JP2001236609A

JP2001236609A - 磁気ヘッド、磁気ヘッド製造方法、および情報記録装置

Info

Publication number: JP2001236609A
Application number: JP2000046135A
Authority: JP
Inventors: Hideo Niwa; 秀夫丹羽
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2000-02-23
Filing date: 2000-02-23
Publication date: 2001-08-31
Also published as: US20010015871A1

Abstract

(57)【要約】【課題】微小なコア幅が精度良く規定された磁気ヘッ
ドを提供する。【解決手段】磁気ディスクに近接して配置され所定方
向に所定の間隔離れて対向する、軟磁性を示す一対の磁
極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させる
ことによりその磁気ディスクを磁化する磁気ヘッドであ
って、上記一対の磁極のうちの上部磁極３の、磁気ディ
スクに近接する先端部が、磁気ディスクに近接する前面
と、その前面に垂直な方向および上記所定方向双方に広
がる一対の側面とを有するブロック状のものであって、
その先端部が、上記一対の側面それぞれからそれぞれ所
定の深さまで不純物の導入により非磁性化されてなる上
部非磁性部３＿２を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁界を発生して外
部の媒体を磁化する磁気ヘッド、その磁気ヘッドを製造
する磁気ヘッド製造方法、および媒体に情報を記録する
情報記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータの普及に伴って、日
常的に多量の情報が取り扱われるようになっており、こ
のような多量の情報を記録する情報記録装置の１つとし
て、ハードディスク装置（ＨＤＤ：ＨａｒｄＤｉｓｋ
Ｄｒｉｖｅ）が使用されている。ＨＤＤは、通常、情
報が記録されるディスク状の媒体である磁気ディスク
と、この磁気ディスクに情報を記録する磁気ヘッドを有
する。

【０００３】磁気ディスクは、表面が強磁性材料からな
る強磁性層を有し、その強磁性層の各微小領域でそれぞ
れ独立して磁化を保持するものである。また、この磁気
ディスクは、ＨＤＤの動作時にはＨＤＤ内部で高速に回
転している。磁気ヘッドは、微小な記録コイルと一対の
磁極とを有するものであり、通常、そのように高速に回
転している磁気ディスクに近接して配置される。この一
対の磁極は、磁気ディスクのトラックの延びる方向に所
定の間隔（ギャップ長）で互いに対向しており、トラッ
ク幅方向にそのトラック幅相当の所定の幅を有する。

【０００４】磁気ヘッドの記録コイルに信号電流が流さ
れると、この記録コイルからその信号電流に応じて記録
磁界が発生し、その記録磁界は上記一対の磁極から外部
に漏れ出る。以下では、磁気ヘッドの、記録磁界の漏れ
出る磁気的な幅を、コア幅と称する。通常は、磁気ヘッ
ドの磁極の幅がコア幅となっている。このように外部に
漏れ出た記録磁界が磁気ディスクの表面の各トラックの
磁化を、上記ギャップ長に応じた微小な長さ単位で適宜
反転させる。このような磁化の反転によって、情報が各
微小領域における磁化の方向として記録される。

【０００５】ＨＤＤは、磁気ディスクへの情報の記録密
度を向上させる方向に開発が進んでおり、実際にその記
録密度は年々向上し続けている。この記録密度の向上
は、例えば、磁気ディスクのトラック幅の低減によりも
たらされる。この場合に、磁気ヘッドは、上記一対の磁
極が、このようなトラック幅の低減に応じた狭いコア幅
を有するものである必要がある。

【０００６】従来、コア幅の低減は、通常、磁極を加工
して磁極の幅を狭めることによって行われている。この
ような磁極の加工には、半導体素子の配線などの加工プ
ロセスで使用される技術が利用されており、例えば、磁
極となる薄膜に、ｉ線露光機やｇ線露光機を用いて露光
・現像することによりレジストパターンを形成し、この
レジストパターンを用いてその薄膜をトリミング加工す
ることにより所定のコア幅を有する磁極が形成されてい
る。このようにして、磁気ヘッドの加工寸法は１μｍ以
下の領域に達している。

【０００７】半導体素子の加工プロセスでは、エキシマ
ステッパなどの先端リソグラフィ技術を用いて、０．２
μｍ近辺での加工が実現されており、磁気ヘッドの加工
プロセスにおいても、この先端リソグラフィ技術の利用
が考えられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、磁気ヘッドで
は、磁極の形成に５μｍ以上の厚みのレジストを用いる
必要があり、レジストの厚みが通常１μｍ未満の場合に
適用される半導体素子の加工技術をそのまま磁気ヘッド
の加工プロセスに適用して、半導体素子のような微細な
加工を実現するには多くの困難がある。

【０００９】例えば、半導体素子の加工で実績のあるＫ
ｒＦエキシマステッパを磁気ヘッドの加工プロセスで露
光機として用いる場合、ＫｒＦエキシマステッパに対し
ては化学増幅型レジストを用いる必要があるため、レジ
スト底部の丸まり、裾引きなどの問題が生ずる。磁気ヘ
ッドの加工プロセスでこのような問題が生ずると、磁極
の幅が磁極上の位置によって一定せず、上記コア幅の精
度の劣化につながる。また、この問題を敢えて解決しよ
うとすれば、材料およびプロセス開発に相当の工数が必
要となる。

【００１０】また、磁気ヘッドの磁極の微細加工を実現
する一つの方法として２層レジスト法や３層レジスト法
が知られている。これらの方法は、いずれも最下層の厚
膜レジストを中間層のＳｉＯ₂や上層のＳｉ入りレジス
ト等をマスクとしてエッチングする手法である。しか
し、この方法では、厚膜レジストの垂直形状の加工を再
現性良く行うことは非常に難しいというのが現状であ
り、この方法によって製造された磁気ヘッドもコア幅の
精度が悪い。

【００１１】この他に、位相シフトやハーフトーンなど
の先端マスク技術を用いて磁極の微細化への対応がなさ
れているが、これらの技術にも限界があり、レジスト厚
が数μｍにもなる磁気ヘッドの加工プロセスでは、微細
化をリソグラフィ技術の応用で継続していくのは非常に
困難になっている。また、半導体素子の加工プロセスよ
り磁気ヘッドの加工プロセスの方が微細化の速度が急速
であり、従来のように半導体素子の加工技術を応用する
手法も行き詰まっている。これらの理由から、微小なコ
ア幅が高い精度で規定された磁気ヘッドを製造する技術
が求められている。

