JP2002208113A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁極部分より発生される、記録媒体の面に垂
直な方向の磁界を大きくし、且つ磁路長を短縮して高周
波特性を向上させる。 【解決手段】 薄膜磁気ヘッドは、第１の磁性層８およ
び第２の磁性層１４と、第１の磁性層８と第２の磁性層
１４との間に設けられたギャップ層９と、媒体対向面Ａ
ＢＳから離れた位置において第１の磁性層８と第２の磁
性層１４とを磁気的に連結する連結部１２と、一部が第
１の磁性層８および第２の磁性層１４の間に設けられた
薄膜コイル１０とを備えている。第２の磁性層１４は、
磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂとを有してい
る。磁極部分層１４Ａの飽和磁束密度は、ヨーク部分層
１４Ｂの飽和磁束密度以上になっている。ヨーク部分層
１４Ｂは、連結部１２の上端部と磁極部分層１４Ａの後
端面とを磁気的に接続している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装
置、磁気テープ装置等の磁気記録再生装置に使用される
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録再生装置における記録方式に
は、信号磁化の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）
とする長手磁気記録方式と、信号磁化の向きを記録媒体
の面に対して垂直な方向とする垂直磁気記録方式とがあ
る。垂直磁気記録方式は、長手磁気記録方式に比べて、
記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、高い線記録密
度を実現することが可能であると言われている。

【０００３】長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドは、
一般的に、記録媒体に対向する媒体対向面（エアベアリ
ング面）と、互いに磁気的に連結され、媒体対向面側に
おいてギャップ部を介して互いに対向する磁極部分を含
む第１および第２の磁性層と、少なくとも一部が第１お
よび第２の磁性層の間に、第１および第２の磁性層に対
して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備えた
構造になっている。

【０００４】一方、垂直磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッ
ドには、長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドと同様の
構造のリングヘッドと、一つの主磁極によって記録媒体
に対して垂直方向の磁界を印加する単磁極ヘッドとがあ
る。単磁極ヘッドを用いる場合には、記録媒体としては
一般的に、基板上に軟磁性層と磁気記録層とを積層した
２層媒体が用いられる。

【０００５】ところで、薄膜磁気ヘッドでは、トラック
密度を上げるためにトラック幅の縮小が望まれている。
そして、記録媒体に印加される磁界の強度を低下させる
ことなくトラック幅を縮小するために、磁極部分を含む
磁性層を、磁極部分と、この磁極部分に対して磁気的に
接続されたヨーク部分とに分け、磁極部分の飽和磁束密
度をヨーク部分の飽和磁束密度よりも大きくした薄膜磁
気ヘッドも種々提案されている。

【０００６】上述のように、磁極部分を含む磁性層を、
磁極部分とヨーク部分とに分けた構造の薄膜磁気ヘッド
の例は、特開２０００−５７５２２号公報、特開２００
０−６７４１３号公報、特開平１１−１０２５０６号公
報等に示されている。

【０００７】上記の各公報に示された薄膜磁気ヘッドで
は、いずれも、第１の磁性層と第２の磁性層のうち、記
録媒体の進行方向の前側（薄膜磁気ヘッドを含むスライ
ダにおける空気流出端側）に配置された第２の磁性層
が、磁極部分とヨーク部分とに分けられている。

【０００８】また、上記の各公報に示された薄膜磁気ヘ
ッドでは、いずれも、ヨーク部分は、第１の磁性層と第
２の磁性層との磁気的な接続部分から磁極部分まで、コ
イルを迂回するように配置されている。

【０００９】特開２０００−５７５２２号公報に示され
た薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性層は、主磁性膜と補
助磁性膜とを有している。このヘッドでは、主磁性膜の
媒体対向面側の一部によって磁極部分が構成され、主磁
性膜の他の部分と補助磁性膜とによってヨーク部分が構
成されている。

【００１０】特開２０００−６７４１３号公報に示され
た薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性層は、磁極部分を含
む磁極部分層と、ヨーク部分を含むヨーク部分層とを有
している。磁極部分層は、その後端面（媒体対向面とは
反対側の面）、側面（媒体対向面およびギャップ部の面
に垂直な面）および上面（ギャップ部とは反対側の面）
でヨーク部分層と磁気的に接続されている。

【００１１】特開平１１−１０２５０６号公報に示され
た薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性層は、磁極部分を含
む磁極部分層と、ヨーク部分を含むヨーク部分層とを有
している。磁極部分層は、その側面および上面でヨーク
部分層と磁気的に接続されている。

【００１２】一方、垂直磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッ
ドに関しては、「日経エレクトロニクス２０００年９月
２５日号（ｎｏ．７７９），ｐ．２０６」における図２
に、単磁極ヘッドの構造の一例が示されている。このヘ
ッドでは、主磁極を含む磁性層は単層になっている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】例えば６０ギガビット
／（インチ）²以上のような大きな面記録密度を有する
磁気記録再生装置を実現しようとする場合には、垂直磁
気記録方式を採用することが有望視されている。しかし
ながら、垂直磁気記録方式に適した薄膜磁気ヘッドであ
って、６０ギガビット／（インチ）²以上のような大き
な面記録密度を有する磁気記録再生装置を実現するため
の性能を有するヘッドは実現できていない。それは、従
来の薄膜磁気ヘッドが以下で説明するような問題点を有
しているためである。

【００１４】まず、前記の各公報に示された薄膜磁気ヘ
ッドは、いずれも、構造上、長手磁気記録方式用のヘッ
ドであり、垂直磁気記録方式には適していない。具体的
に説明すると、各公報に示された薄膜磁気ヘッドでは、
いずれも、ギャップ部の厚みが小さいと共にスロートハ
イトが短く、ヨーク部分はコイルを迂回するように配置
された構造であるため、磁極部分より発生される、記録
媒体の面に垂直な方向の磁界が小さいという問題点があ
る。また、前記の各公報に示された薄膜磁気ヘッドで
は、いずれも、第２の磁性層の磁極部分をパターニング
するためのエッチングや磁極部分の形成後の工程の影響
で、磁極部分のギャップ部とは反対側のエッジが湾曲し
やすい。そのため、前記の各公報に示された薄膜磁気ヘ
ッドでは、記録媒体におけるビットパターン形状に歪み
が生じ、そのため線記録密度を高めることが難しいとい
う問題点がある。また、前記の各公報に示された薄膜磁
気ヘッドでは、いずれも、ヨーク部分はコイルを迂回す
るように配置された構造であるため、磁路長が長くな
り、そのため高周波特性が悪化するという問題点があ
る。

【００１５】また、特開平１１−１０２５０６号公報に
示された薄膜磁気ヘッドでは、磁極部分層は、その側面
および上面でのみヨーク部分層と磁気的に接続されてい
る。そのため、このヘッドでは、磁極部分層とヨーク部
分層との磁気的な接続部分の面積が小さく、そのため、
この接続部分において磁束が飽和して、媒体対向面にお
いて磁極部分より発生される磁界が小さくなるという問
題点がある。

【００１６】一方、「日経エレクトロニクス２０００年
９月２５日号（ｎｏ．７７９），ｐ．２０６」における
図２に示された薄膜磁気ヘッドでは、主磁極を含む磁性
層は単層になっている。このヘッドでは、媒体対向面に
おける磁性層の厚みを小さくするために、磁性層全体が
薄くなっている。そのため、このヘッドでは、磁性層の
途中で磁束が飽和しやすく、媒体対向面において主磁極
より発生される磁界が小さくなるという問題点がある。
また、このヘッドでは、主磁極を平坦化する必要性を考
えたとき、磁性層全体を平坦化しなければならず、その
ため、このヘッドでは、磁路は四角く、長くなってい
る。このような構造は、磁界強度および高周波特性の観
点から非効率的である。

【００１７】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、磁極部分より発生される、記録媒体
の面に垂直な方向の磁界を大きくでき、且つ磁路長を短
縮して高周波特性を向上させることができるようにした
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することにあ
る。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行
方向の前後に所定の間隔を開けて互いに対向するように
配置された磁極部分を含む第１および第２の磁性層と、
非磁性材料よりなり、第１の磁性層と第２の磁性層との
間に設けられたギャップ層と、媒体対向面から離れた位
置において第１の磁性層と第２の磁性層とを磁気的に連
結する連結部と、少なくとも一部が第１および第２の磁
性層の間に、第１および第２の磁性層に対して絶縁され
た状態で設けられた薄膜コイルとを備え、薄膜コイルの
少なくとも一部の第２の磁性層側の面は、媒体対向面に
おけるギャップ層の第２の磁性層側の端部の位置および
連結部の第２の磁性層側の端部の位置よりも第１の磁性
層側の位置に配置され、第２の磁性層は、磁極部分を含
み、媒体対向面における幅がトラック幅を規定する磁極
部分層と、ヨーク部分となるヨーク部分層とを有し、磁
極部分層の飽和磁束密度は、ヨーク部分層の飽和磁束密
度以上であり、ヨーク部分層は、連結部の第２の磁性層
側の端部と磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面と
を磁気的に接続するものである。

【００１９】本発明の薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性
層が磁極部分層とヨーク部分層とを有し、ヨーク部分層
は、磁極部分層に磁束を導くための十分な体積を有し、
また、磁極部分層の飽和磁束密度がヨーク部分層の飽和
磁束密度以上であることから、第２の磁性層の途中にお
ける磁束の飽和を防止することができる。また、本発明
では、薄膜コイルの少なくとも一部の第２の磁性層側の
面が、媒体対向面におけるギャップ層の第２の磁性層側
の端部の位置および連結部の第２の磁性層側の端部の位
置よりも第１の磁性層側の位置に配置され、ヨーク部分
層は、連結部の第２の磁性層側の端部と磁極部分層の媒
体対向面とは反対側の端面とを磁気的に接続するので、
ヨーク部分層は、連結部と磁極部分層との間に短い磁気
経路で且つ強い磁気的結合を形成することができる。こ
れらのことから、本発明では、磁極部分より発生され
る、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくし、且つ
磁路長を短縮して高周波特性を向上させることが可能に
なる。

【００２０】本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、第１の
磁性層は記録媒体の進行方向の後側に配置され、第２の
磁性層は記録媒体の進行方向の前側に配置されてもよ
い。

【００２１】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ヨーク部分層は、その内部において連結部の第２の磁性
層側の端部と磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面
との間を最短距離で結ぶ磁気経路が形成されるような形
状を有していてもよい。

