JP2002151252A - Organic el display device - Google Patents

Organic el display device

Info

Publication number
JP2002151252A
JP2002151252A JP2000348945A JP2000348945A JP2002151252A JP 2002151252 A JP2002151252 A JP 2002151252A JP 2000348945 A JP2000348945 A JP 2000348945A JP 2000348945 A JP2000348945 A JP 2000348945A JP 2002151252 A JP2002151252 A JP 2002151252A
Authority
JP
Grant status
Application
Patent type
Prior art keywords
organic el
display device
spacer
substrate
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000348945A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Hirohashi
Toshinobu Kashima
正敏 広橋
敏信 鹿島
Original Assignee
Stanley Electric Co Ltd
スタンレー電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L51/00Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
    • H01L51/50Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED];
    • H01L51/52Details of devices
    • H01L51/5237Passivation; Containers; Encapsulation, e.g. against humidity
    • H01L51/524Sealing arrangements having a self-supporting structure, e.g. containers
    • H01L51/525Vertical spacers, e.g. arranged between the sealing arrangement and the OLED

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display device and its manufacturing method which enable to satisfy with low cost all conditions of weight saving, thinning, making large-sized.
SOLUTION: An organic EL element is formed by forming a positive electrode, fitting a spacer using a photosensitive resin material on the positive electrode which is to become a luminous area, and then, forming a luminous layer including an organic material, and a negative electrode layer in that order, which is then sealed by a sealing substrate to make up the organic EL display device. Even if the substrate of the sealed organic EL display device is sagged, the existence of the spacer in the luminous area restrains leak, short- circuiting or the like generated when the sealing substrate or the like strikes against the organic EL elements.
COPYRIGHT: (C)2002,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL素子、有機エレクトロルミネセンス素子、有機電界発光素子、有機LED素子等と称される有機薄膜のエレクトロルミネセンス現象を利用した有機エレクトロルミネセンス素子(以下、有機EL素子という)を用いた有機EL表示装置に関するもので、例えばドットマトリクス表示装置などのディスプレイパネルや、液晶表示器のバックライト等に使用され、特に大面積の有機EL表示装置に好適に適用され得るものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an organic EL element, the organic electroluminescent devices, organic electroluminescent devices, organic LED devices such as referred to the organic thin film electroluminescent phenomenon organic electroluminescent element using ( hereinafter, the present invention relates organic EL display device using) that organic EL devices, for example, a display panel such as a dot matrix display device, is used as a backlight of a liquid crystal display device, particularly suitable for the organic EL display device having a large area those that may be applied to.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、有機EL表示素子80は、例えば図5に示すように構成されている。 Conventionally, organic EL display device 80 is configured as shown in FIG. 5, for example. ガラス基板81上に設けたストライプ状のITO(Indium Tin Oxide)透明電極からなる陽極層82と、その上に積層した有機EL An anode layer 82 composed of a stripe of ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode provided on the glass substrate 81, the organic EL laminated thereon
層83と、陽極層82と直交するストライプ状の陰極層84と、から構成されている。 A layer 83, a stripe-shaped cathode layer 84 perpendicular to the anode layer 82, and a.

【0003】このような構成の有機EL素子80によれば、一対の電極82、84間に図示しない電源から所望の電力を供給することにより、電極82、84間に挟まれた有機EL層83から発光が生じ、これが視認されるものとなる。 [0003] According to the organic EL element 80 having such a structure, by supplying a desired power from a power source (not shown) between the pair of electrodes 82 and 84, the organic EL layer sandwiched between the electrodes 82, 84 83 emission occurs and that it is viewed from. この例においては、ストライプ状の電極を用いた単純ドットマトリクス型としているので、ストライプ状の陽極層82および陰極層84に所望の信号を入力することにより、各電極間に挟まれた有機EL層83 In this example, since the simple dot matrix type using the stripe-shaped electrodes, by inputting a desired signal in a stripe-shaped anode layer 82 and cathode layer 84, an organic EL layer sandwiched between the electrodes 83
をドット単位で発光を制御することができる。 It is possible to control the light emission in dot units.

【0004】陽極層82は、ニッケル、金、白金、パラジウムやこれらの合金或いは酸化錫(SnO2)、沃化銅などの仕事関数の大きな金属やそれらの合金、化合物、更にはポリピロール等の導電性ポリマーなどを用いることができるが、一般にはITO透明電極が多く用いられている。 [0004] The anode layer 82 is nickel, gold, platinum, palladium and alloys thereof or tin oxide (SnO2), large metal and alloys of the work function, such as copper iodide, compound, more conductive, such as polypyrrole etc. can be used polymers, but generally is often used ITO transparent electrode. 陰極層84は、電子注入性に優れた材料を用いることが好ましく、電子注入効率の向上が図れる仕事関数の小さな金属材料(低仕事関数金属材料)が用いられている。 Cathode layer 84, it is preferable to use a material excellent in electron-injection property, a small metal material (low work function metal material) is used in work function improvement can be achieved in the electron injection efficiency. 一般的にはマグネシウム−銀や、アルミニウム−リチウム等が用いられている。 Generally a magnesium - or silver, aluminum - lithium or the like is used. 有機EL層83 The organic EL layer 83
は、例えば陽極層82側から順に正孔輸送層83aと有機発光層83bを積層した2層構造とされ、正孔輸送層83aとしてはN,N−ジフェニル−N,―ビス(3− Is, for example, from the anode layer 82 side and the two-layer structure of a hole transport layer 83a and the organic light emitting layer 83b sequentially, as the hole transporting layer 83a N, N-diphenyl -N, - bis (3-
メチルフェニル)1,1−ビフェニル−4,4−ジアミン(Triphenyldiamine、以下TPDと略記する)を、有機発光層83bとしてはトリス(8−ヒドロキシキナリナト)アルミニウム(Tris(8-hydroxyquinolinato)Alum Methylphenyl) 1,1-biphenyl-4,4-diamine (Triphenyldiamine, hereinafter the TPD abbreviated), as the organic light emitting layer 83b tris (8-hydroxy Kinari isocyanatomethyl) aluminum (Tris (8-hydroxyquinolinato) Alum
inium、以下Alqと略記する)等が用いられている。 Inium, abbreviated as Alq) and the like are used below.

【0005】このような構成の有機EL素子80を大気中でそのまま駆動した場合には、低電圧で発光が可能な反面、湿気や熱等により劣化が促進され発光特性が劣化する。 [0005] The organic EL element 80 having such a configuration when it drives in the atmosphere, although capable of emitting light at a low voltage, deterioration by moisture or heat or the like is promoted emission characteristics deteriorate. 特に、素子の周囲に酸素や水分があった場合には、酸化が促進され有機材料の変質、膜の剥がれ、ダークスポット(非発光部)が成長し発光しなくなるなどの現象が表れ、結果として寿命が短いという問題がある。 In particular, when there is oxygen or moisture around the device, deterioration of the oxidation is promoted organic materials, peeling of the film, appears a phenomenon such as dark spots (non-emitting portion) is no longer grow emission, as a result there is a problem that life is short.

【0006】そこで、このような問題に対して、有機E [0006] Therefore, with respect to such a problem, an organic E
L素子が大気に触れないように封止することが提案されている。 L element is proposed to sealed so as not to touch the air. 例えば図6に示す有機EL表示装置90は、有機EL素子80を形成した一方の素子基板81と、有機EL層83等を覆うように所定の間隔を隔てて対向配設した他方の封止基板91と、有機EL層83が外気に曝されないよう両基板81、91間を接着固定して封止するシール層92と、該シール層よりも外側に引き出された陽極層82および陰極層84とからなる。 For example, an organic EL display device 90 shown in FIG. 6, the other of the sealing substrate facing disposed at a predetermined interval such that the one of the element substrate 81 to form an organic EL element 80, covers the organic EL layer 83 and the like 91, the seal layer 92 of the organic EL layer 83 is sealed between both substrates 81 and 91 are bonded and fixed so that they are not exposed to the outside air, an anode layer 82 and cathode layer 84 is led out to the outside than the sealing layer consisting of. また、封止基板91の内面には乾燥剤93を配設して封止空間94 Further, the sealing space 94 by disposing the desiccant 93 to the inner surface of the sealing substrate 91
内における水分量を低減させている。 Thereby reducing the water content in the inner. 封止基板91としては例えばステンレス製の金属板等が用いられ、乾燥剤93としては例えば酸化バリウム粉末をテープ等で固定して用いる。 Used is, for example, stainless steel metal plate or the like as the sealing substrate 91, is used to fix for example barium oxide powder with a tape or the like as a desiccant 93.