【００１２】本発明は、上記事情に鑑み、微小なコア幅
が高い精度で規定された磁気ヘッド、そのような磁気ヘ
ッドを製造する磁気ヘッド製造方法、およびそのような
磁気ヘッドを備えた情報記録装置を提供することを目的
とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の磁気ヘッドは、記録媒体に近接あるいは接触して配
置され所定方向に所定の間隔離れて対向する、軟磁性を
示す一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界
を発生させることによりその記録媒体を磁化する磁気ヘ
ッドであって、上記一対の磁極のうちの少なくとも一方
の磁極の、記録媒体に近接あるいは接触する先端部が、
記録媒体に近接あるいは接触する前面と、その前面に垂
直な方向および上記所定方向双方に広がる一対の側面と
を有するブロック状のものであって、その先端部が、そ
の一対の側面それぞれからそれぞれ所定の深さまで不純
物の導入により非磁性化されてなるものであることを特
徴とする。

【００１４】この本発明の磁気ヘッドは、一般の磁気ヘ
ッドと同様に、通常、上記所定方向が、磁気ヘッドが記
録媒体に近接あるいは接触して配置された点における、
記録媒体のトラックの延びる方向を向き、また、上記磁
極の先端部の幅の方向、すなわちこの先端部の前面にお
ける上記一対の側面に挟まれる幅の方向が、記録媒体の
トラック幅方向を向くように配置される。

【００１５】この本発明の磁気ヘッドは、磁極の先端部
が、このように先端部の一対の側面それぞれからそれぞ
れ所定の深さまで不純物の導入により非磁性化されたも
のであるため、その先端部の磁気的な幅、すなわちその
先端部のうちの磁性を有する部分の幅は、先端部の実際
の幅よりも狭められた微小な幅となっている。磁気ヘッ
ドの、磁界が漏れ出す領域は、この磁性を有する部分に
よって規定されるため、この本発明の磁気ヘッドは、先
端部の磁気的な幅によって決まる微小なコア幅を有す
る。

【００１６】また、上記本発明の磁気ヘッドは、このよ
うに先端部の一対の側面それぞれからそれぞれ所定の深
さまで不純物の導入により非磁性化されたものであるた
め、その先端部の側面が広い場合にも、側面全体で上記
磁気的な幅が狭められる。

【００１７】具体的には、上記本発明の磁気ヘッドは、
上記先端部が、上記所定方向に０．３μｍ以上の大きさ
を有するものであってもよく、また、上記記録媒体の表
面に対して垂直な方向に１μｍ以上の大きさを有するも
のであってもよい。

【００１８】また、物理的および化学的な手段によって
先端部の実際の幅が狭められた従来の磁気ヘッドは、そ
の幅がその先端部上の場所によって異なり、コア幅の精
度が低いものとなっている。これに対して、上記本発明
の磁気ヘッドは、後に実施形態で述べるように、上記側
面が平坦であれば、先端部の、上記不純物の導入によっ
て非磁性化された部分と非磁性化されずに磁性の残った
部分との間の界面も自然に平坦となるため、この磁性の
残った部分の幅で決まるコア幅は、微小な幅であっても
高い精度で規定される。

【００１９】具体的には、上記本発明の磁気ヘッドは、
上記ブロック状の先端部が、上記一対の側面の全域のう
ちの少なくとも上記所定方向に０．３μｍ以上の広がり
を有する範囲において、非磁性化された部分の、その一
対の側面それぞれからの深さ方向の寸法が、±５％以内
の偏差を有するものであることが好ましい。

【００２０】なお、磁気ヘッドには、磁気ヘッドを構成
する一対の磁極のうちのいずれか一方あるいは双方に、
この一対の磁極どうしが対向する側に副磁極を有し、そ
の一対の磁極どうしの間に発生する磁界の空間分布がそ
の副磁極によってその副磁極の形状や大きさや材質等に
応じて制御されるものがある。磁気ヘッドがこのように
副磁極を有するものである場合には、上記本発明の磁気
ヘッドの磁極の先端部は、この副磁極を含む磁極の先端
部であってもよく、また、この副磁極自身であってもよ
い。あるいは、このような副磁極の代わりに、微細なト
リミングを施された部分がある場合にも、上記本発明の
磁気ヘッドの磁極の先端部は、この微細なトリミングを
施された部分を含む磁極の先端部であってもよく、ま
た、この微細なトリミングを施された部分自身であって
もよい。

【００２１】上記目的を達成する本発明の磁気ヘッド製
造方法は、記録媒体に近接あるいは接触して配置され所
定方向に所定の間隔離れて対向する、軟磁性を示す一対
の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生さ
せることによりその記録媒体を磁化する磁気ヘッドを製
造する磁気ヘッド製造方法であって、上記一対の磁極の
うちの一方の磁極であり、記録媒体に近接あるいは接触
する先端部を有し、その先端部が、記録媒体に近接ある
いは接触する前面と、その前面に垂直な方向および上記
所定方向双方に広がる一対の側面とを有するブロック状
のものである上部磁極を形成する上部磁極形成工程と、
上記上部磁極形成工程において形成された上部磁極の先
端部の一対の側面それぞれからイオン注入することによ
り、その先端部のうちのイオン注入された部分を非磁性
化する非磁性化工程とを有することを特徴とする。

【００２２】上記本発明の磁気ヘッド製造方法は、上記
非磁性化工程が、イオン注入を、上記先端部の各側面に
対し斜め方向から行う工程であることが好ましい。

【００２３】一般に、イオン注入による注入の深さは、
イオンのエネルギ（運動エネルギ）および注入角度によ
って決まるので、この本発明の磁気ヘッド製造方法によ
って、このように上部磁極の先端部の一対の側面それぞ
れから所定のエネルギのイオンを所定の注入角度でイオ
ン注入することにより、上記一対の側面それぞれからそ
れぞれ所定の深さまでイオンが導入されて上記先端部の
一部は非磁性化される。このため、この本発明の磁気ヘ
ッド製造方法によって、上記本発明の磁気ヘッドと同様
に、先端部の側面全面の各点における磁気的な幅が均一
に狭められるため、微小なコア幅が高い精度で規定され
た磁気ヘッドが製造される。

