JP2001247961A - Screen mask for vapor deposition, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el device - Google Patents

Screen mask for vapor deposition, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el device

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JP2001247961A JP2000060790A JP2000060790A JP2001247961A JP 2001247961 A JP2001247961 A JP 2001247961A JP 2000060790 A JP2000060790 A JP 2000060790A JP 2000060790 A JP2000060790 A JP 2000060790A JP 2001247961 A JP2001247961 A JP 2001247961A
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Hiroyasu Yamada
裕康 山田
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Casio Comput Co Ltd
カシオ計算機株式会社
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    • H01L51/50Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED];
    • H01L51/56Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices or of parts thereof

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a screen mask for vapor deposition, capable of meeting the recent demand for high definition patterning and contributing to cost reduction, a vapor deposition method, and a method for manufacturing an organic EL(electroluminescent) device. SOLUTION: By using a screen mask 10 for vapor deposition, which consists, e.g. of a mesh-like screen part 12 composed of magnetic material and a mask part 13 projecting on the undersurface side of the screen part 12, a cathode electrode of an organic EL device is formed by vapor deposition in a state where the screen part 12 is pushed on the substrate side by means of a proper magnetic force. The mask part 13 is formed into a pattern reverse to a cathode vapor deposition pattern A by using an emulsion. Because the mask part 13 is formed of a photosensitive emulsion, the formation of micropattern is facilitated and the cathode vapor deposition pattern A can be vapor deposited into micropattern. Moreover, the vapor deposition can be easily performed by setting the screen mask 10 for vapor deposition on the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高精細なパターニングが可能な蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機EL素子の製造方法に関する。 The present invention relates to a high-definition patterning can deposition screen mask, a method for manufacturing a deposition method and an organic EL element.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、有機EL素子(エレクトロルミネッセンス素子)としては、例えば、ガラス基板上にインジウム−スズ酸化物(ITO)からなる透明電極(アノード電極)と、ホール輸送層や発光層および電子輸送層等からなる有機EL層と、背面電極(カソード電極)と、等を積層したものが知られている。 Conventionally, as an organic EL element (electroluminescence element), such as indium on a glass substrate - tin oxide transparent electrode made of (ITO) (anode electrode), a hole transport layer and light emitting layer and an electron an organic EL layer formed of transport layer, etc., and a back electrode (cathode electrode), there has been known a laminate and the like. 有機EL素子は、例えば、電圧を印加したときに電流が流れ、アノード電極から注入されたホールとカソード電極から注入された電子とが、有機EL層で再結合し蛍光色素などを励起することで、発光可能な素子である。 The organic EL element, for example, a current flows when a voltage is applied, by the electrons injected from the injection holes and the cathode electrode from the anode electrode to excite and recombine fluorochrome organic EL layer is a light-emitting elements.

【0003】カソード電極は、例えば、低仕事関数の金属などからなり、蒸着などの方法で形成することができる。 [0003] The cathode electrode includes, for example, a low work function metal, can be formed by a method such as vapor deposition. この場合にカソード電極は、例えば、有機EL層に積層して形成される場合があるが、通常、カソード電極の材料は水や酸素に対して弱い材料であるために、カソード電極をパターニングする場合にはフォトリソグラフィなどの方法を適用することは難しい。 A cathode electrode in this case, for example, there is a case formed by laminating the organic EL layer, usually, for the cathode electrode material is a material susceptible to water and oxygen, when patterning the cathode electrode it is difficult to apply a method such as photolithography to. そこで、基板表面のカソード電極パターンの間の部分を覆う形状とされたメタルマスクを用いて、カソード電極を蒸着により形成することが知られている。 Therefore, using a metal mask that is shaped to cover a portion between the cathode electrode pattern of the substrate surface, it is known that the cathode electrode is formed by evaporation.

【0004】また、高精細なカソード電極パターンを形成するために、周知のレジスト材料などにより、基板側に、カソード電極パターンに合わせた隔壁を設けて、カソード電極を蒸着する場合がある。 [0004] In order to form a high-definition cathode electrode pattern, such as by the well-known resist material on the substrate side, provided with a partition wall that matches the cathode electrode pattern, there is a case of depositing the cathode electrode. この場合には、メタルマスクは、単に、蒸着する面の全面に渡って開口した窓を備える形状とすれば良い。 In this case, the metal mask is simply over the entire surface to be deposited may be a shape with an open window. また、隔壁の基板に起立する側面は、例えば、逆テーパ形状に形成しておくことで、カソード電極を蒸着したときに、隣接するカソード電極パターンが絶縁分離される。 The side surface erected on the partition walls of the substrate, for example, by forming the inversely tapered shape, when deposited cathode electrode, the cathode electrode patterns adjacent is isolation. この場合の隔壁は、レジスト材料により微細加工が可能であるので、メタルマスクを用いる場合と比較して、高精細なカソード電極パターンを形成することが可能となる。 Partition wall in this case, since the resist material is capable of fine processing, as compared with the case of using a metal mask, it is possible to form a high-definition cathode electrode patterns.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、例えば、単純マトリックス方式駆動またはTFTをスイッチング素子に用いたアクティブマトリクス駆動で画像表示が可能な有機EL素子のカソード電極は、そのパターンの幅が、有機EL素子の発光領域幅にほぼ等しくなるために、高精細なパターニングが要求されることがある。 [SUMMARY OF THE INVENTION Incidentally, for example, the cathode electrode of the image display capable organic EL element in an active matrix driving using a simple matrix drive or TFT switching element, the width of the pattern, the organic EL to become approximately equal to the emission region width of the device, there is a high definition patterning is required. しかしながら、メタルマスクを用いて、有機ELで要求される高精細パターンを形成することは困難であった。 However, using a metal mask, it is difficult to form a high-definition pattern required in organic EL. また、上述のような隔壁を基板側に形成する場合には、高精細なカソード電極パターンを形成することができるが、隔壁を形成するためのレジスト材料の塗布工程や、 In the case of forming the partition wall as described above to the substrate side, it is possible to form a high-definition cathode electrode pattern, coating process and the resist material for forming the partition wall,
塗布したレジスト材料から所定の形状の隔壁を形成するフォトリソグラフィ工程などが必要とされ、有機EL素子の製造コストが増加しやすいものとなっていた。 Photolithography or the like to form a predetermined shape of the partition wall from the applied resist material is required, the manufacturing cost of the organic EL device has been a be easy to increase.

【0006】本発明の課題は、高精細なパターニングに対応可能で、コスト低減に寄与することができる蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機EL素子の製造方法を提供することである。 It is an object of the present invention, can support high-definition patterning, deposition screen mask can contribute to cost reduction, it is to provide a method for manufacturing a deposition method and an organic EL element.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するため、請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクは、例えば、図1、2に示すように、基板20上に蒸着によりパターニングされた膜を形成する際にマスクとして用いられる蒸着用スクリーンマスク10であって、複数の第1 To solve the above object, according to an aspect of, evaporation screen mask according to claim 1, wherein, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, the patterned layer by vacuum evaporation on the substrate 20 a deposition screen mask 10 used as a mask to form a plurality of first
開口部を区画する隔壁を有するマスク部13と、各々の開口面積が前記各第1開口部の開口面積より小さい複数の第2開口部を有し、前記第2開口部が前記マスクの前記第1開口部上に配置される磁性材料を含むメッシュ状のスクリーン部12と、を備えることを特徴とする。 A mask unit 13 having a partition wall for partitioning an aperture, wherein each of the opening area has a second opening plurality of smaller than the opening area of ​​each of the first opening, the second opening is the second of the mask a mesh-like screen 12 which includes a magnetic material disposed on the first opening, characterized in that it comprises a.

【0008】請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、スクリーン部が磁性材料を含むので基板上にスクリーンマスクにより所定のパターンの薄膜を蒸着により形成する際に、電磁石を有するステージに基板を載置することでスクリーン部がマスク部の第1開口部及び隔壁を介して基板側に引きつけられるためにマスク部を基板に押しつけることができるのでマスク部と基板との密着性が増し、隔壁と基板の隙間から蒸着材料が入り込むことを防止して高精細な薄膜のパターニングが可能となる。 According to the deposition screen mask of claim 1, wherein, when the screen part is formed by depositing a thin film of a predetermined pattern by a screen mask on a substrate because they contain a magnetic material, a substrate stage having an electromagnet screen part adhesion between the mask and the substrate increases because the mask portion to be attracted to the substrate side can be pressed against the substrate through the first opening and the partition wall of the mask portion by placing the partition wall high-resolution thin film patterning of preventing the deposition material from entering from the gap of the substrate is possible. このスクリーンマスクは再利用できるので、蒸着する度にマスク部と同じ形状のマスクをフォトリソ工程により形成する必要がないので低コストで且つ高スループットで蒸着を行うことが可能となる。 This screen mask can be reused, it is possible to perform and deposited with high throughput at a low cost because there is no need to form by photolithography masks having the same shape as the mask portion each time the deposition.

