JP2002225113A - Adherend removing device on surface of roll - Google Patents

Adherend removing device on surface of roll

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JP2002225113A
JP2002225113A JP2001022069A JP2001022069A JP2002225113A JP 2002225113 A JP2002225113 A JP 2002225113A JP 2001022069 A JP2001022069 A JP 2001022069A JP 2001022069 A JP2001022069 A JP 2001022069A JP 2002225113 A JP2002225113 A JP 2002225113A
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JP
Japan
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roll
film
infrared
deposits
adherend
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001022069A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Shimokawa
稔 下川
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a method for removing an adherend by a corona discharge or an ultraviolet ray has a low removing capability and is not hence satisfied, an influence of an ozone or the ray generated by the conventional method to a human body is large, many accessory facilities such as an ozone decomposing facility, a ventilating facility or an ultraviolet ray leakage countermeasure or the like is required so that an initial cost and a running cost are raised. SOLUTION: An adherend removing device on a surface of a roll heats the adherend on the surface of the roll by an infrared ray and removes the adherend. In this case, a wavelength of the infrared ray is 2.8 to 25 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ロール表面の付着
物の除去方法に関し、更に詳しくは、熱可塑性高分子フ
ィルムの製造または、加工時にロール表面に付着する有
機物を除去する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for removing deposits on a roll surface, and more particularly to a method for producing a thermoplastic polymer film or removing organic substances attached to the roll surface during processing. .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、熱可塑性高分子フィルム(以降、
フィルムと称す)の製造または、加工において使用され
るロール表面には、経時的に有機物等が堆積し、汚れが
生じてくるので、物理的掃除方法(ブラシで擦る、布で
拭く等を示す。)や、化学的掃除方法(溶剤等で溶かし
て拭き取ることを示す。)、また、それを機械的に作動
させる掃除用具等でこれらのロールの汚れを除去してい
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, a thermoplastic polymer film (hereinafter, referred to as a thermoplastic polymer film)
Organic substances and the like are deposited over time on the roll surface used in the production or processing of the film or the film is processed and stains are generated. Therefore, a physical cleaning method (rubbing with a brush, wiping with a cloth, etc.) is indicated. ), A chemical cleaning method (indicating dissolving with a solvent or the like and wiping off), and a cleaning tool or the like for mechanically operating the chemical cleaning method to remove stains on these rolls.

【0003】しかし、かかる従来の方法では、ブラシで
擦ったり布で拭いたりすると付着物のクズが発生し、ま
た、化学的掃除方法では、付着物の除去に用いた溶剤等
が残り、ロール運転中に掃除を行なうとそれらがフィル
ム側に転写する問題があった。そのため、ロール表面に
付着した有機物の除去に於いては、フィルムの製造また
は、加工装置を停止した上で行なっており、そのため停
止による生産性の低下と運転再開時の品質安定に要する
不良品の発生が避けられなかった。
[0003] However, in such a conventional method, when the brush is rubbed or wiped with a cloth, the adhering matter is generated. In the case of the chemical cleaning method, the solvent used for removing the adhering matter remains and the roll operation is performed. There was a problem that when they were cleaned during cleaning, they were transferred to the film side. For this reason, the removal of organic substances adhered to the roll surface is performed after the production of the film or the processing equipment is stopped. Outbreak was inevitable.

【0004】これらの課題に対し、特開昭57−514
26、近年では、特開平10−315306の方法が提
案されている。前者は、ロールの付着物をコロナ放電で
分解、除去する方法であり、後者は、紫外線により付着
物を分解、除去させる方法である。
To solve these problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-514 discloses
26. In recent years, a method disclosed in JP-A-10-315306 has been proposed. The former is a method of decomposing and removing the deposits on the roll by corona discharge, and the latter is a method of decomposing and removing the deposits by ultraviolet rays.