【００２４】なお、従来の磁気ヘッド製造方法において
も、様々な理由で、磁極の所定の場所にイオン注入を行
うという選択的なイオン注入が行われることがある。そ
のイオン注入は、多くはマスクを用いるものであり、仮
にこのようなマスクを用いてイオン注入を行うことによ
り磁極の微小なコア幅を精度良く規定するには、マスク
の位置合わせに精度が要求される。これに対して、上記
本発明の磁気ヘッド製造方法は、マスク等を用いない自
己整合的なものであるため、上記磁極のうちの所望の部
分に精度良くイオン注入が行われる。

【００２５】また、上記本発明の磁気ヘッド製造方法
は、上記一対の磁極のうちの上記上部磁極とは異なる下
部磁極を形成する下部磁極形成工程を有し、上記非磁性
化工程が、イオンを発生するイオン源を用いて、上記先
端部の側面からのイオン注入と上記下部磁極形成工程に
よって形成された下部磁極へのイオン注入とを同時に行
うことにより、その下部磁極のうちのイオン注入された
部分を非磁性化する工程であることが好ましい。

【００２６】この磁気ヘッド製造方法によれば、上部磁
極とともに、下部磁極も一部が非磁性化されて、磁性を
有する部分の幅が狭められる。

【００２７】また、上記本発明の磁気ヘッド製造方法
は、上記一対の磁極のうちの上記上部磁極とは異なる下
部磁極を形成する下部磁極形成工程と、上記上部磁極の
先端部が、上記下部磁極から離れた側に上面を有し、そ
の上面およびその下部磁極のその上部磁極側の面のうち
の少なくともいずれかの面に保護膜を成膜する保護膜成
膜工程と、上記保護膜成膜工程によって成膜された保護
膜をその保護膜が成膜された磁極から剥離する保護膜剥
離工程とを有し、上記非磁性化工程におけるイオン注入
が、上記保護膜成膜工程における保護膜の成膜の後に行
われ、その非磁性化工程におけるイオン注入の後に、上
記保護膜剥離工程における保護膜の剥離が行われること
が好ましい。

【００２８】この磁気ヘッド製造方法によれば、上記磁
極の、一対の側面以外の面からの不必要なイオン注入に
よる非磁性化を防ぐことができる。

【００２９】上記目的を達成する本発明の情報記録装置
は、表面の各点に磁化を担持する記録媒体に近接あるい
は接触して配置され、その記録媒体の磁化の方向を反転
させる磁気ヘッドを備え、その磁化の方向を反転させる
ことによってその記録媒体の各点に情報を記録する情報
記録装置であって、上記磁気ヘッドが、記録媒体に近接
あるいは接触して配置され所定方向に所定の間隔離れて
対向する、軟磁性を示す一対の磁極を備え、これらの磁
極どうしの間に磁界を発生させることによりその記録媒
体を磁化するものであり、上記一対の磁極のうちの少な
くとも一方の磁極の、記録媒体に近接あるいは接触する
先端部が、記録媒体に近接あるいは接触する前面と、そ
の前面に垂直な方向および上記所定方向双方に広がる一
対の側面とを有するブロック状のものであって、その先
端部が、その一対の側面それぞれからそれぞれ所定の深
さまで不純物の導入により非磁性化されてなるものであ
ることを特徴とする。

【００３０】この情報記録装置は、磁気ヘッドに上記本
発明の磁気ヘッドが採用されたものである。この情報記
録装置の磁気ヘッドは、上記本発明の磁気ヘッドと同様
に、微小なコア幅が高い精度で規定されたものであるた
め、この情報記録装置は、磁気ディスクの微小幅の各ト
ラックに精度よく情報が書き込まれる、高密度記録に適
した装置となっている。

【００３１】

【発明の実施形態】以下、本発明の実施形態について説
明する。

【００３２】［ハードディスクドライブ］図１は、本実
施形態のハードディスクドライブを示す図である。

【００３３】同図に示すハードディスクドライブ（ＨＤ
Ｄ）１００は、本発明の情報記録装置に相当するもので
ある。同図に示すＨＤＤ１００のハウジング１０１に
は、回転軸１０２、回転軸１０２に装着される磁気ディ
スク１０３、磁気ディスク１０３に対向する浮上ヘッド
スライダ１０４、アーム軸１０５、浮上ヘッドスライダ
１０４を先端に固着してアーム軸１０５を中心に磁気デ
ィスク１０３上を水平移動するキャリッジアーム１０
６、およびキャリッジアーム１０６の水平移動を駆動す
るアクチュエータ１０７が収容される。

【００３４】磁気ディスク１０３への情報の記録および
磁気ディスク１０３に記録された情報の再生にあたって
は、磁気回路で構成されたアクチュエータ１０７によっ
てキャリッジアーム１０６が駆動され、浮上ヘッドスラ
イダ１０４が、回転する磁気ディスク１０３の所望のト
ラック上に位置決めされる。浮上ヘッドスライダ１０４
には、図１には図示しない、磁気ディスク１０３への情
報の記録を行う記録部と磁気ディスク１０３に記録され
た情報の再生を行う再生部からなる磁気ヘッドが設置さ
れている。この磁気ヘッドは、磁気ディスク１０３の回
転に伴って、磁気ディスク１０３の各トラックに並ぶ各
微小領域に順次近接する。なお、磁気ヘッドは潤滑材を
挟むなどして磁気ディスク１０３に接触するものであっ
てもよい。情報の記録時には、このように磁気ディスク
１０３に近接した磁気ヘッドには電気的な記録信号が入
力され、磁気ヘッドの記録部により、その記録信号に応
じてそれらの各微小領域に磁界が印加されて、その記録
信号に担持された情報がそれらの各微小領域の磁化の方
向として記録される。また、情報の再生時には、磁気ヘ
ッドの再生部によって、それらの各微小領域の磁化の方
向として記録された情報が、それらの磁化それぞれから
発生する磁界に応じて生成される電気的な再生信号とし
て取り出される。ハウジング１０１の内部空間は、図示
しないカバーによって閉鎖される。

【００３５】［磁気ヘッド］図２は、本実施形態の磁気
ヘッドの要部斜視図であり、図３は、本実施形態の磁気
ヘッドの要部の正面図である。ここでいう正面は、磁気
ヘッドの、磁気ディスクに対向する面をいい、以下で
は、この正面から見た磁気ヘッド各部の面を、前面と称
する。

