JP2001300450A - 洗浄装置および洗浄方法、レチクルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レチクルやウエハ等の表面を十分に洗浄する
洗浄装置、洗浄方法を提供すること。 【解決手段】 レーザ洗浄のためのレーザ光Ｌ２を洗浄
対象物Ｘに照射するとともに、レーザ光Ｌ２とは独立に
位置決め可能なレーザ光Ｌ１を洗浄対象物Ｘの近傍の雰
囲気に照射してオゾン洗浄を行うため、従来よりも効果
の大きい洗浄が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置および洗
浄方法、レチクルの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造用ステッパ等に用いられるレ
チクルを製作する過程で、レチクル表面にごみ等の異物
が付着することがある。こうした異物が付着したまま露
光を行うと正確なパターニングが困難となるため、レチ
クルの製造工程において、製作されたレチクルの洗浄を
行う。従来レチクル表面上の異物を除去する洗浄方法
は、レーザ洗浄方法やオゾン洗浄方法等の方法があっ
た。レーザ洗浄方法とは、レーザ光をレチクル等の洗浄
対象物に照射して異物を除去する洗浄方法である。洗浄
対象物の表面にある異物は、レーザ光の吸収によってア
ブレーション（曝光部の局部破壊）等を起こし微小振動
するため、基板表面から剥離除去される。このようなレ
ーザ洗浄方法は特開平１１―２６４１１号公報等に記載
されている。また、オゾン洗浄方法とは、洗浄対象物表
面にオゾンを吹きつけるとともに、紫外線を照射して洗
浄を行う方法である。洗浄対象物表面に吹きつけられた
オゾンは、洗浄対象物に照射された紫外光のエネルギを
吸収して、酸素分子と活性酸素に分解される。この活性
酸素は、洗浄対象物の表面に付着している有機汚染物と
酸化し、一酸化炭素、二酸化炭素、水に化学変化して、
洗浄対象物の表面から気散する。このようなオゾン洗浄
方法は、特開平１０―２８９８５３号公報や「応用物
理」１９９８年６月号Ｐ．６７３等に記載されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レチク
ル表面に微小なゴミが付着した場合、レーザ洗浄におい
ても、オゾン洗浄においてもゴミの除去が困難な場合が
ある。レーザ洗浄の場合、レチクル上のマスクを損傷さ
せないために、照射するレーザ光のエネルギ強度は制限
される。しかしレーザ光のエネルギ強度が制限される
と、洗浄に十分なエネルギが吸収されないため、大きな
洗浄効果が得られない。特に、微小なゴミがレチクルに
密着している場合、ゴミの体積が小さいため吸収される
エネルギ量が小さくなる一方、密着によりゴミの振動は
抑制されるため、レーザ洗浄の効果はかなり小さくな
る。このため微小なゴミが除去されないことがしばしば
起こる。一方オゾン洗浄は、有機物を酸化してゴミを除
去するものであるため、無機物のゴミには効果がない。
また、ガスフロー等の影響によりオゾンガスの流れが方
向性を有する場合は、洗浄の効果も方向性を有し、洗い
残しが生じる場合が多い。本発明は上記課題を解決する
ためのもので、被洗浄物の表面に密着した微小なゴミを
除去することが可能となる洗浄装置、洗浄方法を提供す
ることである。また、レチクル製造の洗浄工程におい
て、この洗浄方法を用いてレチクルを洗浄することによ
り、歩留まりを高くできるレチクルの製造方法を提供す
ることである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば洗浄対象物を収納するための容器
と、前記洗浄対象物の周囲の気体に波長２００ｎｍ以下
の第１のレーザ光を照射するための第１のレーザ光照射
手段と、前記第１のレーザ光とは独立に位置決め可能
に、波長４００ｎｍ以下の第２のレーザ光を前記洗浄対
象物表面に照射するための第２のレーザ光照射手段と、
を備えていることを特徴とする洗浄装置である。また、
前記第１のレーザ光照射手段は、ＡｒＦエキシマレーザ
装置またはＦ２エキシマレーザ装置であることを特徴と
する前記洗浄装置である。また、前記第１のレーザ光と
前記第２のレーザ光との集光点がほぼ一致するように構
成されていることを特徴とする前記洗浄装置である。ま
た、前記洗浄対象物はレチクルであることとし、前記レ
ーザ光照射手段は、前記レチクル表面にほぼ平行に前記
第１のレーザ光を照射するように構成されていることを
特徴とする請求項１記載の洗浄装置である。また、洗浄
対象物の表面に波長４００ｎｍ以下のレーザ光を照射す
るためのレーザ光照射手段と、前記レーザ光が照射され
る位置を中心として前記洗浄対象物を回転させる回転手
段と、前記洗浄対象物表面に照射される前記レーザ光の
入射角を変化させる入射角変化手段と、を備えているこ
とを特徴とする洗浄装置である。また、前記第２のレー
ザ光により照射される位置を中心として、前記洗浄対象
物を回転させる回転手段を付加したことを特徴とする前
記洗浄装置である。また、前記洗浄対象物表面に照射さ
れる前記第２のレーザ光の入射角を変化させる入射角変
化手段を付加したことを特徴とする前記洗浄装置であ
る。また、波長２００ｎｍ以下の第１のレーザ光を洗浄
対象物の周囲の気体に照射する第１のレーザ光照射工程
と、前記第１のレーザ光とは独立に位置決め可能な波長
４００ｎｍ以下の第２のレーザ光を前記洗浄対象物に照
射する第２のレーザ光照射工程と、を同時に行うことを
特徴とする洗浄方法である。また、前記第１のレーザ光
の集光点と前記第２のレーザ光の集光点をほぼ一致する
ようにして洗浄することを特徴とする請求項７記載の洗
浄方法である。また、前記洗浄対象物はレチクルである
こととし、前記第１のレーザ光は、前記レチクルの表面
にほぼ平行に前記洗浄対象物の周囲の気体を照射するこ
とを特徴とする請求項７記載の洗浄方法である。また、
洗浄対象物の表面に波長４００ｎｍ以下のレーザ光を照
射する照射工程と、前記レーザ光を照射しながら、前記
照射される位置を中心として前記洗浄対象物を回転させ
る回転工程と、前記レーザ光を照射しながら、前記洗浄
対象物表面に照射される前記レーザ光の前記洗浄対象物
表面に対する入射角を変化させる入射角変化工程と、を
備えていることを特徴とする洗浄方法である。また、前
記第１および第２のレーザ光を照射しながら、前記第２
のレーザ光により照射される位置を中心として、前記洗
浄対象物を回転させる回転工程を付加したことを特徴と
する請求項７記載の洗浄方法である。また、前記第２の
レーザ光を照射しながら、前記洗浄対象物表面に照射さ
れる前記第２のレーザ光の前記洗浄対象物表面に対する
入射角を変化させる入射角変化工程を付加したことを特
徴とする請求項１１記載の洗浄方法である。また、透明
基板上に遮光膜を成膜する成膜工程と、前記成膜工程に
より成膜された遮光膜の所定部分をエッチングしてパタ
ーンを形成し、レチクルを製作するエッチング工程と、
前記エッチング工程により製作されたレチクルの洗浄を
行う洗浄工程とを備えるレチクルの製造方法において、
前記洗浄工程は、請求項８記載または請求項１１記載の
洗浄方法を用いて前記レチクルを洗浄することを特徴と
するレチクルの製造方法である。

