JP2001232560A - 研磨装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のトップリングを具備する研磨装置にお
いて、トップリングヘッドの基板保持面をターンテーブ
ルの研磨面に平行に維持することができ、基板を平坦で
且つ均等に研磨することができ、周辺に配置された装置
に柔軟に対応してシステムを構築できる研磨装置を提供
すること。 【解決手段】 研磨面を有するターンテーブル１４と、
被研磨基板を保持してターンテーブル１４上の研磨面に
押圧するトップリング２０を具備し、研磨面と被研磨基
板の相対運動により被研磨基板を研磨する研磨装置であ
って、回転主軸１１に連動して回転する回転機構部１０
を設け、該回転機構部１０に複数の揺動アーム１３を取
付け、該揺動アーム１３のそれぞれの先端部にトップリ
ング２０を回転自在に取付けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板を保持する基板保持機構（トップリング）を複数具
備し、同時に複数枚の被研磨基板を研磨（バッチ式研
磨）と１枚ずつ順次研磨（枚葉式研磨）ができる研磨装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体デバイスの高集積化が進む
につれて回路の配線間距離もより狭くなりつつある。特
に０．５μｍ以下の光リソグラフィの場合、焦点深度が
浅くなるためステッパの結像面の平坦度を必要とする。
そこで、半導体ウエハの表面を平坦化することが必要と
なる。この平坦化の一手段として研磨装置により研磨す
ることが行われている。従来、この種の研磨装置はター
ンテーブルとトップリングとを有し、トップリングが一
定の押圧力をターンテーブルに与え、ターンテーブルと
トップリングとの間に研磨対象物である被研磨基板を介
在させ、砥液を供給しつつ被研磨基板の表面を平坦且つ
鏡面に研磨している。

【０００３】また、被研磨基板の研磨スループットの向
上を図るため、研磨装置に複数のトップリングを設け、
それぞれのトップリングに基板を保持し、ターンテーブ
ルの研磨面で一度に複数枚の被研磨基板を研磨できるよ
うに構成した研磨装置がある。このように複数のトップ
リングを具備する研磨装置において、各基板を平坦且つ
均等に研磨するためには、各トップリングが均等な押圧
力でターンテーブルの研磨面に押圧されなければならな
いと同時に、トップリングの被研磨基板を装着する基板
保持面がターンテーブルの研磨面に対して平行に維持さ
れなければならないが、従来の研磨装置ではこれらの点
に充分な対策は施されていなかった。

【０００４】また、従来の複数のトップリングを具備す
る研磨装置は、一度に複数枚の被研磨基板を研磨（バッ
チ式研磨）することはできるが、複数のトップリングの
内、一部が研磨中に他のトップリングが被研磨基板引き
渡し位置に移動し、そこで研磨終了の被研磨基板を引き
渡し、新たに未研磨の被研磨基板を装着して研磨位置に
戻るというように被研磨基板を順次研磨（枚葉式研磨）
するというような研磨はできなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の点に鑑
みてなされたもので、複数のトップリングを具備する研
磨装置において、全てのトップリングヘッドの基板保持
面をターンテーブルの研磨面に平行に維持することがで
き、基板を平坦で且つ均等に研磨することができる研磨
装置を提供することを目的とする。

【０００６】また、一部のトップリングが被研磨基板の
研磨中に他のトップリングが研磨の終了した被研磨基板
を引き渡し、新たに未研磨の被研磨基板を装着したり、
被研磨基板の他の処理を行ったり、周辺に配置された装
置に柔軟に対応してシステムを構築できる研磨装置を提
供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、研磨面を有するターンテーブ
ルと、複数の基板保持機構を装着し回転主軸に連動して
回転する回転機構を具備し、該回転機構に装着された基
板保持機構に保持された被研磨基板をターンテーブルの
研磨面に押圧し、該研磨面と該被研磨基板の相対運動に
より被研磨基板を研磨する研磨装置であって、回転機構
の回転主軸に対する姿勢を電磁気力によって制御する姿
勢制御手段を設けたことを特徴とする。

【０００８】上記のように、姿勢制御手段を設けたこと
により、回転機構に装着された複数の基板保持機構に保
持された被研磨基板を均等にターンテーブルの研磨面に
押圧することができる。また、例えば、複数の基板保持
機構の一部に被研磨基板を装着して、研磨する場合でも
回転機構をバランスの取れた姿勢に維持することが可能
となる。

