JP2002054600A - エジェクタ - Google Patents
エジェクタInfo
- Publication number
- JP2002054600A JP2002054600A JP2000244356A JP2000244356A JP2002054600A JP 2002054600 A JP2002054600 A JP 2002054600A JP 2000244356 A JP2000244356 A JP 2000244356A JP 2000244356 A JP2000244356 A JP 2000244356A JP 2002054600 A JP2002054600 A JP 2002054600A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- ejector
- diffuser
- liquid
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/14—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
- F04F5/16—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/14—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
- F04F5/24—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing liquids, e.g. containing solids, or liquids and elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/44—Component parts, details, or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04F5/02 - F04F5/42
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被吸引流体の組成に起因するエジェクタ内壁
への物質付着による吸引力低下を防止することができる
エジェクタを提供すること。 【解決手段】 吸引室１、該吸引室１に連通するノズル
２、被吸引流体管３及びデフューザー４を具備し、ノズ
ル２からデフューザー４に向けて駆動流体Ｑ１を噴射す
ることにより、吸引室１に被吸引流体導入管３を通して
被吸引流体Ｑ２を吸引すると共に、デフューザー４を通
して駆動流体Ｑ１の流出力により被吸引流体Ｑ２を流出
させるエジェクタにおいて、吸引室１及び／又はデフュ
ーザー４の内壁に、液体Ｑ３による濡れ壁９を形成する
濡れ壁形成手段を設けた。
への物質付着による吸引力低下を防止することができる
エジェクタを提供すること。 【解決手段】 吸引室１、該吸引室１に連通するノズル
２、被吸引流体管３及びデフューザー４を具備し、ノズ
ル２からデフューザー４に向けて駆動流体Ｑ１を噴射す
ることにより、吸引室１に被吸引流体導入管３を通して
被吸引流体Ｑ２を吸引すると共に、デフューザー４を通
して駆動流体Ｑ１の流出力により被吸引流体Ｑ２を流出
させるエジェクタにおいて、吸引室１及び／又はデフュ
ーザー４の内壁に、液体Ｑ３による濡れ壁９を形成する
濡れ壁形成手段を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、流体の吸引・搬送
や低真空の発生などに用いられるエジェクタに関するも
のである。
や低真空の発生などに用いられるエジェクタに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】エジェクタはその内部に機械的な可動部
分を持たず、高圧の駆動流体があれば手軽に負圧を発生
させることができるため、流体の吸引・搬送や低真空の
発生などに広く用いられている。しかしながら、被吸引
流体の組成によっては、エジェクタ内壁、特に吸引室や
デフューザー内壁に物質が付着して、吸引性能が低下す
る場合がある。図１はこの種のエジェクタの構成例を示
す図である。図示するように、エジェクタは吸引室１
と、該吸引室１に連通するノズル２、被吸引流体導入管
３及びデフューザー４を具備する。
分を持たず、高圧の駆動流体があれば手軽に負圧を発生
させることができるため、流体の吸引・搬送や低真空の
発生などに広く用いられている。しかしながら、被吸引
流体の組成によっては、エジェクタ内壁、特に吸引室や
デフューザー内壁に物質が付着して、吸引性能が低下す
る場合がある。図１はこの種のエジェクタの構成例を示
す図である。図示するように、エジェクタは吸引室１
と、該吸引室１に連通するノズル２、被吸引流体導入管
３及びデフューザー４を具備する。
【０００３】駆動流体導入管５からの駆動流体Ｑ１をノ
ズル２からデフューザー４の入口部６に向けて噴射する
ことにより、吸引室１内に負圧を発生させ、被吸引流体
導入管３を通して被吸引流体Ｑ２を吸引すると共に、デ
フューザー４を通して駆動流体Ｑ１の流出力により被吸
引流体Ｑ２を流出させる。被吸引流体Ｑ２に含まれる物
質の付着は、ノズル２の被吸引流体導入管３側、吸引室
１の内壁、デフューザー入口部６及びデフューザー４の
内壁で発生する。特に、デフューザー４の入口部６への
付着は被吸引流体Ｑ２の吸引性能に与える影響が著しく
大きい。
ズル２からデフューザー４の入口部６に向けて噴射する
ことにより、吸引室１内に負圧を発生させ、被吸引流体
導入管３を通して被吸引流体Ｑ２を吸引すると共に、デ
フューザー４を通して駆動流体Ｑ１の流出力により被吸
引流体Ｑ２を流出させる。被吸引流体Ｑ２に含まれる物
質の付着は、ノズル２の被吸引流体導入管３側、吸引室
１の内壁、デフューザー入口部６及びデフューザー４の
内壁で発生する。特に、デフューザー４の入口部６への
付着は被吸引流体Ｑ２の吸引性能に与える影響が著しく
大きい。
【０００４】例えば、被吸引流体Ｑ２がミストやヒュー
ム等の微細な粒子を含んだガスである場合、エジェクタ
の吸引室１やデフューザー４の内壁にこれらの粒子が付
着し、流路を狭めて吸引性能を低下させる。
ム等の微細な粒子を含んだガスである場合、エジェクタ
の吸引室１やデフューザー４の内壁にこれらの粒子が付
着し、流路を狭めて吸引性能を低下させる。
【０００５】また、被吸引流体Ｑ２に駆動流体Ｑ１と反
応して固体化合物を生成する物質が含まれている場合に
も、生成した固体化合物が上記と同様な部分に付着し、
吸引性能の低下が起こる。例えば三塩化ホウ素（ＢＣｌ
