JP2002107136A

JP2002107136A - ステージ装置、測定方法、及び電子ビーム露光装置

Info

Publication number: JP2002107136A
Application number: JP2000297488A
Authority: JP
Inventors: Masaki Kurokawa; 正樹黒川
Original assignee: Advantest Corp
Current assignee: Advantest Corp
Priority date: 2000-09-28
Filing date: 2000-09-28
Publication date: 2002-04-10
Anticipated expiration: 2020-09-28
Also published as: JP4806484B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ステージの移動する領域において、異物やキ
ズ等の存在を容易に検出できるステージ装置を提供す
る。【解決手段】ステージの側面に複数のレーザ光を照射
し、複数のレーザ光の反射光に基づいてステージの傾き
を検出し、ステージが移動した位置におけるステージの
傾きに基づいてステージが平準に移動しているか否かを
検出する。平準に移動していない場所を検出することに
より、ステージが移動する領域における異物やキズ等の
存在を検出する。本発明によれば、ウェハに試露光する
ことなく、ステージが移動する面上における異物やキズ
等の存在を検出することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ステージ装置、測
定方法、及び電子ビーム露光装置に関する。特に、ステ
ージの姿勢を検出することのできるステージ装置、測定
方法、及び電子ビーム露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば電子ビーム露光装置のステ
ージ装置は、ステージ移動領域にある異物等の検出は、
実際にウェハを露光した結果により判断していた。つま
り、ウェハにパターンを露光し、期待される露光結果と
の差によってステージ移動領域にある異物を検出してい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した手法
では、実際に露光してみる必要があり、無駄が生じる。
また、異物の位置を特定することが困難であった。さら
に、真空中に配置されたステージにおいては、異物の捜
索が不可能であった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第１の形態においては、所定の平面を移動
するステージの位置情報を検出する手段を有するステー
ジ装置であって、ステージを移動させるステージ駆動部
と、ステージと前記所定の平面とのなす角度を算出する
角度算出部とを備えることを特徴とするステージ装置を
提供する。

【０００５】第１の形態において、ステージの所定の移
動範囲における、角度の変化量に基づいて、ステージが
平準に移動しているか否かを判定する判定部を、さらに
備えてもよい。また、角度算出部は、ステージに、所定
の平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を
含む、複数のレーザ光を照射するレーザ光照射部を有
し、角度算出部は、ステージにおいて反射した複数のレ
ーザ光の反射光に基づいて角度を算出してもよい。

【０００６】角度算出部は、複数のレーザ光の反射光に
基づいて複数のレーザ光の光路長を算出し、光路長のそ
れぞれの差分に基づいて角度を算出してもよい。また、
ステージは、所定の平面と略垂直なミラーを有し、レー
ザ光照射部は、ミラーに複数のレーザ光を照射し、角度
算出部は、ミラーにおいて反射した複数のレーザ光の反
射光に基づいて角度を算出してもよい。また、判定部
が、ステージが平準に移動していないと判定した、ステ
ージの位置情報を記憶する手段を備えてもよい。

【０００７】本発明の第２の形態は、所定の平面を移動
するステージが、平準に移動しているか否かを測定する
測定方法であって、ステージを移動させるステージ駆動
段階と、ステージと所定の平面とのなす角度を検出する
角度算出段階とを備えることを特徴とする測定方法を提
供する。

【０００８】本発明の第３の形態は、電子ビームにより
ウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、電子ビ
ームをウェハに照射する電子銃と、電子ビームを偏向さ
せる偏向器と、ウェハを載置し、所定の平面を移動する
ステージと、ステージを移動させるステージ駆動部と、
所定の平面とステージとのなす角度を算出する角度算出
部とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置を提
供する。

【０００９】尚、上記の発明の概要は、本発明の必要な
特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群の
サブコンビネーションも又、発明となりうる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態を通じて
本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲
にかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中
で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決
手段に必須であるとは限らない。

【００１１】図１は、本発明の実施形態に係る電子ビー
ム処理装置である電子ビーム露光装置１００の一例を示
す。電子ビーム露光装置１００は、電子ビームによりウ
ェハ６４に所定の露光処理を施すための露光部１５０
と、露光部１５０の各構成の動作を制御する制御系１４
０を備える。

