JP2002244141A - Manufacturing method for liquid crystal display device - Google Patents

Manufacturing method for liquid crystal display device

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JP2002244141A
JP2002244141A JP2001042012A JP2001042012A JP2002244141A JP 2002244141 A JP2002244141 A JP 2002244141A JP 2001042012 A JP2001042012 A JP 2001042012A JP 2001042012 A JP2001042012 A JP 2001042012A JP 2002244141 A JP2002244141 A JP 2002244141A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrates
crystal display
substrate
manufacturing
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JP2001042012A
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Japanese (ja)
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Hiroshi Otaguro
洋 大田黒
Hirotsugu Abe
裕嗣 安倍
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Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a liquid crystal display, by which a liquid crystal composition is injected in a short time to reduce the manufacturing cost and the liquid crystal display having satisfactory display quality is manufactured. SOLUTION: In the manufacturing method for the liquid crystal display, a substrate 400M is coated with a sealing material 106 in a loop-like shape; the liquid crystal composition is dropped onto a loop 402 coated with the sealing material, and the substrate 600M is superposed on the substrate 400M in vacuum state; then atmospheric pressure is applied to the substrates by opening the substrates to the atmosphere, the gap between the pair of substrates is pressurized, until the gap has a prescribed space; and the substrates are stuck to each other by curing the sealing material. In the pressurizing stage, a closed space 700, having the pressure lower than the atmospheric pressure, is formed between a pair of substrates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置の
製造方法に係り、特に、短時間で液晶組成物を封入する
液晶表示装置の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal display in which a liquid crystal composition is sealed in a short time.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、軽量、薄型、低
消費電力の特徴を生かして、各種分野で利用されてい
る。特に、一対の電極基板間にツイステッドネマティッ
ク(TN)型液晶組成物が保持されてなる液晶表示装置
は、広く利用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used in various fields, taking advantage of their features of light weight, thinness, and low power consumption. In particular, a liquid crystal display device in which a twisted nematic (TN) liquid crystal composition is held between a pair of electrode substrates is widely used.

【0003】液晶表示装置の利用範囲が広がる反面、そ
のコストを低下することが望まれている。液晶表示装置
の製造コスト低下を妨げている要因として、製造歩留ま
りが悪いこと、製造リードタイム(日数)がかかること
が挙げられる。製造リードタイムのうち、最も時間がか
かっているのは、液晶注入工程である。
[0003] While the range of use of liquid crystal display devices has been expanded, it has been desired to reduce the cost. Factors preventing the reduction in the manufacturing cost of the liquid crystal display device include a low manufacturing yield and a long manufacturing lead time (days). The most time-consuming manufacturing lead time is the liquid crystal injection step.

【0004】通常、液晶表示装置を製造する場合、2枚
のガラス基板を接着剤からなるシール材によって貼り合
せて空の液晶セルを形成する。このとき、液晶注入口に
相当する部分を除いてシール材が塗布されており、この
液晶注入口から液晶組成物を注入する。
Usually, when manufacturing a liquid crystal display device, an empty liquid crystal cell is formed by bonding two glass substrates with a sealing material made of an adhesive. At this time, the sealing material is applied except for the portion corresponding to the liquid crystal injection port, and the liquid crystal composition is injected from the liquid crystal injection port.

【0005】液晶組成物を注入するための最も一般的な
方法は、まず、空の液晶セルを真空チャンバの中に入れ
て、液晶セル内の空気を排気する。そして、液晶組成物
の入ったボートに液晶注入口を浸した後、大気圧に戻す
ことによって注入口から液晶組成物を注入する。
[0005] The most common method for injecting a liquid crystal composition is to first place an empty liquid crystal cell in a vacuum chamber and exhaust the air in the liquid crystal cell. Then, after the liquid crystal injection port is immersed in the boat containing the liquid crystal composition, the liquid crystal composition is injected from the injection port by returning to the atmospheric pressure.

【0006】また、近年は、液晶注入口とは別にシール
材の一部を開けて排気口を形成し、液晶注入口に液晶を
供給するバルブを装着し、排気口に排気バルブを装着し
て吸引することによって液晶組成物を注入する方法も提
案されている。
In recent years, an exhaust port is formed by opening a part of the sealing material separately from the liquid crystal injection port, a valve for supplying liquid crystal is mounted on the liquid crystal injection port, and an exhaust valve is mounted on the exhaust port. A method of injecting a liquid crystal composition by suction has also been proposed.

【0007】前者は、液晶組成物を注入するための装置
が簡素であり、一度に大量の液晶セルを製造することが
可能であるが、液晶セル内の排気及び液晶組成物の注入
に時間がかかることが欠点である。10インチクラスの
液晶セルに液晶組成物を注入するのに要する時間は、T
N型液晶組成物の場合、約6乃至10時間程度である。
また、強誘電性液晶などを用いたセルギャップの薄い液
晶表示装置の場合、液晶組成物の注入時間は、70時間
近くかかってしまうこともある。
In the former method, a device for injecting a liquid crystal composition is simple and a large number of liquid crystal cells can be manufactured at one time. However, it takes time to exhaust the liquid crystal cell and inject the liquid crystal composition. This is a disadvantage. The time required to inject the liquid crystal composition into a 10-inch class liquid crystal cell is T
In the case of the N-type liquid crystal composition, it takes about 6 to 10 hours.
In the case of a liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal and having a small cell gap, the injection time of the liquid crystal composition may take as long as 70 hours.

【0008】後者は、この液晶組成物の注入時間を短縮
するために提案されたものであるが、少なくとも液晶セ
ルの数の2倍の数だけバルブを用意する必要があり、液
晶組成物を注入するための装置が複雑になり、製造にか
かる手間も増えてしまうという欠点がある。
The latter is proposed to reduce the injection time of the liquid crystal composition, but it is necessary to prepare at least twice as many valves as the number of liquid crystal cells. However, there is a drawback in that a device for performing the operation is complicated, and the labor required for the production is increased.

