JP2002085531A

JP2002085531A - 酸化エチレンガス滅菌装置

Info

Publication number: JP2002085531A
Application number: JP2000285772A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Karasawa; 寛唐沢; Takeshi Hashizume; 武橋詰
Original assignee: Chiyoda Manufacturing Corp
Current assignee: Chiyoda Manufacturing Corp
Priority date: 2000-09-20
Filing date: 2000-09-20
Publication date: 2002-03-26
Anticipated expiration: 2020-09-20
Also published as: JP4399097B2

Abstract

(57)【要約】【課題】滅菌室内に酸化エチレンガスを供給する際
に、酸化エチレンガスの供給量のバラツキがでないよう
にする酸化エチレンガス滅菌装置を提供する。【解決手段】コンディショニング工程終了時の滅菌室
内の終了時圧力を測定すると共に、ガス供給手段による
滅菌室内への酸化エチレンガスの供給中に滅菌室内の現
在圧力を随時測定する測定手段と、現在圧力からコンデ
ィショニング工程終了時の終了時圧力を減算して増加圧
力値を算出する減算手段と、滅菌室内に供給すべき酸化
エチレンガスの所定量に対応する供給圧力値が、予め設
定されて記録されている記憶手段と、減算手段によって
算出された増加圧力値が、記憶手段内に記録されている
供給圧力値に一致するか否かを比較する比較手段とを具
備し、制御手段は、比較手段が比較した結果、増加圧力
値が供給圧力値に一致した場合には、酸化エチレンガス
の供給を停止させるようガス供給手段を制御することを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、滅菌工程実施前
に、滅菌室内を加温・加湿するコンディショニング工程
を実施し、該コンディショニング工程実施後に、ガス供
給手段によって滅菌室内に酸化エチレンガスを供給して
滅菌工程を実施する酸化エチレンガス滅菌装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】病院等で使用される医療用器具や実験等
で使用される器具類の滅菌を行う滅菌装置として、滅菌
ガスである酸化エチレンガスを用いた酸化エチレンガス
滅菌装置が知られている。酸化エチレンガス滅菌装置
は、被滅菌物である器具類を密閉可能に設けられた滅菌
室内に収納し、酸化エチレンガスを滅菌室内の空気と置
換して、酸化エチレンガスによる滅菌を行う。

【０００３】なお、従来知られている酸化エチレンガス
滅菌装置で実施される滅菌方法には、滅菌工程前に滅菌
室内を一旦真空状態にする場合と、真空状態にしない場
合の２種類の方法があるが、まず滅菌室内を一旦真空状
態にする場合について説明する。最初に、滅菌を行なう
前に、酸化エチレンガス滅菌装置は、滅菌室内を所定温
度で加温する加温工程を行なう。これにより滅菌室内の
被滅菌物が滅菌するに十分な温度まで上昇させられる。

【０００４】次いで、加湿工程が行なわれる。加湿工程
では、まず滅菌室内が所定の真空度以下の所定圧力に達
するまで滅菌室内の空気を排気し、滅菌室内の圧力が所
定圧力に達したら、滅菌室への空気等の漏れ込みテスト
であるリークテストが行なわれる。リークテストの結果
正常であると判断された場合には、滅菌室内が加湿され
る。この加湿工程では、滅菌室内を排気しつつ蒸気の供
給を行ない、所定温度に到達したら蒸気の供給を停止す
るという作業を繰り返し行なうようにしている。なお、
本明細書中では、上記加温工程と加湿工程とを含めた工
程をコンディショニング工程と呼んでいる。つまり、滅
菌工程前に行なわれる、滅菌室及び被滅菌物の状態を整
備する工程がコンディショニング工程である。

【０００５】上述した加湿工程が終了したら、滅菌室内
に酸化エチレンガスが供給されていき、滅菌工程が開始
される。このときの圧力遷移図を図８に示す。ここでは
横軸を時間、縦軸を滅菌室内圧力としており、縦軸の０
は大気圧である。酸化エチレンガスの供給前には、滅菌
室内を一旦所定の真空度以下の真空状態にするが、この
場合に、そのときの気温や気圧等の変化により、到達真
空度にその都度バラツキがある（Ｐｖ，Ｐｖ′）。

