加工法によりフォトレジストをスペーサに形成するという提案がなされている。 In order to solve the problem by using the spacer member as described above, for example, in JP-A 10-20314 and JP-proposal to form a photoresist spacers are made by photolithographic processing methods. 図4にこの提案によるカラーLCDパネルの断面概略図を示す。 Figure 4 shows a cross-sectional schematic view of a color LCD panel according to this proposal.
図3におけるスペーサ部材3の代わりに、フォトレジストを用いてスペーサ12が形成されている。 Instead of the spacer member 3 in FIG. 3, the spacer 12 by using a photoresist is formed.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この提案によるLCDパネルでは、フォトレジストを基板に塗布する際の塗布ムラが、スペーサ高さのバラツキとなってセルギャップの均一性を悪化させるため、塗布ムラを可能な限り抑えることが重要となる。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the LCD panel according to this proposal, since the uneven application in applying the photoresist to the substrate, thereby deteriorating the uniformity of the cell gap as variations of the spacer height, coating it is important to keep as much as uneven as possible. フォトレジストを基板に塗布する方法としては、従来からロールコート法、スピンコート法、ダイコート法、あるいはダイコート法とスピンコート法を併用する、いわゆるダイコートスピンコート法などがある。 As the method for applying the photoresist to the substrate, a roll coating method conventionally, spin coating, die coating, or a combination of die coating and spin coating method, there is a so-called die coating spin coating. これら方法のうち、ロールコート法によるフォトレジストの塗布ムラを改善する方法として、特開平10−186637号公報では溶媒にプロピレングリコールアルキルエーテル、特開平10− Among these methods, as a method for improving the coating unevenness of the photoresist by a roll coating method, the propylene glycol alkyl ether solvent in JP-A 10-186637, JP-A No. 10-
186638号公報ではプロピレングリコール、ジプロピレングリコールを用いるという提案がなされている。 Propylene glycol is 186,638 discloses, suggestion using dipropylene glycol have been made.

【0005】しかしながら、最近では基板の大型化に伴い、塗布液の使用量が少なく製造コスト面で有利で、かつ塗布膜厚の均一性に優れたダイコート法あるいはダイコートスピンコート法が主流となり、ロールコート法はほとんど採用されなくなっている。 However, recently due to enlargement of the substrate, advantageous and excellent uniformity of coating film thickness die coating method or a die coating spin coating method is the mainstream in the manufacturing cost amount is small of the coating liquid, roll coating method is no longer the most adopted.

【0006】このような状況で、本発明者らはダイコート法あるいはダイコートスピンコート法で放射線反応性樹脂組成物を塗布し、従来のスペーサ部材に代わるスペーサを形成するに際し、セルギャップ均一性悪化の原因となる塗布ムラを抑制する方法について検討を行ったところ、上記提案では効果が十分ではないことが判明した。 [0006] In such circumstances, the present inventors have a radiation-reactive resin composition was applied by die coating method or a die coating spin coating, in forming a spacer in place of conventional spacer member, the cell gap uniformity deterioration was examined the method of suppressing the uneven coating that cause, effect in the above proposal is found to be not enough.

【0007】本発明の目的は、上記従来技術の問題を解消することにあり、ダイコート法あるいはダイコートスピンコート法により放射線反応性樹脂組成物を基板に塗布する際の塗布ムラを大幅に改善でき、放射線反応性樹脂で形成したスペーサ高さの均一性に優れる液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above prior art problems, uneven coating at the time of applying a radiation-reactive resin composition to a substrate can significantly improve the die coating method or a die coating spin coating, It is to provide a method for producing a color filter for a liquid crystal display excellent in uniformity of spacer height formed by radiation-reactive resin.

【0008】 [0008]

【課題を解決するための手段】上記した本発明の課題は、以下の構成を採用することにより、達成することができる。 The object of the present invention described above [Means for Solving the Problems], by adopting the following configuration can be achieved.

【0009】(1)放射線反応性樹脂成分と、その溶媒としてプロピレングリコールと、乳酸エチルおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、フッ素系界面活性剤とを含有する放射線反応性樹脂組成物を、ダイコート法またはダイコートスピンコート法により基板に塗布し、フォトリソ加工法によりスペーサを形成することを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 [0009] (1) and the radiation-reactive resin component, and propylene glycol as the solvent, and ethyl lactate and / or propylene glycol monomethyl ether acetate, a radiation-reactive resin composition containing a fluorine-based surfactant, die applied to the substrate by law or die coating spin coating, method for manufacturing a color liquid crystal display filter and forming a spacer by photolithography processing methods.

【0010】(2)放射線反応性樹脂成分がノボラック樹脂およびキノンジアジド樹脂からなることを特徴とする前記(1)に記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 [0010] (2) A method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to the radiation-reactive resin component is characterized by comprising a novolak resin and a quinone diazide resin (1).

【0011】(3)放射線反応性樹脂組成物中の全溶媒に対するプロピレングリコールの含有量が1〜20重量%である前記(1)または(2)に記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 [0011] (3) A method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to the content of propylene glycol is 1 to 20% by weight relative to the total solvent of radiation-reactive resin composition (1) or (2).

【0012】(4)フッ素系界面活性剤の含有量が放射線反応性樹脂成分に対して10〜5000ppmであることを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 [0012] (4) for a liquid crystal display according to any of the content of the fluorine-based surfactant characterized in that it is a 10~5000ppm against radiation-reactive resin component (1) to (3) method of producing a color filter.

【0013】(5)基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層および着色層を覆うようにオーバーコート層が設けられ、かつ該オーバーコート層上に透明電極層が設けられたカラーフィルタ上にスペーサを形成することを特徴とする前記(1)〜 [0013] (5) a black matrix layer formed on a substrate, a colored layer formed on the black matrix layer, an overcoat layer to cover the black matrix layer and the colored layer is provided, and wherein above, wherein the forming a spacer on a color transparent electrode layer on the overcoat layer is provided filter (1) -
(4)のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 (4) The method of producing a color filter for a liquid crystal display according to any of.