【００１２】露光部１５０は、筐体１０内部に、所定の
電子ビームを照射する電子ビーム照射系１１０と、電子
ビーム照射系１１０から照射された電子ビームを、ウェ
ハ６４に照射するか否かを制御するショット制御系１１
２と、電子ビームをステージ板３００に載置されたウェ
ハ６４の所定の領域に偏向するとともに、ウェハ６４に
転写されるパターンの像のサイズを調整するウェハ用投
影系１１４を含む電子光学系を備える。

【００１３】電子ビーム照射系１１０は、電子ビームを
発生させる電子銃１２による、電子ビームの焦点位置を
定める第１電子レンズ１４と、電子ビームを通過させる
矩形形状の開口（スリット）が形成されたスリット部１
６とを有する。電子銃１２は、安定した電子ビームを発
生させるのに所定の時間がかかるので、電子銃１２は、
露光処理期間において常に電子ビームを発生してもよ
い。図１において、電子ビーム照射系１１０から照射さ
れた電子ビームが、電子光学系により偏向されない場合
の電子ビームの光軸を、一点鎖線Ａで表現する。

【００１４】ショット制御系１１２は、ブランキング電
極１８と、ラウンドアパーチャ部２０とを有する。ラウ
ンドアパーチャ部２０は、円形の開口（ラウンドアパー
チャ）を有する。ブランキング電極１８は、電子ビーム
を高速に同期してオン／オフすることができ、具体的に
は、電子ビームをラウンドアパーチャの外側に当たるよ
うに偏向する機能を有する。すなわち、ブランキング電
極１８は、電子ビームの進行方向に対してラウンドアパ
ーチャ部２０から下流に電子ビームが進行することを防
ぐことができる。電子銃１２は、露光処理期間において
常に電子ビームを照射するので、ブランキング電極１８
は、ウェハ６４に転写するパターンを変更するとき、更
には、パターンを露光するウェハ６４の領域を変更する
ときに、ラウンドアパーチャ部２０から下流に電子ビー
ムが進行しないように電子ビームを偏向することが望ま
しい。

【００１５】ウェハ用投影系１１４は、第２電子レンズ
２２と、第３電子レンズ２４と、主偏向器２６と、副偏
向器２８とを有する。第２電子レンズ２２は、スリット
部１６で形成されたパターンに対する、ウェハ６４に転
写されるパターン像の縮小率を調整する。第３電子レン
ズ２４は、対物レンズとして機能する。主偏向器２８及
び副偏向器３０は、ウェハ６４上の所定の領域に電子ビ
ームが照射されるように、電子ビームを偏向する。本実
施形態では、主偏向器２８は、１ショットの電子ビーム
で照射可能な領域（ショット領域）を複数含むサブフィ
ールド間で電子ビームを偏向するために用いられ、副偏
向器３０は、サブフィールドにおけるショット領域間の
偏向のために用いられる。

【００１６】また、露光部１５０は、所定の平面３１６
を移動するステージ３１０の移動情報を検出する手段を
持つステージ装置３００を有する。ステージ装置３００
は、ステージ３１０を所定の平面３１６上で移動させる
ステージ駆動部３１２と、ステージと所定の平面３１６
とのなす角度を検出する角度算出部３１４を有する。パ
ターンが露光されるべきウェハ６４は、ステージ３１０
に載置される。

【００１７】制御系１４０は、統括制御部１３０と、偏
向制御部１３２と、電子レンズ制御部１３４と、ウェハ
ステージ制御部１３６とを有する。統括制御部１３０
は、例えばワークステーションであって、個別制御部１
２０に含まれる各制御部を統括制御する。偏向制御部１
３２は、ブランキング電極１８、主偏向器５６、及び副
偏向器５８を制御する。電子レンズ制御部１３４は、第
１電子レンズ１４、第２電子レンズ２２及び第３電子レ
ンズ２４に供給する電流を制御する。ウェハステージ制
御部１３６は、ステージ装置３００のステージ駆動部３
１２により、ステージ３１０を所定の位置に移動させ
る。

