JP2002265609A - Boron-containing polyorganosilsesquioxane and adhesive composition - Google Patents

Boron-containing polyorganosilsesquioxane and adhesive composition

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JP2002265609A
JP2002265609A JP2001071730A JP2001071730A JP2002265609A JP 2002265609 A JP2002265609 A JP 2002265609A JP 2001071730 A JP2001071730 A JP 2001071730A JP 2001071730 A JP2001071730 A JP 2001071730A JP 2002265609 A JP2002265609 A JP 2002265609A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a boron-containing polyorganosilsesquioxane excellent in heat resistance, weather resistance and the like, and useful as an adhesive component in a moisture curing adhesive composition which is excellent in the adhesivity to an adherend, and an adhesive composition using the same. SOLUTION: The boron-containing polyorganosilsesquioxane has a structure in which a part of intramolecular silicon atoms are bonded to silicon atoms via oxygen atoms. The adhesive composition contains the boron-containing polyorganosilsesquioxane as adhesive component.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ホウ素含有ポリオ
ルガノシルセスキオキサン及び接着剤組成物に関する。
さらに詳しくは、本発明は、耐熱性や耐候性などに優れ
ると共に、被着体との密着性の良好な湿気硬化型の接着
剤組成物における接着成分などとして有用なホウ素含有
ポリオルガノシルセスキオキサン、及びこのものを接着
成分として含む上記特性を有する接着剤組成物に関する
ものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a boron-containing polyorganosilsesquioxane and an adhesive composition.
More specifically, the present invention provides a boron-containing polyorganosilsesquioki which is excellent in heat resistance and weather resistance and is useful as an adhesive component in a moisture-curable adhesive composition having good adhesion to an adherend. The present invention relates to a sun and an adhesive composition having the above-mentioned properties and containing the same as an adhesive component.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、無機系接着剤の代表的なものとし
て水ガラスが知られているが、この水ガラスは強塩基性
であるため、一般に無機材料と無機材料との接着に用い
られている。また、有機−無機複合系接着剤として、シ
リコーン樹脂系のものが知られているが、このものは、
一般に硬化時に紫外線を照射したり、加熱を必要とする
ものが多く、また被着体との密着性を向上させるため
に、被着体に対する濡れ性を考慮する必要もある。この
シリコーン樹脂系接着剤の中で特殊なタイプとして、ア
ルコキシシランを用いた湿気硬化型のものが知られてい
る。しかしながら、このものは水分との反応が遅く、反
応性が悪い(硬化速度が遅い)ために、通常酸又は塩基
触媒が添加されている。一方、シリコーン樹脂の一種で
あるポリシルセスキオキサンは耐熱性や耐候性に優れた
材料であることが知られている。このポリシルセスキオ
キサンの中で、ケイ素原子に有機基が結合したポリオル
ガノシルセスキオキサンは、例えば非加水分解性有機基
が一つ結合したトリクロロシランやトリアルコキシシラ
ンなどの3官能性シランを加水分解、縮合させることに
より、製造することができる。このポリオルガノシルセ
スキオキサンは、無機基材や有機基材上に無機材料層を
形成する場合の該無機材料層中のバインダーなどとして
用いられている。そして、ポリオルガノシルセスキオキ
サン中の非加水分解性有機基として、エポキシ基、水酸
基、チオール基などの官能基を含む基を用いることによ
り、基材と無機材料層との密着性の向上が図られてい
る。ところで、近年、接着剤の応用展開は一段と多様化
が進み、包装・製本、土木・建築、電子・電気機器、自
動車、光学部品などの工業分野、あるいは一般コンシュ
ーマー分野など、あらゆる分野において、接着剤が利用
されている。接着剤としては、一般にエポキシ系、ウレ
タン系、アクリル系、シリコーン系、ゴム系、酢酸ビニ
ル系、無機系などが用いられており、そして、この接着
剤の中で、湿気硬化型であって、雰囲気中の水分により
常温で硬化し、かつ耐熱性や耐候性に優れると共に、有
機材料−無機材料、有機材料−有機材料及び無機材料−
無機材料を密着性よく接着させるものは、工業的に応用
分野が極めて広い。
2. Description of the Related Art Conventionally, water glass is known as a typical inorganic adhesive. However, since this water glass is strongly basic, it is generally used for bonding inorganic materials to each other. I have. As an organic-inorganic composite-based adhesive, a silicone resin-based adhesive is known.
Generally, ultraviolet rays are often radiated or heat is required at the time of curing, and it is also necessary to consider the wettability to the adherend in order to improve the adhesion to the adherend. As a special type of the silicone resin-based adhesive, a moisture-curable type using an alkoxysilane is known. However, since these react with water slowly and have poor reactivity (slow curing speed), an acid or base catalyst is usually added. On the other hand, polysilsesquioxane, which is a kind of silicone resin, is known to be a material having excellent heat resistance and weather resistance. Among these polysilsesquioxanes, polyorganosilsesquioxanes in which an organic group is bonded to a silicon atom are, for example, trifunctional silanes such as trichlorosilane and trialkoxysilane in which one non-hydrolyzable organic group is bonded. Can be produced by hydrolysis and condensation of This polyorganosilsesquioxane is used as a binder in an inorganic material layer when an inorganic material layer is formed on an inorganic or organic substrate. By using a group containing a functional group such as an epoxy group, a hydroxyl group, or a thiol group as the non-hydrolyzable organic group in the polyorganosilsesquioxane, the adhesion between the base material and the inorganic material layer can be improved. It is planned. By the way, in recent years, the application development of adhesives has been further diversified, and adhesives have been used in various fields such as industrial fields such as packaging and bookbinding, civil engineering and construction, electronic and electrical equipment, automobiles, optical components, and general consumer fields. Is used. As the adhesive, epoxy-based, urethane-based, acrylic-based, silicone-based, rubber-based, vinyl acetate-based, inorganic-based and the like are generally used, and among these adhesives, a moisture-curable type is used. It cures at room temperature due to moisture in the atmosphere, and has excellent heat resistance and weather resistance, and also has an organic material—an inorganic material, an organic material—an organic material and an inorganic material—
The application of inorganic materials with good adhesion has an extremely wide industrial application.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、耐熱性や耐候性などに優れ、有機材料−無機
材料、有機材料−有機材料及び無機材料−無機材料を密
着性よく接着し得る湿気硬化型の接着剤組成物における
接着成分などとして有用な新規なポリオルガノシルセス
キオキサン、及びこのものを接着成分として含む上記特
性を有する接着剤組成物を提供することを目的とするも
のである。
Under these circumstances, the present invention is excellent in heat resistance and weather resistance, etc., and has good adhesion between organic material-inorganic material, organic material-organic material and inorganic material-inorganic material. It is an object of the present invention to provide a novel polyorganosilsesquioxane useful as an adhesive component or the like in a moisture-curable adhesive composition that can be adhered, and an adhesive composition having the above-mentioned properties containing this as an adhesive component. Is what you do.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ポリオルガノ
シルセスキオキサンであって、分子内のケイ素原子の一
部が酸素原子を介してホウ素原子に結合した構造を有す
る化合物は新規なもので、その目的に適合し得ることを
見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したも
のである。すなわち、本発明は、分子内のケイ素原子の
一部が酸素原子を介してホウ素原子に結合した構造を有
することを特徴とするホウ素含有ポリオルガノシルセス
キオキサン、好ましくは (1)(a)一般式(I) R1 −B−R2 2 ・・・・・・(I) (式中、R1 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキシル基
又は塩素原子、R2 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキ
シル基、炭素数1〜12の炭化水素基又は塩素原子を示
し、2つのR2 は互いに同一でも異なっていてもよく、
また互いに結合してモノまたはポリシクロ環を形成して
もよい。)で表されるホウ素化合物と、(b)一般式
(II) R3 −Si−R4 3 ・・・・・・(II) (式中、R3 は有機基、R4 は加水分解性基で、ハロゲ
ン原子又は炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、3つ
のR4 は互いに同一でも異なっていてもよい。)で表さ
れるケイ素化合物を縮合させて得られホウ素含有ポリオ
ルガノシルセスキオキサン、及び(2)上記一般式
(I)で表されるホウ素化合物と、(b)上記一般式
(II)で表されるケイ素化合物と、(c)一般式(III) H−Si−R5 3 ・・・・・・(III) (式中、R5 は炭素数1〜4のアルコキシル基又は塩素
原子を示し、3つのR5は互いに同一でも異なっていて
もよい。)で表されるシラン化合物を縮合させ、さらに
(d)一般式(IV) CH2 =CH−R6 ・・・・・・(IV) (式中、R6 は官能基を有する炭素数1〜10の炭化水
素基を示す。)で表されるビニル化合物を付加させてな
るものであって、ケイ素原子の一部に−CH2 CH2
6 基(R6 は前記と同じである。)が導入されてなる
ホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサン、及び
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, it has been found that polyorganosilsesquioxane wherein a part of silicon atoms in the molecule is an oxygen atom It has been found that a compound having a structure bonded to a boron atom through is a novel compound and can be suitable for the purpose. The present invention has been completed based on such findings. That is, the present invention provides a boron-containing polyorganosilsesquioxane having a structure in which a part of a silicon atom in a molecule is bonded to a boron atom via an oxygen atom, preferably (1) (a) general formula (I) R 1 -B-R 2 2 ······ (I) ( wherein, R 1 is a hydroxyl group, an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a hydroxyl group, the number of carbon atoms Represents an alkoxyl group of 1 to 4, a hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms or a chlorine atom, and two R 2 s may be the same or different from each other;
Further, they may combine with each other to form a mono- or polycyclo ring. A boron compound represented by), (b) the general formula (II) R 3 -Si-R 4 3 ······ (II) ( wherein, R 3 is an organic group, R 4 is a hydrolyzable Represents a halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, and three R 4 s may be the same or different from each other.) The boron-containing polyorganosilsesquis obtained by condensing a silicon compound represented by the formula: Oxane, and (2) a boron compound represented by the general formula (I), (b) a silicon compound represented by the general formula (II), and (c) a H-Si- Table with R 5 3 · · · · · · (III) (wherein, R 5 represents an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms, the three R 5 may be the same or different.) during the the silane compound by condensation, addition (d) general formula (IV) CH 2 = CH- R 6 ······ (IV) ( wherein, R 6 . Of a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a functional group) represented by be comprised by an addition of vinyl compounds, -CH 2 CH 2 in a part of the silicon atoms -
A boron-containing polyorganosilsesquioxane into which an R 6 group (R 6 is as defined above) is introduced, and