【0014】(6)基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層および着色層を覆うように透明電極層が設けられたカラーフィルタ上にスペーサを形成することを特徴とする前記(1)〜 [0014] (6) a black matrix layer formed on the substrate, a color filter and the coloring layer formed on the black matrix layer, the transparent electrode layer to cover the black matrix layer and the colored layer is provided above, wherein the forming spacers on (1) -
(4)のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 (4) The method of producing a color filter for a liquid crystal display according to any of.

【0015】(7)基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層および着色層を覆うようにオーバーコート層が設けられた液晶ディスプレイ用カラーフィルタ上にスペーサを形成することを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 [0015] (7) a black matrix layer formed on the substrate, a liquid crystal display and a colored layer formed on the black matrix layer, which so as to cover the black matrix layer and the colored layer overcoat layer is provided method of producing a color filter for a liquid crystal display according to any one of (1) to (4), characterized in that to form the spacers on the use color filters.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態について詳説する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, detailed embodiments of the present invention.

【0017】本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法は、前記したように、放射線反応性樹脂成分と、その溶媒としてプロピレングリコールと、乳酸エチルおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、フッ素系界面活性剤とを含有する放射線反応性樹脂組成物を、ダイコート法またはダイコートスピンコート法により基板に塗布し、フォトリソ加工法によりスペーサを形成することを特徴とする。 The method of manufacturing a color filter for liquid crystal display of the present invention, as described above, the radiation-reactive resin component, and propylene glycol as the solvent, and ethyl lactate and / or propylene glycol monomethyl ether acetate, fluorosurfactants the radiation-reactive resin composition containing an active agent, was applied to the substrate by a die coating method or a die coating spin coating, and forming a spacer by photolithography processing methods.

【0018】上記本発明における放射線反応性樹脂成分としては、ポジ型フォトレジストあるいはネガ型フォトレジストとして用いられる従来公知の任意のものを採用することができるが、パターン解像度が高いという点から、ノボラック樹脂およびキノンジアジド樹脂からなるポジ型フォトレジストが好ましい。 Examples of the radiation-reactive resin component in the present invention, it can be adopted any conventionally known to be used as a positive photoresist or a negative photoresist, from the viewpoint of high pattern resolution, novolac positive photoresist comprising a resin and a quinone diazide resin.

【0019】ノボラック樹脂としては、例えばフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p Examples of the novolak resin include phenol, o- cresol, m- cresol, p- cresol, o- ethylphenol, m- ethylphenol, p
−エチルフェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、t−ブチルフェノールなどのフェノール類の少なくとも1種と、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドなどのアルデヒド類の少なくとも1種とを重縮合させたものが挙げられる。 - ethylphenol, propyl phenol, n- butylphenol, t-at least one phenol such as phenol, such as formaldehyde, acetaldehyde, those with at least one aldehyde, such as propionaldehyde polycondensation.

【0020】また、キノンジアジド樹脂としては、例えば1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸、 Further, as the quinonediazide resin, such as 1,2-benzoquinone diazide-4-sulfonic acid,
1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸、1, 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid, 1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸、およびこれらのスルホン酸エステルあるいはアミドなどが挙げられる。 2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid, and the like of these sulfonic acid ester or amide.

【0021】上記したノボラック樹脂とキノンジアジド樹脂との割合は、樹脂の種類や所望される露光感度に応じて任意とすることができ、特に限定されるものではないが、通常ノボラック樹脂に対するキノンジアジド樹脂の割合としては、10〜50重量%であることが好ましい。 The ratio of the above-mentioned novolak resin and a quinonediazide resin can be any depending on the exposure sensitivity resin of the type and desired, is not particularly limited, the quinonediazide resin to normal novolac resin the proportion is preferably 10 to 50 wt%.

【0022】放射線反応性樹脂組成物に対する放射線反応性樹脂成分の含有量は5〜50重量%であることが好ましく、さらに好ましくは7〜40重量%である。 The content of the radiation-reactive resin component to radiation reactive resin composition is preferably from 5 to 50 wt%, more preferably from 7 to 40% by weight.

【0023】本発明においては、放射線反応性樹脂成分の溶媒としてプロピレングリコールと、乳酸エチルおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとを用いることが重要である。 [0023] In the present invention, a propylene glycol as a solvent for radiation-reactive resin component, it is important to use the ethyl lactate and / or propylene glycol monomethyl ether acetate. これらを溶媒として用いることにより、ダイコート法またはダイコートスピンコート法による塗布ムラを大幅に改善することができる。 By using these as a solvent, coating unevenness by a die coating method or a die coating spin coating method can be significantly improved.

【0024】放射線反応性樹脂組成物中の全溶媒に対するプロピレングリコールの含有量は、1〜20重量%であることが好ましく、さらに好ましくは2〜15重量% The content of the propylene glycol to the total solvent of radiation-reactive resin composition is preferably 1 to 20 wt%, more preferably 2 to 15 wt%
である。 It is. 1重量%未満であると塗布ムラを改善する効果が少なくなり、20重量%を越えると放射線反応性樹脂組成物の粘度が高くなりすぎ、塗布性が悪化して塗布ムラが発生することになる。 1 is less than weight percent uneven coating effect of improving becomes less, too high viscosity of the radiation-reactive resin composition exceeds 20 wt%, uneven coating will occur coatability is deteriorated .

【0025】放射線反応性樹脂組成物中の全溶媒に対する乳酸エチルおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有量は、80〜99重量%が好ましく、さらに好ましくは85〜98重量%である。 The content of ethyl lactate and / or propylene glycol monomethyl ether acetate to the total solvent of radiation-reactive resin composition is preferably 80 to 99 wt%, more preferably from 85 to 98 wt%.

【0026】また、本発明の効果を妨げない範囲において、上記した以外の溶媒、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類などを併用ことができる。 Further, to the extent that does not impair the effects of the present invention, solvents other than those described above, for example alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoalkyl such as ethylene glycol monoethyl ether such ethers and can be used in combination be. これら溶媒を併用できる量は、その種類によっても異なるが、全溶媒量に対して5重量%以下、好ましくは3重量%以下である。 The amount which can be used in combination of these solvents varies depending on the type, 5 wt% or less based on the total amount of the solvent is preferably 3 wt% or less.