【００１８】本実施形態に係る電子ビーム露光装置１０
０の動作について説明する。ステージ３１０上には、露
光処理が施されるウェハ６４が載置されている。ウェハ
ステージ制御部１３６は、ステージ装置３００のステー
ジ駆動部３１２によりステージ３１０を移動させて、ウ
ェハ６４の露光されるべき領域が光軸Ａ近傍に位置する
ようにする。また、電子銃１２は、露光処理期間におい
て常に電子ビームを照射するので、露光の開始前におい
て、スリット部１６の開口を通過した電子ビームがウェ
ハ６４に照射されないように、偏向制御部１３２が、ブ
ランキング電極１８を制御する。

【００１９】ショット制御系１１２及びウェハ用投影系
１１４が調整された後、偏向制御部１３２が、ブランキ
ング電極１８による電子ビームの偏向を停止する。これ
により、以下に示すように、電子ビームはウェハ６４に
照射される。電子銃１２が電子ビームを生成し、第１電
子レンズ１４が電子ビームの焦点位置を調整して、スリ
ット部１６に照射させる。スリット部１６の開口を通過
した電子ビームは、矩形の断面形状を有している。

【００２０】そして、スリット部１６を通過した電子ビ
ームは、ラウンドアパーチャ部２０に含まれるラウンド
アパーチャを通過し、第２電子レンズ２２により、パタ
ーン像の縮小率が調整される。それから、電子ビーム
は、主偏向器２６及び副偏向器３０により、ウェハ６４
上の所定のショット領域に照射されるように偏向され
る。本実施形態では、主偏向器２６が、ショット領域を
複数含むサブフィールド間で電子ビームを偏向し、副偏
向器２８が、サブフィールドにおけるショット領域間で
電子ビームを偏向する。所定のショット領域に偏向され
た電子ビームは、第３電子レンズ２４によって調整され
て、ウェハ６４に照射される。

【００２１】所定の露光時間が経過した後、偏向制御部
１３２が、電子ビームがウェハ６４を照射しないよう
に、ブランキング電極１８を制御して、電子ビームを偏
向させる。以上のプロセスにより、ウェハ６４上の所定
のショット領域に、パターンが露光される。次のショッ
ト領域に、パターンを露光するために、副偏向器２８
は、パターン像が、次のショット領域に露光されるよう
に電界を調整する。この後、上記と同様に当該ショット
領域にパターンを露光する。サブフィールド内の露光す
べきショット領域のすべてにパターンを露光した後に、
主偏向器２６は、次のサブフィールドにパターンを露光
できるように磁界を調整する。電子ビーム露光装置１０
０は、この露光処理を、繰り返し実行することによっ
て、所望の回路パターンを、ウェハ６４に露光すること
ができる。

【００２２】本発明による電子ビーム処理装置である電
子ビーム露光装置１００は、可変矩形を用いた電子ビー
ム露光装置であってもよく、また、ブランキング・アパ
ーチャ・アレイ（ＢＡＡ）・デバイスを用いた電子ビー
ム露光装置であってもよい。

【００２３】図２は、ステージ装置３００の構成の一例
を示す。ステージ装置３００は、ステージ駆動部３１
２、ステージ３１０、角度算出部３１４、判定部３２
２、及び記憶部３２４を有する。ステージ駆動部３１２
は、制御系１４０のウェハステージ制御部１３６から制
御信号を受け取り、ステージ３１０を移動させる。角度
算出部３１４は、ステージ３１０と、ステージが駆動す
べき所定の平面である平面３１６（図１参照）とのなす
角度θ_１を算出する。判定部３２２は、算出した角度θ
_１に基づいて、ステージが平準に移動しているか否かを
判定する。記憶部３２４は、判定部３２２が判定した、
ステージが平準に移動していない場所を記憶する。

【００２４】例えば、ステージ３１０は、車輪を有し、
ステージ駆動部３１２は、車輪を駆動させる発動機であ
ってよい。角度算出部３１４は、例えばレーザ干渉計で
あって、ステージ３１０に所定の平面３１６と略垂直な
方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む、複数のレー
ザ光を照射するレーザ光照射部を有し、ステージ３１０
において反射した複数のレーザ光の反射光に基づいて角
度θ_１を算出してもよい。この場合、角度算出部３１４
は、複数のレーザ光の反射光に基づいて、複数のレーザ
光の光路長を算出し、複数のレーザ光の反射光のそれぞ
れの光路長の差分に基づいて角度θ_１を算出してよい。
判定部３２２は、ステージ３１０の所定の移動範囲にお
ける、角度θ_１の変化量にもとづいて、ステージ３１０
が平準に移動しているか否かを判定する。