【0005】(3)(b)成分の一般式(II) におい
て、R3 で表される有機基が、炭素数1〜12の炭化水
素基又は官能基を有する炭素数1〜12の炭化水素基で
あり、かつR4 が炭素数1〜4にアルコキシル基である
上記(1)又は(2)のホウ素含有ポリオルガノシルセ
スキオキサン、及び(4)(d)成分の一般式(IV) に
おいて、R6 で表される官能基を有する炭素数1〜10
の炭化水素基が、イソシアネート基又はイソチオシアネ
ート基を有する炭素数1〜10の炭化水素基である上記
(2)又は(3)のホウ素含有ポリオルガノシルセスキ
オキサンを提供するものである。また、本発明は、接着
成分として、前記ホウ素含有ポリオルガノシルセスキオ
キサンを含むことを特徴とする接着剤組成物をも提供す
るものである。
(3) In the general formula (II) of the component (b), the organic group represented by R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms having a functional group. A boron-containing polyorganosilsesquioxane of the above (1) or (2), wherein R 4 is an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, and (4) a component of the general formula (IV) Has a carbon number of 1 to 10 having a functional group represented by R 6.
The boron-containing polyorganosilsesquioxane according to the above (2) or (3), wherein the hydrocarbon group is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having an isocyanate group or an isothiocyanate group. The present invention also provides an adhesive composition comprising the boron-containing polyorganosilsesquioxane as an adhesive component.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明のホウ素含有ポリオルガノ
シルセスキオキサンは、分子内のケイ素原子の一部が酸
素原子を介してホウ素原子に結合した構造を有する新規
な化合物であって、該ホウ素原子は分子鎖中に導入され
ていてよいし、分子末端に導入されていてもよく、また
それらの両方に導入されていてもよい。分子中のケイ素
原子には有機基が一つ結合しており、該有機基として
は、炭素数1〜12の炭化水素基及び官能基を有する炭
素数1〜12の炭化水素基が好ましく挙げられる。ここ
で、炭素数1〜12の炭化水素基としては、炭素数1〜
12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、芳
香環上に置換基を有する若しくは有しない炭素数6〜1
2のアリール基、芳香環上に置換基を有する若しくは有
しない炭素数7〜12のアラルキル基を挙げることがで
きる。上記炭素数1〜12のアルキル基は、直鎖状、分
岐状、環状のいずれであってもよく、このアルキル基の
例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−
ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などが挙げられる。炭素数2〜12のアルケニル基は、
直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、このア
ルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基、オクテニル基などが挙げられる。
炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げら
れ、炭素数7〜12のアラルキル基としては、例えばベ
ンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチ
ルメチル基などが挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention is a novel compound having a structure in which a part of a silicon atom in a molecule is bonded to a boron atom via an oxygen atom. The boron atom may be introduced into the molecular chain, may be introduced at the molecular end, or may be introduced into both of them. One organic group is bonded to the silicon atom in the molecule, and the organic group is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms having a functional group. . Here, the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms includes 1 to 12 carbon atoms.
12 alkyl groups, alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms, and 6 to 1 carbon atoms having or not having a substituent on an aromatic ring.
2 aryl groups and aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms with or without a substituent on an aromatic ring. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, and n. -Butyl group, isobutyl group, sec-
Examples thereof include a butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. An alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is
It may be linear, branched or cyclic, and examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a hexenyl group and an octenyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms include a benzyl group, a phenethyl group, and a phenylpropyl group. And a naphthylmethyl group.

【0007】一方、官能基を有する炭素数1〜12の炭
化水素基における官能基としては、例えば水酸基、チオ
ール基、アミノ基、シアノ基、イソシアネート基、イソ
チオシアネート基、エポキシ基及び(メタ)アクリロイ
ルオキシ基などの中から選ばれる少なくとも一種を挙げ
ることができる。これらの官能基が導入される炭素数1
〜12の炭化水素基としては、前記の炭素数1〜12の
炭化水素基の説明において例示したものと同じものを挙
げることができる。この官能基を有する炭素数1〜12
の炭化水素基としては、例えば2−ヒドロキシエチル
基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピ
ル基、2−メルカプトエチル基、3−メルカプトプロピ
ル基、2−メルカプトプロピル基、2−アミノエチル
基、3−アミノプロピル基、2−アミノプロピル基、2
−ジメチルアミノエチル基、4−ジメチルアミノベンジ
ル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2
−シアノプロピル基、3−イソシアナトプロピル基、3
−イソチオシアナトプロピル基、3−グリシドキシプロ
ピル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、3−アク
リロイルオキシプロピル基、3−メタクリロイルオキシ
プロピル基などが挙げられる。
On the other hand, examples of the functional group in the hydrocarbon group having a functional group having 1 to 12 carbon atoms include a hydroxyl group, a thiol group, an amino group, a cyano group, an isocyanate group, an isothiocyanate group, an epoxy group and (meth) acryloyl. At least one selected from oxy groups and the like can be mentioned. 1 carbon atom into which these functional groups are introduced
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 12 include the same as those exemplified in the description of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. 1 to 12 carbon atoms having this functional group
Examples of the hydrocarbon group include 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2-hydroxypropyl, 2-mercaptoethyl, 3-mercaptopropyl, 2-mercaptopropyl, 2-aminoethyl, 3-aminopropyl group, 2-aminopropyl group, 2
-Dimethylaminoethyl group, 4-dimethylaminobenzyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2
-Cyanopropyl group, 3-isocyanatopropyl group, 3
-Isothiocyanatopropyl group, 3-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group, 3-acryloyloxypropyl group, 3-methacryloyloxypropyl group, and the like.

【0008】本発明においては、分子中のケイ素原子に
結合する前記有機基としては同じ種類のものであっても
よく、また異なる種類のものであってもよい。特に、分
子中のケイ素原子に結合する有機基が前記の官能基を有
する炭化水素基であれば、本発明のホウ素含有ポリオル
ガノシルセスキオキサンを接着成分として使用する場
合、被着体への密着性が向上する。一方、本発明のホウ
素含有ポリオルガノシルセスキオキサンにおいて、ケイ
素原子の一部が酸素原子を介して結合するホウ素原子
は、分子鎖中又は分子末端あるいはその両方に存在する
ことができる。また、分子鎖中に存在するホウ素原子に
は、有機基が一つ結合していてもよく、また分子末端に
存在するホウ素原子には、有機基又は塩素原子が一つ又
は二つ結合していてもよい。この有機基は、炭素数1〜
12の炭化水素基が好ましい。該炭素数1〜12の炭化
水素基としては、前述のケイ素原子に結合する有機基に
おける炭素数1〜12の炭化水素基の説明において例示
したものと同じものを挙げることができる。この有機基
として嵩高の炭化水素基でもよく、このような嵩高炭化
水素基としては、例えばtert−ブチル基、tert
−アミル基、tert−オクチル基、フェニル基、シク
ロヘキシル基などが挙げられる。また、末端に存在する
ホウ素原子に炭素数1〜12の炭化水素基が二つ結合す
る場合、これらがたがいに結合して、ホウ素原子と共に
モノ又はポリシクロ環の嵩高基を形成してもよい。この
ような嵩高基の例としては、ボラシクロオクタン−1−
イル基、8−ボラビシクロ〔3.2.1〕オクタン−8
−イル基などを挙げることができる。このようなホウ素
原子を導入したホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキ
サンは、水分によりホウ素原子と酸素原子との間の結合
が切断されて末端に水酸基が生成し、重合(重縮合)が
進むので、接着成分として用いた場合、湿気硬化型の接
着剤を得ることができる。
In the present invention, the organic groups bonded to the silicon atom in the molecule may be of the same type or different types. In particular, if the organic group bonded to the silicon atom in the molecule is a hydrocarbon group having the above functional group, when the boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention is used as an adhesive component, The adhesion is improved. On the other hand, in the boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention, a boron atom to which a part of a silicon atom is bonded via an oxygen atom can be present in a molecular chain or at a molecular terminal or both. One organic group may be bonded to the boron atom present in the molecular chain, and one or two organic groups or chlorine atoms may be bonded to the boron atom present at the molecular end. You may. This organic group has 1 to 1 carbon atoms.
Twelve hydrocarbon groups are preferred. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the same as those exemplified in the description of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms in the organic group bonded to the silicon atom. The organic group may be a bulky hydrocarbon group. Examples of such a bulky hydrocarbon group include a tert-butyl group and a tert-butyl group.
-Amyl group, tert-octyl group, phenyl group, cyclohexyl group and the like. When two C1-C12 hydrocarbon groups are bonded to the terminal boron atom, these may be bonded to each other to form a bulky mono- or polycyclo ring group together with the boron atom. Examples of such bulky groups include boracyclooctane-1-
Yl group, 8-borabicyclo [3.2.1] octane-8
-Yl group and the like. In such a boron-containing polyorganosilsesquioxane into which such a boron atom has been introduced, the bond between the boron atom and the oxygen atom is cut by moisture to form a hydroxyl group at the terminal, and polymerization (polycondensation) proceeds. When used as an adhesive component, a moisture-curable adhesive can be obtained.