3）のような加水分解性を有する成分を含んだガスを被
吸引流体Ｑ２、水分を含んだ空気を駆動流体Ｑ１として
エジェクタで吸引した場合に、このようなことが起き
る。これは三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）と空気中に含まれ
る水が反応して、塩酸（ＨＣｌ）と酸化ホウ素（Ｂ
2Ｏ3）が生成し、気体である塩酸（ＨＣｌ）はエジェク
タをそのまま通過するが、酸化ホウ素（Ｂ2Ｏ3）は固体
であるためエジェクタの内壁に付着するためである。
応して固体化合物を生成する物質が含まれている場合に
も、生成した固体化合物が上記と同様な部分に付着し、
吸引性能の低下が起こる。例えば三塩化ホウ素（ＢＣｌ
3）のような加水分解性を有する成分を含んだガスを被
吸引流体Ｑ２、水分を含んだ空気を駆動流体Ｑ１として
エジェクタで吸引した場合に、このようなことが起き
る。これは三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）と空気中に含まれ
る水が反応して、塩酸（ＨＣｌ）と酸化ホウ素（Ｂ
2Ｏ3）が生成し、気体である塩酸（ＨＣｌ）はエジェク
タをそのまま通過するが、酸化ホウ素（Ｂ2Ｏ3）は固体
であるためエジェクタの内壁に付着するためである。
【０００６】被吸引流体Ｑ２に、四塩化ケイ素（ＳｉＦ
4）、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）などの加水分解性を有
する成分を含む場合も同様のことが言える。従来、上記
のようなエジェクタの吸引性能の低下を防止するため。
定期的にエジェクタの組み込まれた装置の運転を停止
し、エジェクタを分解清掃するなどの対策が取られてい
た。
4）、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）などの加水分解性を有
する成分を含む場合も同様のことが言える。従来、上記
のようなエジェクタの吸引性能の低下を防止するため。
定期的にエジェクタの組み込まれた装置の運転を停止
し、エジェクタを分解清掃するなどの対策が取られてい
た。
【０００７】しかしながら，物質付着による性能低下が
著しい場合には清掃間隔を短くする必要があり，生産性
が著しく低下する。また、特公昭６１−２６４１２号公
報及び特公昭６２−１１１９６号公報に開示されている
エジェクタは水洗機構を備えており、装置に組み込まれ
た状態のままで洗浄できるが、洗浄時には装置の運転を
停止する必要があり、生産性の低下は避けられない。
著しい場合には清掃間隔を短くする必要があり，生産性
が著しく低下する。また、特公昭６１−２６４１２号公
報及び特公昭６２−１１１９６号公報に開示されている
エジェクタは水洗機構を備えており、装置に組み込まれ
た状態のままで洗浄できるが、洗浄時には装置の運転を
停止する必要があり、生産性の低下は避けられない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の点に鑑
みてなされたもので、被吸引流体の組成に起因するエジ
ェクタ内壁への物質付着による吸引力低下を防止するこ
とができるエジェクタを提供することを目的とする。
みてなされたもので、被吸引流体の組成に起因するエジ
ェクタ内壁への物質付着による吸引力低下を防止するこ
とができるエジェクタを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、吸引室、該吸引室に連通する
ノズル、被吸引流体管及びデフューザーを具備し、ノズ
ルからデフューザーに向けて駆動流体を噴射することに
より、吸引室に被吸引流体管を通して被吸引流体を吸引
すると共に、デフューザーを通して駆動流体の流出力に
より被吸引流体を流出させるエジェクタにおいて、吸引
室及び／又はデフューザー内壁に、液体による濡れ壁を
形成する濡れ壁形成手段を設けたことを特徴とする。
請求項１に記載の発明は、吸引室、該吸引室に連通する
ノズル、被吸引流体管及びデフューザーを具備し、ノズ
ルからデフューザーに向けて駆動流体を噴射することに
より、吸引室に被吸引流体管を通して被吸引流体を吸引
すると共に、デフューザーを通して駆動流体の流出力に
より被吸引流体を流出させるエジェクタにおいて、吸引
室及び／又はデフューザー内壁に、液体による濡れ壁を
形成する濡れ壁形成手段を設けたことを特徴とする。
【００１０】上記のように濡れ壁形成手段を設けること
により、被吸引流体の組成に起因する物質が付着しやす
い、吸引室及び／又はデフューザー内壁に液体による濡
れ壁を形成することができる。これにより物質の付着を
防止できるから、吸引性能の低下を防止することができ
る。
により、被吸引流体の組成に起因する物質が付着しやす
い、吸引室及び／又はデフューザー内壁に液体による濡
れ壁を形成することができる。これにより物質の付着を
防止できるから、吸引性能の低下を防止することができ
る。
【００１１】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
のエジェクタにおいて、濡れ壁形成手段で濡れ壁を形成
する液体には、吸引室やデフューザーの内壁面に付着す
る可能性のある物質を溶解させる物質が含まれているこ
とを特徴とする。
のエジェクタにおいて、濡れ壁形成手段で濡れ壁を形成
する液体には、吸引室やデフューザーの内壁面に付着す
る可能性のある物質を溶解させる物質が含まれているこ
とを特徴とする。
【００１２】上記のように濡れ壁を形成する液体に、吸
引室やデフューザーの内壁面に付着する可能性のある物
質を溶解させる物質が含まれているので、該付着する可
能性のある物質は溶解するから、物質付着防止効果を高
めることが可能となる。
引室やデフューザーの内壁面に付着する可能性のある物
質を溶解させる物質が含まれているので、該付着する可
能性のある物質は溶解するから、物質付着防止効果を高
めることが可能となる。
【００１３】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
のエジェクタにおいて、濡れ壁形成手段で濡れ壁を形成
する液体は、吸引室やデフューザーの内壁面に付着する
可能性のある物質を溶解させる液体であることを特徴と
する。
のエジェクタにおいて、濡れ壁形成手段で濡れ壁を形成
する液体は、吸引室やデフューザーの内壁面に付着する
可能性のある物質を溶解させる液体であることを特徴と
する。
【００１４】上記のように濡れ壁を形成する液体自体が
吸引室やデフューザーの内壁面に付着する可能性のある
物質を溶解させる液体であるので、該付着する可能性の
