JP2002267827A - Method for recovering glass filter substrate for color filter - Google Patents

Method for recovering glass filter substrate for color filter

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JP2002267827A
JP2002267827A JP2001063844A JP2001063844A JP2002267827A JP 2002267827 A JP2002267827 A JP 2002267827A JP 2001063844 A JP2001063844 A JP 2001063844A JP 2001063844 A JP2001063844 A JP 2001063844A JP 2002267827 A JP2002267827 A JP 2002267827A
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Hiroshi Fukada
Gakuji Hirooka
Takashi Imamichi
Takuma Kobayashi
Kunihiko Sakayama
Muneo Sasaki
Minoru Tsubota
高志 今道
宗生 佐々木
邦彦 坂山
年 坪田
琢磨 小林
岳治 廣岡
弘 深田
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Shiga Pref Gov
Ueyama Denki:Kk
株式会社上山電機
滋賀県
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    • C03C2218/328Partly or completely removing a coating
    • C03C2218/33Partly or completely removing a coating by etching

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for recovering a glass filter substrate for a color filter meeting the purpose of cost lowering by simplifying manufacturing operation of the color filter.
SOLUTION: The method for recovering the glass filter substrate for the color filter is characterized by releasing an ITO(indium tin oxide) conductive film from the color filter by bringing defective products of the color filter into contact with 8-50 wt.% sulfuric acid at 50-70°C.
COPYRIGHT: (C)2002,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法に関する。 The present invention relates to a process for the regeneration of the glass filter substrate for a color filter.

【0002】 [0002]

【従来の技術】ノートパソコン、デスクトップパソコン用ディスプレイの主流であるTFTディスプレイは、光源からの光がTFT、液晶分子、カラーフィルターを通過し、画像を形成する仕組みになっている。 BACKGROUND OF THE INVENTION Laptop, TFT displays is a mainstream desktop PC displays, the light from the light source TFT, liquid crystal molecules, passes through the color filter, has a mechanism to form an image.

【0003】カラーフィルターは、例えばガラス基板上に樹脂遮光層又はクロム遮光層をパターニングし、赤(R)、緑(G)及び青(B)のカラーレジストを順次パターニングし、必要によりオーバーコート層を形成し、焼成を行った後、インジウム錫酸化物(ITO)導電層を成膜することにより製造されている。 [0003] The color filter, for example, on a glass substrate by patterning the resin light shielding layer or a chromium light-shielding layer, the red (R), are sequentially patterned color resist of green (G) and blue (B), an overcoat layer as required forming a, after calcination, it is manufactured by depositing an indium tin oxide (ITO) conductive layer.

【0004】カラーフィルターは、高信頼性及び高精度が要求されるために、製品の検査を厳格に行っている。 [0004] The color filter for high reliability and high accuracy is required, it is carried out in strict inspection of products.
そのために、製品の不良率が高くなり、カラーフィルター製造の歩留まりは低い。 To that end, the higher failure rate of the product, the color filter manufacturing yield is low.

【0005】カラーフィルター製造の低い歩留まりは、 [0005] The low yield of the color filter manufacturing,
液晶ディスプレイのコスト高の大きな要因を占めており、カラーフィルターの低コスト化が要望されている。 Occupies a large factor of the high cost of a liquid crystal display, the cost of the color filter has been demanded.

【0006】カラーフィルター製造コストを下げるために、カラーフィルターの不良品からITO導電膜、オーバーコート膜、カラーレジスト膜及び遮光膜を剥離してカラーフィルター用ガラス基板を再生し、これを再使用する技術が開発されている。 [0006] In order to lower the color filter manufacturing cost, ITO conductive film from defective color filter, an overcoat film, and peeled off the color resist film and the light-shielding film plays the glass substrate for a color filter, reusing this techniques have been developed.

【0007】例えば、特開平11−52123号公報は、カラーフィルター不良品を、40℃以上の温度で、 [0007] For example, JP-A-11-52123, the color filter defective, 40 ° C. above the temperature,
濃硫酸と接触させることにより、カラーフィルター用ガラス基板からカラーフィルター層を剥離し、カラーフィルター用ガラス基板を再利用する技術を開示している。 By contacting with concentrated sulfuric acid, separating the color filter layer from the glass substrate for a color filter, discloses a technique for reusing the glass substrate for a color filter.
ここで、カラーフィルター層は、例えば樹脂遮光膜、カラーレジスト膜、オーバーコート膜及びITO導電膜からなるものである。 Here, the color filter layer, for example, a resin light shielding film, is made of a color resist film, overcoat film and the ITO conductive film.

