JP2002174721A - Fabry-Perot filter - Google Patents

Fabry-Perot filter

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JP2002174721A
JP2002174721A JP2000371261A JP2000371261A JP2002174721A JP 2002174721 A JP2002174721 A JP 2002174721A JP 2000371261 A JP2000371261 A JP 2000371261A JP 2000371261 A JP2000371261 A JP 2000371261A JP 2002174721 A JP2002174721 A JP 2002174721A
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high refractive
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Hitoshi Hara
Hideto Iwaoka
Naoteru Kishi
Makoto Noro
Kentaro Suzuki
仁 原
秀人 岩岡
直輝 岸
誠 野呂
健太郎 鈴木
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Yokogawa Electric Corp
横河電機株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wavelength variable Fabry-Perot filter in which the design range of the stress of films constituting a movable mirror can be increased and the dependence of the films on a film forming device is decreased. SOLUTION: The movable mirror of the Fabry-Perot filter consists of a multilayered optical thin film produced by layering films showing tensile stress and films showing compressive stress or of a multilayered optical thin film produced by layering films showing different tensile stresses. The multilayered optical thin film has, for example, a three-layered structure of high refractive index film F1/low refractive index film F2/high refractive index film F3 layered in this order.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光を波長選択的に透過させる波長選択フィルタとして使用されるファブリペローフィルタに関する。 The present invention relates to relates to Fabry-Perot filter used as a wavelength selective filter that transmits light in a wavelength-selective.

【0002】 [0002]

【従来の技術】ファブリペローフィルタは、図11に示すように、反射率の高い一対の鏡21、22を平行に向かい合わせ、それらの間にギャップを形成した素子(ファブリーペロー板)を用いた光学フィルタであり、光(例えば赤外線)を波長選択的に透過させる波長選択フィルタとして使用される。 BACKGROUND OF THE INVENTION Fabry-Perot filter, as shown in FIG. 11, facing each other in parallel with a pair of mirrors 21 and 22 having high reflectance, using a device to form a gap between them (the Fabry-Perot plate) an optical filter, is used a light (e.g., infrared) as a wavelength selection filter for wavelength-selectively transmitted.

【0003】ファブリペローフィルタにおいて、ギャップの長さ(間隔)をd、ギャップ内の屈折率をnとすると、入射光のうち下記式(1)の位相関係を満たす光が干渉効果により強め合って出射光となる。 [0003] In the Fabry-Perot filter, the length of the gap (the spacing) d, and the refractive index of the gap is n, the light satisfying the phase relation of the following equation of the incident light (1) is constructively by interference effects the emitted light. 下記式においてδは位相差、φは素子への入射角、λは光の波長である。 Phase difference δ in formula, phi is the angle of incidence on the element, lambda is the wavelength of light. また、光透過の様子は図12のようになる。 Also, state of the light transmission becomes as shown in FIG. 12.

【0004】 δ=4πndcosφ/λ 式(1) [0004] δ = 4πndcosφ / λ (1)

【0005】ファブリペローフィルタは、ギャップの長さdを可変とすることにより、透過する出射光の波長を変化させることができる。 [0005] Fabry-Perot filter, by varying the length d of the gap, it is possible to change the wavelength of the emitted light to be transmitted. このような波長可変ファブリペローフィルタとして、従来、固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡と、固定鏡に設けられた固定電極と、可動鏡に設けられた可動電極とを有し、固定電極と可動電極との間に電圧を印加して可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたものがある。 As such a wavelength tunable Fabry-Perot filter, conventionally, a fixed mirror, and oppositely disposed movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, and a fixed electrode provided on the fixed mirror, a movable and a movable electrode provided on the mirror, there is obtained by varying the length of the gap by displacing with respect to the fixed mirror and the movable mirror by applying a voltage between the fixed electrode and the movable electrode . 例えば、非分散型赤外線CO 2センサの波長選択フィルタとして使用される波長可変ファブリペローフィルタとして、CO 2吸収波長(約4.25μm)とリファレンス用波長(約3.9μm)を選択的に透過させるものがある。 For example, as a wavelength tunable Fabry-Perot filter is used as a wavelength selection filter of a non-dispersive infrared CO 2 sensor, for selectively transmitting the CO 2 absorption wavelength (about 4.25 [mu] m) and the reference wavelength (about 3.9 .mu.m) there are things.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した従来の波長可変ファブリペローフィルタは、以下に述べる(A)〜(C)の問題点を有するものであった。 [SUMMARY OF THE INVENTION] However, conventional tunable Fabry-Perot filter described above has had a problem described below (A) ~ (C). (A)従来の波長可変ファブリペローフィルタは、図1 (A) conventional tunable Fabry-Perot filter, FIG. 1
3に示すように、可動鏡6を単層構造の光学薄膜により形成している。 As shown in 3, to form a movable mirror 6 by the optical thin film of single-layer structure. なお、固定鏡4は基板1上に設けられている。 The fixed mirror 4 is provided on the substrate 1. このような単層構造の可動鏡6を作製するためには、可動鏡6を形成する膜自体が引張応力を示すようになる成膜材料や成膜条件を選択する必要がある。 Such to make the movable mirror 6 in a single-layer structure, it is necessary to select the film-forming material and film forming condition film itself to form the movable mirror 6 exhibits a tensile stress. 例えば可動鏡6をポリシリコン(単結晶シリコン)で形成する場合には、ポリシリコン膜が引張応力を示すようになる条件で成膜したり、ポリシリコンに不純物をドーピングしたりする必要がある。 For example in the case of forming the movable mirror 6 of polysilicon (single crystal silicon) it is or formed under the conditions that the polysilicon film exhibits a tensile stress, it is necessary or doped with an impurity into the polysilicon. しかし、これらの成膜方法を採用した場合、下記1〜3の問題が生じていた。 However, if you adopt these film-forming method, it had occurred in the following 1-3 problem. 1. 1. 成膜条件によって膜の引張応力がばらつき、膜の応力制御の成膜装置依存性が高くなる。 Tensile stress variation in the film by the film forming conditions, the film forming device-dependent stress control of the film becomes high. 例えば、ポリシリコン膜をLPCVD装置で成膜する場合、成膜温度60 For example, the case of forming a polysilicon film by LPCVD apparatus, film formation temperature 60
0℃付近では引張応力であるが、570℃以下や620 0, which is the tensile stress in the vicinity of ℃ but, 570 ℃ or less and 620
℃以上では圧縮応力となる。 ℃ becomes a compressive stress in the above. 2. 2. 圧縮応力の材料を使うためには、構造の工夫(膜の周りにフレームを付ける)などが必要であるとともに、 To use the material of the compressive stress (put a frame around the membrane) devised structure is needed, such as with,
面積の大きな膜を自立させることが困難である。 It is difficult to self the large membrane area. 3. 3. 上記1、2により、自立した膜の応力の設計範囲が狭く、物性で決まる応力しか選択できない。 The above 1,2, the design range of the self-supporting film stress is small and can not stress only selected determined by the physical properties.

【0007】(B)従来の波長可変ファブリペローフィルタは、2つの電極を対向させ、それら電極間に電圧を印加して駆動力を発生させることにより、固定鏡と可動鏡との間のギャップの長さを制御している。 [0007] (B) conventional tunable Fabry-Perot filter, are opposed to the two electrodes, by generating the applied driving force of a voltage between the electrodes, the gap between the fixed mirror and the movable mirror and controls the length. このファブリペローフィルタでは、動作時に静電気等によって両電極間に定格以上の過電圧が印加される機会はまれではない。 In the Fabry-Perot filter, opportunity overvoltage exceeding the rated between the electrodes is applied by static electricity or the like is not uncommon during operation. このように電極間に定格以上の電圧が印加されると、電圧印加により鏡同士が近接あるいは接触し、印加電圧により絶縁破壊を生じ短絡電流が流れる。 With such voltage exceeding the rated is applied between the electrodes, a mirror each other close to or in contact with the voltage application, short-circuit current flows caused dielectric breakdown by an applied voltage. その結果、鏡が破壊したり、鏡同士が融着したりして、印加電圧をゼロに戻しても鏡の間隔が元の状態に復帰しなくなる。 As a result, mirror destroy and mirror each other or fused, mirror spacing be returned is not returned to the original state the applied voltage to zero. あるいは、鏡がヒステリシス特性を持つようになる。 Alternatively, the mirror is to have a hysteresis characteristic. つまり、波長分別が不可能になったり、本来設計された「印加電圧−透過波長特性」が損なわれたりする。 That it is, or becomes impossible wavelength separation, originally designed "applied voltage - transmission wavelength characteristics" is or impaired.