ある物質は溶解するから、物質付着防止効果を高めるこ
とが可能となる。
吸引室やデフューザーの内壁面に付着する可能性のある
物質を溶解させる液体であるので、該付着する可能性の
ある物質は溶解するから、物質付着防止効果を高めるこ
とが可能となる。
【００１５】請求項４に記載の発明は、請求項１に記載
のエジェクタにおいて、駆動流体は気体であり、濡れ壁
形成手段はデフューザーの入口に発生する旋回流を利用
して、濡れ壁を安定に形成することを特徴とする。
のエジェクタにおいて、駆動流体は気体であり、濡れ壁
形成手段はデフューザーの入口に発生する旋回流を利用
して、濡れ壁を安定に形成することを特徴とする。
【００１６】上記のように壁形成手段はデフューザーの
入口に発生する旋回流を利用して、液体を旋回させ濡れ
壁を形成するから、濡れ壁を安定に形成することがで
き、安定した物質付着防止効果が得られる。
入口に発生する旋回流を利用して、液体を旋回させ濡れ
壁を形成するから、濡れ壁を安定に形成することがで
き、安定した物質付着防止効果が得られる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図２は本発明に係るエジェクタ
の構成例を示す図である。図２において、図１と同一符
号を付した部分は同一又は相当部分を示す。なお、他の
図面においても同様とする。本エジェクタはデフューザ
ー４の外側を覆う形で液体室８が設けられており、該液
体室８に適当な流量で液体Ｑ３を導入する。該液体Ｑ３
は吸引室１とデフューザー４の境界付近に円環状に設け
られたスリット７から溢流し、ここから下方のデフュー
ザー４の内壁に濡れ壁９を形成する。
面に基づいて説明する。図２は本発明に係るエジェクタ
の構成例を示す図である。図２において、図１と同一符
号を付した部分は同一又は相当部分を示す。なお、他の
図面においても同様とする。本エジェクタはデフューザ
ー４の外側を覆う形で液体室８が設けられており、該液
体室８に適当な流量で液体Ｑ３を導入する。該液体Ｑ３
は吸引室１とデフューザー４の境界付近に円環状に設け
られたスリット７から溢流し、ここから下方のデフュー
ザー４の内壁に濡れ壁９を形成する。
【００１８】付着物質を生成する成分を含むか又はもと
もと付着物質を含む被吸引流体Ｑ２は、ノズル２から噴
射される駆動流体Ｑ１によって吸引室１内に発生する負
圧により吸引され、駆動流体Ｑ１の流出力によりデフュ
ーザー４内を通って流出する。この過程で上記被吸引流
体Ｑ２に含まれる成分により生成された物質又はもとも
と被吸引流体Ｑ２に含まれている物質は、デフューザー
４の入口部６に付着しようとするが、液体Ｑ３によって
形成された濡れ壁９によって洗い流されるため堆積せ
ず、エジェクタの吸引性能は低下しない。
もと付着物質を含む被吸引流体Ｑ２は、ノズル２から噴
射される駆動流体Ｑ１によって吸引室１内に発生する負
圧により吸引され、駆動流体Ｑ１の流出力によりデフュ
ーザー４内を通って流出する。この過程で上記被吸引流
体Ｑ２に含まれる成分により生成された物質又はもとも
と被吸引流体Ｑ２に含まれている物質は、デフューザー
４の入口部６に付着しようとするが、液体Ｑ３によって
形成された濡れ壁９によって洗い流されるため堆積せ
ず、エジェクタの吸引性能は低下しない。
【００１９】液体Ｑ３にはデフューザー４の入口部６や
内壁に付着する可能性のある物質を溶解する性質を有す
る溶媒が望ましいが、該物質を溶解する性質を有しない
場合でも、濡れ壁９の物理的洗浄効果によって付着させ
ない場合もある。また、液体Ｑ３には上記付着可能性の
ある物質を溶解する目的で、別の物質を混合しても構わ
ない。
内壁に付着する可能性のある物質を溶解する性質を有す
る溶媒が望ましいが、該物質を溶解する性質を有しない
場合でも、濡れ壁９の物理的洗浄効果によって付着させ
ない場合もある。また、液体Ｑ３には上記付着可能性の
ある物質を溶解する目的で、別の物質を混合しても構わ
ない。
【００２０】例えば被吸引流体Ｑ２に付着可能性物質と
してポリスチレン微粒子を含む場合は、液体Ｑ３に水を
用いてもよいが、キシレンを用いると溶解性が向上し、
更にエジェクタの吸引性能維持に効果がある。また、上
記被吸引流体Ｑ２に含まれる付着可能性物質が水への溶
解度の低いタングステン酸（Ｈ2ＷＯ4）である場合、液
体Ｑ３に水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を溶解させたも
のを用いると、タングステン酸（Ｈ2ＷＯ4）は水溶性の
タングステン酸ナトリウム（ＮａＷＯ4）に変化し、濡
れ壁９の洗浄作用が向上し、エジェクタの吸引性能維持
に効果がある。
してポリスチレン微粒子を含む場合は、液体Ｑ３に水を
用いてもよいが、キシレンを用いると溶解性が向上し、
更にエジェクタの吸引性能維持に効果がある。また、上
記被吸引流体Ｑ２に含まれる付着可能性物質が水への溶
解度の低いタングステン酸（Ｈ2ＷＯ4）である場合、液
体Ｑ３に水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を溶解させたも
のを用いると、タングステン酸（Ｈ2ＷＯ4）は水溶性の
タングステン酸ナトリウム（ＮａＷＯ4）に変化し、濡
れ壁９の洗浄作用が向上し、エジェクタの吸引性能維持
に効果がある。
【００２１】液体Ｑ３の流量は、エジェクタの形状や駆
動流体Ｑ１、被吸引流体Ｑ２の流量によって適当に決定
されるべきもので、少な過ぎれば付着物に対する洗浄作
用が得られないし、多過ぎれば濡れ壁９の厚みが増して
エジェクタの吸引性能を低下させる。
動流体Ｑ１、被吸引流体Ｑ２の流量によって適当に決定
されるべきもので、少な過ぎれば付着物に対する洗浄作
用が得られないし、多過ぎれば濡れ壁９の厚みが増して
エジェクタの吸引性能を低下させる。
【００２２】なお、液体Ｑ３によって生成した濡れ壁を
安定に存在させるため、デフューザー４はノズル２の駆
動流体Ｑ１の噴射方向に対して対称的断面を持ち、垂直
に配置され、内壁面は平滑に加工されていることが望ま
しい。
安定に存在させるため、デフューザー４はノズル２の駆
動流体Ｑ１の噴射方向に対して対称的断面を持ち、垂直
に配置され、内壁面は平滑に加工されていることが望ま
しい。
【００２３】濡れ壁９を形成するためのスリット７は、
図２に示すようにデフューザー４の入口部６に設けても
よいが、図３に示すように被吸引流体導入管３を被吸引
流体Ｑ２がデフューザー４の上方から垂直に流入するよ
うに配置し、ノズル２より上方の被吸引流体導入管３の
内壁から吸引室１の内壁を含んだ範囲に濡れ壁９を形成
させて、物質付着を防ぐ構成としてもよい。
