JP2001272504A - 反射防止膜形成用組成物 - Google Patents
反射防止膜形成用組成物Info
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- JP2001272504A JP2001272504A JP2000084628A JP2000084628A JP2001272504A JP 2001272504 A JP2001272504 A JP 2001272504A JP 2000084628 A JP2000084628 A JP 2000084628A JP 2000084628 A JP2000084628 A JP 2000084628A JP 2001272504 A JP2001272504 A JP 2001272504A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】物品上に硬度の高い反射防止膜を形成するため
の反射防止膜用組成物とそれを用いて反射防止膜を形成
した物品を提供する。 【解決手段】化学式（１） で表される繰り返し単位を含有する含フッ素重合体を造
膜成分とする反射防止膜形成用組成物。
の反射防止膜用組成物とそれを用いて反射防止膜を形成
した物品を提供する。 【解決手段】化学式（１） で表される繰り返し単位を含有する含フッ素重合体を造
膜成分とする反射防止膜形成用組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスまたは透明
な基材の表面に塗布し、被膜を形成することにより当該
基材の表面での光線反射を減少させる効果を有する組成
物に関する。
な基材の表面に塗布し、被膜を形成することにより当該
基材の表面での光線反射を減少させる効果を有する組成
物に関する。
【０００２】
【従来技術】基材表面での光線反射を低下させる方法と
して、ＭｇＦ2膜あるいはＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜とから
なる多層膜を基材表面に形成する方法が知られている
が、膜形成方法での制約により大きな物品への適用に制
限があり、さらにＭｇＦ2膜等では焼き付け工程が必要
であるためプラスチック物品では実用性のある膜を形成
できなかった。
して、ＭｇＦ2膜あるいはＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜とから
なる多層膜を基材表面に形成する方法が知られている
が、膜形成方法での制約により大きな物品への適用に制
限があり、さらにＭｇＦ2膜等では焼き付け工程が必要
であるためプラスチック物品では実用性のある膜を形成
できなかった。
【０００３】また別の方法としてポリテトラフルオロエ
チレンあるいはテトラフルオロエチレンの共重合体等の
含フッ素重合体からなる膜を基材表面に形成することに
より光線反射を低下させる方法が考えられているが、こ
れらの含フッ素重合体は透明性が低く溶剤溶解性に問題
があった。
チレンあるいはテトラフルオロエチレンの共重合体等の
含フッ素重合体からなる膜を基材表面に形成することに
より光線反射を低下させる方法が考えられているが、こ
れらの含フッ素重合体は透明性が低く溶剤溶解性に問題
があった。
【０００４】さらに最近、「テフロンＡＦ」（商品名：
アメリカ、デュポン社製）、「サイトップ」（商品名：
旭硝子（株）製）等のアモロファス樹脂を使用する方法
が考えられているが、これらの樹脂は透明性は高いもの
の溶解する溶剤に制約がある上に、耐摩耗性の要求され
る用途では使用できない場合があった。
アメリカ、デュポン社製）、「サイトップ」（商品名：
旭硝子（株）製）等のアモロファス樹脂を使用する方法
が考えられているが、これらの樹脂は透明性は高いもの
の溶解する溶剤に制約がある上に、耐摩耗性の要求され
る用途では使用できない場合があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、硬度
が高い反射防止膜を形成するための反射防止膜用組成物
とそれを用いて反射防止膜を形成した物品を提供するこ
とにある。
が高い反射防止膜を形成するための反射防止膜用組成物
とそれを用いて反射防止膜を形成した物品を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば下記化学
式（１）で表される繰り返し単位を含有する含フッ素重
合体（Ａ）を造膜成分とする反射防止膜形成用組成物が
提供される。
式（１）で表される繰り返し単位を含有する含フッ素重
合体（Ａ）を造膜成分とする反射防止膜形成用組成物が
提供される。
【０００７】
【化２】
【０００８】以下本発明を詳細に説明する。
【０００９】本発明の反射防止膜形成用組成物は前記化
学式（１）で表される環状構造を有する含フッ素重合体
を造膜成分として含有し、均一な溶液を形成できる溶剤
を含むことができ、さらに含フッ素重合体（Ａ）を硬化
させ強固な膜を形成するのに十分な量の硬化剤を含むこ
とができる。
学式（１）で表される環状構造を有する含フッ素重合体
を造膜成分として含有し、均一な溶液を形成できる溶剤
を含むことができ、さらに含フッ素重合体（Ａ）を硬化
させ強固な膜を形成するのに十分な量の硬化剤を含むこ
とができる。
【００１０】化学式（１）で表される繰り返し単位を本
発明にかかる含フッ素重合体に導入する方法としてはオ
クタフルオロシクロペンテンの単独重合あるいはその共
重合による方法が挙げられ、含フッ素重合体は、オクタ
フルオロシクロペンテンとその他の重合性単量体からな
る単量体混合物を共重合させることで得られる。
発明にかかる含フッ素重合体に導入する方法としてはオ
クタフルオロシクロペンテンの単独重合あるいはその共
重合による方法が挙げられ、含フッ素重合体は、オクタ
フルオロシクロペンテンとその他の重合性単量体からな
る単量体混合物を共重合させることで得られる。
【００１１】本発明にかかる含フッ素重合体に含まれる
化学式（１）で表される繰り返し単位は１モル％以上で
あり、５モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以
上であるのがより好ましい。
化学式（１）で表される繰り返し単位は１モル％以上で
あり、５モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以
上であるのがより好ましい。
【００１２】本発明にかかる含フッ素重合体は、７６．
１重量％未満のフッ素含有量であって、フッ素を５重量
％以上含んでおり、１０重量％以上含むのが好ましく、
１５重量％以上含むのがより好ましい。フッ素含有量が
５重量％未満では屈折率が大きく、それから調製される
反射防止膜形成用組成物では充分な反射防止膜を形成す
ることができない。
１重量％未満のフッ素含有量であって、フッ素を５重量
％以上含んでおり、１０重量％以上含むのが好ましく、
１５重量％以上含むのがより好ましい。フッ素含有量が
５重量％未満では屈折率が大きく、それから調製される
