JP2002035663A - 基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム - Google Patents

基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム

Info

Publication number
JP2002035663A
JP2002035663A JP2000354983A JP2000354983A JP2002035663A JP 2002035663 A JP2002035663 A JP 2002035663A JP 2000354983 A JP2000354983 A JP 2000354983A JP 2000354983 A JP2000354983 A JP 2000354983A JP 2002035663 A JP2002035663 A JP 2002035663A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
holding
support
rotating
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000354983A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihisa Mori
佳久 森
Kazuto Ueda
和人 上田
Mitsutaka Murata
充孝 村田
Kiyoshi Kosakai
清 小酒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hirano Tecseed Co Ltd
Hirano Steel Recycle Co
Original Assignee
Hirano Tecseed Co Ltd
Hirano Steel Recycle Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hirano Tecseed Co Ltd, Hirano Steel Recycle Co filed Critical Hirano Tecseed Co Ltd
Priority to JP2000354983A priority Critical patent/JP2002035663A/ja
Publication of JP2002035663A publication Critical patent/JP2002035663A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を水平な姿勢にまで回動させ、その後の
塗工を容易にすることができる基板回動装置を提供す
る。 【解決手段】 長方形の基板28の角部を保持する4つ
の保持部材160〜166と、4つの保持部材160〜
166を設けた基板支持台154と、基板支持台154
を垂直な姿勢から水平な姿勢まで回動させる回転アーム
168、168とを有し、基板支持台154を傾斜した
状態で固定して基板28を4つの保持部材160〜16
6によって保持し、その保持した状態で回転アーム16
8によって基板支持台154を水平な姿勢まで回動させ
るものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を水平な姿勢
に回動させる基板回動装置と、それを使用した基板の塗
工システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】最近、液晶表示装置等が広く普及するよ
うになり、この液晶表示装置のガラス板、合成樹脂板に
保護膜等に使用される塗工液を塗工する必要が出てき
た。
【0003】このようなガラス基板、合成樹脂基板等の
基板に塗工液を塗工する方法として、毛細管現象を利用
した塗工装置が提案されている(特開平8−22452
8号、特開平6−343908号)。
【0004】この塗工装置は、塗工液によって満たされ
た液層の内部に毛管状隙間を備えたノズルを沈めてお
き、塗工する際にはこのノズルを上昇させて基板の下面
近傍に位置させ、毛管状隙間から塗工液を接液して、基
板の下面に塗工液を塗工するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の塗工装置によっ
て基板の下面に塗工液を塗工する場合には、例えば、下
面に吸着面を有したサクションテーブルで基板を吸い付
けて固定し、このサクションテーブルを前後方向に沿っ
て塗工装置のノズルの上を移動させて、塗工を行ってい
た。
【0006】ところが、このサクションテーブルに水平
な状態で基板を取り付ける方法としては、サクションテ
ーブルを180゜回転させて吸着面を上にした状態で基
板を載置し、再びサクションテーブルを180゜回転さ
せて基板をサクションテーブルの下面に配するか、また
は、作業者の手によってサクションテーブルの下面に取
り付けていた。
【0007】しかしながら、上記のような方法であると
装置の構造が複雑になるという問題点、または、人間の
手で作業を行う場合には実用的でないという問題点があ
った。特に、基板が大型化し、重量が増えると人間の手
によっては作業ができないという問題点も発生する。
【0008】そこで本発明は上記問題点に鑑み、基板を
水平な姿勢にまで回動させ、その後の塗工を容易にする
ことができる基板回動装置を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、長方
形の基板を回動させる基板回動装置において、前記基板
の4つの角部をそれぞれ保持する4つの保持部材と、前
記4つの保持部材を設けた支持部材と、前記支持部材を
所定角度で傾斜した姿勢から水平な姿勢まで回動させる
回動部材と、を有し、前記支持部材を前記傾斜姿勢で固
定した状態で、前記基板の4つの角部を前記4つの保持
部材によってそれぞれ保持し、前記基板を保持した状態
で前記回動部材によって前記支持部材を水平な姿勢まで
回動させることを特徴とする基板回動装置である。
【0010】請求項2の発明は、前記保持部材は、前記
基板の前右角部を保持する前右保持部材と、その後右角
部を保持する後右保持部材と、その前左角部を保持する