図２に示すようにデフューザー４の入口部６に設けても
よいが、図３に示すように被吸引流体導入管３を被吸引
流体Ｑ２がデフューザー４の上方から垂直に流入するよ
うに配置し、ノズル２より上方の被吸引流体導入管３の
内壁から吸引室１の内壁を含んだ範囲に濡れ壁９を形成
させて、物質付着を防ぐ構成としてもよい。
【００２４】図４は本発明に係るエジェクタの別の構成
例を示す図である。本エジェクタは外部から吸引室１内
に向かって、液体導入管１０を設けており、該液体導入
管１０を介して、液体Ｑ３を適当な流量で吸引室１に供
給する。吸引室１に入った液体Ｑ３はデフューザー４の
入口部６に達する。ノズル２から噴射された駆動流体
（気体）Ｑ１はデフューザー４の入口部６がテーパー形
状になっているため旋回流を形成しているから、吸引室
１に入った液体Ｑ３は該入口部６で駆動流体Ｑ１による
回転力を受け、デフューザー４に向かって旋回しながら
内壁面に沿って流れ落ちる。ここで液体Ｑ３は旋回して
いるためデフューザー４の内壁面の全周を漏れなくカバ
ーし、安定した濡れ壁９を形成する。
例を示す図である。本エジェクタは外部から吸引室１内
に向かって、液体導入管１０を設けており、該液体導入
管１０を介して、液体Ｑ３を適当な流量で吸引室１に供
給する。吸引室１に入った液体Ｑ３はデフューザー４の
入口部６に達する。ノズル２から噴射された駆動流体
（気体）Ｑ１はデフューザー４の入口部６がテーパー形
状になっているため旋回流を形成しているから、吸引室
１に入った液体Ｑ３は該入口部６で駆動流体Ｑ１による
回転力を受け、デフューザー４に向かって旋回しながら
内壁面に沿って流れ落ちる。ここで液体Ｑ３は旋回して
いるためデフューザー４の内壁面の全周を漏れなくカバ
ーし、安定した濡れ壁９を形成する。
【００２５】付着物質を生成する成分を含むか又はもと
もと付着物質を含む被吸引流体Ｑ２はノズル２から噴射
される駆動流体Ｑ１によって吸引室１内に発生する負圧
により吸引され、駆動流体Ｑ１の流出力によりデフュー
ザー４内を通って流出する。この過程で上記被吸引流体
Ｑ２に含まれる成分により生成された物質又はもともと
被吸引流体Ｑ２に含まれている物質は、デフューザー４
の入口部６に付着しようとするが、液体Ｑ３によって形
成された濡れ壁９によって洗い流されるため堆積せず、
エジェクタの吸引性能は低下しない。
もと付着物質を含む被吸引流体Ｑ２はノズル２から噴射
される駆動流体Ｑ１によって吸引室１内に発生する負圧
により吸引され、駆動流体Ｑ１の流出力によりデフュー
ザー４内を通って流出する。この過程で上記被吸引流体
Ｑ２に含まれる成分により生成された物質又はもともと
被吸引流体Ｑ２に含まれている物質は、デフューザー４
の入口部６に付着しようとするが、液体Ｑ３によって形
成された濡れ壁９によって洗い流されるため堆積せず、
エジェクタの吸引性能は低下しない。
【００２６】液体導入管１０は図４に示すように、ノズ
ル２に液体Ｑ３を吹き付ける構成にするのがよく、こう
することでノズル２への物質付着を防止することができ
る。また、液体導入管１０は１本でもよいが、物質の付
着が起こり易い場所に向けて複数本配置してもよい。ま
た、先端にスプレーノズルを備え広い範囲に液体Ｑ３を
吹き付けるようにしてもよい。
ル２に液体Ｑ３を吹き付ける構成にするのがよく、こう
することでノズル２への物質付着を防止することができ
る。また、液体導入管１０は１本でもよいが、物質の付
着が起こり易い場所に向けて複数本配置してもよい。ま
た、先端にスプレーノズルを備え広い範囲に液体Ｑ３を
吹き付けるようにしてもよい。
【００２７】また、液体Ｑ３の供給方法は、駆動流体Ｑ
１に該液体Ｑ３を混合するようにしてもよい。また、加
熱した液体Ｑ３に駆動流体Ｑ１を接触させ、液体Ｑ３を
蒸気としてエジェクタのノズル２から吐出し断熱膨張す
る過程で生じる温度低下や、被吸引流体Ｑ２との混合に
よる温度低下によって結露させ、液体Ｑ３を供給する方
法でもよい。
１に該液体Ｑ３を混合するようにしてもよい。また、加
熱した液体Ｑ３に駆動流体Ｑ１を接触させ、液体Ｑ３を
蒸気としてエジェクタのノズル２から吐出し断熱膨張す
る過程で生じる温度低下や、被吸引流体Ｑ２との混合に
よる温度低下によって結露させ、液体Ｑ３を供給する方
法でもよい。
【００２８】また、ここで液体Ｑ３には、図２のエジェ
クタで用いた液体Ｑ３のようなものを使用できる。ま
た、液体Ｑ３の流量、デフューザー４の断面、配置、内
壁面の平滑度に関しても、図２のエジェクタと同様に配
慮する必要がある。
クタで用いた液体Ｑ３のようなものを使用できる。ま
た、液体Ｑ３の流量、デフューザー４の断面、配置、内
壁面の平滑度に関しても、図２のエジェクタと同様に配
慮する必要がある。
【００２９】また、図２に示す構成のエジェクタの特徴
と図４に示す構成のエジェクタの特徴を組合せてエジェ
クタを構成してもよい。特に図４に示すノズル２に液体
Ｑ３を吹き付ける構成を、図２に示すエジェクタに組合
せた構成にしても当然有効である。
と図４に示す構成のエジェクタの特徴を組合せてエジェ
クタを構成してもよい。特に図４に示すノズル２に液体
Ｑ３を吹き付ける構成を、図２に示すエジェクタに組合
せた構成にしても当然有効である。
【００３０】
【発明の効果】以上、説明したように各請求項に記載の
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
【００３１】請求項１に記載の発明によれば、濡れ壁形
成手段を設けることにより、被吸引流体の組成に起因す
る物質が付着しやすい、吸引室及び／又はデフューザー
内壁に液体による濡れ壁を形成することができるから、
物質の付着を防止でき、吸引性能の低下のないエジェク
タを提供できる。
成手段を設けることにより、被吸引流体の組成に起因す
る物質が付着しやすい、吸引室及び／又はデフューザー
内壁に液体による濡れ壁を形成することができるから、
物質の付着を防止でき、吸引性能の低下のないエジェク
タを提供できる。
【００３２】請求項２に記載の発明によれば、濡れ壁を
形成する液体に、吸引室やデフューザーの内壁面に付着
する可能性のある物質を溶解させる物質が含まれている
ので、該付着する可能性のある物質は溶解するから、更
に物質付着防止効果を高めたエジェクタを提供できる。
形成する液体に、吸引室やデフューザーの内壁面に付着
する可能性のある物質を溶解させる物質が含まれている
ので、該付着する可能性のある物質は溶解するから、更
に物質付着防止効果を高めたエジェクタを提供できる。
【００３３】請求項３に記載の発明によれば、濡れ壁を
形成する液体自体が吸引室やデフューザーの内壁面に付
着する可能性のある物質を溶解させる液体であるので、