【0009】また、蒸着材料はマスク部の各第1開口部及びスクリーン部の第2開口部を介して基板側に蒸着されるが、この場合に、スクリーン部と基板との間の距離(以下、スクリーン−基板間距離)が短い場合には、蒸着材料を照射しても、蒸着材料がスクリーンの裏面に充分に回り込むことができずに基板へと到達してしまい、 Further, the vapor deposition material, but is deposited on the substrate side through the second opening of the first opening and the screen portions each of the mask portion, in this case, the distance between the screen and the substrate (hereinafter screen - when inter-substrate distance) is short, be irradiated with deposition material, will reach into the substrate can not depositing material from flowing sufficiently to the rear surface of the screen,
得られる蒸着膜はスクリーンのメッシュ形状(網目の部分や網の部分など)を反映して、均一な連続膜が得られない場合がある。 The resulting deposited film to reflect the screen mesh shapes (such as portions of the mesh portion and nets), a uniform continuous film may not be obtained. ここで、上記構成によれば、所望のパターニング形状をマスク部の第1開口部により定義したい場合は、マスク部の隔壁の厚さを制御することでスクリーン−基板間距離を保持させ、蒸着材料がスクリーン部のメッシュの網の部分の裏側に回り込ませることが可能になる。 Here, according to the above configuration, if you want to define the first opening of the mask portion of the desired patterning shape, screen by controlling the thickness of the mask portion of the partition wall - is held between the substrates distance, deposition material There it is possible to wrap to the back side of the web portion of the mesh screen unit. これにより、蒸着膜を、スクリーン部のメッシュ形状の第2開口部の影響を受けずに、均一かつ連続した状態に、好適に、形成することができる。 Thus, the deposited film, without influence of the second opening of the mesh shape of the screen section, a uniform and continuous condition, can be suitably forms.

【0010】また、マスク部は、スクリーン部下面側に所定の厚さに形成されるので、スクリーン部と基板とが接触しないように、スクリーン部を支持する役目も担う。 Further, the mask portion is so formed on the screen unit the lower surface side by a predetermined thickness to of, as the screen part and the substrate are not in contact, also responsible role of supporting the screen unit. 従って、スクリーン−基板間距離は、形成する蒸着膜の膜厚よりも長く確保することが好ましい。 Therefore, the screen - substrate distance, it is preferable to ensure longer than the thickness of the deposited film to be formed. この場合には、形成された蒸着膜がスクリーン部と接触するなどして、壊されたりすることがない。 In this case, deposited film is formed by, for example, contact with the screen part, never or destroyed.

【0011】また、マスク部は、基板表面を所定のパターンに蒸着するための形状に形成できれば、その材質は特に限定されない。 Further, the mask portion, if formed in a shape for depositing the substrate surface in a predetermined pattern, the material is not particularly limited. 例えば、露光・現像によりパターン形成可能な感光性を持つ材質とすれば、周知のフォトリソグラフィ技術により、微細パターンも形成が容易である。 For example, if a material having a patternable photosensitive by exposure and development by a known photolithography technique, it is easy forming fine patterns. また、例えば、周知のアディティブ法などにより、 Further, for example, due to the well-known additive method,
スクリーンに金属材料からなるパターンを形成しても良い。 Screen may be formed a pattern made of a metal material.

【0012】請求項2記載の蒸着用スクリーンマスクは、請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクにおいて、 [0012] deposition screen mask of claim 2, in deposition screen mask according to claim 1,
前記マスク部が、露光及び現像によりパターニングされた感光性材料からなることを特徴とする。 It said mask portion, characterized in that it consists patterned photosensitive material by exposure and development.

【0013】請求項2記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、請求項1と同様の効果を奏することができるとともに、マスク部は、感光性材料により形成されていることから、例えば、フォトリソグラフィ技術により、微細なパターンの形成も容易である。 According to the deposition screen mask of claim 2, it is possible to achieve the same effect as claim 1, since the mask portion is formed by a photosensitive material, for example, a photolithography technique Accordingly, it is easy to form a fine pattern. ここで、感光性材料としては、所定のパターンに形成することができれば限定されないが、例えば、スクリーン印刷で一般的に用いられる紫外線感光タイプのものを好適に用いることができる。 Here, as the photosensitive material is not limited as long as it can be formed into a predetermined pattern, for example, it can be used generally UV-sensitive type used in screen printing favorably. すなわち、ポリビニルアルコールや酢酸ビニルなどの水溶性高分子と、ジアゾニウム塩などの感光性を有する物質と、等を成分として含む感光性エマルジョン(以下、乳剤)や、鉄塩を成分として含むフィルムや、 That is, the water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol or polyvinyl acetate, a photosensitive emulsion comprising a substance having photosensitivity, such as a diazonium salt, such as component (hereinafter, emulsions) and, and a film containing an iron salt as a component,
感光性樹脂などが挙げられる。 Such as a photosensitive resin.

【0014】また、露光・現像してパターニングされた感光性材料は、通常、ある程度の柔軟性を持っている。 Further, exposure and development to the patterned photosensitive materials usually have some flexibility.
従って、蒸着用スクリーンマスクを基板に設置して、マスク部の下面と基板表面とが接触した場合においても、 Thus, by installing the deposition screen mask on the substrate, even when the lower surface and the substrate surface of the mask portion is in contact,
マスク部の柔軟性のために基板表面に好適に密着できるとともに、蒸着面が有機EL層となる場合においても、 Together it can be suitably adhered to the substrate surface for the flexibility of the mask portion, even when the deposition surface is an organic EL layer,
有機EL層を壊したりすることがない。 Never or break the organic EL layer.

【0015】請求項3記載の蒸着用スクリーンマスクは、請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクにおいて、 The deposition screen mask of claim 3, wherein, in the deposition screen mask according to claim 1,
例えば、図5に示すように、前記マスク部(メタルマスク41)が、スクリーン部にアディティブ法によりパターニングされた金属材料からなることを特徴とする。 For example, as shown in FIG. 5, the mask portion (metal mask 41), characterized by comprising the patterned metal material by an additive method on the screen unit.

【0016】請求項3記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、請求項1と同様の効果を奏することができる。 According to the deposition screen mask of claim 3, it is possible to achieve the same effect as claim 1.
また、通常、蒸着の際には、蒸着材料は、加熱されて霧状とされた状態で供給されることになる。 Also, usually, at the time of deposition, the vapor deposition material will be supplied in a state of being with the heated and atomized. 従って、蒸着用スクリーンマスクは、ある程度の高温雰囲気(以下、 Therefore, the deposition screen mask, a certain high temperature atmosphere (hereinafter,
この温度をプロセス温度と称す)におかれることになる。 It will be placed the temperature referred to as the process temperature). ここで、請求項3の構成によれば、マスク部が金属材料から形成されているので、ある程度の耐熱性を確保することができ、蒸着の際のプロセス温度の上限を高くすることができる。 Here, according to the third aspect, since the mask portion is formed from a metallic material, it is possible to ensure a certain degree of heat resistance, it is possible to increase the upper limit of the process temperature during the deposition. 従って、蒸着プロセスの余裕度を向上することができる。 Therefore, it is possible to improve the margin of the deposition process.

【0017】請求項4記載の蒸着用スクリーンマスクは、前記請求項1〜3のいずれか一つに記載の蒸着用スクリーンマスクにおいて、前記スクリーン部は周囲を枠体で覆われ、前記マスク部は前記スクリーン部により支持されていることを特徴とする。 The deposition screen mask of claim 4, wherein, in the deposition screen mask according to any one of the claims 1 to 3, wherein the screen portion is covered around by the frame, said mask portion characterized in that it is supported by the screen portion.

