JP2002023658A - Dimming system - Google Patents

Dimming system

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JP2002023658A
JP2002023658A JP2000204183A JP2000204183A JP2002023658A JP 2002023658 A JP2002023658 A JP 2002023658A JP 2000204183 A JP2000204183 A JP 2000204183A JP 2000204183 A JP2000204183 A JP 2000204183A JP 2002023658 A JP2002023658 A JP 2002023658A
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light
semiconductor layer
double gate
voltage
electrode
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Shinobu Sumi
忍 角
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Casio Computer Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dimming system which regulates a light emitting element to a proper luminance in a small circuit scale in the case of dimming to many stages. SOLUTION: Four double gate transistors 71 to 74 where filters 75 to 78 with respectively different light transmittances constitute a photo-sensor array 61 in order to detect the light quantity of external light. Even in the case the light quantity of external light is identical, the quantities of light which falls on the semiconductor layers (71c) of double gate transistors 71 to 74 are different because of the presence of filters 75 to 78. Thus the levels of respective output voltages are different though a sensor a sensor driving circuit 62 drives double gate transistors 71 to 74 in the same manner. The level of the light quantity of external light can be detected in many stages by comparing voltage sampled and held by a sampling and holding circuit 64 with the reference voltage of only one level.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、外光に応じて発光
素子の輝度を調節する調光システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dimming system for adjusting the luminance of a light emitting element according to external light.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置には、外光を表示に利用し
た反射型のものと、バックライトの光を利用した透過型
のものとがある。さらには、外光の量に応じて反射型と
透過型とを切り替えて使用する両用型がある。このうち
反射型のものは、表示の見やすさは全て外光の明るさに
よって決まってしまう。これに対して、透過型のもの
は、外光の状態に応じてバックライトをどのような状態
で点灯するかによって、表示の見やすさが変わってく
る。
2. Description of the Related Art There are two types of liquid crystal display devices: a reflection type using external light for display, and a transmission type using backlight light. Further, there is a dual-purpose type that switches between a reflection type and a transmission type according to the amount of external light. Among them, in the reflection type, the visibility of the display is all determined by the brightness of the external light. On the other hand, in the case of the transmission type, the visibility of the display changes depending on the state of turning on the backlight in accordance with the state of external light.

【0003】そこで、従来より、バックライトの光を調
節する調光システムを有する液晶表示装置が提案されて
いる。この調光システムを利用してバックライトの輝度
を最適に維持するためには、外光の光量をフォトセンサ
によって検出する必要がある。従来、このフォトセンサ
としては、CCD(Charge Coupled Device)等が一般
に用いられていた。
Therefore, a liquid crystal display device having a dimming system for adjusting the light of the backlight has been conventionally proposed. In order to maintain the brightness of the backlight optimally using this dimming system, it is necessary to detect the amount of external light with a photo sensor. Conventionally, a CCD (Charge Coupled Device) or the like has been generally used as the photosensor.

【0004】しかしながら、従来のこのような調光シス
テムには、次のような問題点があった。すなわち、フォ
トセンサは、一般に液晶パネルの基板上に形成される
が、CCDの構造は、液晶表示素子の構造とはかなり異
なるため、製造時においてフォトセンサ形成用の別のプ
ロセスが必要となっていた。このため、液晶表示装置全
体の製造コストが高くなってしまっていた。
However, such a conventional light control system has the following problems. That is, a photosensor is generally formed on a substrate of a liquid crystal panel. However, since the structure of a CCD is considerably different from the structure of a liquid crystal display element, another process for forming a photosensor is required at the time of manufacturing. Was. For this reason, the manufacturing cost of the entire liquid crystal display device has been increased.

【0005】また、バックライトを単純にオン/オフす
るだけでなく、その輝度を多段階に調節する場合には、
フォトセンサの出力信号を輝度の段階に応じた数の基準
電圧と比較しなければならなかった。すなわち、その基
準電圧の数だけの定電圧発生回路を調光システム内に設
けなければならなかった。ここで、定電圧発生回路は比
較的回路規模が大きいため、調光システムが大型化して
しまうと共に、液晶表示装置全体の製造コストが高くな
ってしまっていた。
[0005] In addition to simply turning on / off the backlight and adjusting the brightness in multiple steps,
The output signal of the photosensor had to be compared with a number of reference voltages corresponding to the luminance level. That is, the constant voltage generation circuits as many as the number of the reference voltages have to be provided in the dimming system. Here, since the circuit scale of the constant voltage generating circuit is relatively large, the dimming system becomes large, and the manufacturing cost of the entire liquid crystal display device increases.

【0006】さらに、フォトセンサへの入射光量とその
出力電圧との関係特性は、一般に線形ではない。すなわ
ち、入射光量が一定量以上となると、フォトセンサの出
力電圧にほとんど変化が現れないようになってしまう。
このため、一定以上の明るさになると、その明るさに応
じた適切な状態にバックライトの輝度を調節するのが困
難であった。
Further, the characteristic of the relationship between the amount of light incident on the photosensor and its output voltage is generally not linear. That is, when the amount of incident light exceeds a certain amount, the output voltage of the photo sensor hardly changes.
Therefore, when the brightness reaches a certain level or more, it is difficult to adjust the brightness of the backlight to an appropriate state according to the brightness.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解消するためになされたものであり、低コ
ストで製造可能な調光システムを提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and has as its object to provide a dimming system which can be manufactured at low cost.

【0008】本発明は、また、多段階に調光する場合
に、小さな回路規模で、しかも発光素子を適切な輝度に
調節することができる調光システムを提供することを目
的とする。
Another object of the present invention is to provide a dimming system capable of adjusting a light emitting element to an appropriate luminance with a small circuit scale when dimming in multiple stages.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第1の観点にかかる調光システムは、光透
過率が互いに異なるフィルタが配され、それぞれフィル
タを介して外部から入射された光量を検出する複数の光
検出手段と、前記複数の光検出手段が検出した光量を、
それぞれ所定の基準量と比較する比較手段と、前記比較
手段の比較結果に応じて、調光対象となる発光素子の発
光を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a dimming system according to a first aspect of the present invention is provided with filters having different light transmittances, each of which is externally input via a filter. A plurality of light detection means for detecting the amount of light, and the amount of light detected by the plurality of light detection means,
It is characterized by comprising a comparison means for comparing each with a predetermined reference amount, and a control means for controlling light emission of a light emitting element to be dimmed according to a comparison result of the comparison means.

【0010】上記調光システムでは、複数の光検出手段
に光透過率の異なるフィルタが配されているため、外光
の量が同じでも、それぞれの光検出手段に入射される光
量が異なることとなる。これにより、各光検出手段の最
も感度のよい特性を示す部分を基準値と比較することと
しても、多段階で外部光量の違いを検出することがで
き、発光素子を適切な輝度に調光することができる。
In the dimming system, filters having different light transmittances are arranged in the plurality of light detecting means. Therefore, even if the amount of external light is the same, the amount of light incident on each light detecting means is different. Become. Thereby, even when comparing the portion exhibiting the most sensitive characteristic of each light detecting means with the reference value, the difference in the external light amount can be detected in multiple stages, and the light emitting element is adjusted to appropriate brightness. be able to.

【0011】上記調光システムにおいて、前記複数の光
検出手段は、例えば入射された光量に応じた電圧に変換
するものとすることができる。この場合において、上記
調光システムは、所定の定電圧を発生する定電圧発生回
路をさらに備えるものとすることができ、前記比較手段
は、前記複数の光検出手段がそれぞれ変換した電圧を、
前記定電圧発生回路が発生した定電圧と比較し、それぞ
れの比較結果を制御信号として、前記制御手段に供給す
るものとすることができる。
In the above dimming system, the plurality of light detecting means may convert the voltage into a voltage corresponding to, for example, the amount of incident light. In this case, the dimming system may further include a constant voltage generating circuit that generates a predetermined constant voltage, and the comparing unit converts the voltages respectively converted by the plurality of light detecting units,
The constant voltage generation circuit may be compared with the constant voltage generated, and each comparison result may be supplied to the control unit as a control signal.

【0012】複数の光検出手段は、外光の量が同じでも
入射される光の量がフィルタによって異なり、出力信号
のレベルも異なることとなるので、各光検出手段の出力
信号と比較すべき基準電圧のレベルは、1つだけでよい
こととなる。これにより、比較的回路規模の大きい定電
圧発生回路の数が抑えられるため、調光システムの規模
を小さくすることができる。また、定電圧発生回路の数
が抑えられることから、その製造コストも低くすること
ができる。
The plurality of light detecting means have different amounts of incident light depending on the filters even if the amount of external light is the same, and the level of the output signal is also different. Therefore, the plurality of light detecting means should be compared with the output signal of each light detecting means. Only one level of the reference voltage is required. As a result, the number of constant voltage generation circuits having a relatively large circuit scale can be suppressed, and the scale of the dimming system can be reduced. Further, since the number of constant voltage generation circuits is reduced, the manufacturing cost can be reduced.

【0013】上記調光システムにおいて、前記複数の光
検出手段は、実質的に同時に駆動されてそれぞれの検出
結果を前記比較手段に供給するものとすることができ
る。この場合、前記比較手段は、前記複数の光検出手段
からそれぞれ供給された検出結果を所定の基準値とそれ
ぞれ実質的に同時に比較し、その比較結果を制御信号と
して前記制御手段に供給する複数の比較回路からなるも
のとし、前記制御手段は、前記複数の比較回路から実質
的に同時に供給される制御信号に従って、前記調光対象
となる発光素子の発光を制御するものとすることができ
る。
In the above dimming system, the plurality of light detecting means may be driven substantially simultaneously to supply respective detection results to the comparing means. In this case, the comparison unit compares the detection results supplied from the plurality of light detection units with a predetermined reference value substantially simultaneously, and supplies the comparison result as a control signal to the control unit. The control means may control the light emission of the light-emitting element to be dimmed according to control signals supplied substantially simultaneously from the plurality of comparison circuits.