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態を説明する。 （第１の実施の形態）図１に第１の実施の形態に係る洗
浄装置１０の構成図を示す。この洗浄装置１０における
洗浄の概要について説明する。まず紫外線レーザ光Ｌ１
およびＬ２が照射される。紫外線レーザ光Ｌ１は、酸素
供給装置１１により酸素濃度が高くなった洗浄対象物Ｘ
の周囲の気体に照射され、オゾン洗浄のためのオゾンを
生成させる。一方紫外線レーザ光Ｌ２は、洗浄対象物Ｘ
の表面に照射されるため、洗浄対象物Ｘ表面にあるゴミ
のレーザ洗浄が行われる。したがって、洗浄対象物Ｘは
レーザ洗浄とオゾン洗浄が同時に行われることになる。
以下この洗浄装置１０の各構成要素について説明する。
ＡｒＦレーザ１３ａは波長１９３ｎｍの紫外線レーザ光
Ｌ１を出射する。紫外線レーザ光Ｌ１が洗浄対象物Ｘ上
方１ｍｍ程度の位置を洗浄対象物Ｘと平行に照射される
ように、ＡｒＦレーザ１３ａは予め載置されている。ま
た、この紫外線レーザ光Ｌ１はバリアブルアッテネ−タ
１７ａによりオゾンを生成させるのに好適な出力、例え
ば３００Ｗとなるように出力調整される。また、集光レ
ンズ１４ａによりこの紫外線レーザ光Ｌ１は集光され
る。この集光レンズ１４ａは３次元に位置合せ可能な構
成となっている。