【0027】本発明におけるフッ素系界面活性剤は、従来公知の任意のものを使用することができ、このようなものとしては、例えば一般式(1) The fluorine-containing surface active agent in the present invention may be used any conventionally known ones, as such, for example the general formula (1)

【0028】 [0028]

【化1】 [Formula 1]

【0029】(ここでmは1〜20の整数、nは2〜4 [0029] (where m is an integer from 1 to 20, n represents 2-4
の整数、pは5〜30の整数である)で表されるポリオキシアルキレンパーフルオロアルキルエーテル。 Polyoxyalkylene perfluoroalkyl ether represented by integers, p is an integer of 5-30). あるいは一般式(2) Or the general formula (2)

【0030】 [0030]

【化2】 ## STR2 ##

【0031】(ここでmは1〜20の整数、nは2〜4 [0031] (where m is an integer from 1 to 20, n represents 2-4
の整数、pは5〜30の整数である)で表されるポリオキシアルキレンパーフルオロアルキルエステル。 Integer, polyoxyalkylene perfluoroalkyl ester p is represented by an a) integer 5-30. あるいは一般式(3) Or the general formula (3)

【0032】 [0032]

【化3】 [Formula 3]

【0033】(ここでlは1〜20の整数、m及びnは2〜4の整数、qは5〜30の整数である)で表されるポリオキシアルキレンパーフルオロアミンなどを挙げることができる。 [0033] (where l an integer from 1 to 20, m and n are an integer of 2 to 4, q is an integer of 5-30), and the like polyoxyalkylene perfluoroalkyl amine represented by .

【0034】これらフッ素系界面活性剤は、単独で使用しても、あるいは2種以上を併用してもよい。 [0034] These fluorinated surfactants can be used alone, or may be used in combination of two or more.

【0035】本発明においては、フッ素系界面活性剤を放射線反応性樹脂成分の重量に対して、10〜5000 [0035] In the present invention, a fluorine-based surfactant by weight of the radiation-reactive resin component, 10 to 5000
ppm含有させることが好ましく、さらに好ましくは2 ppm is preferably contained, more preferably 2
0〜3000ppmである。 It is 0~3000ppm. 含有量が10ppm未満であると塗布ムラを十分抑制することができず、5000 Can not content is sufficiently suppress uneven coating is less than 10 ppm, 5000
ppmを越えると、塗布ムラが抑制されなくなるのみならず、塗布時に微小なハジキやピンホールが発生しやすくなる。 Exceeds ppm, not only the coating unevenness can not be suppressed, fine cissing and pinholes are likely to occur at the time of coating.

【0036】本発明における放射線反応性樹脂組成物の粘度は、ダイコート法またはダイコートスピンコート法の塗布条件に応じて任意とすることができ特に限定されないが、ダイコート法の場合、1〜500mPa・s、 The viscosity of the radiation-reactive resin composition of the present invention is not particularly limited can be any depending on the coating conditions of a die coating method or a die coating spin coating, when the die coating method, 1 to 500 mPa · s ,
ダイコートスピンコート法の場合、5〜100mPa・ In the case of die coat spin coating method, 5~100mPa ·
sが好ましい。 s is preferable.

【0037】本発明において、放射線反応性樹脂組成物を基板に塗布するに際して、ダイコート法またはダイコートスピンコート法を採用するが、これらは従来公知の任意の方法を採用することができる。 [0037] In the present invention, when applying the radiation-reactive resin composition to a substrate, but employing a die coating method or a die coating spin coating, it can be adopted any conventionally known methods.

【0038】このような方法として、ダイコート法としては例えば特開平6−339656号公報、特開平9− [0038] As such a method, the die coating method, for example, Japanese Unexamined 6-339656, JP-A No. 9-
150102号公報に開示されている、ステージに保持された基板と、塗布液を吐出するスリットダイを相対的に移動させながら塗布する方法を挙げることができる。 Disclosed in 150102 JP, mention may be made of a substrate held on the stage, the method of applying with a slit die are relatively moved for discharging a coating solution.

【0039】ダイコートスピンコート法としては、例えば特開2000−167470号公報に開示されている、水平に保持された基板にスリット状ノズルから塗布液を吐出した後、基板を回転させて塗布液を基板全体に広げる方法を挙げることができる。 [0039] As die coating spin coating, for example, disclosed in JP 2000-167470, after ejecting a coating liquid from a slit-like nozzle substrates held horizontally, a coating solution by rotating the substrate and a method to spread across the substrate.

【0040】本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法においては、基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層および着色層を覆うようにオーバーコート層が設けられ、かつ該オーバーコート層上に透明電極層が設けられたカラーフィルタ上にスペーサを形成するこもの、あるいは、基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層および着色層を覆うように透明電極層が設けられたカラーフィルタ上にスペーサを形成するもの、あるいは、基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラック [0040] In the method for manufacturing a liquid crystal color filter for a display of the present invention covers the black matrix layer formed on a substrate, a colored layer formed on the black matrix layer, the black matrix layer and the colored layer and an overcoat layer is provided, and small transparent electrode layer on the overcoat layer to form spacers on the color provided filter or a black matrix layer formed on the substrate as, the black matrix a colored layer formed on the layer, and the ones transparent electrode layer so as to black to cover the matrix layer and the colored layer to form spacers on the color provided filters or black matrix layer formed on the substrate a colored layer formed on the black matrix layer, the black トリックス層および着色層を覆うようにオーバーコート層が設けられた液晶ディスプレイ用カラーフィルタ上にスペーサを形成するものが好ましく適用できる。 To form a spacer on trix layer and a liquid crystal display for the color filter overcoat layer is provided so as to cover the colored layer can be preferably applied.