【0009】本発明のホウ素含有ポリオルガノシルセス
キオキサンにおけるケイ素原子とホウ素原子の割合は、
モル比で、通常5:1〜500:1の範囲で選定され
る。ホウ素原子の含有割合が上記範囲より少ないとホウ
素原子を導入した効果が充分に発揮されないおそれがあ
り、一方上記範囲より多いとポリオルガノシルセスキオ
キサンとしての性能が失われ場合があり、好ましくな
い。これらの理由から、ケイ素原子とホウ素原子の好ま
しい割合は5:1〜100:1の範囲であり、特に5:
1〜20:1の範囲が好適である。本発明のホウ素含有
ポリオルガノシルセスキオキサンは、以下に示す二つの
方法により製造することができる。まず、第1の方法
は、(a)一般式 R1 −B−R2 2 ・・・・・・(I) (式中、R1 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキシル基
又は塩素原子、R2 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキ
シル基、炭素数1〜12の炭化水素基又は塩素原子を示
し、2つのR2 は互いに同一でも異なっていてもよく、
また互いに結合してモノまたはポリシクロ環を形成して
もよい。)で表されるホウ素化合物と、(b)一般式
(II) R3 −Si−R4 3 ・・・・・・(II) (式中、R3 は有機基、R4 は加水分解性基で、ハロゲ
ン原子又は炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、3つ
のR4 は互いに同一でも異なっていてもよい。)で表さ
れるケイ素化合物を縮合させる方法である。
The ratio of silicon atoms to boron atoms in the boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention is as follows:
The molar ratio is usually selected in the range of 5: 1 to 500: 1. If the content of boron atoms is less than the above range, the effect of introducing boron atoms may not be sufficiently exerted, while if it is more than the above range, performance as polyorganosilsesquioxane may be lost, which is not preferable. . For these reasons, the preferred ratio of silicon atoms to boron atoms is in the range of 5: 1 to 100: 1, especially 5:
A range of 1 to 20: 1 is preferred. The boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention can be produced by the following two methods. First, the first method, (a) the general formula R 1 -B-R 2 2 ······ (I) ( wherein, R 1 is a hydroxyl group, an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms , R 2 is a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydrocarbon group or a chlorine atom having 1 to 12 carbon atoms, the two R 2 may be the same or different from each other,
Further, they may combine with each other to form a mono- or polycyclo ring. A boron compound represented by), (b) the general formula (II) R 3 -Si-R 4 3 ······ (II) ( wherein, R 3 is an organic group, R 4 is a hydrolyzable Is a halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, and three R 4 's may be the same or different from each other.)

【0010】前記(a)成分の一般式(I)で表される
化合物において、R1 及びR2 のうちの炭素数1〜4の
アルコキシル基の例としては、メトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert
−ブトキシ基が挙げられる。またR2 のうちの炭素数1
〜12の炭化水素基としては、前述のケイ素原子に結合
する有機基における炭素数1〜12の炭化水素基の説明
において例示したものと同じものを挙げることができ
る。この一般式(I)で表されるホウ素化合物として
は、単官能ホウ素化合物として、例えば一般式(I−
a) R1 −B−R7 2 ・・・・・・(I−a) (式中、R1 は前記と同じであり、R7 は炭素数1〜1
2の炭化水素基又は塩素原子を示し、2つのR7 はたが
いに同一でも異なっていてもよく、また、たがいに結合
してモノ又はポリシクロ環を形成してもよい。)で表さ
れる化合物を挙げることができる。
In the compound represented by the general formula (I) of the component (a), examples of the alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms in R 1 and R 2 include methoxy, ethoxy, n- Propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert
-Butoxy group. And the number of carbon atoms in R 2 is 1
Examples of the hydrocarbon group having 12 to 12 include the same as those exemplified in the description of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms in the organic group bonded to the silicon atom. As the boron compound represented by the general formula (I), as a monofunctional boron compound, for example, a compound represented by the general formula (I-
a) R 1 -B-R 7 2 ······ (I-a) ( wherein, R 1 is the same as defined above, R 7 is a carbon number 1 to 1
R 2 represents two hydrocarbon groups or chlorine atoms, and two R 7 s may be the same or different, and may combine with each other to form a mono- or polycyclo ring. )).

【0011】前記一般式(I−a)で表される化合物の
例としては、ジメチルヒドロキシボラン、ジエチルヒド
ロキシボラン、ジ−tert−ブチルヒドロキシボラ
ン、ジフェニルヒドロキシボラン、ジベンジルヒドロキ
シボラン、tert−ブチルエチルヒドロキシボラン、
1−ヒドロキシボラシクロオクタン、8−ヒドロキシ−
8−ボラビシクロ〔3.2.1〕オクタンン、ジメチル
メトキシボラン、ジエチルメトキシボラン、ジ−ter
t−ブチルメトキシボラン、ジフェニルメトキシボラ
ン、ジベンジルメトキシボラン、tert−ブチルエチ
ルメトキシボラン、1−メトキシボラシクロオクタン、
8−メトキシ−8−ボラビシクロ〔3.2.1〕オクタ
ン、ジシクロヘキシルクロロボランなどが挙げられる。
二官能ホウ素化合物として、例えば一般式(I−b) R1 2 −B−R7 ・・・・・・(I−b) (式中、R1 及びR7 は前記と同じであり、2つのR1
はたがいに同一でも異なっていてもよい。)で表される
化合物を挙げることができる。
Examples of the compound represented by the general formula (Ia) include dimethylhydroxyborane, diethylhydroxyborane, di-tert-butylhydroxyborane, diphenylhydroxyborane, dibenzylhydroxyborane, tert-butylethyl. Hydroxyborane,
1-hydroxyboracyclooctane, 8-hydroxy-
8-borabicyclo [3.2.1] octane, dimethylmethoxyborane, diethylmethoxyborane, di-ter
t-butylmethoxyborane, diphenylmethoxyborane, dibenzylmethoxyborane, tert-butylethylmethoxyborane, 1-methoxyboracyclooctane,
8-methoxy-8-borabicyclo [3.2.1] octane, dicyclohexylchloroborane and the like.
As bifunctional boron compounds, for example the general formula (I-b) R 1 2 -B-R 7 ······ (I-b) ( wherein, R 1 and R 7 are as defined above, 2 Two R 1
They may be the same or different. )).

【0012】前記一般式(I−b)で表される化合物の
例としては、ジヒドロキシメチルボラン、ジヒドロキシ
エチルボラン、tert−ブチルジヒドロキシボラン、
ジヒドロキシフェニルボラン、ベンジルジヒドロキシボ
ラン、ジメトキシメチルボラン、ジメトキシエチルボラ
ン、tert−ブチルジメトキシボラン、ジメトキシフ
ェニルボラン、ベンジルジメトキシボラン、ヒドロキシ
メトキシメチルボラン、エチルヒドロキシメトキシボラ
ン、t−ブチルヒドロキシメトキシボラン、ヒドロキシ
メトキシフェニルボラン、ベンジルヒドロキシメトキシ
ボランなどが挙げられる。三官能ホウ素化合物として、
例えば一般式(I−c) R1 3 −B ・・・・・・(I−c) (式中、R1 は前記と同じであり、3つのR1 はたがい
に同一でも異なっていてもよい。)で表される化合物を
挙げることができる。前記一般式(I−c)で表される
化合物の例としては、ホウ酸、ジヒドロキシメトキシボ
ラン、ジメトキシヒドロキシボラン、トリメトキシボラ
ンなどが挙げられる。
Examples of the compound represented by the general formula (Ib) include dihydroxymethylborane, dihydroxyethylborane, tert-butyldihydroxyborane,
Dihydroxyphenylborane, benzyldihydroxyborane, dimethoxymethylborane, dimethoxyethylborane, tert-butyldimethoxyborane, dimethoxyphenylborane, benzyldimethoxyborane, hydroxymethoxymethylborane, ethylhydroxymethoxyborane, t-butylhydroxymethoxyborane, hydroxymethoxyphenyl Borane, benzylhydroxymethoxyborane and the like. As a trifunctional boron compound,
For example in the general formula (I-c) R 1 3 -B ······ (I-c) ( wherein, R 1 is the same as defined above, three of R 1 are also the same with or different from each other Good)). Examples of the compound represented by the general formula (Ic) include boric acid, dihydroxymethoxyborane, dimethoxyhydroxyborane, trimethoxyborane and the like.

【0013】本発明においては、(a)成分のホウ素化
合物として、前記の一般式(I−a)、(I−b)、
(I−c)で表されるホウ素化合物の中から一種を選び
用いてもよく、二種以上を選び用いてもよい。一方、前
記(b)成分の一般式(II)で表される化合物におい
て、R3 で表される有機基としては、炭素数1〜12の
炭化水素基及び官能基を有する炭素数1〜12の炭化水
素基を挙げることができる。ここで、炭素数1〜12の
炭化水素基としては、前述のケイ素原子に結合する有機
基における炭素数1〜12の炭化水素基の説明において
例示したものと同じものを挙げることができる。また、
官能基を有する炭素数1〜12の炭化水素基における官
能基としては、例えば水酸基、チオール基、アミノ基、
シアノ基、エポキシ基及び(メタ)アクリロイルオキシ
基などの中から選ばれる少なくとも一種を挙げることが
できる。
In the present invention, as the boron compound as the component (a), the above-mentioned general formulas (Ia), (Ib),
One of the boron compounds represented by (Ic) may be selected and used, or two or more may be selected and used. On the other hand, in the compound represented by the general formula (II) of the component (b), the organic group represented by R 3 includes a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon group having 1 to 12 carbon atoms having a functional group. Can be mentioned. Here, examples of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the same as those exemplified in the description of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms in the organic group bonded to the silicon atom. Also,
Examples of the functional group in the hydrocarbon group having a functional group having 1 to 12 carbon atoms include a hydroxyl group, a thiol group, an amino group,
Examples include at least one selected from a cyano group, an epoxy group, a (meth) acryloyloxy group, and the like.