【０００６】そして、真空状態となった滅菌室内に酸化
エチレンガスの供給が行なわれるが、、この酸化エチレ
ンガスの供給は、滅菌室内の圧力が大気圧を基準として
予め設定した所定圧力Ｐｓに達するまで行なわれる。具
体的には、Ｐｓはゲージ圧で０．１３ＭＰａである。つ
まり、大気圧を０として０．１３ＭＰａに達したところ
で酸化エチレンガスの供給を停止させるように制御して
いるのである。そして、酸化エチレンガスの供給を停止
したら、次に予め設定した所定温度と、予め設定した所
定時間とで滅菌が行なわれる。

【０００７】なお、上述したように、滅菌室内の到達真
空度には、バラツキがある（Ｐｖ，Ｐｖ′）。このよう
に異なる到達真空度からゲージ圧で決定された所定圧力
Ｐｓに達するまで、酸化エチレンガスの供給を行なうと
すると、より圧力が低いところまで到達した場合（２）
と、これよりも高い圧力の場合（１）とでは、その都度
異なる量の酸化エチレンガスが供給されてしまう。

【０００８】なお、上述したような、一旦滅菌室内を真
空状態に引く方法ではなく、加温と加湿を同時に行なっ
てから滅菌室内を真空にせずに滅菌工程を行なう方法の
圧力遷移図を図９に示す。この場合にも、大気圧を基準
として、大気圧０から所定の設定圧力Ｐｓに達するまで
酸化エチレンガスの供給が行なわれる。しかし、滅菌室
内の圧力には滅菌室内の加温および加湿に伴って圧力上
昇が生じ、この圧力上昇はその都度上下にバラツキがあ
る。したがって、図９に示したように、圧力上昇が小さ
いＰｏのときに酸化エチレンガス供給を開始した場合
（１）と、圧力上昇が大きいＰｏ′のときに酸化エチレ
ンガス供給を開始した場合（２）とでは最終的に設定圧
力Ｐｓまで供給すると、その都度異なる量の酸化エチレ
ンガスが供給されてしまう。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】バラツキのある到達真
空度等のガス供給前圧力から、ゲージ圧で設定された設
定圧力まで酸化エチレンガスを供給したとき、滅菌に必
要な最低レベルの圧力以上には酸化エチレンガスが供給
されてはいるので滅菌が確実に行なわれているか否かと
いう点については問題はない。しかし、滅菌する際の温
度や時間を同じように設定しても、供給される酸化エチ
レンガスの量に多少のバラツキが出るため、滅菌条件に
再現性が無く、滅菌状態のの条件を管理したり記録する
管理上都合が悪いといった課題がある。また、酸化エチ
レンガスの供給量にバラツキがあると、必要以上に酸化
エチレンガスを供給している場合もあるため、酸化エチ
レンガスが無駄に使われているという課題もある。

【００１０】そこで、本発明は上記課題を解決すべくな
され、その目的とするところは、滅菌室内に酸化エチレ
ンガスを供給する際に、酸化エチレンガスの供給量のバ
ラツキがでないようにする酸化エチレンガス滅菌装置を
提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明にかか
る酸化エチレンガス滅菌装置によれば、被滅菌物が収納
される滅菌室と、滅菌室内に酸化エチレンガスを供給す
るガス供給手段と、前記滅菌室内を加温・加湿するコン
ディショニング工程を実施し、該コンディショニング工
程実施後に、ガス供給手段によって滅菌室内に酸化エチ
レンガスを供給して滅菌工程を実施するように制御する
制御手段とを具備する酸化エチレンガス滅菌装置におい
て、前記コンディショニング工程終了時の前記滅菌室内
の終了時圧力を測定すると共に、前記ガス供給手段によ
る滅菌室内への酸化エチレンガスの供給中に滅菌室内の
現在圧力を随時測定する測定手段と、該現在圧力からコ
ンディショニング工程終了時の終了時圧力を減算して増
加圧力値を算出する減算手段と、滅菌室内に供給すべき
酸化エチレンガスの所定量に対応する供給圧力値が、予
め設定されて記録されている記憶手段と、前記減算手段
によって算出された増加圧力値が、前記記憶手段内に記
録されている供給圧力値に一致するか否かを比較する比
較手段とを具備し、前記制御手段は、前記比較手段が比
較した結果、前記増加圧力値が前記供給圧力値に一致し
た場合には、酸化エチレンガスの供給を停止させるよう
前記ガス供給手段を制御することを特徴としている。こ
の構成を採用することによって、コンディショニング工
程終了時の滅菌室内の圧力にバラツキがあっても、滅菌
室内に、供給すべき一定量の酸化エチレンガスを常に供
給することができる。このため、滅菌作業の再現性を高
めることができ、滅菌条件等を管理する管理上都合がよ
い。