【0008】しかしながら、上記公報に記載の技術で再生されたカラーフィルター用ガラス基板からカラーフィルターを製造するには、再び、ガラス基板上に樹脂遮光層をパターニングし、RGBカラーレジストを順次パターニングし、オーバーコート層を形成し、焼成を行う一連の処理を経た後に、ITO導電層を成膜する必要がある。 However, in manufacturing a color filter glass substrate for a color filter which is reproduced by the technique described in the above publication, again, by patterning the resin light shielding layer on a glass substrate, and sequentially patterning the RGB color resist, to form an overcoat layer, after being subjected to a series of processing for firing, it is necessary to form an ITO conductive layer. ガラス基板上への樹脂遮光層、カラーレジスト層及びオーバーコート層の形成を再度行うことは、カラーフィルターの製造作業が煩雑になるばかりでなく、低コスト化の目的に反するものである。 Resin light shielding layer on the glass substrate, by performing again the formation of the color resist layer and the overcoat layer, manufacturing operations of the color filter is not only becomes complicated, is contrary to the purpose of cost reduction.

【0009】従来のカラーフィルター用ガラス基板を再生する方法は、いずれもガラス基板上に形成されたカラーレジスト膜、オーバーコート膜、ITO導電膜などを剥離させてガラス基板を回収する方法である。 [0009] method for reproducing conventional color glass substrate filter is a method of color resist film both formed on a glass substrate, an overcoat layer, by peeling the like ITO conductive film to recover the glass substrate.

【0010】 [0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、カラーフィルターの製造作業を簡便にし、低コスト化の目的に合致したカラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention is to simplify the manufacturing operations of a color filter is to provide the desired playback method of a glass filter substrate for a color filter which matches the cost reduction.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を解決するために種々の研究を重ねてきた。 Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies to solve the above problems. その研究過程において、ガラス基板上に形成された遮光膜、カラーレジスト膜及びオーバーコート膜を剥離させることなく、 In the study course, the light shielding film formed on a glass substrate, without causing peeling off the color resist film and the overcoat film,
カラーフィルターからITO導電膜のみを選択的に剥離させることを着想した。 It was conceived that the color filter selectively stripping only ITO conductive film. そして、この着想に基づき、鋭意研究を重ねた結果、カラーフィルター不良品を、特定濃度の硫酸を用いて特定温度で処理することにより、上記課題を解決できることを見い出した。 Based on this idea, the results of extensive studies, the color filter defective, by treatment with a specific temperature using sulfuric acid of a particular concentration was found to be able to solve the above problems. 本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。 The present invention has been completed based on such findings.

【0012】本発明は、カラーフィルター不良品を、5 [0012] The present invention, a color filter defective products, 5
0〜70℃の温度で、8〜50重量%濃度の硫酸と接触させることにより、カラーフィルターからITO導電膜を剥離させることを特徴とするカラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法である。 At a temperature of 0 to 70 ° C., by contacting with 8 to 50% strength by weight sulfuric acid, a color filter glass filter substrate playback method, characterized in that for peeling the ITO conductive film from the color filter.

【0013】 [0013]

【発明の実施の形態】本発明で用いられるカラーフィルター不良品は、ガラス基板上に遮光膜、カラーレジスト膜及びITO導電膜が形成されたカラーフィルター並びにガラス基板上に遮光膜、カラーレジスト膜、オーバーコート膜及びITO導電膜が形成されたカラーフィルターであって、例えばRGBのカラーレジストよりなる画素及び遮光膜に欠けなどの欠陥が認められるもの、画素間の分離が悪く色の滲みが認められるもの、遮光膜とカラーレジスト膜とが位置ずれを起こしているもの、IT DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A color filter rejects used in the present invention, the light-shielding film on a glass substrate, a color resist film and the ITO conductive film formed color filters and the light shielding film on a glass substrate, a color resist film, a color filter overcoat and the ITO conductive film is formed, for example, those defects, such as lack of RGB pixels and light-shielding film made of a color resist is observed, it is observed bleeding separation is poor color between pixels things, that the light-shielding film and the color resist film is misaligned, iT
O導電膜が所定の抵抗値を満たしていないもの、製造工程でゴミが混入したものなどである。 Those O conductive film does not satisfy the predetermined resistance value, and the like which dust is mixed in the manufacturing process.