【0007】このような構成の有機EL表示装置90によれば、有機EL素子80が外部雰囲気に曝されることがないので、ダークスポット不良の発生等が抑制され寿命を長くした有機EL表示装置が提供される。 [0007] According to the structure of the organic EL display device 90, since there is no the organic EL element 80 is exposed to the outside atmosphere, the organic EL display device such as occurrence of dark spots failure has long been suppressed life There is provided.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような有機EL表示装置90を用いた平面ディスプレイパネルは実用化され始めており、TFTを用いたパッシブマトリクスカラーディスプレイも発表されており、有機EL [SUMMARY OF THE INVENTION Incidentally, the organic EL display device flat display panel using a 90 is beginning to be commercialized, it is also presented passive matrix color display using TFT, the organic EL
表示装置90を大面積化、軽量化するための検討もなされてきている。 A large area of ​​the display device 90, it has been made considering for weight reduction. 例えば、発光エリア(表示部)を大面積化するために上記した有機EL表示装置90の面積をそのまま大きくすると、有機EL素子80を傷つけ電流リークやショートが発生することがあった。 For example, the light emitting area (display unit) Continuing to increase the area of ​​the organic EL display device 90 as described above to a larger area, the current leakage and short circuit damage the organic EL element 80 may occur. この原因は、 The reason for this is,
有機EL素子を形成したガラス基板81および封止基板91が自重によりたわみが発生し、たわみ量が多い場合には封止空間94内において有機EL素子80と封止基板91若しくは乾燥剤93とがぶつかりあい、これにより有機EL素子80を傷つけ、電極間でショートしたり、電極と封止基板等との接触によるリーク電流が発生したりしたものと思われる。 Glass substrate 81 and the sealing substrate 91 to form an organic EL element deflection is generated by its own weight, when the amount of deflection is large and the organic EL element 80 and the sealing substrate 91 or desiccant 93 in the sealing space 94 is hit each other, thereby to damage the organic EL element 80, or short between the electrodes, the leakage current due to the contact between the electrode and the sealing substrate or the like seems to have or to occur. また、軽量化、薄型化のためにガラス基板81および/または封止基板91を薄くしたり、封止空間94の基板間距離を小さくした場合においても、同様のリークやショートが発生した。 Further, weight reduction, or by thinning the glass substrate 81 and / or the sealing substrate 91 for thin, even when the small distance between the substrates of the sealed space 94, similar to leak and short circuit occurs. これらのリークやショートは、振動テストにより顕著に発生する。 These leakage or a short circuit is significantly generated by the vibration test. そのため、携帯・移動機器に使用したり、振動の生じやすい機器に使用する場合には、たわみの発生しにくい条件の基板、基板間距離、面積とした有機EL表示装置としなければならないため必然的に厚い表示装置となり、軽量化、薄型化、大面積化の全ての条件を低コストで満たすことは難しかった。 Therefore, you can use the portable-mobile device, when used in prone equipment vibrations, between the deflection of the substrate hardly occurs conditions, substrate distance, inevitably because to do with the organic EL display device and the area becomes thick display device, weight reduction, it has been difficult to meet in thickness, all the conditions for large-area low cost.

【0009】そこで、かかる問題を解決するために、図6において有機EL素子80上に紫外線硬化樹脂を塗布形成し、その後に有機EL素子の発光エリア(表示部) [0009] To solve such a problem, an ultraviolet curable resin is applied formed on the organic EL element 80 in FIG. 6, the light emitting area (display unit) subsequent to the organic EL device
全面を露光して封止空間94内を樹脂層にて固定した有機EL表示装置90を作成した。 The sealing space 94 to create the organic EL display device 90 and fixed with the resin layer by exposing the entire surface. この場合においては、 In this case,
上記した問題は発生しなくなったものの、有機EL素子80を形成した後に、有機EL素子上に樹脂層にて固定する必要があるため、製造工程が煩雑であった。 Although the above-mentioned problems are no longer occurs, after forming the organic EL element 80, it is necessary to fix a resin layer on an organic EL element, the manufacturing process is complicated. また、 Also,
一般に有機EL素子は、有機EL層83に用いられる有機材料の耐水性、耐溶剤性、耐熱性が低く、使用する陰極材料の耐湿性も低いために、有機EL層を形成した後の工程において、有機EL素子上に積層するために使用できる樹脂材料が限定される。 In general organic EL device, the water resistance of the organic material used in the organic EL layer 83, solvent resistance, heat resistance is low, because less moisture resistance of the cathode material used in the step after forming the organic EL layer , a resin material that can be used for laminating on an organic EL element is limited. 更に素子全体を覆うことは、製造コストが高くなると共に、全体の重量が増加する傾向にある。 To cover the entire element, the manufacturing cost is increased, there is a tendency that the overall weight is increased. さらに有機EL素子80全体を覆うため熱膨張係数の相違等に起因して陰極界面での剥離が発生し、特に薄型大面積を実現するためには大きな支障となっていた。 Moreover organic EL element 80 due to the difference or the like of the thermal expansion coefficient for the entire covering peeling at the cathode interface occurs and in particular is a major obstacle in order to realize a thin-type large area.

【0010】本発明は、以上の点から、薄型化、大面積化、軽量化の可能な、有機EL素子を封止した有機EL The present invention, from the above point, thinner, larger area, can be lightweight, organic EL sealing the organic EL device
表示装置およびその製造方法を提供することを目的としている。 And its object is to provide a display device and a manufacturing method thereof.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明の態様によれば、(1)第1電極と、有機材料を含む発光層を備えた有機EL層と、第2電極を積層形成した有機E SUMMARY OF THE INVENTION The above object is achieved according to the aspect of the present invention, (1) a first electrode, an organic EL layer having a light emitting layer containing an organic material, and the second electrode are laminated form organic E
L素子を設けた設置基板、および上記有機EL素子を覆い設置基板と対向配設した封止基板により閉空間中に有機EL素子を封止した有機EL表示装置において、上記有機EL素子の発光エリア内には有機EL層とともに非導電性のスペーサを有しており、上記スペーサは有機E Installation substrate provided with L elements, and in the organic EL display device sealing the organic EL element in the closed space by a sealing substrate placed substrate and a counter arranged to cover the organic EL device, the light emitting area of ​​the organic EL device has a non-conductive spacer with the organic EL layer is within the above spacer organic E
L素子表面よりも封止基板側に突出し、且つ少なくとも設置基板および/または封止基板がたわんで閉空間が狭まった際に封止基板内面に当接する厚みを有し、閉空間を形成する両基板内面間の間隙が10〜100μmの範囲である、ことを特徴とする有機EL表示装置、により達成される。 Projecting sealing substrate side of the L element surface, and having a contact with a thickness on the sealing substrate inner surface when the narrowed closed space at least placed substrate and / or the sealing substrate is bent to form a closed space both gap between the inner surface of the substrate is in the range of 10 to 100 [mu] m, it is achieved by an organic EL display device, characterized in that.

【0012】この態様では、大面積化したり、薄い基板を用いたり、基板間距離を極めて小さくした有機EL表示装置を作成した場合であっても、基板間にスペーサが存在するのでショートやリークの発生を防止した有機E [0012] In this manner, or a large area, or using a thin substrate, even if you have created an organic EL display device very small inter-substrate distance, short or leakage since the spacer is present between the substrate organic E that prevents the occurrence
L表示装置を提供することができ得る。 It may be capable of providing a L display device.

【0013】また、上記目的はさらに、(2)上記スペーサの設置面積が、有機EL素子の発光エリアの面積に対し10%以下である(1)に記載の有機EL表示装置、および(3)上記スペーサは60μm以下の径の柱状をなして第1電極上に形成されており、有機EL素子の発光エリア内に点在している(2)に記載の有機EL [0013] The above-described object is further (2) the footprint of the spacer is 10% or less with respect to the area of ​​the light-emitting area of ​​the organic EL element organic EL display device according to (1), and (3) the spacer is formed on the first electrode forms a columnar following diameter 60 [mu] m, an organic EL according to are scattered in the light emitting areas of the organic EL element (2)
表示装置、により達成される。 Display device, is achieved by. これらの態様によれば、 According to these aspects,
スペーサの占有面積を小さくして非発光部となるスペーサ設置箇所が目立ちにくい有機EL表示装置を提供することができ、(3)の場合には観察者の近傍で直接観視する表示装置において、発光(表示)部内にスペーサによる非発光部が存在する場合であっても、さらにスペーサが目立ちにくい有機EL表示が提供でき得る。 Smaller to non-light emitting portion become the spacer installation location is less noticeable organic EL display area occupied by the spacers can be provided, in a display device for directly-viewing in the vicinity of the viewer in the case of (3), emission even if there is non-light emitting portion by the spacer (display) portion, may be provided further spacer inconspicuous organic EL display.