【0041】本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタに用いる基板としては、例えばソーダガラス、ホウ珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス、無アルカリガラスなどの無機ガラス、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエステルなどの樹脂フィルムまたはシートなどが挙げられる。 [0041] As the substrate used for the color filter for liquid crystal display of the present invention, for example soda glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass, an inorganic glass such as alkali-free glass, polymethylmethacrylate, polycarbonate, resins such as polyester such as a film or sheet, and the like. これらのうちソーダガラス、無アルカリガラスが好ましい。 Of these soda glass, alkali-free glass is preferred.

【0042】本発明におけるカラーフィルタのBM層としては、例えば金属クロム、酸化クロム、窒化クロム、 [0042] The BM layer of the color filter in the present invention, for example metallic chromium, chromium oxide, chromium nitride,
ニッケル、酸化ニッケルなどが挙げられる。 Nickel, nickel oxide and the like. これらは単層で用いても2層以上の多層としてもよい。 These may be two or more layers may be used in a single layer. BM層の基板への製膜方法は、真空蒸着法やスパッタリング法、C Film forming method to a substrate BM layer, a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, C
VD法を採用することができ、膜厚は所望される遮光度などにより決定され特に限定されないが、0.05〜 VD method can be employed, the film thickness is not particularly limited as determined by such desired light blocking, 0.05
0.3μmが好ましく、さらに好ましくは0.07〜 0.3μm by weight, more preferably 0.07 to
0.2μmである。 It is 0.2μm.

【0043】また、BM層は樹脂中にカーボンブラック、マンガン、チタン、黒色顔料などを分散させた樹脂BMを採用することもできる。 [0043] In addition, BM layers may also be employed carbon black in the resin, manganese, titanium, a resin BM prepared by dispersing such as black pigment. 分散媒となる樹脂としては、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。 The resin serving as a dispersion medium, an acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, epoxy resin, urethane resin, polyester resin, and polyimide resin.

【0044】樹脂BM層の厚さは、所望される遮光度などにより決定され特に限定されないが、0.5〜5μm The thickness of the resin BM layer is not particularly limited as determined by such desired light blocking, 0.5 to 5 [mu] m
が好ましく、さらに好ましくは0.7〜3μmである。 , More preferably an 0.7~3Myuemu.

【0045】本発明におけるカラーフィルタの着色層は、着色顔料を樹脂中に分散させたものであり、通常は3原色であるR、GおよびBの各着色層をBM層の開口部上に形成する。 The colored layers of the color filter in the present invention, forms a colored pigment is obtained by dispersing in a resin, typically the three primary colors R, the respective colored layers of G and B on the opening of the BM layer to.

【0046】着色層の分散媒となる樹脂としては、例えばアクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。 [0046] As the resin comprising a dispersion medium of the colored layer, for example, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, urethane resins, polyester resins, and polyimide resin.

【0047】着色層の厚さは特に限定されるものではないが、0.5〜5μmが好ましく、さらに好ましくは0.7〜3μmである。 [0047] While not thickness limited particularly colored layer is preferably 0.5 to 5 [mu] m, more preferably from 0.7~3Myuemu.

【0048】本発明におけるオーバーコート層としては、例えば、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、 [0048] as an overcoat layer in the present invention, for example, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, urethane resins, polyester resins,
ポリイミド樹脂などを採用することができる。 It can be employed as polyimide resin.

【0049】本発明におけるカラーフィルタの透明電極層としては、例えばITO、酸化錫、酸化亜鉛などを挙げることができ、膜厚は0.01〜0.5μmが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.3μmである。 [0049] As the transparent electrode layer of the color filter in the present invention, for example ITO, tin oxide, can be cited zinc oxide, the thickness is preferably from 0.01 to 0.5 [mu] m, more preferably 0.05 to it is 0.3μm.

【0050】次に本発明のカラーフィルタの製造方法の一例として、BM層および着色層に非感光性ポリイミド樹脂を採用した場合について説明する。 [0050] Next an example of a method for manufacturing a color filter of the present invention, will be described the case of adopting the non-photosensitive polyimide resin BM layer and coloring layer.

【0051】まずカーボンブラックをポリイミド前駆体と有機溶媒、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N, The polyimide precursor and an organic solvent and carbon black first, such as N- methyl-2-pyrrolidone, N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトンなどから選ばれる1種または2種以上の溶媒に分散させたブラックペーストを基板に塗布し、該基板をオーブンあるいはホットプレートにより50〜180℃、さらに好ましくは70〜160℃に加熱して有機溶媒を乾燥させる。 N- dimethylacetamide, N, N- dimethylformamide, one or more black paste dispersed in a solvent selected from such as γ- butyrolactone was applied to a substrate, the substrate in an oven or a hot plate from 50 to 180 ° C., more preferably the organic solvent is dried by heating to 70 to 160 ° C..

【0052】ブラックペーストを基板に塗布する方法としては、例えばディップ法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法等を採用することができる。 [0052] The black paste as a method for coating a substrate, for example a dipping method, a roll coating method, bar coating method, a spin coating method, a die coating method, can be adopted die coating spin coating or the like.

【0053】ついで、ポジ型フォトレジストを塗布し、 [0053] Next, a positive type photoresist is applied,
基板をオーブンまたはホットプレートで40〜160 A substrate with an oven or hot plate 40 to 160
℃、更に好ましくは60〜140℃に加熱するプリベークを行う。 ° C., more preferably prebaked heating to 60 to 140 ° C..

【0054】ポジ型フォトレジストを基板に塗布する方法としては、例えばロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法などを採用することができる。 [0054] The positive type photoresist as a method for coating a substrate, for example a roll coating method, bar coating method, a spin coating method, a die coating method, can be employed as a die coating spin coating.