【０００５】紫外線レーザ光Ｌ２が洗浄対象物Ｘに垂直
に照射されるように、全反射ミラー１５は紫外線レーザ
光Ｌ２を反射する。また、集光レンズ１４ｂによりこの
紫外線レーザ光Ｌ２の集光点は、紫外線レーザ光Ｌ１の
集光点、すなわち洗浄対象物Ｘ上方１ｍｍ程度の位置と
略一致するように予め調整されている。また、この紫外
線レーザ光Ｌ２はバリアブルアッテネ−タ１７ｂにより
出力調整されており、洗浄対象物Ｘ表面においてエネル
ギ強度が１５０ｍＪ／ｃｍ２となるように調整されてい
る。酸素供給装置１１は、容器１２内に酸素分子を供給
する。ＸＹテーブル１６は洗浄対象物Ｘである洗浄対象
物Ｘを支持するとともに、洗浄対象物Ｘ上で検出された
ゴミに紫外線レーザ光Ｌ２が照射されるように、洗浄対
象物Ｘを水平方向に移動させる。容器１２は、外部から
洗浄対象物Ｘにゴミが付着することを防ぐとともに、酸
素供給装置１１から供給された酸素分子が拡散するのを
防止し、容器１２内の酸素濃度を一定に保つ機能を有す
る。また、容器１２の上面および側面には紫外線レーザ
光Ｌ１、Ｌ２を透過させるための石英ガラス製の入射窓
１５ａ、１５ｂが設けられている。

【０００６】前記構成における洗浄の作用について以下
に説明する。まず洗浄対象物ＸがＸＹテーブル１６にセ
ットされる。洗浄対象物Ｘはレチクルである。このレチ
クルは石英ガラス上にクロム膜のパターンが形成された
ものである。続いて図示しないＣＣＤカメラにより、洗
浄対象物Ｘ全面が撮像される。撮像されて得られた画像
データはゴミがまったくないとした場合の設計データと
比較される。この比較によりゴミの有無とゴミの位置が
検出される。そして、紫外線レーザ光Ｌ２がゴミに照射
されるように、画像データに基づいてＸＹテーブル１６
が駆動して洗浄対象物Ｘが移動する。次に酸素供給装置
１１が起動し、酸素供給口から容器１２に清浄な酸素が
供給される。このため容器１２内の酸素濃度が高くな
る。また、余分なガスは排気口から排気されるため、酸
素供給口から排気口に向けてガスフローが生じる。続い
てＡｒＦレーザ光１３ａ、１３ｂが起動する。ＡｒＦレ
ーザ光１３ａから出射された紫外線レーザ光Ｌ１は入射
窓１５ａを透過し、洗浄対象物Ｘの上方１ｍｍに集光さ
れる。また、ＡｒＦレーザ光１３ｂから出射された紫外
線レーザ光Ｌ２は入射窓１５ｂを透過して上方から洗浄
対象物Ｘに照射される。

【０００７】容器１２内の酸素分子は、この紫外線レー
ザ光Ｌ１およびＬ２を吸収して、オゾンに化学変化す
る。このオゾンにより、洗浄対象物Ｘ表面のゴミは酸化
され、洗浄対象物Ｘ表面から気散する。紫外線レーザ光
Ｌ１とＬ２の集光点が略一致しているため、この集光点
付近で最もオゾン濃度が高くなる。このため、この集光
点周辺の洗浄対象物Ｘ表面において、オゾン洗浄の効果
が大きい。一方、紫外線レーザ光Ｌ２の集光点は洗浄対
象物Ｘの表面から１ｍｍ上方になるように予めセッティ
ングされているため、図２に示されるようにやや広がっ
た紫外線レーザ光Ｌ２が照射される。洗浄対象物Ｘ表面
におけるエネルギ密度は１５０ｍＪ／ｃｍ２以下であ
る。このエネルギ強度であれば、パターンを形成してい
るクロム膜を溶融させることや、傷つけるおそれがな
い。この紫外線レーザ光Ｌ２の照射によって洗浄対象物
Ｘ表面のゴミは微小振動し、洗浄対象物Ｘ表面から剥離
除去される。両洗浄により生じたダスト等はガスフロー
によって排気口から排気される。所定時間洗浄が行われ
た後、紫外線レーザ光Ｌ１，Ｌ２の照射は一旦ストップ
する。そして紫外線レーザ光Ｌ２が別のゴミに照射され
るように、ＸＹテーブル１６が駆動する。そして再び紫
外線レーザ光Ｌ１，Ｌ２が照射されて洗浄が行われる。
以上のようにして洗浄対象物Ｘ上のすべてのゴミに対し
て洗浄が行われる。