【0009】これらの欠点を改善するために、滴下注入
法が提案されている。この滴下注入法は、一方の基板に
シール材を塗布した後、液晶組成物を基板上に滴下し、
真空中で他方の基板を貼り合せる方法である。一対の基
板間に所望のセルギャップを形成するためには、大気中
に放置して大気圧によって加圧するか、機械的に加圧す
る必要がある。装置構成を簡素化し、設備コストを低減
するためには、大気中に貼り合せた一対の基板を放置す
ることが望ましい。
To remedy these drawbacks, a drop-injection method has been proposed. In this drop injection method, after applying a sealant to one substrate, a liquid crystal composition is dropped on the substrate,
This is a method of bonding the other substrate in a vacuum. In order to form a desired cell gap between a pair of substrates, it is necessary to leave it in the air and pressurize it by atmospheric pressure or pressurize it mechanically. In order to simplify the device configuration and reduce equipment costs, it is desirable to leave a pair of substrates bonded together in the atmosphere.

【0010】しかしながら、滴下する液晶組成物の量が
少なすぎると液晶セル内に液晶組成物が充填されていな
い部分ができてしまい、また、液晶組成物の量が多すぎ
るとセルギャップの厚い液晶セルができてしまう。液晶
組成物を液晶セルの隅々まで充填しようとすると、セル
ギャップが厚くなり、また、所望のセルギャップを形成
しようとすると液晶組成物の滴下量を加減しなければな
らず、液晶組成物の量が不足してしまうといったトレー
ドオフの状態を招く。
However, if the amount of the liquid crystal composition to be dropped is too small, a portion not filled with the liquid crystal composition is formed in the liquid crystal cell, and if the amount of the liquid crystal composition is too large, the liquid crystal having a large cell gap is formed. Cells are created. When trying to fill the liquid crystal composition to every corner of the liquid crystal cell, the cell gap becomes thicker, and in order to form a desired cell gap, the amount of the liquid crystal composition to be dropped must be adjusted. This leads to a trade-off situation such as a shortage of quantity.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】大気圧によって一対の
基板を加圧して所望のセルギャップを形成する場合、セ
ルギャップが狭くなるほど液晶セル内部と大気圧との圧
力差が小さくなり、結果として、一対の基板を加圧する
力が弱くなる。このため、所望のセルギャップを形成す
るまで一対の基板を加圧することができなくなり、ギャ
ップムラを生じてしまう。このようなギャップムラは、
液晶表示装置の表示品位を低下させる原因となる。
When a desired cell gap is formed by pressurizing a pair of substrates with the atmospheric pressure, the pressure difference between the inside of the liquid crystal cell and the atmospheric pressure becomes smaller as the cell gap becomes narrower. The force for pressing the pair of substrates is reduced. For this reason, it becomes impossible to press the pair of substrates until a desired cell gap is formed, resulting in gap unevenness. Such gap unevenness,
This causes the display quality of the liquid crystal display device to deteriorate.

【0012】この発明は、上述した問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、短時間で液晶組成物を注
入して製造コストを低減するとともに、表示品位の良好
な液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造方法を提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its object to reduce the manufacturing cost by injecting a liquid crystal composition in a short time and to provide a liquid crystal display device having good display quality. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device to be manufactured.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載の液晶表示装置の製造
方法は、少なくとも一方の基板に液晶充填領域を形成す
るようにループ状にシール材を塗布する工程と、前記液
晶充填領域に液晶組成物を滴下する工程と、真空状態で
前記一方の基板に他方の基板を重ね合わせる工程と、前
記重ね合わせた一対の基板に大気圧を加えて、一対の基
板間のギャップを所定の間隔になるまで加圧する工程
と、を有する液晶表示装置の製造方法において、前記一
方の基板と他方の基板とを重ね合わせる工程で、前記液
晶充填領域外に密閉空間を形成することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising the steps of: forming a loop in at least one substrate so as to form a liquid crystal filling region; A step of applying a sealant to the liquid crystal composition, a step of dropping a liquid crystal composition on the liquid crystal filling region, a step of superposing the other substrate on the one substrate in a vacuum state, and an atmospheric pressure on the pair of superposed substrates. And pressurizing the gap between the pair of substrates until a predetermined distance is reached. In the method for manufacturing a liquid crystal display device, the step of laminating the one substrate and the other substrate comprises: A closed space is formed outside the region.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、この発明の液晶表示装置の
製造方法の一実施の形態について図面を参照して説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】この発明の実施の形態に係る液晶表示装置
は、図1及び図2に示すように、アレイ基板100と、
アレイ基板100に対して所定の間隔をおいて対向配置
された対向基板200と、アレイ基板100と対向基板
200との間の所定のギャップに保持された液晶組成物
を含む液晶層300とを有した液晶表示パネル(液晶セ
ル)10を備えている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention comprises an array substrate 100,
It has a counter substrate 200 disposed opposite to the array substrate 100 at a predetermined interval, and a liquid crystal layer 300 containing a liquid crystal composition held in a predetermined gap between the array substrate 100 and the counter substrate 200. Liquid crystal display panel (liquid crystal cell) 10 is provided.

【0016】このような液晶表示パネル10において、
画像を表示する表示領域102は、アレイ基板100と
対向基板200とを貼り合わせる外縁シール部材106
によって囲まれた領域内に形成されている。表示領域1
02内から引出された配線や駆動回路、電源供給配線な
どを有する周辺領域104は、外縁シール部材106の
外側の領域に形成されている。
In such a liquid crystal display panel 10,
A display area 102 for displaying an image includes an outer edge sealing member 106 for bonding the array substrate 100 and the counter substrate 200.
Are formed in a region surrounded by. Display area 1
A peripheral area 104 having a wiring, a driving circuit, a power supply wiring, and the like drawn out from inside 02 is formed in a region outside the outer edge seal member 106.

