JP2001244418A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JP2001244418A
JP2001244418A JP2000055301A JP2000055301A JP2001244418A JP 2001244418 A JP2001244418 A JP 2001244418A JP 2000055301 A JP2000055301 A JP 2000055301A JP 2000055301 A JP2000055301 A JP 2000055301A JP 2001244418 A JP2001244418 A JP 2001244418A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor integrated
power supply
integrated circuit
circuit
ground
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000055301A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenkin O
建欽 王
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2000055301A priority Critical patent/JP2001244418A/ja
Priority to EP01105004.4A priority patent/EP1130649B1/en
Priority to US09/797,271 priority patent/US6385116B2/en
Publication of JP2001244418A publication Critical patent/JP2001244418A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
    • H10D89/611—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs using diodes as protective elements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
    • H10D89/711—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs using bipolar transistors as protective elements

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 取扱い状況と端子接続状況によらない有効な
ESD保護機能を備えた半導体集積回路装置を提供す
る。 【解決手段】 半導体集積回路の内部被保護回路1の電
源とグランド以外の端子は、電源ラインとの間に保護ダ
イオードD1とD3、グランドラインとの間にD2とD
4を有し、電源ラインとグランドライン間にキャパシタ
CとトランジスタQから構成したチャージパス回路2を
有する。好ましくは、チャージパス回路のトランジスタ
Qのコレクタと電源ラインとの間にアノードがそのコレ
クタに接続するダイオードを有する。さらに、互いに絶
縁された複数のグランドラインがある場合、グランドラ
インの間に一方のカソードが他方のアノードに接続した
ダイオードから構成するグランドリングを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置に関し、より詳細には、静電保護回路の構成を工夫す
ることにより、集積回路の静電破壊を効率的に防止する
機能を備えた半導体集積回路装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路は微細加工技術の
進展により高集積化、高速化が進められている。ところ
で、微細化の進行に伴い、素子の静電耐力が低下する。
従来の半導体集積回路では、信号端子と電源ラインとの
間、及び、信号端子とグランドラインとの間に夫々、保
護ダイオードが逆方向に接続されることにより、静電エ
ネルギーを電源ライン或いはグランドラインにバイパス
し、内部回路の静電破壊を防止する。しかし、この構成
の保護回路では、電源ラインとグランドラインの何れか
が開放状態にある場合、十分に保護機能を果たせないと
いった問題があることは知られている。このような場合
に対応できる半導体集積回路がいくつか提案されてい
る。
【0003】図4は、特開平11−74468号公報に
記載の半導体集積回路の回路図である。半導体集積回路
は、被保護回路1を静電気から守るために、各信号端子
に接続されたPNP保護トランジスタQ11及びNPN
保護トランジスタQ12を有する。保護トランジスタQ
11は、エミッタが信号端子11に、コレクタがグラン
ドライン4に、ベースが電源ライン3に夫々接続され
る。保護トランジスタQ12は、エミッタが信号端子1
1に、コレクタが電源ライン3に、ベースがグランドラ
イン4に夫々接続される。一対の保護ダイオードD11
及びD12は夫々、保護トランジスタQ11及びQ12
のベース・エミッタ間に寄生する寄生ダイオードであ
る。
【0004】電源ラインが接続状態で信号端子11に正の
サージを受けたときとグランドラインが接続状態で信号