【0005】特開昭57−51426及び特開平10−
315306は共に、付着物の除去に対し非接触であ
り、付着物自体を分解させる方法のためフィルムの製造
または、加工装置を停止させずに連続的に付着物の除去
が可能である。また、これらの方法の共通点は、コロナ
放電によるエネルギー付与、あるいは、紫外線によるエ
ネルギー付与により大気中に存在する酸素がオゾンを生
成し、そのオゾンの一部が再び酸素に分解される際に生
じる活性酸素による酸化力によって有機物を分解する原
理を利用したものである(図2)。しかし、これらの方
法にはいくつかの問題があり満足の行くものではない。
以下にその問題点を示す。
[0005] JP-A-57-51426 and JP-A-Hei 10-
Both 315306 are non-contact with respect to the removal of the deposit, and the method of decomposing the deposit itself enables the production of a film or the continuous removal of the deposit without stopping the processing apparatus. The common feature of these methods is that when oxygen present in the atmosphere generates ozone due to energy application by corona discharge or energy application by ultraviolet rays, a part of the ozone is decomposed into oxygen again. It utilizes the principle of decomposing organic substances by the oxidizing power of active oxygen (FIG. 2). However, these methods have some problems and are not satisfactory.
The problems are described below.

【0006】(処理能力)活性酸素の酸化作用は非常に
強力ではあるものの、その処理能力は低い。詳しくは、
活性酸素による酸化作用はその表面層の数オングストロ
ーム程度の深さまでしか作用せず、物質表面の改質程度
の能力で、ロール等にミクロンオーダーの厚みで形成さ
れている付着物を瞬時に分解するにはあまりにもエネル
ギーが小さすぎる。そのため、付着物を除去するには長
時間の照射あるいは、連続照射が必要となるが、それで
も処理能力が低いため付着物の生成が非常に少ないケー
スにしか対応できない問題を有する。
(Treatment capacity) Although the oxidizing action of active oxygen is very strong, its treatment capacity is low. For more information,
Oxidation by active oxygen only works to a depth of about several angstroms of the surface layer, and instantaneously decomposes deposits formed in micron-order thickness on rolls etc. with the ability to modify the material surface Energy is too small. Therefore, long-time irradiation or continuous irradiation is required to remove the attached matter, but there is still a problem that the treatment ability is low, so that it can be applied only to the case where the amount of the attached matter is extremely small.

【0007】紫外線を用いる方法では、紫外線のエネル
ギーによる活性酸素の生成のほか、有機物を構成する炭
素、水素、酸素分子の固有振動と一致する波長域である
ことから付着物に直接作用し有機物の分解を促進する効
果を有する。しかし、前者と同様に処理能力は表面層の
数オングストローム程度の深さまでしか作用せず、紫外
線に於いても処理能力の不足をぬぐい切れない。
[0007] In the method using ultraviolet light, in addition to the generation of active oxygen by the energy of ultraviolet light, the wavelength range coincides with the natural vibration of carbon, hydrogen and oxygen molecules constituting the organic substance, so that the method directly acts on the attached substance and acts on the organic substance. Has the effect of promoting decomposition. However, as in the former case, the processing capacity acts only up to a depth of about several angstroms of the surface layer, and the shortage of the processing capacity cannot be overcome even with ultraviolet rays.

【0008】(安全性)付着物の除去原理は、オゾンの
生成と破壊のサイクルによる活性酸素の酸化作用であ
り、オゾンの発生が前提条件となるが、オゾンは人体へ
悪影響をおよぼすガスで、高純度のオゾンを吸引した場
合、肺組織が破壊され死に至る。
(Safety) The principle of removing adhering substances is the oxidizing action of active oxygen by the cycle of generation and destruction of ozone, and the generation of ozone is a prerequisite, but ozone is a gas that has an adverse effect on the human body. If high-purity ozone is inhaled, lung tissue is destroyed and death occurs.

【0009】紫外線もまた、人体へ悪影響をおよぼし、
長時間、紫外線が視野に入ってきた場合、視力の低下、
延いては失明にまで至り、皮膚の場合は皮膚の炎症、延
いては皮膚ガンの発病までも懸念される。
[0009] Ultraviolet rays also have an adverse effect on the human body,
If ultraviolet light enters the field of vision for a long time,
This leads to blindness, and in the case of skin, skin irritation, and eventually skin cancer.

