JP2002016219A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2002016219A
JP2002016219A JP2000196678A JP2000196678A JP2002016219A JP 2002016219 A JP2002016219 A JP 2002016219A JP 2000196678 A JP2000196678 A JP 2000196678A JP 2000196678 A JP2000196678 A JP 2000196678A JP 2002016219 A JP2002016219 A JP 2002016219A
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JP
Japan
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mosfet
impedance
semiconductor device
output
current
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Pending
Application number
JP2000196678A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Nobe
武 野辺
Shigeo Akiyama
茂夫 秋山
Noriteru Furumoto
憲輝 古本
Takuya Sunada
卓也 砂田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To protect a semiconductor device by limiting a momentary overcurrent or cutting off a continuous overcurrent, when an instantaneous overcurrent flows. SOLUTION: This semiconductor device is equipped with an MOSFET-type output element 1, an MOSFET-detecting element 2 which is connected to the output element 1 in parallel, a current limitating control circuit 3 which operates to limit the conduction of the output element 1 to protect the output element 1, a current cutoff control circuit 10 which operates to shield the output element 1 to protect the output element 1, and a control switching circuit 20 which is connected to the detecting element 2 in series and switches the control circuit 10 operating, to protect the output element 1 to the current limitating control circuit 3 or the current cutoff control circuit 10, according to temperature nearby the output element 1, when a current larger than a specific current flows.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、保護機能付きMO
S型の半導体装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an MO with a protection function.
The present invention relates to an S-type semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の半導体装置として、本願出願人
は、図5及び図6に示すものを検討中である。
2. Description of the Related Art As a semiconductor device of this kind, the applicant of the present invention is studying a semiconductor device shown in FIGS.

【0003】図5に示す第1検討例の半導体装置は、出
力用MOSFET101、出力用MOSFET101に
並列接続された検出用MOSFET102、検出用MO
SFET102に直列接続された検出用抵抗103、ゲ
ートソース間に検出用抵抗103が接続されるとともに
ドレインが出力用MOSFET101及び検出用MOS
FET102のゲートにそれぞれ接続された電流制限用
MOSFET104を備えている。
A semiconductor device according to a first study example shown in FIG. 5 includes an output MOSFET 101, a detection MOSFET 102 connected in parallel to the output MOSFET 101, and a detection MO.
A detection resistor 103 connected in series to the SFET 102, a detection resistor 103 is connected between the gate and the source, and the drain is an output MOSFET 101 and a detection MOS.
A current limiting MOSFET 104 connected to the gate of the FET 102 is provided.

【0004】この半導体装置としてのドレイン端子D
は、出力用MOSFET101及び検出用MOSFET
102のドレインに接続されされている。また、この半
導体装置としてのソース端子Sは、出力用MOSFET
101及び電流制限用MOSFET104のソースに接
続されるとともに、検出用抵抗103を介して、検出用
MOSFET102のソースに接続されている。さら
に、この半導体装置としてのゲート端子Gは、出力用M
OSFET101及び検出用MOSFET102のゲー
トに接続されるとともに、電流制限用抵抗のドレインに
接続されている。
A drain terminal D as this semiconductor device
Is an output MOSFET 101 and a detection MOSFET
102 is connected to the drain. The source terminal S of the semiconductor device is an output MOSFET.
It is connected to the source of the MOSFET 101 for detection and via the resistor 103 for detection while being connected to the source of the MOSFET 101 and the current limiting MOSFET 104. Further, the gate terminal G as the semiconductor device is connected to an output M
It is connected to the gates of the OSFET 101 and the detection MOSFET 102 and to the drain of the current limiting resistor.

【0005】このものの動作を説明する。このものは、
この半導体装置としてのドレイン端子Dからソース端子
Sへ向かって出力用MOSFET101に流れる電流に
比例して検出用MOSFET102に電流が流れるか
ら、出力用MOSFET101に過電流が流れる場合に
は、それに応じて、検出用抵抗103にも多くの電流が
流れることになる。
The operation of the above will be described. This one is
Since a current flows through the detection MOSFET 102 in proportion to a current flowing through the output MOSFET 101 from the drain terminal D to the source terminal S of the semiconductor device, if an overcurrent flows through the output MOSFET 101, A large amount of current also flows through the detection resistor 103.

【0006】すると、検出用抵抗103の両端間の電圧
が高くなり、検出用抵抗103の両端がゲートソース間
に接続された電流制限用MOSFET104が導通し
て、半導体装置としてのソース端子Sから出力用MOS
FET101及び検出用MOSFET102のゲートへ
流れるべき電流が、電流制限用MOSFET104を通
って、そのまま、半導体装置としてのソース端子Sに流
れるようになる。
Then, the voltage between both ends of the detection resistor 103 increases, and the current limiting MOSFET 104 connected between the gate and the source across both ends of the detection resistor 103 conducts, so that the output from the source terminal S as a semiconductor device is output. MOS for
A current to flow to the gates of the FET 101 and the detection MOSFET 102 flows through the current limiting MOSFET 104 to the source terminal S as a semiconductor device as it is.

【0007】その結果、検出用抵抗103の両端電圧と
電流制限用MOSFET104の閾値とが釣り合うよ
う、ドレイン端子Dからソース端子Sへ向かって、制限
された電流が、出力用MOSFET101及び検出用M
OSFET102に流れるようになる。
As a result, the current limited from the drain terminal D toward the source terminal S is applied to the output MOSFET 101 and the detection M so that the voltage between both ends of the detection resistor 103 and the threshold of the current limiting MOSFET 104 are balanced.
It flows to the OSFET 102.

【0008】一方、図6に示す半導体装置は、出力用M
OSFET101、出力用MOSFET101に並列接
続された検出用MOSFET102、検出用MOSFE
T102に直列接続された検出用抵抗103、ゲートソ
ース間に検出用抵抗103が接続されドレインが出力用
MOSFET101に直接接続されるとともに検出用M
OSFET102のゲートにバイアス用抵抗105を介
して接続された電流遮断用MOSFET106を備えて
いるこの半導体装置としてのドレイン端子Dは、第1検
討例と同様に、出力用MOSFET101及び検出用M
OSFET102のドレインに接続されされている。ま
た、この半導体装置としてのソース端子Sは、検出用M
OSFET102のソースに接続されるとともに、バイ
アス用抵抗105を介して、出力用MOSFET101
のソース及び電流遮断用MOSFET106のドレイン
に接続されている。
On the other hand, the semiconductor device shown in FIG.
OSFET 101, detection MOSFET 102 connected in parallel to output MOSFET 101, detection MOSFET
A detecting resistor 103 connected in series to T102, a detecting resistor 103 connected between the gate and the source, a drain directly connected to the output MOSFET 101, and a detecting resistor M
The drain terminal D as the semiconductor device having the current cutoff MOSFET 106 connected to the gate of the OSFET 102 via the bias resistor 105 has the output MOSFET 101 and the detection M
It is connected to the drain of OSFET 102. Further, the source terminal S as the semiconductor device is connected to a detection M
The output MOSFET 101 is connected to the source of the OSFET 102 and via the bias resistor 105.
And the drain of the current interrupting MOSFET 106.

【0009】このものの動作を説明する。このものは、
第1検討例と同様に、半導体装置としてのドレイン端子
Dからソース端子Sへ向かって、出力用MOSFET1
01に流れる電流に比例して検出用MOSFET102
に電流が流れるから、出力用MOSFET101に過電
流が流れる場合には、それに応じて、検出用抵抗103
にも多くの電流が流れることになる。
The operation of this will be described. This one is
Similarly to the first study example, the output MOSFET 1 is connected from the drain terminal D as the semiconductor device to the source terminal S.
01 in proportion to the current flowing through
When an overcurrent flows through the output MOSFET 101, the detection resistor 103
A lot of current will flow.

【0010】すると、検出用抵抗103の両端間の電圧
が高くなり、検出用抵抗103の両端がゲートソース間
に接続された電流遮断用MOSFET106が導通し
て、半導体装置としてのソース端子Sから出力用MOS
FET101のゲートへ流れるべき電流が、バイアス用
抵抗105及び電流制限用MOSFET104を通っ
て、そのまま、半導体装置としてのソース端子Sに流れ
るようになる。
Then, the voltage between both ends of the detection resistor 103 increases, and the current interruption MOSFET 106 connected between the gate and the source across both ends of the detection resistor 103 conducts, and the output from the source terminal S as a semiconductor device is output. MOS for
The current to flow to the gate of the FET 101 flows through the bias resistor 105 and the current limiting MOSFET 104 to the source terminal S as a semiconductor device as it is.

【0011】その結果、バイアス用抵抗105の両端電
圧に相当する分ゲート電位が高い検出用MOSFET1
02のみが僅かに導通し、出力用MOSFET101が
遮断され、僅かに導通する検出用MOSFET102を
通って、検出用抵抗103の両端電圧と電流制限用MO
SFET104の閾値とが釣り合うよう、ドレイン端子
Dからソース端子Sへ向かって、制限された電流が流れ
るようになる。
As a result, the detection MOSFET 1 having a higher gate potential corresponding to the voltage between both ends of the bias resistor 105.
02 is slightly conductive, the output MOSFET 101 is cut off, and the voltage across the detecting resistor 103 and the current limiting MO are passed through the slightly conductive detecting MOSFET 102.
A limited current flows from the drain terminal D to the source terminal S so that the threshold value of the SFET 104 is balanced.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記した第1検討例の
半導体装置にあっては、出力用MOSFET101に過
電流が流れる場合には、ドレイン端子Dからソース端子
Sへ向かって、出力用MOSFET101及び検出用M
OSFET102を通って、制限された電流が流れるよ
うになるから、出力用MOSFET101を過電流から
保護することができる。
In the above-described semiconductor device of the first study example, when an overcurrent flows through the output MOSFET 101, the output MOSFET 101 and the output MOSFET 101 are moved from the drain terminal D toward the source terminal S. M for detection
Since a limited current flows through the OSFET 102, the output MOSFET 101 can be protected from overcurrent.