【０００８】以上により洗浄対象物Ｘ表面のゴミはオゾ
ン洗浄およびレーザ洗浄によって十分に洗浄される。オ
ゾン洗浄を行うためのオゾンの生成は、紫外線レーザ光
Ｌ１，Ｌ２により生成される。このうち、レーザ洗浄を
行うために洗浄対象物に照射される紫外線レーザ光Ｌ２
は、洗浄対象物を傷つけたりすることがないように出力
を制限する必要がある。しかしながら、出力を制限する
とオゾン生成が好適に行われず、オゾン洗浄の効果が小
さい場合がある。しかし本発明に係る洗浄装置１０の場
合、オゾン生成するための高出力の紫外線レーザ光Ｌ１
をレーザ洗浄のための紫外線レーザ光Ｌ２とは別個独立
に設け、その紫外線レーザ光Ｌ１を洗浄対象物に照射さ
せずに雰囲気のみに照射させることにより、洗浄対象物
を傷つけることなくオゾン洗浄の効果を高めることがで
きる。さらに、この紫外線レーザ光Ｌ１の集光点をレー
ザ洗浄のための紫外線レーザ光Ｌ２の集光点と一致させ
ることで、レーザ洗浄される位置とオゾン洗浄の効果が
大きい位置が一致し、レーザ洗浄とオゾン洗浄が同時に
行われるため、両洗浄の効果が相乗的に作用して洗浄効
果がより高まる。なお、洗浄対象物が傷つきにくいもの
である場合は、オゾン生成のための紫外線レーザ光Ｌ１
は、洗浄対象物に直接照射しても良い。

【０００９】また、オゾン生成のための紫外線レーザ光
Ｌ１は複数にしても良い。この場合、紫外線レーザ光を
複数にし、かつ集光点を一致させることによって多くの
オゾンを生成し、オゾン洗浄の効果を高めることができ
る。また、酸素供給装置のかわりに、空気をフィルター
処理した清浄なガスを供給させるようにしても良い。ま
た、酸素供給装置のかわりに、オゾン生成装置によって
オゾンを供給するようにしても良い。この場合、紫外線
レーザ光によってオゾンが活性酸素と酸素分子に分解さ
れる。この活性酸素によってオゾン洗浄が行われる。ま
た、同一の光源からスプリットミラーを用いてレーザ洗
浄のための紫外線レーザ光とオゾン洗浄のための紫外線
レーザ光に分岐させる機構にしても良い。この場合、一
つの光源で洗浄を行うことが可能となるのでコスト面で
有利である。また、洗浄対象物はクロム膜でパターンが
形成されたレチクルに限られない。例えばシリコンウエ
ハや、クロム膜以外の材料でパターンが形成されたレチ
クル、あるいはレンズ等の光学素子でも本実施の形態で
の洗浄が可能である。洗浄対象物表面に、パターン等が
形成されていない場合には、洗浄対象物表面のエネルギ
密度を大きくして、洗浄を行うことも可能である。例え
ば、レンズを洗浄する場合、レンズ表面に紫外線レーザ
光を集光して、洗浄を行ってもよい。

【００１０】また、紫外線レーザ光はＡｒＦエキシマレ
ーザ光に限られず、Ｆ２エキシマレーザ光やＹＡＧレー
ザ光の第４高調波、或はＸ線、軟Ｘ線等を用いても良
い。ただし、オゾン洗浄を好適に行わせるためには、波
長２４０ｎｍ以下であることが望ましい。また、各紫外
線レーザ光Ｌ１，Ｌ２の繰り返し周波数および出力等は
洗浄対象によって適宜調整可能である。また、紫外線レ
ーザ光の出力を強めることにより、オゾン洗浄の効果を
高めることも可能である。その他同様の趣旨において種
々変形可能である。 （第２の実施の形態）第２の実施の形態に係る洗浄装置
３０の構成図を図３に示す。この洗浄装置３０は、洗浄
対象物Ｘをレーザ洗浄するための紫外線レーザ光Ｌ３を
出射するレーザ装置３１と、この紫外線レーザ光Ｌ３の
出力を調整するためのビームホモジナイザ３２と、この
紫外線レーザ光Ｌ３の光軸を位置決めするための全反射
ミラー３３と、この紫外線レーザ光Ｌ３を洗浄対象物Ｘ
表面付近に集光させるための集光レンズ３４と、洗浄対
象物Ｘを支持するＸＹＺテーブル３５と、ＸＹＺテーブ
ル３５を制御するためのテーブルドライバ３６と、ＸＹ
Ｚテーブル３５を支持固定するテーブル３７と、洗浄対
象物Ｘを回転させるためのモータ３８と、モータ３８を
制御するためのモータ３８制御ユニットと、紫外線レー
ザ光Ｌ３の入射角を変化させるためのガイド４０および
ガイド台４１と、ガイド４０を制御するためのガイド制
御ユニット４２と、ＸＹテーブルドライバ３６、モータ
制御ユニット３９、ガイド制御ユニット４２およびレー
ザ装置３１を制御するためのメインコントローラ４３
と、から構成される。以下各構成要素について説明す
る。

