JP2002049054A - Liquid crystal device, method for manufacturing the same and electronic instrument - Google Patents

Liquid crystal device, method for manufacturing the same and electronic instrument

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JP2002049054A
JP2002049054A JP2001103501A JP2001103501A JP2002049054A JP 2002049054 A JP2002049054 A JP 2002049054A JP 2001103501 A JP2001103501 A JP 2001103501A JP 2001103501 A JP2001103501 A JP 2001103501A JP 2002049054 A JP2002049054 A JP 2002049054A
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liquid crystal
wiring
crystal device
film
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Manabu Hanakawa
学 花川
Shoji Hiuga
章二 日向
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress wiring resistance for packaging low in a liquid crystal display device. SOLUTION: The liquid crystal display device is constructed by sticking substrates 200, 300 together via a sealant 110 leaving a specified gap in between and by enclosing a liquid crystal 160 in the gap. Among the substrates, a transparent common electrode 214 is formed on a confronted surface of the substrate 200 and on the other hand, a segment electrode 314 is formed on a confronted surface of the substrate 300. Among the electrodes, the common electrode 214 is connected to wiring 350 formed on the substrate 300 via conductive particles 114 mixed in the sealant 110. The wiring 350 is made of a laminated film of a transparent conductive film 354 composed of the same conductive layer as the segment electrode 314 and a low resistance conductive film 352 composed of chromium or the like which is a material with lower resistance than the low resistance conductive film 352 is formed staying away from the part to which the conductive particles 114 are connected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線抵抗の低減を
図った液晶装置、その製造方法および該液晶装置を表示
部に用いた電子機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device with reduced wiring resistance, a method of manufacturing the same, and an electronic apparatus using the liquid crystal device for a display.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、液晶表示装置は、CRT
(陰極線管)を用いた表示装置に比べて、重量や消費電
力などにおいて優れているので、特に、携帯性が要求さ
れる電子機器の表示部として広く用いられている。ここ
で、液晶表示装置は、一般には、2枚の基板が電極形成
面を互いに対向させて一定の間隙を保って貼り合わせら
れるとともに、該間隙に液晶が挟持された構成となって
いるが、駆動方式で大別すると、スイッチング素子で液
晶を駆動するアクティブマトリクス型と、スイッチング
素子を用いないで液晶を駆動するパッシブマトリクス型
との2タイプに大別することができる。さらに、前者の
アクティブマトリクス型は、スイッチング素子として、
薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)な
どの3端子型素子を用いる型と、薄膜ダイオード(TF
D:Thin Film Diode)などの2端子型素子を用いる型
とに分類することができる。
2. Description of the Related Art As is well known, a liquid crystal display device is a CRT.
Compared to a display device using a (cathode ray tube), the display device is superior in weight, power consumption, and the like. Here, the liquid crystal display device generally has a configuration in which two substrates are bonded to each other with their electrode forming surfaces facing each other with a certain gap therebetween, and a liquid crystal is sandwiched in the gap. Driving methods can be broadly classified into two types: an active matrix type in which liquid crystal is driven by a switching element, and a passive matrix type in which liquid crystal is driven without using a switching element. Furthermore, the former active matrix type is used as a switching element.
A type using a three-terminal element such as a thin film transistor (TFT) and a thin film diode (TF)
D: Thin film diode) or the like using a two-terminal element.

【0003】ここで、アクティブマトリクス型のうちス
イッチング素子にTFD素子を用いた型や、単なるパッ
シブマトリクス型では、一方の基板に走査線(コモン電
極)が、他方の基板にデータ線(セグメント電極)が、
それぞれ形成される構成となる。したがって、これらの
型では、2枚の基板に対してそれぞれ1枚ずつFPC基
板を接合して、走査信号(コモン信号)およびデータ信
号(セグメント信号)をそれぞれ供給する必要があるの
で、接合工程の複雑化や高コスト化等の問題を引き起こ
す。そこで、これらの型にあっては、他方の基板に形成
される配線または電極を、導通材を介し一方の基板に形
成された配線に接続する構成として、すなわち、他方の
基板に形成される配線または電極のすべてを一方の基板
に寄せる構成として、当該一方の基板のみに1枚のFP
C基板を接合する技術が提案されている。
In the active matrix type using a TFD element as a switching element or the passive matrix type, a scanning line (common electrode) is provided on one substrate and a data line (segment electrode) is provided on the other substrate. But,
It is a configuration formed respectively. Therefore, in these types, it is necessary to bond the FPC boards one by one to the two boards and supply the scanning signal (common signal) and the data signal (segment signal), respectively. This causes problems such as complexity and high cost. Therefore, in these types, the wiring or the electrode formed on the other substrate is connected to the wiring formed on the one substrate through a conductive material, that is, the wiring formed on the other substrate is connected. Alternatively, a configuration in which all of the electrodes are moved to one substrate, and one FP is
Techniques for joining C substrates have been proposed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記技
術において、一方の基板に形成される配線は、当該一方
の基板において、液晶に電圧を印加するための透明電極
と同一の材料が用いられる。ここで、この種の透明電極
の材料には、一般には、ITO(Indium Tin Oxide)が
用いられるが、この透明導電材料の面積抵抗率は、一般
的な金属と比較して高い。このため、このような透明導
電材料を、表示領域以外における接続配線として用いる
と、その抵抗が必然的に高くなり、表示品位に悪影響を
及ぼす、といった問題があった。
However, in the above technique, the wiring formed on one substrate uses the same material as the transparent electrode for applying a voltage to the liquid crystal on the one substrate. Here, in general, ITO (Indium Tin Oxide) is used as a material of this kind of transparent electrode, but the sheet resistivity of this transparent conductive material is higher than that of a general metal. For this reason, when such a transparent conductive material is used as a connection wiring in a region other than the display region, there is a problem that the resistance is inevitably increased and the display quality is adversely affected.

【0005】特に、近年では、液晶パネルとFPC基板
との接続点数を低減させるために、液晶パネルのガラス
基板に、走査線(コモン電極)やデータ線(セグメント
電極)を駆動するためのドライバICを実装する場合が
ある。このような場合、当該ドライバICには、各種の
制御信号やクロック信号を供給する必要があるが、FP
C基板から当該ドライバICまでの配線に上記透明導電
材料を用いると、配線抵抗が高くなってその時定数が大
きくなる結果、波形鈍化や振幅減少等が発生して、動作
マージンが狭くなる、といった問題も発生する。
Particularly, in recent years, in order to reduce the number of connection points between the liquid crystal panel and the FPC board, a driver IC for driving scanning lines (common electrodes) and data lines (segment electrodes) is mounted on the glass substrate of the liquid crystal panel. May be implemented. In such a case, it is necessary to supply various control signals and clock signals to the driver IC.
When the above-mentioned transparent conductive material is used for the wiring from the C substrate to the driver IC, the wiring resistance increases and the time constant increases, resulting in waveform dulling, amplitude reduction, and the like, resulting in a narrow operation margin. Also occur.

【0006】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、基板に形成される配
線抵抗を低減した液晶装置、その製造方法および該液晶
装置を表示部に用いた電子機器を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a liquid crystal device having reduced wiring resistance formed on a substrate, a method of manufacturing the same, and a method of using the liquid crystal device for a display unit. Electronic equipment.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明の一つの
形態に係る液晶装置は、第1の基板と第2の基板とが対
向して配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との
間隙に液晶が封入された液晶装置であって、前記第1の
基板に設けられた第1の透明電極と、前記第2の基板に
設けられた第1の配線と、前記第1の透明電極と前記第
1の配線とを接続する導通材とを備え、前記第1の配線
は、金属酸化物膜と、前記金属酸化物膜よりも抵抗値の
低い導電膜とを含む構成を特徴としている。この構成に
よれば、第1の配線は、化学的に安定な金属酸化物膜
と、これよりも抵抗値が低いが、化学的に不安定な導電
膜との積層膜から構成されるので、いずれかの単独層か
らなる場合と比較して、配線の低抵抗化及び安定化が図
られる。ここで、導通材は、プラスティック等の非導電
性粒子の表面に金(A u)などの金属を被覆したものか
らなるが、この被覆金属との密着性は、金属酸化物膜の
方が一般的に良好である。このため、上記構成におい
て、第1の配線のうち、前記導電膜は、前記導通材との
接続部分を避けて形成されていることが好ましい。ま
た、上記構成においては、前記第2の基板に設けられ、
前記液晶を駆動するためのドライバICを、さらに有
し、前記ドライバICは、信号を供給する出力側バンプ
を含み、前記出力側バンプは、前記第1の配線に接続さ
れて、前記導電膜は、前記ドライバICとの接続部分を
避けて形成されていることも好ましい。このように、第
1の配線、導通材および第1の透明電極を介して、液晶
を駆動するドライバICを第2の基板に実装すると、外
部との接続点数を減らすことも可能となる。また、ドラ
イバICを配線に接合する際、接着材中に導電性粒子を
分散させたものが用いられるが、この導電性粒子は、上
記導通材と同様に、プラスティック等の非導電性粒子の
表面に金(Au)などの金属を被覆したものからなる。こ
のため、ドライバICとの接続部分を避けて導電膜を形
成すれば、金属酸化物膜と導通材の被服金属とが接触す
ることとなり、密着性が向上する。
Therefore, in a liquid crystal device according to one aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and the first substrate and the second substrate A liquid crystal device in which liquid crystal is sealed in a gap between the substrate and a first transparent electrode provided on the first substrate; a first wiring provided on the second substrate; A conductive material for connecting the transparent electrode and the first wiring, wherein the first wiring includes a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance than the metal oxide film. Features. According to this structure, the first wiring is composed of a stacked film of a chemically stable metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value but a chemically unstable property. The resistance and the stability of the wiring can be reduced as compared with the case where any one of the single layers is used. Here, the conductive material is formed by coating a metal such as gold (Au) on the surface of non-conductive particles such as plastic, but the metal oxide film generally has better adhesion to the coated metal. Good. For this reason, in the above structure, it is preferable that, in the first wiring, the conductive film is formed so as not to be connected to the conductive material. Further, in the above-mentioned configuration, provided on the second substrate,
A driver IC for driving the liquid crystal, the driver IC including an output-side bump for supplying a signal, wherein the output-side bump is connected to the first wiring; It is also preferable that they are formed so as not to be connected to the driver IC. As described above, when the driver IC for driving the liquid crystal is mounted on the second substrate via the first wiring, the conductive material, and the first transparent electrode, the number of connection points to the outside can be reduced. When the driver IC is bonded to the wiring, a conductive particle dispersed in an adhesive is used. This conductive particle is, like the conductive material, a surface of non-conductive particles such as plastic. And a metal such as gold (Au). For this reason, if the conductive film is formed avoiding the connection portion with the driver IC, the metal oxide film comes into contact with the coating metal of the conductive material, and the adhesion is improved.

【0008】また、上記構成において、前記第2の基板
に設けられ、金属酸化物膜と、前記金属酸化物膜よりも
抵抗値の低い導電膜とを含む第2の配線と、前記第2の
基板に設けられ、前記液晶を駆動するためのドライバI
Cとをさらに有し、前記ドライバICは、信号を入力す
る入力側バンプを含み、前記入力側バンプは、前記第2
の配線に接続されて、前記第2の配線に含まれる導電膜
は、前記ドライバICとの接続部分を避けて形成されて
いることも好ましい。こうすると、第2の配線は、化学
的に安定な金属酸化物膜と、これよりも抵抗値が低い
が、化学的に不安定な導電膜との積層膜から構成される
ので、いずれかの単独層からなる場合と比較して、配線
の低抵抗化が図られる。このため、信号が、低抵抗され
た第2の配線を介して、液晶を駆動するドライバICに
供給されるので、電圧降下等の影響を小さくを抑えるこ
とができる。また、ドライバICとの接続部分では、低
抵抗の導電膜を避けて金属酸化物膜にすると、導通材の
被服金属との密着性を向上させることも可能となる。
In the above structure, a second wiring provided on the second substrate and including a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value than the metal oxide film; A driver I provided on the substrate for driving the liquid crystal;
C, wherein the driver IC includes an input-side bump for inputting a signal, and the input-side bump includes the second bump.
It is also preferable that the conductive film connected to the second wiring and included in the second wiring is formed so as to avoid a connection portion with the driver IC. In this case, the second wiring is composed of a laminated film of a chemically stable metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value but a chemically unstable property. The resistance of the wiring can be reduced as compared with the case of a single layer. For this reason, the signal is supplied to the driver IC for driving the liquid crystal through the low-resistance second wiring, so that the influence of a voltage drop or the like can be suppressed. Further, when a metal oxide film is formed at the connection portion with the driver IC, avoiding the conductive film having a low resistance, it is possible to improve the adhesion between the conductive material and the coating metal.

【0009】ここで、第2に基板に、第2の配線および
ICドライバを有する液晶装置では、前記第2の基板の
一辺側に設けられ、前記第1の基板とは重なり合わない
第1の張り出し領域と、前記第2の基板にあって、前記
一辺と交差する辺側に設けられ、前記第1の基板とは重
なり合わない第2の張り出し領域とを有し、前記ドライ
バICは、前記第1の張り出し領域に設けられ、前記第
2の配線は、前記第1の張り出し領域、および、第2の
張り出し領域の双方にわたって設けられている態様が好
ましい。さらに、この態様では、前記第2の配線に、前
記第2の張り出し領域にて接続される外部回路基板をさ
らに有し、前記第2の配線に含まれる導電膜は、前記外
部回路基板との接続部分を避けて形成されていることが
望ましい。こうすると、ICドライバには、外部回路基
板から、低抵抗化された第2の配線を介して信号を供給
することが可能となる。
In the liquid crystal device having the second wiring and the IC driver on the second substrate, the first substrate is provided on one side of the second substrate and does not overlap with the first substrate. An overhanging area, and a second overhanging area provided on a side of the second substrate that intersects with the one side and does not overlap with the first substrate. It is preferable that the second wiring is provided in the first overhanging region, and is provided over both the first overhanging region and the second overhanging region. Further, in this aspect, the semiconductor device further includes an external circuit board connected to the second wiring at the second overhang region, and a conductive film included in the second wiring is provided on the external circuit board. It is desirable that the connecting portion is formed so as to avoid the connecting portion. In this case, it is possible to supply a signal to the IC driver from the external circuit board via the low-resistance second wiring.

【0010】また、上記構成において、前記第2の基板
に設けられた第2の透明電極と、前記第2の透明電極に
接続されるドライバICとを含むことも好ましい。こう
すると、第2の透明電極は、ドライバICによって信号
が供給されることになる。ここで、第2に基板に、第2
の透明電極およびICドライバを含む液晶装置では、前
記第2の基板に設けられ、金属酸化物膜と、前記金属酸
化物膜よりも抵抗値の低い導電膜とを含み、前記ドライ
バICに接続される第2の配線と、前記第2の基板の一
辺側に設けられ、前記第1の基板とは重なり合わない第
1の張り出し領域と、前記第2の基板にあって、前記一
辺と交差する辺側に設けられ、前記第1の基板とは重な
り合わない第2の張り出し領域とを有し、前記ドライバ
ICは、前記第2の配線から信号を入力する入力側バン
プを含み、かつ、前記第1の張り出し領域に設けられ、
前記第2の配線は、前記第1の張り出し領域、および、
第2の張り出し領域の双方にわたって設けられている態
様が好ましい。この態様では、第2の配線は、化学的に
安定な金属酸化物膜と、これよりも抵抗値が低いが、化
学的に不安定な導電膜との積層膜から構成されるので、
いずれかの単独層からなる場合と比較して、配線の低抵
抗化及び安定化が図られる。このため、信号が、低抵抗
された第2の配線を介してドライバICに供給されるの
で、電圧降下等の影響を小さくを抑えることができる。
さらに、この態様では、前記第2の配線に含まれる導電
膜は、前記ドライバICとの接続部分を避けて形成され
ていることが望ましい。ドライバICとの接続部分で
は、低抵抗の導電膜を避けて金属酸化物膜にすると、導
通材の被服金属との密着性を向上させることも可能とな
る。そして、本発明の一つの形態における電子機器は、
上記液晶装置を備えるので、配線抵抗が低減される結
果、表示品位に悪影響を及ぼしたり、駆動回路の動作マ
ージンが狭くなったりすることが防止される。
[0010] Further, in the above configuration, it is preferable that a second transparent electrode provided on the second substrate and a driver IC connected to the second transparent electrode be included. In this case, a signal is supplied to the second transparent electrode by the driver IC. Here, second, the second substrate
In the liquid crystal device including the transparent electrode and the IC driver, the liquid crystal device is provided on the second substrate, includes a metal oxide film, and a conductive film having a lower resistance value than the metal oxide film, and is connected to the driver IC. A second wiring, a first overhanging region provided on one side of the second substrate and not overlapping the first substrate, and intersecting the one side on the second substrate. A second overhanging region provided on the side and not overlapping the first substrate, wherein the driver IC includes an input-side bump for inputting a signal from the second wiring, and Provided in the first overhang region,
The second wiring includes the first overhang region, and
A mode provided over both of the second overhanging regions is preferable. In this embodiment, the second wiring is formed of a laminated film of a chemically stable metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value but a chemically unstable property.
As compared with the case where one of the single layers is used, the resistance and the stability of the wiring are reduced. For this reason, the signal is supplied to the driver IC via the low-resistance second wiring, so that the influence of a voltage drop or the like can be suppressed.
Further, in this aspect, it is preferable that the conductive film included in the second wiring is formed so as not to be connected to the driver IC. If a metal oxide film is formed at the connection portion with the driver IC so as to avoid the low-resistance conductive film, it is possible to improve the adhesion of the conductive material to the coating metal. The electronic device according to one embodiment of the present invention includes:
Since the liquid crystal device is provided, the wiring resistance is reduced, thereby preventing the display quality from being adversely affected and the operation margin of the drive circuit from being reduced.