【０００９】また、請求項２に記載の発明は研磨面を有
するターンテーブルと、被研磨基板を保持してターンテ
ーブルの研磨面に押圧する基板保持機構を具備し、研磨
面と被研磨基板の相対運動により被研磨基板を研磨する
研磨装置であって、回転主軸に連動して回転する回転機
構を設け、該回転機構に複数の揺動アームを取付け、該
揺動アームのそれぞれに基板保持機構を取付け、該揺動
アームはそれに取付けた基板保持機構をターンテーブル
上の研磨位置と該ターンテーブル外側の所定の位置に移
動させることができるように構成されていることを特徴
とする。

【００１０】上記のように、回転主軸に連動して回転す
る回転機構に基板保持機構（トップリング）を取付けた
複数の揺動アームを取付け、該揺動アームにより基板保
持機構をターンテーブル上の研磨位置と該ターンテーブ
ル外側の所定の位置に移動させるようにするので、複数
の基板保持機構のそれぞれに被研磨基板を保持し、該複
数の基板保持機構をターンテーブル上の研磨位置に位置
させ一度に複数枚の被研磨基板を研磨することも、複数
の基板保持機構の内の一部に被研磨基板を保持させ該基
板保持機構をターンテーブル上の研磨位置に位置させ研
磨している間に、他の基板保持機構をターンテーブルの
外側に移動させ、他の処理を行わせることも可能とな
る。

【００１１】また、請求項３に記載の発明は、請求項２
に記載の研磨装置において、回転機構の回転主軸に対す
る姿勢を電磁気力によって制御する姿勢制御手段を設け
たことを特徴とする。

【００１２】上記のように、回転機構の回転主軸に対す
る姿勢を電磁気力によって制御する姿勢制御手段を設け
たので、複数の揺動アームのそれぞれに取付けられた基
板保持機構に保持された被研磨基板を均等にターンテー
ブルの研磨面に押圧することができる。また、例えば、
複数の基板保持機構の一部に被研磨基板を装着して、研
磨する場合でも回転機構をバランスの取れた姿勢に維持
することが可能となる。

【００１３】また、請求項４に記載の発明は、請求項２
に記載の研磨装置において、姿勢制御手段は基板保持機
構に保持された被研磨基板の被研磨面がターンテーブル
の研磨面に平行に維持されるように回転機構の姿勢を制
御する機能を具備することを特徴とする。

【００１４】上記のような機能を具備することにより、
基板保持機構に保持された被研磨基板の被研磨面をター
ンテーブルの研磨面に平行に維持することが可能とな
り、基板保持機構に保持された全ての被研磨基板の被研
磨面を平坦且つ均一に研磨することが可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図１は本発明に係る研磨装置の
平面構成を示す図である。図示するように、本研磨装置
は回転主軸１１により回転する回転（反復）機構部１０
を具備する。該回転機構部１０は中心から１２０°間隔
で放射状に且つ水平に伸びる３本の突起部１２−１〜１
２−３を有する回転台１２を有し、該回転台１２の突起
部１２−１〜１２−３のそれぞれには揺動アーム１３が
それぞれ回動自在に取付けられている。各揺動アーム１
３の先端には後に詳述する被研磨基板を保持する基板保
持機構（以下、「トップリング」と称する）２０が軸受
２２、２８により回動自在に取付けられている。

【００１６】回転台１２は回転主軸１１の軸芯Ｏ₁を中
心に矢印Ａ方向に回転できるようになっている。各揺動
アーム１３は軸芯Ｏ₂、Ｏ₃、Ｏ₄を中心にそれぞれ矢印
Ｂ、Ｃ、Ｄに示すように揺動（旋回）できるようになっ
ている。各揺動アーム１３はターンテーブル１４に向か
って旋回させトップリング２０をターンテーブル上の研
磨位置（一点鎖線Ｅ、Ｆ、Ｇで示す位置）に保持するこ
とができると共に、ターンテーブル１４の外側に旋回さ
せ所定の位置（実線Ｈ、Ｉ、Ｊで示す被研磨基板の引渡
し受け取り位置、退避位置、バフ研磨位置）に保持する
ことができるようになっている。