前左保持部材と、その後左角部を保持する後左保持部材
と、を有し、前記支持部材は、前記前右保持部材と前記
後右保持部材を前後方向に移動させる右支持体と、前記
前左保持部材と前記後左保持部材を前後方向に移動させ
る左支持体と、前記右支持体と前記左支持体とを左右方
向に移動させる支持台と、を有したことを特徴とする請
求項1記載の基板回動装置である。
【0011】請求項3の発明は、前記前右保持部材と前
記後右保持部材のうち、一方の保持部材が前記右支持体
の端部近傍に固定され、他方の保持部材が前記右支持体
に沿って移動し、前記前左保持部材と前記後左保持部材
のうち、一方の保持部材が前記左支持体の端部近傍に固
定され、他方の保持部材が前記左支持体に沿って移動す
ることを特徴とする請求項2記載の基板回動装置であ
る。
【0012】請求項4の発明は、前記保持部材は、前記
保持台と、前記保持台から突出した前記基板の角部を保
持する保持片と、前記保持台に回動自在に配された板状
の押さえ部材と、を有し、前記保持台から突出した前記
保持片に前記基板の角部を載置し、前記押さえ部材で前
記基板を押さえることを特徴とする請求項1記載の基板
回動装置である。
【0013】請求項5の発明は、前記保持片及び前記押
さえ片を、前記保持台から上下動可能にしたことを特徴
とする請求項4記載の基板回動装置である。
【0014】請求項6の発明は、前記4つの保持部材の
略中央部分において、前記4つの保持部材によって保持
された基板に対して空気などの気体を吹き付けて、前記
基板の撓みを防止する撓み防止手段を前記支持部材に設
けたことを特徴とする請求項1から5記載の基板回動装
置である。
【0015】請求項7の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルとを有し、前後方
向に走行する長方形の基板の下面に前記ノズルの毛管状
隙間から塗工液を塗布する塗工装置と、水平な姿勢の前
記基板を吸い付けて固定する吸着面を下面に有したサク
ションテーブルと、前記基板を前記サクションテーブル
によって吸着可能な水平な姿勢に回動させる基板回動装
置と、前記基板を基板回動装置の位置から前記塗工装置
の位置まで移動させる移動装置とを有し、前記基板回動
装置は、前記基板の4つの角部をそれぞれ保持する4つ
の保持部材と、前記4つの保持部材を設けた支持部材
と、前記支持部材を所定角度で傾斜した姿勢から水平な
姿勢まで回動させる回動部材と、を有し、前記支持部材
を前記傾斜姿勢で固定した状態で、前記基板の4つの角
部を前記4つの保持部材によってそれぞれ保持し、前記
基板を保持した状態で前記回動部材によって前記支持部
材を水平な姿勢まで回動させることを特徴とする塗工シ
ステムである。
【0016】請求項8の発明は、前記4つの保持部材の
略中央部分において、前記4つの保持部材によって保持
された基板に対して空気などの気体を吹き付けて、前記
基板の撓みを防止する撓み防止手段を前記支持部材に設
けたことを特徴とする請求項7記載の塗工システムであ
る。
【0017】
【作 用】上記発明の基板回動装置であると、支持部材
を傾斜姿勢で固定した状態で、長方形の基板の4つの角
部を4つの保持部材によってそれぞれ保持し、この基板
を保持した状態で回動部材によって支持部材を水平な姿
勢まで回動させる。
【0018】そして、サクションテーブルで水平な姿勢
の基板を吸着させ、その吸着した状態で塗工装置によっ
て基板の下面に塗工液を塗工したりする。
【0019】また、4つの保持部材の略中央部分におい
て、前記4つの保持部材によって保持された大型の基板
に対して空気などの気体を吹き付けて、前記基板の撓み
を防止する撓み防止手段を前記支持部材に設けることに
より、サクションテーブルで水平な姿勢の大型の基板を
吸着させることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】<第1の実施例>以下、本発明の
第1の実施例を示す塗工システム10について図1〜図
21に基づいて説明する。
【0021】この塗工システム10は、液晶表示装置等
のガラス基板に薄く塗工液を塗工する装置である。
【0022】1.塗工装置10の全体の構造 図1は塗工システム10の左側面図であり、図2は正面
図である。
【0023】図1及び図2が示すように、塗工システム
10は、水平な床面等に設置されるベースフレーム12
の上に、リニアウェイ14、14を介して前後方向に移
動可能な移動フレーム16、16が載置されている。
【0024】左右一対の移動フレーム16,16の間に
はサクションテーブル(以下、単にテーブルという)2
4が支持されている。
【0025】このテーブル24の下面である吸着面27
にガラス板よりなる基板28を吸着させ、塗工を行うも
のである。このテーブル24の構成についてはあとから
詳しく説明する。
【0026】また、ベースフレーム12の内部の中央部
分には、基板28の下面に塗工液を塗工するための塗工
装置30が設けられている。
【0027】さらに、ベースフレーム12の後部には、
基板28を傾斜した姿勢から水平な姿勢に回動させるた
めの基板回動装置150が設けられている。
【0028】2.塗工装置30の構造 以下、この塗工装置30について説明する。
【0029】図3が、塗工装置30の斜視図であり、図
4が正面図であり、図5が図4におけるX−X線断面図
である。
【0030】塗工装置30は、ベースフレーム12の左
右方向に配されたベースプレート32を基礎に構成され
ている。
【0031】ベースプレート32の上面には、左右一対
の移動コッタ34,36が設けられている。
【0032】このうち、右側に位置する移動コッタ36
は、ベースプレート32の上面に左右方向に配されたリ
ニアウェイ38に沿って移動可能である。また、移動コ
ッタ36の上面は斜面40になっており、左側が右側よ
りも低くなっている。そして、この斜面40の上にもリ
ニアウェイ42が設けられている。
【0033】移動コッタ34も同様にベースプレート3
2に対してリニアウェイ44で左右方向に移動可能とな
っており、また、斜面46の上にはリニアウェイ48が
設けられている。
【0034】左右一対の移動コッタ34,36には連結
シャフト50が設けられ、この連結シャフト50の右端
部にはサーボモータ52が配されている。連結シャフト