【0010】(コスト)作業者の人体への影響を考慮
し、発生するオゾンに対して、オゾン分解装置の導入と
換気設備の設置が必須となり、また、紫外線について
は、紫外線の漏洩が発生しない設備的対処が必要となる
ため、設備にかかる費用は膨大なものとなる。更に、紫
外線ランプは高価であり、且つ、一般のハロゲンランプ
や水銀ランプ等に較べ寿命が短いため、ランニングコス
トが高くなる問題も有する。
(Cost) In consideration of the effect on the human body of the worker, it is necessary to introduce an ozone decomposing device and install a ventilation system for the generated ozone, and no leakage of ultraviolet rays occurs. Since it is necessary to deal with equipment, the cost of equipment is enormous. Further, the ultraviolet lamp is expensive and has a shorter service life than general halogen lamps and mercury lamps.

【0011】(その他の問題点)コロナ放電では、処理
部分と放電部分が同じ雰囲気下である必要があり、完全
に隔離することは原理上できない。更に、コロナ放電、
すなわち、火花を発生させているため防爆仕様を必須と
する工程には当然ながら導入できない問題を有する。ま
た、紫外線は付着物以外の周辺機器や部材も劣化させ、
寿命を著しく低下させる問題を有する。
(Other Problems) In corona discharge, the treatment portion and the discharge portion need to be in the same atmosphere, and complete isolation cannot be performed in principle. Furthermore, corona discharge,
That is, since a spark is generated, it cannot be introduced into a process that requires explosion-proof specifications. In addition, ultraviolet light also deteriorates peripheral devices and members other than attached matter,
There is a problem that the life is significantly shortened.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、コロナ放電や紫外線照射によるロール表面
の付着物除去に比べて、処理能力、安全性、コスト等に
優れたロール付着物の除去装置を提供しようというもの
である。
The problem to be solved by the present invention is to remove the adhered substance on the roll surface by corona discharge or ultraviolet irradiation, and to improve the processing ability, safety, cost, etc. It is intended to provide a removing device.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者らが検討したと
ころ、ロール表面の付着物を赤外線により加熱すること
により、ロール表面の付着物除去が可能であり、さら
に、上記の課題が解決され得ることを見出した。
As a result of investigations by the present inventors, it is possible to remove the deposits on the roll surface by heating the deposits on the roll surface with infrared rays, and further solve the above-mentioned problems. I found that I got it.

【0014】すなわち、本発明は、フィルムを搬送する
ロールの表面に赤外線を照射し、付着物を加熱除去する
ことを特徴とするロール表面の付着物除去装置を提供す
る。
That is, the present invention provides an apparatus for removing deposits on a roll surface, which irradiates infrared rays to the surface of a roll for transporting a film and heats off the deposits.

【0015】好ましくは、前記赤外線のピーク波長は
2.8μm〜25μmである。
[0015] Preferably, the peak wavelength of the infrared ray is 2.8 to 25 µm.

【0016】また、好ましくは、赤外線の発生源はハロ
ゲンランプである。
[0016] Preferably, the source of infrared rays is a halogen lamp.

【0017】更に、本発明は、他の側面において、フィ
ルムを搬送するロールの表面に赤外線を照射し、付着物
を加熱除去しつつフィルムに成形加工を施すことを特徴
とする、フィルムの成形加工方法を提供する。
Further, in another aspect of the present invention, the surface of a roll for transporting the film is irradiated with infrared rays, and the film is subjected to a forming process while heating and removing the attached matter. Provide a way.

【0018】好ましくは、赤外線のピーク波長は2.8
μm〜25μmである。
Preferably, the peak wavelength of the infrared ray is 2.8.
μm to 25 μm.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】(製造及び加工方法)フィルムの
製造には、例えば、押出機で熱とせん断力により溶融さ
せた材料をT型ダイで幅広の溶融膜としロールに抱かせ
フィルム状に加工していくTダイ法や半溶融塑性状態に
ある材料を数本の加熱ロールで段階的に圧延するカレン
ダー法などがある。または、フィルムの加工には、フィ
ルムを加熱しながら延伸する延伸加工や、表面に凹凸等
の模様を転写させる表面加工、フィルムの表面に他の材
料を塗布する多層加工などがある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Production and Processing Method) In the production of a film, for example, a material melted by heat and shear force by an extruder is formed into a wide molten film by a T-type die and held in a roll to form a film. There are a T-die method for processing and a calendering method in which a material in a semi-molten plastic state is rolled stepwise by several heating rolls. Alternatively, examples of film processing include a stretching process in which the film is stretched while being heated, a surface process in which a pattern such as unevenness is transferred to the surface, and a multilayer process in which another material is applied to the surface of the film.