【0011】一方、本発明の一つの形態に係る液晶装置
は、第1の基板と第2の基板とが対向して配置され、前
記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液晶が封入さ
れた液晶装置であって、前記第1の基板に設けられた第
1の透明電極と、前記第2の基板に設けられた第1の配
線と、前記第1の透明電極と前記第1の配線とを接続す
る導通材と、前記第2の基板に設けられた第2の透明電
極と、前記第2の基板に設けられ、前記第2の透明電極
に接続される第2の配線とを備え、前記第1または第2
の配線の少なくとも一方は、金属酸化物膜と、前記金属
酸化物膜よりも抵抗値の低い導電膜とを含む構成を特徴
としている。この構成によれば、第1および第2の配線
は、ともに第2の基板に寄せられるので、外部との接続
が容易となる。さらに、第1または第2の配線の少なく
とも一方は、化学的に安定な金属酸化物膜と、これより
も抵抗値が低いが、化学的に不安定な導電膜との積層膜
から構成されるので、いずれかの単独層からなる場合と
比較して、配線の低抵抗化及び安定化が図られる。この
構成においては、前記第2の基板に設けられ、前記液晶
を駆動するためのドライバICを、さらに有し、前記ド
ライバICは、信号を供給する出力側バンプを含み、前
記出力側バンプは、前記第1または第2の配線に接続さ
れていることが好ましい。このように、第1または第2
の配線に接続されるドライバICを第2の基板に実装す
ると、外部との接続点数を減らすことも可能となる。ま
た、この構成において、前記第1およびは第2の配線に
それぞれ信号を供給する外部回路基板をさらに有するこ
とも好ましい。こうすると、前記第1およびは第2の配
線には、外部回路基板から信号がそれぞれ供給されるの
で、第2の基板にICドライバを実装する必要がなくな
る。
On the other hand, in a liquid crystal device according to one embodiment of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is provided in a gap between the first substrate and the second substrate. Is a liquid crystal device in which a first transparent electrode provided on the first substrate, a first wiring provided on the second substrate, the first transparent electrode, and the first transparent electrode are provided. A conductive material for connecting the first wiring, a second transparent electrode provided on the second substrate, and a second wiring provided on the second substrate and connected to the second transparent electrode And the first or second
At least one of the wirings is characterized by including a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value than the metal oxide film. According to this configuration, both the first and second wirings are brought to the second substrate, so that connection to the outside is facilitated. Further, at least one of the first and second wirings is formed of a laminated film of a chemically stable metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value but being chemically unstable. Therefore, the resistance and the stability of the wiring can be reduced as compared with the case where any one of the single layers is used. In this configuration, the semiconductor device further includes a driver IC provided on the second substrate for driving the liquid crystal, the driver IC including an output-side bump for supplying a signal, and the output-side bump being: Preferably, it is connected to the first or second wiring. Thus, the first or second
When the driver IC connected to the wiring is mounted on the second substrate, the number of connection points with the outside can be reduced. Further, in this configuration, it is preferable to further include an external circuit board for supplying a signal to each of the first and second wirings. In this case, since signals are supplied to the first and second wirings from the external circuit board, it is not necessary to mount an IC driver on the second board.

【0012】また、本発明の一つの形態に係る液晶装置
は、第1の基板と第2の基板とが対向して配置され、前
記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液晶が封入さ
れた液晶装置であって、前記第2の基板の一辺側に設け
られ、前記第1の基板とは重なり合わない第1の張り出
し領域と、前記第2の基板にあって、前記一辺と交差す
る辺側に設けられ、前記第1の基板とは重なり合わない
第2の張り出し領域と、前記第1の張り出し領域、およ
び、第2の張り出し領域の双方にわたって設けられる配
線とを備え、前記配線は、金属酸化物膜と、前記金属酸
化物膜よりも抵抗値の低い導電膜とを含む構成を特徴と
している。この構成によれば、配線は、化学的に安定な
金属酸化物膜と、これよりも抵抗値の低い導電膜との積
層膜から構成されるので、第1および第2の張り出し領
域の双方にわたって設けられる場合であっても、配線の
低抵抗化が図られる。
Further, in a liquid crystal device according to one aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is provided in a gap between the first substrate and the second substrate. Wherein the first substrate is provided on one side of the second substrate and does not overlap with the first substrate; A second overhanging region provided on the side intersecting with the first substrate and not overlapping the first substrate, and a wiring provided over both the first overhanging region and the second overhanging region, The wiring is characterized by including a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value than the metal oxide film. According to this configuration, since the wiring is formed of a laminated film of a chemically stable metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value, the wiring extends over both the first and second overhanging regions. Even if it is provided, the resistance of the wiring can be reduced.

【0013】さらにまた、本発明の一つの形態に係る液
晶装置は、第1の基板と第2の基板とが対向して配置さ
れ、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液晶が
封入された液晶装置であって、前記第1の基板に設けら
れた複数の第1の透明電極と、相隣接する前記第1の透
明電極の間に、前記第1の透明電極とは非導通に設けら
れた導電性の遮光膜と、前記第1の基板に設けられ、前
記第1の透明電極に接続される配線とを備え、前記配線
は、前記第1の透明電極と実質的に同一の層と、前記遮
光膜と実質的に同一の層とを含む構成を特徴としてい
る。この構成では、第1の基板において遮光膜に用いら
れる層が、積層配線のうち、低抵抗の導電層を兼ねるの
で、特別な工程を追加することなく、配線の低抵抗化を
図ることが可能になる。
Further, in a liquid crystal device according to one aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a gap between the first substrate and the second substrate is provided. A liquid crystal device in which liquid crystal is sealed, wherein a plurality of first transparent electrodes provided on the first substrate and the first transparent electrode adjacent to each other are provided with the first transparent electrode. A conductive light-blocking film provided in a non-conductive manner, and a wiring provided on the first substrate and connected to the first transparent electrode, wherein the wiring is substantially connected to the first transparent electrode. And a layer including substantially the same layer as the light-shielding film. In this configuration, the layer used as the light-shielding film in the first substrate also serves as a low-resistance conductive layer in the stacked wiring, so that the wiring can have low resistance without adding a special process. become.

【0014】一方、本発明の一つの形態に係る液晶装置
は、第1の基板と第2の基板とが対向して配置され、前
記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液晶が封入さ
れた液晶装置であって、前記第1の基板に設けられた複
数の第1の透明電極と、相隣接する前記第1の透明電極
の間に、前記第1の透明電極とは非導通に設けられた導
電性の遮光膜と、前記第1の基板に設けられた配線と、
前記第2の基板に設けられた第2の透明電極と、前記配
線と第2の透明電極とを接続する導通材とを備え、前記
配線は、前記第1の透明電極と実質的に同一の層と、前
記遮光膜と実質的に同一の層とを含む構成を特徴として
いる。この構成では、第1の基板において遮光膜に用い
られる層が、積層配線のうち、低抵抗の導電層を兼ねる
ので、特別な工程を追加することなく、配線の低抵抗化
を図ることが可能になる。さらに、第2の基板に設けら
れる第2の透明電極は、第1の基板に設けられる配線
に、導通材により接続される。このため、外部とは、第
1の基板に対して接続するだけで済む。
On the other hand, in a liquid crystal device according to one embodiment of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is provided in a gap between the first substrate and the second substrate. Wherein the first transparent electrode is provided between the plurality of first transparent electrodes provided on the first substrate and the adjacent first transparent electrodes. A conductive light-shielding film provided in conduction, a wiring provided on the first substrate,
A second transparent electrode provided on the second substrate; and a conductive material for connecting the wiring and the second transparent electrode, wherein the wiring is substantially the same as the first transparent electrode. It is characterized by comprising a layer and a layer substantially the same as the light-shielding film. In this configuration, the layer used as the light-shielding film in the first substrate also serves as a low-resistance conductive layer in the stacked wiring, so that the wiring can have low resistance without adding a special process. become. Further, the second transparent electrode provided on the second substrate is connected to a wiring provided on the first substrate by a conductive material. For this reason, the outside only needs to be connected to the first substrate.

【0015】また、本発明の一つの形態に係る液晶装置
の製造方法は、第1の基板と第2の基板とが対向して配
置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液
晶が封入された液晶装置の製造方法であって、第1の透
明電極を、前記第1の基板に設ける工程と、第1前記第
2の基板に設けられた第1の配線と、前記第1の透明電
極と前記第1の配線とを接続する導通材とを備え、前記
第1の配線は、金属酸化物膜と、前記金属酸化物膜より
も抵抗値の低い導電膜とを含むこととしている。この方
法によれば、第1の配線は、化学的に安定な金属酸化物
膜と、これよりも抵抗値の低い導電膜との積層膜から構
成されるので、いずれかの単独層からなる場合と比較し
て、配線の低抵抗化が図られる。
Further, according to a method of manufacturing a liquid crystal device according to one aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and the first substrate and the second substrate are connected to each other. A method for manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed in a gap, comprising: providing a first transparent electrode on the first substrate; first wiring provided on the first and second substrates; A conductive material for connecting the first transparent electrode and the first wiring, wherein the first wiring includes a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance than the metal oxide film. It is to be included. According to this method, the first wiring is composed of a laminated film of a chemically stable metal oxide film and a conductive film having a lower resistance than the first wiring. As compared with, the resistance of the wiring is reduced.

【0016】さらにまた、本発明の一つの形態に係る液
晶装置の製造方法は、第1の基板と第2の基板とが対向
して置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙
に液晶が封入された液晶装置の製造方法であって、複数
の第1の透明電極を、前記第1の基板に設ける工程と、
相隣接する前記第1の透明電極の間に、導電性の遮光膜
を、前記第1の透明電極とは非導通に設ける工程と、前
記第1の透明電極に接続される配線を、前記第1の基板
に設ける工程とを備え、前記配線を、前記第1の透明電
極と実質的に同一の層と、前記遮光膜と実質的に同一の
層とを含んで形成することとしている。この方法では、
第1の基板において遮光膜に用いられる層が、積層配線
のうち、低抵抗の導電層を兼ねるので、特別な工程を追
加することなく、配線の低抵抗化を図ることが可能にな
る。
Still further, in a method of manufacturing a liquid crystal device according to one aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate are placed so as to face each other, and the first substrate and the second substrate are connected to each other. A method of manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed in a gap between the first and second substrates, wherein a plurality of first transparent electrodes are provided on the first substrate;
Providing a conductive light-shielding film between the adjacent first transparent electrodes in a non-conductive manner with the first transparent electrode; and forming a wiring connected to the first transparent electrode, A step of providing the wiring on one substrate, wherein the wiring is formed to include a layer substantially the same as the first transparent electrode and a layer substantially the same as the light-shielding film. in this way,
Since the layer used for the light-shielding film in the first substrate also serves as a low-resistance conductive layer in the stacked wiring, the resistance of the wiring can be reduced without adding a special step.

【0017】一方、本発明の一つの形態に係る液晶装置
の製造方法は、第1の基板と第2の基板とが対向して配
置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液
晶が封入された液晶装置の製造方法であって、複数の第
1の透明電極を、前記第1の基板に設ける工程と、相隣
接する前記第1の透明電極の間に、導電性の遮光膜を、
前記第1の透明電極とは非導通に設ける工程と、前記第
1の基板に設けた配線と、前記第2の基板に設けた第2
の透明電極とを導通材によって接続する工程とを備え、
前記配線を、前記第1の透明電極と実質的に同一の層
と、前記遮光膜と実質的に同一の層とを含んで形成する
こととしている。この方法では、特別な工程を追加する
ことなく、配線の低抵抗化を図ることが可能になり、さ
らに、外部とは、第1の基板に対して接続するだけで済
む。
On the other hand, in a method of manufacturing a liquid crystal device according to one embodiment of the present invention, a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and the first substrate and the second substrate are A method for manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed in a gap, comprising: providing a plurality of first transparent electrodes on the first substrate; Light shielding film,
A step of providing non-conduction with the first transparent electrode; a wiring provided on the first substrate; and a second wiring provided on the second substrate.
Connecting the transparent electrode with a conductive material,
The wiring is formed to include a layer substantially the same as the first transparent electrode and a layer substantially the same as the light-shielding film. According to this method, it is possible to reduce the resistance of the wiring without adding a special step, and further, it is only necessary to connect the outside to the first substrate.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】<第1実施形態>まず、本発明の第1実施
形態に係る液晶表示装置について説明する。この液晶表
示装置は、外光が十分ある場合には、反射型として機能
する一方、外光が不十分である場合には、バックライト
を点灯させることで、透過型として機能する、という、
半透過半反射型のものである。
<First Embodiment> First, a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention will be described. This liquid crystal display device functions as a reflective type when external light is sufficient, while it functions as a transmissive type by turning on a backlight when external light is insufficient.
It is of a transflective type.

【0020】<全体構成>ここで、図1は、この液晶表
示装置の液晶パネルの構成を示す斜視図である。なお、
この図では、液晶パネルの構成を判りやすくするため
に、観察者に対して背面側を、図において表側にして示
している。また、図2は、この液晶パネルをX方向に沿
って破断した場合の構成について、観察側を上側として
示す部分断面図である。このため、図1と図2とは、互
いに上下関係が逆となる点に留意されたい。
<Overall Configuration> FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of a liquid crystal panel of the liquid crystal display device. In addition,
In this figure, in order to make it easy to understand the configuration of the liquid crystal panel, the back side of the viewer is shown as the front side in the figure. FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the configuration in the case where the liquid crystal panel is broken along the X direction, with the observation side facing upward. For this reason, it should be noted that the vertical relationship between FIG. 1 and FIG. 2 is reversed.

【0021】これらの図に示されるように、液晶パネル
100は、観察側に位置する基板300と、その背面側
に位置して、観察側の基板300よりも一回り小さい基
板200とが、スペーサを兼ねる導電性粒子114の混
入されたシール材110によって一定の間隙を保って貼
り合わせられるとともに、この間隙に例えばTN(Twis
ted Nematic)型の液晶160が封入された構成となっ
ている。ここで、シール材110は、基板200の内周
縁に沿っていずれか一方の基板に形成されるが、液晶1
60を封入するために、その一部が開口している。この
ため、液晶の封入後に、その開口部分が封止材112に
よって封止されている。
As shown in these figures, the liquid crystal panel 100 is composed of a substrate 300 located on the observation side and a substrate 200 located on the back side thereof, which is slightly smaller than the substrate 300 on the observation side. The sealing material 110 mixed with the conductive particles 114 also serving as a bonding member is bonded with a certain gap kept therebetween, and for example, TN (Twis
In this configuration, a ted Nematic) type liquid crystal 160 is sealed. Here, the sealing material 110 is formed on one of the substrates along the inner peripheral edge of the substrate 200.
A portion is open for enclosing 60. For this reason, the opening portion is sealed with the sealing material 112 after the liquid crystal is sealed.

【0022】さて、背面側の基板(第1の基板)200
にあって、観察側の基板300との対向面には、複数の
コモン(走査)電極214が、X(行)方向に延在して
形成される一方、観察側の基板300にあって背面側の
基板200との対向面には、複数のセグメント(デー
タ)電極314が、Y(列)方向に延在して形成されて
いる。したがって、本実施形態では、コモン電極214
とセグメント電極314とが互いに交差する領域におい
て、両電極によって液晶160に電圧が印加されるの
で、この交差領域がサブ画素として機能することにな
る。
Now, the back side substrate (first substrate) 200
A plurality of common (scanning) electrodes 214 are formed extending in the X (row) direction on the surface facing the observation-side substrate 300, and A plurality of segment (data) electrodes 314 are formed to extend in the Y (column) direction on the surface facing the substrate 200 on the side. Therefore, in the present embodiment, the common electrode 214
Since a voltage is applied to the liquid crystal 160 by the two electrodes in a region where the and the segment electrode 314 intersect each other, the intersection region functions as a sub-pixel.

【0023】また、観察側の基板(第2の基板)300
の対向面にあって背面側の基板200から張り出した2
辺に相当する領域には、コモン電極214を駆動するた
めのドライバ(駆動回路)IC122、および、セグメ
ント電極314を駆動するためのドライバIC124
が、それぞれ後述するようにCOG(Chip On Glass)
技術により実装されている。さらに、この2辺のうち、
ドライバIC124が実装される領域の外側には、FP
C(Flexible Printed Circuit)基板150が接合され
ている。
Also, the substrate (second substrate) 300 on the observation side
2 protruding from the rear substrate 200 on the opposite surface of
In a region corresponding to the side, a driver (drive circuit) IC 122 for driving the common electrode 214 and a driver IC 124 for driving the segment electrode 314
However, as described later, COG (Chip On Glass)
Implemented by technology. Furthermore, of these two sides,
Outside the area where the driver IC 124 is mounted, FP
A C (Flexible Printed Circuit) substrate 150 is joined.

【0024】ここで、基板200に形成されたコモン電
極214は、シール材110に混入された導電性粒子1
14を介し、観察側の基板300に形成された配線(第
1の配線)350の一端に接続されている。一方、配線
350の他端は、ドライバIC122の出力側バンプに
接続されている。すなわち、観察側の基板300に実装
されるドライバIC122は、配線350、導電性粒子
114およびコモン電極214という経路を介して、背
面側の基板200に形成されたコモン電極214にコモ
ン信号を供給する構成となっている。なお、ドライバI
C122の入力側バンプとFPC基板150との間は、
配線(第2の配線)360により接続されている。
Here, the common electrode 214 formed on the substrate 200 corresponds to the conductive particles 1 mixed in the sealing material 110.
Through 14, it is connected to one end of a wiring (first wiring) 350 formed on the substrate 300 on the observation side. On the other hand, the other end of the wiring 350 is connected to an output-side bump of the driver IC 122. That is, the driver IC 122 mounted on the substrate 300 on the observation side supplies a common signal to the common electrode 214 formed on the substrate 200 on the back side via a path of the wiring 350, the conductive particles 114, and the common electrode 214. It has a configuration. The driver I
Between the input side bump of C122 and the FPC board 150,
They are connected by a wiring (second wiring) 360.

【0025】一方、観察側の基板300に形成されたセ
グメント電極314は、そのままシール枠の外に引き出
されて、ドライバIC124の出力側バンプに接続され
ている。すなわち、基板300に実装されたドライバI
C124は、同じく基板300に形成されたセグメント
電極314に、セグメント信号を直接供給する構成とな
っている。また、ドライバIC124の入力側バンプと
FPC基板150との間は、配線(第2の配線)370
により接続されている。すなわち、FPC基板150
は、電源を含む各種の信号を、配線360を介してドラ
イバ122に、配線370を介してドライバ124に、
それぞれ供給する構成となっている。
On the other hand, the segment electrodes 314 formed on the substrate 300 on the observation side are drawn out of the seal frame as they are and connected to the output-side bumps of the driver IC 124. That is, the driver I mounted on the substrate 300
C124 is configured to directly supply a segment signal to a segment electrode 314 similarly formed on the substrate 300. A wiring (second wiring) 370 is provided between the input-side bump of the driver IC 124 and the FPC board 150.
Connected by That is, the FPC board 150
Sends various signals including a power supply to the driver 122 via the wiring 360 and to the driver 124 via the wiring 370.
Each is configured to supply.