【0014】上記調光システムにおいて、前記複数の光
検出手段は、時分割で駆動されてそれぞれの検出結果を
順次前記比較手段に供給するものとすることもできる。
この場合、前記比較手段は、前記複数の光検出手段から
時分割で順次供給された検出結果を所定の基準値と順次
比較し、その比較結果を制御信号として前記制御手段に
順次供給する比較回路からなるものとし、前記制御手段
は、前記比較回路から順次供給される制御信号に従っ
て、前記調光対象となる発光素子の発光を制御するもの
とすることができる。
In the above dimming system, the plurality of light detecting means may be driven in a time-division manner and sequentially supply respective detection results to the comparing means.
In this case, the comparing means sequentially compares the detection results sequentially supplied in a time-sharing manner from the plurality of light detecting means with a predetermined reference value, and sequentially supplies the comparison result as a control signal to the control means. Wherein the control means controls light emission of the light emitting element to be dimmed in accordance with a control signal sequentially supplied from the comparison circuit.

【0015】上記調光システムは、マトリクス状に配さ
れた複数の画素と、該複数の画素にそれぞれ接続され、
外部からの選択信号に従って前記複数の画素を行毎に順
次選択するトランジスタを有するアクティブ駆動型の表
示素子をさらに備えていてもよい。この場合、前記トラ
ンジスタは、基板上に形成されたゲート電極と、絶縁膜
を介して前記ゲート電極に対向して設けられた半導体層
と、互いに隔てるようにして前記半導体層に接続された
ドレイン電極及びソース電極を備え、前記光検出手段
は、基板上に形成された第1ゲート電極と、第1の絶縁
膜を介して前記ゲート電極に対向して設けられた半導体
層と、互いに隔てるようにして前記半導体層に接続され
たドレイン電極及びソース電極と、前記半導体層、ドレ
イン電極及びソース電極を覆うように形成された第2の
絶縁膜を介して前記半導体層に対向して設けられた第2
ゲート電極とを備えるものとすることができる。
The dimming system includes a plurality of pixels arranged in a matrix, and each of the plurality of pixels is connected to the plurality of pixels.
The display device may further include an active drive type display element having a transistor for sequentially selecting the plurality of pixels for each row according to an external selection signal. In this case, the transistor includes a gate electrode formed on a substrate, a semiconductor layer provided to face the gate electrode with an insulating film interposed therebetween, and a drain electrode connected to the semiconductor layer so as to be separated from each other. And a source electrode, wherein the photodetector is separated from a first gate electrode formed on the substrate and a semiconductor layer provided opposite the gate electrode via a first insulating film. A drain electrode and a source electrode connected to the semiconductor layer, and a second electrode provided to face the semiconductor layer via a second insulating film formed so as to cover the semiconductor layer, the drain electrode and the source electrode. 2
And a gate electrode.

【0016】このように複数の光検出手段をそれぞれ構
成する、いわゆるダブルゲートトランジスタは、第2ゲ
ート電極を備える(第1ゲート電極は、トランジスタの
ゲート電極に当たる)点でのみ、表示素子を構成してい
るトランジスタと構造が異なることとなる。このため、
表示素子のトランジスタを形成する際のプロセスにおい
て、それと同一の基板上に光検出手段であるダブルゲー
トトランジスタも形成することができる。このため、光
検出手段の形成のために特別に必要とされるプロセスが
ほとんどなくてもよいので、調光システムを低コストで
形成することができる。
The so-called double gate transistor constituting each of the plurality of light detecting means as described above constitutes a display element only in that it has a second gate electrode (the first gate electrode corresponds to the gate electrode of the transistor). The structure differs from that of the transistor. For this reason,
In a process for forming a transistor of a display element, a double-gate transistor as a light detecting means can be formed on the same substrate as the transistor. For this reason, there is almost no need for a process specially required for forming the light detecting means, so that the dimming system can be formed at low cost.

【0017】なお、前記表示素子は、共通電極が形成さ
れた第1の基板と、前記第1の基板に対向し、それぞれ
前記トランジスタが接続された複数の画素電極がマトリ
クス状に形成された第2の基板と、前記第1、第2の基
板間に封入され、各画素電極及び対向する共通電極と共
に画素容量を構成する液晶とからなる液晶表示素子によ
って構成されたものであってもよい。この場合、前記制
御手段が調光対象とする発光素子は、前記液晶表示素子
のバックライトとすることができる。
It is to be noted that the display element has a first substrate on which a common electrode is formed, and a plurality of pixel electrodes opposed to the first substrate and each of which is connected to the transistor, in a matrix. And a liquid crystal display element that is sealed between the first and second substrates and includes a liquid crystal that constitutes a pixel capacitance together with each pixel electrode and a common electrode facing each other. In this case, the light emitting element to be dimmed by the control means can be a backlight of the liquid crystal display element.

【0018】また、前記表示素子は、前記複数の画素毎
に発光素子を有し、各画素の発光素子の発光によって画
像を表示するものであってもよい。この場合、前記制御
手段が調光対象とする発光素子は、前記表示素子の複数
の画素がそれぞれ有する発光素子とすることができる。
Further, the display element may have a light emitting element for each of the plurality of pixels, and display an image by light emission of the light emitting element of each pixel. In this case, the light emitting element to be dimmed by the control means may be a light emitting element included in each of the plurality of pixels of the display element.

【0019】前記表示素子において、前記複数の画素の
少なくとも一部には、特定の波長域の光を透過するカラ
ーフィルタが配されていてもよい。この場合、前記複数
の光検出手段にそれぞれ配されたフィルタは、前記複数
の画素に配されたカラーフィルタと同一のプロセスで形
成されたものとすることができる。
In the display device, at least a part of the plurality of pixels may be provided with a color filter that transmits light in a specific wavelength range. In this case, the filters respectively provided to the plurality of light detection means may be formed by the same process as the color filters provided to the plurality of pixels.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, illustrating the embodiments of the present invention.

【0021】図1は、この実施の形態にかかる液晶表示
装置の構成を示すブロック図である。この液晶表示装置
は、液晶パネル1と、バックライト2と、ゲートドライ
バ3と、ドレインドライバ4と、コントローラ5と、調
光システム6とから構成されている。液晶パネル1は、
液晶表示素子11とフォトセンサアレイ61とを有して
いる。調光システム6は、液晶パネル1に形成されたフ
ォトセンサアレイ61を含む。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a liquid crystal display device according to this embodiment. This liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 1, a backlight 2, a gate driver 3, a drain driver 4, a controller 5, and a dimming system 6. The liquid crystal panel 1
It has a liquid crystal display element 11 and a photo sensor array 61. The light control system 6 includes a photo sensor array 61 formed on the liquid crystal panel 1.

【0022】バックライト2は、液晶表示素子11の背
面側に設けられ、調光システム6によって制御された光
量の光を液晶表示素子11に、その背面側から照射す
る。液晶表示素子11は、一対の基板に液晶を封入して
構成されるもので、TFT12及び画素容量13がマト
リクス状に配列されている。TFT12のゲート電極は
ゲートラインGLに、ドレイン電極はドレインラインD
Lに、ソース電極は他方の基板側にある共通電極と共に
画素容量13を構成するマトリクス状に配列された画素
電極に接続されている。
The backlight 2 is provided on the back side of the liquid crystal display element 11 and irradiates the liquid crystal display element 11 with light of an amount controlled by the dimming system 6 from the back side. The liquid crystal display element 11 is configured by sealing liquid crystal in a pair of substrates, and has TFTs 12 and pixel capacitors 13 arranged in a matrix. The gate electrode of the TFT 12 is connected to the gate line GL, and the drain electrode is connected to the drain line D.
At L, the source electrode is connected to a pixel electrode arranged in a matrix forming a pixel capacitor 13 together with a common electrode on the other substrate side.

【0023】ゲートドライバ3は、コントローラ5から
の制御信号Gcntに従って、ゲートラインGLに順次
ハイレベルの電圧を出力する。ドレインドライバ4は、
コントローラ5からの制御信号Dcntに従って、画像
データDATAを順次取り込み、ゲートドライバ3によ
るゲートラインGLの選択タイミングに合わせて、取り
込んだ1行分の画像データDATAをドレインラインD
Lにそれぞれ出力する。コントローラ5は、ゲートドラ
イバ3及びドレインドライバ4の動作を制御する。
The gate driver 3 sequentially outputs a high-level voltage to the gate line GL according to a control signal Gcnt from the controller 5. The drain driver 4
In accordance with the control signal Dcnt from the controller 5, the image data DATA is sequentially fetched, and the fetched image data DATA for one row is drained to the drain line D in accordance with the selection timing of the gate line GL by the gate driver 3.
L respectively. The controller 5 controls the operation of the gate driver 3 and the drain driver 4.

【0024】調光システム6は、フォトセンサアレイ6
1の他に、センサ駆動回路62と、定電圧発生回路63
と、サンプルホールド回路64と、コンパレータ65
と、発振回路66と、パルス幅制御回路67と、インバ
ータ回路68とから構成されている。なお、フォトセン
サアレイ61は、液晶パネル1のTFT12を形成した
側の基板上に形成されている。
The light control system 6 includes a photo sensor array 6
1, a sensor drive circuit 62 and a constant voltage generation circuit 63
, A sample and hold circuit 64 and a comparator 65
, An oscillation circuit 66, a pulse width control circuit 67, and an inverter circuit 68. The photo sensor array 61 is formed on the substrate of the liquid crystal panel 1 on which the TFT 12 is formed.

【0025】図2(a)は、フォトセンサアレイ61の
構造を示す図である。図示するように、フォトセンサア
レイ61は、光センサである4つのダブルゲートトラン
ジスタ71〜74によって構成されている。ダブルゲー
トトランジスタ71〜74は、それぞれ液晶パネル1の
TFT12が形成されている側の基板70上に形成され
ている。また、各ダブルゲートトランジスタ71〜74
の上には、フィルタ75〜78がそれぞれ形成されてい
る。
FIG. 2A is a diagram showing the structure of the photosensor array 61. As shown in the figure, the photo sensor array 61 includes four double gate transistors 71 to 74 that are optical sensors. The double gate transistors 71 to 74 are formed on the substrate 70 of the liquid crystal panel 1 on the side where the TFT 12 is formed. Further, each double gate transistor 71-74
Filters 75 to 78 are respectively formed on the above.