【0020】(付着物の生成原理)熱可塑性高分子材料
に添加している安定剤や物性、加工性改質剤の多くはそ
の沸点が加工温度よりかなり低いため、加工中に材料内
に添加した安定剤や可塑剤、滑剤等が蒸発、あるいは昇
華しガス状となりそれがロール面で固化し付着する。他
方、材料からブリードしロールに転写され付着する。ま
た、製造時の熱により材料が分解して生成した低分子量
物などもロール表面に経時的に堆積し汚れとなる。それ
らロールに付着した汚れは、いずれフィルム側に転写さ
れ、その汚れがフィルム加工時の他のロールにも転写さ
れる。このような橋渡し的にフィルムが触れるロール表
面には汚れが堆積して広まって行く。
(Principle of formation of deposits) Most of the stabilizers, physical properties, and processability modifiers added to the thermoplastic polymer material have boiling points much lower than the processing temperature, and are added to the material during processing. The stabilized stabilizer, plasticizer, lubricant and the like evaporate or sublime and become gaseous, which solidifies on the roll surface and adheres. On the other hand, it bleeds from the material and is transferred and adhered to the roll. Further, low-molecular-weight substances and the like generated by the decomposition of the material due to the heat at the time of production also accumulate on the roll surface over time and become soiled. Soil attached to these rolls is eventually transferred to the film side, and the stain is transferred to other rolls during film processing. Dirt accumulates and spreads on the roll surface that the film contacts in a bridging manner.

【0021】(赤外線による加熱の原理)分子は原子と
原子の結合からなっており、有機物はその分子が様々な
形で結合した集合体からなる。また、それらは原子間の
距離が変化する伸縮振動と分子間の結合方向が変化する
変角振動により絶えず振動しており、その振動は有機物
を構成している分子構造によって固有の振動数を示す。
この振動を固有振動、あるいは、固有振動数と呼んでい
る。これら有機物の固有振動数と同じ振動数の放射エネ
ルギーを与えると、一種の共鳴現象が生じ振動が活発化
し、結果的には有機物の温度が上昇する。方や振動数が
一致しない放射エネルギーについては共鳴は起こらず、
反射あるいは透過し放射エネルギーは物質内には吸収さ
れない。このことから、有機物の固有振動を調べ、それ
と一致する振動数の波長の放射エネルギーを与えること
で、有機物を発熱させることが出来る。また、各有機物
の固有振動数は、赤外線吸収スペクトルにより調べるこ
とができる。
(Principle of Heating by Infrared) Molecules are composed of atoms and atomic bonds, and organic substances are composed of aggregates of the molecules bonded in various forms. In addition, they are constantly vibrating due to stretching vibration in which the distance between atoms changes and bending vibration in which the bonding direction between molecules changes, and the vibration shows a unique frequency depending on the molecular structure of the organic matter .
This vibration is called natural vibration or natural frequency. When radiant energy having the same frequency as the natural frequency of these organic substances is given, a kind of resonance phenomenon occurs and the vibration is activated, and as a result, the temperature of the organic substances rises. Resonance does not occur for radiant energies whose frequency and frequency do not match,
Reflected or transmitted radiant energy is not absorbed in the substance. From this, the organic material can be heated by examining the natural vibration of the organic material and applying radiant energy having a wavelength corresponding to the natural frequency. Further, the natural frequency of each organic substance can be examined by an infrared absorption spectrum.

【0022】(付着物の赤外線吸収スペクトル)汚れの
発生原因から推測されるように付着物は有機物であり、
有機物の多くが3600〜2800cm-1と1750〜
400cm-1の吸収波数域に大きな吸収ピークを持つ。
下式1の換算式から、2.8〜3.6μmと5.7〜2
5μmに固有振動が集中していることがわかる。
(Infrared Absorption Spectra of Deposits) Deposits are organic as guessed from the cause of contamination,
Most organic matter is 3600-2800cm -1 and 1750-
It has a large absorption peak in the absorption wave number region of 400 cm -1 .
From the conversion formula of the following formula 1, 2.8 to 3.6 μm and 5.7 to 2
It can be seen that the natural vibration is concentrated at 5 μm.