【0026】なお、液晶パネル100には、実際には、
図2に示されるように基板300の観察側に偏光板13
1や位相差板133が設けられる一方、基板200の背
面側(観察者側とは反対側)に偏光板121や位相差板
123などが設けられるが、図1においては、これらの
図示を省略している。また、基板200の背面側には、
外光が少ない場合に透過型として用いるためのバックラ
イトが設けられるが、これについては、図1および図2
において図示を省略している。
The liquid crystal panel 100 actually has
As shown in FIG. 2, the polarizing plate 13 is
1 and a phase difference plate 133 are provided, while a polarizing plate 121 and a phase difference plate 123 are provided on the back side of the substrate 200 (the side opposite to the observer side), but these are not shown in FIG. are doing. Also, on the back side of the substrate 200,
A backlight for use as a transmissive type when there is little external light is provided.
Are not shown in FIG.

【0027】<表示領域>次に、液晶パネル100にお
ける表示領域の詳細について説明する。まず、観察側の
基板300の詳細について説明する。図2に示されるよ
うに、基板300の外面には、位相差板133および偏
光板131が貼り付けられる。一方、基板300の内面
には、ITO等の透明導電材料からなるセグメント電極
314がY方向(図において紙面垂直方向)に延在して
帯状に複数形成されている。さらに、セグメント電極3
14の表面には、ポリイミド等からなる配向膜308が
形成されている。なお、この配向膜308には、背面側
の基板200と貼り合わせる前に、所定の方向にラビン
グ処理が施される。なお、配向膜308は、表示領域外
では不要であるから、シール材110の領域近傍および
その外側では設けられていない。
<Display Area> Next, the details of the display area in the liquid crystal panel 100 will be described. First, details of the substrate 300 on the observation side will be described. As shown in FIG. 2, a retardation plate 133 and a polarizing plate 131 are attached to the outer surface of the substrate 300. On the other hand, a plurality of strip electrodes 314 made of a transparent conductive material such as ITO are formed on the inner surface of the substrate 300 so as to extend in the Y direction (the direction perpendicular to the paper of the drawing). Further, the segment electrode 3
An alignment film 308 made of polyimide or the like is formed on the surface of the substrate. The alignment film 308 is subjected to a rubbing process in a predetermined direction before being bonded to the rear substrate 200. Note that the alignment film 308 is unnecessary outside the display region, and thus is not provided near and outside the region of the sealing material 110.

【0028】続いて、背面側の基板200について説明
する。基板200の外面には、位相差板123および偏
光板121が貼り付けられる。一方、基板200の内面
には、起伏が形成された散乱樹脂層203が形成されて
いる。この散乱樹脂層203は、後述するように例え
ば、基板200の表面上において点状にパターニングし
たフォトレジストを熱処理し、当該フォトレジストの端
部を軟化させることによって、形成したものである。
Next, the rear substrate 200 will be described. A retardation plate 123 and a polarizing plate 121 are attached to an outer surface of the substrate 200. On the other hand, a scattering resin layer 203 having undulations is formed on the inner surface of the substrate 200. The scattering resin layer 203 is formed by, for example, heat-treating a dot-patterned photoresist on the surface of the substrate 200 to soften an end of the photoresist, as described later.

【0029】次に、散乱樹脂層203の起伏面には、ア
ルミニウムや銀等の反射性金属からなる反射膜204が
形成されている。したがって、散乱樹脂層203の起伏
を反映して、反射膜204の表面も起伏となるので、観
察側から入射した光は、反射膜204によって反射する
際に、適度に散乱することとなる。なお、本実施形態で
は、透過型としても機能するので、反射膜204には、
バックライトによる光を透過させるための開口部209
が、サブ画素1個あたり例えば2つ設けられている(図
3参照)。なお、このような開口部209を設けずに、
例えばアルミニウム等の光反射性を有する金属の膜厚を
比較的薄く(20nm〜50nm)して形成することに
より、背面側からの入射光の一部を透過させる構成とし
ても良い。
Next, a reflection film 204 made of a reflective metal such as aluminum or silver is formed on the undulating surface of the scattering resin layer 203. Therefore, the surface of the reflection film 204 is also undulated reflecting the undulations of the scattering resin layer 203, so that the light incident from the observation side is appropriately scattered when reflected by the reflection film 204. In this embodiment, since the reflective film 204 also functions as a transmission type,
Opening 209 for transmitting light from the backlight
Are provided per sub-pixel, for example (see FIG. 3). In addition, without providing such an opening 209,
For example, a structure may be employed in which a part of incident light from the rear side is transmitted by forming a light-reflective metal such as aluminum with a relatively thin film thickness (20 nm to 50 nm).

【0030】さらに、反射膜204の表面には、コモン
電極214とセグメント電極314とが交差する領域に
対応して、赤色のカラーフィルタ205R、緑色のカラ
ーフィルタ205G、および、青色のカラーフィルタ2
05Bが、それぞれ所定の配列で設けられている。な
お、本実施形態では、カラーフィルタ205R、205
G、205Bが、データ系の表示に好適なストライプ配
列(図3参照)となっており、R(赤)、G(緑)、B
(青)のサブ画素の3個で略正方形状の1画素を構成し
ているが、本発明をこれに限定する趣旨ではない。
Further, on the surface of the reflective film 204, a red color filter 205R, a green color filter 205G, and a blue color filter
05B are provided in a predetermined arrangement. In the present embodiment, the color filters 205R, 205
G and 205B have a stripe arrangement (see FIG. 3) suitable for display of a data system, and include R (red), G (green), and B
The three (blue) sub-pixels constitute one substantially square pixel, but this is not intended to limit the present invention.

【0031】次に、各色のカラーフィルタ205R、2
05G、205Bの表面には、絶縁材からなる平坦化膜
207が設けられて、当該カラーフィルタの段差や反射
膜204等の起伏を平坦化している。そして、平坦化膜
207により平坦化された面に、ITO等の透明導電材
料からなるコモン電極214がX方向(図2において紙
面左右方向)に延在して帯状に複数形成されている。そ
して、コモン電極214の表面には、ポリイミド等から
なる配向膜208が形成されている。なお、この配向膜
208には、観察側の基板300と貼り合わせる前に、
所定の方向にラビング処理が施される。また、各色のカ
ラーフィルタ205R、205G、205B、平坦化膜
207および配向膜208は、表示領域外では不要であ
るから、シール材110の領域近傍およびその外側では
設けられていない。
Next, the color filters 205R,
A flattening film 207 made of an insulating material is provided on the surfaces of 05G and 205B to flatten the steps of the color filter and the undulations of the reflection film 204 and the like. A plurality of common electrodes 214 formed of a transparent conductive material such as ITO extend in the X direction (the horizontal direction in FIG. 2) on the surface planarized by the planarization film 207 and are formed in a belt shape. On the surface of the common electrode 214, an alignment film 208 made of polyimide or the like is formed. Note that, before bonding to the substrate 300 on the observation side,
A rubbing process is performed in a predetermined direction. Further, the color filters 205R, 205G, 205B, the flattening film 207, and the alignment film 208 of each color are unnecessary outside the display region, and are not provided near the seal material 110 and outside thereof.

【0032】<シール材近傍>次に、液晶パネル100
のうち、シール材110が形成される領域近傍につい
て、図2のほか、図3および図4を参照して説明する。
ここで、図3は、当該領域近傍における配線の詳細な構
成を、観察側から背面側に透視してみた場合の平面図で
あり、図4は、そのA−A'の断面図である。まず、図
2および図3に示されるように、背面側の基板200に
おけるコモン電極214は、シール材110が形成され
る領域まで延設される一方、観察側の基板300にあっ
ては、配線350を構成する透明導電膜354が、コモ
ン電極214に対向するように、シール材110が形成
される領域まで延設されている。このため、シール材1
10中に、スペーサを兼ねた球状の導電性粒子114を
適切な割合で分散させると、コモン電極214と透明導
電膜354とが、当該導電性粒子114を介して電気的
に接続されることになる。
<Near Sealing Material> Next, the liquid crystal panel 100
Among them, the vicinity of the region where the sealing material 110 is formed will be described with reference to FIGS. 3 and 4 in addition to FIG.
Here, FIG. 3 is a plan view when the detailed configuration of the wiring in the vicinity of the region is seen through from the observation side to the back side, and FIG. 4 is a cross-sectional view along AA ′. First, as shown in FIGS. 2 and 3, the common electrode 214 on the rear substrate 200 extends to a region where the sealing material 110 is formed, while the wiring on the observation substrate 300 is A transparent conductive film 354 constituting 350 extends to a region where the sealing material 110 is formed so as to face the common electrode 214. Therefore, the sealing material 1
By dispersing the spherical conductive particles 114 also serving as spacers in an appropriate ratio in 10, the common electrode 214 and the transparent conductive film 354 are electrically connected via the conductive particles 114. Become.

【0033】ここで、配線350は、上述したように、
コモン電極214とドライバIC122の出力側バンプ
との間を観察側基板300の対向面において電気的に接
続するものであり、詳細には、低抵抗導電膜352と透
明導電膜354との積層膜から構成されたものである。
このうち、低抵抗導電膜352は、透明導電膜354よ
りも低抵抗材料(例えば、クロムなど)からなる導電層
からなり、また、透明導電膜354は、セグメント電極
314と同一の導電層からなる。ここで、低抵抗導電膜
352および透明導電膜354の両者は、図4に示され
るように互いに略同一形状にパターニングされている。
ただし、シール材110が形成される領域では、図2ま
たは図3に示されるように、低抵抗導電膜352は積層
されずに、透明導電膜354のみが設けられる。すなわ
ち、低抵抗導電膜352は、シール材110における導
電性粒子114との接合領域を避けて形成されている。
なお、図2において導電性粒子114の径は、説明の便
宜上、実際よりもかなり大きくしてあり、このため、シ
ール材110の幅方向に1個だけ設けられたように見え
るが、実際には、図3に示されるように、シール材11
0の幅方向に多数の導電性粒子114が配置する。
Here, as described above, the wiring 350
The common electrode 214 and the output-side bump of the driver IC 122 are electrically connected to each other on the facing surface of the observation-side substrate 300. It is composed.
Among them, the low-resistance conductive film 352 is made of a conductive layer made of a material having a lower resistance (for example, chromium) than the transparent conductive film 354, and the transparent conductive film 354 is made of the same conductive layer as the segment electrode 314. . Here, both the low-resistance conductive film 352 and the transparent conductive film 354 are patterned into substantially the same shape as shown in FIG.
However, in the region where the sealant 110 is formed, as shown in FIG. 2 or 3, the low-resistance conductive film 352 is not laminated, and only the transparent conductive film 354 is provided. That is, the low-resistance conductive film 352 is formed so as to avoid the bonding region with the conductive particles 114 in the sealing material 110.
In FIG. 2, the diameter of the conductive particles 114 is considerably larger than the actual diameter for the sake of convenience of explanation. Therefore, it appears that only one conductive particle 114 is provided in the width direction of the sealing material 110. As shown in FIG.
Many conductive particles 114 are arranged in the width direction of zero.

【0034】<ドライバICの実装領域、FPC基板の
接合領域の近傍>続いて、観察側の基板300のうち、
ドライバIC122、124が実装される領域や、FP
C基板150が接合される領域の近傍について説明す
る。ここで、図5(a)は、ドライバ122およびFP
C基板150が接合される領域の近傍について、配線を
中心にして示す断面図であり、また、図5(b)は、ド
ライバ124が接合される領域の近傍について、配線を
中心にして示す断面図である。さらに、図6は、このう
ち、ドライバIC122の実装領域における配線の構成
を、背面側から観察側に透視してみた場合の平面図、す
なわち、ドライバICにおける実装面を俯瞰してみた平
面図である。なお、上述したように、観察側の基板30
0には、セグメント電極314のほか、配線350、3
60および370が設けられるが、ここでは、ドライバ
IC122に関連する配線350、360を例にとって
説明する。
<Near the mounting area of the driver IC and the bonding area of the FPC board>
Area where the driver ICs 122 and 124 are mounted, FP
The vicinity of the region where the C substrate 150 is joined will be described. Here, FIG. 5A illustrates the driver 122 and the FP
FIG. 5B is a cross-sectional view showing the vicinity of the region where the C substrate 150 is joined, centering on the wiring. FIG. 5B is a cross-sectional view showing the vicinity of the region where the driver 124 is joined, centering on the wiring. FIG. 6 is a plan view of the wiring configuration in the mounting area of the driver IC 122 when viewed from the back side to the observation side, that is, a plan view of the mounting surface of the driver IC as viewed from above. is there. Note that, as described above, the substrate 30 on the observation side
In addition to the segment electrodes 314, the wires 350, 3
60 and 370 are provided. Here, the wirings 350 and 360 related to the driver IC 122 will be described as an example.

【0035】まず、ドライバIC122によるコモン信
号をコモン電極214まで供給するための配線350
は、上述したように、低抵抗導電膜352と透明導電膜
354との積層膜からなるが、図6に示されるように、
ドライバIC122が実装される領域では、低抵抗導電
膜352が設けられずに、透明導電膜354のみとなっ
ている。換言すれば、低抵抗導電膜352は、ドライバ
IC122との接合部分を避けて形成されている。
First, a wiring 350 for supplying a common signal from the driver IC 122 to the common electrode 214
Is composed of a laminated film of the low-resistance conductive film 352 and the transparent conductive film 354 as described above. As shown in FIG.
In the region where the driver IC 122 is mounted, only the transparent conductive film 354 is provided without providing the low-resistance conductive film 352. In other words, the low-resistance conductive film 352 is formed so as not to be connected to the driver IC 122.

【0036】また、FPC基板150から供給される各
種信号をドライバIC122まで供給するための配線3
60は、配線350と同様に、低抵抗導電膜362と透
明導電膜364との積層膜からなるものである。このう
ち、低抵抗導電膜362は、配線350における低抵抗
導電膜352と同一の導電層からなり、また、透明導電
膜364は、セグメント電極314や透明導電膜354
と同一の導電層からなる。ここで、低抵抗導電膜362
および透明導電膜364の両者は、図4の括弧符号で示
されるように互いに略同一形状にパターニングされてい
る。ただし、配線360のうち、ドライバIC122が
実装される領域、および、FPC基板150が接合され
る領域では、図5(a)および図6に示されるように低
抵抗導電膜362が設けられずに、透明導電膜364の
みとなっている。換言すれば、反射性導電膜362は、
ドライバIC122との接合部分およびFPC基板15
0との接合部分を、それぞれ避けて形成されている。
The wiring 3 for supplying various signals supplied from the FPC board 150 to the driver IC 122
Reference numeral 60 denotes a laminated film of a low-resistance conductive film 362 and a transparent conductive film 364, similarly to the wiring 350. Among them, the low-resistance conductive film 362 is formed of the same conductive layer as the low-resistance conductive film 352 in the wiring 350, and the transparent conductive film 364 is formed of the segment electrode 314 and the transparent conductive film 354.
And the same conductive layer. Here, the low-resistance conductive film 362
Both the transparent conductive film 364 and the transparent conductive film 364 are patterned into substantially the same shape as each other as shown by the parenthesized symbols in FIG. However, in the region of the wiring 360 where the driver IC 122 is mounted and the region where the FPC board 150 is bonded, the low-resistance conductive film 362 is not provided as shown in FIGS. , Only the transparent conductive film 364. In other words, the reflective conductive film 362 is
Joint portion with driver IC 122 and FPC board 15
It is formed so as to avoid the junction with zero.

【0037】このような配線350、360に対して、
ドライバIC122は、例えば次のようにしてCOG実
装される。まず、直方体形状のドライバIC122の一
面には、その周縁部分に電極が複数設けられるが、この
ような各電極には、例えば金(Au)などからなるバンプ
129a、129bを予め個々に形成しておく。そし
て、図5に示される上下関係を逆さまとして、第1に、
観察側の基板300にあってドライバIC122が実装
されるべき領域に、エポキシ等の接着材130に導電性
粒子134を均一に分散させたシート状の異方性導電膜
を載置し、第2に、電極形成面を下側にしたドライバI
C122と基板300とで異方性導電膜を挟持し、第3
に、ドライバIC122を、位置決めした後に、当該異
方性導電膜を介して基板300に加圧・加熱する。
For such wirings 350 and 360,
The driver IC 122 is COG-mounted as follows, for example. First, on one surface of the driver IC 122 having a rectangular parallelepiped shape, a plurality of electrodes are provided on a peripheral portion thereof. deep. Then, with the up-down relationship shown in FIG. 5 upside down, first,
A sheet-like anisotropic conductive film in which conductive particles 134 are uniformly dispersed in an adhesive 130 such as epoxy is placed on a region of the substrate 300 on the observation side where the driver IC 122 is to be mounted. And a driver I having an electrode forming surface on the lower side.
C122 and the substrate 300 sandwich the anisotropic conductive film,
Then, after positioning the driver IC 122, the substrate 300 is pressed and heated through the anisotropic conductive film.

【0038】これにより、ドライバIC122のうち、
コモン信号を供給する出力側バンプ129aは、配線3
50を構成する透明導電膜354に、また、FPC基板
150からの信号を入力する入力側バンプ129bは、
配線360を構成する透明導電膜364に、それぞれ、
接着材130中の導電性粒子134を介して電気的に接
続されることとなる。この際、接着材130は、ドライ
バIC122の電極形成面を、湿気や、汚染、応力など
から保護する封止材を兼ねることになる。
As a result, of the driver IC 122,
The output side bump 129a for supplying the common signal is connected to the wiring 3
The input-side bump 129b for inputting a signal from the FPC board 150 is provided on the transparent conductive film 354 constituting the FPC board 50.
The transparent conductive film 364 constituting the wiring 360 is
The connection is made electrically through the conductive particles 134 in the adhesive 130. At this time, the adhesive 130 also serves as a sealing material for protecting the electrode forming surface of the driver IC 122 from moisture, contamination, stress, and the like.