50の移動コッタ34,36の位置には雄ネジ部が設け
られ、移動コッタ34,36内部には雌ネジ部が設けら
れている。このサーボモータ52を回転させることによ
って連結シャフト50が回転し、移動コッタ34,36
がリニアウエイ38,44に沿って左右方向に移動する
ものである。
【0035】一対の移動コッタ34,36の上方には支
持プレート54が設けられている。この支持プレート5
4は、左右方向に沿って延びている支持板56と、この
支持板56の下端より前後方向に延びた基板58とより
なる。
【0036】この基板58の下面には左右一対の支持脚
60,62が設けられている。支持脚60,62の下面
は斜面となっており、前記した移動コッタ34,36の
斜面の上に形成されたリニアウェイ42,48に沿って
移動可能となっている。
【0037】また、ベースプレート32から支持プレー
ト54の基板58の中央部に上下移動用のガイドシャフ
ト64が突出している。支持プレート54はこのガイド
シャフト64に沿って上下動可能であり、かつ、左右方
向の移動が規制されている。
【0038】支持プレート54の上端部には塗工液を溜
めるための液槽66が設けられている。この液槽66に
ついてはあとから説明する。
【0039】支持プレート54の支持板56には左右一
対のリニアウェイ68を介して左右移動プレート70が
設けられている。このリニアウェイ68は左右方向に移
動可能となっている。左右移動プレート70はエアシリ
ンダ71によって左右方向に移動可能となっている。
【0040】左右移動プレート70の前面にはリニアウ
ェイ72を介して上下移動プレート74が設けられてい
る。このリニアウェイ72は斜め方向に移動可能となっ
ている。さらに、上下移動プレート74は支持プレート
54の基板58から突出した左右一対のガイドシャフト
76に沿って上下方向移動可能となっており、かつ、左
右方向の移動が規制されている。
【0041】上下移動プレート74の左端部近傍及び右
端部近傍からノズル支持シャフト78が突出し、この左
右一対のノズル支持シャフト78,80にはノズル82
が支持されている。このノズル82についてはあとから
説明する。
【0042】3.液槽66とノズル82の構造 次に、図6から図8に基づいて液槽66とノズル82の
構造について説明する。
【0043】支持プレート54の支持板56の上部に支
持された液槽66は、左右方向に延びており、図6に示
すように、側面形状は台形となっている。そして、液槽
66の上端部中央部(斜面の頂上部)には、左右方向に
伸びるスリット84が形成されている。このスリット8
4は、液槽66の外方に設けられた蓋86によって閉塞
可能となっている。
【0044】液槽66の内部にはノズル82が内蔵され
ている。このノズル82は、左右方向に伸びる毛管状隙
間88を介して前後一対の前ノズル部材90と後ノズル
部材92とより構成されている。これら前ノズル部材9
0と後ノズル部材92は前後対称であり、上方ほどくち
ばしのように尖った断面形状となっており、その間に毛
管状隙間88が設けられている。この毛管状隙間88の
上端部は左右方向に沿って開口し、下面も左右方向に沿
って開口している。
【0045】ノズル82の左端部及び右端部には前記し
た左右一対のノズル支持シャフト78,80が固定され
ている。そして、左右一対のノズル支持シャフト78,
80は液槽66の底面に開口した左右一対の孔94,9
6を摺動するものである。この孔94,96から塗工液
が漏れ出さないようにするために、ノズル82の底面か
ら液槽66の底面にかけて蛇腹状の閉塞部材98,10
0が設けられている。これにより、支持シャフト78,
80が上下動しても蛇腹状の閉塞部材98,100が上
下方向に延び縮みして、孔94,96から塗工液が漏れ
出さないようになっている(図6及び図7参照)。
【0046】図8に示すように、塗工液を溜めたタンク
102から塗工液がポンプ104によってくみ出され、
フィルタ106を通じて液槽66の左側面に開口した塗
工液の供給口108に供給される。また、液槽66の底
面には循環口110が開口しており、この循環口110
からタンク102に塗工液が循環する。なお、フィルタ
106は、塗工液を循環させるため、異物があった場合
に取り除くものである。
【0047】さらに、液槽66の左側面の上部には、孔
111が開口し、そこからL字状の高さ調整管112が
突出している。この高さ調整管112の上端は開口し、
かつ、その調整管112の外部側面には塗工液の高さを
検知する検知センサ114が設けられている。すなわ
ち、液槽66に塗工液が満たされた場合に、それと同じ
高さまでこの高さ調整管112に塗工液が満たされる。
そして、この満たされた量に応じて検知センサ114が
塗工液を検知し、その高さを検知するものである。そし
て、検知した高さのデータは、マイコンよりなる制御部
115に送られ、制御部115は、その高さのデータに
応じて、ポンプ104のモータ105を駆動させて、設
定され高さになるまで塗工液を供給する。
【0048】4.テーブル24の移動構造 次に、テーブル24をベースフレーム12上を移動させ
る構造について説明する。
【0049】図1及び図2が示すように、この移動フレ
ーム16、16は、ベースフレーム12の両側面に設け
られたネジ棒18をモータ20によって回動させること
で、前後方向にリニアウエイ14、14に沿って移動可
能となっている。
【0050】すなわち、一対の移動フレーム16からネ
ジ棒18と螺合する雌ネジ部を有する移動部22が突出
し、このネジ棒18が回動することによって移動部22
がネジ棒18に沿って移動して、左右一対の移動フレー
ム16,16が前後方向に移動するものである。
【0051】5.テーブル24の吸着構造 次に、基板28をテーブル24に吸着させる構造につい
て図9,図10に基づいて説明する。
【0052】左右一対の移動フレーム16,16の間に
設けられたテーブル24の下面である吸着面27には複
数の吸着孔116が開口している。この吸着孔116は
テーブル24の全面にわたって開口しているものである
が、その内部構造は図9及び図10のようになってい
る。すなわち、テーブル24の内部には、複数の区画に
分割された吸着空間118が設けられている。
【0053】具体的には、第1区画は、図10における