該付着する可能性のある物質は溶解するから、更に物質
付着防止効果を高めたエジェクタを提供できる。
形成する液体自体が吸引室やデフューザーの内壁面に付
着する可能性のある物質を溶解させる液体であるので、
該付着する可能性のある物質は溶解するから、更に物質
付着防止効果を高めたエジェクタを提供できる。
【００３４】請求項４に記載の発明によれば、壁形成手
段はデフューザーの入口に発生する旋回流を利用して、
液体を旋回させ濡れ壁を形成するから、濡れ壁を安定に
形成することができ、安定した物質付着防止効果が得ら
れるエジェクタを提供できる。
段はデフューザーの入口に発生する旋回流を利用して、
液体を旋回させ濡れ壁を形成するから、濡れ壁を安定に
形成することができ、安定した物質付着防止効果が得ら
れるエジェクタを提供できる。
【図１】従来のエジェクタの構成例を示す図である。
【図２】本発明に係るエジェクタの構成例を示す図であ
る。
る。
【図３】本発明に係るエジェクタの構成例を示す図であ
る。
る。
【図４】本発明に係るエジェクタの構成例を示す図であ
る。
る。
１ 吸引室 ２ ノズル ３ 被吸引流体導入管 ４ デフューザー ５ 駆動流体導入管 ６ 入口部 ７ スリット ８ 液体室 ９ 濡れ壁 １０ 液体導入管
Claims (4)
- 【請求項１】 吸引室、該吸引室に連通するノズル、被
吸引流体管及びデフューザーを具備し、前記ノズルから
前記デフューザーに向けて駆動流体を噴射することによ
り、前記吸引室に前記被吸引流体管を通して被吸引流体
を吸引すると共に、前記デフューザーを通して駆動流体
の流出力により被吸引流体を流出させるエジェクタにお
いて、 前記吸引室及び／又はデフューザー内壁に、液体による
濡れ壁を形成する濡れ壁形成手段を設けたことを特徴と
するエジェクタ。 - 【請求項２】 請求項１に記載のエジェクタにおいて、 前記濡れ壁形成手段で濡れ壁を形成する液体には、前記
吸引室やデフューザーの内壁面に付着する可能性のある
物質を溶解させる物質が含まれていることを特徴とする
エジェクタ。 - 【請求項３】 請求項１に記載のエジェクタにおいて、 前記濡れ壁形成手段で濡れ壁を形成する液体は、前記吸
引室やデフューザーの内壁面に付着する可能性のある物
質を溶解させる液体であることを特徴とするエジェク
タ。 - 【請求項４】 請求項１に記載のエジェクタにおいて、 前記駆動流体は気体であり、前記濡れ壁形成手段は前記
デフューザーの入口に発生する旋回流を利用して、濡れ
壁を安定に形成することを特徴とするエジェクタ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000244356A JP3908447B2 (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | エジェクタ |
| US09/924,554 US6682002B2 (en) | 2000-08-11 | 2001-08-09 | Ejector |
| DE60108570T DE60108570T2 (de) | 2000-08-11 | 2001-08-10 | Ejektor |
| KR1020010048319A KR100870482B1 (ko) | 2000-08-11 | 2001-08-10 | 이젝터 |
| TW090119576A TW552158B (en) | 2000-08-11 | 2001-08-10 | Ejector |
| EP01119358A EP1179682B1 (en) | 2000-08-11 | 2001-08-10 | Ejector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000244356A JP3908447B2 (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | エジェクタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002054600A true JP2002054600A (ja) | 2002-02-20 |
| JP3908447B2 JP3908447B2 (ja) | 2007-04-25 |
Family
ID=18735056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000244356A Expired - Lifetime JP3908447B2 (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | エジェクタ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6682002B2 (ja) |
| EP (1) | EP1179682B1 (ja) |
| JP (1) | JP3908447B2 (ja) |
| KR (1) | KR100870482B1 (ja) |
| DE (1) | DE60108570T2 (ja) |
| TW (1) | TW552158B (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002170777A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Kanken Techno Co Ltd | 排気装置 |
| JP2007526190A (ja) * | 2004-03-03 | 2007-09-13 | マリキャップ オーワイ | 材料を搬送する方法及び装置 |
| JP2009518256A (ja) * | 2005-12-07 | 2009-05-07 | マリキャップ オーワイ | 材料を搬送する方法及び装置並びにエジェクタ装置 |
| JP2011257114A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Mitsubishi Heavy Industries Environmental & Chemical Engineering Co Ltd | 溶融設備 |
| JP2014240749A (ja) * | 2014-08-27 | 2014-12-25 | 三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社 | 溶融設備 |
| CN111350699A (zh) * | 2019-09-27 | 2020-06-30 | 日扬科技股份有限公司 | 长效型自清洁负压射流管 |