【0008】(C)従来の波長可変ファブリペローフィルタは、図14に示すように、固定鏡4と可動鏡6との間に設けた犠牲層5をエッチングホール8からエッチング液によりエッチングし、所望の大きさまで犠牲層5をエッチングした時点でエッチングを停止することにより、固定鏡4と可動鏡6との間のエアーギャップ14を形成している。 [0008] (C) conventional tunable Fabry-Perot filter, as shown in FIG. 14, the sacrificial layer 5 provided between the fixed mirror 4 and the movable mirror 6 is etched from the etching hole 8 by the etching solution, the desired of by stopping the etching when the sacrificial layer 5 is etched to a size to form an air gap 14 between the fixed mirror 4 and a movable mirror 6. しかし、このギャップ形成方法を採用した場合、下記1〜3の問題が生じていた。 However, when employing this gap forming method had occurred below 1-3 problem. 1. 1. エッチング温度やエッチング液の寿命、濃度の違いなどに起因するエッチング速度のばらつきにより、犠牲層5のエッチングによって形成される可動鏡(ダイアフラム)6の大きさを一定に保つことが困難である。 Lifetime of the etching temperature and the etching solution, due to variations in etching speed due to differences in density, it is difficult to maintain the movable mirror which is formed by the etching of the sacrificial layer 5 (diaphragm) 6 size of the constant. 2. 2. 電極間に印可する電圧による静電吸引力と膜張力との釣り合いでギャップを精密に位置制御するため、個体間のダイアフラム寸法の違いに伴い、所望のギャップが得られる印可電圧も個体間で異なる。 To precisely position controlled gaps in balance between the electrostatic attraction force and the membrane tension by voltage applied between the electrodes, with the difference in diaphragm size between individuals, also differ between individuals applied voltage desired gap is obtained . したがって、個体ごとの校正が必要になる。 Therefore, the calibration of each individual is required. 3. 3. エッチングを途中で止めるため、犠牲層5の端部の微視的形状を一定に保つことが困難であり、その形状によって上記の印加電圧が変化する可能性がある。 To stop the etching on the way, it is difficult to keep the microscopic shape of the end portion of the sacrificial layer 5 constant, there is a possibility that the applied voltage of the changes depending on the shape. 4. 4. 基板1のほぼ全面に犠牲層5があるため、上部膜にピンホールが発生した場合、エッチング後に予期しない部分にギャップができ、素子不良やゴミ発生等の原因になり得る。 Since almost the entire surface of the substrate 1 is sacrificial layer 5, if the pin hole in the upper layer has occurred, can gap portion unexpected after etching, can cause such defective elements and dust generation.

【0009】本発明は、前述した事情に鑑みてなされたもので、その第1の目的は、可動鏡を構成する膜の応力の設計範囲を広くするとともに、その膜の成膜装置依存性を小さくした波長可変ファブリペローフィルタを提供することにある。 [0009] The present invention has been made in view of the foregoing, the first object is configured to widen the design range of the stress of the film constituting the movable mirror, the film formation apparatus dependence of film is to provide a tunable Fabry-Perot filter is made small. 本発明の第2の目的は、電極間に定格以上の電圧が印加されたときなどに鏡が破壊したり、鏡同士が融着したりすることを防止した波長可変ファブリペローフィルタを提供することにある。 A second object of the present invention is to provide a tunable Fabry-Perot filter or mirror broken like, a mirror each other to prevent or fused when a voltage exceeding the rated is applied between the electrodes It is in. 本発明の第3の目的は、可動鏡(ダイアフラム)の大きさを精度良く一定に保ち、所望ギャップが得られる印加電圧の個体間のばらつきを小さくした波長可変ファブリペローフィルタを提供することにある。 A third object of the present invention keeps the size of the movable mirror (diaphragm) to accurately constant is to provide a tunable Fabry-Perot filter has a small variation between individuals of the applied voltage desired gap is obtained .

【0010】 [0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、第1の目的を達成するため、下記(1)〜(5)の発明(第1発明) The present invention SUMMARY OF] In order to achieve the first object, the following (1) to invention (5) (first invention)
を提供する。 I will provide a. (1)固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡とを有し、可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記可動鏡を、引張応力を示す少なくとも1枚の膜と、圧縮応力を示す少なくとも1枚の膜とを積層してなる多層光学薄膜により形成したことを特徴とするファブリペローフィルタ。 (1) has a fixed mirror and a counter arranged movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, the length of the gap by displacing the movable mirror relative to the fixed mirror in Fabry-Perot filter with a variable, the movable mirror, and at least one membrane shows a tensile stress, and characterized by forming a multilayer optical thin film formed by laminating at least one layer showing a compressive stress Fabry-Perot filter.

【0011】(2)固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡とを有し、可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記可動鏡を、互いに異なる引張応力を示す少なくとも2枚の膜を積層してなる多層光学薄膜により形成したことを特徴とするファブリペローフィルタ。 [0011] (2) a fixed mirror, and a oppositely disposed movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, the gap by displacing the movable mirror relative to the fixed mirror in Fabry-Perot filter with variable length of the Fabry-Perot filters, characterized in that said movable mirror, formed by a multilayer optical thin film formed by laminating at least two films exhibiting different tensile stress from one another.

【0012】(3)多層光学薄膜が、高屈折率膜、低屈折率膜及び高屈折率膜をこの順で積層した3層構造の光学薄膜である(1)、(2)のファブリペローフィルタ。 [0012] (3) the multilayer optical thin film is a high refractive index film is a low refractive index film and a high refractive index film optical thin film having a three-layer structure formed by laminating in this order (1), Fabry-Perot filter (2) .

【0013】(4)多層光学薄膜が、下記(a)〜 [0013] (4) multi-layer optical thin film is represented by the following (a) ~
(d)のいずれかの構造を有する3層構造の光学薄膜である(3)のファブリペローフィルタ。 Fabry-Perot filter is an optical thin film of a three-layer structure having the structure of any of (d) (3). (a)圧縮応力を示す高屈折率膜、引張応力を示す低屈折率膜及び圧縮応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (A) high refractive index film exhibiting compressive stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the compressive stress indicates a tensile stress are laminated in this order. (b)引張応力を示す高屈折率膜、圧縮応力を示す低屈折率膜及び引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (B) a high refractive index film exhibiting tensile stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the tensile stress indicates a compressive stress are laminated in this order. (c)小さい引張応力を示す高屈折率膜、大きい引張応力を示す低屈折率膜及び小さい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (C) less high refractive index film exhibiting tensile stress, by laminating a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and low tensile stress exhibit large tensile stress in this order. (d)大きい引張応力を示す高屈折率膜、小さい引張応力を示す低屈折率膜及び大きい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (D) greater tensile high refractive index film exhibiting stress was laminated a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and high tensile stress shows a small tensile stress in this order.

【0014】(5)多層光学薄膜の光学膜厚がλ/4 [0014] (5) the optical thickness of the multilayer optical film is lambda / 4
(λ:波長)である(1)〜(4)のファブリペローフィルタ。 Fabry-Perot filters are: (lambda wavelength) (1) to (4).

【0015】本発明は、第2の目的を達成するため、下記(6)〜(8)の発明(第2発明)を提供する。 [0015] The present invention, in order to achieve the second object, provides the invention (second invention) of the following (6) to (8). (6)固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡と、固定鏡に設けられた固定電極と、可動鏡に設けられた可動電極とを有し、固定電極と可動電極との間に電圧を印加して可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記固定電極と可動電極との間に絶縁膜を配置したことを特徴とするファブリペローフィルタ。 (6) a fixed mirror, a movable mirror that is opposed to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, and a fixed electrode provided on the fixed mirror and a movable electrode provided on the movable mirror has, in a Fabry-Perot filter with variable length of the gap by displacing with respect to the fixed mirror and the movable mirror by applying a voltage between the fixed electrode and the movable electrode, the fixed electrode and the movable electrode Fabry-Perot filters, characterized in that a dielectric film between the.

【0016】(7)固定電極上に絶縁膜が設けられている(6)のファブリペローフィルタ。 [0016] (7) Fabry-Perot filter having an insulating film on the fixed electrode is provided (6).

【0017】(8)絶縁膜が窒化シリコン又は酸化シリコンにより形成されている(6)、(7)のファブリペローフィルタ。 [0017] (8) an insulating film is formed by silicon or a silicon oxynitride (6), a Fabry-Perot filter (7).

【0018】本発明は、第3の目的を達成するため、下記(9)〜(12)の発明(第3発明)を提供する。 The invention, for achieving the third object, there is provided a present invention (third invention) of the following (9) to (12). (9)基板上に形成された固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡とを有し、可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記ギャップは、固定鏡と可動鏡との間に予め所定の形状及び大きさの犠牲層を設けた後、この犠牲層をエッチングによりすべて、あるいは一部を除去することによって形成されたものであることを特徴とするファブリペローフィルタ。 (9) a fixed mirror formed on a substrate, and a counter arranged movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, displacing the movable mirror relative to the fixed mirror in Fabry-Perot filter with variable length of the gap by the gap, after previously provided a predetermined shape and size sacrificial layer between the fixed mirror and the movable mirror, all by etching the sacrificial layer Fabry-Perot filters, characterized in that, or one formed by removing a part.

