JP2001305554A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001305554A
JP2001305554A JP2000118912A JP2000118912A JP2001305554A JP 2001305554 A JP2001305554 A JP 2001305554A JP 2000118912 A JP2000118912 A JP 2000118912A JP 2000118912 A JP2000118912 A JP 2000118912A JP 2001305554 A JP2001305554 A JP 2001305554A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
signal line
display device
crystal display
substrates
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000118912A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Yanagawa
和彦 柳川
Keiichiro Ashizawa
啓一郎 芦沢
Masahiro Ishii
正宏 石井
Masayuki Hikiba
正行 引場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To avoid cutting of lines by a spacer. SOLUTION: A protruding body to hold the gap between substrates is formed on the liquid crystal side face of one substrate of substrates disposed facing each other through the liquid crystal, and the protruding body is arranged to avoid superimpose on the signal line formed on the liquid crystal side face of at least one substrate of the substrates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に、液晶を介して対向配置される各基板のギャッ
プを保持するためのスペーサに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a spacer for holding a gap between substrates opposed to each other via a liquid crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、液晶を介して対向配置
される各透明基板を外囲器とし、該液晶の広がり方向に
多数の画素の集合からなる表示部を備える。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device comprises a display section comprising a group of a large number of pixels in the direction in which the liquid crystal spreads, each of the transparent substrates facing each other via a liquid crystal as an envelope.

【0003】そして、前記液晶は表示部の全域にわたっ
てその層厚を均一にすることによって表示の品質の向上
を図ることができるようになる。
The quality of display can be improved by making the thickness of the liquid crystal uniform over the entire display area.

【0004】このため、表示部における各透明基板の間
にはたとえば球状のビーズと称される複数のスペーサが
介在された構成となっている。
For this reason, a plurality of spacers called, for example, spherical beads are interposed between the transparent substrates in the display section.

【0005】これら各ビーズは、各透明基板の間に液晶
を封入する際に、該液晶中に予め混入されたものとなっ
ており、液晶とともに各透明基板の間に配置されるよう
になっている。
[0005] Each of these beads is previously mixed in the liquid crystal when the liquid crystal is sealed between the transparent substrates, and is arranged between the transparent substrates together with the liquid crystal. I have.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなビ
ーズは、液晶表示基板のたとえば振動によって各透明基
板が離間する方向に変位した際に、透明基板の間でその
位置が変動することが否めなかった。
However, such beads cannot be displaced between the transparent substrates when the respective transparent substrates are displaced in a direction in which the transparent substrates are separated due to, for example, vibration of the liquid crystal display substrate. Did not.

【0007】そして、このビーズの変動によって、各画
素領域に形成されている薄膜トランジタに干渉し合う場
合があり、その電極における断線等を発生せしめる原因
になっていた。
[0007] The fluctuation of the beads sometimes interferes with the thin film transistor formed in each pixel region, causing a disconnection or the like in the electrode.

【0008】また、薄膜トランジスタに限らず、この薄
膜トランジスタを駆動させるためのゲート信号線、ある
いはこの薄膜トランジスタを介して画素電極へ映像信号
を供給するためのドレイン信号線にも干渉し合い、その
断線を発生せしめる原因になっていた。
In addition, not only the thin film transistor but also a gate signal line for driving the thin film transistor or a drain signal line for supplying a video signal to a pixel electrode through the thin film transistor interferes with each other, causing the disconnection. It was a cause for rush.

【0009】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたものであり、その目的は、スペーサによる断線を引
き起こすことのない液晶表示装置を提供することにあ
る。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that does not cause disconnection by a spacer.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば以
下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, typical ones will be briefly described as follows.

【0011】すなわち、本発明による液晶表示装置は、
基本的には、液晶を介して対向配置される各基板のうち
一方の基板の液晶側の面に他方の基板との間のギャップ
を保持する突起体が設けられているとともに、この突起
体は前記各基板の少なくとも一方の液晶側の面に形成さ
れた信号線と重畳するのを回避して配置されていること
を特徴とするものである。
That is, the liquid crystal display device according to the present invention comprises:
Basically, a projection is provided on a liquid crystal side surface of one of the substrates disposed to face each other with a liquid crystal therebetween to maintain a gap between the other substrate and the projection. The liquid crystal display is arranged so as not to overlap with signal lines formed on at least one liquid crystal side surface of each of the substrates.

【0012】このように構成された液晶表示装置は、た
とえば外部からの振動による一方の基板に対する他方の
基板の変動によって該突起体が振動しても、ドレイン信
号線上ではないことから、該ドレイン信号線の損傷ある
いは断線が発生するようなことはなくなる。
In the liquid crystal display device thus configured, even if the projection vibrates due to the fluctuation of one substrate with respect to the other substrate due to external vibration, the projection is not on the drain signal line. No damage or breakage of the wire will occur.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。 〔実施例1〕図1は、本発明による液晶表示装置の一実
施例を示す平面構成図である。また、図2は図1のII−
II線における断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. [Embodiment 1] FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 2 shows II-
It is sectional drawing in the II line.

【0014】同図はマトリックス状に配置された各画素
領域の一つを示し、このことから、図中の画素領域に対
して左右上下の各画素領域は同様の構成となっている。
FIG. 1 shows one of the pixel regions arranged in a matrix. Therefore, the left, right, upper, and lower pixel regions have the same configuration as the pixel region in the drawing.