【0018】請求項4記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、請求項1〜3と同様の効果を奏することができるとともに、マスク部はスクリーン部に支持されるので、マスク部を微細パターンに形成することも容易である。 According to the deposition screen mask according to claim 4, it is possible to achieve the same effect as claim 1, the mask portion is supported by the screen portion, a mask portion for fine pattern it is also easy to. また、スクリーン部は、例えば、蒸着用スクリーンマスクの外枠となる枠体を設け、該枠体に張られた状態で備えるなどして、ある程度の張力が加えられた状態とすることが好ましい。 The screen may, for example, provided the outer frame become the frame of the deposition screen mask, and the like provided in an extended state frame body, it is preferable that a state of being added a certain amount of tension. この場合には、蒸着用スクリーンマスクに充分な強度を付与することができる。 In this case, it is possible to impart sufficient strength to the deposition screen mask. 特に、ある程度の大きさの長い蒸着用スクリーンマスクを形成するときでも、充分な強度を付与することができる。 In particular, even when forming a long deposition screen masks certain size, it is possible to impart sufficient strength.

【0019】なお、強磁性材料からなるスクリーン部とは、適宜な磁力により基板側に押しつけられる磁性を備えていれば、特に限定されるものではない。 [0019] Note that the screen part made of a ferromagnetic material, if provided with a magnetic pressed against the substrate side by a suitable magnetic force, but is not particularly limited. 例えば、磁性材料から形成されたスクリーン部だけでなく、非磁性材料(例えば、テトロン(登録商標)やナイロンなどの樹脂材料など)からなるスクリーン部の表面を、強磁性材料を用いてコーティングしたものも含まれる。 Such as those well screen portion formed of a magnetic material, a nonmagnetic material (e.g., the Tetron (such as a resin material such as registered trademark) and nylon) the surface of the screen portion consisting of, were coated with a ferromagnetic material It is also included. また、 Also,
上記非磁性材料に磁性材料を分散させることで磁性を持たせた材料から形成されたスクリーン部も含まれる。 Screen section the magnetic material is formed from a material which gave magnetic by dispersing in the non-magnetic material is also included.

【0020】また、この場合には、適宜な磁場をかけたときに、スクリーン部だけでなくマスク部も基板側に押しつけられる状態とするように、前記マスク部を形成する際に、前記マスク部に磁力により吸着可能な物質を含ませても良い。 Further, in this case, when multiplied by the appropriate magnetic field, the mask portion not only the screen unit also to the state pressed against the substrate, when forming the mask portion, the mask portion it may contain an adsorbent substance by magnetic force.

【0021】請求項5記載の蒸着方法は、請求項1〜4 [0021] The method of deposition according to claim 5 wherein the preceding claims
のいずれか一つに記載の蒸着用スクリーンマスクを用いた蒸着方法であって、例えば、図3に示すように、前記蒸着用スクリーンマスクのマスク部が基板に密着するように前記蒸着用スクリーンマスク及び前記基板を配置した後に、例えば、図4に示すように、前記基板に対して複数の方向から蒸着材料を照射することを特徴とする。 A deposition method using the deposition screen mask according to any one of, for example, as shown in FIG. 3, the deposition screen mask so that the mask portion of the deposition screen mask is brought into close contact with the substrate and after placing the substrate, for example, as shown in FIG. 4, and then irradiating the evaporation material from a plurality of directions relative to the substrate.

【0022】請求項5記載の蒸着方法によれば、請求項1〜4と同様の効果を奏することができる。 According to a deposition method according to claim 5, it is possible to achieve the same effect as the preceding claims. また、通常、蒸着の際には、蒸着材料は真空度が高いほど直進性が高くなるために、真空度が高い条件では、蒸着膜に、 Also, usually, at the time of deposition, since the deposition material comprising high straightness higher degree of vacuum, the high vacuum conditions, the deposited film,
メッシュ形状が反映される場合がある。 There are cases where a mesh shape is reflected. すなわち、基板上の、メッシュの網の部分の下方の部分に遮られるようになるために、この部分に蒸着材料が充分に供給されずに、均一で連続した蒸着膜を形成できない場合があり得る。 That is, on the substrate, in order to become blocked by the lower portion of the network part of the mesh, the evaporation material in this portion without being sufficiently supplied, obtained may not be able to form a deposited film was continuously uniform . ここで、上記構成によれば、蒸着材料が基板に対して複数の方向から照射されるので、マスク部で仕切られた蒸着されるべき部分に、蒸着材料を充分に供給することができる。 Here, according to the above arrangement, since the vapor deposition material is irradiated from a plurality of directions with respect to the substrate, the part to be deposited partitioned by the mask portion, it is possible to sufficiently supply the evaporation material. 従って、蒸着膜が、スクリーンのメッシュ形状を反映して、孤立したり不連続膜となったりすることがなく、均一な連続膜を、好適に得ることができる。 Thus, deposited film, reflecting the screen mesh shape, without or become isolated or discontinuous film, a uniform continuous film can be obtained favorably.
また、真空度を低下させることで蒸着材料の直進性を抑制し、蒸着されるべき部分に蒸着材料が充分に供給されるようにしても良い。 Further, to suppress the deposition straightness material by lowering the degree of vacuum, the vapor deposition material to a portion to be deposited may be made to be sufficiently supplied.

【0023】また、複数の方向から蒸着材料を照射するには、例えば、基板に対して複数の方向に照射源を設けた構成としても良いし、基板側を適宜動かすことで、基板に対して複数の方向から蒸着材料が照射されるような構成としても良い。 Further, in order to irradiate the deposition material from a plurality of directions, for example, may be used as the structure in which a radiation source in a plurality of directions with respect to the substrate, by moving the substrate side as appropriate, with respect to the substrate evaporation material from a plurality of directions may be configured as irradiation. また、これらの動作を併用した構成としても良い。 Further, it may be used in combination with the structures of these operations. しかし、複数の照射源を設けるよりも、 However, rather than providing a plurality of radiation sources,
基板を動かす構成とする方が、簡易に実現できるために好ましい。 Write a configuration for moving the substrate is preferred because it can easily implement.

【0024】請求項6記載の蒸着方法は、請求項5記載の蒸着方法において、蒸着材料を複数の方向から前記基板に照射するために、前記基板を蒸着材料の照射方向に対して斜めにするとともに、蒸着材料の照射源(蒸着ポート30)に対して前記基板を相対的に回転させることを特徴とする。 The method of deposition according to claim 6, wherein, in the method of deposition according to claim 5, wherein, in order to irradiate the deposition material from a plurality of directions to the substrate, which obliquely the substrate with respect to the irradiation direction of the vapor deposition material together, characterized in that for relatively rotating the substrate relative to the radiation source of the vapor deposition material (deposition port 30).

【0025】請求項6記載の蒸着方法によれば、請求項5と同様の効果を奏することができる。 According to a deposition method according to claim 6, wherein it is possible to achieve the same effect as claim 5. また、基板を蒸着材料の照射方向に対して斜めにするとともに、基板が、蒸着材料の照射源に対して相対的に回転されているので、蒸着されるべき部分に、蒸着材料が充分に供給することができる。 Further, while obliquely with respect to the irradiation direction of the deposition material to the substrate, the substrate is, since it is rotated relative to the radiation source of the vapor deposition material, the part to be deposited, the deposition material is sufficiently supplied can do. 従って、好適に、所定のパターンの蒸着膜を形成することができる。 Therefore, it is possible to suitably, to form a deposited film of a predetermined pattern.

【0026】この場合に、蒸着材料の照射源に対して基板を相対的に回転させるとは、基板側を回転させる構成としても良いし、照射源側を回転させる構成としても良いし、また、これらの構成を併用した構成としても良い。 [0026] In this case, the relatively rotates the substrate relative to the radiation source of the vapor deposition material, may be configured to rotate the substrate side, may be used as the structure for rotating the radiation source side, also, it may be used in combination with any of the structures of these configurations. 基板側を回転する構成とする場合には、例えば、基板を設置するステージを自公転することが好ましい。 When configured to rotate the substrate side, for example, it is preferable to revolving the stage of installing the substrate.

【0027】請求項7記載の蒸着方法は、請求項4記載の蒸着用スクリーンマスクを用いた蒸着方法であって、 The process of the deposition according to claim 7, there is provided a deposition method using the deposition screen mask according to claim 4,
前記蒸着用スクリーンマスクのマスク部が基板に密着するように蒸着用スクリーンマスクのスクリーンを磁力により基板側に押しつけた状態で、蒸着を行うことを特徴とする。 In a state where the mask portion of the deposition screen mask is pressed against the substrate by the magnetic force of the screen of the deposition screen mask so as to be in close contact with the substrate, and performing deposition.