【００１１】レーザ装置３１は、ＫｒＦエキシマレーザ
装置である。出射されるレーザ光の発振繰り返し数は２
００Ｈｚである。全反射ミラー３３および集光レンズ３
４は、レーザ装置３１から出射された紫外線レーザ光Ｌ
３の光軸の位置および集光点を調整する。図４（ａ）に
示されるように、紫外線レーザ光Ｌ３の集光点は、後述
するガイド４０の回転中心軸Ｃ１から真上に１ｍｍ程度
の距離となるように調整されている。また、紫外線レー
ザ光Ｌ３の光軸は、ほぼ鉛直方向となるように調整され
ている。後述するように、洗浄対象物Ｘの表面上に回転
中心軸Ｃ１がくるように、洗浄対象物Ｘは載置される。
そのため、洗浄対象物Ｘの表面には図４（ｂ）に示され
るように、やや広がった紫外線レーザ光Ｌ３が照射され
る。また、この紫外線レーザ光Ｌ３のエネルギ強度は洗
浄対象物Ｘ表面において、１５０ｍＪ／ｃｍ２以下とな
るように、ビームホモジナイザ３２により予め調整され
ている。ＸＹＺテーブル３５は、洗浄対象物Ｘを支持す
るとともに、洗浄対象物Ｘを移動させて、紫外線レーザ
光Ｌ３が照射される位置を調整する機能を有する。ま
た、ＸＹＺテーブル３５のＺ方向、すなわち洗浄対象物
Ｘの法線方向の調整により、洗浄対象物Ｘの表面上には
回転中心軸Ｃ１がくるように予め設定されている。この
ＸＹＺテーブル３５は、テーブル３７上に固定されてい
る。

【００１２】モータ３８は、ＸＹＺテーブル３５を回転
させる機能を有する。回転数は、６０ｒｐｍで３６０度
ごとに回転方向を反転させる。このモータ３８の回転軸
Ｃ２上に紫外線レーザ光Ｌ３が照射される位置が存在す
るため、洗浄対象物Ｘは紫外線レーザ光Ｌ３が照射され
る位置を中心に回転することになる。ガイド４０は、回
転中心軸Ｃ１を軸として、図３に示す矢印５０の方向
に、０度から９０度まで０．５Ｈｚの周期で往復回転移
動する。このガイド４０の往復移動により、洗浄対象物
Ｘは回転中心軸Ｃ１を軸として回転する。この洗浄対象
物Ｘの回転により、紫外線レーザ光Ｌ３の洗浄対象物Ｘ
に対する入射角は、９０度近くから０度まで０．５Ｈｚ
で周期的に変化することになる。以上のＸＹＺテーブル
３５、モータ３８、ガイド４０、モータ３８は、それぞ
れテーブルドライバ３６、モータ制御ユニット３９、ガ
イド制御ユニット４２により動作制御される。そして、
テーブルドライバ３６、モータ制御ユニット３９、ガイ
ド制御ユニット４２およびレーザ装置３１は、メインコ
ントローラ４３からの指令に基づいて動作する。以上の
構成のもと、洗浄の作用について説明する。まず洗浄対
象物ＸがＸＹＺテーブル３５にセットされる。この洗浄
対象物Ｘは、合成石英ガラス上にクロム膜のパターンが
形成されているレチクルである。