反射防止膜形成用組成物では充分な反射防止膜を形成す
ることができない。
【００１３】重合反応において、オクタフルオロシクロ
ペンテンとその他の単量体の組成比は任意であるが、全
単量体混合物を１００モル％としてオクタフルオロシク
ロペンテン１〜１００モル％であり、５〜１００モル％
が好ましく、１０〜１００モル％がより好ましい。
ペンテンとその他の単量体の組成比は任意であるが、全
単量体混合物を１００モル％としてオクタフルオロシク
ロペンテン１〜１００モル％であり、５〜１００モル％
が好ましく、１０〜１００モル％がより好ましい。
【００１４】本発明に用いる含フッ素（共）重合体の分
子量はとくに制限されず、分子量（ＧＰＣ（ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー）で測定したポリスチレ
ン換算の数平均分子量（Ｍｎ）。以下、同じ。）は１，
０００〜１，０００，０００程度のものが好適に使用で
きる。
子量はとくに制限されず、分子量（ＧＰＣ（ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー）で測定したポリスチレ
ン換算の数平均分子量（Ｍｎ）。以下、同じ。）は１，
０００〜１，０００，０００程度のものが好適に使用で
きる。
【００１５】本発明に用いられる含フッ素重合体を合成
する際の共重合成分としての重合性単量体は、重合性二
重結合を有する化合物であり特に限定されないが、オレ
フィン類、ビニルエーテル類、アリルエーテル類、カル
ボン酸ビニル類またはカルボン酸アリル類などが好適で
ある。本明細書においては単に「ビニル」（ＣＨ2＝Ｃ
Ｈ−）をいう場合「アリル」（ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−）を
包含することがある。
する際の共重合成分としての重合性単量体は、重合性二
重結合を有する化合物であり特に限定されないが、オレ
フィン類、ビニルエーテル類、アリルエーテル類、カル
ボン酸ビニル類またはカルボン酸アリル類などが好適で
ある。本明細書においては単に「ビニル」（ＣＨ2＝Ｃ
Ｈ−）をいう場合「アリル」（ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−）を
包含することがある。
【００１６】オレフィン類としては一般式ＣＸ2＝ＣＸ
Ｒ1（式中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、置換基を有することもあるＣ1〜Ｃ30のアル
キル基、シクロアルキル基、フルオロアルキル基、シク
ロフルオロアルキル基であって、置換基は低級アルキル
基、シクロアルキル基、低級フルオロアルキル基を表
す。）で表される末端に二重結合を有するオレフィンが
好ましい。この様なオレフィン類を共重合単量体とした
場合一般式−ＣＸ2−ＣＸＲ1−（式中の記号は前記と同
じ意味を表す）で表されるオレフィンに由来する二価の
有機基が含フッ素共重合体に導入される。
Ｒ1（式中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、置換基を有することもあるＣ1〜Ｃ30のアル
キル基、シクロアルキル基、フルオロアルキル基、シク
ロフルオロアルキル基であって、置換基は低級アルキル
基、シクロアルキル基、低級フルオロアルキル基を表
す。）で表される末端に二重結合を有するオレフィンが
好ましい。この様なオレフィン類を共重合単量体とした
場合一般式−ＣＸ2−ＣＸＲ1−（式中の記号は前記と同
じ意味を表す）で表されるオレフィンに由来する二価の
有機基が含フッ素共重合体に導入される。
【００１７】フルオロオレフィンは、重合性二重結合に
直接フッ素原子またはパーフルオロアルキル基が結合し
た単量体をいい、例えば、テトラフルオロエチレン、ト
リフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニ
ル、ヘキサフルオロプロペン、１，１，３，３，３−ペ
ンタフルオロプロペン、２，３，３，３−テトラフルオ
ロプロペン、１，１，２−トリフルオロプロペン、３，
３，３−トリフルオロプロペン、ヘキサフルオロイソブ
テン、クロロトリフルオロエチレン、１−クロロ−１，
２−ジフルオロエチレン、１，１−ジクロロ−２，２−
ジフルオロエチレンなどが挙げられる。
直接フッ素原子またはパーフルオロアルキル基が結合し
た単量体をいい、例えば、テトラフルオロエチレン、ト
リフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニ
ル、ヘキサフルオロプロペン、１，１，３，３，３−ペ
ンタフルオロプロペン、２，３，３，３−テトラフルオ
ロプロペン、１，１，２−トリフルオロプロペン、３，
３，３−トリフルオロプロペン、ヘキサフルオロイソブ
テン、クロロトリフルオロエチレン、１−クロロ−１，
２−ジフルオロエチレン、１，１−ジクロロ−２，２−
ジフルオロエチレンなどが挙げられる。
【００１８】その他のオレフィンとしては、エチレン、
プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン
などのα−オレフィンが好適に使用される。また、アリ
ルエーテル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル
などの様なオレフィンであってもよい。
プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン
などのα−オレフィンが好適に使用される。また、アリ
ルエーテル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル
などの様なオレフィンであってもよい。
【００１９】ビニルエーテル類は、一般式ＣＨ2＝ＣＨ
（ＯＲ2）（式中、Ｒ2は水素原子、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、置換基を有することもあるＣ1〜Ｃ30の
アルキル基、シクロアルキル基、フルオロアルキル基、
シクロフルオロアルキル基であって、置換基は低級アル
キル基、シクロアルキル基、低級フルオロアルキル基、
ヒドロキシ基、加水分解可能な基を有する有機珪素基、
エポキシ基またはβケトエステル基を表す。）で表され
る化合物であり、この様なビニルエーテル類を共重合単
量体とした場合一般式−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＲ2）−（式中
の記号は前記と同じ意味を表す）で表されるビニルエー
テルに由来する二価の有機基が含フッ素共重合体に導入
される。
（ＯＲ2）（式中、Ｒ2は水素原子、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、置換基を有することもあるＣ1〜Ｃ30の
アルキル基、シクロアルキル基、フルオロアルキル基、
シクロフルオロアルキル基であって、置換基は低級アル
キル基、シクロアルキル基、低級フルオロアルキル基、