【0019】(10)犠牲層の縦断面形状を略台形状とし、前記犠牲層外の領域において前記可動電極と前記固定電極を外部に取出すための電極パッドを形成した(9)に記載のファブリペローフィルタ。 [0019] (10) a longitudinal section of the sacrificial layer and substantially trapezoidal, Fabry according to the said sacrificial layer outside the region to form an electrode pad for taking out the fixed electrode and the movable electrode to the outside (9) Perot filter.

【0020】(11)前記基板の裏面に形成される反射防止膜と、前記反射防止膜上に保護層を介して形成され一部に光透過部を有する金属のアパーチャとを設け、前記犠牲層をエッチングにより除去した後に前記光透過部の前記保護膜を除去した(9)及び(10)に記載のファブリペローフィルタ。 [0020] (11) and the anti-reflection film formed on the back surface of the substrate, a metal aperture which transmits light in a portion formed through the protective layer on the anti-reflection film provided, the sacrificial layer Fabry-Perot filter according to the removal of the said protective layer of the light transmitting portion is removed by etching (9) and (10).

【0021】(12)前記可動鏡の中心及び外周部に前記犠牲層をエッチングするためのエッチングホールを設けた(9)及び(10)に記載のファブリペローフィルタ。 [0021] (12) Fabry-Perot filter according to the sacrificial layer in the center and the outer periphery of the movable mirror provided etching holes for etching (9) and (10).

【0022】 [0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明につきさらに詳しく説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, will be explained in more detail per the present invention. まず、第1発明について説明する。 First, a description will be given of the first invention. 第1発明では、引張応力を示す膜(引張応力膜)と圧縮応力を示す膜(圧縮応力膜)とを積層してなる多層光学薄膜、又は、互いに異なる引張応力を示す引張応力膜を積層してなる多層光学薄膜により可動鏡を形成する。 In the first invention, film exhibiting tensile stress film exhibiting (tensile stress film) and compressive stress (compressive stress film) and the multilayer optical thin film formed by laminating or stacking a tensile stress film show different tensile stress from one another the multilayer optical thin film composed of Te to form the movable mirrors. 引張応力膜及び圧縮応力膜は、それぞれ例えばポリシリコン(単結晶シリコン)、酸化シリコン、窒化シリコン等で形成することができる。 Tensile stress film and a compressive stress film, respectively, for example poly silicon (monocrystalline silicon), silicon oxide, may be formed of silicon nitride or the like. 引張応力膜と圧縮応力膜の組み合わせ又は引張応力膜同士の組み合わせとしては下記のものを例示できる。 As a combination between the combination or tensile stress film of tensile stress film and a compressive stress film can be exemplified the followings.

【0023】・圧縮応力膜(ポリシリコン)と引張応力膜(窒化シリコン)の組み合わせ ・圧縮応力膜(ポリシリコン)と引張応力膜(酸化シリコン)の組み合わせ ・圧縮応力膜(酸化シリコン)と引張応力膜(ポリシリコン)の組み合わせ ・圧縮応力膜(窒化シリコン)と引張応力膜(ポリシリコン)の組み合わせ ・引張応力膜(ポリシリコン)と引張応力膜(窒化シリコン)の組み合わせ ・引張応力膜(ポリシリコン)と引張応力膜(酸化シリコン)の組み合わせ [0023] Compression stress film (polysilicon) and the tensile stress film combination, the compressive stress film (silicon oxide) combination and compression stress film (silicon nitride) (polysilicon) and the tensile stress film (silicon oxide) and the tensile stress membrane combination, the compressive stress film (silicon nitride) of (polysilicon) and the tensile stress film combination, the tensile stress film of a combination of (polysilicon) tensile stress film (polysilicon) and the tensile stress film (silicon nitride) (polysilicon the combination of) and the tensile stress film (silicon oxide)

【0024】第1発明において、多層光学薄膜(可動鏡)は、図1に示すように、高屈折率膜F1/低屈折率膜F2/高屈折率膜F3をこの順で積層した3層構造の光学薄膜であることが好ましい。 [0024] In the first invention, a multilayer optical thin film (movable mirror), as shown in FIG. 1, a three-layer structure formed by laminating a high refractive index film F1 / low refractive index film F2 / high refractive index film F3 in this order it is preferably an optical thin film. これにより、膜応力設計の自由度を高くすることができる。 Thus, it is possible to increase the degree of freedom in film stress design. 上記3層構造の光学薄膜として、具体的には下記(a)〜(d)の構造を有する光学薄膜を挙げることができる。 An optical thin film of the three-layer structure, can be specifically exemplified an optical thin film having the following structure (a) ~ (d).

【0025】(a)圧縮応力を示す高屈折率膜F1/引張応力を示す低屈折率膜F2/圧縮応力を示す高屈折率膜F3の3層構造。 [0025] (a) 3-layer structure of a high refractive index film F3 showing a low refractive index film F2 / compressive stress indicates a high refractive index film F1 / tensile stress indicates a compressive stress. (b)引張応力を示す高屈折率膜F1/圧縮応力を示す低屈折率膜F2/引張応力を示す高屈折率膜F3の3層構造。 (B) Tensile three-layer structure of low refractive index film exhibits a high refractive index film F1 / compressive stress indicates stress F2 / pulling high refractive index film exhibiting stress F3. (c)小さい引張応力を示す高屈折率膜F1/大きい引張応力を示す低屈折率膜F2/小さい引張応力を示す高屈折率膜F3の3層構造。 (C) less tensile three-layer structure of the high refractive index film F3 showing a low refractive index film F2 / small tensile stress indicating a high refractive index film F1 / large tensile stress indicates stress. (d)大きい引張応力を示す高屈折率膜F1/小さい引張応力を示す低屈折率膜F2/大きい引張応力を示す高屈折率膜F3の3層構造。 (D) greater tensile three-layer structure of the high refractive index film F3 showing a low refractive index film F2 / large tensile stress indicating a high refractive index film F1 / small tensile stress indicates stress.

【0026】第1発明の多層光学薄膜は、その光学膜厚がλ/4(λ:波長)であること、すなわち光学膜厚λ The multilayer optical film of the first invention, the optical film thickness of lambda / 4: It is (lambda wavelength), i.e. an optical film thickness lambda
/4の単層膜相当の多層膜であることが適当である。 / It is suitably a fourth single layer film equivalent of the multilayer film. この場合、図1の3層膜は下記式(2)を満たすと光学的に光学膜厚λ/4の単層膜相当となる。 In this case, three-layer film of Figure 1 is to satisfy the optically monolayer film equivalent optical thickness lambda / 4 the following equation (2).

【0027】 λ/4=nd=n1d1+n2d2+n3d3 式(2) [0027] The λ / 4 = nd = n1d1 + n2d2 + n3d3 formula (2)

【0028】λ :波長 n :単層膜の屈折率 d :単層膜の膜厚 n1:高屈折率膜F1の屈折率 d1:高屈折率膜F1の膜厚 n2:低屈折率膜F2の屈折率 d2:低屈折率膜F2の膜厚 n3:高屈折率膜F3の屈折率 d3:高屈折率膜F3の膜厚 The lambda: Wavelength n: refractive index of the single layer d: single layer having a thickness n1: refractive index of the high refractive index film F1 d1: the high-refractive-index film F1 thickness n2: the low refractive index film F2 refractive index d2: thickness of the low refractive index film F2 n3: refractive index of the high refractive index film F3 d3: thickness of the high refractive index film F3

【0029】多層光学薄膜(可動鏡)として3層膜を用いる場合、各膜の膜応力をそれぞれσ1、σ2、σ3とすると、3層膜全体の膜応力σは近似的に下記式(3) [0029] When using a multi-layer optical thin film three-layer film as a (movable lens), .sigma.1 the film stress of each film respectively, .sigma. @ 2, when the .sigma.3, the film stress σ of three-layer film overall approximately the following formula (3)
で表される。 In represented.

【0030】 σ=(σ1d1+σ2d2+σ3d3)/(d1+d2+d3) 式(3) [0030] σ = (σ1d1 + σ2d2 + σ3d3) / (d1 + d2 + d3) (3)

【0031】したがって、例えば高屈折率膜F1、F3 [0031] Thus, for example, a high refractive index film F1, F3
が圧縮応力(σ1,σ3)を示し、低屈折率膜F2が引張応力(σ2)を示すとすると、膜厚d1、d2、d3 There compressive stress (.sigma.1, .sigma.3) indicates, when showing a low refractive index film F2 is the tensile stress (.sigma. @ 2), the thickness d1, d2, d3
を選択すれば、圧縮から引張までの3層膜全体の膜応力σを設計できる。 Be selected, it can be three-layer film design the entire film stress σ to tension from compression.