【0013】しかしながら、このものは、出力用MOS
FET101には、依然として、電流が流れ続けている
のであるから、ドレイン端子Dとソース端子Sとの間の
負荷電圧が上昇すると、自己発熱により、出力用MOS
FET101そのものの温度が上昇して、熱破壊してし
まう恐れがある。
However, this is an output MOS.
Since the current still flows through the FET 101, when the load voltage between the drain terminal D and the source terminal S increases, the output MOS
There is a possibility that the temperature of the FET 101 itself rises and is thermally destroyed.

【0014】また、上記した第2検討例の半導体装置に
あっては、出力用MOSFET101に過電流が流れる
場合には、出力用MOSFET101が遮断され、僅か
に導通する検出用MOSFET102を通って、ドレイ
ン端子Dからソース端子Sへ向かって、制限された電流
が流れるようになるから、出力用MOSFET101を
過電流から保護することができる。
In the above-described semiconductor device of the second study example, when an overcurrent flows through the output MOSFET 101, the output MOSFET 101 is cut off and the drain MOSFET passes through the slightly conducting detection MOSFET 102. Since a limited current flows from the terminal D to the source terminal S, the output MOSFET 101 can be protected from overcurrent.

【0015】しかしながら、このものは、例えば、突発
電流のような瞬時の過電流が流れた場合に、出力用MO
SFET101を遮断までしなくてよいときでも、遮断
してしまうという問題点がある。
[0015] However, when an instantaneous overcurrent such as a sudden current flows, the output MO
Even when it is not necessary to shut off the SFET 101, there is a problem that it is shut off.

【0016】本発明は、上記の点に着目してなされたも
ので、その目的とするところは、瞬時の過電流が流れる
場合には電流制限により、継続的な過電流が流れる場合
には電流遮断により、保護される半導体装置を提供する
ことにある。
The present invention has been made in view of the above points. The purpose of the present invention is to limit the current when an instantaneous overcurrent flows, and to reduce the current when a continuous overcurrent flows. An object of the present invention is to provide a semiconductor device which is protected by interruption.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、請求項1記載の半導体装置は、MOSFET型
の出力用素子と、出力用素子に並列接続されたMOSF
ET型の検出用素子と、出力用素子を保護するために出
力用素子の導通を制限するよう動作する電流制限制御回
路と、出力用素子を保護するために出力用素子を遮断す
るよう動作する電流遮断制御回路と、検出用素子に直列
接続され所定電流以上の電流が流れた場合に出力用素子
を保護するために動作する制御回路を出力用素子の近傍
温度に応じて電流制限制御回路又は電流遮断制御回路に
切替える制御切替回路と、を備えた構成にしている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a MOSFET-type output element; and a MOSF connected in parallel to the output element.
An ET-type detection element, a current limit control circuit that operates to limit conduction of the output element to protect the output element, and operates to shut off the output element to protect the output element A current cutoff control circuit, and a control circuit that is connected in series to the detection element and operates to protect the output element when a current equal to or more than a predetermined current flows, according to a temperature near the output element, And a control switching circuit for switching to a current cutoff control circuit.

【0018】請求項2記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置において、前記電流制限制御回路は、前
記出力用素子及び前記検出用素子へのゲート信号をいず
れも制限するよう導通する制限用MOSFETを有し、
前記電流遮断制御回路は、前記出力用素子へのゲート信
号を遮断するよう導通する遮断用MOSFET及びその
遮断用MOSFETに導通する電流により前記検出用素
子の導通を維持するバイアス電圧を発生するバイアス用
抵抗を有し、前記制御切替回路は、制限用MOSFET
のゲートに接続された制限用MOSFET接続点と遮断
用MOSFETのゲートに接続された遮断用MOSFE
T接続点との間で電位の高低を逆転させるようインピー
ダンスが環境温度の上昇に応じて小さくなるインピーダ
ンス可変要素を前記出力用素子に熱的接触するよう配置
した構成にしている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device according to the first aspect, wherein the current limiting control circuit conducts so as to limit both gate signals to the output element and the detection element. MOSFET for
The current cutoff control circuit includes a cutoff MOSFET that is turned on to cut off a gate signal to the output element, and a bias voltage that generates a bias voltage that maintains conduction of the detection element by a current that is turned on in the cutoff MOSFET. A resistor, and the control switching circuit includes a limiting MOSFET.
Limiting MOSFET connected to the gate of the MOSFET and the blocking MOSFET connected to the gate of the blocking MOSFET
An impedance variable element whose impedance decreases with an increase in environmental temperature is arranged so as to be in thermal contact with the output element so as to reverse the level of the potential with the T connection point.

【0019】請求項3記載の半導体装置は、請求項2記
載の半導体装置において、前記制御切替回路は、前記イ
ンピーダンス可変要素と、前記インピーダンス可変要素
と交互に接続されることによりブリッジ回路をなすイン
ピーダンス要素と、ブリッジ回路の一方対向接続点間を
接続する接続用抵抗と、を有し、電流の上流側に前記イ
ンピーダンス要素を接続した一方対向接続点が前記制限
用MOSFET接続点となり、電流の上流側に前記イン
ピーダンス可変要素を接続した一方対向接続点が前記制
限用MOSFET接続点となり、ブリッジ回路の一対の
他方対向接続点が前記検出用素子に直列接続された構成
にしている。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the second aspect, the control switching circuit is configured such that the variable impedance element and the variable impedance element are connected alternately to form an impedance forming a bridge circuit. Element, and a connection resistor for connecting between the one opposing connection points of the bridge circuit, and the one opposing connection point connecting the impedance element on the upstream side of the current becomes the limiting MOSFET connection point, and One of the opposite connection points to which the variable impedance element is connected on the side is the limiting MOSFET connection point, and the other pair of opposite connection points of the bridge circuit is connected in series to the detecting element.

【0020】請求項4記載の半導体装置は、請求項3記
載の半導体装置において、前記インピーダンス可変要素
は、環境温度が所定温度以上の場合に前記インピーダン
ス要素よりもインピーダンスが小さくなるサーミスタで
ある構成にしている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the third aspect, the variable impedance element is a thermistor whose impedance is lower than that of the impedance element when an environmental temperature is equal to or higher than a predetermined temperature. ing.

【0021】請求項5記載の半導体装置は、請求項3記
載の半導体装置において、前記インピーダンス要素は、
ダイオードであり、前記インピーダンス可変要素は、前
記インピーダンス要素よりも多くのダイオードが直列接
続された直列回路である構成にしている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the third aspect, the impedance element includes:
It is a diode, and the impedance variable element is configured to be a series circuit in which more diodes than the impedance element are connected in series.

【0022】請求項6記載の半導体装置は、請求項3記
載の半導体装置において、前記インピーダンス要素は、
ダイオードであり、前記インピーダンス可変要素は、ダ
イオード及び抵抗が直列接続された直列回路である構成
にしている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the third aspect, the impedance element includes:
The variable impedance element is a series circuit in which a diode and a resistor are connected in series.

【0023】請求項7記載の半導体装置は、請求項5又
は請求項6のいずれかに記載の半導体装置において、前
記インピーダンス可変要素及び前記インピーダンス要素
並びに前記接続用抵抗は、ポリシリコン製である構成に
している。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, the impedance variable element, the impedance element, and the connection resistor are made of polysilicon. I have to.

【0024】請求項8記載の半導体装置は、請求項5又
は請求項6のいずれかに記載の半導体装置において、前
記インピーダンス可変要素のダイオード及び前記インピ
ーダンス要素のダイオードは、前記出力用素子を設けた
チップの有する絶縁膜上に設けられ、前記インピーダン
ス可変要素のダイオードは、前記インピーダンス要素の
ダイオードよりも薄い絶縁膜上に設けられることによ
り、前記出力用素子に熱的接触する構成にしている。
According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, the diode of the impedance variable element and the diode of the impedance element are provided with the output element. The diode of the variable impedance element is provided on an insulating film of the chip, and is provided on a thinner insulating film than the diode of the impedance element, so that the diode is in thermal contact with the output element.