【００２５】図３は、ステージ装置３００の一例を示
す。ステージ装置３００は、図２に関連して説明したス
テージ装置３００と同一又は同様の機能及び構成を有す
る。ステージ３００は側面にミラー７２を有し、角度検
出部３１４は、ステージ３１０に所定の平面３１６と略
垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光３１８ａ及び
３１８ｂを照射するレーザ光照射部（図示せず）を有す
る。また、角度検出部３１４は、ステージ３１０のミラ
ー７２において反射した２つのレーザ光の反射光３２０
ａ及び３２０ｂの光路長差に基づいて角度θ_１を算出す
る。

【００２６】本例において、レーザ光照射部は、ステー
ジ３１０の側面にレーザ光を照射する。ステージ３１０
に照射されたレーザ光は、ステージ３１０の側面に設け
られたミラー７２において反射される。角度算出部３１
４は、反射光３２０ａと反射光３２０ｂとの光路長差に
基づいて、所定の平面３１６とステージ３１０のなす角
度θ_１を算出する。角度算出部３１４は、例えば反射光
３２０ａ及び３２０ｂの位相、強度等に基づいてそれぞ
れの反射光の光路長を算出してよい。

【００２７】図３（ａ）に示すように、レーザ光が照射
されるステージの側面と所定の平面３１６とが垂直であ
る場合、レーザ光照射部が照射する２つのレーザ光の光
路長は同じである。すなわち、角度算出部３１４は、θ
_１＝０を算出する。ステージ駆動部３１２がステージ３
１０を移動させ、ステージ３１０が移動した位置で、例
えばステージ３１０の移動面に存在する異物やキズ等に
より傾いた場合、ミラー７２で反射するレーザ光の光路
長が変化する。角度算出部３１４は、変化したレーザ光
の光路長に基づいてステージ３１０の傾き、すなわちス
テージ３１０と所定の平面３１６とがなす角度θ_１を算
出する。

【００２８】図４は、ステージ３１０の側面の拡大図で
ある。ステージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度
をθ_１とする。角度算出部３１４から照射されたレーザ
光３１８ａ及びレーザ光３１８ｂは、ステージ３１０の
側面に設けられたミラー７２で反射される。ステージ３
１０の側面は、ほぼθ_１と同じ傾きを有するので、レー
ザ光３１８ａと反射光３１８ｂとがステージ３１０の側
面に到達するまでの光路長には差が生じる。また、ステ
ージ３１０の側面において反射される反射光３２０ａと
レーザ光３２０ｂとが角度検出部３１４に到達するまで
の光路長にも差が生じる。角度算出部３１４は、この光
路長差に基づいてθ_１を算出する。

【００２９】角度算出部３１４は、受光する反射光３２
０ａ及び反射光３２０ｂの位相差、強度差によってθ_１
を算出するのが好ましい。また、角度算出部３１４は、
レーザ光３１８ａ及びレーザ光３１８ｂの照射位置と、
反射光３２０ａ及び反射光３２０ｂの受光位置との距離
Ｌ_１及びＬ_２に基づいて、角度θ_１を算出してよい。本
例においては、角度算出部３１４は２本のレーザ光の反
射光によって、ステージ３１０の傾きθ_１を算出する。
他の例においては、３本以上のレーザ光をステージ３１
０に照射し、当該レーザ光による反射光に基づいてステ
ージ３１０の傾きθ_１を算出してよい。角度算出部３１
４は、ミラー７２における所定の平面と略垂直な方向に
おいて異なる位置に照射される２つのレーザ光を含む複
数のレーザ光を照射するレーザ光照射部を有し、ステー
ジ３１０のミラー７２において反射した当該複数のレー
ザ光の反射光に基づいて角度θ_１を算出してよい。