端子11に負のサージを受けたときは、保護トランジスタ
のベースエミッタ接合の正方向導通より内部回路を保護
する。一方、電源ラインが接続状態で信号端子11に負の
サージを受けたときとグランドラインが接続状態で信号
端子11に正のサージを受けたときは、保護トランジスタ
の瞬間的トランジスタ動作、即ち、ベースに小さいサー
ジ電流が流れると、コレクタに大きな電流が流れ、サー
ジ電荷を電源ライン或いはグランドラインに排出するこ
とにより、内部回路を保護する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記公報の技術は、電
源ラインとグランドラインの何れかが開放状態にあって
も、内部回路を有効に保護することができるものであ
る。
【0006】しかし、半導体集積回路の静電破壊は製造
から応用まで様々の段階で発生し得るもので、発生原因
は必ずしも信号端子対電源ライン或いは対グランドライ
ンに正或いは負のサージ電圧を受けたことではない。上
記公報に記載の静電保護回路では、例えば、被保護回路
はコモンエミッタ差動増幅器の場合、電源ラインとグラ
ンドラインは共に開放状態にあるとき、差動入力端子間
にサージ電圧を受けたとすると、差動対トランジスタの
何れかは必ず逆ブレークし、破壊される。
【0007】即ち、半導体集積回路は任意の状態で、任
意の端子間にサージ電圧を受けたとしても有効に保護さ
れるよう、静電破壊(以下はESDと呼ぶ)保護回路を設
けることが必要なのである。
【0008】本発明は、上記したような従来の技術が有
する問題点を解決するためになされたものであり、任意
の場合で、任意の端子間にチャージを印加しても、有効
に破壊保護できる半導体集積回路装置を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体集積回路装置は、複数の信号端子を
有する被保護回路と、該被保護回路を保護するESD保
護回路とから構成され、前記ESD保護回路が、各信号
端子と電源ライン及びグランドラインとの間に夫々逆方
向に接続された一対の保護ダイオードと、前記電源ライ
ンとグランドラインとの間に電流路が接続されたバイポ
ーラトランジスタと、前記バイポーラトランジスタのコ
レクタとベースとの間に接続されたキャパシタとを備え
ることを特徴とする。
【0010】本発明の半導体集積回路装置は、前記バイ
ポーラトランジスタ(以下は放電トランジスタと呼ぶ)
とキャパシタから構成したサージパスの瞬間導通によ
り、前記の電源ラインとグランドラインが開放状態で
も、閉路状態でも、任意の端子から侵入した電荷がその
端子に接続した保護ダイオードを経由して放電電流とし
て流れることができるので、有効にESD保護機能が働
く。
【0011】また、本発明の半導体集積回路装置は、電
源ラインとグランドラインが独立した複数の被保護ブロ
ック回路及び対応するそれぞれのESD保護回路を備
え、各被保護回路のグランドラインの間に、逆並列に接
続された対なるダイオードが挿入されることが好まし
い。この場合、互いの電源ライン及びグランドラインが
絶縁された被保護ブロック回路の間で、任意の信号端子
間にサージを受けても、ESD保護機能が有効に働く。
【0012】前記キャパシタと前記バイポーラトランジ
スタのコレクタとの間にダイオードが順方向に挿入され
ることも本発明の好ましい態様である。この場合、放電
トランジスタのコレクタ・エミッタ間電圧の上昇を抑え
ることができるので、定額の電源電圧で使用されるため
の、放電トランジスタのコレクタとエミッタ間耐圧の設
計基準が緩和される。
【0013】本発明の半導体集積回路は、通常使用時、
前記電源ラインの電位がグランドラインの電位より高い
場合、放電トランジスタがNPNトランジスタで対応す
るが、逆の場合、放電トランジスタがPNPトランジス
タで対応することもできる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態例に基づ
いて、本発明の半導体集積回路装置について図面を参照
して説明する。図1は、本発明の第1実施形態例の半導
体集積回路の回路図である。本半導体集積回路は、複数
の信号端子を有しESD保護機能を受ける被保護回路
1、各信号端子と電源ライン或はグランドラインに接続
される保護ダイオードD1〜D4、及び、電源ラインと
グランドラインとの間で放電電流として流すチャージパ
ス回路2で構成される。
【0015】被保護回路1はグランドラインに対して正
の電源電圧により動作するもので、信号端子11には、
保護ダイオードD1のアノード及び保護ダイオードD2
のカソードが接続され、信号端子12には、保護ダイオ
ードD3のアノード及び保護ダイオードD4のカソード
が接続される。保護ダイオードD1及びD3は、双方の
カソードが電源ライン3に接続され、保護ダイオードD
2及びD4は、双方のアノードがグランドライン4に接
続される。
【0016】保護ダイオードD1〜D4は、高周波特性
が良好でESD保護機能を有するダイオードが選択され
る。
【0017】チャージパス回路2は、NPN放電トラン
ジスタQ及び放電キャパシタCで構成される。放電トラ
ンジスタQは、コレクタが電源ライン3に接続され、ベ
ースが放電キャパシタCを介して電源ライン3に接続さ
れ、エミッタがグランドライン4に接続される。
【0018】上記実施形態例の半導体集積回路では、通
常に使用されるとき、電源ライン3とグランドライン4
との間は、電源電圧VCCと等しい電位差の定常状態に
