JP2002138216A - アゾ顔料の製造方法、該アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジ - Google Patents

アゾ顔料の製造方法、該アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジ

Info

Publication number
JP2002138216A
JP2002138216A JP2000334527A JP2000334527A JP2002138216A JP 2002138216 A JP2002138216 A JP 2002138216A JP 2000334527 A JP2000334527 A JP 2000334527A JP 2000334527 A JP2000334527 A JP 2000334527A JP 2002138216 A JP2002138216 A JP 2002138216A
Authority
JP
Grant status
Application
Patent type
Prior art keywords
electrophotographic
azo pigment
example
method
means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000334527A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuko Komai
Masayuki Shiyoji
正幸 所司
夕子 駒井
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
株式会社リコー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of products other than chlorine, adipic acid, caprolactam, or chlorodifluoromethane, e.g. bulk or fine chemicals or pharmaceuticals
    • Y02P20/54Improvements relating to the production of products other than chlorine, adipic acid, caprolactam, or chlorodifluoromethane, e.g. bulk or fine chemicals or pharmaceuticals characterised by the solvent
    • Y02P20/544Supercritical solvents, e.g. supercritical H2O or CO2

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アゾ顔料を効率良く簡便かつ容易に製造する
方法、アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方
法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカート
リッジの提供。 【解決手段】 (1)アゾ顔料を超臨界流体もしくは亜
臨界流体中に溶解させ、次いで結晶を析出させることを
特徴とするアゾ顔料の製造方法。 (2)上記製造法で得られたアゾ顔料を含有することを
特徴とする電子写真感光体、該電子写真感光体を用いた
電子写真方法、電子写真装置、又は電子写真装置用プロ
セスカートリッジ。

Description

【発明の詳細な説明】

【0001】

【発明の属する技術分野】本発明はアゾ顔料の製造方
法、該方法により得られたアゾ顔料を含有する電子写真
感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装
置用プロセスカートリッジに関するものである。

【0002】

【従来の技術】従来、電子写真方式において使用される
感光体の光導電体としては、大きく分けて種々の無機及
び有機光導電体が知られている。ここにいう「電子写真
方式」とは、一般に光導電性の感光体をまず暗所で、例
えば、コロナ放電によって帯電させ、次いで像露光し、
露光部のみの電荷を選択的に逸散させて静電潜像を得、
この潜像部を染料、顔料などの着色剤と高分子材料など
で構成されるトナーで現像し、可視化して画像を形成す
るようにした、いわゆるカールソンプロセスと呼ばれる
画像形成プロセスによる方式である。有機の光導電体を
用いた感光体は無機光導電体に比べ、感光波長域の自由
度、成膜性、可撓性、膜の透明性、量産性、毒性やコス
ト面等において利点を持つため、現在では殆どの感光体
には有機光導電体が用いられている。この電子写真方式
及び類似プロセスにおいて繰り返し使用される感光体に
は、感度、受容電位、電位保持性、電位安定性、残留電
位、分光感度特性等に代表される静電特性が優れている
ことが要求される。

【0003】上記の観点から、これまでに提案、実用化
されている有機光導電体としては、アゾ顔料(特開昭5
4−22834号、及び特開昭61−151659号公
報)、フタロシアニン顔料(特開昭48−34189
号、及び特開昭57−14874号公報)、ペリレン顔
料(特開昭53−98825号、及び特開昭63−26
6457号公報)、多環キノン顔料(特開昭61−48
861号公報)、スクエアリリウム染料(特開昭49−
105536号、及び特開昭58−21416号公報)
等がある。中でもアゾ顔料は合成が容易で、分子設計の
自由度が大きく、アゾ成分、カップラー成分、及び結合
様式などの分子構造の違いにより、電子写真特性や分光
感度域が大きく異なることから、アナログ記録用光導電
体としては勿論、デジタル記録用光導電体としても盛ん
に研究されている。これまでに知られている良好な感度
を示すアゾ顔料としては、カルバゾール骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭53−95033号公報)、ジスチリル
ベンゼン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−1334
45号公報)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭53−132347号公報)、ジベンゾチオ
フェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21728
号公報)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特
開昭54−12742号公報)、フルオレノン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−22834号公報)、ビス
スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−177
33号公報)、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−2129号公報)、ジスチリ
ルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
4967号公報)が挙げられる。

【0004】アゾ顔料は、その分子構造だけでなく、顔
料合成後の洗浄方法や溶媒、粉砕等による結晶処理方法
によっても電子写真特性が大きく変化することが知られ
ている。これは、合成の際の不純物やアゾ顔料の結晶構
造、粒子サイズが感光体の静電特性に大きな影響を及ぼ
すためと考えられている。アゾ顔料の精製においては、
アゾ顔料が一般的な溶剤に難溶、不溶であるため、再結
晶や再沈殿などの通常の精製法を用いることができな
い。そこで、粗アゾ顔料をN,N−ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン等の溶媒中で3回以上加熱洗
浄する方法(特開平5−297616号公報)、ビスア
ゾ顔料を超臨界二酸化炭素で抽出処理する方法(特開平
7−181694号公報)等が提案されている。しかし
ながら、上記精製方法、溶媒による洗浄方法では、アゾ
顔料の溶媒中への分散、洗浄、濾過の操作を繰り返し行
う必要があり、それにより精製工程に多くの時間がかか
る、大量の溶媒を使用する等、効率の良い方法ではな
い。また、これらの洗浄方法や超臨界二酸化炭素で抽出
処理する方法では、固体(アゾ顔料)からの不純物の抽
出であるため、溶解過程を経る再結晶や再沈殿ほどの精
製効率は得られない。

【0005】結晶処理方法としては、アゾ顔料をケトン
系溶媒中で加熱処理する方法(特開昭63−30195
5号公報)、ベンゾカルバゾール系カップラー成分を有
するトリフェニルアミン系トリスアゾ顔料を溶媒処理す
る方法(特開昭61−151659号公報)、ビスアゾ
顔料を1,4−ジオキサンを処理溶媒としてボールミリ
ングで粉砕処理する方法(特開平7−152188号公
報)、アゾ顔料をカップリング後の水洗に続いて環状エ
ーテルまたは極性非プロトン性溶媒中で加熱処理または
湿式分散処理する方法(特開平11−100518号公
報)等が提案されている。しかしながら、上記結晶処理
方法では、一度に大量のアゾ顔料を処理できないため、
処理時間が長くなると生産性が低下したり、精製したア
ゾ顔料に分散メディアが混入する可能性がある等の問題
がある。

【0006】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、アゾ顔料を
効率良く簡便かつ容易に製造する方法、アゾ顔料を含有
する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及
び電子写真装置用プロセスカートリッジを提供するもの
である。