【0014】この官能基を有する炭素数1〜12の炭化
水素基としては、例えば2−ヒドロキシエチル基、3−
ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2
−メルカプトエチル基、3−メルカプトプロピル基、2
−メルカプトプロピル基、2−アミノエチル基、3−ア
ミノプロピル基、2−アミノプロピル基、2−ジメチル
アミノエチル基、4−ジメチルアミノベンジル基、2−
シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−シアノプ
ロピル基、3−グリシドキシプロピル基、3,4−エポ
キシシクロヘキシル基、3−アクリロイルオキシプロピ
ル基、3−メタクリロイルオキシプロピル基などが挙げ
られる。また、R4 のうちのハロゲン原子としては塩素
原子が好ましく挙げられ、炭素数1〜4のアルコキシル
基としては、前記一般式(I)において、炭素数1〜4
のアルコキシル基の説明で例示したものと同じものを挙
げることができる。
Examples of the C1-C12 hydrocarbon group having a functional group include a 2-hydroxyethyl group and a 3-hydroxyethyl group.
Hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2
-Mercaptoethyl group, 3-mercaptopropyl group, 2
-Mercaptopropyl group, 2-aminoethyl group, 3-aminopropyl group, 2-aminopropyl group, 2-dimethylaminoethyl group, 4-dimethylaminobenzyl group, 2-
Examples include a cyanoethyl group, a 3-cyanopropyl group, a 2-cyanopropyl group, a 3-glycidoxypropyl group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, a 3-acryloyloxypropyl group, and a 3-methacryloyloxypropyl group. Further, as the halogen atom in R 4, a chlorine atom is preferably mentioned, and as the alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, the alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms in the general formula (I) can be used.
And the same as those exemplified in the description of the alkoxyl group.

【0015】前記一般式(II) で表されるケイ素化合物
としては、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシ
シラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ベンジル
トリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、2
−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、3−ヒドロキ
シプロピルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、2−メルカプトエチルトリメト
キシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、2−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2−
アミノエチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピル
トリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、2−ジメチルアミノエチルトリメトキシシラ
ン、4−ジメチルアミノベンジルトリメトキシシラン、
2−シアノエチルトリメトキシシラン、3−シアノプロ
ピルトリメトキシシラン、2−シアノプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3,4−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシ
ラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシ
シランなどのトリアルコキシシラン類及びこれらに対応
するトリクロロシラン類などが挙げられる。これらのケ
イ素化合物は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を
組み合わせて用いてもよい。
The silicon compound represented by the general formula (II) includes, for example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, Propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, benzyltrimethoxysilane, benzyltriethoxysilane, 2
-Hydroxyethyltrimethoxysilane, 3-hydroxypropyltrimethoxysilane, 2-hydroxypropyltrimethoxysilane, 2-mercaptoethyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 2-mercaptopropyltrimethoxysilane, 2-
Aminoethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-dimethylaminoethyltrimethoxysilane, 4-dimethylaminobenzyltrimethoxysilane,
2-cyanoethyltrimethoxysilane, 3-cyanopropyltrimethoxysilane, 2-cyanopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxy Examples include trialkoxysilanes such as silane and 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and trichlorosilanes corresponding thereto. One of these silicon compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

【0016】本発明においては、所定の割合の(a)成
分である前記一般式(I)で表されるホウ素化合物と、
(b)成分である一般式(II)で表されるケイ素化合物
を、少なくとも水を含む溶媒中において、酸又は塩基触
媒の存在下、好ましくは塩酸、硫酸、p−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸などの酸触媒の存在下、0〜
50℃程度の温度、好ましくは10〜40℃の温度にお
いて、部分的に加水分解させながら縮合させることによ
り、本発明のホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサ
ンが得られる。この反応において、(a)成分の一般式
(I)で表されるホウ素化合物として、単官能ホウ素化
合物を用いた場合には、ポリオルガノシルセスキオキサ
ンの末端のケイ素原子が、酸素を介してホウ素原子に結
合する。
In the present invention, a predetermined ratio of the component (a), ie, the boron compound represented by the general formula (I),
The silicon compound represented by the general formula (II), which is the component (b), is preferably used in a solvent containing at least water in the presence of an acid or base catalyst, preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid. In the presence of an acid catalyst such as
The boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention can be obtained by condensing while partially hydrolyzing at a temperature of about 50 ° C, preferably 10 to 40 ° C. In this reaction, when a monofunctional boron compound is used as the boron compound represented by the general formula (I) as the component (a), the silicon atom at the terminal of the polyorganosilsesquioxane is bonded via oxygen. Bonds to boron atoms.

【0017】また、ホウ素化合物として、二官能又は3
官能ホウ素化合物を用いた場合、ポリオルガノシルセス
キオキサンの分子鎖中にホウ素原子を導入し、酸素を介
してケイ素原子に結合させることができる。一般式
(I)で表されるホウ素化合物として、前記一般式(I
−a)で表される単官能ホウ素化合物を用い、これと一
般式(II) で表されるケイ素化合物を縮合させた場合、
例えば一般式(V)
The boron compound may be bifunctional or trifunctional.
When a functional boron compound is used, a boron atom can be introduced into the molecular chain of the polyorganosilsesquioxane, and can be bonded to a silicon atom via oxygen. As the boron compound represented by the general formula (I), the boron compound represented by the general formula (I)
When a monofunctional boron compound represented by -a) is condensed with a silicon compound represented by the general formula (II),
For example, the general formula (V)

【0018】[0018]

【化1】 Embedded image

【0019】(式中、R3 及びR7 は前記と同じであ
り、nは重合度を示す。)で表されるホウ素含有ポリオ
ルガノシルセスキオキサンを製造することができる。次
に、第2の方法は、(a)前記一般式(I)で表される
ホウ素化合物と、(b)上記一般式(II) で表されるケ
イ素化合物と、(c)一般式(III) H−Si−R5 3 ・・・・・・(III) (式中、R5 は炭素数1〜4のアルコキシル基又は塩素
原子を示し、3つのR5は互いに同一でも異なっていて
もよい)。で表されるシラン化合物を縮合させ、さらに
(d)一般式(IV) CH2 =CH−R6 ・・・・・・(IV) (式中、R6 は官能基を有する炭素数1〜10の炭化水
素基を示す。)で表されるビニル化合物を付加させるこ
とにより、ケイ素原子の一部に−CH2CH2 −R6
(R6 は前記と同じである。)が導入されてなるホウ素
含有ポリオルガノシルセスキオキサンを製造する方法で
ある。
(Wherein, R 3 and R 7 are the same as described above, and n represents the degree of polymerization.) A boron-containing polyorganosilsesquioxane represented by the following formula: Next, the second method comprises (a) a boron compound represented by the general formula (I), (b) a silicon compound represented by the general formula (II), and (c) a silicon compound represented by the general formula (III). ) in H-Si-R 5 3 ······ (III) ( wherein, R 5 represents an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms, even three R 5 are identical or different from each other Good). (D) CH 2シ ラ ン CH—R 6 ... (IV) wherein R 6 is a carbon atom having a functional group. By adding a vinyl compound represented by the formula (1), a —CH 2 CH 2 —R 6 group (R 6 is the same as described above) is introduced into a part of the silicon atom. This is a method for producing a boron-containing polyorganosilsesquioxane.

【0020】この方法は、前述の第1の方法では、容易
に加水分解してホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキ
サン中に導入することができない官能基、例えばイソシ
アネート基やイソチオシアネート基などを導入する方法
である。前記(c)成分の一般式(III)において、R5
で表される炭素数1〜4のアルコキシル基としては、前
記一般式(I)において、炭素数1〜4のアルコキシル
基の説明で例示したものと同じものを挙げることができ
る。この一般式(III)で表されるシラン化合物の例とし
ては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ
クロロシランなどが挙げられる。また、(d)成分の一
般式(IV) において、R6 で表される官能基を有する炭
素数1〜10の炭化水素基における官能基としては、特
にイソシアネート基やイソチオシアネート基を好ましく
挙げることができる。この一般式(IV) で表されるビニ
ル化合物としては、例えばアリルイソシアネート、アリ
ルイソチオシアネートなどを好ましく挙げることができ
る。
This method introduces a functional group which cannot be easily hydrolyzed into the boron-containing polyorganosilsesquioxane, for example, an isocyanate group or an isothiocyanate group, in the first method. Is the way. In the general formula (III) of the component (c), R 5
Examples of the alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by are the same as those exemplified in the description of the alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms in the general formula (I). Examples of the silane compound represented by the general formula (III) include trimethoxysilane, triethoxysilane, and trichlorosilane. Further, in the general formula (IV) of the component (d), as the functional group in the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a functional group represented by R 6 , an isocyanate group or an isothiocyanate group is particularly preferable. Can be. Preferred examples of the vinyl compound represented by the general formula (IV) include allyl isocyanate and allyl isothiocyanate.

【0021】本発明においては、所定の割合の(a)成
分である前記一般式(I)で表されるホウ素化合物と、
(b)成分である一般式(II)で表されるケイ素化合物
と、一般式(III)で表されるトリアルコキシシランを、
少なくとも水を含む溶媒中において、酸又は塩基触媒の
存在下、好ましくは、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸などの酸触媒の存在下、10〜
100℃程度の温度、好ましくは20〜90℃の温度に
おいて、部分的に加水分解させながら縮合させることに
より、ホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサンを生
成させる。生成したホウ素含有ポリオルガノシルセスキ
オキサンはヘキサンなどの有機溶媒を加えて析出させて
回収することができる・この反応において、一般式
(I)で表されるホウ素化合物として、前記一般式(I
−a)で表される単官能ホウ素化合物を用いた場合、例
えば一般式(VI)
In the present invention, a predetermined ratio of the component (a), a boron compound represented by the general formula (I),
(B) a silicon compound represented by the general formula (II), which is a component, and a trialkoxysilane represented by the general formula (III):
In a solvent containing at least water, in the presence of an acid or base catalyst, preferably in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, and methanesulfonic acid,
At a temperature of about 100 ° C., preferably at a temperature of 20 to 90 ° C., boron-containing polyorganosilsesquioxane is produced by condensation while partially hydrolyzing. The produced boron-containing polyorganosilsesquioxane can be recovered by precipitation by adding an organic solvent such as hexane. In this reaction, the boron compound represented by the general formula (I) is used as the boron compound represented by the general formula (I).
When the monofunctional boron compound represented by -a) is used, for example, the compound represented by the general formula (VI)

【0022】[0022]