【００１２】また、前記コンディショニング工程時に、
滅菌室内の圧力が所定の真空度以下になるまで排気する
真空ポンプを具備し、前記測定手段は、コンディショニ
ング工程終了時の真空時圧力を測定し、前記減算手段
は、前記現在圧力から前記真空時圧力を減算して増加圧
力値を算出することを特徴とすると、滅菌工程開始前に
滅菌室内を一旦真空に引いた場合に、到達真空度にバラ
ツキがあったとしても、滅菌室内に一定量の酸化エチレ
ンガスを常に供給することができる。このため滅菌作業
の再現性を高めることができ、滅菌条件等を管理する管
理上都合がよい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図面に基づいて説明する。図１は、酸化エチレンガス
滅菌装置（以下、単に滅菌装置という）の構成を示す配
管系統図である。まず、図１に基づいて本実施形態の滅
菌装置の構成について説明する。

【００１４】２０が滅菌室２１を有する缶体である。缶
体２０は、外筒２０ａと内筒２０ｂとから成る二重缶構
造に形成されており、内部を高圧に設定した場合でも密
閉可能となっている。２２は缶体２０内に清浄空気を導
入するためのエアフィルターである。エアフィルター２
２からエア供給管２４を通った清浄空気は、吸気弁２３
を介して滅菌室２１内に導入される。

【００１５】酸化エチレンガスは、ボンベ（図面上では
Ｅ．Ｏ．Ｇと表記する。）内に封入され、ボンベが接続
されたガス供給管２５を通して滅菌室内に供給される。
ガス供給管２５は、ガスフィルター２７、給ガス弁３
０、気化器２６を介して滅菌室２１内に酸化エチレンガ
スを導入することができるように接続されている。な
お、ガス供給管２５とエア供給管２４とは途中で１本に
なるように接続されている。ここには安全弁２９が設け
られている。また、滅菌室２１内を加湿するために、図
示しない蒸気発生装置が加湿弁３２を介して滅菌室２１
へ接続されている。

【００１６】なお、特許請求の範囲でのガス供給手段と
は、ボンベ、給ガス弁３０、ガス供給管２５等を含めた
概念である。

【００１７】３４は真空ポンプである。真空ポンプ３４
は、滅菌室２１から外部へ向かって延びる排気管３６に
接続され、滅菌室２１内の空気を引いて真空状態にす
る。缶体２０には、少なくとも２つの温度センサが設け
られている。そのうちの一方が外筒温度センサ３８であ
って、外筒２０ａの温度を測定している。２つの温度セ
ンサのうちの他方が内筒温度センサ３９である。内筒温
度センサ３９は、内筒２０ｂ内の温度を測定するように
している。４０が圧力センサである。圧力センサ４０
は、滅菌室２１内の圧力を測定することができるように
内筒２０ｂ内に接続されている。