【0023】[0023]

【数1】 (付着物の除去の原理)付着物は一旦ガス状態になった
ものがロール面で固化し付着することから、再び、付着
物を沸点以上に加熱しガス状態にすることで除去するこ
とができる。すなわち、付着物を加熱すれば良く、その
加熱方法として付着物の固有振動と一致する波長の放射
エネルギー(赤外線)を与えることで加熱、除去でき
る。また、有機物の固有振動が2μm〜4μmの領域
(中赤外線領域)の波長にあるのに対し、陶器、食品、
ガラスは4〜1000μmの領域(遠赤外線領域)に固
有振動があり、銅や半田、金属類は0.8〜2μmの領
域(近赤外線領域)に固有振動がある。これら固有振動
の違いを利用すれば(2μm〜4μmの領域の放射エネ
ルギーを与えれば)、有機物を選択的、且つ、効率的に
加熱することが出来る。
(Equation 1) (Principle of Removal of Deposits) Since the deposits, once in a gas state, solidify on the roll surface and adhere, the deposits can be removed again by heating the deposits to a boiling point or higher to bring them into a gaseous state. . That is, the attached matter may be heated, and as a heating method, heating and removal can be performed by applying radiant energy (infrared rays) having a wavelength coincident with the natural vibration of the attached matter. In addition, while the natural vibration of an organic substance is in the wavelength range of 2 μm to 4 μm (middle infrared range), pottery, food,
Glass has a natural vibration in a region of 4 to 1000 μm (far-infrared region), and copper, solder, and metals have a natural vibration in a region of 0.8 to 2 μm (near-infrared region). By utilizing the difference between these natural vibrations (by giving radiant energy in the range of 2 μm to 4 μm), the organic material can be selectively and efficiently heated.

【0024】(赤外線ランプ)赤外線領域の波長を放射
するランプとして、ハロゲンランプやニクロムヒータ
ー、セラミックヒーター、不透明石英ヒーターなどがあ
る。ウイーンの法則(放射波長のピークは放射体の絶対
温度に比例する)から、出力を制御することで放射波長
のピークは変えることが出来る。すなわち、放射体が高
温であるほど低波長の赤外線を放射することが可能であ
る。従って、放射体の種類によって最高温度が異なるた
め、ニクロムヒーター、セラミックヒーター、不透明石
英ヒーターが放射できる赤外線の波長は最短で3μmに
ピークを持つ波長であり、ハロゲンランプはより高温度
になるため、1μmにピークを持つ赤外線の放射が可能
である。先に述べた通り、有機物の固有振動は2μm〜
4μmの領域(中赤外線領域)の波長にあるので本発明
のロール表面の付着物除去装置にはハロゲンランプが好
ましく用いられる。
(Infrared Lamp) Examples of a lamp that emits a wavelength in the infrared region include a halogen lamp, a nichrome heater, a ceramic heater, and an opaque quartz heater. From Wien's law (the peak emission wavelength is proportional to the absolute temperature of the radiator), the peak emission wavelength can be changed by controlling the output. That is, the higher the temperature of the radiator, the lower the wavelength of infrared radiation can be emitted. Therefore, since the maximum temperature varies depending on the type of radiator, the wavelength of infrared light that can be emitted from the nichrome heater, the ceramic heater, and the opaque quartz heater is a wavelength having a peak at a minimum of 3 μm, and the halogen lamp has a higher temperature. Infrared radiation having a peak at 1 μm is possible. As described above, the natural vibration of the organic substance is 2 μm or more.
Since the wavelength is in the region of 4 μm (middle infrared region), a halogen lamp is preferably used in the apparatus for removing deposits on the roll surface of the present invention.