【００３０】また、角度検出部３１４は、ステージ３１
０の異なる複数の側面にレーザ光を照射して、ステージ
３１０の傾きを検出してよい。この場合、ステージ３１
０は当該レーザ光が照射される複数の側面にそれぞれミ
ラーを有することが好ましい。また、角度検出部３１４
は、隣接する２つの側面を含む複数の側面にレーザ光を
照射して、ステージ３１０の傾きを検出することが好ま
しい。ステージ３１０は、所定の平面３１６と略垂直な
ミラーを有し、角度算出部３１４のレーザ光照射部は、
当該ミラーに複数のレーザ光を照射し、角度算出部３１
４は、当該ミラーにおいて反射した複数のレーザ光の反
射光に基づいて、ステージ３１０と所定の平面３１６と
のなす角度を算出することが好ましい。すなわち、ステ
ージ３１０は、レーザ光が照射される側面にミラーを有
し、角度算出部３１４は、当該ミラーからの反射光に基
づいて当該角度を算出する。この場合、当該ミラーは、
所定の平面３１６と略垂直な面に反射面を有する。

【００３１】図５は、角度算出部３１４が算出する、ス
テージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度の一例を
示す。図５（ａ）に示すグラフにおいて、横軸はステー
ジの移動距離を示し、縦軸は角度算出部３１４によって
検出されるステージ３１０と所定の平面３１６とのなす
角度を示す。本例において、レーザ光が照射されるステ
ージ３１０の側面又はミラー７２と、所定の平面３１６
とのなす角度は、ステージ３１０が移動する方向に対し
て一定ではない場合を示す。例えば、ステージ３１０が
移動するに従い、ステージ３１０の側面又はミラー７２
と、所定の平面３１６とのなす角度は、ほぼ一定の割合
で増加する場合を示す。例えば、図５（ｂ）に示すステ
ージ３１０がＸ方向に移動し、角度算出部３１４（ｂ）
から照射されるレーザ光を反射するステージ３１０の側
面又はミラー７２ｂの傾きが、レーザ光が照射される場
所によって異なる場合、角度算出部３１４（ｂ）は、ス
テージ３１０が移動するに従い、当該側面又はミラー７
２ｂの傾きに応じて異なる角度を検出する。その結果、
図５（ａ）に示すような変化を示す。

【００３２】ステージ３１０がＸ方向に移動した距離を
Ｘ_０、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３とし、そのとき角度算出部３１
４（ｂ）が算出する角度をそれぞれθ_０、θ_１、θ_２、
θ_３とする。Ｘ_０、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３は、それぞれ等距
離間隔である。ステージ駆動部３１２がステージ３１０
を等距離移動させる毎に角度算出部３１４（ｂ）が算出
する角度の変化量θ_１−θ_０、θ_２−θ_１、θ_３−θ_２
を算出し、それぞれが所定の範囲にあるかを判定する。
所定の範囲に無い場合、ステージ３１４（ｂ）が平準に
移動していないと判定する。判定部３２２（図２参照）
は、ステージ３１０の所定の移動範囲における、角度の
変化量に基づいて、ステージ３１０が平準に移動してい
るか否かを判定する。本例において、判定部は、Ｘ_２移
動した場所で、ステージ３１０が平準に移動していない
と判定する。つまりステージ３１０がＸ_２移動した場所
に、異物やキズ等が存在すると判定することができる。

【００３３】また、ステージ３１０がＸ方向に移動する
場合に、角度算出部３１４（ａ）及び角度算出部３１４
（ｂ）が算出する角度の変化量に基づいてステージ３１
０が平準に移動しているか否かを判定してもよい。ま
た、ステージ３１０がＹ方向に移動する場合も、上述し
たＸ方向に移動する場合と同様に、ステージ３１０が平
準に移動しているか否かを判定する。また、図５（ｂ）
に示すように、ステージ３１０の複数の側面にレーザ光
を照射し、ステージ３１０の傾きを算出することによ
り、ステージ３１０のどの位置において異物やキズ等が
存在するかを検出することが可能となる。また、ステー
ジ３１０の複数の側面にレーザ光を照射し、角度算出部
３１４（ａ）及び角度算出部３１４（ｂ）が算出するス
テージ３１０の傾きに基づいて、ステージ３１０が踏ん
だ異物の大きさを算出することができる。また、ステー
ジ装置３００は、判定部が、ステージ３１０が平準に移
動していないと判定したステージ３１０の位置情報を記
憶する手段を備えてもよい。

【００３４】制御系１４０（図１参照）は、記憶部３２
２が記憶した位置情報に基づいて、電子ビームがウェハ
上を照射する位置を調整してよい。すなわち、制御系１
４０は、記憶部３２２が記憶した位置情報に基づいて、
電子ビームの偏向、電子ビームの露光位置、ステージ３
１０の位置を制御してよい。