【0055】この後、BMパターンのマスクを介して、 [0055] After this, through the mask of the BM pattern,
紫外線を照射して露光を行い、続いてアルカリ水溶液によりBMパターンを現像する現像工程を行う。 Ultraviolet performed to exposure radiation, followed performing a development step of developing the BM pattern by an aqueous alkali solution. 現像工程でのアルカリ水溶液のアルカリ成分としては、例えば、 The alkali component of the alkali aqueous solution in the developing step, for example,
水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、エタノールアミンなどの有機アルカリ、 Tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, an organic alkali such as ethanolamine,
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、 Sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate,
水酸化カリウムなどの無機アルカリが挙げられる。 And inorganic alkali such as potassium hydroxide. アルカリ成分の濃度は0.5〜10%が好ましく、さらに好ましくは1〜7%である。 The concentration of the alkali component is preferably 0.5% to 10%, more preferably from 1 to 7%.

【0056】現像工程の後、BM層上に残存するフォトレジストを有機溶剤で剥離し、さらに基板をオーブンまたはホットプレートで180〜340℃、さらに好ましくは200〜320℃に加熱してBM層を硬化させる。 [0056] After the development step, the photoresist remaining on the BM layer was peeled off with an organic solvent, further one hundred and eighty to three hundred and forty ° C. The substrate in an oven or a hot plate, more preferably a BM layer is heated to 200 to 320 ° C. It is cured.
こうして、基板上にBM層が形成される。 Thus, BM layer is formed on the substrate.

【0057】続いて、BM層を形成する工程と同様の工程をR着色層、G着色層およびB着色層について繰り返すことにより、BM層の開口部にR着色層、G着色層およびB着色層を形成する。 [0057] Subsequently, R color layer the same steps as the steps of forming a BM layer by repeating the G color layer and B coloring layers, R color layer in the opening of the BM layer, G color layer and B coloring layers to form.

【0058】さらに、R、GおよびB着色層の上にオーバーコート層を設ける必要がある場合には、オーバーコート剤を塗布し、オーブンまたはホットプレートにより基板を50〜180℃に加熱してのセミキュア、さらに180〜340℃に加熱しての硬化を行う。 [0058] Further, when it is necessary to provide an overcoat layer on the R, G and B color layer was coated an overcoat agent for the substrate was heated to 50 to 180 ° C. in an oven or hot plate semi-cured, effect curing of the heat to the further 180-340 ° C..

【0059】オーバーコート剤を基板に塗布する方法としては、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法などが挙げられる。 [0059] As a method of applying an overcoat agent to the substrate, a roll coating method, bar coating method, a spin coating method, die coating method, such as die coating spin coating method.

【0060】さらに、LCDパネルの共通電極となる透明電極層を必要としないIn Plane Switch [0060] In addition, it does not require the transparent electrode layer as a common electrode of the LCD panel an In Plane Switch
ing(IPS)方式以外のLCDパネルに採用されるカラーフィルタでは、LCDパネルの共通電極となる透明電極層を形成する。 In ing (IPS) color filters employed in the LCD panel of the other method than the method to form the transparent electrode layer as a common electrode of the LCD panel.

【0061】透明電極層を形成する方法としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などを採用することができる。 [0061] As a method of forming a transparent electrode layer can be employed, for example, a vacuum deposition method, sputtering method, CVD method, or the like.

【0062】続いて、ダイコート法またはダイコートスピンコート法により放射線反応性樹脂組成物を塗布した後、基板を40〜160℃、さらに好ましくは50〜1 [0062] Subsequently, after applying the radiation-reactive resin composition by a die coating method or a die coating spin coating, 40 to 160 ° C. The substrate, more preferably 50-1
40℃に加熱して溶媒を乾燥させる。 It was heated to 40 ° C. The solvent is dried. この際、雰囲気を0.1〜500Paの減圧にして溶媒を乾燥させる真空乾燥を併用することが好ましい。 In this case, it is preferable to use the vacuum drying for drying the solvent atmosphere in a vacuum of 0.1~500Pa.

【0063】その後、フォトリソ加工法によりスペーサを形成する。 [0063] Then, a spacer by photolithography processing methods. すなわち、スペーサのパターンマスクを介して紫外線を照射する露光を行い、続いて前記したアルカリ水溶液により現像を行う。 That, exposure to ultraviolet rays through a pattern mask of the spacer, followed by performing the development with an alkaline aqueous solution described above.

【0064】最後に、基板をオーブンまたはホットプレートにより180〜260℃、好ましくは200〜24 [0064] Finally, 180 to 260 ° C. in an oven or a hot plate to the substrate, preferably from 200 to 24
0℃に加熱してスペーサを硬化させ、本発明のカラーフィルタの製造が完了する。 Was heated to 0 ℃ to cure the spacer, production of color filters of the present invention is completed.

【0065】スペーサをカラーフィルタ上へ形成する位置は、LCDパネルの設計に応じて任意とすることができ特に限定されるものではないが、スペーサによる遮光、光の散乱などによる表示品位悪化を防止するためR、GおよびBの表示領域以外、すなわちBM層上に形成することが好ましい。 [0065] position for forming a spacer on the color filter, preventing without limitation particularly be any according to the LCD panel design, light shielding by the spacers, the display quality deterioration due to light scattering R for, other than the display region of the G and B, i.e., is preferably formed on BM layer.

【0066】スペーサを基板と平行な平面で切った場合の平面形状は、LCDパネルの設計等に応じて任意とすることができ特に限定されないが、例えば円形、楕円形、三角形、四角形、平行四辺形、十字形等を挙げることができる。 [0066] The planar shape when cut the spacers at the substrate parallel to the plane is not particularly limited can be any according to the design or the like of the LCD panel, for example, circular, oval, triangular, square, parallelogram form, mention may be made of the cross and the like.

【0067】スペーサを基板と平行な平面で切った場合のスペーサ面積は、10μm 2 〜5000μm 2が好ましい。 [0067] Spacers area when taken along the spacer in parallel to the substrate plane is preferably 10μm 2 ~5000μm 2.

【0068】スペーサを基板と垂直な平面で切った場合の断面形状は、LCDパネルの設計などに応じて任意とすることができ特に限定されないが、例えば半円形、三角形、四角形、台形などを挙げることができる。 [0068] cross-sectional shape when cut the spacers at the substrate and the plane perpendicular is not particularly limited can be any depending on the design of the LCD panel, for example, include a semi-circular, triangular, square, trapezoid, etc. be able to.