【0026】ダブルゲートトランジスタ71〜74の構
造について、ダブルゲートトランジスタ71を代表させ
て説明する。基板70の上には、遮光性を有する金属か
らなるボトムゲート電極71aが形成され、これを覆う
ようにSiN等からなるゲート絶縁膜71bが形成され
ている。その上のボトムゲート電極71aに対向する位
置に、i−a−Si等からなる半導体層71cが形成さ
れ、互いに隔てるように半導体層71cに接続されたド
レイン電極71dとソース電極71eとが形成されてい
る。さらにこれらを覆うようにゲート絶縁膜71fが形
成され、その上の半導体層71cに対向する位置に、透
明のITO(Indium Tin Oxide)からなるトップゲート
電極71gが形成されている。その上に、さらに絶縁保
護膜71hが形成されている。半導体層71cとドレイ
ン電極71d及びソース電極71eとの間には、それぞ
れn型不純物イオンが混入された不純物層71iが介在
し、また半導体層71cとゲート絶縁膜71fとの間に
は、チャネル長の長さを制御するブロッキング絶縁層7
1jが介在している。
The structure of the double gate transistors 71 to 74 will be described by taking the double gate transistor 71 as a representative. On the substrate 70, a bottom gate electrode 71a made of a light-shielding metal is formed, and a gate insulating film 71b made of SiN or the like is formed so as to cover the bottom gate electrode 71a. A semiconductor layer 71c made of ia-Si or the like is formed at a position facing the bottom gate electrode 71a thereon, and a drain electrode 71d and a source electrode 71e connected to the semiconductor layer 71c so as to be separated from each other. ing. Further, a gate insulating film 71f is formed so as to cover them, and a top gate electrode 71g made of transparent ITO (Indium Tin Oxide) is formed at a position facing the semiconductor layer 71c thereon. An insulating protection film 71h is further formed thereon. An impurity layer 71i into which n-type impurity ions are mixed is interposed between the semiconductor layer 71c and the drain electrode 71d and the source electrode 71e, and a channel length is provided between the semiconductor layer 71c and the gate insulating film 71f. Insulating layer 7 for controlling the length of
1j is interposed.

【0027】なお、前述した液晶表示素子11に含まれ
るTFT12は、トップゲート電極71gを除いた構造
を有するものであり、ボトムゲート電極71aに対応す
るものが、ゲートラインGLに接続され、ゲートドライ
バ3から選択信号が供給されるゲート電極となる。
The TFT 12 included in the above-described liquid crystal display element 11 has a structure excluding the top gate electrode 71g, and the TFT 12 corresponding to the bottom gate electrode 71a is connected to the gate line GL, 3 is a gate electrode to which a selection signal is supplied.

【0028】また、図2(b)、(c)は、フォトセン
サアレイ61の回路図、すなわちダブルゲートトランジ
スタ71〜74の接続方法を示す図である(以下、それ
ぞれ接続例1、2という)。いずれの接続例においても
ソース電極(71e)は、全て接地又は0(V)以外の
所定電位に固定されており、また、ドレイン電極(71
d)とサンプルホールド回路64又はコンパレータ65
との間の配線は、図示していないが、読み出し状態とな
る前にセンサ駆動回路62からの電圧信号によりプリチ
ャージされるものとする。ダブルゲートトランジスタ7
1〜74は、同一プロセスで形成されているため、ダブ
ルゲートトランジスタ71〜74自体の光感度は、それ
ぞれ同等に設定されている。
FIGS. 2B and 2C are circuit diagrams of the photosensor array 61, that is, diagrams showing a method of connecting the double gate transistors 71 to 74 (hereinafter referred to as connection examples 1 and 2, respectively). . In any of the connection examples, the source electrode (71e) is all grounded or fixed to a predetermined potential other than 0 (V).
d) and the sample hold circuit 64 or the comparator 65
Although not shown, it is assumed that the wiring between them is precharged by a voltage signal from the sensor drive circuit 62 before the reading state. Double gate transistor 7
Since 1 to 74 are formed in the same process, the photosensitivity of the double gate transistors 71 to 74 themselves is set to be equal.

【0029】接続例1では、ダブルゲートトランジスタ
71〜74のトップゲート電極(71g)とボトムゲー
ト電極(71a)とは、それぞれ全てが互いに接続され
ており、センサ駆動回路62から共通の駆動電圧が供給
される。また、ダブルゲートトランジスタ71〜74の
ドレイン電極(71d)に接続された配線は、それぞれ
4系統のまま各コンパレータ65に接続されている。
In connection example 1, the top gate electrode (71g) and the bottom gate electrode (71a) of the double gate transistors 71 to 74 are all connected to each other, and a common drive voltage is supplied from the sensor drive circuit 62. Supplied. Further, the wirings connected to the drain electrodes (71d) of the double gate transistors 71 to 74 are connected to the respective comparators 65 while keeping the four systems.

【0030】一方、接続例2では、ダブルゲートトラン
ジスタ71〜74のドレイン電極(71d)は、互いに
接続されており、そこから1系統の配線でサンプルホー
ルド回路64に接続されている。また、ダブルゲートト
ランジスタ71〜74のトップゲート電極(71g)と
ボトムゲート電極(71a)とは、互いに別系統のタイ
ミングでセンサ駆動回路62から駆動電圧が供給され
る。
On the other hand, in connection example 2, the drain electrodes (71d) of the double gate transistors 71 to 74 are connected to each other, and are connected to the sample-and-hold circuit 64 by one line from there. The top gate electrode (71g) and the bottom gate electrode (71a) of the double gate transistors 71 to 74 are supplied with drive voltages from the sensor drive circuit 62 at different timings.

【0031】なお、ダブルゲートトランジスタ71〜7
4を、接続例1と接続例2のいずれで接続するかによっ
て、センサ駆動回路62、サンプルホールド回路64及
びコンパレータ65の回路構成が変わってくる。また、
パルス幅制御回路67に入力される制御信号も変わって
くる。なお、この実施の形態では、ダブルゲートトラン
ジスタ71〜74は、接続例1で接続されているものと
し、接続例2にした場合に違いが生じる部分について
は、最後にまとめて説明するものとする。
The double gate transistors 71 to 7
The circuit configuration of the sensor driving circuit 62, the sample-and-hold circuit 64, and the comparator 65 changes depending on which of the connection example 1 and the connection example 2 is connected to the connection circuit 4. Also,
The control signal input to the pulse width control circuit 67 also changes. In this embodiment, it is assumed that the double-gate transistors 71 to 74 are connected in connection example 1, and portions that differ in connection example 2 will be described together at the end. .

【0032】次に、ダブルゲートトランジスタ71〜7
4の駆動原理について、図3(a)〜(d)の模式図を
参照して説明する。
Next, the double gate transistors 71 to 7
The driving principle of No. 4 will be described with reference to the schematic diagrams of FIGS.

【0033】図3(a)に示すように、トップゲート電
極(TG)71gに印加されている電圧が+25(V)
で、ボトムゲート電極(BG)71aに印加されている
電圧が0(V)であると、トップゲート電極71gと半
導体層71cのチャネル領域の一方の端部との間には、
接地電位または十分に低い固定電位のソース電極71e
が介在しているため、半導体層71c内に連続したnチ
ャネルが形成されず、ドレイン電極(D)71dに+1
0(V)の電圧が供給されても、ソース電極(S)71
eとの間に電流が流れない。また、この状態では、後述
するフォトセンス状態において半導体層71cの上部に
蓄積された正孔が、同じ極性のトップゲート電極71g
の電圧により反発することにより、排出される。以下、
この状態をリセット状態という。
As shown in FIG. 3A, the voltage applied to the top gate electrode (TG) 71g is +25 (V).
When the voltage applied to the bottom gate electrode (BG) 71a is 0 (V), the voltage between the top gate electrode 71g and one end of the channel region of the semiconductor layer 71c is
Source electrode 71e having a ground potential or a sufficiently low fixed potential
, A continuous n-channel is not formed in the semiconductor layer 71c, and +1 is added to the drain electrode (D) 71d.
Even if a voltage of 0 (V) is supplied, the source electrode (S) 71
Current does not flow between e. In this state, the holes accumulated on the upper portion of the semiconductor layer 71c in the photo-sensing state described later are replaced with the top gate electrode 71g having the same polarity.
It is discharged by repelling by the voltage of. Less than,
This state is called a reset state.

【0034】図3(b)に示すように、半導体層71c
に光が入射されると、その光量に応じて半導体層71c
内に正孔−電子対が生じる。このとき、トップゲート電
極(TG)71gに印加されている電圧が−15(V)
で、ボトムゲート電極(BG)71aに印加されている
電圧が0(V)であると、発生した正孔−電子対のうち
の正孔が半導体層71c上のブロッキング絶縁層71j
に蓄積される。以下、この状態をフォトセンス状態とい
う。なお、半導体層71c内に蓄積された正孔は、リセ
ット状態となるまで半導体層71cから吐出されること
はない。
As shown in FIG. 3B, the semiconductor layer 71c
Is incident on the semiconductor layer 71c according to the amount of light.
A hole-electron pair is generated inside. At this time, the voltage applied to the top gate electrode (TG) 71g is -15 (V).
When the voltage applied to the bottom gate electrode (BG) 71a is 0 (V), the holes of the generated hole-electron pairs are blocked by the blocking insulating layer 71j on the semiconductor layer 71c.
Is accumulated in Hereinafter, this state is referred to as a photosense state. Note that holes accumulated in the semiconductor layer 71c are not discharged from the semiconductor layer 71c until the holes are reset.