【0017】表示領域102において、アレイ基板10
0は、図2に示すように、マトリクス状に配置されたm
xn個の画素電極151、これら画素電極151の行方
向に沿って形成されたm本の走査線Y1〜Ym、これら
画素電極151の列方向に沿って形成されたn本の信号
線X1〜Xn、mxn個の画素電極151に対応して走
査線Y1〜Ymおよび信号線X1〜Xnの交差位置近傍
にスイッチング素子として配置されたmxn個の薄膜ト
ランジスタすなわち画素TFT121を有している。
In the display area 102, the array substrate 10
0 is m arranged in a matrix as shown in FIG.
xn pixel electrodes 151, m scanning lines Y1 to Ym formed along the row direction of these pixel electrodes 151, and n signal lines X1 to Xn formed along the column direction of these pixel electrodes 151 , And m × n pixel electrodes 151, and m × n thin film transistors, ie, pixel TFTs 121, arranged as switching elements near intersections of the scanning lines Y1 to Ym and the signal lines X1 to Xn.

【0018】また、周辺領域104において、アレイ基
板100は、走査線Y1〜Ymを駆動する走査線駆動回
路18、信号線X1〜Xnを駆動する信号線駆動回路1
9などを有している。これら走査線駆動回路18や信号
線駆動回路19は、nチャネル型薄膜トランジスタ及び
Pチャネル型薄膜トランジスタからなる相補型の回路に
よって構成されている。これらの薄膜トランジスタは、
ポリシリコン薄膜を活性層とする例えばトップゲート型
薄膜トランジスタである。
In the peripheral region 104, the array substrate 100 includes a scanning line driving circuit 18 for driving the scanning lines Y1 to Ym and a signal line driving circuit 1 for driving the signal lines X1 to Xn.
9 and the like. Each of the scanning line driving circuit 18 and the signal line driving circuit 19 is configured by a complementary circuit including an n-channel thin film transistor and a p-channel thin film transistor. These thin film transistors
For example, a top gate type thin film transistor using a polysilicon thin film as an active layer.

【0019】図2に示すように、液晶容量CLは、画素
電極151、対向電極204、及びこれらの電極間に挟
持された液晶層300によって形成される。また、補助
容量Csは、液晶容量CLと電気的に並列に形成され
る。この補助容量Csは、絶縁層を介して対向配置され
た一対の電極、すなわち、画素電極151と同電位の補
助容量電極61と、所定の電位に設定された補助容量線
52とによって形成される。補助容量電極61は、ポリ
シリコン薄膜によって形成され、画素電極151にコン
タクトしている。また、補助容量線52は、走査線Yと
同一材料によって形成されている。
As shown in FIG. 2, the liquid crystal capacitance CL is formed by the pixel electrode 151, the counter electrode 204, and the liquid crystal layer 300 sandwiched between these electrodes. The auxiliary capacitance Cs is formed electrically in parallel with the liquid crystal capacitance CL. The auxiliary capacitance Cs is formed by a pair of electrodes opposed to each other via an insulating layer, that is, an auxiliary capacitance electrode 61 having the same potential as the pixel electrode 151 and an auxiliary capacitance line 52 set to a predetermined potential. . The auxiliary capacitance electrode 61 is formed of a polysilicon thin film and is in contact with the pixel electrode 151. The auxiliary capacitance line 52 is formed of the same material as the scanning line Y.

【0020】より具体的には、アレイ基板100は、図
3に示すように、表示領域において、走査線Yと信号線
Xとによって区画された画素領域に設けられた画素電極
151を備えている。この画素電極151は、透明導電
性部材として、例えばITO(インジウム−ティン−オ
キサイド)によって形成されている。
More specifically, as shown in FIG. 3, the array substrate 100 includes a pixel electrode 151 provided in a pixel area defined by a scanning line Y and a signal line X in a display area. . The pixel electrode 151 is formed of, for example, ITO (indium-tin-oxide) as a transparent conductive member.

【0021】この画素電極151は、TFT120を介
して信号線Xに接続されている。この画素電極120
は、画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置され
ている。走査線Y及び信号線Xの配線部は、アルミニウ
ムやモリブデン−タングステンなどの低抵抗材料によっ
て形成されている。
The pixel electrode 151 is connected to the signal line X via the TFT 120. This pixel electrode 120
Are arranged in a matrix in a display area for displaying images. The wiring portions of the scanning lines Y and the signal lines X are formed of a low-resistance material such as aluminum or molybdenum-tungsten.

【0022】図4に示すように、TFT110は、ガラ
ス基板101上に配置された、チャネル領域112C、
ソース領域112S、及び、ドレイン領域112Dを有
するポリシリコン薄膜112を備えている。また、TF
T110は、ゲート絶縁膜113を介して走査線Yから
チャネル領域112C上に延出されたゲート電極114
と、ゲート絶縁膜113及び層間絶縁膜115を貫通し
てポリシリコン薄膜112のソース領域112Sにコン
タクトするとともに信号線Xと一体に形成されたソース
電極116Sと、ゲート絶縁膜113及び層間絶縁膜1
15を貫通してポリシリコン薄膜112のドレイン領域
112Dにコンタクトするドレイン電極116Dと、を
備えている。
As shown in FIG. 4, a TFT 110 includes a channel region 112 C,
A polysilicon thin film 112 having a source region 112S and a drain region 112D is provided. Also, TF
T110 is a gate electrode 114 extending from the scanning line Y to the channel region 112C via the gate insulating film 113.
And a source electrode 116S that penetrates through the gate insulating film 113 and the interlayer insulating film 115 to contact the source region 112S of the polysilicon thin film 112 and is formed integrally with the signal line X;
15 and a drain electrode 116D that contacts the drain region 112D of the polysilicon thin film 112.