【0025】(ハロゲンランプ)ハロゲンランプは、ミ
ラー等で集光させることで処理部分を限定したり、処理
能力(加熱温度)を増幅させることができる。例えば、
100V、980Wのランプで集光させると、φ2mm
のスポット光で1200℃まで加熱が可能である。ま
た、その立ち上がり速度も非常に早く、1秒後で400
℃、2秒後で800℃、4秒後で1200℃に達する。
更に、これらの加熱調節は電力制御により任意に調整で
き、赤外センサーと組み合わせたシステムにより様々の
フィードバック制御が容易に構築できる。さらに、赤外
線は電磁波(光と同じ)であり、真空中や不活性ガス中
の加熱やガラス越しでの加熱も可能である。また、太陽
光と同じ波長のため人体への悪影響がなく安全である。
以下に、本発明を実施例により説明するが、本発明は実
施例に限定されるものではない。また、添加剤について
も代表的なものを抽出して実施したが、実施例に限定さ
れるものではない。
(Halogen lamp) The halogen lamp can condense the light with a mirror or the like to limit the processing portion or amplify the processing capability (heating temperature). For example,
When condensed with a lamp of 100V, 980W, φ2mm
It is possible to heat up to 1200 ° C. with the spot light. Also, the rising speed is very fast, and 400 seconds after one second.
The temperature reaches 800 ° C. after 2 seconds and 1200 ° C. after 4 seconds.
Further, these heating adjustments can be arbitrarily adjusted by power control, and various feedback controls can be easily constructed by a system combined with an infrared sensor. Furthermore, infrared rays are electromagnetic waves (same as light), and heating in vacuum, in an inert gas, or through glass is also possible. In addition, since it has the same wavelength as sunlight, there is no adverse effect on the human body and it is safe.
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples. In addition, typical additives were extracted and implemented, but are not limited to the examples.

【0026】(赤外線ランプの取り付け位置)赤外線ラ
ンプの取り付け位置は、代表的にはロールから40mm
程度離れた位置である。ロールから離しすぎると、反射
集光するためのミラーの曲率半径を大きくする必要が生
じて装置が大型化すると共に、直接放射される赤外線が
発散して集光率が低下するおそれがある。一方、ロール
に近づけすぎると、反射集光するためのミラーの曲率半
径を小さくしなければならず複雑な構造の集光ミラーを
採用する必要が生じるおそれがある。
(Mounting position of infrared lamp) The mounting position of the infrared lamp is typically 40 mm from the roll.
It is a position far away. If the roller is too far from the roll, it is necessary to increase the radius of curvature of the mirror for reflecting and condensing, so that the size of the apparatus is increased, and there is a possibility that the directly radiated infrared rays diverge to lower the condensing rate. On the other hand, if the mirror is too close to the roll, the radius of curvature of the mirror for reflecting and condensing must be reduced, which may require the use of a condensing mirror having a complicated structure.

【0027】また、ランプの幅がロール幅とほぼ一致す
る場合には、ランプを固定しても構わないが、広い幅の
ロールに対応する広幅ランプが入手できない場合など
は、幅方向にランプが往復するようにしても良い。多く
の場合、付着物は長時間の連続運転中に徐々に付着する
ものであるので、ランプの往復中に赤外線が当たらない
領域が瞬間的に発生しても特に問題とはならない。但
し、ロールの回転周期とランプの往復周期が一致するな
どした場合には、赤外線の全く当たらない部分が出来て
しまうので注意を要する。
If the width of the lamp substantially matches the roll width, the lamp may be fixed. However, if a wide lamp corresponding to a wide roll is not available, the lamp may be fixed in the width direction. It is also possible to make a round trip. In many cases, the deposits gradually adhere during continuous operation for a long period of time. Therefore, there is no particular problem even if a region where infrared rays do not shine during the reciprocation of the lamp is instantaneously generated. However, when the rotation cycle of the roll and the reciprocation cycle of the lamp coincide with each other, a portion to which infrared rays do not completely strike is formed, so care must be taken.

【0028】[0028]

【実施例】(組成)シクロオレフィン樹脂(日本ゼオン
製、ZEONOR1420R)100部に対し、添加剤
を0.4部添加した。尚、各添加剤は表1に示す。ま
た、代表的な添加剤の赤外線吸収スペクトルを図3〜5
に示す。
EXAMPLES (Composition) 0.4 part of an additive was added to 100 parts of a cycloolefin resin (ZEONOR1420R, manufactured by Zeon Corporation). In addition, each additive is shown in Table 1. FIGS. 3 to 5 show infrared absorption spectra of typical additives.
Shown in

【0029】[0029]

【表1】 (実験装置の構成)図1に実施例に用いた装置を示す
が、溶融した材料を幅広の溶融膜に押出すTダイ5と、
その膜を冷却及びフィルム状に成形するためのキャスト
ロール4及び、フィルム4が接触していないキャストロ
ール4部分に赤外線ランプ1が設置されている構成から
なる。
[Table 1] (Construction of Experimental Apparatus) FIG. 1 shows an apparatus used in the embodiment, and a T-die 5 for extruding a molten material into a wide molten film,
It has a configuration in which a cast roll 4 for cooling and forming the film into a film shape, and an infrared lamp 1 is installed on a portion of the cast roll 4 where the film 4 is not in contact.