【0015】同図において、透明基板SUB1の液晶側
の面に、図中x方向に延在するゲート信号線GLが形成
されている。
In the figure, a gate signal line GL extending in the x direction in the figure is formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate SUB1.

【0016】このゲート信号線GLは画素領域の下側に
形成され、たとえばクロムあるいはその合金等から形成
されている。
The gate signal line GL is formed below the pixel area, and is made of, for example, chromium or an alloy thereof.

【0017】そして、このゲート信号線GLをも被って
透明基板SUB1の表面にはたとえばSiN膜からなる
絶縁膜GIが形成されている。
An insulating film GI made of, for example, a SiN film is formed on the surface of the transparent substrate SUB1 so as to cover the gate signal line GL.

【0018】この絶縁膜GIは、後述のドレイン信号線
DLに対してはゲート信号線GLの層間絶縁膜としての
機能、後述の薄膜トラジスタTFTに対してはそのゲー
ト絶縁膜としての機能、後述の容量素子Caddに対し
てはその誘電体膜としての機能を有するようになってい
る。
The insulating film GI functions as an interlayer insulating film of a gate signal line GL for a drain signal line DL described later, functions as a gate insulating film for a thin film transistor TFT described later, and a function described later. The capacitive element Cadd has a function as a dielectric film.

【0019】前記絶縁膜GIの上面にはその薄膜トラン
ジスタTFTの形成領域において、すなわち前記ゲート
信号線GLの一部に重畳する領域においてたとえばa−
Siからなる半導体層ASが形成されている。
On the upper surface of the insulating film GI, for example, in the region where the thin film transistor TFT is formed, that is, in the region overlapping with a part of the gate signal line GL, for example, a-
A semiconductor layer AS made of Si is formed.

【0020】この半導体層ASの上面にドレイン電極S
D2およびソース電極SD1を形成することによって、
前記ゲート信号線GLの一部をゲート電極とする逆スタ
ガ構造のMISトランジスタが形成されることになる
が、上記各電極はドレイン信号線DLの形成と同時に形
成されるようになっている。
A drain electrode S is formed on the upper surface of the semiconductor layer AS.
By forming D2 and source electrode SD1,
An MIS transistor having an inverted staggered structure using a part of the gate signal line GL as a gate electrode is formed. Each of the electrodes is formed simultaneously with the formation of the drain signal line DL.

【0021】すなわち、画素領域の図中左側の部分にお
いてy方向に延在するドレイン信号線DLが形成されて
いる。このドレイン信号線DLはたとえばクロムあるい
はその合金等で形成されている。
That is, a drain signal line DL extending in the y direction is formed in the left portion of the pixel region in the drawing. This drain signal line DL is formed of, for example, chromium or an alloy thereof.

【0022】そして、このドレイン信号線DLの一部が
前記半導体層AS上にまで延在されてドレイン電極SD
2が形成され、このドレイン電極SD2からチャネル長
に相当する間隔で離間されてソース電極SD1が形成さ
れている。
Then, a part of the drain signal line DL extends to above the semiconductor layer AS to form a drain electrode SD
2, and a source electrode SD1 is formed at a distance from the drain electrode SD2 at an interval corresponding to the channel length.

【0023】また、前記絶縁膜GIの上面には、図中に
示すドレイン信号線DLとこの信号線に隣接する他のド
レイン信号線(図示せず)、図中に示すゲート信号線G
Lとこの信号線に隣接する他のゲート信号線(図示せ
ず)とで囲まれた領域の全域にわたってたとえばITO
(Indium-Tin-Oxide)膜からなる画素電極PXが形成さ
れている。
On the upper surface of the insulating film GI, a drain signal line DL shown in the figure, another drain signal line (not shown) adjacent to this signal line, and a gate signal line G shown in the figure are provided.
L and the other gate signal line (not shown) adjacent to this signal line.
A pixel electrode PX made of an (Indium-Tin-Oxide) film is formed.

【0024】この画素電極PXは前記薄膜トランジスタ
TFTのソース電極SD1と重畳されて形成され、これ
により該ソース電極SD1と接続されるようになる。
The pixel electrode PX is formed so as to overlap with the source electrode SD1 of the thin film transistor TFT, so that the pixel electrode PX is connected to the source electrode SD1.

【0025】また、この画素電極PXの一部は図中に示
すゲート信号線GLに隣接する他のゲート信号線に重畳
されて形成され、該他のゲート信号線との間に前記絶縁
膜GIを誘電体膜とする容量素子Caddを形成するよ
うになっている。
A part of the pixel electrode PX is formed so as to overlap with another gate signal line adjacent to the gate signal line GL shown in the figure, and the insulating film GI is provided between the gate electrode and the other gate signal line. Is formed as a dielectric film.

【0026】この容量素子Caddは、薄膜トランジス
タTFTがオフした際に、画素電極PXに供給された映
像信号を長く蓄積させるため等に設けられている。
The capacitive element Cadd is provided for, for example, accumulating a long video signal supplied to the pixel electrode PX when the thin film transistor TFT is turned off.