| JP2021053616A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | 日揚科技股▲分▼有限公司 | 自己洗浄機能を有する負圧ジェットチューブ |
| CN112943711A (zh) * | 2021-01-29 | 2021-06-11 | 中海石油(中国)有限公司深圳分公司 | 一种用于排放单点动密封槽积液的喷射泵和排液方法 |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2141120A1 (en) * | 2004-04-19 | 2010-01-06 | SDC Materials, LLC | High throughput discovery of materials through vapor phase synthesis |
| US7347345B2 (en) * | 2004-06-02 | 2008-03-25 | Nestec S.A. | Device and method for hygienically delivering a liquid food |
| CA2583486C (en) * | 2004-10-08 | 2016-02-09 | Sdc Materials, Llc | An apparatus for and method of sampling and collecting powders flowing in a gas stream |
| US7562793B2 (en) * | 2005-02-08 | 2009-07-21 | Nestec S.A. | Dispensing device with self-cleaning nozzle |
| WO2008140785A1 (en) * | 2005-04-19 | 2008-11-20 | Sdc Materials, Inc. | Water cooling system and heat transfer system |
| NZ549455A (en) * | 2006-08-24 | 2009-03-31 | Jet Stick Ltd | Air amplifier with centered slot pressure inlet |
| US8575059B1 (en) | 2007-10-15 | 2013-11-05 | SDCmaterials, Inc. | Method and system for forming plug and play metal compound catalysts |
| KR100963852B1 (ko) * | 2008-03-31 | 2010-06-16 | 대 규 이 | 탈취처리기의 이젝터 배출장치 |
| USD627900S1 (en) | 2008-05-07 | 2010-11-23 | SDCmaterials, Inc. | Glove box |
| US8470112B1 (en) | 2009-12-15 | 2013-06-25 | SDCmaterials, Inc. | Workflow for novel composite materials |
| US9126191B2 (en) | 2009-12-15 | 2015-09-08 | SDCmaterials, Inc. | Advanced catalysts for automotive applications |
| US8545652B1 (en) | 2009-12-15 | 2013-10-01 | SDCmaterials, Inc. | Impact resistant material |
| US8803025B2 (en) | 2009-12-15 | 2014-08-12 | SDCmaterials, Inc. | Non-plugging D.C. plasma gun |
| EP2512656A4 (en) * | 2009-12-15 | 2014-05-28 | Sdcmaterails Inc | IMPROVED CATALYSTS FOR FINE CHEMISTRY AND PHARMACEUTICAL APPLICATIONS |
| US8557727B2 (en) * | 2009-12-15 | 2013-10-15 | SDCmaterials, Inc. | Method of forming a catalyst with inhibited mobility of nano-active material |
| US8652992B2 (en) | 2009-12-15 | 2014-02-18 | SDCmaterials, Inc. | Pinning and affixing nano-active material |
| US9119309B1 (en) | 2009-12-15 | 2015-08-25 | SDCmaterials, Inc. | In situ oxide removal, dispersal and drying |
| US9149797B2 (en) * | 2009-12-15 | 2015-10-06 | SDCmaterials, Inc. | Catalyst production method and system |
| JP5774681B2 (ja) | 2010-05-07 | 2015-09-09 | エーエルピーエス エルエルシー | 吐出装置用の弁及び方法 |
| US8669202B2 (en) | 2011-02-23 | 2014-03-11 | SDCmaterials, Inc. | Wet chemical and plasma methods of forming stable PtPd catalysts |
| JP2014524352A (ja) | 2011-08-19 | 2014-09-22 | エスディーシーマテリアルズ， インコーポレイテッド | 触媒作用および触媒コンバータに使用するための被覆基材ならびにウォッシュコート組成物で基材を被覆する方法 |
| JP2013251509A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Tokyo Electron Ltd | 基板検査装置 |
| US9156025B2 (en) | 2012-11-21 | 2015-10-13 | SDCmaterials, Inc. | Three-way catalytic converter using nanoparticles |