【0007】

【課題を解決するための手段】上記課題は、次の1)〜
8)の発明(以下、本発明1〜8という)によって解決
される。 1) アゾ顔料を超臨界流体もしくは亜臨界流体中に溶
解させ、次いで結晶を析出させることを特徴とするアゾ
顔料の製造方法。 2) 超臨界流体もしくは亜臨界流体がケトン系溶媒も
しくはアルコール系溶媒の少なくとも1種からなるもの
であることを特徴とする1)記載のアゾ顔料の製造方
法。 3) ケトン系溶媒もしくはアルコール系溶媒がアセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、1
−プロパノール、2−プロパノールから選ばれた少なく
とも1種であることを特徴とする2)記載のアゾ顔料の
製造方法。 4) 導電性支持体上に感光層を設けてなる電子写真感
光体において、感光層に1)〜3)のいずれかに記載の
製造方法により得られたアゾ顔料を含有することを特徴
とする電子写真感光体。 5) 感光層に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含有
し、該電荷発生物質が1)〜3)のいずれかに記載の製
造方法により得られたアゾ顔料であることを特徴とする
4)記載の電子写真感光体。 6) 4)又は5)記載の電子写真感光体を用い、帯
電、像露光、現像、及び転写を行うことを特徴とする電
子写真方法。 7) 4)又は5)記載の電子写真感光体、帯電手段、
像露光手段、現像手段、及び転写手段を備えたことを特
徴とする電子写真装置。 8) 4)又は5)記載の電子写真感光体と、帯電手
段、像露光手段、現像手段、転写手段、及びクリーニン
グ手段から選ばれる少なくとも1つの手段とを一体に保
持し、かつ、電子写真装置本体に脱着自在な構造を有す
ることを特徴とするプロセスカートリッジ。

【0008】即ち、上記本発明1〜3は、アゾ顔料を上
記超臨界流体もしくは亜臨界流体中に溶解させ、次いで
結晶を析出させる工程を連続して行い、アゾ顔料の精製
と微粒子化、結晶処理とを同時に行うことにより、従来
の重複した操作と多くの時間を費やしていたアゾ顔料の
製造を、効率良く簡便に行えるようにしたものであり、
更に、アゾ顔料を超臨界流体もしくは亜臨界流体中へ溶
解させる過程を経ることで、高純度のアゾ顔料が得ら
れ、同時に微粒子化、結晶処理も容易に行えるようにし
たものである。また、上記本発明4〜7は、本発明1〜
3により得られるアゾ顔料の優れた電子写真特性を利用
した電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写
真装置である。

【0009】以下、上記本発明について詳細に説明す
る。初めに、超臨界流体もしくは亜臨界流体を用いたア
ゾ顔料の製造方法について説明する。超臨界流体もしく
は亜臨界流体としては、炭化水素系、ハロゲン化炭化水
素系、アルコール系、エーテル系、アセタール系、ケト
ン系、エステル系、脂肪酸系、窒素化合物系、硫黄化合
物系の溶媒、水、二酸化炭素、窒素、アンモニアなどの
種々の物質が使用できる。中でも、ケトン系溶媒、アル
コール系溶媒は、アゾ顔料が高い溶解性を示す物質であ
るため好ましい。ケトン系溶媒としては、アセトン、メ
チルエチルケトン、イソプロピルメチルケトン、イソブ
チルメチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、
シクロヘキサノン、及びこれらの混合溶媒等が挙げられ
る。また、アルコール系溶媒としては、メタノール、エ
タノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−
ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、
tert−ブチルアルコール、1−ペンタノール、アリ
ルアルコール、及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。
中でも好ましいのは、アセトン、メチルエチルケトン、
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロ
パノールである。これらの溶媒は単独もしくはいくつか
組み合わせて用いることができる。

【0010】ここで「超臨界流体」とは、一般に臨界温
度以上でかつ臨界圧力以上の状態にある流体を言う。例
えば、アセトンの場合、臨界温度235℃以上でかつ臨
界圧力4.7MPa以上の条件で超臨界流体となる。同
様に、メチルエチルケトンは262℃、4.2MPa以
上、イソプロピルメチルケトンは280℃、3.8MP
a以上、イソブチルメチルケトンは298℃、3.3M
Pa以上、2−ペンタノンは288℃、3.7MPa以
上、3−ペンタノンは288℃、3.7MPa以上、シ
クロヘキサノンは356℃、3.8MPa以上、メタノ
ールは239℃、8.1MPa以上、エタノールは24
3℃、6.4MPa以上、1−プロパノールは264
℃、5.2MPa以上、2−プロパノールは235℃、
4.8MPa以上、1−ブタノールは290℃、4.4
MPa以上、2−ブタノールは263℃、4.2MPa
以上、イソブチルアルコールは274℃、4.3MPa
以上、tert−ブチルアルコールは233℃、4.0
MPa以上、1−ペンタノールは315℃、3.9MP
a以上、アリルアルコールは272℃、5.7MPa以
上の条件で超臨界流体となる。また、「亜臨界流体」と
は、一般に臨界温度よりも低い温度領域にある流体を言
う。

【0011】超臨界流体、亜臨界流体の使用に当たって
は、アゾ顔料の超臨界流体、亜臨界流体中への溶解を効
率的に行うために、適当な溶媒(エントレーナ)を超臨
界流体、亜臨界流体に混合して用いても良い。エントレ
ーナとしては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒、塩化メチル、
ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロルベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル系溶媒、、アセトアルデヒドジエチルアセタールな
どのアセタール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン
などのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などのカ
ルボン酸系溶媒、アセトニトリル、ピリジン、N,N−
ジメチルホルムアミドなどの窒素化合物系溶媒、二硫化
炭素、ジメチルスルホキシドなどの硫黄化合物系溶媒、
更に水、硝酸、硫酸などが挙げられる。

【0012】超臨界流体、亜臨界流体の使用温度範囲
は、基本的にアゾ顔料が溶解する温度以上であれば特に
限定範囲はないが、温度が低すぎるとアゾ顔料の超臨界
流体、亜臨界流体中への溶解性が乏しくなる場合があ
り、また温度が高すぎるとアゾ顔料が分解する場合があ
るため、20〜400℃とするのが好ましい。超臨界流
体、亜臨界流体の使用圧力範囲は、基本的に用いる物質
の臨界圧力以上であれば特に限定範囲はないが、圧力が
低すぎるとアゾ顔料の超臨界流体、亜臨界流体中への溶
解性が乏しくなる場合があり、また圧力が高すぎると製
造装置の耐久性、操作時の安全性等の面で問題が生じる
場合があるため、1〜100MPaとするのが好まし
い。超臨界流体を使用する装置は、アゾ顔料を超臨界流
体もしくは亜臨界流体と接触させ、超臨界流体もしくは
亜臨界流体中へ溶解させる機能を有する装置であればな
んら限定されることはなく、例えば、超臨界流体もしく
は亜臨界流体を閉鎖系で使用するバッチ方式、超臨界流
体もしくは亜臨界流体を循環させて使用する流通方式な
どの使用が可能である。