【0027】そして、このように構成された透明基板S
UB1の表面にはたとえばSiNからなる保護膜PSV
が全域に形成され、主として前記薄膜トランジスタTF
Tの液晶への直接の接触を回避するようになっている。
Then, the transparent substrate S thus configured
A protective film PSV made of, for example, SiN is formed on the surface of UB1.
Are formed over the entire area, and mainly the thin film transistor TF
The direct contact of T with the liquid crystal is avoided.

【0028】また、この保護膜PSVの上面には配向膜
ORI1が形成され、これに直接接触する液晶の初期配
向方向を規制するようになっている。
Further, an alignment film ORI1 is formed on the upper surface of the protective film PSV, and regulates the initial alignment direction of the liquid crystal in direct contact with the film.

【0029】このように構成された透明基板SUB1は
いわゆるTFT基板と称され、液晶を介していわゆるF
IL基板と称される他の透明基板SUB2と対向配置さ
れるようになっている。
The transparent substrate SUB1 constructed as described above is called a so-called TFT substrate, and a so-called F substrate is provided through a liquid crystal.
It is arranged to face another transparent substrate SUB2 called an IL substrate.

【0030】この他の透明基板SUB2の液晶側の面に
は、図2に示すように、画素領域を画するようにしてブ
ラックマトリックスBM(図1にも示している)が形成
され、このブラックマトリックスBMの開口部には赤、
緑、青のいずれかのフィルタFILが形成されている。
As shown in FIG. 2, a black matrix BM (also shown in FIG. 1) is formed on the liquid crystal side surface of the other transparent substrate SUB2 so as to define a pixel area. The opening of the matrix BM is red,
One of green and blue filters FIL is formed.

【0031】そして、これらブラックマトリックスBM
およびフィルタFILをも被って表面を平坦化するため
のいわゆる平坦膜OCが形成されている。この平坦膜O
Cはたとえば樹脂材からなり、それを塗布によって形成
することによって、その表面に前記ブラックマトリック
スBMおよびフィルタFILの段差が顕在しなくなる。
The black matrix BM
Also, a so-called flat film OC for covering the filter FIL and flattening the surface is formed. This flat film O
C is made of, for example, a resin material, and by forming it by coating, the step of the black matrix BM and the filter FIL does not appear on its surface.

【0032】そして、この平坦膜OCの表面には突起体
PROが形成されている。この突起体PROは前記TF
T基板との間に均一なギャップを形成するためのもの
で、液晶の層厚を表示領域の全域にわたって均一になる
ように設けられている。
A projection PRO is formed on the surface of the flat film OC. The protrusion PRO is formed of the TF
This is for forming a uniform gap with the T substrate, and is provided so that the thickness of the liquid crystal layer is uniform over the entire display area.

【0033】この突起体PROはたとえば平坦膜OCの
表面に形成された樹脂膜をいわゆるフォトリソグラフィ
技術による選択エッチング方法によって形成され、この
ため、表示領域内(あるいは画素領域内)の所定の個所
に精度よく形成することができるようになる。また、平
坦膜OCの表面に形成する樹脂膜の層厚を充分に均一に
形成する配慮がなされれば、形成される各突起体の高さ
は精度よく均一にすることができる。
The protrusion PRO is formed by, for example, selectively etching a resin film formed on the surface of the flat film OC by a so-called photolithography technique, so that the protrusion PRO is formed at a predetermined position in the display area (or the pixel area). It can be formed with high accuracy. In addition, if care is taken to ensure that the thickness of the resin film formed on the surface of the flat film OC is sufficiently uniform, the heights of the formed projections can be made uniform with high accuracy.

【0034】そして、この各突起体は、図1に示すよう
に、ドレイン信号線DLから若干の間隔を有して形成さ
れ、その一部が画素電極PXに重畳するようにして形成
されている。
As shown in FIG. 1, each of the projections is formed at a slight distance from the drain signal line DL, and a part thereof is formed so as to overlap the pixel electrode PX. .

【0035】このようにする理由は、該突起体PROが
ドレイン信号線DLと重畳して配置されることを回避
し、しかも画素領域内に侵入してしまうことを回避せん
がためである。
The reason for this is to prevent the protrusion PRO from being arranged so as to overlap with the drain signal line DL, and to prevent the protrusion PRO from entering the pixel region.

【0036】このため、該突起体PROは、ブラックマ
トリックスBMと重畳されて形成され表示面側からは目
視できないようになっている。
For this reason, the protrusion PRO is formed so as to be superimposed on the black matrix BM, so that it cannot be seen from the display surface side.

【0037】このように構成された液晶表示装置は、た
とえば外部からの振動による一方の基板に対する他方の
基板の変動によって該突起体PROが振動しても、ドレ
イン信号線DL上ではないことから、該ドレイン信号線
DLの損傷あるいは断線が発生するようなことはなくな
る。
In the liquid crystal display device configured as described above, even if the protrusion PRO vibrates due to the fluctuation of one substrate with respect to the other substrate due to external vibration, for example, it is not on the drain signal line DL. The damage or disconnection of the drain signal line DL does not occur.

【0038】また、前記平坦膜OCおよび突起体PRO
の表面には各画素に共通な対向電極CTがたとえばIT
O膜によって形成され、このITO膜の上面には配向膜
ORI2が形成されている。
Further, the flat film OC and the protrusion PRO
The common electrode CT common to each pixel is provided on the surface of
An orientation film ORI2 is formed on the upper surface of the ITO film.