【００１８】４２は、制御手段としてのＣＰＵである。
なお、ここで、特許請求の範囲にいう減算手段、比較手
段はＣＰＵ４２の一機能であって、ＣＰＵ４２に減算手
段、比較手段が含まれているものとする。ＣＰＵ４２
は、ＲＯＭやＲＡＭ等から構成される記憶手段４４（メ
モリ）と接続され、記憶手段４４内に予め記憶されてい
る滅菌装置の制御プログラムに基づいて、各給ガス弁３
０、吸気弁２３，加湿弁３２等を操作して滅菌装置の動
作を制御する。さらに、上述した各真空ポンプ３４、外
筒温度センサ３８、内筒温度センサ３９、および圧力セ
ンサ４０は、ＣＰＵ４２に接続されている。特許請求の
範囲にいう測定手段は圧力センサ４０とＣＰＵ４２を含
めたものである。

【００１９】記憶手段４４内には、予め、供給すべき酸
化エチレンガスの所定量に対応する供給圧力値が設定し
て記録されている。この供給圧力値は、ゲージ圧のよう
に大気圧を基準としたり、絶対圧のように真空度０を基
準としているわけではなく、あくまで滅菌室内の現在の
圧力からガス供給直前の圧力を減算した値に適合させる
ものである。この供給圧力値は、ユーザー側で変更する
ことができるように設けても良いが、予め設定した供給
圧力で変更ができないように設けてもよい。なお、供給
圧力値は、少なくとも滅菌を行なうことができる酸化エ
チレンガスの分量よりも、多くの量が滅菌室内に供給さ
れるような値である。

【００２０】４８は表示手段である。表示手段４８は、
文字表示可能なＣＲＴモニタや液晶モニタ、あるいは現
在行っている工程が何工程であるかが判別できるように
設けられている単なるランプ等を含めたものである。こ
のような表示手段４８はＣＰＵ４２に接続され、表示内
容等はＣＰＵ４２によって制御されて表示される。５０
は、ＣＰＵ４２に接続された設定スイッチである。設定
スイッチ５０は、ユーザーが、各工程の作動時間設定、
あるいは滅菌温度の設定をすることができるように設け
られている。

【００２１】滅菌装置は、従来の技術でも述べたよう
に、その滅菌の方法について２つの種類がある。そのう
ちの一方が、滅菌工程を実施する前に、一旦滅菌室内を
真空状態にする方法であり、他方が滅菌室内を真空状態
にせず滅菌を行なう方法である。通常の滅菌では前者の
方法を用いるが、真空状態に耐えられない光学機器等を
滅菌する場合には後者の方法を用いることが多い。これ
ら、２種類の方法は、ユーザーが設定スイッチ５０など
を操作することによってどちらか一方の方法を選択する
ことができる。

【００２２】（第１実施形態）続いて、図２に、本実施
形態の滅菌装置を用いた滅菌工程の場合における圧力遷
移図を示し、滅菌工程を実施する前に一旦滅菌室内を真
空状態にする方法に基づく、第１の実施形態について説
明する。滅菌は複数のそれぞれ異なる複数の工程から成
る。まず、最初に加温工程Ａが行われる。加温工程Ａ
は、大気圧下において、滅菌室２１内の被滅菌物を、設
定スイッチ５０を介してユーザーが予め設定した時間だ
け加温する。加温工程Ａの次に加湿工程Ｂが行われる。
加湿工程Ｂでは、まず真空ポンプ３４による強制排気に
より滅菌室２１内が所定の真空度以下にまで下げられ
る。このとき真空ポンプ３４が最大限空気を引いた状態
で排気を停止する。次に、再度真空ポンプ３４を作動さ
せながら、蒸気を滅菌室２１内に供給する。続いて、滅
菌室２１内が所定温度に達したら蒸気の供給を停止し、
滅菌室２１内の温度が所定温度以下になったら再度蒸気
を供給する動作を繰り返し行なう。この動作によって滅
菌室２１内が加湿される。

【００２３】加湿工程Ｂの後に、滅菌工程Ｃが行われ
る。まず、滅菌工程Ｃでは滅菌室２１内の圧力が、予め
設定した圧力分だけ酸化エチレンガスの供給が行われ
る。設定した圧力分だけ酸化エチレンガスが供給された
ら、ユーザーが滅菌工程開始前に設定スイッチ５０を用
いて予め設定した温度で、予め設定した時間だけ滅菌が
行われる。