【0014】本発明では、カラーフィルター不良品を、 [0014] In the present invention, a color filter defective product,
50〜70℃の温度で、硫酸と接触させる。 At a temperature of 50-70 ° C., it is contacted with sulfuric acid. 硫酸との接触温度が50℃を下回る場合は、ITO導電膜を剥離を十分に行うことができない。 If the contact temperature of sulfuric acid is below 50 ° C., it is impossible to sufficiently perform peeling an ITO conductive film. 硫酸との接触温度が70℃ Contact temperature of sulfuric acid is 70 ° C.
を超える場合は、カラーレジスト膜の劣化又は剥離が生ずるのが避けられない。 If exceeding, the deterioration or peeling of the color resist film is inevitably caused. 本発明では、カラーフィルター不良品と硫酸との接触温度が50〜70℃が好ましく、 In the present invention, the contact temperature of the color filter defective and sulfuric acid preferably 50-70 ° C.,
55〜65℃が更に好ましい。 55 to 65 ° C. is more preferred.

【0015】本発明では、カラーフィルター不良品を、 [0015] In the present invention, a color filter defective product,
8〜50重量%(以下単に「%」と記す)濃度の硫酸と接触させる。 8 to 50% by weight (hereinafter simply referred to as "%") is contacted with a concentration of sulfuric acid. 硫酸濃度が8%を下回る場合は、ITO導電膜を剥離を十分に行うことができない。 If the sulfuric acid concentration is below 8%, not be enough to provide stripping the ITO conductive film. 硫酸濃度が5 Sulfuric acid concentration of 5
0%を超える場合は、カラーレジスト膜の劣化又は剥離が生ずるのが避けられない。 If more than 0%, the deterioration or peeling of the color resist film is inevitably caused. 本発明では、硫酸濃度が1 In the present invention, 1 sulfuric acid concentration
5〜35%であるのが好ましい。 Preferably 5 to 35%.

【0016】更に本発明では、カラーフィルター不良品と硫酸との接触温度を50〜70℃とし、且つカラーフィルター不良品と接触させる硫酸濃度を8〜50%とすることを必須とする。 [0016] In addition, the present invention, the contact temperature with the color filter defective and sulfuric acid and 50-70 ° C., and is essential and that the 8-50% sulfuric acid concentration to be contacted with the color filter defective. 上記接触温度及び硫酸濃度のうちのいずれの要件を逸脱しても、本発明の課題を解決できない。 Even deviate any requirements of the contact temperature and sulfuric acid concentration, can not solve the problem of the present invention. このことは、後記実施例及び比較例から明らかである。 This is evident from the below Examples and Comparative Examples.

【0017】カラーフィルター不良品を、硫酸と接触させる方法は、制限されない。 [0017] The method of the color filter defective product, is brought into contact with sulfuric acid is not limited. 例えば、カラーフィルター不良品を、上記濃度の硫酸水溶液に浸漬する方法などが挙げられる。 For example, a color filter defective, a method of immersion in aqueous solution of sulfuric acid having the concentration described above can be mentioned. また、カラーフィルター不良品を所定のカセット等に収納して、硫酸水溶液と接触させることもできる。 Also, by housing the color filter defective in a predetermined cassette, etc., it can also be contacted with an aqueous sulfuric acid solution. 更に、硫酸との接触の際に、カラーフィルター不良品を揺動させてもよい。 Further, upon contact with sulfuric acid, may be swung color filter defective.

【0018】接触時間は、硫酸濃度、接触温度などにより異なり一概には言えないが、通常15分〜5時間、好ましくは30分〜3時間である。 The contact time, concentration sulfate, can not be said to vary due contacting temperature flatly, usually 15 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours.

【0019】本発明方法により硫酸と接触させた後、カラーフィルターを、水などで十分に洗浄し、乾燥することにより、ITO導電膜のみが剥離されたカラーフィルター用ガラスフィルター基板を回収することができる。 [0019] After contacting with sulfuric acid by the method of the present invention, a color filter, etc. in thoroughly washed with water and dried, that only ITO conductive film to recover a glass filter substrate for a color filter peeled it can.
水洗処理及び乾燥処理は、公知の方法を広く適用できる。 Washing and drying process can be applied widely known methods.