テーブル24の上部の中央部に設けられた4つの吸着空
間118から構成され、各吸着空間118は細い空気経
路120によって連結されている。そして、これら4つ
の吸着空間118の各部分に4つの吸着孔116が開口
している。この第1区画の4つの吸着空間118には図
9に示すように、空気を吸い込むための吸引パイプ12
2が連結され、この吸引パイプ122は手動バルブ12
4を経て、移動フレーム16の一側部から取り出され、
真空ポンプ126に連結されている。
【0054】また、テーブル24の第2区画は、前記し
た第1区画をコの字状に囲んだ状態であり、6個の吸着
空間118から構成され、この吸着空間118も空気経
路120によって連結されている。
【0055】以下、同様にして第3区画、第4区画が構
成されている。
【0056】ここで、テーブル24が基板28を吸着す
る場合について説明する。
【0057】基板28の大きさに合わせて、第1区画か
ら第n区画までを手動バルブ124を開けて真空ポンプ
126によって吸着孔116から基板28を吸着する。
すなわち、中央部にある第1区画は必ず吸引状態にし、
後の区画は、基板28の大きさに合わせて吸引状態にす
る。また、吸引に必要でない区画は手動バルブ124を
閉めて吸引が行われないようにする。
【0058】なお、第1区画を矩形状に開口せず4つの
吸着空間118を設けて各吸着空間118を空気経路1
20によって連結したのは、テーブル24の強度を考慮
したためである。
【0059】6.基板回動装置150の構造 基板回動装置150について詳しく説明する。
【0060】(基板回動装置150の概略)ベースフレ
ーム12の後部に設けられた基板回動装置150につい
て、図1、図2、図11〜図13に基づいて説明する。
【0061】この基板回動装置150は、上記したよう
に基板28をサクションテーブル24で吸着可能な姿勢
に配するものである。
【0062】ベースフレーム12に対し左右方向に掛け
渡された回転軸152に回動自在に設けられた基板支持
台154が設けられ、この基板支持台154の両側部に
は、左右方向に移動自在な左支持体156と右支持体1
58が設けられている。
【0063】左支持体156の後部には固定された左後
保持部材160が設けられ、左支持体156の前部には
前後方向に移動自在な左前保持部材162が設けられて
いる。
【0064】右支持体158の後部にも右後保持部材1
64が固定され、また、前部には前後方向に移動自在な
右前保持部材166が設けられている。
【0065】(基板支持台154の構造)ベースフレー
ム12に対し回動自在に設けられている基板支持台15
4について説明する。
【0066】基板支持台154は、図1に示すように
「く」字状に折曲された一対の回転アーム168、16
8の上端に回動自在に支持され、回転アーム168,1
68の下端が前後方向に移動することによって、基板支
持台154は、回転軸152を中心に垂直な姿勢から水
平な姿勢に回動する。
【0067】回転アーム168の下端は、アーム移動台
170に対し回動自在に設けられ、このアーム移動台1
70はリニアレール172に沿って前後方向に移動自在
となっている。そして、アーム移動台170はネジ棒1
74を姿勢制御用モータ176で回動させることによっ
てリニアレール172に沿って移動自在となっている。
また、回転アーム168の上端部は基板支持台154に
対し回動自在に枢支されている。
【0068】以上の構造によって、アーム移動台170
が図1における矢印の方向に移動すると、回転アーム1
68が回転して、基板支持台154が水平な姿勢(図1
における実線の状態)から垂直な姿勢に回動する(図1
における二点鎖線の状態)。
【0069】また、基板支持台154は、図11に示す
ように左右方向に伸びる前腕部178と後腕部180
と、前腕部178及び後腕部180を連結する一対の連
結体182、182とよりなる。そして、連結体182
のほぼ中央部に、前記した一対の回転アーム168、1
68が回転自在に設けられ、連結体182、182の外
側やや後部には、前記した回転軸152が設けられてい
る。
【0070】前腕部178と後腕部180の左右にはそ
れぞれ前記の左支持体156と右支持体158が設けら
れ、この左右一対の左支持体156と右支持台158が
左右対称に前腕部178と後腕部180を左右方向に移
動する。
【0071】その移動の構造は次のとおりである。
【0072】後腕部180の上面にはリニアウェイ18
4が設けられ、左支持体156と右支持体158の後部
が移動自在になっている。
【0073】また、前腕部178の内部には左右一対の
ネジ棒186、186が設けられ、その中央部には傘歯
車188を介して左右距離調整用モータ190が設けら
れている。そして、この左右距離調整用モータ190が
回動することによってネジ棒186、186が左右対称
に回転し、左支持体156と右支持体158の前部に設
けられた雌ネジ部が前記のネジ棒186に螺合している
ため、左右一対の支持体156,158が左右対称に移
動する。
【0074】左支持体156の後端部には前記したよう
に左後保持部材160が固定され、左前保持部材162
には、左支持体156の内部に設けられたネジ棒192
が前後距離調整用モータ193によって回動することに
よって前後方向に移動自在となるように、雌ネジ部が設
けられている。
【0075】そして、前後距離調整用モータ193を駆
動させることにより、左前保持部材162が移動して左
後保持部材160と左前保持部材162の距離を調整す
ることができる。
【0076】右支持体158に設けられた右後保持部材
164と右前保持部材166も同様の構造となってい
る。
【0077】(保持部材の構造)次に、保持部材160
〜166の構造について説明する。なお、4つの保持部
材160〜166は同様の構造となっているため、代表
して右後保持部材164の構造について図12及び図1
3に基づいて説明する。そして、以下、右後保持部材1
64は単に保持部材164としてここでは説明する。
【0078】保持部材164の四角柱よりなる保持台1
94は右支持体158に固定されている。なお、左前保
持部材162と右前保持部材166の保持台194は各
支持台156,158に対し前記したように移動自在と
なっている。