【0039】前記対向電極CTは基準信号(電圧)が印
加されるようになっており、映像信号(電圧)が印加さ
れる画素電極PXとの間に電界(透明基板に対して垂直
な方向:縦電界方式と称される)を発生せしるようにな
っており、この電界によって液晶の光透過率を制御する
ようになっている。
A reference signal (voltage) is applied to the counter electrode CT, and an electric field (in a direction perpendicular to the transparent substrate: between the counter electrode CT and the pixel electrode PX to which a video signal (voltage) is applied). (Referred to as a vertical electric field method), and the light transmittance of the liquid crystal is controlled by this electric field.

【0040】上述した実施例は、ドレイン信号線DLに
近接して配置される突起体PROは画素電極PXに一部
重畳して形成されたものである。しかし、図3に示すよ
うに、画素電極PXに一部切欠きCUを設け、この切欠
きの部分に該突起体が位置づけられるようにしてもよい
ことはいうまでもない。画素電極の該突起体による損傷
がブラックマトリックスに囲まれた実質的な画素領域に
まで及ぶのを回避するためである。
In the above-described embodiment, the protrusion PRO arranged near the drain signal line DL is formed so as to partially overlap the pixel electrode PX. However, as shown in FIG. 3, it goes without saying that a notch CU may be partially provided in the pixel electrode PX, and the protrusion may be positioned in this notch. This is to prevent the damage of the pixel electrode due to the protrusion from extending to a substantial pixel region surrounded by the black matrix.

【0041】また、上述した実施例は、突起体PROを
ドレイン信号線DLに近接する部分に形成されたもので
ある。しかし、図4に示すように、ドレイン信号線DL
に限定されることはなく、ゲート信号線GLに近接する
部分に形成するようにしてもよいことはいうまでもな
い。この場合、図3に示したように、画素電極に切欠き
を設けてもよいことはいうまでもない。 〔実施例2〕図5は、本発明による液晶表示装置の他の
実施例を示す平面図で、図1に対応した図面となってい
る。また、図6は図5のVI−VI線における断面を示した
図となっている。
In the above-described embodiment, the protrusion PRO is formed in a portion close to the drain signal line DL. However, as shown in FIG.
It is needless to say that the present invention is not limited to this, and may be formed in a portion close to the gate signal line GL. In this case, it goes without saying that a notch may be provided in the pixel electrode as shown in FIG. [Embodiment 2] FIG. 5 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, and corresponds to FIG. FIG. 6 is a diagram showing a cross section taken along line VI-VI of FIG.

【0042】同図は、いわゆる横電界方式と称され、対
向電極CTは画素電極PXとともにTFT基板側に形成
され、これら電極の間に該TFT基板とほぼ平行な成分
をもつ電界によって液晶の光透過率を制御するようにな
っている。
The figure is called a so-called lateral electric field system, in which the counter electrode CT is formed on the TFT substrate side together with the pixel electrode PX, and the light of the liquid crystal is generated by an electric field having a component substantially parallel to the TFT substrate between these electrodes. The transmittance is controlled.

【0043】図1と同一の符号は同一の機能を有するも
のである。図1と異なる構成は、まず対向電極CTおよ
びこれに接続される対向電圧信号線CLにある。
The same reference numerals as those in FIG. 1 have the same functions. 1 is different from that of FIG. 1 in the counter electrode CT and the counter voltage signal line CL connected thereto.

【0044】対向電圧信号線CLはたとえば画素領域の
中央を横切って図中x方向に延在され、それと一体とな
って図中y方向に延在された対向電極CTが形成されて
いる。
The counter voltage signal line CL extends, for example, in the x direction in the figure across the center of the pixel region, and integrally forms a counter electrode CT extending in the y direction in the figure.

【0045】この対向電極CTはたとえば3本形成さ
れ、そのうちの1本は画素領域の中央を横切って形成さ
れ、残りの2本はそれぞれドレイン信号線DLに隣接し
て形成されている。
For example, three counter electrodes CT are formed, one of which is formed across the center of the pixel region, and the other two are formed adjacent to the drain signal line DL, respectively.

【0046】そして、この対向電圧信号線CLおよび対
向電極CTはたとえばゲート信号線GLと同時に形成さ
れ、したがって該ゲート信号線GLと同層で同材料によ
って形成されている。
The counter voltage signal line CL and the counter electrode CT are formed at the same time as, for example, the gate signal line GL, and are therefore formed in the same layer and of the same material as the gate signal line GL.

【0047】一方、画素電極PXはたとえばドレイン信
号線DLと同層に形成され、前記各対向電極CTの間に
図中y方向に延在されて形成されている。
On the other hand, the pixel electrode PX is formed, for example, in the same layer as the drain signal line DL, and is formed to extend between the respective counter electrodes CT in the y direction in the drawing.

【0048】これにより、画素電極PXは2本から構成
され、そのうちの1本はその一端において薄膜トランジ
スタTFTのソース電極SD1と接続されているととも
に、残りの一本とは対向電圧信号線CL上において互い
に接続されている。
As a result, the pixel electrode PX is composed of two lines, one of which is connected at one end to the source electrode SD1 of the thin film transistor TFT, and the other is connected on the counter voltage signal line CL. Connected to each other.