【００２２】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
媒体対向面における磁極部分層と第１の磁性層との間の
距離は、連結部の厚み以上であってもよい。この場合、
ヨーク部分層は、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の
端面との接続位置から連結部との接続位置にかけて、徐
々に第１の磁性層に近づいていてもよい。

【００２３】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ヨーク部分層の少なくとも一部は、第１の磁性層側に突
出する弧状に形成されていてもよい。

【００２４】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ヨーク部分層は、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の
端面と磁極部分層の幅方向の両側面とに磁気的に接続さ
れていてもよい。

【００２５】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ヨーク部分層の媒体対向面側の端部は、媒体対向面から
離れた位置に配置されていてもよい。

【００２６】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
磁極部分層のヨーク部分層と接する部分の幅は、磁極部
分層の媒体対向面における幅よりも大きくてもよい。

【００２７】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
媒体対向面から磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端
面までの長さは２μｍ以上であってもよい。

【００２８】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
更に、磁極部分層のギャップ層とは反対側の面に接する
非磁性層を備えていてもよい。この場合、非磁性層は媒
体対向面に露出していてもよい。また、ヨーク部分層の
一部は、非磁性層を介して磁極部分層のギャップ層とは
反対側の面に隣接し、非磁性層を介して磁極部分層に磁
気的に接続されていてもよい。また、非磁性層は、磁極
部分層を構成する材料よりもドライエッチングに対する
エッチング速度が小さい材料よりなっていてもよい。

【００２９】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
薄膜コイルの少なくとも一部は、第１の磁性層と第２の
磁性層の中間の位置よりも第１の磁性層に近い位置に配
置されていてもよい。

【００３０】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ギャップ層は、形成時に流動性を有する材料よりなり、
少なくとも薄膜コイルの少なくとも一部の巻線間に充填
される第１の部分と、第１の部分よりも耐食性、剛性お
よび絶縁性が優れた材料よりなり、薄膜コイルの少なく
とも一部および第１の部分を覆い、第１の磁性層、第２
の磁性層および連結部に接する第２の部分とを有してい
てもよい。この場合、第１の部分は、有機系の非導電性
非磁性材料またはスピンオングラス膜よりなっていても
よい。また、第２の部分は、無機系の非導電性非磁性材
料よりなっていてもよい。

【００３１】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
更に、再生素子としての磁気抵抗効果素子を備えていて
もよい。この場合、更に、媒体対向面側の一部が磁気抵
抗効果素子を挟んで対向するように配置された、磁気抵
抗効果素子をシールドするための第１および第２のシー
ルド層を備えていてもよい。また、第１の磁性層は第２
のシールド層を兼ねていてもよい。

【００３２】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、垂直磁
気記録方式に用いられるものであってもよい。

【００３３】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、記
録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行方向の
前後に所定の間隔を開けて互いに対向するように配置さ
れた磁極部分を含む第１および第２の磁性層と、非磁性
材料よりなり、第１の磁性層と第２の磁性層との間に設
けられたギャップ層と、媒体対向面から離れた位置にお
いて第１の磁性層と第２の磁性層とを磁気的に連結する
連結部と、少なくとも一部が第１および第２の磁性層の
間に、第１および第２の磁性層に対して絶縁された状態
で設けられた薄膜コイルとを備え、第２の磁性層は、磁
極部分を含み、媒体対向面における幅がトラック幅を規
定する磁極部分層と、ヨーク部分となるヨーク部分層と
を有し、磁極部分層の飽和磁束密度がヨーク部分層の飽
和磁束密度以上である薄膜磁気ヘッドを製造する方法で
あって、第１の磁性層を形成する工程と、薄膜コイルの
少なくとも一部の第２の磁性層側の面が、媒体対向面に
おけるギャップ層の第２の磁性層側の端部の位置および
連結部の第２の磁性層側の端部の位置よりも第１の磁性
層側の位置に配置されるように、第１の磁性層の上にギ
ャップ層、連結部および薄膜コイルを形成する工程と、
ギャップ層および連結部の上に第２の磁性層を形成する
工程とを備え、第２の磁性層を形成する工程は、ギャッ
プ層の上に磁極部分層を形成する工程と、ヨーク部分層
によって連結部の第２の磁性層側の端部と磁極部分層の
媒体対向面とは反対側の端面とが磁気的に接続されるよ
うに、ギャップ層および連結部の上にヨーク部分層を形
成する工程とを含むものである。

【００３４】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、
第２の磁性層が磁極部分層とヨーク部分層とを有し、ヨ
ーク部分層は、磁極部分層に磁束を導くための十分な体
積を有し、また、磁極部分層の飽和磁束密度がヨーク部
分層の飽和磁束密度以上となることから、第２の磁性層
の途中における磁束の飽和を防止することができる。ま
た、本発明では、薄膜コイルの少なくとも一部の第２の
磁性層側の面が、媒体対向面におけるギャップ層の第２
の磁性層側の端部の位置および連結部の第２の磁性層側
の端部の位置よりも第１の磁性層側の位置に配置され、
ヨーク部分層は、連結部の第２の磁性層側の端部と磁極
部分層の媒体対向面とは反対側の端面とを磁気的に接続
するので、ヨーク部分層は、連結部と磁極部分層との間
に短い磁気経路で且つ強い磁気的結合を形成することが
できる。これらのことから、本発明では、磁極部分より
発生される、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きく
し、且つ磁路長を短縮して高周波特性を向上させること
が可能になる。

【００３５】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法におい
て、磁極部分層を形成する工程は、ギャップ層および連
結部の上に、磁極部分層を構成する材料よりなる被エッ
チング層を形成する工程と、被エッチング層をドライエ
ッチングによって選択的にエッチングして、磁極部分層
の外形を決定すると共に連結部を露出させる工程とを含
んでいてもよい。

【００３６】この場合、磁極部分層を形成する工程は、
更に、被エッチング層を形成する工程の後で、研磨によ
り、被エッチング層の上面を平坦化する工程を含んでい
てもよい。また、磁極部分層を形成する工程は、更に、
被エッチング層を形成する工程の前に、研磨により、被
エッチング層の下地を平坦化する工程を含んでいてもよ
い。また、磁極部分層を形成する工程は、更に、被エッ
チング層を形成する工程の後で、被エッチング層の上に
非磁性層を形成する工程と、非磁性層の上に、磁極部分
層の形状に対応したマスクを形成する工程とを含み、被
エッチング層をエッチングする工程は、マスクを用い
て、非磁性層および被エッチング層をエッチングしても
よい。マスクを形成する工程は、非磁性層の上に、磁極
部分層の形状に対応した空隙部を有するレジストフレー
ムを形成し、このレジストフレームの空隙部内にマスク
を形成してもよい。

【００３７】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、ヨーク部分層は電気めっき法によって形成さ
れてもよい。この場合、ヨーク部分層を形成する工程
は、磁極部分層における媒体対向面側の一部を覆うレジ
ストカバーを形成する工程と、レジストカバー、磁極部
分層、ギャップ層および連結部の上に、電気めっき法の
ための電極層を形成する工程と、電極層を用いて、電気
めっき法によってヨーク部分層を形成する工程とを含ん
でもよい。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の一実
施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図であ
る。なお、図１は媒体対向面および基板の面に垂直な断
面を示している。また、図１において記号Ｔで示す矢印
は、記録媒体の進行方向を表している。図２は図１に示
した薄膜磁気ヘッドの要部を示す斜視図である。図３は
図２における磁極部分の近傍を拡大して示す斜視図であ
る。図４は図１に示した薄膜磁気ヘッドの媒体対向面の
一部を示す正面図である。図５は図４における磁極部分
層および非磁性層を拡大して示す正面図である。

【００３９】図１に示したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、アルティック（Ａｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ）
等のセラミック材料よりなる基板１と、この基板１の上
に形成されたアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）等の絶縁材料よりな
る絶縁層２と、この絶縁層２の上に形成された磁性材料
よりなる下部シールド層３と、この下部シールド層３の
上に、絶縁層４を介して形成された再生素子としてのＭ
Ｒ（磁気抵抗効果）素子５と、このＭＲ素子５の上に絶
縁層４を介して形成された磁性材料よりなる上部シール
ド層６とを備えている。下部シールド層３および上部シ
ールド層６の厚みは、それぞれ例えば１〜２μｍであ
る。

【００４０】ＭＲ素子５の一端部は、媒体対向面（エア
ベアリング面）ＡＢＳに配置されている。ＭＲ素子５に
は、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大
磁気抵抗効果）素子あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗
効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子
を用いることができる。

【００４１】薄膜磁気ヘッドは、更に、上部シールド層
６の上に形成された非磁性層７と、この非磁性層７の上
に形成された磁性材料よりなる第１の磁性層８と、この
第１の磁性層８の上において薄膜コイル１０を形成すべ
き位置に形成された絶縁層９Ａと、この絶縁層９Ａの上
に形成された薄膜コイル１０と、少なくとも薄膜コイル
１０の巻線間に充填された絶縁層９Ｂとを備えている。
絶縁層９Ａには、媒体対向面ＡＢＳから離れた位置にお
いて、コンタクトホール９ａが形成されている。

【００４２】第１の磁性層８の厚みは例えば１〜２μｍ
である。第１の磁性層８を構成する磁性材料は、例えば
鉄−ニッケル系合金すなわちパーマロイでもよいし、後
述するような高飽和磁束密度材でもよい。

【００４３】絶縁層９Ａは、アルミナ等の非導電性且つ
非磁性の材料よりなり、その厚みは例えば０．１〜１μ
ｍである。

【００４４】薄膜コイル１０は、銅等の導電性の材料よ
りなり、その巻線の厚みは例えば０．３〜２μｍであ
る。薄膜コイル１０の巻数は任意であり、巻線のピッチ
も任意である。ここでは、一例として、薄膜コイル１０
の巻線の厚みを１．３μｍ、巻線の幅を０．８μｍ、巻
線のピッチを１．３μｍ、巻数を８とする。

【００４５】絶縁層９Ｂは、形成時に流動性を有する非
導電性且つ非磁性の材料よりなる。具体的には、絶縁層
９Ｂは、例えば、フォトレジスト（感光性樹脂）のよう
な有機系の非導電性非磁性材料によって形成してもよい
し、塗布ガラスよりなるスピンオングラス（ＳＯＧ）膜
で形成してもよい。