【0020】本発明方法により再生されたカラーフィルター用ガラスフィルター基板は、基板上に遮光膜及びカラーレジスト膜、場合によっては更にオーバーコート膜が既に形成されている。 The glass filter substrate for a color filter which is regenerated by the method of the present invention, the light-shielding film and a color resist film on a substrate, are formed further overcoat film is already in some cases. しかも、本発明の処理によって、遮光膜、カラーレジスト膜及びオーバーコート膜は悪影響を受けない。 Moreover, the process of the present invention, the light-shielding film, a color resist film and the overcoat film is not adversely affected. そのため、本発明方法で再生されたカラーフィルター用ガラスフィルター基板の遮光膜及びカラーレジスト膜上又はオーバーコート膜上にITO導電膜を形成させるだけで、再度カラーフィルターを製造することができる。 Therefore, by the present invention on the light-shielding film and the color resist layer of the glass filter substrate for a color filter which is reproduced by the method or an overcoat film simply by forming an ITO conductive film, it is possible to manufacture the color filter again.

【0021】 [0021]

【発明の効果】本発明方法によれば、カラーフィルターの製造作業を簡便にし、低コスト化の目的に合致したカラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法が提供される。 According to the present invention a method according to the present invention, to simplify the manufacturing operations of the color filter, the intended color filter glass filter substrate playback method that matches the cost reduction is provided.

【0022】本発明方法によれば、ガラス基板上に形成された遮光膜、カラーレジスト膜及びオーバーコート膜を剥離させることなく、ITO導電膜を選択的に剥離させ得る。 According to the present invention method, the light-shielding film formed on a glass substrate, without causing peeling off the color resist film and the overcoat film may selectively to peel the ITO conductive film.

【0023】本発明方法によって、遮光膜、カラーレジスト膜及びオーバーコート膜に悪影響を受けていないカラーフィルター用ガラスフィルター基板を回収できるので、ITO導電膜を形成させるだけで、再度所望のカラーフィルターを製造することができる。 [0023] According to the present invention method, the light shielding film, it is possible to recover the color resist film and over a glass filter substrate for a color filter which is not adversely affected coat film, simply by forming the ITO conductive film, a desired color filter again it can be produced.

【0024】 [0024]

【実施例】以下に実施例及び比較例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。 BRIEF DESCRIPTION OF reference to Examples and Comparative Examples below, further clarify the present invention. 単に「%」 実施例1 液晶ディスプレイ用のカラーフィルターを、硫酸(濃度17%)に、55℃で1時間浸漬した。 Simply color filters "%" Example 1 for a liquid crystal display, the sulfuric acid (17% concentration), was immersed for 1 hour at 55 ° C.. その後、水洗を行い、次に100℃で1時間乾燥し、ITO導電膜が剥離されたカラーフィルタ用ガラスフィルター基板を回収した。 Thereafter, washing with water, then dried 1 hour at 100 ° C., ITO conductive film was recovered glass filter substrate for a color filter which is peeled off.

【0025】実施例2〜8 硫酸濃度、浸漬温度及び浸漬時間を下記表1に示す条件とする以外は、実施例1と同様にして、カラーフィルタ用ガラスフィルター基板を回収した。 [0025] Examples 2-8 sulfuric acid concentration, except that the soaking temperature and soaking time and conditions shown in Table 1, in the same manner as in Example 1, was recovered glass filter substrate for a color filter.

【0026】比較例1〜5 硫酸濃度、浸漬温度及び浸漬時間を下記表1に示す条件とする以外は、実施例1と同様にして、カラーフィルタ用ガラスフィルター基板を回収した。 [0026] Comparative Examples 1 to 5 sulfuric acid concentration, except that the soaking temperature and soaking time and conditions shown in Table 1, in the same manner as in Example 1, was recovered glass filter substrate for a color filter.