【0014】また、上記目的は、(4)上記スペーサが感光性樹脂を含み10μm以上の厚みである(1)〜 [0014] The above-described object is (4) the spacer is 10μm or more thick comprising a photosensitive resin (1) to
(3)のいずれかに記載の有機EL表示装置、の発明の態様により達成できる。 (3) organic EL display device according to any one of, it can be achieved by aspects of the invention. この態様によれば、従来では得ることのできなかった位にギャップを狭くして薄形化を図り且つ面積を大きくした有機EL表示装置が、比較的簡便な構造で提供され、上記した目的が達成される。 According to this aspect, conventional in narrowing the gap position that could not be obtained in the organic EL display device having an increased and the area achieving thinning may be provided with a relatively simple structure, purpose described above It is achieved.

【0015】また、本発明の他の態様によれば、(5) [0015] According to another aspect of the present invention, (5)
設置基板上に第1電極を形成する工程と、第1電極上に有機EL層および第2電極を形成して有機EL素子を作成する工程と、封止基板を設置基板に対向配設して有機EL素子を覆って封止する工程とを順に実施して有機E Forming a first electrode on the installation substrate, the step of creating an organic EL device by forming organic EL layers and a second electrode on the first electrode, to face disposed a sealing substrate placed substrate and a step of sealing over the organic EL element is performed in order organic E
L表示装置を製造する方法において、上記第1電極形成工程と有機EL素子形成工程の間に、第1電極上に感光性樹脂材料層を形成し、これを露光して所定形状のスペーサを設けるスペーサ形成工程を実施する、ことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法、により比較的簡便な方法で、上記目的を達成する有機EL表示装置を得ることができる。 A method for producing an L display device, between the first electrode forming step and an organic EL element forming step, a photosensitive resin material layer formed on the first electrode, providing a spacer having a predetermined shape by exposing it implementing the spacer forming step, a relatively simple method by the manufacturing method of the organic EL display device, characterized in that, to obtain an organic EL display device to achieve the object. さらに、(6)上記スペーサ形成工程がスペーサ形成後に物理的な基板洗浄を実施するサブ工程を含む(5)に記載の有機EL表示装置の製造方法により、上記目的が達成できる。 Further, (6) the method of manufacturing the organic EL display device according to comprising the substeps (5) of the spacer forming step is carried out physical substrate cleaning after spacer formation, the object can be achieved. この態様によれば、有機E According to this aspect, the organic E
L素子を形成した後の状態で洗浄することの困難な有機EL素子において、有機EL層を形成する前の段階で念入りに洗浄を実施することができるので、スペーサを設けることで発生しがちな埃塵等の付着物による汚染を防止して、ダークスポット等の発生原因と推定される付着物等が殆ど存在しない清浄な状態の第1電極上に有機E In difficult organic EL device of washing in a state after the formation of the L element, it is possible to carry out carefully cleaned before the step of forming the organic EL layer, which tends to occur by providing a spacer to prevent contamination by deposits such as dust dust, organic on the first electrode of the clean state of deposits is estimated to cause such as dark spots and the like hardly exist E
L層を形成し、安定した特性の有機EL素子を歩留まりよく製造することができ得る。 L layer is formed, it may be able to produce a high yield of organic EL device having stable characteristics.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態を図1から図6を参照しながら、詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, with reference to FIG. 6 a preferred embodiment of the present invention from FIG. 1, will be described in detail.

【0017】図1および図2は、本発明による有機EL [0017] Figures 1 and 2, the organic EL according to the present invention
表示装置の一実施形態の構成を示している。 It shows a configuration of an embodiment of a display device. 有機EL表示装置1は、ガラス等からなる透光性基板2と、その表面に形成した有機EL素子10と、有機EL素子10が水分等の外部雰囲気の影響を受けないように有機EL素子10から所定の間隔を隔てて配設した封止基板3と、 The organic EL display device 1 includes a light-transmissive substrate 2 made of glass or the like, the organic EL element 10 formed on its surface, the organic EL element 10 so as not affected by external atmosphere, such as organic EL element 10 is water a sealing substrate 3 which is disposed at a predetermined distance from,
両基板2,3を接着固定する外周部に設けられたシール4と、から構成されており、これにより閉空間となる封止空間5が両基板間に形成される。 A seal 4 of the two substrates 2 and 3 provided on the outer peripheral portion is bonded and fixed, are composed of, thereby the sealed space 5 to be closed space is formed between the substrates. また、封止空間5内の封止基板3表面には乾燥手段6が配設されている。 The drying unit 6 is disposed on the sealing substrate 3 surface in the sealed space 5.

【0018】上記有機EL子10は、透光性基板2表面に形成された透光性の第1電極11と、第1電極11上に積層した有機化合物からなる発光層を備えた有機EL [0018] The organic EL element 10 includes a first electrode 11 of the translucent formed on a transparent substrate 2 surface, the organic EL in which a light-emitting layer formed of an organic compound that is stacked on the first electrode 11
層12と、第1電極と仕事関数の異なる第2電極13 The layer 12, second electrode 13 having different work functions between the first electrode
を、例えば蒸着法により順次積層して形成する。 And for example, they are sequentially stacked to form a vapor deposition method. また、 Also,
必要に応じて有機EL素子10を覆う封止層14が、例えば無機化合物膜と有機化合物膜とを積層形成する等の方法により形成されている。 Sealing layer 14 covering the organic EL device 10 as needed, for example, an inorganic compound layer and the organic compound film is formed by a method such as laminated. また、第1電極11と第2 Further, the first electrode 11 second
電極13は、その一部が封止空間5の外部の基板端部にまで延長され、この第1電極11と第2電極13との間に電界を印加することにより有機EL層12にて発光し、第1電極11および透光性基板2を透過して光りが出射される。 Electrode 13 is partially extended to the outside of the substrate end portion of the sealing space 5, the light emitting by the organic EL layer 12 by applying an electric field between the first electrode 11 and the second electrode 13 and, light is emitted through the first electrode 11 and the transparent substrate 2. 図1においてはシール4にて囲まれた封止空間5内の第1電極11と第2電極13とが重なっている領域が発光(表示)エリア7となる。 A region where the first electrode 11 in the sealed space 5 surrounded by the seal 4 and the second electrode 13 are overlapped becomes luminous (display) area 7 in FIG. 1.

【0019】以上の構成は、従来の有機EL表示装置とほぼ同様の構成であるが、本発明実施形態による有機E The above configuration is a conventional organic EL display device is substantially the same configuration, an organic E according to the invention embodiment
L表示装置1においては、以下の点で異なる構成になっている。 In the L display device 1, configured differently in the following points. 有機EL表示素子10と封止基板3の間の封止空間5には、非導電性材料からなる柱状のスペーサ8が配設され、封止空間5のギャップの極小値を制御して有機EL素子10と封止基板3もしくは乾燥手段6、即ち有機EL素子10と対向する封止基板3の内面側表面が接触することを防止している。 The sealing space 5 between the organic EL display device 10 and the sealing substrate 3, the columnar spacers 8 made of non-conductive material is disposed, by controlling the minimum value of the gap of the sealing space 5 Organic EL element 10 and a sealing substrate 3 or drying means 6, that is, the inner side surface of the sealing substrate 3 facing the organic EL element 10 are prevented from contacting. スペーサ8は第1電極1 The spacer 8 is first electrode 1
1表面上もしくは透光性基板2表面上に形成されており、かつ、封止した有機EL表示装置1の発光(表示) It is formed on one surface or on the light-transmitting substrate 2 surface and sealed light emission of the organic EL display device 1 (display)
エリア7の領域内に少なくとも1個以上が存在している。 At least one or more are present in the region of the area 7.

【0020】上記のような有機EL表示装置1を形成するには、例えば図3に示す工程により製造する。 [0020] To form the organic EL display device 1 as described above are prepared by a process shown in FIG. 3, for example. まず、 First of all,
有機EL素子10を形成するための透光性基板2を準備する。 Preparing a translucent substrate 2 for forming an organic EL element 10. 好適にはITO透明電極付きガラス基板2を用意し、公知のフォトリスグラフィ工程を実施して所定形状のパターニングを施して洗浄する。 Suitably prepared ITO transparent electrode 2, washed subjected to patterning in a predetermined shape by carrying out known photo squirrel photography process. 図3(a)はガラス基板2表面の略全域にITO透明電極からなる第1電極11を形成した後の状態を示す。 3 (a) shows the state after forming the first electrode 11 made of ITO transparent electrodes in a substantially entire area of ​​the glass substrate 2 surface.