なる。放電キャパシタCには、充放電はしないため、放
電トランジスタQにはベース電流が流れないので、コレ
クタ・エミッタ間を遮断する。このとき、被保護回路の
電源ラインとグランドライン間は外部低内部抵抗電源に
接続されているため、信号端子11と12間サージ電圧
が印加されても、従来の保護メカニズムにより保護ダイ
オードがサージエネルギーを電源ライン或はグランドラ
インにバイパスと吸収し、被保護回路が有効に保護され
る。
【0019】上記半導体集積回路は通常として使用され
ていない、即ち、被保護回路は外部電源とグランドに接
続されていない場合の保護メカニズムを記述する。
【0020】まず、信号端子11或は12は電源ライン
に対して正のサージが印加された場合とグランドライン
に対して負のサージが印加された場合は、保護ダイオー
ドD1〜D4が正方向導通するし、サージエネルギーが
吸収される。
【0021】上記の信号端子は電源ラインに対して負の
サージが印加された場合、正の電荷は電源ラインからキ
ャパシタCを介して、放電トランジスタのベースに流れ
込み、ベース・エミッタ接合に正方向の充電電流が流れ
る。このとき、放電トランジスタのコレクタから大きな
電流がグランドラインに向けて流れ(以下に、放電トラ
ンジスタのこのような動作を瞬時動作と呼ぶ)、グラン
ドライン対信号端子の電圧が上昇し、保護ダイオードD
2或はD4を正方向導通させ、電荷が信号端子から排出
される。同様に、信号端子はグランドラインに対して正
のサージが印加された場合、信号端子対電源ラインの電
位が上昇するため、保護ダイオードD1或はD3が正方
向導通し、放電トランジスタが瞬時動作し、電荷がグラ
ンドラインから排出される。
【0022】そして、信号端子11は信号端子12に対
して正のサージを受けた場合、保護ダイオードD1正方
向導通、放電トランジスタ瞬時動作、保護ダイオードD
4正方向導通という動作が順次に発生し、正の電荷が信
号端子12から排出される。同様に、信号端子11が信
号端子12に対して負のサージを受けた場合、保護ダイ
オードD3正方向導通、放電トランジスタ瞬時動作、保
護ダイオードD2正方向導通との動作が発生し、正の電
荷が信号端子11から排出される。
【0023】上記実施形態例によれば、保護ダイオード
を各信号端子に配置し、且つ、電源ライン3とグランド
ライン4との間に1つのESD回路を配置することによ
り、任意の二端子間サージ電圧が印加されても、放電経
路が存在するため、半導体集積回路のESD保護が有効
にできある。
【0024】図2は、図1のチャージパス回路2の第2
の具体例を示す回路図である。チャージパス回路2A
は、放電ダイオードD5を有する。放電ダイオードD5
は、カソードが放電トランジスタQのコレクタに接続さ
れ、アノードが電源ライン3に接続される。
【0025】放電ダイオードD5は、トランジスタQの
コレクタ・エミッタ間電圧を順方向電圧分だけ低くでき
る。この場合、放電ダイオードD5の特性及び個数を調
整することにより、トランジスタQのコレクタ・エミッ
タ間電圧を任意に抑えることができるので、定額の電源
電圧で使用されるための、放電トランジスタのコレクタ
とエミッタ間耐圧の設計基準が緩和される。
【0026】図3は、本発明の第2実施形態例の半導体
集積回路の回路図である。本半導体集積回路は、図1に
示した回路を1つの回路ブロックとする回路ブロック1
01、102、及び、2つの回路ブロック間で放電電流
を流すグランドリング回路103で構成される。回路ブ
ロック101及び102は夫々、大規模マルチ機能を有
する高周波回路であり、回路間のアイソレーションを高
めるために回路ブロック毎に電源端子13及びグランド
端子14が配置される。
【0027】グランドリング回路103は、回路間ダイ
オードD6及びD7で構成され、回路間ダイオードD6
及びD7は夫々、一方のアノードが他方のカソードに接
続される。回路ブロック101及び102は夫々、グラ
ンドライン4がグランドリング回路103の一方のノー
ド及び他方のノードに接続される。
【0028】本実施形態例の半導体集積回路は通常とし
て使用されるとき、異なるグランドラインは同電位なの
で、グランドリングは開放の状態になり、ブロック間の
アイソレーションに影響を与えない。通常として使用さ
れていないとき、即ち、全ての電源ラインとグランドラ
インが開放状態のとき、例えば、ブロック101の信号
端子11はブロック102の信号端子11に対して正の
サージを受けたとすると、ブロック101の保護ダイオ
ードD1が正方向導通、ブロック101の放電トランジ
スタが瞬時動作、グランドリングのダイオードD6が正
方向導通、ブロック102の保護ダイオードD2が正方
向導通をして、正の電荷がブロック102の信号端子1
1に到着し、排出される。この例以外、異なるブロック
間の任意の二端子間にサージが印加されたとしても、上
記の動作に類似した動作が発生し、集積回路全体が有効
に保護される。
【0029】上記実施形態例によれば、半導体集積回路
が大規模化し回路ブロック数が増加し、任意の信号端子
間にサージを受けても、放電電流を流す電流経路が形成
されるので、ESD保護機能が有効に働く。
【0030】なお、上記実施形態例ではNPNトランジ
スタについて説明したが、極性を変えれば、PNPトラ
ンジスタについても同様な効果が得られる。
【0031】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の半導体集積回路装置は、上