【００１７】ターンテーブル１４の研磨位置では各トッ
プリング２０に装着した被研磨基板をターンテーブル１
４の上面に貼り付けた研磨布の研磨面に所定の圧力で押
圧し、研磨面と被研磨基板の相対運動により、被研磨基
板を研磨する。研磨が終了したら、回転台１２を所定角
度回転させ、揺動アーム１３をターンテーブル１４の外
側に旋回させてトップリング２０を被研磨基板引渡し位
置（実線Ｈの位置）或いはバフ研磨位置（実線Ｊの位
置）等の所定の位置に移動させる。

【００１８】図２は回転機構部１０の構成を示す図であ
る。回転主軸１１は架台１７に設置されたモータＭ１に
より、軸芯Ｏ₁を中心に回転できるようになっている。
回転主軸１１と回転台１２は駆動ピン１５で結合され、
回転主軸１１の回転力が回転台１２に伝達されるように
なっている。回転主軸１１の先端部には自動調芯ころ軸
受１８が設けられ、回転台１２が回転主軸１１に対して
揺動できるようになっている。

【００１９】また、架台１７には後に詳述する回転台１
２の回転主軸１１に対する姿勢を電磁気力によって制御
する姿勢制御機構４０が設けられている。回転台１２の
突起部１２−１の先端部には揺動アーム１３が該突起部
１２−１に設置されたモータＭ２、減速機１９を介して
軸芯Ｏ₂を中心に回動自在に取付けられている。また、
揺動アーム１３の先端部にはトップリング２０に駆動力
を伝達するドライブスリーブ２１が軸受２２、２２を介
して回転自在に取付けられている。

【００２０】Ｍ３はトップリング２０を回転するための
モータであり、該モータＭ３は揺動アーム１３上に設け
られその回転力は減速機２３を介してプーリ２４に伝達
され、さらにベルト２５を介してドライブスリーブ２１
に伝達され、トップリング２０が回転するようになって
いる。２６はトップリング２０を軸２７を介して上下動
させるシリンダであり、該軸２７は軸受２２、２８で回
転自在となっている。また、２９は回転自在なトップリ
ング２０に対し流体（真空、窒素ガス、水、圧縮空気）
を供給するために設けられたロータリージョイントであ
る。なお、図示は省略するが、突起部１２−２、１２−
３にも突起部１２−１と同様の揺動アーム１３が回動自
在に取付けられ、該揺動アームの先端部にトップリング
２０が回転自在に取り付けられている。

【００２１】上記のように回転機構部１０の回転台１２
に複数個（上記例では３個）の揺動アーム１３を回動自
在に取付け、該揺動アーム１３にトップリング２０を取
付けた構成の研磨装置において、例えば一つのトップリ
ング２０だけで被研磨基板の研磨を行なった場合、一つ
のトップリング２０の下端に装着された被研磨基板だけ
がシリンダ２６、ロータリージョイント２９を介した圧
力によりターンテーブル１４の研磨面に押圧することに
なる。そしてその反力が揺動アーム１３を介して回転台
１２に伝達され、該回転台１２にモーメントが加わり傾
斜する。回転台１２が傾斜すると研磨面上に押圧されて
いる被研磨基板の押圧力が均等ではなく、片当りの状態
となり、被研磨基板は均等に研磨されない。

【００２２】そこで本研磨装置では、回転台１２の姿勢
を制御して、トップリング２０の被研磨基板の装着面を
ターンテーブル１４の研磨面に対して平行に維持する姿
勢制御機構４０を設けている。姿勢制御機構４０は電磁
コイル４１と電磁石コア４２からなる電磁石と、該電磁
石に対向して配置されたターゲット４３を具備する。電
磁石は架台１７の下面に固着され、ターゲット４３は回
転台１２の上面に固着されている。以下、姿勢制御機構
４０を詳細に説明する。

【００２３】図３は図２のＫ−Ｋ断面図であり、図４は
図３のＭ−Ｍ断面図である。姿勢制御機構４０は電磁石
コア４２の４つの磁極４２ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２ｄ
とそれぞれに巻装された４つの電磁コイル４１ａ、４１
ｂ、４１ｃ、４１ｄを具備する電磁石と、該磁極４２
ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２ｄに対して所定のギャップを
設けて対向して配置された環状で且つ円盤状のターゲッ
ト４３とからなる。上記のように電磁石を構成する電磁
石コア４２は架台下面に固着され、ターゲット４３は回
転台１２の上面に固着されている。