【0021】次に図3(b)に示したスペーサ形成工程を実施する。 [0021] Next out the spacer forming step shown in FIG. 3 (b). 第1電極11上に感光性樹脂層22をスピンナー、ロールコータ、スプレー等を用いて塗布形成し、プリベークを施した後にスペーサ設置位置に応じた開口を有する露光マスク20を介して光線21を照射して露光、現像、リンス、ポストベーク等の処理を施す。 The photosensitive resin layer 22 on the first electrode 11 spinner, formed by coating with a roll coater, a spray or the like, irradiated with light 21 through a photomask 20 having an opening corresponding to the spacer installation position after performing prebaking to exposure, development, rinsing, the processing of post-baking, etc. apply.
これにより図3(c)に示したようにスペーサ8が第1 Thus the spacer 8 as shown in FIG. 3 (c) first
電極11上に形成される。 It is formed on the electrode 11. 感光性樹脂として紫外線などの所定の波長の光線を照射することで照射部分の樹脂が重合して硬化する性質を有するネガタイプを用いる場合には、スペーサ設置位置に開口部を形成し他の領域に遮光膜を形成した露光マスク20を用いる。 In the case of using the negative type having a property of resin of the irradiated part by irradiating a predetermined light wavelength, such as ultraviolet as a photosensitive resin is cured by polymerization, the other regions to form an opening in the spacer installation position using the exposure mask 20 to form a light shielding film.

【0022】スペーサ8は、図3(c)のように第1電極11上に柱状に形成され、発光(表示)エリア7内において点在するようにする。 The spacer 8 is formed in a columnar shape on the first electrode 11 as shown in FIG. 3 (c), so that scattered in the light-emitting (display) area 7. スペーサ8を設けた箇所は非発光部となるので、発光(表示)エリア7内に形成する際には該領域全体に対して該領域内に形成するスペーサ総面積が20%以下、実用的には10%以下、対角2 Since portions provided with the spacer 8 is placed into a no-light emitting portion, light emission (display) spacer total area to be formed within that region for the entire region is at the time of forming in the area 7 is 20% or less, practically 10% or less, two diagonal
0インチ以下の有機EL表示装置の場合には0.001 In the case of the following organic EL display device 0 inches 0.001
〜2%以下の占有面積とすることが好ましい。 It is preferable that the 2% or less of the area occupied. スペーサ占有面積が大きくなると非発光部が欠陥として目立ってくるようになるからである。 Non-light emitting portion and the spacer occupied area becomes larger because so conspicuous as defects. 街頭の大型表示装置のように観察者との距離が著しく離れている表示装置や全面に拡散板等を設ける表示装置などのように、用途によってはスペーサ占有面積が20%より大きいものであっても実質的に欠陥として認識されないものならば、これよりも大きな占有面積を占めていても構わないが、効率が低下するので実用的ではない。 Such as a display device to provide a diffusion plate or the like to the viewer and the display device and the entire surface of which the distance is away greatly in such a large display device street, in some applications be those spacers occupied area is greater than 20% if those are also not recognized as a substantially defect, but this may be accounted for large occupied area than, the efficiency is not practical because it decreases. また、スペーサ8は後に形成する有機EL素子10よりも、その先端が封止基板3 The spacer 8 than the organic EL element 10 to be formed later, the tip of the sealing substrate 3
側に突出する高さを有していなければならない。 It must have a height projecting side.

【0023】次に有機EL層形成工程を実施する。 [0023] Next, exemplary organic EL layer forming step. 図3 Figure 3
(d)に示すようにスペーサ8を設けた透光性基板2上に蒸着法等を用いて有機EL層12および第2電極13 The organic EL layer by an evaporation method or the like on the transparent substrate 2 provided with the spacer 8 as shown in (d) 12 and the second electrode 13
を連続して形成する。 To form in succession. 有機EL層12は、第1電極11 The organic EL layer 12, first electrode 11
−第2電極12間に通電することにより有機EL層12 - the organic EL layer 12 by energizing between the second electrode 12
から所望の発光が得られる有機材料が用いられる。 Organic materials desired light emission can be obtained from is used. 例えば、第1電極を陽極、第2電極を陰極とした場合には、 For example, the anode of the first electrode, when the second electrode and cathode,
第1電極11側から順に、正孔注入輸送層と有機発光層の2層構造として形成したり、さらに有機発光層上に陰極から電子を注入され易くする機能を有する電子輸送層を設けた3層構造の有機EL層12とする。 In order from the first electrode 11 side, or formed as a two-layer structure of a hole injecting and transporting layer and the organic light emitting layer, disposed further to the organic light emitting layer an electron transport layer having a function of facilitating the injection of electrons from the cathode 3 an organic EL layer 12 of the layer structure. 有機EL層12は、これに限らず正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層、正孔注入層/正孔輸送層/発光層、正孔輸送層/発光層/電子輸送層とした多層構造を低分子系の有機化合物を真空蒸着法を用いて構成したものや単層有機化合物層を形成した構成などでも良い。 The organic EL layer 12, a hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transporting layer is not limited thereto, a hole injection layer / hole transport layer / light-emitting layer, a hole transport layer / light emitting layer / electron transporting layer and the multilayer structure may be such constitute a low molecular weight organic compounds that form or monolayer organic compound layer constructed by using the vacuum evaporation method. 本発明において有機EL層とは有機材料を含む発光層を備えたこれらの様々な構成の層を総称して広義の意味で用いている。 Are used in a broad sense the organic EL layer are generically layers of these various configurations in which a light-emitting layer containing an organic material in the present invention. 例えば、低分子系の有機材料としては正孔輸送層は芳香族アミン誘導体のジトリル−ジフェニル−ビフェニル−ジアミン(TPD)やビス(ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン(TPAC)などを用いることができ、有機発光層としてはトリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)等を用いることができる。 For example, the hole transport layer as an organic material of low molecular system of the aromatic amine derivative ditolyl - diphenyl - biphenyl - like diamine (TPD) and bis (ditolyl aminophenyl) cyclohexane (TPAC) can be used, organic as the light-emitting layer may be used tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq) or the like. 有機発光層にドーパントを添加することによりアンドープ発光層を用いた素子に比べて異なる発光波長の素子を得ることができる。 It can be obtained an element having different emission wavelengths as compared with the device using the undoped light emitting layer by adding a dopant to the organic light emitting layer. 有機EL層12は真空蒸着法等のドライプロセスを用いて成膜すると良い。 The organic EL layer 12 may be formed using a dry process such as vacuum deposition method. 有機EL層12および第2電極13をドライプロセスにて形成する場合には各層の界面が汚染されないように真空を保った環境下にて連続して成膜する。 The organic EL layer 12 and the second electrode 13 is formed continuously in an environment in which each layer of the interface is kept vacuum so as not to be contaminated in the case of forming by a dry process.

【0024】また、有機EL層12を形成する前には洗浄工程を実施する。 Further, implementing the cleaning process before forming the organic EL layer 12. 本発明においては透光性基板2表面に柱状のスペーサ8を形成した後、有機EL層形成工程に入るまでの間に第1電極11表面に少なくとも物理的な洗浄工程を施すことが好適である。 After forming the columnar spacers 8 on the light-transmitting substrate 2 surface in the present invention, it is preferable to apply at least a physical washing step to the first electrode 11 surface until entering the organic EL layer forming step . 物理的な洗浄工程とは、基板表面をブラシで摩擦して基板表面に付着した埃等を除去する等の物理的な接触を用いた洗浄工程を意味する。 The physical washing step, means a cleaning process using physical contact, such as the removal of dust and the like adhering to the substrate surface by rubbing the surface of the substrate with a brush. 一般的に、有機EL素子は大気中に放置するだけでダークスポットと呼ばれる非発光領域が拡大する現象が生じる。 Generally, the organic EL element occurs a phenomenon that expands the non-light-emitting region called dark spots by simply left in the atmosphere. そのため有機EL層形成工程を実施した後に水洗等の工程も行う物理的な洗浄工程を実施することは殆ど不可能であるが、本願発明においては有機EL層形成工程を実施する前にスペーサ8が形成してあるので水洗等を伴う物理的な洗浄工程を実施することができる。 Although it is almost impossible to perform physical washing step carried out also steps such as washing with water after performing so organic EL layer forming step, in the present invention the spacer 8 before performing the organic EL layer forming step since formed are able to carry out physical cleaning steps involving washing or the like. よって、埃等を高効率で除去した有機EL素子を得ることができ、塵等の微少付着物質に起因する不良が低減する。 Therefore, it is possible to obtain an organic EL device to remove dust and the like with high efficiency and reduced defects caused by slight deposition material such as dust. スペーサ8は洗浄工程を実施した後に、高い割合で残存するようにして形成する。 The spacer 8 after a cleaning step, formed as remaining at a high rate. 枚葉式ブラシ洗浄機を用いたテストではポリスチレン系化学増幅型レジストにより形成した柱状スペーサは略100%の確率で洗浄前の膜厚、外観形状を保っていた。 In the test using single wafer brush washer columnar spacer formed by polystyrene chemically amplified resist was keeping the thickness of the pre-washed with about 100% probability, the external shape. また、アセトン、イソプロピルアルコールや半導体洗浄用の中性洗浄液中に浸漬して行った超音波洗浄においてもまったく問題がなかった。 Furthermore, acetone, had no problem in immersing the ultrasonic cleaning was conducted in isopropyl alcohol or neutral in the cleaning liquid for semiconductor cleaning.