【００４６】薄膜磁気ヘッドは、更に、コンタクトホー
ル９ａが形成された位置において第１の磁性層８の上に
形成された磁性材料よりなる連結部１２と、薄膜コイル
１０、絶縁層９Ａおよび絶縁層９Ｂを覆うように形成さ
れた絶縁層９Ｃとを備えている。薄膜コイル１０は、連
結部１２の回りに巻回されている。

【００４７】連結部１２の形状は、例えば、厚みが２〜
４μｍ、奥行き（媒体対向面ＡＢＳに垂直な方向の長
さ）が２〜１０μｍ、幅が５〜２０μｍである。連結部
１２を構成する磁性材料は、例えば鉄−ニッケル系合金
すなわちパーマロイでもよいし、後述するような高飽和
磁束密度材でもよい。

【００４８】絶縁層９Ｃは、絶縁層９Ｂよりも耐食性、
剛性および絶縁性が優れた非導電性且つ非磁性の材料よ
りなる。このような材料としては、アルミナやシリコン
酸化物（ＳｉＯ₂）等の無機系の非導電性非磁性材料を
用いることができる。媒体対向面ＡＢＳにおける絶縁層
９Ａおよび絶縁層９Ｃの合計の厚みは、例えば２〜４μ
ｍである。また、この厚みは、連結部１２の厚み以上と
する。

【００４９】絶縁層９Ａ，９Ｂ，９Ｃは、第１の磁性層
８と後述する第２の磁性層１４との間に設けられるギャ
ップ層９を構成する。絶縁層９Ｂは本発明におけるギャ
ップ層の第１の部分に対応し、絶縁層９Ａ，９Ｃは本発
明におけるギャップ層の第２の部分に対応する。

【００５０】薄膜磁気ヘッドは、更に、媒体対向面ＡＢ
Ｓから少なくとも連結部１２まで、絶縁層９Ｃおよび連
結部１２の上に形成された磁性材料よりなる第２の磁性
層１４を備えている。第２の磁性層１４は、磁極部分を
含む磁極部分層１４Ａと、ヨーク部分となるヨーク部分
層１４Ｂとを有している。磁極部分層１４Ａは、媒体対
向面ＡＢＳから、媒体対向面ＡＢＳと連結部１２との間
の所定の位置にかけて、絶縁層９Ｃの上に形成されてい
る。ヨーク部分層１４Ｂは、連結部１２の第２の磁性層
１４側の端部（以下、上端部と言う。）と磁極部分層１
４Ａの媒体対向面ＡＢＳとは反対側の端面（以下、後端
面と言う。）とを磁気的に接続する。また、ヨーク部分
層１４Ｂは、その内部において連結部１２の上端部と磁
極部分層１４Ａの後端面との間を最短距離で結ぶ磁気経
路２０が形成されるような形状を有している。薄膜磁気
ヘッドは、更に、磁極部分層１４Ａの上に形成された非
磁性層１５を備えている。ヨーク部分層１４Ｂの媒体対
向面ＡＢＳ側の一部は、非磁性層１５を介して磁極部分
層１４Ａの上面に隣接し、非磁性層１５を介して磁極部
分層１４Ａに磁気的に接続されている。薄膜磁気ヘッド
は、更に、アルミナ等の非導電性且つ非磁性の材料より
なり、第２の磁性層１４を覆うように形成された保護層
１７を備えている。

【００５１】薄膜コイル１０の第２の磁性層１４側の面
は、媒体対向面ＡＢＳにおけるギャップ層９の第２の磁
性層１４側の端部（絶縁層９Ｃの磁性層１４側の端部）
の位置よりも第１の磁性層８側の位置に配置されてい
る。

【００５２】磁極部分層１４Ａの厚みは、好ましくは
０．１〜０．８μｍであり、更に好ましくは０．３〜
０．８μｍである。ここでは、一例として、磁極部分層
１４Ａの厚みを０．５μｍとする。また、媒体対向面Ａ
ＢＳから磁極部分層１４Ａの後端面までの長さは２μｍ
以上である。ここでは、一例として、この長さを１０μ
ｍとする。

【００５３】図３に示したように、磁極部分層１４Ａ
は、媒体対向面ＡＢＳ側に配置された第１の部分１４Ａ
₁と、この第１の部分１４Ａ₁よりも媒体対向面ＡＢＳか
ら離れた位置に配置された第２の部分１４Ａ₂とを含ん
でいる。第１の部分１４Ａ₁は、第２の磁性層１４にお
ける磁極部分となる。第１の磁性層８における磁極部分
は、第１の磁性層８のうちギャップ層９を介して上記第
１の部分１４Ａ₁に対向する部分を含む。

【００５４】第１の部分１４Ａ₁は、トラック幅と等し
い幅を有している。すなわち、第１の部分１４Ａ₁の媒
体対向面ＡＢＳにおける幅がトラック幅を規定してい
る。第２の部分１４Ａ₂の幅は、第１の部分１４Ａ₁との
境界位置では第１の部分１４Ａ ₁の幅と等しく、その位
置から媒体対向面ＡＢＳより遠ざかる程、徐々に大きく
なった後、一定の大きさになっている。ヨーク部分層１
４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、非磁性層１５を介
して磁極部分層１４Ａの第２の部分１４Ａ₂の上に重な
っている。

【００５５】第１の部分１４Ａ₁の媒体対向面ＡＢＳに
おける幅、すなわちトラック幅は、好ましくは０．５μ
ｍ以下であり、更に好ましくは０．３μｍ以下である。
ヨーク部分層１４Ｂと重なる部分における第２の部分１
４Ａ₂の幅は、第１の部分１４Ａ₁の媒体対向面ＡＢＳに
おける幅よりも大きく、例えば２μｍ以上である。

【００５６】ヨーク部分層１４Ｂの厚みは、例えば１〜
２μｍである。ヨーク部分層１４Ｂは、図１に示したよ
うに、磁極部分層１４Ａの後端面に磁気的に接続されて
いると共に、図３に示したように、磁極部分層１４Ａの
幅方向の両側面に磁気的に接続されている。また、ヨー
ク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端部は、媒体対
向面ＡＢＳから例えば１．５μｍ以上離れた位置に配置
されている。

【００５７】磁極部分層１４Ａの飽和磁束密度は、ヨー
ク部分層１４Ｂの飽和磁束密度以上となっている。磁極
部分層１４Ａを構成する磁性材料としては、飽和磁束密
度が１．４Ｔ以上の高飽和磁束密度材を用いるのが好ま
しい。高飽和磁束密度材としては、鉄および窒素原子を
含む材料、鉄、ジルコニアおよび酸素原子を含む材料、
鉄およびニッケル元素を含む材料等を用いることができ
る。具体的には、高飽和磁束密度材としては、例えば、
ＮｉＦｅ（Ｎｉ：４５重量％，Ｆｅ：５５重量％）、Ｆ
ｅＮやその化合物、Ｃｏ系アモルファス合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ、Ｆｅ−Ｍ（必要に応じてＯ（酸素原子）も含
む。）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ（必要に応じてＯ（酸素原子）
も含む。）の中のうちの少なくとも１種類を用いること
ができる。ここで、Ｍは、Ｎｉ，Ｎ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉ，Ａ
ｌ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｃｕ（いず
れも化学記号）の中から選択された少なくとも１種類で
ある。

【００５８】ヨーク部分層１４Ｂを構成する磁性材料と
しては、例えば、飽和磁束密度が１．０Ｔ程度となる鉄
およびニッケル元素を含む材料を用いることができる。
このような材料は、耐食性に優れ、且つ磁極部分層１４
Ａを構成する材料よりも高抵抗である。また、このよう
な材料を用いることにより、ヨーク部分層１４Ｂの形成
が容易になる。

【００５９】また、ヨーク部分層１４Ｂを構成する磁性
材料としては、磁極部分層１４Ａを構成する磁性材料と
同じ組成系のものを用いることもできる。この場合に
は、ヨーク部分層１４Ｂの飽和磁束密度を、磁極部分層
１４Ａの飽和磁束密度よりも小さくするために、ヨーク
部分層１４Ｂを構成する磁性材料としては、磁極部分層
１４Ａを構成する磁性材料に比べて、鉄原子の組成比の
小さい材料を用いるのが好ましい。

【００６０】非磁性層１５の平面的な形状は、磁極部分
層１４Ａと同様である。また、非磁性層１５は、媒体対
向面ＡＢＳに露出している。非磁性層１５の厚みは、好
ましくは０．５μｍ以下である。ここでは、一例とし
て、非磁性層１５の厚みを０．３μｍとする。また、非
磁性層１５は、省くことも可能である。

【００６１】非磁性層１５を構成する材料としては、例
えば、チタンまたはタンタルを含む材料（合金および酸
化物を含む。）や、アルミナやシリコン酸化物（ＳｉＯ
₂）等の無機系の非導電性非磁性材料を用いることがで
きる。また、磁極部分層１４Ａをドライエッチングによ
って形成する場合には、非磁性層１５を構成する材料と
して、磁極部分層１４Ａを構成する材料、およびギャッ
プ層９のうちの磁極部分層１４Ａに接する絶縁層９Ｃを
構成する材料よりもドライエッチングに対するエッチン
グ速度が小さい材料を用いるのが好ましい。このような
材料としては、例えばチタンまたはタンタルを含む材料
（合金および酸化物を含む。）を用いることができる。

【００６２】図４および図５に示したように、媒体対向
面ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａの面の形状は、長
方形でもよいし、記録媒体の進行方向Ｔの後側（スライ
ダにおける空気流入端側）に配置される下辺が上辺より
も小さい台形または三角形でもよい。また、磁極部分層
１４Ａの側面は凹面でもよい。また、媒体対向面ＡＢＳ
に露出する磁極部分層１４Ａの面における側辺と基板１
の面とのなす角度は８０〜８８゜が好ましい。

【００６３】以上説明したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面ＡＢ
Ｓと再生ヘッドと記録ヘッドとを備えている。再生ヘッ
ドは、再生素子としてのＭＲ素子５と、媒体対向面ＡＢ
Ｓ側の一部がＭＲ素子５を挟んで対向するように配置さ
れた、ＭＲ素子５をシールドするための下部シールド層
３および上部シールド層６を備えている。