【化2】 Embedded image

【0023】(式中、R3 、R7 及びnは前記と同じで
ある。)で表される化合物が得られる。次に、このよう
にして得られたホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキ
サンに、一般式(IV) で表されるビニル化合物を、例え
ば塩化白金酸触媒を用い、通常50〜200℃、好まし
くは80〜150℃の温度において付加させることによ
り、ケイ素原子の一部に−CH2 CH2 −R6 基(R6
は前記と同じである。)を導入させてなるホウ素含有ポ
リオルガノシルセスキオキサンが得られる。この場合、
前記一般式(VI)で表される化合物に該ビニル化合物を
付加させると、一般式(VII)
(Wherein R 3 , R 7 and n are the same as described above). Next, a vinyl compound represented by the general formula (IV) is added to the boron-containing polyorganosilsesquioxane thus obtained by using, for example, a chloroplatinic acid catalyst, usually at 50 to 200 ° C., preferably at 80 ° C. By adding at a temperature of 150150 ° C., a part of the silicon atom —CH 2 CH 2 —R 6 group (R 6
Is the same as above. ) To obtain a boron-containing polyorganosilsesquioxane. in this case,
When the vinyl compound is added to the compound represented by the general formula (VI), the compound represented by the general formula (VII)

【0024】[0024]

【化3】 Embedded image

【0025】(式中、R3 、R6 、R7 及びnは前記と
同じである。)で表されるホウ素含有ポリオルガノシル
セスキオキサンが得られる。このような本発明のホウ素
含有ポリオルガノシルセスキオキサンは、水分によって
該ホウ素原子と酸素原子の間が切断されて、重合がさら
に進み、ゲル化する性質を有している。したがって、湿
気硬化型接着剤の接着成分として有用である。また、ケ
イ素原子に各種の官能基を導入することが可能であり、
これにより、接着成分として用いた場合、被着体との密
着性を良好なものとすることができる。本発明の接着剤
組成物は、接着成分として、前述の本発明のホウ素含有
ポリオルガノシルセスキオキサンを含むものであり、空
気中の水分によって硬化する湿気硬化型である。この接
着剤組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、
所望により、無機充填剤、硬化触媒、着色剤などを含有
させることができる。無機充填剤としては、例えばシリ
カ、アルミナ、水酸化アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、クレーなどを挙
げることができる。
(Wherein R 3 , R 6 , R 7 and n are the same as those described above), thereby obtaining a boron-containing polyorganosilsesquioxane represented by the formula: Such a boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention has such a property that the space between the boron atom and the oxygen atom is cut off by water to further promote polymerization and gelation. Therefore, it is useful as an adhesive component of a moisture-curable adhesive. It is also possible to introduce various functional groups into the silicon atom,
Thereby, when used as an adhesive component, good adhesion to an adherend can be achieved. The adhesive composition of the present invention contains the above-mentioned boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention as an adhesive component, and is a moisture-curable type which is cured by moisture in the air. In this adhesive composition, as long as the object of the present invention is not impaired,
If desired, an inorganic filler, a curing catalyst, a colorant, and the like can be contained. Examples of the inorganic filler include silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium oxide, calcium carbonate, talc, mica, and clay.

【0026】さらに、接着成分であるホウ素含有ポリオ
ルガノシルセスキオキサンが、ケイ素原子にアクリロイ
ルオキシ基やメタクリロイルオキシ基などの光重合性官
能基が導入されているものである場合、光重合開始剤を
配合し、接着時に、接着層に対して、紫外線などの活性
光線を照射し、被着体との密着性を向上させることもで
きる。また、該ホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキ
サンが、ケイ素原子にグリシジル基などのエポキシ系官
能基が導入されているものである場合、接着時に接着層
をアルカリ溶液などで処理してエポキシ基を開環させ、
被着体との密着性を向上させることができる。本発明の
接着剤組成物の大気中での硬化時間は、常温で、一般に
6〜48時間程度である。
Further, when the boron-containing polyorganosilsesquioxane as the adhesive component has a photopolymerizable functional group such as an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group introduced into a silicon atom, a photopolymerization initiator may be used. The adhesive layer may be irradiated with an actinic ray such as ultraviolet rays at the time of bonding to improve the adhesion to the adherend. When the boron-containing polyorganosilsesquioxane has an epoxy functional group such as a glycidyl group introduced into a silicon atom, the adhesive layer is treated with an alkaline solution or the like at the time of bonding to open the epoxy group. Let it ring
Adhesion with an adherend can be improved. The curing time of the adhesive composition of the present invention in the atmosphere is generally about 6 to 48 hours at room temperature.

【0027】[0027]

【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。 実施例1 ケイ素化合物としてフェニルトリメトキシシラン10g
とホウ素化合物としてジエチルメトキシボラン1.3g
を、トルエン−水重量比22:2.5の混合溶液24.
5gに加え、さらに触媒としてメタンスルホン酸0.2
4gを添加し、低沸点成分を留去しながら23℃にて3
時間、続けて90℃で6時間反応を行った。反応終了
後、反応液にヘキサンを加え、析出した反応生成物6.
2gを回収した。この反応生成物について、次の方法に
より数平均分子量を測定すると共に、元素分析、赤外線
吸収スペクトル(IR)、核磁気共鳴スペクトル(NM
R)の測定を行った。 (1)数平均分子量 ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)に
より、ポリスチレン換算の数平均分子量を測定した(T
SKゲル、G2500、G2000、G1000、TH
F溶媒)。測定には、HLC−8020クロマトグラフ
ィー(東ソー(株)製)を使用した。 (2)元素分析 ICP分光分析により、ケイ素原子とホウ素原子の比を
測定した。測定は、反応生成物0.01gを100ml
の水に分散させ、少量のフッ化水素を加え分解した後、
更に水を加え約100ppmとして行なった。測定に
は、ICP.S−1000IV((株)島津製作所製)
を使用した。 (3)赤外線吸収スペクトル(IR) FT・IR1600(パーキンエルマー社製)を使用し
た。 (4)核磁気共鳴スペクトル1 H NMRと13C NMRの測定にはFX270(日
本電子(株)製)を、 29Si CP/MAS NMRの
測定にはJNM・A−500(日本電子(株)製)を使
用した。その結果を以下に示す。 数平均分子量 Mn=1400 元素分析 Si:B≒5:1 赤外線吸収スペクトル 3490cm-1(OH)、2950cm-1(−CH) 1600,1440,720,700cm-1(Ph) 1110cm-1(C−Si)、1040cm-1(Si−
O−Si) 核磁気共鳴スペクトル 1H NMR:1.2ppm(BCH2 CH3 ) 3.6ppm(BCH2 CH3 )、7.4ppm(Ph) 13C NMR:8.2ppm(CH3 )、20.8ppm(CH2 ) 129,133,155ppm(Ph) 29Si CP/MAS NMR:−78ppm これらの結果より、反応生成物は末端にホウ素に結合し
たエチル基を有し、かつケイ素原子とホウ素原子のモル
比が5:1で、フェニル基を有するポリオルガノシルセ
スキオキサンであることが同定された。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
As will be explained, the present invention is not limited by these examples.
It is not something to be done. Example 1 10 g of phenyltrimethoxysilane as a silicon compound
And 1.3 g of diethylmethoxyborane as a boron compound
Mixed solution having a toluene-water weight ratio of 22: 2.5.
5 g and methanesulfonic acid 0.2 as a catalyst.
4 g at 3 ° C. while distilling off low boiling components.
The reaction was continued at 90 ° C. for 6 hours. The completion of the reaction
Thereafter, hexane was added to the reaction solution to precipitate a reaction product.
2 g were recovered. The following method is used for this reaction product.
In addition to measuring the number average molecular weight, elemental analysis, infrared
Absorption spectrum (IR), nuclear magnetic resonance spectrum (NM
R) was measured. (1) Number average molecular weight For gel permeation chromatography (GPC)
The number average molecular weight in terms of polystyrene was measured from (T
SK gel, G2500, G2000, G1000, TH
F solvent). For measurement, use HLC-8020 chromatograph
(Tosoh Corporation) was used. (2) Elemental analysis By ICP spectroscopy, the ratio of silicon atoms to boron atoms was determined.
It was measured. The measurement was performed by adding 0.01 g of the reaction product to 100 ml.
After dispersing in water and adding a small amount of hydrogen fluoride to decompose,
Further, water was added to about 100 ppm. For measurement
Is ICP. S-1000IV (manufactured by Shimadzu Corporation)
It was used. (3) Infrared absorption spectrum (IR) Using FT / IR1600 (manufactured by PerkinElmer)
Was. (4) Nuclear magnetic resonance spectrum1 H NMR and13FX 270 (day
Honden Co., Ltd.) 29Si CP / MAS NMR
JNM A-500 (manufactured by JEOL Ltd.) was used for measurement.
Used. The results are shown below. Number average molecular weight Mn = 1400 Elemental analysis Si: B ≒ 5: 1 Infrared absorption spectrum 3490 cm-1(OH), 2950cm-1(-CH) 1600, 1440, 720, 700 cm-1(Ph) 1110cm-1(C-Si), 1040cm-1(Si-
O-Si) Nuclear magnetic resonance spectrum11 H NMR: 1.2 ppm (BCHTwo CH 3 ) 3.6 ppm (BCH 2 CHThree), 7.4 ppm (Ph)13C NMR: 8.2 ppm (CHThree), 20.8 ppm (CHTwo) 129,133,155 ppm (Ph)29Si CP / MAS NMR: -78 ppm From these results, the reaction product was bonded to boron at the terminal.
Having an ethyl group and a mole of silicon and boron atoms
Polyorganosilses having a ratio of 5: 1 and having phenyl groups
It was identified as squioxane.