ヒドロキシ基、加水分解可能な基を有する有機珪素基、
エポキシ基またはβケトエステル基を表す。）で表され
る化合物であり、この様なビニルエーテル類を共重合単
量体とした場合一般式−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＲ2）−（式中
の記号は前記と同じ意味を表す）で表されるビニルエー
テルに由来する二価の有機基が含フッ素共重合体に導入
される。
【００２０】本発明に使用するビニルエーテル類のうち
官能基を有しないビニルエーテル類としては、例えばメ
チルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、β−クロ
ロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イ
ソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、ｓｅｃ−ブチルビニルエーテ
ル、ｔ−ブチルビニルエーテル、イソアミルシクロヘキ
シルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、フェニ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、２−エチ
ルヘキシルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、シ
クロヘキシルビニルエーテル、メチルシクロヘキシルビ
ニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル、トルイルビニ
ルエーテル等を挙げることができる。また、１，１，１
−トリフルオロエチルビニルエーテル、２，２−ジフル
オロエチルビニルエーテル、テトラフルオロエチルビニ
ルエーテル、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル
ビニルエーテル、２，２，３，３，４，４，５，５−オ
クタフルオロペンチルビニルエーテル、２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９
−ヘキサデカフルオロノニルビニルエーテルなどのフル
オロアルキルビニルエーテル類を挙げることができる。
官能基を有しないビニルエーテル類としては、例えばメ
チルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、β−クロ
ロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イ
ソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、ｓｅｃ−ブチルビニルエーテ
ル、ｔ−ブチルビニルエーテル、イソアミルシクロヘキ
シルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、フェニ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、２−エチ
ルヘキシルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、シ
クロヘキシルビニルエーテル、メチルシクロヘキシルビ
ニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル、トルイルビニ
ルエーテル等を挙げることができる。また、１，１，１
−トリフルオロエチルビニルエーテル、２，２−ジフル
オロエチルビニルエーテル、テトラフルオロエチルビニ
ルエーテル、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル
ビニルエーテル、２，２，３，３，４，４，５，５−オ
クタフルオロペンチルビニルエーテル、２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９
−ヘキサデカフルオロノニルビニルエーテルなどのフル
オロアルキルビニルエーテル類を挙げることができる。
【００２１】アリルエーテル類もビニルエーテル類と同
様に使用でき、一般式ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−（ＯＲ2）
（式中の記号は前記と同じ意味を表す）で表される化合
物であり、この様なアリルエーテル類を共重合単量体と
した場合一般式−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ2−ＯＲ2）−（式
中の記号は前記と同じ意味を表す）で表されるアリルエ
ーテルに由来する二価の有機基が含フッ素共重合体に導
入される。
様に使用でき、一般式ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−（ＯＲ2）
（式中の記号は前記と同じ意味を表す）で表される化合
物であり、この様なアリルエーテル類を共重合単量体と
した場合一般式−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ2−ＯＲ2）−（式
中の記号は前記と同じ意味を表す）で表されるアリルエ
ーテルに由来する二価の有機基が含フッ素共重合体に導
入される。
【００２２】アリルエーテル類のうち官能基を有しない
アリルエーテルとしては、例えばメチルアリルエーテ
ル、エチルアリルエーテル、プロピルアリルエーテル、
ブチルアリルエーテル、ベンジルアリルエーテル、シク
ロヘキシルアリルエーテルなどが挙げられる。
アリルエーテルとしては、例えばメチルアリルエーテ
ル、エチルアリルエーテル、プロピルアリルエーテル、
ブチルアリルエーテル、ベンジルアリルエーテル、シク
ロヘキシルアリルエーテルなどが挙げられる。
【００２３】ビニルエーテル類と同様に重合性のあるエ
ーテル類として、一般式ＣＦ2＝ＣＦ（ＯＲｆ）（式
中、Ｒｆはパーフルオロアルキル基を表す。）で表され
るパーフルオロアルキルビニルエーテルも使用でき、例
えば、パーフルオロメチルビニルエーテル、パーフルオ
ロエチルビニルエーテル、パーフルオロプロピルビニル
エーテル、パーフルオロブチルビニルエーテル、パーフ
ルオロペンチルビニルエーテル、パーフルオロヘキシル
ビニルエーテル、パーフルオロオクチルビニルエーテ
ル、パーフルオロドデシルビニルエーテルなどを挙げる
ことができる。この場合、−ＣＦ2−ＣＦ（ＯＲｆ）−
で表される二価の基が共重合体に導入される。
ーテル類として、一般式ＣＦ2＝ＣＦ（ＯＲｆ）（式
中、Ｒｆはパーフルオロアルキル基を表す。）で表され
るパーフルオロアルキルビニルエーテルも使用でき、例
えば、パーフルオロメチルビニルエーテル、パーフルオ
ロエチルビニルエーテル、パーフルオロプロピルビニル
エーテル、パーフルオロブチルビニルエーテル、パーフ
ルオロペンチルビニルエーテル、パーフルオロヘキシル
ビニルエーテル、パーフルオロオクチルビニルエーテ
ル、パーフルオロドデシルビニルエーテルなどを挙げる