【0069】スペーサの高さは、LCDパネルのセルギャップ設計値に応じて任意とすることができるが、通常3〜7μmである。 [0069] The height of the spacer can be any according to the cell gap design value of the LCD panel, is usually 3 to 7 [mu] m.

【0070】 [0070]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳説する。 EXAMPLES The following will be described in detail by the present invention through examples. なお、実施例においてスペーサの高さは以下の方法により測定した。 The height of the spacers in the examples were measured by the following methods. スペーサの高さ測定 テンコール・インスツルメンツ・ジャパン(株)製FP Spacer height measurement Tencor Instruments Japan Ltd. FP
−20により、スキャンスピード10μm/秒、針圧1 By -20, scan speed of 10μm / sec., Needle pressure 1
0mgにて測定した。 It was measured at 0mg.

【0071】実施例1 幅370×長さ470×厚さ0.7mmの無アルカリガラス基板(コーニングジャパン製、#1737)に、カーボンブラックと非感光性ポリイミド樹脂を有機溶媒に分散させたブラックペーストをダイコータにより塗布し、オーブンにより120℃で5分間加熱し、ブラックペースト中の有機溶媒を乾燥させた。 [0071] Example 1 width 370 × length 470 × thickness 0.7mm alkali-free glass substrate (manufactured by Corning Japan, # 1737) of the carbon black and the non-photosensitive polyimide resin black dispersed in an organic solvent paste It was applied by a die coater, and heated for 5 minutes at 120 ° C. in an oven to dry the organic solvent in the black paste. その後、ポジ型フォトレジストをダイコータで塗布し、オーブンにより9 Thereafter, a positive photoresist was applied with a die coater, an oven 9
0℃で5分間加熱してプリベークを行った。 Prebaked by heating for 5 minutes at 0 ℃. さらにBM In addition BM
パターンのフォトマスクを介して超高圧水銀灯により露光量200mJ/cm 2の紫外線を照射した。 Through a photomask pattern was irradiated with ultraviolet rays exposure amount 200 mJ / cm 2 by an ultrahigh pressure mercury lamp. 続いて、 continue,
水酸化テトラメチルアンモニウムの2%水溶液により、 The 2% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide,
BMパターンを現像した。 The BM pattern was developing.

【0072】次いで、BMパターン上に残存しているフォトレジストを有機溶剤により剥離した後、基板をオーブンで280℃で30分間加熱してBMパターンの硬化を行った。 [0072] Next, after removing the photoresist organic solvent remaining on BM pattern were cured of BM pattern was heated for 30 minutes at 280 ° C. The substrate in an oven.

【0073】引き続きBM層と同様の工程で、R、GおよびB着色層をBM層の開口部上に順次形成した。 [0073] Still in the same process as BM layer, R, were successively formed a G and B color layer on the opening of the BM layer. さらにBM、R、GおよびB着色層上にポリイミド樹脂オーバーコート剤をダイコータで塗布した後、オーブンにより140℃で5分間加熱してセミキュアを行った。 Further BM, R, was coated with a die coater, a polyimide resin overcoat agent G and B colored layer was subjected to semi-cured by heating for 5 minutes at 140 ° C. in an oven. さらに、基板をオーブンにより280℃で30分間加熱してオーバーコート層を硬化させた。 Furthermore, the substrate was cured overcoat layer was heated at 280 ° C. 30 min in an oven. 続いて、ITO電極をスパッタリングにより形成した。 Subsequently, an ITO electrode was formed by sputtering.

【0074】続いて、ITO電極上に、放射線反応性樹脂からなるスペーサをフォトリソ加工法により形成する。 [0074] Then, on the ITO electrodes, the spacer made of radiation-reactive resin is formed by photolithographic processing methods. 放射線反応性樹脂組成物は下記組成のポジ型フォトレジストを使用した。 Radiation-reactive resin composition using positive photoresist having the following composition.

【0075】 ・m−クレゾール、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの重縮合物 (ノボラック樹脂) ………………………………… 38.0重量部 ・2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンと1,2−ナフト キノンジアジド−5−スルフォニルクロライドとの縮合物 (キノンジアジド感光剤) ………………………… 8.5重量部 ・乳酸エチル …………………………………………… 238.3重量部 ・プロピレングリコール…………………………………… 15.2重量部 ・ポリオキシエチレンパーフルオロ アルキルエーテルフッ素系界面活性剤 ………………0.023重量部 この放射線反応性樹脂組成物において、全溶媒に対するプロピレングリコールの含有量は6.0重量%、フッ素系界面活性剤の含有量は放射線反応性樹 [0075] - m-cresol, a polycondensate (novolak resin) between p- cresol and formaldehyde ....................................... 38.0 parts by weight of 2,3,4-trihydroxy benzophenone When 1,2-naphtho-quinonediazide-5-sulfonyl chloride and a condensate of (quinonediazide photosensitizer) .............................. 8.5 parts by weight of ethyl lactate ................................. .................. 238.3 parts by weight of propylene glycol .......................................... 15.2 parts by weight of polyoxyethylene perfluoroalkyl ether fluoropolymer surfactant ............ in ...... 0.023 parts by weight the radiation-reactive resin composition, the content of propylene glycol to the total solvent is 6.0 wt%, the fluorine-based surfactant content radiation-reactive trees 成分に対して500ppmである。 It is 500ppm for the component. この放射線反応性樹脂組成物を、 The radiation-reactive resin composition,
ダイコータにより前記基板のITO電極上に塗布した。 It was coated on the ITO electrodes of the substrate by a die coater.
その後、基板をホットプレートにより60℃に加熱しながら、雰囲気を100Paに減圧にして溶媒を乾燥させた。 Then, while heating the substrate to 60 ° C. with a hot plate, drying the solvent in the reduced pressure atmosphere 100 Pa. 続いて、90℃で5分間基板を加熱してプリベークを行った。 Subsequently, pre-baked by heating for 5 min substrate at 90 ° C.. さらにスペーサパターンのフォトマスクを介して超高圧水銀灯により露光量100mJ/cm 2の紫外線を照射した。 It was irradiated with ultraviolet rays exposure amount 100 mJ / cm 2 by further ultra-high pressure mercury lamp through a photomask of the spacer pattern. 続いて、水酸化テトラメチルアンモニウムの2%水溶液により、スペーサのパターンを現像した。 Subsequently, the 2% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide, and developed a pattern of spacers. 最後に基板をオーブンにより200℃で20分間加熱した。 Finally, the substrate was heated for 20 minutes at 200 ° C. in an oven.