【0032】ここで、可動鏡に単層膜(ポリシリコン) [0032] Here, single-layer to the movable mirror (polysilicon)
を用いた場合と、高屈折率膜F1(圧縮応力膜:ポリシリコン)/低屈折率膜F2(引張応力膜:窒化シリコン)/高屈折率膜F3(圧縮応力膜:ポリシリコン)の3層膜を用いた場合の透過特性(設計波長λ=4.25 In the case of using the high refractive index film F1 (compressive stress film: polysilicon) / low refractive index film F2 (tensile stress film: silicon nitride) / high refractive index film F3 (compressive stress film: polysilicon) three layers of transmission characteristics when the film (designed wavelength lambda = 4.25
μm)を図2に示す。 [mu] m) are shown in Figure 2.

【0033】図2の計算に用いた数値は以下の通りである。 The numerical values ​​used in the calculation of Figure 2 is as follows. 単層膜 n=3.4245 d=310nm σ=−100MPa 3層膜・高屈折率膜F1(圧縮応力膜:ポリシリコン) n1=3.4245 d1=140nm σ1=−100MPa ・低屈折率膜F2(引張応力膜:窒化シリコン) n2=2.05 d2=50nm σ2=1000MPa ・高屈折率膜F3(圧縮応力膜:ポリシリコン) n3=3.4245 d3=140nm σ3=−100MPa 光学膜厚 n1d1+n2d2+n3d3=λ/4=4.25/4 Monolayer n = 3.4245 d = 310nm σ = -100MPa 3 -layer film, the high refractive index film F1 (compressive stress film: polysilicon) n1 = 3.4245 d1 = 140nm σ1 = -100MPa · low refractive index film F2 (tensile stress film: silicon nitride) n2 = 2.05 d2 = 50nm σ2 = 1000MPa · high refractive index film F3 (compressive stress film: polysilicon) n3 = 3.4245 d3 = 140nm σ3 = -100MPa optical thickness n1d1 + n2d2 + n3d3 = λ / 4 = 4.25 / 4
μm 膜応力 76MPaの引張応力 tensile stress of μm membrane stress 76MPa

【0034】図2より、3層可動鏡を用いたファブリペローフィルタ(図3参照)と、単層可動鏡を用いたファブリペローフィルタ(図4参照)は、分光特性がほぼ同じであることがわかる。 [0034] From FIG. 2, the Fabry-Perot filter using a three-layer movable mirror (see FIG. 3), a Fabry-Perot filter using the single-layer movable mirror (see FIG. 4) is that the spectral characteristics are substantially the same Recognize. また、単層では圧縮応力で自立しない(座屈する)膜も、3層構造にすると全体的な膜応力が引張応力となるため自立することがわかる。 Further, (buckling) does not self-supporting in compressive stress in a single layer film is also seen that the overall film stress when a three-layer structure is self-supporting because the tensile stress.

【0035】なお、第1発明は上述の記載に制限されるものではなく、例えば下記のような応用、変形等が可能である。 [0035] The first invention is not intended to be limited to the above description, for example applications as described below, are possible deformation. 1.3層膜のうちの上下の膜の膜厚バランスを変えることで、自立した可動鏡を上に凸又は下に凸にすることができる。 By changing the thickness balance of the upper and lower membranes of 1.3-layer film, a self-supporting movable mirror can be convex convex or bottom to top. 特に、図5に示すように上に凸の可動鏡を備えたファブリペローフィルタは、光の閉じ込め効果が期待でき、最大透過率の向上が可能である。 In particular, a Fabry-Perot filter with a convex of the movable mirrors on as shown in FIG. 5, a light confinement effect can be expected, it is possible to improve the maximum transmittance. 2. 2. 多層光学薄膜の光学膜厚は4/λとしてもよい。 Optical film thickness of the multilayer optical film may be a 4 / lambda.

【0036】次に、第2発明について説明する。 Next, a description will be given of the second invention. 第2発明では、固定電極と可動電極との間に絶縁膜を配置する。 In the second invention, to place the insulating film between the fixed electrode and the movable electrode. 絶縁膜の配置位置に必ずしも限定はないが、固定電極上に絶縁膜を設けることが適当である(後記実施例参照)。 Although not always limited to the position of the insulating film, it is appropriate to provide an insulating film on the fixed electrode (see Example). また、絶縁膜の材質にも限定はなく、例えば窒化シリコン、酸化シリコン等によって絶縁膜を形成することができる。 Further, there is no limitation on the material of the insulating film, for example, silicon nitride, by a silicon oxide or the like can form an insulating film.

【0037】さらに、第3発明について説明する。 Furthermore, a description will be given of a third invention. 第3 Third
発明では、固定鏡と可動鏡との間のギャップを形成するに当たり、固定鏡と可動鏡との間に予め所定の形状及び大きさの犠牲層を設けた後、エッチングにより前記犠牲層をすべて除去する。 Invention in, in forming a gap between the fixed mirror and the movable mirror, in advance after providing a predetermined shape and size sacrificial layer, removing all the sacrificial layer by etching between the fixed mirror and the movable mirror to. 例えば、犠牲層を所望の可動鏡(ダイアフラム)の大きさに対応する大きさ形成し、さらに可動鏡等を成膜した後、エッチングホール越しにウエットエッチングにより犠牲層をすべて除去する。 For example, a sacrificial layer is formed magnitude corresponding to the magnitude of the desired moveable mirror (diaphragm), it was further deposited movable mirror or the like, to remove any sacrificial layer by wet etching to etch holes over. ダイアフラムの大きさは犠牲層形成時のエッチング精度には依存するが、犠牲層除去時のエッチング精度には依存しなくなるため、より精度の高いギャップの形成が可能になる。 The size of the diaphragm is dependent on the etching accuracy at the time of forming the sacrificial layer, because no longer depend on the etching accuracy at the time of sacrificial layer removal, allowing more accurate gap formation is. この場合、犠牲層の形状に限定はないが、応力集中を緩和する効果を有する点で犠牲層の縦断面形状を略台形状とすることが好ましい。 In this case, although not limited to the shape of the sacrificial layer, it is preferable that the longitudinal sectional shape of the sacrificial layer and substantially trapezoidal in that it has an effect of alleviating the stress concentration.

【0038】ところで、第1発明で用いる多層光学薄膜は、ファブリペローフィルタ以外の光学素子にも適用可能である。 By the way, the multilayer optical film used in the first invention can be applied to an optical element other than the Fabry-Perot filter. したがって、本発明は、下記(13)〜(1 Accordingly, the present invention provides the following (13) to (1
7)の発明をも提供する。 Also provides the invention of 7).

【0039】(13)引張応力を示す少なくとも1枚の膜と、圧縮応力を示す少なくとも1枚の膜とを積層してなる多層光学薄膜。 [0039] (13) at least one membrane showing the tensile stress, the multilayer optical thin film formed by laminating at least one layer showing a compressive stress.

【0040】(14)互いに異なる引張応力を示す少なくとも2枚の膜を積層してなる多層光学薄膜。 [0040] (14) a multilayer optical thin film formed by laminating at least two films exhibiting different tensile stress from one another.

【0041】(15)高屈折率膜、低屈折率膜及び高屈折率膜をこの順で積層した3層構造を有する(13)、 [0041] (15) a high refractive index film has a three-layer structure of a low refractive index film and a high refractive index film in this order (13),
(14)に記載の多層光学薄膜。 Multilayer optical thin film according to (14).

【0042】(16)下記(a)〜(d)のいずれかの3層構造を有する(15)の多層光学薄膜。 [0042] (16) a multilayer optical thin film of the following (a) ~ has either a three-layer structure of (d) (15). (a)圧縮応力を示す高屈折率膜、引張応力を示す低屈折率膜及び圧縮応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (A) high refractive index film exhibiting compressive stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the compressive stress indicates a tensile stress are laminated in this order. (b)引張応力を示す高屈折率膜、圧縮応力を示す低屈折率膜及び引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (B) a high refractive index film exhibiting tensile stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the tensile stress indicates a compressive stress are laminated in this order. (c)小さい引張応力を示す高屈折率膜、大きい引張応力を示す低屈折率膜及び小さい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (C) less high refractive index film exhibiting tensile stress, by laminating a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and low tensile stress exhibit large tensile stress in this order. (d)大きい引張応力を示す高屈折率膜、小さい引張応力を示す低屈折率膜及び大きい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (D) greater tensile high refractive index film exhibiting stress was laminated a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and high tensile stress shows a small tensile stress in this order.

【0043】(17)(13)〜(16)の多層光学薄膜を用いたことを特徴とする光学素子。 [0043] (17) (13) to an optical element characterized by using a multilayer optical thin film (16).