ことができる。この場合、−ＣＦ2−ＣＦ（ＯＲｆ）−
で表される二価の基が共重合体に導入される。
【００２４】また、ヒドロキシ基を有するビニルエーテ
ル類としては、ヒドロキシメチルビニルエーテル、２−
ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロ
ピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエー
テル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒ
ドロキシヘキシルビニルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビ
ニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールビ
ニルエーテルなどが挙げられる。
ル類としては、ヒドロキシメチルビニルエーテル、２−
ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロ
ピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエー
テル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒ
ドロキシヘキシルビニルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビ
ニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールビ
ニルエーテルなどが挙げられる。
【００２５】ヒドロキシ基を有するアリルエーテル類と
しては、例えばエチレングリコールモノアリルエーテ
ル、プロピレングリコールモノアリルエーテル、ジエチ
レングリコールモノアリルエーテル、ポリエチレングリ
コールモノアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエ
ーテルなどのアルキレングリコールモノアリルエーテル
類、またはアリルアルコール、グリセリンモノアリルエ
ーテルなどの多価アルコールのアリルエーテル類が挙げ
られる。
しては、例えばエチレングリコールモノアリルエーテ
ル、プロピレングリコールモノアリルエーテル、ジエチ
レングリコールモノアリルエーテル、ポリエチレングリ
コールモノアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエ
ーテルなどのアルキレングリコールモノアリルエーテル
類、またはアリルアルコール、グリセリンモノアリルエ
ーテルなどの多価アルコールのアリルエーテル類が挙げ
られる。
【００２６】エポキシ基を有するビニルエーテル類とし
ては、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。
ては、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。
【００２７】さらに、β−ケトエステル基を含有するビ
ニルエーテルまたはアリルエーテルとしては、アセト酢
酸アリルなどが好ましく使用される。また、トリメトキ
シシリルビニルエーテルなどの加水分解性基を有する有
機珪素基を含むビニルエーテルも使用できる。
ニルエーテルまたはアリルエーテルとしては、アセト酢
酸アリルなどが好ましく使用される。また、トリメトキ
シシリルビニルエーテルなどの加水分解性基を有する有
機珪素基を含むビニルエーテルも使用できる。
【００２８】カルボン酸ビニルエステル類は、一般式Ｃ
Ｈ2＝ＣＨＯＣＯＲ3（式中、Ｒ3は水素原子、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、置換基を有することもあるＣ
1〜Ｃ30のアルキル基、シクロアルキル基、フルオロア
ルキル基、シクロフルオロアルキル基であって、置換基
は低級アルキル基、シクロアルキル基、低級フルオロア
ルキル基、ヒドロキシ基、加水分解可能な基を有する有
機珪素基、エポキシ基またはβケトエステル基を表
す。）で表される化合物であり、この様なカルボン酸ビ
ニルエステル類を共重合単量体とした場合一般式−ＣＨ
2−ＣＨ（ＯＣＯＲ3）−（式中の記号は前記と同じ意味
を表す）で表されるカルボン酸ビニルエステルに由来す
る二価の有機基が含フッ素共重合体に導入される。
Ｈ2＝ＣＨＯＣＯＲ3（式中、Ｒ3は水素原子、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、置換基を有することもあるＣ
1〜Ｃ30のアルキル基、シクロアルキル基、フルオロア
ルキル基、シクロフルオロアルキル基であって、置換基
は低級アルキル基、シクロアルキル基、低級フルオロア
ルキル基、ヒドロキシ基、加水分解可能な基を有する有
機珪素基、エポキシ基またはβケトエステル基を表
す。）で表される化合物であり、この様なカルボン酸ビ
ニルエステル類を共重合単量体とした場合一般式−ＣＨ
2−ＣＨ（ＯＣＯＲ3）−（式中の記号は前記と同じ意味
を表す）で表されるカルボン酸ビニルエステルに由来す
る二価の有機基が含フッ素共重合体に導入される。
【００２９】官能基を有しないビニルエステル類として
は、例えばギ酸ビニル、酢酸ビニル、トリフルオロ酢酸
ビニル、クロロ酢酸ビニル、ジクロロ酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、クロト
ン酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、カプロン酸ビニ
ル、イソカプロン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、、カプ
リル酸ビニル、ペラルゴン酸ビニル、カプリン酸ビニ
ル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチ
ン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、オレイン酸ビニル、
バーサチック９酸ビニル（ベオバ９(シェル化学(株)
製)、バーサチック１０酸ビニル（ベオバ１０(シェル化
学(株)製)、シクロヘキサン酸ビニル、安息香酸ビニ
ル、p-トルイル酸ビニル、p-tert-ブチル安息香酸ビニ
ル等が挙げられる。
は、例えばギ酸ビニル、酢酸ビニル、トリフルオロ酢酸
ビニル、クロロ酢酸ビニル、ジクロロ酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、クロト
ン酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、カプロン酸ビニ
ル、イソカプロン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、、カプ
リル酸ビニル、ペラルゴン酸ビニル、カプリン酸ビニ
ル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチ
ン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、オレイン酸ビニル、
バーサチック９酸ビニル（ベオバ９(シェル化学(株)
製)、バーサチック１０酸ビニル（ベオバ１０(シェル化
学(株)製)、シクロヘキサン酸ビニル、安息香酸ビニ
ル、p-トルイル酸ビニル、p-tert-ブチル安息香酸ビニ
ル等が挙げられる。
【００３０】また、官能基を有するビニルエステルとし
ては、クロトン酸ヒドロキシエチル、クロトン酸ヒドロ
キシブチルなどのカルボン酸エステル、コハク酸モノビ
ニル、アジピン酸モノビニル、セバシン酸モノビニルシ
クロヘキサンジカルボン酸モノビニルなどのジカルボン
酸モノビニルなどが挙げられる。
ては、クロトン酸ヒドロキシエチル、クロトン酸ヒドロ
キシブチルなどのカルボン酸エステル、コハク酸モノビ
ニル、アジピン酸モノビニル、セバシン酸モノビニルシ
クロヘキサンジカルボン酸モノビニルなどのジカルボン
酸モノビニルなどが挙げられる。
【００３１】本発明に用いられる含フッ素重合体は、重
合媒体の存在下で所定割合の単量体組成物に重合開始剤
を加えて共重合反応を行うことにより製造する。重合形
態としては溶液重合、懸濁重合、乳化重合が可能であ
る。重合開始剤は重合形式、重合温度および媒体等に応
じて適宜選択可能である。具体的には、例えばジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパー
オキシジカーボネートなどのジカーボネート類、ｎ−ヘ
プタフルオロブチリックパーオキシド、ラウロイルパー
オキシピバレート、ｔ−ブチルオキシネオデカノエート
などのジアシルパーオキシド類、ジ−ｔブチルパオキシ
ド、ｔ−ブチルクミルパーオキシドなどのアルキルパー
オキシド類、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブ
チルパーオキシネオデカノエートなどのパーオキシエス
テル類などの通常のラジカル開始剤が使用できる。また
水溶性過酸化物、過硫酸塩、水溶性アゾ化合物なども使
用できる。かかる重合工程の温度は、用いるラジカル重
合開始剤によるが、通常０〜１３０℃である。
合媒体の存在下で所定割合の単量体組成物に重合開始剤
を加えて共重合反応を行うことにより製造する。重合形
態としては溶液重合、懸濁重合、乳化重合が可能であ
る。重合開始剤は重合形式、重合温度および媒体等に応
じて適宜選択可能である。具体的には、例えばジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパー
オキシジカーボネートなどのジカーボネート類、ｎ−ヘ
プタフルオロブチリックパーオキシド、ラウロイルパー
オキシピバレート、ｔ−ブチルオキシネオデカノエート
などのジアシルパーオキシド類、ジ−ｔブチルパオキシ
ド、ｔ−ブチルクミルパーオキシドなどのアルキルパー
オキシド類、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブ
チルパーオキシネオデカノエートなどのパーオキシエス
テル類などの通常のラジカル開始剤が使用できる。また
水溶性過酸化物、過硫酸塩、水溶性アゾ化合物なども使
用できる。かかる重合工程の温度は、用いるラジカル重
合開始剤によるが、通常０〜１３０℃である。
【００３２】重合媒体としては重合を著しく阻害するも
のでなければとくに限定はしないが例えば水、ｔ−ブタ
ノール、イソプロパノール、エタノール、メタノールな
どのアルコール系、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの
飽和炭化水素系、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素系、トリクロロトリフルオルエタンなどのフッ素
系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
エステル系、などが単一あるいは混合して使用できる。
のでなければとくに限定はしないが例えば水、ｔ−ブタ
ノール、イソプロパノール、エタノール、メタノールな
どのアルコール系、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの
飽和炭化水素系、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素系、トリクロロトリフルオルエタンなどのフッ素
系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
エステル系、などが単一あるいは混合して使用できる。
【００３３】また、本発明の反射防止膜形成用組成物に
使用する溶媒としては、本発明にかかる含フッ素重合体
を溶解する溶媒であれば限定されない。好適な有機溶媒
を例示すると、ヘキサン、、ヘプタン、オクタン等の炭
化水素化合物、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、
ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イ
ソアミル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシ
ル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピ
オン酸アミル、酪酸ブチル、炭酸ジエチル、シュウ酸ジ
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコール
ジアセテート、γ−ブチロラクトンなどのエステル化合
物、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
イソブチルケトン、ジメチルオキシド、アセチルアセト
ン、シクロヘキサノン、ヘチルシクロヘキサノン、イソ
ホロン等のケトン化合物、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテ
ル、アニソールなどのエーテル類、エチレングリコール
ジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエー
テル等のエーテル化合物、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族化合物などが挙げられる。
使用する溶媒としては、本発明にかかる含フッ素重合体
を溶解する溶媒であれば限定されない。好適な有機溶媒
を例示すると、ヘキサン、、ヘプタン、オクタン等の炭
化水素化合物、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、
ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イ
ソアミル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシ
ル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピ
オン酸アミル、酪酸ブチル、炭酸ジエチル、シュウ酸ジ
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコール
ジアセテート、γ−ブチロラクトンなどのエステル化合
物、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
イソブチルケトン、ジメチルオキシド、アセチルアセト
ン、シクロヘキサノン、ヘチルシクロヘキサノン、イソ
ホロン等のケトン化合物、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテ
ル、アニソールなどのエーテル類、エチレングリコール
ジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエー
テル等のエーテル化合物、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族化合物などが挙げられる。
【００３４】また、ペルフルオロベンゼン、ペンタフル
オロベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベ
ンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン
等の含フッ素芳香族化合物、ペルフルオロシクロヘキサ
ン、ペルフルオロシクロペンタン等の含フッ素シクロア
ルカン化合物、ペルフルオロシクロヘキセン、ペルフル
オロシクロペンテン等の含フッ素シクロアルケン化合
物、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン等の
含フッ素アルカン化合物などのフッ素系溶媒も使用でき
る。
オロベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベ
ンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン
等の含フッ素芳香族化合物、ペルフルオロシクロヘキサ
ン、ペルフルオロシクロペンタン等の含フッ素シクロア
ルカン化合物、ペルフルオロシクロヘキセン、ペルフル
オロシクロペンテン等の含フッ素シクロアルケン化合
物、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン等の
含フッ素アルカン化合物などのフッ素系溶媒も使用でき
る。
【００３５】本発明の反射防止膜形成用組成物において
は、非ハロゲン系溶剤が好ましく、上記ケトン類などは
特に好ましい。
は、非ハロゲン系溶剤が好ましく、上記ケトン類などは
特に好ましい。
【００３６】本発明の反射防止膜形成用組成物において
硬化性組成物として適用する場合の架橋構造としては特
に限定されず、例えば含フッ素共重合体がヒドロキシ
基、カルボキシル基またはエポキシ基を有する場合には
架橋剤としてメラミン硬化剤、尿素樹脂硬化剤、多塩基
酸硬化剤、イソシアネート硬化剤、エポキシ硬化剤など
を含フッ素共重合体が有する官能基量に応じて適当量使
用できる。
硬化性組成物として適用する場合の架橋構造としては特
に限定されず、例えば含フッ素共重合体がヒドロキシ
基、カルボキシル基またはエポキシ基を有する場合には
架橋剤としてメラミン硬化剤、尿素樹脂硬化剤、多塩基
酸硬化剤、イソシアネート硬化剤、エポキシ硬化剤など
を含フッ素共重合体が有する官能基量に応じて適当量使
用できる。
【００３７】具体的には、イソホロンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソ
シアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどの
イソシアネート類やそのイソシアヌレート、ブロックイ
ソシアネート、ビュレト体など、またはアルキル化メラ
ミン、メチロールメラミン、イミノメラミンなどのメラ
ミン樹脂、尿素樹脂などのアミノ化合物、ビスフェノー
ルＡなどの多価フェノールとエピクロルヒドリンとの反
応で得られる２個以上のエポキシ基を有するエポキシ硬
化剤などが適宜選択使用できる。
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソ
シアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどの
イソシアネート類やそのイソシアヌレート、ブロックイ
ソシアネート、ビュレト体など、またはアルキル化メラ
ミン、メチロールメラミン、イミノメラミンなどのメラ
ミン樹脂、尿素樹脂などのアミノ化合物、ビスフェノー
ルＡなどの多価フェノールとエピクロルヒドリンとの反
応で得られる２個以上のエポキシ基を有するエポキシ硬
化剤などが適宜選択使用できる。
【００３８】本発明に用いる含フッ素共重合体がヒドロ
キシ基またはカルボキシル基を有する場合は、相溶性の
点から、イソホロンジイソシアネートを原料として誘導
されたポリイソシアネート、ブロックイソシアネートま
たはイソシアヌレートが硬化剤として特に好ましく採用
される。本発明に用いる含フッ素共重合体と硬化剤は良
好に相溶し、透明で強靱な膜ができる。イソホロン系ポ
リイソシアネートまたはそのブロック化したものとし
て、具体的には、住友バイエルウレタン製のデスモジュ
ールＺ４３７０、デスモジュールＢＬ４１６５やＴＰＬ
Ｓ２０９４、ヒュルス製のベスタナットＶ１８９０Ｅ、
Ｂ１３５８などが好ましく採用されるが、必ずしもこれ
らの製品に限定されるものではない。
キシ基またはカルボキシル基を有する場合は、相溶性の
点から、イソホロンジイソシアネートを原料として誘導
されたポリイソシアネート、ブロックイソシアネートま
たはイソシアヌレートが硬化剤として特に好ましく採用
される。本発明に用いる含フッ素共重合体と硬化剤は良
好に相溶し、透明で強靱な膜ができる。イソホロン系ポ
リイソシアネートまたはそのブロック化したものとし
て、具体的には、住友バイエルウレタン製のデスモジュ
ールＺ４３７０、デスモジュールＢＬ４１６５やＴＰＬ
Ｓ２０９４、ヒュルス製のベスタナットＶ１８９０Ｅ、
Ｂ１３５８などが好ましく採用されるが、必ずしもこれ
らの製品に限定されるものではない。
【００３９】本発明の反射防止膜形成用組成物を適用す
るのに好適な物としては、透明な基材が挙げられ、ガラ
ス板などの透明板状体である物品は特に好ましく、その
他光学レンズや各種形状のガラス製品が挙げられる。本
発明の反射防止膜形成用組成物は通常ガラス板等の基材
にスピンコート、ディッピング、スプレー等の方法で塗
布し、次いで乾燥または焼成することで被膜は形成され
る。乾燥または焼成温度は、溶剤の種類、または硬化剤
の種類により異なるが２０〜２００℃程度で行うことが
できる。
るのに好適な物としては、透明な基材が挙げられ、ガラ
ス板などの透明板状体である物品は特に好ましく、その
他光学レンズや各種形状のガラス製品が挙げられる。本