【0025】有機EL層形成工程が終了した後には封止工程を実施する。 [0025] After the organic EL layer forming step is completed carrying out the sealing process. 図3(e)は封止工程を示す。 Figure 3 (e) shows the sealing process. 封止基板3表面に乾燥手段6を設け、封止基板3と有機EL素子10を形成した透光性基板2とを所定の封止空間5が得られるように対向配設し、有機EL素子10の周囲部分をシール4を介して接着固定する。 The provided drying means 6 on the sealing substrate 3 surface, opposite arranged so that the light-transmitting substrate 2 formed with the sealing substrate 3 and the organic EL element 10 is predetermined sealing space 5 is obtained, the organic EL device the peripheral portion 10 is adhered and fixed through a seal 4. このとき、スペーサ8が封止基板3もしくは乾燥手段6に直接に接触するように、または当接しないようにして封止する。 At this time, the spacer 8 is sealed so as to be directly in contact with the sealing substrate 3 or drying means 6 or not in contact. 封止工程実施時においてスペーサ8が封止基板3内表面に当接しないようにして封止した場合には、封止基板3もしくは透光性基板2がたわむ等して封止空間5の容積が小さくなったときにスペーサ8が封止基板内表面に当接するものとし、その際に封止基板3内表面と有機EL素子1 The volume of sealing process if the spacers 8 are sealed so as not to contact the sealing substrate 3 in the surface at the time of implementation, sealed space 5 equal deflects the sealing substrate 3 or the light-transmitting substrate 2 spacers 8 shall abut against the sealing substrate surface when is smaller, the sealing substrate 3 in the surface and the organic EL element 1 at that time
0とが直接にぶつからないような高さのスペーサ8とする。 0 and is a spacer 8 does not directly hit such heights. スペーサ8が有機EL素子表面から突出する寸法は概ね10〜100μmが好ましい。 Dimensions spacer 8 is projected from the organic EL element surface is approximately 10~100μm are preferred. スペーサ8の弾力性によっても異なるが、これより薄いと封止基板3内表面と有機EL素子10とが接触しやすくなり、厚いと薄型化のメリットが乏しいからである。 It varies depending elasticity of the spacers 8, which is thinner than the result and the sealing substrate 3 in the surface and the organic EL element 10 is likely to contact, because thicker and thinner benefits poor.

【0026】この実施形態においては、封止基板内面のスペーサ8と当接する箇所には乾燥手段6を設けないようにしているので、スペーサ8の厚みとしては少なくとも[乾燥手段6+有機EL層12+第2電極13]の厚みよりも厚くしなければならない。 [0026] In this embodiment, since the spacers 8 of the sealing substrate inner surface to abut portions are not be provided with the drying means 6, the at least Drying means 6+ organic EL layer 12+ as the thickness of the spacer 8 must thicker than the thickness of the second electrode 13]. 乾燥手段6を封止基板3内面の全域に形成した場合にはスペーサ8が乾燥手段6に当接する。 When the drying means 6 formed on the whole area of ​​the sealing substrate 3 inner surface spacer 8 comes into contact with the drying means 6. 通常はスペーサ占有面積を小さくするために断面積の小さな柱状スペーサ8とするので、乾燥手段6にスペーサ8が当接するようにするとスペーサ8 Since usually a small columnar spacer 8 of the cross-sectional area in order to reduce the spacer occupied area, when the drying means 6 spacer 8 so as to abut the spacers 8
が乾燥手段を貫通したり、斜め方向の力が加わって折れたりすることもあり得るので、スペーサ8が封止基板3 There or through the drying means, since it might be that broken or subjected to any oblique forces, the spacer 8 is the sealing substrate 3
に直接に当接するようにした方が好ましい。 It is preferable to so as to abut directly on. ただし、スペーサ8の[短辺側の径/高さ]の比率を略2以上とした場合には、かかる問題はほとんど発生しなかった。 However, when the ratio of [diameter / height of the short side on the spacer 8 was approximately 2 or more, such problems hardly occur.

【0027】なお、乾燥手段6は例えば水分を捕らえる乾燥剤を両面テープで封止基板表面に固定した後に表面をテープにて覆って固定したり、乾燥剤を結着樹脂内に分散させて基板表面に塗膜を形成するなどして得ることができる。 [0027] The drying unit 6, for example a drying agent to capture water or secured over at tape surface after securing the sealing substrate surface sided tape, by dispersing the drying agent in the binder resin substrate it can be obtained, such as by forming a coating film on the surface. 乾燥剤としては例えば活性炭、ゼオライト、 The drying agent such as activated carbon, zeolites,
活性アルミナ、シリカゲルなどの水分を物理的に吸着する乾燥剤や、水分を化学的に吸着する五酸化二燐(P Activated alumina, drying agents and, diphosphorus pentoxide to chemically adsorb moisture that physically adsorbs moisture, such as silica gel (P 2
)、酸化バリウム(BaO)、酸化カルシウム(C O 5), barium oxide (BaO), calcium oxide (C
aO)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化ナトリウム(Na O)などのアルカリ金属酸化物、硫酸リチウム(Li SO )、硫酸ナトリウム(Na SO )、 aO-), magnesium oxide (MgO), alkali metal oxides such as sodium oxide (Na 2 O), lithium sulfate (Li 2 SO 4), sodium sulfate (Na 2 SO 4),
硫酸カルシウム(CaSo )などの硫酸塩、塩化カルシウム(CaCl )、塩化ストロンチウム(SrCl Sulfates such as calcium sulfate (CaSo 4), calcium chloride (CaCl 2), strontium chloride (SrCl
)、弗化タンタル(TaF )、臭化マグネシウム(MgBr )、沃化バリウム(BaI )などの金属ハロゲン化物、過塩素酸バリウム(Ba(ClO 2), fluoride tantalum (TaF 5), magnesium bromide (MgBr 2), metal halides such as barium iodide (BaI 2), barium perchlorate (Ba (ClO
4) )などの過塩素酸塩などを用いることができる。 4) 2), or the like perchlorates, such as.
これらは、粒径を1〜30μm、好適には約10μm以下としたものが好ましい。 They, 1 to 30 [mu] m particle size, those preferably obtained by about 10μm or less preferred. 粒径が大きすぎると有機EL The organic EL If the particle size is too large
表示装置が厚くなるし、スペーサ8が封止基板3表面に直接に当接するようにして形成した場合には、その分スペーサ8を厚く設けなければならなくなるからである。 It is the display device becomes thick, if the spacer 8 is formed so as to abut directly on the sealing substrate 3 surface, because not necessary to provide thicker correspondingly spacer 8.
なお、乾燥剤の平均粒径を10μm以下と細かくした場合には封止基板3に散布するのみでも基板に付着するので特別に固定することなく乾燥手段6とすることもできる。 In the case where the average particle diameter of the desiccant finely and 10μm or less can also be a drying unit 6 without specially fixed so attached to the substrate in only spraying the sealing substrate 3.

【0028】以上の工程により有機EL表示装置1を形成する。 [0028] Through the above process of forming the organic EL display device 1. このようにして形成した有機EL表示装置1は比較的低コストで薄型化、大面積化、軽量化を図ることができ、特に大面積の有機EL表示装置1を得る際に非常に有効である。 Thinning In such organic EL display device 1 which is formed is relatively low cost, large area, it is possible to reduce the weight, is very effective in obtaining particular an organic EL display device 1 having a large area .