【0044】また、第2発明の技術的思想、すなわち、 [0044] In addition, the technical idea of ​​the second aspect of the invention, ie,
電極と電極との間に絶縁膜を配置することにより、電極間に定格以上の電圧が印加されたときなどに電極が破壊したり、電極同士が融着したりすることを防止する技術的思想は、2つ以上の電極を対向させ、その電極間に電圧を印加して駆動力を発生させる静電アクチュエータ全般に適用可能である。 By disposing the insulating layer between the electrode and the electrode, the technical idea of ​​preventing or electrode destruction, such as when the voltage exceeding the rated is applied between the electrodes, that the electrodes each other or fused it is made to face the two or more electrodes can be applied to the electrostatic actuator in general to generate a driving force by applying a voltage between the electrodes. さらに、この第2発明の技術的思想は、上記静電アクチュエータを用いて鏡を駆動させる光学素子全般、例えば上記静電アクチュエータで反射鏡を駆動することにより光路を切り替える光学素子等に適用可能である。 Further, the technical idea of ​​the second invention, can be applied to an optical element for switching the optical path by the optical element in general for driving a mirror, for example, in the electrostatic actuator for driving the reflecting mirror using the above electrostatic actuator is there. したがって、本発明は、下記(18)〜 Accordingly, the present invention provides the following (18) to
(20)の発明をも提供する。 (20) also provides the invention.

【0045】(18)2つ以上の電極を対向させ、それら電極間に電圧を印加して駆動力を発生させる静電アクチュエータにおいて、電極と電極との間に絶縁膜を配置したことを特徴とする静電アクチュエータ。 [0045] (18) are opposed to two or more electrodes, the electrostatic actuator that generates a driving force by applying a voltage between the electrodes, and characterized in that a dielectric film between the electrode and the electrode electrostatic actuator.

【0046】(19)電極上に絶縁膜が設けられている(18)の静電アクチュエータ。 The electrostatic actuator of (19) an insulating film on an electrode is provided (18).

【0047】(20)(18)、(19)の静電アクチュエータ用いて鏡を駆動させることを特徴とする光学素子。 [0047] (20) (18), wherein the optical element driving the mirror using electrostatic actuator (19).

【0048】静電アクチュエータの構造は、2つ以上の電極が基本構成要素であるため単純であり、μm単位から1mm程度までの微小量駆動の分野では、本発明の静電アクチュエータの応用範囲は多岐にわたる。 The structure of the electrostatic actuator is simple because two or more electrodes is the basic component in the field of small amounts drive from μm units to about 1 mm, the application range of the electrostatic actuator of the present invention a wide range. 特に、マイクロマシニング技術では、簡便にかつ低コストで本発明の静電アクチュエータを実現することが可能である。 In particular, the micro-machining technology, it is possible to realize an electrostatic actuator of the present invention in a simple and at low cost.

【0049】 [0049]

【実施例】以下に実施例を示す。 [Example] the following examples are set forth. (実施例1)図6は実施例1のファブリペローフィルタを示す断面図である。 (Example 1) FIG. 6 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 1. このファブリペローフィルタは第1発明及び第3発明を使用している。 The Fabry-Perot filter uses a first invention and the third invention. また、図6(A) Also, FIG. 6 (A)
は犠牲層をエッチングする前の状態、図6(B)は犠牲層をエッチングした後の状態を示している。 The state before etching the sacrificial layer, FIG. 6 (B) shows a state after etching the sacrificial layer.

【0050】図6において、1は基板、2は固定鏡、3 [0050] In FIG. 6, 1 denotes a substrate, 2 is a fixed mirror, 3
は固定電極、4は層間絶縁膜、5は犠牲層、6は可動鏡、7は可動電極、8はエッチングホール、9は反射防止膜、10は保護膜、11はアパーチャ、12は電極パッド、13は電極パッド、14はエアギャップ、15は光透過部を示す。 The fixed electrode, the interlayer insulating film 4, the sacrificial layer 5, 6 is movable mirror 7 is movable electrode 8 is etched holes, the anti-reflection film 9, the 10 protective film, 11 is the aperture 12 is the electrode pads, 13 electrode pad, 14 air gap 15 denotes a light transmissive portion.

【0051】基板1は、透過波長帯域の光を透過する材料、例えばシリコン、サファイア、ゲルマニウムなどからなる。 The substrate 1 is made of a material that transmits light of a transmission wavelength band, for example, silicon, sapphire, and the like germanium. 固定鏡2は、フィルタの中心波長λの1/4波長に相当する光学膜厚を有する単層又は多層膜からなる。 Fixed mirror 2 is composed of a monolayer or multilayer film having an optical thickness corresponding to a quarter wavelength of the center wavelength λ of the filter. 多層膜としては、例えば高屈折率層をポリシリコン、低屈折率層を酸化シリコンで形成したものが挙げられる。 The multilayer film, for example, polysilicon of high refractive index layer, those the low refractive index layer was formed by silicon oxide. 固定電極3は、静電駆動のための電極であり、例えば固定鏡2のポリシリコンに不純物をドーピングした電極である。 Fixed electrode 3 is an electrode for electrostatic driving, for example an electrode which is doped with an impurity in the polysilicon of the fixed mirror 2. 層間絶縁膜4は、固定電極3と可動電極7 Interlayer insulating film 4, the fixed electrode 3 and the movable electrode 7
の絶縁を保つ絶縁膜であり、例えば窒化シリコンなどからなる。 An insulating film to maintain the insulation, for example made of silicon nitride.

【0052】犠牲層5は、ファブリペローフィルタを構成するために必要なエアギャップ14を形成するための部分である。 [0052] the sacrificial layer 5 is a portion for forming the air gap 14 necessary for forming the Fabry-Perot filter. 所望の大きさのファブリペローフィルタを形成するための形状、大きさとし、また縦断面形状を台形にすることで応力集中を緩和する効果が得られる。 Shape to form a Fabry-Perot filter having a desired size, size Satoshi, also effect of mitigating the stress concentration by the longitudinal sectional shape trapezoid is obtained. 犠牲層5は、例えばPSGや酸化シリコン膜などのフッ酸系のエッチャントにより除去可能な物質で形成する。 Sacrificial layer 5 is formed, for example, PSG or removable by hydrofluoric acid etchant such as a silicon oxide film material.

【0053】可動鏡6は、固定鏡2との間で干渉により特定波長を透過させる多層膜反射鏡である。 [0053] movable mirror 6 is a multilayer reflector that transmits a specific wavelength by interference between the fixed mirror 2. 例えば、上下の高屈折率層にシリコン、中間の低屈折率層に窒化シリコンを用い、Si/SI 34 /Siの3層で形成することができる。 For example, silicon and below the high refractive index layer, a silicon nitride in the middle of the low refractive index layer can be formed of three layers of Si / SI 3 N 4 / Si . 可動電極7は、静電駆動のための電極であり、例えば可動鏡6のシリコンに不純物をドーピングした電極である。 Movable electrode 7 is an electrode for electrostatic driving, for example an electrode doped with an impurity into the silicon of the movable mirror 6. エッチングホール8は、犠牲層5をエッチングするエッチング液が入るための穴であり、可動鏡の中心及び外周部に形成され、エッチング液の拡散と置換及び乾燥を容易にしている。 Etching hole 8 is a hole for the etching solution for etching the sacrificial layer 5 enters, it is formed in the center and the outer periphery of the movable mirror, to facilitate the substitution and drying the spread of the etchant.

【0054】反射防止膜9は、高屈折率の基板を用いた場合に基板からの透過光の透過率を高めるための層で、 [0054] antireflection film 9, a layer for increasing the transmittance of the transmitted light from the substrate in the case of using a substrate having a high refractive index,
透過波長帯域の光を有効に透過する光学膜厚を有する単層又は多層膜からなる。 A single layer or multilayer film having an optical thickness of effectively transmitting light transmission wavelength bands. 例えば、基板1がシリコンで反射防止膜9が酸化シリコンの組み合わせがある。 For example, the anti-reflection film 9 substrate 1 in silicon is a combination of silicon oxide. 保護膜10は、犠牲層エッチング時に反射防止膜9がエッチング液に侵されることを防止するための保護膜であり、例えば窒化シリコンからなる。 Protective film 10, an antireflection film 9 during the sacrificial layer etching is a protective film for preventing be affected by an etchant, for example, silicon nitride.