【0049】各画素電極PXの対向電圧信号線CL上に
おける接続部は比較的面積が大きく形成され、この部分
において該画素電極PXと対向電圧信号線CLとの間に
容量素子Caddが形成されている。
The connecting portion of each pixel electrode PX on the counter voltage signal line CL has a relatively large area, and in this portion, a capacitive element Cadd is formed between the pixel electrode PX and the counter voltage signal line CL. I have.

【0050】また、このように構成された透明基板SU
B1の表面には保護膜PSVが形成され、その表面には
配向膜ORI1が形成されている。
Further, the transparent substrate SU configured as described above
A protective film PSV is formed on the surface of B1, and an alignment film ORI1 is formed on the surface.

【0051】このような構成においても、実施例1と同
様に、TFT基板と対向する他の透明基板側には突起体
PROが形成され、この各突起体PROは、図5に示す
ように、ドレイン信号線DLから若干の間隔を有して形
成され、その一部が対向電極CTに重畳するようにして
形成されている。
In such a configuration, similarly to the first embodiment, the protrusions PRO are formed on the other transparent substrate facing the TFT substrate, and each of the protrusions PRO is formed as shown in FIG. It is formed with a slight interval from the drain signal line DL, and a part thereof is formed so as to overlap the counter electrode CT.

【0052】また、この突起体PROはブラックマトリ
ックスBMに重畳されて形成されている。
The protrusion PRO is formed so as to overlap the black matrix BM.

【0053】上述した実施例は、ドレイン信号線CTに
近接して配置される突起体PROは対向電極CTに一部
重畳して形成されたものである。しかし、図7に示すよ
うに、対向電極CTに一部切欠きCUを設け、この切欠
きCUの部分に該突起体PROを位置づけ該対向電極C
Tに重畳させないで形成してもよいことはいうまでもな
い。
In the above-described embodiment, the protrusion PRO arranged near the drain signal line CT is formed so as to partially overlap the counter electrode CT. However, as shown in FIG. 7, a cutout CU is provided in the counter electrode CT, and the protrusion PRO is positioned at the cutout CU to position the counter electrode C.
Needless to say, they may be formed without overlapping with T.

【0054】また、上述した実施例は、突起体PROを
ドレイン信号線DLに近接する部分に形成されたもので
ある。しかし、図8に示すように、ドレイン信号線DL
に限定されることはなく、ゲート信号線GLに近接する
部分に形成するようにしてもよいことはいうまでもな
い。 〔実施例3〕図9は、本発明による液晶表示装置の他の
実施例を示す図である。
In the above-described embodiment, the protrusion PRO is formed in a portion close to the drain signal line DL. However, as shown in FIG.
It is needless to say that the present invention is not limited to this, and may be formed in a portion close to the gate signal line GL. [Embodiment 3] FIG. 9 is a diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【0055】同図は、横電界方式の液晶表示装置の各ゲ
ート信号線GLのうちの一つに沿って切断された断面図
であり、透明基板SUB2側に突起体PROが形成され
ている。
FIG. 7 is a cross-sectional view taken along one of the gate signal lines GL of the in-plane switching mode liquid crystal display device, and a projection PRO is formed on the transparent substrate SUB2 side.

【0056】そして、前記突起体PROは、各基板のギ
ャップを保持するスペーサ(PRO1と称す:図中領域
Bに存在する)と、特に、各ゲート信号線GLの両端に
それぞれ重畳されて配置される突起体PRO(PRO2
と称す:図中領域Aに存在する)からなっている。
The protrusions PRO are arranged so as to be overlapped with spacers (referred to as PRO1: existing in a region B in the drawing) for maintaining a gap between the substrates, and especially at both ends of each gate signal line GL. PRO (PRO2)
(Existing in the area A in the figure).

【0057】さらに、透明基板SUB2の液晶側の面に
は、透明基板SUB1側の各ゲート信号線GLにそれぞ
れ重畳するようにしてそれぞれ導電層21が形成されて
いる。
Further, conductive layers 21 are formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate SUB2 so as to overlap with the respective gate signal lines GL on the transparent substrate SUB1 side.

【0058】この場合、これら各導電層21は、必然的
に突起体PRO2を被服する状態で形成されることにな
り、この突起体PRO2の個所で対向配置されるゲート
信号線GLと電気的な接続がなされるようになる。
In this case, each of the conductive layers 21 is necessarily formed in a state of covering the protrusion PRO2, and is electrically connected to the gate signal line GL opposed to the protrusion PRO2. The connection will be made.

【0059】このことから、ゲート信号線GLは、それ
本来の信号線とは別に迂回回路を備えることになり、た
とえゲート信号線GLに断線が発生したとしても、その
断線は該迂回回路によって保護される効果を奏するよう
になる。
Therefore, the gate signal line GL is provided with a bypass circuit separately from the original signal line, and even if a break occurs in the gate signal line GL, the disconnection is protected by the bypass circuit. The effect is obtained.

【0060】そして、上述した実施例は、ゲート信号線
GLの保護回路について説明したものであるが、ドレイ
ン信号線DLを保護する場合にもそのまま適用できるこ
とはいうまでもない。この場合、図中のゲート信号線G
Lがドレイン信号線DLに置き換えられることとなる。 〔実施例4〕図10は、本発明による液晶表示装置のう
ち縦電界方式のものの他の実施例を示す図である。
In the above-described embodiment, the protection circuit for the gate signal line GL has been described. However, it goes without saying that the present invention can be applied to the case where the drain signal line DL is protected. In this case, the gate signal line G in FIG.
L is replaced by the drain signal line DL. [Embodiment 4] FIG. 10 is a view showing another embodiment of a vertical electric field type liquid crystal display device according to the present invention.