【００３６】上述したように、磁気ヘッド１０は、上記
ＨＤＤ１００内では、磁気ディスク１０３に近接して位
置決めされており、図２、図３には磁気ヘッド１０の記
録部のうちの磁気ディスク１０３に近い側の部分が示さ
れている。磁気ヘッド１０は、図３の正面部分で磁気デ
ィスク１０３に面している。

【００３７】磁気ヘッド１０の記録部は、軟磁性を示す
下部磁極１と、この下部磁極１上に形成された、非磁性
の絶縁材料からなるギャップ部２と、このギャップ部２
上に形成された、軟磁性を示す上部磁極３とを有する。

【００３８】この磁気ヘッド１０の記録部は、上記浮上
面から離れた側に位置する、例えばＣｕからなる図示し
ない記録コイルを、下部磁極１と上部磁極３との間に有
する。この記録コイルは、レジスト等の絶縁材料によっ
て覆われている。

【００３９】上部磁極３と下部磁極１は、この記録コイ
ルの中心部分を通ってその記録コイルの磁気ディスク１
０３側の部分を１周する磁気回路を形成している。この
記録コイルから発生した磁界は、上記上部磁極３および
上記下部磁極１中を通り、上記磁気ディスク１０３に面
した、すなわち下部磁極１および上部磁極３の先端部の
うちの、下部磁極１と上部磁極３とが対向する部分付近
から外部に漏れ出す。このように外部に漏れ出た磁界に
よって、上述した磁気ディスク１０３の各微小領域の磁
化が反転される。

【００４０】なお、磁気ヘッドの再生部は、この記録部
の、下部磁極１を挟んで上部磁極１と反対側に位置す
る。

【００４１】下部磁極１は、Ｎｉ₅₀Ｆｅ₅₀（ａｔ％）か
らなり、一部にＮｂが導入された厚さ３μｍの磁極であ
る。

【００４２】ギャップ部２は、Ａｌ₂Ｏ₃（アルミナ）か
らなる厚さ１μｍの層であり、前面が下部磁極１の広が
る方向に０．５μｍの幅を持つようにトリミングされて
いる。

【００４３】上部磁極３は、Ｎｉ₅₀Ｆｅ₅₀（ａｔ％）か
らなり、一部にＮｂが導入された厚さ３μｍの磁極であ
る。この上部磁極３は、先端部が、磁気ディスク１０３
に対向する前面と、その前面に垂直な方向およびこの上
部磁極３が積層される方向双方に広がる一対の側面とを
有するブロック状のものとなっている。この先端部の前
面は下部磁極１の広がる幅方向に０．５μｍの幅を有
し、また、この先端部の側面は、この前面から奥行き方
向に３μｍの大きさを有する。この上部磁極３は、この
先端部よりさらに奥行き方向に進んだ部分では、側面ど
うしが互いに広がる形状を有する。

【００４４】この上部磁極３は、上記一対の側面それぞ
れから上部磁極３の内部に０．１μｍの深さまでＮｉ₅₀
Ｆｅ₅₀にＮｂイオンがイオン注入などにより導入されて
非磁性化された一対の上部非磁性部３＿２と、この一対
の上部非磁性部３＿２それぞれによって上部磁極３の先
端部の幅方向に挟まれた、Ｎｂイオンが導入されずに残
ったＮｉ₅₀Ｆｅ₅₀からなる上部軟磁性部３＿１とによっ
て構成されている。

【００４５】また、下部磁極１は、上部磁極３側の表面
のうち、上記上部軟磁性部３＿１直下の領域を除く領域
で０．１μｍの深さまでＮｉ₅₀Ｆｅ₅₀にＮｂイオンが導
入されて非磁性化された一対の下部非磁性部１＿２と、
下部磁極１のうちの下部非磁性部１＿２以外の、Ｎｂイ
オンが導入されずに残ったＮｉ₅₀Ｆｅ₅₀からなる下部軟
磁性部１＿１とによって構成されている。

【００４６】この磁気ヘッド１０は、上部磁極３の先端
部を、このように先端部の一対の側面それぞれからそれ
ぞれ所定の深さまで不純物の導入により非磁性化された
ものであるため、その先端部の、上部軟磁性部３＿１の
幅で表される磁気的な幅が、先端部の実際の幅よりも狭
められた微小な幅となっている。磁気ヘッド１０の、磁
界が発生する領域は、この磁気的な幅によって規定され
るため、この磁気ヘッド１０は、微小なコア幅を有す
る。後に磁気ヘッドの製造方法の説明とともに述べるよ
うに、上部磁極３の先端部の磁気的な幅は、先端部上の
場所によらず高い精度で均一であるので、この磁気ヘッ
ド１０のコア幅は高い精度で規定されている。

【００４７】なお、この磁気ヘッド１０の先端部を構成
する下部磁極１、ギャップ部２、および上部磁極３それ
ぞれ、並びに下部磁極１および上部磁極３を構成する各
部の厚さ、幅などの寸法は、一例であって上述した寸法
に限られるものではない。

【００４８】また、上述した、下部磁極１および上部磁
極３それぞれは、Ｎｉ₅₀Ｆｅ₅₀のみならず、Ｎｉ₈₀Ｆｅ
₂₀（ａｔ％）、ＣｏＮｉＦｅ、ＦｅＺｒＮ等の軟磁性材
料からなるものであってもよく、また、Ｎｉ₅₀Ｆｅ₅₀も
含めてこれらの軟磁性材料を複数層積層してなる膜であ
ってもよい。また、上記ギャップ部２は、アルミナ以外
の非磁性絶縁材料からなるものであってもよい。

【００４９】また、これらの磁極に導入されるイオンと
しては、Ｎｂの他、Ｃｒ、Ｚｒ等があげられる。

【００５０】なお、本実施形態の磁気ヘッドは、図２、
図３に示すように、上部磁極３のみが幅方向にトリミン
グされているが、本発明の磁気ヘッドは、さらに下部磁
極１がその幅方向にトリミングされたものであってもよ
い。

【００５１】また、本実施形態の磁気ヘッド１０は、図
２、図３に示すように、磁極の先端部が、側面に段差を
持たない単純なものであるけれども、本発明の磁気ヘッ
ドは、磁極の先端部が、さらに狭い幅となるようにトリ
ミングされたものであったり、上部磁極３と下部磁極１
との間に、これらの磁極より幅の狭い一対の副磁極を有
するものであるなど、先端部が特殊な形状を持つもので
あってもよい。この場合、本発明にいう磁極の先端部に
相当する部分は、そのようにさらに狭い幅となるように
トリミングされた部分や副磁極そのものであってもよ
く、それらのトリミングされた部分や副磁極を含む、よ
り広い部分であってもよい。