| US9511352B2 (en) | 2012-11-21 | 2016-12-06 | SDCmaterials, Inc. | Three-way catalytic converter using nanoparticles |
| EP3024571B1 (en) | 2013-07-25 | 2020-05-27 | Umicore AG & Co. KG | Washcoats and coated substrates for catalytic converters |
| KR101558356B1 (ko) | 2013-09-16 | 2015-10-08 | 현대자동차 주식회사 | 이젝터를 구비한 연료전지 시스템 |
| CN106061600A (zh) | 2013-10-22 | 2016-10-26 | Sdc材料公司 | 用于重型柴油机的催化剂设计 |
| WO2015061482A1 (en) | 2013-10-22 | 2015-04-30 | SDCmaterials, Inc. | Compositions of lean nox trap |
| US9687811B2 (en) | 2014-03-21 | 2017-06-27 | SDCmaterials, Inc. | Compositions for passive NOx adsorption (PNA) systems and methods of making and using same |
| JP6287890B2 (ja) * | 2014-09-04 | 2018-03-07 | 株式会社デンソー | 液噴射エジェクタ、およびエジェクタ式冷凍サイクル |
| KR101692347B1 (ko) * | 2015-04-17 | 2017-01-03 | 주식회사 에스엠뿌레 | 분무기 및 분무조절장치 |
| TWI598087B (zh) * | 2015-09-09 | 2017-09-11 | 志勇無限創意有限公司 | 可擴充功能的吹風裝置、擴充裝置以及運作方法 |
| IT201700056218A1 (it) * | 2017-05-24 | 2018-11-24 | Piergiacomo Ferrari | Dispositivo eiettore particolarmente per unità gonfiabili. |
| KR20200072935A (ko) | 2018-12-13 | 2020-06-23 | 한국에너지기술연구원 | 가변 멀티 이젝터 |
| US11408380B2 (en) | 2020-12-24 | 2022-08-09 | Dayco Ip Holdings, Llc | Devices for producing vacuum using the Venturi effect having a hollow fletch |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT343339B (de) | 1975-06-11 | 1978-05-26 | Arge Nassbetonspritzen | Betonspritzmaschine |
| FR2384140A1 (fr) | 1977-03-16 | 1978-10-13 | Commissariat Energie Atomique | Ejecteur de pompage |
| US4543900A (en) | 1982-05-21 | 1985-10-01 | Omnithruster, Inc. | Shipboard ice lubrication system and jet pump for use therein |
| US4673335A (en) | 1984-05-21 | 1987-06-16 | Helios Research Corp. | Gas compression with hydrokinetic amplifier |
| JPH0727100A (ja) * | 1993-07-05 | 1995-01-27 | Fuji Electric Co Ltd | エゼクタの洗浄及び清掃装置 |
| US5960887A (en) * | 1996-12-16 | 1999-10-05 | Williams Fire & Hazard Control, Inc. | By-pass eductor |
| US5915592A (en) * | 1997-10-21 | 1999-06-29 | Ecolab Inc. | Method and apparatus for dispensing a use solution |
-
2000
- 2000-08-11 JP JP2000244356A patent/JP3908447B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-08-09 US US09/924,554 patent/US6682002B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-10 DE DE60108570T patent/DE60108570T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-10 KR KR1020010048319A patent/KR100870482B1/ko active IP Right Grant
- 2001-08-10 TW TW090119576A patent/TW552158B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-08-10 EP EP01119358A patent/EP1179682B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002170777A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Kanken Techno Co Ltd | 排気装置 |
| JP2007526190A (ja) * | 2004-03-03 | 2007-09-13 | マリキャップ オーワイ | 材料を搬送する方法及び装置 |
| JP2007526191A (ja) * | 2004-03-03 | 2007-09-13 | マリキャップ オーワイ | 材料を搬送する方法及び装置 |