【0061】同図は、液晶表示装置の各ゲート信号線G
Lのうちの一つに沿って切断された断面図であり、透明
基板SUB2側に固定された突起体PROが備えられて
いる。
FIG. 9 shows each gate signal line G of the liquid crystal display device.
FIG. 13 is a cross-sectional view taken along one of L, and includes a projection PRO fixed to the transparent substrate SUB2 side.

【0062】前記突起体PROは、各基板のギャップを
保持する突起体(PRO1と称す:図中領域Bに存在す
る)と、特に、各基板をシールするシール材SLの近傍
に配置された突起体(PRO2と称す:図中領域Aに存
在する)からなっている。
The protruding body PRO includes a protruding body (referred to as PRO1; which exists in a region B in the drawing) for maintaining a gap between the substrates and a protruding body disposed in the vicinity of a sealing material SL for sealing each substrate. (Referred to as PRO2: existing in the area A in the figure).

【0063】この突起体PRO2は、その形成時におい
て突起体PRO1と同時に形成されるようになってい
る。
The projection PRO2 is formed simultaneously with the projection PRO1 at the time of formation.

【0064】そして、透明基板SUB2の液晶側の面に
は、前記各突起体PROをも被って各画素に共通な対向
電極CTが形成されている。
On the liquid crystal side surface of the transparent substrate SUB2, a common electrode CT common to the pixels is formed so as to cover the projections PRO.

【0065】また、前記各突起体PRO2のうち少なく
とも一つと当接する透明基板SUB1面に、該突起体P
RO2を被う対向電極22と電気的に接続される導電層
23が形成されている。
Further, the projection P is provided on the surface of the transparent substrate SUB1 which is in contact with at least one of the projections PRO2.
A conductive layer 23 electrically connected to the opposing electrode 22 covering RO2 is formed.

【0066】この導電層23は透明基板SUB1上でシ
ール材SLを超えて延在され、前記対向電極22に基準
信号を供給するための端子に接続されるようになってい
る。
The conductive layer 23 extends beyond the sealing material SL on the transparent substrate SUB1 and is connected to a terminal for supplying a reference signal to the counter electrode 22.

【0067】したがって、透明基板SUB1上の該端子
に基準信号を供給した場合に、この基準信号は、突起体
PRO2の部分を介して透明基板SUB2側の対向電極
22に供給されるようになる。
Therefore, when a reference signal is supplied to the terminal on the transparent substrate SUB1, the reference signal is supplied to the counter electrode 22 on the transparent substrate SUB2 side via the protrusion PRO2.

【0068】このように構成した液晶表示装置は、対向
電極22を透明基板SUB1面に引き出すための導電手
段を特に設ける必要がなくなるという効果を奏するよう
になる。 〔実施例5〕図11(a)は、表示領域ARにおいて、
各画素の輪郭を画するブラックマトリックスBMに重畳
するようにして配置された突起体PROを示した図であ
る。
The liquid crystal display device configured as described above has an effect that it is not necessary to particularly provide a conductive means for leading the counter electrode 22 to the surface of the transparent substrate SUB1. [Embodiment 5] FIG. 11 (a) shows a display area AR.
FIG. 4 is a diagram illustrating a protrusion PRO arranged so as to overlap a black matrix BM that outlines each pixel.

【0069】このようにして配置される突起体PROは
表示領域全体として均一に配置されているが、互いに隣
接されたほぼ同数の画素に対して一つの突起体PROが
配置されるようになっている。
The projections PRO thus arranged are arranged uniformly over the entire display area, but one projection PRO is arranged for substantially the same number of pixels adjacent to each other. I have.

【0070】表示領域における突起体PROの数を減ら
し、これにともない該突起体PROに起因する配向乱れ
を少なくしている。
The number of the protrusions PRO in the display area is reduced, and accordingly, the disturbance of the alignment caused by the protrusions PRO is reduced.

【0071】これにより、光漏れ(特に黒表示の場合)
によるコントラストの防止が図れる効果を奏する。 〔実施例6〕図11(b)は、実施例5と同様に、表示
領域における突起体PROの数を減らしているととも
に、その配置が均一でなく、ランダム(均一性なく)に
なっている点が実施例5と異なっている。
As a result, light leakage (particularly in the case of black display)
This has the effect of preventing contrast due to [Embodiment 6] FIG. 11B shows a case where the number of protrusions PRO in the display area is reduced and the arrangement thereof is not uniform and is random (without uniformity), as in Embodiment 5. This is different from the fifth embodiment.

【0072】人間の視覚の特性として、光漏れの部分が
繰り返しパターンで発生している場合それを認識し易い
ことから、スペーサを均一性なく配置させることによっ
て、その不都合を解消している。 〔実施例7〕図12は、本発明による液晶表示装置の他
の実施例を示す説明図である。
As a characteristic of human vision, when a light leakage portion occurs in a repetitive pattern, it is easy to recognize it. Therefore, the inconvenience is solved by disposing the spacers without uniformity. [Embodiment 7] FIG. 12 is an explanatory view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【0073】同図において、突起体PROが固定された
側の透明基板SUB2と対向する他の透明基板SUB1
との間の該突起体PROの当接部に接着剤30が介在さ
れている。
In the same figure, another transparent substrate SUB1 opposed to the transparent substrate SUB2 on the side on which the protrusion PRO is fixed.
The adhesive 30 is interposed in the abutting portion of the projection PRO between them.