【0035】図3(c)に示すように、フォトセンス状
態において入射光量が小さく十分な量の正孔が半導体層
71c内に蓄積されず、トップゲート電極(TG)71
gに印加されている電圧が−15(V)で、ボトムゲー
ト電極(BG)71aに印加されている電圧が+10
(V)であると、半導体層71c内に空乏層が広がり、
nチャネルがピンチオフされ、半導体層71cが高抵抗
となる。このため、ドレイン電極(D)71dに+10
(V)の電圧が供給されても、ソース電極(S)71e
との間に電流が流れない。以下、この状態を第1の読み
出し状態という。
As shown in FIG. 3C, in the photo-sensing state, the amount of incident light is small and a sufficient amount of holes are not accumulated in the semiconductor layer 71c, and the top gate electrode (TG) 71
g is -15 (V), and the voltage applied to the bottom gate electrode (BG) 71a is +10 (V).
With (V), a depletion layer spreads in the semiconductor layer 71c,
The n-channel is pinched off, and the semiconductor layer 71c has a high resistance. Therefore, +10 is applied to the drain electrode (D) 71d.
Even if the voltage of (V) is supplied, the source electrode (S) 71e
No current flows between Hereinafter, this state is referred to as a first read state.

【0036】図3(d)に示すように、フォトセンス状
態において入射光量が大きく十分な量の正孔が半導体層
71c内に蓄積され、トップゲート電極(TG)71g
に印加されている電圧が−15(V)で、ボトムゲート
電極(BG)71aに印加されている電圧が+10
(V)であると、蓄積されている正孔が負電圧の印加さ
れているトップゲート電極71gに引き寄せられて保持
し、トップゲート電極71gの負電圧が半導体層71c
に及ぼす影響を緩和させる。このため、半導体層71c
のボトムゲート電極71a側にnチャネルが形成され、
半導体層71cが低抵抗となる。このため、ドレイン電
極(D)71dに+10(V)の電圧が供給されると、
ソース電極(S)71eとの間に電流が流れる。以下、
この状態を第2の読み出し状態という。
As shown in FIG. 3D, in the photo sensing state, a large amount of incident light and a sufficient amount of holes are accumulated in the semiconductor layer 71c, and the top gate electrode (TG) 71g
Is -15 (V), and the voltage applied to the bottom gate electrode (BG) 71a is +10 (V).
In the case of (V), the accumulated holes are attracted to and held by the top gate electrode 71g to which the negative voltage is applied, and the negative voltage of the top gate electrode 71g is reduced by the semiconductor layer 71c.
To reduce the effect on For this reason, the semiconductor layer 71c
An n channel is formed on the bottom gate electrode 71a side of
The semiconductor layer 71c has low resistance. Therefore, when a voltage of +10 (V) is supplied to the drain electrode (D) 71d,
A current flows between the source electrode (S) 71e. Less than,
This state is called a second read state.

【0037】また、図2に示すフィルタ75〜78につ
いて説明すると、フィルタ75〜78の半導体層71c
を励起する光、すなわち半導体層71cに電子−正孔対
を生成する光の所定波長での透過率は、この順番で低く
なっていくように設定されている。すなわち、同じ光量
の光がフィルタ75〜78に入射されていても、ダブル
ゲートトランジスタ71〜74の半導体層(71c)に
入射される光量は、この順で多くなっていく。
The filters 75 to 78 shown in FIG. 2 will be described.
, That is, light that generates an electron-hole pair in the semiconductor layer 71c at a predetermined wavelength is set to decrease in this order. That is, even if the same amount of light is incident on the filters 75 to 78, the amount of light incident on the semiconductor layers (71c) of the double gate transistors 71 to 74 increases in this order.

【0038】なお、フィルタ75〜78は、グレーフィ
ルタを使用するのが望ましい。が、液晶表示素子11が
RGBのそれぞれの波長域の光を透過する3色のカラー
フィルタを有するものである場合には、例えばRの波長
域の光を透過するカラーフィルタの透過率を変えて、フ
ィルタ75〜78として使用するものとし、液晶表示素
子11のカラーフィルタと同一プロセスで形成してもよ
い。
It is desirable that the filters 75 to 78 use gray filters. However, when the liquid crystal display element 11 has three color filters that transmit light in the respective wavelength ranges of RGB, for example, the transmittance of the color filter that transmits light in the R wavelength range is changed. And the filters 75 to 78, and may be formed in the same process as the color filters of the liquid crystal display element 11.

【0039】図4は、外光の光量とダブルゲートトラン
ジスタ71〜74の抵抗との関係を示す図である。ダブ
ルゲートトランジスタ71は、対応するフィルタ75の
光透過率が最も高いので、外光の量が少ない時でも半導
体層71cに十分な光量が入射され、低抵抗化してドレ
イン電流が流れ、ドレイン電極71dにプリチャージさ
れた電圧を迅速に降下させる。ダブルゲートトランジス
タ72は、対応するフィルタ76の光透過率が2番目に
高いので、ダブルゲートトランジスタ71よりも半導体
層(71c)に入射する光量が少なく、ダブルゲートト
ランジスタ73、74よりも半導体層(71c)に入射
する光量が多い。このため、低抵抗化するには、ダブル
ゲートトランジスタ71の場合よりも外光の量が多くな
ければならないが、ダブルゲートトランジスタ73、7
4の場合よりも少なくてよい。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the amount of external light and the resistance of the double gate transistors 71 to 74. Since the double gate transistor 71 has the highest light transmittance of the corresponding filter 75, even when the amount of external light is small, a sufficient amount of light is incident on the semiconductor layer 71c, the resistance is reduced, the drain current flows, and the drain electrode 71d Quickly drop the precharged voltage. Since the light transmittance of the corresponding filter 76 is the second highest in the double gate transistor 72, the amount of light incident on the semiconductor layer (71c) is smaller than that of the double gate transistor 71, and the semiconductor layer ( 71c) is large. Therefore, in order to reduce the resistance, the amount of external light must be larger than that of the double gate transistor 71.
It may be less than the case of 4.

【0040】ダブルゲートトランジスタ73は、対応す
るフィルタ77の光透過率が3番目に高いので、ダブル
ゲートトランジスタ72よりも半導体層(71c)に入
射する光量がさらに少なく、ダブルゲートトランジスタ
74よりも半導体層(71c)に入射する光量が多い。
このため、低抵抗化するには、ダブルゲートトランジス
タ72の場合よりも外光の量が多くなければならない
が、ダブルゲートトランジスタ74の場合よりも少なく
てよい。また、ダブルゲートトランジスタ74は、対応
するフィルタ78の光透過率が最も低いので、ダブルゲ
ートトランジスタ73よりも半導体層(71c)に入射
する光量がさらに少ない。このため、低抵抗化するに
は、ダブルゲートトランジスタ73の場合よりもさらに
外光の量が多くなければならない。
Since the light transmittance of the corresponding filter 77 is the third highest in the double gate transistor 73, the quantity of light incident on the semiconductor layer (71 c) is smaller than that of the double gate transistor 72, and the semiconductor light quantity is smaller than that of the double gate transistor 74. A large amount of light is incident on the layer (71c).
Therefore, in order to reduce the resistance, the amount of external light must be larger than in the case of the double gate transistor 72, but may be smaller than in the case of the double gate transistor 74. Further, since the light transmittance of the corresponding filter 78 of the double gate transistor 74 is the lowest, the amount of light incident on the semiconductor layer (71c) is smaller than that of the double gate transistor 73. Therefore, in order to reduce the resistance, the amount of external light must be larger than in the case of the double gate transistor 73.

【0041】さらに、再び図1に戻って説明を続ける。
接続例1においてセンサ駆動回路62は、フォトセンサ
アレイ61を構成するダブルゲートトランジスタ71〜
74のトップゲート電極(71g)とボトムゲート電極
(71a)とに、上記したような駆動電圧を適宜供給す
る。また、駆動電圧の供給に合わせて、センサ駆動回路
62のゲートにタイミング信号を出力する。定電圧発生
回路63は、所定の基準電圧を生成してコンパレータ6
5に供給するが、発生する基準電圧は1レベルだけでよ
い。4つのコンパレータ65からパラレルで出力された
2値化信号は、パルス幅制御回路67に入力される。
Returning to FIG. 1, the description will be continued.
In connection example 1, the sensor drive circuit 62 includes the double gate transistors 71 to
The above-described drive voltage is appropriately supplied to the top gate electrode (71g) and the bottom gate electrode (71a). In addition, a timing signal is output to the gate of the sensor drive circuit 62 in accordance with the supply of the drive voltage. The constant voltage generation circuit 63 generates a predetermined reference voltage and
5, but only one level of reference voltage needs to be generated. The binary signals output in parallel from the four comparators 65 are input to the pulse width control circuit 67.

【0042】接続例2では、サンプルホールド回路64
は、センサ駆動回路62から供給されるタイミング信号
に従って、フォトセンサアレイ61を構成するダブルゲ
ートトランジスタ71〜74のそれぞれのドレイン電極
71dからの入射光量に応じて減衰されたプリチャージ
電圧信号(出力電圧信号)を順次サンプルホールドす
る。コンパレータ65は、サンプルホールド回路64に
サンプルホールドされた電圧信号を定電圧発生回路63
が発生した基準電圧と比較し、その比較結果を制御信号
としてパルス幅制御回路67に供給する。
In connection example 2, the sample and hold circuit 64
Is a precharge voltage signal (output voltage) attenuated according to the amount of incident light from the respective drain electrodes 71d of the double gate transistors 71 to 74 constituting the photosensor array 61 in accordance with a timing signal supplied from the sensor drive circuit 62. Signals) are sequentially sampled and held. The comparator 65 outputs the voltage signal sampled and held by the sample and hold circuit 64 to the constant voltage generation circuit 63.
Is supplied to the pulse width control circuit 67 as a control signal.