【００１３】続いて図示しないＣＣＤカメラによりレチ
クル表面が撮像される。撮像された画像データと、パタ
ーンの形成に用いられた理想的な設計データとが比較さ
れ、ゴミの位置が検出される。そして、ＸＹＺテーブル
３５が駆動し、ゴミの位置に紫外線レーザ光Ｌ３が照射
されるように洗浄対象物Ｘが移動する。以上の初期設定
のもとレーザ洗浄が行われる。レーザ装置３１から出射
された紫外線レーザ光Ｌ３は、洗浄対象物Ｘ表面のゴミ
Ｄに照射される。この照射と同時に、モータ３８により
洗浄対象物Ｘは回転中心軸Ｃ２を中心として回転する。
図５（ａ）に示されるように、ゴミＤは回転中心軸Ｃ２
上に位置するため、ゴミＤは並進移動せず、ゴミＤに対
して紫外線レーザ光Ｌ３は常に照射される。また、この
ゴミＤが回転する一方、紫外線レーザ光Ｌ３の光軸は移
動しないため、ゴミのすべての方向から紫外線レーザ光
Ｌ３が照射されることになる。また、モータ３８による
回転とともに、ガイド４０も回転中心軸Ｃ１を軸として
回転する。図５（ｂ）に示されるようにこのガイド４０
の回転に伴って、洗浄対象物Ｘも回転中心軸Ｃ１を軸と
して回転する。したがって、紫外線レーザ光Ｌ３の洗浄
対象物Ｘに対する入射角は連続的に、０度から９０度近
くまで変化する。結局、ゴミＤのあらゆる方向からあら
ゆる入射角で紫外線レーザ光Ｌ３が照射されることにな
る。

【００１４】一般にレーザ洗浄の場合、ゴミと洗浄対象
物Ｘとが密接していない部分に紫外線レーザ光を照射し
た方が、洗浄効果が大きい。図６（ａ）に示されるよう
に、紙面左側においてゴミＤ１が洗浄対象物Ｘと密接し
ており、紙面右側においてはゴミＤ１が洗浄対象物Ｘと
密接していない場合、以下のようにしてゴミＤ１が剥離
除去される。図６（ａ）のように紫外線レーザ光Ｌ３が
ゴミＤ１の左側に照射されているときは、紫外線レーザ
光Ｌ３の吸収によるゴミＤ１の振動は洗浄対象物Ｘに吸
収されるため、ゴミＤ１は洗浄対象物Ｘと剥離しない。
しかし、図６（ｂ）に示されるように、ゴミＤ１の右側
に紫外線レーザ光Ｌ３が照射されると、ゴミＤ１の右側
の部分は洗浄対象物Ｘと密接していないため、ゴミＤ１
は振動する。そしてこの振動は、ゴミＤ１と洗浄対象物
Ｘとがもっとも近づいている地点を支点とする、てこの
原理の要領でゴミＤ１の左側に伝播する。こうした振動
によってゴミＤ１は洗浄対象物Ｘから剥離する。また、
図７に示されるようにゴミＤ２の中心部分が洗浄対象物
Ｘと離れ、周辺部において密接している場合、紫外線レ
ーザ光Ｌ３の入射角が４５度程度のときにゴミＤ２は振
動しないが、入射角が０度程度のときは、ゴミＤ２は剥
離除去される。

【００１５】以上のようなレーザ洗浄がＣＣＤカメラに
より認識された全てのゴミについて行われ、洗浄が終了
する。ゴミは洗浄対象物Ｘに対して規則性を有さずに洗
浄対象物Ｘに付着する。従ってゴミを基板から剥離除去
させようとしたときに、剥離除去に最適なレーザ光の入
射角や方向も規則性を有しない。本発明においては、モ
ータ３８およびガイド４０を用いて、洗浄対象物Ｘを回
転させることにより、一つのゴミに対して紫外線レーザ
光を全ての方向およびすべての入射角から照射させる。
従って、従来の方法では除去しえなかったゴミを除去す
ることが可能となる。なお、洗浄対象物Ｘが入っている
容器４４内に酸素を供給させ、オゾン洗浄の効果も同時
に得ることも可能である。その他、本実施の形態は同様
の趣旨において種々変形可能である。 （第３の実施の形態）第３の実施の形態に係る洗浄装置
は、第１の実施の形態に示された洗浄装置と、第２の実
施の形態に係る洗浄装置を組み合わせた洗浄装置であ
る。すなわち、第２の実施の形態に係る洗浄装置３０
に、オゾン洗浄のための紫外線レーザ光照射手段および
酸素供給手段を付加したものである。具体的には、容器
内に酸素を供給させるための酸素供給装置を付加する。
また、この容器に石英ガラス製の窓を設け、その窓から
オゾン生成のための紫外線レーザ光を照射させる。な
お、この紫外線レーザ光の光軸は、ガイドによる洗浄対
象物Ｘの回転軸Ｃ１と略平行な方向、すなわち図３にお
ける紙面垂直方向に位置決めする。このように位置決め
することで、洗浄対象物Ｘが回転しても、オゾン生成の
ための紫外線レーザ光が洗浄対象物Ｘに照射されること
が防がれる。また、オゾン生成のための紫外線レーザ光
の集光点は、レーザ洗浄のための紫外線レーザ光の集光
点とほぼ一致するように調整されている。