【0074】該突起体PROの当接部は配向膜同士の接
触部であり、これらは同材料であることから固着力が弱
いという不都合が生じる。
The contact portions of the projections PRO are contact portions between the alignment films, and since these are made of the same material, there is a disadvantage that the fixing force is weak.

【0075】それ故、該接着剤30としてたとえばSi
カップリング剤を用いることにより、各透明基板SUB
1,SUB2の間のギャップの保持の信頼性を確保する
ことができるようになる。
Therefore, as the adhesive 30, for example, Si
By using a coupling agent, each transparent substrate SUB
1 and SUB2, the reliability of maintaining the gap can be secured.

【0076】次に、このような構成からなる液晶表示装
置の製造方法の一実施例を図13を用いて説明する。 工程1.一方の基板に突起体PROを形成し、その突起
体PROをも被って配向膜が形成されたものを用意する
(同図(a))。 工程2.接着剤が満たされた容器に、前記基板を近接さ
せ、その突起体PROの頂部に該接着剤30の表面を接
触させる(同図(b))。 工程3.これにより、突起体PROの頂部に接着剤30
が塗布されるようになる(同図(c))。 工程4.上記基板を他の基板と対向配置させる(同図
(d))。 工程5.熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化
させる。これにより、突起体PROは各基板のそれぞれ
に固着された状態となる(同図(e))。
Next, one embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal display device having such a configuration will be described with reference to FIG. Step 1. A projection PRO is formed on one of the substrates, and an alignment film is formed covering the projection PRO as well (FIG. 7A). Step 2. The substrate is brought close to the container filled with the adhesive, and the surface of the adhesive 30 is brought into contact with the top of the protrusion PRO (FIG. 4B). Step 3. Thereby, the adhesive 30 is attached to the top of the protrusion PRO.
Is applied (FIG. 3C). Step 4. The substrate is arranged so as to face another substrate (FIG. 4D). Step 5. By applying heat treatment, the adhesive 30 is cured. As a result, the protrusions PRO are fixed to the respective substrates (FIG. 9E).

【0077】また、上述した構成からなる液晶表示装置
の製造方法の他の実施例を図14を用いて説明する。 工程1.一方の基板に突起体PROを形成し、その突起
体PROをも被って配向膜が形成されたものを用意する
(同図(a))。 工程2.接着剤30が満たされた容器でローラ31を備
える装置を用意し、該ローラ31の回転によってその表
面に付着する接着剤を前記突起体PROの頂部に塗布さ
せる(同図(b))。 工程3.これにより、突起体PROの頂部に接着剤30
が塗布されるようになる(同図(c))。 工程4.上記基板を他の基板と対向配置させる(同図
(d))。 工程5.熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化
させる。これにより、突起体PROは各基板のそれぞれ
に固着された状態となる(同図(e))。なお、この実
施例は、上述した各実施例の液晶表示装置の構成におい
て適用してもよいことはいうまでもない。 〔実施例8〕図15は、本発明による液晶表示装置の他
の実施例を示す説明図である。
Another embodiment of the method of manufacturing the liquid crystal display device having the above-described configuration will be described with reference to FIG. Step 1. A projection PRO is formed on one of the substrates, and an alignment film is formed covering the projection PRO as well (FIG. 7A). Step 2. An apparatus provided with a roller 31 in a container filled with the adhesive 30 is prepared, and the adhesive adhering to the surface thereof is applied to the top of the protrusion PRO by the rotation of the roller 31 (FIG. 2B). Step 3. Thereby, the adhesive 30 is attached to the top of the protrusion PRO.
Is applied (FIG. 3C). Step 4. The substrate is arranged so as to face another substrate (FIG. 4D). Step 5. By applying heat treatment, the adhesive 30 is cured. As a result, the protrusions PRO are fixed to the respective substrates (FIG. 9E). It is needless to say that this embodiment may be applied to the configuration of the liquid crystal display device of each embodiment described above. [Embodiment 8] FIG. 15 is an explanatory view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【0078】同図は、突起体PROが固定された基板に
対向する他の基板側に、該突起体PROの頂部が嵌め込
まれる凹陥部40を備えている。
In the figure, a recess 40 into which the top of the projection PRO is fitted is provided on the other substrate side facing the substrate to which the projection PRO is fixed.

【0079】そして、この凹陥部40はたとえばTFT
基板1Aの側の保護膜41に形成されており、その表面
に対して底面側において面積の大きないわゆる逆テーパ
状となっている。
The recess 40 is formed, for example, by a TFT
It is formed on the protective film 41 on the side of the substrate 1A, and has a so-called reverse tapered shape having a large area on the bottom surface side with respect to the surface thereof.

【0080】このように構成した場合、突起体PRO
は、その頂部が該凹陥部40に食い込んで配置され、透
明基板SUB1に対して接着された状態と同様になる。
In the case of such a configuration, the protrusion PRO
Is similar to a state in which the top is cut into the concave portion 40 and is adhered to the transparent substrate SUB1.