記実施形態例の構成にのみ限定されるものでなく、上記
実施形態例の構成から種々の修正及び変更を施した半導
体集積回路装置も、本発明の範囲に含まれる。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路装置では、電源ラインとグランドラインと間に配
置されたチャージパス回路が放電電流を流す電流経路を
形成するので、使用状況及び端子接続状況に関係なくE
SD保護機能が有効に働く。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態例の半導体集積回路の回
路図である。
【図2】図1のチャージパス回路2の第2の具体例を示
す回路図である。
【図3】本発明の第2実施形態例の半導体集積回路の回
路図である。
【図4】特開平11−74468号公報に記載の半導体
集積回路の回路図である。
【符号の説明】
1 被保護回路 2 チャージパス回路 3 電源ライン 4 グランドライン 11,12 信号端子 13 電源端子 14 グランド端子 21,22 放電端子 101,102 回路ブロック 103 グランドリング回路 D1〜D4,D11,D12 保護ダイオード D5 放電ダイオード D6,D7 回路間ダイオード Q 放電トランジスタ Q11,Q12 保護トランジスタ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の信号端子を有する被保護回路と、
    該被保護回路を保護するESD保護回路とから構成さ
    れ、前記ESD保護回路が、各信号端子と電源ライン及
    びグランドラインとの間に夫々逆方向に接続された一対
    の保護ダイオードと、前記電源ラインとグランドライン
    との間に電流路が接続されたバイポーラトランジスタ
    と、前記バイポーラトランジスタのコレクタとベースと
    の間に接続されたキャパシタとを備えることを特徴とす
    る半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】 互いに独立した複数の被保護回路と該被
    保護回路に対応して配設されるESD保護回路とを備え
    た、請求項1に記載の半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 各被保護回路のグランドラインの間に、
    逆並列に接続された1対のダイオードが挿入される、請
    求項2に記載の半導体集積回路装置。
  4. 【請求項4】 前記キャパシタと前記バイポーラトラン
    ジスタのコレクタとの間にダイオードが順方向に挿入さ
    れる、請求項1〜3の何れかに記載の半導体集積回路装
    置。
  5. 【請求項5】 前記バイポーラトランジスタがNPNト
    ランジスタである、請求項1〜4の何れかに記載の半導
    体集積回路装置。
JP2000055301A 2000-03-01 2000-03-01 半導体集積回路装置 Pending JP2001244418A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000055301A JP2001244418A (ja) 2000-03-01 2000-03-01 半導体集積回路装置
EP01105004.4A EP1130649B1 (en) 2000-03-01 2001-03-01 Semiconductor integrated device with protection against ESD
US09/797,271 US6385116B2 (en) 2000-03-01 2001-03-01 Semiconductor integrated device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000055301A JP2001244418A (ja) 2000-03-01 2000-03-01 半導体集積回路装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001244418A true JP2001244418A (ja) 2001-09-07

Family

ID=18576448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000055301A Pending JP2001244418A (ja) 2000-03-01 2000-03-01 半導体集積回路装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6385116B2 (ja)
EP (1) EP1130649B1 (ja)
JP (1) JP2001244418A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010080472A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Seiko Epson Corp 半導体装置
JP2011254562A (ja) * 2010-05-07 2011-12-15 Panasonic Corp モータ電流検出用ic、およびこれを用いた電流検出器またはモータ制御装置
US8912660B2 (en) 2010-08-18 2014-12-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device