【0043】接続例1におけるコンパレータ65の回路
図を、図5(a)に示す。上記した接続例1の場合に
は、ダブルゲートトランジスタ71〜74のそれぞれに
対応して、このような回路が設けられている。この場
合、センサ駆動回路62から実質的に同時に供給される
タイミング信号に従って、ダブルゲートトランジスタ7
1〜74のいずれかからの出力電圧信号は、コンパレー
タ65により暗、明の2値のいずれかの制御信号に分別
され、パルス幅制御回路67に供給される。
FIG. 5A is a circuit diagram of the comparator 65 in the first connection example. In the case of connection example 1 described above, such a circuit is provided for each of the double gate transistors 71 to 74. In this case, according to the timing signal supplied substantially simultaneously from the sensor drive circuit 62, the double gate transistor 7
The output voltage signal from any one of 1 to 74 is separated into one of two control signals of dark and light by a comparator 65 and supplied to a pulse width control circuit 67.

【0044】一方、上記した接続例2の場合には、図5
(b)に示すような回路が1つだけ設けられている。こ
の場合、センサ駆動回路62がダブルゲートトランジス
タ71〜74を時分割で順次駆動するのに合わせて、サ
ンプルホールド回路64にタイミング信号が供給され、
それぞれの出力電圧信号が時分割で順次サンプルホール
ドされる。コンパレータ65は、ダブルゲートトランジ
スタ71〜74の出力電圧信号を順次基準電圧と比較す
ることとなり、その比較結果を制御信号として順次パル
ス幅制御回路67に供給する。
On the other hand, in the case of connection example 2 described above, FIG.
Only one circuit as shown in (b) is provided. In this case, a timing signal is supplied to the sample and hold circuit 64 at the same time as the sensor drive circuit 62 sequentially drives the double gate transistors 71 to 74 in a time-division manner.
Each output voltage signal is sampled and held sequentially in time division. The comparator 65 sequentially compares the output voltage signals of the double gate transistors 71 to 74 with the reference voltage, and sequentially supplies the comparison result to the pulse width control circuit 67 as a control signal.

【0045】発振回路66は、所定周波数のクロックパ
ルスを発振する。パルス幅制御回路67は、コンパレー
タ65から供給された制御信号に基づいて、パルス幅を
制御してインバータ回路68に供給する。なお、接続例
2の場合には、ダブルゲートトランジスタ71〜74の
それぞれに対応するコンパレータ65の比較結果を保持
しておき、保持している4つの比較結果に基づいてパル
ス幅を制御する。インバータ回路68は、パルス幅制御
回路67からのパルス信号に応じた電圧をバックライト
2に供給する。
The oscillation circuit 66 oscillates a clock pulse having a predetermined frequency. The pulse width control circuit 67 controls the pulse width based on the control signal supplied from the comparator 65 and supplies the pulse width to the inverter circuit 68. In connection example 2, the comparison result of the comparator 65 corresponding to each of the double gate transistors 71 to 74 is held, and the pulse width is controlled based on the held four comparison results. The inverter circuit 68 supplies a voltage corresponding to the pulse signal from the pulse width control circuit 67 to the backlight 2.

【0046】以下、この実施の形態にかかる液晶表示装
置における動作について説明する。ここで、本発明の特
徴的な部分は、調光システム6によるバックライト2の
明るさの制御であり、液晶表示素子11の駆動に関して
は、従来例と同じに行うもので、この実施の形態に特徴
的なものはない。そこで、以下の説明では、液晶表示素
子11に表示される画像は全て同じものであるとし、外
光に応じて調光システム6がどのように動作し、バック
ライト2の明るさが変えられるかを説明する。
The operation of the liquid crystal display according to this embodiment will be described below. Here, a characteristic part of the present invention is the control of the brightness of the backlight 2 by the dimming system 6, and the driving of the liquid crystal display element 11 is performed in the same manner as in the conventional example. There is no characteristic. Therefore, in the following description, it is assumed that the images displayed on the liquid crystal display element 11 are all the same, and how the dimming system 6 operates according to the external light and the brightness of the backlight 2 can be changed. Will be described.

【0047】センサ駆動回路62は、まず、ダブルゲー
トトランジスタ71〜74のトップゲート電極(71
g)に+25(V)の電圧を、ボトムゲート電極(71
a)に0(V)の電圧を一定期間出力してリセット状態
とし、ダブルゲートトランジスタ71〜74のそれぞれ
の半導体層(71c)に蓄積されている電荷を吐出させ
る。その後、ダブルゲートトランジスタ71〜74のト
ップゲート電極(71g)に+25(V)の電圧を、ボ
トムゲート電極(71a)に0(V)の電圧を一定期間
出力してフォトセンス状態とする。このとき、ダブルゲ
ートトランジスタ71〜74で半導体層(71d)に十
分な光量が入射されていたものには、電荷が蓄積される
こととなる。
First, the sensor drive circuit 62 first controls the top gate electrodes (71
g) and a voltage of +25 (V) to the bottom gate electrode (71).
a) A voltage of 0 (V) is output to the reset state by outputting a voltage of 0 (V) for a certain period, and electric charges accumulated in the respective semiconductor layers (71c) of the double gate transistors 71 to 74 are discharged. Thereafter, a voltage of +25 (V) is output to the top gate electrode (71g) of each of the double gate transistors 71 to 74, and a voltage of 0 (V) is output to the bottom gate electrode (71a) for a certain period of time. At this time, electric charges are accumulated in the double gate transistors 71 to 74 in which a sufficient amount of light has entered the semiconductor layer (71d).

【0048】センサ駆動回路62は、次に、ダブルゲー
トトランジスタ71〜74のボトムゲート電極(71
a)に出力する電圧を+10(V)にすると共に、ドレ
イン電極(71d)に+10(V)の電圧を供給する。
このとき、ダブルゲートトランジスタ71〜74は、十
分な光が入射されていたものについては、第1の読み出
し状態となってドレイン電極(71d)とソース電極
(71e)との間に電流が流れ、ドレイン電極(71
d)の電位が低下する。一方、十分な光が入射されてい
なかったものについては、第2の読み出し状態となって
ドレイン電極(71d)の電位は高いままである。この
ときのダブルゲートトランジスタ71〜74への入射光
量は、フィルタ75〜78の透過率に応じて互いに異な
る。
Next, the sensor drive circuit 62 supplies the bottom gate electrodes (71
The voltage output to a) is set to +10 (V), and a voltage of +10 (V) is supplied to the drain electrode (71d).
At this time, the double gate transistors 71 to 74 are in the first read state for those to which sufficient light has entered, and current flows between the drain electrode (71d) and the source electrode (71e), Drain electrode (71
The potential d) decreases. On the other hand, the one where sufficient light has not entered enters the second reading state, and the potential of the drain electrode (71d) remains high. At this time, the amounts of light incident on the double gate transistors 71 to 74 are different from each other according to the transmittance of the filters 75 to 78.

【0049】次に、センサ駆動回路62は、タイミング
信号をセンサ駆動回路62のゲートに出力し、ダブルゲ
ートトランジスタ71〜74のドレイン電極(71d)
の電圧を、それぞれに対応する4つのコンパレータ65
にそれぞれ供給される。
Next, the sensor drive circuit 62 outputs a timing signal to the gate of the sensor drive circuit 62, and the drain electrodes (71d) of the double gate transistors 71 to 74.
Of each of the four comparators 65
Respectively.

【0050】これら4つのコンパレータ65は、入射光
量に応じて降下された出力電圧信号を、定電圧発生回路
63が発生した基準電圧と比較し、それぞれの比較結果
を2値化の制御信号としてパルス幅制御回路67に供給
する。パルス幅制御回路67は、この4つの制御信号に
基づいて、外光の明るさを5段階のいずれかと判断し、
この判断に応じてパルス幅を制御し、インバータ回路6
8からバックライト2に供給される実効電圧を制御す
る。これにより、バックライト2の発する光が調光され
る。一方、接続例2では、サンプルホールド回路64か
ら順次出力された出力電圧信号をコンパレータ65が明
暗いずれかの2値化の制御信号に変換してパルス幅制御
回路67に入力する。
The four comparators 65 compare the output voltage signal dropped according to the amount of incident light with the reference voltage generated by the constant voltage generating circuit 63, and use the comparison result as a binarized control signal as a pulse. It is supplied to the width control circuit 67. The pulse width control circuit 67 determines the brightness of the external light to be one of five levels based on the four control signals,
The pulse width is controlled according to this judgment, and the inverter circuit 6
8 controls the effective voltage supplied to the backlight 2. Thereby, the light emitted from the backlight 2 is adjusted. On the other hand, in connection example 2, the comparator 65 converts the output voltage signal sequentially output from the sample and hold circuit 64 into a binary control signal of either light or dark and inputs the control signal to the pulse width control circuit 67.

【0051】以下、外光の光量によってバックライト2
の明るさをどのように制御するかについて、具体的に説
明する。ここでは、調光システム6は、外光が液晶表示
素子11の基板で反射して画像が見えにくくなるのを防
ぐため、外光が暗いほどバックライト2を明るく発光さ
せるように調光するものとする。
Hereinafter, the backlight 2 depends on the amount of external light.
How to control the brightness of the image will be specifically described. Here, the dimming system 6 performs dimming so that the darker the external light is, the brighter the backlight 2 emits, in order to prevent the external light from being reflected by the substrate of the liquid crystal display element 11 and making the image difficult to see. And

【0052】外光の光量がほとんどない第1状態では、
ダブルゲートトランジスタ71〜74のいずれの半導体
層(71d)にも十分な量の光が入射しないため、フォ
トセンス状態において電荷が蓄積されない。これによ
り、ダブルゲートトランジスタ71〜74は、いずれも
第2の読み出し状態となって、ドレイン電極(71d)
の電位は高いままとなる。このため、4つのコンパレー
タ65の出力信号は、いずれも定電圧発生回路63から
の基準電圧の方が低いことを示すものとなる。そして、
パルス幅制御回路67は、出力信号のパルス幅を最も小
さくしてインバータ回路68の出力信号の実効電圧を低
くするように制御する。これにより、バックライト2
は、比較的暗めに発光するか全く発光しない。
In the first state where there is almost no external light,
Since a sufficient amount of light does not enter any of the semiconductor layers (71d) of the double gate transistors 71 to 74, no charge is accumulated in the photo-sensing state. As a result, all of the double gate transistors 71 to 74 are in the second read state, and the drain electrode (71d)
Remains high. Therefore, the output signals of the four comparators 65 indicate that the reference voltage from the constant voltage generation circuit 63 is lower. And
The pulse width control circuit 67 performs control so as to minimize the pulse width of the output signal and lower the effective voltage of the output signal of the inverter circuit 68. Thereby, the backlight 2
Emits relatively dark light or no light at all.