【００２４】滅菌工程Ｃが終了後、洗浄工程Ｄが行われ
る。洗浄工程Ｄでは、まずパルス洗浄Ｄ１がおこなわ
れ、次にブロー洗浄Ｄ２が行われる。これらパルス洗浄
Ｄ１とブロー洗浄Ｄ２ともに、ユーザーが滅菌工程開始
前に設定スイッチ５０によってそれぞれ予め設定された
設定時間だけ運転する。ここで、パルス洗浄とは、滅菌
室２１内の強制排気と、滅菌室２１への外気の吸気を交
互に行うものであり、ブロー洗浄とは、滅菌室２１内の
強制排気と外気の導入とを同時に行いつつ、排気の重量
をより多くして滅菌室２１を負圧の状態を維持する洗浄
方法である。このような洗浄工程Ｄを行うことで、滅菌
室２１内の酸化エチレンガスや、被滅菌物に付着した酸
化エチレンガスを効率よく確実に除去することができ
る。

【００２５】洗浄工程Ｄが終了することで全滅菌工程が
終了するのであるが、洗浄工程Ｄの後にエアレーション
工程Ｅを追加する場合もある。エアレーション工程Ｅ
は、滅菌室２１内の強制排気と吸気とが同時に行われ、
被滅菌物に付着している酸化エチレンガスを確実に除去
するために行われる。エアレーション工程Ｅは、予めユ
ーザーによって設定スイッチ５０によって設定された設
定時間が終了するまでか、あるいはユーザーが強制終了
するまで行われる。

【００２６】次に、本実施形態における酸化エチレンガ
スの供給について、図３および図４に基づいてさらに詳
細に説明する。図３では、図２に示した加温工程Ａと加
湿工程Ｂとを含めてコンディショニング工程とし、滅菌
工程Ｃのうちガス供給が終了するまでのガス供給の工程
をまとめたフローチャートであり、図４は、ガス供給時
の圧力遷移図である。まず、ステップＳ１００でコンデ
ィショニング工程が開始される。コンディショニング工
程では、上述したような加温工程Ａと加湿工程Ｂとが行
なわれ、滅菌室２１内が所定の真空度以下となるように
真空ポンプ３４で強制排気される。滅菌室２１内が所定
の真空度以下になった時点でコンディショニング工程が
終了してステップＳ１０４へ移行する。

【００２７】ステップＳ１０４では、滅菌室２１内の到
達した真空時圧力Ｐ１が圧力センサ４０によって測定さ
れる。この真空時圧力Ｐ１が、特許請求の範囲で記載し
た終了時圧力である。そして、ステップＳ１０６へ移行
し、ガス供給が開始される。ガス供給は、ＣＰＵ４２
が、給ガス弁３０等を操作することで行なわれる。そし
て、ステップＳ１０８では、予め設定された供給圧力値
Ｘを記憶手段４４から読み出し、次のステップＳ１１０
で圧力センサ４０がガス供給中の滅菌室内の現在の圧力
Ｐｘを測定する。

【００２８】そしてステップＳ１１２では、供給圧力値
Ｘと現在までに供給された圧力とを比較している。すな
わち、現在圧力Ｐｘから真空時圧力Ｐ１を減算すること
によって、真空時からどのくらいの圧力が増加したか増
加圧力値Ｐｘ―Ｐ１を算出し、この増加圧力値Ｐｘ―Ｐ
１と供給圧力値Ｘとを随時比較するようにしているので
ある。そして、増加圧力値Ｐｘ―Ｐ１が供給圧力値Ｘに
達したら、ステップＳ１１４へ移行してガス供給を停止
し、ガス供給は終了する。

【００２９】このように、滅菌工程開始時には常に一定
量のガスが供給されるように、予め所定量の酸化エチレ
ンガスが供給されるような供給圧力値を設定しておくの
で、常に一定量の酸化エチレンガスが供給されることが
できる。