US9136228B2 (en) 2010-06-02 2015-09-15 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device
JP2016139247A (ja) * 2015-01-27 2016-08-04 新日本無線株式会社 定電流駆動回路

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3495031B2 (ja) * 2002-05-28 2004-02-09 沖電気工業株式会社 半導体装置の静電破壊防止保護回路
TW560038B (en) * 2002-05-29 2003-11-01 Ind Tech Res Inst Electrostatic discharge protection circuit using whole chip trigger technique
JP2004087765A (ja) * 2002-08-27 2004-03-18 Fujitsu Ltd 静電気放電保護回路
KR100518593B1 (ko) * 2003-09-04 2005-10-04 삼성전자주식회사 다수개의 전원들을 사용하는 시스템-인-패키지(sip)에내장되는 정전기 방지 회로
CN1992266A (zh) * 2005-12-27 2007-07-04 松下电器产业株式会社 半导体集成电路装置
KR101008509B1 (ko) * 2006-01-17 2011-01-17 브로드콤 코포레이션 파워 오버 이더넷 컨트롤러 집적 회로 아키텍처
EP1903653B1 (en) * 2006-08-31 2018-09-26 Avago Technologies General IP (Singapore) Pte. Ltd. Over-voltage protection for power and data applications
KR100885375B1 (ko) 2007-02-16 2009-02-25 매그나칩 반도체 유한회사 정전기 방지 회로를 포함하는 반도체 소자
US7974053B2 (en) * 2008-05-29 2011-07-05 Amazing Microelectronic Corp ESD protection circuit for differential I/O pair
US9508841B2 (en) * 2013-08-01 2016-11-29 General Electric Company Method and system for a semiconductor device with integrated transient voltage suppression
TWI591795B (zh) 2016-05-09 2017-07-11 瑞昱半導體股份有限公司 靜電放電保護電路
US20180083441A1 (en) * 2016-09-20 2018-03-22 Globalfoundries Inc. Method, apparatus, and system for a semiconductor device having novel electrostatic discharge (esd) protection scheme and circuit
CN113540070B (zh) * 2020-04-20 2023-12-12 长鑫存储技术有限公司 静电保护电路

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3562547A (en) * 1967-04-17 1971-02-09 Ibm Protection diode for integrated circuit
JPH0693497B2 (ja) * 1986-07-30 1994-11-16 日本電気株式会社 相補型mis集積回路
US5189588A (en) * 1989-03-15 1993-02-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Surge protection apparatus
JPH02280621A (ja) * 1989-03-16 1990-11-16 Siemens Ag トランジスタ回路
KR920009015A (ko) * 1990-10-29 1992-05-28 김광호 반도체 칩의 보호회로
DE69622465T2 (de) * 1995-04-24 2003-05-08 Conexant Systems, Inc. Verfahren und Apparat zum Koppeln verschiedener, unabhängiger on-Chip-Vdd-Busse an eine ESD-Klemme
US5631793A (en) * 1995-09-05 1997-05-20 Winbond Electronics Corporation Capacitor-couple electrostatic discharge protection circuit
DE19539079A1 (de) * 1995-10-20 1997-04-24 Telefunken Microelectron Schaltungsanordnung