【００６４】記録ヘッドは、媒体対向面ＡＢＳ側におい
て記録媒体の進行方向Ｔの前後に所定の間隔を開けて互
いに対向するように配置された磁極部分を含む第１の磁
性層８および第２の磁性層１４と、非磁性材料よりな
り、第１の磁性層８と第２の磁性層１４との間に設けら
れたギャップ層９と、媒体対向面ＡＢＳから離れた位置
において第１の磁性層８と第２の磁性層１４とを磁気的
に連結する連結部１２と、少なくとも一部が第１の磁性
層８および第２の磁性層１４の間に、これらの磁性層
８，１４に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイ
ル１０とを備えている。

【００６５】本実施の形態では、薄膜コイル１０のうち
磁性層８，１４の間に配置された部分の第２の磁性層１
４側の面（図１における上側の面）は、媒体対向面ＡＢ
Ｓにおけるギャップ層９の第２の磁性層１４側の端部
（図１における上側の端部）の位置よりも第１の磁性層
８側（図１における下側）の位置に配置されている。

【００６６】また、第２の磁性層１４は、磁極部分を含
み、媒体対向面ＡＢＳにおける幅がトラック幅を規定す
る磁極部分層１４Ａと、ヨーク部分となるヨーク部分層
１４Ｂとを有している。磁極部分層１４Ａの飽和磁束密
度は、ヨーク部分層１４Ｂの飽和磁束密度以上となって
いる。ヨーク部分層１４Ｂは、連結部１２の上端部と磁
極部分層１４Ａの後端面とを磁気的に接続している。

【００６７】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドは、垂
直磁気記録方式に用いるのに適している。この薄膜磁気
ヘッドを垂直磁気記録方式に用いる場合、第２の磁性層
１４の磁極部分層１４Ａにおける第１の部分１４Ａ₁が
主磁極となり、第１の磁性層８の磁極部分が補助磁極と
なる。なお、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドを垂直
磁気記録方式に用いる場合には、記録媒体としては２層
媒体と単層媒体のいずれをも使用することが可能であ
る。

【００６８】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドでは、
第２の磁性層１４が磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１
４Ｂとを有し、ヨーク部分層１４Ｂは、磁極部分層１４
Ａに磁束を導くための十分な体積を有し、また、磁極部
分層１４Ａの飽和磁束密度がヨーク部分層１４Ｂの飽和
磁束密度以上であることから、第２の磁性層１４の途中
における磁束の飽和を防止することができる。

【００６９】また、本実施の形態では、薄膜コイル１０
のうち磁性層８，１４の間に配置された部分の第２の磁
性層１４側の面は、媒体対向面ＡＢＳにおけるギャップ
層９の第２の磁性層１４側の端部の位置および連結部１
２の上端部の位置よりも第１の磁性層８側の位置に配置
されている。そして、ヨーク部分層１４Ｂは、連結部１
２の上端部と磁極部分層１４Ａの後端面とを磁気的に接
続している。従って、ヨーク部分層１４Ｂは、連結部１
２と磁極部分層１４Ａとの間に短い磁気経路で且つ強い
磁気的結合を形成することができる。

【００７０】これらのことから、本実施の形態によれ
ば、第２の磁性層１４の磁極部分より発生される、記録
媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくし、且つ磁路長を
短縮して高周波特性を向上させることが可能になる。磁
極部分層１４Ａに高飽和磁束密度材を用いた場合には、
特に、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくするこ
とができ、保磁力の大きな記録媒体への記録も可能とな
る。

【００７１】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
では、記録媒体の面に垂直な方向の磁界は長手方向の磁
界よりも大きく、ヘッドが発生する磁気エネルギを効率
よく、記録媒体に伝達することができる。従って、この
薄膜磁気ヘッドによれば、記録媒体の熱揺らぎの影響を
受けにくくして、線記録密度を高めることができる。

【００７２】図１に示したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、第１の磁性層８を記録媒体の進行方
向Ｔの後側（薄膜磁気ヘッドを含むスライダにおける空
気流入端側）に配置し、第２の磁性層１４を記録媒体の
進行方向Ｔの前側（薄膜磁気ヘッドを含むスライダにお
ける空気流出端側）に配置するのが好ましい。このよう
な配置とすることにより、これとは逆の配置の場合に比
べて、垂直磁気記録方式を用いた場合の記録媒体におけ
る磁化反転遷移幅が小さくなり、記録媒体において、よ
り高密度の磁化パターンを形成することができ、その結
果、線記録密度を高めることができる。

【００７３】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性層１４のヨーク
部分層１４Ｂは、その内部において連結部１２の上端部
と磁極部分層１４Ａの後端面との間を最短距離で結ぶ磁
気経路２０が形成されるような形状を有している。これ
により、特に磁路長を短縮でき、高周波特性を向上させ
ることが可能になる。

【００７４】また、図３に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、媒体対向面ＡＢＳにおける
磁極部分層１４Ａと第１の磁性層８との間の距離は、連
結部１２の厚み以上としている。そして、ヨーク部分層
１４Ｂは、磁極部分層１４Ａの後端面との接続位置から
連結部１２との接続位置にかけて、徐々に第１の磁性層
８に近づいている。これにより、特に磁路長を短縮で
き、高周波特性を向上させることが可能になる。

【００７５】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層１４Ｂの少な
くとも一部は、第１の磁性層８側に突出する弧状に形成
されている。これにより、ヨーク部分層１４Ｂの一部
が、薄膜コイル１０に近くなり、薄膜コイル１０によっ
て発生される磁界をヨーク部分層１４Ｂで効率よく吸収
することが可能になる。

【００７６】また、図３に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層１４Ｂは、磁
極部分層１４Ａの後端面と両側面とに磁気的に接続され
ている。これにより、磁極部分層１４Ａの体積が小さく
ても、ヨーク部分層１４Ｂと磁極部分層１４Ａとの接続
部分の面積を増やすことができ、この接続部分における
磁束の飽和を防止することができる。その結果、磁束を
効率よくヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａへ導
くことができ、記録媒体に印加される磁界を大きくする
ことができる。

【００７７】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層１４Ｂの媒体
対向面ＡＢＳ側の端部は、媒体対向面ＡＢＳから離れた
位置に配置されている。これにより、ヨーク部分層１４
Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端部より発生される磁界によ
って記録媒体に情報の書き込みが生じることを防止する
ことができる。

【００７８】また、図２に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、磁極部分層１４Ａのヨーク
部分層１４Ｂと接する部分の幅は、磁極部分層１４Ａの
媒体対向面ＡＢＳにおける幅よりも大きくなっている。
これにより、磁極部分層１４Ａのヨーク部分層１４Ｂと
接する部分の面積を大きくすることができ、この部分で
の磁束の飽和を防止することができる。その結果、磁束
を効率よくヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａへ
導くことができ、且つ磁極部分層１４Ａの媒体対向面Ａ
ＢＳにおける露出面積を小さくすることで、記録媒体に
印加される磁界を大きくすることができる。

【００７９】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
において、媒体対向面ＡＢＳから磁極部分層１４Ａの後
端面までの長さを２μｍ以上とすることにより、磁極部
分層１４Ａの厚みや幅を大きくすることなく、磁極部分
層１４Ａのヨーク部分層１４Ｂと接する部分の面積を大
きくして、この部分での磁束の飽和を防止することがで
きる。その結果、磁束を効率よくヨーク部分層１４Ｂか
ら磁極部分層１４Ａへ導くことができる。

【００８０】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、磁極部分層１４Ａのギャッ
プ層９とは反対側の面に接する非磁性層１５を備えてい
る。これにより、磁極部分層１４Ａをドライエッチング
によって形成する際や、ヨーク部分層１４Ｂを電気めっ
き法によって形成する際に、磁極部分層１４Ａのギャッ
プ層９とは反対側の面がダメージを受けることを防止で
き、その面を平坦にすることができる。特に、本実施の
形態では、非磁性層１５が媒体対向面ＡＢＳに露出して
いるので、媒体対向面ＡＢＳにおいて、磁極部分層１４
Ａのギャップ層９とは反対側の端部を平坦に保つことが
できる。これにより、媒体対向面ＡＢＳにおいて磁極部
分層１４Ａより発生される磁界を、トラックに交差する
方向について均一化することができる。その結果、記録
媒体におけるビットパターン形状の歪みを抑えて、線記
録密度を向上させることができる。

【００８１】また、本実施の形態では、ヨーク部分層１
４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、非磁性層１５を介
して磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側の面に
隣接し、非磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａに磁気
的に接続されている。その結果、磁極部分層１４Ａのギ
ャップ層９とは反対側の面からも、非磁性層１５を介し
てヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａの媒体対向
面ＡＢＳ側へ磁束を導くことができる。

【００８２】また、非磁性層１５を、磁極部分層１４Ａ
を構成する材料、およびギャップ層９のうちの磁極部分
層１４Ａと接する部分を構成する材料よりもドライエッ
チングに対するエッチング速度が小さい材料で構成した
場合には、磁極部分層１４Ａをドライエッチングによっ
て形成する際に、磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは
反対側の面がダメージを受けることを防止することがで
きる。

【００８３】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、薄膜コイル１０のうち第１
の磁性層８と第２の磁性層１４の間に配置された部分
は、第１の磁性層８と第２の磁性層１４の中間の位置よ
りも第１の磁性層８に近い位置に配置されている。これ
により、第２の磁性層１４よりも体積の大きな第１の磁
性層８によって、薄膜コイル１０から発生する磁界を効
率よく吸収でき、薄膜コイル１０が第２の磁性層１４に
近い場合に比べて、第１の磁性層８および第２の磁性層
１４における磁界の吸収率を高めることができる。

【００８４】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ギャップ層９は、形成時に
流動性を有する材料よりなり、少なくとも薄膜コイル１
０の巻線間に充填された第１の部分（絶縁層９Ｂ）と、
この第１の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が優れ
た材料よりなり、薄膜コイル１０および第１の部分を覆
い、第１の磁性層８、第２の磁性層１４および連結部１
２に接する第２の部分（絶縁層９Ａ，９Ｃ）とを有して
いる。ギャップ層９の第２の部分は、媒体対向面ＡＢＳ
に露出している。薄膜コイル１０の巻線間に隙間なく非
磁性材料を充填することは、スパッタリング法では困難
であるが、有機系の材料のように流動性を有する非磁性
材料を用いた場合には容易である。しかし、有機系の材
料は、ドライエッチングに対する耐性、耐食性、耐熱
性、剛性等の点で信頼性に乏しい。本実施の形態では、
上述のように、形成時に流動性を有する材料によって薄
膜コイル１０の巻線間に充填された第１の部分（絶縁層
９Ｂ）を形成し、この第１の部分よりも耐食性、剛性お
よび絶縁性が優れた材料によって、薄膜コイル１０およ
び第１の部分を覆い、第１の磁性層８、第２の磁性層１
４および連結部１２に接する第２の部分（絶縁層９Ａ，
９Ｃ）を形成するようにしたので、薄膜コイル１０の巻
線間に隙間なく非磁性材料を充填でき、且つギャップ層
９の信頼性を高めることができる。