【0029】スペーサ8は、柱状のものに限らず壁状に形成したものであっても構わないし、ITO電極上のみでなく透光性基板2上に直接形成するものであっても構わない。 The spacer 8 is to may be one formed in a wall shape not limited to columnar ones, may be one which directly formed on the transparent substrate 2, not only on the ITO electrode. また、スペーサ8をSiO などの無機化合物により第1電極11全面に形成した後に公知のフォトリソグラフィ法を用いて形成することにより得ることも可能である。 It is also possible to obtain by forming by a known photolithography method after forming a spacer 8 to the first electrode 11 over the entire surface by inorganic compounds such as SiO 2. しかしながらスペーサ8は、上記した理由により実用的には10μm以上、好適には15〜40μm However spacer 8 is practically the 10μm or more for the reasons described above, preferably 15~40μm
程度の厚みで、且つ、物理的な洗浄工程にも耐えられる必要があるので、感光性樹脂材料からなるスペーサを用いることが実用的である。 On the order of thickness, and, since the physical washing step is necessary to withstand, it is practical to use a spacer made of a photosensitive resin material. 通常の半導体フォトリスグラフィーにて多用されているフォトレジストは厚く形成する場合であっても概ね5μm程度の厚みが上限であるので、好ましくは化学増幅型ネガレジストを用いると良い。 Since generally about 5μm thickness even when the photoresist is to be formed thick, which is frequently used in a normal semiconductor photo squirrel Photography is an upper limit, but it is preferable use a chemically amplified negative resist. また、1度に所望厚みのスペーサ8を得るのが困難な場合には、これらの材料の任意の組合せからなる多層構造のスペーサ8としても良い。 Further, when to obtain a spacer 8 having a desired thickness at a time is difficult, may be a spacer 8 having a multilayer structure consisting of any combination of these materials.

【0030】以下、具体的な実施例について図3に示す工程図を参照しながら説明する。 [0030] Hereinafter will be described with reference to the process chart shown in FIG. 3 for specific examples. (実施例)透光性基板2として厚さ0.3mmの150 150 thick 0.3mm (Example) translucent substrate 2
mm×150mmのガラス基板を用意し、その表面上に有機EL表示装置に対応する所定パターンのITO透明電極からなる第1電極11を0.2μm形成した。 Glass substrate was prepared mm × 150 mm, the first electrode 11 made of ITO transparent electrodes in a predetermined pattern corresponding to the organic EL display device on the surface thereof was 0.2μm formed. その上にポリスチレン系化学増幅型ネガレジスト(JSR社製BPR501H、粘度160cPs)をスピンナーにより塗布、プリベークを施して約20μmの感光性樹脂層22を形成した。 Its polystyrene chemically amplified negative resist on (JSR Corporation BPR501H, viscosity 160 cps) is applied by spinner to form a photosensitive resin layer 22 of approximately 20μm subjected to pre-baking. 約50μmの方形の開口部を有する露光マスク20を介して紫外線21により露光(365 Exposure by ultraviolet 21 through an exposure mask 20 having an opening square about 50 [mu] m (365
nm、200mJ/cm2)し、現像、リンス、ポストベーク処理を施して柱状のスペーサ8を形成した。 nm, 200 mJ / cm @ 2) and, development, rinsing, thereby forming a columnar spacer 8 is subjected to post-baking. 図4 Figure 4
(a)はスペーサ間ピッチを約150μmとして多数形成したスペーサ8の顕微鏡観察結果で、図4(b)がその拡大観察結果である。 (A) is a microscopic observation of the spacers 8 formed many pitch between the spacers as about 150 [mu] m, a diagram 4 (b) is enlarged observation that. なお、発光(表示)エリア7の大きさは26mm×36mmである。 The light emitting (display) size of area 7 are 26 mm × 36 mm. 次に、この基板を枚葉式ブラシ洗浄によるガラス基板洗浄装置(大日本スクリーン製)にてブラシ洗浄、薬品洗浄を施した後に、 Then, after applying brush cleaning, a chemical cleaning with the substrate sheet brush cleaning glass substrate cleaning apparatus according to (manufactured by Dainippon Screen),
真空チャンバー内にセットした。 It was set in a vacuum chamber. 有機EL層12として正孔輸送層としてTPDおよび有機発光層としてAlq Alq as TPD and the organic light emitting layer as the hole-transporting layer as an organic EL layer 12
をそれぞれ20nmずつ連続して真空蒸着法により成膜した。 It was deposited by vacuum evaporation method in succession by 20nm respectively. その後、第2電極13としてAl−Li合金からなる陰極を成膜マスクを用いて50nm蒸着して有機E Thereafter, a cathode made of Al-Li alloy as the second electrode 13 to 50nm deposited using the deposition mask organic E
L素子10を形成した。 To form an L element 10. 次に、厚さ0.3mmの150 Then, with a thickness of 0.3mm 150
mm×150mmのガラス製の封止基板3表面に平均粒径が約10μmのBaO粒子を散布した乾燥手段6を設けておいた基板を、乾燥手段6が有機EL素子10と対向するようにして貼り合せ、有機EL素子周辺部をシール4により接着固定して封止した。 The substrate having an average particle diameter in a glass sealing substrate 3 surface of mm × 150 mm was kept provided drying means 6 were sprayed with BaO particles of about 10 [mu] m, the drying means 6 so as to face the organic EL element 10 Lamination was sealed and adhere the organic EL element periphery by a seal 4. その後図示しないスクライブ装置により切断してシール4の外側のガラス基板2,3を除去して有機EL表示装置を得た。 To obtain an organic EL display device by removing the glass substrates 2 and 3 of the outer seal 4 is cut by the subsequent unillustrated scribing apparatus. このようにして作成した有機EL表示装置1は、ノギスにて測定したところ略0.65mmの厚さであった。 Thus the organic EL display device 1 that was created had a thickness of approximately 0.65mm were measured with slide calipers.

【0031】比較例として、スペーサ形成工程を実施しない以外は、すべて同一条件にて有機EL表示装置も作製し、実施例サンプルおよび比較例サンプルについて寿命試験等を実施した。 [0031] As a comparative example, except that no exemplary spacer formation step, all also manufactured organic EL display device under the same conditions was conducted life tests such as for Example Samples and Comparative Example Samples. その結果、両サンプルとも初期特性、寿命特性とも大きな違いはなかったが、各サンプルの有機EL表示装置の中心部に重りを載せた状態で温度環境テストを実施したところ、比較例サンプルにおいてはリークやショートの発生が見られたが、実施例サンプルにおいてはリークやショートの発生が観察されなかった。 As a result, the initial characteristics both samples, there was no significant difference with life characteristics, was subjected to a temperature environment test in a state carrying the weight in the center of the organic EL display device of each sample, leakage in the comparative example samples and occurrence of short circuit was observed. in the embodiment example the occurrence of leakage or a short circuit was observed. なお、ダークスポットの発生・成長等の様子や発光特性については顕著な違いはなかった。 In addition, there was no significant difference for the state and the light-emitting characteristics such as the occurrence and growth of dark spots.

【0032】本発明実施形態による有機EL表示装置は以上のように構成されており、薄型化、大面積化、軽量化を図ることができ、比較的簡便な方法で製造することができる。 The organic EL display device according to the embodiment of the present invention is constituted as described above, thin, large area, it is possible to reduce the weight, it can be produced in a relatively simple method. 特に大画面化を図った場合や、薄い厚さの基板を用いた場合においては、基板のたわみ量が大きくなるため、スペーサを設ける本発明が好適に適用され得る。 Especially If you tried to screen size, in the case of using a substrate of a thin thickness, because the amount of deflection of the substrate is large, the present invention to provide a spacer can be suitably applied.

【0033】尚、上記した実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲はこれらの態様に限られるものではない。 [0033] Incidentally, the above-described embodiments are preferred specific examples of the present invention, various technically preferable limitations are imposed, the scope of the present invention is not limited to these embodiments . 例えば第1電極を陽極、第2電極を陰極とした例で説明したが、第1電極を陰極、第2電極を陽極とした構成の有機EL素子10とすることもできる。 For example, the first electrode is an anode, but the second electrode explained in the example of a cathode, the first electrode is a cathode, may be the second electrode and the organic EL element 10 configured as an anode. また、有機EL素子10を設置した基板である透光性基板2側から光りを照射するのではなく封止基板3側から光りを照射する場合には、例えばプラスチック性の透光性基板2の外面にアルミニウム反射膜を設け、封止基板3 Further, in the case of irradiating the light from the sealing substrate 3 side rather than light from the light-transmitting substrate 2 side is a substrate placed organic EL element 10, for example of plastic of the light-transmitting substrate 2 the aluminum reflective layer on the outer surface, the sealing substrate 3
を透光性プラスチックにより形成して封止基板3側から光りを照射する構成とすることもできる。 The light may be configured to irradiate the from the sealing substrate 3 side formed by translucent plastic. また、平面発光素子の発光(表示)エリア内にスペーサを設ける例で説明したが、単純マトリクスやアクティブマトリクスのようなドットマトリクス表示装置において、その表示画素以外の走査電極等の上にスペーサを設けたり、表示画素で形成する電極間に設ける等の種々の応用も本願発明に包含される。 Although described in the example of providing the spacer emission (display) area of ​​a plane light emitting device, the dot matrix display such as a passive matrix or an active matrix, a spacer provided on such scanning electrodes other than the display pixel or, various applications, such as provided between the electrodes forming the display pixels is also encompassed by the present invention.