【0076】こうして得られたカラーフィルタには、図1に示すように2面のカラーフィルタ13aおよび13 [0076] obtained color filter thus, color filters 13a and 13 of the two surfaces as shown in FIG. 1
bが形成されている。 b is formed. このカラーフィルタの一部を拡大した概略図を図2に示す。 It shows a schematic view of a partially enlarged of the color filter in FIG. カラーフィルタにはR着色層、G着色層、およびB着色層が形成されているが、これら着色層上に20μm×20μmの正方形のスペーサSが周期的に形成されている。 R colored layer in a color filter, G color layer, and B colored layers are formed, a spacer S of the squares of the 20 [mu] m × 20 [mu] m on the coloring layer are periodically formed. このスペーサSの高さを、図1に示す○で囲った1〜○で囲った18のポイントについて各1箇所、合計18箇所測定した結果、平均3.52μm、標準偏差は0.03μmであり、高さ均一性に優れるものであった。 The height of the spacer S, one each for surrounded by 18 points at. 1 to ○ surrounded by ○ 1, a total of 18 points measured results, the average 3.52Myuemu, standard deviation is at 0.03μm , it was excellent in high uniformity.

【0077】実施例2 乳酸エチルの代わりにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用する以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 [0077] except using propylene glycol monomethyl ether acetate in place of Example 2 ethyl lactate were produced color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.55μm、標準偏差は0.05μmであり高さ均一性に優れるものであった。 Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.55Myuemu, standard deviation were those located excellent height uniformity 0.05 .mu.m.

【0078】実施例3 乳酸エチルを190重量部、プロピレングリコールを6 [0078] 190 parts by weight Example 3 ethyl lactate, propylene glycol 6
3.5重量部として、全溶媒に対するプロピレングリコールの含有量を25重量%とする以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 As 3.5 parts by weight, except that the 25 wt% and the content of propylene glycol to the total solvent, to produce a color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.56μm、 Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.56,
標準偏差は0.07μmであり高さ均一性に優れているものの、実施例1よりやや悪化した。 Although the standard deviation is excellent in there height uniformity 0.07 .mu.m, and slightly worse than Example 1.

【0079】実施例4 ポリオキシエチレンパーフルオロアルキルエーテルフッ素系界面活性剤0.0003重量部として、フッ素系界面活性剤の含有量を放射線反応性樹脂成分に対して6. [0079] As Example 4 Polyoxyethylene perfluoroalkyl ether fluoropolymer surfactant 0.0003 parts by weight, the content of the fluorinated surfactant to the radiation-reactive resin component 6.
5ppmとする以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 Except that the 5 ppm, to produce a color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.54μm、標準偏差は0.0 Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.54Myuemu, standard deviation 0.0
6μmであり高さ均一性に優れているものの、実施例1 Although there excellent high uniformity in 6 [mu] m, Example 1
よりやや悪化した。 More slightly worse.

【0080】実施例5 オーバコート層を形成せず、BM、RGB着色層上にI [0080] without forming the Example 5 overcoat layer, BM, the RGB colored layer I
TO電極を形成し、このITO電極上にスペーサを形成する以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 Forming a TO electrodes, except for forming a spacer on the ITO electrode, to produce a color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.51μm、標準偏差は0.04μmであり高さ均一性に優れるものであった。 Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.51Myuemu, standard deviation was excellent in there height uniformity 0.04 .mu.m.

【0081】実施例6 ITO電極を形成せず、オーバーコート層上にスペーサを形成する以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 [0081] without forming the Example 6 ITO electrodes, except for forming a spacer on the overcoat layer was prepared a color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.52μm、標準偏差は0.03μ Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.52Myuemu, standard deviation 0.03μ
mであり高さ均一性に優れるものであった。 Were those located excellent high uniformity by m.

【0082】比較例1 プロピレングリコールを含有させず、乳酸エチルを25 [0082] without containing Comparative Example 1 Propylene glycol, ethyl lactate 25
3.5重量部としたポジ型フォトレジストを使用する以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 Except using positive photoresist was 3.5 parts by weight, was manufactured color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、 Was measured the height of the spacer of the color filter,
平均3.51μm、標準偏差は0.11μmであり、プロピレングリコールが含有されていないため高さ均一性に劣るものであった。 Mean 3.51Myuemu, standard deviation of 0.11 .mu.m, was inferior to the high uniformity since propylene glycol is not contained.

【0083】比較例2 フッ素系界面活性剤を含有させない以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 [0083] except that does not contain a Comparative Example 2 Fluorine-based surfactant, was produced a color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.52μ Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.52μ
m、標準偏差は0.10μmであり、フッ素系界面活性剤が含有されていないため高さ均一性に劣るものであった。 m, a standard deviation of 0.10 .mu.m, a fluorine-based surfactant was poor in high uniformity because it is not contained.

【0084】比較例3 放射線反応性樹脂組成物をロールコート法により基板に塗布する以外は、実施例1と同様にカラーフィルタを製造した。 [0084] except that applied to the substrate by a roll coating method Comparative Example 3 radiation-reactive resin composition was produced a color filter in the same manner as in Example 1. このカラーフィルタのスペーサの高さを測定したところ、平均3.53μm、標準偏差は0.18μm Measurement of the height of the spacer of the color filter, the average 3.53Myuemu, standard deviation 0.18μm
であり、ロールコート法によるものであるため高さ均一性に劣るものであった。 In it was inferior to the height uniformity for those with a roll coating method.