【0013】超臨界流体もしくは亜臨界流体中に溶解し
たアゾ顔料を析出させる方法は、結晶を析出させる手段
であればなんら限定されることはなく、例えば、アゾ顔
料が溶解した超臨界流体もしくは亜臨界流体を適当な溶
媒と混合して結晶を析出させる方法、アゾ顔料が溶解し
た超臨界流体もしくは亜臨界流体を圧力は変えずに温度
のみを徐々にあるいは急激に下げて結晶を析出させる方
法、アゾ顔料が溶解した超臨界流体もしくは亜臨界流体
を大気圧まで急速に膨張させ結晶を析出させる方法など
が挙げられる。中でも溶媒と混合して結晶を析出させる
方法においては、混合する溶媒種により析出するアゾ顔
料の結晶型や粒径に違いが見られ、容易に結晶型並びに
粒径を制御できる点で好ましい。その際、溶媒の量は、
超臨界流体もしくは亜臨界流体に対し0.1〜100倍
量とするのが好ましく、溶媒量が0.1倍量より少なく
なると結晶の析出、結晶変換が不十分となり、所望の特
性を有するアゾ顔料が得られないことがある。また、溶
媒量が100倍量より多くなると大量の溶媒を使用する
ために、溶媒の回収に時間がかかり、製造効率が低下す
る。

【0014】図1にアゾ顔料の結晶析出を溶媒との混合
により行う流通式製造装置の構成例を示す。超臨界流体
もしくは亜臨界流体として用いる溶媒が入ったタンク3
1から溶媒をポンプ32で送液し、目的とする温度、圧
力で超臨界流体もしくは亜臨界流体とする。容器33に
あらかじめ入れておいたアゾ顔料が超臨界流体もしくは
亜臨界流体に溶解し、フィルター34を通り抜けて出て
きたところで溶媒と混合35し、結晶を析出させる。得
られたアゾ顔料の結晶は、背圧弁36を経て採集37さ
れる。38は圧力計、39は予熱部、40は保温部であ
る。

【0015】本発明において用いるアゾ顔料としては、
例えば、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリ
ルベンゼン骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン
骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有す
るアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、
フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨
格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格
を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有す
るアゾ顔料などが挙げられる。本発明の超臨界流体もし
くは亜臨界流体を用いた製造方法は、電子写真の分野の
みならず、食品、医薬品、農薬、天然物、高分子、化成
品における様々な物質の製造技術としても適用できる。

【0016】次に、電子写真感光体について説明する。
本発明においては、電荷発生物質を単独もしくは電荷輸
送物質と組み合わせて、単層型もしくは積層型(機能分
離型)の電子写真用感光体を作製する。層構成として
は、単層型の場合、導電性基体上に、電荷発生物質を単
独もしくは電荷輸送物質と組み合わせて結着剤中に分散
させた感光層を設ける。機能分離型の場合は、導電性基
体上に電荷発生物質を含有した電荷発生層、その上に電
荷輸送物質を含有した電荷輸送層を形成するが、電荷発
生層、電荷輸送層を逆に積層しても良い。また、接着
性、電荷ブロッキング性を向上させるために、感光層と
導電性基体との間に中間層を設けても良く、更に、耐摩
擦性など機械的耐久性を向上させるために、感光層上に
保護層を設けても良い。

【0017】感光層の分散液或いは溶液を調整する際に
使用する溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホル
ムアミド、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、
1,2−ジクロルエタン、1,1,1−トリクロルエタ
ン、ジクロルメタン、1,1,2−トリクロルエタン、ト
リクロルエチレン、テトラヒドロフラン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ジオキサン、ジオキソラン等
を挙げることができる。

【0018】感光層形成時に用いる結着剤としては、従
来から知られている絶縁性の良い電子写真感光体用結着
剤であれば如何なる物質も使用でき、特に限定はない。
例えば、ポリエチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスチレン樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリアミド樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加
重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれ
らの樹脂の繰り返し単位のうち2つ以上を含む共重合体
樹脂、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチ
レン−アクリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無
水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂のほか、ポリ
−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げ
られる。これらの結着剤は単独または2種類以上の混合
物として用いることが出来る。

【0019】本発明で使用される電荷発生物質は、本発
明に記載されている方法で製造されたアゾ顔料と他の顔
料とを混合、分散して使用しても良い。混合する他の顔
料としては、例えば、シーアイピグメントブルー25
(カラーインデックスCI 21180)、シーアイピ
グメントレッド41(CI 21200)、シーアイア
シッドレッド52(CI 45100)、シーアイベー
シックレッド3(CI 45210)、カルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公
報)、ジスチリルベンゼン骨格を有するアゾ顔料(特開
昭53−133445号公報)、トリフェニルアミン骨
格を有するアゾ顔料(特開昭53−132347号公
報)、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料(特開
昭54−21728号公報)、オキサジアゾール骨格を
有するアゾ顔料(特開昭54−12742号公報)、フ
ルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−228
34号公報)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−17733号公報)、ジスチリルオキサ
ジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−212
9号公報)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ
顔料(特開昭54−14967号公報)などのアゾ顔
料、例えば、シーアイピグメントブルー16(CI 7
4100)などのフタロシアニン系顔料、例えば、シー
アイバットブラウン5(CI 73410)、シーアイ
バットダイ(CI 73030)などのインジコ系顔
料、アルゴスカーレットB(バイエル社製)、インタン
スレンスカーレットR(バイエル社製)などのペリレン
顔料が挙げられる。なお、これらの顔料は単独でも2種
類以上併用しても良い。

【0020】また、本発明で使用されるアゾ顔料は、特
定の結晶変換処理を行ってから用いても良い。結晶変換
処理方法としては、例えば、溶媒処理、機械的処理、加
熱処理等がある。溶媒処理とは、室温下あるいは加熱下
に溶媒中で行う顔料の懸濁攪拌処理のことであり、ミリ
ング処理とは、例えばガラスビーズ、スチールビーズ、
アルミナボール等を用い、サンドミル、ボールミル等の
ミリング装置により、常温もしくは加熱下で行う処理で
ある。ミリング処理においては上記ミリングメディアと
共に溶媒を添加した系で行っても良い。これらの処理に
使用する溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジン、ジメチルスルホキシド、トルエ
ン、キシレン、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロル
エタン、1,1,1−トリクロルエタン、ジクロルメタ
ン、1,1,2−トリクロルエタン、トリクロルエチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキ
シエタノール等を挙げることができる。

【0021】電荷発生物質は、適当な溶媒に必要に応じ
てバインダ樹脂を加え、溶解もしくは分散せしめ、塗
布、乾燥させることにより設けることができる。電荷発
生物質の分散方法としては、例えば、ボールミル分散、
超音波分散、ホモミキサー分散等が挙げられる。塗布手
段としては、ディッピング塗工法、ブレード塗工法、ス
プレー塗工法等が挙げられる。電荷発生物質を分散させ
て感光層を形成する場合、層中への分散性を向上させる
ために、その電荷発生物質は2μm以下、好ましくは1
μm以下の平均粒径のものが好ましい。但し、上記の粒
径があまりに小さいと却って凝集し易く、層の抵抗が上
昇したり結晶欠陥が増えて、感度及び繰り返し特性が低
下したりする。また、微細化する上での限界も考慮する
と、平均粒径の下限は0.01μmとするのが好まし
い。