【0028】実施例2 ケイ素化合物として3−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシラン10g、ホウ素化合物としてジシク
ロヘキシルクロロボラン0.8g及びメタンスルホン酸
0.24gを用い、実施例1と同様に実施して、反応生
成物6.8gを得た。この反応生成物について、実施例
1と同様に数平均分子量を測定すると共に、元素分析、
IR及びNMRの測定を行った。その結果を以下に示
す。 数平均分子量 Mn=1200 元素分析 Si:B≒10:1 赤外線吸収スペクトル 2954cm-1(CH)、1716cm-1(C=O) 1637cm-1(C=C)、1124cm-1(C−O−
C) 1039cm-1(Si−O−Si) 核磁気共鳴スペクトル 1H NMR:0.5〜2.0ppm(C611−CH2 ) 4.0ppm(OCH2 ) 5.5,6.0ppm(CH=C) 13C NMR:10ppm(CH2 )、18ppm(CH3 ) 22〜30ppm(C611−B) 67ppm(OCH2 )、125,135ppm(CH=C) 168ppm(C=O) 29Si CP/MAS NMR:−78ppm これらの結果より、反応生成物はホウ素に結合したシク
ロヘキシル基を有し、かつケイ素原子とホウ素原子のモ
ル比が10:1で、3−メタクリロイルオキシプロピル
基を有するポリオルガノシルセスキオキサンであること
が同定された。
Example 2 The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane was used as a silicon compound, and 0.8 g of dicyclohexylchloroborane and 0.24 g of methanesulfonic acid were used as a boron compound. 6.8 g of the product were obtained. The number average molecular weight of this reaction product was measured in the same manner as in Example 1, and the elemental analysis was performed.
IR and NMR measurements were performed. The results are shown below. Number average molecular weight Mn = 1200 Elemental analysis Si: B ≒ 10: 1 Infrared absorption spectrum 2954 cm -1 (CH), 1716 cm -1 (C = O) 1,637 cm -1 (C = C), 1124 cm -1 (CO-
C) 1039 cm -1 (Si-O-Si) nuclear magnetic resonance spectrum 1 H NMR: 0.5 to 2.0 ppm (C 6 H 11 -CH 2 ) 4.0 ppm (OCH 2 ) 5.5, 6.0 ppm (CH = C) 13 C NMR : 10ppm (CH 2), 18ppm (CH 3) 22~30ppm (C 6 H 11 -B) 67ppm (OCH 2), 125,135ppm (CH = C) 168ppm (C = O ) 29 Si CP / MAS NMR: -78 ppm From these results, the reaction product has a cyclohexyl group bonded to boron, a molar ratio of silicon atom to boron atom of 10: 1, and a 3-methacryloyloxypropyl group. Has been identified to be a polyorganosilsesquioxane having

【0029】実施例3 ケイ素化合物として3−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン10g、ホウ素化合物としてジエチルメトキ
シボラン1.3g及び触媒として濃塩酸0.35gを用
い、実施例1と同様に実施して、反応生成物5.0gを
得た。この反応生成物について、実施例1と同様に数平
均分子量を測定すると共に、元素分析、IR及びNMR
の測定を行った。その結果を以下に示す。 数平均分子量 Mn=2000 元素分析 Si:B≒10:1 赤外線吸収スペクトル 2950cm-1(CH)、1110cm-1(C−O−
C) 1040cm-1(Si−O−Si) 核磁気共鳴スペクトル 1H NMR:1.2ppm(BCH2 CH3 ) 3.6ppm(BCH2 CH3 ) 1.5〜2.0ppm(CH2 ) 2.5〜3.5ppm(CH2 13C NMR:7.1ppm(SiCH2 )、8.2ppm(CH3 ) 15.5ppm(SiCH2 CH2 ) 20.8ppm(CH2 ) 43.0,50.5ppm(CH−O−CH2) 73.1ppm(CH2 29Si CP/MAS NMR:−78ppm これらの結果より、反応生成物は末端にホウ素に結合し
たエチル基を有し、かつケイ素原子とホウ素原子のモル
比が10:1で、3−グリシドキシプロピル基及び3−
メタクリロイルオキシプロピル基を有するポリオルガノ
シルセスキオキサンであることが同定された。
Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, using 10 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as the silicon compound, 1.3 g of diethylmethoxyborane as the boron compound and 0.35 g of concentrated hydrochloric acid as the catalyst. 5.0 g of reaction product was obtained. The number average molecular weight of this reaction product was measured in the same manner as in Example 1, and elemental analysis, IR and NMR were performed.
Was measured. The results are shown below. Number average molecular weight Mn = 2000 Elemental analysis Si: B ≒ 10: 1 Infrared absorption spectrum 2950 cm -1 (CH), 1110 cm -1 (CO-
C) 1040 cm -1 (Si-O-Si) Nuclear magnetic resonance spectrum 1 H NMR: 1.2 ppm (BCH 2 CH 3 ) 3.6 ppm (B CH 2 CH 3) 1.5~2.0ppm (CH 2) 2.5~3.5ppm (CH 2) 13 C NMR: 7.1ppm (SiCH 2), 8.2ppm (CH 3) 15.5ppm (SiCH 2 CH 2 ) 20.8 ppm (CH 2 ) 43.0, 50.5 ppm (CH—O—CH 2 ) 73.1 ppm (CH 2 ) 29 Si CP / MAS NMR: −78 ppm From these results, the reaction product was located at the terminal. Having an ethyl group bonded to boron, and having a molar ratio of silicon atom to boron atom of 10: 1, wherein 3-glycidoxypropyl group and 3-
It was identified as a polyorganosilsesquioxane having a methacryloyloxypropyl group.

【0030】実施例4 ケイ素化合物として3−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシラン10g、ホウ素化合物としてジヒド
ロキシフェニルボラン0.8g及び触媒として濃塩酸
0.35gを用い、実施例1と同様に実施して反応生成
物7.2gを得た。この反応生成物について、実施例1
と同様に数平均分子量を測定すると共に、元素分析、I
R及びNMRの測定を行った。その結果を以下に示す。 数平均分子量 Mn=4000 元素分析 Si:B≒10:1 赤外線吸収スペクトル 3490cm-1(OH)、2950cm-1(CH) 1720cm-1(C=O)、1637cm-1(C=C) 1120cm-1(C−O−C) 1040〜1080cm-1(Si−O−Si) 核磁気共鳴スペクトル 1H NMR:1.9ppm(CH3 )、4.0ppm(OCH2 ) 5.5,6.0ppm(CH=C) 7.2〜7.8ppm(Ph−B) 13C NMR:8ppm(CH2 )、18ppm(CH3 ) 67,68ppm(OCH2 )、22ppm(CH2 ) 125,135ppm(C=C) 128,129.132ppm(Ph−B) 29Si CP/MAS NMR:−78ppm これらの結果より、反応生成物は、末端にホウ素に結合
したフェニル基を有し、かつケイ素原子とホウ素原子の
モル比が10:1で、3−メタクリロイルオキシプロピ
ル基を有するポリオルガノシルセスキオキサンであるこ
とが同定された。
Example 4 The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane was used as the silicon compound, 0.8 g of dihydroxyphenylborane was used as the boron compound, and 0.35 g of concentrated hydrochloric acid was used as the catalyst. 7.2 g of the product were obtained. This reaction product was prepared in Example 1
The number average molecular weight was measured in the same manner as in
R and NMR measurements were made. The results are shown below. The number average molecular weight Mn = 4000 Elemental analysis Si: B ≒ 10: 1 infrared absorption spectrum 3490cm -1 (OH), 2950cm -1 (CH) 1720cm -1 (C = O), 1637cm -1 (C = C) 1120cm - 1 (C—O—C) 1040 to 1080 cm −1 (Si—O—Si) Nuclear magnetic resonance spectrum 1 H NMR: 1.9 ppm (CH 3 ), 4.0 ppm (OCH 2 ) 5.5, 6.0 ppm (CH = C) 7.2-7.8 ppm (Ph-B) 13 C NMR: 8 ppm (CH 2 ), 18 ppm (CH 3 ) 67,68 ppm (OCH 2 ), 22 ppm (CH 2 ) 125,135 ppm (C = C) 128,129.132ppm (Ph-B ) 29 Si CP / MAS NMR: -78ppm these results, the reaction product off bonded to the boron in the end Having a group, and the molar ratio of silicon atoms and boron atoms are 10: 1, it is polyorganosilsesquioxane having a 3-methacryloyloxypropyl group is identified.

【0031】実施例5 ケイ素化合物として3−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン10gとシラン化合物としてトリメトキシシ
ラン2.6g及びホウ素化合物としてジフェニルヒドロ
キシボラン0.9gをトルエン−水重量比22:2.5
の混合溶液24.5gに加え、さらに触媒としてメタン
スルホン酸0.24gを添加し、低沸点成分を留去しな
がら23℃にて3時間、続けて90℃で6時間反応させ
た。次いで反応液にヘキサンを加え、析出した反応生成
物6.5gを回収した。次に、溶媒として、トルエン1
8gに上記反応生成物6.5gを加えたのち、ビニル化
合物としてアリルイソシアネート2gと触媒として塩化
白金酸1mgを添加し、80℃にて3時間反応させたの
ち、ヘキサンを加えて析出し反応生成物を回収した。収
量7.0g。この反応生成物について、実施例1と同様
に数平均分子量を測定すると共に、元素分析、IR及び
NMRの測定を行った。その結果を以下に示す。 数平均分子量 Mn=2000 元素分析 Si:B≒8:1 赤外線吸収スペクトル 2950cm-1(CH)、2240cm-1(NCO) 1110cm-1(C−O−C)、1040cm-1(Si
−O−Si) 核磁気共鳴スペクトル 1H NMR:1.5〜2.0ppm(CH2 ) 2.5〜3.5ppm(CH2 ) 7.25〜7.5ppm(Ph−B) 13C NMR:7.1ppm(SiCH2 ) 15.5ppm(SiCH2 CH2 ) 17.9ppm(SiCH2 ) 43.0,50.5ppm(CH−O−CH2) 73.1ppm(CH2 )、38.3ppm(CH2 −N) 122ppm(C=O) 128〜135ppm(Ph−B) 29Si CP/MAS NMR:−78ppm これらの結果より、該反応生成物は末端にホウ素に結合
したフェニル基を有し、かつケイ素原子とホウ素原子の
モル比が8:1で、3−グリシドキシプロピル基とアリ
ル基を有するポリオルガノシルセスキオキサンであるこ
とが同定された。
Example 5 10 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silicon compound, 2.6 g of trimethoxysilane as a silane compound and 0.9 g of diphenylhydroxyborane as a boron compound were mixed in a toluene-water weight ratio of 22: 2.5.
Was added thereto, and 0.24 g of methanesulfonic acid was further added as a catalyst. The mixture was reacted at 23 ° C. for 3 hours and continuously at 90 ° C. for 6 hours while distilling off low boiling components. Then, hexane was added to the reaction solution, and 6.5 g of a precipitated reaction product was recovered. Next, as a solvent, toluene 1
After 6.5 g of the above reaction product was added to 8 g, 2 g of allyl isocyanate as a vinyl compound and 1 mg of chloroplatinic acid as a catalyst were added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 3 hours. The thing was collected. Yield 7.0 g. The number average molecular weight of this reaction product was measured in the same manner as in Example 1, and at the same time, elemental analysis, IR and NMR were measured. The results are shown below. The number average molecular weight Mn = 2000 Elemental analysis Si: B ≒ 8: 1 Infrared absorption spectrum 2950cm -1 (CH), 2240cm -1 (NCO) 1110cm -1 (C-O-C), 1040cm -1 (Si
—O—Si) Nuclear magnetic resonance spectrum 1 H NMR: 1.5 to 2.0 ppm (CH 2 ) 2.5 to 3.5 ppm (CH 2 ) 7.25 to 7.5 ppm (Ph-B) 13 C NMR : 7.1ppm (SiCH 2) 15.5ppm ( SiCH 2 CH 2) 17.9ppm (SiCH 2) 43.0,50.5ppm (CH-O-CH 2) 73.1ppm (CH 2), 38.3ppm ( CH 2 -N) 122 ppm (C = O) 128-135 ppm (Ph-B) 29 Si CP / MAS NMR: -78 ppm From these results, the reaction product has a phenyl group bonded to boron at the terminal and silicon It was identified as a polyorganosilsesquioxane having a 3-glycidoxypropyl group and an allyl group with a molar ratio of atoms to boron atoms of 8: 1.