【００２４】図４に示すように、各磁極４２ａ〜４２ｄ
は、その断面が逆Ｕ字形状であり、この内部側に電磁コ
イル４１ａ〜４１ｄが巻装されている。磁極４２ａ〜４
２ｄ及びターゲット４３はパーマロイ等の磁性体で構成
されている。図３に示すように、電磁コイル４１ａはＸ
軸正方向側に配置され、電磁コイル４１ｂはＸ軸負方向
側に配置されている。また、電磁コイル４１ｃはＹ軸正
方向側に配置され、電磁コイル４１ｄはＹ軸負方向側に
配置されている。また、Ｘ軸及びＹ軸に対して４５°傾
いた２つの軸Ｒ、Ｓ上には、４個の変位センサ４４ａ、
４４ｂ、４４ｃ、４４ｄが配置されている。

【００２５】図５は、姿勢制御機構１０の制御部の機能
構成を示すブロック図である。図示するように、制御部
は減算器３０及びコントローラ３１を具備し、該減算器
３０には回転台１２の姿勢目標値と、センサ（変位セン
サ４４ａ、４４ｂ、４４ｃ、４４ｄ）３４で検出され、
座標変換部３５で変換された制御対象（回転台１２）の
変位値α、βが入力され、該減算器３０で目標値と該変
位値α、βの差が算出され誤差信号ｅα、ｅβとしてコ
ントローラ３１に入力される。ここでα、βはそれぞれ
図６に示すように、Ｘ軸回りの傾き、Ｙ軸回りの傾きを
示す。Ｘ軸、Ｙ軸は水平内面に位置している。この場
合、ターゲット４３は自動調芯ころ軸受１８を中心とし
てＸ軸回りの傾動及びＹ軸回りの傾動の複合運動とな
る。

【００２６】誤差信号ｅα、ｅβはＰＩＤ＋局部位相進
み処理部３１−１で傾き制御及び減衰処理を受け、さら
に振動除去のためノッチフィルタ３１−２を通って電圧
指令信号Ｖα、Ｖβに変換される。そして座標変換部３
１−３で姿勢制御機構用の制御信号Ｖｘｕ、Ｖｙｕに変
換され駆動部３２に供給される。

【００２７】駆動部３２は電磁コイル４１ａ、４１ｂ、
４１ｃ、４１ｄとこれらを励磁する駆動回路３２−１、
３２−２で構成されている。上記制御信号Ｖｘｕ、Ｖｙ
ｕのそれぞれは駆動回路３２−１、３２−２に供給さ
れ、該各駆動回路３２−１、３２−２でターゲット４３
を図３に示すＸ、Ｙ軸の正負の方向へ変位させるための
励磁電流Ｉｘｕ＋、Ｉｘｕ−、Ｉｙｕ＋、Ｉｙｕ−に変
換され、電磁コイル４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄに
供給され、制御対象（ターゲット４３＝回転台１２）３
３の姿勢を制御する。

【００２８】この場合、回転台１２の回転中心（自動調
芯ころ軸受１８）と図３のＸ軸、Ｙ軸とは所定の高さ離
間しているため、ターゲット４３を図３に示すＸ、Ｙ軸
の正負の方向に変位させると、回転台１２は自動調芯こ
ろ軸受１８を中心として水平面に対して任意の方向に傾
動することができる。

【００２９】なお、上記例では、回転台１２に揺動アー
ム１３を回動自在に取付け、それぞれの揺動アーム１３
にトップリング２０を設けた、トップリング２０が３個
の場合を示したが、本発明に係る研磨装置はこれに限定
されるものではなく、回転台１２に２個又は４個以上の
揺動アームを回動自在に取り付け、それぞれの揺動アー
ム１３にトップリング２０を回転自在に取付けた構成で
もよい。

【００３０】図７乃至図１１は本発明に係る研磨装置の
構成例を示す図で、図７は研磨装置の正面図、図８は図
７のＡ−Ａ矢視図、図９は研磨装置の内部構成を示す
図、図１０は図９のＢ−Ｂ矢視図、図１１は図９のＣ−
Ｃ矢視図である。本研磨装置は架台５１に回転台５２が
回転主軸５３により回転自在に取り付けられている。回
転台５２には後に詳述するように、複数（図では５個）
のトップリング５４が回転自在及び上下動自在で且つ半
径方向に移動自在に設けられている。５５はターンテー
ブルであり、該ターンテーブル５５の外周から所定距離
離れた位置にトップリング５４に被研磨基板を装着した
り、トップリング５４から被研磨基板を受け取るプッシ
ャー５６が設けられている。