【0079】保持台194の上面には、平面形状「く」
字状をなし、基板28の角部を載置するための保持片1
96が設けられている。この保持片196は内部にネジ
棒とモータが設けられ、上下方向に移動自在となってい
る。
【0080】保持片196の各辺の外側に沿って、平面
形状「一」字状の固定片198がそれぞれ突出してい
る。
【0081】保持片196の折曲部外方には、押さえ片
200が回動自在に設けられている。この押さえ片20
0は、その基部が押さえ台202に回動自在に設けら
れ、モータによって回動する。また、押さえ台202も
モータによって回転するネジ棒によって上下方向に移動
自在となっている。
【0082】7.塗工工程 上記構成の塗工システム10を用いて基板28に塗工液
を塗工する場合について説明する。
【0083】(初期工程)塗工システム10によって塗
工を行う前に、塗工を行いたい基板28のサイズに合わ
せて4つの保持部材160〜166の位置を調整する。
【0084】すなわち、基板28の左右方向の寸法に合
わせて、左支持体156と右支持体158の距離を調整
する。これは左右距離用調整用モータ190によって調
整する。
【0085】また、基板28の前後方向の寸法調整は、
前後距離調整用モータ193、193によって左前保持
部材162と右前保持部材166を移動させて調整す
る。
【0086】(第1工程)他の装置から搬送されてきた
基板28をまず基板回動装置150に取り付ける。
【0087】この場合には図14に示すように、基板支
持台154を垂直な姿勢になるように姿勢制御用モータ
176を回動させその状態で停止させる。そして、作業
者は基板28を4つの保持部材160〜166にそれぞ
れ載置する。すなわち、基板28の左後角部は左後保持
部材160に載置し、他の角部もそれぞれの保持部材に
載置する。この場合に、保持片196は固定片198よ
りもやや凹んだ状態にし、基板28の厚みが固定片19
8とほぼ同じ高さになるようにする。そして、不図示の
モータを回動させて押さえ片200によって基板200
の各角部を押さえる。これによって、基板28は垂直な
姿勢であっても基板支持台154に固定される。
【0088】(第2工程)垂直な姿勢の基板支持台15
4を図15に示すように水平な姿勢に回動させる。
【0089】(第3工程)水平な姿勢の基板28に対
し、テーブル24を後方に移動させて、基板28の真上
にテーブル24の吸着面27が位置するようにする。
【0090】そして、4つの押さえ片200を回動させ
て基板28を押さえた状態を開放し、押さえ片200は
その状態のまま押さえ台202を下げて待避させる。そ
れとともに保持片196を上方に移動させて基板28の
上面を吸着面27に近づけ、吸着面27によって基板2
8の上面を吸着する。これによって、テーブル24の下
面に基板28が固定される。
【0091】(第4工程)上記のようにしてテーブル2
4の下面に基板28を吸着した状態で図17に示すよう
に塗工開始位置まで移動させる。
【0092】(第5工程)図18に示すように、テーブ
ル28を前部から後部に移動させつつ基板28の下面に
塗工液を塗工する。その工程は次のとおりである。
【0093】(第5−1工程)液槽66の中には所定の
高さまで塗工液を満たしておく。この場合に塗工液の現
在の高さは、高さ調整管112の外部側面に設けられた
検知センサ114によって調整し、塗工液の高さを所定
の高さまで上げる場合には制御部115はポンプ104
を動作させて塗工液を供給する。
【0094】また、ノズル82は、塗工液で満たされた
液槽66の内部に沈んだ状態としておく。そして、この
ようにノズル82が塗工液に沈んだ状態で液槽66のス
リット84の蓋86を開けて、液槽66を基板28の下
方まで上昇させる。この上昇させる方法は、図4に示す
ように、サーボモータ52を回転させて左右一対の移動
コッタ34,36を移動させる。すると、左右方向に移
動が規制された支持プレート54が、移動コッタ34,
36の斜面40,46に設けられたリニアウェイ42,
48に沿って上方のみ移動する。支持プレート54が上
方に移動すると液槽66とノズル82が同時に上方に移
動する。
【0095】液槽66が基板28の下方まで上昇させる
と、その上昇を一旦停止させる。
【0096】(第5−2工程)上記のように上昇した液
槽66からノズル82のみを突出させる。
【0097】このために、左右移動プレート70をエア
シリンダ71によって移動させる。この場合に上下移動
プレート74は左右方向に移動が規制されているため、
左右移動プレート70が左右方向に移動すると、リニア
ウェイ72が斜めに設けられているため上下移動プレー
ト74は上方のみ移動する。上下移動プレート74が上
方に移動するとノズル支持シャフト78,80も同時に
上方に移動してノズル82が上昇する。ノズル82が液
槽66の塗工液から上昇する際に、毛管状隙間88の間
には塗工液が満たされているため、この毛管状隙間88
には塗工液が先端まで満たされた状態で上昇する。そし
て、その上昇を停止させる。
【0098】(第5−3工程)上記のようにノズル82
が突出した状態で液槽66を再び上昇させ、基板28の
下面に接液する。すなわち、ノズル82の毛管状隙間8
8に満たされた塗工液を基板28の下面に接触させるも
のである。
【0099】この上昇の際には液槽66の上昇速度及び
上昇距離はかなり微妙な調整を要求されるが、前記した
ようにサーボモータ52を回転させると移動コッタ3
4,36の斜面に沿って支持プレート54が上下動する
ため、この微妙な調整を容易に行うことが可能となる。
また、左右方向に水平な状態で液槽66を持ち上げるこ
とが可能となるため、基板28の塗工厚が左右方向に変
化することがない。
【0100】(第5−4工程)上記のように接液した状
態でノズル82と共に液槽66を塗工高さの位置まで接
液した状態で下降させる。すなわち、ノズル82の先端
の位置と基板28との間の距離が塗工厚さとなるわけで
ある。そして、この微妙な調整も上記したようにサーボ
モータ52を用いて容易に行うことができる。
【0101】(第5−5工程)上記のようにノズル82
を塗工高さの位置まで下降させた後、基板28をテーブ
ル24によって一定速度で塗工終了位置まで移動させ
る。すると。塗工液はノズル82によって左右方向に塗