発明の反射防止膜形成用組成物は通常ガラス板等の基材
にスピンコート、ディッピング、スプレー等の方法で塗
布し、次いで乾燥または焼成することで被膜は形成され
る。乾燥または焼成温度は、溶剤の種類、または硬化剤
の種類により異なるが２０〜２００℃程度で行うことが
できる。
【００４０】
【実施例】次に実施例をもって本発明をより詳細に説明
するが、本発明の実施態様はこれらに限られない。
するが、本発明の実施態様はこれらに限られない。
【００４１】〔実施例１〕電磁撹拌機を備えたステンレ
ス製オートクレーブにイソプロピルビニルエーテル（ｉ
ＰＶＥ）３５ｇ、ｔ−ブチルパーオキシピバレート（パ
ーブチルＰＶ）１ｇ、酢酸ブチル（ＢｕＡｃ）１２０ｇ
を仕込み、窒素ガスでオートクレーブ内を置換した後脱
気した。その後オクタフルオロシクロペンテン（ＯＦＣ
ＰＥ）８５ｇをオートクレーブ内に導入した後徐々に昇
温した。５５℃で１３時間重合反応を行ない、反応液を
メタノールへ投入し析出した含フッ素共重合体７８ｇを
得た。得られた含フッ素共重合体の分子量（ゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフィで測定したスチレン換算
数平均分子量）は１５，０００であり、フッ素含有量は
４８ｗｔ％であった。得られた共重合体をメチルイソブ
チルケトンに溶解し、含フッ素共重合体の１０ｗｔ％溶
液を得た。得られた溶液をガラス板上にスピンコートに
よって塗布した後、１４０℃で１時間乾燥し、透明で平
滑な含フッ素共重合体被膜を形成したガラス板を得た。
ス製オートクレーブにイソプロピルビニルエーテル（ｉ
ＰＶＥ）３５ｇ、ｔ−ブチルパーオキシピバレート（パ
ーブチルＰＶ）１ｇ、酢酸ブチル（ＢｕＡｃ）１２０ｇ
を仕込み、窒素ガスでオートクレーブ内を置換した後脱
気した。その後オクタフルオロシクロペンテン（ＯＦＣ
ＰＥ）８５ｇをオートクレーブ内に導入した後徐々に昇
温した。５５℃で１３時間重合反応を行ない、反応液を
メタノールへ投入し析出した含フッ素共重合体７８ｇを
得た。得られた含フッ素共重合体の分子量（ゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフィで測定したスチレン換算
数平均分子量）は１５，０００であり、フッ素含有量は
４８ｗｔ％であった。得られた共重合体をメチルイソブ
チルケトンに溶解し、含フッ素共重合体の１０ｗｔ％溶
液を得た。得られた溶液をガラス板上にスピンコートに
よって塗布した後、１４０℃で１時間乾燥し、透明で平
滑な含フッ素共重合体被膜を形成したガラス板を得た。
【００４２】得られたガラス板の５５０ｎｍの反射率を
自記分光光度計（Ｕ−４０００型、日立製作所）を用い
て測定した。また、塗膜の鉛筆硬度をJIS K5400に準拠
し、鉛筆硬度計（ヨシミツ製Ｃ２２１型）を用いて測定
した。別途ホットプレス（１００℃、０．５ＭＰａ、５
分間）により作成した１５０μｍのフィルムについて屈
折率をアッベ屈折率計を用いて測定した。それぞれの測
定結果を表１に示す。
自記分光光度計（Ｕ−４０００型、日立製作所）を用い
て測定した。また、塗膜の鉛筆硬度をJIS K5400に準拠
し、鉛筆硬度計（ヨシミツ製Ｃ２２１型）を用いて測定
した。別途ホットプレス（１００℃、０．５ＭＰａ、５
分間）により作成した１５０μｍのフィルムについて屈
折率をアッベ屈折率計を用いて測定した。それぞれの測
定結果を表１に示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】〔実施例２〜５〕オクタフルオロシクロペ
ンテンと表１に示す共単量体から実施例１と同様に含フ
ッ素共重合体を製造し、それを用いて実施例１と同様の
測定を行った。結果を表１に示す。
ンテンと表１に示す共単量体から実施例１と同様に含フ
ッ素共重合体を製造し、それを用いて実施例１と同様の
測定を行った。結果を表１に示す。
【００４５】〔実施例６〕電磁撹拌機を備えたステンレ
ス製オートクレーブにヒドロキシエチルビニルエーテル
（ＨＥＶＥ）１１ｇ、ｔ−ブチルパーオキシピバレート
１ｇ、酢酸ブチル１１０ｇを仕込み、窒素ガスでオート
クレーブ内を置換した後脱気した。その後オクタフルオ
ロシクロペンテン８４ｇとメチルビニルエーテル（ＭＶ
Ｅ）１６ｇをオートクレーブ内に導入した後徐々に昇温
した。５５℃で１３時間重合反応を行ない含フッ素共重
合体を得た。得られた含フッ素共重合体のフッ素含有量
は５２ｗｔ％であった。得られた含フッ素共重合体をメ
チルイソブチルケトンに溶解し「ディスモヂュールZ437
0」（商品名：住友バイエルウレタン製）を５ｗｔ％加
え、含フッ素共重合体の１０ｗｔ％溶液を得た。得られ
た溶液をガラス板上にスピンコートによって塗布した
後、１４０℃で１時間乾燥し、透明で平滑な含フッ素共
重合体被膜を形成したガラス板を得た。実施例１と同様
にこのガラス板の反射率、鉛筆硬度、および含フッ素共
重合体の屈折率を測定した。結果を表１に示す。 〔比較例１〕各実施例、比較例２で使用した未処理のガ
ラス板の反射率を測定した。結果を表１に示す。
ス製オートクレーブにヒドロキシエチルビニルエーテル
（ＨＥＶＥ）１１ｇ、ｔ−ブチルパーオキシピバレート
１ｇ、酢酸ブチル１１０ｇを仕込み、窒素ガスでオート
クレーブ内を置換した後脱気した。その後オクタフルオ
ロシクロペンテン８４ｇとメチルビニルエーテル（ＭＶ
Ｅ）１６ｇをオートクレーブ内に導入した後徐々に昇温
した。５５℃で１３時間重合反応を行ない含フッ素共重
合体を得た。得られた含フッ素共重合体のフッ素含有量
は５２ｗｔ％であった。得られた含フッ素共重合体をメ
チルイソブチルケトンに溶解し「ディスモヂュールZ437
0」（商品名：住友バイエルウレタン製）を５ｗｔ％加
え、含フッ素共重合体の１０ｗｔ％溶液を得た。得られ
た溶液をガラス板上にスピンコートによって塗布した
後、１４０℃で１時間乾燥し、透明で平滑な含フッ素共
重合体被膜を形成したガラス板を得た。実施例１と同様
にこのガラス板の反射率、鉛筆硬度、および含フッ素共
重合体の屈折率を測定した。結果を表１に示す。 〔比較例１〕各実施例、比較例２で使用した未処理のガ
ラス板の反射率を測定した。結果を表１に示す。
【００４６】〔比較例２〕「サイトップ」（商品名：旭
硝子（株）製）をペルフルオロ（２−ブチルテトラヒド
ロフラン）に溶解し、得られた１０％溶液をガラス板上
にスピンコートによって塗布し含フッ素共重合体被膜を
形成したガラス板を得た。このガラス板の反射率と鉛筆
硬度を実施例１と同様に測定した。測定結果を表１に示
す。
硝子（株）製）をペルフルオロ（２−ブチルテトラヒド
ロフラン）に溶解し、得られた１０％溶液をガラス板上
にスピンコートによって塗布し含フッ素共重合体被膜を
形成したガラス板を得た。このガラス板の反射率と鉛筆
硬度を実施例１と同様に測定した。測定結果を表１に示
す。
【００４７】
【発明の効果】本発明の反射防止膜形成用組成物は、ガ
ラス板などの透明板状体の表面に塗布することで硬度の
高い低反射膜を形成できるという効果を奏する。
ラス板などの透明板状体の表面に塗布することで硬度の