【0027】試験例1 実施例1〜8及び比較例1〜5で回収したカラーフィルタ用ガラスフィルター基板について、以下の評価を行なった。 [0027] The glass filter substrate for a color filter recovered in Test Example 1 Examples 1-8 and Comparative Examples 1-5 were subjected to the following evaluation. 評価結果を表1に併せて示す。 The evaluation results are also shown in Table 1. (1)カラーフィルタ用ガラスフィルター基板からのI (1) I from the glass filter substrate for a color filter
TO導電膜の剥離度合いを以下の判定基準に基づき顕微鏡(約50倍)で目視判定した。 It was determined visually with a microscope based peeling degree of TO conductive film following criteria (about 50 times). ○:ITO導電膜を完全に剥離できた ×:ITO導電膜が残存していた (2)ガラスフィルター基板上のカラーレジスト膜の劣化度合いを以下の判定基準に基づき顕微鏡(約50倍) ○: × could be completely peeled off the ITO conductive film: ITO conductive film was left (2) microscope based on the following criteria for the degree of deterioration of the color resist film on the glass filter substrates (approximately 50-fold)
で目視判定した。 In the visual judgment. ○:RGBカラーレジストの色抜け及びクラックなし ×:RGBカラーレジストの色抜け又はクラックあり 更にガラスフィルター基板上のカラーレジスト膜の透過率を求めて、カラーレジスト膜の劣化度合いを判定した。 ○: No color loss and cracks of RGB color resist ×: RGB Yes color loss or cracks color resist further seeking transmittance of the color resist film on a glass filter substrate was determined degree of deterioration of the color resist film. この判定は、ITO膜が完全に剥離されていないと、透過率が低くなること、及びRGBカラーレジスト膜が劣化していると、透過率が高くなることを利用している。 This determination is the ITO film is not completely removed, the transmittance becomes low, and the RGB color resist film is degraded, and use of the fact that the transmittance is high. ○:ITO成膜前の透過率と一致 ×:ITO成膜前の透過率と一致せず ○: consistent with ITO deposition before the transmittance ×: not match the ITO deposition before transmission

【0028】 [0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】試験例2 実施例1〜8で回収したカラーフィルタ用ガラスフィルター基板を、カラーフィルター製造ラインに流し、IT [0029] The glass filter substrate for a color filter recovered in Test Example 2 Examples 1-8, flushed color filter production line, IT
O導電層を成膜してカラーフィルターを製造した。 A color filter was produced by forming a O conductive layer.

【0030】製造されたガラスフィルターは、新品のガラス基板を使用して製造されたカラーフィルターと比べてなんら遜色はなく、同じ性能を有していた。 The glass filter produced is not any way inferior to the color filter, which is manufactured using a glass substrate of the new, had the same performance. 即ち、信頼性試験として耐熱性、耐溶剤性、耐光性などを調べたが、再生基板によるカラーフィルターと新品基板によるカラーフィルターとの間に差異は認められなかった。 That is, heat resistance as a reliability test, solvent resistance, were examined and light resistance, a difference between the color filter according to the color filter and the new board by reproducing the substrate was observed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 廣岡 岳治 滋賀県近江八幡市柳町二丁目465−29 (72)発明者 坪田 年 兵庫県芦屋市親王町2−3 (72)発明者 今道 高志 滋賀県栗太郡栗東町荒張996−109 (72)発明者 坂山 邦彦 滋賀県大津市栗林4−28 職員住宅A−3 −4 (72)発明者 佐々木 宗生 滋賀県草津市若草2丁目11−8 Fターム(参考) 2H048 BA02 BA11 BB02 BB14 BB42 2H090 JB02 JC19 JC20 LA15 2H091 FA02Y FA34Y GA01 LA30 4G059 AA08 AB09 AC24 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Hirooka TakeshiOsamu Shiga Prefecture Omihachiman willow-cho, chome 465-29 (72) inventor Tsubota year, Hyogo Prefecture Ashiya Prince-cho, 2-3 (72) inventor now way Shiga Takashi prefecture Kurita-gun Ritto-cho, Arahari 996-109 (72) inventor Sakayama Otsu, Shiga Prefecture Kunihiko Kuribayashi 4-28 staff housing A-3 -4 (72) inventor Takashi Sasaki students Kusatsu City, Shiga Prefecture Little Women 2-chome, 11-8 F term (reference) 2H048 BA02 BA11 BB02 BB14 BB42 2H090 JB02 JC19 JC20 LA15 2H091 FA02Y FA34Y GA01 LA30 4G059 AA08 AB09 AC24

Claims (1)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 カラーフィルター不良品を、50〜70 The method according to claim 1] color filter defective, 50-70
    ℃の温度で、8〜50重量%濃度の硫酸と接触させることにより、カラーフィルターからITO導電膜を剥離させることを特徴とするカラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法。 At ℃ temperature by contact with a 8-50% strength by weight sulfuric acid, the glass filter substrates playback method for a color filter, characterized in that for peeling the ITO conductive film from the color filter.
JP2001063844A 2001-03-07 2001-03-07 Method for recovering glass filter substrate for color filter Pending JP2002267827A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10308541B2 (en) 2014-11-13 2019-06-04 Gerresheimer Glas Gmbh Glass forming machine particle filter, a plunger unit, a blow head, a blow head support and a glass forming machine adapted to or comprising said filter

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