工された状態で、前後方向に基板28を移動させること
によって平面状態に塗工を行うことができる。すなわ
ち、基板28上に平面に塗工液を所定の塗工厚さで塗工
することが可能となる。なお、この搬送する場合に、基
板28の前後方向の姿勢、及び、左右方向の姿勢は、ど
ちらも水平に維持する。
【0102】(第5−6工程)基板28を塗工終了位置
で一旦停止させ、ノズル82及び液槽66をそれぞれ塗
工高さの位置から下降させ、基板28から離す。
【0103】(第5−7工程)ノズル82が基板28の
下面から離れた後、テーブル24を図19に示すよう
に、ベースフレーム12の後部、すなわち、基板支持台
154の位置まで移動させる。
【0104】(第6工程)テーブル24の吸着状態を解
除すると塗工が終わった基板28は、4つの保持片19
6の上に載置される。そして、保持片196がやや下降
すると共に、押さえ片200が押さえ台202と共に上
方に移動し、さらに基板28の角部を押さえる方向に回
動する。
【0105】(第7工程)基板28が4つの保持部材1
60〜166に保持された状態で、テーブル24はベー
スフレーム12の前部に待避する。
【0106】(第8工程)図21に示すように、基板支
持台154が水平な姿勢から再び垂直な姿勢に傾斜し、
作業者はその状態で4つの押さえ片200を解除して基
板28を基板回動装置150から取り外す。
【0107】以上のように本実施例の塗工システム10
であると、基板回動装置150を用いることにより基板
28を垂直な姿勢から水平な姿勢に回動させ、テーブル
24によって吸着しやすいようにすることができる。こ
の場合に、人手を使わず、装置の構造も簡単であるた
め、製造効率も上昇し、基板28を確実にテーブル24
に吸着させることができる。
【0108】そして、この場合にテーブル24や基板2
8が傷つくことが無く、また塗工面を人間の手がさわっ
たりするおそれもない。
【0109】なお、上記実施例では基板28を基板支持
台154に取り付ける場合に基板支持台154を垂直な
姿勢にしたが、これに限らず他の角度(例えば30゜、
60゜、120゜、180゜)の姿勢に回動させてもよ
い。したがって、本明細書では、傾斜した姿勢とは水平
な姿勢も含む。なお、この角度はそれぞれの製造工程に
おいて決定するのが好ましい。
【0110】<第2の実施例>本発明の第2の実施例の
塗工システム10について図22から図24に基づいて
説明する。
【0111】最近のガラス基板は、大型化し、かつ薄く
なってきている。そのため、第1の実施例の第3工程に
置いて説明したように、テーブル24の吸着面27で基
板28を吸着する場合に、基板28の中央部が下方に撓
んで吸着できない場合もある。そのため、第2の実施例
では、薄型の基板28であっても、確実にテーブル24
によって基板28を吸着することができる塗工システム
10を提供するものである。
【0112】1.塗工システムの構造 本実施例と第1の実施例の異なる点は、基板28の撓み
を防止する撓み防止装置300を設けた点にある。
【0113】図22は、水平な姿勢の基板28の中央部
を、下方から圧縮空気を吹き付けてその撓みを防止する
撓み防止装置300を設けた側面図であり、図23は正
面図であり、図24は平面図である。
【0114】撓み防止装置300は、4つの押さえ片2
00の略中央部に設けられ、4つのブロック部302に
より構成され、これらブロック部302は、前後方向に
配されている。
【0115】各ブロック部302は、ブロック台304
の上に配され、ブロック部302の底面及び4つの側壁
を構成するフレーム部306と、ブロック部302の上
面を構成する空気吹き出し部308よりなる。また、フ
レーム部306と空気吹き出し部308内部には空間が
形成されている。空気吹き出し部308は、焼結金属、
焼結体、または吸着板のような孔の開いた材質によって
構成されている。
【0116】4つのブロック部302には、空気を送り
出すブロワ310、高性能のフィルターであるHEPA
フィルター312を経て、圧縮空気がそれぞれ送られ
る。この送られた圧縮空気はブロック部302内部の空
間から、空気吹き出し部308を経て上方に吹き出され
る。
【0117】ブロック台304は、一対のブロック支持
脚314,314によって支持され、これらブロック支
持脚314,314は連結体182,182に固定され
ている。ブロック支持脚314,314に対して、ブロ
ック台304が上下方向に移動自在となっている。すな
わち、ブロック支持脚314内部にモータが内蔵され、
リニアウエイによってブロック台304が上下動自在と
なっている。
【0118】2.動作説明 本実施例の塗工システム10における撓み防止装置30
0の動作について説明する。
【0119】第1の実施例における第3工程において、
基板支持台154を水平な姿勢に回動させ、基板28を
水平な姿勢に保持する。
【0120】次に、ブロック台304を上方に移動さ
せ、空気吹き付け部308を基板28の下面の真下に位
置させ、ブロック台304を少しづつ上昇させる。そし
て、基板28が水平になるまでに上昇して停止させる。
【0121】圧縮空気を吹き付けたまま、水平な姿勢の
基板28に対し、テーブル24を後方に移動させて、基
板28の真上にテーブル24の吸着面27が位置させ
る。
【0122】4つの押さえ片200を回動させて基板2
8を押さえた状態を開放し、押さえ片200はその状態
のまま押さえ台202を下げて待避させる。それと共
に、保持片196を上方に移動させて基板28の上面を
吸着面27に近づけ、吸着面27によって基板28の上
面を吸着する。吸着させた後、ブロック台304を下方
に待避させる。
【0123】これによって、大型で、かつ、薄い基板2
8であっても、撓み防止装置300の圧縮空気によって
その中央部の撓みを矯正され、テーブル24の下面に水
平な姿勢の状態のまま基板28を固定させることができ
る。
【0124】3.変更例1 上記実施例では、ブロック部302を前後方向に4個並
べたが、これに代えて1個のブロック部を設けてもよ
く、また、4個以上の多数のブロック部を配列してもよ
い。
【0125】また、ブロック部302の大きさも塗工す
る基板28に合わせて、変更すればよい。
【0126】4.変更例2 上記実施例では、ブロック台304のみが上下動自在と