【００１６】以上のような構成における洗浄の場合、オ
ゾン生成するための紫外線レーザ光を、レーザ洗浄のた
めの紫外線レーザ光とは別個独立に設け、その紫外線レ
ーザ光を洗浄対象物に照射させずに雰囲気に照射するこ
とが可能になる。したがって洗浄対象物を損傷しないよ
うにレーザ光の出力を制限する必要がないためオゾン洗
浄の効果を高めることができる。また、洗浄対象物Ｘを
回転させることにより、一つのゴミに対して紫外線レー
ザ光を全ての方向およびすべての入射角から照射させ
る。したがってレーザ洗浄の効果が高まる。さらに、洗
浄対象物Ｘの回転により、生成されたオゾンはゴミに対
して四方から吹き付けられることになる。オゾンは容器
内のガスフローの方向に沿って流れる。したがって従来
の方法では、オゾン洗浄の効果はムラがあった。しかし
ながら、洗浄対象物Ｘの回転によって、オゾン洗浄をム
ラなく行わせることが可能になる。なお、本実施の形態
は上記されたように種々変形可能である。 （第４の実施の形態）第４の実施の形態はレチクルの製
造方法に関するものである。レチクルの製造工程は、透
明基板上に遮光膜を成膜する成膜工程と、前記成膜工程
により成膜された遮光膜の所定部分をエッチングするエ
ッチング工程と、前記エッチング工程により形成された
洗浄対象物Ｘの洗浄を行う洗浄工程とからなる。

【００１７】まず、成膜工程を行う。図８（ａ）に示さ
れるように充分に良く研磨、洗浄された合成石英ガラス
の基板８１上に、スパッタ成膜法を用いて、遮光膜とな
るクロム膜８２を約１００ｎｍの厚みに形成する。次に
エッチング工程を行う。図８（ｂ）に示されるように、
クロム膜８２の上に電子線レジスト８３を約５０ｎｍの
厚みでスピナーを用いて塗布する。その電子線描画装置
を用いて所望のパターンに露光した後、現像を行う。続
いて塩素系ガスを用いて、クロム膜８２に対しプラズマ
エッチングを行い、図８（ｃ）に示されるようにパター
ンを形成する。その後図８（ｄ）に示されるようにアッ
シングを行って電子線レジストを除去する。そして、製
作されたレチクルの洗浄を行う。第１の実施の形態と同
様に洗浄を行う。すなわち、第１の実施の形態に示され
た洗浄方法を用いて、レチクルの洗浄を行い、レチクル
表面に付着したゴミを除去する。以上のようにしてレチ
クルの製造を行った。その結果、レチクルに付着した微
小なゴミを除去することが可能となった。従って歩留ま
りの向上したレチクルの製造を行うことが可能となっ
た。なお、第２の実施の形態で示された洗浄方法または
第３の実施の形態で示された洗浄方法を用いて、洗浄対
象物Ｘの洗浄を行っても良い。

【００１８】なお、本発明に係るレチクルの製造方法
は、本実施の形態に限られるものではなく、同様の趣旨
において種々変形可能である。

【００１９】

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、オ
ゾン洗浄を行うためのレーザ光とレーザ洗浄を行うため
のレーザ光を独立に照射させるため、従来よりも効果の
大きい洗浄が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置の構
成図。