【００３５】以上説明した電子ビーム露光装置１００及
びステージ装置３００によれば、ステージ３１０が平準
に移動していない場所を容易に検出することが可能とな
る。また、ステージ３１０が平準に移動していない場所
を記憶することにより、ウェハを露光する際に電子ビー
ムの露光箇所を補正することができる。また、ステージ
３１０が平準に移動していない場所を記憶することによ
り、ステージ３１０が平準に移動しない原因を特定し、
除去することが可能となる。例えば、ステージ３１０が
移動する領域にある異物の存在場所を特定し、除去する
ことが可能となる。また、本例においてはステージ３１
０は車輪を有し、当該車輪を駆動させることにより、所
定の平面を移動した。他の例においては、ステージ３１
０は車輪を有し、当該車輪はステージ３１０が移動する
べき平面上に設けられたガイドを挟む様に配置され、当
該車輪を駆動させることにより当該ガイドに沿ってステ
ージ３１０を移動させてもよい。この場合、角度検出部
３１４は、レーザ光の反射光に基づいてステージ３１０
の側面又はミラー７２までの距離を検出し、検出した距
離に基づいてステージ３１０が平準に移動しているか否
かを判定してよい。つまり、当該反射光に基づいてガイ
ド上にある異物やキズ等を検出してよい。

【００３６】図６は、本発明に係る測定方法を説明する
フローチャートである。本発明に係る測定方法は、所定
の平面を移動するステージが、平準に移動しているか否
かを測定する。当該測定方法は、ステージを移動させる
ステージ駆動段階と、ステージと所定の平面とのなす角
度を算出する角度算出段階と、ステージが平準に移動し
ているか否かを判定する判定段階と、判定段階が判定し
た結果を記憶する記憶段階とを備える。

【００３７】ステージ駆動段階は、所定の位置にステー
ジを移動させる（Ｓ１００）。ステージ駆動段階は、図
１から図５に関連して説明したステージ駆動部３１２を
用いてステージを移動させてよい。また、ステージ駆動
段階は、所定の移動距離に基づいてステージを移動させ
てよい。次に、角度算出段階は、ステージと所定の平面
とのなす角度を算出する（Ｓ１０２）。角度算出段階
は、ステージの側面にレーザ光を照射し、当該レーザ光
によるステージの側面からの反射光に基づいて、ステー
ジと所定の平面とのなす角度を算出してよい。また、角
度算出段階は、図１から図５に関連して説明した角度検
出部３１４を用いてステージと所定の平面とのなす角度
を算出してよい。角度算出段階は、ステージ駆動段階が
ステージを移動させる所定の移動距離毎に、ステージと
所定の平面とのなす角度を算出してよい。次に、判定段
階は、角度算出段階が算出した角度に基づいて、ステー
ジが平準に移動しているか否かを判定する（Ｓ１０
４）。判定段階は、図２から図５に関連して説明した判
定部３２２を用いて、ステージが平準に移動しているか
否かを判定してよい。判定段階は、ステージ駆動段階が
ステージを移動させる所定の移動距離毎に、ステージが
平準に移動しているか否かを判定してよい。次に、記憶
段階は、判定段階が判定した判定結果を記憶する（Ｓ１
０６）。記憶段階は、判定段階がステージが平準に移動
していないと判定した場所を記憶してよい。記憶段階
は、図２から図５に関連して説明した記憶部３２４を用
いて判定結果を記憶してよい。次に、まだステージが移
動されるべき場所が残っている場合は、ステージ駆動段
階（Ｓ１００）に戻り、ステージが移動されるべき場所
が残っていない場合は、当該測定方法を終了する。

【００３８】以上説明した測定方法によれば、ステージ
が平準に移動していない場所を、容易に検出できる。ま
た、ステージが平準に移動していない場所を記憶するこ
とにより、例えば露光装置におけるステージにおいて、
電子ビームの露光位置を補正することができる。また、
ステージが平準に移動していない場所を記憶するので、
ステージが平準に移動しない原因を特定し、修正するこ
とができる。

【００３９】以上、本発明を実施の形態を用いて説明し
たが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範
囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又
は改良を加えることが可能であることが当業者に明らか
である。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の
技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載
から明らかである。