なっているが、これに加えて、ブロック台304に対し
て4個のブロック部302が個々に上下動可能にしても
よい。
【0127】すなわち、ブロック部302内部にモータ
が内蔵され、リニアウエイによって個々のブロック部3
02を上下動自在とするものである。
【0128】この姿勢を制御する場合に、センサによっ
て基板28が完全な平面の状態になるように検出しつ
つ、基板28の撓みの状態に合わせてブロック台304
に対してブロック部302を個々に上下動させて、より
完全な平面状態に姿勢を矯正する。
【0129】
【発明の効果】以上により本発明であると、基板を所定
の角度の傾斜姿勢から水平な姿勢に回動させることがで
き、この場合に作業者の手を煩わせたりすることがな
い。
【0130】また、前記4つの保持部材によって保持さ
れた大型の基板に対して空気などの気体を吹き付けて、
前記基板の撓みを防止する撓み防止手段を前記支持部材
に設けることにより、サクションテーブルで撓みのない
水平な姿勢の大型の基板を吸着させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す塗工装置の左側面
図である。
【図2】同じく正面図である。
【図3】塗工システムの斜視図である。
【図4】塗工システムの正面図である。
【図5】図4におけるX−X線断面図である。
【図6】液槽及びノズルの縦断面図であり、塗工前の状
態である。
【図7】同じく塗工中の状態である。
【図8】液槽とノズルとタンクとポンプとフィルタの関
係を示す縦断面図である。
【図9】テーブルの縦断面図である。
【図10】テーブルの一部欠載横断面図である。
【図11】基板回動装置の平面図である。
【図12】保持部材の平面図である。
【図13】保持部材の側面図である。
【図14】第1工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図15】第2工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図16】第3工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図17】第4工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図18】第5工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図19】第6工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図20】第7工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図21】第8工程における塗工システムの説明図であ
る。
【図22】第2の実施例を示す塗工装置の左側面図であ
る。
【図23】同じく正面図である。
【図24】同じく基板回動装置の平面図である。
【符号の説明】
10 塗工装置 24 テーブル 28 基板 30 塗工システム 34 移動コッタ 36 移動コッタ 52 サーボモータ 54 支持プレート 60 支持脚 62 支持脚 66 液槽 70 左右移動プレート 71 エアシリンダ 74 上下移動プレート 78 ノズル支持シャフト 80 ノズル支持シャフト 82 ノズル 84 スリット 88 毛管状隙間 150 基板回動装置 154 支持台 156 左支持体 158 右支持体 160〜166 保持部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 充孝 奈良県北葛城郡河合町大字川合101番地の 1 株式会社ヒラノテクシード内 (72)発明者 小酒井 清 奈良県北葛城郡河合町大字川合101番地の 1 株式会社ヒラノテクシード内 Fターム(参考) 4D075 AC02 AC78 AC84 DA06 DB13 DC21 4F040 AA02 AA12 AC01 BA06 CA02 CA05 CA12 CA18 CA20 4F042 AA02 AA06 DF09 DF32

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】長方形の基板を回動させる基板回動装置に
    おいて、 前記基板の4つの角部をそれぞれ保持する4つの保持部
    材と、 前記4つの保持部材を設けた支持部材と、 前記支持部材を所定角度で傾斜した姿勢から水平な姿勢
    まで回動させる回動部材と、 を有し、 前記支持部材を前記傾斜姿勢で固定した状態で、前記基
    板の4つの角部を前記4つの保持部材によってそれぞれ
    保持し、 前記基板を保持した状態で前記回動部材によって前記支
    持部材を水平な姿勢まで回動させることを特徴とする基
    板回動装置。
  2. 【請求項2】前記保持部材は、 前記基板の前右角部を保持する前右保持部材と、 その後右角部を保持する後右保持部材と、 その前左角部を保持する前左保持部材と、 その後左角部を保持する後左保持部材と、 を有し、 前記支持部材は、 前記前右保持部材と前記後右保持部材を前後方向に移動
    させる右支持体と、 前記前左保持部材と前記後左保持部材を前後方向に移動
    させる左支持体と、 前記右支持体と前記左支持体とを左右方向に移動させる
    支持台と、 を有したことを特徴とする請求項1記載の基板回動装
    置。
  3. 【請求項3】前記前右保持部材と前記後右保持部材のう
    ち、一方の保持部材が前記右支持体の端部近傍に固定さ
    れ、他方の保持部材が前記右支持体に沿って移動し、 前記前左保持部材と前記後左保持部材のうち、一方の保
    持部材が前記左支持体の端部近傍に固定され、他方の保
    持部材が前記左支持体に沿って移動することを特徴とす
    る請求項2記載の基板回動装置。
  4. 【請求項4】前記保持部材は、 前記保持台と、 前記保持台から突出した前記基板の角部を保持する保持
    片と、 前記保持台に回動自在に配された板状の押さえ部材と、 を有し、 前記保持台から突出した前記保持片に前記基板の角部を
    載置し、前記押さえ部材で前記基板を押さえることを特
    徴とする請求項1記載の基板回動装置。