【図２】本発明の第１の実施の形態において、紫外線レ
ーザ光が洗浄対象物Ｘに照射された模式図。

【図３】本発明の第２の実施の形態に係る洗浄装置の構
成図。

【図４】本発明の第２の実施の形態において、洗浄対象
物Ｘの回転中心軸と紫外線レーザ光の集光点の位置関係
を示した模式図。

【図５】本発明の第２の実施の形態において、洗浄対象
物Ｘ上のゴミを中心にして洗浄対象物Ｘが回転する様子
を示した模式図。

【図６】本発明の第２の実施の形態において、洗浄対象
物Ｘ上のゴミに紫外線レーザ光が照射された模式図。

【図７】本発明の第２の実施の形態において、洗浄対象
物Ｘ上のゴミに紫外線レーザ光が照射された模式図。

【図８】本発明の第４の実施の形態において、レチクル
の製造工程を示している模式図。

【符号の説明】

１１・・・酸素供給装置、１２・・・容器、１３ａ・・
・ＡｒＦレーザ光、１３ｂ・・・ＡｒＦレーザ光、３１
・・・レーザ装置３１、３８・・・モータ３８、４０・
・・ガイド、４１・・・ガイド台。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄対象物を収納するための容器と、 前記洗浄対象物の周囲の気体に波長２００ｎｍ以下の第
   １のレーザ光を照射するための第１のレーザ光照射手段
   と、 前記第１のレーザ光とは独立に位置決め可能に、波長４
   ００ｎｍ以下の第２のレーザ光を前記洗浄対象物表面に
   照射するための第２のレーザ光照射手段と、 を備えていることを特徴とする洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記第１のレーザ光照射手段は、ＡｒＦ
   エキシマレーザ装置またはＦ２エキシマレーザ装置であ
   ることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記第１のレーザ光と前記第２のレーザ
   光との集光点がほぼ一致するように構成されていること
   を特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記洗浄対象物はレチクルであることと
   し、前記レーザ光照射手段は、前記レチクル表面にほぼ
   平行に前記第１のレーザ光を照射するように構成されて
   いることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
5. 【請求項５】 洗浄対象物の表面に波長４００ｎｍ以下
   のレーザ光を照射するためのレーザ光照射手段と、前記
   レーザ光が照射される位置を中心として前記洗浄対象物
   を回転させる回転手段と、前記洗浄対象物表面に照射さ
   れる前記レーザ光の入射角を変化させる入射角変化手段
   と、を備えていることを特徴とする洗浄装置。
6. 【請求項６】 前記第２のレーザ光により照射される位
   置を中心として、前記洗浄対象物を回転させる回転手段
   を付加したことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
7. 【請求項７】 前記洗浄対象物表面に照射される前記第
   ２のレーザ光の入射角を変化させる入射角変化手段を付
   加したことを特徴とする請求項５記載の洗浄装置。
8. 【請求項８】 波長２００ｎｍ以下の第１のレーザ光を
   洗浄対象物の周囲の気体に照射する第１のレーザ光照射
   工程と、前記第１のレーザ光とは独立に位置決め可能な
   波長４００ｎｍ以下の第２のレーザ光を前記洗浄対象物
   に照射する第２のレーザ光照射工程と、を同時に行うこ
   とを特徴とする洗浄方法。
9. 【請求項９】 前記第１のレーザ光の集光点と前記第２
   のレーザ光の集光点をほぼ一致するようにして洗浄する
   ことを特徴とする請求項８記載の洗浄方法。
10. 【請求項１０】 前記洗浄対象物はレチクルであること
    とし、前記第１のレーザ光は、前記レチクルの表面にほ
    ぼ平行に前記洗浄対象物の周囲の気体を照射することを
    特徴とする請求項８記載の洗浄方法。
11. 【請求項１１】 洗浄対象物の表面に波長４００ｎｍ以
    下のレーザ光を照射する照射工程と、前記レーザ光を照
    射しながら、前記照射される位置を中心として前記洗浄
    対象物を回転させる回転工程と、前記レーザ光を照射し
    ながら、前記洗浄対象物表面に照射される前記レーザ光
    の前記洗浄対象物表面に対する入射角を変化させる入射
    角変化工程と、を備えていることを特徴とする洗浄方
    法。
12. 【請求項１２】 前記第１および第２のレーザ光を照射
    しながら、前記第２のレーザ光により照射される位置を
    中心として、前記洗浄対象物を回転させる回転工程を付
    加したことを特徴とする請求項８記載の洗浄方法。
13. 【請求項１３】 前記第２のレーザ光を照射しながら、
    前記洗浄対象物表面に照射される前記第２のレーザ光の
    前記洗浄対象物表面に対する入射角を変化させる入射角
    変化工程を付加したことを特徴とする請求項１１記載の
    洗浄方法。
14. 【請求項１４】 透明基板上に遮光膜を成膜する成膜工
    程と、 前記成膜工程により成膜された遮光膜の所定部分をエッ
    チングしてパターンを形成し、レチクルを製作するエッ
    チング工程と、 前記エッチング工程により製作されたレチクルの洗浄を
    行う洗浄工程と、を備えるレチクルの製造方法におい
    て、 前記洗浄工程は、請求項８記載または請求項１１記載の
    洗浄方法を用いて前記レチクルを洗浄することを特徴と
    するレチクルの製造方法。