【0022】本発明で使用される電荷輸送物質は大きく
分けて正孔輸送物質と電子輸送物質の2種類がある。正
孔輸送物質としては、例えば、ポリ−N−カルバゾール
及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタ
メート及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合
物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェ
ナントレン、オキサゾール誘導体、イミダゾール誘導
体、トリフェニルアミン誘導体、及び以下の一般式で示
される化合物が好適に使用される。以下に正孔輸送物質
の例示化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【0023】・特開昭55−154955号公報、特開
昭55−156954号公報に記載

【化1】 (式中、Rはメチル基、エチル基、2−ヒドロキシエ
チル基または2−クロルエチル基を表し、Rはメチル
基、エチル基、ベンジル基またはフェニル基を表し、R
は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数1〜4のア
ルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ジアルキルア
ミノ基またはニトロ基を表す。)

【0024】・特開昭55−52063号公報に記載

【化2】 (式中、Arはナフタレン環、アントラセン環、スチリ
ル環及びそれらの置換体あるいはピリジン環、フラン
環、チオフェン環を表し、Rはアルキル基またはベンジ
ル基を表す。)

【0025】・特開昭56−81850号公報に記載

【化3】 (式中、Rはアルキル基、ベンジル基、フェニル基ま
たはナフチル基を表し、Rは水素原子、炭素数1〜3
のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、ジアルキ
ルアミノ基、ジアラルキルアミノ基またはジアリールア
ミノ基を表し、nは1〜4の整数を表し、nが2以上の
時、Rは同じでも異なっていても良い。 Rは水素
原子またはメトキシ基を表す。)

【0026】・特公昭51−10983号公報に記載

【化4】 (式中、Rは炭素数1〜11のアルキル基、置換もし
くは無置換のフェニル基または複素環基を表し、R
はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、クロルアルキル基または置換もしくは無置換のアラ
ルキル基を表し、また、RとRは互いに結合し窒素
を含む複素環を形成していても良い。Rは同一でも異
なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル
基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表す。)

【0027】・特開昭51−94829号公報に記載

【化5】 (式中、Rは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ar
は置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基、アン
トリル基またはカルバゾリル基を表す。)

【0028】・特開昭52−128373号公報に記載

【化6】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭
素数1〜4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキ
ル基を表し、Arは

【化7】 を表し、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表し、R
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル
基、炭素数1〜4のアルコキシ基またはジアルキルアミ
ノ基を表し、nは1または2であって、nが2の時、R
は同一でも異なっていてもよく、R、Rは水素原
子、炭素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル基ま
たは置換もしくは無置換のベンジル基を表す。)

【0029】・特開昭56−29245号公報に記載

【化8】 (式中、Rはカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル
基、インドリル基、フリル基あるいはそれぞれ置換もし
くは非置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ま
たはアントリル基であって、これらの置換基がジアルキ
ルアミノ基、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシ基
またはそのエステル、ハロゲン原子、シアノ基、アラル
キルアミノ基、N−アルキル−N−アラルキルアミノ
基、アミノ基、ニトロ基及びアセチルアミノ基からなる
群から選ばれた基を表す。)

【0030】・特開昭58−58552号公報に記載

【化9】 (式中、Rは低級アルキル基、置換もしくは無置換の
フェニル基、またはベンジル基を表し、Rは水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級アルキル基または
ベンジル基で置換されたアミノ基を表し、nは1または
2の整数を表す。)

【0031】・特開昭57−73075号公報に記載

【化10】 (式中、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基ま
たはハロゲン原子を表し、 RおよびRはアルキル
基、置換もしくは無置換のアラルキル基あるいは置換も
しくは無置換のアリール基を表し、Rは水素原子、低
級アルキル基または置換もしくは無置換のフェニル基を
表し、また、Arは置換もしくは無置換のフェニル基ま
たはナフチル基を表す。)

【0032】・特開昭58−198043号公報に記載

【化11】 〔式中、nは0または1の整数、Rは水素原子、アル
キル基または置換もしくは無置換のフェニル基を表し、
Ar1は置換もしくは未置換のアリール基を表し、R
は置換アルキル基を含むアルキル基、あるいは置換もし
くは無置換のアリール基を表し、Aは

【化12】 9−アントリル基または置換もしくは無置換のカルバゾ
リル基を表し、ここでRは水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン原子または

【化13】 (ただし、RおよびRはアルキル基、置換もしくは
無置換のアラルキル基または置換もしくは無置換のアリ
ール基を示し、RおよびRは同じでも異なっていて
もよく、Rは環を形成しても良い)を表し、mが2以
上の時、Rは同一でも異なっても良い。また、nが0
の時、AとRは共同で環を形成しても良い。〕

【0033】・特開昭49−105537号公報に記載

【化14】 (式中、R、RおよびRは水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはジアルキ
ルアミノ基を表し、nは0または1を表す。)

【0034】・特開昭52−139066号公報に記載

【化15】 (式中、RおよびRは置換アルキル基を含むアルキ
ル基、または置換もしくは未置換のアリール基を表し、
Aは置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基ま
たはアリル基を表す。)

【0035】・特開昭52−139065号公報に記載

【化16】 (式中、Xは水素原子、低級アルキル基またはハロゲン
原子を表し、Rは置換アルキル基を含むアルキル基、ま
たは置換もしくは無置換のアリール基を表し、Aは置換
アミノ基または置換もしくは無置換のアリール基を表
す。)

【0036】・特開昭58−32372号公報に記載

【化17】 (式中、Rは低級アルキル基、低級アルコキシ基また
はハロゲン原子を表し、nは0〜4の整数を表し、
、Rは同じでも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子
を表す。)

【0037】・特開平2−178669号公報に記載

【化18】 (式中、R、RおよびRは水素原子、アミノ基、
アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、
メチレンジオキシ基、置換もしくは無置換のアルキル
基、ハロゲン原子または置換もしくは無置換のアリール
基を、Rは水素原子、アルコキシ基、置換もしくは無
置換のアルキル基またはハロゲン原子を表す。ただし、
、R、RおよびRはすべて水素原子である場
合は除く。また、k、l、mおよびnは1、2、3また
は4の整数であり、それぞれが2、3または4の整数の
時、前記R、R、RおよびRは同じでも異なっ
ていても良い。)

【0038】・特開平3−285960号公報に記載

【化19】 (式中、Arは炭素数18個以下の縮合多環式炭化水素
基を表し、また、R およびRは水素原子、ハロゲン
原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルコキシ
基、置換もしくは無置換のフェニル基を表し、それぞれ
同じでも異なっていても良い。)

【0039】・特願昭62−98394号(特開平1−
25748号公報参照)に記載

【化20】 (式中、Arは置換もしくは無置換の芳香族炭化水素基
を表し、Aは

【化21】 を表す。ただし、Ar′は置換もしくは無置換の芳香族
炭化水素基を表し、RおよびRは置換もしくは無置
換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール
基である。)

【0040】・特開平4−230764号公報に記載

【化22】 (式中、Arは置換もしくは無置換の芳香族炭化水素基
を、Rは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、
または置換もしくは無置換のアリール基を表す。nは0
または1、mは1または2であって、n=0、m=1の
場合、ArとRは共同で環を形成しても良い。)