【0028】請求項7記載の蒸着方法によれば、請求項4と同様の効果を奏することができるとともに、磁力によりスクリーンが基板側に押しつけられることで、マスク部が基板に密着するようにされているので、所定のパターンの蒸着膜を好適に得ることができる。 According to a deposition method according to claim 7, wherein, the it is possible to achieve the same effect as claimed in claim 4, the screen is pressed against the substrate by the magnetic force, so that the mask portion is brought into close contact with the substrate since it is, it is possible to obtain suitably deposited film of a predetermined pattern. また、マスク部は基板に密着しているので、マスク部下面と基板との間に、蒸着材料が入り込むこともなく、蒸着膜が所定のパターンに形成される。 Moreover, since the mask portion is in close contact with the substrate, between the mask lower surface and the substrate, without the deposition material from entering the deposition film is formed in a predetermined pattern.

【0029】請求項8の有機EL素子の製造方法は、請求項5〜7のいずれか一つに記載の蒸着方法を用い、基板上に少なくとも第一電極(アノード電極20a)と有機EL層20bと第二電極(カソード電極20c)とが形成された有機EL素子の製造方法であって、基板上に第一電極と有機EL層とを形成した後に、前記蒸着方法を用いてパターニングされた第二電極を形成することを特徴とする。 The method for manufacturing an organic EL element according to claim 8, using a deposition method according to any one of claims 5-7, at least a first electrode (anode electrode 20a) on the substrate and the organic EL layer 20b When a second electrode (cathode electrode 20c) and the method of manufacturing an organic EL element formed, after forming the first electrode and the organic EL layer on the substrate, the patterned using the deposition method and forming a second electrode.

【0030】請求項8記載の有機EL素子の製造方法によれば、請求項5〜7と同様の効果を奏することができる。 According to the manufacturing method of the organic EL device of claim 8, it is possible to achieve the same effect as claim 5-7. また、通常、有機EL素子は、有機EL層の上面と下面に対向するように積層される二つの電極層を備えている。 Also, usually, the organic EL element is provided with two electrode layers which are laminated so as to face the upper and lower surfaces of the organic EL layer. そして、例えば、一方がアノード電極とされるとともに、他方がカソード電極とされて、有機EL素子が駆動される。 Then, for example, with one it is an anode electrode, and the other is a cathode electrode, the organic EL elements are driven. ここで、上記構成によれば、基板上に第一電極と有機EL層とを形成した状態で、第二電極のパターンにあわせて形成された、本発明の蒸着用スクリーンマスクを用いて蒸着することで、パターニングされた第二電極を形成することができる。 Here, according to the above-described configuration will be deposited using a state of forming a first electrode and the organic EL layer on the substrate, which is formed in accordance with the pattern of the second electrode, the deposition screen mask of the present invention it is, it is possible to form the second electrode is patterned. また、上述のように、 In addition, as described above,
マスク部が基板側に押しつけられているので、基板表面の蒸着部分のみに蒸着することができる。 Since the mask portion is pressed against the substrate can be deposited only on the deposition portion of the substrate surface. 従って、第二電極パターン同士が短絡したりすることなく形成することができる。 Therefore, it can be formed without the second electrode patterns each other or short-circuited. 従って、上記構成によれば、第二電極がパターニングされた有機EL素子を好適に製造することができる。 Therefore, according to the above configuration, it is possible to suitably manufacture the organic EL device which the second electrode is patterned.

【0031】 [0031]

【発明の実施の形態】〔第1の実施の形態〕以下、図1 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION First Embodiment Hereinafter, FIG. 1
〜4を参照して、第1の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10を詳細に説明する。 Referring to ~ 4, illustrating the deposition screen mask 10 of the first embodiment in detail. 第1の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10は、図2に示すように、例えば1つの素子当たり8つの有機EL素子のカソード電極パターンAの組を蒸着により形成するものである。 The evaporation screen mask 10 of the first embodiment, as shown in FIG. 2, for example, those of one set of the cathode electrode pattern A of the eight organic EL element per element is formed by evaporation.

【0032】本実施の形態で製造される有機EL素子は、単純マトリックス方式で駆動され、例えば、ガラス基板などの透明性をもつ基板20(図4に図示)上に、 The organic EL device manufactured in this embodiment is driven by a simple matrix system, for example, on the substrate 20 having transparency such as a glass substrate (shown in FIG. 4),
互いに隣接するように配置されたストライプ状の多数のアノード電極20a(第一電極、図4に図示)と、該アノード電極20aの上面に形成された有機EL層20b Adjacent to each other so arranged stripes of a number of anode electrodes 20a (first electrode, shown in FIG. 4), the organic EL layer 20b formed on the upper surface of the anode electrode 20a
(図4に図示)と、該有機EL層20bの上面でアノード電極20aと直交するように配置されたストライプ状の多数のカソード電極20c(第二電極、図4に図示) And (shown in FIG. 4), the organic EL shaped numerous arranged stripes as in the upper surface of layer 20b perpendicular to the anode electrode 20a cathode electrode 20c (second electrode, shown in FIG. 4)
と、等から構成されている。 When, and a like. 上記構成の有機EL素子は、有機EL層20bを介して互いに直交して配置されるアノード電極20aとカソード電極20cとのいずれか一方を、単純マトリックス方式で駆動される有機EL The organic EL device having the above structure, the organic EL of one of the anode electrode 20a and cathode electrode 20c disposed perpendicular to each other through the organic EL layer 20b, is driven by a simple matrix system
素子の信号電極として用いるとともに、他方を走査電極として用いることで駆動される。 Together used as a signal electrode of the element is driven by using the other as the scanning electrodes. すなわち、信号電極に所定の電圧を印加した状態で、走査電極に順次電圧を印加していくことで、信号電極と走査電極との交差部分の有機EL層20bに印加された電圧に応じて電流が供給され、この交差部分の有機EL層20bが発光するようになっている。 That is, in a state where a predetermined voltage is applied to the signal electrodes, that will sequentially applied voltage to the scan electrodes in accordance with the voltage applied to the organic EL layer 20b of the intersection of the signal electrode and the scanning electrode current There is provided, the organic EL layer 20b of the intersection is made to emit light.

【0033】従って、本実施の形態においては、図3に示すように、基板20の表面にアノード電極20aと有機EL層20bを所定のパターンに形成した後に、該基板20に蒸着用スクリーンマスク10を設置した状態で、カソード電極20cの蒸着を行う。 [0033] Thus, in the present embodiment, as shown in FIG. 3, the anode electrode 20a and the organic EL layer 20b after forming a predetermined pattern on the surface of the substrate 20, evaporation screen mask 10 to the substrate 20 in a state where installation was, and performs evaporation of the cathode electrode 20c. カソード電極の蒸着は、例えば、蒸着材料を真空下で加熱することで霧状にし、霧状となった蒸着材料が蒸着ポート30(図4 Deposition of the cathode electrode, for example, an evaporation material is atomized by heating under vacuum, the evaporation material is deposited port 30 became atomized (4
に図示)から放出され、基板20の表面に堆積することでなされる。 Released from shown), it is made by depositing on the surface of the substrate 20. なお、図3は、アノード電極20aと有機EL層20bとが配置された部分の断面図を示しており、図3においては、アノード電極20aと有機EL層20bとは、図3における左右方向に延在して配置されるストライプ形状を有している。 Incidentally, FIG. 3 shows a cross-sectional view of a portion where the anode electrode 20a and the organic EL layer 20b is disposed, in FIG. 3, the anode electrode 20a and the organic EL layer 20b, the left-right direction in FIG. 3 and has a stripe shape arranged extending. 従って、カソード電極20cは、アノード電極20aと直交するように、図3 Therefore, the cathode electrode 20c, as perpendicular to the anode electrode 20a, Fig. 3
における表側と裏側との方向に延在して配置されるストライプ形状に形成することになる。 It will be formed in a stripe shape which are arranged extending in the direction of the front and back sides in.

【0034】カソード電極20cとしては、上述のように、低仕事関数の金属などを、好適に用いることができる。 [0034] As the cathode electrode 20c, as described above, and the low work function metal can be suitably used. 例えば、本実施の形態においては、アルミニウム層とカルシウム層とからなる二層構成とする。 For example, in this embodiment, a two-layer structure consisting of an aluminum layer and the calcium layer. 例えば、カルシウム層は3.0×10 -8 (m)程度の膜厚とし、アルミニウム層は6.0×10 -7 (m)〜1.0×10 -6 (m)程度の膜厚とすることが好ましい。 For example, calcium layer is a film thickness of about 3.0 × 10 -8 (m), the aluminum layer is preferably set to a thickness of about 6.0 × 10 -7 (m) ~1.0 × 10 -6 (m).