【0081】また、図16は、同様の趣旨で構成された
他の実施例であり、前記凹陥部40と同様の機能を有す
る手段を一対の信号線(配線)42の間の溝で構成した
ものである。
FIG. 16 shows another embodiment having the same effect. In this embodiment, means having the same function as the recess 40 is formed by a groove between a pair of signal lines (wirings) 42. Things.

【0082】そして、この場合、各信号線の互いに対向
する辺部が逆テーパ状となっている。
In this case, the opposing sides of each signal line have an inversely tapered shape.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、スペーサによる断
線を引き起こすことがなくなる。
As is apparent from the above description,
According to the liquid crystal display device of the present invention, disconnection due to the spacer is not caused.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置の画素領域の一実施
例を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of a pixel region of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】図1のI−I線における断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II of FIG.

【図3】本発明による液晶表示装置の画素領域の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing another embodiment of the pixel region of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4】本発明による液晶表示装置の画素領域の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing another embodiment of the pixel region of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】本発明による液晶表示装置の画素領域の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing another embodiment of the pixel region of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】図5のVI−VI線における断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG. 5;

【図7】本発明による液晶表示装置の画素領域の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing another embodiment of the pixel region of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】本発明による液晶表示装置の画素領域の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing another embodiment of the pixel region of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図9】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図10】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図11】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図12】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図13】本発明による液晶表示装置の製造方法の一実
施例を示す工程図である。
FIG. 13 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図14】本発明による液晶表示装置の製造方法の他の
実施例を示す工程図である。
FIG. 14 is a process chart showing another embodiment of the method of manufacturing the liquid crystal display device according to the present invention.

【図15】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す断面図である。
FIG. 15 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図16】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す断面図である。
FIG. 16 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SUB…基板、GL…ゲート信号線、DL…ドレイン信
号線、PX…画素電極、CT…対向電極、PRO…突起
体、TFT…薄膜トランジスタ、BM…ブラックマトリ
ックス。
SUB: substrate, GL: gate signal line, DL: drain signal line, PX: pixel electrode, CT: counter electrode, PRO: protrusion, TFT: thin film transistor, BM: black matrix.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 正宏 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 引場 正行 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H089 LA12 LA16 NA14 QA01 QA16 TA13 2H091 FA35Y GA06 GA08 GA13 GA16 2H092 GA14 HA04 JA26 JB58 JB61 KA05 KB04 KB25 MA13 NA15 PA03 PA09 5C094 AA32 BA03 BA43 EA04 EB02 EC03 HA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masahiro Ishii 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Prefecture Within Hitachi, Ltd. Display Group (72) Inventor Masayuki Hikiba 3300, Hayano, Mobara-shi, Chiba Prefecture Within Hitachi, Ltd. Display Group F term (reference) 2H089 LA12 LA16 NA14 QA01 QA16 TA13 2H091 FA35Y GA06 GA08 GA13 GA16 2H092 GA14 HA04 JA26 JB58 JB61 KA05 KB04 KB25 MA13 NA15 PA03 PA09 5C094 AA32 BA03 BA43 EA04 EB02 EC03 HA08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面に他方の基板との間のギャッ
プを保持する突起体が設けられているとともに、この突
起体は前記各基板の少なくとも一方の液晶側の面に形成
された信号線と重畳するのを回避して配置されているこ
とを特徴とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal-side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween is provided with a projection for maintaining a gap between the substrate and the other substrate. A liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is arranged so as to avoid overlapping with a signal line formed on at least one liquid crystal side surface of each of the substrates.
【請求項2】 前記各基板のうち少なくともいずれか一
方にブラックマトリックスが形成され、前記突起体はこ
のブラックマトリックスに重畳されていることを特徴す
る請求項1に記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a black matrix is formed on at least one of the substrates, and the protrusion is overlapped with the black matrix.
【請求項3】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の画素領域にゲート信号線か
らの走査信号の供給によって駆動されるスイッチング素
子と、このスイッチング素子を介してドレイン信号線か
らの映像信号が供給される画素電極とが備えられ、 前記各基板のうちの他方の基板の液晶側の面に前記スイ
ッチング素子、ゲート信号線およびドレイン信号線に重
畳することなく突起体が形成されていることを特徴とす
る液晶表示装置。
3. A switching element driven by supply of a scanning signal from a gate signal line to a pixel area on a liquid crystal side surface of one of the substrates arranged to face each other with a liquid crystal interposed therebetween, and And a pixel electrode to which a video signal is supplied from a drain signal line via a switching element, a gate signal line, and a drain signal line on a liquid crystal side surface of the other of the substrates. A liquid crystal display device characterized by having no projections.
【請求項4】 画素電極との間に電界を発生せしめる対
向電極が他方の基板側に形成されていることを特徴とす
る請求項3に記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode is formed on the other substrate.
【請求項5】 画素電極との間に電界を発生せしめる対
向電極が一方の基板側に形成されていることを特徴とす
る請求項3に記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode is formed on one of the substrates.
【請求項6】 他方の基板の液晶側の面には画素領域を
画するブラックマトリックスが形成され、突起体はこの
ブラックマトリックスに重畳されて形成されていること
を特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
6. The liquid crystal side surface of the other substrate is formed with a black matrix defining a pixel area, and the projection is formed so as to overlap with the black matrix. Liquid crystal display device.
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Cited By (3)

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