【0034】 [0034]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、薄型化、大面積化、軽量化を図った有機EL表示装置が提供できる。 As described above, according to the present invention, according to the present invention, thin, large area, the organic EL display device which reduce the weight can be provided.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明に係る有機EL表示装置の一実施形態の概略平面図である。 1 is a schematic plan view of one embodiment of an organic EL display device according to the present invention.

【図2】図1の有機EL表示装置のA−A線断面図である。 2 is an A-A line cross-sectional view of an organic EL display device of FIG.

【図3】本発明に係る有機EL表示装置の製造工程を(a)〜(e)の順に説明する概略断面図である。 3 is a schematic sectional view for explaining the order of the manufacturing process of the organic EL display device according to the present invention (a) ~ (e).

【図4】本発明に係る有機EL表示装置のスペーサ作成後の状態を示す顕微鏡観察図である。 Is a microscopic view showing a state after creating the spacers of the organic EL display device according to the present invention; FIG. (a)は発光(表示)エリアに作成したスペーサの正面観察図、 (b) (A) the light emitting front observation view of a spacer that was created (display) area, (b)
はその拡大図。 The enlarged view.

【図5】従来の単純ドットマトリクスタイプの有機EL FIG. 5 is a conventional simple dot matrix type of organic EL
素子の構成を説明する概略斜視図である。 It is a schematic perspective view illustrating the structure of the element.

【図6】従来の封止した有機EL表示装置の一例を示す概略断面図である。 6 is a schematic sectional view showing an example of a conventional sealed organic EL display device.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1,90 有機EL表示装置 2 透光性基板 3,91 封止基板 4 シール 5,94 封止空間 6,93 乾燥手段 7 発光(表示)エリア 8 スペーサ 10,80 有機EL素子 11 第1電極 12,83 有機EL層 13 第2電極 14 封止層 20 露光マスク 21 光線 22 感光性樹脂層 81 ガラス基板 82 陽極層(ITO電極) 84 陰極層 92 シール層 1,90 organic EL display device 2 transmissive substrate 3,91 sealing substrate 4 sealed 5,94 sealed space 6,93 drying means 7 emission (display) area 8 spacers 10, 80 organic EL element 11 first electrode 12 , 83 organic EL layer 13 and the second electrode 14 sealing layer 20 photomask 21 light 22 light-sensitive resin layer 81 glass substrate 82 anode layer (ITO electrode) 84 cathode layer 92 sealing layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 7識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/22 H05B 33/22 Z Fターム(参考) 3K007 AB00 AB11 AB18 BA06 BB01 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EA00 EB00 FA02 5C094 AA15 AA36 AA43 AA47 BA03 BA27 CA19 DA12 DA13 EA04 EA05 EB02 EC03 FA01 FA02 FB01 FB15 GB01 JA08 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (51) Int.Cl. 7 identification mark FI theme Court Bu (reference) H05B 33/22 H05B 33/22 Z F-term (reference) 3K007 AB00 AB11 AB18 BA06 BB01 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EA00 EB00 FA02 5C094 AA15 AA36 AA43 AA47 BA03 BA27 CA19 DA12 DA13 EA04 EA05 EB02 EC03 FA01 FA02 FB01 FB15 GB01 JA08

Claims (6)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 第1電極と、有機材料を含む発光層を備えた有機EL層と、第2電極を積層形成した有機EL素子を設けた設置基板、および上記有機EL素子を覆い設置基板と対向配設した封止基板により閉空間中に有機E And 1. A first electrode, an organic EL layer having a light emitting layer containing an organic material, placed substrate provided with the organic EL elements where the second electrode is stacked, and an installation substrate covering the organic EL device organic E in the closed space by oppositely provided to the sealing substrate
    L素子を封止した有機EL表示装置において、 上記有機EL素子の発光エリア内には有機EL層とともに非導電性のスペーサを有しており、上記スペーサは有機EL素子表面よりも封止基板側に突出し、且つ少なくとも設置基板および/または封止基板がたわんで閉空間が狭まった際に封止基板内面に当接する厚みを有し、閉空間を形成する両基板内面間の間隙が10〜100μm In the organic EL display device sealing the L element, is in the light emitting area of ​​the organic EL element has a spacer of a non-conductive together with the organic EL layer, the spacer sealing substrate side of the organic EL element surface to protrude, and has a contacting thickness on the sealing substrate inner surface when the narrowed closed space at least placed substrate and / or the sealing substrate is bent, a gap between the substrates inner surface defining a closed space 10~100μm
    の範囲である、ことを特徴とする有機EL表示装置。 In the range of, organic EL display, comprising the.
  2. 【請求項2】 上記スペーサの設置面積が、有機EL素子の発光エリアの面積に対し10%以下である、ことを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。 2. A footprint of the spacer is 10% or less with respect to the area of ​​the light emitting areas of the organic EL element, an organic EL display device according to claim 1, characterized in that.
  3. 【請求項3】 上記スペーサは60μm以下の径の柱状をなして第1電極上に形成されており、有機EL素子の発光エリア内に点在している、ことを特徴とする請求項2に記載の有機EL表示装置。 Wherein said spacer is formed on the first electrode forms a columnar following diameter 60 [mu] m, are scattered within the light emitting areas of the organic EL devices, the to claim 2, wherein the organic EL display device as claimed.
  4. 【請求項4】 上記スペーサが感光性樹脂を含み10μ 4. A 10μ include the spacers photosensitive resin
    m以上の厚みである、ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の有機EL表示装置。 A thickness of at least m, it organic EL display device according to any one of claims 1 to 3, characterized in.
  5. 【請求項5】 設置基板上に第1電極を形成する工程と、第1電極上に有機EL層および第2電極を形成して有機EL素子を作成する工程と、封止基板を設置基板に対向配設して有機EL素子を覆って封止する工程とを順に実施して有機EL表示装置を製造する方法において、 上記第1電極形成工程と有機EL素子形成工程の間に、 Forming a first electrode 5. A mounted on the substrate, a step of creating and forming an organic EL layer and the second electrode an organic EL element on the first electrode, a sealing substrate placed substrate a method of facing provided a step of sealing over the organic EL element is performed in order to manufacture the organic EL display device, between the first electrode forming step and an organic EL element forming step,
    第1電極上に感光性樹脂材料層を形成し、これを露光して所定形状のスペーサを設けるスペーサ形成工程を実施する、ことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 A photosensitive resin material layer formed on the first electrode, and exposing it to implement a spacer forming step of forming a spacer having a predetermined shape, the method of manufacturing the organic EL display device, characterized in that.
  6. 【請求項6】 上記スペーサ形成工程がスペーサ形成後に物理的な基板洗浄を実施するサブ工程を含む、ことを特徴とする請求項5に記載の有機EL表示装置の製造方法。 6. A method of manufacturing an organic EL display device according to claim 5, said spacer forming step comprises a sub-step of implementing a physical substrate cleaning after spacer formation, characterized in that.
JP2000348945A 2000-11-16 2000-11-16 Organic el display device Pending JP2002151252A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000348945A JP2002151252A (en) 2000-11-16 2000-11-16 Organic el display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000348945A JP2002151252A (en) 2000-11-16 2000-11-16 Organic el display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002151252A true true JP2002151252A (en) 2002-05-24

Family

ID=18822431

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000348945A Pending JP2002151252A (en) 2000-11-16 2000-11-16 Organic el display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002151252A (en)