【0035】蒸着用スクリーンマスク10は、図2に示すように、蒸着用スクリーンマスク10の外枠となる枠体11と、該枠体11にテンションをかけて張られた状態で備えられ、強磁性材料からなるメッシュ状のスクリーン部12と、該スクリーン部12の下面側に形成されるとともに、乳剤(例えば、上述の感光性エマルジョン)をカソード電極パターンAの反転パターンに形成したマスク部13と、を主にして構成されている。 The evaporation screen mask 10, as shown in FIG. 2, a frame body 11 made of an outer frame of the deposition screen mask 10, provided in an extended state over tension to the frame body 11, strong a mesh screen portion 12 made of a magnetic material is formed in a lower surface side of the screen unit 12, an emulsion (e.g., a photosensitive emulsion described above) and the mask portion 13 which was formed on the reverse pattern of the cathode electrode pattern a , it has been constructed in the Lord. すなわち、複数のストライプ状の開口部(第1開口部)を隔壁となる乳剤で区画している。 That is, to partition the plurality of stripe-shaped opening (first opening) in the emulsion as a partition wall. そして、スクリーン部12 Then, the screen unit 12
は、網目状に開口部(第2開口部)が設けられたメッシュとなっており、スクリーン部12の開口部は、マスク部13の上にも形成され、その各開口面積はマスク部1 Has an opening in a mesh shape has a mesh (second opening portion) is provided, the openings of the screen unit 12 is also formed on the mask 13, each opening area mask part 1
3の各開口部の開口面積より小さい。 3 smaller opening area of ​​each opening. なお、図2においては、蒸着用スクリーンマスク10を、基板20に設置される側から眺めた様子を示している。 In FIG. 2, the evaporation screen mask 10 shows a state viewed from the side to be placed on the substrate 20.

【0036】蒸着用スクリーンマスク10の枠体11 The frame body 11 of the deposition screen mask 10
は、図1に示すように、電磁石ステージ21に取り付け可能となっている。 As shown in FIG. 1, which is attachable to the electromagnet stage 21. 電磁石ステージ21は、基板20を設置できるようになっている。 Electromagnet stage 21 is enabled to install the substrate 20. 電磁石ステージ21は、 Electromagnet stage 21,
所定の操作によりON/OFFし、蒸着用スクリーンマスク10を設置した状態で、ON状態とすると、磁性材料からなるスクリーン部12には磁力が作用して、基板20側へと押しつけられる。 And ON / OFF by a predetermined operation, when it is installed the evaporation screen mask 10, when the ON state, the screen portion 12 made of a magnetic material magnetic force acts, is pressed against to the substrate 20 side. これにより、スクリーン部12に形成されるマスク部13が基板側へと押しつけられて、マスク部13の下面と基板20とが密着するようになっている。 Thus, the mask portion 13 formed on the screen 12 is pressed against to the substrate side, so that the lower surface and the substrate 20 of the mask portion 13 are in close contact. このとき、ストライプ状のアノード電極20a直上の有機EL層20bと、アノード電極20a At this time, the organic EL layer 20b directly above the stripe-shaped anode electrode 20a, an anode electrode 20a
が設けられていない有機EL層20bとには、アノード電極20aの厚さにより生じる段差が発生しているが、 The organic EL layer 20b which is not provided, but a step caused by the thickness of the anode electrode 20a is occurring,
乳剤からなるマスク部13は柔軟性に富んでいるので上下に段差のある有機EL層20aを充分に密着することができ、且つ蒸着用スクリーンマスク10を電磁石ステージ21に取り付けて、磁力による応力をマスク部13 Since the mask 13 consisting of the emulsion is rich in flexibility can be sufficiently adhered to the organic EL layer 20a which vertically a stepped, and the evaporation screen mask 10 is attached to the electromagnet stage 21, the stress caused by magnetic force mask unit 13
が吸収するので、下面が有機EL層20aに密着しても、有機EL層を壊したりすることがない。 Since but absorbed, never lower surface also in close contact with the organic EL layer 20a, or break the organic EL layer. なお、有機EL層20aの材料としてポリマ有機EL材料は、溶媒により溶融することができるので湿式成膜することが可能であり、湿式成膜された有機EL層20aはアノード電極20aの段差をある程度緩衝する作用があるので、 Incidentally, polymer organic EL material as a material of the organic EL layer 20a, it is possible to melt the solvent is capable of wet deposition, the organic EL layer 20a which is a wet film formation to some extent a step of anode electrode 20a since there is action to buffer,
より好適である。 It is more preferable.

【0037】スクリーン部12の材質は、上述のように、電磁石ステージ21の磁力により押しつけられるための磁性を持つことと、蒸着の際のプロセス温度の高温にさらされても、強度が極端に低下したり、熱膨張によりスクリーン部12に撓みが生じたりすることがないようにできれば、適宜選択することができる。 The material for the screen unit 12, as described above, and have a magnetic for pressed by the magnetic force of the electromagnet stage 21, even when exposed to a high temperature process temperature during deposition, the strength is extremely lowered or, if so as not to deflect the screen portion 12 by thermal expansion or cause, it can be appropriately selected. 例えば、ステンレスやインバーやスーパーインバー等を好適に用いることができる。 For example, it can be suitably used stainless steel, invar or super invar and the like.

【0038】また、スクリーン部12の形状は、メッシュ数や開口率(オープニング)を適宜選択することができる。 Further, the shape of the screen unit 12 can select the number of meshes or the aperture ratio (the opening) as appropriate. ここで、スクリーン部12となるメッシュとしては、微細なパターンのマスク部13でも確実に支持できるようなメッシュ数を持つことが好ましく、蒸着材料が充分に基板20へと照射されるためのオープニングをもつことが好ましい。 Here, the mesh of the screen section 12, the opening for it to have a mesh number that can be reliably supported even mask portion 13 of the fine pattern is preferably irradiated vapor deposition material into sufficiently substrate 20 it is preferable to have. 本実施の形態におけるスクリーン部12としては、上記の点を考慮したものであれば特に限定されないが、特に、メッシュ400以下、オープニング50%以上の範囲のものを好適に用いることができる。 As the screen unit 12 in the present embodiment is not particularly limited as long as considering the above points, in particular, mesh 400 or less, it can be suitably used in the range of 50% or more openings.

【0039】また、マスク部13は、乳剤を用いて、カソード電極パターンAの反転パターンに形成されている。 Further, the mask unit 13, by using the emulsion is formed in a reversal pattern of the cathode electrode pattern A. また、マスク部13は、図1に示すように、スクリーン部12から突出した状態に形成されている。 The mask 13, as shown in FIG. 1, is formed in a state of protruding from the screen unit 12. マスク部13は、例えば、周知のフォトリソグラフィ技術を用いて、露光及び現像によりパターンを形成することができる。 Mask portion 13, for example, by using a known photolithography technique, it is possible to form a pattern by exposure and development. そして、露光及び現像によりパターンが形成されるので、微細パターンも容易に形成することができる。 Since the pattern is formed by exposure and development, it can also be easily formed fine pattern.

【0040】また、マスク部13には、充分なスクリーン−基板間距離(上述)が確保されるように、充分な厚さが持たされている。 Further, the mask portion 13, sufficient screen - as substrate distance (described above) is secured, and a sufficient thickness is Motasa. これにより、蒸着の際に、蒸着材料がスクリーン部12の網の部分の裏面側にも充分に回り込んで、蒸着膜にスクリーン部12の形状が反映されることを抑制する。 Thus, during the deposition, wraps around enough on the back surface side of the portion of the net evaporation material screen 12, it suppresses the shape of the screen 12 is reflected in the deposited film. 本実施の形態においては、マスク部13の厚さが2.0×10 -6 (m)以上となるようにパターニングされたものを、好適に用いることができる。 In this embodiment, what thickness of the mask portion 13 is patterned so as to be 2.0 × 10 -6 (m) or more, can be suitably used.

【0041】次に、本実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10の製造は、枠体11に、上述の材質からなるメッシュ状のスクリーン部12を備えるとともに、該スクリーン部12の下面側に突出するようにマスク部13を形成する。 Next, production of the deposition screen mask 10 of this embodiment, the frame 11, provided with a mesh screen 12 formed of the above material, projecting on the lower surface side of the screen section 12 forming a mask portion 13 as. スクリーン部12は、枠体11にテンションをかけて張った状態にして備える。 Screen portion 12 is provided in the taut over tension to the frame 11. また、マスク部13 In addition, the mask portion 13
は、周知のフォトリソグラフィ技術により、所定のパターンに形成することができる。 Is a well-known photolithography technique, can be formed in a predetermined pattern.