【0055】アパーチャ11は、光透過部を規定する層であり、例えばAuなどの金属膜からなる。 [0055] aperture 11 is a layer which defines the light transmission portion, for example, a metal film such as Au. アパーチャ11をエッチングすることにより光透過部15を形成する。 The aperture 11 forms a light transmitting portion 15 by etching. 電極パッド12は、可動電極7の電極取り出しパッドであり、例えばAuなどの金属膜からなる。 Electrode pad 12 is an electrode extraction pad of the movable electrode 7, for example, a metal film such as Au. 電極パッド13は、固定電極3の電極取り出しパッドであり、例えばAuなどの金属膜からなる。 The electrode pad 13 is an electrode extraction pad of the fixed electrode 3, for example, a metal film such as Au. エアギャップ14は、 Air gap 14,
犠牲層5のエッチングで形成され、ファブリペローフィルタの固定鏡3と可動鏡6の干渉距離を形成する部分である。 Is formed by etching of the sacrificial layer 5, a portion forming an interference distance of the fixed lens 3 and the movable mirror 6 of the Fabry-Perot filter. 光透過部15は、ファブリペローフィルタの光透過部分である。 Light transmitting portion 15 is a light transmitting portion of the Fabry-Perot filter. 尚、電極パッド12,13は犠牲層5の外の領域に設けられる。 The electrode pads 12 and 13 are provided outside the region of the sacrificial layer 5.

【0056】本例のファブリペローフィルタは、エッチングで除去される犠牲層5は、大きさが規定されているために、エッチングレートがばらついても一定の大きさの可動鏡(ダイアフラム)6が形成でき、寸法精度の高い可変ギャップを有するファブリペローフィルタが実現できる。 [0056] Fabry-Perot filter of this embodiment, the sacrificial layer 5 is removed by etching, in order to size is defined, constant size of the movable mirror also varies the etching rate (diaphragm) 6 formed can, Fabry-Perot filter having a high variable gap dimensional accuracy can be realized. また、可動鏡6を前述の多層構造としたので、 Further, since the movable mirror 6 has the aforementioned multilayer structure,
可動鏡6を構成する膜の応力の設計範囲を広くすることができるとともに、その膜の成膜装置依存性を小さくすることができる。 It is possible to widen the design range of the stress of the film constituting the movable mirror 6, it is possible to reduce the film deposition apparatus dependence of the membrane.

【0057】(実施例2)図7は実施例2のファブリペローフィルタを示す断面図である。 [0057] (Embodiment 2) FIG. 7 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 2. このファブリペローフィルタは第1発明を使用している。 The Fabry-Perot filter uses a first invention. なお、図7において図6と同じ部分には、同一の参照符号を付してその説明を省略し、可動鏡6の中心部のエッチングホール8は図面の簡略化のために省略した。 Note that the same parts as in FIG. 6 in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals to omit the description thereof, the etching hole 8 in the center of the movable mirror 6 is omitted for simplification of the drawing.

【0058】本例のファブリペローフィルタは、犠牲層5のエッチングをエッチング時間の制御によって途中で止めた構造の途中止めエアギャップ16を有する。 [0058] Fabry-Perot filter of this example has a middle stop air gap 16 of the middle stop structure the etching of the sacrificial layer 5 by controlling the etching time. すなわち、実施例1において、犠牲層5のエッチングを途中止めすることによってエアギャップ14を形成したもので、実施例1の構造において、ダイアフラム直径の異なる複数サイズのファブリペローフィルタを作ることができる。 That is, in Example 1, which was to form the air gap 14 by stopping halfway etching of the sacrificial layer 5, it is possible in the structure of Example 1, making a Fabry-Perot filter a plurality of sizes with different diaphragm diameters. 本例では、1つのプロセスで複数サイズのファブリペローフィルタを作ることができるため、可動鏡6の応力のばらつきで静電駆動電圧が変化してしまう場合には、エッチング時間の最適化によってダイアフラム直径を最適化することで、上記静電駆動電圧の変化を調整できるという利点がある。 In this example, it is possible to make a Fabry-Perot filter multi-size in a process, when the electrostatic drive voltage variation in the stress of the movable mirror 6 is changed, the diaphragm diameter by optimizing the etching time by optimizing, it has the advantage of adjustment variation of the electrostatic drive voltage.

【0059】(実施例3)図8は実施例3のファブリペローフィルタを示す断面図である。 [0059] (Embodiment 3) FIG. 8 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 3. このファブリペローフィルタは第1発明、第2発明及び第3発明を使用している。 The Fabry-Perot filter uses a first invention, second invention and third invention. なお、図8において図6と同じ部分には、同一の参照符号を付してその説明を省略し、可動鏡6の中心部のエッチングホール8は図面の簡略化のために省略した。 Note that the same parts as in FIG. 6 in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals to omit the description thereof, the etching hole 8 in the center of the movable mirror 6 is omitted for simplification of the drawing.

【0060】本例のファブリペローフィルタは、固定電極3と可動電極7が接触した場合にこれらが融着することを防止する融着防止膜(絶縁膜)17が、固定電極3 [0060] Fabry-Perot filter of the present example, anti-blocking film (insulating film) 17 to prevent they are fused when the stationary electrode 3 and the movable electrode 7 is in contact, the fixed electrode 3
上に設けられている。 It is provided in the above. 融着防止膜17は例えば窒化シリコンなどで形成される。 Anti-blocking film 17 is formed like, for example, silicon nitride. 融着防止膜17は実施例1、実施例2のいずれかの構造にも適用可能で、電極パッド1 Anti-blocking film 17 Example 1, can be applied to any structure of the second embodiment, the electrode pad 1
2と電極パッド13に静電駆動電圧を印加して静電駆動する場合、可動電極7が固定電極3に引き寄せられて接触するPull-in現象が発生しても、融着防止膜17があると過電流が流れないため、融着などにより可動電極7 2 in the case where it is applied to the electrode pad 13 electrostatic drive voltage for driving the electrostatic, even Pull-in phenomenon movable electrode 7 is in contact is attracted to the fixed electrode 3 occurs, there is a fusion preventing layer 17 because overcurrent does not flow, the movable electrode 7 due fusion
が付着して戻らなくなる現象を回避できる。 There is possible to avoid the phenomenon that will not return to adhere. 融着防止膜17はギャップ14内にあっても静電駆動に影響を与えることはない。 Anti-fusing layer 17 does not affect the well electrostatic drive be within the gap 14.

【0061】(実施例4)図9は実施例4のファブリペローフィルタを示す断面図である。 [0061] (Embodiment 4) FIG. 9 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 4. このファブリペローフィルタは第1発明及び第2発明を使用している。 The Fabry-Perot filter using the first and second aspects of the invention. なお、図9において図6と同じ部分には、同一の参照符号を付してその説明を省略し、可動鏡6の中心部のエッチングホール8は図面の簡略化のために省略した。 Note that the same parts as in FIG. 6 in FIG. 9 are designated by the same reference numerals to omit the description thereof, the etching hole 8 in the center of the movable mirror 6 is omitted for simplification of the drawing.

【0062】本例のファブリペローフィルタは、実施例3において、実施例2と同様に犠牲層5のエッチングを途中止めすることによって途中止めエアギャップ18を形成したもので、実施例3の構造において、ダイアフラム直径の異なる複数サイズのファブリペローフィルタを作ることができる。 [0062] Fabry-Perot filter of this example, in Example 3, obtained by forming a middle stop air gap 18 by stopping halfway etched similarly sacrificial layer 5 as in Example 2, in the structure of Example 3 You can make a Fabry-Perot filter multi-size having different diaphragm diameters. したがって、本例は途中止めエアギャップ18に関し実施例2で述べたのと同様の利点を有する。 Thus, this embodiment has the same advantages as described in the Example 2 relates stop the air gap 18 along the way. また、実施例3と同様に、固定電極3と可動電極7が接触した場合にこれらが融着することを防止する融着防止膜(絶縁膜)17が、固定電極3上に設けられている。 Further, in the same manner as in Example 3, anti-blocking film (insulating film) 17 to prevent it is fused when the stationary electrode 3 and the movable electrode 7 is in contact is provided on the fixed electrode 3 . したがって、本例は融着防止膜17に関し実施例3で述べたのと同様の利点を有する。 Thus, this embodiment has the same advantages as described in the Example 3 relates to anti-fusing layer 17.

【0063】(実施例5)図10は実施例5のファブリペローフィルタを示す断面図である。 [0063] (Embodiment 5) FIG. 10 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 5. このファブリペローフィルタは第1発明及び第3発明を使用している。 The Fabry-Perot filter uses a first invention and the third invention. なお、図10において図6と同じ部分には、同一の参照符号を付してその説明を省略し、可動鏡6の中心部のエッチングホール8は図面の簡略化のために省略した。 Note that the same parts as in FIG. 6 in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals to omit the description thereof, the etching hole 8 in the center of the movable mirror 6 is omitted for simplification of the drawing.

【0064】本例のファブリペローフィルタは、実施例1において、保護膜10に代えて、保護層19及び保護層20を積層した裏面保護膜を設けたものである。 [0064] Fabry-Perot filter of this example, in Example 1, in place of the protective film 10, is provided with a back surface protective film obtained by laminating a protective layer 19 and the protective layer 20. この裏面保護膜は、犠牲層5のエッチング時に反射防止膜9 The back surface protective film, antireflection film during etching of the sacrificial layer 5 9
を保護する膜であり、上側の保護層19は例えばポリシリコンなどからなり、下側の保護層20は例えば窒化シリコンなどからなる。 A film for protecting the upper protective layer 19 is made of, for example, poly-silicon, protective layer 20 of the lower side is of, for example, silicon nitride. 本例の裏面保護膜は、実施例1〜 Back protective film of this example, Example 1
4のいずれにも適用できる。 4 can be applied to any of the.