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005353600A (en) * 2004-06-10 2005-12-22 Lg Electron Inc Organic el display and method for manufacturing the same
WO2006101378A1 (en) * 2005-03-25 2006-09-28 Lg Electronics Inc. Light emitting device
KR100675625B1 (en) * 2002-08-08 2007-02-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Organic electroluminescence device and fabricating method thereof
KR100705319B1 (en) 2004-12-01 2007-04-10 엘지전자 주식회사 Organic Electro-Luminescence Display Device And Fabricating Method Thereof
JP2007335327A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Dainippon Printing Co Ltd Organic electroluminescence element, and method for manufacturing the element
JP2010060858A (en) * 2008-09-04 2010-03-18 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
US7753751B2 (en) 2004-09-29 2010-07-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating the display device
US7792489B2 (en) 2003-12-26 2010-09-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
US7893614B2 (en) 2006-12-20 2011-02-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabricating the same
US8044404B2 (en) 2006-02-20 2011-10-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and manufacturing method thereof
WO2012032664A1 (en) * 2010-09-11 2012-03-15 東北パイオニア株式会社 Organic el panel and junction type light emitting device
US8350466B2 (en) 2004-09-17 2013-01-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method thereof
CN103325949A (en) * 2013-05-24 2013-09-25 四川虹视显示技术有限公司 Organic light-emitting diode encapsulating structure and method for manufacturing same
WO2013146583A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Necライティング株式会社 Organic electroluminescent illumination panel, manufacturing method thereof, and organic electroluminescent illumination device
WO2014091767A1 (en) * 2012-12-13 2014-06-19 パナソニック株式会社 Organic electroluminescent light-emitting device and illumination device
US8772783B2 (en) 2004-10-14 2014-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US8847483B2 (en) 2005-10-17 2014-09-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2014533881A (en) * 2012-05-31 2014-12-15 エルジー・ケム・リミテッド The organic light emitting device and manufacturing method thereof
WO2016208430A1 (en) * 2015-06-26 2016-12-29 Necライティング株式会社 Organic el device, organic el lighting panel, organic el lighting device, and organic el display
US9929220B2 (en) 2009-01-08 2018-03-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and electronic device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997031508A1 (en) * 1996-02-26 1997-08-28 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
JPH1154285A (en) * 1997-07-31 1999-02-26 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic electroluminescent element
JPH11195484A (en) * 1997-12-27 1999-07-21 Tdk Corp Organic el element
JPH11260559A (en) * 1998-03-11 1999-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Organic thin film el element and manufacture thereof
JP2000036384A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Nec Corp Manufacture of organic thin film el device
JP2000173766A (en) * 1998-09-30 2000-06-23 Sanyo Electric Co Ltd Display device
JP2000243555A (en) * 1999-02-17 2000-09-08 Toyota Motor Corp Organic el display

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997031508A1 (en) * 1996-02-26 1997-08-28 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
JPH1154285A (en) * 1997-07-31 1999-02-26 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic electroluminescent element
JPH11195484A (en) * 1997-12-27 1999-07-21 Tdk Corp Organic el element
JPH11260559A (en) * 1998-03-11 1999-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Organic thin film el element and manufacture thereof
JP2000036384A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Nec Corp Manufacture of organic thin film el device
JP2000173766A (en) * 1998-09-30 2000-06-23 Sanyo Electric Co Ltd Display device
JP2000243555A (en) * 1999-02-17 2000-09-08 Toyota Motor Corp Organic el display

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100675625B1 (en) * 2002-08-08 2007-02-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Organic electroluminescence device and fabricating method thereof
US7792489B2 (en) 2003-12-26 2010-09-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
US9859523B2 (en) 2003-12-26 2018-01-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
US9030097B2 (en) 2003-12-26 2015-05-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
US9502680B2 (en) 2003-12-26 2016-11-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
US8432097B2 (en) 2003-12-26 2013-04-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
JP2005353600A (en) * 2004-06-10 2005-12-22 Lg Electron Inc Organic el display and method for manufacturing the same
US8350466B2 (en) 2004-09-17 2013-01-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method thereof
US9444069B2 (en) 2004-09-17 2016-09-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the display device
US9147713B2 (en) 2004-09-29 2015-09-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device, electronic apparatus, and method of fabricating the display device
US9530829B2 (en) 2004-09-29 2016-12-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device, electronic apparatus, and method of fabricating the display device
US9893130B2 (en) 2004-09-29 2018-02-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device, electronic apparatus, and method of fabricating the display device
US7753751B2 (en) 2004-09-29 2010-07-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating the display device
US8772783B2 (en) 2004-10-14 2014-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
KR100705319B1 (en) 2004-12-01 2007-04-10 엘지전자 주식회사 Organic Electro-Luminescence Display Device And Fabricating Method Thereof
WO2006101378A1 (en) * 2005-03-25 2006-09-28 Lg Electronics Inc. Light emitting device
US7906906B2 (en) 2005-03-25 2011-03-15 Lg Display Co., Ltd. Light emitting device having spacer for protecting light emission unit from moisture absorbent
US9224792B2 (en) 2005-10-17 2015-12-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US9893325B2 (en) 2005-10-17 2018-02-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device having a structure that prevents defects due to precision, bending and the like of a mask without increasing manufacturing steps
US8847483B2 (en) 2005-10-17 2014-09-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US9536932B2 (en) 2005-10-17 2017-01-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of making a semiconductor lighting emitting device that prevents defect of the mask without increasing steps
US8044404B2 (en) 2006-02-20 2011-10-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and manufacturing method thereof
JP2007335327A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Dainippon Printing Co Ltd Organic electroluminescence element, and method for manufacturing the element
US7893614B2 (en) 2006-12-20 2011-02-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabricating the same
JP2010060858A (en) * 2008-09-04 2010-03-18 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
US9929220B2 (en) 2009-01-08 2018-03-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and electronic device
WO2012032664A1 (en) * 2010-09-11 2012-03-15 東北パイオニア株式会社 Organic el panel and junction type light emitting device
JP5622854B2 (en) * 2010-09-11 2014-11-12 三菱電機株式会社 Organic el panel and panel junction light emitting device
WO2013146583A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Necライティング株式会社 Organic electroluminescent illumination panel, manufacturing method thereof, and organic electroluminescent illumination device
JPWO2013146583A1 (en) * 2012-03-30 2015-12-14 Necライティング株式会社 The organic electroluminescent lighting panel, its manufacturing method and an organic electroluminescent lighting device
US9209421B2 (en) 2012-05-31 2015-12-08 Lg Chem, Ltd. Organic light-emitting device having spacer pattern in light emitting area and method for manufacturing same
JP2014533881A (en) * 2012-05-31 2014-12-15 エルジー・ケム・リミテッド The organic light emitting device and manufacturing method thereof
WO2014091767A1 (en) * 2012-12-13 2014-06-19 パナソニック株式会社 Organic electroluminescent light-emitting device and illumination device
CN103325949A (en) * 2013-05-24 2013-09-25 四川虹视显示技术有限公司 Organic light-emitting diode encapsulating structure and method for manufacturing same
WO2016208430A1 (en) * 2015-06-26 2016-12-29 Necライティング株式会社 Organic el device, organic el lighting panel, organic el lighting device, and organic el display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20030085654A1 (en) Electro-optical apparatus, manufacturing method thereof, and electronic instrument
US20030117071A1 (en) Organic electroluminescent display device
US6137220A (en) Organic electroluminescent display with protective film and trapezoidal walls
US20050206309A1 (en) Display device and production method for the same
US7368307B2 (en) Method of manufacturing an OLED device with a curved light emitting surface
US20070132374A1 (en) Organic electro-luminescence display device and method for fabricating the same
US20030209707A1 (en) Organic electroluminescent device, method for manufacturing the same, and display unit
US20050231085A1 (en) Flat panel display device
US20060290276A1 (en) OLED device having spacers
US20040036411A1 (en) Organic electroluminescence display panel and method for sealing the same
JP2000030871A (en) Organic el element
JP2001126866A (en) Method of manufacturing organic el display and el display manufactured by said method
JP2006049057A (en) Organic el display device
JP2002231443A (en) Display device
JP2000195675A (en) Substrate for organic electroluminescent display element and organic electroluminescent display element
US20010035714A1 (en) Method for forming a photosensitive pixel-defining layer on an OLED panel
JPH1154285A (en) Organic electroluminescent element
JP2002352963A (en) Display device
JPH11144865A (en) Manufacture of organic electroluminescent element
JP2001035659A (en) Organic electroluminescent element and its manufacture
JP2004119197A (en) Organic el panel, its manufacturing method, electrooptical panel and electronic equipment using the same
JP2001076886A (en) Organic el device with transparent touch switch and its manufacture
JP2005166315A (en) Organic el display device
US6930450B2 (en) Organic electro-luminescence device and fabricating method thereof
JP2001326069A (en) Organic electroluminescent element and manufacturing method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091110

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100323