【0032】比較例1 フェニルトリメトキシシラン10gをトルエン−水重量
比22:2.5の混合溶液24.5gに加え、さらに触
媒としてメタンスルホン酸0.24gを添加し、実施例
1と同様に実施して、ポリオルガノシルセスキオキサン
7.0gを得た。
Comparative Example 1 10 g of phenyltrimethoxysilane was added to 24.5 g of a mixed solution of toluene / water at a weight ratio of 22: 2.5, and 0.24 g of methanesulfonic acid was further added as a catalyst. Performed to obtain 7.0 g of polyorganosilsesquioxane.

【0033】実施例6〜10 実施例1〜5で得られたホウ素含有ポリオルガノシルセ
スキオキサンそれぞれを、厚さ2mmのガラス板
((株)パルテック製)、ポリエチレンテレフタレート
フィルム〔東レ社製、商品名:ルミラー、厚さ188μ
m〕及びポリカーボネートフィルム〔三省物産社製、商
品名:レキサン8101、厚さ100μm〕の3種の被
着体に、厚みが20μmになるように塗布し、接着剤層
を設けた。なお、実施例2、4は、予め光開始剤として
α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン0.14
gを添加しておき、接着剤層に紫外線を300mJ照射
した。また、実施例3、5では、該接着剤層を10重量
%水酸化ナトリウム水溶液に10分間浸漬させて、エポ
キシ基を反応させた。第1表に示す時間、23℃、相対
湿度50%の条件下で硬化後、サンシャインウエザオメ
ータWEL−SUN−HCH(スガ試験機(株)製)に
て200時間の耐候促進試験を行ったのち、3種の被着
体への密着性及び硬度を下記の方法に従って評価した。
その結果を第1表に示す。 (5)密着性 JIS K5400に準じてセロハン粘着テープ剥離試
験(碁盤目法)により評価した。 ○ 評価点数8〜10 △ 評価点数4〜6 × 評価点数0〜2 (6)硬度 接着剤層の表面を#0000のスチールウールで5往復
こすり、その表面を目視観察し、以下の基準で評価し
た。 ○ 表面に傷がみられない △ 表面の一部に傷がみられる。 × 表面全体に傷がみられる。
Examples 6 to 10 Each of the boron-containing polyorganosilsesquioxanes obtained in Examples 1 to 5 was coated on a 2 mm-thick glass plate (manufactured by Paltec Co., Ltd.), a polyethylene terephthalate film [manufactured by Toray Industries, Inc. Product name: Lumirror, thickness 188μ
m) and a polycarbonate film (trade name: Lexan 8101, manufactured by Sansho Bussan Co., Ltd., thickness: 100 μm) to give an adhesive layer having a thickness of 20 μm. In Examples 2 and 4, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 0.14 was used in advance as a photoinitiator.
g was added, and the adhesive layer was irradiated with ultraviolet rays at 300 mJ. In Examples 3 and 5, the adhesive layer was immersed in a 10% by weight aqueous sodium hydroxide solution for 10 minutes to react an epoxy group. After curing under the conditions shown in Table 1 at 23 ° C. and a relative humidity of 50%, a weathering acceleration test was conducted for 200 hours with a sunshine weatherometer WEL-SUN-HCH (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). Thereafter, the adhesion to three adherends and the hardness were evaluated according to the following methods.
Table 1 shows the results. (5) Adhesion Adhesion was evaluated by a cellophane adhesive tape peeling test (cross-cut method) according to JIS K5400. ○ Evaluation score 8-10 △ Evaluation score 4-6 × Evaluation score 0-2 (6) Hardness The surface of the adhesive layer was rubbed five times with # 0000 steel wool, and the surface was visually observed and evaluated according to the following criteria. did. ○ No scratches on the surface △ Some scratches on the surface. × Scratches are observed on the entire surface.

【0034】比較例2〜4 水ガラス3号(比較例2)、3−メタクリロイルオキシ
プロピルトリメトキシシラン(比較例3)及び比較例1
で得られたポリオルガノシルセスキオキサン(比較例
4)を用い、実施例6〜10と同様にして、ガラス板、
ポリエチレンテレフタレートフィルム及びポリカーボネ
ートフィルムそれぞれに厚みが20μmになるように塗
布し、接着剤層を設けた。第1表に示す時間、23℃、
相対湿度50%の条件下で硬化後、実施例6〜10と同
様にして、サンシャインウエザオメータで200時間の
耐候促進試験を行ったのち、3種の被着体への密着性及
び硬度を評価した。結果を第1表に示す。
Comparative Examples 2 to 4 Water Glass No. 3 (Comparative Example 2), 3-Methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (Comparative Example 3) and Comparative Example 1
Using the polyorganosilsesquioxane obtained in the above (Comparative Example 4), in the same manner as in Examples 6 to 10, a glass plate,
It was applied to each of a polyethylene terephthalate film and a polycarbonate film so as to have a thickness of 20 μm, and an adhesive layer was provided. Time shown in Table 1, 23 ° C,
After curing under the condition of a relative humidity of 50%, a weathering acceleration test was performed for 200 hours with a sunshine weatherometer in the same manner as in Examples 6 to 10, and then the adhesion and hardness to three types of adherends were determined. evaluated. The results are shown in Table 1.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明のホウ素含有ポリオルガノシルセ
スキオキサンは、新規な化合物であって、耐熱性や耐候
性などに優れると共に、被着体との密着性の良好な湿気
硬化型の接着剤組成物における接着成分などとして有用
である。本発明の接着剤組成物は、接着成分として上記
のホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサンを含む湿
気硬化型のものであって、有機−無機材料、有機−有機
材料及び無機−無機材料を密着性よく接着させ、かつ耐
熱性や耐候性などに優れている。
Industrial Applicability The boron-containing polyorganosilsesquioxane of the present invention is a novel compound, which is excellent in heat resistance, weather resistance, etc. and has good moisture-curing adhesion to an adherend. It is useful as an adhesive component in the agent composition. The adhesive composition of the present invention is a moisture-curable type containing the above-mentioned boron-containing polyorganosilsesquioxane as an adhesive component, and has an organic-inorganic material, an organic-organic material, and an inorganic-inorganic material having an adhesive property. Good adhesion and excellent heat resistance and weather resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J027 AF03 AF05 AF06 CB10 CD09 4J034 DA10 DB01 DM01 DM04 HA01 HA04 HA18 HC03 KA01 KC37 KD25 RA08 4J035 BA12 CA021 CA131 CA14N CA141 HA04 HB02 LA03 LB02 4J040 EK071  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4J027 AF03 AF05 AF06 CB10 CD09 4J034 DA10 DB01 DM01 DM04 HA01 HA04 HA18 HC03 KA01 KC37 KD25 RA08 4J035 BA12 CA021 CA131 CA14N CA141 HA04 HB02 LA03 LB02 4J040 EK071