【００３１】複数のトップリング５４はそれぞれトップ
リング載置台５８に搭載され、モータＭ４により、軸５
９を介して回転するようになっている。なお、６０はト
ップリング５４を上下動するシリンダ、６１は回転自在
なトップリング５４に対し流体（真空、窒素ガス、水、
圧縮空気）を供給するためのロータリージョイントであ
る。

【００３２】トップリング５４を搭載した複数のトップ
リング載置台５８はそれぞれ回転台５２の軸芯Ｏ₁を中
心に放射状に設けられたガイドレール５７に沿って半径
方向に往復動できるようになっている。このトップリン
グ載置台５８を往復動させる移動機構は図１１に示すよ
うに、トップリング載置台５８に固定されたナット６
５、該ナット６５に螺合するボールネジ６３、該ボール
ネジ６３を回転駆動する駆動モータ６４からなり、該駆
動モータ６４は回転台５２に固定されている。

【００３３】上記構成の移動機構において、駆動モータ
６４を起動し、正転逆転することにより、ボールネジ６
３が正逆回転し、ナット６５を介してトップリング載置
台５８がガイドレール５７上を往復動する。そしてター
ンテーブル５５上面の所定位置でトップリング５４の下
端に装着した被研磨基板を研磨面に押圧して、該被研磨
基板を研磨し、プッシャー５６の真上で研磨終了した被
研磨基板を該プッシャー５６に渡すと共に、未研磨の被
研磨基板を受け取る。

【００３４】回転主軸５３は架台５１に設置されたモー
タＭ５により軸芯Ｏ₁を中心に回転できるようになって
おり、回転台５２は回転主軸５３の下端部に自動調芯コ
ロ軸受で支持されている。また、回転台５２にはブラケ
ット６２が固定され、該ブラケット６２は一端が回転主
軸５３に固定された駆動ピン１５の一端が挿入され、該
駆動ピン１５で回転主軸５３の回転力を回転台に伝達す
るようになっている。

【００３５】また、架台５１の下端には姿勢制御機構４
０が設けられ、該姿勢制御機構４０は電磁石コア４２と
電磁コイル４１からなる電磁石と、該電磁石に対向して
ブラケット６２の上面に配置されたターゲット４３を具
備する。なお、該姿勢制御機構４０の構成及びその動作
作用は図３乃至図５で説明した姿勢制御機構４０と同じ
であるから、その説明は省略する。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、各請求項に記載の
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。

【００３７】請求項１に記載の発明によれば、回転機構
の回転主軸に対する姿勢を電磁気力によって制御する姿
勢制御手段を設けたことにより、回転機構に装着された
複数の基板保持機構に保持された被研磨基板を均等にタ
ーンテーブルの研磨面に押圧することができる。また、
例えば、複数の基板保持機構の一部に被研磨基板を装着
して、研磨する場合でも回転機構をバランスの取れた姿
勢に維持することが可能となる。

【００３８】請求項２に記載の発明によれば、回転主軸
に連動して回転する回転機構に先端に基板保持機構を取
付けた複数の揺動アームを取付け、該揺動アームにより
基板保持機構をターンテーブル上の研磨位置と該ターン
テーブル外側の所定の位置に移動させるようにするの
で、複数の基板保持機構のそれぞれに被研磨基板を保持
し、該複数の基板保持機構をターンテーブル上の研磨位
置に位置させ一度に複数枚の被研磨基板を研磨（バッチ
式研磨）することも、複数の基板保持機構の内の一部に
被研磨基板を保持させ該基板保持機構をターンテーブル
上の研磨位置に位置させ研磨している間に、他の基板保
持機構をターンテーブルの外側に移動させ研磨の終了し
た被研磨基板を引き渡し、新たに未研磨の被研磨基板を
装着して順次研磨する（枚葉式研磨）、又は研磨中でな
い他のトップリングで他の処理を行わせることも可能と
なる。従って、研磨装置の周囲に配置された処理装置に
柔軟に対応し、スループットの高い基板処理システムを
構築できる。