【0041】一般式(1)で表される化合物には、例え
ば、9−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−1−メ
チル−1−フェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾー
ル−3−アルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒド
ラゾン、9−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−
1,1−ジフェニルヒドラゾンなどがある。一般式
(2)で表される化合物には、例えば、4−ジエチルア
ミノスチリル−β−アルデヒド−1−メチル−1−フェ
ニルヒドラゾン、4−メトキシナフタレン−1−アルデ
ヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾンなどがあ
る。一般式(3)で表される化合物には、例えば、4−
メトキシベンズアルデヒド−1−メチル−1−フェニル
ヒドラゾン、2,4−ジメトキシベンズアルデヒド−1
−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジエチルア
ミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾ
ン、4−メトキシベンズアルデヒド−1−(4−メトキ
シ)フェニルヒドラゾン、4−ジフェニルアミノベンズ
アルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、
4−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフ
ェニルヒドラゾンなどがある。

【0042】一般式(4)で表される化合物には、例え
ば、1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プ
ロパン、トリス(4−ジエチルアミノフェニル)メタ
ン、1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プ
ロパン、2,2′−ジメチル−4,4′−ビス(ジエチル
アミノ)−トリフェニルメタンなどがある。一般式
(5)で表される化合物には、例えば、9−(4−ジエ
チルアミノスチリル)アントラセン、9−ブロム−10
−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセンなどが
ある。一般式(6)で表される化合物には、例えば、9
−(4−ジメチルアミノベンジリデン)フルオレン、3
−(9−フルオレニリデン)−9−エチルカルバゾール
などがある。

【0043】一般式(8)で表される化合物には、例え
ば、1,2−ビス(4−ジエチルアミノスチリル)ベン
ゼン、1,2−ビス(2,4−ジメトキシスチリル)ベン
ゼンなどがある。一般式(9)で表される化合物には、
例えば、3−スチリル−9−エチルカルバゾール、3−
(4−メトキシスチリル)−9−エチルカルバゾールな
どがある。一般式(10)で表される化合物には、例え
ば、4−ジフェニルアミノスチルベン、4−ジベンジル
アミノスチルベン、4−ジトリルアミノスチルベン、1
−(4−ジフェニルアミノスチリル)ナフタレン、1−
(4−ジエチルアミノスチリル)ナフタレンなどがあ
る。一般式(11)で表される化合物には、例えば、
4′−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、
4′−ビス(4−メチルフェニル)アミノ−α−フェニ
ルスチルベンなどがある。

【0044】一般式(14)で表される化合物には、例
えば、1−フェニル−3−(4−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
などがある。一般式(15)で表される化合物には、例
えば、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール、2−N,N−ジフェニル
アミノ−5−(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,
4−オキサジアゾール、2−(4−ジメチルアミノフェ
ニル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,
4−オキサジアゾールなどがある。一般式(16)で表
される化合物には、例えば、2−N,N−ジフェニルア
ミノ−5−(N−エチルカルバゾール−3−イル)−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−ジエチルアミ
ノフェニル)−5−(N−エチルカルバゾール−3−イ
ル)−1,3,4−オキサジアゾールなどがある。一般式
(17)で表されるベンジジン化合物には、例えば、
N,N′−ジフェニル− N,N′−ビス(3−メチル
フェニル)−[1,1′−ビフェニル]−4,4′−ジ
アミン、3,3′−ジメチル−N,N,N′,N′−テ
トラキス(4−メチルフェニル)−[1,1′−ビフェ
ニル]−4,4′−ジアミンなどがある。

【0045】一般式(18)で表されるビフェニルアミ
ン化合物には、例えば、4′−メトキシ− N,N−ジフ
ェニル−[1,1′−ビフェニル]−4−アミン、4′−
メチル− N,N−ビス(4−メチルフェニル)−[1,
1′−ビフェニル]−4−アミン、4′−メトキシ−
N,N−ビス(4−メチルフェニル)−[1,1′−ビフ
ェニル]−4−アミンなどがある。一般式(19)で表
されるトリアリールアミン化合物には、例えば、1−ジ
フェニルアミノピレン、1−ジ(p−トリルアミノ)ピ
レンなどがある。一般式(20)で表されるジオレフィ
ン芳香族化合物には、例えば、1,4−ビス(4−ジフ
ェニルアミノスチリル)ベンゼン、1,4−ビス[4−ジ
(p−トリル)アミノスチリル]ベンゼンなどがある。
一般式(22)で表されるスチリルピレン化合物には、
例えば、1−(4−ジフェニルアミノスチリル)ピレ
ン、1− [4−ジ(p−トリル)アミノスチリル]ピレ
ンなどがある。

【0046】電子輸送物質としては、例えば、クロルア
ニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノ
ン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8
−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−
インデノ4H−インデノ[1,2−b]チオフェン−4−
オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,
5−ジオキサイドなどを挙げることができ、さらに下記
式(23)で示される(2,3−ジフェニル−1−イン
デニリデン)マロノニトリル、式(24)、式(25)
に挙げる電子輸送物質を好適に使用することができる。

【0047】

【化23】

【0048】

【化24】

【0049】

【化25】

【0050】これらの電荷輸送物質は単独または2種類
以上が併用されても良い。以上のような層構成、物質を
用いて感光体を作製する場合、膜厚、物質の割合には好
ましい範囲がある。機能分離型(導電性基体/電荷発生
層/電荷輸送層)の場合、電荷発生層において、必要に
応じて結着剤が使用され、その場合、結着剤に対する電
荷発生物質の割合は20重量%以上、膜厚は0.01〜
5μmが好ましい。電荷輸送層においては、結着剤に対
する電荷輸送物質の割合は20〜200重量%、膜厚は
5〜100μmとするのが好ましい。また、高分子型電
荷輸送物質を用いる場合は、それ単独で電荷輸送層を形
成しても良い。さらに、電荷発生層中には電荷輸送物質
を含有することが好ましく、電荷輸送物質の含有により
残留電位の抑制、感度の向上などに効果を持つ。この場
合の電荷輸送物質は、結着剤に対し20〜200重量%
含有させることが好ましい。

【0051】単層型感光体の場合、その感光層中に結着
剤に対する電荷発生物質の割合は5〜95重量%、膜厚
は10〜100μmとするのが好ましい。また電荷輸送
物質と組み合わせる場合、電荷輸送物質の結着剤に対す
る割合は30〜200重量%が好ましい。また、高分子
型電荷輸送物質と電荷発生物質で感光層を形成しても良
く、高分子型電荷輸送材料に対する電荷発生物質の割合
は5〜95重量%、膜厚は10〜100μmとするのが
好ましい。

【0052】上記感光層中には帯電性の向上等を目的と
してフェノール化合物、ハイドロキノン化合物、ヒンダ
ードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、ヒン
ダードアミンとヒンダードフェノールが同一分子中に存
在する化合物などを添加することができる。導電性基体
としては、アルミニウム、ニッケル、銅、チタン、金、
ステンレス等の金属板、金属ドラムまたは金属箔、アル
ミニウム、ニッケル、銅、チタン、金、酸化スズ、酸化
インジウムなどを蒸着したプラスチックフィルム或いは
導電性物質を塗布した紙、プラスチックフィルムまたは
ドラム等が挙げられる。