【００４０】

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
よれば、ステージと所定の平面とのなす角度を容易に検
出することが可能となる。また、ステージと所定の平面
とのなす角度を検出することにより、ステージが平準に
移動しているか否かを判定し、異物等の存在を判定する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る電子ビーム処理装置
である電子ビーム露光装置１００の一例を示す。

【図２】ステージ装置３００の構成の一例を示す。

【図３】ステージ装置３００の一例を示す。

【図４】ステージ３１０の側面の拡大図である。

【図５】角度算出部３１４が算出する、ステージ３１
０と所定の平面３１６とのなす角度の一例を示す。

【図６】本発明に係る測定方法を説明するフローチャ
ートである。

【符号の説明】

１０・・・筐体、１２・・・電子銃１４・・・第１電子レンズ、１６・・・スリット部１８・・・ブランキング電極、２０・・・ラウンドアパ
ーチャ部２２・・・第２電子レンズ、２４・・・第３電子レンズ２８・・・主偏向器、６４・・・ウェハ７２・・・ミラー、１００・・・電子ビーム露光装置１１０・・・電子ビーム照射系、１１２・・・ショット
制御系１１４・・・ウェハ用投影系、１２０・・・個別制御部１３０・・・統括制御部、１３２・・・偏向制御部１３４・・・電子レンズ制御部、１３６・・・ウェハス
テージ制御部１４０・・・制御系、１５０・・・露光系３００・・・ステージ装置、３１０・・・ステージ３１２・・・ステージ駆動部、３１４・・・角度算出部３１６・・・所定の平面、３２２・・・判定部３２４・・・記憶部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｋ５Ｆ０５６ 21/68 21/30 ５４１ＬＦターム(参考） 2F065 AA35 AA37 CC00 FF09 FF13 FF43 FF51 FF67 GG04 GG13 LL12 QQ23 QQ25 QQ28 2F069 AA78 BB40 GG04 GG07 GG12 HH09 MM24 2H097 AA03 BA10 CA16 LA10 5C001 AA03 CC06 DD01 5F031 CA02 HA53 JA06 JA30 JA31 KA06 MA27 PA30 5F056 CB22 CC05 EA14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定の平面を移動するステージの位置情
報を検出する手段を有するステージ装置であって、前記ステージを移動させるステージ駆動部と、前記ステージと前記所定の平面とのなす角度を算出する
角度算出部とを備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】前記ステージの所定の移動範囲におけ
る、前記角度の変化量に基づいて、前記ステージが平準
に移動しているか否かを判定する判定部を、さらに備え
ることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】前記角度算出部は、前記ステージに、前
記所定の平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレー
ザ光を含む、複数のレーザ光を照射するレーザ光照射部
を有し、前記角度算出部は、前記ステージにおいて反射した前記
複数のレーザ光の反射光に基づいて前記角度を算出する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装
置。
【請求項４】前記角度算出部は、前記複数のレーザ光
の反射光に基づいて前記複数のレーザ光の光路長を算出
し、前記光路長のそれぞれの差分に基づいて前記角度を
算出することを特徴とする請求項３に記載のステージ装
置。
【請求項５】前記ステージは、前記所定の平面と略垂
直なミラーを有し、前記レーザ光照射部は、前記ミラーに前記複数のレーザ
光を照射し、前記角度算出部は、前記ミラーにおいて反射した前記複
数のレーザ光の反射光に基づいて前記角度を算出するこ
とを特徴とする請求項３又は４に記載のステージ装置。
【請求項６】前記判定部が、前記ステージが平準に移
動していないと判定した、前記ステージの位置情報を記
憶する手段を備えることを特徴とする請求項１から５の
いずれかに記載のステージ装置。
【請求項７】所定の平面を移動するステージが、平準
に移動しているか否かを測定する測定方法であって、前記ステージを移動させるステージ駆動段階と、前記ステージと前記所定の平面とのなす角度を算出する
角度算出段階とを備えることを特徴とする測定方法。
【請求項８】電子ビームによりウェハを露光する電子
ビーム露光装置であって、前記電子ビームを前記ウェハに照射する電子銃と、前記電子ビームを偏向させる偏向器と、前記ウェハを載置し、所定の平面を移動するステージ
と、前記ステージを移動させるステージ駆動部と、前記所定の平面と前記ステージとのなす角度を算出する
角度算出部とを備えることを特徴とする電子ビーム露光
装置。