【００３０】（第２実施形態）図５に、滅菌室内を真空
状態にせず滅菌を行なう第２の実施形態の圧力遷移図に
ついて示す。まず、最初に加温・加湿工程ａが行われ
る。加温・加湿工程ａは、大気圧０下において、滅菌室
２１内の被滅菌物を、設定スイッチ５０を介してユーザ
ーが予め設定した時間だけ加温すると同時に、ユーザー
が予め滅菌室２１内に供給した水が気化し、滅菌室２１
内が加湿される。この加温・加湿工程ａが、特許請求の
範囲でいうコンディショニング工程である。加温・加湿
工程ａの次に滅菌工程ｂが行われる。まず、滅菌工程ｂ
では滅菌室２１内の圧力が、予め設定した圧力分だけ酸
化エチレンガスの供給が行われる。設定した圧力分だけ
酸化エチレンガスが供給されたら、ユーザーが滅菌工程
開始前に設定スイッチ５０を用いて予め設定した温度
で、予め設定した時間だけ滅菌が行われる。

【００３１】滅菌工程ｂが終了後、洗浄工程ｃが行われ
る。洗浄工程ｃが終了することで全滅菌工程が終了する
のであるが、洗浄工程ｃの後にエアレーション工程ｄを
追加する場合もある。エアレーション工程ｄは、滅菌室
２１内の強制排気と吸気とが同時に行われ、被滅菌物に
付着している酸化エチレンガスを確実に除去するために
行われる。エアレーション工程ｄは、予めユーザーによ
って設定スイッチ５０によって設定された設定時間が終
了するまでか、あるいはユーザーが強制終了するまで行
われる。

【００３２】次に、本実施形態における酸化エチレンガ
スの供給について、図６および図７に基づいてさらに詳
細に説明する。図６は、ガス供給の工程をまとめたフロ
ーチャートであり、図７は、ガス供給時の圧力遷移図で
ある。まず、ステップＳ１２０でコンディショニング工
程が開始される。コンディショニング工程では、上述し
たような加温・加湿工程ａが行なわれて被滅菌物が加温
される。ステップＳ１２２において所定時間加温したら
コンディショニング工程が終了し、ステップＳ１２４へ
移行する。

【００３３】ステップＳ１２４では、酸化エチレンガス
供給時の現在の滅菌室内の圧力Ｐ０が圧力センサ４０に
よって測定される。このＰ０が、特許請求の範囲で記載
した終了時圧力である。そして、ステップＳ１２６へ移
行し、ガス供給が開始される。ガス供給は、ＣＰＵ４２
が給ガス弁３０等を操作することで行なわれる。そし
て、ステップＳ１２８では、ＣＰＵ４２が予め設定され
た供給圧力値Ｙを記憶手段４４から読み出し、次のステ
ップＳ１３０で圧力センサ４０がガス供給中の滅菌室内
の現在圧力Ｐｙを測定する。

【００３４】そしてステップＳ１３２では、供給圧力値
Ｙと現在までに供給された圧力とを比較している。すな
わち、現在圧力Ｐｙから酸化エチレンガス供給時の圧力
Ｐ０を減算することによって、ガス供給時からどのくら
いの圧力が増加したか増加圧力値Ｐｙ―Ｐ０を算出し、
この増加圧力値Ｐｙ―Ｐ０と供給圧力値Ｙとを随時比較
するようにしているのである。そして、増加圧力値Ｐｙ
―Ｐ０が供給圧力値Ｙに達したら、ステップＳ１３４へ
移行してガス供給を停止し、ガス供給は終了する。

【００３５】このように、ガスの供給を大気圧からの圧
力値に到達するまで行なうのではなく、滅菌工程時には
常に一定量のガスが供給されているように、予め所定量
の酸化エチレンガスが供給されるような供給圧力を予め
から設定しておくので、常に一定量の酸化エチレンガス
が供給され、滅菌作業の再現性がよい。

【００３６】以上本発明につき好適な実施例を挙げて種
々説明したが、本発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、発明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を
施し得るのはもちろんである。