【0053】第1状態よりも外光の光量が若干多い第2
状態では、光透過率が高いフィルタ75を介してダブル
ゲートトランジスタ71の半導体層71cに十分な量の
光が入射するが、これよりも光透過率の低いフィルタ7
6〜78によって外光が吸収されて、ダブルゲートトラ
ンジスタ72〜74の半導体層(71c)に十分な量の
光が入射しない。これにより、ダブルゲートトランジス
タ71は第1の読み出し状態となってドレイン電極71
dの電位が低下するが、ダブルゲートトランジスタ72
〜74は第2の読み出し状態となってドレイン電極71
dの電位が高いままとなる。
The second state in which the amount of external light is slightly larger than that in the first state.
In the state, a sufficient amount of light is incident on the semiconductor layer 71c of the double gate transistor 71 via the filter 75 having a high light transmittance, but the filter 7 having a light transmittance lower than this.
External light is absorbed by 6 to 78, and a sufficient amount of light does not enter the semiconductor layers (71c) of the double gate transistors 72 to 74. As a result, the double gate transistor 71 enters the first read state and the drain electrode 71
d decreases, but the double gate transistor 72
74 are in the second read state and the drain electrode 71
The potential of d remains high.

【0054】このため、ダブルゲートトランジスタ72
〜74に対応するコンパレータ65の出力信号は、基準
電圧の方が低いことを示すが、ダブルゲートトランジス
タ71に対応するコンパレータ65の出力信号は、基準
電圧の方が高いことを示すものとなる。そこで、パルス
幅制御回路67は、出力信号のパルス幅を第1状態より
も大きくして、インバータ回路68の出力信号の実効電
圧を第1状態よりも高くする。これにより、バックライ
ト2は、第1状態よりも明るく発光する。
Therefore, the double gate transistor 72
The output signal of the comparator 65 corresponding to .about.74 indicates that the reference voltage is lower, whereas the output signal of the comparator 65 corresponding to the double gate transistor 71 indicates that the reference voltage is higher. Therefore, the pulse width control circuit 67 makes the pulse width of the output signal larger than in the first state, and makes the effective voltage of the output signal of the inverter circuit 68 higher than in the first state. As a result, the backlight 2 emits light brighter than in the first state.

【0055】第2状態よりも外光の光量が若干多い第3
状態では、光透過率が次に高いフィルタ76を介してダ
ブルゲートトランジスタ72の半導体層(71c)にも
十分な量の光が入射する。この場合、ダブルゲートトラ
ンジスタ73、74に対応するコンパレータ65の出力
信号は、基準電圧の方が低いことを示すが、ダブルゲー
トトランジスタ71、72に対応するコンパレータ65
の出力信号は、基準電圧の方が高いことを示すものとな
る。そこで、パルス幅制御回路67は、出力信号のパル
ス幅を第2状態よりも大きくして、インバータ回路68
の出力信号の実効電圧を第2状態よりも高くする。これ
により、バックライト2は、第2状態よりも明るく発光
する。
The third state in which the amount of external light is slightly larger than that in the second state.
In this state, a sufficient amount of light is incident on the semiconductor layer (71c) of the double gate transistor 72 via the filter 76 having the next highest light transmittance. In this case, the output signal of the comparator 65 corresponding to the double gate transistors 73 and 74 indicates that the reference voltage is lower, but the comparator 65 corresponding to the double gate transistors 71 and 72
Output signal indicates that the reference voltage is higher. Therefore, the pulse width control circuit 67 sets the pulse width of the output signal larger than that in the second state, and
Is made higher than the second state. Thus, the backlight 2 emits light brighter than in the second state.

【0056】第3状態よりも外光の光量が若干多い第4
状態では、光透過率が次に高いフィルタ77を介してダ
ブルゲートトランジスタ73の半導体層(71c)にも
十分な量の光が入射する。この場合、ダブルゲートトラ
ンジスタ74に対応するコンパレータ65の出力信号
は、基準電圧の方が低いことを示すが、ダブルゲートト
ランジスタ71〜73に対応するコンパレータ65の出
力信号は、基準電圧の方が高いことを示すものとなる。
そこで、パルス幅制御回路67は、出力信号のパルス幅
を第3状態よりも大きくして、インバータ回路68の出
力信号の実効電圧を第3状態よりも高くする。これによ
り、バックライト2は、第3状態よりも明るく発光す
る。
The fourth mode in which the amount of external light is slightly larger than that in the third mode.
In this state, a sufficient amount of light is incident on the semiconductor layer (71c) of the double gate transistor 73 via the filter 77 having the next highest light transmittance. In this case, the output signal of the comparator 65 corresponding to the double gate transistor 74 indicates that the reference voltage is lower, but the output signal of the comparator 65 corresponding to the double gate transistors 71 to 73 has a higher reference voltage. It indicates that.
Therefore, the pulse width control circuit 67 makes the pulse width of the output signal larger than that in the third state, and makes the effective voltage of the output signal of the inverter circuit 68 higher than that in the third state. Thus, the backlight 2 emits light brighter than the third state.

【0057】さらに外光の量が多い第5状態では、フィ
ルタ75〜78のそれぞれを介して全てのダブルゲート
トランジスタ71〜74の半導体層(71c)に十分な
量の光が入射する。この場合、ダブルゲートトランジス
タ71〜74にそれぞれ対応する全てのコンパレータ6
5の出力信号が、基準電圧の方が高いことを示すものと
なる。そこで、パルス幅制御回路67は、出力信号のパ
ルス幅を第4状態よりも大きくして、インバータ回路6
8の出力信号の実効電圧を第4状態よりも高くする。こ
れにより、バックライト2は、第4状態よりも明るく発
光する。
In the fifth state in which the amount of external light is large, a sufficient amount of light is incident on the semiconductor layers (71c) of all the double gate transistors 71 to 74 via the filters 75 to 78, respectively. In this case, all the comparators 6 corresponding to the double gate transistors 71 to 74 respectively
The output signal of No. 5 indicates that the reference voltage is higher. Therefore, the pulse width control circuit 67 sets the pulse width of the output signal larger than that in the fourth state, and
8 makes the effective voltage of the output signal higher than that in the fourth state. As a result, the backlight 2 emits light brighter than in the fourth state.

【0058】以上説明したように、この実施の形態にか
かる液晶表示装置では、調光システム6を構成するフォ
トセンサアレイ61に、ダブルゲートトランジスタ71
〜74を用いている。ダブルゲートトランジスタ71〜
74の構造は、液晶表示素子11を構成するTFT12
とほとんど同じなので、実質的に同一の製造プロセスで
製造することができる。このため、液晶表示装置全体と
しての製造コストを低く抑えることができる。
As described above, in the liquid crystal display device according to this embodiment, the double gate transistor 71 is provided in the photo sensor array 61 constituting the light control system 6.
To 74 are used. Double gate transistors 71-
The structure of the TFT 74 constitutes the TFT 12 constituting the liquid crystal display element 11.
Since they are almost the same, they can be manufactured by substantially the same manufacturing process. Therefore, the manufacturing cost of the entire liquid crystal display device can be reduced.

【0059】また、フォトセンサアレイ61に4つのダ
ブルゲートトランジスタ71〜74を設けているが、こ
れらの上にフィルタ75〜78が配されているために、
外光の量が同じでも、それぞれの出力電圧が異なるもの
となっている。そこで、ダブルゲートトランジスタ71
〜74の出力信号は、いずれも同じ基準電圧と比較すれ
ばよいため、1レベルの基準電圧を発生する定電圧発生
回路63を1つだけ設ければよいこととなる。これによ
り、調光システム6の大きさを小さくすることができる
と共に、製造コストを低く抑えることができる。
Although four double gate transistors 71 to 74 are provided in the photo sensor array 61, the filters 75 to 78 are disposed on these double gate transistors 71 to 74.
Even if the amount of external light is the same, each output voltage is different. Therefore, the double gate transistor 71
Since the output signals to 74 may be compared with the same reference voltage, only one constant voltage generating circuit 63 for generating a one-level reference voltage may be provided. Thus, the size of the light control system 6 can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【0060】さらに、フィルタ75〜78を設けたこと
によって、外光の量が同じでも、ダブルゲートトランジ
スタ71〜74の半導体層(71c)に入射する光量が
異なるものとなる。これにより、例えば外光がかなり明
るい状態であっても、光の透過率の低いフィルタ78に
よって半導体層(71c)に入射する光の量を抑えられ
るため、ダブルゲートトランジスタ74は、外光の光量
のわずかな違いを感度よく検出することができる。ダブ
ルゲートトランジスタ71〜73も同様に、外光の光量
の違いを感度よく検出できる。このため、バックライト
2を多段階で適切な輝度に調整することができるように
なる。
Further, by providing the filters 75 to 78, even if the amount of external light is the same, the amount of light incident on the semiconductor layers (71c) of the double gate transistors 71 to 74 becomes different. As a result, for example, even when the external light is quite bright, the amount of light incident on the semiconductor layer (71c) can be suppressed by the filter 78 having a low light transmittance. Can be detected with high sensitivity. Similarly, the double gate transistors 71 to 73 can detect a difference in the amount of external light with high sensitivity. For this reason, the backlight 2 can be adjusted to an appropriate luminance in multiple stages.

