JP2001302702A - 多糖類スルホン化体の製造法 - Google Patents
多糖類スルホン化体の製造法Info
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Abstract
していてもよく、またオキシカルボニル基(−COO−
又は−OCO−)又はエーテル結合が挿入されていても
よい炭素数10〜43の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はア
ルケニル基を有するグリシジルエーテルと、(b)炭素
数1〜5のエポキシドを有するスルホン酸又はその塩とを
反応させる、多糖類のヒドロキシル基の水素原子の一部
又は全てが、下記(A)及び(B)で置換された多糖類
スルホン化体の製造法。 (A)ヒドロキシル基が置換していてもよく、またオキ
シカルボニル基(−COO−又は−OCO−)又はエー
テル結合が挿入されていてもよい炭素数10〜43の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基、(B)ヒドロ
キシル基が置換していてもよい炭素数1〜5のスルホアル
キル基又はその塩。 【効果】 本発明によれば、水溶液としたとき透明性に
優れ、しかも低濃度で優れた増粘性を示し、金属塩の共
存や温度の変化が少なく、更に乳化安定性が極めて良好
な多糖類スルホン化体を工業的に有利に提供することが
できる。
Description
リー製品、外用医薬品、水溶性塗料、建材等の増粘剤、
ゲル化剤、賦形剤、エマルジョン安定剤、凝集剤等とし
て有用な多糖類スルホン化体の効率的な製造法に関す
る。
/又は長鎖アルケニルグリセリルエーテル基、並びにス
ルホン酸を含む置換基で置換して得られる多糖誘導体
が、水溶性に優れ、その水溶液が低濃度で高い増粘性を
示し、しかも無機金属塩、有機金属塩、pH、温度等の影
響を受けにくく安定な増粘性を示し、かつ優れた乳化安
定化作用を示し、更に化粧料やトイレタリー製品に使用
した場合、良好な使用感を有することが報告されている
(特開平09-235301号公報等)。
及び/又は長鎖アルケニルグリセリルエーテル基、並び
にスルホン酸を置換基として含む多糖誘導体は、多糖又
はその誘導体を疎水化(長鎖アルキルグリセリルエーテ
ル化及び/又は長鎖アルケニルグリセリルエーテル化)
反応及びスルホン化反応することにより製造することが
できる。しかしながら、一般に、多糖類は溶媒に対する
溶解性が低く、疎水化剤、スルホン化剤について多糖に
対する適度な反応性をもつ化合物を選択しなければ、疎
水化及びスルホン化の両工程における収率は低くなるこ
とから、目的の置換度に対して大過剰の疎水化剤及びス
ルホン化剤を用いる必要が生じる。また、スルホン化反
応において、例えば炭素数1〜5のヒドロキシル基が置換
してもよいハロアルカンスルホン酸及びその塩から選ば
れるスルホン化剤を用いる場合においては、無機塩が副
生することは避けられない。これらは、生産性の低下
や、生成物の精製が必要な場合には精製負荷を増大させ
ることにつながり、製造コストを上昇させる一因となる
という問題があった。
で生産性の向上した上記多糖誘導体の製造方法を提供す
ることである。
反応において、炭素数1〜5のエポキシドを有するスルホ
ン酸及びその塩から選ばれるスルホン化剤を用いること
により、そのエポキシドの反応性の高さから多糖への選
択的な反応が起こり、スルホン化剤の使用量を低減する
ことができ、また同時にスルホン化反応において副生す
る無機塩を削減することができることから精製負荷を低
減できることを見出した。
基が置換していてもよく、またオキシカルボニル基(−
COO−又は−OCO−)又はエーテル結合が挿入され
ていてもよい炭素数10〜43の直鎖又は分岐鎖のアルキル
基又はアルケニル基を有するグリシジルエーテルと、
(b)炭素数1〜5のエポキシドを有するスルホン酸又は
その塩とを反応させる、多糖類のヒドロキシル基の水素
原子の一部又は全てが、下記(A)及び(B)で置換さ
れた多糖類スルホン化体の製造法を提供するものであ
る。 (A)ヒドロキシル基が置換していてもよく、またオキ
シカルボニル基(−COO−又は−OCO−)又はエー
テル結合が挿入されていてもよい炭素数10〜43の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基、(B)ヒドロ
キシル基が置換していてもよい炭素数1〜5のスルホアル
キル基又はその塩。
は、セルロース、グアーガム、スターチ、ヒドロキシエ
チルセルロース、ヒドロキシエチルグアーガム、ヒドロ
キシエチルスターチ、メチルセルロース、メチルグアー
ガム、メチルスターチ、エチルセルロース、エチルグア
ーガム、エチルスターチ、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルグアーガム、ヒドロキシプロピ
ルスターチ、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルメチルグアーガム、ヒドロキシエチルメチ
ルスターチ、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルメチルグアーガム及びヒドロキシプロ