【0085】 [0085]

【発明の効果】ダイコート法あるいはダイコートスピンコート法により放射線反応性樹脂組成物を基板に塗布する際の塗布ムラを大幅に改善でき、従来の液晶ディスプレイ用カラーフィルタで使用されるスペーサ部材に代わって、放射線反応性樹脂で形成したスペーサ高さの均一性を改善することができる。 Coating unevenness at the time of applying a radiation-reactive resin composition on a substrate by a die coating method or a die coating spin coating according to the present invention can significantly improve, on behalf of the spacer member used in conventional color filters for liquid crystal display , it is possible to improve the uniformity of the spacer height were formed by radiation-reactive resin.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明にかかるカラーフィルタ基板の一例を示す概略図である。 1 is a schematic diagram showing one example of a color filter substrate according to the present invention.

【図2】図1におけるカラーフィルタの一部を拡大した概略図である。 2 is a schematic view showing an enlarged portion of the color filter in FIG.

【図3】LCDパネルの断面概略図である。 3 is a cross-sectional schematic view of a LCD panel.

【図4】スペーサを形成したLCDパネルの断面概略図である。 4 is a cross-sectional schematic view of a LCD panel forming the spacer.

【符号の説明】 1:カラーフィルタ基板 2:TFT基板 3:スペーサ部材 4:シール剤 5:液晶 6:BM層 7:R着色層 8:G着色層 9:B着色層 10:透明電極 11:薄膜トランジスタ 12:スペーサ [Description of Reference Numerals] 1: Color filter substrate 2: TFT substrate 3: spacer 4: sealant 5: LCD 6: BM layer 7: R color layer 8: G colored layer 9: B colored layer 10: Transparent electrode 11: thin film transistor 12: spacer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 7識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1339 500 G02F 1/1339 500 G03F 7/004 511 G03F 7/004 511 7/16 7/16 Fターム(参考) 2H025 AA18 AB13 AC01 AD03 BE01 CB29 CC03 CC04 CC11 DA01 DA40 EA04 FA17 2H048 BA02 BA11 BA45 BA47 BB01 BB02 BB14 BB37 BB44 FA05 FA09 FA11 FA24 2H089 LA09 NA14 QA12 QA16 TA01 TA12 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC12 GA01 GA08 LA12 LA15 LA30 4J002 CC031 CH053 CM052 ED046 EN126 FD313 FD316 GQ05 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (51) Int.Cl. 7 identification mark FI theme Court Bu (reference) G02F 1/1339 500 G02F 1/1339 500 G03F 7/004 511 G03F 7/004 511 7/16 7/16 F term (reference) 2H025 AA18 AB13 AC01 AD03 BE01 CB29 CC03 CC04 CC11 DA01 DA40 EA04 FA17 2H048 BA02 BA11 BA45 BA47 BB01 BB02 BB14 BB37 BB44 FA05 FA09 FA11 FA24 2H089 LA09 NA14 QA12 QA16 TA01 TA12 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC12 GA01 GA08 LA12 LA15 LA30 4J002 CC031 CH053 CM052 ED046 EN126 FD313 FD316 GQ05

Claims (7)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】放射線反応性樹脂成分と、その溶媒としてプロピレングリコールと、乳酸エチルおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、 And 1. A radiation-reactive resin component, and propylene glycol as the solvent, and ethyl lactate and / or propylene glycol monomethyl ether acetate,
    フッ素系界面活性剤とを含有する放射線反応性樹脂組成物を、ダイコート法またはダイコートスピンコート法により基板に塗布し、フォトリソ加工法によりスペーサを形成することを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 The fluorine-based surfactant and a radiation-reactive resin composition containing, applied to a substrate by a die coating method or a die coating spin coating, the manufacture of color liquid crystal display filter and forming a spacer by photolithography processing methods Method.
  2. 【請求項2】放射線反応性樹脂成分がノボラック樹脂およびキノンジアジド樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 2. A method for producing a color filter for a liquid crystal display according to claim 1, radiation-reactive resin component is characterized by comprising a novolak resin and a quinonediazide resin.
  3. 【請求項3】放射線反応性樹脂組成物中の全溶媒に対するプロピレングリコールの含有量が1〜20重量%である請求項1または2に記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 3. The method for producing a color filter for a liquid crystal display according to claim 1 or 2 content of propylene glycol is 1 to 20% by weight relative to the total solvent of radiation-reactive resin composition.
  4. 【請求項4】フッ素系界面活性剤の含有量が放射線反応性樹脂成分に対して10〜5000ppmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 4. The production of color filters for liquid crystal display according to claim 1, the content of the fluorine-based surfactant characterized in that it is a 10~5000ppm against radiation-reactive resin component Method.
  5. 【請求項5】基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層および着色層を覆うようにオーバーコート層が設けられ、かつ該オーバーコート層上に透明電極層が設けられたカラーフィルタ上にスペーサを形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 5. A black matrix layer formed on a substrate, a colored layer formed on the black matrix layer, so as to cover the black matrix layer and the colored layer overcoat layer is provided, and said over method of producing a color filter for a liquid crystal display according to claim 1, characterized in that to form a spacer on the color filter a transparent electrode layer is provided coating layer.
  6. 【請求項6】基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層及び着色層を覆うように透明電極層が設けられたカラーフィルタ上にスペーサを形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 6. A black matrix layer formed on the substrate, the black matrix layer which is formed on the colored layer, the black matrix layer and the colored layer on the color filters the transparent electrode layer is provided so as to cover method of producing a color filter for a liquid crystal display according to claim 1, characterized in that the spacers are formed.
  7. 【請求項7】基板上に形成されたブラックマトリックス層と、該ブラックマトリックス層上に形成された着色層と、前記ブラックマトリックス層及び着色層を覆うようにオーバーコート層が設けられた液晶ディスプレイ用カラーフィルタ上にスペーサを形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 7. A black matrix layer formed on the substrate, said black colored layer formed on the matrix layer, for a liquid crystal display overcoat layer to cover the black matrix layer and the colored layer is provided method of producing a color filter for a liquid crystal display according to claim 1, characterized in that to form a spacer on the color filter.
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