【0065】保護層19に直に接触するように金属のアパーチャ11を成膜すると、光透過部15を形成する際に金属膜の残滓が発生する場合がある。 [0065] When forming a metal aperture 11 so that direct contact with the protective layer 19, in some cases remnants of the metal film occurs when forming the light transmitting portion 15. これに対し、保護層19とアパーチャ11との間に保護層20を入れると、アパーチャ11が保護層19に接しないので、光透過部15の形成時にウェットエッチングで保護層20を除去して、さらに保護層19を除去すれば、光透過部1 In contrast, when put protective layer 20 between the protective layer 19 and the aperture 11, since the aperture 11 is not in contact with the protective layer 19, by removing the protective layer 20 by wet etching in forming the light transmitting portion 15, if further remove the protective layer 19, the light transmission pieces 1
5に金属膜の残滓が形成されず、光の透過率が向上する。 5 without being formed residue of the metal film, the light transmittance is improved.

【0066】また、保護層10が窒化シリコンの場合(実施例1〜4)には、フッ酸系のエッチング液で犠牲層をエッチングする際に、保護層10がエッチングされて膜厚が減少するが、保護膜19としてポリシリコン膜などの耐フッ酸性が強い膜を入れておけば、保護層20 [0066] When the protective layer 10 is a silicon nitride (Examples 1-4), when etching the sacrificial layer with an etching solution of hydrofluoric acid, the protective layer 10 is etched film thickness is reduced but if you put a hydrofluoric acid resistance is strong film such as polysilicon film as the protective film 19, the protective layer 20
の窒化シリコン膜がエッチングされても、保護層19がエッチングストッパーとなり、反射防止膜9がフッ酸に侵されることはない。 Also the silicon nitride film is etched, the protection layer 19 serves as an etching stopper, the anti-reflection film 9 is not be attacked by the hydrofluoric acid. 保護層19のポリシリコンは、犠牲層のエッチング後にドライエッチングによってアパーチャ11をマスクとして容易に除去することができる。 Polysilicon protective layer 19 can be easily removed an aperture 11 as a mask by dry etching after the etching of the sacrificial layer.

【0067】本例のようにポリシリコン/窒化シリコンといった構造の裏面保護膜を採用することによって、エッチング時間を長くした場合でも反射防止膜をエッチング液から保護することが可能となる。 [0067] By employing the back protective film structures such polysilicon / silicon nitride as in this example, it is possible to protect the anti-reflection film even when long etching time from the etching solution. また、実施例1〜 In Examples 1 to
4のように保護膜10が光透過部15にわずかに残ってしまう構造に比べて光透過部15の保護膜を完全に除去できるため、フィルタの光透過率を向上させることができる。 Since the protective film 10 as 4 can be completely removing the protective film in the light transmitting portion 15 as compared with the slightly remaining will structure the light transmitting portion 15, it is possible to improve the light transmittance of the filter.

【0068】 [0068]

【発明の効果】第1発明のファブリペローフィルタは、 EFFECT OF THE INVENTION Fabry-Perot filter of the first aspect of the present invention,
可動鏡を構成する膜の応力の設計範囲を広くすることができるとともに、その膜の成膜装置依存性を小さくすることができる。 It is possible to widen the design range of the stress of the film constituting the movable mirror, it is possible to reduce the film deposition apparatus dependence of the membrane. 第2発明のファブリペローフィルタは、 Fabry-Perot filter of the second invention,
電極間に定格以上の電圧が印加されたときなどに鏡が破壊したり、鏡同士が融着したりすることを防止することができる。 Destroy mirror, such as when the voltage exceeding the rated is applied between the electrodes, it is possible to mirror each other to prevent or fused. 第3発明のファブリペローフィルタは、可動鏡(ダイアフラム)の大きさを精度良く一定に保ち、所望ギャップが得られる印加電圧の個体間のばらつきを小さくすることができる。 Fabry-Perot filter of the third aspect of the present invention keeps the size of the movable mirror (diaphragm) to accurately constant, it is possible to reduce the variation between individuals of the applied voltage desired gap is obtained.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】第1発明で用いる多層光学薄膜の一例を示す説明図である。 1 is an explanatory diagram showing an example of a multilayer optical film used in the first invention.

【図2】可動鏡に単層膜を用いたファブリペローフィルタ及び3層膜を用いたファブリペローフィルタの透過特性を示すグラフである。 2 is a graph showing the transmission characteristics of the Fabry-Perot filter using a Fabry-Perot filter and a three-layer film with single layer to the movable mirror.

【図3】3層可動鏡を用いたファブリペローフィルタの一例の説明図である。 3 is a diagram illustrating an example of a Fabry-Perot filter using a three-layer movable mirror.

【図4】単層可動鏡を用いたファブリペローフィルタの一例の説明図である。 4 is an explanatory view of an example of a Fabry-Perot filter using a monolayer movable mirror.

【図5】第1発明で用いる多層光学薄膜の一例を示す説明図である。 5 is an explanatory diagram showing an example of a multilayer optical film used in the first invention.

【図6】実施例1のファブリペローフィルタを示す断面図である。 6 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 1.

【図7】実施例2のファブリペローフィルタを示す断面図である。 7 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 2.

【図8】実施例3のファブリペローフィルタを示す断面図である。 8 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 3.

【図9】実施例4のファブリペローフィルタを示す断面図である。 9 is a sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 4.

【図10】実施例5のファブリペローフィルタを示す断面図である。 10 is a cross-sectional view showing a Fabry-Perot filter of Example 5.

【図11】ファブリペロー板の説明図である。 FIG. 11 is an explanatory diagram of the Fabry-Perot plate.

【図12】ファブリペローフィルタにおける光透過の様子を示すグラフである。 12 is a graph showing a state of light transmission in the Fabry-Perot filter.

【図13】従来のファブリペローフィルタの説明図である。 13 is an explanatory view of a conventional Fabry-Perot filter.

【図14】従来のファブリペローフィルタのギャップ形成方法を示す断面図である。 14 is a cross-sectional view showing the gap forming method of a conventional Fabry-Perot filter.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板 2 固定鏡 3 固定電極 4 層間絶縁膜 5 犠牲層 6 可動鏡 7 可動電極 8 エッチングホール 9 反射防止膜 10 保護膜 11 アパーチャ 12 電極パッド 13 電極パッド 14 エアギャップ 15 光透過部 16 途中止めエアギャップ 17 融着防止膜(絶縁膜) 18 途中止めエアギャップ 19 保護層 20 保護層 F1,F3 高屈折率膜 F2 低屈折率膜 1 substrate 2 fixed mirror 3 fixed electrode 4 interlayer insulating film 5 sacrificial layer 6 movable mirror 7 movable electrode 8 etching hole 9 antireflection film 10 protective film 11 aperture 12 electrode pad 13 electrode pad 14 air gap 15 the light transmitting portion 16 midway stop air gap 17 anti-blocking film (insulating film) 18 middle stop air gap 19 protective layer 20 protective layer F1, F3 high refractive index film F2 low refractive index film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岸 直輝 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内 (72)発明者 岩岡 秀人 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内 Fターム(参考) 2H041 AA05 AB10 AC06 AZ01 AZ08 2H048 GA07 GA13 GA33 GA51 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Naoki Kishi Musashino-shi, Tokyo Naka 2-chome No. 9 No. 32 Yokogawa electric Corporation within (72) inventor Hideto Iwaoka Musashino-shi, Tokyo Naka 2-chome No. 9 No. 32 Yokogawa electric Co., Ltd. in the F-term (reference) 2H041 AA05 AB10 AC06 AZ01 AZ08 2H048 GA07 GA13 GA33 GA51