  5. 【請求項5】前記保持片及び前記押さえ片を、前記保持
    台から上下動可能にしたことを特徴とする請求項4記載
    の基板回動装置。
  6. 【請求項6】前記4つの保持部材の略中央部分におい
    て、前記4つの保持部材によって保持された基板に対し
    て空気などの気体を吹き付けて、前記基板の撓みを防止
    する撓み防止手段を前記支持部材に設けたことを特徴と
    する請求項1から5記載の基板回動装置。
  7. 【請求項7】塗工液を入れた液槽と、前記液槽に入れた
    塗工液の中に沈み、また、毛管状隙間を備えた左右方向
    に延びたノズルとを有し、前後方向に走行する長方形の
    基板の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工液を塗布
    する塗工装置と、 水平な姿勢の前記基板を吸い付けて固定する吸着面を下
    面に有したサクションテーブルと、 前記基板を前記サクションテーブルによって吸着可能な
    水平な姿勢に回動させる基板回動装置と、 前記基板を基板回動装置の位置から前記塗工装置の位置
    まで移動させる移動装置とを有し、 前記基板回動装置は、 前記基板の4つの角部をそれぞれ保持する4つの保持部
    材と、 前記4つの保持部材を設けた支持部材と、 前記支持部材を所定角度で傾斜した姿勢から水平な姿勢
    まで回動させる回動部材と、 を有し、 前記支持部材を前記傾斜姿勢で固定した状態で、前記基
    板の4つの角部を前記4つの保持部材によってそれぞれ
    保持し、 前記基板を保持した状態で前記回動部材によって前記支
    持部材を水平な姿勢まで回動させることを特徴とする塗
    工システム。
  8. 【請求項8】前記4つの保持部材の略中央部分におい
    て、前記4つの保持部材によって保持された基板に対し
    て空気などの気体を吹き付けて、前記基板の撓みを防止
    する撓み防止手段を前記支持部材に設けたことを特徴と
    する請求項7記載の塗工システム。
JP2000354983A 2000-05-16 2000-11-21 基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム Pending JP2002035663A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000354983A JP2002035663A (ja) 2000-05-16 2000-11-21 基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000-143587 2000-05-16
JP2000143587 2000-05-16
JP2000354983A JP2002035663A (ja) 2000-05-16 2000-11-21 基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002035663A true JP2002035663A (ja) 2002-02-05

Family

ID=26591974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000354983A Pending JP2002035663A (ja) 2000-05-16 2000-11-21 基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002035663A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3411023B2 (ja) 基板の組立装置
JP4729499B2 (ja) マクロ検査装置及びマクロ検査方法
KR970000698B1 (ko) 기판반송장치
TW200906695A (en) Substrate adsorption device, substrate transportation device and external inspection equipment
JP2000284295A (ja) 基板の組立方法およびその装置
JP2004284698A (ja) ワーク搬送装置
JP2001042341A (ja) 液晶基板の組立方法
JP3334045B2 (ja) 塗工方法及び塗工装置
JP2001144166A (ja) 基板位置決め装置及び基板ハンドリング方法
JP4394797B2 (ja) 基板搬送装置
JP2000275140A5 (ja)
JP3210154B2 (ja) 基板の姿勢変換装置
JPH0697137A (ja) 基板洗浄装置
JP6595276B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2004273714A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP2002035663A (ja) 基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム
JP4799640B2 (ja) 現像処理装置
JP3252325B2 (ja) 塗工方法及び塗工装置
JP2001321710A (ja) 塗工装置
JP2603191B2 (ja) 薄板傾動装置
JPH11309408A (ja) 基板処理システム
JP2003051525A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
JPH10303110A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2002153791A (ja) 塗工装置
KR100994341B1 (ko) 플렉시블 기판의 이송 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050426

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050621

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050913