【0039】なお、ここでは、ドライバIC122に関
連する配線350、360を例にとって説明したが、F
PC基板150から供給される各種信号をドライバIC
124まで供給するための配線370についても、図4
の括弧符号および図5(b)に示されるように、配線3
60と同様な構成となっている。すなわち、配線370
は、配線360と同様に、低抵抗導電膜372と透明導
電膜374との積層膜からなるものであり、このうち、
低抵抗導電膜372は、配線350、360における低
抵抗導電膜352、362と同一の導電層からなり、ま
た、透明導電膜374は、セグメント電極314や透明
導電膜354、364と同一の導電層からなる。ここ
で、低抵抗導電膜372および透明導電膜374の両者
は、図4の括弧符号で示されるように互いに略同一形状
にパターニングされている。ただし、配線370のう
ち、ドライバIC124が実装される領域、および、F
PC基板150が接合される領域では、図5(a)の括
弧符号および図5(b)に示されるように低抵抗導電膜
372が設けられずに、透明導電膜374のみとなって
いる。換言すれば、反射性導電膜372は、ドライバI
C124との接合部分およびFPC基板150との接合
部分を、それぞれ避けて形成されている。
Here, the wirings 350 and 360 related to the driver IC 122 have been described as an example.
Various signals supplied from PC board 150
FIG. 4 also shows the wiring 370 for supplying
As shown in FIG.
The configuration is the same as that of the first embodiment. That is, the wiring 370
Is composed of a laminated film of a low-resistance conductive film 372 and a transparent conductive film 374, like the wiring 360.
The low-resistance conductive film 372 is made of the same conductive layer as the low-resistance conductive films 352 and 362 in the wirings 350 and 360, and the transparent conductive film 374 is the same conductive layer as the segment electrode 314 and the transparent conductive films 354 and 364. Consists of Here, both the low-resistance conductive film 372 and the transparent conductive film 374 are patterned into substantially the same shape as indicated by parentheses in FIG. However, of the wiring 370, the area where the driver IC 124 is mounted, and F
In the region where the PC board 150 is bonded, the low resistance conductive film 372 is not provided and only the transparent conductive film 374 is provided as shown in parentheses in FIG. 5A and FIG. 5B. In other words, the reflective conductive film 372 is connected to the driver I
The joint portion with C124 and the joint portion with FPC board 150 are formed so as to avoid each.

【0040】そして、このようなセグメント電極31
4、配線370に対して、ドライバIC124は、ドラ
イバIC122と同様に、異方性導電膜を介して接続さ
れることになる。また、配線360、370に対して、
FPC基板150を接合する場合にも、同様に異方性導
電膜が用いられる。これにより、FPC基板150にお
いて、ポリイミドのような基材152に形成された配線
154は、配線360を構成する透明導電膜364、お
よび、配線370を構成する透明導電膜374に対し、
それぞれ接着材140中の導電性粒子144を介して電
気的に接続されることとなる。
Then, such a segment electrode 31
4. The driver IC 124 is connected to the wiring 370 via the anisotropic conductive film, similarly to the driver IC 122. Also, for the wires 360 and 370,
When bonding the FPC board 150, an anisotropic conductive film is similarly used. Thus, in the FPC board 150, the wiring 154 formed on the base material 152 such as polyimide is different from the transparent conductive film 364 forming the wiring 360 and the transparent conductive film 374 forming the wiring 370.
Each is electrically connected via the conductive particles 144 in the adhesive 140.

【0041】<製造プロセス>次に、上述した液晶表示
装置の製造プロセスについて説明する。まず、観察側の
基板300の製造プロセスについて図7を参照して説明
する。なお、ここでは、セグメント電極314と配線3
50とを中心にして、シールの枠内(表示領域)および
シール材にわけて説明することとする。また、説明の便
宜上、図7は、図2および図5と上下関係が逆向きとな
っている。
<Manufacturing Process> Next, a manufacturing process of the above-described liquid crystal display device will be described. First, a manufacturing process of the substrate 300 on the observation side will be described with reference to FIG. Here, the segment electrode 314 and the wiring 3
The description will be made with respect to the inside of the seal frame (display area) and the seal material, centering on 50. In addition, for convenience of description, FIG. 7 is upside down with respect to FIGS. 2 and 5.

【0042】まず、図7(a)に示すように、基板30
0の内面全面に、ITOなどの透明性を有する金属酸化
物よりも低抵抗である金属(例えばクロム)をスパッタ
リングなどにより堆積して、低抵抗金属層352'を形
成する。続いて、同図(b)に示すように、低抵抗金属
層352'を、フォトリソグラフィ技術およびエッチン
グ技術によりパターニングして、配線350を構成する
低抵抗導電膜352のほか、配線360、370を構成
する低抵抗導電膜362、372を形成する。
First, as shown in FIG.
A low-resistance metal layer 352 'is formed by depositing a metal (for example, chromium) having a lower resistance than a transparent metal oxide such as ITO by sputtering or the like on the entire inner surface of the "0". Subsequently, as shown in FIG. 3B, the low-resistance metal layer 352 ′ is patterned by photolithography and etching techniques to form a wiring 360, 370 other than the low-resistance conductive film 352 constituting the wiring 350. The low resistance conductive films 362 and 372 to be formed are formed.

【0043】次に、同図(c)に示すように、ITO等
の透明導電層314'を、スパッタリングやイオンプレ
ーティング法などを用いて成膜する。この後、同図
(d)に示すように、透明導電層314'を、フォトリ
ソグラフィ技術およびエッチング技術によりパターニン
グして、セグメント電極314と、配線350のうち、
透明導電膜354とを形成する。この際、配線360、
370を構成する透明導電膜362、372も同時にパ
ターニングして形成する。そして、例えばポリイミド溶
液を塗布・印刷した後、焼成して、同図(d)に示すよ
うに、配向膜308を形成する。この後、当該配向膜3
08にラビング処理を施す。
Next, as shown in FIG. 3C, a transparent conductive layer 314 'made of ITO or the like is formed by sputtering or ion plating. Thereafter, as shown in FIG. 3D, the transparent conductive layer 314 ′ is patterned by photolithography and etching to form the segment electrode 314 and the wiring 350
A transparent conductive film 354 is formed. At this time, the wiring 360,
The transparent conductive films 362 and 372 which constitute 370 are also formed by patterning at the same time. Then, for example, after applying and printing a polyimide solution, it is baked to form an alignment film 308 as shown in FIG. After that, the alignment film 3
08 is subjected to a rubbing process.

【0044】続いて、背面側の基板200の製造プロセ
スについて図8および図9を参照して説明する。まず、
図8(a)に示すように、基板200の内面全面に、ネ
ガ型のフォトレジストを塗布・ベークして樹脂層20
3''を形成する。次に、樹脂層203''に対し、局所的
に多数の光を透過するフォトマスクを用いて露光し、現
像する。これにより、同図(b)に示すように、シール
枠内において、光が照射された部分(感光部分)が除去
されて、多数の突起203aが形成されることになる。
なお、この突起203aは、ポジ型のフォトレジストを
用いて、光が照射された部分を硬化させる一方、光が照
射されなかった部分を除去することにより形成しても良
い。
Next, the manufacturing process of the rear substrate 200 will be described with reference to FIGS. First,
As shown in FIG. 8A, a negative photoresist is applied and baked on the entire inner surface of the substrate 200 to form a resin layer 20.
Form 3 ''. Next, the resin layer 203 ″ is exposed and developed using a photomask that locally transmits a large number of lights. As a result, as shown in FIG. 2B, a portion irradiated with light (a photosensitive portion) is removed in the seal frame, and a large number of projections 203a are formed.
The projections 203a may be formed by using a positive photoresist to cure the light-irradiated portions and remove the light-irradiated portions.

【0045】次に、同図(c)に示すように、突起20
3aが形成された基板200を、フォトレジストの熱変
形温度以上に加熱処理する。この加熱処理により、突起
203aは軟化し、角部分が丸められる。これにより、
比較的滑らかな凹凸を有する散乱樹脂層203が形成さ
れる。なお、散乱樹脂層203に求められる散乱特性に
応じて、樹脂層203''の材料(粘性や膜厚など)、突
起203aの形状、ピッチ等が選定される。
Next, as shown in FIG.
The substrate 200 on which 3a is formed is heated to a temperature equal to or higher than the thermal deformation temperature of the photoresist. By this heat treatment, the protrusion 203a is softened and the corner portion is rounded. This allows
The scattering resin layer 203 having relatively smooth irregularities is formed. The material (viscosity and film thickness) of the resin layer 203 ″, the shape of the protrusion 203a, the pitch, and the like are selected according to the scattering characteristics required for the scattering resin layer 203.

【0046】さらに、同図(d)に示すように、銀合金
やアルミニウムなどの反射層204'を、スパッタリン
グなどにより成膜する。続いて、同図(e)に示すよう
に、反射層204'を、フォトリソグラフィ技術および
エッチング技術を用いてパターニングして、反射膜20
4を形成する。このパターニングの際に、開口部209
も同時に形成する。
Further, as shown in FIG. 4D, a reflective layer 204 'made of a silver alloy or aluminum is formed by sputtering or the like. Subsequently, as shown in FIG. 3E, the reflective layer 204 'is patterned by using a photolithography technique and an etching technique to form the reflective film 204'.
4 is formed. During this patterning, the openings 209 are formed.
Are also formed at the same time.

【0047】続いて、R(赤)、G(緑)、B(青)の
うち、いずれかに着色された樹脂層を形成した後、フォ
トリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いてパタ
ーニングして、1色分のカラーフィルタを形成する。他
の2色のカラーフィルタについても同様なパターニング
により形成する。これにより、図9(f)に示すよう
に、開口部209が形成された反射膜209の上に、
R、G、Bの各色にそれぞれ対応したカラーフィルタ2
05R、205G、205Bが形成される。次に、同図
(g)に示すように、アクリル樹脂等の樹脂材料を塗布
または印刷し、そのベークして平坦化膜(オーバコー
ト)207を形成する。この平坦化膜207について
は、カラーフィルタ205R、205G、205Bや、
反射膜204などの各部を覆うように、かつ、シール材
110が形成される領域にかからないように形成する。
Subsequently, after forming a resin layer colored in any one of R (red), G (green), and B (blue), patterning is performed by using a photolithography technique and an etching technique. A color filter for each color is formed. The other two color filters are formed by the same patterning. As a result, as shown in FIG. 9F, on the reflection film 209 in which the opening 209 is formed,
Color filter 2 corresponding to each of R, G, B colors
05R, 205G and 205B are formed. Next, as shown in FIG. 3G, a resin material such as an acrylic resin is applied or printed, and the resultant is baked to form a flattening film (overcoat) 207. Regarding the flattening film 207, color filters 205R, 205G, 205B,
It is formed so as to cover each part such as the reflective film 204 and so as not to cover a region where the sealant 110 is formed.

【0048】引き続き、平坦化膜207が形成された基
板200の内面全面に、ITO等の透明導電層を、スパ
ッタリングやイオンプレーティング法などを用いて成膜
し、この後、該透明導電層を、フォトリソグラフィ技術
およびエッチング技術によりパターニングして、コモン
電極214を形成する(同図(h)参照)。そして、例
えばポリイミド溶液を塗布・印刷した後、焼成して、同
図(i)に示すように、配向膜208を形成する。この
後、当該配向膜208にラビング処理を施す。
Subsequently, a transparent conductive layer such as ITO is formed on the entire inner surface of the substrate 200 on which the flattening film 207 is formed by using a sputtering method or an ion plating method. Then, the common electrode 214 is formed by patterning using a photolithography technique and an etching technique (see FIG. 2H). Then, for example, a polyimide solution is applied and printed, followed by baking to form an alignment film 208 as shown in FIG. After that, a rubbing treatment is performed on the alignment film 208.

【0049】以降の製造プロセスについては図示を省略
するが、配向膜208にラビング処理を施した背面側の
基板200と、同様に配向膜308にラビング処理を施
した観察側の基板300とを、導電性粒子114を適切
に分散させたシール材110により貼り合わせ、次に、
真空に近い状態にして、シール材110の開口部分に液
晶160を滴下する。そして、常圧に戻すことで、シー
ル枠内に液晶160を浸透させた後、当該開口部分を封
止材112で封止する。この後、上述したように、ドラ
イバIC122、124およびFPC基板150を実装
することで、図1に示されるような液晶パネル100と
なる。
Although the subsequent manufacturing process is not shown, the back side substrate 200 in which the alignment film 208 has been rubbed and the observation side substrate 300 in which the alignment film 308 has been rubbed in the same manner, The conductive particles 114 are bonded together by a seal material 110 in which the conductive particles 114 are appropriately dispersed.
The liquid crystal 160 is dropped into the opening of the sealing material 110 in a state close to a vacuum. Then, by returning to normal pressure, the liquid crystal 160 penetrates into the seal frame, and then the opening is sealed with the sealing material 112. Thereafter, as described above, by mounting the driver ICs 122 and 124 and the FPC board 150, the liquid crystal panel 100 as shown in FIG. 1 is obtained.

【0050】<表示動作等>次に、このような構成に係
る液晶表示装置の表示動作について簡単に説明する。ま
ず、上述したドライバIC122は、コモン電極214
の各々に対し、水平走査期間毎に所定の順番で選択電圧
を印加する一方、ドライバIC124は、選択電圧が印
加されたコモン電極214に位置するサブ画素1行分の
表示内容に応じたセグメント信号を、対応するセグメン
ト電極314を介してそれぞれ供給する。この際、コモ
ン電極214およびセグメント電極314とで印加され
る電圧差にしたがって、当該領域における液晶160の
配向状態がサブ画素毎に制御される。
<Display Operation, etc.> Next, the display operation of the liquid crystal display device having such a configuration will be briefly described. First, the driver IC 122 described above is connected to the common electrode 214
, A selection voltage is applied in a predetermined order for each horizontal scanning period, while the driver IC 124 generates a segment signal corresponding to the display content of one row of sub-pixels located on the common electrode 214 to which the selection voltage is applied. Are supplied via the corresponding segment electrodes 314, respectively. At this time, the alignment state of the liquid crystal 160 in the region is controlled for each sub-pixel according to the voltage difference applied between the common electrode 214 and the segment electrode 314.

【0051】ここで、図2において、観察側からの外光
は、偏光板131および位相差板133を経ることで、
所定の偏光状態となり、さらに、観察側の基板300→
セグメント電極314→液晶160→コモン電極214
→カラーフィルタ205という経路を介して反射膜20
4に到達し、ここで反射して、今来た経路を逆に辿る。
したがって、反射型においては、コモン電極214とセ
グメント電極314との間に印加された電圧差により液
晶160の配向状態が変化することによって、外光のう
ち、反射膜204による反射後、偏光板131を通過し
て最終的に観察者に視認される光の量が、サブ画素毎に
制御されることになる。
Here, in FIG. 2, external light from the observation side passes through the polarizing plate 131 and the phase difference plate 133,
It becomes a predetermined polarization state, and further, the substrate 300 on the observation side →
Segment electrode 314 → liquid crystal 160 → common electrode 214
→ Reflection film 20 through the path of color filter 205
4 is reached, reflected here, and follows the path that has just come.
Therefore, in the reflection type, the alignment state of the liquid crystal 160 is changed by the voltage difference applied between the common electrode 214 and the segment electrode 314, so that after the external light is reflected by the reflection film 204, the polarization plate 131 The amount of light that passes through and is finally viewed by the observer is controlled for each sub-pixel.

【0052】一方、基板200の背面側に位置するバッ
クライト(図示省略)を点灯させた場合、当該光は、偏
光板121および位相差板123を経ることで、所定の
偏光状態となり、さらに、背面側基板200→開口部2
09→カラーフィルタ205→コモン電極214→液晶
160→セグメント電極314→観察側基板300→偏
光板131という経路を介して観察側に出射する。した
がって、透過型においても、コモン電極214とセグメ
ント電極314との間に印加された電圧差により液晶1
60の配向状態が変化することによって、開口部209
を透過した光のうち、偏光板131を通過して最終的に
観察者に視認される光の量が、サブ画素毎に制御される
ことになる。
On the other hand, when a backlight (not shown) located on the back side of the substrate 200 is turned on, the light passes through the polarizing plate 121 and the phase difference plate 123 to be in a predetermined polarization state. Back side substrate 200 → Opening 2
The light exits to the observation side through a path of 09 → color filter 205 → common electrode 214 → liquid crystal 160 → segment electrode 314 → observation side substrate 300 → polarizing plate 131. Therefore, even in the transmission type, the liquid crystal 1 is not affected by the voltage difference applied between the common electrode 214 and the segment electrode 314.
The change in the orientation state of the opening 60 causes the opening 209 to change.
Of the light transmitted through the polarizer 131, the amount of light finally perceived by the observer is controlled for each sub-pixel.

【0053】このように、本実施形態による液晶表示装
置によれば、外光が十分であれば反射型となり、外光が
弱ければ、バックライトを点灯させることで主として透
過型となるので、いずれの型の表示も可能となる。一
方、配線350、360、370は、それぞれ透明導電
膜354、364、374と、それよりも低抵抗の導電
層からなる低抵抗導電膜352、362、372とそれ
ぞれ積層された構成となっているので、透明導電膜の単
一層または低抵抗導電膜の単一層からなる場合と比較し
て、低抵抗化が図られている。特に、FPC基板150
からドライバIC122の入力側バンプに至るまでの配
線360には、コモン信号を供給するドライバIC12
2の電源ラインが含まれるので、比較的高い電圧が印加
され、しかも、その配線距離は、配線370と比較して
長い。このため、配線360が高抵抗であると、電圧降
下による影響を無視することができなくなる。これに対
して、本実施形態における配線360では、積層により
低抵抗化が図られているので、電圧降下の影響が少なく
なる。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present embodiment, if the external light is sufficient, the liquid crystal display device is of the reflective type, and if the external light is weak, the backlight is turned on to be mainly of the transmissive type. Can be displayed. On the other hand, the wirings 350, 360, and 370 are configured to be respectively laminated with the transparent conductive films 354, 364, and 374, and the low-resistance conductive films 352, 362, and 372 formed of conductive layers with lower resistance. Therefore, the resistance is reduced as compared with the case of a single layer of a transparent conductive film or a single layer of a low resistance conductive film. In particular, the FPC board 150
The wiring 360 from the driver IC 122 to the input side bump of the driver IC 122 is provided with a driver IC 12 for supplying a common signal.
Since two power supply lines are included, a relatively high voltage is applied, and the wiring distance is longer than that of the wiring 370. Therefore, if the wiring 360 has a high resistance, the influence of the voltage drop cannot be ignored. On the other hand, in the wiring 360 according to the present embodiment, since the resistance is reduced by lamination, the influence of the voltage drop is reduced.