【0042】次に、本実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10を用いて、有機EL素子を製造する方法を説明する。 Next, by an evaporation screen mask 10 of this embodiment, a method of manufacturing the organic EL element. 始めに、基板20上にアノード電極20aを所定のパターンに形成し、次いで、アノード電極20aの上面に、有機EL層20bを所定のパターンに形成する。 First, the anode electrode 20a is formed in a predetermined pattern on the substrate 20, then the upper surface of the anode electrode 20a, to form an organic EL layer 20b in a predetermined pattern.
アノード電極20aは、例えば、蒸着等によりアルミニウム、チタン、タングステン、ネオジムまたはクロム等の金属単体或いはこれらのうちの少なくとも1つを含む合金やITOのような透明金属等の低抵抗の金属膜などを用いて、例えば、周知のフォトリソグラフィ技術によりパターン形成することができる。 The anode electrode 20a is, for example, aluminum by vapor deposition or the like, titanium, tungsten, etc. neodymium or chromium elemental metal or low-resistance metal film of a transparent metal such as an alloy or ITO containing at least one of these using, for example, it can be patterned by a known photolithography technique. この後、適宜、酸素プラズマ洗浄などの処理を施した後に、アノード電極2 Thereafter, after appropriate subjected to treatment such as oxygen plasma cleaning, the anode electrode 2
0aの上面に、有機EL層20bを形成する。 The upper surface of 0a, forming an organic EL layer 20b. 有機EL Organic EL
層20bは、周知のフォトリソグラフィ技術によりパターン形成することができる。 Layer 20b may be patterned by a known photolithography technique. 例えば、レジスト材料を用いて隔壁を形成した後に、隔壁で囲まれる領域に、原材料となる溶液を流し込む。 For example, after forming the barrier ribs by using a resist material, in a region surrounded by the partition wall, pouring a solution of a raw material. また、適宜、加熱処理などを行って固化する。 Also, as appropriate, to solidify performed heat treatment or the like. なお、有機EL層20bが、例えば、 The organic EL layer 20b is, for example,
ホール輸送層と、発光層と、電子輸送層と、等からなる場合には、順次、これらの層を所定のパターンで形成することになる。 And the hole-transporting layer, a light emitting layer, if made of an electron transport layer, etc. sequentially, thus forming these layers in a predetermined pattern.

【0043】次いで、この状態で、本実施の形態特有の蒸着用スクリーンマスク10を用いて、カソード電極パターンを蒸着する。 [0043] Then, in this state, by using the evaporation screen mask 10 in the form unique to the present embodiment, depositing the cathode electrode pattern. 始めに、アノード電極20aと有機EL層20bとが形成された基板20を、電磁石ステージ21に設置する。 First, the substrate 20 and the anode electrode 20a and the organic EL layer 20b is formed is placed on the electromagnet stage 21. また、蒸着用スクリーンマスク10 In addition, the deposition for the screen mask 10
を、電磁石ステージ21に取り付ける。 The, attached to the electromagnet stage 21. この時、電磁石ステージ21をON状態として、スクリーン部12を磁力により基板20側に引きつけ、マスク部13の下面を蒸着面に密着させる。 At this time, the electromagnet stage 21 as ON state, attracted to the substrate 20 side of the screen unit 12 by the magnetic force, adhering the lower surface of the mask portion 13 on the deposition surface. 以上により、カソード電極20c By the above, the cathode electrode 20c
を形成するための準備をする(図3にこの状態を図示する)。 Prepare for forming to (illustrate this state in FIG. 3).

【0044】この状態で、蒸着材料を加熱して霧状にして、蒸着ポート30から照射する。 [0044] In this state, in the mist by heating the vapor deposition material is irradiated from the deposition port 30. この際、基板20を設置した電磁石ステージ21を、例えば、自公転させる。 At this time, the electromagnet stage 21 established the substrate 20, for example, is revolving. これにより、比較的、高真空であっても、スクリーン部12を介したマスク部13の間の領域に、充分に蒸着材料が照射され、メッシュのパターンによって蒸着材料が基板20へと届かなくなることがなく、蒸着膜を、 Thus, relatively, even at high vacuum, in the region between the mask portion 13 through the screen section 12, sufficient evaporation material is irradiated, the vapor deposition material by the pattern of the mesh does not reach to the substrate 20 no, the vapor-deposited film,
均一な連続膜とすることができる。 It can be a uniform continuous film. なお、蒸着材料が、 It should be noted that the vapor deposition material,
基板20へと充分に届くようにするために、真空度を低くした条件で蒸着しても良い。 In order to be sufficiently reach to the substrate 20, it may be deposited at low criteria of the degree of vacuum.

【0045】以上の通りにして、カソード電極パターンAを蒸着により形成する。 [0045] In the as above, the cathode electrode pattern A is formed by evaporation. 本実施の形態においては、カソード電極としては、例えば、カルシウム層を3.0×10 In the present embodiment, the cathode electrode, for example, the calcium layer 3.0 × 10
-8 (m)程度の膜厚に蒸着した後に、アルミニウム層を6.0 -8 after depositing a film thickness of about (m), an aluminum layer 6.0
×10 -7 (m)〜1.0×10 -6 (m)程度の膜厚に蒸着する。 × 10 -7 (m) ~1.0 × deposited to a thickness of 10 -6 (m). 次いで、蒸着用スクリーンマスク10を基板20上から外すことで、マスク部13の反転パターンを有するカソード蒸着パターンAが形成される。 Then, by removing the deposition screen mask 10 from the substrate 20, cathode deposition pattern A having a reverse pattern of the mask portion 13 is formed. 以上のようにして、カソード電極パターンAを形成して、有機EL素子を製造することができる。 As described above, by forming a cathode electrode pattern A, it is possible to manufacture an organic EL device.

【0046】以上の第1の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10によれば、マスク部13を乳剤により微細パターンに形成することができるので、微細パターンのカソード電極パターンAの形成が容易である。 [0046] According to the deposition screen mask 10 over the first embodiment, since the mask 13 can be formed in a fine pattern by emulsion, it is easy to form the cathode electrode pattern A fine pattern . また、マスク部13により充分なスクリーン−基板間距離が確保されるとともに、電磁石ステージ21は自公転されているので、スクリーンのメッシュ形状の影響を受けずに、 Further, sufficient screen by the mask unit 13 - with the distance between the substrates is ensured, since the electromagnet stage 21 is revolving, without being affected by the mesh screen shape,
均一かつ連続した膜として形成することができる。 It can be formed as a uniform and continuous film. さらに、マスク部13がスクリーン部12と基板20とを離間した状態にするので、形成した蒸着膜と、スクリーンとが接触したりすることがない。 Further, the mask portion 13 so that the state of being separated a screen portion 12 and the substrate 20, a deposition film formed, never the screen or contact. 従って、アノード電極20aとカソード電極20cと有機EL層20bと等からなる有機EL素子を、好適に、製造することができる。 Thus, an organic EL element consisting of anode electrode 20a and cathode electrode 20c and the organic EL layer 20b and the like, can be suitably be manufactured.

【0047】また、電磁石ステージ21の磁力により、 [0047] In addition, by the magnetic force of the electromagnet stage 21,
スクリーン部12が基板側に押しつけられるようになることで、マスク部13が蒸着面に密着する。 By the screen 12 comes to be pressed against the substrate side, the mask portion 13 is brought into close contact with the deposition surface. 従って、蒸着の際に、カソード電極パターンAの非蒸着部分に、蒸着材料が入り込むことを防止することができる。 Therefore, at the time of deposition, the non-deposition portion of the cathode electrode pattern A, it is possible to prevent the deposition material from entering. また、 Also,
この場合に、マスク部13は、ある程度の柔らかさをもつ乳剤により形成されているので、蒸着面を傷付けることがない。 In this case, the mask 13, because it is formed by emulsion having a certain softness, never damage the deposition surface.

【0048】〔第2の実施の形態〕以下、図5を参照して、第2の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク40を説明する。 [0048] Second Embodiment Hereinafter, with reference to FIG. 5, illustrating the deposition screen mask 40 of the second embodiment. なお、本実施の形態においては、マスク部1 In the present embodiment, the mask portion 1
3としてメタルマスク41を用いる以外は、第1の実施の形態と全く同様であり、同様の構成要素については、 Except using a metal mask 41 as 3 is the same as the first embodiment, similar components,
同一の符号を付してその説明を省略する。 Explanation thereof will be denoted by the same reference numerals.