高い低反射膜を形成できるという効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０３Ｃ 17/32 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2K009 AA04 BB02 CC21 DD02 DD06 4G059 AA01 AC04 FA07 FA11 FB05 4J002 BB101 BB141 BB171 BD051 BD101 BD111 BD121 BD131 BD141 BD151 BE041 BF011 BF021 BK001 CD052 CK012 ER006 EU186 FD142 FD146 GH01 GP00 HA05 4J038 CB001 CD011 CD091 CE051 CF001 GA12 KA03 KA06 MA07 MA09 MA14 NA11 NA19 4J100 AA02Q AA03Q AA04Q AA07Q AA16Q AC03Q AC04Q AC22Q AC23Q AC24Q AC25Q AC26Q AC27Q AC28Q AC31Q AE02Q AE03Q AE04Q AE09Q AE10Q AE13Q AE18Q AR04P BA02Q BA03Q BB01Q BB07P BB07Q BC04Q BC43Q BC54Q CA04 JA01 JA32
Claims (8)
- 【請求項１】化学式（１） 【化１】 で表される繰り返し単位を含有する含フッ素重合体を造
膜成分とする反射防止膜形成用組成物。 - 【請求項２】オクタフルオロシクロペンテンと他の共単
量体とを共重合せしめた含フッ素重合体を造膜成分とす
る反射防止膜形成用組成物。 - 【請求項３】含フッ素重合体が化学式（１）で表される
繰り返し単位を１〜１００モル％含有することを特徴と
する請求項１記載の反射防止膜形成用組成物。 - 【請求項４】オクタフルオロシクロペンテン１〜９９モ
ル％と他の共単量体９９〜１％とを共重合せしめた含フ
ッ素重合体を造膜成分とする請求項１乃至３の何れかに
記載の反射防止膜形成用組成物。 - 【請求項５】含フッ素重合体が分子量１，０００〜１，
０００，０００（ゲルパーミュエーションクロマトグラ
フィで測定したスチレン換算数平均分子量）であること
を特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の反射防止
膜形成用組成物。 - 【請求項６】均一な溶液を形成するのに十分な量の溶媒
を含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載
の反射防止膜形成用組成物。 - 【請求項７】さらに、含フッ素重合体を硬化させるのに
十分な量の硬化剤を含むことを特徴とする請求項１乃至
６の何れかに記載の反射防止膜形成用組成物。 - 【請求項８】請求項１乃至７の何れかに記載された反射
防止膜形成用組成物を塗布して形成された反射防止膜を
有する物品。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000084628A JP3737012B2 (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | 反射防止膜形成用組成物 |
| US09/640,536 US6403744B1 (en) | 1999-08-18 | 2000-08-17 | Fluorine-containing copolymer and composition for preparing low reflectance film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000084628A JP3737012B2 (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | 反射防止膜形成用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001272504A true JP2001272504A (ja) | 2001-10-05 |
| JP3737012B2 JP3737012B2 (ja) | 2006-01-18 |
Family
ID=18601082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000084628A Expired - Fee Related JP3737012B2 (ja) | 1999-08-18 | 2000-03-24 | 反射防止膜形成用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3737012B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7270883B2 (en) | 2003-09-03 | 2007-09-18 | Fujifilm Corporation | Film-forming composition, anti-reflection film, polarizing plate, image display apparatus, anti-pollution coating composition and anti-pollution article |
| WO2010044421A1 (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-22 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素共重合体組成物およびその製造方法 |
| WO2010134509A1 (ja) * | 2009-05-19 | 2010-11-25 | 国立大学法人茨城大学 | 含フッ素１，６－ジエン型エーテル化合物及び含フッ素重合物 |
| JP2011527375A (ja) * | 2008-07-07 | 2011-10-27 | アーケマ・インコーポレイテッド | フッ化ビニリデン／２，３，３，３−テトラフルオロプロペンコポリマー |
-
2000
- 2000-03-24 JP JP2000084628A patent/JP3737012B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7270883B2 (en) | 2003-09-03 | 2007-09-18 | Fujifilm Corporation | Film-forming composition, anti-reflection film, polarizing plate, image display apparatus, anti-pollution coating composition and anti-pollution article |
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