【0054】また、本実施形態において、背面側の基板
200に設けられるコモン電極214は、導電性粒子1
14および配線350を介して、観察側の基板300に
実装されたドライバIC122の出力側に接続されてい
る。このため、本実施形態では、パッシブマトリクス型
であるにもかかわらず、FPC基板150との接合が片
面の1箇所で済んでいる。このため、実装工程の簡易化
が図られることになる。
In this embodiment, the common electrode 214 provided on the rear substrate 200 is formed of the conductive particles 1.
It is connected to the output side of the driver IC 122 mounted on the observation side substrate 300 via the wiring 14 and the wiring 350. For this reason, in the present embodiment, the connection with the FPC board 150 is completed at one location on one side despite the passive matrix type. Therefore, the mounting process is simplified.

【0055】一方、配線350のうち、シール材110
に含まれることになる領域、および、ドライバIC12
2が実装される領域では、低抵抗導電膜352が設けら
れずに、透明導電膜354のみとなっている。また、配
線360のうち、ドライバIC122が実装される領
域、および、FPC基板150が接合される領域では、
低抵抗導電膜362が設けられずに、透明導電膜364
のみとなっており、同様に、配線370のうち、ドライ
バIC124が実装される領域、および、FPC基板1
50が接合される領域では、低抵抗導電膜372が設け
られずに、透明導電膜374のみとなっている。
On the other hand, the sealing material 110 of the wiring 350
And the driver IC 12
In the region where 2 is mounted, the low-resistance conductive film 352 is not provided and only the transparent conductive film 354 is provided. In the area of the wiring 360 where the driver IC 122 is mounted and the area where the FPC board 150 is bonded,
Without providing the low-resistance conductive film 362, the transparent conductive film 364 is provided.
Similarly, of the wiring 370, the area where the driver IC 124 is mounted and the FPC board 1
In the region where 50 is bonded, only the transparent conductive film 374 is provided without providing the low-resistance conductive film 372.

【0056】これは、シール材110に混入される導電
性粒子114や、接着材130、140に分散される導
電性粒子134、144は、プラスティック等の非導電
性粒子の表面に、金(Au)などの金属を被覆したもので
あるが、この被覆金属との密着性は、低抵抗導電膜より
も透明導電膜の方が、また、下層に低抵抗導電膜が存在
しない方が、良好だからである。すなわち、配線の低抵
抗化を優先させるならば、透明導電膜と低抵抗導電膜と
を積層する構成が望ましいが、このような構成では、基
板同士の貼合工程や、ドライバICの実装工程、FPC
基板の接合工程において接続不良が発生する可能性が高
まる。そこで、本実施形態では、導電性粒子が接続する
部分には、低抵抗導電膜を設けずに、透明導電膜のみと
しているのである。
This is because the conductive particles 114 mixed in the sealing material 110 and the conductive particles 134 and 144 dispersed in the adhesives 130 and 140 are made of gold (Au) on the surface of non-conductive particles such as plastic. )), But the adhesion to the coated metal is better in the case of the transparent conductive film than in the case of the low-resistance conductive film, and in the absence of the low-resistance conductive film below. It is. That is, if priority is given to lowering the resistance of the wiring, a configuration in which a transparent conductive film and a low-resistance conductive film are stacked is desirable. In such a configuration, a bonding process between substrates, a mounting process of a driver IC, FPC
The possibility that a connection failure occurs in the bonding process of the substrates increases. Therefore, in the present embodiment, only a transparent conductive film is provided without providing a low-resistance conductive film at a portion where the conductive particles are connected.

【0057】また、構成の簡略化の観点から言えば、反
射膜そのものを電極として用いる構成も考えられるが、
そのような構成は、本実施形態では次のような理由によ
り採用していない。すなわち、観察側の基板に形成され
る電極には、透明性が要求されるので、ITOなどのよ
うな透明導電材料が用いられるが、一方の電極に反射膜
を兼ねる反射性金属を用いる構成にすると、異種金属で
液晶を挟持することによって、極性の偏りが発生するか
らである。このため、本実施形態では、反射層をコモン
電極として用いずに、セグメント電極314と同じIT
O等の透明性導電材料をパターニングして、コモン電極
214として用いているのである。
Further, from the viewpoint of simplification of the configuration, a configuration using the reflection film itself as an electrode is also conceivable.
Such a configuration is not employed in the present embodiment for the following reasons. That is, since the electrodes formed on the substrate on the observation side are required to be transparent, a transparent conductive material such as ITO is used. In this case, the polarization of the liquid crystal is biased by sandwiching the liquid crystal between different metals. For this reason, in the present embodiment, the same IT as the segment electrode 314 is used without using the reflective layer as a common electrode.
A transparent conductive material such as O is patterned and used as the common electrode 214.

【0058】<応用>上述した第1実施形態では、コモ
ン電極214をドライバIC122により、また、セグ
メント電極314をドライバIC124により、それぞ
れ駆動する構成としたが、本発明は、これに限られず、
例えば、図10に示されるように、両者を1チップ化し
たタイプにも適用可能である。この図に示される液晶表
示装置では、背面側の基板200に、コモン電極214
がX方向に複数本延在して形成される点において第1実
施形態と共通であるが、上半分のコモン電極214が一
方側から、下半分のコモン電極214が他方側から、そ
れぞれ引き出されてドライバIC126に接続されてい
る点において第1実施形態と相違している。ここで、ド
ライバIC126は、第1実施形態におけるドライバI
C122、124を1チップ化したものであり、このた
め、セグメント電極314も接続されている。そして、
FPC基板150は、外部回路(図示省略)からドライ
バIC126を制御するための信号等を、配線360
(370)を介して供給することになる。なお、図10
に示される液晶表示装置において、コモン電極214の
本数が少ないのであれば、当該コモン電極214を片側
一方からのみ引き出す構成としても良い。
<Application> In the above-described first embodiment, the common electrode 214 is driven by the driver IC 122 and the segment electrode 314 is driven by the driver IC 124. However, the present invention is not limited to this.
For example, as shown in FIG. 10, the present invention is also applicable to a type in which both are formed into one chip. In the liquid crystal display device shown in this figure, the common electrode 214
Are common to the first embodiment in that they are formed to extend in the X direction, but the upper half common electrode 214 is drawn out from one side, and the lower half common electrode 214 is drawn out from the other side. This is different from the first embodiment in that it is connected to the driver IC 126. Here, the driver IC 126 is the driver I in the first embodiment.
C122 and 124 are integrated into one chip, and therefore, the segment electrode 314 is also connected. And
The FPC board 150 transmits a signal for controlling the driver IC 126 from an external circuit (not shown) to the wiring 360.
(370). Note that FIG.
In the liquid crystal display device shown in (1), if the number of the common electrodes 214 is small, the common electrode 214 may be drawn out from only one side.

【0059】また、図11に示されるように、ドライバ
ICを液晶パネル100に実装しないタイプにも適用可
能である。すなわち、この図に示される液晶表示装置で
は、ドライバIC126がフリップチップ等の技術によ
りFPC基板150に実装されている。なお、TAB
(Tape Automated Bonding)技術を用いて、ドライバI
C126をそのインナーリードでボンディングする一
方、液晶パネル100とはそのアウターリードで接合す
る構成としても良い。ただし、このような構成では、画
素数が多くなるにつれて、FPC基板150との接続点
数が増加することになる。さらにまた、第1実施形態に
おいては、低抵抗導電膜352、362、372を、透
明導電膜354、364、374のそれぞれ下層とし
て、両者が積層されていたが、本発明はこれに限られ
ず、図12に示されるように、透明導電膜354を低抵
抗導電膜352の下層として両者を積層する構成として
も良い。このような構成においても配線抵抗の低抵抗化
が図られる。
As shown in FIG. 11, the present invention can be applied to a type in which the driver IC is not mounted on the liquid crystal panel 100. That is, in the liquid crystal display device shown in this figure, the driver IC 126 is mounted on the FPC board 150 by a technique such as flip chip. In addition, TAB
(Tape Automated Bonding) technology and the driver I
C126 may be bonded with its inner leads, while it is bonded to the liquid crystal panel 100 with its outer leads. However, in such a configuration, as the number of pixels increases, the number of connection points with the FPC board 150 increases. Furthermore, in the first embodiment, the low-resistance conductive films 352, 362, and 372 are laminated as lower layers of the transparent conductive films 354, 364, and 374, respectively. However, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 12, the transparent conductive film 354 may be formed as a lower layer of the low-resistance conductive film 352 and both layers are stacked. Even in such a configuration, the wiring resistance can be reduced.

【0060】くわえて、第1実施形態にあっては、スイ
ッチング素子を用いないで液晶を駆動するパッシブマト
リクス型としたが、サブ画素(または画素)毎にTFD
(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)素子を設けて、
これらにより駆動する構成としても良い。例えば、TF
D素子を用いる場合、観察側の基板300の表示領域
は、図13に示されるような構成となる。すなわち、セ
グメント電極314の代わりに、矩形状の画素電極33
4がマトリクス状に複数配列するとともに、1列分の画
素電極334の各々が、1本のデータ線314bにそれ
ぞれTFD素子320を介して接続された構成となる。
ここで、TFD素子320は、基板300の側からみ
て、第1の金属膜322/この第1の金属膜322を陽
極酸化してなる絶縁膜324/第2の金属膜326とか
ら形成されて、金属/絶縁体/金属のサンドイッチ構造
となるので、その電流−電圧特性は、正負双方向にわた
って非線形となる。また、この際、背面側の基板200
に形成されるコモン電極214の各々は、マトリクス状
に配列する画素電極334の各行において対向する構成
となる。このような構成においては、第2金属326
を、実施形態における低抵抗導電膜352、362、3
72と同一層で形成することができるので、その分、製
造プロセスの簡略化を図ることができる。
In addition, in the first embodiment, the passive matrix type is used in which the liquid crystal is driven without using the switching element, but the TFD is used for each sub-pixel (or pixel).
(Thin Film Diode: Thin Film Diode)
It is good also as a structure driven by these. For example, TF
When the D element is used, the display area of the substrate 300 on the observation side has a configuration as shown in FIG. That is, instead of the segment electrode 314, the rectangular pixel electrode 33 is used.
4 are arranged in a matrix, and each column of pixel electrodes 334 is connected to one data line 314 b via a TFD element 320.
Here, the TFD element 320 is formed of a first metal film 322 / an insulating film 324 formed by anodizing the first metal film 322 / a second metal film 326 when viewed from the substrate 300 side. , Metal / insulator / metal sandwich structure, so that the current-voltage characteristics are non-linear in both positive and negative directions. Also, at this time, the substrate 200 on the rear side is used.
Of the pixel electrodes 334 arranged in a matrix are opposed to each other. In such a configuration, the second metal 326
To the low-resistance conductive films 352, 362, and 3 in the embodiment.
Since it can be formed in the same layer as 72, the manufacturing process can be simplified accordingly.

【0061】さらに、第2実施形態では、半透過半反射
型の液晶表示装置としたが、開口部209を設けずに、
単なる反射型としても良い。反射型とする場合には、バ
ックライトに代えて、必要に応じて観察側から光を照射
するフロントライトを設けても良い。また、実施形態で
は、コモン電極214と配線350との導通を、シール
材110に混入された導電性粒子114により図る構成
としたが、シール材110の枠外に別途設けられた領域
において導通を図る構成としても良い。一方、コモン電
極214およびセグメント電極314は、互いに相対的
な関係にあるため、観察側の基板300にコモン電極を
形成する一方、背面側の基板200にセグメント電極を
形成した構成としても良い。この構成では、背面側の基
板200に形成されたセグメント電極が、観察側の基板
300に形成された配線350と、シール材110内の
導電性粒子114を介して接続されることになる。
Further, in the second embodiment, the transflective liquid crystal display device is used, but the opening 209 is not provided.
It may be a simple reflection type. In the case of the reflection type, a front light that irradiates light from the observation side may be provided as necessary instead of the backlight. In the embodiment, the conduction between the common electrode 214 and the wiring 350 is achieved by the conductive particles 114 mixed in the sealing material 110. It is good also as composition. On the other hand, since the common electrode 214 and the segment electrode 314 are in a relative relationship to each other, the common electrode may be formed on the substrate 300 on the observation side, and the segment electrode may be formed on the substrate 200 on the back side. In this configuration, the segment electrode formed on the rear substrate 200 is connected to the wiring 350 formed on the observation substrate 300 via the conductive particles 114 in the sealing material 110.

【0062】<第2実施形態>上述した第1実施形態で
は、ドライバIC122、124を、観察側の基板30
0に実装する構成としたために、配線350、360、
370についても、観察側の基板300に設けられてい
たが、本発明は、これに限られず、ドライバICや配線
を背面側に設ける場合にも適用可能である。そこで次
に、ドライバICや配線を背面側の基板に設けた第2実
施形態について説明することにする。
<Second Embodiment> In the first embodiment described above, the driver ICs 122 and 124 are mounted on the substrate 30 on the observation side.
0, the wiring 350, 360,
Although 370 is also provided on the substrate 300 on the observation side, the present invention is not limited to this, and can be applied to a case where a driver IC or wiring is provided on the back side. Therefore, a second embodiment in which the driver IC and the wiring are provided on the rear substrate will be described next.

【0063】図14は、第2実施形態に係る液晶パネル
の全体構成を示す斜視図である。この図に示されるよう
に、第2実施形態に係る液晶パネル100は、第1実施
形態(図1参照)とは外観的には全く同一であるが、観
察側・背面側が全く正反対となる。すなわち、第2実施
形態に係る液晶パネル100では、背面側が基板(第1
の基板)300となり、観察側が基板(第2の基板)の
200となる。
FIG. 14 is a perspective view showing the overall configuration of a liquid crystal panel according to the second embodiment. As shown in this figure, the liquid crystal panel 100 according to the second embodiment is exactly the same in appearance as the first embodiment (see FIG. 1), but the observation side and the back side are completely opposite. That is, in the liquid crystal panel 100 according to the second embodiment, the back side is the substrate (the first side).
Substrate) 300, and the observation side becomes the substrate (second substrate) 200.

【0064】詳細には、この液晶パネルをX方向に沿っ
て破断した場合の部分断面図を示す図15、および、こ
の液晶パネルをY方向に沿って破断した部分断面図を示
す図16に示されるように、観察側の基板200にあっ
て背面側の基板300との対向面には、複数のコモン電
極214が、X(行)方向に延在して形成される一方、
背面側の基板300にあって観察側基板200との対向
面には、複数のセグメント電極314が、Y(列)方向
に延在して形成されている。また、背面側の基板300
にあって観察側の基板200から張り出した2辺には、
コモン電極214を駆動するためのドライバIC12
2、および、セグメント電極314を駆動するためのド
ライバICチップ124が、それぞれ第1実施形態と同
様にCOG技術により実装され、さらに、この2辺のう
ち、ドライバICチップ124が実装される領域の外側
には、FPC基板150が接合されている。
More specifically, FIG. 15 is a partial sectional view of the liquid crystal panel taken along the X direction, and FIG. 16 is a partial sectional view of the liquid crystal panel taken along the Y direction. As shown in the drawing, a plurality of common electrodes 214 are formed extending in the X (row) direction on the surface of the observation-side substrate 200 facing the substrate 300 on the back side.
A plurality of segment electrodes 314 are formed on a surface of the rear substrate 300 facing the observation substrate 200 so as to extend in the Y (column) direction. Also, the substrate 300 on the back side
In the two sides protruding from the substrate 200 on the observation side,
Driver IC 12 for driving common electrode 214
2, and the driver IC chip 124 for driving the segment electrode 314 is mounted by the COG technique in the same manner as in the first embodiment. On the outside, an FPC board 150 is joined.

【0065】ここで、第2実施形態において、観察側の
基板200に形成されたコモン電極214は、シール材
110に混入された導電性粒子114を介して、背面側
の基板300に形成された配線350の一端に接続され
ている。一方、配線350の他端は、ドライバIC12
2の出力側バンプに接続されている。なお、FPC基板
150(の接合部分)からドライバICチップ122の
入力側バンプまでは、基板300に形成された配線36
0により引き回されている。一方、背面側の基板300
に形成されたセグメント電極314は、そのままドライ
バIC124の出力側バンプに接続されている。ここ
で、セグメント電極314のうち、シール材110の枠
外からドライバIC124の出力側バンプの直前までに
至る部分の下層には、低抵抗導電膜312が形成され
て、配線310となっている(図14、図16参照)。
なお、FPC基板150(の接合部分)からドライバI
Cチップ124の入力側バンプまでは、基板300に形
成された配線370により引き回されている。
Here, in the second embodiment, the common electrode 214 formed on the substrate 200 on the observation side is formed on the substrate 300 on the back side via the conductive particles 114 mixed in the sealing material 110. It is connected to one end of the wiring 350. On the other hand, the other end of the wiring 350 is connected to the driver IC 12
2 output side bumps. The wiring 36 formed on the substrate 300 extends from (the joint portion of) the FPC substrate 150 to the input-side bump of the driver IC chip 122.
It is routed by 0. On the other hand, the back side substrate 300
Are connected to the output-side bumps of the driver IC 124 as they are. Here, a low-resistance conductive film 312 is formed in the lower layer of the segment electrode 314 from the outside of the frame of the sealing material 110 to immediately before the output-side bump of the driver IC 124 to form the wiring 310. 14, see FIG. 16).
In addition, the driver I
The wiring up to the input side bump of the C chip 124 is routed by the wiring 370 formed on the substrate 300.