【0053】また、必要に応じて導電性基体上に中間層
を設けても良い。中間層は一般に樹脂を主成分とする
が、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布するこ
とを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い
樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、
ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナト
リウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチ
ル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン
樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成す
る硬化型樹脂等が挙げられる。中間層にはモアレ防止、
残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミ
ナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で
例示される金属酸化物の微粉末顔料を加えても良い。こ
れらの中間層は前述の感光層の如く適当な溶媒、塗工法
を用いて形成することができる。さらに、本発明の中間
層としては、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤、クロムカップリング剤等を使用することもでき
る。この他、Al23を陽極酸化にて設けたものや、ポ
リパラキシリレン(パリレン)等の有機物、SiO2
SnO2、TiO2、ITO、CeO2等の無機物を真空
薄膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。中間層
の膜厚は0〜5μmが適当である。

【0054】保護層に使用される材料としてはABS樹
脂(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体
樹脂)、オレフィン−ビニルモノマー共重合体樹脂、塩
素化ポリエーテル樹脂、アリル樹脂、フェノール樹脂、
ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミ
ド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアリルスルホン樹
脂、ポリブチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹
脂、ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリスルホン樹脂、
ポリスチレン樹脂、AS樹脂(アクリロニトリル−スチ
レン共重合体樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化
ビニリデン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。保護層
には耐摩耗性を向上する目的でポリテトラフルオロエチ
レンのようなフッ素樹脂、シリコーン樹脂、及びこれら
の樹脂に酸化チタン、酸化スズ、チタン酸カリウム等の
無機材料を分散したものを添加することができる。保護
層の形成方法としては通常の塗布法が採用できる。保護
層の厚さは0.1〜10μm程度が適当である。また、
以上のほかに真空薄膜作製法にて形成したa−C(アモ
ルファスカーボン)、a−SiC(アモルファス炭化ケ
イ素)などの公知材料を保護層として用いることもでき
る。

【0055】次に、電子写真方法、電子写真装置、及び
電子写真装置用プロセスカートリッジについて詳しく説
明する。図2は、本発明の電子写真方法、電子写真装
置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジを説明す
るための概略図であり、下記のような変形例も本発明の
範疇に属するものである。図2において、感光体1は、
導電性支持体上に、電荷発生層と電荷輸送層が順次積層
された感光層を設けたものである。図では感光体1の形
状はドラム状であるが、シート状、エンドレスベルト状
のものであっても良い。帯電チャージャ3、転写前チャ
ージャ7、転写チャージャ10、分離チャージャ11、
クリーニング前チャージャ13には、コロトロン、スコ
ロトロン、固体帯電器(ソリッド・ステート・チャージ
ャ)、帯電ローラを始めとする公知の手段が用いられ
る。転写手段には、一般に上記の帯電器が使用できる
が、図2に示されるように転写チャージャと分離チャー
ジャを併用したものが効果的である。

【0056】画像露光部5、除電ランプ2等の光源に
は、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水
銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード(LED)、半導
体レーザー(LD)、エレクトロルミネッセンス(E
L)などの何れの発光物も用いることができる。そし
て、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープ
カットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カッ
トフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィル
ター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用
いてもよい。図2に示される工程の他に、光照射を併用
した転写工程、除電工程、クリーニング工程、あるいは
前露光などの工程が設けられ、上記光源から感光体に光
が照射される。

【0057】現像ユニット6により感光体1上に現像さ
れたトナーは、転写紙9に転写されるが、全部が転写さ
れるわけではなく、感光体1上に残存するトナーも生ず
る。このようなトナーは、ファーブラシ14およびクリ
ーニングブラシ15により、感光体より除去される。ク
リーニングは、クリーニングブラシだけで行なわれるこ
ともあり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マグ
ファーブラシを始めとする公知のものが用いられる。電
子写真感光体に正(負)帯電を施し、画像露光を行なう
と、感光体表面上には正(負)の静電潜像が形成される。
これを負(正)極性のトナー(検電微粒子)で現像すれ
ば、ポジ画像が得られるし、また正(負)極性のトナーで
現像すれば、ネガ画像が得られる。このような現像手段
には、公知の方法が適用されるし、また、除電手段にも
公知の方法が用いられる。

【0058】図3には、本発明による電子写真プロセス
の別の例を示す。感光体21は本発明の感光層を有して
おり、駆動ローラ22a、22bにより駆動され、帯電
器(帯電チャージャ)23による帯電、光源(像露光
源)24による像露光、現像(図示せず)、帯電器(転
写チャージャ)25を用いる転写、光源(クリーニング
前露光)26によるクリーニング前露光、ブラシ(クリ
ーニングブラシ)27によるクリーニング、光源(除電
光源)28による除電が繰返し行なわれる。図3におい
ては、感光体21(勿論この場合は支持体が透光性であ
る)に支持体側よりクリーニング前露光の光照射が行な
われる。以上の図示した電子写真プロセスは、本発明に
おける実施形態を例示するものであって、もちろん他の
実施形態も可能である。例えば、図3において支持体側
よりクリーニング前露光を行っているが、これは感光層
側から行ってもよいし、また、像露光、除電光の照射を
支持体側から行ってもよい。

【0059】一方、光照射工程は、像露光、クリーニン
グ前露光、除電露光が図示されているが、他に転写前露
光、像露光のプレ露光、およびその他公知の光照射工程
を設けて、感光体に光照射を行なうこともできる。以上
に示すような画像形成手段は、複写装置、ファクシミ
リ、プリンター内に固定して組み込んでもよいが、プロ
セスカートリッジの形でそれら装置内に組み込んでもよ
い。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に
帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニン
グ手段、除電手段を含んだ1つの装置(部品)であり、
その形状等の種類は多数あるが、一般的な例として、図
4に示すものが挙げられる。感光体16は、導電性支持
体上に電荷発生層と電荷輸送層が順次積層された感光層
を設けたものである。

【0060】

【実施例】以下、合成例、製造例、実施例を挙げて本発
明を説明するが、本発明はこれらの例により限定される
ものではない。 合成例 2−ヒドロキシ−3−(2−クロロフェニルカルバモイ
ル)ナフタレン2.98g(10mmol)をDMF
(ジメチルホルムアミド)400mlに溶解し、室温に
て9−フルオレノン−2,7−ビスジアゾニウムテトラ
フルオロボレート2.04g(5mmol)を加えた。
次いで、酢酸ナトリウム三水和物2.72g(20mm
ol)と水15mlからなる溶液を20分間かけて滴下
し、室温にて2時間攪拌した。生成した沈殿を濾別し、
80℃に加熱したDMF400mlで3回洗浄し、次に
水400mlで2回洗浄した。120℃で減圧下に乾燥
して、下記式(P−1)で表わされるアゾ顔料3.34
g(収率80.6%)を得た。