【0023】また、アレイ基板100は、層間絶縁膜1
15上、及びTFT110などの配線部上に、窒化シリ
コン(SiNx)によって形成されたパッシベーション
膜119を備えている。さらに、アレイ基板100は、
パッシベーション膜119上における各画素領域毎に、
赤(R)、緑(G)、青(B)にそれぞれ着色されたカ
ラーフィルタ層130(R、G、B)を備えている。
The array substrate 100 is made of an interlayer insulating film 1
A passivation film 119 formed of silicon nitride (SiNx) is provided on the wiring 15 and the wiring portion such as the TFT 110. Furthermore, the array substrate 100
For each pixel region on the passivation film 119,
A color filter layer 130 (R, G, B) colored red (R), green (G), and blue (B) is provided.

【0024】画素電極151は、このカラーフィルタ層
130上に配置されている。カラーフィルタ層130上
に形成された画素電極151は、カラーフィルタ層13
0及びパッシベーション膜119に形成されたコンタク
トホール118を介して、TFT110のドレイン電極
116Dに電気的に接続されている。アレイ基板100
の表面には、カラーフィルタ層130や画素電極151
を覆うように配向膜160が設けられている。
The pixel electrode 151 is disposed on the color filter layer 130. The pixel electrode 151 formed on the color filter layer 130 is
0 and the drain electrode 116D of the TFT 110 via a contact hole 118 formed in the passivation film 119. Array substrate 100
The color filter layer 130 and the pixel electrode 151
The alignment film 160 is provided so as to cover.

【0025】また、図4に示すように、対向基板200
は、透明な絶縁性基板、すなわちガラス基板201上に
配置された透明導電性部材としてのITOによって形成
された対向電極203を備えている。対向電極203の
表面には、配向膜207が設けられている。
Further, as shown in FIG.
Includes a transparent insulating substrate, that is, a counter electrode 203 formed of ITO as a transparent conductive member disposed on a glass substrate 201. On the surface of the counter electrode 203, an alignment film 207 is provided.

【0026】これらのアレイ基板100及び対向基板2
00は、図示しないスペーサによって所定のギャップを
形成した状態で図示しないシール材によって貼り合わさ
れる。液晶層300は、このアレイ基板100と対向基
板200との間に形成された所定のギャップに封入され
る。
The array substrate 100 and the counter substrate 2
No. 00 is bonded with a sealing material (not shown) in a state where a predetermined gap is formed by a spacer (not shown). The liquid crystal layer 300 is sealed in a predetermined gap formed between the array substrate 100 and the counter substrate 200.

【0027】また、アレイ基板100及び対向基板20
0の外表面には、偏光方向が互いに直交するように配置
された偏光板170、210がそれぞれ配置されてい
る。
The array substrate 100 and the counter substrate 20
Polarizing plates 170 and 210 are disposed on the outer surface of the polarizer 0 so that the polarization directions are orthogonal to each other.

【0028】次に、この液晶表示装置の製造方法につい
て説明する。ここでは、一対の大型のマザーガラス基板
から複数の液晶表示パネルを同時に形成するいわゆる多
面取り方式の場合について説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device will be described. Here, a case of a so-called multi-panel method in which a plurality of liquid crystal display panels are simultaneously formed from a pair of large mother glass substrates will be described.

【0029】まず、大型のマザーガラス基板に複数、例
えば4つのアレイ基板100を形成する。すなわち、厚
さ0.7mmのマザーガラス基板101上に、ポリシリ
コン薄膜からなる半導体層112、走査線Yと一体のゲ
ート絶縁膜113、ゲート絶縁膜114、層間絶縁膜1
15、ソース電極116Sと一体の信号線X、ドレイン
電極116D、パッシベーション膜119、カラーフィ
ルタ層130、画素電極120、配向膜160を順に形
成する。
First, a plurality of, for example, four array substrates 100 are formed on a large mother glass substrate. That is, a semiconductor layer 112 made of a polysilicon thin film, a gate insulating film 113 integrated with a scanning line Y, a gate insulating film 114, and an interlayer insulating film 1 are formed on a mother glass substrate 101 having a thickness of 0.7 mm.
15, a signal line X integrated with the source electrode 116S, a drain electrode 116D, a passivation film 119, a color filter layer 130, a pixel electrode 120, and an alignment film 160 are formed in this order.

【0030】これら、走査線や信号線などの金属配線
部、ポリシリコン薄膜の半導体層を有するTFT、誘電
体によって形成された各種絶縁膜、画素電極などの電極
部は、薄膜を成膜した後に所定の形状にパターニングさ
れることによって形成される。すなわち、これらは、導
電体または誘電体からなる薄膜を成膜する成膜工程、こ
の薄膜上にフォトレジストを塗布する塗布工程、塗布さ
れたフォトレジストを所定のパターンを有するマスクを
介して露光する露光工程、露光されたフォトレジストを
現像する現像工程、フォトレジストが除去されて露出し
た薄膜を除去するエッチング工程などを繰り返すことに
よって形成される。
These metal wiring portions such as scanning lines and signal lines, TFTs having a semiconductor layer of a polysilicon thin film, various insulating films formed of dielectrics, and electrode portions such as pixel electrodes are formed after forming the thin film. It is formed by patterning into a predetermined shape. That is, these are a film forming step of forming a thin film made of a conductor or a dielectric, a coating step of applying a photoresist on the thin film, and exposing the applied photoresist through a mask having a predetermined pattern. It is formed by repeating an exposure step, a development step of developing the exposed photoresist, an etching step of removing the thin film exposed by removing the photoresist, and the like.