【００５２】なお、上述した本実施形態のＨＤＤ１００
は、このように微小なコア幅が高い精度で規定された磁
気ヘッド１０を備えたものであるので、磁気ディスク１
０３の微小幅の各トラックに精度よく情報を書き込むこ
とのできる、高密度記録に適した装置となっている。

【００５３】［磁気ヘッド製造方法］以下に、磁気ヘッ
ド１０の製造方法について説明する。この製造方法の説
明とともに、上記本実施形態の磁気ヘッド１０の特徴に
ついても併せて説明する。

【００５４】図４は、本実施形態の磁気ヘッド製造方法
の第１の工程を示す図であり、図５は、本実施形態の磁
気ヘッド製造方法の第２の工程を示す図であり、図６
は、本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第３の工程を示
す図である。

【００５５】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第１の
工程では、所定の基板上に形成された、本実施形態の磁
気ヘッド１０の再生部における磁気シールド層を兼ねる
Ｎｉ ₅₀Ｆｅ₅₀からなる厚さ３μｍの下部磁極１上に、ス
パッタリング等により、図４に示すように、アルミナか
らなる厚さ１μｍのギャップ層２’を積層し、積層した
ギャップ層２’上にＮｉ₅₀Ｆｅ₅₀からなる厚さ３μｍの
上部磁極層３’を積層して多層膜を形成する。

【００５６】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第２の
工程では、上記第１の工程で形成された多層膜のうち
の、ギャップ層２’および上部磁極層３’それぞれを、
例えば、ＲＩＥ法（ＲｅａｃｔｉｖｅＩｏｎＥｔｃ
ｈｉｎｇ）によってエッチングすることにより、図５に
示すようにトリミングして０．５μｍ幅の、ギャップ部
２および上部磁極３の先端部を形成する。このようにト
リミングされた多層膜は、図３に示す磁気ヘッド１０の
外形と同じ外形を有する。この上部磁極層３’のトリミ
ングされた面が上述した上部磁極３の側面となる。な
お、以下で多層膜と呼ぶ場合には、このトリミングされ
た多層膜を指す。

【００５７】この第２の工程では、ＲＩＥ法の代わり
に、薄く成膜したメッキベースの上にレジストをパター
ニング後、メッキ処理することによって、図５に示す形
状の上部磁極３を得ることもできる。なお、このような
トリミングによって、上部磁極層３’やギャップ層２’
の幅は、ｉ線ステッパを用いた場合であれば約０．５μ
ｍ程度まで狭められ、エキシマステッパであれば約０．
３μｍ程度まで狭められる。

【００５８】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第３の
工程では、図６に示すように、第２の工程で形成された
多層膜の上斜め方向に、すなわち上記基板上に多層膜が
積層された側からその基板に対して垂直にではなく斜め
の方向に、イオン注入を行う。このイオン注入によっ
て、この多層膜の、上部磁極３の側面を含む各面からイ
オンが侵入する。この上斜め方向のイオン注入は、図７
に示すイオン注入装置を用いて行われる。

【００５９】図７は、本実施形態の磁気ヘッドの製造に
用いられるイオン注入装置を示す図である。

【００６０】同図に示されるイオン注入装置５０は、チ
ャンバ５１、イオンを発生するイオン源５２、および上
記多層膜が形成された基板を取り付ける基板取付部５２
からなる。同図中の矢印は、イオン源５２から発生する
イオンを示し、このイオンが基板取付部５２に取り付け
られた基板上の多層膜に注入される。同図に示される基
板取付部５２上の基板は、イオン源５２に対して正対す
る位置から同図左側に傾いている。この基板取付部５２
は、紙面垂直方向を軸として、左右にそれぞれ同じ角度
傾けることができるものであり、この傾きとともに、基
板上の多層膜も左右に傾く。この軸は、上記多層膜で言
えば、この多層膜の、前面から見た奥行き方向に延びる
ものであり、この多層膜の傾きに応じて、この多層膜に
おける上部磁極３の一対の側面それぞれがイオン源から
のイオンにさらされて、これらの側面それぞれからイオ
ン注入が行われる。

【００６１】この基板取付部５２は、左右に傾くものの
他に、左右のいずれかに傾いたまま、基板に垂直な方向
を軸としてその基板を回転させるものであってもよく、
このような回転によっても、上記多層膜における上部磁
極３の側面からイオン注入が行われる。

【００６２】このように、この多層膜にイオンが注入さ
れることによって、図２、図３に示す磁気ヘッド１０が
形成される。この磁気ヘッド１０の上部磁極３には側面
からイオンが注入されて非磁性化された上部非磁性部３
＿２が形成されている。また、このイオン注入の際に
は、イオン源５２から発生したイオンが、上部磁極３と
同時に下部磁極１にも注入されるため、下部磁極１に
は、上部磁極３側の上面からイオンが注入されて非磁性
化された下部非磁性部１＿２が形成されている。

【００６３】このように磁極の一部を非磁性化するため
に磁極にイオン注入されるイオン種としては、Ｎｂ、Ｃ
ｒ、Ｚｒなどがあげられる。例えばＮｂをＮｉＦｅ膜に
添加する場合を例にあげると、Ｎｂを１５ａｔ％添加す
るとその膜の飽和磁束密度が０になる。この結果から、
飽和磁束密度を０にする、単位体積あたりのイオン注入
量は、５×１０¹⁶／ｃｍ³〜１×１０¹⁷／ｃｍ³程度と見
積もられる。また、イオンが注入される深さは、イオン
が、３００ＫｅＶのエネルギで面に垂直に注入される場
合には約１５０ｎｍ、４００ＫｅＶのエネルギで面に垂
直に注入される場合には約２００ｎｍと見積られる。

【００６４】非磁性化を狙ってイオン注入された部分の
飽和磁束密度は、理想的には０となることが望ましい
が、例えば特開平５−１８９７２０号公報に開示されて
いるように、飽和磁束密度は、必ずしも０となる必要は
なく、相対的に十分低いレベルまで下げられれば、イオ
ン注入された部分は実質的に非磁性となる。

【００６５】また、イオンを深く注入するには、注入す
るイオンのエネルギを大きくし、また、側面に対してよ
り角度をたてて注入すればよい。イオンをそれほど深く
注入しない場合には、イオンのエネルギを小さくした
り、注入角度を浅くすればよい。