【0025】請求項9記載の半導体装置は、請求項5又
は請求項6のいずれかに記載の半導体装置において、前
記出力用素子、前記検出用素子、前記制限用MOSFE
T、前記遮断用MOSFET、前記インピーダンス可変
要素、前記インピーダンス要素及び前記接続用抵抗は、
いずれも同一チップ上に設けられた構成にしている
According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, the output element, the detection element, and the limiting MOSFET are provided.
T, the blocking MOSFET, the variable impedance element, the impedance element, and the connection resistor,
Both are configured on the same chip

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明の第1実施形態の半導体装
置を図1及び図2に基づいて以下に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor device according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0027】1は出力用MOSFET(MOSFET型
の出力用素子)で、そのドレインが、本半導体装置とし
てのドレイン端子Dに接続され、ソースが、本半導体装
置としてのソース端子Sに接続され、ゲートが、後述す
るバイアス用抵抗4を介して、本半導体装置としてのゲ
ート端子Gに接続されている。この出力用MOSFET
1は、ドレイン端子Dとソース端子Sとの間に接続され
た負荷(図示せず)に電力を供給するよう、ドレインソ
ース間が導通する。
Reference numeral 1 denotes an output MOSFET (MOSFET type output element) having a drain connected to a drain terminal D as the present semiconductor device, a source connected to a source terminal S as the present semiconductor device, and a gate. Is connected to a gate terminal G as the present semiconductor device via a bias resistor 4 described later. This output MOSFET
1 conducts between the drain and source so as to supply power to a load (not shown) connected between the drain terminal D and the source terminal S.

【0028】2は検出用MOSFET(MOSFET型
の検出用素子)で、出力用MOSFET1に並列接続さ
れ、そのドレインが、本半導体装置としてのドレイン端
子Dに接続され、ソースが、後述する制御切替回路を介
して、本半導体装置としてのソース端子Sに接続され、
ゲートが、本半導体装置としてのゲート端子Gに接続さ
れている。
Reference numeral 2 denotes a detection MOSFET (MOSFET-type detection element) which is connected in parallel to the output MOSFET 1 and whose drain is connected to a drain terminal D as the semiconductor device, and whose source is a control switching circuit to be described later. Is connected to a source terminal S as the semiconductor device through
The gate is connected to a gate terminal G as the semiconductor device.

【0029】3は制限用MOSFET(電流制限制御回
路)で、そのドレインが、バイアス用抵抗4を介して、
出力用MOSFET1のゲートに接続されるとともに、
検出用MOSFET2のゲート及び本半導体装置として
のゲート端子Gに接続されている。また、この制限用M
OSFET3は、そのソースが、本半導体装置としての
ソース端子Sに接続されるとともに、ゲートが、後述す
る制御切替回路に接続されている。
Reference numeral 3 denotes a limiting MOSFET (current limiting control circuit) whose drain is connected via a biasing resistor 4 to
Connected to the gate of output MOSFET 1
It is connected to the gate of the detection MOSFET 2 and the gate terminal G as the present semiconductor device. In addition, this restriction M
The source of the OSFET 3 is connected to a source terminal S as the present semiconductor device, and the gate is connected to a control switching circuit described later.

【0030】5は遮断用MOSFETで、そのドレイン
に接続されたバイアス用抵抗4と共に、電流遮断制御回
路10を構成する。この遮断用MOSFET5は、その
ドレインが、出力用MOSFET1のゲートに直接接続
されるとともに、バイアス用抵抗4を介して、検出用M
OSFET2のゲート及び本半導体装置としてのゲート
端子Gに接続されている。また、この遮断用MOSFE
T5は、そのソースが、本半導体装置としてのソース端
子Sに接続されるとともに、ゲートが、後述する制御切
替回路に接続されている。
Reference numeral 5 denotes a blocking MOSFET, which together with the biasing resistor 4 connected to its drain constitutes a current blocking control circuit 10. The cut-off MOSFET 5 has a drain directly connected to the gate of the output MOSFET 1 and a detection resistor M via the bias resistor 4.
It is connected to the gate of the OSFET 2 and the gate terminal G as the present semiconductor device. In addition, the MOSFET
T5 has a source connected to a source terminal S as the semiconductor device and a gate connected to a control switching circuit described later.

【0031】6a,6bはインピーダンス要素6をなす
サーミスタである。7a,7bは、インピーダンス可変
要素7をなすサーミスタ7a,7bで、サーミスタ6
a,6bと交互に接続されることによりブリッジ回路を
形成する。このサーミスタ7a,7bは、図2に示すよ
うに、サーミスタ6a,6bとは異なり、出力用MOS
FET1の近傍に位置するように配置され、出力用MO
SFET1と熱的接触するようにしている。このサーミ
スタ7a,7bは、通常温度の場合は、サーミスタ6
a,6bよりもインピーダンスが大きいが、温度上昇し
て、所定温度以上になった場合には、サーミスタ6a,
6bよりもインピーダンスが小さくなる。
Reference numerals 6a and 6b denote thermistors constituting the impedance element 6. Reference numerals 7a and 7b denote thermistors 7a and 7b constituting the variable impedance element 7,
A bridge circuit is formed by being alternately connected to a and 6b. The thermistors 7a and 7b are different from the thermistors 6a and 6b, as shown in FIG.
The output MO is arranged so as to be located near the FET1.
Thermal contact is made with SFET1. These thermistors 7a and 7b are provided at normal temperature.
Although the impedance is larger than that of the thermistors 6a and 6b, when the temperature rises to a predetermined temperature or more,
The impedance is smaller than that of 6b.

【0032】これらのサーミスタ6a,6b,7a,7
bからなるブリッジ回路は、その一対の一方対向接続点
のうち、電流の上流側にサーミスタ6aを接続した一方
対向接続点が、制限用MOSFET3のゲートに接続さ
れる制限用MOSFET接続点P1となり、電流の上流
側にサーミスタ7aを接続した一方対向接続点が、遮断
用MOSFET5に接続される遮断用MOSFET接続
点P2となる。このブリッジ回路は、検出用MOSFE
T2と本半導体素子としてのソース端子Sとの間に、直
列接続されている。
These thermistors 6a, 6b, 7a, 7
In the bridge circuit composed of b, the one opposing connection point of the pair of one opposing connection points to which the thermistor 6a is connected on the upstream side of the current is the limiting MOSFET connection point P1 connected to the gate of the limiting MOSFET 3, The opposite connection point where the thermistor 7a is connected on the upstream side of the current is the interruption MOSFET connection point P2 connected to the interruption MOSFET 5. This bridge circuit is a MOSFE for detection.
It is connected in series between T2 and the source terminal S as the semiconductor element.

【0033】8は接続抵抗で、サーミスタ6a,6b及
びサーミスタ7a,7bからなるブジッジ回路の一対の
一方対向接続点間、すなわち、制限用MOSFET接続
点P1と遮断用MOSFET接続点P2との間を接続
し、サーミスタ6a,6b及びサーミスタ7a,7bと
共に、制御切替回路20を構成する。
Reference numeral 8 denotes a connection resistor which connects between one pair of connection points of the bridge circuit composed of the thermistors 6a and 6b and the thermistors 7a and 7b, that is, between the connection point P1 for the limiting MOSFET and the connection point P2 for the cutoff MOSFET. Are connected to form a control switching circuit 20 together with the thermistors 6a and 6b and the thermistors 7a and 7b.

【0034】次に、このものの動作を説明する。この半
導体装置としてのゲート端子Gから、出力用MOSFE
T1及び検出用MOSFET2のそれぞれのゲートに、
ゲート信号が入力されると、出力用MOSFET1及び
検出用MOSFET2のそれぞれのドレインソース間が
導通する。
Next, the operation of this embodiment will be described. From the gate terminal G as this semiconductor device, an output MOSFET
In each gate of T1 and the detection MOSFET2,
When a gate signal is input, conduction is established between the drain and source of each of the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2.

【0035】このとき、検出用MOSFET2のドレイ
ンソース間を流れた電流は、制御切替回路20を通っ
て、半導体装置としてのソース端子Sへ流れるにあたっ
て、通常温度では、サーミスタ6aのインピーダンスが
サーミスタ7aのインピーダンスよりも小さいから、サ
ーミスタ6a−制限用MOSFET接続点P1−接続抵
抗8−遮断用MOSFET接続点P2−サーミスタ6b
の順に流れることになる。
At this time, when the current flowing between the drain and the source of the detection MOSFET 2 flows through the control switching circuit 20 to the source terminal S as a semiconductor device, at normal temperature, the impedance of the thermistor 6a changes to the impedance of the thermistor 7a. Since it is smaller than the impedance, the thermistor 6a-the limiting MOSFET connection point P1-the connection resistance 8-the blocking MOSFET connection point P2-thermistor 6b
Will flow in that order.

【0036】従って、制限用MOSFET接続点P1
は、遮断用MOSFET接続点P2よりも電位が高くな
り、この制限用MOSFET接続点P1にゲートが接続
されている制限用MOSFET3が、遮断用MOSFE
T接続点P2にゲートが接続されている遮断用MOSF
ET5よりも先に、ドレインソース間が導通可能となっ
ている。
Therefore, the limiting MOSFET connection point P1
Has a higher potential than the blocking MOSFET connection point P2, and the limiting MOSFET 3 whose gate is connected to the limiting MOSFET connection point P1 is
MOSF for cut-off whose gate is connected to T connection point P2
Prior to ET5, conduction between the drain and source is enabled.

【0037】ここで、負荷短絡等により、出力用MOS
FET1及び検出用MOSFET2のドレインソース間
に過大電流が流れた場合、制限用MOSFET接続点P
1の電位が上昇するため、この制限用MOSFET接続
点P1にゲートが接続された制限用MOSFET3のド
レインソース間が導通し、ゲート端子Gからのゲート信
号が、この導通した制限用MOSFET3のドレインソ
ース間を通って、ソース端子Sに流れるようになる。
Here, the output MOS
When an excessive current flows between the drain and the source of the FET1 and the detecting MOSFET2, the limiting MOSFET connection point P
1 rises, the conduction between the drain and the source of the limiting MOSFET 3 whose gate is connected to the limiting MOSFET connection point P1 is conducted, and the gate signal from the gate terminal G is applied to the drain and the source of the conducted limiting MOSFET 3 The current flows to the source terminal S through the gap.