【００８５】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
は、再生素子としてのＭＲ素子５を備えている。これに
より、誘導型電磁変換素子を用いて再生を行う場合に比
べて、再生性能を向上させることができる。また、ＭＲ
素子５は、シールド層３，６によってシールドされてい
るので、再生時の分解能を向上させることができる。

【００８６】次に、図６ないし図８を参照して、本実施
の形態に係る薄膜磁気ヘッドの第１の変形例について説
明する。図６は第１の変形例の薄膜磁気ヘッドの構成を
示す断面図である。なお、図６は媒体対向面および基板
の面に垂直な断面を示している。図７は図６に示した薄
膜磁気ヘッドの要部を示す斜視図である。図８は図７に
おける磁極部分の近傍を拡大して示す斜視図である。

【００８７】第１の変形例の薄膜磁気ヘッドでは、図１
に示した薄膜磁気ヘッドに比べて、媒体対向面ＡＢＳか
ら磁極部分層１４Ａの後端面までの長さが短くなってい
る。ここでは、一例として、この長さを５μｍとする。
非磁性層１５の平面的な形状は、磁極部分層１４Ａと同
様である。第１の変形例の薄膜磁気ヘッドのその他の構
成は、図１に示した薄膜磁気ヘッドと同様である。

【００８８】次に、図９を参照して、本実施の形態に係
る薄膜磁気ヘッドの第２の変形例について説明する。図
９は第２の変形例の薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図
である。なお、図９は媒体対向面および基板の面に垂直
な断面を示している。

【００８９】第２の変形例の薄膜磁気ヘッドは、上記第
１の変形例の薄膜磁気ヘッドにおける上部シールド層６
および非磁性層７を省き、第１の磁性層８が上部シール
ド層６を兼ねるようにしたものである。この構成によれ
ば、薄膜磁気ヘッドの構造が簡単になり、製造も簡単に
なる。第２の変形例の薄膜磁気ヘッドのその他の構成
は、第１の変形例の薄膜磁気ヘッドと同様である。

【００９０】次に、図１０ないし図２５を参照して、本
実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説
明する。なお、ここでは、図６に示した薄膜磁気ヘッド
を製造する場合を例にとって製造方法を説明するが、図
１に示した薄膜磁気ヘッドを製造する場合も同様であ
る。また、図９に示した薄膜磁気ヘッドを製造する場合
も、上部シールド層６および非磁性層７を形成する工程
が省かれること以外は、以下の説明と同様である。

【００９１】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法では、まず、基板１の上に絶縁層２を形成する。次
に、絶縁層２の上に下部シールド層３を形成する。な
お、図１０ないし図２５では、基板１および絶縁層２を
省略している。

【００９２】次に、図１０に示したように、下部シール
ド層３の上に、絶縁層４の一部となる絶縁膜を形成し、
この絶縁膜の上にＭＲ素子５と、このＭＲ素子５に接続
される図示しないリードとを形成する。次に、ＭＲ素子
５およびリードを、絶縁層４の他の一部となる新たな絶
縁膜で覆い、ＭＲ素子５およびリードを絶縁層４内に埋
設する。

【００９３】次に、絶縁層４の上に上部シールド層６を
形成し、その上に非磁性層７を形成する。次に、この非
磁性層７の上に、第１の磁性層８を所定の形状に形成す
る。次に、図示しないが、非磁性層７および第１の磁性
層８をアルミナ等の非磁性材料で覆い、第１の磁性層８
が露出するまで非磁性材料を研磨して、第１の磁性層８
の上面を平坦化する。

【００９４】次に、図１１に示したように、第１の磁性
層８の上に、アルミナ等の非導電性且つ非磁性の材料を
スパッタして、絶縁層９Ａを形成する。次に、周知のフ
ォトリソグラフィ技術とドライエッチング技術とを用い
て、連結部１２を形成すべき位置において、絶縁層９Ａ
にコンタクトホール９ａを形成する。

【００９５】次に、図１２に示したように、周知のフォ
トリソグラフィ技術および成膜技術（例えば電気めっき
法）を用いて、絶縁層９Ａの上に薄膜コイル１０を形成
する。

【００９６】次に、図１３に示したように、周知のフォ
トリソグラフィ技術を用いて、少なくとも薄膜コイル１
０の巻線間に充填される絶縁層９Ｂを形成する。

【００９７】次に、図１４に示したように、周知のフォ
トリソグラフィ技術および成膜技術（例えば電気めっき
法）を用いて、コンタクトホール９ａが形成された位置
において第１の磁性層８の上に連結部１２を形成する。
連結部１２の厚みは、例えば２〜４μｍとする。

【００９８】次に、図１５に示したように、スパッタ法
を用いて、薄膜コイル１０、絶縁層９Ａ、絶縁層９Ｂお
よび連結部１２を覆うように絶縁層９Ｃを形成する。こ
の時点で、絶縁層９Ｃの厚みは、連結部１２の厚み以
上、例えば２〜６μｍとする。

【００９９】次に、図１６に示したように、例えば化学
機械研磨を用いて、絶縁層９Ｃの厚みが所定の記録ギャ
ップ長と等しくなるまで絶縁層９Ｃの表面を研磨して、
絶縁層９Ｃおよび連結部１２の上面を平坦化する。この
時点で、第１の磁性層８の上面から絶縁層９Ｃおよび連
結部１２の上面までの距離は、例えば２〜４μｍとす
る。なお、この時点では、必ずしも連結部１２を露出さ
せる必要はなく、後の工程で露出させてもよい。

【０１００】次に、図１７に示したように、絶縁層９Ｃ
および連結部１２の上に、第２の磁性層１４の磁極部分
層１４Ａを構成する材料よりなる被エッチング層１４Ａ
ｅを形成する。被エッチング層１４Ａｅの厚みは、好ま
しくは０．１〜０．８μｍとし、更に好ましくは０．３
〜０．８μｍとする。被エッチング層１４Ａｅの形成方
法は、電気めっき法でもよいし、スパッタ法でもよい。
被エッチング層１４Ａｅの表面の粗さが大きい場合（例
えば、算術平均粗さＲａが１２オングストローム以上の
場合）は、化学機械研磨等によって被エッチング層１４
Ａｅの表面を研磨して平坦化することが好ましい。

【０１０１】次に、被エッチング層１４Ａｅの上に、非
磁性層１５ｅを形成する。非磁性層１５ｅの厚みは、好
ましくは０．５μｍ以下とする。

【０１０２】次に、図示しないが、非磁性層１５ｅの上
に、スパッタ法により、電気めっき法のための電極層を
形成する。この電極層の厚みは０．１μｍ以下とし、材
料は例えば鉄−ニッケル合金とする。

【０１０３】次に、図１８に示したように、フォトリソ
グラフィ技術を用いて、上記電極層の上に、フォトレジ
ストによって、磁極部分層１４Ａの形状に対応した空隙
部を有するレジストフレーム３１を形成する。次に、こ
のレジストフレーム３１を用いて、電気めっき法（フレ
ームめっき法）によって、上記電極層の上に、磁極部分
層１４Ａの形状に対応したマスク３２となるめっき膜を
形成する。このめっき膜の厚みは１〜４μｍとし、材料
は例えば鉄−ニッケル合金とする。次に、レジストフレ
ーム３１を除去する。

【０１０４】次に、図１９に示したように、マスク３２
を用いて、イオンミリング等のドライエッチング技術に
よって、非磁性層１５ｅおよび被エッチング層１４Ａｅ
をエッチングして、非磁性層１５および磁極部分層１４
Ａの外形を決定する。このとき、マスク３２のうち、少
なくとも媒体対向面ＡＢＳに対応する部分は完全に除去
することが好ましいが、マスク３２が非磁性で、耐食性
等の点で信頼性が十分にあれば、この限りではない。

【０１０５】上記のエッチングにより、図４および図５
に示したように、媒体対向面ＡＢＳに露出する磁極部分
層１４Ａの面の形状を長方形、あるいは記録媒体の進行
方向Ｔの後側（スライダにおける空気流入端側）に配置
される下辺が上辺よりも小さい台形または三角形とす
る。また、磁極部分層１４Ａの側面は凹面でもよい。ま
た、上記のエッチングにより、媒体対向面ＡＢＳにおけ
る磁極部分層１４Ａの幅を、トラック幅の規格に一致す
るように規定してもよい。

【０１０６】また、上記のエッチングにより、非磁性層
１５および磁極部分層１４Ａの外形が決定されるのと同
時に、連結部１２が露出する。なお、このときに連結部
１２が露出するように、連結部１２の厚みは予め所望の
厚み以上に大きくしておく。

【０１０７】なお、上述のようにめっき膜によるマスク
３２を形成する代りに、フォトリソグラフィ技術を用い
て、非磁性層１５ｅの上に、フォトレジストによって、
磁極部分層１４Ａの形状に対応したレジストパターンを
形成してもよい。そして、このレジストパターンをマス
クとして、非磁性層１５ｅおよび被エッチング層１４Ａ
ｅをエッチングして、非磁性層１５および磁極部分層１
４Ａの外形を決定すると共に連結部１２を露出させ、そ
の後、レジストパターンを除去してもよい。

【０１０８】次に、図２０に示したように、フォトリソ
グラフィ技術を用いて、フォトレジストによって、磁極
部分層１４Ａおよび非磁性層１５における媒体対向面Ａ
ＢＳ側の一部を覆うレジストカバー３３を形成する。こ
のレジストカバー３３の厚みは、後述するヨーク部分層
形成用のフレームの厚み以下とするのが好ましい。