【００６６】但し、側面に対して斜め方向にイオンを注
入する角度は、上部磁極３の先端部の上面に対して垂直
に向かう方向を０°として、側面からの角度が２０°〜
８５°の範囲にあることが望ましい。その角度が２０°
より浅いと、側面からイオンが注入される深さが十分で
なくなり、また、その角度が８５°より深いとイオン注
入に伴い隣接する素子から発生するコンタミネーション
を受けてしまうためである。

【００６７】磁極の側面の注入深さに関しては、例えば
ｉ線ステッパで約０．５μｍ幅の磁極を形成した後、そ
の磁極の磁気的な幅を０．３μｍまで細くするために
は、その磁極の側面それぞれから１００ｎｍの深さまで
イオン注入することによって非磁性化すれば良い。注入
されるイオンのエネルギが３００ＫｅＶの場合は、上記
側面からの角度を約６０°にしてイオン注入すれば、側
壁から１００ｎｍを非磁性化できる。

【００６８】仮に、エキシマステッパをヘッドプロセス
に適用し、０．３μｍ幅の磁極を形成したとすると、上
述した０．５μｍ幅の磁極が０．３μｍの磁気的な幅を
持つようにイオン注入する場合と同じ条件でイオン注入
することにより、磁気的な幅が０．１μｍと微小な幅と
なる磁極を形成することができる。

【００６９】次に、この本実施形態の磁気ヘッド製造方
法の特徴を、従来の磁気ヘッド製造方法と比較しながら
説明する。

【００７０】従来は、磁極を物理的あるいは化学的に加
工して外形を変えることにより、磁極の先端部の幅が狭
められている。このような加工では、微小な幅の先端部
の形成を精密に行うことは難しく、このように先端部の
実際の幅が微小幅まで狭められた磁気ヘッドでは、その
幅がその先端部上の場所によって異なり、コア幅の精度
が低くなりやすい。

【００７１】例えば、エッチングによってその先端部の
幅を狭める場合には、エッチングの位置を決めるマスク
のアライメント精度やエッチングによって加工された深
さ方向の幅の均一さを保つことが難しくなる。また、イ
オン注入の代わりにイオンミルによって幅を狭めること
もできるが、イオンミルでは、例えば角が除去される
と、除去された部分にさらにイオンが照射されることに
よってさらなる除去が生じて角が丸められたりすそを引
きやすくなる。このため、イオンミルでは、先端部の幅
を、均一に保ちながら狭めることはできない。

【００７２】これに対して、イオン注入を用いた本実施
形態の磁気ヘッド製造方法によって製造される、本実施
形態の磁気ヘッド１０は、側面から、イオンのエネルギ
およびイオンが注入される角度に応じて決まる深さまで
イオンが侵入したものであるため、上記先端部の側面が
平坦であれば、先端部の、上部軟磁性部３＿１と上部非
磁性部３＿２との間の界面も平坦となるので、上部軟磁
性部３＿１の幅によって決まるコア幅が、微小幅である
場合にも高い精度で規定されている。

【００７３】なお、従来、本実施形態の磁気ヘッド製造
方法と同様に、イオン注入法を用いて磁極に不純物を添
加することによりその磁極を局所的に非磁性化する方法
自体は知られている。例えば、特開平８−７２２３号公
報および特開平７−１１４７０９号公報では、磁気ディ
スクの記録面方向からマスクを用いて選択的に不純物を
注入することで、ノイズ特性の良い磁極形状に整える方
法が開示されている。但し、従来、このようなイオン注
入法を用いた不純物添加では、いずれもマスクが用いら
れている。以下に、マスクを用いてイオン注入されるこ
とにより製造された従来の磁気ヘッドと、本実施形態の
磁気ヘッド製造方法によって製造された本実施形態の磁
気ヘッド１０とを比較する。

【００７４】図８は、イオン注入されたイオンの分布を
示す図である。

【００７５】同図には、薄膜の表面に対して垂直にイオ
ン注入した場合の状況が示される。同図には、薄膜に注
入されるイオンが、下向きの矢印によって示される。こ
こでは、マスクなどを用いて有限の領域にイオン注入さ
れるものとする。このよう薄膜内に注入されたイオン
の、薄膜の断面からみた分布は、同図の斜線部によって
示されている。このイオン分布は、同図に示されるよう
に深くなるにつれてイオンの広がりが小さくなるという
ように不均一なものとなっている。すなわち、イオン
は、上記有限領域の中央部には深く注入され、その有限
領域の周辺部には浅く注入されている。この有限領域が
広い場合には、この有限領域の中央部にイオンが侵入す
る深さはイオンのエネルギに応じた一定の深さでありイ
オン分布は平らになるが、この有限領域の周辺部にはや
はり浅くしか注入されない。

【００７６】なお、このようにイオンが物質中に侵入す
るその深さは、上述したように、注入されるイオンのエ
ネルギによって決まり、注入されたイオンの密度は、注
入されるイオンの量によって決まる。

【００７７】図９は、マスクを用いて正面側からイオン
注入した場合の上部磁極の先端部の正面図（Ａ）および
上面図（Ｂ）であり、図１０は、マスクを用いて上面側
からイオン注入した場合の上部磁極の先端部の正面図
（Ａ）および上面図（Ｂ）であり、図１１は、本実施形
態の磁気ヘッド製造方法によるイオン注入が行われた場
合の上部磁極の先端部の正面図（Ａ）および上面図
（Ｂ）である。

【００７８】図９〜図１１において、矢印は、イオンが
注入される場所および方向を示し、斜線部は、イオンが
注入された部分を示す。

【００７９】図９（Ａ）に示すように、上部磁極の先端
部にマスクを用いて磁気ディスク１０３と近接する、正
面側、すなわち先端部の前面にイオン注入することによ
って、上記上部磁極３の上部非磁性部３＿２のように、
先端部前面に、先端部の一対の側面から所定の幅だけ非
磁性化された部分３＿２ａを形成することができる。

【００８０】しかし、この非磁性化された部分３＿２ａ
は、図９（Ｂ）に示すように前面を手前とした先端部の
奥行き方向に進むにつれ、イオン分布が先細りとなり、
側面からのイオンの侵入の深さが先端部上の場所によっ
て変わる。このため、軟磁性を示す部分の幅が先端部上
の場所によって異なり、コア幅が精度良く規定されな
い。