【0030】(押出条件)シリンダー温度270℃、T
ダイ温度270℃、キャストロール温度130℃。ライ
ン速度、30m/分の条件でフィルムを作成した。
(Extrusion conditions) Cylinder temperature 270 ° C, T
Die temperature 270 ° C, cast roll temperature 130 ° C. A film was produced at a line speed of 30 m / min.

【0031】(赤外線ランプ)赤外線ランプとして実施
例1ではニクロムランプ、実施例2ではハイベック製ハ
ロゲンランプ(HYL25SERIES)を使用した。
(Infrared Lamp) As the infrared lamp, a nichrome lamp was used in Example 1, and a halogen lamp (HYL25SERIES) manufactured by Hivec was used in Example 2.

【0032】(実施例1)水準1〜9及び水準10〜1
9の添加剤を添加した各組成物を用いてフィルムを成形
した。尚、運転初期よりフィルムに接していないローラ
部分をニクロムランプにより赤外線を放射した。運転3
0分から1時間の間、キャストロールの汚れを観察した
が、全ての水準に於いて白い付着物は観察されなかっ
た。
(Example 1) Levels 1 to 9 and levels 10 to 1
A film was formed using each composition to which the nine additives were added. Incidentally, the roller portion not in contact with the film from the beginning of operation was irradiated with infrared rays by a nichrome lamp. Driving 3
From 0 minutes to 1 hour, stains on the cast roll were observed, but no white deposits were observed at all levels.

【0033】(実施例2)水準1〜9及び水準10〜1
9の添加剤を添加した各組成物を用いてフィルムを成形
した。その結果、30分から1時間の間でキャストロー
ルに白い付着物が観察された。その時点からフィルムに
接していないローラ部分をハロゲンランプで赤外線を放
射した。放射から数秒後にキャストロール上に存在して
いた白い付着物が全ての水準に於いて消失した。
(Embodiment 2) Levels 1 to 9 and levels 10 to 1
A film was formed using each composition to which the nine additives were added. As a result, a white deposit was observed on the cast roll between 30 minutes and 1 hour. From that point on, the roller portion not in contact with the film was irradiated with infrared light by a halogen lamp. A few seconds after the emission, the white deposits present on the cast roll disappeared at all levels.

【0034】(比較例)表1の水準1〜9及び水準10
〜19の添加剤を添加した各組成物を用いてフィルムを
成形した。ただし、キャストロールには、赤外線を放射
しなかった。その結果、30分から1時間の間でキャス
トロールに白い付着物が観察された。
(Comparative Example) Levels 1 to 9 and 10 in Table 1
A film was formed using each of the compositions to which the additives Nos. To 19 were added. However, the cast roll did not emit infrared light. As a result, a white deposit was observed on the cast roll between 30 minutes and 1 hour.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明を用いることで、付着物を瞬間に
加熱、昇華或いは、蒸発させることが可能であり、フィ
ルムの製造または、加工装置を停止させずに連続的に付
着物の除去が可能となる。また、本装置は、赤外線を用
いた非接触方式であり、且つ、赤外域の波長を吸収しな
い素材、例えば、ガラス等を用いることで発光部と処理
部(例えば、ロール部)を完全に隔離することが出来る
上、真空中あるいは、不活性ガス中であっても加熱が可
能である。更に、一般的な高分子有機物の固有振動は、
2〜4μmの領域の波長に集中しているのに対し、本装
置に用いられる赤外線ランプも同様の波長域の放射エネ
ルギーを発するため、ロール等の金属部分、あるいは、
セラミックスやガラスなどには放射エネルギーはほとん
ど吸収されず、有機物を選択的、且つ効率的に加熱する
ことができる。また、赤外線ランプは、ミラー等で集光
させることで処理部分を限定したり、スポット光にする
ことで処理能力(加熱温度)を増幅させることができ
る。具体的には、100V、980Wのランプで集光さ
せると、スポット部で1200℃まで加熱が可能であ
る。また、その立ち上がり速度も非常に早く、1秒後で
400℃、2秒後で800℃、4秒後で1200℃に達
し、従来法とは比較にならない程の処理能力を有する。
更に、これらの加熱調節は電力制御により任意に調整で
き、赤外センサーと組み合わせたシステムにより様々の
フィードバック制御が容易に構築できるメリットもあ
る。
According to the present invention, it is possible to instantaneously heat, sublimate, or evaporate the deposits, and it is possible to continuously remove the deposits without stopping the production or processing of the film. It becomes possible. In addition, this device is a non-contact type using infrared rays and uses a material that does not absorb wavelengths in the infrared range, such as glass, to completely separate the light emitting unit and the processing unit (eg, roll unit). In addition, heating is possible even in a vacuum or an inert gas. Furthermore, the natural vibration of a general polymer organic substance is
While the infrared lamp used in this device emits radiant energy in the same wavelength range while the wavelength is concentrated in the wavelength range of 2 to 4 μm, metal parts such as rolls, or
Radiant energy is hardly absorbed by ceramics, glass, and the like, and organic materials can be selectively and efficiently heated. In addition, the infrared lamp can limit the processing portion by condensing the light with a mirror or the like, or can amplify the processing capability (heating temperature) by forming a spot light. Specifically, when the light is focused by a lamp of 100 V and 980 W, it is possible to heat up to 1200 ° C. at the spot portion. In addition, the rising speed is very fast, reaching 400 ° C. after 1 second, reaching 800 ° C. after 2 seconds, and reaching 1200 ° C. after 4 seconds.
Furthermore, these heating adjustments can be arbitrarily adjusted by electric power control, and there is an advantage that various feedback controls can be easily constructed by a system combined with an infrared sensor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本装置の構成例を説明した図を示す。FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of the present apparatus.