【００３９】また、請求項３に記載の発明によれば、回
転機構の回転主軸に対する姿勢を電磁気力によって制御
する姿勢制御手段を設けたので、複数の揺動アームのそ
れぞれに取付けられた基板保持機構に保持された被研磨
基板を均等にターンテーブルの研磨面に押圧することが
できる。また、例えば、複数の基板保持機構の一部に被
研磨基板を装着して、研磨する場合でも回転機構をバラ
ンスの取れた姿勢に維持することが可能となる。

【００４０】また、請求項４に記載の発明によれば、姿
勢制御手段は基板保持機構に保持された被研磨基板の研
磨面がターンテーブルの研磨面に平行に維持されるよう
に回転機構の姿勢を制御する機能を有するので、基板の
研磨面を均一に研磨することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る研磨装置の平面構成を示す図であ
る。

【図２】本発明に係る研磨装置に用いる回転機構部の構
成例を示す図である。

【図３】図２のＫ−Ｋ断面図である。

【図４】図３のＭ−Ｍ断面図である。

【図５】本発明に係る研磨装置に用いる姿勢制御機構の
制御部の機能構成を示すブロック図である。

【図６】ターゲットのＸ軸回りの傾きα、Ｙ軸回りの傾
きβの関係を説明するための図である。

【図７】本発明に係る研磨装置の構成例を示す正面図で
ある。

【図８】図７のＡ−Ａ矢視図である。

【図９】本発明に係る研磨装置の内部構成例を示す正面
図である。

【図１０】図９のＢ−Ｂ矢視図である。

【図１１】図９のＣ−Ｃ矢視図である。

【符号の説明】

１０ 回転機構部 １１ 回転主軸 １２ 回転台 １３ 揺動アーム １４ ターンテーブル １５ 駆動ピン １７ 架台 １８ 自動調芯ころ軸受 １９ 減速機 ２０ トップリング ２１ ドライブスリーブ ２２ 軸受 ２３ 減速機 ２４ プーリ ２５ ベルト ２６ シリンダ ２７ 軸 ２８ 軸受 ２９ ロータリージョイント ３０ 減算器 ３１ コントローラ ３２ 駆動部 ３３ 制御対象 ３４ センサ ３５ 座標変換部 ４０ 姿勢制御機構 ４１ 電磁コイル ４２ 電磁石コア ４３ ターゲット ４４ａ〜ｄ 変位センサ ５１ 架台 ５２ 回転台 ５３ 回転主軸 ５４ トップリング ５５ ターンテーブル ５６ プッシャー ５７ ガイドレール ５８ トップリング載置台 ５９ 軸 ６０ シリンダ ６１ ロータリージョイント ６２ ブラケット ６３ ボールネジ ６４ 駆動モータ ６５ ナット

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 研磨面を有するターンテーブルと、複数
   の基板保持機構を装着し回転主軸に連動して回転する回
   転機構を具備し、該回転機構に装着された基板保持機構
   に保持された被研磨基板を前記ターンテーブルの研磨面
   に押圧し、該研磨面と該被研磨基板の相対運動により被
   研磨基板を研磨する研磨装置であって、 前記回転機構の前記回転主軸に対する姿勢を電磁気力に
   よって制御する姿勢制御手段を設けたことを特徴とする
   研磨装置。
2. 【請求項２】 研磨面を有するターンテーブルと、被研
   磨基板を保持してターンテーブルの研磨面に押圧する基
   板保持機構を具備し、前記研磨面と前記被研磨基板の相
   対運動により被研磨基板を研磨する研磨装置であって、 回転主軸に連動して回転する回転機構を設け、該回転機
   構に複数の揺動アームを取付け、該揺動アームのそれぞ
   れに前記基板保持機構を取付け、該揺動アームはそれに
   取付けた基板保持機構を前記ターンテーブル上の研磨位
   置と該ターンテーブル外側の所定の位置に移動させるこ
   とができるように構成されていることを特徴とする研磨
   装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の研磨装置において、 前記回転機構の前記回転主軸に対する姿勢を電磁気力に
   よって制御する姿勢制御手段を設けたことを特徴とする
   研磨装置。
4. 【請求項４】 請求項２に記載の研磨装置において、 前記姿勢制御手段は前記基板保持機構に保持された被研
   磨基板の被研磨面が前記ターンテーブルの研磨面に平行
   に維持されるように前記回転機構の姿勢を制御する機能
   を具備することを特徴とする研磨装置。