【0066】<表示領域>次に、第2実施形態に係る液
晶パネル100における表示領域の詳細について説明す
る。まず、観察側の基板200の詳細について説明す
る。図15または図16に示されるように、基板200
の外面には、位相差板133および偏光板131が貼り
付けられる。一方、基板200の内面には、ITO等の
透明導電材料からなるコモン電極214がX方向(図1
5においては紙面左右方向、図16においては紙面垂直
方向)に延在して帯状に複数形成されている。さらに、
コモン電極214や基板200の表面には、ポリイミド
等からなる配向膜208が形成されている。なお、配向
膜208は、表示領域外では不要であるから、シール材
110の領域近傍およびその外側では設けられていな
い。
<Display Area> Next, the details of the display area in the liquid crystal panel 100 according to the second embodiment will be described. First, details of the substrate 200 on the observation side will be described. As shown in FIG. 15 or FIG.
A retardation plate 133 and a polarizing plate 131 are attached to the outer surface of the device. On the other hand, a common electrode 214 made of a transparent conductive material such as ITO is provided on the inner surface of the substrate 200 in the X direction (FIG. 1).
5, a plurality of strips are formed extending in the left-right direction on the paper surface and in FIG. 16 in the vertical direction on the paper surface). further,
On the surface of the common electrode 214 and the substrate 200, an alignment film 208 made of polyimide or the like is formed. Since the alignment film 208 is unnecessary outside the display region, it is not provided near the seal material 110 and outside thereof.

【0067】続いて、背面側の基板300について説明
する。基板300の外面には、位相差板123および偏
光板121が貼り付けられる。一方、基板300の内面
には、起伏を有する散乱樹脂層303が形成されてい
る。この散乱樹脂層303は、第1実施形態における散
乱樹脂層203と同様なものであり、さらに、その起伏
面には、反射膜304が形成されている。したがって、
散乱樹脂層303の起伏を反映して、反射膜304の表
面も起伏を有することになるので、観察側から入射した
光は、反射膜304によって反射する際に、適度に散乱
することとなる。また、この反射膜304は、アルミニ
ウムや銀等の反射性金属膜を、平面的に見てセグメント
電極314と重なるように略同一幅にパターニングされ
ている。このため、相隣接するセグメント電極314同
士は、反射膜304を介して容量結合しにくい構成とな
っている。さらに、本実施形態に係る液晶表示装置は、
透過型としても機能するため、反射膜304には、その
パターニングの際に、バックライトによる光を透過させ
るための開口部309が、サブ画素1個あたり2つ形成
されている(図17参照)。
Next, the rear substrate 300 will be described. The retardation plate 123 and the polarizing plate 121 are attached to the outer surface of the substrate 300. On the other hand, an undulating scattering resin layer 303 is formed on the inner surface of the substrate 300. The scattering resin layer 303 is similar to the scattering resin layer 203 in the first embodiment, and further has a reflection film 304 formed on the undulating surface. Therefore,
Since the surface of the reflective film 304 also has undulations reflecting the undulations of the scattering resin layer 303, light incident from the observation side is appropriately scattered when reflected by the reflective film 304. The reflective film 304 is formed by patterning a reflective metal film such as aluminum or silver to have substantially the same width so as to overlap with the segment electrode 314 in plan view. Therefore, adjacent segment electrodes 314 are configured to be hardly capacitively coupled via the reflective film 304. Further, the liquid crystal display device according to the present embodiment is
Since the reflective film 304 also functions as a transmissive type, the reflective film 304 is provided with two openings 309 for transmitting light from a backlight at the time of patterning for each sub-pixel (see FIG. 17). .

【0068】続いて、反射膜304の表面には、コモン
電極214とセグメント電極314とが交差する領域に
対応して、赤色のカラーフィルタ305R、緑色のカラ
ーフィルタ305G、および、青色のカラーフィルタ3
05Bが、ストライプ配列で形成されて、R(赤)、G
(緑)、B(青)のサブ画素の3個で略正方形状の1画
素を構成している。なお、本発明をこれに限定する趣旨
ではない点は、第1実施形態と同様である。一方、これ
らのカラーフィルタ305R、305G、305Bにお
ける境界、および、表示領域を区画する外周縁には、ク
ロム等の遮光性金属層をパターニングした遮光膜302
が設けられて、サブ画素間の混色を防止するほか、表示
領域を規定する額縁としても機能している。
Subsequently, on the surface of the reflective film 304, a red color filter 305R, a green color filter 305G, and a blue color filter 3 correspond to the region where the common electrode 214 and the segment electrode 314 intersect.
05B are formed in a stripe arrangement, and R (red), G
Three pixels of (green) and B (blue) subpixels constitute a substantially square pixel. Note that the point that the present invention is not limited to this is the same as in the first embodiment. On the other hand, on the boundaries between the color filters 305R, 305G, and 305B and on the outer peripheral edge that partitions the display area, a light-shielding film 302 in which a light-shielding metal layer such as chrome is patterned.
Are provided to prevent color mixing between sub-pixels and to function as a frame defining a display area.

【0069】次に、各色のカラーフィルタ305R、3
05G、305Bや遮光膜302の表面には、絶縁材か
らなる平坦化膜307が設けられて、当該カラーフィル
タや遮光膜等の起伏を平坦化している。そして、平坦化
膜307により平坦化された面に、ITO等の透明導電
材料からなるセグメント電極314がY方向(図15に
おいては紙面垂直方向、図16においては紙面左右方
向)に延在して帯状に複数形成されている。そして、セ
グメント電極314や平坦化膜307の表面には、ポリ
イミド等からなる配向膜308が形成されている。な
お、配向膜308や、その下層の平坦化膜307等は、
表示領域外では不要であるから、シール材110の領域
近傍およびその外側では設けられていない。
Next, the color filters 305R, 305R,
A flattening film 307 made of an insulating material is provided on the surface of the light-transmitting film 05G, 305B and the light-shielding film 302 to flatten the unevenness of the color filter, the light-shielding film and the like. A segment electrode 314 made of a transparent conductive material such as ITO extends on the surface flattened by the flattening film 307 in the Y direction (the direction perpendicular to the plane of FIG. 15 and the horizontal direction of the plane of FIG. 16). A plurality of strips are formed. An alignment film 308 made of polyimide or the like is formed on the surface of the segment electrode 314 or the flattening film 307. Note that the alignment film 308 and the underlying flattening film 307 are
Since it is unnecessary outside the display area, it is not provided near and outside the area of the sealing material 110.

【0070】<シール材近傍、ドライバICの実装領
域、FPC基板の接合領域の近傍>上述したように、第
2実施形態に係る液晶パネル100にあっては、第1実
施形態とは異なり、基板200が観察側に位置し、基板
300が背面側に位置する。このため、第2実施形態に
係る液晶パネル100のうち、シール材110が形成さ
れる領域近傍を、観察側から透視した平面構成について
は、図17に示されるように、コモン電極214および
セグメント電極314の上下関係が第1実施形態(図3
参照)と比較して、逆転した関係となる。なお、図17
におけるA−A'線の断面図は、観察側・背面側が互い
に反対となる(z方向が逆となる)ので、図4の括弧書
で示される座標軸の通りとなる。また、観察側を上向き
として見た場合には、ドライバ122、124における
実装面の向きも、第1実施形態(図5参照)と比較し
て、反対になる。このため、ドライバIC122の実装
領域における配線の構成を、観察側から背面側に透視し
てみた場合の平面図、すなわち、ドライバICにおける
実装面を俯瞰してみた平面図は、図6の括弧書で示され
る座標軸の通りであり、これは、観察側・背面側が互い
反対となる(z方向が逆となる)ことを示している。
<Near the seal material, the mounting area of the driver IC, and the vicinity of the bonding area of the FPC board> As described above, in the liquid crystal panel 100 according to the second embodiment, unlike the first embodiment, the substrate 200 is located on the observation side, and the substrate 300 is located on the back side. Therefore, in the liquid crystal panel 100 according to the second embodiment, as shown in FIG. 17, the common electrode 214 and the segment electrode as shown in FIG. The upper and lower relationship of 314 corresponds to the first embodiment (FIG.
(See Reference). Note that FIG.
The cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 4 is on the coordinate axes shown in parentheses in FIG. 4 because the observation side and the back side are opposite to each other (the z direction is opposite). When the observation side is viewed upward, the orientation of the mounting surfaces of the drivers 122 and 124 is opposite to that of the first embodiment (see FIG. 5). For this reason, the plan view when the wiring configuration in the mounting area of the driver IC 122 is seen through from the observation side to the back side, that is, the plan view when the mounting surface of the driver IC is overlooked is shown in parentheses in FIG. This indicates that the observation side and the back side are opposite to each other (the z direction is opposite).

【0071】したがって、第2実施形態における配線3
50、360、370についての構成は、第1実施形態
と全く同一であるが、背面側に設けられるので、観察側
を上向きとすると、第1実施形態とは上下関係が逆向き
に見えることになる。すなわち、配線350、360、
370は、それぞれ、第1実施形態と同様に、低抵抗導
電膜352、362、372と、セグメント電極314
と同一層からなる透明導電膜354、364、374と
を積層したものである。ただし、第2実施形態におい
て、低抵抗導電膜352、362、372は、上述した
遮光膜302と同一層から構成される。すなわち、本実
施形態では、クロム等の遮光性金属層をパターニングし
て、遮光膜302と、低抵抗導電膜352、362、3
72とを形成することになる。そこで次に、このような
基板300の製造プロセスについて、背面側の基板30
0を中心に説明することにする。
Therefore, the wiring 3 in the second embodiment
The configuration of 50, 360, and 370 is exactly the same as that of the first embodiment, but since it is provided on the back side, when the observation side is facing upward, the vertical relationship with the first embodiment appears to be opposite. Become. That is, the wirings 350, 360,
Reference numerals 370 denote low-resistance conductive films 352, 362, and 372 and a segment electrode 314, respectively, as in the first embodiment.
And a transparent conductive film 354, 364, 374 of the same layer. However, in the second embodiment, the low-resistance conductive films 352, 362, and 372 are formed of the same layer as the light-shielding film 302 described above. That is, in the present embodiment, the light-shielding metal layer such as chromium is patterned to form the light-shielding film 302 and the low-resistance conductive films 352, 362, and 3.
72 will be formed. Then, next, regarding the manufacturing process of such a substrate 300,
The explanation will be focused on 0.

【0072】<製造プロセス>説明の便宜上、セグメン
ト電極314と配線350とを中心にして、シールの枠
内(表示領域)、シール材、および、シール枠外にわけ
て説明することとする。まず、図19(a)に示すよう
に、基板300の内面全面に、ネガ型のフォトレジスト
を塗布・ベークして樹脂層303''を形成する。次に、
樹脂層303''に対し、局所的に多数の光を透過するフ
ォトマスクを用いて露光し、現像する。これにより、同
図(b)に示すように、シール枠内において、光が照射
された部分(感光部分)が除去されて、多数の突起30
3aが形成されることになる。なお、この突起303a
は、ポジ型のフォトレジストを用いて、光が照射された
部分を硬化させる一方、光が照射されなかった部分を除
去することにより形成しても良い。
<Manufacturing Process> For the sake of convenience, the description will be made with the segment electrode 314 and the wiring 350 as the center, inside the seal frame (display area), the seal material, and outside the seal frame. First, as shown in FIG. 19A, a negative photoresist is applied and baked on the entire inner surface of the substrate 300 to form a resin layer 303 ″. next,
The resin layer 303 ″ is exposed and developed using a photomask that locally transmits a large number of lights. As a result, as shown in FIG. 2B, the portion irradiated with light (the photosensitive portion) is removed in the seal frame, and a large number of protrusions 30 are formed.
3a will be formed. Note that this projection 303a
May be formed by using a positive photoresist to cure the light-irradiated portions while removing the non-light-irradiated portions.

【0073】次に、同図(c)に示すように、突起30
3aが形成された基板300を、フォトレジストの熱変
形温度以上に加熱処理する。この加熱処理により、突起
303aは軟化し、角部分が丸められる。これにより、
比較的滑らかな凹凸を有する散乱樹脂層303が形成さ
れる。なお、散乱樹脂層303に求められる散乱特性に
応じて、樹脂層303''の材料(粘性や膜厚など)、突
起303aの形状、ピッチ等が選定される。
Next, as shown in FIG.
The substrate 300 on which 3a is formed is heat-treated at a temperature equal to or higher than the thermal deformation temperature of the photoresist. By this heat treatment, the projection 303a is softened and the corner is rounded. This allows
The scattering resin layer 303 having relatively smooth irregularities is formed. The material (viscosity and film thickness) of the resin layer 303 ″, the shape of the protrusion 303 a, the pitch, and the like are selected according to the scattering characteristics required for the scattering resin layer 303.

【0074】さらに、同図(d)に示すように、銀合金
やアルミニウムなどの反射層304'を、スパッタリン
グなどにより成膜する。続いて、同図(e)に示すよう
に、反射層304'を、フォトリソグラフィ技術および
エッチング技術を用いてパターニングして、反射膜30
4を形成する。このパターニングの際に、開口部309
も同時に形成する。
Further, as shown in FIG. 4D, a reflective layer 304 'made of a silver alloy, aluminum, or the like is formed by sputtering or the like. Subsequently, as shown in FIG. 3E, the reflection layer 304 'is patterned by using a photolithography technique and an etching technique to form the reflection film 30'.
4 is formed. At the time of this patterning, the opening 309 is formed.
Are also formed at the same time.

【0075】続いて、R(赤)、G(緑)、B(青)の
うち、いずれかに着色された樹脂層を形成した後、フォ
トリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いてパタ
ーニングして、1色分のカラーフィルタを形成する。他
の2色のカラーフィルタについても同様なパターニング
により形成する。これにより、図20(f)に示すよう
に、開口部309が形成された反射膜309の上に、
R、G、Bの各色にそれぞれ対応したカラーフィルタ3
05R、305G、305Bが形成されることになる。
Subsequently, after forming a resin layer colored in any one of R (red), G (green), and B (blue), patterning is performed by using a photolithography technique and an etching technique. A color filter for each color is formed. The other two color filters are formed by the same patterning. Thereby, as shown in FIG. 20F, the reflective film 309 having the opening 309 formed thereon is
Color filters 3 corresponding to each of R, G, B colors
05R, 305G, and 305B are formed.

【0076】次に、同図(g)に示すように、基板30
0の内面全面に、ITOなどの透明性を有する金属酸化
物よりも低抵抗である金属(例えばクロム)をスパッタ
リングなどにより堆積して、低抵抗金属層302'を成
膜する。続いて、同図(h)に示すように、低抵抗金属
層302'を、フォトリソグラフィ技術およびエッチン
グ技術によりパターニングして、シール枠内の表示領域
にあっては、遮光膜302を形成し、また、シール枠外
にあっては、配線350を構成する低抵抗導電膜352
のほか、配線310、360、370を構成する低抵抗
導電膜312、362、372を形成する。
Next, as shown in FIG.
A metal (for example, chromium) having a lower resistance than a transparent metal oxide such as ITO is deposited on the entire inner surface of 0 by sputtering or the like to form a low-resistance metal layer 302 '. Subsequently, as shown in FIG. 3H, the low-resistance metal layer 302 ′ is patterned by photolithography and etching to form a light-shielding film 302 in a display area in the seal frame. Outside the seal frame, the low-resistance conductive film 352 constituting the wiring 350
In addition, low-resistance conductive films 312, 362, and 372 forming the wirings 310, 360, and 370 are formed.

【0077】次に、同図(i)に示すように、アクリル
樹脂等の樹脂材料を塗布または印刷し、そのベークして
平坦化膜(オーバコート)307を形成する。この平坦
化膜307については、カラーフィルタ305R、30
5G、305Bや、反射膜304などの各部を覆うよう
に、かつ、シール材110が形成される領域にかからな
いように形成する。
Next, as shown in FIG. 7I, a resin material such as an acrylic resin is applied or printed, and the resultant is baked to form a flattening film (overcoat) 307. The flattening film 307 includes color filters 305R and 305R.
5G, 305B, the reflective film 304, and the like, and are formed so as not to cover the region where the sealant 110 is formed.

【0078】引き続き、図21(j)に示すように、平
坦化膜307が形成された基板300の内面全面に、I
TO等の透明導電層314'を、スパッタリングやイオ
ンプレーティング法などを用いて成膜する。そして、同
図(k)に示すように、該透明導電層314'を、フォ
トリソグラフィ技術およびエッチング技術によりパター
ニングして、セグメント電極314や、配線350を構
成する透明導電膜354のほか、配線360、370を
構成する透明導電膜364、374を形成する。そし
て、例えばポリイミド溶液を塗布・印刷した後、焼成し
て、同図(l)に示すように、配向膜308を形成す
る。この後、当該配向膜308にラビング処理を施す。
Subsequently, as shown in FIG. 21J, the entire surface of the substrate 300 on which the planarizing film 307 is formed
A transparent conductive layer 314 ′ of TO or the like is formed by using a sputtering method, an ion plating method, or the like. Then, as shown in FIG. 9 (k), the transparent conductive layer 314 ′ is patterned by photolithography and etching to form the segment electrode 314, the transparent conductive film 354 forming the wiring 350, and the wiring 360. , 370 are formed. Then, for example, after applying and printing a polyimide solution, it is baked to form an alignment film 308 as shown in FIG. After that, a rubbing treatment is performed on the alignment film 308.

【0079】一方、観察側における基板200の製造プ
ロセスについては、図示を省略するが、簡単に説明する
と、次の通りとなる。すなわち、第1に、基板200の
内面前面にITOなどの透明導電層を成膜し、第2に、
この透明導電層をパターニングして、コモン電極214
を形成し、第3に、ポリイミド溶液を塗布・印刷した
後、焼成して、配向膜208を形成して、当該配向膜2
08にラビング処理を施す、というものである。
On the other hand, the manufacturing process of the substrate 200 on the observation side is not shown, but will be briefly described as follows. That is, first, a transparent conductive layer such as ITO is formed on the inner front surface of the substrate 200, and second,
This transparent conductive layer is patterned to form a common electrode 214
Third, after applying and printing a polyimide solution, baking is performed to form an alignment film 208, and the alignment film 2 is formed.
08 is subjected to a rubbing process.

【0080】以降については、配向膜308にラビング
処理を施した背面側の基板300と、同様に配向膜20
8にラビング処理を施した観察側の基板200とを、導
電性粒子114を適切に分散させたシール材110によ
り貼り合わせ、次に、真空に近い状態にして、シール材
110の開口部分に液晶160を滴下する。そして、常
圧に戻すことで、シール枠内に液晶160を浸透させた
後、当該開口部分を封止材112で封止する。この後、
上述したように、ドライバIC122、124およびF
PC基板150を実装することで、図14に示されるよ
うな液晶パネル100となる。
Thereafter, the substrate 300 on the back side in which the alignment film 308 has been subjected to the rubbing treatment is similarly formed with the alignment film 20.
8 and the rubbing-processed substrate 200 on the observation side are bonded together by a sealing material 110 in which conductive particles 114 are appropriately dispersed. 160 is dropped. Then, by returning to normal pressure, the liquid crystal 160 penetrates into the seal frame, and then the opening is sealed with the sealing material 112. After this,
As described above, the driver ICs 122 and 124 and F
By mounting the PC board 150, the liquid crystal panel 100 as shown in FIG. 14 is obtained.