【0031】続いて、大型のマザーガラス基板に、アレ
イ基板の数に対応する4つの対向基板200を形成す
る。すなわち、厚さ0.7mmのマザーガラス基板20
1上に、対向電極203、及び配向膜207を順に形成
する。
Subsequently, four opposing substrates 200 corresponding to the number of array substrates are formed on a large mother glass substrate. That is, the mother glass substrate 20 having a thickness of 0.7 mm
A counter electrode 203 and an alignment film 207 are sequentially formed on the substrate 1.

【0032】続いて、アレイ基板100を形成したマザ
ーガラス基板に接着剤からなるシール材106を印刷塗
布する。このとき、シール材は、液晶組成物を充填する
ための液晶充填領域を含むようなループ状に塗布され
る。
Subsequently, a sealing material 106 made of an adhesive is printed on the mother glass substrate on which the array substrate 100 is formed. At this time, the sealing material is applied in a loop including a liquid crystal filling region for filling the liquid crystal composition.

【0033】例えば、図5に示すように、4つのアレイ
基板100を形成したマザーガラス基板400M上にお
いて、シール材106は、各アレイ基板100の表示領
域に対応した液晶充填領域402を囲むようにループ状
に塗布される。これにより、マザーガラス基板400M
上において、各アレイ基板100に対応した4つのシー
ル材106のループ(第1のループ)404が形成され
る。また、このシール材塗布工程では、同一のシール材
106により、各アレイ基板100に対応した4つの第
1のループ404の外周を囲むような1つのダミールー
プ(第2のループ)406が形成される。
For example, as shown in FIG. 5, on a mother glass substrate 400M on which four array substrates 100 are formed, a sealing material 106 surrounds a liquid crystal filling region 402 corresponding to a display region of each array substrate 100. It is applied in a loop. Thereby, the mother glass substrate 400M
Above, four loops (first loops) 404 of the sealing material 106 corresponding to each array substrate 100 are formed. In this sealing material application step, one dummy loop (second loop) 406 surrounding the outer circumference of the four first loops 404 corresponding to each array substrate 100 is formed by the same sealing material 106. You.

【0034】図8の(a)は、図5に示したマザーガラ
ス基板400MのA−A線に沿って切断した時の断面図
である。
FIG. 8A is a cross-sectional view of the mother glass substrate 400M shown in FIG. 5 taken along the line AA.

【0035】続いて、図8の(b)に示すように、シー
ル材106の第1のループ404によって囲まれた内側
の液晶充填領域402に液晶組成物500を滴下する。
このとき、滴下される液晶組成物500の量は、一対の
基板間のセルギャップが所定の間隔になった時の液晶充
填領域の体積以上であり、通常は、液晶充填領域の体積
にほぼ等しい。
Subsequently, as shown in FIG. 8B, the liquid crystal composition 500 is dropped into the liquid crystal filling region 402 inside the first loop 404 of the sealing material 106.
At this time, the amount of the liquid crystal composition 500 dropped is equal to or larger than the volume of the liquid crystal filling region when the cell gap between the pair of substrates is at a predetermined interval, and is usually substantially equal to the volume of the liquid crystal filling region. .

【0036】続いて、図8の(c)に示すように、真空
チャンバ内において、アレイ基板100を形成したマザ
ーガラス基板400Mを配置した後、排気して真空状態
とし、その後、マザーガラス基板400Mと対向基板を
形成したマザーガラス基板600Mとを、それぞれの配
向膜160及び207が対向するように、且つ、それぞ
れのラビング方向が例えば90度となるように、重ねて
配置する。
Subsequently, as shown in FIG. 8C, after the mother glass substrate 400M on which the array substrate 100 is formed is placed in a vacuum chamber, the mother glass substrate 400M is evacuated to a vacuum state. And the mother glass substrate 600M on which the opposing substrate is formed, are disposed so that the respective alignment films 160 and 207 oppose each other and the rubbing directions thereof are, for example, 90 degrees.

【0037】このように、一対のマザーガラス基板40
0Mと600Mとを重ね合わせることにより、シール材
106の第1のループ404とシール材106の第2の
ループ406との間に、液晶組成物500が充填されな
い密閉空間700が形成される。この密閉空間700の
内部は、ほぼ真空状態が保たれる。この密閉空間700
は、図5に示すように、液晶充填領域402を囲む第1
のループ404の外周に沿って形成されている。
As described above, the pair of mother glass substrates 40
By superimposing 0M and 600M, a closed space 700 in which the liquid crystal composition 500 is not filled is formed between the first loop 404 of the sealant 106 and the second loop 406 of the sealant 106. The interior of the sealed space 700 is maintained in a substantially vacuum state. This enclosed space 700
Represents a first region surrounding the liquid crystal filling region 402 as shown in FIG.
Are formed along the outer periphery of the loop 404.

【0038】続いて、図8の(d)に示すように、真空
チャンバ内を大気開放することにより、一対のマザーガ
ラス基板400M及び600Mに大気圧を加えて加圧す
る。このとき、密閉空間700の内部は、依然としてほ
ぼ真空状態に保持されている。
Subsequently, as shown in FIG. 8D, the inside of the vacuum chamber is opened to the atmosphere to apply atmospheric pressure to the pair of mother glass substrates 400M and 600M and pressurize them. At this time, the inside of the sealed space 700 is still maintained in a substantially vacuum state.