ピルメチルスターチからなる群より選ばれるものが好ま
しい。また、これら原料多糖類のメチル基、エチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等の置換基
は、単一の置換基で置換されたものでもよいし、複数の
置換基で置換されたものでもよく、その構成単糖残基当
たりの置換度は0.1〜10が好ましく、0.5〜5がより好ま
しい。また、これら多糖類はの重量平均分子量は、好ま
しくは1万〜1000万、より好ましくは10万〜500万の範
囲である。
(A)による置換)とスルホン化反応(スルホン化剤
(b)の反応;基(B)による置換)に分けて説明す
る。なお、疎水化反応とスルホン化反応はいずれを先に
行ってもよく、また同時に行ってもよいが、疎水化させ
た後、スルホン化するのが好ましい。
類の疎水化反応は、多糖類又はスルホン化多糖類そのを
適当な溶媒に溶解又は分散させ疎水化剤(a)と反応さ
せることにより行われる。
ルグリシジルエーテル及びC10〜C40アルケニルグリシ
ジルエーテルのアルキル基及びアルケニル基は、直鎖及
び分岐のいずれでもよく、分岐の場合の分岐位置、アル
ケニル基中の不飽和結合の数及び位置は特に限定されな
い。また、当該C10〜C40テルキル又はアルケニル基
は、ヒドロキシ基が置換してもよく、オキシカルボニル
基又はエーテル結合が挿入されていてもよい。アルキル
基の具体例としては、直鎖アルキル基として、n-デシル
基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、
n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル
基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシ
ル基、n-イコシル基、n-ヘンイコシル基、n-ドコシル
基、n-トリコシル基、n-テトラコシル基、n-ペンタコシ
ル基、n-ヘキサコシル基、n-ヘプタコシル基、n-オクタ
コシル基、n-ノナコシル基、n-トリアコンチル基、n-ヘ
ントリアコンチル基、n-ドトリアコンチル基、n-トリト
リアコンチル基、n-テトラトリアコンチル基、n-ペンタ
トリアコンチル基、n-ヘキサトリアコンチル基、n-ヘプ
タトリアコンチル基、n-オクタトリアコンチル基、n-ノ
ナトリアコンチル基及びn-テトラコンチル基が、分岐ア
ルキル基として、メチルウンデシル基、メチルヘプタデ
シル基、エチルヘキサデシル基、メチルオクタデシル
基、プロピルペンタデシル基、2-ヘキシルデシル基、2-
オクチルドデシル、2-ヘプチルウンデシル基、2-デシル
テトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラ
デシルオクタデシル基、2-テトラデシルベヘニル基等が
挙げられる。アルケニル基の具体例としては、デセニル
基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル
基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニ
ル基、イコセニル基、ヘンイコセニル基、ドコセニル
基、トリコセニル基、テトラコセニル基、ペンタコセニ
ル基、ヘキサコセニル基、ヘプタコセニル基、オクタコ
セニル基、ノナコセニル基、トリアコンテニル基、オレ
イル基、リノレイル基、リノレニル基等が挙げられる。
これらのうち、炭素数12〜36、特に16〜24のアルキル基
及びアルケニル基が好ましく、また、安定性の点から、
アルキル基、特に直鎖アルキル基が好ましい。これら疎
水化剤(a)は、単独で又は2種以上を組み合わせて使
用することができる。疎水化剤(a)の使用量は、多糖
類又はその誘導体への疎水性置換基の所望する導入量に
よって適宜調整することができるが、通常、多糖類又は
その誘導体の構成単糖残基当たり、0.0001〜10当量、特
に0.0003〜1当量の範囲が好ましい。
ましく、かかるアルカリとしては、アルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等が挙げ
られ、なかでも水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等が好ましい。ア
ルカリの使用量は、用いる疎水化剤(a)に対して0.01
〜10モル倍量、特に0.1〜5モル倍量が好ましい。
ソプロピルアルコール、tert-ブチルアルコール等が挙
げられる。多糖類又はスルホン化多糖類を膨潤させて疎
水化剤(a)との反応性を高める目的で、低級アルコー
ルに対し、1〜50重量%、更に好ましくは2〜30重量%
の水を加えた混合溶媒を用いて反応を行ってもよい。
00℃の範囲が好ましい。反応終了後は、酸を用いてアル
カリを中和する。酸としては、硫酸、塩酸、リン酸等の
無機酸、酢酸等の有機酸を用いることができる。また、
途中で中和することなく次の反応を行うこともできる。
いてスルホン化反応に用いる場合には、中和せずそのま
ま用いることができるほか、必要に応じてろ過などによ
り分別したり、熱水、含水イソプロピルアルコール、含