【0081】なお、第2実施形態における表示動作につ
いては、基本的に第1実施形態と同様である。すなわ
ち、反射型において観察側からの外光は、偏光板131
および位相差板133を経ることで、所定の偏光状態と
なり、さらに、観察側の基板200→コモン電極214
→液晶160→セグメント電極314→平坦化膜307
→カラーフィルタ305という経路を介して反射膜30
4に到達し、ここで反射して、今来た経路を逆に辿る。
一方、透過型においてバックライト(図示省略)の照射
光は、偏光板121および位相差板123を経ること
で、所定の偏光状態となり、さらに、背面側の基板30
0→開口部309→カラーフィルタ305→平坦化膜3
07→セグメント電極314→液晶160→コモン電極
214→観察側の基板200→偏光板131という経路
を介して観察側に出射する。このため、第2実施形態で
は、第1実施形態と同様に、反射型においても、透過型
においても、偏光板131を通過して最終的に観察者に
視認される光の量が、コモン電極214とセグメント電
極314との間において印加される電圧差にしたがっ
て、サブ画素毎に制御されることになる。
The display operation in the second embodiment is basically the same as in the first embodiment. That is, in the reflection type, external light from the observation side is reflected by the polarizing plate 131.
And a predetermined polarization state by passing through the phase difference plate 133, and further, the substrate 200 on the observation side → the common electrode 214.
→ liquid crystal 160 → segment electrode 314 → flattening film 307
→ Reflection film 30 through a route of color filter 305
4 is reached, reflected here, and follows the path that has just come.
On the other hand, in the transmission type, the irradiation light of the backlight (not shown) passes through the polarizing plate 121 and the phase difference plate 123 to be in a predetermined polarization state.
0 → opening 309 → color filter 305 → flattening film 3
The light is emitted to the observation side through a path of 07 → segment electrode 314 → liquid crystal 160 → common electrode 214 → substrate 200 on the observation side → polarizing plate 131. Therefore, in the second embodiment, similarly to the first embodiment, the amount of light that passes through the polarizing plate 131 and is finally visually recognized by an observer in both the reflection type and the transmission type is equal to the common electrode. Control is performed for each sub-pixel according to the voltage difference applied between 214 and the segment electrode 314.

【0082】このような第2実施形態によれば、第1実
施形態と同様に、外光が十分であれば反射型となり、外
光が弱ければ、バックライトを点灯させることで主とし
て透過型となるので、いずれにおいても表示が可能とな
る。ここで、第2実施形態では、表示領域外における配
線350、360、370は、それぞれ透明導電膜35
4、364、374と、遮光膜302と同一層の遮光性
金属層からなる低抵抗導電膜352、362、372と
の積層膜から構成されているので、いずれかの単独膜か
ら構成されている場合と比較して、低抵抗化が図られて
いる。さらに、セグメント電極314は、シール枠外に
おいて低抵抗導電膜312と積層されているので、低抵
抗化が図られている。しかも、これらの低抵抗導電膜3
12、352、362、372は、サブ画素同士の混色
防止や額縁を規定する遮光膜302と同一の遮光性金属
層をパターニングしたものであるので、製造プロセスを
特別に追加することを要しない。このため、第2実施形
態では、製造工程が複雑化することがないので、容易か
つ低コストで液晶表示装置を製造することが可能とな
る。
According to the second embodiment, as in the first embodiment, the reflection type is provided when the external light is sufficient, and the backlight is turned on when the external light is weak. Therefore, display is possible in any case. Here, in the second embodiment, the wirings 350, 360, and 370 outside the display area are respectively
4, 364, 374 and a low-resistance conductive film 352, 362, 372 formed of the same light-shielding metal layer as the light-shielding film 302. As compared with the case, the resistance is reduced. Further, since the segment electrode 314 is laminated with the low-resistance conductive film 312 outside the seal frame, low resistance is achieved. Moreover, these low-resistance conductive films 3
12, 352, 362, and 372 are formed by patterning the same light-shielding metal layer as the light-shielding film 302 for preventing color mixing between the sub-pixels and defining the frame, so that it is not necessary to add a special manufacturing process. For this reason, in the second embodiment, the manufacturing process does not become complicated, so that the liquid crystal display device can be manufactured easily and at low cost.

【0083】また、第2実施形態では、反射膜309の
外形を、セグメント電極314と略同一形状となるよう
に、帯状にパターニングしてあるので、相隣接するセグ
メント電極314同士が、反射膜304を介して容量結
合しにくい構成となっている。さらにまた、第2実施形
態では、背面側の基板300に形成されたセグメント電
極314のうち、シール材110の枠外からドライバI
C124の出力側バンプの直前までに至る部分の下層に
は、低抵抗導電膜312が形成されて、(距離的には短
いが)積層された配線310となっているので、その
分、低抵抗化が図られている。
In the second embodiment, the outer shape of the reflection film 309 is patterned in a band shape so as to have substantially the same shape as the segment electrode 314. This makes it difficult to capacitively couple through the capacitor. Furthermore, in the second embodiment, of the segment electrodes 314 formed on the substrate 300 on the back side, the driver I
A low-resistance conductive film 312 is formed under the portion immediately before the output-side bump of C124 to form a stacked wiring 310 (although the distance is short). Is being planned.

【0084】<応用>上述した第2実施形態では、第1
実施形態と同様な応用が可能である。例えば、図22に
示されるように、ドライバIC122、124を1チッ
プ化したドライバIC126によって、コモン電極21
4およびセグメント電極314をそれぞれ駆動する構成
としても良い。また、ドライバICを、液晶パネル10
0に実装しないで、フリップチップ技術やTAB技術な
どによりFPC基板150に実装しても良い。なお、図
23は、1チップ化したドライバIC126をFPC基
板150に実装した例を示す斜視図である。
<Application> In the second embodiment described above, the first
The same application as the embodiment is possible. For example, as shown in FIG. 22, the driver ICs 122 and 124 are integrated into one chip by the driver IC 126 to form the common electrode 21.
4 and the segment electrode 314 may be driven. The driver IC is connected to the liquid crystal panel 10.
Instead of being mounted on the FPC board 150, it may be mounted on the FPC board 150 by a flip chip technique, a TAB technique, or the like. FIG. 23 is a perspective view showing an example in which the driver IC 126 formed into one chip is mounted on the FPC board 150.

【0085】さらに、第2実施形態では、半透過半反射
型の液晶表示装置としたが、開口部309を設けずに、
単なる反射型としても良い。反射型とする場合には、バ
ックライトに代えて、必要に応じて観察側から光を照射
するフロントライトを設けても良い。また、実施形態で
は、コモン電極214と配線350との導通を、シール
材110に混入された導電性粒子114により図る構成
としたが、シール材110の枠外に別途設けられた領域
において導通を図る構成としても良い。一方、コモン電
極214およびセグメント電極314は、互いに相対的
な関係にあるため、観察側の基板200にセグメント電
極を形成する一方、背面側の基板300にコモン電極を
形成した構成としても良い。この構成では、観察側の基
板200に形成されたセグメント電極が、背面側の基板
300に形成された配線350と、シール材110内の
導電性粒子114を介して接続されることになる。くわ
えて、第2実施形態においても、第1実施形態と同様
に、サブ画素(または画素)毎にTFD素子を設けて、
これらにより駆動する構成としても良い。
Further, in the second embodiment, the transflective liquid crystal display device is used.
It may be a simple reflection type. In the case of the reflection type, a front light that irradiates light from the observation side may be provided as necessary instead of the backlight. In the embodiment, the conduction between the common electrode 214 and the wiring 350 is achieved by the conductive particles 114 mixed in the sealing material 110. It is good also as composition. On the other hand, since the common electrode 214 and the segment electrode 314 are in a relative relationship to each other, a configuration in which a segment electrode is formed on the observation-side substrate 200 and a common electrode is formed on the back-side substrate 300 may be employed. In this configuration, the segment electrode formed on the observation-side substrate 200 is connected to the wiring 350 formed on the back-side substrate 300 via the conductive particles 114 in the sealing material 110. In addition, in the second embodiment, similarly to the first embodiment, a TFD element is provided for each sub-pixel (or pixel),
It is good also as a structure driven by these.

【0086】<その他>なお、第1実施形態や第2実施
形態では、液晶としてTN型を用いたが、BTN(Bi-s
table Twisted Nematic)型・強誘電型などのメモリ性
を有する双安定型や、高分子分散型、さらには、分子の
長軸方向と短軸方向とで可視光の吸収に異方性を有する
染料(ゲスト)を一定の分子配列の液晶(ホスト)に溶
解して、染料分子を液晶分子と平行に配列させたGH
(ゲストホスト)型などの液晶を用いても良い。また、
電圧無印加時には液晶分子が両基板に対して垂直方向に
配列する一方、電圧印加時には液晶分子が両基板に対し
て水平方向に配列する、という垂直配向(ホメオトロピ
ック配向)の構成としても良いし、電圧無印加時には液
晶分子が両基板に対して水平方向に配列する一方、電圧
印加時には液晶分子が両基板に対して垂直方向に配列す
る、という平行(水平)配向(ホモジニアス配向)の構
成としても良い。このように、本発明では、液晶や配向
方式として、種々のものに適用することが可能である。
<Others> In the first and second embodiments, the TN type liquid crystal is used, but the BTN (Bi-s
table Twisted Nematic) type, ferroelectric type and other bistable types with memory properties, polymer-dispersed types, and dyes that have anisotropy in the absorption of visible light in the major and minor axis directions of the molecule (Guest) is dissolved in liquid crystal (host) having a certain molecular arrangement, and GH in which dye molecules are arranged in parallel with the liquid crystal molecules.
(Guest host) type liquid crystal may be used. Also,
The liquid crystal molecules may be vertically aligned with respect to both substrates when no voltage is applied, and the liquid crystal molecules may be horizontally aligned with both substrates when voltage is applied. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules are arranged in the horizontal direction with respect to both substrates, while when the voltage is applied, the liquid crystal molecules are arranged in the vertical direction with respect to both substrates. Is also good. As described above, the present invention can be applied to various types of liquid crystal or alignment method.

【0087】<電子機器>次に、上述した液晶表示装置
を具体的な電子機器に用いた例のいくつかについて説明
する。
<Electronic Equipment> Next, some examples in which the above-described liquid crystal display device is used in specific electronic equipment will be described.

【0088】<その1:モバイル型コンピュータ>ま
ず、この実施形態に係る液晶表示装置を、モバイル型の
パーソナルコンピュータに適用した例について説明す
る。図24は、このパーソナルコンピュータの構成を示
す斜視図である。図において、パーソナルコンピュータ
1100は、キーボード1102を備えた本体部110
4と、液晶表示ユニット1106とから構成されてい
る。この液晶表示ユニット1106は、先に述べた液晶
パネル100の背面にバックライト(図示省略)を付加
することにより構成されている。これにより、外光があ
れば反射型として、外光が不十分であればバックライト
を点灯させることで透過型として、表示が視認できるよ
うになっている。
<Part 1: Mobile Computer> First, an example in which the liquid crystal display device according to this embodiment is applied to a mobile personal computer will be described. FIG. 24 is a perspective view showing the configuration of this personal computer. In the figure, a personal computer 1100 has a main body 110 having a keyboard 1102.
4 and a liquid crystal display unit 1106. The liquid crystal display unit 1106 is configured by adding a backlight (not shown) to the back of the liquid crystal panel 100 described above. Thus, if there is external light, the display can be visually recognized as a reflective type, and if the external light is insufficient, a backlight is turned on to be a transmissive type.

【0089】<その2:携帯電話>次に、液晶表示装置
を、携帯電話の表示部に適用した例について説明する。
図25は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図
において、携帯電話1200は、複数の操作ボタン12
02のほか、受話口1204、送話口1206ととも
に、上述した液晶パネル100を備えるものである。な
お、この液晶パネル100の背面にも、視認性を高める
ためのバックライト(図示省略)が必要に応じて設けら
れる。
<2: Mobile Phone> Next, an example in which the liquid crystal display device is applied to a display section of a mobile phone will be described.
FIG. 25 is a perspective view showing the configuration of the mobile phone. In the figure, a mobile phone 1200 has a plurality of operation buttons 12.
In addition to the liquid crystal panel 02, the receiver 1204 and the mouthpiece 1206 are provided with the above-described liquid crystal panel 100. In addition, a backlight (not shown) for improving visibility is provided on the back surface of the liquid crystal panel 100 as necessary.

【0090】<その3:ディジタルスチルカメラ>さら
に、液晶表示装置をファインダに用いたディジタルスチ
ルカメラについて説明する。図26は、このディジタル
スチルカメラの構成を示す斜視図であるが、外部機器と
の接続についても簡易的に示すものである。通常のカメ
ラは、被写体の光像によってフィルムを感光するのに対
し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像
をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子に
より光電変換して撮像信号を生成するものである。ここ
で、ディジタルスチルカメラ1300におけるケース1
302の背面には、上述した液晶パネル100が設けら
れ、CCDによる撮像信号に基づいて、表示を行う構成
となっている。このため、液晶パネル100は、被写体
を表示するファインダとして機能する。また、ケース1
302の前面側(図においては裏面側)には、光学レン
ズやCCDなどを含んだ受光ユニット1304が設けら
れている。
<Part 3: Digital Still Camera> Further, a digital still camera using a liquid crystal display device as a finder will be described. FIG. 26 is a perspective view showing the configuration of the digital still camera, but also simply shows the connection with an external device. An ordinary camera exposes a film with an optical image of a subject, while a digital still camera 1300 generates an image signal by photoelectrically converting an optical image of the object by an image sensor such as a CCD (Charge Coupled Device). It is. Here, case 1 in the digital still camera 1300
The liquid crystal panel 100 described above is provided on the back surface of the display 302, and is configured to perform display based on an image pickup signal by a CCD. Therefore, the liquid crystal panel 100 functions as a finder for displaying the subject. Case 1
A light receiving unit 1304 including an optical lens, a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the figure) of the 302.

【0091】ここで、撮影者が液晶パネル100に表示
された被写体像を確認して、シャッタボタン1306を
押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回
路基板1308のメモリに転送・格納される。また、こ
のディジタルスチルカメラ1300にあっては、ケース
1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、デ
ータ通信用の入出力端子1314とが設けられている。
そして、図に示されるように、前者のビデオ信号出力端
子1312にはテレビモニタ1430が、また、後者の
データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコン
ピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続され
る。さらに、所定の操作によって、回路基板1308の
メモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430
や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成
となっている。
Here, when the photographer checks the subject image displayed on the liquid crystal panel 100 and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the circuit board 1308. . In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on a side surface of the case 1302.
As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 of the former, and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 of the latter for data communication as necessary. . Further, by a predetermined operation, the imaging signal stored in the memory of the circuit board 1308 is transmitted to the television monitor 1430.
And output to a personal computer 1440.

【0092】なお、電子機器としては、図24のパーソ
ナルコンピュータや、図25の携帯電話、図26のディ
ジタルスチルカメラの他にも、液晶テレビや、ビューフ
ァインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カ
ーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワ
ードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、P
OS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられ
る。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上
述した表示装置が適用可能なのは言うまでもない。
As the electronic apparatus, in addition to the personal computer shown in FIG. 24, the portable telephone shown in FIG. 25, and the digital still camera shown in FIG. 26, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct-view type video tape recorder, Car navigation device, pager, electronic organizer, calculator, word processor, workstation, videophone, P
An OS terminal, a device including a touch panel, and the like can be given. Needless to say, the above-described display device can be applied as a display unit of these various electronic devices.

【0093】[0093]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板に形成される配線抵抗が、透明電極と同一層からなる
透明導電膜と、それよりも低抵抗材料からなる低抵抗導
電膜との積層膜から構成されるので、いずれかの単独層
からなる場合と比較して、配線の低抵抗化を図ることが
可能となる。
As described above, according to the present invention, the wiring resistance formed on the substrate is the same as that of the transparent conductive film composed of the same layer as the transparent electrode and the low resistance conductive film composed of a lower resistance material. , It is possible to reduce the resistance of the wiring as compared with the case where it is composed of any single layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置を
構成する液晶パネルの全体構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view illustrating an entire configuration of a liquid crystal panel included in a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 同液晶パネルをX方向に破断した場合の構成
を示す部分断面図である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a configuration when the liquid crystal panel is broken in an X direction.

【図3】 同液晶パネルにおける画素の構成およびシー
ル材近傍の構成を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a pixel and a configuration near a sealing material in the liquid crystal panel.

【図4】 図3におけるA−A'線の断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line AA ′ in FIG.

【図5】 (a)、(b)は、それぞれ同液晶パネルに
おけるドライバICの実装領域近傍を示す部分断面図で
ある。
FIGS. 5A and 5B are partial cross-sectional views each showing the vicinity of a mounting area of a driver IC in the same liquid crystal panel.

【図6】 同液晶パネルの背面側の基板においてドライ
バICの実装領域近傍を示す部分平面図である。
FIG. 6 is a partial plan view showing the vicinity of a mounting area for a driver IC on a substrate on the back side of the liquid crystal panel.

【図7】 同液晶パネルにおける観察側基板の製造プロ
セスを示す図である。
FIG. 7 is a view showing a manufacturing process of an observation-side substrate in the liquid crystal panel.

【図8】 同液晶パネルにおける背面側基板の製造プロ
セスを示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a manufacturing process of the rear substrate in the liquid crystal panel.

【図9】 同液晶パネルにおける背面側基板の製造プロ
セスを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a manufacturing process of the rear substrate in the liquid crystal panel.

【図10】 同液晶パネルの変形例を示す斜視図であ
る。
FIG. 10 is a perspective view showing a modification of the liquid crystal panel.

【図11】 同液晶パネルの別の変形例を示す斜視図で
ある。
FIG. 11 is a perspective view showing another modified example of the liquid crystal panel.

【図12】 同液晶パネルのさらに別の変形例を示す部
分断面図である。
FIG. 12 is a partial sectional view showing still another modification of the liquid crystal panel.