【００３７】

【発明の効果】本発明に係る酸化エチレンガス滅菌装置
によれば、増加圧力値が供給圧力値に一致するまで酸化
エチレンガスを供給させるので、常に一定量の酸化エチ
レンガスの供給を行なうことができ、滅菌作業を再現性
よく行なうことができる。このため、滅菌状態を記録し
たり管理したりする管理上も都合が良い。また、酸化エ
チレンガスをよけいに供給して無駄にしてしまうことも
なくなる。また、滅菌室内の空気を、所定の真空度に達
するまで排気可能な真空ポンプを具備し、測定手段は、
コンディショニング工程終了時の真空時圧力を測定し、
減算手段は、現在圧力から真空時圧力を減算して増加圧
力値を算出することによれば、真空到達度にバラツキが
ある場合でも、常に一定量の酸化エチレンガスの供給を
行なうことができ、滅菌作業を再現性よく行なうことが
できる。このため、滅菌状態を記録したり管理したりす
る管理上も都合が良い。また、酸化エチレンガスをよけ
いに供給して無駄にしてしまうこともなくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る酸化エチレンガス滅菌装置の配管
系統図である。

【図２】第１の実施形態の滅菌作業全体について説明す
る圧力遷移図である。

【図３】第１の実施形態の酸化エチレンガスの供給方法
について説明するフローチャートである。

【図４】第１の実施形態の酸化エチレンガスの供給時の
圧力遷移図である。

【図５】第２の実施形態の滅菌作業全体について説明す
る圧力遷移図である。

【図６】第２の実施形態の酸化エチレンガスの供給方法
について説明するフローチャートである。

【図７】第２の実施形態の酸化エチレンガスの供給時の
圧力遷移図である。

【図８】従来の酸化エチレンガス供給時の、滅菌室を真
空状態にする場合の圧力遷移図である。

【図９】従来の酸化エチレンガス供給時の、滅菌室を真
空状態にしない場合の圧力遷移図である。

【符号の説明】

２０缶体２１滅菌室２２，２７フィルター２３吸気弁２４エア供給管２５ガス供給管２６気化器２９安全弁３０給ガス弁３２加湿弁３４真空ポンプ３６排気管３８，３９温度センサ４０圧力センサ４２ＣＰＵ（制御手段）４４記憶手段（ＲＯＭ、ＲＡＭ等）４８表示手段５０設定スイッチ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被滅菌物が収納される滅菌室と、滅菌室内に酸化エチレンガスを供給するガス供給手段
と、前記滅菌室内を加温・加湿するコンディショニング工程
を実施し、該コンディショニング工程実施後に、ガス供
給手段によって滅菌室内に酸化エチレンガスを供給して
滅菌工程を実施するように制御する制御手段とを具備す
る酸化エチレンガス滅菌装置において、前記コンディショニング工程終了時の前記滅菌室内の終
了時圧力を測定すると共に、前記ガス供給手段による滅
菌室内への酸化エチレンガスの供給中に滅菌室内の現在
圧力を随時測定する測定手段と、該現在圧力からコンディショニング工程終了時の終了時
圧力を減算して増加圧力値を算出する減算手段と、滅菌室内に供給すべき酸化エチレンガスの所定量に対応
する供給圧力値が、予め設定されて記録されている記憶
手段と、前記減算手段によって算出された増加圧力値が、前記記
憶手段内に記録されている供給圧力値に一致するか否か
を比較する比較手段とを具備し、前記制御手段は、前記比較手段が比較した結果、前記増加圧力値が前記供
給圧力値に一致した場合には、酸化エチレンガスの供給
を停止させるよう前記ガス供給手段を制御することを特
徴とする酸化エチレンガス滅菌装置。
【請求項２】前記コンディショニング工程時に、滅菌
室内の圧力が所定の真空度以下になるまで排気する真空
ポンプを具備し、前記測定手段は、コンディショニング工程終了時の真空
時圧力を測定し、前記減算手段は、前記現在圧力から前記真空時圧力を減
算して増加圧力値を算出することを特徴とする請求項１
記載の酸化エチレンガス滅菌装置。