【0061】本発明は、上記の実施の形態に限られず、
種々の変形、応用が可能である。以下、本発明に適用可
能な上記の実施の形態の変形態様について説明する。
The present invention is not limited to the above embodiment,
Various modifications and applications are possible. The following describes variation in the form applicable foregoing embodiments of the present invention.

【0062】上記の実施の形態では、フォトセンサアレ
イ61を構成するダブルゲートトランジスタ71〜74
を、図2(b)に示す接続例1で接続した場合を説明し
ていた。これに対して、図2(c)に示す接続例2で接
続した場合は、次の点が異なるものとなる。
In the above embodiment, the double gate transistors 71 to 74 constituting the photo sensor array 61
Have been described in connection example 1 shown in FIG. 2B. On the other hand, when the connection is made in connection example 2 shown in FIG. 2C, the following points are different.

【0063】センサ駆動回路62は、ダブルゲートトラ
ンジスタ71〜74を順次、リセット状態、フォトセン
ス状態、読み出し状態としていき、ダブルゲートトラン
ジスタ71〜74のそれぞれから入射された光量に応じ
た電圧信号を、時分割で順次出力させるものとする。
The sensor drive circuit 62 sequentially sets the double gate transistors 71 to 74 in a reset state, a photo sense state, and a read state, and outputs a voltage signal corresponding to the amount of light incident from each of the double gate transistors 71 to 74. It is assumed that the data is sequentially output in a time division manner.

【0064】また、サンプルホールド回路64及びコン
パレータ65は、図5(b)に示すような回路が1つだ
けで構成されており、センサ駆動回路62からのタイミ
ング信号に従って、ダブルゲートトランジスタ71〜7
4の出力電圧信号が、順次時分割でサンプルホールド回
路64にサンプルホールドされる。これにより、コンパ
レータ65は、ダブルゲートトランジスタ71〜74の
出力電圧信号を順次定電圧発生回路63が発生している
定電圧と比較し、それぞれの比較結果を示す信号を、サ
ンプルホールド回路64への信号の取り込みと実質的に
同じように時分割で、パルス幅制御回路67に供給す
る。
The sample hold circuit 64 and the comparator 65 are composed of only one circuit as shown in FIG. 5B, and the double gate transistors 71 to 7 are provided in accordance with a timing signal from the sensor drive circuit 62.
4 are sequentially sampled and held by the sample and hold circuit 64 in a time-division manner. As a result, the comparator 65 sequentially compares the output voltage signals of the double gate transistors 71 to 74 with the constant voltages generated by the constant voltage generation circuit 63, and outputs signals indicating the respective comparison results to the sample hold circuit 64. The signal is supplied to the pulse width control circuit 67 in a time-division manner substantially in the same manner as the signal acquisition.

【0065】パルス幅制御回路67は、ダブルゲートト
ランジスタ71〜74にそれぞれ対応する4つ分の最新
のコンパレータ65の比較結果の信号を、保持してい
る。そして、保持している4つ分のコンパレータ65の
比較結果の信号に基づいて、出力信号のパルス幅を制御
する。
The pulse width control circuit 67 holds the latest comparison result signals of the four comparators 65 corresponding to the double gate transistors 71 to 74, respectively. Then, the pulse width of the output signal is controlled based on the signals of the comparison results of the four comparators 65 held.

【0066】上記の実施の形態では、調光システム6
は、パルス幅制御回路67及びインバータ回路68によ
りバックライト2に供給する電圧を制御し、バックライ
ト2が発する光の明るさを調整するものとしていた。こ
れに対して、調光システム6は、バックライト2に供給
する電圧を制御する代わりに、供給する電流の量を制御
し、バックライト2が発する光の明るさを調整するもの
としてもよい。また、外光の量が多いほどバックライト
2を明るく発光させる場合だけでなく、外光の量が少な
いほどバックライト2を明るく発光させたり、例えば外
光の量が多いときと少ないときに、中間量の場合よりも
バックライト2を明るく発光させるものとしてもよい。
In the above embodiment, the light control system 6
In the above, the voltage supplied to the backlight 2 is controlled by the pulse width control circuit 67 and the inverter circuit 68 to adjust the brightness of the light emitted from the backlight 2. On the other hand, instead of controlling the voltage supplied to the backlight 2, the dimming system 6 may control the amount of the supplied current and adjust the brightness of the light emitted from the backlight 2. In addition, not only when the amount of external light is large, the backlight 2 emits light brightly, but also when the amount of external light is small, the backlight 2 emits light brightly. For example, when the amount of external light is large and small, The backlight 2 may emit light more brightly than in the case of the intermediate amount.

【0067】上記の実施の形態では、調光システム6
は、液晶表示装置のバックライト2の明るさを調整する
ものであったが、自発光型の発光素子の明るさを調整す
るものとすることもできる。図6は、自発光型の発光素
子である有機EL素子を含む有機EL表示装置の構成を
示すブロック図である。この有機EL表示装置は、明暗
2階調の表示を行うもので、ゲートドライバ3と、ドレ
インドライバ4と、コントローラ5と、調光システム6
と、有機ELパネル8とから構成されている。なお、参
照番号が同一のものは、図1に示したものと実質的に同
一である。
In the above embodiment, the light control system 6
Is for adjusting the brightness of the backlight 2 of the liquid crystal display device, but may be for adjusting the brightness of a self-luminous light emitting element. FIG. 6 is a block diagram illustrating a configuration of an organic EL display device including an organic EL element that is a self-luminous light emitting element. This organic EL display device performs display of two gradations of light and dark, and includes a gate driver 3, a drain driver 4, a controller 5, a light control system 6
And an organic EL panel 8. The components having the same reference numbers are substantially the same as those shown in FIG.

【0068】有機ELパネル8は、同一の基板上に形成
された有機EL表示素子81と、フォトセンサアレイ6
1とから構成されている。有機EL表示素子81は、複
数の画素がマトリクス状に形成されてなるもので、各画
素は、選択用TFT82と、駆動用TFT83と、キャ
パシタ84と、有機EL素子85とから構成されてい
る。インバータ回路68の出力電圧は、有機EL素子8
5のアノードに供給される。
The organic EL panel 8 includes an organic EL display element 81 formed on the same substrate and a photo sensor array 6.
And 1. The organic EL display element 81 includes a plurality of pixels formed in a matrix. Each pixel includes a selection TFT 82, a driving TFT 83, a capacitor 84, and an organic EL element 85. The output voltage of the inverter circuit 68 is the organic EL element 8
5 anodes.

【0069】ゲートドライバ3から選択用の電圧がゲー
トラインGLに出力されると、そこに接続された選択用
TFT82がオンする。このとき、ドレインドライバ4
からドレインラインDLに出力された電圧が、選択用T
FT82を介してキャパシタ84に書き込まれる。書き
込まれた電圧のレベルが例えばハイレベルであれば、駆
動用TFT83がオンする。これにより、有機EL素子
85に電流が流れ、インバータ回路68から供給される
電圧のレベルに応じた輝度で、有機EL素子85が発光
する。このように、調光システム6は、自発光型の表示
素子の発光輝度のレベルも調整することを可能とするも
のである。なお、有機EL素子85に供給する電流の量
を制御してもよい。
When a selection voltage is output from the gate driver 3 to the gate line GL, the selection TFT 82 connected thereto is turned on. At this time, the drain driver 4
Is output to the drain line DL from the selection T
The data is written to the capacitor 84 via the FT 82. If the level of the written voltage is, for example, a high level, the driving TFT 83 is turned on. As a result, a current flows through the organic EL element 85, and the organic EL element 85 emits light at a luminance corresponding to the level of the voltage supplied from the inverter circuit 68. As described above, the dimming system 6 can adjust the level of the light emission luminance of the self-luminous display element. Note that the amount of current supplied to the organic EL element 85 may be controlled.

【0070】上記の実施の形態では、フォトセンサアレ
イ61は、ダブルゲートトランジスタ71〜74と、フ
ィルタ75〜78の組み合わせによって構成されるもの
としていた。これに対して、フィルタ75〜78を設け
ず、センサ駆動回路62からダブルゲートトランジスタ
71〜74にそれぞれ別の電位の駆動用信号を出力し
て、外光の量を検出するものとしてもよい。また、ダブ
ルゲートトランジスタ71〜74以外のタイプのフォト
センサと、フィルタ75〜78の組み合わせによって構
成するものとしてもよい。前者では、少なくともフォト
センサアレイを液晶表示素子11と同じ基板上に形成す
ることができるという効果が得られる。一方、後者で
は、基準電圧発生回路の数を抑えられるという効果や、
センサとして使いやすい特性の範囲のみを使うことがで
きるという効果が得られる。そして、ダブルゲートトラ
ンジスタ71〜74の数はこれに限らず、2個以上であ
れば良好に外光の明るさを3階調以上検出することがで
きる。
In the above embodiment, the photo sensor array 61 is configured by a combination of the double gate transistors 71 to 74 and the filters 75 to 78. On the other hand, the filters 75 to 78 may not be provided, and driving signals of different potentials may be output from the sensor driving circuit 62 to the double gate transistors 71 to 74 to detect the amount of external light. Further, a photosensor of a type other than the double gate transistors 71 to 74 and filters 75 to 78 may be combined. The former has an effect that at least the photosensor array can be formed on the same substrate as the liquid crystal display element 11. On the other hand, the latter has the effect of reducing the number of reference voltage generation circuits,
The effect is obtained that only the range of characteristics easy to use as a sensor can be used. The number of the double gate transistors 71 to 74 is not limited to this, and if the number is two or more, the brightness of the external light can be favorably detected at three or more gradations.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したように、光検出手段をダブ
ルゲートトランジスタで構成することによって、該光検
出手段をアクティブ駆動型の表示素子と同一基板上に、
同一プロセスで形成できるようになり、調光システムの
製造コストを低くすることができる。
As described above, by forming the light detecting means by a double gate transistor, the light detecting means can be formed on the same substrate as the active drive type display element.
Since it can be formed by the same process, the manufacturing cost of the light control system can be reduced.