Claims (20)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡とを有し、可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記可動鏡を、引張応力を示す少なくとも1枚の膜と、圧縮応力を示す少なくとも1枚の膜とを積層してなる多層光学薄膜により形成したことを特徴とするファブリペローフィルタ。 And 1. A fixed mirror, and a oppositely disposed movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, the gap by displacing the movable mirror relative to the fixed mirror in Fabry-Perot filter with a length variable, the movable mirror, and at least one membrane showing the tensile stress, that is formed by a multilayer optical thin film formed by laminating at least one layer showing a compressive stress Fabry-Perot filter which is characterized.
  2. 【請求項2】固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡とを有し、可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記可動鏡を、互いに異なる引張応力を示す少なくとも2枚の膜を積層してなる多層光学薄膜により形成したことを特徴とするファブリペローフィルタ。 2. A fixed mirror, and a oppositely disposed movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, the gap by displacing the movable mirror relative to the fixed mirror in Fabry-Perot filter with a length variable, Fabry-Perot filters, characterized in that said movable mirror, formed by a multilayer optical thin film formed by laminating at least two films exhibiting different tensile stress from one another.
  3. 【請求項3】多層光学薄膜が、高屈折率膜、低屈折率膜及び高屈折率膜をこの順で積層した3層構造の光学薄膜である請求項1又は2に記載のファブリペローフィルタ。 3. A multi-layer optical thin film is a high refractive index film, the Fabry-Perot filter according to claim 1 or 2 a low refractive index film and a high refractive index film is an optical thin film having a three-layer structure formed by laminating in this order.
  4. 【請求項4】多層光学薄膜が、下記(a)〜(d)のいずれかの構造を有する3層構造の光学薄膜である請求項3に記載のファブリペローフィルタ。 4. A multi-layer optical thin film is a Fabry-Perot filter according to claim 3 is an optical thin film of a three-layer structure having the structure of any of the following (a) ~ (d). (a)圧縮応力を示す高屈折率膜、引張応力を示す低屈折率膜及び圧縮応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (A) high refractive index film exhibiting compressive stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the compressive stress indicates a tensile stress are laminated in this order. (b)引張応力を示す高屈折率膜、圧縮応力を示す低屈折率膜及び引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (B) a high refractive index film exhibiting tensile stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the tensile stress indicates a compressive stress are laminated in this order. (c)小さい引張応力を示す高屈折率膜、大きい引張応力を示す低屈折率膜及び小さい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (C) less high refractive index film exhibiting tensile stress, by laminating a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and low tensile stress exhibit large tensile stress in this order. (d)大きい引張応力を示す高屈折率膜、小さい引張応力を示す低屈折率膜及び大きい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (D) greater tensile high refractive index film exhibiting stress was laminated a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and high tensile stress shows a small tensile stress in this order.
  5. 【請求項5】多層光学薄膜の光学膜厚がλ/4(λ:波長)である請求項1〜4のいずれか1項に記載のファブリペローフィルタ。 5. The optical thickness of the multilayer optical film is lambda / 4: Fabry-Perot filter according to claim 1 which is (lambda wavelength).
  6. 【請求項6】固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡と、固定鏡に設けられた固定電極と、可動鏡に設けられた可動電極とを有し、固定電極と可動電極との間に電圧を印加して可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記固定電極と可動電極との間に絶縁膜を配置したことを特徴とするファブリペローフィルタ。 6. A fixed mirror, and oppositely disposed movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, and a fixed electrode provided on the fixed mirror, a movable electrode provided on the movable mirror has the door, in a Fabry-Perot filter with variable length of the gap by applying a voltage to displace the movable mirror relative to the fixed mirror between the fixed electrode and the movable electrode, the fixed electrode and the movable Fabry-Perot filters, characterized in that a dielectric film between the electrodes.
  7. 【請求項7】固定電極上に絶縁膜が設けられている請求項6に記載のファブリペローフィルタ。 7. A Fabry-Perot filter according to claim 6, insulating film on the fixed electrode is provided.
  8. 【請求項8】絶縁膜が窒化シリコン又は酸化シリコンにより形成されている請求項6又は7に記載のファブリペローフィルタ。 8. Fabry-Perot filter according to claim 6 or 7 insulating film is formed of silicon or silicon oxynitride.
  9. 【請求項9】基板上に形成された固定鏡と、固定鏡との間にギャップを形成した状態で固定鏡に対向配置された可動鏡とを有し、可動鏡を固定鏡に対して変位させることにより前記ギャップの長さを可変としたファブリペローフィルタにおいて、前記ギャップは、固定鏡と可動鏡との間に予め所定の形状及び大きさの犠牲層を設けた後、この犠牲層をエッチングによりすべて、あるいは一部を除去することによって形成されたものであることを特徴とするファブリペローフィルタ。 A 9. A fixed mirror formed on a substrate and a counter arranged movable mirror to the fixed mirror in a state in which a gap is formed between the fixed mirror, displacing the movable mirror relative to the fixed mirror in Fabry-Perot filter with variable length of the gap by the gap, after previously provided a predetermined shape and size sacrificial layer between the fixed mirror and the movable mirror, etching the sacrificial layer Fabry-Perot filters, characterized in that one formed by removing all or part, by.
  10. 【請求項10】犠牲層の縦断面形状を略台形状とし、前記犠牲層外の領域において前記可動電極と前記固定電極を取出すための電極パッドを形成した請求項9に記載のファブリペローフィルタ。 10. A longitudinal section of the sacrificial layer and substantially trapezoidal, the Fabry-Perot filter according to claim 9, in the sacrificial layer outside the region to form an electrode pad for taking out the fixed electrode and the movable electrode.
  11. 【請求項11】前記基板の裏面に形成される反射防止膜と、前記反射防止膜上に保護層を介して形成され一部に光透過部を有する金属のアパーチャとを設け、前記犠牲層をエッチングにより除去した後に前記光透過部の前記保護層を除去した請求項9及び請求項10に記載のファブリペローフィルタ。 11. A antireflection film formed on the back surface of the substrate, the formed via a protective layer on the antireflection film and the metal of the aperture of a light-transmissive portion provided in a part, the sacrificial layer Fabry-Perot filter according to claim 9 and claim 10 to remove the protective layer of the light transmitting portion is removed by etching.
  12. 【請求項12】前記可動鏡の中心及び外周部に前記犠牲層をエッチングするためのエッチングホールを設けた請求項9及び請求項10に記載のファブリペローフィルタ。 12. Fabry-Perot filter according to claim 9 and claim 10 etched holes provided for etching the sacrificial layer in the center and the outer periphery of the movable mirror.
  13. 【請求項13】引張応力を示す少なくとも1枚の膜と、 13. at least one film exhibiting tensile stress,
    圧縮応力を示す少なくとも1枚の膜とを積層してなる多層光学薄膜。 Multilayer optical thin film formed by laminating at least one layer showing a compressive stress.
  14. 【請求項14】互いに異なる引張応力を示す少なくとも2枚の膜を積層してなる多層光学薄膜。 14. A multilayer optical thin film formed by laminating at least two films exhibiting different tensile stress from one another.
  15. 【請求項15】高屈折率膜、低屈折率膜及び高屈折率膜をこの順で積層した3層構造を有する請求項13又は1 15. The high refractive index film, according to claim 13 or 1 having a three-layer structure formed by laminating a low refractive index film and the high refractive index film in this order
    4に記載の多層光学薄膜。 Multilayer optical thin film according to 4.
  16. 【請求項16】下記(a)〜(d)のいずれかの3層構造を有する請求項15に記載の多層光学薄膜。 16. The multilayer optical film of claim 15 having either a three-layer structure of the following (a) ~ (d). (a)圧縮応力を示す高屈折率膜、引張応力を示す低屈折率膜及び圧縮応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (A) high refractive index film exhibiting compressive stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the compressive stress indicates a tensile stress are laminated in this order. (b)引張応力を示す高屈折率膜、圧縮応力を示す低屈折率膜及び引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (B) a high refractive index film exhibiting tensile stress, a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and the tensile stress indicates a compressive stress are laminated in this order. (c)小さい引張応力を示す高屈折率膜、大きい引張応力を示す低屈折率膜及び小さい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (C) less high refractive index film exhibiting tensile stress, by laminating a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and low tensile stress exhibit large tensile stress in this order. (d)大きい引張応力を示す高屈折率膜、小さい引張応力を示す低屈折率膜及び大きい引張応力を示す高屈折率膜をこの順で積層した構造。 (D) greater tensile high refractive index film exhibiting stress was laminated a high refractive index film exhibiting a low refractive index film and high tensile stress shows a small tensile stress in this order.
  17. 【請求項17】請求項13〜16のいずれか1項に記載の多層光学薄膜を用いたことを特徴とする光学素子。 17. An optical element characterized by using a multilayer optical thin film according to any one of claims 13 to 16.
  18. 【請求項18】2つ以上の電極を対向させ、それら電極間に電圧を印加して駆動力を発生させる静電アクチュエータにおいて、電極と電極との間に絶縁膜を配置したことを特徴とする静電アクチュエータ。 18. are opposed to two or more electrodes, the electrostatic actuator that generates a driving force by applying a voltage between the electrodes, characterized in that a dielectric film between the electrode and the electrode electrostatic actuator.
  19. 【請求項19】電極上に絶縁膜が設けられている請求項18に記載の静電アクチュエータ。 19. The electrostatic actuator according to claim 18, insulating film on the electrode is provided.
  20. 【請求項20】請求項18又は19に記載の静電アクチュエータ用いて鏡を駆動させることを特徴とする光学素子。 20. An optical element characterized by driving the mirror using electrostatic actuator according to claim 18 or 19.
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