【化26】

【0061】製造例1 合成例で得られたアゾ顔料(P−1)を用い、図1に示
した流通式装置により、次の条件で結晶を製造した。 アゾ顔料(P−1) 0.5g 超臨界流体 アセトン(流量 5ml/min) 混合溶媒 水(流量 10ml/min) 圧力 20MPa 温度 250℃ 溶媒混合時の温度 80℃ 容器の容量 10ml

【0062】製造例2 製造例1において、温度を150℃、溶媒混合時の温度
を60℃にしたこと以外は、製造例1と同様の条件で結
晶を作製した。

【0063】製造例3 製造例1において、超臨界流体をメタノールにしたこと
以外は、製造例1と同様の条件で結晶を作製した。

【0064】製造例4 製造例3において、温度を150℃、溶媒混合時の温度
を60℃にしたこと以外は、製造例3と同様の条件で結
晶を作製した。

【0065】製造例5 製造例1において、超臨界流体をアセトン:メタノール
=1:1(容量比)にしたこと以外は、製造例1と同様
の条件で結晶を作製した。

【0066】製造例6 製造例5において、温度を150℃、溶媒混合時の温度
を60℃にしたこと以外は、製造例5と同様の条件で結
晶を作製した。

【0067】製造例7 製造例2において、超臨界流体をメチルエチルケトンに
したこと以外は、製造例2と同様の条件で結晶を作製し
た。

【0068】製造例8 製造例2において、超臨界流体をエタノールにしたこと
以外は、製造例2と同様の条件で結晶を作製した。

【0069】製造例9 製造例2において、超臨界流体を1−プロパノールにし
たこと以外は、製造例2と同様の条件で結晶を作製し
た。

【0070】製造例10 製造例2において、超臨界流体を2−プロパノールにし
たこと以外は、製造例2と同様の条件で結晶を作製し
た。

【0071】実施例1 製造例1において製造したアゾ顔料7.5部、ポリエス
テル樹脂(バイロン200:東洋紡製)の0.5%テト
ラヒドロフラン溶液500部を、ボールミル中で粉砕、
混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着ポリエステ
ルフィルム上にドクターブレードで塗布し、自然乾燥し
て厚さ約1μmの電荷発生層を形成した。次に、下記構
造式(D−1)で示される電荷輸送物質1部、ポリカー
ボネート樹脂(パンライトK1300:帝人化成社製)
1部、テトラヒドロフラン8部の電荷輸送層塗布液を調
製し、前記電荷発生層上にドクターブレードで塗布し、
80℃で2分間、次いで120℃で5分間乾燥して厚さ
約20μmの電荷輸送層を形成した。

【0072】

【化27】

【0073】実施例2 実施例1における電荷発生物質を製造例2で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0074】実施例3 実施例1における電荷発生物質を製造例3で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0075】実施例4 実施例1における電荷発生物質を製造例4で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0076】実施例5 実施例1における電荷発生物質を製造例5で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0077】実施例6 実施例1における電荷発生物質を製造例6で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0078】実施例7 実施例1における電荷発生物質を製造例7で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0079】実施例8 実施例1における電荷発生物質を製造例8で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0080】実施例9 実施例1における電荷発生物質を製造例9で製造したア
ゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感光
体を作製した。

【0081】実施例10 実施例1における電荷発生物質を製造例10で製造した
アゾ顔料にしたこと以外は、実施例1と同様の条件で感
光体を作製した。

【0082】比較例1 実施例1における電荷発生物質を合成例で得られたアゾ
顔料(P−1)にしたこと以外は、実施例1と同様の条
件で感光体を作製した。

【0083】以上のようにして得られた電子写真用感光
体について、25℃/55%RHの環境下、静電複写紙
試験装置EPA−8100(川口電気製作所製)を用
い、暗所で−6KVのコロナ放電を20秒間行って帯電
させ、更に20秒間暗所に放置した後、表面電位V0
(V)を測定した。次いで、感光体表面の照度が5.3
lux(ルックス)になるようにタングステンランプを
照射して、その表面電位がV0の1/2になるまでの時
間(sec)を求め、可視域での感度として半減露光量
E1/2(lux・sec)を算出した。結果を表1に
示す。

【0084】

【表1】

【0085】

【発明の効果】以上、本発明によれば、アゾ顔料の製造
を効率良く簡便かつ容易に行うことが可能である。ま
た、従来の製造プロセスと異なり、大量の廃溶媒を伴わ
ない、クリーンなアゾ顔料の製造方法として有用であ
る。さらに、本発明の方法で製造されたアゾ顔料は、電
荷発生物質としても良好な電子写真特性を示すので、こ
れを用いて優れた電子写真方法、電子写真装置、及び電
子写真装置用プロセスカートリッジを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図1】超臨界流体を用いてアゾ顔料の結晶析出を溶媒
との混合により行う流通式製造装置の一例を示す概略構
成図である。

【図2】本発明の電子写真方法、電子写真装置、及び電
子写真プロセスカートリッジを説明するための概略構成
図である。

【図3】本発明の電子写真方法、電子写真装置、及び電
子写真プロセスカートリッジの別の例を説明するための
概略構成図である。

【図4】プロセスカートリッジの形状等の一般的な例を
示す概略構成図である。

【符号の説明】

1 感光体 2 除電ランプ 3 帯電チャージャ 4 イレーサ 5 画像露光部 6 現像ユニット 7 転写前チャージャ 8 レジストローラ 9 転写紙 10 転写チャージャ 11 分離チャージャ 12 分離爪 13 クリーニング前チャージャ 14 ファーブラシ 15 クリーニングブラシ 16 感光体 17 帯電チャージャ 18 クリーニングブラシ 19 画像露光部 20 現像ローラ 21 感光体 22a 駆動ローラ 22b 駆動ローラ 23 帯電チャージャ 24 像露光源 25 転写チャージャ 26 クリーニング前露光 27 クリーニングブラシ 28 除電光源 31 タンク 32 ポンプ 33 容器 34 フィルター 35 溶媒との混合 36 背圧弁 37 採集 38 圧力計 39 予熱部 40 保温部