【0039】このため、大気圧より低い気圧の密閉空間
700は、その内部の気圧を大気圧に近づけるように体
積を縮小する。これにより、密閉空間700を中心とし
て、一対のマザーガラス基板400M及び600Mのセ
ルギャップを縮小するように作用する強い加圧力が発生
する。
For this reason, the volume of the closed space 700 having a pressure lower than the atmospheric pressure is reduced so that the internal pressure thereof approaches the atmospheric pressure. Accordingly, a strong pressing force acting to reduce the cell gap between the pair of mother glass substrates 400M and 600M is generated around the sealed space 700.

【0040】アレイ基板100の液晶充填領域402に
は、所定の高さを有する柱状スペーサが形成されてい
る。したがって、一対のマザーガラス基板400M及び
600Mは、そのセルギャップが柱状スペーサによって
均一に保持されることによって、所望の間隔になるまで
押しつぶされる。
In the liquid crystal filling region 402 of the array substrate 100, a columnar spacer having a predetermined height is formed. Therefore, the pair of mother glass substrates 400M and 600M are squashed until the desired gap is achieved by the cell gaps being uniformly held by the columnar spacers.

【0041】続いて、一対のマザーガラス基板400M
及び600Mのセルギャップが所望の間隔に押しつぶさ
れた状態で、両基板を加熱し、第1のループ402及び
第2のループ404を形成するシール材106を硬化す
る。これにより、一対のマザーガラス基板400M及び
600Mを貼り合せる。
Subsequently, a pair of mother glass substrates 400M
Then, with the cell gap of 600 M crushed at a desired interval, the two substrates are heated to cure the sealant 106 forming the first loop 402 and the second loop 404. Thereby, the pair of mother glass substrates 400M and 600M are bonded.

【0042】続いて、図8の(e)に示すように、一対
のマザーガラス基板400M及び600Mから複数の液
晶表示パネル10を切り出す。このとき、密閉空間70
0を形成していた第2のループ404を除去する。
Subsequently, as shown in FIG. 8E, a plurality of liquid crystal display panels 10 are cut out from the pair of mother glass substrates 400M and 600M. At this time, the closed space 70
The second loop 404 forming 0 is removed.

【0043】最後に、液晶表示パネル10の外表面、す
なわちアレイ基板100の表面及び対向基板200の表
面にそれぞれ偏光板170及び180を貼り付ける。
Finally, polarizing plates 170 and 180 are attached to the outer surface of the liquid crystal display panel 10, that is, the surface of the array substrate 100 and the surface of the counter substrate 200, respectively.

【0044】このようにして、液晶表示装置を製造す
る。
Thus, a liquid crystal display device is manufactured.

【0045】上述した実施の形態によれば、液晶組成物
を封入するために要する時間を大幅に短縮することがで
き、製造コストを低減することが可能となる。
According to the above-described embodiment, the time required for enclosing the liquid crystal composition can be greatly reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【0046】また、一対の基板を大気圧によって加圧す
る際、液晶充填領域の周辺に大気圧より低い気圧の密閉
空間を設けることにより、この密閉空間を中心として液
晶組成物を挟持する一対のマザーガラス基板を加圧する
力が発生する。したがって、所望のセルギャップを形成
する前に、一対の基板を加圧する力が弱くなることがな
く、確実に均一な所望のセルギャップを形成することが
可能となる。これにより、ギャップムラの発生を防止す
ることができ、良好な表示品位の液晶表示装置を提供す
ることが可能となる。
When a pair of substrates is pressurized by the atmospheric pressure, a sealed space having a pressure lower than the atmospheric pressure is provided around the liquid crystal filling region, so that a pair of mothers holding the liquid crystal composition around the sealed space are provided. A force for pressing the glass substrate is generated. Therefore, before forming a desired cell gap, the force for pressing the pair of substrates is not weakened, and a uniform desired cell gap can be reliably formed. Thereby, it is possible to prevent the occurrence of gap unevenness, and it is possible to provide a liquid crystal display device having good display quality.

【0047】上述した実施の形態では、図5に示すよう
に、シール材により、液晶充填領域を囲むように第1の
ループを形成し、さらに、この第1のループを囲むよう
に第2のループを形成し、第1のループと第2のループ
との間に大気圧より低い気圧の密閉空間を形成してい
る。しかしながら、少なくとも液晶充填領域を含み、そ
の外周に密閉空間を形成するようなシール材のループが
形成されることにより、上述した実施の形態と同様の作
用効果を得ることが可能である。
In the above-described embodiment, as shown in FIG. 5, the first loop is formed by the sealing material so as to surround the liquid crystal filling region, and the second loop is formed so as to surround the first loop. A loop is formed, and a closed space having a pressure lower than the atmospheric pressure is formed between the first loop and the second loop. However, by forming a loop of the sealing material including at least the liquid crystal filling region and forming a closed space on the outer periphery thereof, it is possible to obtain the same operation and effect as in the above-described embodiment.

【0048】例えば、図6に示すように、シール材塗布
工程では、4つのアレイ基板100を形成したマザーガ
ラス基板400M上において、シール材106は、各ア
レイ基板100の表示領域に対応した液晶充填領域40
2を囲むようにループ状に塗布される。これにより、マ
ザーガラス基板400M上において、各アレイ基板10
0に対応した4つのシール材106のループ(第1のル
ープ)404が形成される。また、このシール材塗布工
程では、同一のシール材106により、各アレイ基板1
00に対応した4つの第1のループ404の外周に配置
された1つ以上のダミーループ(第2のループ)406
が形成される。
For example, as shown in FIG. 6, in the sealing material applying step, on the mother glass substrate 400M on which the four array substrates 100 are formed, the sealing material 106 is filled with liquid crystal corresponding to the display area of each array substrate 100. Region 40
2 is applied in a loop shape so as to surround it. Thereby, each array substrate 10 on the mother glass substrate 400M
A loop (first loop) 404 of four seal materials 106 corresponding to 0 is formed. In this sealing material applying step, the same sealing material 106 is used for each array substrate 1.
One or more dummy loops (second loops) 406 arranged on the outer periphery of the four first loops 404 corresponding to 00
Is formed.