【０１０９】次に、図２１に示したように、レジストカ
バー３３、磁極部分層１４Ａ（および非磁性層１５）、
絶縁層９Ｃ（ギャップ層９）および連結部１２の上に、
スパッタ法により、電気めっき法のための電極層３４を
形成する。この電極層３４の厚みは０．１μｍ以下と
し、材料は例えば鉄−ニッケル合金とし、下地にＴｉ
（チタン）を成膜してもよい。

【０１１０】次に、図２２に示したように、電極層３４
の上に、フォトレジストによって、ヨーク部分層１４Ｂ
の形状に対応した空隙部を有するレジストフレーム３５
を形成する。

【０１１１】次に、図２３に示したように、レジストフ
レーム３５を用いて、電気めっき法（フレームめっき
法）によって、電極層３４の上にヨーク部分層１４Ｂを
形成する。次に、レジストフレーム３５を除去する。な
お、ヨーク部分層１４Ｂは、リフトオフ法を用いて形成
することも可能であるが、ヨーク部分層１４Ｂの形状を
下地の形状に追従させるためには電気めっき法を用いる
のが最も好ましい。

【０１１２】次に、図２４に示したように、電極層３４
のうち、ヨーク部分層１４Ｂの下に存在する部分以外の
部分をドライエッチングで除去する。

【０１１３】次に、図２５に示したように、レジストカ
バー３３を除去する。次に、第２の磁性層１４を覆うよ
うに保護層１７を形成する。次に、保護層１７の上に配
線や端子等を形成し、スライダ単位で基板を切断し、媒
体対向面ＡＢＳの研磨、浮上用レールの作製等を行っ
て、薄膜磁気ヘッドが完成する。

【０１１４】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法によれば、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドと同
様の作用、効果の他に、以下のような作用、効果が得ら
れる。

【０１１５】本実施の形態では、第２の磁性層１４の磁
極部分層１４Ａを形成する工程は、ギャップ層９および
連結部１２の上に、磁極部分層１４Ａを構成する材料よ
りなる被エッチング層１４Ａｅを形成する工程と、被エ
ッチング層１４Ａｅをドライエッチングによって選択的
にエッチングして、磁極部分層１４Ａの外形を決定する
と共に連結部１２を露出させる工程とを含む。本実施の
形態では、被エッチング層１４Ａｅをドライエッチング
することによって、磁極部分層１４Ａの後端面から連結
部１２の上端部にかけて緩やかな傾斜を持つように、ヨ
ーク部分層１４Ｂの下地の形状が決定される。従って、
この下地の上にヨーク部分層１４Ｂを形成することによ
り、連結部１２と磁極部分層１４Ａとの間を最短距離で
結ぶ磁気経路を形成することが可能になる。

【０１１６】また、本実施の形態において、被エッチン
グ層１４Ａｅを形成する工程の後で、研磨により、被エ
ッチング層１４Ａｅの上面を平坦化した場合には、媒体
対向面ＡＢＳにおいて、磁極部分層１４Ａのギャップ層
９とは反対側の端部を完全に平坦化することができる。
これにより、媒体対向面ＡＢＳにおいて磁極部分層１４
Ａより発生される磁界を、トラックに交差する方向につ
いて均一化することができ、その結果、記録媒体におけ
るビットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度を向
上させることができる。

【０１１７】また、本実施の形態では、被エッチング層
１４Ａｅを形成する工程の前に、研磨により、被エッチ
ング層１４Ａｅの下地となる絶縁層９Ｃおよび連結部１
２の上面を平坦化している。これにより、媒体対向面Ａ
ＢＳにおいて、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の端
部を平坦化することができる。また、被エッチング層１
４Ａｅをスパッタ法によって形成する場合には、被エッ
チング層１４Ａｅの成膜時の膜厚均一性がよいため、媒
体対向面ＡＢＳにおいて、磁極部分層１４Ａのギャップ
層９とは反対側の端部も平坦化することができる。これ
らのことから、媒体対向面ＡＢＳにおいて磁極部分層１
４Ａより発生される磁界を、トラックに交差する方向に
ついて均一化することができ、その結果、記録媒体にお
けるビットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度を
向上させることができる。

【０１１８】また、本実施の形態において、磁極部分層
１４Ａを形成する工程は、被エッチング層１４Ａｅを形
成する工程の後で、被エッチング層１４Ａｅの上に非磁
性層１５ｅを形成する工程と、非磁性層１５ｅの上に、
磁極部分層１４Ａの形状に対応したマスク３２を形成す
る工程とを含み、被エッチング層１４Ａｅをエッチング
する工程は、このマスク３２を用いて、非磁性層１５ｅ
および被エッチング層１４Ａｅをエッチングしてもよ
い。この場合には、被エッチング層１４Ａｅの上面を非
磁性層１５ｅで保護した状態で磁極部分層１４Ａの外形
を決定でき、磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対
側の端部の平坦性を維持することが可能になる。

【０１１９】また、マスク３２を形成する工程は、非磁
性層１５ｅの上に、磁極部分層１４Ａの形状に対応した
空隙部を有するレジストフレーム３１を形成し、このレ
ジストフレーム３１の空隙部内にマスク３２を形成して
もよい。この場合には、マスク３２をレジストで形成す
る場合に比べて、ドライエッチングに対する耐性に優れ
たマスク３２を形成することが可能になる。これによ
り、磁極部分層１４Ａを構成する材料がドライエッチン
グに対する耐性に優れている場合でも、マスク３２を用
いたドライエッチングによって磁極部分層１４Ａの外形
を決定することが可能になる。

【０１２０】また、本実施の形態において、ヨーク部分
層１４Ｂを形成する工程は、電気めっき法によってヨー
ク部分層１４Ｂを形成してもよい。この場合には、ヨー
ク部分層１４Ｂを容易に形成できると共に、ヨーク部分
層１４Ｂを、その下地の形状によく追従した形状に形成
することが可能になる。

【０１２１】また、ヨーク部分層１４Ｂを形成する工程
は、磁極部分層１４Ａの媒体対向面ＡＢＳ側の一部を覆
うレジストカバー３３を形成する工程と、レジストカバ
ー３３、磁極部分層１４Ａ、ギャップ層９および連結部
１２の上に、電気めっき法のための電極層３４を形成す
る工程と、電極層３４を用いて、電気めっき法によって
ヨーク部分層１４Ｂを形成する工程とを含んでもよい。
この場合には、磁極部分層１４Ａの媒体対向面ＡＢＳ側
の一部の側面に電極層が付着し、残留することを防止す
ることができ、電極層の付着、残留によってトラック幅
が大きくなることを防止することができる。更に、電極
層をドライエッチングによって除去する際に、エッチン
グされた材料が磁極部分層１４Ａの媒体対向面ＡＢＳ側
の一部の側面に付着し、残留して薄膜磁気ヘッドの信頼
性が低下してしまうことを防止することもできる。

【０１２２】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし２
２のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドによれば、第２の
磁性層が磁極部分層とヨーク部分層とを有し、ヨーク部
分層は、磁極部分層に磁束を導くための十分な体積を有
し、また、磁極部分層の飽和磁束密度がヨーク部分層の
飽和磁束密度以上であることから、第２の磁性層の途中
における磁束の飽和を防止することができる。また、本
発明では、薄膜コイルの少なくとも一部の第２の磁性層
側の面が、媒体対向面におけるギャップ層の第２の磁性
層側の端部の位置および連結部の第２の磁性層側の端部
の位置よりも第１の磁性層側の位置に配置され、ヨーク
部分層は、連結部の第２の磁性層側の端部と磁極部分層
の媒体対向面とは反対側の端面とを磁気的に接続するの
で、ヨーク部分層は、連結部と磁極部分層との間に短い
磁気経路で且つ強い磁気的結合を形成することができ
る。これらのことから、本発明によれば、磁極部分より
発生される、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きく
し、且つ磁路長を短縮して高周波特性を向上させること
が可能になるという効果を奏する。

【０１２３】また、請求項２記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、第１の磁性層は記録媒体の進行方向の後側に配置
され、第２の磁性層は記録媒体の進行方向の前側に配置
されるので、記録媒体において、より高密度の磁化パタ
ーンを形成することができ、その結果、線記録密度を高
めることができるという効果を奏する。

【０１２４】また、請求項３記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、ヨーク部分層は、その内部において連結部の第２
の磁性層側の端部と磁極部分層の媒体対向面とは反対側
の端面との間を最短距離で結ぶ磁気経路が形成されるよ
うな形状を有するので、特に磁路長を短縮でき、高周波
特性を向上させることが可能になるという効果を奏す
る。

【０１２５】また、請求項５記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、媒体対向面における磁極部分層と第１の磁性層と
の間の距離を連結部の厚み以上とした場合に、ヨーク部
分層が、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面との
接続位置から連結部との接続位置にかけて、徐々に第１
の磁性層に近づくようにしたので、特に磁路長を短縮で
き、高周波特性を向上させることが可能になるという効
果を奏する。

【０１２６】また、請求項６記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、ヨーク部分層の少なくとも一部は、第１の磁性層
側に突出する弧状に形成されているので、ヨーク部分層
の一部が、薄膜コイルに近くなり、薄膜コイルによって
発生される磁界をヨーク部分層で効率よく吸収すること
が可能になるという効果を奏する。

【０１２７】また、請求項７記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、ヨーク部分層は、磁極部分層の媒体対向面とは反
対側の端面と磁極部分層の幅方向の両側面とに磁気的に
接続されているので、ヨーク部分層と磁極部分層との接
続部分における磁束の飽和を防止し、磁束を効率よくヨ
ーク部分層から磁極部分層へ導き、記録媒体に印加され
る磁界を大きくすることができるという効果を奏する。

【０１２８】また、請求項８記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、ヨーク部分層の媒体対向面側の端部は、媒体対向
面から離れた位置に配置されているので、ヨーク部分層
の媒体対向面側の端部より発生される磁界によって記録
媒体に情報の書き込みが生じることを防止することがで
きるという効果を奏する。

【０１２９】また、請求項９記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、磁極部分層のヨーク部分層と接する部分の幅が磁
極部分層の媒体対向面における幅よりも大きいので、磁
極部分層のヨーク部分層と接する部分での磁束の飽和を
防止して、磁束を効率よくヨーク部分層から磁極部分層
へ導くことができ、且つ磁極部分層の媒体対向面におけ
る露出面積を小さくすることで、記録媒体に印加される
磁界を大きくすることができるという効果を奏する。