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子内のケイ素原子の一部が酸素原子を
介してホウ素原子に結合した構造を有することを特徴と
するホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサン。
1. A boron-containing polyorganosilsesquioxane having a structure in which a part of a silicon atom in a molecule is bonded to a boron atom via an oxygen atom.
【請求項2】 ケイ素原子とホウ素原子の割合が、モル
比で5:1〜500:1である請求項1記載のホウ素含
有ポリオルガノシルセスキオキサン。
2. The boron-containing polyorganosilsesquioxane according to claim 1, wherein the ratio of silicon atoms to boron atoms is 5: 1 to 500: 1 in molar ratio.
【請求項3】 (a)一般式(I) R1 −B−R2 2 ・・・・・・(I) (式中、R1 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキシル基
又は塩素原子、R2 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキ
シル基、炭素数1〜12の炭化水素基又は塩素原子を示
し、2つのR2 は互いに同一でも異なっていてもよく、
また互いに結合してモノまたはポリシクロ環を形成して
もよい。)で表されるホウ素化合物と、(b)一般式
(II) R3 −Si−R4 3 ・・・・・・(II) (式中、R3 は有機基、R4 は加水分解性基で、ハロゲ
ン原子又は炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、3つ
のR4 は互いに同一でも異なっていてもよい。)で表さ
れるケイ素化合物を縮合させて得られたものである請求
項1又は2記載のホウ素含有ポリオルガノシルセスキオ
キサン。
Wherein (a) the general formula (I) R 1 -B-R 2 2 ······ (I) ( wherein, R 1 is a hydroxyl group, an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms , R 2 is a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydrocarbon group or a chlorine atom having 1 to 12 carbon atoms, the two R 2 may be the same or different from each other,
Further, they may combine with each other to form a mono- or polycyclo ring. A boron compound represented by), (b) the general formula (II) R 3 -Si-R 4 3 ······ (II) ( wherein, R 3 is an organic group, R 4 is a hydrolyzable A halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, and three R 4 s may be the same or different from each other.) 3. The boron-containing polyorganosilsesquioxane according to 1 or 2.
【請求項4】 (a)一般式(I) R1 −B−R2 2 ・・・・・・(I) (式中、R1 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキシル基
又は塩素原子、R2 は水酸基、炭素数1〜4のアルコキ
シル基、炭素数1〜12の炭化水素基又は塩素原子を示
し、2つのR2 は互いに同一でも異なっていてもよく、
また互いに結合してモノまたはポリシクロ環を形成して
もよい。)で表されるホウ素化合物と、(b)一般式
(II) R3 −Si−R4 3 ・・・・・・(II) (式中、R3 は有機基、R4 は加水分解性基で、ハロゲ
ン原子又は炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、3つ
のR4 は互いに同一でも異なっていてもよい。)で表さ
れるケイ素化合物と、(c)一般式(III) H−Si−R5 3 ・・・・・・(III) (式中、R5 は炭素数1〜4のアルコキシル基又は塩素
原子を示し、3つのR5は互いに同一でも異なっていて
もよい。)で表されるシラン化合物を縮合させ、さらに
(d)一般式(IV) CH2 =CH−R6 ・・・・・・(IV) (式中、R6 は官能基を有する炭素数1〜10の炭化水
素基を示す。)で表されるビニル化合物を付加させてな
るものであって、ケイ素原子の一部に−CH2 CH2
6 基(R6 は前記と同じである。)が導入されてなる
請求項1又は2記載のホウ素含有ポリオルガノシルセス
キオキサン。
Wherein (a) the general formula (I) R 1 -B-R 2 2 ······ (I) ( wherein, R 1 is a hydroxyl group, an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms , R 2 is a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydrocarbon group or a chlorine atom having 1 to 12 carbon atoms, the two R 2 may be the same or different from each other,
Further, they may combine with each other to form a mono- or polycyclo ring. A boron compound represented by), (b) the general formula (II) R 3 -Si-R 4 3 ······ (II) ( wherein, R 3 is an organic group, R 4 is a hydrolyzable A halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein three R 4 's may be the same or different from each other); and (c) a compound represented by the general formula (III) H- Si-R 5 3 ······ (III ) ( wherein, R 5 represents an alkoxyl group or a chlorine atom 1 to 4 carbon atoms, the three R 5 may be the same or different.) (D) CH 2シ ラ ン CH—R 6 ... (IV) wherein R 6 is a carbon atom having a functional group. . showing the 10 hydrocarbon group) represented by be comprised by an addition of vinyl compounds, -CH 2 CH 2 in a part of the silicon atoms -
3. The boron-containing polyorganosilsesquioxane according to claim 1, wherein an R 6 group (R 6 is as defined above) is introduced.
【請求項5】 (b)成分の一般式(II) において、R
3 で表される有機基が、炭素数1〜12の炭化水素基又
は官能基を有する炭素数1〜12の炭化水素基であり、
かつR4 が炭素数1〜4にアルコキシル基である請求項
3又は4記載のホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキ
サン。
5. In the general formula (II) of the component (b), R
The organic group represented by 3 is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms having a functional group,
5. The boron-containing polyorganosilsesquioxane according to claim 3, wherein R 4 is an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms.
【請求項6】 (d)成分の一般式(IV) において、R
6 で表される官能基を有する炭素数1〜10の炭化水素
基が、イソシアネート基又はイソチオシアネート基を有
する炭素数1〜10の炭化水素基である請求項4又は5
記載のホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサン。
6. In the general formula (IV) of the component (d),
The C1 to C10 hydrocarbon group having a functional group represented by 6 is a C1 to C10 hydrocarbon group having an isocyanate group or an isothiocyanate group.
The boron-containing polyorganosilsesquioxane as described.
【請求項7】 接着成分として、請求項1ないし6のい
ずれかに記載のホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキ
サンを含むことを特徴とする接着剤組成物。
7. An adhesive composition comprising the boron-containing polyorganosilsesquioxane according to any one of claims 1 to 6 as an adhesive component.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008044521A1 (en) * 2006-10-13 2008-04-17 Nitto Boseki Co., Ltd. Polymeric composition comprising metal alkoxide condensation product, organic silane compound and boron compound
WO2009104505A1 (en) * 2008-02-19 2009-08-27 リンテック株式会社 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
JP2010535915A (en) * 2007-08-14 2010-11-25 エボニック デグサ ゲーエムベーハー Process for controlled hydrolysis and condensation of epoxy functional organosilanes and cocondensation of the epoxy functional organosilanes with other organofunctional alkoxysilanes
WO2011086957A1 (en) * 2010-01-15 2011-07-21 関西ペイント株式会社 Active energy ray-curable composition, and coated article
WO2012077529A1 (en) * 2010-12-09 2012-06-14 株式会社ダイセル Addition-curable metallosiloxane compound
JP2012197425A (en) * 2011-03-10 2012-10-18 Lintec Corp Curable composition, cured product and method of using curable composition
KR101233381B1 (en) 2009-07-28 2013-02-18 제일모직주식회사 Boron-containing hydrogen silsesquioxane polymer, integrated circuit device formed using the same, and associated methods
JP2013137512A (en) * 2011-11-29 2013-07-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and pattern forming method
JP2014177632A (en) * 2007-03-02 2014-09-25 Lintec Corp Adhesive and adhesive sheet containing ladder-type polysilsesquioxane
EP1561756B1 (en) 2002-09-11 2015-12-23 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method of purifying protein
CN105524282A (en) * 2016-02-04 2016-04-27 华南理工大学 Organic boron silicon adhesion promoter with high refractive index as well as preparation method and application of organic boron silicon adhesion promoter
EP3135488A4 (en) * 2014-04-22 2017-11-08 Oji Holdings Corporation Composite material and method for producing same
CN114835903A (en) * 2022-04-28 2022-08-02 北京理工大学 Boron-containing silsesquioxane, preparation method thereof, modified phenolic resin, preparation method and application thereof

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10654888B2 (en) 2002-09-11 2020-05-19 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method for removing viruses in a physiologically-active protein-containing sample
EP2261230B1 (en) 2002-09-11 2017-05-10 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Protein purification method
EP1561756B1 (en) 2002-09-11 2015-12-23 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method of purifying protein
JP5594558B2 (en) * 2006-10-13 2014-09-24 日東紡績株式会社 Polymer composition containing metal alkoxide condensate, organosilane compound, and boron compound
JPWO2008044521A1 (en) * 2006-10-13 2010-02-12 日東紡績株式会社 Polymer composition containing metal alkoxide condensate, organosilane compound, and boron compound
WO2008044521A1 (en) * 2006-10-13 2008-04-17 Nitto Boseki Co., Ltd. Polymeric composition comprising metal alkoxide condensation product, organic silane compound and boron compound
US9029449B2 (en) 2006-10-13 2015-05-12 Nitto Boseki Co., Ltd. Polymeric composition comprising metal alkoxide condensation product, organic silane compound and boron compound
JP2014177632A (en) * 2007-03-02 2014-09-25 Lintec Corp Adhesive and adhesive sheet containing ladder-type polysilsesquioxane
JP2010535915A (en) * 2007-08-14 2010-11-25 エボニック デグサ ゲーエムベーハー Process for controlled hydrolysis and condensation of epoxy functional organosilanes and cocondensation of the epoxy functional organosilanes with other organofunctional alkoxysilanes
KR101581974B1 (en) 2008-02-19 2015-12-31 린텍 가부시키가이샤 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
CN104212409A (en) * 2008-02-19 2014-12-17 琳得科株式会社 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
WO2009104505A1 (en) * 2008-02-19 2009-08-27 リンテック株式会社 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
KR20100120156A (en) * 2008-02-19 2010-11-12 린텍 가부시키가이샤 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
JP5568314B2 (en) * 2008-02-19 2014-08-06 リンテック株式会社 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
US8357261B2 (en) 2008-02-19 2013-01-22 Lintec Corporation Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
CN101965387A (en) * 2008-02-19 2011-02-02 琳得科株式会社 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
CN104212409B (en) * 2008-02-19 2016-08-24 琳得科株式会社 The main binding agent being made up of polyorganosiloxane compounds
CN101965387B (en) * 2008-02-19 2015-01-07 琳得科株式会社 Adhesive mainly composed of polyorganosiloxane compound
KR101233381B1 (en) 2009-07-28 2013-02-18 제일모직주식회사 Boron-containing hydrogen silsesquioxane polymer, integrated circuit device formed using the same, and associated methods
JP5656877B2 (en) * 2010-01-15 2015-01-21 関西ペイント株式会社 Active energy ray-curable composition and coated article
WO2011086957A1 (en) * 2010-01-15 2011-07-21 関西ペイント株式会社 Active energy ray-curable composition, and coated article
WO2012077529A1 (en) * 2010-12-09 2012-06-14 株式会社ダイセル Addition-curable metallosiloxane compound
US8791221B2 (en) 2010-12-09 2014-07-29 Daicel Corporation Addition-curable metallosiloxane compound
JP2012197425A (en) * 2011-03-10 2012-10-18 Lintec Corp Curable composition, cured product and method of using curable composition
JP2013137512A (en) * 2011-11-29 2013-07-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and pattern forming method
EP3135488A4 (en) * 2014-04-22 2017-11-08 Oji Holdings Corporation Composite material and method for producing same
US10532545B2 (en) 2014-04-22 2020-01-14 Oji Holdings Corporation Composite and method for producing the same
CN105524282A (en) * 2016-02-04 2016-04-27 华南理工大学 Organic boron silicon adhesion promoter with high refractive index as well as preparation method and application of organic boron silicon adhesion promoter
CN105524282B (en) * 2016-02-04 2018-06-22 华南理工大学 Organic borosilicate adhesion promoters of high refractive index and its preparation method and application
CN114835903A (en) * 2022-04-28 2022-08-02 北京理工大学 Boron-containing silsesquioxane, preparation method thereof, modified phenolic resin, preparation method and application thereof
CN114835903B (en) * 2022-04-28 2023-03-14 北京理工大学 Boron-containing silsesquioxane and preparation method thereof, modified phenolic resin and preparation method and application thereof

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