【0049】このような実施の形態の場合、第1のルー
プ404によって囲まれた液晶充填領域402に液晶組
成物500を滴下し、真空状態の真空チャンバ内におい
て、一対のマザーガラス基板400M及び600Mを重
ね合せる。このとき、第2のループ406によって、液
晶組成物500が充填されない密閉空間が形成される。
In the case of such an embodiment, the liquid crystal composition 500 is dropped into the liquid crystal filling region 402 surrounded by the first loop 404, and a pair of mother glass substrates 400M and 600M are placed in a vacuum chamber in a vacuum state. Are superimposed. At this time, the second loop 406 forms a closed space in which the liquid crystal composition 500 is not filled.

【0050】また、他の実施の形態について説明する。Next, another embodiment will be described.

【0051】例えば、図7に示すように、シール材塗布
工程では、4つのアレイ基板100を形成したマザーガ
ラス基板400M上において、シール材106は、各ア
レイ基板100の表示領域に対応した液晶充填領域(第
1領域)402と、液晶充填領域402の外周に密閉空
間を形成するための外周領域(第2領域)410とを囲
むように1つのループ状に塗布される。これにより、マ
ザーガラス基板400M上において、各アレイ基板10
0に対応した4つの液晶充填領域402と、各アレイ基
板100の外周領域410とを結ぶ一連のループ412
が形成される。この一連のループのうち、アレイ基板1
00から外れる部分は、ダミーループを形成する。
For example, as shown in FIG. 7, in the sealing material applying step, on the mother glass substrate 400M on which the four array substrates 100 are formed, the sealing material 106 is filled with liquid crystal corresponding to the display area of each array substrate 100. It is applied in one loop so as to surround a region (first region) 402 and a peripheral region (second region) 410 for forming a sealed space around the liquid crystal filling region 402. Thereby, each array substrate 10 on the mother glass substrate 400M
A series of loops 412 connecting the four liquid crystal filling regions 402 corresponding to 0 and the outer peripheral region 410 of each array substrate 100
Is formed. Of the series of loops, array substrate 1
The portion deviating from 00 forms a dummy loop.

【0052】続いて、シール材106のループ412に
よって囲まれた内側の液晶充填領域402に液晶組成物
500を滴下する。このとき、滴下される液晶組成物5
00の量は、一対の基板間のセルギャップが所定の間隔
になった時の液晶充填領域の体積以上であり、液晶充填
領域の体積より多いことが望ましい。一対の基板が加圧
されて所定のギャップを形成した場合、余分な液晶組成
物500は、液晶充填領域402を囲むループの切れ
目、すなわち排出口414から排出される。ただし、液
晶組成物500の量は、液晶充填領域及び外周領域の全
体の体積より少なく設定される。
Subsequently, the liquid crystal composition 500 is dropped into the liquid crystal filling region 402 inside the sealing material 106 surrounded by the loop 412. At this time, the liquid crystal composition 5 dropped
The amount of 00 is equal to or larger than the volume of the liquid crystal filled region when the cell gap between the pair of substrates is at a predetermined interval, and is desirably larger than the volume of the liquid crystal filled region. When a predetermined gap is formed by pressing the pair of substrates, the excess liquid crystal composition 500 is discharged from a break in a loop surrounding the liquid crystal filling region 402, that is, the discharge port 414. However, the amount of the liquid crystal composition 500 is set smaller than the total volume of the liquid crystal filling region and the outer peripheral region.

【0053】このような実施の形態の場合、真空状態の
真空チャンバ内において、一対のマザーガラス基板40
0M及び600Mを重ね合せたとき、液晶充填領域40
2の外周に延びたループ412によって、液晶組成物5
00が充填されない密閉空間が形成される。
In such an embodiment, a pair of mother glass substrates 40 are placed in a vacuum chamber in a vacuum state.
When 0M and 600M are superimposed, the liquid crystal filling region 40
2, the liquid crystal composition 5
A sealed space not filled with 00 is formed.

【0054】上述したように、この発明の液晶表示装置
の製造方法によれば、アレイ基板上の閉ループ状にシー
ル材を塗布し、シール材が塗布されたループの内側に液
晶組成物を滴下し、真空状態でアレイ基板を対向基板と
貼り合せ、大気開放することによって大気圧を加えて一
対の基板間のギャップを所定の間隔になるまで加圧し、
シール材を硬化させている。
As described above, according to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the sealing material is applied in a closed loop on the array substrate, and the liquid crystal composition is dropped inside the loop on which the sealing material is applied. Bonding the array substrate to the counter substrate in a vacuum state, applying atmospheric pressure by releasing to the atmosphere, and pressing the gap between the pair of substrates until a predetermined interval is reached,
The sealing material is cured.

【0055】このとき、加圧工程では、貼り合わされた
一対の基板間に大気圧より低い気圧例えば真空の密閉空
間が形成されている。このため、一対の基板間に形成さ
れた密閉空間によって発生した一対の基板を加圧する力
が、一対の基板間のギャップを所定の間隔になるまで加
圧する。したがって、ギャップムラの発生を防止するこ
とが可能となる。
At this time, in the pressurizing step, a closed space of a pressure lower than the atmospheric pressure, for example, a vacuum is formed between the pair of substrates bonded to each other. For this reason, the force for pressing the pair of substrates generated by the closed space formed between the pair of substrates presses the gap between the pair of substrates until a predetermined interval is reached. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of gap unevenness.

【0056】これにより、短時間で液晶組成物を封入す
る滴下注入法において、表示品位の良好な液晶表示装置
を製造することができ、製造コストを低減することが可
能となる。
Thus, a liquid crystal display device having good display quality can be manufactured by the drop injection method in which the liquid crystal composition is sealed in a short time, and the manufacturing cost can be reduced.