水アセトン溶媒等で洗浄して未反応の疎水化剤や中和等
により副生した塩類を除去して使用することもできる。
なお、既に疎水化反応の前にスルホン化反応を行ってい
る場合は、ろ過などによる分別後、必要に応じて洗浄、
中和等を行った後、乾燥して多糖類スルホン化体を得る
ことができる。
類のスルホン化反応は、多糖類又は疎水化多糖類を適当
な溶媒に溶解又は分散させて、スルホン化剤(b)と反
応させることにより行われる。
ポキシドを有するスルホン酸としては、1,2-エポキシエ
タンスルホン酸、2,3-エポキシプロパンスルホン酸、3,
4-エポキシブタンスルホン酸、2,3-エポキシ-1-メチル
プロパンスルホン酸、4,5-エポキシペンタンスルホン
酸、3,4-エポキシ-1-メチルブタンスルホン酸、3,4-エ
ポキシ-2-メチルブタンスルホン酸、2,3-エポキシ-1,1-
ジメチルメチルプロパンスルホン酸等が挙げられる。ま
たこれらの塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等の
アルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のア
ルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。
これらスルホン化剤(b)は、単独で又は2種以上を組
み合わせて使用することができる。
酸及びその塩は、同炭素数のハロアルカンスルホン酸と
比較して水への溶解度が向上することから、取り扱い易
いという利点がある。例えば、3-クロロ-2-ヒドロキシ
プロパンスルホン酸ナトリウムの水への溶解度は30%で
あるが、2,3-エポキシプロパンスルホン酸ナトリウムの
水への溶解度は50%以上に向上する。
のスルホン酸基の導入量によって適宜調整できるが、通
常、多糖類又は疎水化多糖類の構成単糖残基当たり、0.
01〜5当量が好ましく、より好ましくは0.05〜3当量であ
る。
が好ましく、かかるアルカリとしては、疎水化反応に用
いられるものと同様のもの、すなわち、アルカリ金属又
はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等が
挙げられ、なかでも水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等が好まし
い。アルカリの使用量は、用いるスルホン化剤(b)に
対して0.01〜10モル倍量、特に0.1〜5モル倍量が良好な
結果を与え、好ましい。
ソプロピルアルコール、tert-ブチルアルコール等が挙
げられる。また、多糖類又は疎水化多糖類とスルホン化
剤(b)との反応性を高める目的で、低級アルコールに
対し、0.1〜100重量%、更に好ましくは1〜50重量%の
水を加えた混合溶媒を用いて反応を行ってもよい。
囲が好ましい。反応終了後は、酸を用いてアルカリを中
和する。酸としては、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸、
酢酸等の有機酸を用いることができる。途中で中和する
ことなく次の反応を行うこともできる。
を続いて疎水化反応に用いる場合には、中和せずそのま
ま用いることができるほか、必要に応じてろ過などによ
り分別したり、熱水、含水イソプロピルアルコール、含
水アセトン溶媒等で洗浄して未反応のアルキル化剤や中
和等により副生した塩類を除去して使用することもでき
る。なお、既にスルホン化反応の前に疎水化反応を行っ
ている場合は、ろ過などによる分別後、必要に応じて洗
浄、中和等を行った後、乾燥して多糖類スルホン化体を
得ることができる。
(A)の置換度は重量既知の多糖誘導体を過剰のヨウ化
水素酸により分解し、生じたヨウ化ステアリルを定量す
ることにより置換度を算出した。また、置換基(B)の
置換度はコロイド滴定法により求めた。なお、以下の実
施例において「置換度」とは、構成単糖残基当たりの置
換基の平均数を示す。
ーバイト社製 QP15000H LOT.W8077P)20g、ステアリ
ルグリシジルエーテル0.69g(2.60mol%対HEC)及びイソ
プロピルアルコール128gとイオン交換水32gからなる水
溶液を加え、スラリー液を調製した。窒素雰囲気下、48
%水酸化ナトリウム水溶液1.33g(20mol%)を加えて室温で
30分攪拌した。その後、80℃まで昇温し、80℃で8時間
疎水化反応を行った。疎水化反応終了後、50℃まで冷却
し、攪拌しながら、3-クロロ-2-ヒドロキシプロパンス
ルホン酸ナトリウム水溶液(濃度30%)10.5g(20mol%対H
EC)、及び48%水酸化ナトリウム水溶液1.33gを加え、50
℃で5時間スルホン化反応を行なった。その後、室温ま
で冷却し、濃塩酸1.6gを用いて中和してから生成物をろ
別した。生成物を70%イソプロピルアルコール340gで3
回、次いでイソプロピルアルコール120gで2回洗浄後、
減圧下70℃で1昼夜乾燥することによって黄白色粉体の
ヒドロキシエチルセルロース誘導体17.8gを得た。得ら
れたヒドロキシエチルセルロース誘導体の3-ステアリル
オキシ-2-ヒドロキシプロピル基の置換度は0.0031、3-
スルホ-2-ヒドロキシプロピル基の置換度は0.098であっ
た。