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アゾ顔料を超臨界流体もしくは亜臨界流
    体中に溶解させ、次いで結晶を析出させることを特徴と
    するアゾ顔料の製造方法。
  2. 【請求項2】 超臨界流体もしくは亜臨界流体がケトン
    系溶媒もしくはアルコール系溶媒の少なくとも1種から
    なるものであることを特徴とする請求項1記載のアゾ顔
    料の製造方法。
  3. 【請求項3】 ケトン系溶媒もしくはアルコール系溶媒
    がアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノ
    ール、1−プロパノール、2−プロパノールから選ばれ
    た少なくとも1種であることを特徴とする請求項2記載
    のアゾ顔料の製造方法。
  4. 【請求項4】 導電性支持体上に感光層を設けてなる電
    子写真感光体において、感光層に請求項1〜3のいずれ
    かに記載の製造方法により得られたアゾ顔料を含有する
    ことを特徴とする電子写真感光体。
  5. 【請求項5】 感光層に電荷発生物質及び電荷輸送物質
    を含有し、該電荷発生物質が請求項1〜3のいずれかに
    記載の製造方法により得られたアゾ顔料であることを特
    徴とする請求項4記載の電子写真感光体。
  6. 【請求項6】 請求項4又は5記載の電子写真感光体を
    用い、帯電、像露光、現像、及び転写を行うことを特徴
    とする電子写真方法。
  7. 【請求項7】 請求項4又は5記載の電子写真感光体、
    帯電手段、像露光手段、現像手段、及び転写手段を備え
    たことを特徴とする電子写真装置。
  8. 【請求項8】 請求項4又は5記載の電子写真感光体
    と、帯電手段、像露光手段、現像手段、転写手段、及び
    クリーニング手段から選ばれる少なくとも1つの手段と
    を一体に保持し、かつ、電子写真装置本体に脱着自在な
    構造を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
JP2000334527A 2000-11-01 2000-11-01 アゾ顔料の製造方法、該アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジ Pending JP2002138216A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000334527A JP2002138216A (ja) 2000-11-01 2000-11-01 アゾ顔料の製造方法、該アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000334527A JP2002138216A (ja) 2000-11-01 2000-11-01 アゾ顔料の製造方法、該アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002138216A true true JP2002138216A (ja) 2002-05-14

Family

ID=18810426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000334527A Pending JP2002138216A (ja) 2000-11-01 2000-11-01 アゾ顔料の製造方法、該アゾ顔料を含有する電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002138216A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006124556A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Canon Inc 顔料分散物の製造方法及び顔料分散物製造装置
JP2006136764A (ja) * 2004-11-10 2006-06-01 Ricoh Co Ltd マイクロリアクタ、及びこれを用いた微粒子製造方法
EP1693423A2 (en) 2005-01-14 2006-08-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Organic pigment fine-particle, and method of producing the same
WO2006132443A1 (en) 2005-06-10 2006-12-14 Fujifilm Corporation Organic pigment fine particles and method of producing the same
US7160380B2 (en) 2003-09-22 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Organic pigment fine-particle, and method of producing the same
JP2007246631A (ja) * 2006-03-14 2007-09-27 Canon Inc 液体組成物および顔料微粒子の製造方法並びにインクジェット記録用インク組成物
US7503972B2 (en) 2006-09-29 2009-03-17 Fujifilm Corporation Organic pigment fine particles and method of producing same
US7851119B2 (en) 2006-09-07 2010-12-14 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, method for producing the same, image forming process, image forming apparatus and process cartridge
US7955771B2 (en) 2005-05-13 2011-06-07 Sharp Kabushiki Kaisha Toner for electrostatic image development and process for preparing the same

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7427322B2 (en) 2003-09-22 2008-09-23 Fujifilm Corporation Organic pigment fine-particle, and method of producing the same
EP2058373A2 (en) 2003-09-22 2009-05-13 FUJIFILM Corporation Organic pigment fine-particle, and method of producing the same
US7160380B2 (en) 2003-09-22 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Organic pigment fine-particle, and method of producing the same
JP2006124556A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Canon Inc 顔料分散物の製造方法及び顔料分散物製造装置
JP4553356B2 (ja) * 2004-10-29 2010-09-29 キヤノン株式会社 顔料分散物の製造方法及び顔料分散物製造装置
JP4603858B2 (ja) * 2004-11-10 2010-12-22 株式会社リコー 微粒子製造装置、及びこれを用いた微粒子製造方法
JP2006136764A (ja) * 2004-11-10 2006-06-01 Ricoh Co Ltd マイクロリアクタ、及びこれを用いた微粒子製造方法
EP1693423A2 (en) 2005-01-14 2006-08-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Organic pigment fine-particle, and method of producing the same
US7955771B2 (en) 2005-05-13 2011-06-07 Sharp Kabushiki Kaisha Toner for electrostatic image development and process for preparing the same
US8021475B2 (en) 2005-06-10 2011-09-20 Fujifilm Corporation Organic pigment fine particles and method of producing the same
US7780780B2 (en) 2005-06-10 2010-08-24 Fujifilm Corporation Organic pigment fine particles and method of producing the same
WO2006132443A1 (en) 2005-06-10 2006-12-14 Fujifilm Corporation Organic pigment fine particles and method of producing the same
JP2007246631A (ja) * 2006-03-14 2007-09-27 Canon Inc 液体組成物および顔料微粒子の製造方法並びにインクジェット記録用インク組成物
US7851119B2 (en) 2006-09-07 2010-12-14 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, method for producing the same, image forming process, image forming apparatus and process cartridge
US7503972B2 (en) 2006-09-29 2009-03-17 Fujifilm Corporation Organic pigment fine particles and method of producing same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6190811B1 (en) Electrophotographic photosensitive member process cartridge and electrophotographic apparatus
US6218533B1 (en) Method for manufacturing pigment, electrophotographic photoconductor using the pigment and electrophotographic image forming method and apparatus using the photoconductor
US6313288B1 (en) Mixture of titanyltetraazaporphyrin compounds and electrophotographic photoconductor using the same
US5811212A (en) Electrophotographic photosensitive member containing an azocalix n!arene compound and electrophotographic apparatus and process cartridge comprising the photosensitive member
US6773856B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
US6074792A (en) Tetraazaporphyrin pigment for use in electrophotographic photoconductor and electrophotographic photoconductor using the same
JP2001019871A (ja) 電子写真感光体及び電子写真方法、電子写真装置ならびに電子写真装置用プロセスカートリッジ
JP2005181991A (ja) 電子写真装置
JP2003098705A (ja) 電子写真感光体、該電子写真感光体を用いた電子写真方法、電子写真装置及び電子写真装置用プロセスカートリッジ
US4487824A (en) Electrophotographic photosensitive member containing a halogen substituted hydrazone
US20070248901A1 (en) Electrophotographic photoconductor, image forming apparatus, and process cartridge
US5286589A (en) Electrophotographic photosensitive member
US7245851B2 (en) Electrophotographic apparatus
JP2004145284A (ja) チタニルフタロシアニン化合物、電子写真感光体および画像形成装置
US6184362B1 (en) Electrophotographic photoconductor, azo compounds for use in the same, and intermediates for producing the azo compounds
US20090068577A1 (en) Naphthalenetetracarboxylic acid diimide derivative and electrophotographic photoconductor having the same
US20040214101A1 (en) Electrophotographic photoconductor
EP0823669A1 (en) Electrophotographic photosensitive member and process cartridge and electrophotographic apparatus including same
JPH115919A (ja) フタロシアニン結晶とそれを用いた電子写真感光体
US5192632A (en) Electrophotographic bisazo photosensitive member, and electrophotographic apparatus and facsimile employing the same
US4495264A (en) Electrophotographic photosensitive member comprising disazo compound
JPH10301307A (ja) 電子写真用感光体
US20080280221A1 (en) Electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the same
US20110159418A1 (en) Hydroxygallium phthalocyanine composite pigment, electrophotographic photoconductor containing the same, and image forming device and process cartridge for image forming device using the same
JP3463032B2 (ja) チタニルフタロシアニン結晶とその製造方法、および電子写真感光体とその製造方法