【００８１】一方、図１０（Ａ）に示すように、上部磁
極の先端部にマスクを用いて上面側からイオン注入する
ことによって、先端部の上面から見て、上記上部磁極３
の上部非磁性部３＿２のように、先端部の一対の側面か
ら所定の幅だけ非磁性化された部分３＿２ｂを形成する
ことができる。

【００８２】しかし、この非磁性化された部分３＿２ｂ
は、図１０（Ｂ）に示すように上面から下の基板方向に
進むにつれ、イオン分布が先細りとなり、側面からのイ
オンの侵入の深さが先端部上の場所によって変わる。こ
のため、軟磁性を示す部分の幅が磁極上の場所によって
異なり、コア幅が精度良く規定されない。

【００８３】また、これらのマスクを用いたイオン注入
では、前面から奥行き方向にあるいは上面から積層方向
と逆方向に、数百ｎｍ程度しか非磁性化できない。この
ため、その奥行き方向や積層方向に数μｍの高さのある
磁極の先端部を先端部の側面の広い領域に亘って非磁性
化することは困難である。また、マスクを用いるため
に、マスクのアライメント精度が要求される。これらの
ことから、このようにマスクを用いる方法による磁極の
磁気的微細化は不可能である。

【００８４】これに対して、本実施形態の磁気ヘッド製
造方法におけるイオン注入は、図１１に示すように、図
９、図１０に示すマスクを用いたイオン注入とは異な
り、マスクを用いず、上部磁極３の先端部の一対の側面
それぞれからイオン注入を行う自己整合的なものである
ため、その先端部のうちの所望の部分に精度良くイオン
注入が行われる。ここでこのイオン注入は、一対の側面
それぞれに対して、同図の矢印に示されるように先端部
の前面から見て上斜め方向から行われる。

【００８５】このような先端部の側面からのイオン注入
では、イオンが注入される深さは、図１１（Ａ）に示さ
れるように、先端部の前面からの奥行き方向に変化はな
く、図１１（Ｂ）に示されるように、先端部の上面から
の積層方向とは逆向きの方向にも変化はない。この深さ
は、イオンのエネルギおよびイオン注入の角度によって
決まる深さであり、その深さの偏差は非常に小さい。具
体的には、本実施形態の磁気ヘッド１０は、そのように
イオン注入されて非磁性化された上部非磁性部３＿２の
幅、すなわち一対の側面それぞれからイオンが注入され
た深さの寸法が、この一対の側面の全域のうちの少なく
とも積層方向に０．３μｍ以上の広がりを有する範囲に
おいて、±５％以内の偏差を有するものであることが好
ましい。

【００８６】このようなイオン注入によって製造された
本実施形態の磁気ヘッド１０は、このようにイオンが注
入される深さの偏差が小さいため、イオン注入によって
非磁性化されずに残った上部軟磁性部３＿１の幅の偏差
も小さく、コア幅が高い精度で規定されたものとなって
いる。

【００８７】また、この本実施形態の磁気ヘッド製造方
法におけるイオン注入のように側面からのイオン注入で
は、広い側面を非磁性化することができる。具体的に
は、本実施形態の磁気ヘッド１０は、先端部が、積層方
向に０．３μｍ以上の大きさを有するものであってもよ
く、また、磁気ディスク１０３の表面に対して垂直な方
向に１μｍ以上の大きさを有するものであってもよい。

【００８８】なお、特開平５−１８９７２０号公報で
は、上部磁極をマスクとして下部磁極に選択的に不純物
をイオン注入することで不要部分を非磁性化する方法が
開示されている。この方法では、下部磁極を、加工する
ことなく、非磁性化することにより実質的に小さな磁気
的な幅を有する下部磁極が形成されている。この方法で
は、上部磁極をマスクとしているため、マスクのアライ
メント精度は要求されない。但し、この方法では、上部
磁極を、何らかの方法で微細加工する必要があり、下部
磁極の幅もこの上部磁極の幅に応じた大きさまでしか狭
められない。

【００８９】図１２は、本実施形態の磁気ヘッド製造方
法の一例を示す図である。

【００９０】同図には、磁気ヘッドを、磁極先端部の側
面のみを非磁性化するように製造する製造過程の磁気ヘ
ッドの様子が示される。この場合、上述した本実施形態
の磁気ヘッド製造方法における第２の工程によって、上
部磁極層３’およびギャップ層２’をトリミングして、
上部磁極３およびギャップ部２を形成した後に、例えば
Ａｌ等を、指向性スパッタ法（コリメーションスパッ
タ、ロングスロースパッタ等）を用いて上方から、上部
磁極１の側壁に沿った積層方向とは逆の方向に厚さ３０
ｎｍ〜５０ｎｍ成膜する。指向性スパッタ法では、同図
に示されるように、下部磁極１の上面上に所望の厚み３
０ｎｍ〜５０ｎｍのＡｌ膜１ａが成膜され、また、上部
磁極３の上面上にはその厚みと同じ厚みのＡｌ膜３ａが
成膜されるけれども、上部磁極３の側壁には無視できる
ほどの膜厚しか成膜されない。

【００９１】このように、Ａｌ膜が形成された状態で、
側面に対して斜め方向にイオン注入を行えば、上部磁極
３の側壁には所望の深さだけイオン注入されるが、下部
磁極１の上面および上部磁極の上面にはほとんどイオン
注入されない。

【００９２】このＡｌ膜はイオン注入後にアルカリ性の
現像液に浸すことで除去される。現像液で除去できる元
素はＡｌの他にＺｎなども考えられるため、このような
イオン注入からの側壁以外の部分の保護にＺｎを用いて
もよい。また、このＡｌ膜は、イオン注入後に、塩素系
ガスプラズマエッチング装置を用いたドライエッチング
によっても除去される。ドライエッチングで除去できる
ものとして、Ａｌの他にＴｉＮなどがあるため、上記Ａ
ｌ膜の代わりにＴｉＮ膜を用いてもよい。

【００９３】以上のように、本実施形態の磁気ヘッド製
造方法により、現状用いられているステッパを用いて物
理的および化学的に加工された磁極よりも実質的に狭い
コア幅の磁極を形成することができる。例えば、ＫｒＦ
エキシマステッパの限界解像度０．３μｍより狭い幅の
磁極を形成できる。従来のステッパ露光による磁極幅の
調整では、幅が狭くなるにつれて位置ズレの生じる可能
性が増大するが、本実施形態の磁気ヘッド製造方法で
は、そのような位置ズレの生じるおそれはなく、磁気ヘ
ッド製造の工程が削減され、コア幅の精度も向上する。
また、磁極の側面から斜めにイオン注入することで、磁
極の磁気的な幅を、奥行き方向および積層方向いずれに
対しても均一に狭められる。