【0049】図5に示すように、蒸着用スクリーンマスク40は、スクリーン部12の下側に、所定のパターンを有するメタルマスク41を形成した構成とされている。 [0049] As shown in FIG. 5, the deposition screen mask 40, the lower side of the screen portion 12, has a configuration forming a metal mask 41 having a predetermined pattern. メタルマスク41は、ニッケル等を含む金属薄膜でたとえばアディティブ法(例えば、メッキ法など)により形成することができる。 The metal mask 41 can be formed, for example, by an additive method a metal film containing nickel or the like (e.g., plating, etc.). このメタルマスク41は、前記マスク部13と同様に、スクリーン部12が基板20 The metal mask 41, similarly to the mask portion 13, the screen 12 is the substrate 20
表面に接触しないように支持する役目も担う。 Functions to support so as not to contact the surface is also responsible. また、メタルマスク41の厚さは、第1の実施の形態と同様に、 The thickness of the metal mask 41, like the first embodiment,
充分なスクリーン−基板間距離を確保するように考慮されている。 Sufficient screen - are considered to ensure the distance between the substrates.

【0050】蒸着用スクリーンマスク40を用いて、カソード電極パターンAを蒸着するときには、第1の実施の形態と同様に、電磁石ステージ21をON状態として、蒸着用スクリーンマスク40を基板20に設置した状態で、蒸着材料を照射する。 [0050] Using the deposition screen mask 40, when depositing the cathode electrode pattern A, as in the first embodiment, the electromagnet stage 21 as ON state, and the deposition screen mask 40 is placed on the substrate 20 state, irradiating the evaporation material. 次いで、蒸着用スクリーンマスク40を基板20上から外すことで、メタルマスク41の反転パターンを有するカソード蒸着パターンA Then, by removing the deposition screen mask 40 from the substrate 20, cathode deposition pattern A having a reverse pattern of the metal mask 41
が形成される。 There is formed.

【0051】以上の第2の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10によれば、メタルマスク41は、金属材料から形成されているので、例えば、乳剤などを用いた場合と比較して、耐熱性を向上することができる。 [0051] According to the deposition screen mask 10 over the second embodiment, the metal mask 41, because it is formed from a metallic material, for example, as compared with the case of using such emulsions, heat resistance it is possible to improve. 従って、カソード電極パターンAの蒸着の際のプロセス温度を向上することができる。 Therefore, it is possible to improve the process temperature during the deposition of the cathode electrode pattern A.

【0052】なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。 [0052] The present invention is not limited to the above embodiment. 例えば、本発明の蒸着用スクリーンマスク10、40で製造される有機EL素子の具体的な構成は、本実施の形態で示した構成に限られず、様々な構成に変更可能であることは勿論である。 For example, the specific structure of the organic EL device manufactured by the deposition screen mask 10, 40 of the present invention is not limited to the configuration shown in this embodiment, it can be changed in a variety of configurations are of course is there. その他、カソード電極の構成や材質など、具体的に示した細部構成および方法は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、適宜に変更可能であることは勿論である。 Other, such as configuration and material of the cathode electrode, detailed structure and methods specifically illustrated, without departing from the scope of the present invention, can of course be modified as appropriate.

【0053】 [0053]

【発明の効果】請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、スクリーン部が磁性材料を含むので基板上にスクリーンマスクにより所定のパターンの薄膜を蒸着により形成する際に、電磁石を有するステージに基板を載置することでスクリーン部がマスク部の第1開口部及び隔壁を介して基板側に引きつけられるためにマスク部を基板に押しつけることができるのでマスク部と基板との密着性が増し、隔壁と基板の隙間から蒸着材料が入り込むことを防止して高精細な薄膜のパターニングが可能となる。 Effects of the Invention According to the deposition screen mask of claim 1, wherein, when the screen part is formed by depositing a thin film of a predetermined pattern by a screen mask on a substrate because they contain a magnetic material, a stage having an electromagnet it screen portion is adhesion between the mask and the substrate increases because the mask portion to be attracted to the substrate side can be pressed against the substrate through the first opening and the partition wall of the mask portion is for mounting the substrate, patterning of high-resolution thin film is made possible to prevent the deposition material from entering from the gap between the partition wall and the substrate. このスクリーンマスクは再利用できるので、蒸着する度にマスク部と同じ形状のマスクをフォトリソ工程により形成する必要がないので低コストで且つ高スループットで蒸着を行うことが可能となる。 This screen mask can be reused, it is possible to perform and deposited with high throughput at a low cost because there is no need to form by photolithography masks having the same shape as the mask portion each time the deposition. また、蒸着膜は、マスク部によりスクリーン部と基板との距離があけられているので、スクリーン部のメッシュ形状の影響を受けずに、均一かつ連続した膜として形成することができる。 Also, deposited film, the distance between the screen and the substrate are opened by the mask portion, without being affected by the mesh shape of the screen portion can be formed as a uniform and continuous film. また、形成した蒸着膜と、スクリーンとが接触したりすることがない。 Further, the formation was deposited film, never the screen or contact.

【0054】請求項2記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、請求項1と同様の効果を奏することができるとともに、マスク部は、感光性材料によりパターニングが可能であることから、微細なパターンの形成も容易である。 [0054] According to the deposition screen mask of claim 2, it is possible to achieve the same effect as claim 1, since the mask portion is capable patterning a photosensitive material, a fine pattern formation is also easy. また、露光・現像してパターニングされた感光性材料は、通常、ある程度の柔軟性を持っており、マスク部の下面と基板表面とが密着した場合においても、蒸着面に傷などを付けたりすることがない。 The photosensitive material is patterned by exposure and development is usually have a certain degree of flexibility, even when the lower surface and the substrate surface of the mask portion is in close contact, or with a scratches on the deposition surface that there is no.

【0055】請求項3記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、請求項1と同様の効果を奏することができるとともに、マスク部が金属材料から形成されているので、 [0055] According to the deposition screen mask of claim 3, it is possible to achieve the same effect as claim 1, the mask portion is formed from a metallic material,
ある程度の耐熱性を確保することができ、プロセス温度の上限を高くすることができる。 It is possible to ensure a certain degree of heat resistance, it is possible to increase the upper limit of the process temperature.

【0056】請求項4記載の蒸着用スクリーンマスクによれば、請求項1〜3と同様の効果を奏することができるとともに、マスク部はスクリーン部に支持されるので、マスク部を微細パターンに形成することも容易である。 [0056] According to the deposition screen mask according to claim 4, it is possible to achieve the same effect as claim 1, the mask portion is supported by the screen portion, a mask portion for fine pattern it is also easy to.

【0057】請求項5記載の蒸着方法によれば、請求項1〜4に記載の蒸着用スクリーンマスクと同様の効果を奏することができるとともに、マスク部で仕切られた蒸着されるべき部分に、蒸着材料が充分に供給され、均一で連続した蒸着膜を、好適に得ることができる。 [0057] According to a deposition method according to claim 5, it is possible to achieve the same effect as the deposition screen mask according to claims 1 to 4, the part to be deposited partitioned by the mask portion, deposited material is sufficiently supplied, the continuous deposited film with uniform, can be suitably obtained.

【0058】請求項6記載の蒸着方法によれば、請求項5と同様の効果を奏することができるとともに、さらに好適に、所定のパターンの蒸着膜を形成することができる。 [0058] According to the method of deposition according to claim 6, wherein, it is possible to achieve the same effect as claimed in claim 5, it is possible to further suitably, form a deposited film of a predetermined pattern.

【0059】請求項7記載の蒸着方法によれば、請求項4に記載の蒸着用スクリーンマスクと同様の効果を奏することができるとともに、マスク部は基板に密着しているので、マスク部下面と基板との間に、蒸着材料が入り込むこともなく、所定のパターンに蒸着膜を形成することができる。 [0059] According to the method of deposition according to claim 7, it is possible to achieve the same effect as the deposition screen mask of claim 4, since the mask portion is in close contact with the substrate, the mask lower surface between the substrate, it without entering vapor deposition material, it is possible to form a deposited film in a predetermined pattern.

【0060】請求項8記載の有機EL素子の製造方法によれば、請求項5〜7に記載の蒸着方法と同様の効果を奏することができるとともに、第一電極と第二電極と有機EL層と等からなり、かつ、少なくとも第二電極がパターニングされた有機EL素子を、好適に製造することができる。 [0060] According to the manufacturing method of the organic EL device of claim 8, it is possible to achieve the same effect as a deposition method according to claim 5-7, first electrode and the second electrode and the organic EL layer It consists DOO etc., and an organic EL device is at least a second electrode is patterned, can be suitably produced.

【0061】 [0061]

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明を適用した第1の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク10の構成を示す図面である。 1 is a diagram showing the configuration of the deposition screen mask 10 of the first embodiment according to the present invention.