【図2】 オゾンの生成と破壊のサイクルを説明した図
を示す
FIG. 2 shows a diagram illustrating a cycle of generation and destruction of ozone.

【図3】 有機化合物の赤外線吸収スペクトルの一例と
して、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール
の赤外線吸収スペクトルを示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol as an example of an infrared absorption spectrum of an organic compound.

【図4】 有機化合物の赤外線吸収スペクトルの一例と
して、ブチルヒドロキシトルエンの赤外線吸収スペクト
ルを示した図である。
FIG. 4 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of butylhydroxytoluene as an example of an infrared absorption spectrum of an organic compound.

【図5】 有機化合物の赤外線吸収スペクトルの一例と
して、4,4´−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチ
ルフェノール)の赤外線吸収スペクトルを示した図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of 4,4′-methylenebis (2,6-di-t-butylphenol) as an example of an infrared absorption spectrum of an organic compound.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 赤外線ランプ 2 付着物 3 フィルム 4 キャストロール 5 Tダイ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Infrared lamp 2 Adhered matter 3 Film 4 Cast roll 5 T die

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルムを搬送するロールの表面に赤外
線を照射し、付着物を加熱除去することを特徴とするロ
ール表面の付着物除去装置。
1. An apparatus for removing deposits on a roll surface, which irradiates infrared rays to the surface of a roll for transporting a film and removes the deposits by heating.
【請求項2】 赤外線のピーク波長が2.8μm〜25
μmであることを特徴とする請求項1記載のロール表面
の付着物除去装置。
2. The infrared light having a peak wavelength of 2.8 μm to 25 μm.
2. The apparatus for removing deposits on a roll surface according to claim 1, wherein the thickness is μm.
【請求項3】 赤外線の発生源がハロゲンランプである
ことを特徴とする請求項1または2記載のロール表面の
付着物除去装置。
3. The apparatus for removing deposits on a roll surface according to claim 1, wherein a source of infrared rays is a halogen lamp.
【請求項4】 フィルムを搬送するロールの表面に赤外
線を照射し、付着物を加熱除去しつつフィルムに成形加
工を施すことを特徴とする、フィルムの成形加工方法。
4. A method for forming a film, comprising irradiating the surface of a roll for transporting the film with infrared rays, and forming the film while heating and removing attached matter.
【請求項5】 赤外線のピーク波長が2.8μm〜25
μmであることを特徴とする請求項4記載のフィルムの
成形加工方法。
5. The infrared light having a peak wavelength of 2.8 μm to 25.
5. The method according to claim 4, wherein the thickness is μm.
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