【0038】すると、出力用MOSFET1及び検出用
MOSFET2のゲートに入力されるゲート信号が制限
され、出力用MOSFET1及び検出用MOSFET2
のドレインソース間に流れる電流が制限される。検出用
MOSFET2のドレインソース間に流れる電流が制限
されると、制限用MOSFET3接続点の電位が低下し
て、その制限用MOSFET3接続点にゲートが接続さ
れた制限用MOSFET3のドレインソース間が導通す
るようになる。
Then, gate signals input to the gates of the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2 are limited, and the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2
The current flowing between the drain and the source is limited. When the current flowing between the drain and source of the detection MOSFET 2 is limited, the potential of the connection point of the restriction MOSFET 3 decreases, and the drain and source of the restriction MOSFET 3 whose gate is connected to the connection point of the restriction MOSFET 3 conduct. Become like

【0039】結果として、制限用MOSFET3の閾値
と制限用MOSFET接続点P1の電位とが釣り合う状
態で、出力用MOSFET1及び検出用MOSFET2
のドレインソース間に流れる電流が制限されることとな
る。
As a result, when the threshold value of the limiting MOSFET 3 and the potential of the limiting MOSFET connection point P1 are balanced, the output MOSFET 1 and the detecting MOSFET 2
The current flowing between the drain and the source of the transistor is limited.

【0040】このようにして、出力用MOSFET1及
び検出用MOSFET2のドレインソース間に流れる電
流の制限される状態が継続した場合に、出力用MOSF
ET1が発熱すると、この出力用MOSFET1に熱的
接触するよう配置されたサーミスタ7a,7bの環境温
度が所定温度以上にが上昇する。すると、サーミスタ7
a,7bのインピーダンスが、サーミスタ6a,6bの
インピーダンスよりも小さくなるので、検出用MOSF
ET2のドレインソース間を流れた電流は、制御切替回
路20を通って、半導体装置としてのソース端子Sへ流
れるにあたって、サーミスタ7a−遮断用MOSFET
接続点P2−接続抵抗8−制限用MOSFET接続点P
1−サーミスタ7bの順に流れることになる。
As described above, when the state in which the current flowing between the drain and source of the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2 is limited continues, the output MOSFET
When the ET1 generates heat, the environmental temperature of the thermistors 7a and 7b arranged so as to be in thermal contact with the output MOSFET 1 rises above a predetermined temperature. Then, thermistor 7
a, 7b becomes smaller than the impedance of the thermistors 6a, 6b.
The current flowing between the drain and the source of the ET2 flows through the control switching circuit 20 to the source terminal S as a semiconductor device.
Connection point P2-Connection resistance 8-Limiting MOSFET connection point P
It flows in the order of 1-thermistor 7b.

【0041】従って、遮断用MOSFET接続点P2
は、制限用MOSFET接続点P1よりも電位が高くな
り、この遮断用MOSFET接続点P2にゲートが接続
されている遮断用MOSFET5が、制限用MOSFE
T接続点P1にゲートが接続されている制限用MOSF
ET3よりも先に、ドレインソース間が導通可能となっ
ている。
Accordingly, the cutoff MOSFET connection point P2
Is higher in potential than the limiting MOSFET connection point P1, and the blocking MOSFET 5 whose gate is connected to the blocking MOSFET connection point P2 is
Limiting MOSF whose gate is connected to T connection point P1
Prior to ET3, conduction between the drain and source is enabled.

【0042】この状態で、出力用MOSFET1及び検
出用MOSFET2のドレインソース間に流れる電流に
より、遮断用MOSFET接続点P2の電位が上昇した
場合、この遮断用MOSFET接続点P2にゲートが接
続された遮断用MOSFET5のドレインソース間が導
通し、ゲート端子Gからのゲート信号が、この導通した
制限用MOSFET3のドレインソース間及びバイアス
用抵抗4を通って、ソース端子Sに流れるようになる。
In this state, if the potential of the cutoff MOSFET connection point P2 rises due to the current flowing between the drain and source of the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2, the cutoff with the gate connected to the cutoff MOSFET connection point P2 The connection between the drain and the source of the MOSFET 5 is conducted, and the gate signal from the gate terminal G flows to the source terminal S through the drain and the source of the MOSFET 3 and the bias resistor 4.

【0043】すると、出力用MOSFET1及び検出用
MOSFET2のゲートに入力されるゲート信号が遮断
され、出力用MOSFET1及び検出用MOSFET2
のドレインソース間に流れる電流が遮断される。
Then, the gate signals input to the gates of the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2 are cut off, and the output MOSFET 1 and the detection MOSFET 2
The current flowing between the drain and the source is cut off.

【0044】一方、検出用MOSFET2は、バイアス
用抵抗4に流れる電流により、バイアス用抵抗4の両端
電圧に相当する分、出力用MOSFET1よりもゲート
電位が高いので、ドレインソース間が僅かに導通し続け
る。
On the other hand, the detection MOSFET 2 has a higher gate potential than the output MOSFET 1 by an amount corresponding to the voltage between both ends of the bias resistor 4 due to the current flowing through the bias resistor 4, so that the drain-source slightly conducts. to continue.

【0045】その結果、遮断用MOSFET接続点P2
の電位が低下することはなく、遮断用MOSFET5が
導通したままの状態が継続するので、出力用MOSFE
T1のドレインソース間の遮断状態が継続することとな
る。
As a result, the cutoff MOSFET connection point P2
Does not decrease and the state in which the blocking MOSFET 5 remains conductive continues, so that the output MOSFET
The cutoff state between the drain and the source of T1 will continue.

【0046】かかる半導体装置にあっては、瞬時の過電
流が流れる場合には、制限用MOSFET接続点P1の
電位が上昇することにより、制限用MOSFET3のゲ
ート電位が上昇して、制限用MOSFET3が導通する
から、出力用MOSFET1のゲート信号を制限するよ
うになって、出力用MOSFET1に流れる電流を制限
し、出力用MOSFET1を保護することができる。ま
た、継続的な過電流が流れる場合には、その継続的な過
電流に基づく発熱に伴った環境温度の上昇に応じて、出
力用MOSFET1に熱的接触するよう配置されたイン
ピーダンス可変要素7のインピーダンスが小さくなっ
て、制限用MOSFET接続点P1よりも遮断用MOS
FET接続点P2の電位が高くなることにより、遮断用
MOSFET5のゲート電位が上昇して、遮断用MOS
FET5が導通するから、出力用MOSFET1へのゲ
ート電流を遮断するようになって、出力用MOSFET
1に流れる電流を遮断し、出力用MOSFET1を保護
することができる。
In such a semiconductor device, when an instantaneous overcurrent flows, the potential of the limiting MOSFET connection point P1 increases, so that the gate potential of the limiting MOSFET 3 increases, and the limiting MOSFET 3 Since the continuity is established, the gate signal of the output MOSFET 1 is limited, the current flowing through the output MOSFET 1 is limited, and the output MOSFET 1 can be protected. When a continuous overcurrent flows, the impedance variable element 7 arranged so as to be in thermal contact with the output MOSFET 1 in response to an increase in the environmental temperature caused by heat generation based on the continuous overcurrent. The impedance is reduced, and the MOS for blocking is more than the connecting point P1 for the limiting MOSFET.
As the potential of the FET connection point P2 increases, the gate potential of the blocking MOSFET 5 increases, and the blocking MOS
Since the FET 5 conducts, the gate current to the output MOSFET 1 is cut off, and the output MOSFET 1 is cut off.
1 can be cut off, and the output MOSFET 1 can be protected.

【0047】また、インピーダンス可変要素7は、環境
温度が所定温度以上の場合にインピーダンス要素6より
もインピーダンスが小さくなるサーミスタであるから、
ブリッジの構成を簡略にすることができる。
The impedance variable element 7 is a thermistor whose impedance becomes smaller than that of the impedance element 6 when the environmental temperature is equal to or higher than a predetermined temperature.
The configuration of the bridge can be simplified.

【0048】なお、本実施形態では、インピーダンス要
素6は、サーミスタ6a,6bからなるが、通常温度で
はサーミスタ7a,7bよりもインピーダンス値が小さ
く、環境温度が所定温度以上に上昇した状態ではサーミ
スタ7a,7bよりもインピーダンス値が大きい通常の
抵抗でも、同様の効果を奏することができる。
In this embodiment, the impedance element 6 is composed of the thermistors 6a and 6b. The impedance element 6 has a lower impedance value than the thermistors 7a and 7b at a normal temperature, and the thermistor 7a when the environmental temperature rises to a predetermined temperature or higher. , 7b can provide the same effect with a normal resistor having a larger impedance value.

【0049】次に、本発明の第2実施形態の半導体装置
を図3に基づいて以下に説明する。なお、第1実施形態
の半導体装置と実質的に同一の素子には同一の符号を付
し、第1実施形態の半導体装置と異なるところのみ記
す。第1実施形態の半導体装置では、インピーダンス可
変要素7がサーミスタ7a,7bであり、インピーダン
ス要素6がサーミスタ6a,6bであるが、本実施形態
の半導体装置では、インピーダンス可変要素7が、ダイ
オードを2個直列接続した直列回路7c,7dであり、
インピーダンス要素6がダイオード6c,6dからなる
構成となっている。
Next, a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Elements that are substantially the same as those of the semiconductor device of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and only those parts that differ from the semiconductor device of the first embodiment are described. In the semiconductor device of the first embodiment, the variable impedance element 7 is thermistors 7a and 7b, and the impedance element 6 is thermistors 6a and 6b. In the semiconductor device of the present embodiment, the variable impedance element 7 includes two diodes. Serial circuits 7c and 7d connected in series,
The impedance element 6 has a configuration including diodes 6c and 6d.

【0050】このもののインピーダンス可変要素7は、
ダイオードの数がインピーダンス要素6よりも多いため
に、通常温度では、インピーダンス要素6よりもインピ
ーダンスが大きいけれども、出力用MOSFET1と熱
的接触しているために、出力用MOSFET1の発熱と
共に環境温度が上昇して所定温度以上になると、ダイオ
ードのインピーダンスが低下するから、出力用MOSF
ET1と熱的接触をしていないインピーダンス可変要素
7よりも、インピーダンスが小さくなる。
The impedance variable element 7 of this
Since the number of diodes is larger than that of the impedance element 6, the impedance is larger than that of the impedance element 6 at normal temperature. However, because of the thermal contact with the output MOSFET 1, the environmental temperature rises with the heat generation of the output MOSFET 1. When the temperature exceeds a predetermined temperature, the impedance of the diode decreases.
The impedance is smaller than that of the impedance variable element 7 that is not in thermal contact with the ET1.

【0051】また、インピーダンス要素6及びインピー
ダンス可変要素7並びに接続用抵抗8は、ポリシリコン
製となっている。
The impedance element 6, the variable impedance element 7, and the connection resistor 8 are made of polysilicon.

【0052】また、インピーダンス可変要素7のダイオ
ード及びインピーダンス要素6のダイオードは、出力用
MOSFET1を設けたチップの有する絶縁膜上に設け
られ、インピーダンス可変要素7のダイオードが、イン
ピーダンス要素6のダイオードよりも薄い絶縁膜上に設
けられることでも、出力用MOSFET1に熱的接触す
るようにしている。
The diode of the variable impedance element 7 and the diode of the variable impedance element 6 are provided on an insulating film of the chip provided with the output MOSFET 1, and the diode of the variable impedance element 7 is larger than the diode of the variable impedance element 6. Even when provided on a thin insulating film, it is in thermal contact with the output MOSFET 1.

【0053】また、出力用MOSFET1、検出用MO
SFET2、制限用MOSFET3、遮断用MOSFE
T5、インピーダンス要素6、インピーダンス可変要素
7及び接続用抵抗8は、いずれも同一チップ上に設けら
れたものとなっている。
The output MOSFET 1 and the detection MO
SFET2, limiting MOSFET3, blocking MOSFET
T5, the impedance element 6, the impedance variable element 7, and the connection resistor 8 are all provided on the same chip.

【0054】次に、このものの動作のうち、第1実施形
態の半導体装置と異なるところを説明する。出力用MO
SFET1及び検出用MOSFET2のそれぞれのドレ
インソース間が導通したときに、検出用MOSFET2
のドレインソース間を流れる電流は、制御切替回路20
を通って、半導体装置としてのソース端子Sへ流れるに
あたって、通常温度では、ダイオードの数がインピーダ
ンス可変要素7より少ないインピーダンス要素6の方が
インピーダンスが小さいために、ダイオード6c−制限
用MOSFET接続点P1−接続抵抗8−遮断用MOS
FET接続点P2−ダイオード6dの順に流れることに
なる。従って、制限用MOSFET接続点P1は、遮断
用MOSFET接続点P2よりも電位が高くなる。
Next, the operation of the semiconductor device different from the semiconductor device of the first embodiment will be described. MO for output
When the conduction between the respective drains of the SFET 1 and the detection MOSFET 2 is conducted, the detection MOSFET 2
The current flowing between the drain and source of the
At the normal temperature, the impedance of the impedance element 6 having a smaller number of diodes than the variable impedance element 7 is smaller than that of the impedance element 6 at normal temperature. -Connection resistance 8-Interruption MOS
The current flows in the order of the FET connection point P2 and the diode 6d. Therefore, the potential of the limiting MOSFET connection point P1 is higher than that of the blocking MOSFET connection point P2.

【0055】また、出力用MOSFET1及び検出用M
OSFET2のドレインソース間に流れる電流の制限さ
れる状態が継続した場合に、出力用MOSFET1が発
熱すると、この出力用MOSFET1に熱的接触するよ
う配置された直列回路7c,7dの環境温度が所定温度
以上に上昇する。
The output MOSFET 1 and the detection M
If the output MOSFET 1 generates heat while the current flowing between the drain and source of the OSFET 2 continues to be limited, the environmental temperature of the series circuits 7c and 7d arranged so as to make thermal contact with the output MOSFET 1 becomes a predetermined temperature. Rise above.

【0056】すると、直列回路7c,7dのインピーダ
ンスが、出力用MOSFET1と熱的接触をしていない
ダイオード6c,6dのインピーダンスよりも小さくな
るので、検出用MOSFET2のドレインソース間を流
れた電流は、制御切替回路20を通って、半導体装置と
してのソース端子Sへ流れるにあたって、直列回路7c
−遮断用MOSFET接続点P2−接続抵抗8−制限用
MOSFET接続点P1−直列回路7dの順に流れるこ
とになる。従って、遮断用MOSFET接続点P2は、
制限用MOSFET接続点P1よりも電位が高くなる。
Then, since the impedance of the series circuits 7c and 7d becomes smaller than the impedance of the diodes 6c and 6d which are not in thermal contact with the output MOSFET 1, the current flowing between the drain and the source of the detection MOSFET 2 becomes When flowing through the control switching circuit 20 to the source terminal S as a semiconductor device, the series circuit 7c
The current flows in the order of: the cut-off MOSFET connection point P2-the connection resistance 8; the limiting MOSFET connection point P1-the series circuit 7d. Therefore, the shutoff MOSFET connection point P2 is
The potential is higher than the limit MOSFET connection point P1.

【0057】かかる半導体装置にあっては、第1実施形
態の半導体装置と同様に、瞬時の過電流が流れる場合に
は、制限用MOSFET接続点P1の電位が上昇するこ
とにより、制限用MOSFET3のゲート電位が上昇し
て、制限用MOSFET3が導通するから、出力用MO
SFET1のゲート信号を制限するようになって、出力
用MOSFET1に流れる電流を制限し、出力用MOS
FET1を保護することができる。また、継続的な過電
流が流れる場合には、その継続的な過電流に基づく発熱
に伴った環境温度の上昇に応じて、出力用MOSFET
1に熱的接触するよう配置されたインピーダンス可変要
素7のインピーダンスが小さくなって、制限用MOSF
ET接続点P1よりも遮断用MOSFET接続点P2の
電位が高くなることにより、遮断用MOSFET5のゲ
ート電位が上昇して、遮断用MOSFET5が導通する
から、出力用MOSFET1へのゲート電流を遮断する
ようになって、出力用MOSFET1に流れる電流を遮
断し、出力用MOSFET1を保護することができる。
In this semiconductor device, similarly to the semiconductor device of the first embodiment, when an instantaneous overcurrent flows, the potential of the limiting MOSFET connection point P1 rises, so that the limiting MOSFET 3 Since the gate potential rises and the limiting MOSFET 3 conducts, the output MO
The gate signal of the SFET 1 is limited, and the current flowing through the output MOSFET 1 is limited.
FET1 can be protected. Further, when a continuous overcurrent flows, the output MOSFET is increased in accordance with an increase in the environmental temperature caused by heat generation based on the continuous overcurrent.
The impedance of the variable impedance element 7 arranged to be in thermal contact with the first
Since the potential of the shutoff MOSFET connection point P2 becomes higher than the ET connection point P1, the gate potential of the shutoff MOSFET 5 rises and the shutoff MOSFET 5 becomes conductive, so that the gate current to the output MOSFET 1 is cut off. As a result, the current flowing through the output MOSFET 1 is cut off, and the output MOSFET 1 can be protected.

【0058】また、インピーダンス要素6が、温度上昇
に伴ってインピーダンスが小さくなるダイオードであ
り、インピーダンス可変要素7が、インピーダンス要素
6よりも多くのダイードが直列接続された直列回路であ
るから、ブリッジの構成を簡略にすることができる。
Further, since the impedance element 6 is a diode whose impedance becomes smaller as the temperature rises, and the impedance variable element 7 is a series circuit in which more diodes than the impedance element 6 are connected in series, the impedance of the bridge is reduced. The configuration can be simplified.

【0059】また、インピーダンス要素6及びインピー
ダンス可変要素7並びに接続用抵抗8は、いずれも、M
OSFETのゲート材料であるポシシリコンであるか
ら、MOSFETを形成するときに、合わせて形成され
るようになり、製造プロセスを簡略化することができ
る。
The impedance element 6, the variable impedance element 7, and the connection resistor 8 are all M
Since polysilicon is used as the gate material of the OSFET, it is formed together with the MOSFET when it is formed, and the manufacturing process can be simplified.

【0060】また、インピーダンス可変要素7のダイオ
ードは、インピーダンス要素6のダイオードよりも薄い
絶縁膜上に設けられているから、容易に出力用素子との
熱的接触を得ることができ、ひいては、より速く、制御
切替回路20による切替を行うことができる。
Further, since the diode of the impedance variable element 7 is provided on an insulating film thinner than the diode of the impedance element 6, thermal contact with the output element can be easily obtained. Switching by the control switching circuit 20 can be performed quickly.

【0061】また、出力用素子、検出用素子、制限用M
OSFET3、遮断用MOSFET5、インピーダンス
要素6、インピーダンス可変要素7及び接続用抵抗8
は、いずれも同一チップ上に設けられているから、小型
化を図ることができ、かつ、それぞれの素子の動作特性
を揃えることができる。
Further, an output element, a detection element, and a limiting element M
OSFET 3, blocking MOSFET 5, impedance element 6, impedance variable element 7, and connection resistor 8
Since both are provided on the same chip, downsizing can be achieved and the operating characteristics of each element can be made uniform.

【0062】次に、本発明の第3実施形態の半導体装置
を図4に基づいて以下に説明する。なお、第2実施形態
の半導体装置と実質的に同一の素子には同一の符号を付
し、第2実施形態の半導体装置と異なるところのみ記
す。第2実施形態の半導体装置では、インピーダンス可
変要素7は、ダイオードを2個直列接続した直列回路7
c,7dであるが、本実施形態の半導体装置では、ダイ
オード及び抵抗を接続した直列回路7e,7fからなる
構成となっている。
Next, a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Elements that are substantially the same as those of the semiconductor device of the second embodiment are given the same reference numerals, and only those parts that are different from the semiconductor device of the second embodiment will be described. In the semiconductor device of the second embodiment, the variable impedance element 7 is a series circuit 7 in which two diodes are connected in series.
c and 7d, the semiconductor device of the present embodiment has a configuration including series circuits 7e and 7f in which diodes and resistors are connected.

【0063】このもののインピーダンス可変要素7は、
抵抗を含んでいるために、通常温度では、インピーダン
ス要素6よりもインピーダンスが大きいけれども、出力
用MOSFET1と熱的接触しているために、出力用M
OSFET1の発熱と共に環境温度が上昇すると、ダイ
オードのインピーダンスが低下するから、出力用MOS
FET1と熱的接触をしていないインピーダンス可変要
素7よりも、インピーダンスが小さくなる。
The variable impedance element 7 is
At normal temperature, the impedance of the output element 1 is larger than that of the impedance element 6 due to the inclusion of the resistance.
When the ambient temperature rises with the heat generated by the OSFET 1, the impedance of the diode decreases.
The impedance is smaller than that of the variable impedance element 7 that is not in thermal contact with the FET 1.

【0064】次に、このものの動作のうち、第2実施形
態の半導体装置と異なるところを説明する。出力用MO
SFET1及び検出用MOSFET2のそれぞれのドレ
インソース間が導通したときに、検出用MOSFET2
のドレインソース間を流れる電流は、制御切替回路20
を通って、半導体装置としてのソース端子Sへ流れるに
あたって、通常温度では、抵抗を含まないインピーダン
ス要素6の方が、抵抗を含むインピーダンス可変要素7
よりも、インピーダンスが小さいために、ダイオード6
c−制限用MOSFET接続点P1−接続抵抗8−遮断
用MOSFET接続点P2−ダイオード6dの順に流れ
ることになる。従って、制限用MOSFET接続点P1
は、遮断用MOSFET接続点P2よりも電位が高くな
る。
Next, the operation of the semiconductor device different from that of the semiconductor device of the second embodiment will be described. MO for output
When the conduction between the respective drains of the SFET 1 and the detection MOSFET 2 is conducted, the detection MOSFET 2
The current flowing between the drain and source of the
Through the source terminal S as a semiconductor device, at normal temperature, the impedance element 6 that does not include the resistance is replaced by the impedance variable element 7 that includes the resistance.
The impedance of the diode 6
The current flows in the order of c-limit MOSFET connection point P1-connection resistance 8-blocking MOSFET connection point P2-diode 6d. Therefore, the limiting MOSFET connection point P1
Has a higher potential than the blocking MOSFET connection point P2.

【0065】また、出力用MOSFET1及び検出用M
OSFET2のドレインソース間に流れる電流の制限さ
れる状態が継続した場合に、出力用MOSFET1が発
熱すると、この出力用MOSFET1に熱的接触するよ
う配置された直列回路7e,7fの環境温度が上昇す
る。
The output MOSFET 1 and the detection M
If the output MOSFET 1 generates heat when the current flowing between the drain and source of the OSFET 2 continues to be limited, the environmental temperature of the series circuits 7 e and 7 f arranged to be in thermal contact with the output MOSFET 1 increases. .

【0066】すると、直列回路7c,7dのインピーダ
ンスが、出力用MOSFET1と熱的接触をしていない
ダイオード6c,6dのインピーダンスよりも小さくな
るので、検出用MOSFET2のドレインソース間を流
れた電流は、制御切替回路20を通って、半導体装置と
してのソース端子Sへ流れるにあたって、直列回路7e
−遮断用MOSFET接続点P2−接続抵抗8−制限用
MOSFET接続点P1−直列回路7fの順に流れるこ
とになる。従って、遮断用MOSFET接続点P2は、
制限用MOSFET接続点P1よりも電位が高くなる。
Then, since the impedance of the series circuits 7c and 7d becomes smaller than the impedance of the diodes 6c and 6d which are not in thermal contact with the output MOSFET 1, the current flowing between the drain and the source of the detection MOSFET 2 becomes When the current flows to the source terminal S as a semiconductor device through the control switching circuit 20, the series circuit 7e
The current flows in the order of: the cut-off MOSFET connection point P2-the connection resistance 8; the limiting MOSFET connection point P1-the series circuit 7f. Therefore, the shutoff MOSFET connection point P2 is
The potential is higher than the limit MOSFET connection point P1.

【0067】かかる半導体装置にあっては、第2実施形
態の半導体装置と同様に、瞬時の過電流が流れる場合に
は、制限用MOSFET接続点P1の電位が上昇するこ
とにより、制限用MOSFET3のゲート電位が上昇し
て、制限用MOSFET3が導通するから、出力用MO
SFET1のゲート信号を制限するようになって、出力
用MOSFET1に流れる電流を制限し、出力用MOS
FET1を保護することができる。また、継続的な過電
流が流れる場合には、その継続的な過電流に基づく発熱
に伴った環境温度の上昇に応じて、出力用MOSFET
1に熱的接触するよう配置されたインピーダンス可変要
素7のインピーダンスが小さくなって、制限用MOSF
ET接続点P1よりも遮断用MOSFET接続点P2の
電位が高くなることにより、遮断用MOSFET5のゲ
ート電位が上昇して、遮断用MOSFET5が導通する
から、出力用MOSFET1へのゲート電流を遮断する
ようになって、出力用MOSFET1に流れる電流を遮
断し、出力用MOSFET1を保護することができる。
In this semiconductor device, similarly to the semiconductor device of the second embodiment, when an instantaneous overcurrent flows, the potential of the limiting MOSFET connection point P1 rises, and the limiting MOSFET 3 Since the gate potential rises and the limiting MOSFET 3 conducts, the output MO
The gate signal of the SFET 1 is limited, and the current flowing through the output MOSFET 1 is limited.
FET1 can be protected. Further, when a continuous overcurrent flows, the output MOSFET is increased in accordance with an increase in the environmental temperature caused by heat generation based on the continuous overcurrent.
The impedance of the variable impedance element 7 arranged to be in thermal contact with the first
Since the potential of the shutoff MOSFET connection point P2 becomes higher than the ET connection point P1, the gate potential of the shutoff MOSFET 5 rises and the shutoff MOSFET 5 becomes conductive, so that the gate current to the output MOSFET 1 is cut off. As a result, the current flowing through the output MOSFET 1 is cut off, and the output MOSFET 1 can be protected.

【0068】また、インピーダンス要素6及びインピー
ダンス可変要素7並びに接続用抵抗8が、いずれも、M
OSFETのゲート材料であるポシシリコンであるか
ら、製造プロセスを簡略化することができ、インピーダ
ンス可変要素7のダイオードが、インピーダンス要素6
のダイオードよりも薄い絶縁膜上に設けられているか
ら、容易に出力用素子との熱的接触を得ることができ、
ひいては、より速く、制御切替回路20による切替を行
うことができ、出力用MOSFET1、検出用MOSF
ET2、制限用MOSFET3、遮断用MOSFET
5、インピーダンス要素6、インピーダンス可変要素7
及び接続用抵抗8が、いずれも同一チップ上に設けられ
ているから、小型化を図ることができ、かつ、それぞれ
の素子の動作特性を揃えることができる。
The impedance element 6, the variable impedance element 7, and the connection resistor 8 are all M
Since the gate material of the OSFET is polysilicon, the manufacturing process can be simplified, and the diode of the impedance variable element 7 is replaced with the impedance element 6
Because it is provided on an insulating film thinner than the diode, thermal contact with the output element can be easily obtained,
As a result, switching by the control switching circuit 20 can be performed faster, and the output MOSFET 1 and the detection MOSFET
ET2, limiting MOSFET3, blocking MOSFET
5, impedance element 6, impedance variable element 7
Since the connection resistor 8 and the connection resistor 8 are both provided on the same chip, the size can be reduced and the operating characteristics of each element can be made uniform.

【0069】また、インピーダンス要素6が、温度上昇
に伴ってインピーダンスが小さくなるダイオード6c,
6dであり、インピーダンス可変要素7が、ダイオード
及び抵抗が直列接続された直列回路7e,7fであるか
ら、ブリッジの構成を簡略にすることができる。
The impedance element 6 includes a diode 6c whose impedance decreases as the temperature rises.
6d, and the variable impedance element 7 is a series circuit 7e, 7f in which a diode and a resistor are connected in series, so that the configuration of the bridge can be simplified.

【0070】なお、第1乃至第3実施形態の半導体装置
では、MOSFET型の出力用素子及びMOSFET型
の検出用素子は、いずれも、MOSFETであるが、I
GBT等の他のMOSFET型素子でもよい。
In the semiconductor devices of the first to third embodiments, the MOSFET-type output element and the MOSFET-type detection element are both MOSFETs.
Other MOSFET type devices such as GBT may be used.

【0071】また、第1及び第2実施形態の半導体装置
では、出力用MOSFET1、検出用MOSFET2、
制限用MOSFET3、遮断用MOSFET5、インピ
ーダンス要素6、インピーダンス可変要素7及び接続用
抵抗8が、いずれも同一チップ上に設けられているが、
これに限るわけではなく、ディスクリート部品を組み合
わせて構成してもよい。
In the semiconductor devices of the first and second embodiments, the output MOSFET 1, the detection MOSFET 2,
The limiting MOSFET 3, the blocking MOSFET 5, the impedance element 6, the impedance variable element 7, and the connection resistor 8 are all provided on the same chip.
However, the present invention is not limited to this, and may be configured by combining discrete components.

【0072】また、第1及び第2実施形態の半導体装置
では、インピーダンス可変要素7が出力用MOSFET
1の近傍に配設される構成、インピーダンス要素6より
も薄い絶縁膜上に設けられる構成をいずれも備えること
により、出力用MOSFET1に熱的接触するようにし
ているが、例えば、十分に熱的接触できる場合は、いず
れか一方の構成のみでもよい。
In the semiconductor devices of the first and second embodiments, the impedance variable element 7 is
1 and a configuration provided on an insulating film thinner than the impedance element 6 so as to make thermal contact with the output MOSFET 1. If contact is possible, only one of the configurations may be used.

【0073】[0073]

【発明の効果】請求項1記載の半導体装置は、瞬時の過
電流が流れる場合には、電流制限制御回路を動作させる
ことにより、出力用素子に流れる電流を制限して、出力
用素子を保護することができる。また、継続的な過電流
が流れる場合には、その継続的な過電流に基づく発熱に
伴った近傍温度の上昇に応じて、制御切替回路が、出力
用素子を保護するために動作する制御回路を、電流制限
制御回路から電流遮断制御回路10に切替えて、電流遮
断制御回路を動作させることにより、出力用素子を遮断
して、出力用素子を保護することができる。
According to the first aspect of the present invention, when an instantaneous overcurrent flows, the current limiting control circuit is operated to limit the current flowing to the output element, thereby protecting the output element. can do. Further, when a continuous overcurrent flows, the control switching circuit operates to protect the output element in response to a rise in the nearby temperature accompanying heat generation based on the continuous overcurrent. Is switched from the current limit control circuit to the current cutoff control circuit 10, and the current cutoff control circuit is operated, whereby the output element can be cut off and the output element can be protected.

【0074】請求項2記載の半導体装置は、瞬時の過電
流が流れる場合には、制限用MOSFET接続点の電位
が上昇することにより、制限用MOSFETのゲート電
位が上昇して、制限用MOSFETが導通するから、出
力用素子のゲート信号を制限するようになって、出力用
素子に流れる電流を制限し、出力用素子を保護すること
ができる。また、継続的な過電流が流れる場合には、そ
の継続的な過電流に基づく発熱に伴った環境温度の上昇
に応じて、出力用素子に熱的接触するよう配置されたイ
ンピーダンス可変要素のインピーダンスが小さくなっ
て、制限用MOSFET接続点よりも遮断用MOSFE
T接続点の電位が高くなることにより、遮断用MOSF
ETのゲート電位が上昇して、遮断用MOSFETが導
通するから、出力用素子へのゲート電流を遮断するよう
になって、出力用素子に流れる電流を遮断し、出力用素
子を保護することができる。
In the semiconductor device according to the second aspect, when an instantaneous overcurrent flows, the potential of the limiting MOSFET connection point rises, so that the gate potential of the limiting MOSFET rises, and the limiting MOSFET becomes Since the continuity is established, the gate signal of the output element is limited, the current flowing through the output element is limited, and the output element can be protected. Further, when a continuous overcurrent flows, the impedance of the variable impedance element arranged so as to be in thermal contact with the output element in accordance with an increase in the environmental temperature due to heat generation based on the continuous overcurrent. Is smaller than the limit MOSFET connection point.
As the potential at the T connection point increases, the MOSF
Since the gate potential of the ET rises and the blocking MOSFET conducts, the gate current to the output element is cut off, and the current flowing to the output element is cut off to protect the output element. it can.

【0075】請求項3記載の半導体装置は、環境温度が
通常温度の場合には、インピーダンス可変要素よりもイ
ンピーダンスの小さいインピーダンス要素を電流の上流
側に接続した一方対向接続点から、インピーダンス可変
要素を電流の上流側に接続した一方対向接続点を通って
電流が流れるから、制限用MOSFET接続点が遮断用
MOSFET接続点よりも電位が高くなり、環境温度が
通常温度よりも上昇した場合には、インピーダンス要素
よりもインピーダンスの小さいインピーダンス可変要素
を電流の上流側に接続した一方対向接続点から、インピ
ーダンス要素を電流の上流側に接続した一方対向接続点
を通って電流が流れるから、遮断用MOSFET接続点
が制限用MOSFET接続点よりも電位が高くなって、
請求項2記載の半導体装置の効果を確実に奏することが
できる。
According to a third aspect of the present invention, when the ambient temperature is a normal temperature, the impedance variable element having a smaller impedance than the impedance variable element is connected to the current upstream side while the variable impedance element is connected to the opposite connection point. Since the current flows through the opposing connection point connected to the upstream side of the current, the potential of the limiting MOSFET connection point becomes higher than that of the blocking MOSFET connection point, and when the environmental temperature rises above the normal temperature, Since the current flows from the opposed connection point where the impedance variable element having an impedance smaller than the impedance element is connected to the upstream side of the current through the opposed connection point where the impedance element is connected to the upstream side of the current, the MOSFET connection for interruption is used. The potential of the point becomes higher than the connection point of the MOSFET for restriction,
The effect of the semiconductor device according to claim 2 can be reliably achieved.

【0076】請求項4記載の半導体装置は、請求項3記
載の半導体装置の効果に加えて、インピーダンス可変要
素は、環境温度が所定温度以上の場合にインピーダンス
要素よりもインピーダンスが小さくなるサーミスタであ
るから、ブリッジの構成を簡略にすることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in addition to the effect of the third aspect of the present invention, the impedance variable element is a thermistor whose impedance becomes smaller than the impedance element when the environmental temperature is equal to or higher than a predetermined temperature. Therefore, the configuration of the bridge can be simplified.

【0077】請求項5記載の半導体装置は、請求項3記
載の半導体装置の効果に加えて、インピーダンス要素
が、温度上昇に伴ってインピーダンスが小さくなるダイ
オードであり、インピーダンス可変要素が、インピーダ
ンス要素よりも多くのダイードが直列接続された直列回
路であるから、ブリッジの構成を簡略にすることができ
る。
In the semiconductor device according to the fifth aspect, in addition to the effect of the semiconductor device according to the third aspect, the impedance element is a diode whose impedance decreases as the temperature rises, and the variable impedance element is smaller than the impedance element. Is a series circuit in which many diodes are connected in series, so that the configuration of the bridge can be simplified.

【0078】請求項6記載の半導体装置は、請求項3記
載の半導体装置の効果に加えて、インピーダンス要素
が、温度上昇に伴ってインピーダンスが小さくなるダイ
オードであり、インピーダンス可変要素が、ダイオード
及び抵抗が直列接続された直列回路であるから、ブリッ
ジの構成を簡略にすることができる。
According to the semiconductor device of the sixth aspect, in addition to the effect of the semiconductor device of the third aspect, the impedance element is a diode whose impedance decreases as the temperature rises, and the impedance variable element is a diode and a resistor. Is a series circuit connected in series, so that the configuration of the bridge can be simplified.

【0079】請求項7記載の半導体装置は、請求項5又
は請求項6のいずれかに記載の半導体装置の効果に加え
て、インピーダンス可変要素及びインピーダンス要素並
びに接続用抵抗は、いずれも、MOSFETのゲート材
料であるポシシリコンであるから、MOSFETを形成
するときに、合わせて形成されるようになり、製造プロ
セスを簡略化することができる。
According to a seventh aspect of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, all of the variable impedance element, the impedance element, and the connection resistance are the same as those of the MOSFET. Since polysilicon is used as the gate material, it is formed together with the MOSFET when it is formed, and the manufacturing process can be simplified.

【0080】請求項8記載の半導体装置は、請求項5又
は請求項6のいずれかに記載の半導体装置の効果に加え
て、インピーダンス可変要素のダイオードは、インピー
ダンス要素のダイオードよりも薄い絶縁膜上に設けられ
ているから、容易に出力用素子との熱的接触を得ること
ができ、ひいては、より速く、制御切替回路による切替
を行うことができる。
In the semiconductor device according to the eighth aspect, in addition to the effects of the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, the diode of the variable impedance element is formed on an insulating film thinner than the diode of the impedance element. Therefore, thermal contact with the output element can be easily obtained, and switching by the control switching circuit can be performed more quickly.

【0081】請求項9記載の半導体装置は、請求項5又
は請求項6のいずれかに記載の半導体装置の効果に加え
て、出力用素子、検出用素子、制限用MOSFET、遮
断用MOSFET、インピーダンス可変要素、インピー
ダンス要素及び接続用抵抗は、いずれも同一チップ上に
設けられているから、小型化を図ることができ、かつ、
それぞれの素子の動作特性を揃えることができる。
According to a ninth aspect of the present invention, in addition to the effects of the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, an output element, a detection element, a limiting MOSFET, a blocking MOSFET, an impedance Since the variable element, the impedance element, and the connection resistor are all provided on the same chip, miniaturization can be achieved, and
The operating characteristics of each element can be made uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】同上の制御切替回路のインピーダンス可変要素
と出力用MOSFETとの位置関係を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a positional relationship between an impedance variable element of the control switching circuit and an output MOSFET.

【図3】本発明の第2実施形態の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3実施形態の回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram of a third embodiment of the present invention.

【図5】第1検討例の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of a first study example.

【図6】第2検討例の回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of a second study example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 出力用MOSFET(MOSFET型の出
力用素子) 2 検出用MOSFET(MOSFET型の検
出用素子) 3 制限用MOSFET(電流制限制御回路) 4 バイアス用抵抗 5 遮断用MOSFET 6 インピーダンス要素 6c,6d ダイオード 7 インピーダンス可変要素 7a,7b サーミスタ 7c,7d 直列回路 7e,7f 直列回路 8 接続用抵抗 10 電流遮断制御回路 20 制御切替回路 P1 制限用MOSFET接続点 P2 遮断用MOSFET接続点
Reference Signs List 1 output MOSFET (MOSFET-type output element) 2 detection MOSFET (MOSFET-type detection element) 3 limiting MOSFET (current limit control circuit) 4 bias resistor 5 blocking MOSFET 6 impedance element 6c, 6d diode 7 Variable impedance element 7a, 7b Thermistor 7c, 7d Series circuit 7e, 7f Series circuit 8 Connection resistor 10 Current cutoff control circuit 20 Control switching circuit P1 Limiting MOSFET connection point P2 Blocking MOSFET connection point

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古本 憲輝 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 砂田 卓也 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 5F038 AV01 BH01 BH02 BH04 BH05 BH07 BH13 BH16 CA07 DF07 DF17 EZ04 EZ20  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Noriaki Furumoto 1048 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd. Term (reference) 5F038 AV01 BH01 BH02 BH04 BH05 BH07 BH13 BH16 CA07 DF07 DF17 EZ04 EZ20

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 MOSFET型の出力用素子と、出力用
素子に並列接続されたMOSFET型の検出用素子と、
出力用素子を保護するために出力用素子の導通を制限す
るよう動作する電流制限制御回路と、出力用素子を保護
するために出力用素子を遮断するよう動作する電流遮断
制御回路と、検出用素子に直列接続され所定電流以上の
電流が流れた場合に出力用素子を保護するために動作す
る制御回路を出力用素子の近傍温度に応じて電流制限制
御回路又は電流遮断制御回路に切替える制御切替回路
と、を備えたことを特徴とする半導体装置。
An output element of a MOSFET type; a detection element of a MOSFET type connected in parallel to the output element;
A current limit control circuit that operates to limit conduction of the output element to protect the output element, a current cutoff control circuit that operates to cut off the output element to protect the output element, and a detection circuit Control switching that switches the control circuit, which is connected in series with the element and operates to protect the output element when a current exceeding a predetermined current flows, to a current limit control circuit or a current cutoff control circuit according to the temperature near the output element A semiconductor device comprising: a circuit.
【請求項2】 前記電流制限制御回路は、前記出力用素
子及び前記検出用素子へのゲート信号をいずれも制限す
るよう導通する制限用MOSFETを有し、前記電流遮
断制御回路は、前記出力用素子へのゲート信号を遮断す
るよう導通する遮断用MOSFET及びその遮断用MO
SFETに導通する電流により前記検出用素子の導通を
維持するバイアス電圧を発生するバイアス用抵抗を有
し、前記制御切替回路は、制限用MOSFETのゲート
に接続された制限用MOSFET接続点と遮断用MOS
FETのゲートに接続された遮断用MOSFET接続点
との間で電位の高低を逆転させるようインピーダンスが
環境温度の上昇に応じて小さくなるインピーダンス可変
要素を前記出力用素子に熱的接触するよう配置した請求
項1記載の半導体装置。
2. The current limiting control circuit includes a limiting MOSFET that conducts so as to limit both gate signals to the output element and the detecting element. MOSFET for interrupting to shut off gate signal to device and MO for interrupting the MOSFET
A bias resistor for generating a bias voltage for maintaining conduction of the detection element by a current conducted to the SFET, wherein the control switching circuit includes a limiting MOSFET connection point connected to the gate of the limiting MOSFET and MOS
An impedance variable element whose impedance is reduced in accordance with an increase in environmental temperature is arranged so as to be in thermal contact with the output element so as to reverse the level of the potential between the MOSFET and the shutoff MOSFET connected to the gate of the FET. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項3】 前記制御切替回路は、前記インピーダン
ス可変要素と、前記インピーダンス可変要素と交互に接
続されることによりブリッジ回路をなすインピーダンス
要素と、ブリッジ回路の一方対向接続点間を接続する接
続用抵抗と、を有し、電流の上流側に前記インピーダン
ス要素を接続した一方対向接続点が前記制限用MOSF
ET接続点となり、電流の上流側に前記インピーダンス
可変要素を接続した一方対向接続点が前記制限用MOS
FET接続点となり、ブリッジ回路の一対の他方対向接
続点が前記検出用素子に直列接続された請求項2記載の
半導体装置。
3. The control switching circuit for connection between the variable impedance element, an impedance element alternately connected to the variable impedance element to form a bridge circuit, and one connection point of the bridge circuit. And an opposite connection point where the impedance element is connected to the upstream side of the current and the limiting MOSF
ET connection point, and the opposite connection point connecting the variable impedance element upstream of the current is the limiting MOS
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the connection point is an FET connection point, and the pair of other connection points of the bridge circuit are connected in series to the detection element.
【請求項4】 前記インピーダンス可変要素は、環境温
度が所定温度以上の場合に前記インピーダンス要素より
もインピーダンスが小さくなるサーミスタである請求項
3記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein said variable impedance element is a thermistor whose impedance becomes lower than that of said impedance element when an environmental temperature is equal to or higher than a predetermined temperature.
【請求項5】 前記インピーダンス要素は、ダイオード
であり、前記インピーダンス可変要素は、前記インピー
ダンス要素よりも多くのダイオードが直列接続された直
列回路である請求項3記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 3, wherein said impedance element is a diode, and said impedance variable element is a series circuit in which more diodes than said impedance element are connected in series.
【請求項6】 前記インピーダンス要素は、ダイオード
であり、前記インピーダンス可変要素は、ダイオード及
び抵抗が直列接続された直列回路である請求項3記載の
半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 3, wherein said impedance element is a diode, and said impedance variable element is a series circuit in which a diode and a resistor are connected in series.
【請求項7】 前記インピーダンス可変要素及び前記イ
ンピーダンス要素並びに前記接続用抵抗は、ポリシリコ
ン製である請求項5又は請求項6のいずれかに記載の半
導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 5, wherein the variable impedance element, the impedance element, and the connection resistor are made of polysilicon.
【請求項8】 前記インピーダンス可変要素のダイオー
ド及び前記インピーダンス要素のダイオードは、前記出
力用素子を設けたチップの有する絶縁膜上に設けられ、
前記インピーダンス可変要素のダイオードは、前記イン
ピーダンス要素のダイオードよりも薄い絶縁膜上に設け
られることにより、前記出力用素子に熱的接触する請求
項5又は請求項6のいずれかに記載の半導体装置。
8. The diode of the impedance variable element and the diode of the impedance element are provided on an insulating film of a chip provided with the output element,
7. The semiconductor device according to claim 5, wherein the diode of the impedance variable element is provided on an insulating film thinner than the diode of the impedance element, and is in thermal contact with the output element. 8.
【請求項9】 前記出力用素子、前記検出用素子、前記
制限用MOSFET、前記遮断用MOSFET、前記イ
ンピーダンス可変要素、前記インピーダンス要素及び前
記接続用抵抗は、いずれも同一チップ上に設けられた請
求項5又は請求項6のいずれかに記載の半導体装置。
9. The output element, the detection element, the limiting MOSFET, the blocking MOSFET, the variable impedance element, the impedance element, and the connection resistor are all provided on the same chip. The semiconductor device according to claim 5.
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