【図2】図1の蒸着用スクリーンマスク10を基板側から眺めた平面図である。 The evaporation screen mask 10 in FIG. 2 FIG. 1, which is a plan view as viewed from the substrate side.

【図3】図1の蒸着用スクリーンマスク10を、電磁石ステージ21に設置した状態を示す図面である。 [3] The deposition screen mask 10 in FIG. 1 is a drawing showing an installed state of the electromagnet stage 21.

【図4】図1の蒸着用スクリーンマスク10を用いて、 [4] using the deposition screen mask 10 in FIG. 1,
カソード電極を蒸着する様子を示す図面である。 It is a diagram showing a state of depositing a cathode electrode.

【図5】本発明を適用した第2の実施の形態の蒸着用スクリーンマスク40の構成を示す図面である。 5 is a diagram showing the configuration of the deposition screen mask 40 of the second embodiment according to the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10 蒸着用スクリーンマスク 12 スクリーン部 13 マスク部 20 基板 20a アノード電極(第一電極) 20b 有機EL層 20c カソード電極(第二電極) 30 蒸着ポート(照射源) 40 蒸着用スクリーンマスク 10 deposition screen mask 12 screen portion 13 mask unit 20 substrate 20a anode electrode (first electrode) 20b organic EL layer 20c cathode electrode (second electrode) 30 deposited port (radiation source) 40 for deposition screen mask

Claims (8)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 基板上に蒸着によりパターニングされた膜を形成する際にマスクとして用いられる蒸着用スクリーンマスクであって、 複数の第1開口部を区画する隔壁を有するマスク部と、 各々の開口面積が前記各第1開口部の開口面積より小さい複数の第2開口部を有し、前記複数の第2開口部が前記マスクの前記各第1開口部上に配置される磁性材料を含むメッシュ状のスクリーン部と、 を備えることを特徴とする蒸着用スクリーンマスク。 1. A deposition screen mask used as a mask to form a patterned film by vapor deposition on a substrate, and a mask portion having partition walls separating a plurality of first openings, each of the openings area has a second opening more than an opening area smaller of the respective first openings, the mesh containing a magnetic material in which the second opening portion of the plurality are disposed on the respective first openings of the mask deposition screen mask, characterized in that it comprises Jo of the screen unit.
  2. 【請求項2】 請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクにおいて、 前記マスク部が、露光及び現像によりパターニングされた感光性材料からなることを特徴とする蒸着用スクリーンマスク。 2. A deposition screen mask according to claim 1 wherein, the deposition screen mask the mask portion, characterized in that it consists patterned photosensitive material by exposure and development.
  3. 【請求項3】 請求項1記載の蒸着用スクリーンマスクにおいて、 前記マスク部が、スクリーン部にアディティブ法によりパターニングされた金属材料からなることを特徴とする蒸着用スクリーンマスク。 3. A deposition screen mask according to claim 1, deposition screen mask the mask portion, characterized in that it consists of patterned metal material by an additive method on the screen unit.
  4. 【請求項4】 前記請求項1〜3のいずれか一つに記載の蒸着用スクリーンマスクにおいて、 前記スクリーン部は周囲を枠体で覆われ、前記マスク部は前記スクリーン部により支持されていることを特徴とする蒸着用スクリーンマスク。 4. The deposition screen mask according to any one of the claims 1 to 3, wherein the screen portion is covered around by the frame, said mask portion is supported by the screen portion deposition screen mask according to claim.
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一つに記載の蒸着用スクリーンマスクを用いた蒸着方法であって、 前記蒸着用スクリーンマスクのマスク部が基板に密着するように前記蒸着用スクリーンマスク及び前記基板を配置した後に、 前記基板に対して複数の方向から蒸着材料を照射することを特徴とする蒸着方法。 5. A deposition method using an evaporation screen mask according to any one of claims 1 to 4, wherein the deposition screen so that the mask portion of the deposition screen mask is brought into close contact with the substrate after placing the mask and the substrate, deposition method and then irradiating the evaporation material from a plurality of directions relative to the substrate.
  6. 【請求項6】 請求項5記載の蒸着方法において、 蒸着材料を複数の方向から前記基板に照射するために、 6. A method of deposition according to claim 5, wherein, in order to irradiate the deposition material from a plurality of directions to the substrate,
    前記基板を蒸着材料の照射方向に対して斜めにするとともに、蒸着材料の照射源に対して前記基板を相対的に回転させることを特徴とする蒸着方法。 While obliquely with respect to the irradiation direction of the substrate deposition material, the deposition method characterized by relatively rotating the substrate relative to the radiation source of the vapor deposition material.
  7. 【請求項7】 請求項4記載の蒸着用スクリーンマスクを用いた蒸着方法であって、 前記蒸着用スクリーンマスクのマスク部が基板に密着するように蒸着用スクリーンマスクのスクリーン部を磁力により基板側に押しつけた状態で、蒸着を行うことを特徴とする蒸着方法。 7. A vapor deposition method using a deposition screen mask according to claim 4, wherein the substrate side by the magnetic force of the screen portion of the deposition screen mask so that the mask portion of the deposition screen mask is brought into close contact with the substrate in a state of pressing, the method of depositing and performing deposition.
  8. 【請求項8】 請求項5〜7のいずれか一つに記載の蒸着方法を用い、基板上に少なくとも第一電極と有機EL 8. Using the method of deposition according to any one of claims 5-7, at least a first electrode and an organic EL on the substrate
    層と第二電極とが形成された有機EL素子の製造方法であって、 基板上に第一電極と有機EL層とを形成した後に、前記蒸着方法を用いてパターニングされた第二電極を形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。 A layer in the manufacturing method of the second electrode and is formed organic EL device, after forming a first electrode and the organic EL layer on a substrate, forming a second electrode which is patterned using the deposition method the method for manufacturing an organic EL device which is characterized in that.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1626103A2 (en) 2004-07-15 2006-02-15 Samsung SDI Co., Ltd. Mask frame assembly for depositing thin layer and organic light emitting display device manufactured using the mask frame assembly
US7537798B2 (en) 2002-11-22 2009-05-26 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Deposition mask frame assembly, method of fabricating the same, and method of fabricating organic electroluminescent device using the deposition mask frame assembly
US7837528B2 (en) 2002-11-29 2010-11-23 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Evaporation mask, method of fabricating organic electroluminescent device using the same, and organic electroluminescent device
WO2012008166A1 (en) * 2010-07-16 2012-01-19 パナソニック株式会社 Method for producing organic el element
KR101518123B1 (en) 2013-03-10 2015-05-06 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 Shadow mask assembly
US9502276B2 (en) 2012-04-26 2016-11-22 Intevac, Inc. System architecture for vacuum processing
US9525099B2 (en) 2012-04-19 2016-12-20 Intevac, Inc. Dual-mask arrangement for solar cell fabrication
US9543114B2 (en) 2014-08-05 2017-01-10 Intevac, Inc. Implant masking and alignment system with rollers
US10062600B2 (en) 2012-04-26 2018-08-28 Intevac, Inc. System and method for bi-facial processing of substrates

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7537798B2 (en) 2002-11-22 2009-05-26 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Deposition mask frame assembly, method of fabricating the same, and method of fabricating organic electroluminescent device using the deposition mask frame assembly
US7837528B2 (en) 2002-11-29 2010-11-23 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Evaporation mask, method of fabricating organic electroluminescent device using the same, and organic electroluminescent device
US8334649B2 (en) 2002-11-29 2012-12-18 Samsung Display Co., Ltd. Evaporation mask, method of fabricating organic electroluminescent device using the same, and organic electroluminescent device
EP1626103A2 (en) 2004-07-15 2006-02-15 Samsung SDI Co., Ltd. Mask frame assembly for depositing thin layer and organic light emitting display device manufactured using the mask frame assembly
WO2012008166A1 (en) * 2010-07-16 2012-01-19 パナソニック株式会社 Method for producing organic el element
US8765503B2 (en) 2010-07-16 2014-07-01 Panasonic Corporation Method for fabricating organic EL device
US9525099B2 (en) 2012-04-19 2016-12-20 Intevac, Inc. Dual-mask arrangement for solar cell fabrication
US9502276B2 (en) 2012-04-26 2016-11-22 Intevac, Inc. System architecture for vacuum processing
US10062600B2 (en) 2012-04-26 2018-08-28 Intevac, Inc. System and method for bi-facial processing of substrates
KR101518123B1 (en) 2013-03-10 2015-05-06 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 Shadow mask assembly
US9543114B2 (en) 2014-08-05 2017-01-10 Intevac, Inc. Implant masking and alignment system with rollers

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