ーバイト社製 QP15000H LOT.W8077P)20g、ステアリ
ルグリシジルエーテル0.69g(2.60mol%対HEC)及びイソ
プロピルアルコール128gとイオン交換水32gからなる水
溶液を加え、スラリー液を調整した。窒素雰囲気下、48
%水酸化ナトリウム水溶液1.33g(20mol%)を加えて室温で
30分攪拌した。その後、80℃まで昇温し、80℃で8時間
疎水化反応を行った。疎水化反応終了後、50℃まで冷却
し、攪拌しながら、2,3-エポキシプロパンスルホン酸ナ
トリウム水溶液(濃度30%)8.53g(20mol%対HEC)を加
え、50℃で5時間スルホン化反応を行なった。その後、
室温まで冷却し、濃塩酸1.6gを用いて中和してから生成
物をろ別した。生成物を70%イソプロピルアルコール340
gで3回、次いでイソプロピルアルコール120gで2回洗
浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥することによって黄白色
粉体のヒドロキシエチルセルロース誘導体18.5gを得
た。得られたヒドロキシエチルセルロース誘導体の3-ス
テアリルオキシ-2-ヒドロキシプロピル基の置換度は0.0
031、3-スルホ-2-ヒドロキシプロピル基の置換度は0.11
4であった。
様の方法で行なった。比較例及び実施例1〜5の結果を
表1に示す。
は比較例よりもスルホン基の置換度の向上が見られる。
これは、エポキシドの反応性の高さから多糖への選択的
な反応が起こるためであると考えられる。更に反応終了
時に副生塩が生成しない事等から精製工程における負荷
の低減も可能であることから、炭素数1〜5のエポキシド
を有するスルホン酸又はこれらの塩を用いてスルホン化
反応を行なうことは、工業的にも好ましいといえる。
性に優れ、しかも低濃度で優れた増粘性を示し、金属塩
の共存や温度の変化が少なく、更に乳化安定性が極めて
良好な多糖類スルホン化体を工業的に有利に提供するこ
とができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 多糖類に、(a)ヒドロキシル基が置換
していてもよく、またオキシカルボニル基(−COO−
又は−OCO−)又はエーテル結合が挿入されていても
よい炭素数10〜43の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はア
ルケニル基を有するグリシジルエーテルと、(b)炭素
数1〜5のエポキシドを有するスルホン酸又はその塩とを
反応させる、多糖類のヒドロキシル基の水素原子の一部
又は全てが、下記(A)及び(B)で置換された多糖類
スルホン化体の製造法。 (A)ヒドロキシル基が置換していてもよく、またオキ
シカルボニル基(−COO−又は−OCO−)又はエー
テル結合が挿入されていてもよい炭素数10〜43の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基、(B)ヒドロ
キシル基が置換していてもよい炭素数1〜5のスルホアル
キル基又はその塩。 - 【請求項2】 スルホン化剤が、1,2-エポキシエタンス
ルホン酸、2,3-エポキシプロパンスルホン酸、3,4-エポ
キシブタンスルホン酸、2,3-エポキシ-1-メチルプロパ
ンスルホン酸、4,5-エポキシペンタンスルホン酸、3,4-
エポキシ-1-メチルブタンスルホン酸、3,4-エポキシ-2-
メチルブタンスルホン酸、2,3-エポキシ-1,1-ジメチル
メチルプロパンスルホン酸又はこれらのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩もしくはアンモニウム塩である
請求項1記載の製造法。 - 【請求項3】 原料の多糖類のメチル基、エチル基、ヒ
ドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基による構成
単糖残基当たりの置換度が、0.1〜10.0である請求項1
又は2記載の製造法。 - 【請求項4】 原料の多糖類の重量平均分子量が、1万
〜1000万である請求項1〜3の何れか1項記載の製造方
法。 - 【請求項5】 原料の多糖類が、セルロース、グアーガ
ム、スターチ、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シエチルグアーガム、ヒドロキシエチルスターチ、メチ
ルセルロース、メチルグアーガム、メチルスターチ、エ
チルセルロース、エチルグアーガム、エチルスターチ、
ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルグ
アーガム、ヒドロキシプロピルスターチ、ヒドロキシエ
チルメチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルグアー
ガム、ヒドロキシエチルメチルスターチ、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルグ
アーガム及びヒドロキシプロピルメチルスターチからな
る群より選ばれるものである請求項1〜4の何れか1項
記載の製造法。
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