【０１３０】また、請求項１０記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、媒体対向面から磁極部分層の媒体対向面とは反
対側の端面までの長さを２μｍ以上としたので、磁極部
分層の厚みや幅を大きくすることなく、磁極部分層のヨ
ーク部分層と接する部分での磁束の飽和を防止して、磁
束を効率よくヨーク部分層から磁極部分層へ導くことが
できるという効果を奏する。

【０１３１】また、請求項１１ないし１４のいずれかに
記載の薄膜磁気ヘッドによれば、磁極部分層のギャップ
層とは反対側の面に接する非磁性層を備えたので、磁極
部分層をドライエッチングによって形成する際や、ヨー
ク部分層を電気めっき法によって形成する際に、磁極部
分層のギャップ層とは反対側の面がダメージを受けるこ
とを防止でき、その面を平坦にすることができるという
効果を奏する。

【０１３２】また、請求項１２記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、非磁性層が媒体対向面に露出しているので、媒
体対向面において、磁極部分層のギャップ層とは反対側
の端部を平坦に保ち、媒体対向面において磁極部分層よ
り発生される磁界を、トラックに交差する方向について
均一化することができ、その結果、記録媒体におけるビ
ットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度を向上さ
せることができるという効果を奏する。

【０１３３】また、請求項１３記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、ヨーク部分層の一部は非磁性層を介して磁極部
分層のギャップ層とは反対側の面に隣接し、非磁性層を
介して磁極部分層に磁気的に接続されているので、磁極
部分層のギャップ層とは反対側の面からも、非磁性層を
介してヨーク部分層から磁極部分層の媒体対向面側へ磁
束を導くことができるという効果を奏する。

【０１３４】また、請求項１４記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、非磁性層は、磁極部分層を構成する材料よりも
ドライエッチングに対するエッチング速度が小さい材料
よりなるので、磁極部分層をドライエッチングによって
形成する際に、磁極部分層のギャップ層とは反対側の面
がダメージを受けることを防止することができるという
効果を奏する。

【０１３５】また、請求項１５記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、薄膜コイルの少なくとも一部は、第１の磁性層
と第２の磁性層の中間の位置よりも第１の磁性層に近い
位置に配置されているので、第１の磁性層によって、薄
膜コイルから発生する磁界を効率よく吸収できるという
効果を奏する。

【０１３６】また、請求項１６ないし１８のいずれかに
記載の薄膜磁気ヘッドによれば、ギャップ層は、形成時
に流動性を有する材料よりなり、少なくとも薄膜コイル
の少なくとも一部の巻線間に充填される第１の部分と、
第１の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が優れた材
料よりなり、薄膜コイルの少なくとも一部および第１の
部分を覆い、第１の磁性層、第２の磁性層および連結部
に接する第２の部分とを有するので、薄膜コイルの巻線
間に隙間なく非磁性材料を充填でき、且つギャップ層の
信頼性を高めることができるという効果を奏する。

【０１３７】また、請求項１９ないし２１のいずれかに
記載の薄膜磁気ヘッドによれば、再生素子としての磁気
抵抗効果素子を備えたので、誘導型電磁変換素子を用い
て再生を行う場合に比べて、再生性能を向上させること
ができるという効果を奏する。

【０１３８】また、請求項２２記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、この薄膜磁気ヘッドが垂直磁気記録方式に用い
られるようにしたので、記録媒体の熱揺らぎの影響を受
けにくくして、線記録密度を高めることができるという
効果を奏する。

【０１３９】請求項２３ないし３０のいずれかに記載の
薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、第２の磁性層が磁
極部分層とヨーク部分層とを有し、ヨーク部分層は、磁
極部分層に磁束を導くための十分な体積を有し、また、
磁極部分層の飽和磁束密度がヨーク部分層の飽和磁束密
度以上となることから、第２の磁性層の途中における磁
束の飽和を防止することができる。また、本発明では、
薄膜コイルの少なくとも一部の第２の磁性層側の面が、
媒体対向面におけるギャップ層の第２の磁性層側の端部
の位置および連結部の第２の磁性層側の端部の位置より
も第１の磁性層側の位置に配置され、ヨーク部分層は、
連結部の第２の磁性層側の端部と磁極部分層の媒体対向
面とは反対側の端面とを磁気的に接続するので、ヨーク
部分層は、連結部と磁極部分層との間に短い磁気経路で
且つ強い磁気的結合を形成することができる。これらの
ことから、本発明によれば、磁極部分より発生される、
記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくし、且つ磁路
長を短縮して高周波特性を向上させることが可能になる
という効果を奏する。

【０１４０】また、請求項２４ないし２８のいずれかに
記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、磁極部分層を形
成する工程は、ギャップ層および連結部の上に、磁極部
分層を構成する材料よりなる被エッチング層を形成する
工程と、被エッチング層をドライエッチングによって選
択的にエッチングして、磁極部分層の外形を決定すると
共に連結部を露出させる工程とを含む。これにより、本
発明によれば、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端
面から連結部の第２の磁性層側の端部にかけて緩やかな
傾斜を持つように、ヨーク部分層の下地の形状を決定す
ることができ、この下地の上にヨーク部分層を形成する
ことにより、連結部と磁極部分層との間を最短距離で結
ぶ磁気経路を形成することが可能になるという効果を奏
する。

【０１４１】また、請求項２５記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、被エッチング層を形成する工程の後
で、研磨により、被エッチング層の上面を平坦化するよ
うにしたので、媒体対向面において、磁極部分層のギャ
ップ層とは反対側の端部を完全に平坦化することがで
き、これにより、媒体対向面において磁極部分層より発
生される磁界を、トラックに交差する方向について均一
化することができ、その結果、記録媒体におけるビット
パターン形状の歪みを抑えて、線記録密度を向上させる
ことができるという効果を奏する。

【０１４２】また、請求項２６記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、被エッチング層を形成する工程の前
に、研磨により、被エッチング層の下地を平坦化するよ
うにしたので、媒体対向面において、磁極部分層のギャ
ップ層側の端部を平坦化することができる。また、これ
により、被エッチング層をスパッタ法によって形成する
場合には、媒体対向面において、磁極部分層のギャップ
層とは反対側の端部も平坦化することができる。これら
のことから、本発明によれば、媒体対向面において磁極
部分層より発生される磁界を、トラックに交差する方向
について均一化することができ、その結果、記録媒体に
おけるビットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度
を向上させることができるという効果を奏する。

【０１４３】また、請求項２７または２８記載の薄膜磁
気ヘッドの製造方法によれば、被エッチング層を形成す
る工程の後で、被エッチング層の上に非磁性層を形成
し、この非磁性層の上に、磁極部分層の形状に対応した
マスクを形成し、このマスクを用いて、非磁性層および
被エッチング層をエッチングして、磁極部分層の外形を
決定するようにしたので、被エッチング層の上面を非磁
性層で保護した状態で磁極部分層の外形を決定でき、磁
極部分層のギャップ層とは反対側の端部の平坦性を維持
することが可能になるという効果を奏する。

【０１４４】また、請求項２８記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、マスクを形成する工程は、非磁性層
の上に、磁極部分層の形状に対応した空隙部を有するレ
ジストフレームを形成し、このレジストフレームの空隙
部内にマスクを形成するようにしたので、ドライエッチ
ングに対する耐性に優れたマスクを形成することが可能
になり、その結果、磁極部分層を構成する材料がドライ
エッチングに対する耐性に優れている場合でも、マスク
を用いたドライエッチングによって磁極部分層の外形を
決定することが可能になるという効果を奏する。

【０１４５】また、請求項２９または３０記載の薄膜磁
気ヘッドの製造方法によれば、電気めっき法によってヨ
ーク部分層を形成するようにしたので、ヨーク部分層を
容易に形成できると共に、ヨーク部分層を、その下地の
形状によく追従した形状に形成することが可能になると
いう効果を奏する。

【０１４６】また、請求項３０記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、ヨーク部分層を形成する工程は、磁
極部分層における媒体対向面側の一部を覆うレジストカ
バーを形成する工程と、レジストカバー、磁極部分層、
ギャップ層および連結部の上に、電気めっき法のための
電極層を形成する工程と、電極層を用いて、電気めっき
法によってヨーク部分層を形成する工程とを含むように
したので、磁極部分層における媒体対向面側の一部の側
面に電極層やエッチング時の付着物が残留することを防
止することができ、電極層の残留によってトラック幅が
大きくなったり、エッチング時の付着物の残留により薄
膜磁気ヘッドの信頼性が低下したりすることを防止する
ことができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの
構成を示す断面図である。

【図２】図１に示した薄膜磁気ヘッドの要部を示す斜視
図である。

【図３】図２における磁極部分の近傍を拡大して示す斜
視図である。

【図４】図１に示した薄膜磁気ヘッドの媒体対向面の一
部を示す正面図である。

【図５】図４における磁極部分層および非磁性層を拡大
して示す正面図である。

【図６】本発明の一実施の形態における第１の変形例の
薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図である。

【図７】図６に示した薄膜磁気ヘッドの要部を示す斜視
図である。

【図８】図７における磁極部分の近傍を拡大して示す斜
視図である。

【図９】本発明の一実施の形態における第２の変形例の
薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図である。

【図１０】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法における一工程を示す断面図である。

【図１１】図１０に続く工程を示す断面図である。

【図１２】図１１に続く工程を示す断面図である。

【図１３】図１２に続く工程を示す断面図である。

【図１４】図１３に続く工程を示す断面図である。

【図１５】図１４に続く工程を示す断面図である。

【図１６】図１５に続く工程を示す断面図である。

【図１７】図１６に続く工程を示す断面図である。

【図１８】図１７に続く工程を示す断面図である。

【図１９】図１８に続く工程を示す断面図である。

【図２０】図１９に続く工程を示す断面図である。

【図２１】図２０に続く工程を示す断面図である。

【図２２】図２１に続く工程を示す断面図である。

【図２３】図２２に続く工程を示す断面図である。

【図２４】図２３に続く工程を示す断面図である。

【図２５】図２４に続く工程を示す断面図である。

【符号の説明】

３…下部シールド層、４…絶縁層、５…ＭＲ素子、６…
上部シールド層、７…非磁性層、８…第１の磁性層、９
…ギャップ層、９Ａ，９Ｂ，９Ｃ…絶縁層、１０…薄膜
コイル、１２…連結部、１４…第２の磁性層、１４Ａ…
磁極部分層、１４Ｂ…ヨーク部分層、１５…非磁性層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 43/08 Ｈ０１Ｌ 43/08 Ｚ (72)発明者 渡部 裕一 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D033 AA05 BA07 BA34 BB03 BB43 CA00 CA01 DA04 DA07 DA31 5D034 AA05 BA02 BA18 DA07