【図13】 同液晶パネルの応用例における観察側基板
を部分拡大して示す斜視図である。
FIG. 13 is a partially enlarged perspective view showing an observation-side substrate in an application example of the liquid crystal panel.

【図14】 本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置
を構成する液晶パネルの全体構成を示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view illustrating an entire configuration of a liquid crystal panel included in a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図15】 同液晶パネルをX方向に沿って破断した場
合の構成を示す部分断面図である。
FIG. 15 is a partial cross-sectional view showing the configuration when the liquid crystal panel is broken along the X direction.

【図16】 同液晶パネルをY方向に沿って破断した場
合の構成を示す部分断面図である。
FIG. 16 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration when the liquid crystal panel is broken along the Y direction.

【図17】 同液晶パネルにおける画素の構成およびシ
ール材近傍の構成を示す平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing a configuration of a pixel and a configuration near a sealing material in the liquid crystal panel.

【図18】 同液晶パネルにおいて、ドライバICの実
装領域近傍を示す部分断面図である。
FIG. 18 is a partial cross-sectional view showing the vicinity of a mounting area of a driver IC in the same liquid crystal panel.

【図19】 同液晶パネルにおける背面側基板の製造プ
ロセスを示す図である。
FIG. 19 is a view illustrating a manufacturing process of the rear substrate in the liquid crystal panel.

【図20】 同液晶パネルにおける背面側基板の製造プ
ロセスを示す図である。
FIG. 20 is a view illustrating a manufacturing process of the rear substrate in the liquid crystal panel.

【図21】 同液晶パネルにおける背面側基板の製造プ
ロセスを示す図である。
FIG. 21 is a view illustrating a manufacturing process of the rear substrate in the liquid crystal panel.

【図22】 同液晶パネルの変形例を示す斜視図であ
る。
FIG. 22 is a perspective view showing a modification of the liquid crystal panel.

【図23】 同液晶パネルの別の変形例を示す斜視図で
ある。
FIG. 23 is a perspective view showing another modification of the liquid crystal panel.

【図24】 実施形態に係る液晶パネルを適用した電子
機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜
視図である。
FIG. 24 is a perspective view illustrating a configuration of a personal computer as an example of an electronic apparatus to which the liquid crystal panel according to the embodiment is applied.

【図25】 実施形態に係る液晶パネルを適用した電子
機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
FIG. 25 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile phone as an example of an electronic apparatus to which the liquid crystal panel according to the embodiment is applied.

【図26】 実施形態に係る液晶パネルを適用した電子
機器の一例たるディジタルスチルカメラの背面側の構成
を示す斜視図である。
FIG. 26 is a perspective view showing the configuration of the back side of a digital still camera as an example of an electronic apparatus to which the liquid crystal panel according to the embodiment is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100・・・液晶パネル 110・・・シール材 112・・・封止材 114・・・導電性粒子(導通材) 122、124、126・・・ドライバIC 129a、129b・・・バンプ 130、140・・・接着材 134、144・・・導電性粒子 150・・・FPC基板 160・・・液晶 200・・・基板(第1の基板) 203、303・・・散乱樹脂層 204、304・・・反射膜 205R、205G、205B、305R、305G、
305B・・・カラーフィルタ 208、308・・・配向膜 209、309・・・開口部 214・・・コモン電極 300・・・基板(第2の基板) 314・・・セグメント電極 350、360、370・・・配線 352、362、372・・・低抵抗導電膜 354、364、374・・・透明導電膜 1100・・・パーソナルコンピュータ 1200・・・携帯電話 1300・・・ディジタルスチルカメラ
100: liquid crystal panel 110: sealing material 112: sealing material 114: conductive particles (conductive material) 122, 124, 126: driver ICs 129a, 129b: bumps 130, 140 ... adhesives 134, 144 ... conductive particles 150 ... FPC substrate 160 ... liquid crystal 200 ... substrates (first substrate) 203, 303 ... scattering resin layers 204, 304 ... -Reflective film 205R, 205G, 205B, 305R, 305G,
305B: color filters 208, 308: alignment films 209, 309: opening 214: common electrode 300: substrate (second substrate) 314: segment electrode 350, 360, 370 ... Wiring 352, 362, 372 ... Low resistance conductive film 354, 364, 374 ... Transparent conductive film 1100 ... Personal computer 1200 ... Cellular phone 1300 ... Digital still camera

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 338 G09F 9/30 338 343 343Z Fターム(参考) 2H091 FA14Y FA34Y GA02 GA11 GA13 MA10 2H092 GA38 GA39 GA45 GA48 GA60 HA03 HA06 JB21 JB54 KB04 NA28 5C094 AA31 BA03 BA43 CA19 EA04 EA05 EA07 JA05 5G435 AA17 BB12 BB15 CC09 EE40 EE47 HH12 HH15 KK05 KK09 KK10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 338 G09F 9/30 338 343 343 343Z F-term (Reference) 2H091 FA14Y FA34Y GA02 GA11 GA13 MA10 2H092 GA38 GA39 GA45 GA48 GA60 HA03 HA06 JB21 JB54 KB04 NA28 5C094 AA31 BA03 BA43 CA19 EA04 EA05 EA07 JA05 5G435 AA17 BB12 BB15 CC09 EE40 EE47 HH12 HH15 KK05 KK10 KK10

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の基板と第2の基板とが対向して配
置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液
晶が封入された液晶装置であって、 前記第1の基板に設けられた第1の透明電極と、 前記第2の基板に設けられた第1の配線と、 前記第1の透明電極と前記第1の配線とを接続する導通
材とを備え、前記第1の配線は、 金属酸化物膜と、前記金属酸化物膜よりも抵抗値の低い
導電膜とを含むことを特徴とする液晶装置。
1. A liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. A first transparent electrode provided on one substrate, a first wiring provided on the second substrate, and a conductive material for connecting the first transparent electrode and the first wiring. The liquid crystal device, wherein the first wiring includes a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance than the metal oxide film.
【請求項2】 前記導電膜は、前記導通材との接続部分
を避けて形成されていることを特徴とする請求項1に記
載の液晶装置。
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the conductive film is formed so as to avoid a connection portion with the conductive material.
【請求項3】 前記第2の基板に設けられ、前記液晶を
駆動するためのドライバICを、さらに有し、 前記ドライバICは、信号を供給する出力側バンプを含
み、 前記出力側バンプは、前記第1の配線に接続されて、 前記導電膜は、前記ドライバICとの接続部分を避けて
形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶
装置。
3. A driver IC provided on the second substrate for driving the liquid crystal, the driver IC including an output-side bump for supplying a signal, wherein the output-side bump includes: 2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the conductive film is connected to the first wiring, and is formed so as to avoid a connection portion with the driver IC. 3.
【請求項4】 前記第2の基板に設けられ、金属酸化物
膜と、前記金属酸化物膜よりも抵抗値の低い導電膜とを
含む第2の配線と、 前記第2の基板に設けられ、前記液晶を駆動するための
ドライバICとをさらに有し、 前記ドライバICは、信号を入力する入力側バンプを含
み、 前記入力側バンプは、前記第2の配線に接続されて、 前記第2の配線に含まれる導電膜は、前記ドライバIC
との接続部分を避けて形成されていることを特徴とする
請求項1に記載の液晶装置。
A second wiring provided on the second substrate, the second wiring including a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance than the metal oxide film; and a second wiring provided on the second substrate. A driver IC for driving the liquid crystal, the driver IC including an input-side bump for inputting a signal, wherein the input-side bump is connected to the second wiring, The conductive film contained in the wiring of
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device is formed so as to avoid a connection portion with the liquid crystal device.
【請求項5】 前記第2の基板の一辺側に設けられ、前
記第1の基板とは重なり合わない第1の張り出し領域
と、 前記第2の基板にあって、前記一辺と交差する辺側に設
けられ、前記第1の基板とは重なり合わない第2の張り
出し領域とを有し、 前記ドライバICは、前記第1の張り出し領域に設けら
れ、 前記第2の配線は、前記第1の張り出し領域、および、
第2の張り出し領域の双方にわたって設けられているこ
とを特徴とする請求項4に記載の液晶装置。
5. A first overhanging region provided on one side of the second substrate and not overlapping the first substrate, and a side of the second substrate intersecting the one side. And a second overhang region that does not overlap with the first substrate. The driver IC is provided at the first overhang region, and the second wiring is provided at the first overhang region. Overhang area, and
The liquid crystal device according to claim 4, wherein the liquid crystal device is provided over both of the second overhang regions.
【請求項6】 前記第2の配線に、前記第2の張り出し
領域にて接続される外部回路基板をさらに有し、 前記第2の配線に含まれる導電膜は、前記外部回路基板
との接続部分を避けて形成されていることを特徴とする
請求項5に記載の液晶装置。
6. An external circuit board connected to the second wiring at the second overhang region, wherein a conductive film included in the second wiring is connected to the external circuit board. The liquid crystal device according to claim 5, wherein the liquid crystal device is formed so as to avoid the portion.
【請求項7】 前記第2の基板に設けられた第2の透明
電極と、 前記第2の透明電極に接続されるドライバICと、 を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
7. The liquid crystal device according to claim 1, further comprising: a second transparent electrode provided on the second substrate; and a driver IC connected to the second transparent electrode. .
【請求項8】 前記第2の基板に設けられ、金属酸化物
膜と、前記金属酸化物膜よりも抵抗値の低い導電膜とを
含み、前記ドライバICに接続される第2の配線と、 前記第2の基板の一辺側に設けられ、前記第1の基板と
は重なり合わない第1の張り出し領域と、 前記第2の基板にあって、前記一辺と交差する辺側に設
けられ、前記第1の基板とは重なり合わない第2の張り
出し領域とを有し、 前記ドライバICは、前記第2の配線から信号を入力す
る入力側バンプを含み、かつ、前記第1の張り出し領域
に設けられ、 前記第2の配線は、前記第1の張り出し領域、および、
第2の張り出し領域の双方にわたって設けられているこ
とを特徴とする請求項7に記載の液晶装置。
8. A second wiring provided on the second substrate, the second wiring including a metal oxide film, and a conductive film having a lower resistance than the metal oxide film, and connected to the driver IC. A first overhanging region provided on one side of the second substrate and not overlapping with the first substrate; and a second overhanging side provided on the second substrate and intersecting with the one side; A second overhanging region that does not overlap with the first substrate, wherein the driver IC includes an input-side bump for inputting a signal from the second wiring, and is provided in the first overhanging region. The second wiring includes the first overhang region, and
The liquid crystal device according to claim 7, wherein the liquid crystal device is provided over both of the second overhang regions.
【請求項9】 前記第2の配線に含まれる導電膜は、前
記ドライバICとの接続部分を避けて形成されているこ
とを特徴とする請求項8に記載の液晶装置。
9. The liquid crystal device according to claim 8, wherein the conductive film included in the second wiring is formed so as not to be connected to the driver IC.
【請求項10】 請求項1に記載の液晶装置を備えるこ
とを特徴とする電子機器。
10. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
【請求項11】 第1の基板と第2の基板とが対向して
配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に
液晶が封入された液晶装置であって、 前記第1の基板に設けられた第1の透明電極と、 前記第2の基板に設けられた第1の配線と、 前記第1の透明電極と前記第1の配線とを接続する導通
材と、 前記第2の基板に設けられた第2の透明電極と、 前記第2の基板に設けられ、前記第2の透明電極に接続
される第2の配線とを備え、前記第1または第2の配線
の少なくとも一方は、金属酸化物膜と、前記金属酸化物
膜よりも抵抗値の低い導電膜とを含むことを特徴とする
液晶装置。
11. A liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. A first transparent electrode provided on one substrate, a first wiring provided on the second substrate, a conductive material for connecting the first transparent electrode and the first wiring, A second transparent electrode provided on a second substrate; and a second wiring provided on the second substrate and connected to the second transparent electrode, wherein the first or second wiring is provided. At least one of the liquid crystal devices includes a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value than the metal oxide film.
【請求項12】 前記第2の基板に設けられ、前記液晶
を駆動するためのドライバICを、さらに有し、 前記ドライバICは、信号を供給する出力側バンプを含
み、 前記出力側バンプは、前記第1または第2の配線に接続
されていることを特徴とする請求項11に記載の液晶装
置。
12. A driver IC provided on the second substrate and configured to drive the liquid crystal, wherein the driver IC includes an output-side bump for supplying a signal, and the output-side bump includes: The liquid crystal device according to claim 11, wherein the liquid crystal device is connected to the first or second wiring.
【請求項13】 前記第1およびは第2の配線にそれぞ
れ信号を供給する外部回路基板をさらに有することを特
徴とする請求項11に記載の液晶装置。
13. The liquid crystal device according to claim 11, further comprising an external circuit board for supplying a signal to each of the first and second wirings.
【請求項14】 第1の基板と第2の基板とが対向して
配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に
液晶が封入された液晶装置であって、 前記第2の基板の一辺側に設けられ、前記第1の基板と
は重なり合わない第1の張り出し領域と、 前記第2の基板にあって、前記一辺と交差する辺側に設
けられ、前記第1の基板とは重なり合わない第2の張り
出し領域と、 前記第1の張り出し領域、および、第2の張り出し領域
の双方にわたって設けられる配線とを備え、前記配線
は、金属酸化物膜と、前記金属酸化物膜よりも抵抗値の
低い導電膜とを含むことを特徴とする液晶装置。
14. A liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. A first overhanging region provided on one side of the second substrate and not overlapping the first substrate; and a first overhanging region provided on the second substrate and intersecting with the one side; A second overhanging region that does not overlap with the substrate, and wiring provided over both the first overhanging region and the second overhanging region, wherein the wiring comprises a metal oxide film and the metal A liquid crystal device comprising: a conductive film having a lower resistance value than an oxide film.
【請求項15】 第1の基板と第2の基板とが対向して
配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に
液晶が封入された液晶装置であって、 前記第1の基板に設けられた複数の第1の透明電極と、 相隣接する前記第1の透明電極の間に、前記第1の透明
電極とは非導通に設けられた導電性の遮光膜と、 前記第1の基板に設けられ、前記第1の透明電極に接続
される配線とを備え、前記配線は、前記第1の透明電極
と実質的に同一の層と、前記遮光膜と実質的に同一の層
とを含むことを特徴とする液晶装置。
15. A liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. A plurality of first transparent electrodes provided on one substrate; and a conductive light-shielding film provided between the adjacent first transparent electrodes so as to be non-conductive to the first transparent electrode; A wiring provided on the first substrate and connected to the first transparent electrode, wherein the wiring is substantially the same layer as the first transparent electrode; A liquid crystal device comprising the same layer.
【請求項16】 第1の基板と第2の基板とが対向して
配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に
液晶が封入された液晶装置であって、 前記第1の基板に設けられた複数の第1の透明電極と、 相隣接する前記第1の透明電極の間に、前記第1の透明
電極とは非導通に設けられた導電性の遮光膜と、 前記第1の基板に設けられた配線と、 前記第2の基板に設けられた第2の透明電極と、 前記配線と第2の透明電極とを接続する導通材とを備
え、前記配線は、前記第1の透明電極と実質的に同一の
層と、前記遮光膜と実質的に同一の層とを含むことを特
徴とする液晶装置。
16. A liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. A plurality of first transparent electrodes provided on one substrate; and a conductive light-shielding film provided between the adjacent first transparent electrodes so as to be non-conductive to the first transparent electrode; A wiring provided on the first substrate; a second transparent electrode provided on the second substrate; and a conductive material for connecting the wiring and the second transparent electrode. A liquid crystal device comprising: a layer substantially the same as the first transparent electrode; and a layer substantially the same as the light-shielding film.
【請求項17】 第1の基板と第2の基板とが対向して
配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に
液晶が封入された液晶装置の製造方法であって、 第1の透明電極を、前記第1の基板に設ける工程と、 第1前記第2の基板に設けられた第1の配線と、 前記第1の透明電極と前記第1の配線とを接続する導通
材とを備え、前記第1の配線は、 金属酸化物膜と、前記金属酸化物膜よりも抵抗値の低い
導電膜とを含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
17. A method for manufacturing a liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. Providing a first transparent electrode on the first substrate; connecting a first wiring provided on the first and second substrates; and connecting the first transparent electrode to the first wiring. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a conductive material; and a first wiring including a metal oxide film and a conductive film having a lower resistance value than the metal oxide film.
【請求項18】 第1の基板と第2の基板とが対向して
置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に液
晶が封入された液晶装置の製造方法であって、 複数の第1の透明電極を、前記第1の基板に設ける工程
と、 相隣接する前記第1の透明電極の間に、導電性の遮光膜
を、前記第1の透明電極とは非導通に設ける工程と、 前記第1の透明電極に接続される配線を、前記第1の基
板に設ける工程とを備え、前記配線を、前記第1の透明
電極と実質的に同一の層と、前記遮光膜と実質的に同一
の層とを含んで形成することを特徴とする液晶装置の製
造方法。
18. A method for manufacturing a liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are placed facing each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. Providing a plurality of first transparent electrodes on the first substrate; and providing a conductive light-shielding film between the adjacent first transparent electrodes so as to be non-conductive with the first transparent electrodes. Providing a wiring connected to the first transparent electrode on the first substrate, wherein the wiring is substantially the same layer as the first transparent electrode; A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: forming a light-shielding film and a substantially same layer.
【請求項19】 第1の基板と第2の基板とが対向して
配置され、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に
液晶が封入された液晶装置の製造方法であって、 複数の第1の透明電極を、前記第1の基板に設ける工程
と、 相隣接する前記第1の透明電極の間に、導電性の遮光膜
を、前記第1の透明電極とは非導通に設ける工程と、 前記第1の基板に設けた配線と、前記第2の基板に設け
た第2の透明電極とを導通材によって接続する工程とを
備え、前記配線を、前記第1の透明電極と実質的に同一
の層と、前記遮光膜と実質的に同一の層とを含んで形成
することを特徴とする液晶装置の製造方法。
19. A method for manufacturing a liquid crystal device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the first substrate and the second substrate. Providing a plurality of first transparent electrodes on the first substrate; and providing a conductive light-shielding film between the adjacent first transparent electrodes so as to be non-conductive with the first transparent electrodes. And a step of connecting a wiring provided on the first substrate and a second transparent electrode provided on the second substrate by a conductive material, wherein the wiring is formed by the first transparent electrode. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: forming a layer substantially the same as an electrode; and a layer substantially the same as the light-shielding film.
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