【００９４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
微小なコア幅が精度良く規定された磁気ヘッド、そのよ
うな磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法、および
そのような磁気ヘッドを備えた情報記録装置が提供され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態のハードディスクドライブを示す図
である。

【図２】本実施形態の磁気ヘッドの要部斜視図である。

【図３】本実施形態の磁気ヘッドの要部の正面図であ
る。

【図４】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第１の工程
を示す図である。

【図５】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第２の工程
を示す図である。

【図６】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の第３の工程
を示す図である。

【図７】本実施形態の磁気ヘッドの製造に用いられるイ
オン注入装置を示す図である。

【図８】イオン注入されたイオンの分布を示す図であ
る。

【図９】マスクを用いて正面側からイオン注入した場合
の上部磁極の先端部の正面図（Ａ）および上面図（Ｂ）
である。

【図１０】マスクを用いて上面側からイオン注入した場
合の上部磁極の先端部の正面図（Ａ）および上面図
（Ｂ）である。

【図１１】本実施形態の磁気ヘッド製造方法によるイオ
ン注入が行われた場合の上部磁極の先端部の正面図
（Ａ）および上面図（Ｂ）である。

【図１２】本実施形態の磁気ヘッド製造方法の一例を示
す図である。

【符号の説明】

１下部磁極１＿１下部軟磁性部１＿２下部非磁性部２ギャップ部２’ ギャップ層３上部磁極３’ 上部磁極層３＿１上部軟磁性部３＿２上部非磁性部１０磁気ヘッド５０イオン注入装置５１チャンバ５２イオン源５３基板取付部１００ＨＤＤ１０１ハウジング１０２回転軸１０３磁気ディスク１０４浮上ヘッドスライダ１０５アーム軸１０６キャリッジアーム１０７アクチュエータ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録媒体に近接あるいは接触して配置さ
れ所定方向に所定の間隔離れて対向する、軟磁性を示す
一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発
生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドに
おいて、前記一対の磁極のうちの少なくとも一方の磁極の、記録
媒体に近接あるいは接触する先端部が、記録媒体に近接
あるいは接触する前面と、該前面に垂直な方向および前
記所定方向双方に広がる一対の側面とを有するブロック
状のものであって、該先端部が、該一対の側面それぞれ
からそれぞれ所定の深さまで不純物の導入により非磁性
化されてなるものであることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】前記先端部は、前記所定方向に０．３μ
ｍ以上の大きさを有するものであることを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】前記先端部は、前記記録媒体の表面に対
して垂直な方向に１μｍ以上の大きさを有するものであ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項４】前記ブロック状の先端部は、前記一対の
側面の全域のうちの少なくとも前記所定方向に０．３μ
ｍ以上の広がりを有する範囲において、非磁性化された
部分の、該一対の側面それぞれからの深さ方向の寸法
が、±５％以内の偏差を有するものであることを特徴と
する請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項５】記録媒体に近接あるいは接触して配置さ
れ所定方向に所定の間隔離れて対向する、軟磁性を示す
一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発
生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドを
製造する磁気ヘッド製造方法において、前記一対の磁極のうちの一方の磁極であり、記録媒体に
近接あるいは接触する先端部を有し、該先端部が、記録
媒体に近接あるいは接触する前面と、該前面に垂直な方
向および前記所定方向双方に広がる一対の側面とを有す
るブロック状のものである上部磁極を形成する上部磁極
形成工程と、前記上部磁極形成工程において形成された上部磁極の先
端部の一対の側面それぞれからイオン注入することによ
り、該先端部のうちのイオン注入された部分を非磁性化
する非磁性化工程とを有することを特徴とする磁気ヘッ
ド製造方法。
【請求項６】前記非磁性化工程は、イオン注入を、前
記先端部の各側面に対し斜め方向から行う工程であるこ
とを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッド製造方法。
【請求項７】前記一対の磁極のうちの前記上部磁極と
は異なる下部磁極を形成する下部磁極形成工程を有し、前記非磁性化工程が、イオンを発生するイオン源を用い
て、前記先端部の側面からのイオン注入と前記下部磁極
形成工程によって形成された下部磁極へのイオン注入と
を同時に行うことにより、該下部磁極のうちのイオン注
入された部分を非磁性化する工程であることを特徴とす
る請求項５記載の磁気ヘッド製造方法。
【請求項８】前記一対の磁極のうちの前記上部磁極と
は異なる下部磁極を形成する下部磁極形成工程と、前記上部磁極の先端部が、前記下部磁極から離れた側に
上面を有し、該上面および該下部磁極の該上部磁極側の
面のうちの少なくともいずれかの面に保護膜を成膜する
保護膜成膜工程と、前記保護膜成膜工程によって成膜された保護膜を該保護
膜が成膜された磁極から剥離する保護膜剥離工程とを有
し、前記非磁性化工程におけるイオン注入が、前記保護膜成
膜工程における保護膜の成膜の後に行われ、該非磁性化
工程におけるイオン注入の後に、前記保護膜剥離工程に
おける保護膜の剥離が行われることを特徴とする請求項
５記載の磁気ヘッド製造方法。
【請求項９】表面の各点に磁化を担持する記録媒体に
近接あるいは接触して配置され、該記録媒体の磁化の方
向を反転させる磁気ヘッドを備え、該磁化の方向を反転
させることによって該記録媒体の各点に情報を記録する
情報記録装置において、前記磁気ヘッドが、記録媒体に近接あるいは接触して配置され所定方向に所
定の間隔離れて対向する、軟磁性を示す一対の磁極を備
え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることに
より該記録媒体を磁化するものであって、前記一対の磁極のうちの少なくとも一方の磁極の、記録
媒体に近接あるいは接触する先端部が、記録媒体に近接
あるいは接触する前面と、該前面に垂直な方向および前
記所定方向双方に広がる一対の側面とを有するブロック
状のものであって、該先端部が、該一対の側面それぞれ
からそれぞれ所定の深さまで不純物の導入により非磁性
化されてなるものであることを特徴とする情報記録装
置。