【0072】また、複数の光検出手段にそれぞれ光透過
率の異なるフィルタを配することにより、それぞれの光
検出手段の感度のよい部分を用いて外部光の光量を検出
することができる。
Further, by arranging filters having different light transmittances to the plurality of light detecting means, it is possible to detect the amount of external light using the sensitive portions of the respective light detecting means.

【0073】さらに、複数の光検出手段が光電変換した
電圧信号は、1レベルの電圧信号だけと比較すればよい
ので、定電圧発生回路を1つだけ設ければよいものとな
る。これにより、調光システムの規模を小さくすること
ができると共に、製造コストを低くすることができる。
Further, the voltage signal photoelectrically converted by the plurality of light detecting means may be compared with only the voltage signal of one level, so that only one constant voltage generating circuit may be provided. Accordingly, the scale of the dimming system can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態にかかる液晶表示装置の構
成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a)は、フォトセンサアレイの構造を示す
図、(b)、(c)は、フォトセンサアレイの回路図で
ある。
FIG. 2A is a diagram showing a structure of a photosensor array, and FIGS. 2B and 2C are circuit diagrams of the photosensor array.

【図3】ダブルゲートトランジスタの駆動原理を模式的
に示す図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a driving principle of a double gate transistor.

【図4】外光の光量と各ダブルゲートトランジスタのオ
ン抵抗との関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the amount of external light and the on-resistance of each double gate transistor.

【図5】コンパレータの回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of a comparator.

【図6】本発明の他の実施の形態にかかる有機EL表示
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of an organic EL display device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…液晶パネル、2…バックライト、3…ゲートドライ
バ、4…ドレインドライバ、5…コントローラ、6…調
光システム、8…有機ELパネル、11…液晶表示素
子、12…TFT、13…画素容量、61…フォトセン
サアレイ、62…センサ駆動回路、63…定電圧発生回
路、64…サンプルホールド回路、65…コンパレー
タ、66…発振回路、67…パルス幅制御回路、68…
インバータ回路、70…基板、71〜74…ダブルゲー
トトランジスタ、71a…ボトムゲート電極、71b…
ゲート絶縁膜、71c…半導体層、71d…ドレイン電
極、71e…ソース電極、71f…ゲート絶縁膜、71
g…トップゲート電極、71h…絶縁保護膜、71i…
不純物層、71j…ブロッキング層、75〜78…フィ
ルタ、81…有機EL表示素子、82…選択用TFT、
83…駆動用TFT、84…キャパシタ、85…有機E
L素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal panel, 2 ... Backlight, 3 ... Gate driver, 4 ... Drain driver, 5 ... Controller, 6 ... Light control system, 8 ... Organic EL panel, 11 ... Liquid crystal display element, 12 ... TFT, 13 ... Pixel capacitance 61, a photo sensor array, 62, a sensor drive circuit, 63, a constant voltage generation circuit, 64, a sample and hold circuit, 65, a comparator, 66, an oscillation circuit, 67, a pulse width control circuit, 68,
Inverter circuit, 70: substrate, 71 to 74: double gate transistor, 71a: bottom gate electrode, 71b ...
Gate insulating film, 71c: semiconductor layer, 71d: drain electrode, 71e: source electrode, 71f: gate insulating film, 71
g: Top gate electrode, 71h: Insulating protective film, 71i ...
Impurity layer, 71j blocking layer, 75-78 filter, 81 organic EL display element, 82 selection TFT,
83: driving TFT, 84: capacitor, 85: organic E
L element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/13357 G09G 3/34 J 5G435 1/1368 3/36 G09G 3/34 G02F 1/1335 530 3/36 1/136 500 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/13357 G09G 3/34 J 5G435 1/1368 3/36 G09G 3/34 G02F 1/1335 530 3 / 36 1/136 500

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光透過率が互いに異なるフィルタが配さ
れ、それぞれフィルタを介して外部から入射された光量
を検出する複数の光検出手段と、 前記複数の光検出手段が検出した光量を、それぞれ所定
の基準量と比較する比較手段と、 前記比較手段の比較結果に応じて、調光対象となる発光
素子の発光を制御する制御手段とを備えることを特徴と
する調光システム。
A plurality of light detecting means for detecting the amount of light incident from the outside via the filters; and detecting the amounts of light detected by the plurality of light detecting means, respectively. A dimming system comprising: a comparing unit that compares a light amount with a predetermined reference amount; and a control unit that controls light emission of a light emitting element to be dimmed according to a comparison result of the comparing unit.
【請求項2】前記複数の光検出手段は、入射された光量
に応じた電圧に変換するものであり、 所定の定電圧を発生する定電圧発生回路をさらに備え、 前記比較手段は、前記複数の光検出手段がそれぞれ変換
した電圧を、前記定電圧発生回路が発生した定電圧と比
較し、それぞれの比較結果を制御信号として、前記制御
手段に供給することを特徴とする請求項1に記載の調光
システム。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the plurality of light detecting means converts the voltage into a voltage corresponding to the amount of incident light, and further comprises a constant voltage generating circuit for generating a predetermined constant voltage. 2. The method according to claim 1, wherein the voltage detected by the light detecting means is compared with a constant voltage generated by the constant voltage generating circuit, and a result of each comparison is supplied to the control means as a control signal. Dimming system.
【請求項3】前記複数の光検出手段は、実質的に同時に
駆動されてそれぞれの検出結果を前記比較手段に供給す
るものであり、 前記比較手段は、前記複数の光検出手段からそれぞれ供
給された検出結果を所定の基準値とそれぞれ実質的に同
時に比較し、その比較結果を制御信号として前記制御手
段に供給する複数の比較回路からなり、 前記制御手段は、前記複数の比較回路から実質的に同時
に供給される制御信号に従って、前記調光対象となる発
光素子の発光を制御することを特徴とする請求項1また
は2に記載の調光システム。
3. The plurality of light detection means are driven substantially simultaneously to supply respective detection results to the comparison means, and the comparison means is supplied from the plurality of light detection means, respectively. A plurality of comparison circuits for comparing the detected results with a predetermined reference value substantially simultaneously, and supplying the comparison results as control signals to the control means, wherein the control means is substantially composed of the plurality of comparison circuits. 3. The light control system according to claim 1, wherein light emission of the light-emitting element to be light-controlled is controlled according to a control signal supplied simultaneously to the light control device. 4.
【請求項4】前記複数の光検出手段は、時分割で駆動さ
れてそれぞれの検出結果を順次前記比較手段に供給する
ものであり、 前記比較手段は、前記複数の光検出手段から時分割で順
次供給された検出結果を所定の基準値と順次比較し、そ
の比較結果を制御信号として前記制御手段に順次供給す
る比較回路からなり、 前記制御手段は、前記比較回路から順次供給される制御
信号に従って、前記調光対象となる発光素子の発光を制
御することを特徴とする請求項1または2に記載の調光
システム。
4. The plurality of light detecting means are driven in a time-division manner and sequentially supply respective detection results to the comparing means, and the comparing means is provided in a time-division manner from the plurality of light detecting means. A comparison circuit sequentially compares the sequentially supplied detection results with a predetermined reference value, and sequentially supplies the comparison result as a control signal to the control unit. The control unit includes a control signal sequentially supplied from the comparison circuit. The dimming system according to claim 1, wherein the light emission of the light-emitting element to be dimmed is controlled according to the following.
【請求項5】マトリクス状に配された複数の画素と、該
複数の画素にそれぞれ接続され、外部からの選択信号に
従って前記複数の画素を行毎に順次選択するトランジス
タを有するアクティブ駆動型の表示素子をさらに備え、 前記トランジスタは、基板上に形成されたゲート電極
と、絶縁膜を介して前記ゲート電極に対向して設けられ
た半導体層と、互いに隔てるようにして前記半導体層に
接続されたドレイン電極及びソース電極を備え、 前記光検出手段は、基板上に形成された第1ゲート電極
と、第1の絶縁膜を介して前記ゲート電極に対向して設
けられた半導体層と、互いに隔てるようにして前記半導
体層に接続されたドレイン電極及びソース電極と、前記
半導体層、ドレイン電極及びソース電極を覆うように形
成された第2の絶縁膜を介して前記半導体層に対向して
設けられた第2ゲート電極とを備えることを特徴とする
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の調光システム。
5. An active drive type display having a plurality of pixels arranged in a matrix and transistors connected to the plurality of pixels and sequentially selecting the plurality of pixels for each row according to an external selection signal. An element, wherein the transistor is connected to the semiconductor layer so as to be separated from a gate electrode formed on a substrate, a semiconductor layer provided to face the gate electrode via an insulating film, and to be separated from each other. A drain electrode and a source electrode, wherein the photodetector is separated from a first gate electrode formed on the substrate and a semiconductor layer provided to face the gate electrode via a first insulating film. The drain electrode and the source electrode connected to the semiconductor layer as described above, and the second insulating film formed so as to cover the semiconductor layer, the drain electrode and the source electrode, Dimming system according to any one of claims 1 to 4, characterized in that it comprises a second gate electrode provided facing the semiconductor layer with.
【請求項6】前記表示素子は、共通電極が形成された第
1の基板と、前記第1の基板に対向し、それぞれ前記ト
ランジスタが接続された複数の画素電極がマトリクス状
に形成された第2の基板と、前記第1、第2の基板間に
封入され、各画素電極及び対向する共通電極と共に画素
容量を構成する液晶とからなる液晶表示素子によって構
成され、 前記制御手段が調光対象とする発光素子は、前記液晶表
示素子のバックライトであることを特徴とする請求項5
に記載の調光システム。
6. The display device according to claim 1, wherein a first substrate on which a common electrode is formed, and a plurality of pixel electrodes opposed to the first substrate and connected to the respective transistors are formed in a matrix. And a liquid crystal display element comprising a liquid crystal that is sealed between the first and second substrates and forms a pixel capacitance together with each pixel electrode and a common electrode facing each other. 6. The light emitting device according to claim 5, wherein the light emitting device is a backlight of the liquid crystal display device.
The dimming system according to 1.
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