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録媒体に対向する媒体対向面と、 記録媒体の進行方向の前後に所定の間隔を開けて互いに
   対向するように配置された磁極部分を含む第１および第
   ２の磁性層と、 非磁性材料よりなり、前記第１の磁性層と第２の磁性層
   との間に設けられたギャップ層と、 前記媒体対向面から離れた位置において前記第１の磁性
   層と第２の磁性層とを磁気的に連結する連結部と、 少なくとも一部が前記第１および第２の磁性層の間に、
   前記第１および第２の磁性層に対して絶縁された状態で
   設けられた薄膜コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドであっ
   て、 前記薄膜コイルの少なくとも一部の第２の磁性層側の面
   は、媒体対向面における前記ギャップ層の第２の磁性層
   側の端部の位置および前記連結部の第２の磁性層側の端
   部の位置よりも第１の磁性層側の位置に配置され、 前記第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面にお
   ける幅がトラック幅を規定する磁極部分層と、ヨーク部
   分となるヨーク部分層とを有し、 前記磁極部分層の飽和磁束密度は、前記ヨーク部分層の
   飽和磁束密度以上であり、 前記ヨーク部分層は、前記連結部の第２の磁性層側の端
   部と前記磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面とを
   磁気的に接続することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 前記第１の磁性層は記録媒体の進行方向
   の後側に配置され、前記第２の磁性層は記録媒体の進行
   方向の前側に配置されることを特徴とする請求項１記載
   の薄膜磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 前記ヨーク部分層は、その内部において
   前記連結部の第２の磁性層側の端部と前記磁極部分層の
   媒体対向面とは反対側の端面との間を最短距離で結ぶ磁
   気経路が形成されるような形状を有することを特徴とす
   る請求項１または２記載の薄膜磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 媒体対向面における前記磁極部分層と前
   記第１の磁性層との間の距離は、前記連結部の厚み以上
   であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに
   記載の薄膜磁気ヘッド。
5. 【請求項５】 前記ヨーク部分層は、前記磁極部分層の
   媒体対向面とは反対側の端面との接続位置から前記連結
   部との接続位置にかけて、徐々に第１の磁性層に近づい
   ていることを特徴とする請求項４記載の薄膜磁気ヘッ
   ド。
6. 【請求項６】 前記ヨーク部分層の少なくとも一部は、
   前記第１の磁性層側に突出する弧状に形成されているこ
   とを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の薄
   膜磁気ヘッド。
7. 【請求項７】 前記ヨーク部分層は、前記磁極部分層の
   媒体対向面とは反対側の端面と前記磁極部分層の幅方向
   の両側面とに磁気的に接続されていることを特徴とする
   請求項１ないし６のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
8. 【請求項８】 前記ヨーク部分層の媒体対向面側の端部
   は、媒体対向面から離れた位置に配置されていることを
   特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の薄膜磁
   気ヘッド。
9. 【請求項９】 前記磁極部分層の前記ヨーク部分層と接
   する部分の幅は、前記磁極部分層の媒体対向面における
   幅よりも大きいことを特徴とする請求項１ないし８のい
   ずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
10. 【請求項１０】 媒体対向面から前記磁極部分層の媒体
    対向面とは反対側の端面までの長さは２μｍ以上である
    ことを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の
    薄膜磁気ヘッド。
11. 【請求項１１】 更に、前記磁極部分層のギャップ層と
    は反対側の面に接する非磁性層を備えたことを特徴とす
    る請求項１ないし１０のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
12. 【請求項１２】 前記非磁性層は媒体対向面に露出して
    いることを特徴とする請求項１１記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
13. 【請求項１３】 前記ヨーク部分層の一部は、前記非磁
    性層を介して前記磁極部分層のギャップ層とは反対側の
    面に隣接し、前記非磁性層を介して前記磁極部分層に磁
    気的に接続されていることを特徴とする請求項１１また
    は１２記載の薄膜磁気ヘッド。
14. 【請求項１４】 前記非磁性層は、前記磁極部分層を構
    成する材料よりもドライエッチングに対するエッチング
    速度が小さい材料よりなることを特徴とする請求項１１
    ないし１３のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
15. 【請求項１５】 前記薄膜コイルの少なくとも一部は、
    前記第１の磁性層と第２の磁性層の中間の位置よりも第
    １の磁性層に近い位置に配置されていることを特徴とす
    る請求項１ないし１４のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
16. 【請求項１６】 前記ギャップ層は、形成時に流動性を
    有する材料よりなり、少なくとも前記薄膜コイルの少な
    くとも一部の巻線間に充填される第１の部分と、前記第
    １の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が優れた材料
    よりなり、前記薄膜コイルの少なくとも一部および前記
    第１の部分を覆い、第１の磁性層、第２の磁性層および
    連結部に接する第２の部分とを有することを特徴とする
    請求項１ないし１５のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
17. 【請求項１７】 前記第１の部分は、有機系の非導電性
    非磁性材料またはスピンオングラス膜よりなることを特
    徴とする請求項１６記載の薄膜磁気ヘッド。
18. 【請求項１８】 前記第２の部分は、無機系の非導電性
    非磁性材料よりなることを特徴とする請求項１６または
    １７記載の薄膜磁気ヘッド。
19. 【請求項１９】 更に、再生素子としての磁気抵抗効果
    素子を備えたことを特徴とする請求項１ないし１８のい
    ずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
20. 【請求項２０】 更に、前記媒体対向面側の一部が前記
    磁気抵抗効果素子を挟んで対向するように配置された、
    前記磁気抵抗効果素子をシールドするための第１および
    第２のシールド層を備えたことを特徴とする請求項１９
    記載の薄膜磁気ヘッド。
21. 【請求項２１】 前記第１の磁性層は前記第２のシール
    ド層を兼ねていることを特徴とする請求項２０記載の薄
    膜磁気ヘッド。
22. 【請求項２２】 垂直磁気記録方式に用いられることを
    特徴とする請求項１ないし２１のいずれかに記載の薄膜
    磁気ヘッド。
23. 【請求項２３】 記録媒体に対向する媒体対向面と、記
    録媒体の進行方向の前後に所定の間隔を開けて互いに対
    向するように配置された磁極部分を含む第１および第２
    の磁性層と、非磁性材料よりなり、前記第１の磁性層と
    第２の磁性層との間に設けられたギャップ層と、前記媒
    体対向面から離れた位置において前記第１の磁性層と第
    ２の磁性層とを磁気的に連結する連結部と、少なくとも
    一部が前記第１および第２の磁性層の間に、前記第１お
    よび第２の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた
    薄膜コイルとを備え、前記第２の磁性層は、磁極部分を
    含み、媒体対向面における幅がトラック幅を規定する磁
    極部分層と、ヨーク部分となるヨーク部分層とを有し、
    前記磁極部分層の飽和磁束密度が前記ヨーク部分層の飽
    和磁束密度以上である薄膜磁気ヘッドの製造方法であっ
    て、 前記第１の磁性層を形成する工程と、 前記薄膜コイルの少なくとも一部の第２の磁性層側の面
    が、媒体対向面における前記ギャップ層の第２の磁性層
    側の端部の位置および前記連結部の第２の磁性層側の端
    部の位置よりも第１の磁性層側の位置に配置されるよう
    に、前記第１の磁性層の上に前記ギャップ層、前記連結
    部および前記薄膜コイルを形成する工程と、 前記ギャップ層および前記連結部の上に前記第２の磁性
    層を形成する工程とを備え、 前記第２の磁性層を形成する工程は、 前記ギャップ層の上に前記磁極部分層を形成する工程
    と、 前記ヨーク部分層によって前記連結部の第２の磁性層側
    の端部と前記磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面
    とが磁気的に接続されるように、前記ギャップ層および
    前記連結部の上に前記ヨーク部分層を形成する工程とを
    含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
24. 【請求項２４】 前記磁極部分層を形成する工程は、 前記ギャップ層および前記連結部の上に、前記磁極部分
    層を構成する材料よりなる被エッチング層を形成する工
    程と、 前記被エッチング層をドライエッチングによって選択的
    にエッチングして、前記磁極部分層の外形を決定すると
    共に前記連結部を露出させる工程とを含むことを特徴と
    する請求項２３記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
25. 【請求項２５】 前記磁極部分層を形成する工程は、更
    に、前記被エッチング層を形成する工程の後で、研磨に
    より、前記被エッチング層の上面を平坦化する工程を含
    むことを特徴とする請求項２４記載の薄膜磁気ヘッドの
    製造方法。
26. 【請求項２６】 前記磁極部分層を形成する工程は、更
    に、前記被エッチング層を形成する工程の前に、研磨に
    より、前記被エッチング層の下地を平坦化する工程を含
    むことを特徴とする請求項２４または２５記載の薄膜磁
    気ヘッドの製造方法。
27. 【請求項２７】 前記磁極部分層を形成する工程は、更
    に、前記被エッチング層を形成する工程の後で、前記被
    エッチング層の上に非磁性層を形成する工程と、前記非
    磁性層の上に、磁極部分層の形状に対応したマスクを形
    成する工程とを含み、 前記被エッチング層をエッチングする工程は、前記マス
    クを用いて、前記非磁性層および前記被エッチング層を
    エッチングすることを特徴とする請求項２４ないし２６
    のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
28. 【請求項２８】 前記マスクを形成する工程は、前記非
    磁性層の上に、磁極部分層の形状に対応した空隙部を有
    するレジストフレームを形成し、このレジストフレーム
    の空隙部内に前記マスクを形成することを特徴とする請
    求項２７記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
29. 【請求項２９】 前記ヨーク部分層は電気めっき法によ
    って形成されることを特徴とする請求項２３ないし２８
    のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
30. 【請求項３０】 前記ヨーク部分層を形成する工程は、
    前記磁極部分層における媒体対向面側の一部を覆うレジ
    ストカバーを形成する工程と、前記レジストカバー、前
    記磁極部分層、前記ギャップ層および前記連結部の上
    に、電気めっき法のための電極層を形成する工程と、前
    記電極層を用いて、電気めっき法によってヨーク部分層
    を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項２９記
    載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。