US5940258A (en) * 1996-02-29 1999-08-17 Texas Instruments Incorporated Semiconductor ESD protection circuit
US5818086A (en) * 1996-06-11 1998-10-06 Winbond Electronics Corporation Reinforced ESD protection for NC-pin adjacent input pin
US5717560A (en) * 1996-08-23 1998-02-10 Intel Corporation ESD protection device using static capacitance coupling between drain and gate
KR100249162B1 (ko) * 1996-12-31 2000-03-15 김영환 정전기(eds)보호회로
JPH1174468A (ja) 1997-08-29 1999-03-16 Sony Corp 半導体装置
US5990723A (en) * 1998-01-09 1999-11-23 Maxim Integrated Products, Inc. Filter circuits for protecting against transient electrical pulses
US6144542A (en) * 1998-12-15 2000-11-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. ESD bus lines in CMOS IC's for whole-chip ESD protection

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010080472A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Seiko Epson Corp 半導体装置
JP2011254562A (ja) * 2010-05-07 2011-12-15 Panasonic Corp モータ電流検出用ic、およびこれを用いた電流検出器またはモータ制御装置
US9136228B2 (en) 2010-06-02 2015-09-15 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device
US8912660B2 (en) 2010-08-18 2014-12-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device
JP2016139247A (ja) * 2015-01-27 2016-08-04 新日本無線株式会社 定電流駆動回路

Also Published As

Publication number Publication date
EP1130649A3 (en) 2006-06-21
EP1130649B1 (en) 2013-05-08
US6385116B2 (en) 2002-05-07
EP1130649A2 (en) 2001-09-05
US20010019496A1 (en) 2001-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107528304B (zh) 瞬态电压保护电路、装置和方法
US8981426B2 (en) Electrostatic discharge protection device
US6385116B2 (en) Semiconductor integrated device
JPH08511662A (ja) 集積回路のためのscr静電放電保護
US7394631B2 (en) Electrostatic protection circuit
JPH10163423A (ja) 静電気保護回路
US6275367B1 (en) Semiconductor circuit device with high electrostatic breakdown endurance
US6529059B1 (en) Output stage ESD protection for an integrated circuit
US6154082A (en) Projection device against electrostatic discharges
JPH06335162A (ja) 半導体集積回路
US7595696B2 (en) Power amplifier
CN101197366A (zh) 用于具有负电压输入端子的集成电路的静电放电保护电路
JPH0936245A (ja) 半導体回路装置
JPH0478162A (ja) 集積回路用保護装置
JP2001109527A (ja) 保護回路
JP3498755B2 (ja) 増幅器の出力ノードのspu条件下の保護デバイス
JP2005513782A (ja) Esd保護用極性反転許容電気回路
JP2001339044A (ja) 半導体装置の静電保護回路
JP4768591B2 (ja) 電力増幅器
JPS58178558A (ja) 過電圧保護回路
JP2001156259A (ja) 静電破壊保護素子
JP2004056044A (ja) 静電保護回路及び半導体集積回路
JPH0120545B2 (ja)
JPS6173518A (ja) 過電圧保護回路
JPH0719879B2 (ja) 半導体集積回路装置