| JP4909257B2 (ja) * | 2004-03-03 | 2012-04-04 | マリキャップ オーワイ | 材料を搬送する方法及び装置 |
| JP2009518256A (ja) * | 2005-12-07 | 2009-05-07 | マリキャップ オーワイ | 材料を搬送する方法及び装置並びにエジェクタ装置 |
| JP2011257114A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Mitsubishi Heavy Industries Environmental & Chemical Engineering Co Ltd | 溶融設備 |
| JP2014240749A (ja) * | 2014-08-27 | 2014-12-25 | 三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社 | 溶融設備 |
| CN111350699A (zh) * | 2019-09-27 | 2020-06-30 | 日扬科技股份有限公司 | 长效型自清洁负压射流管 |
| JP2021053616A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | 日揚科技股▲分▼有限公司 | 自己洗浄機能を有する負圧ジェットチューブ |
| CN112943711A (zh) * | 2021-01-29 | 2021-06-11 | 中海石油(中国)有限公司深圳分公司 | 一种用于排放单点动密封槽积液的喷射泵和排液方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20020013782A (ko) | 2002-02-21 |
| EP1179682A3 (en) | 2002-06-12 |
| KR100870482B1 (ko) | 2008-11-25 |
| US20020030121A1 (en) | 2002-03-14 |
| DE60108570D1 (de) | 2005-03-03 |
| EP1179682A2 (en) | 2002-02-13 |
| DE60108570T2 (de) | 2006-05-11 |
| EP1179682B1 (en) | 2005-01-26 |
| TW552158B (en) | 2003-09-11 |
| JP3908447B2 (ja) | 2007-04-25 |
| US6682002B2 (en) | 2004-01-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002054600A (ja) | エジェクタ | |
| KR100474957B1 (ko) | 세정용 2유체 분사 노즐, 세정 장치 및 이들을 이용한반도체 장치의 제조 방법 | |
| KR101136278B1 (ko) | 마이크로 버블 생성 장치 및 실리콘 웨이퍼 세정 장치 | |
| JP6718566B1 (ja) | 排ガス除害ユニット | |
| JPH11179265A (ja) | 滴下防止装置 | |
| JP5404545B2 (ja) | エッチング装置 | |
| WO2015022732A1 (ja) | ノズル、洗浄装置及び洗浄方法 | |
| CN114405072A (zh) | 一种适用于化学品蚀刻用的喷淋系统 | |
| KR20050096979A (ko) | 기화기 및 원료용액의 기화방법과 기화기의 세정방법 | |
| JP2007059416A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR101976798B1 (ko) | 스팀 재사용 노즐 | |
| US9512518B2 (en) | Apparatus for treating a gas stream | |
| US6299723B1 (en) | Anti-airlock apparatus for filters | |
| KR100548639B1 (ko) | 흡입모듈이 구비된 세정장치 및 그를 이용한 세정방법 | |
| CN208478292U (zh) | 药液泄漏防止装置 | |
| TW202023675A (zh) | 排氣導入噴嘴、水處理裝置、及排氣處理裝置 | |
| TWI686234B (zh) | 多管式微氣泡廢氣處理裝置 | |
| JP5795157B2 (ja) | スクラバー | |
| KR102120705B1 (ko) | 일체형 국소 노즐을 이용한 케미컬 퓸 제거장치 | |
| KR102681953B1 (ko) | 약액 누설 방지 장치 및 약액 누설 방지 방법 | |
| KR200210393Y1 (ko) | 액체 이젝터 장치 | |
| KR970006782Y1 (ko) | 이젝터(ejector) | |
| JPH10270418A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2004313954A (ja) | 洗浄装置 | |
| KR100386252B1 (ko) | 배기환류 진공청소기의 평판형 이젝터 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060907 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060919 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061120 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061120 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070116 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070118 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3908447 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100126 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140126 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |