JP2001330837A - Hermetic structural, its manufacturing method, liquid crystal display device using the same and its manufacturing method - Google Patents

Hermetic structural, its manufacturing method, liquid crystal display device using the same and its manufacturing method

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JP2001330837A
JP2001330837A JP2000147176A JP2000147176A JP2001330837A JP 2001330837 A JP2001330837 A JP 2001330837A JP 2000147176 A JP2000147176 A JP 2000147176A JP 2000147176 A JP2000147176 A JP 2000147176A JP 2001330837 A JP2001330837 A JP 2001330837A
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JP2000147176A
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Inventor
Kazufumi Ogawa
小川  一文
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
松下電器産業株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a sealant from flowing and a seal width from widening in manufacturing an empty cell with printing and pressing of the sealant in a seal adhesion step. SOLUTION: The liquid crystal display device 13 is constructed by applying a sealant 7 to a peripheral part of at least one substrate 1 out of a pair of substrates 1, 10 on which electrodes and alignment layers are formed, by sticking the pair of the substrates 1, 10 to each other keeping a specified gap via the sealant 7 and by charging a liquid crystal 11 between the pair of the substrates 1, 10 and is characterized by arranging an inside projecting and recessing pattern 6a along the inside of the pattern of the sealant 7 and an outside projecting and recessing pattern 6b along the outside of the pattern of the sealant at least on the one substrate 1 out of the pair of the substrates 1, 10.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気密構造体およびこれを用いた液晶表示装置、並びにこれらの製造方法に関するものである。 The present invention relates to the hermetic structure and the liquid crystal display device using the same, and to a process for their preparation. 更に詳しくは、一対の基板をシール材を介して互いに接着する接着工程時におけるシール方法に関するものである。 More particularly, it relates to sealing method at the time of the bonding process of bonding together the pair of substrates through the sealing material.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、情報機器、例えばパソコンやワープロの普及に伴って液晶表示装置の市場が大幅に拡大されている。 In recent years, information equipment, for example, the market of the liquid crystal display device in accordance with the spread of personal computers and word processors have been greatly expanded. 中でも、能動層としてのアモルファスシリコン膜により作製された薄膜トランジスタ(TFT)を用いた液晶表示装置の大型化には目を見張るものがある。 Among them, the size of the liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT) fabricated using an amorphous silicon film as an active layer are remarkable.

【0003】このように、液晶表示装置が大型化に伴って、使用されるガラス基板のサイズは大型化され、更には、他の性能の向上も図られているのであるが、液晶セル作製時のシール方法にはほとんど改良が行われていない。 [0003] Thus, the liquid crystal display device in accordance with the size, the size of the glass substrates used are large, and further, but than it has been attempted also improve other performance, when the liquid crystal cell prepared most improvements in the method of sealing has not been performed.

【0004】具体的に従来のシール方法について、アクティブマトリックス型の液晶表示装置を例に図16〜図18を用いて説明する。 [0004] Specific the conventional sealing method, will be described with reference to FIGS. 16 to 18 of the liquid crystal display device of active matrix type as an example. 図16は、従来の液晶表示装置の概略平面図、図17は、同じく従来の液晶表示装置を構成するアレイ基板の概略平面図、図18は、図16のD−D線断面図である。 Figure 16 is a schematic plan view of a conventional liquid crystal display device, FIG. 17, like schematic plan view of an array substrate constituting the conventional liquid crystal display device, FIG. 18 is a sectional view taken along line D-D of Figure 16. アクティブマトリックス型の液晶表示装置13は、アレイ基板1とカラーフィルター基板10との間に配向膜8・8を介して液晶材料11が封止されて構成されている。 The liquid crystal display device 13 of the active matrix type liquid crystal material 11 is formed is sealed with the alignment film 8, 8 between the array substrate 1 and the color filter substrate 10. 前記アレイ基板1上には複数本のソース線3…と複数本のゲート線2…とがマトリックス状に配置されており、各交点に配置される薄膜トランジスタ(TFT)15…を介して、画素電極14… Wherein on the array substrate 1 is a gate line 2 ... a plurality of source lines 3 ... and a plurality of are arranged in a matrix form, through the thin film transistor (TFT) 15 ... disposed at each intersection, pixel electrodes 14 ...
と、ソース線3…及びゲート線2…とが接続されている。 When the source lines 3 ... and the gate line 2 ... and are connected.

【0005】このような液晶表示装置は以下のようにして作製される。 [0005] The liquid crystal display device is manufactured as follows.

【0006】(1)所定の工程によりアレイ基板1およびカラーフィルター基板10を作製する。 [0006] (1) preparing an array substrate 1 and the color filter substrate 10 by a predetermined step.

【0007】(2)アレイ基板1またはカラーフィルター基板10に球状のスペーサを散布する。 [0007] (2) spraying spherical spacers on the array substrate 1 or the color filter substrate 10.

【0008】(3)アレイ基板1またはカラーフィルター基板10の周縁部にシール材7を枠状に塗布し、両基板を貼り合わせる。 [0008] (3) a sealing material 7 is applied in a frame shape on the periphery of the array substrate 1 or the color filter substrate 10, bonding both substrates.

【0009】(4)貼り合わせた両基板1・10を圧着しつつシール材7を硬化させて、液晶材料11を封止する液晶セルを組み立てる。 [0009] (4) both substrates 1 and 10 which were bonded by the sealing material 7 is cured while pressure bonding is to assemble a liquid crystal cell for sealing liquid crystal material 11.

【0010】(5)液晶材料11を液晶注入口5より両基板1・10間に注入し、その後、液晶注入口5を封止部材12により封止する。 [0010] (5) injecting a liquid crystal material 11 between the substrates 1, 10 from the liquid crystal injection port 5, then the liquid crystal injection port 5 is sealed with a sealing member 12.

【0011】そして、前記(3)の工程時には、前記アレイ基板1または前記カラーフィルター基板10の周縁部にエポキシ系の接着剤をスクリーン印刷版を用いてスクリーン印刷する方法、または、ディスペンサーを用いた描画塗布する方法が行われている。 [0011] Then, the when the (3) step, the method is screen printed using a screen printing plate, an epoxy adhesive on the peripheral portion of the array substrate 1 or the color filter substrate 10, or using a dispenser how to draw the coating is being carried out.

【0012】 [0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エポキシ系の接着剤(シール材)をスクリーン印刷版を用いてスクリーン印刷する場合、また、ディスペンサーを用いた描画塗布する場合であっても、塗布するシール材の量は基板上の異なる位置でばらつくのである。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, when screen printing using an epoxy-based adhesive (sealing material) screen printing plate, also, even when the drawing is applied using a dispenser is applied seal the amount of wood is from varying at different locations on the substrate. そして、このような状態で、接着工程において前記アレイ基板1とカラーフィルター基板10とをシール材7を介して圧着すると、シール材の塗布量の多い位置では、シール幅が大きくなってしまうのであった。 Then, in this state, and the array substrate 1 and the color filter substrate 10 when crimped over the sealing material 7 in the bonding step, the high position of the coating amount of the sealing material, there is the seal width is increased It was.

【0013】そして、塗布量の多い位置でのシール材は、表示部にまで流れ広がる可能性もあり、その場合液晶表示装置の表示性能が低下する。 [0013] Then, the sealing material at high positions coating amount is also possible to spread the flow to the display unit, the display performance of the case where the liquid crystal display device is lowered. そのため、前記表示部の位置まで流れ広がらないような位置に、前記シール材を塗布する必要があり、アレイ基板のコンパクト化(即ち、液晶表示装置のコンパクト化)を図ることができない。 Therefore, a position which does not spread the flow to the position of the display unit, it is necessary to apply the sealing material, compact array substrate (i.e., compact liquid crystal display device) can not be achieved.

【0014】また、アレイ基板の周縁部上に、TFTを駆動するための駆動回路を搭載する場合には、当該駆動回路を搭載する位置にまでシール材が広がることとなるので、駆動回路をアレイ基板1上に搭載することが困難となる。 Further, on the periphery of the array substrate, in the case of mounting a driving circuit for driving the TFT, since so that the sealing member extends to a position for mounting the driving circuit, the driving circuit array it is difficult to mount on the substrate 1. そのため、シール材7の幅の広がり分を考慮して必要以上の大きさのアレイ基板を使用しなければならず、アレイ基板のコンパクト化(即ち、液晶表示装置のコンパクト化)を図ることができない。 Therefore, in consideration of the spread portion of the width of the seal material 7 must be used an array substrate of excessive size, compact array substrate (i.e., compact liquid crystal display device) can not be achieved .

【0015】また、アレイ基板1上には、ゲート線2やソース線3が配置されているので、該ゲート線2やソース線3近傍位置では、特に、シール材のシール幅が大きくなる。 Further, on the array substrate 1, the gate line 2 and the source line 3 are arranged, in the gate line 2 and the source line 3 near the position, in particular, the sealing width of the sealing material increases. 図19は、従来のアレイ基板の、シール材塗布位置付近の概略斜視図、図20は、図19の塗布位置にシール材を塗布し、アレイ基板とカラーフィルター基板とを圧着した状態を示す概略斜視図、図21は、図20 Figure 19 is a conventional array substrate, schematic perspective view of the vicinity of the sealant applying position, FIG. 20 is a schematic showing a state where a sealing material is applied to the coating position of FIG. 19, and bond the array substrate and the color filter substrate perspective view, FIG. 21, FIG. 20
のE−E線概略断面図である。 A line E-E sectional view of the. なお、図20においては、カラーフィルター基板10は、説明の都合上省略している。 In FIG. 20, the color filter substrate 10 is omitted for convenience of explanation.

【0016】図19〜図21に示すように、アレイ基板1上には、ゲート線2やソース線(図示せぬ)が前記シール材7と交差してアレイ基板1の外方向に引き出されているため、接着工程でアレイ基板1とカラーフィルタ基板10とを圧着すると、前記ゲート線2…の引き出し方向(X方向)に沿って、シール材7が流れ広がり、シール材7の幅が広くなってしまうのである。 [0016] As shown in FIGS. 19 to 21, on the array substrate 1, a gate line 2 and the source line (not shown) is drawn out outwardly of the array substrate 1 intersects with the seal material 7 are for, when bond the array substrate 1 and the color filter substrate 10 in the bonding step, along the gate line 2 ... withdrawing direction (X direction), the seal material 7 is spread flow, the width of the sealing member 7 becomes wider and is the cause.

【0017】以上のような欠点に鑑み、本発明では、シール材のシール幅を小さくすることにより、コンパクト化された気密構造体およびこれを用いた液晶表示装置並びに、これらの製造方法を提供することを目的とする。 [0017] In view of the drawbacks described above, in the present invention, by reducing the seal width of the sealing material, compacted airtight structure and the liquid crystal display device and using the same, to provide these production methods and an object thereof.

【0018】 [0018]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、気密構造体であって、一対の基板と、前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に形成され、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンと、を備えたことを特徴とする。 In order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION The invention according to claim 1 is a hermetic structure, each other a pair of substrates, the periphery of the pair of substrates at predetermined intervals the sealant for bonding, is formed on at least one substrate of the pair of substrates, and an outer concavo-convex pattern along the outside of the pattern of the inner convex pattern and the sealing material along the inner side of the pattern of the sealing material characterized in that was.

【0019】前記構成のように、前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンは、前記シール材のパターンの内側および外側に沿って形成されているので、該シール材は前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンによってシール幅が広がるのを防止されることとなる。 [0019] As the structure, the inner convex pattern and outer concavo, because it is formed along the inside and outside of the pattern of the sealing material, the sealing material by the inner convex pattern and an outer convex pattern so that the seal width is prevented from spreading. また、従来、基板上に塗布されたシール材は、その塗布位置によって塗布量がばらつき、その状態で一対の基板を接着するとシール幅が塗布位置によって異なるのであった。 Further, conventionally, the applied sealing material on the substrate, the coating amount varies depending on the application position, the seal width when bonding the pair of substrates were different from the application position in this state. しかし、本発明のように、前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンを形成することによって、塗布量の多い位置のシール材は、前記内側および外側凹凸パターンに沿って塗布量の少ない位置に広がることとなり、 However, as in the present invention, by forming the inner convex pattern and an outer concavo-sealant many locations coating amount becomes a to spread less positions coating amount along the inner and outer convex pattern ,
従って、シール材のばらつきを小さくし、シール幅を平均化することができる。 Therefore, variations in the sealing material is reduced, the seal width can be averaged.

【0020】また、請求項2に記載の発明は、請求項1 [0020] The invention of claim 2, claim 1
に記載の気密構造体であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間には、中間凹凸パターンが形成されていることを特徴とする。 A hermetic structure according to, at least on one substrate of the pair of substrates, between the inner convex pattern and the outer convex pattern is characterized in that the intermediate uneven pattern is formed .

【0021】前記構成とすることにより、前記中間凹凸パターンと前記シール材とにより一対の基板を支持するスペーサとしての機能を有することとなる(より詳しく説明すると、前記シール材にはスペーサが含まれており、当該スペーサと前記中間凹凸パターンにより一対の基板を支持するスペーサとしての機能を有することとなる)。 [0021] With the configuration, when the by the intermediate uneven pattern and the sealing material will have a function as a spacer for supporting a pair of substrates (described in more detail, include spacers in the sealing material and which will have a function as a spacer for supporting a pair of substrates by said with the spacer intermediate uneven pattern). 従って、前記中間凹凸パターンと前記シール材とにより、前記一対の基板間のギャップが一定に制御された気密構造体を得ることができる。 Therefore, the by the intermediate uneven pattern and the sealing material, the gap between the pair of substrates can be obtained an airtight structure that is controlled to be constant. また、前記中間凹凸パターンは、シール材のシール幅が広がるのを防止する作用をも有する。 Further, the intermediate uneven pattern also has an effect of preventing the sealing width of the sealing material is increased.

【0022】また、請求項3に記載の発明は、気密構造体であって、一対の基板と、前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、を有し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されていることを特徴とする。 Further, the invention according to claim 3, a hermetic structure includes a pair of substrates, and a sealing material for bonding together at predetermined intervals a peripheral portion of the pair of substrates, the pair a peripheral portion of at least one substrate out of the substrate, wherein the recess in which the sealing material enters is formed.

【0023】前記構成とすることにより、前記一対の基板を接着する際に、該シール材は前記凹部によってシール幅が広がるのを防止されるので、シール幅を小さくすることができる。 [0023] With the configuration, when bonding the pair of substrates, since the sealing material is prevented from sealing width increases by the recess, it is possible to reduce the seal width.

【0024】また、請求項4に記載の発明は、請求項2 [0024] The invention described in Claim 4, Claim 2
に記載の気密構造体であって、前記内側凹凸パターン、 A hermetic structure according to the inner concavo-
外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンは、被膜により形成されていることを特徴とする。 Outer convex pattern and the intermediate uneven pattern is characterized in that it is formed by coating.

【0025】前記凹凸パターンを被膜により形成することによって均一性を高くすることができ、均一性が高ければ、更に、気密構造体のギャップを制御して均一とすることができる。 [0025] The convex pattern can increase the uniformity by forming a film, the higher the uniformity can further be uniform by controlling the gap of the airtight structure. また、前記被膜より構成された凹凸パターンは薄い構成とすることができるので、前記一対の基板間のギャップを薄く構成する場合にも適用することができる。 Further, the concavo-convex pattern that is composed of the coating can be the thin configuration can be applied when configuring thin gap between the pair of substrates.

【0026】また、請求項5に記載に記載の発明は、請求項2または請求項4に記載の気密構造体であって、前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンの先端は平坦であることを特徴とする。 Further, the invention described in claim 5 is a gas-tight structure according to claim 2 or claim 4, wherein the inner concavo outer convex pattern and the intermediate convex pattern tip flat characterized in that there.

【0027】前記構成のように、凹凸パターンの先端が平坦であると、その凹凸パターンの平坦部分と基板面とが平行となるので、前述したシール材中のスペーサが凹凸パターン上に載りやすくなる。 [0027] As the structure, the leading end of the concavo-convex pattern is flat, so the flat part and the substrate surface of the uneven pattern becomes parallel, the spacer is likely rests on the uneven pattern of the sealing material described above . よって、ギャップ制御が容易となるので、更に気密構造体のギャップを制御して均一なギャップとすることができる。 Therefore, since it is easy gap control may be a uniform gap by further controlling the gap of the airtight structure.

【0028】また、請求項6に記載の発明は、請求項2 [0028] The invention of claim 6, claim 2
に記載の気密構造体であって、前記中間凹凸パターンは複数形成されており、該中間凹凸パターンのうち二つの中間凹凸パターンと前記一対の基板間に囲まれる領域の体積をAとし、その体積は前記一対の基板を接着するための最小量であり、前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンと、前記一対の基板とによって囲まれる領域の体積をBとし、前記シール材の体積をWとすると、A A hermetic structure according to the intermediate uneven pattern is formed in plural, the volume of the region surrounded between two intermediate uneven pattern and the pair of substrates of the intermediate convex pattern is A, the volume is the minimum amount for bonding the pair of substrates, the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, the volume of the region surrounded by the pair of substrates and B, and the volume of the sealing material is is W, A
≦W≦Bの関係を満たすことを特徴とする。 Characterized by satisfying the relation of ≦ W ≦ B.

【0029】このように規制することにより、前記シール材の体積WはA以上なので、確実に前記一対の基板を接着することができ、気密構造体内に封止されているもの(例えば、気体や液体)が気密構造体外に漏れるようなことはない。 [0029] By regulating Thus, the volume W of the sealing material because more A, can be reliably bonding the pair of substrates, which is hermetically sealed structure (for example, a gas Ya liquid) does not like leaks in airtight body. 更に、前記シール材の体積Wは、B以下なので、前記一対の基板を圧着した場合に、シール材が前記凹凸パターンを越えて広がることはなく、シール幅を一定以内とした気密構造体を提供することができる。 Furthermore, the volume W of the sealing material, so B such below, when crimping said pair of substrates, rather than the sealing material extends beyond the uneven pattern, providing an airtight structure in which the seal width is constant within can do.

【0030】また、請求項7に記載の発明は、一対の基板と、前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に形成され、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンと、を備えた気密構造体の製造方法であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、前記シール材の塗布位置の内側および外側に内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程と、前記シール材の塗布位置に、シール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、 Further, an invention according to claim 7, forming a pair of substrates, a sealing material for bonding together the peripheral portions of the pair of substrates at predetermined intervals, at least one substrate of the pair of substrates is a process for the preparation of the sealing material airtight structure comprising an outer concavo-convex pattern, the along the outside of the pattern of the inner convex pattern and the sealing material along the inner side of the pattern of at least one of the pair of substrates of the peripheral portion of the substrate, and the uneven pattern forming step of forming an inner concavo-convex pattern and an outer concavo-convex pattern on the inner and outer coating position of the sealing material, the application position of the sealing material, applying a sealant to a linear and the sealing material coating step,
前記一対の基板を所定間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程と、を備えることを特徴とする。 It said pair of substrates bonded at predetermined intervals, characterized in that it comprises a bonding step of curing the sealing material.

【0031】前記方法とすることにより、前記接着工程において、前記シール材のパターンの内側および外側に形成された内側および外側凹凸パターンにより、シール幅が広がるのを防止することができ、前記凹凸パターン間の間隔(所定間隔)以上にシール幅が広がることはない。 [0031] With the method, the in the adhesion step, the inner and outer concavo-convex pattern formed inside and outside of the pattern of the sealing material, it is possible to prevent the seal width increases, the uneven pattern seal width than distance (predetermined distance) between will not spread. また、塗布量の多い位置のシール材が前記内側および外側凹凸パターンに沿って塗布量の少ない位置に広がるので、シール幅が平均化された気密構造体を提供することができる。 Further, since the sealing material of high positions coating amount spreads less positions coating amount along the inner and outer convex pattern, it is possible to provide a hermetic structure seal width were averaged.

【0032】また、請求項8に記載の発明は、請求項7 [0032] The invention of claim 8, claim 7
に記載の気密構造体の製造方法であって、前記凹凸パターン形成工程は、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間に、更に中間凹凸パターンを形成する工程であることを特徴とする。 A method of manufacturing a hermetic structure according to the concavo-convex pattern forming step, on at least one of the pair of substrates, between the inner convex pattern and an outer concavo-further intermediate uneven pattern characterized in that it is a step of forming a.

【0033】前記方法とすることにより、前記中間凹凸パターンと、前記シール材とにより一対の基板を支持するスペーサとしての機能を有するよう構成することができ、接着工程において、前記一対の基板間のギャップを一定に制御することができる。 [0033] With the method, and the intermediate uneven pattern, wherein the a sealing member can be configured to have a function as a spacer for supporting a pair of substrates, in the bonding step, between the pair of substrates it is possible to control the gap constant. また、前記中間凹凸パターンは、シール幅が広がるのを防止する作用を有するので、シール幅の小さい気密構造体を得ることができる。 Further, the intermediate concavo, because it has an effect of preventing the sealing width increases, it is possible to obtain a small airtight structure of seal width.

【0034】また、請求項9に記載の発明は、一対の基板と、前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、を有し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されている気密構造体の製造方法であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、 Further, an invention according to claim 9, a pair of substrates, the periphery of the pair of substrates has a sealing material for bonding together at predetermined intervals, at least one of said pair of substrates the peripheral portion of the substrate, a manufacturing method of the airtight structure recess the sealing material enters are formed, the peripheral portion of at least one of the pair of substrates,
シール材の塗布位置に、凹部を形成する凹部形成工程と、前記凹部内に前記シール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、前記一対の基板を所定の間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程と、を備えることを特徴とする。 The application position of the sealing material, the concave portion forming step of forming a concave portion, and the sealing material coating step of applying the sealing material in the recess in a linear, bonding the pair of substrates at a predetermined interval, the sealing material characterized in that it comprises a and a bonding step of curing the.

【0035】前記方法とすることにより、前記接着工程において、前記凹部により、シール材のシール幅が広がるのを防止することができ、従って、請求項7に記載の発明と同様に、シール材のシール幅の塗布位置によるばらつきを小さくした気密構造体を得ることができる。 [0035] With the method, in the bonding step, by the recess, it is possible to prevent the seal width of the sealing material is spread, therefore, like the invention described in claim 7, the sealing material variation can be obtained a small air-tight structure by coating position of the seal width.

【0036】また、請求項10に記載の発明は、請求項7または請求項8に記載の気密構造体の製造方法であって、前記凹凸パターン形成工程は、前記基板の全面に被膜を形成し、該被膜をフォトリソグラフィー法により加工する工程であることを特徴とする。 [0036] The invention described in Claim 10 is a manufacturing method of the airtight structure according to claim 7 or claim 8, wherein the uneven pattern forming step, the film is formed on the entire surface of the substrate characterized in that it is a step of processing by photolithography a coating film.

【0037】前記方法のように、前記凹凸パターンをフォトリソグラフィー法により形成すると、複数の凹凸パターンを同時に形成することができ、製造工程の簡略化を図ることができる。 [0037] As the method to form the concavo-convex pattern by a photolithography method, it is possible to form a plurality of uneven patterns simultaneously, it is possible to simplify the manufacturing process.

【0038】また、請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の気密構造体の製造方法であって、前記被膜は、CVD法、プラズマCVD法、真空蒸着法、スパッタ法、またはゾルゲル法により形成されることを特徴とする。 Further, an invention according to claim 11, a manufacturing method of the airtight structure according to claim 10, wherein the coating, CVD method, a plasma CVD method, a vacuum deposition method, a sputtering method or a sol-gel, characterized in that it is formed by law.

【0039】前記方法のように、CVD法、プラズマC [0039] As the method, CVD method, a plasma C
VD法、真空蒸着法、スパッタ法、またはゾルゲル法により被膜を形成することによって、前記被膜の膜厚の均一性を高めることができ、均一性の高い被膜により、一対の基板間のギャップの制御を更に容易に行うことができる。 VD method, a vacuum deposition method, by forming a film by a sputtering method or a sol-gel method, can increase the uniformity of the film thickness of the film, the highly uniform coating, control of the gap between the pair of substrates it can be further easily performed.

【0040】また、請求項12に記載の発明は、請求項10または請求項11に記載の気密構造体の製造方法であって、前記被膜は、シリカ膜または窒化シリコン膜であることを特徴とする。 Further, an invention according to claim 12, a manufacturing method of the airtight structure according to claim 10 or claim 11, wherein the coating is a characterized by a silica layer or a silicon nitride film to.

【0041】前記方法のように、前記被膜をシリカ膜または窒化シリコン膜とすると、前記シリカ膜または窒化シリコン膜は、硬度が高い(強度が強い)ので、更に、 [0041] As the method, when the film and silica film or a silicon nitride film, the silica film or a silicon nitride film, since the hardness is high (intensity is high), and further,
一対の基板間のギャップ調整を容易にすることができ、 Can facilitate gap adjustment between the pair of substrates,
ギャップ均一性を向上することができる。 It is possible to improve the gap uniformity. また、前記シリカ膜または窒化シリコン膜であると、通常の半導体製造工程を利用できるので、製造工程を増加することなく凹凸パターンおよび凸パターンを形成することができ都合が良い。 Also, the if there silica layer or a silicon nitride film, it is possible to use a conventional semiconductor manufacturing process, it is possible advantageous to form an uneven pattern and convex pattern without increasing the manufacturing steps.

【0042】また、請求項13に記載の発明は、液晶表示装置であって、電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成した液晶表示装置であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンを備えたことを特徴とする。 Further, the invention according to claim 13, a liquid crystal display device, a sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates electrode and an alignment film is formed, the seal through the wood glued together with the pair of substrates at predetermined intervals, a liquid crystal display device constructed by filling liquid crystal between the pair of substrates, on at least one of the pair of substrates, the characterized by comprising an outer convex pattern along the outside of the pattern of the inner convex pattern and the sealing material along the inner side of the pattern of the sealing material.

【0043】前記液晶表示装置は、前記一対の基板を接着する際に、シール材は内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとによってシール幅が広がるのを防止され、シール材が流れ広がることなく、シール幅を小さく、また均一にすることができる。 [0043] The liquid crystal display device, at the time of bonding the pair of substrates, the sealing material is prevented from sealing width increases by an inner concavo-convex pattern and an outer concavo-convex pattern without the sealant spreads flow, seal width it can be a small and uniform. 従って、コンパクト化が達成された液晶表示装置とすることができる。 Therefore, it can be a liquid crystal display device compact is achieved.

【0044】また、請求項14に記載の発明は、請求項13に記載の液晶表示装置であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間には、中間凹凸パターンが形成されていることを特徴とする。 [0044] Further, an invention according to claim 14, a liquid crystal display device according to claim 13, on at least one of the pair of substrates, and the inner convex pattern and an outer convex pattern between, characterized in that the intermediate uneven pattern is formed.

【0045】また、請求項15に記載の発明は、電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成した液晶表示装置であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されていることを特徴とする。 Further, the invention according to claim 15, the sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates electrode and an alignment film is formed, the pair of through the sealing material adhere to one another the substrate at predetermined intervals, a liquid crystal display device constructed by filling liquid crystal between the pair of substrates, the periphery of at least one of the pair of substrates, the sealing material enters the recess wherein the but has been formed.

【0046】前記構成とすることにより、前記一対の基板を接着する際に、該シール材は前記凹部によってシール幅が広がるのを防止されるので、シール幅を小さくすることができる。 [0046] With the configuration, when bonding the pair of substrates, since the sealing material is prevented from sealing width increases by the recess, it is possible to reduce the seal width.

【0047】また、請求項16に記載の発明は、請求項14に記載の液晶表示装置であって、前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンは、被膜により形成されていることを特徴とする。 [0047] Further, an invention according to claim 16, a liquid crystal display device according to claim 14, wherein the inner concave-convex pattern, the outer convex pattern and intermediate concavo characterized in that it is formed by coating to.

【0048】また、請求項17に記載の発明は、請求項14または請求項16に記載の液晶表示装置であって、 [0048] The invention of claim 17 is a liquid crystal display device according to claim 14 or claim 16,
前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンの先端は平坦であることを特徴とする。 It said inner concavo-convex pattern, the tip of the outer convex pattern and the intermediate uneven pattern is characterized by a flat.

【0049】また、請求項18に記載の発明は、請求項14に記載の液晶表示装置であって、 前記中間凹凸パターンは複数形成されており、該中間凹凸パターンのうち二つの中間凹凸パターンと前記一対の基板間に囲まれる領域の体積をAとし、その体積は前記一対の基板を接着するための最小量であり、前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンと、前記一対の基板とによって囲まれる領域の体積をBとし、前記シール材の体積をWとすると、A≦W≦Bの関係を満たすことを特徴とする。 [0049] The invention of claim 18 is a liquid crystal display device according to claim 14, wherein the intermediate uneven pattern is formed in plural, and two intermediate convex pattern of the intermediate uneven pattern wherein the volume of the region surrounded by the pair of substrates is a, the volume is the minimum amount for bonding the pair of substrates, surrounded the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern by a pair of substrates the volume of the region with B, and the volume of the sealing material is is W, and satisfies the relationship a ≦ W ≦ B.

【0050】また、請求項19に記載の発明は、請求項13に記載の液晶表示装置であって、前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンは、一対の基板のうち一方の基板に形成された表示部を囲むように形成されていることを特徴とする。 [0050] Further, the invention according to claim 19, a liquid crystal display device according to claim 13, wherein the inner convex pattern and outer concavo display formed on one of the pair of substrates characterized in that it is formed so as to surround the part.

【0051】前記構成のように、前記内側および外側凹凸パターンが表示部を囲むように形成されていると、該凹凸パターンによりシール材が流れ広がり、前記表示部にまで広がるようなことはなく、従って、液晶表示装置の表示性能が低下するようなことはない。 [0051] As the structure, when the inner and outer convex pattern is formed so as to surround the display unit, the sealing member spreads the flow by uneven pattern, never as extends to the display unit, Thus, the display performance of the liquid crystal display device will not, as reduced. また、このような構成とすることにより、表示部にシール材が流れ広がるようなことはないので、従来と比較して、表示部近傍位置にシール材を塗布することが可能となり、基板を有効利用(基板のコンパクト化)できる。 Further, by adopting such a configuration, since no such sealing material spreads to flow to the display unit, as compared with conventional, it is possible to apply the sealant to the display unit near the position, enable the substrate available (compact of the substrate).

【0052】また、請求項20に記載の発明は、請求項13に記載の液晶表示装置であって、前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンは、前記表示部から前記基板の外方向に引き出されている配線と交差するように形成されていることを特徴とする。 [0052] Further, the invention according to claim 20, a liquid crystal display device according to claim 13, wherein the inner convex pattern and outer convex pattern is drawn from the display unit in the outer direction of the substrate characterized in that it is formed so as to intersect with there wires.

【0053】前記構成のように、前記内側および外側凹凸パターンは、前記基板上を前記表示部から外方向に引き出されている配線と交差するように形成されているので、該凹凸パターンにより、前記シール材が配線に沿って流れ広がるのを防ぐことができる。 [0053] As the structure, the inner and outer concavo, is formed so as to intersect the wire being drawn outwardly of the upper substrate from the display unit, the uneven pattern, wherein can sealing material is prevented from spreading to flow along the wire. よって、シール材のシール幅を小さくした液晶表示装置を提供することができ、基板周縁部の有効利用(例えば、駆動回路を基板の周縁部に搭載すること等)を図ることができ、液晶表示装置のコンパクト化を図ることができる。 Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device having a small seal width of the sealing member, effective use of the substrate peripheral portion (e.g., such as mounting the driving circuit on the periphery of the substrate) can be achieved, the liquid crystal display it can be made compact device.

【0054】また、請求項21に記載の発明は、電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンを備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記一対の基板に電極を形成する電極形成工程と、前記一対の基板に配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、前記シール材の塗布位置の内側および外側に、液晶注入口を残して内側凹凸パターンおよび外側凹凸パタ [0054] Further, the invention according to claim 21, the sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates electrode and an alignment film is formed, the pair of through the sealing material adhere to one another the substrate at predetermined intervals, the constructed by filling a liquid crystal between a pair of substrates, on at least one of the pair of substrates, the inner convex pattern and the along the inner side of the pattern of the sealing material a method of manufacturing a sealant pattern liquid crystal display device with an outer convex pattern along the outer side of the electrode forming step of forming an electrode on the pair of substrates, the orientation film for forming an orientation film on said pair of substrates and forming step, wherein the peripheral edge of at least one substrate of the pair of substrates, the inner and outer coating position of the sealing material, the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, leaving a liquid crystal injection port ンを形成する凹凸パターン形成工程と、前記シール材の塗布位置に、液晶注入口を残してシール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、前記一対の基板を所定間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程とを備えることを特徴とする。 A concavo-convex pattern forming step of forming a down, the application position of the sealing material, bonding and sealing material applying step of applying a sealing material linearly leaving the liquid crystal injection port, the pair of substrates at predetermined intervals, wherein characterized in that it comprises an adhesive curing the sealant.

【0055】前記方法のように、前記液晶注入口を残してシール材を塗布し、当該液晶注入口より液晶を注入することにより、液晶表示装置を作製することができる。 [0055] As the method, a sealing material is applied, leaving the liquid crystal injection port, by injecting the liquid from the liquid crystal injection port, it is possible to produce a liquid crystal display device.
このようにして作製された液晶表示装置は、前記気密構造体と同様に、内側および外側凹凸パターンを形成することによって、所定のシール幅とすることができ、また、塗布位置によるばらつきを小さくし、シール幅を平均化することができる。 Such liquid crystal display device manufactured in the, like the airtight structure, by forming the inner and outer convex pattern can be a predetermined seal width, also, to reduce the variations due to the coating position , it is possible to average the seal width.

【0056】また、請求項22に記載の発明は、請求項21に記載の液晶表示装置であって、前記凹凸パターン形成工程は、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間に、更に中間凹凸パターンを形成する工程であることを特徴とする。 [0056] Further, the invention according to claim 22, a liquid crystal display device according to claim 21, wherein the uneven pattern forming step, on at least one of the pair of substrates, the inner uneven between the pattern and the outer convex pattern, characterized in that it is a further step of forming the intermediate uneven pattern.

【0057】また、請求項23に記載の発明は、電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されている液晶表示装置の製造方法であって、前記一対の基板に電極を形成する電極形成工程と、前記一対の基板に配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、シール材の塗布位置に、凹部を形成する凹部形成工程と、前記凹部内に前記シール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、前記一対の基板を所定の間隔で貼り合わせ、前記シ [0057] Further, the invention according to claim 23, the sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates electrode and an alignment film is formed, the pair of through the sealing material adhere to one another the substrate at predetermined intervals, and configured by filling a liquid crystal between the pair of substrates, the periphery of at least one of the pair of substrates, a liquid crystal a recess in which the sealing material enters is formed a method of manufacturing a display device, an electrode forming step of forming an electrode on the pair of substrates, an alignment film forming step of forming an alignment layer on the pair of substrates, at least one of the pair of substrates the peripheral portion, the coating position of the seal member, a concave portion forming step of forming a concave portion, and the sealing material coating step of applying the sealing material in the recess in a linear, bonding the pair of substrates at predetermined intervals , said Shi ル材を硬化させる接着工程と、を備えることを特徴とする。 Characterized in that it comprises a bonding step of curing the sealing material, the.

【0058】前記方法とすることにより、前記接着工程において、前記シール材の塗布位置に形成された凹部により、シール材のシール幅が広がるのを防止することができ、従って、シール材のシール幅の塗布位置によるばらつきを小さくした液晶表示装置を得ることができる。 [0058] With the method, in the bonding step, said by the recess formed in the application position of the sealing material, it is possible to prevent the seal width of the sealing material is spread, therefore, the sealing width of the sealing member it is possible to obtain a coating position of the liquid crystal display device having a small variation due.

【0059】また、請求項24に記載の発明は、請求項21または請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法であって、前記凹凸パターン形成工程は、前記基板の全面に被膜を形成し、該被膜をフォトリソグラフィー法により加工する工程であることを特徴とする。 [0059] The invention of claim 24 is a method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 21 or claim 22, wherein the uneven pattern forming step, the film is formed on the entire surface of the substrate characterized in that it is a step of processing by photolithography a coating film.

【0060】また、請求項25に記載の発明は、請求項24に記載の液晶表示装置の製造方法であって、前記被膜は、CVD法、プラズマCVD法、真空蒸着法、スパッタ法、またはゾルゲル法により形成されることを特徴とする。 [0060] Further, an invention according to claim 25, the manufacturing method for the liquid crystal display device according to claim 24, wherein the coating, CVD method, a plasma CVD method, a vacuum deposition method, a sputtering method or a sol-gel, characterized in that it is formed by law.

【0061】また、請求項26に記載の発明は、請求項24または請求項25に記載の液晶表示装置であって、 [0061] The invention of claim 26 is a liquid crystal display device according to claim 24 or claim 25,
前記被膜は、シリカ膜または窒化シリコン膜であることを特徴とする。 The coating is characterized by a silica layer or a silicon nitride film.

【0062】また、請求項27に記載の発明は、請求項21または請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法であって、前記凹凸パターン形成工程後に、前記一対の基板の内側に配向膜を形成する配向膜形成工程が行われることを特徴とする。 [0062] Further, the invention according to claim 27, the manufacturing method for the liquid crystal display device according to claim 21 or claim 22, after the uneven pattern forming step, the orientation film on the inside of the pair of substrates wherein the alignment layer forming step of forming a is performed.

【0063】前記方法とすることにより、前記凹凸パターンを配向膜作製工程前に形成すると、フォトリソグラフィー法により配向膜が汚染されるようなことはない。 [0063] With the method, when forming the uneven pattern on the front orientation film manufacturing process, it is not as alignment film is contaminated by photolithography.
従って、フォトリソグラフィー法により汚染されていない配向膜は清浄であり配向機能に優れ、これにより、表示性能に優れた液晶表示装置とすることができる。 Therefore, the alignment film uncontaminated by photolithography is excellent in a cleaning orientation function, thereby, may be a liquid crystal display device with excellent display performance.

【0064】 [0064]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, will be described embodiments of the present invention. 但し、説明に不要な部分は省略し、また、説明を容易にする為に誇張あるいは縮小等して図示した部分がある。 However, unnecessary portions to the description are omitted, and there are exaggerated or parts shown by reduced like in order to facilitate the description.

【0065】(実施の形態1)実施の形態1では、様々な用途への使用が可能な気密構造体について、図1〜図3を用いて説明する。 [0065] In Embodiment 1 (Embodiment 1), the possible air-tight structure used for various applications will be described with reference to FIGS. 図1は、本発明の実施の形態1に係る気密構造体の概略図であり、図1(a)は概略斜視図、図1(b)は図1(a)のA−A線断面図、図2 Figure 1 is a schematic diagram of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a schematic perspective view, A-A line sectional view of FIG. 1 (b) FIGS. 1 (a) , as shown in FIG. 2
は、内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンの形成された基板の平面図、図3は、本発明の実施の形態1に係る気密構造体の製造方法を示す概略断面図である。 It is a plan view of the substrate formed with the inner convex pattern and an outer concavo-3 is a schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention.

【0066】本発明の実施の形態1に係る気密構造体3 [0066] airtight structure 3 according to the first embodiment of the present invention
0は、基板31・32を、基板31の周縁部に枠状に塗布されたシール材33を介して互いに所定間隔で接着されて構成されている。 0, a substrate 31, 32 is constructed by bonding at a predetermined distance from each other via the sealing material 33 is applied in a frame shape on the periphery of the substrate 31. また、前記基板31の周縁部であって、前記シール材33のパターンの内側および外側には、該シール材33のパターンに沿って内側凹凸パターン34aおよび外側凹凸パターン34bが形成されている。 Further, a peripheral portion of the substrate 31, the inner and outer patterns of the sealing material 33, inner convex pattern 34a and outer convex pattern 34b along the pattern of the sealing material 33 is formed.

【0067】このように、内側凹凸パターン34aおよび外側凹凸パターン34bを、前記基板31の周縁部であって、前記シール材33のパターンの内側および外側に沿うように形成することによって、前記内側凹凸パターン34aおよび外側凹凸パターン34bによってシール材33の広がりが防止され、シール材33のシール幅を小さく(所定の間隔と)することができる。 [0067] Thus, by the inner convex pattern 34a and outer convex pattern 34b, a peripheral portion of the substrate 31, formed along the inside and outside of the pattern of the sealing material 33, the inner uneven is prevented the spread of the sealing material 33 by the pattern 34a and outer convex pattern 34b, it may be the seal width of the sealing member 33 smaller (a predetermined distance). また、塗布量の多い位置のシール材は、前記内側凹凸パターン3 The sealing material of the high position of the coating amount, the inner concave-convex pattern 3
4aおよび外側凹凸パターン34bに沿って塗布量の少ない位置に広がることとなり、従って、シール材33のばらつきを小さくし、シール幅を平均化することができる。 4a and along the outer convex pattern 34b becomes to spread the coating a small amount of position, therefore, the variation of the sealing member 33 is reduced, the seal width can be averaged.

【0068】次に、前記気密構造体30の製造方法について説明する。 [0068] Next, a manufacturing method of the airtight structure 30.

【0069】(1)まず、図3(a)に示すようなガラス等からなる基板31を用意し、次に、図3(b)に示すように、基板31の周縁部であって、シール材33の塗布位置の内側および外側に内側凹凸パターン34aおよび外側凹凸パターン34bを形成した(凹凸パターン形成工程)。 [0069] (1) First, a substrate 31 made of glass or the like as shown in FIG. 3 (a), then, as shown in FIG. 3 (b), a peripheral portion of the substrate 31, the sealing the inner and outer coating position of the timber 33 to form the inner convex pattern 34a and outer convex pattern 34b (uneven pattern forming step).

【0070】(2)次に、図3(c)に示すように、前記基板31の周縁部であって、前記内側凹凸パターン3 [0070] (2) Next, as shown in FIG. 3 (c), a peripheral portion of the substrate 31, the inner concave-convex pattern 3
4aと外側凹凸パターン34bとの間(シール材塗布位置)にシール材33を線状に塗布した(シール材塗布工程)。 It was coated with a sealing material 33 linearly between the 4a and the outer convex pattern 34b (sealing material application position) (the sealing material application step).

【0071】(3)次に、図3(d)に示すように、前記基板31とガラス等からなる基板32を所定の間隔で貼り合わせて圧着し、前記シール材33を硬化させ、気密構造体30を作製した(接着工程)。 [0071] (3) Next, as shown in FIG. 3 (d), the substrate 32 consisting of the substrate 31 and the glass crimp bonded at predetermined intervals, curing the sealing material 33, the airtight structure the body 30 was manufactured (bonding step).

【0072】このようにして構成された気密構造体30 [0072] airtight structure 30 constructed in this manner
は、様々な用途があり、例えば、住宅の窓ガラスとして使用したり、また、ガス等の気体や、また液体等を保管するための容器として使用することができる。 May have a variety of uses, for example, or used as a window glass for houses, also be used as a container for storing or gas such as gas and liquid or the like. 更には、 Furthermore,
前記基板31・32間の間隔を、シール材の量により調整して狭くし、写真や絵画等の保管に使用することもできる。 The distance between the substrate 31, 32, and narrowed by adjusting the amount of the sealing material can also be used to store such as a photograph or painting. また、後述する実施の形態2のように、前記気密構造体30を液晶表示装置に用いることも可能である。 Also, as in the second embodiment to be described later, it is also possible to use the air-tight structure 30 to the liquid crystal display device.

【0073】また、前記内側凹凸パターン34aおよび外側凹凸パターン34bは、基板31の周縁部に形成されているが、図4に示すように、基板31上に被膜31 [0073] The inner convex pattern 34a and outer convex pattern 34b is formed on the peripheral portion of the substrate 31, as shown in FIG. 4, the coating 31 on the substrate 31
aを形成し、該被膜31aに内側凹凸パターン34dおよび外側凹凸パターン34cを形成し、該内側凹凸パターン34dと外側凹凸パターン34cとの間にシール材を塗布するような構成とすることができる。 Forming a a, coating film 31a to form the inner convex pattern 34d and the outer convex pattern 34c, may be such as to apply a sealing material formed between the inner convex pattern 34d and the outer convex pattern 34c. 図4は本発明の実施の形態1の気密構造体の変形例1を示す概略部分断面図である。 Figure 4 is a schematic partial sectional view showing a first modification of the airtight structure of the first embodiment of the present invention. このような構成とすることにより、前記内側凹凸パターン34dと外側凹凸パターン34cとの間にシール材33を塗布し、接着工程時に基板31・ With such a configuration, the sealing material 33 is applied between the inner convex pattern 34d and the outer convex pattern 34c, the substrate 31, during the bonding process
32を圧着しても前記シール材33は前記内側凹凸パターン34dおよび外側凹凸パターン34c内に入り込んで、シール材33のシール幅が広がりを防止することができる。 32 the sealing member 33 be crimped to the penetrate the inner convex pattern 34d and the outer convex pattern 34c, it is possible to seal width of the sealing member 33 prevents the spread. 尚、基板31に直接、内側凹凸パターン34d Incidentally, the substrate directly 31, inner convex pattern 34d
と外側凹凸パターン34cとを形成するようなことも可能である。 It a so as to form an outer convex pattern 34c is possible.

【0074】また、図5に示すような構成とすることもできる。 [0074] It is also possible to adopt a configuration as shown in FIG. 図5は本発明の実施の形態1に係る気密構造体の変形例2を示す概略部分断面図である。 Figure 5 is a schematic partial sectional view showing a second modification of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention. 図5に示すように、前記基板31には被膜31aが形成されており、 As shown in FIG. 5, and the film 31a is formed on the substrate 31,
該被膜31aのシール材33の塗布位置となる位置には所定幅の凹部34eが形成され、該凹部34e内に前記シール材33が塗布されるよう構成している。 The position where the coating position of the seal member 33 of the coating film 31a is formed a recess 34e having a predetermined width, the sealing material 33 is configured to be applied to the recess 34e. そして、 And,
所定幅の凹部34e内に前記シール材33が塗布されるので、シール材33は、凹部34eの両端でシール幅が広がるのを防止され、凹部34eの所定幅以上に広がることはない。 Since the sealing material 33 into the recess 34e having a predetermined width is applied, the sealant 33 is prevented from sealing width increases at both ends of the recess 34e, it does not spread beyond the predetermined width of the recess 34e.

【0075】また、図6は本発明の実施の形態1に係る気密構造体の変形例3を示す概略部分断面図である。 [0075] Also, FIG. 6 is a schematic partial sectional view showing a third modification of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention. 図6に示すように、前記内側凹凸パターン34aと外側凹凸パターン34bとの内側に、該凹凸パターン34a・ As shown in FIG. 6, on the inner side of said inner convex pattern 34a and outer convex pattern 34b, uneven pattern 34a ·
34bと略同一形状の中間凹凸パターン34f・34f 34b and an intermediate convex pattern 34f · 34f of substantially the same shape
を形成することもできる。 It can also be formed. このように構成することにより、当該中間凹凸パターン34f・34fと前記シール材33(より詳しくは、シール材33中に含まれるスペーサ)とにより一対の基板31・32を支持するスペーサとしての機能を有することとなる。 With this configuration, the intermediate convex pattern 34f, the sealing material 33 and 34f (more specifically, a spacer contained in the sealant 33) by and a function as a spacer for supporting a pair of substrates 31, 32 It will have. 従って、前記一対の基板31・32間のギャップが一定に制御された気密構造体30とすることができる。 Therefore, it can be an airtight structure 30 gap between the pair of substrates 31, 32 is controlled to be constant. 尚、前記中間凹凸パターン34f・34fの数は限定されるものではない。 The number of the intermediate uneven pattern 34f · 34f is not limited. また、シール材と中間凹凸パターン34f・34fとの関係を図7を用いて説明する。 Also, the relationship between the sealing member and the intermediate convex pattern 34f · 34f will be described with reference to FIG.

【0076】内側凹凸パターン34a、外側凹凸パターン34b、中間凹凸パターン34f・34fを基板31 [0076] the inner convex pattern 34a, outer convex pattern 34b, the intermediate convex pattern 34f · 34f substrate 31
の周縁部に4本枠状に形成しているが、前記中間凹凸パターン34f・34fと、前記基板31と、前記基板3 While the peripheral edge portion is formed in a four frame shape, the intermediate uneven pattern 34f · 34f, and the substrate 31, the substrate 3
2とに囲まれる領域の体積をAとし(図7(a)参照)、その体積は前記一対の基板を接着するための最小量であり、前記シール材33の内側および外側に沿って形成された内側凹凸パターン34aおよび外側凹凸パターン34bと、前記一対の基板31・32とによって囲まれる領域の体積をB(図7(b)参照)、前記シール材の体積をW(図(c)参照)とすると、A≦W≦Bの関係を満たしている。 The volume of the region surrounded by the 2 and the A (see FIG. 7 (a)), the volume is the minimum amount for bonding the pair of substrates, are formed along the inside and outside of the seal member 33 and an inner concavo-convex pattern 34a and outer convex pattern 34b, the volume of the region B (see FIG. 7 (b)) surrounded by said pair of substrates 31, 32, the volume of the sealing material W (FIG. (c) see ) and when satisfies the relationship a ≦ W ≦ B.

【0077】このようなシール材と凹凸パターンとの関係を満たすことにより、基板31・32とを確実に接着することができるので、基板31・32間に封止される気体や液体が漏れるようなことはない。 [0077] By satisfying the relation of such a sealing material and the concavo-convex pattern, it is possible to reliably bond the substrate 31, 32, so that the gas or liquid to be sealed between the substrates 31, 32 leaks It is not such. 更に、前述したように、前記内側凹凸パターンパターン34aおよび外側凹凸パターン34bとによりシール材33が流れ広がるのを防止することができる。 Further, as described above, it is possible to prevent the spread of the sealing member 33 flows by said inner convex pattern pattern 34a and outer convex pattern 34b.

【0078】また、図8は本発明の実施の形態1に係る気密構造体の変形例4を示す概略部分断面図である。 [0078] Further, FIG. 8 is a schematic partial sectional view showing a fourth modification of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention. 図8に示すように、基板31上に被膜31aを形成し、該被膜31aの、シール材の塗布位置の内側および外側に、内側凹凸パターン34dおよび外側凹凸パターン3 As shown in FIG. 8, a film 31a is formed on the substrate 31, the coating film 31a, the inner and outer coating position of the sealing material, the inner convex pattern 34d and the outer convex pattern 3
4cを形成し、その凹凸パターン34c・34dの内側に中間凹凸パターン34f・34fを形成するような構成とすることも可能である。 4c is formed, it is also possible to adopt a configuration so as to form an intermediate convex pattern 34f · 34f inside of the concave-convex pattern 34c · 34d. この場合、前記中間凹凸パターン34f・34fは、シール材と共にスペーサとしての機能を有し、内側凹凸パターン34dおよび外側凹凸パターン34cは、シール材が広がるのを防止する。 In this case, the intermediate convex pattern 34f · 34f has a function as a spacer with a sealing material, an inner concavo-convex pattern 34d and the outer convex pattern 34c prevents the sealing material expands.

【0079】(その他の事項)前記内側凹凸パターン、 [0079] (and other matters) the inner convex-concave pattern,
外側凹凸パターン、中間凹凸パターンは、基板31の周縁部に形成されているが、これに限るものではなく、基板32の周縁部に形成されても良く、また、前記基板3 Outer convex pattern, the intermediate uneven pattern has been formed on the peripheral portion of the substrate 31 is not limited thereto, it may be formed on the peripheral portion of the substrate 32, The substrate 3
1・32の両方に形成されていても良い。 It may be formed in both the 1-32.

【0080】前記シール材33は、基板31の周縁部であって、内側凹凸パターン34cと外側凹凸パターン3 [0080] The sealing member 33 is a peripheral portion of the substrate 31, the inner convex pattern 34c and the outer convex pattern 3
4dとの間に塗布されるが、例えば、気体や液体等を注入するための注入口(塗布しない部分)を残して枠状に形成するような構成とすることもできる。 It is applied between the 4d. For example, it is also possible to adopt a configuration so as to form a frame shape, leaving injection port for injecting a gas or liquid or the like (coated parts not). また、後述する実施の形態2でも述べるが、前記内側凹凸パターン、 Although described even the second embodiment to be described later, the inner concavo-
外側凹凸パターン、中間凹凸パターンは、窒化シリコン膜やシリカ膜から形成することができ、また、樹脂等を用いることも可能である。 Outer convex pattern, the intermediate uneven pattern may be formed of a silicon nitride film or a silica film, It is also possible to use a resin or the like. また、前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン、中間凹凸パターンは、プラズマCVD法やCVD法、真空蒸着法、スパッタ法、またはゾルゲル法により形成することが可能である。 Further, the inner concavo-outer concavo-intermediate uneven pattern can be formed by a plasma CVD method or a CVD method, a vacuum deposition method, it can be formed by sputtering or sol-gel method.

【0081】(実施の形態2)本実施の形態2では、液晶表示装置について図9〜図13を用いて説明する。 [0081] In Embodiment 2 Embodiment 2 will be described with reference to FIGS. 9 to 13 for a liquid crystal display device.

【0082】図9は、本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置の概略平面図、図10は、図9のB−B線断面図、図11は、図10の部分断面図、図12は、図9のC−C線断面図、図13は、同じく、本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置のアレイ基板1の概略平面図である。 [0082] Figure 9 is a schematic plan view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, FIG. 10, B-B line sectional view of FIG. 9, FIG. 11 is a partial cross-sectional view of FIG. 10, FIG. 12, C-C line sectional view of FIG. 9, FIG. 13, also, is a schematic plan view of an array substrate 1 of the liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【0083】本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置13は、アレイ基板1とカラーフィルター基板10とをシール材7を介して互いに接着し、前記アレイ基板1と前記カラーフィルター基板10との間に液晶材料11を封入することによって構成されている。 [0083] The liquid crystal display device 13 according to the second embodiment of the present invention, the array substrate 1 and the color filter substrate 10 through the sealing member 7 adhere to one another, and the color filter substrate 10 and the array substrate 1 It is constructed by sealing a liquid crystal material 11 therebetween.

【0084】前記アレイ基板1上には、複数本のソース線3…と複数本のゲート線2…とがマトリックス状に配置されており、各交点に配置される薄膜トランジスタ(TFT)15…を介して、画素電極14…と、前記ソース線3…およびゲート線2…とが接続され、表示部4 [0084] On the array substrate 1, a plurality of source lines 3 ... a plurality of gate lines 2 ... in are arranged in a matrix form, through the thin film transistor (TFT) 15 ... disposed at each intersection Te, and the pixel electrodes 14 ..., the source lines 3 ... and the gate line 2 ... and are connected, the display section 4
(図13参照)が構成されている。 (See FIG. 13) is formed. また、前記ゲート線2…およびソース線3には、図示せぬゲート線駆動回路およびソース線駆動回路が接続される。 Further, the gate line 2 ... and the source lines 3, a gate line drive circuit and the source line drive circuit (not shown) is connected. 尚、前記ゲート線駆動回路およびソース線駆動回路は、アレイ基板1の周縁部に配置することもできる。 Note that the gate line drive circuit and the source line drive circuit may be located on the periphery of the array substrate 1. また、このようにして形成される画素電極14…、薄膜トランジスタ(TF The pixel electrode formed in this manner 14 ..., a thin film transistor (TF
T)15…、ゲート線2…、ソース線3…上には配向膜8が形成されている。 T) 15 ..., the gate line 2 ..., and an alignment film 8 is formed on the source line 3 ... top.

【0085】また、前記アレイ基板1の周縁部には、本発明の要部をなす内側凹凸パターン6aおよび外側凹凸パターン6bが、アレイ基板1の周縁部の、シール材7 [0085] Also, wherein the periphery of the array substrate 1, the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b forms an essential part of the present invention, the periphery of the array substrate 1, the sealing material 7
のパターンの内側および外側に沿うように形成されている。 It is formed along the inner and outer patterns. ここで、前記内側凹凸パターン6aおよび外側凹凸パターン6bは液晶注入口5を除いて形成されている。 Here, the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b are formed except for a liquid crystal injection port 5.
また、前記内側凹凸パターン6aと外側凹凸パターン6 Further, the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6
bとの間のアレイ基板1上には、前記内側凹凸パターン6aおよび外側凹凸パターン6bと略同一形状の中間凹凸パターン6c・6cが同じく液晶注入口5を除いて形成され、前記内側凹凸パターン6aと外側凹凸パターン6bと中間凹凸パターン6c・6cとにより、凹凸パターン6を形成している。 On the array substrate 1 between b, the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b and the intermediate convex pattern 6c · 6c of substantially the same shape is formed similarly except the liquid crystal injection port 5, the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b and the intermediate convex pattern 6c · 6c, to form an uneven pattern 6. また、前記凹凸パターン6は、 In addition, the uneven pattern 6,
前記表示部4から前記基板の外方向に引き出されているゲート線2…やソース線3…と交差するように形成されている。 Wherein and the display unit 4 is formed so as to cross the gate line 2 ... and the source lines 3 ... being drawn outwardly of the substrate.

【0086】また、前記カラーフィルター基板10上には、カラーモザイクフィルタ(図示せぬ)と、共通電極16とが設けられ、更に、これらの上には配向膜8が形成されている。 [0086] Further, on the color filter substrate 10 includes a color mosaic filter (not shown), a common electrode 16 is provided, further, on top of these are formed alignment film 8.

【0087】そして、前記アレイ基板1およびカラーフィルター基板10に形成された配向膜8・8を配向処理し、その後、前記配向膜8・8を対面させてアレイ基板1とカラーフィルター基板10を対向配置し、アレイ基板1とカラーフィルタ基板10とを枠状に塗布されたシール材7によって所定間隔を隔てて接着している。 [0087] Then, facing the array substrate 1 and an alignment film 8, 8 formed on the color filter substrate 10 to alignment treatment, then the array substrate 1 so as to face the alignment film 8, 8 and the color filter substrate 10 arrangement and are adhered at predetermined intervals by the array substrate 1 and the color filter substrate 10 and the sealing material 7 is applied in a frame shape to.

【0088】また、前記アレイ基板1と前記カラーフィルター基板10との間には、液晶注入口5より液晶11 [0088] Furthermore, between the color filter substrate 10 and the array substrate 1, liquid from the liquid crystal injection port 5 11
が注入され、前記液晶11は封止部材12によって封止されている。 There is injected, the liquid crystal 11 is sealed by the sealing member 12. また、前記ゲート線2…および前記ソース線3は、アレイ基板1の外側方向に向けて形成されている。 Further, the gate line 2 ... and the source lines 3 is formed toward the outer side direction of the array substrate 1.

【0089】次に、本発明の要部をなす凹凸パターン6 [0089] Then, the concavo-convex pattern 6 forming a part of the invention
について説明する。 It will be described. 該凹凸パターン6は、前記内側凹凸パターン6aと、外側凹凸パターン6bと、中間凹凸パターン6c・6cとより構成されている。 Uneven pattern 6, and the inner concave-convex pattern 6a, a outer convex pattern 6b, are more configuration and intermediate convex pattern 6c · 6c.

【0090】前記凹凸パターン6は、前記アレイ基板1 [0090] The concavo-convex pattern 6, the array substrate 1
の外周縁であって、シール材7のパターンの内側および外側に形成され、液晶注入口5を残して枠状に形成されている。 A peripheral edge of, formed in inner and outer pattern of the sealing material 7 is formed in a frame shape, leaving a liquid crystal injection port 5. また、前記凹凸パターン6は被膜、より具体的には、強度の強いシリカ膜や窒化シリコン膜よりなるものである。 Moreover, the uneven pattern 6 coating, more specifically, made of stronger silica film or a silicon nitride film strength.

【0091】このように、凹凸パターン6を形成することによって、前記内側凹凸パターン6aと、外側凹凸パターン6bとにより前記シール材7が流れ広がるのを防止することができ(前記ゲート線2…の引き出し方向(X方向)やソース線3…の引き出し方向(Y方向)に沿ってシール材7が広がるようなことはなく)、従って、シール幅を所定の幅とすることができる。 [0091] Thus, by forming a concavo-convex pattern 6, and the inner concave-convex pattern 6a, can be by an outer convex pattern 6b to prevent the spread the sealing member 7 to flow (the gate line 2 ... of pullout direction (X direction) and never such that the sealing material 7 extends along the source line 3 ... withdrawing direction (Y-direction)), therefore, it is possible to make the seal width and a predetermined width.

【0092】尚、本実施の形態2では、前記内側凹凸パターン6a、外側凹凸パターン6b、中間凹凸パターン6c・6cのそれぞれの幅は1μm、高さは1μm、内側凹凸パターン6aと外側凹凸パターン6bとの間は0.5mmの間隔に設定されている。 [0092] In the second embodiment, the inner convex pattern 6a, the outer convex pattern 6b, the width of each of the intermediate uneven pattern 6c · 6c is 1 [mu] m, height 1 [mu] m, inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b between it is set to the interval of 0.5mm and. また、前記凹凸パターン6の本数については、本実施の形態の数(4本) Further, the number of the concavo-convex pattern 6, the number of the embodiment (4)
に限るものではなく、5本以上形成するようなことも可能である。 Not limited to, it is also possible so as to form 5 or more.

【0093】また、図11(b)に示すように、前記中間凹凸パターン6c・6cと前記シール材7(より詳しくは、シール材7にはスペーサ7a…が含まれており、 [0093] Further, as shown in FIG. 11 (b), wherein the intermediate convex pattern 6c · 6c and the sealing member 7 (more specifically, the sealing member 7 includes a spacer 7a ...,
該スペーサ7a…)とにより、前記一対の基板1・10 By the said spacer 7a ...), the pair of substrates 1 and 10
を支持するスペーサの機能を有している。 It has the function of a spacer to support the. このような構成とすることにより、アレイ基板1とカラーフィルタ基板10との間のギャップ均一性を制御し易くなる。 With such a configuration, it is easy to control the gap uniformity between the array substrate 1 and the color filter substrate 10. また、前記中間凹凸パターン6c・6cを被膜により形成することによって、該被膜は均一性が高いので、当該中間凹凸パターン6c・6cの均一性を高くすることができ、更に、液晶表示装置のギャップを制御して均一とすることができる。 Further, the by forming a film of the intermediate uneven pattern 6c · 6c, since the coating film has a high uniformity, it is possible to increase the uniformity of the intermediate uneven pattern 6c · 6c, further, the gap of the liquid crystal display device it can be made uniform by controlling the. また、前記被膜より構成された凹凸パターンは薄い構成とすることができるので、特に、液晶表示装置のような薄型の構成のものに適用することができる。 Further, the concavo-convex pattern that is composed of the coating can be the thin structure, in particular, can be applied to those of the thin structure such as a liquid crystal display device.

【0094】また、前記中間凹凸パターン6c・6cの先端は平坦(アレイ基板1およびカラーフィルター基板10に対して平行)とされており、液晶表示装置作製時に、前記スペーサ7a…と凹凸パターン6c・6cとにより更に、アレイ基板1とカラーフィルター基板10とのギャップを調整して均一にすることができる。 [0094] The tip of the intermediate uneven pattern 6c · 6c is flat (parallel to the array substrate 1 and the color filter substrate 10), when the liquid crystal display device fabricated the spacers 7a ... and convex pattern 6c · further, by the 6c, it can be made uniform by adjusting the gap between the array substrate 1 and the color filter substrate 10. 尚、前記内側凹凸パターン6aおよび外側凹凸パターン6bを皮膜から形成しており、それらの先端も平坦としている。 Incidentally, the and the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b formed from coating their tips is also flat.

【0095】このようにして、アレイ基板1上の周縁部、即ち、ゲート線駆動回路やソース線駆動回路を搭載する位置にまでシール材が流れ広がるようなことはない。 [0095] In this way, the peripheral edge portion on the array substrate 1, i.e., no such sealing material spreads to flow to a position for mounting the gate line driver circuit or a source line driver circuit. 従って、本発明によれば、前記ゲート線2…やソース線3…に沿ってアレイ基板1の外方向にシール材のシール幅が広がらないので、当該シール材の広がり分を考慮して必要以上の大きさのアレイ基板1を使用する必要はなく、液晶表示装置13のコンパクト化を図ることが可能となる。 Therefore, according to the present invention, the sealing width of the outward sealing material of the gate line 2 ... and the source lines 3 ... array substrate 1 along does not spread, more than necessary in view of the spread component of the sealing material necessary to use the size of the array substrate 1 instead, it is possible to reduce the size of the liquid crystal display device 13.

【0096】また、塗布するシール材は基板上の位置でばらつくのであるが、内側凹凸パターン6aおよび外側凹凸パターン6bを形成することによって、シール接着工程においてアレイ基板1とカラーフィルター基板10 [0096] Further, although the sealant to be applied is from varying in position on the substrate, by forming the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b, an array substrate 1 in the seal bonding step and the color filter substrate 10
とをシール材7を介して圧着しても、前記シール材7のシール幅を所定の幅内とすることができ、従って、シール幅のばらつきを小さくすることができる。 Preparative be crimped through a sealing member 7, it is possible to seal width of the sealing material 7 within a predetermined width, therefore, it is possible to reduce variations in seal width.

【0097】次に、本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置の製造方法について図14、図15を用いて説明する。 [0097] Next, a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention FIG. 14 will be described with reference to FIG. 15. 図14は本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略断面図、図15は同じく製造方法を示す概略部分断面図である。 Figure 14 is a schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, FIG 15 is a schematic partial cross-sectional view similarly showing the manufacturing method.

【0098】(1)まず、表示サイズが15型である液晶表示装置を4面作製できる大きさで、厚さが0.7m [0098] (1) First, the size of the display size can be produced four sides of the liquid crystal display device is 15 inch and a thickness of 0.7m
mの透明ガラス基板を準備し、当該透明ガラス基板を切断して、表示サイズが15型のガラス基板(以下、「アレイ基板1」という)を作製した。 Preparing a transparent glass substrate of m, by cutting the transparent glass substrate, display size is 15-inch glass substrate (hereinafter, referred to as "array substrate 1") was prepared.

【0099】(2)次に、図14(a)に示すように、 [0099] (2) Next, as shown in FIG. 14 (a),
公知の方法により、前記アレイ基板1上に薄膜トランジスタ(TFT)15…、画素電極14…、ゲート線2… By a known method, a thin film transistor (TFT) on the array substrate 1 15 ..., the pixel electrodes 14 ..., the gate line 2 ...
およびソース線(図示せぬ)を形成した。 And forming the source lines (not shown).

【0100】(3)次に、図14(b)に示すように、 [0100] (3) Next, as shown in FIG. 14 (b),
プラズマCVD法やスパッタリング法等により、薄膜トランジスタ15…を保護するために、シリカまたは窒化シリコンよりなるパシベーション膜9をアレイ基板1の全面に形成した。 By a plasma CVD method, a sputtering method, or the like, in order to protect the thin film transistors 15 ..., and the passivation film 9 made of silica or silicon nitride is formed on the entire surface of the array substrate 1.

【0101】(4)次に、図14(c)に示すように、 [0102] (4) Next, as shown in FIG. 14 (c),
フォトリソグラフィー法により、前記パシベーション膜9をパターン形成すると同時に、アレイ基板1の周縁部に枠状に凹凸パターン6(内側凹凸パターン6a、外側凹凸パターン6b、中間凹凸パターン6c・6c)を形成した。 By photolithography, the same time passivation film 9 is patterned, thereby forming a concavo-convex pattern 6 in a frame shape on the periphery of the array substrate 1 (inner convex pattern 6a, the outer convex pattern 6b, an intermediate convex pattern 6c · 6c).

【0102】(5)次に、図14(d)に示すように、 [0102] (5) Next, as shown in FIG. 14 (d),
配向膜用ポリイミド樹脂をスピナーを用いて塗布し、加熱硬化させた後、所定の方向にラビングして配向膜8を形成した。 The alignment film of polyimide resin was applied using a spinner, after heat curing, to form an orientation film 8 by rubbing in a predetermined direction. このように、前記凹凸パターン6を配向膜作製工程の前工程で形成すると配向膜8を汚染することなく液晶表示装置を製造でき、表示性能に優れた液晶表示装置とすることができる。 Thus, the uneven pattern 6 can produce a liquid crystal display device without contaminating the orientation film 8 to form in the previous process of the orientation film manufacturing process may be a liquid crystal display device with excellent display performance.

【0103】(6)次に、図15(e)に示すように、 [0103] (6) Next, as shown in FIG. 15 (e),
前記中間凹凸パターン6c・6c上に、液晶注入口5を除いスクリーン印刷法を用いてシール材7を線状に塗布する。 On the intermediate uneven pattern 6c · 6c, applying the seal material 7 linearly by a screen printing method except for the liquid crystal injection port 5.

【0104】(7)次に、図15(f)に示すように、 [0104] (7) Next, as shown in FIG. 15 (f),
カラーフィルターおよび対向電極、配向膜が形成されたカラーフィルター基板10の配向膜8面をガラス基板1 A color filter and a counter electrode, a glass substrate 1 an orientation film 8 side of the color filter substrate 10 including the alignment film formed
の配向膜8面と向かい合わせにし、貼り合わせて圧着し、前記シール材7を硬化させ、液晶セルを作製した。 The opposite the alignment film 8 side, and pressed by bonding, curing the sealing material 7, to produce a liquid crystal cell.
このとき、シール材7は当然広がるが、シール材7と略平行に形成されている内側凹凸パターン6aおよび外側凹凸パターン6bによって、シール材7が流れ広がるのを堰き止められ、従って、シール幅が広がるのを防止できる。 At this time, the seal material 7 is spread naturally by the inner convex pattern 6a and the outer convex pattern 6b are formed substantially in parallel to the sealing member 7, the sealing member 7 dammed the spread flow, therefore, the seal width spread of can be prevented.

【0105】(8)最後に、所定の液晶材料11を液晶注入口5より真空注入して封止部材12により液晶注入口5を封止すると、図9に示したような、液晶表示装置13を製造できた。 [0105] (8) Finally, when sealing the liquid crystal inlet 5 with a sealing member 12 with a predetermined liquid crystal material 11 vacuum filling a liquid crystal injection port 5, as shown in FIG. 9, the liquid crystal display device 13 the could be produced.

【0106】このように形成された凹凸パターン6の長手方向は、前記アレイ基板1表面に形成されたゲート線2…およびソース線3…と交差するように形成されているので、シール材の広がりを防止する上で効果が高く、 [0106] longitudinal direction, is formed so as to intersect with the formed in the array substrate 1 surface gate lines 2 ... and the source lines 3 ..., the spread of the sealing material of the concavo-convex pattern 6 thus formed highly effective in preventing,
前記ゲート線2…、ソース線3…に沿ってシール材7が広がるようなことはなかった。 The gate line 2 ..., did not like sealing member 7 along the source line 3 ... it widens.

【0107】また、凹凸パターン6を、液晶表示装置1 [0107] In addition, the uneven pattern 6, the liquid crystal display device 1
3を構成する表示部4を囲むように形成しているので、 3 since the formed so as to surround the display unit 4 constituting the,
該凹凸パターン6により、シール材が前記表示部にまで広がるようなことはなく、従って、液晶表示装置の表示性能が低下するようなことはない。 The uneven pattern 6, never sealing material such as extends to the display unit, and the display performance of the liquid crystal display device will not, as reduced. また、封じ箇所を1 In addition, 1 seal point
カ所で液晶セルを作製できた。 It was able to produce a liquid crystal cell in places.

【0108】(その他の事項) (1)表示サイズが15型のものを4面同時に作製できる大きさの基板に、4面同時に表示部4を形成し、一対の基板を貼り合わしてセルを作製し、その後、切断するようにすることも可能である。 [0108] The substrate (Other matters) (1) The size of the display size can be produced those 15-inch four sides at the same time, four sides to form a display unit 4 at the same time, making the cell put together bonding the pair of substrates and, thereafter, it is also possible to cut.

【0109】(2)前記凹凸パターン6(内側凹凸パターン6a、外側凹凸パターン6b、中間凹凸パターン6 [0109] (2) the concavo-convex pattern 6 (inner convex pattern 6a, the outer convex pattern 6b, an intermediate convex pattern 6
c)は、プラズマCVD法により形成しているが、これに限るものではなく、例えば、CVD法、真空蒸着法、 c) is being formed by a plasma CVD method is not limited to this, for example, CVD method, vacuum deposition method,
スパッタ法、またはゾルゲル法により形成し、フォトリソグラフィー技術により加工して形成することも可能である。 Formed by sputtering or sol-gel method, it is also possible to form is processed by a photolithography technique.

【0110】(3)前記凹凸パターンは窒化シリコン膜やシリカ膜から形成され、パシベーション膜を形成すると同時に形成することができるのであるが、これに限るものではない。 [0110] (3) the concavo-convex pattern is formed of a silicon nitride film or a silica film, but it is possible to form simultaneously makes a passivation film is not limited thereto. 例えば、凹凸パターンとして樹脂等を用いることも可能であり、その場合には、アレイ基板上に画素電極やTFTを形成する前に凹凸パターンを形成するようなことも可能である。 For example, it is also possible to use a resin such as a concavo-convex pattern, in which case, it is also possible so as to form an uneven pattern before forming the pixel electrode and the TFT on the array substrate.

【0111】(4)凹凸パターンの形状については、本実施の形態1、2に示したものに限られるものではなく、例えば、断面形状が台形状、3角形状等でも良い。 [0111] (4) The shape of the concavo-convex pattern is not limited to those shown in the first and second embodiments, for example, shape, the cross-sectional shape of the platform may be a triangular shape.
また、実施の形態2では、実施の形態1で述べた、凹凸パターンとシール材の量の関係式(A≦W≦B)を満たすような構成とすることもできる。 In the second embodiment, it may be described in the first embodiment, a configuration such as to satisfy the amount of relation of the uneven pattern and sealant (A ≦ W ≦ B) to.

【0112】 [0112]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、シール材に沿うように該シール材のパターンの内側及び外側に内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンを形成することにより、シール接着工程でアレイ基板とカラーフィルター基板とを圧着する際、シール材が流れ広がりシール幅が大きくなるのを防止でき、液晶表示装置のコンパクト化を図ることができる。 As is evident from the foregoing description, according to the present invention, by forming the inner convex pattern and outer convex pattern to the inner and outer patterns of the sealing material along the sealing material, an array with a seal bonding process when crimping the substrate and the color filter substrate, it is possible to prevent the spreading seal width sealing material flow is increased, it is possible to reduce the size of the liquid crystal display device.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の実施の形態1に係る気密構造体の概略図であり、図1(a)は概略斜視図、図1(b)は図1 Figure 1 is a schematic diagram of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a schematic perspective view, FIG. 1 (b) Figure 1
(a)のA−A線断面図である。 It is an A-A line cross-sectional view of (a).

【図2】内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンの形成された基板の平面図である。 2 is a plan view of the substrate formed with the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern.

【図3】本発明の実施の形態1に係る気密構造体の製造方法を示す概略断面図である。 3 is a schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1の気密構造体の変形例1 [4] Modification of the airtight structure of the first embodiment of the present invention 1
を示す概略部分断面図である。 It is a schematic partial sectional view showing a.

【図5】本発明の実施の形態1に係る気密構造体の変形例2を示す概略部分断面図である。 5 is a schematic partial sectional view showing a second modification of the airtight structure according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態1の気密構造体の変形例3 [6] Modification 3 of the airtight structure of the first embodiment of the present invention
を示す概略部分断面図である。 It is a schematic partial sectional view showing a.

【図7】シール材と凹凸パターンとの関係を示す概略断面図である。 7 is a schematic sectional view showing the relationship between the sealing material and the concavo-convex pattern.

【図8】本発明の実施の形態1の気密構造体の変形例4 [8] Modification 4 of the airtight structure of the first embodiment of the present invention
を示す概略部分断面図である。 It is a schematic partial sectional view showing a.

【図9】本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置の概略平面図である。 9 is a schematic plan view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図10】図9のB−B線断面図である。 10 is a sectional view taken along line B-B of Figure 9.

【図11】図10の部分断面図である。 11 is a partial cross-sectional view of FIG. 10.

【図12】図9のC−C線断面図である。 12 is a sectional view taken along line C-C of Figure 9.

【図13】同じく、本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置のアレイ基板1の概略平面図である。 [13] Also, a schematic plan view of an array substrate 1 of the liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略断面図である。 14 is a schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図15】同じく製造方法を示す概略部分断面図である。 [15] which is also a schematic partial cross-sectional view showing the manufacturing method.

【図16】従来の液晶表示装置の概略平面図である。 16 is a schematic plan view of a conventional liquid crystal display device.

【図17】同じく従来の液晶表示装置を構成するアレイ基板の概略平面図である。 17 is a schematic plan view of an array substrate also constituting the conventional liquid crystal display device.

【図18】図16のD−D線断面図である。 18 is a sectional view taken along line D-D of Figure 16.

【図19】従来のアレイ基板の、シール材塗布位置付近の概略斜視図である。 [19] The conventional array substrate is a schematic perspective view of the vicinity of the sealing material application position.

【図20】図19の塗布位置にシール材を塗布し、アレイ基板とカラーフィルター基板とを圧着した状態を示す概略斜視図である。 [20] The sealing material is applied to the coating position of FIG. 19 is a schematic perspective view showing a state in which bond the array substrate and the color filter substrate.

【図21】図20のE−E線概略断面図である。 21 is a line E-E sectional view of FIG. 20.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 アレイ基板 2 ゲート線 3 ソース線 4 表示部 5 液晶注入口 6 凹凸パターン 6a 内側凹凸パターン 6b 外側凹凸パターン 6c 中間凹凸パターン 7 シール材 7a スペーサ 8 配向膜 9 パシベーション膜 10 カラーフィルター基板 11 液晶材料 12 封止部材 13 液晶表示装置 14 画素電極 15 TFT 30 気密構造体 31 基板 32 基板 33 シール材 34a 内側凹凸パターン 34b 外側凹凸パターン 34c 外側凹凸パターン 34d 内側凹凸パターン 34e 凹部 1 array substrate 2 gate line 3 source line 4 display unit 5 the liquid crystal inlet 6 convex pattern 6a inner convex pattern 6b outer convex pattern 6c intermediate convex pattern 7 sealant 7a spacer 8 alignment film 9 passivation film 10 color filter substrate 11 liquid crystal material 12 the sealing member 13 the liquid crystal display device 14 pixel electrode 15 TFT 30 airtight structure 31 substrate 32 substrate 33 sealant 34a inner convex pattern 34b outwardly convex pattern 34c outwardly convex pattern 34d inward convex pattern 34e recess

フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 LA42 LA44 LA47 NA41 NA42 QA16 TA01 TA05 TA09 2H090 HA05 HB03X HB04X HC03 HC12 JA03 JA05 JC03 LA03 5C094 AA15 AA42 DA07 EB10 FB12 FB15 5G435 AA18 BB12 EE09 EE33 EE35 FF00 HH14 KK05 KK10 Front page of the continued F-term (reference) 2H089 LA42 LA44 LA47 NA41 NA42 QA16 TA01 TA05 TA09 2H090 HA05 HB03X HB04X HC03 HC12 JA03 JA05 JC03 LA03 5C094 AA15 AA42 DA07 EB10 FB12 FB15 5G435 AA18 BB12 EE09 EE33 EE35 FF00 HH14 KK05 KK10

Claims (27)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 一対の基板と、 前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に形成され、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンと、 を備えたことを特徴とする気密構造体。 1. A pair of substrates, a sealing material for bonding together the peripheral portions of the pair of substrates at predetermined intervals, are formed on at least one substrate of the pair of substrates, the inner pattern of the sealing material airtight structures and an outer concavo-convex pattern, comprising the along the outside of the pattern of the inner convex pattern and the sealing material along.
  2. 【請求項2】 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間には、中間凹凸パターンが形成されていることを特徴とする請求項1に記載の気密構造体。 Wherein on at least one of the pair of substrates, between the inner convex pattern and outer concavo, according to claim 1, characterized in that the intermediate uneven pattern is formed air-tight structure of.
  3. 【請求項3】 一対の基板と、 前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、 を有し、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されていることを特徴とする気密構造体。 3. A pair of substrates, have a sealing material for bonding together at predetermined intervals a peripheral portion of the pair of substrates, the periphery of at least one of the pair of substrates, the sealing material airtight structures characterized in that recess is formed which enters.
  4. 【請求項4】 前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンは、被膜により形成されていることを特徴とする請求項2に記載の気密構造体。 Wherein said inner concavo-convex pattern, the outer convex pattern and the intermediate convex pattern, the airtight structure according to claim 2, characterized in that it is formed by coating.
  5. 【請求項5】 前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンの先端は平坦であることを特徴とする請求項2または請求項4に記載の気密構造体。 Wherein said inner convex pattern, the outer convex pattern and the airtight structure according to claim 2 or claim 4 the tip of the intermediate uneven pattern is characterized by a flat.
  6. 【請求項6】 前記中間凹凸パターンは複数形成されており、該中間凹凸パターンのうち二つの中間凹凸パターンと前記一対の基板間に囲まれる領域の体積をAとし、 Wherein said intermediate embossing patterns and formed with a plurality, the volume of the region surrounded with the two intermediate uneven pattern between the pair of substrates of the intermediate uneven pattern A,
    その体積は前記一対の基板を接着するための最小量であり、 前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンと、前記一対の基板とによって囲まれる領域の体積をBとし、前記シール材の体積をWとすると、A≦W≦Bの関係を満たすことを特徴とする請求項2に記載の気密構造体。 Its volume is the minimum amount for bonding the pair of substrates, the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, wherein the volume of the region surrounded by the pair of substrates and B, and the volume of the sealing material and W Then, the airtight structure according to claim 2, characterized in that satisfies the relationship a ≦ W ≦ B.
  7. 【請求項7】 一対の基板と、前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に形成され、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンと、 7. A pair of substrates, a sealing material for bonding together the peripheral portions of the pair of substrates at predetermined intervals, are formed on at least one substrate of the pair of substrates, the inner pattern of the sealing material an outer convex pattern along the outside of the pattern of the inner convex pattern and the seal material along the,
    を備えた気密構造体の製造方法であって、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、前記シール材の塗布位置の内側および外側に内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程と、 前記シール材の塗布位置に、シール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、 前記一対の基板を所定間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程と、 を備えることを特徴とする気密構造体の製造方法。 A method of manufacturing a hermetic structure with a, to form at least one of the peripheral portion of the substrate, the inner convex pattern and an outer convex pattern inside and outside the application position of the sealing member of the pair of substrates irregularities comprises a pattern forming step, the coating position of the sealing material, the sealing material coating step of coating a sealing material in a linear shape, the pair of substrates bonded at predetermined intervals, and a bonding step of curing the sealing material method for producing a gas-tight structure, characterized in that.
  8. 【請求項8】 前記凹凸パターン形成工程は、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間に、更に中間凹凸パターンを形成する工程であることを特徴とする請求項7 Wherein said uneven pattern forming step, on at least one of the pair of substrates, between the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, it is further step of forming the intermediate uneven pattern claim, characterized 7
    に記載の気密構造体の製造方法。 Manufacturing method of the airtight structure according to.
  9. 【請求項9】 一対の基板と、前記一対の基板の周縁部を所定間隔で互いに接着するシール材と、を有し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されている気密構造体の製造方法であって、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、シール材の塗布位置に、凹部を形成する凹部形成工程と、 前記凹部内に前記シール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、 前記一対の基板を所定の間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程と、 を備えることを特徴とする気密構造体の製造方法。 9. A pair of substrates, have a sealing material for bonding together at predetermined intervals a peripheral portion of the pair of substrates, the periphery of at least one of the pair of substrates, the sealing material a method of manufacturing a hermetic structure is formed with a recess which enters, the peripheral edge of at least one of the pair of substrates, the coating position of the seal member, a concave portion forming step of forming a recess, the a sealing material coating step of applying the sealing material in the recess linearly, the pair of substrates bonded at predetermined intervals, the airtight structure characterized by comprising: a bonding step of curing the sealing material the method of production.
  10. 【請求項10】 前記凹凸パターン形成工程は、前記基板の全面に被膜を形成し、該被膜をフォトリソグラフィー法により加工する工程であることを特徴とする請求項7または請求項8に記載の気密構造体の製造方法。 Wherein said uneven pattern forming step, the film is formed on the entire surface of the substrate, airtight according to claim 7 or claim 8, characterized in that a step of processing the coating film by photolithography method of manufacturing the structure.
  11. 【請求項11】 前記被膜は、CVD法、プラズマCV Wherein said coating, CVD method, a plasma CV
    D法、真空蒸着法、スパッタ法、またはゾルゲル法により形成されることを特徴とする請求項10に記載の気密構造体の製造方法。 D method, a vacuum deposition method, a manufacturing method of the airtight structure according to claim 10, characterized in that it is formed by a sputtering method or a sol-gel method.
  12. 【請求項12】 前記被膜は、シリカ膜または窒化シリコン膜であることを特徴とする請求項10または請求項11に記載の気密構造体の製造方法。 12. The coating method of the airtight structure according to claim 10 or claim 11, characterized in that a silica film or a silicon nitride film.
  13. 【請求項13】 電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成した液晶表示装置であって、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンを備えたことを特徴とする液晶表示装置。 13. The electrode and sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates including the alignment film formed, adhere to one another at predetermined intervals the pair of substrates through the sealing material, a liquid crystal display device constructed by filling liquid crystal between the pair of substrates, on at least one of the pair of substrates, the inner convex pattern and the sealing material along the inner side of the pattern of the sealing material a liquid crystal display device comprising the outer convex pattern along the outside of the pattern.
  14. 【請求項14】 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間には、中間凹凸パターンが形成されていることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。 14. on at least one of the pair of substrates, between the inner convex pattern and outer concavo, according to claim 13, characterized in that the intermediate uneven pattern is formed the liquid crystal display device.
  15. 【請求項15】 電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成した液晶表示装置であって、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 15. The electrode and sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates including the alignment film formed, adhere to one another at predetermined intervals the pair of substrates through the sealing material, a liquid crystal display device constructed by filling liquid crystal between the pair of substrates, and characterized in that the peripheral edge of at least one of the pair of substrates, the recess in which the sealing material enters is formed a liquid crystal display device.
  16. 【請求項16】 前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンは、被膜により形成されていることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。 16. The inner concavo-convex pattern, the outer convex pattern and intermediate concavo-crystal display device according to claim 14, characterized in that it is formed by coating.
  17. 【請求項17】 前記内側凹凸パターン、外側凹凸パターン及び中間凹凸パターンの先端は平坦であることを特徴とする請求項14または請求項16に記載の液晶表示装置。 17. The liquid crystal display device according to claim 14 or claim 16, wherein the inner convex pattern, the tip of the outer convex pattern and the intermediate uneven pattern is flat.
  18. 【請求項18】 前記中間凹凸パターンは複数形成されており、該中間凹凸パターンのうち二つの中間凹凸パターンと前記一対の基板間に囲まれる領域の体積をAとし、その体積は前記一対の基板を接着するための最小量であり、 前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンと、前記一対の基板とによって囲まれる領域の体積をBとし、前記シール材の体積をWとすると、A≦W≦Bの関係を満たすことを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。 18. The method of claim 17, wherein the intermediate uneven pattern and formed with a plurality, the volume of the region surrounded between two intermediate uneven pattern and the pair of substrates of the intermediate uneven pattern A, the volume of the pair substrates a minimum amount for bonding, the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, wherein the volume of the region surrounded by the pair of substrates and B, and the volume of the sealing material and W, a ≦ W ≦ B the liquid crystal display device according to claim 14, characterized in that to satisfy the relationship.
  19. 【請求項19】 前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンは、一対の基板のうち一方の基板に形成された表示部を囲むように形成されていることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。 19. The inner convex pattern and outer convex pattern, the liquid crystal display according to claim 13, characterized in that it is formed so as to surround the display portion formed on one of the pair of substrates apparatus.
  20. 【請求項20】 前記内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンは、前記表示部から前記基板の外方向に引き出されている配線と交差するように形成されていることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。 20. The method of claim 19, wherein the inner convex pattern and outer concavo, according to claim 13, characterized in that it is formed so as to cross the wiring from the display unit is pulled outwardly of the substrate The liquid crystal display device.
  21. 【請求項21】 電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に、前記シール材のパターンの内側に沿う内側凹凸パターンおよび該シール材のパターンの外側に沿う外側凹凸パターンを備えた液晶表示装置の製造方法であって、 前記一対の基板に電極を形成する電極形成工程と、 前記一対の基板に配向膜を形成する配向膜形成工程と、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、前記シール材の塗布位置の内側および外側に、液晶注入口を残して内側凹凸パターンおよび外側凹凸パターンを形成する凹凸パターン形 21. The electrode and sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates including the alignment film formed, adhere to one another at predetermined intervals the pair of substrates through the sealing material, outer constituted by filling a liquid crystal between the pair of substrates, on at least one of the pair of substrates, along the outside of the pattern of the inner convex pattern and the sealing material along the inner side of the pattern of the sealing material a method of manufacturing a liquid crystal display device having an uneven pattern, an electrode forming step of forming an electrode on the pair of substrates, an alignment film forming step of forming an alignment layer on the pair of substrates, the pair of substrates of the peripheral portions of the at least one of the substrates, the inner and outer coating position of the sealing material, the concavo-convex pattern shape to form the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, leaving a liquid crystal injection port 成工程と、 前記シール材の塗布位置に、液晶注入口を残してシール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、 前記一対の基板を所定間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程と、 を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 And forming step, the coating position of the sealing material, the sealing material coating step of coating a sealing material in a linear shape, leaving a liquid crystal injection port, bonded to the pair of substrates at predetermined intervals, curing the sealant adhesive method of manufacturing a liquid crystal display device characterized by comprising: a step.
  22. 【請求項22】 前記凹凸パターン形成工程は、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の、前記内側凹凸パターンと外側凹凸パターンとの間に、更に中間凹凸パターンを形成する工程であることを特徴とする請求項21に記載の液晶表示装置の製造方法。 22. The concavo-convex pattern forming step, on at least one of the pair of substrates, between the inner convex pattern and an outer concavo-convex pattern, it is further step of forming the intermediate uneven pattern the method according to claim 21, wherein.
  23. 【請求項23】 電極および配向膜が形成された一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部にシール材を塗布し、該シール材を介して前記一対の基板を所定間隔で互いに接着し、当該一対の基板間に液晶を充填して構成し、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部に、前記シール材が入り込む凹部が形成されている液晶表示装置の製造方法であって、 前記一対の基板に電極を形成する電極形成工程と、 前記一対の基板に配向膜を形成する配向膜形成工程と、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の周縁部の、シール材の塗布位置に、凹部を形成する凹部形成工程と、 前記凹部内に前記シール材を線状に塗布するシール材塗布工程と、 前記一対の基板を所定の間隔で貼り合わせ、前記シール材を硬化させる接着工程 23. The electrode and sealing material is applied to the peripheral portion of at least one substrate of the pair of substrates including the alignment film formed, adhere to one another at predetermined intervals the pair of substrates through the sealing material, constructed by filling liquid crystal between the pair of substrates, the periphery of at least one of the pair of substrates, a method of manufacturing a liquid crystal display device recess the sealing material enters are formed, an electrode forming step of forming an electrode on the pair of substrates, an alignment film forming step of forming an alignment layer on the pair of substrates, the periphery of at least one of the pair of substrates, the coating position of the sealing material in a recess forming step of forming a concave portion, and the sealing material coating step of applying the sealing material in the recess in a linear, bonding the pair of substrates at predetermined intervals, the adhesive curing the sealing material 、 を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 The method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that it comprises a.
  24. 【請求項24】 前記凹凸パターン形成工程は、前記基板の全面に被膜を形成し、該被膜をフォトリソグラフィー法により加工する工程であることを特徴とする請求項21または請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法。 24. The concavo-convex pattern forming step, the film is formed on the entire surface of the substrate, the liquid crystal according to claim 21 or claim 22, characterized in that a step of processing the coating film by photolithography method for manufacturing a display device.
  25. 【請求項25】 前記被膜は、CVD法、プラズマCV 25. The coating, CVD method, a plasma CV
    D法、真空蒸着法、スパッタ法、またはゾルゲル法により形成されることを特徴とする請求項24に記載の液晶表示装置の製造方法。 D method, a vacuum deposition method, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 24, characterized in that it is formed by a sputtering method or a sol-gel method.
  26. 【請求項26】 前記被膜は、シリカ膜または窒化シリコン膜であることを特徴とする請求項24または請求項25に記載の液晶表示装置の製造方法。 26. The coating method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 24 or claim 25, characterized in that a silica film or a silicon nitride film.
  27. 【請求項27】 前記凹凸パターン形成工程後に、前記一対の基板の内側に配向膜を形成する配向膜形成工程が行われることを特徴とする請求項21または請求項22 27. the uneven after pattern formation process according to claim 21 or claim, characterized in that the orientation film forming step of forming an alignment film on the inside of the pair of substrates is carried out 22
    に記載の液晶表示装置の製造方法。 The method according to.
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