【0057】なお、上述した実施の形態では、シール材
は、アレイ基板を形成したマザーガラス基板に塗布した
が、対向基板を形成したマザーガラス基板に塗布しても
良い。
In the above-described embodiment, the sealing material is applied to the mother glass substrate on which the array substrate is formed, but may be applied to the mother glass substrate on which the opposing substrate is formed.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、短時間で液晶組成物を注入して製造コストを低減す
るとともに、表示品位の良好な液晶表示装置を製造する
液晶表示装置の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a liquid crystal composition is injected in a short time to reduce the manufacturing cost and to manufacture a liquid crystal display device having a good display quality. A method can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、この発明の液晶表示装置の製造方法に
よって製造された液晶表示パネルの構成を概略的に示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a configuration of a liquid crystal display panel manufactured by a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】図2は、図1に示した液晶表示パネルの構成を
概略的に示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram schematically showing a configuration of the liquid crystal display panel shown in FIG. 1;

【図3】図3は、図1に示した液晶表示パネルにおける
アレイ基板上の一画素領域の構成を概略的に示す平面図
である。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a configuration of one pixel region on an array substrate in the liquid crystal display panel shown in FIG.

【図4】図4は、図1に示した液晶表示パネルの構成を
概略的に示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view schematically showing a configuration of the liquid crystal display panel shown in FIG.

【図5】図5は、この発明の液晶表示装置の製造方法に
よって塗布されるシール材の塗布パターン例を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing an example of an application pattern of a sealing material applied by the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図6】図6は、この発明の液晶表示装置の製造方法に
よって塗布されるシール材の塗布パターンの他の例を示
す図である。
FIG. 6 is a view showing another example of an application pattern of a sealing material applied by the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図7】図7は、この発明の液晶表示装置の製造方法に
よって塗布されるシール材の塗布パターンの他の例を示
す図である。
FIG. 7 is a view showing another example of an application pattern of a sealing material applied by the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図8】図8(a)乃至(e)は、この発明の液晶表示
装置の製造方法の一例を説明するための断面図であり、
図5に示した塗布パターンでシール材を塗布したときの
A−A線で切断した基板の断面図である。
FIGS. 8A to 8E are cross-sectional views illustrating an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the substrate cut along line AA when a sealing material is applied according to the application pattern shown in FIG. 5.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100…アレイ基板 200…対向基板 300…液晶組成物(液晶層) 400M…マザーガラス基板(アレイ基板用) 402…液晶充填領域(第1領域) 404…シール材ループ(第1のループ) 406…シール材ダミーループ(第2のループ) 410…外周領域(第2領域) 412…シール材ループ 500…液晶組成物 600M…マザーガラス基板(対向基板用) 700…密閉空間 Reference Signs List 100 array substrate 200 counter substrate 300 liquid crystal composition (liquid crystal layer) 400M mother glass substrate (for array substrate) 402 liquid crystal filling region (first region) 404 sealing material loop (first loop) 406 Seal material dummy loop (second loop) 410: outer peripheral region (second region) 412: seal material loop 500: liquid crystal composition 600M: mother glass substrate (for counter substrate) 700: sealed space

フロントページの続き (72)発明者 安倍 裕嗣 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA42 NA22 NA39 NA45 NA55 QA12 QA14 Continuation of the front page (72) Inventor Yuji Abe 8th Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa F-term (reference) 2H089 LA42 NA22 NA39 NA45 NA55 QA12 QA14

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも一方の基板に液晶充填領域を形
成するようにループ状にシール材を塗布する工程と、 前記液晶充填領域に液晶組成物を滴下する工程と、 真空状態で前記一方の基板に他方の基板を重ね合わせる
工程と、 前記重ね合わせた一対の基板に大気圧を加えて、一対の
基板間のギャップを所定の間隔になるまで加圧する工程
と、を有する液晶表示装置の製造方法において、 前記一方の基板と他方の基板とを重ね合わせる工程で、
前記液晶充填領域外に密閉空間を形成することを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
1. A step of applying a sealing material in a loop so as to form a liquid crystal filling region on at least one substrate; a step of dropping a liquid crystal composition on the liquid crystal filling region; And a step of applying atmospheric pressure to the pair of superimposed substrates to pressurize the gap between the pair of substrates to a predetermined distance. In the step of overlapping the one substrate and the other substrate,
A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein a closed space is formed outside the liquid crystal filling region.
【請求項2】前記シール材を塗布する工程では、複数の
前記液晶充填領域をそれぞれ囲む複数の第1のループ
と、前記複数の第1のループを囲む第2のループと、を
形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装
置の製造方法。
2. The method according to claim 1, further comprising: forming a plurality of first loops surrounding each of the plurality of liquid crystal filling regions, and forming a second loop surrounding each of the plurality of first loops. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
【請求項3】前記シール材を塗布する工程では、前記液
晶充填領域を囲む第1のループと、前記液晶充填領域外
に配置された第2のループと、を形成することを特徴と
する請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the step of applying the sealing material includes forming a first loop surrounding the liquid crystal filling region and a second loop disposed outside the liquid crystal filling region. Item 2. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 1.
【請求項4】前記シール材を塗布する工程では、前記液
晶充填領域を完全に囲まないことを特徴とする請求項1
に記載の液晶表示装置の製造方法。
4. The liquid crystal filling region is not completely surrounded in the step of applying the sealing material.
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 1.
【請求項5】前記一対の基板を加圧する工程の後に、前
記密閉空間を形成するためのシール材を除去する工程を
備えたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置
の製造方法。
5. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, further comprising, after the step of pressing the pair of substrates, removing a sealant for forming the sealed space. .
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